JP5131683B2 - Plating jig used for plating of resin moldings - Google Patents

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Description

本発明は樹脂成形体のめっき処理に用いるめっき用治具に関する。   The present invention relates to a plating jig used for plating a resin molded body.

樹脂成形体に電気めっき皮膜を形成する方法としては、脱脂及びエッチングを行った後、必要に応じて、中和及びプリディップを行い、次いで、錫化合物及びパラジウム化合物を含有するコロイド溶液を用いて無電解めっき用触媒を付与し、その後必要に応じて活性化処理(アクセレーター処理)を行い、無電解めっき及び電気めっきを順次行う方法が一般的な方法である。   As a method of forming an electroplated film on a resin molded body, after degreasing and etching, neutralization and pre-dip are performed as necessary, and then a colloidal solution containing a tin compound and a palladium compound is used. A general method is to apply an electroless plating catalyst, perform an activation treatment (accelerator treatment) as necessary, and perform electroless plating and electroplating sequentially.

この場合、エッチング処理液としては、三酸化クロムと硫酸の混合液からなるクロム酸混液が広く用いられている。しかしながら、クロム酸混液は、有毒な6価クロムを含むために作業環境に悪影響があり、しかも廃水を安全に処理するためには、6価クロムを3価クロムイオンに還元した後、中和沈殿させることが必要であり、廃水処理のために煩雑な処理が要求される。このため、現場での作業時の安全性や廃水による環境への影響を考慮すると、クロム酸を含まないエッチング処理液の使用が望まれる。   In this case, a chromic acid mixed solution composed of a mixed solution of chromium trioxide and sulfuric acid is widely used as the etching treatment solution. However, the chromic acid mixture contains toxic hexavalent chromium, which has an adverse effect on the working environment. In addition, in order to treat wastewater safely, neutralization precipitation is performed after reducing hexavalent chromium to trivalent chromium ions. Therefore, complicated treatment is required for wastewater treatment. For this reason, in consideration of safety during work on site and the environmental impact of wastewater, it is desirable to use an etching treatment solution that does not contain chromic acid.

クロム酸混液に替わり得るエッチング液としては、過マンガン酸塩を有効成分として含むエッチング液が知られている。この様なエッチング液としては、過マンガン酸塩とアルカリ金属水酸化物を含むアルカリ性のエッチング液(下記非特許文献1参照)、過マンガン酸塩と無機酸を含む酸性のエッチング液(下記非特許文献2参照)等が知られている。しかしながら、過マンガン酸塩を含むエッチング液を用いる場合には、被めっき物を固定するめっき用治具に対して無電解めっきが析出し易いという問題点がある。   As an etching solution that can replace the chromic acid mixed solution, an etching solution containing permanganate as an active ingredient is known. As such an etchant, an alkaline etchant containing a permanganate and an alkali metal hydroxide (see Non-patent Document 1 below), an acidic etchant containing a permanganate and an inorganic acid (the following non-patent patent) Document 2) is known. However, when an etching solution containing a permanganate is used, there is a problem that electroless plating is likely to deposit on a plating jig for fixing an object to be plated.

従来用いられているクロム酸混液をエッチング処理液として用いる場合には、エッチング処理工程においてめっき用治具の絶縁コーティング部分に6価クロムが少量残存し、これが触媒毒となって、無電解めっき用触媒がめっき用治具の絶縁コーティング部分に残留した場合であっても、めっき用治具への無電解めっきの析出が防止される。このため、引き続いて電気めっきを行った場合にも、めっき用治具に対して電気めっきが析出することがなく、無電解めっきと電気めっきを連続して行うことが可能である。   When using a chromic acid mixture used in the past as an etching solution, a small amount of hexavalent chromium remains in the insulating coating portion of the plating jig in the etching process, which becomes a catalyst poison and is used for electroless plating. Even when the catalyst remains on the insulating coating portion of the plating jig, the deposition of electroless plating on the plating jig is prevented. For this reason, even when electroplating is subsequently performed, electroplating does not deposit on the plating jig, and electroless plating and electroplating can be performed continuously.

一方、過マンガン酸塩を有効成分とするエッチング処理液を用いる場合には、エッチング処理液中に触媒毒となる成分が含まれていないために、めっき用治具の絶縁コーティング部分に無電解めっき用触媒が付着すると、この部分に無電解めっきが析出する。このため、引き続き電気めっきを行う場合には、めっき用治具の交換が必要となり、処理工程が非常に煩雑になる。   On the other hand, when using an etching treatment liquid containing permanganate as an active ingredient, since the etching treatment liquid does not contain a component that becomes a catalyst poison, electroless plating is applied to the insulating coating portion of the plating jig. When the catalyst for use adheres, electroless plating is deposited on this portion. For this reason, when electroplating is continued, it is necessary to replace the plating jig, and the treatment process becomes very complicated.

このため、めっき用治具への無電解めっきの析出を防止する対策として、通電部分を残してフッ素樹脂コーティングを行った冶具(下記特許文献1参照)、めっき冶具の被めっき物が接触しない部分にフッ素樹脂等の絶縁被覆を形成した冶具(下記特許文献2参照)等が提案されている。しかしながら、これらの冶具は、めっき用治具のほぼ全面を高価なフッ素樹脂等でコーティングする必要があり、コストが高いために実用的ではない。
特開平5−148692号公報 特開平6−10197号公報
For this reason, as a measure for preventing the deposition of electroless plating on the jig for plating, a jig on which a fluororesin coating is applied leaving an energized part (see Patent Document 1 below), and a part to be plated that is not in contact with the plating jig A jig (see Patent Document 2 below) having an insulating coating such as a fluororesin is proposed. However, these jigs are not practical because the entire surface of the plating jig needs to be coated with an expensive fluororesin or the like, and the cost is high.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-1488692 JP-A-6-10197

本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、樹脂成形体のめっき処理に用いるめっき用治具であって、過マンガン酸塩を有効成分とするエッチング液によるエッチング処理を行う場合であっても治具への無電解めっきの析出を防止できる、新規なめっき用治具を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and its main purpose is a jig for plating used in plating treatment of a resin molded body, which comprises permanganate as an active ingredient. An object of the present invention is to provide a new plating jig capable of preventing the deposition of electroless plating on the jig even when an etching process using an etching solution is performed.

本発明者は、上記した目的を達成すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、めっき用治具の絶縁被覆部の少なくとも一部にシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜を形成する場合には、これらの樹脂部分に無電解めっきが殆ど析出することがなく、引き続いて電気めっきを行った場合に、これらの樹脂部分が絶縁部となって、治具へのめっき皮膜の析出を防止できることを見出した。しかも、シリコーン樹脂皮膜及びオレフィン系樹脂皮膜は、いずれも過マンガン酸塩を含むエッチング液によって殆ど侵されることがなく、過マンガン酸塩を含むエッチング液によるエッチング処理工程を含むめっき処理工程において長期間安定して使用できることを見出し、ここに本発明を完成するに至った。   The present inventor has intensively studied to achieve the above-described object. As a result, in the case where a film containing at least one resin selected from the group consisting of silicone resin and olefin resin is formed on at least a part of the insulating coating portion of the plating jig, electroless is applied to these resin portions. It has been found that the plating hardly deposits, and when the electroplating is subsequently performed, these resin portions become insulating portions and the deposition of the plating film on the jig can be prevented. Moreover, both the silicone resin film and the olefin resin film are hardly attacked by the etching solution containing the permanganate, and are long-term in the plating process including the etching process using the etching solution containing the permanganate. The present inventors have found that it can be used stably and have completed the present invention.

即ち、本発明は、下記のめっき用治具を提供するものである。
1.樹脂成形体のめっき処理に用いるめっき用治具であって、該めっき用治具の絶縁被覆部の全体又は絶縁被覆部の表面部分の少なくとも一部がシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜によって形成されていることを特徴とするめっき用治具。
2.絶縁被覆部の全体がシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜によって形成されている請求項1に記載のめっき用治具。
3.絶縁被覆部において、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜の下層にその他の絶縁性皮膜が形成されている上記項1に記載のめっき用治具。
4.絶縁被覆部において、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜上にその他の絶縁性皮膜が形成されている上記項1に記載のめっき用治具。
5.シリコーン樹及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜が、(i)シリコーン樹脂の単独皮膜、(ii)シリコーン樹脂とその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜、(iii)オレフィン系樹脂の単独皮膜、(iv)オレフィン系樹脂とその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜、又は(v)シリコーン樹脂、オレフィン系樹脂及びその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜である請求項1〜4のいずれかに記載のめっき用治具。
6.過マンガン酸塩を含むエッチング液によるエッチング処理工程を含むめっき処理方法で用いられる上記項1〜5のいずれかに記載のめっき用治具。
That is, the present invention provides the following plating jig.
1. A plating jig for use in plating treatment of a resin molded body, wherein the entire insulating coating portion of the plating jig or at least a part of the surface portion of the insulating coating portion is selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin. A plating jig characterized by being formed of a film containing at least one kind of resin.
2. The plating jig according to claim 1, wherein the entire insulating coating portion is formed of a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin.
3. Item 2. The plating jig according to Item 1, wherein in the insulating coating portion, another insulating film is formed under the film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin.
4). Item 2. The plating jig according to Item 1, wherein in the insulating coating portion, another insulating film is formed on a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin.
5. A film containing at least one resin selected from the group consisting of silicone resin and olefin resin is (i) a single film of a silicone resin, (ii) a film made of a mixed resin of a silicone resin and another insulating resin, ( iii) Single film of olefin resin, (iv) Film made of mixed resin of olefin resin and other insulating resin, or (v) Film made of mixed resin of silicone resin, olefin resin and other insulating resin The plating jig according to any one of claims 1 to 4.
6). Item 6. The plating jig according to any one of Items 1 to 5, which is used in a plating treatment method including an etching treatment step using an etchant containing a permanganate.

以下、本発明の樹脂成形体のめっき処理に用いるめっき用治具及び該めっき用治具を用いるめっき処理工程について具体的に説明する。   Hereinafter, the plating jig used for the plating treatment of the resin molded body of the present invention and the plating treatment step using the plating jig will be specifically described.

めっき用治具
本発明のめっき用治具は、絶縁被覆部の全体又は絶縁被覆部の表面部分の少なくとも一部がシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜によって形成されたものである。即ち、本発明のめっき用治具では、その絶縁被覆部の全体又は絶縁被覆部の表面部分の少なくとも一部が、(i)シリコーン樹脂の単独皮膜、(ii)シリコーン樹脂とその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜、(iii)オレフィン系樹脂の単独皮膜、(iv)オレフィン系樹脂とその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜、又は(v)シリコーン樹脂、オレフィン系樹脂及びその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜によって形成されている。
Plating Jig The plating jig of the present invention is a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin-based resin, wherein the entire insulating coating portion or at least a part of the surface portion of the insulating coating portion is formed. It is formed by. That is, in the plating jig of the present invention, the entire insulating coating portion or at least a part of the surface portion of the insulating coating portion is (i) a single coating of a silicone resin, and (ii) a silicone resin and other insulating resins. (Iii) A single film of olefin resin, (iv) A film of mixed resin of olefin resin and other insulating resin, or (v) Silicone resin, olefin resin and other insulation It is formed by the membrane | film | coat which consists of mixed resin of adhesive resin.

この様な構造のめっき用治具は、樹脂成形体を被めっき物とする場合に有効に使用できるものであり、無電解めっき工程において、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜部分への無電解めっきの析出を抑制できる。その結果、無電解めっき処理後に電気めっきを行う場合であっても、治具を交換することなく、連続してめっき処理を行うことが可能である。   The plating jig having such a structure can be effectively used when a resin molded body is an object to be plated, and in the electroless plating process, at least selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin. It is possible to suppress the deposition of electroless plating on the film portion containing a kind of resin. As a result, even when electroplating is performed after the electroless plating process, the plating process can be continuously performed without replacing the jig.

図1は、本発明のめっき用治具を模式的に示す図面である。図1において、1は治具本体、2は被めっき物との接触部、3は絶縁被覆部、4は給電部である。   FIG. 1 is a drawing schematically showing a plating jig of the present invention. In FIG. 1, 1 is a jig | tool main body, 2 is a contact part with to-be-plated object, 3 is an insulation coating | coated part, 4 is an electric power feeding part.

図1に示すめっき用治具1では、被めっき物は、接触部2において治具に固定され、この部分から通電される。接触部2の形状は、被めっき物の形状に応じて適宜決めることができ、被めっき物を安定に固定でき、且つ被めっき物に対する通電を確保できる形状であればよい。該接触部2は、被めっき物に対する通電を可能するように導電性材料が露出した状態である。導電性材料は、本発明のめっき用治具の骨格を形成するものであり、例えば、ステンレス、銅等を使用できる。   In the plating jig 1 shown in FIG. 1, the object to be plated is fixed to the jig at the contact portion 2 and is energized from this portion. The shape of the contact portion 2 can be determined as appropriate according to the shape of the object to be plated, and may be any shape as long as the object to be plated can be stably fixed and current can be secured to the object to be plated. The contact portion 2 is in a state where the conductive material is exposed so as to allow current to be applied to the object to be plated. The conductive material forms a skeleton of the plating jig of the present invention, and for example, stainless steel, copper, or the like can be used.

絶縁被覆部3は、治具1の表面において、めっき液中に浸漬される部分に形成される。これにより、電気めっき処理を行う際に、治具の腐食を防止すると共に、治具へのめっきの析出を防止できる。   The insulating coating portion 3 is formed on the surface of the jig 1 at a portion immersed in the plating solution. Thereby, when performing an electroplating process, corrosion of a jig | tool can be prevented and precipitation of plating to a jig | tool can be prevented.

本発明のめっき用治具は、絶縁被覆部3の全体又は絶縁被覆部3の表面部分の少なくとも一部がシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜によって形成されていることが必要である。本発明のめっき用治具は、樹脂成形体に対してめっき皮膜を形成する際に使用されるものであり、樹脂成形体へのめっき工程では、被めっき物である樹脂成形体の表面に無電解めっき用触媒を付与し、次いで、無電解めっき皮膜を形成して樹脂成形体表面に導電性を付与した後、電気めっき処理が行われる。本発明のめっき用治具を用いる場合には、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜を形成した部分については、無電解めっきの析出をほぼ完全に防止することができる。このため、無電解めっきに引き続いて電気めっき処理を行う場合に、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜部分が絶縁部分となって、治具表面の全体に電気めっきが析出することを防止できる。   The plating jig of the present invention is formed by a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin-based resin, wherein the entire insulating coating portion 3 or at least a part of the surface portion of the insulating coating portion 3 is formed. It is necessary to be. The plating jig of the present invention is used when a plating film is formed on a resin molded body. In the plating process on the resin molded body, there is no surface on the surface of the resin molded body that is the object to be plated. An electroplating catalyst is provided, then an electroless plating film is formed to impart conductivity to the surface of the resin molded body, and then electroplating is performed. When using the plating jig of the present invention, the deposition of electroless plating is almost completely prevented at the portion where the film containing at least one resin selected from the group consisting of silicone resin and olefin resin is formed. can do. For this reason, when electroplating is performed subsequent to electroless plating, a film portion containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin serves as an insulating portion, and the entire jig surface It is possible to prevent the electroplating from being deposited.

シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜は、めっき用治具1の絶縁被覆部3の全体に形成してもよく、絶縁被覆部3の表面の一部に形成してもよい。但し、各接触部2と給電部4との間には、少なくとも一カ所、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜が存在することが必要である。   A film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin-based resin may be formed on the entire insulating coating portion 3 of the plating jig 1, and a part of the surface of the insulating coating portion 3. You may form in. However, it is necessary that a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin is present between each contact portion 2 and the power feeding portion 4.

図2(a)〜(e)は、図1に示すめっき用治具の接触部2における、A−A’ 線による切断面を示す断面図であり、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜が形成された治具の実施態様を示すものである。   2 (a) to 2 (e) are cross-sectional views showing a cut surface by the AA 'line in the contact portion 2 of the plating jig shown in FIG. 1, from a group consisting of a silicone resin and an olefin resin. An embodiment of a jig on which a film containing at least one selected resin is formed is shown.

図2(a)の治具は、絶縁被覆部3がすべてシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜5で形成された構造の治具である。   The jig shown in FIG. 2A is a jig having a structure in which the insulating coating portion 3 is formed of a film 5 containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin.

図2(b)の治具では、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜5を形成した上に、従来のめっき用治具で用いられている絶縁性樹脂層6が形成されている。絶縁性樹脂層としては、例えば、軟質塩化ビニルゾルによるコーティング等を使用できる。シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜の露出部分5’については、十分な絶縁性を確保するために、幅が5mm程度以上あることが好ましい。   In the jig shown in FIG. 2 (b), the insulating film used in the conventional plating jig is formed on the film 5 containing at least one resin selected from the group consisting of silicone resin and olefin resin. A resin layer 6 is formed. As the insulating resin layer, for example, coating with soft vinyl chloride sol can be used. The exposed portion 5 ′ of the film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin preferably has a width of about 5 mm or more in order to ensure sufficient insulation.

図2(c)及び(d)の治具は、軟質塩化ビニルなどの従来の絶縁性樹脂層6を形成した上に、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜5を形成したものである。この態様のめっき用治具は、従来から用いられている絶縁被覆を有するめっき用治具を利用して、この表面にシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜を形成することによって作製することができる。図2(c)の治具では、絶縁樹脂層6を一部のみ露出させており、殆どの部分がシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜によって被覆されている。図2(d)の治具では、絶縁樹脂層6の表面の一部にのみシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜が形成されている。この場合、十分な絶縁性を確保するために、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜の幅は5mm程度以上であることが好ましい。   2 (c) and 2 (d) are formed with a conventional insulating resin layer 6 such as soft vinyl chloride and at least one resin selected from the group consisting of silicone resins and olefin resins. The film 5 containing it is formed. The plating jig of this aspect includes at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin on the surface using a plating jig having a conventionally used insulating coating. It can be produced by forming a film. In the jig of FIG. 2 (c), only a part of the insulating resin layer 6 is exposed, and most of the part is covered with a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin. ing. In the jig of FIG. 2D, a film containing at least one kind of resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin is formed only on a part of the surface of the insulating resin layer 6. In this case, in order to ensure sufficient insulation, the width of the film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin is preferably about 5 mm or more.

図2(e)の治具では、シリコーン樹脂及び/又はオレフィン系樹脂と他の絶縁性樹脂とからなる混合樹脂層7を形成している。他の絶縁性樹脂としては、従来から用いられている軟質塩化ビニルゾル等を用いることができる。この場合、例えば、必要に応じて、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等のケトン系溶剤、イソプロピルアルコール(IPA)、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶剤などの有機溶剤中に、シリコーン樹脂及び/又はオレフィン系樹脂と他の絶縁性樹脂を溶解してコーティング剤として用いればよい。混合比は、無電解めっきの析出防止効果が十分に発揮されるように適宜決めればよいが、通常、シリコーン樹脂とオレフィン樹脂の合計量を40重量%程度以上とすることが好ましく、50重量%程度以上とすることがより好ましい。   In the jig shown in FIG. 2 (e), a mixed resin layer 7 composed of a silicone resin and / or an olefin resin and another insulating resin is formed. As the other insulating resin, conventionally used soft vinyl chloride sol or the like can be used. In this case, for example, if necessary, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), isopropyl alcohol (IPA), diacetone alcohol, etc. A silicone resin and / or an olefin resin and another insulating resin may be dissolved in an organic solvent such as an alcohol solvent and used as a coating agent. The mixing ratio may be determined as appropriate so that the effect of preventing the deposition of electroless plating is sufficiently exhibited. Usually, the total amount of the silicone resin and the olefin resin is preferably about 40% by weight or more, and 50% by weight. It is more preferable to set it to about or more.

本発明のめっき用治具で用いるシリコーン樹脂は、シロキサン結合(-Si-O-)を主骨格とするポリマーであればよく、その種類は特に限定的されない。例えば、加熱加硫型シリコーンゴム、室温硬化型シリコーンゴム等をいずれも用いることができる。   The silicone resin used in the plating jig of the present invention may be a polymer having a siloxane bond (-Si-O-) as the main skeleton, and the type thereof is not particularly limited. For example, any of heat vulcanized silicone rubber, room temperature curable silicone rubber, and the like can be used.

加熱加硫型シリコーンゴムとしては、ミラブルゴム、液状ゴムなどを用いることができ、一液型及び二液型のいずれであってもよく、有機酸化物架橋型、付加反応架橋型等の樹脂を用いることができる。室温硬化型シリコーンゴムとしても、一液型又は二液型の液状ゴムを用いることができ、縮合型及び付加型のいずれであってもよい。   As the heat vulcanization type silicone rubber, millable rubber, liquid rubber and the like can be used, which may be either one-pack type or two-pack type, and resin such as organic oxide crosslinking type and addition reaction crosslinking type is used. be able to. As the room temperature curable silicone rubber, a one-component or two-component liquid rubber can be used, and either a condensation type or an addition type may be used.

上記したシリコーンゴムの内で、ミラブルゴムとしては、例えば、重合後5000〜10000程度の線状有機ケイ素化合物(ジオルガノポリシロキサン)を主成分とし、シリカ系等の補強剤等を配合したものを用いることができる。   Among the above-mentioned silicone rubbers, as the millable rubber, for example, a compound containing, as a main component, a linear organosilicon compound (diorganopolysiloxane) of about 5000 to 10,000 after polymerization and a silica-based reinforcing agent or the like is used. be able to.

縮合型の液状ゴムとしては、末端にSi−OH,Si−O―R、Si−Hなどの反性応基を有するジオルガノポリシロキサン(例えば、重合度100〜2000程度)を用いることができ、白金、白金化合物、スズ、スズ化合物、ヒドロキシルアミンなどを触媒として、シロキサン同士を架橋させることによってシリコーン樹脂皮膜を形成することができる。縮合反応としては、脱酢酸縮合、脱アルコール縮合、脱アミン縮合、脱アミド縮合、脱アミノキシ縮合、脱アセトン縮合、脱水素縮合、脱水縮合、脱オキシム縮合などの各種の縮合反応を利用したものを用いることができる。この様な縮合型のシリコーン樹脂の具体例としては、信越シリコーン社製の脱オキシム型の一液型室温硬化型液状シリコーンゴム(商標名:KE45T)、GE東芝シリコーン社製の脱アルコール型の二液型室温硬化型液状シリコーンゴム(商標名:TSE350)等を用いることができる。   As the condensation-type liquid rubber, diorganopolysiloxane having a reactive group such as Si—OH, Si—O—R, or Si—H (for example, a degree of polymerization of about 100 to 2000) can be used. A silicone resin film can be formed by crosslinking siloxanes using platinum, platinum compounds, tin, tin compounds, hydroxylamine and the like as catalysts. As the condensation reaction, those using various condensation reactions such as deacetic acid condensation, dealcoholization condensation, deamination condensation, deamidation condensation, deaminoxy condensation, deacetone condensation, dehydrogenation condensation, dehydration condensation, deoxime condensation, etc. Can be used. Specific examples of such condensation type silicone resins include deoxime type one-part room temperature curing type liquid silicone rubber (trade name: KE45T) manufactured by Shin-Etsu Silicone, and dealcohol type two manufactured by GE Toshiba Silicone. A liquid room temperature curable liquid silicone rubber (trade name: TSE350) or the like can be used.

また、付加型の液状ゴムとしては、末端にビニル基を有するポリシロキサンを用いることができ、シラノール基を有するシロキサンとの付加反応を利用してシリコーン樹脂皮膜を形成することができる。   Further, as the addition type liquid rubber, polysiloxane having a vinyl group at the terminal can be used, and a silicone resin film can be formed by utilizing an addition reaction with a siloxane having a silanol group.

本発明では、上記した各種のシリコーン樹脂から、シリコーン樹脂皮膜の形成方法などに応じて適切なものを適宜選択して用いればよい。例えば、後述する浸漬法によってシリコーン樹脂皮膜を形成するためには、浸漬に適した適度な粘度を有するものを用いればよい。   In the present invention, an appropriate one may be appropriately selected from the above-described various silicone resins according to the method for forming the silicone resin film. For example, in order to form a silicone resin film by the dipping method described later, one having an appropriate viscosity suitable for dipping may be used.

オレフィン系樹脂としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、3−メチルブテン−1,4−メチルペンテン−1等のα−オレフィンの単独重合体、又はこれらα−オレフィンのランダム若しくはブロック等の共重合体を用いることができる。   As the olefin resin, single weight of α-olefin such as ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 3-methylbutene-1,4-methylpentene-1, etc. Copolymers or copolymers of these α-olefins such as random or blocks can be used.

オレフィン系樹脂は、非晶質または結晶性のものを用いることができるが、結晶性を示すものが好ましい。これらの中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(1−ブテン)、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ(3−メチルブテン−1)、ポリ(4−メチルペンテン−1)等が好ましく、特にポリエチレン(例えば、ポリエチレンホモポリマー、エチレン単位と5モル%以下の他のオレフィン単位とのコポリマー、エチレン単位と1モル%以下のオレフィン単位を除く他の共重合可能なモノマー単位とのコポリマー等)が好ましい。ポリエチレンの平均分子量、密度、分子構造(直鎖構造又は分岐鎖構造)等は特に制限されないが、例えば、粉体塗装法を適用して皮膜を形成できるものを用いることが好ましい。   As the olefin-based resin, an amorphous or crystalline resin can be used, but a crystalline resin is preferable. Among these, polyethylene, polypropylene, poly (1-butene), ethylene-propylene copolymer, poly (3-methylbutene-1), poly (4-methylpentene-1) and the like are preferable, and particularly polyethylene (for example, polyethylene Homopolymers, copolymers of ethylene units and other olefin units of 5 mol% or less, copolymers of ethylene units and other copolymerizable monomer units excluding 1 mol% or less of olefin units) are preferred. The average molecular weight, density, molecular structure (straight chain structure or branched chain structure) and the like of polyethylene are not particularly limited, but it is preferable to use, for example, those capable of forming a film by applying a powder coating method.

シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜の形成方法については、特に限定はなく、使用する樹脂の種類に応じて公知の方法で皮膜を形成すればよい。皮膜の形成方法としては、例えば、浸漬法、塗布法、スプレー法などを適宜適用でき、必要に応じて、加硫、焼き付け等の処理を行えばよい。これらの処理条件については、使用する樹脂の種類に応じて、めっき液中において十分な耐久性を有する皮膜を形成できるように適宜決めればよい。オレフィン系樹脂を含む皮膜を形成する場合には、特に、粒径1〜10000μmの粉末状のオレフィン系樹脂を用いて、公知の方法に従って粉体塗装法にてコーティングすることが好ましい。   The method for forming a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin is not particularly limited, and the film may be formed by a known method according to the type of resin used. As a method for forming the film, for example, a dipping method, a coating method, a spray method, or the like can be applied as appropriate, and a treatment such as vulcanization or baking may be performed as necessary. About these process conditions, what is necessary is just to determine suitably so that the film | membrane which has sufficient durability in a plating solution can be formed according to the kind of resin to be used. In the case of forming a film containing an olefin resin, it is particularly preferable to use a powdery olefin resin having a particle size of 1 to 10,000 μm and coat it by a powder coating method according to a known method.

また、シリコーン樹脂とオレフィン系樹脂を混合して用いる場合には、例えば、シリコーン樹脂とオレフィン系樹脂の混合物中に被処理物を浸漬し、その後、必要に応じて加熱、焼き付けなどの処理を行えばよい。   In addition, when using a mixture of a silicone resin and an olefin resin, for example, immerse the workpiece in a mixture of the silicone resin and the olefin resin, and then perform a treatment such as heating or baking as necessary. Just do it.

形成される樹脂皮膜の厚さについては特に限定的ではなく、十分な絶縁性を確保でき、且つめっき処理工程において破損が生じない程度の厚さとすればよい。通常、シリコーン樹脂を含む皮膜の場合には、0.05mm程度以上とすればよく、0.05〜5mm程度とすることが好ましい。また、オレフィン系樹脂を含む皮膜の場合には、0.1mm程度以上とすればよく、0.5〜10mm程度とすることが好ましい。   The thickness of the resin film to be formed is not particularly limited, and may be a thickness that can ensure sufficient insulation and does not cause damage in the plating process. Usually, in the case of a film containing a silicone resin, it may be about 0.05 mm or more, and preferably about 0.05 to 5 mm. Moreover, in the case of the film | membrane containing an olefin resin, what is necessary is just to be about 0.1 mm or more, and it is preferable to set it as about 0.5-10 mm.

被めっき物
本発明のめっき用治具は、樹脂成形体のめっき処理に使用するものである。
樹脂の種類については、特に限定的ではなく、特に、従来から無電解めっき処理が行われている各種の樹脂からなる成形体を被めっき物とすることができる。例えば、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体樹脂(ABS樹脂)、ABS樹脂のブタジエンゴム成分がアクリルゴム成分に置き換わった樹脂(AAS樹脂)、ABS樹脂のブタジエンゴム成分がエチレン−プロピレンゴム成分に置き換わった樹脂(AES樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合樹脂(AS),ポリスチレン樹脂(PS)等のスチレン系樹脂を処理対象物とすることができる。また、上記スチレン系樹脂とポリカーボネート(PC)樹脂とのアロイ化樹脂(例えば、PC樹脂の混合比率が30〜70重量%程度のアロイ樹脂)等も使用できる。更に、ポリアクリロニトリル樹脂(PAN)、ポリカーボネート樹脂(PC)、ポリアミド樹脂(PA)、耐熱性、物性に優れたノニル、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂なども同様に使用可能である。
樹脂成形体の形状、大きさなどについては特に限定はない。
The plating jig of the present invention is used for the plating treatment of a resin molded body.
The type of the resin is not particularly limited, and in particular, a molded body made of various resins that have been subjected to electroless plating treatment can be used as an object to be plated. For example, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin (ABS resin), a resin in which the butadiene rubber component of the ABS resin is replaced with an acrylic rubber component (AAS resin), and a butadiene rubber component in the ABS resin is replaced with an ethylene-propylene rubber component A styrene resin such as a resin (AES resin), an acrylonitrile-styrene copolymer resin (AS), or a polystyrene resin (PS) can be used as an object to be treated. In addition, an alloyed resin of the styrene resin and polycarbonate (PC) resin (for example, an alloy resin having a PC resin mixing ratio of about 30 to 70% by weight) can be used. Furthermore, polyacrylonitrile resin (PAN), polycarbonate resin (PC), polyamide resin (PA), nonyl, polyphenylene ether resin, polyphenylene oxide resin and the like having excellent heat resistance and physical properties can be used as well.
There is no limitation in particular about the shape of a resin molding, a magnitude | size, etc.

めっき処理方法
本発明のめっき用治具を用いる場合のめっき処理方法については特に限定はなく、無電解めっき処理と電気めっき処理を行う工程を含むめっき処理方法において、有効に用いることができる。この処理方法は、通常、エッチング処理、触媒付与処理、無電解めっき処理、及び電気めっき処理の各工程を含むものであり、必要に応じて、中和処理、コンディショニング処理等が行われる。以下、各処理工程について簡単に説明するが、本発明のめっき用治具は、下記の処理工程での使用に限定されるものではない。
Plating treatment method The plating treatment method in the case of using the plating jig of the present invention is not particularly limited, and can be effectively used in a plating treatment method including a step of performing electroless plating treatment and electroplating treatment. This treatment method usually includes steps of etching treatment, catalyst application treatment, electroless plating treatment, and electroplating treatment, and neutralization treatment, conditioning treatment, etc. are performed as necessary. Hereinafter, although each process process is demonstrated easily, the jig | tool for plating of this invention is not limited to the use in the following process process.

(1)エッチング処理
エッチング処理としては、樹脂成形体に対するエッチング処理方法として公知の方法を適用できる。
(1) Etching process As an etching process, a well-known method is applicable as an etching process method with respect to a resin molding.

特に、本発明のめっき用治具は、過マンガン酸塩を有効成分として含むエッチング処理液を用いるエッチング処理工程を含むめっき処理方法において有効に用いることができる。過マンガン酸塩を有効成分として含むエッチング処理液は、有害な6価クロムを含んでおらず、安全性が高い処理液であるが、無電解めっきに対する触媒毒となる成分を含まないために、めっき用治具の絶縁被覆部に無電解めっきが析出しやすいという問題点がある。本発明のめっき用治具を用いる場合には、過マンガン酸塩を有効成分として含むエッチング処理液を用いてエッチング処理を行う場合であっても、治具表面への無電解めっきの析出をほぼ完全に防止できる。その結果、安全性の高い過マンガン酸塩含むエッチング処理液を用いるめっき処理工程において、治具を交換することなく、無電解めっきと電気めっきを連続して行うことが可能となる。しかも、治具表面に形成されるシリコーン樹脂皮膜は、過マンガン酸塩を有効成分として含むエッチング処理液によって殆ど侵されることがなく、長期間安定に利用できる。   In particular, the plating jig of the present invention can be effectively used in a plating method including an etching process using an etching solution containing permanganate as an active ingredient. The etching treatment liquid containing permanganate as an active ingredient does not contain harmful hexavalent chromium and is a highly safe treatment liquid, but does not contain a component that becomes a catalyst poison for electroless plating. There is a problem that electroless plating tends to be deposited on the insulating coating portion of the plating jig. When the plating jig of the present invention is used, even when etching is performed using an etching treatment liquid containing permanganate as an active ingredient, the electroless plating is hardly deposited on the jig surface. Can be completely prevented. As a result, it is possible to continuously perform electroless plating and electroplating without exchanging jigs in a plating process using a highly safe etching process solution containing permanganate. Moreover, the silicone resin film formed on the jig surface is hardly attacked by the etching treatment liquid containing permanganate as an active ingredient and can be used stably for a long period of time.

過マンガン酸塩を有効成分として含むエッチング液としては、過マンガン酸塩とアルカリ金属水酸化物を有効成分として含むアルカリ性のエッチング液、過マンガン酸塩と無機酸を有効成分として含む酸性のエッチング液等が知られており、これらのエッチング液をいずれも用いることができる。   Etching liquid containing permanganate as an active ingredient includes alkaline etching liquid containing permanganate and alkali metal hydroxide as active ingredients, and acidic etching liquid containing permanganate and inorganic acid as active ingredients. Etc. are known, and any of these etching solutions can be used.

例えば、アルカリ性エッチング液としては、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム等の過マンガン酸塩を40〜70g/L程度と水酸化ナトリウムを10〜30g/L程度含む水溶液を用いることができるが、これに限定されるものではない。   For example, as the alkaline etching solution, an aqueous solution containing about 40 to 70 g / L permanganate such as potassium permanganate and sodium permanganate and about 10 to 30 g / L sodium hydroxide can be used. It is not limited to this.

また、酸性エッチング液としては、例えば、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム等の過マンガン酸塩を0.1〜50g/L程度と硫酸、リン酸、塩酸、硝酸などの無機酸を100〜600g/L程度含む水溶液を用いることができるが、これに限定されるものではない。   Examples of the acidic etching solution include about 0.1 to 50 g / L permanganate such as potassium permanganate and sodium permanganate, and 100 to 100 inorganic acids such as sulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid, and nitric acid. An aqueous solution containing about 600 g / L can be used, but is not limited thereto.

これらのエッチング液を用いたエッチング処理は、公知の方法に従えばよい。   Etching using these etching solutions may follow a known method.

更に、過マンガン酸塩の含むエッチング処理液としては、例えば、無機酸を20〜1200g/L程度、過マンガン酸塩を0.01〜40g/L程度、並びにハロゲンオキソ酸、ハロゲンオキソ酸塩、過硫酸塩及びビスマス酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分を1〜200g/L程度含有する水溶液からなるエッチング液を用いることできる。このエッチング液を用いて樹脂成形体にエッチング処理を施した後、無電解めっき用触媒を付与し、次いで、無電解めっきを行うことによって、高い密着性を有する良好な無電解めっき皮膜を形成することが可能となる。   Furthermore, as the etching treatment liquid containing permanganate, for example, about 20 to 1200 g / L of inorganic acid, about 0.01 to 40 g / L of permanganate, and halogen oxoacid, halogen oxoacid salt, An etching solution comprising an aqueous solution containing about 1 to 200 g / L of at least one component selected from the group consisting of persulfates and bismuth salts can be used. After performing an etching process on the resin molded body using this etching solution, a good electroless plating film having high adhesion is formed by applying a catalyst for electroless plating and then performing electroless plating. It becomes possible.

上記したエッチング液における有効成分の内で、無機酸としては、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸、ホウ酸、炭酸、亜硫酸、亜硝酸、亜リン酸、亜ホウ酸、過酸化水素、過塩素酸等を用いることができる。これらの内で、特に、硫酸、塩酸等が好ましい。これらの無機酸は、一種単独または二種以上混合して用いることができる。無機酸の含有量は、20〜1200g/L程度とすることが必要であり、300〜1000g/L程度とすることが好ましい。   Among the active ingredients in the etching solution described above, inorganic acids include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, boric acid, carbonic acid, sulfurous acid, nitrous acid, phosphorous acid, boric acid, hydrogen peroxide, perchloric acid. Etc. can be used. Of these, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like are particularly preferable. These inorganic acids can be used singly or in combination of two or more. The content of the inorganic acid needs to be about 20 to 1200 g / L, and preferably about 300 to 1000 g / L.

上記エッチング液における有効成分の内で、過マンガン酸塩としては、水溶液の塩であれば良く、その具体例としては、過マンガン酸ナトリウム、過マンガン酸カリウム等を例示できる。過マンガン酸塩は、一種単独または二種以上混合して用いることができる。過マンガン酸塩の含有量は、0.01〜40g/L程度とすることが必要であり、0.1〜10g/L程度とすることが好ましい。   Among the effective components in the etching solution, the permanganate may be a salt of an aqueous solution, and specific examples thereof include sodium permanganate and potassium permanganate. Permanganates can be used singly or in combination of two or more. The permanganate content needs to be about 0.01 to 40 g / L, and preferably about 0.1 to 10 g / L.

上記エッチング液における有効成分の内で、ハロゲンオキソ酸の具体例としては、次亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸、ハロゲン酸、過ハロゲン酸等を挙げることができる。ハロゲンオキソ酸塩としては、上記したハロゲンオキソ酸の水溶性塩を用いることができ、例えば、ハロゲンオキソ酸ナトリウム、ハロゲンオキソ酸カリウム等を用いることができる。過硫酸塩としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性の過硫酸塩を用いることができる。また、ビスマス酸塩としては、ビスマス酸ナトリウム、ビスマス酸カリウム等の水溶性のビスマス酸塩を用いることができる。ハロゲンオキソ酸、ハロゲンオキソ酸塩、過硫酸塩及びビスマス酸塩は、一種単独又は二種以上混合して用いることができる。特に、過塩素酸、過臭素酸、過ヨウ素酸等の過ハロゲン酸、該過ハロゲン酸の塩、過硫酸塩及びビスマス酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分を用いることが好ましい。   Among the active ingredients in the etching solution, specific examples of halogen oxoacids include hypohalous acid, halous acid, halogen acid, perhalogen acid and the like. As the halogen oxoacid salt, the above-mentioned water-soluble salts of halogen oxoacids can be used. For example, sodium halogen oxoacid, potassium halogen oxoacid, etc. can be used. As the persulfate, water-soluble persulfates such as sodium persulfate, potassium persulfate, and ammonium persulfate can be used. Moreover, as bismuth acid salt, water-soluble bismuth acid salt, such as sodium bismuth acid and potassium bismuth acid, can be used. The halogen oxoacid, halogen oxoacid salt, persulfate and bismuth acid salt can be used singly or in combination of two or more. In particular, it is preferable to use at least one component selected from the group consisting of perhalogen acids such as perchloric acid, perbromic acid, and periodic acid, salts of the perhalogen acid, persulfates, and bismuth salts.

上記したエッチング液では、ハロゲンオキソ酸、ハロゲンオキソ酸塩、過硫酸塩及びビスマス酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分の含有量は、1〜200g/L程度とすることが必要であり、10〜100g/L程度とすることが好ましい。   In the etching solution described above, the content of at least one component selected from the group consisting of halogen oxoacids, halogen oxoacid salts, persulfate salts, and bismuth acid salts needs to be about 1 to 200 g / L. Yes, preferably about 10 to 100 g / L.

上記エッチング液の好ましい具体例として、硫酸及び塩酸からなる群から選ばれた少なくとも一種の無機酸、過マンガン酸塩、並びに過塩素酸、過臭素酸、過ヨウ素酸及びこれらの塩からなる群から選ばれた少なくとも一種のハロゲンオキソ酸類を含有する水溶液を挙げることができる。   Preferable specific examples of the etching solution include at least one inorganic acid selected from the group consisting of sulfuric acid and hydrochloric acid, permanganate, and a group consisting of perchloric acid, perbromic acid, periodic acid, and salts thereof. Mention may be made of aqueous solutions containing at least one selected halogenoxoacid.

上記したエッチング液を用いてエッチング処理を行うには、処理対象物である樹脂成形体の被処理面を該エッチング液に接触させればよい。具体的な方法については、特に限定はなく、被処理面の表面を該エッチング液に充分接触させることができる方法であればよい。例えば、該エッチング液を被処理物に噴霧する方法等も適用可能であるが、通常は、該エッチング液中に被処理物を浸漬する方法によれば、効率の良い処理が可能である。   In order to perform an etching process using the above-described etching solution, a surface to be processed of a resin molded body that is a processing target may be brought into contact with the etching solution. The specific method is not particularly limited, and any method that can sufficiently bring the surface of the surface to be processed into contact with the etching solution may be used. For example, a method of spraying the etching solution onto the object to be processed can be applied, but normally, a method of immersing the object to be processed in the etching solution enables efficient processing.

エッチング処理条件については、特に限定的ではなく、目的とするエッチング処理の程度に応じて適宣決めればよい。例えば、エッチング液中に被処理物を浸漬してエッチング処理を行う場合には、エッチング液の液温を30℃〜70℃程度とし、浸漬時間を3〜30分程度とすればよい。   The etching process conditions are not particularly limited, and may be determined appropriately according to the degree of the target etching process. For example, when performing an etching process by immersing an object to be processed in an etching solution, the temperature of the etching solution may be about 30 ° C. to 70 ° C., and the immersion time may be about 3 to 30 minutes.

尚、被処理物である樹脂成形体の表面の汚れがひどい場合には、エッチング処理に先立って、常法に従って脱脂処理を行えばよい。   If the surface of the resin molded body, which is the object to be processed, is severely soiled, the degreasing process may be performed according to a conventional method prior to the etching process.

(2)中和処理及びコンディショニング
エッチング処理を行った後、必要に応じて、中和処理を行うことができる。この処理によって、エッチング処理後に残存する成分を除去でき、触媒液中への不要な成分の持ち込みを防止できる。
(2) Neutralization process and conditioning After performing an etching process, a neutralization process can be performed as needed. By this treatment, components remaining after the etching treatment can be removed and unnecessary components can be prevented from being brought into the catalyst solution.

中和処理に用いる処理液としては、還元性化合物等を用いることができるが、更に、無機酸等が含まれていても良い。中和処理の方法については特に限定はなく、常法に従えばよい。   As the treatment liquid used for the neutralization treatment, a reducing compound or the like can be used, but an inorganic acid or the like may be further contained. There is no particular limitation on the method of the neutralization treatment, and a conventional method may be followed.

コンディショニング処理についても常法に従えばよい。コンディショニング処理を行うことによって、触媒付着量を増加させることが可能である。   The conditioning process may be performed according to a conventional method. By performing the conditioning treatment, the amount of catalyst adhesion can be increased.

(3)触媒付与工程
無電解めっき用触媒の付与方法については、特に限定はなく、パラジウム、銀、ルテニウム等の無電解めっき用触媒を公知の方法に従って付与すればよい。パラジウム触媒の付与方法としては、例えば、いわゆる、キャタリスト−アクセレーター法、センシタイザー−アクチベーティング法、アルカリキャタリスト法などの公知の方法を採用することができる。
(3) Catalyst application process There are no particular limitations on the method for applying the electroless plating catalyst, and a catalyst for electroless plating such as palladium, silver, ruthenium, etc. may be applied according to a known method. As a method for applying the palladium catalyst, for example, a known method such as a so-called catalyst-accelerator method, a sensitizer-activating method, or an alkali catalyst method can be employed.

(4)無電解めっき工程
上記した方法で触媒を付与した後、無電解めっきを行うことによって、樹脂成形体の表面に、無電解めっき皮膜を形成する。本発明のめっき用治具を用いる場合には、治具表面に形成されたシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜上には無電解めっき皮膜が殆ど析出することがない。このため、治具を交換することなく、引き続き電気めっきを行うことができる。
(4) Electroless plating step After applying the catalyst by the above-described method, an electroless plating film is formed on the surface of the resin molded body by performing electroless plating. When the plating jig of the present invention is used, an electroless plating film is almost deposited on the film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin formed on the jig surface. There is nothing to do. For this reason, it is possible to continue electroplating without replacing the jig.

無電解めっき液としては、公知の自己触媒型無電解めっき液をいずれも用いることができる。この無電解めっき液としては、無電解ニッケルめっき液、無電解銅めっき液、無電解コバルトめっき液、無電解ニッケル−コバルト合金めっき液、無電解金めっき液等を例示できる。   As the electroless plating solution, any known self-catalyzed electroless plating solution can be used. Examples of the electroless plating solution include an electroless nickel plating solution, an electroless copper plating solution, an electroless cobalt plating solution, an electroless nickel-cobalt alloy plating solution, and an electroless gold plating solution.

無電解めっきの条件についても、公知の方法と同様にすれば良い。また、必要に応じて、無電解めっき皮膜を二層以上形成しても良い。   The conditions for electroless plating may be the same as known methods. Further, if necessary, two or more electroless plating films may be formed.

(5)電気めっき工程
無電解めっきの後、必要に応じて、酸、アルカリ等の水溶液によって活性化処理を行い、その後、電気めっきを行う。本発明のめっき用治具を用いることにより、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂のコーティング部分への無電解めっきの析出を防止できるので、無電解めっき後、治具を交換することなく、連続して電気めっき処理を行うことができる。
(5) Electroplating step After electroless plating, if necessary, activation treatment is performed with an aqueous solution of acid, alkali, etc., and then electroplating is performed. By using the plating jig of the present invention, it is possible to prevent deposition of electroless plating on the coating portion of at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin. The electroplating process can be performed continuously without changing the tool.

電気めっき液の種類についても特に限定はなく、公知の電気めっきから目的に応じて適宣選択すればよい。   The type of electroplating solution is not particularly limited, and may be appropriately selected from known electroplating according to the purpose.

本発明のめっき用治具によれば、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜部分に無電解めっきが殆ど析出することがなく、引き続いて電気めっきを行った場合に、治具へのめっき皮膜の析出を防止できる。このため、治具を交換することなく電気めっきまでの処理を連続して行うことが可能となり、めっき処理が大きく効率化される。   According to the plating jig of the present invention, the electroless plating hardly deposits on the film portion containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin, and the electroplating is performed subsequently. In this case, it is possible to prevent the plating film from being deposited on the jig. For this reason, it is possible to continuously perform the processes up to electroplating without exchanging the jig, and the plating process is greatly improved in efficiency.

特に、本発明のめっき用治具によれば、過マンガン酸塩を含むエッチング液を用いる場合に、絶縁被覆が侵されることなく長期間安定して使用できる。このため、過マンガン酸塩を有効成分とする安全性の高いエッチング液を用いるめっき処理方法によって、樹脂成形体に対して、効率良く良好なめっき皮膜を形成することができる。   In particular, according to the plating jig of the present invention, when an etching solution containing a permanganate is used, it can be used stably for a long period of time without damaging the insulating coating. For this reason, a good plating film can be efficiently formed on the resin molded body by a plating method using a highly safe etching solution containing permanganate as an active ingredient.

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

実施例1(シリコーン樹皮膜)
下記の方法でめっき用治具を作製した。
Example 1 (silicone resin coating)
A plating jig was prepared by the following method.

(1)めっき用治具1
直径3mmのステンレス線を導電性材料として、図1に示す形状のめっき用治具を作製した。該めっき用治具は、ステンレス線を所定の形状に加工し、市販の液状シリコーン樹脂用プライマー(商標名:ME121,GE東芝シリコーン社製)を塗布し、乾燥させた後、縮合タイプの2液型液状シリコーン樹脂(商標名:TSE350, GE東芝シリコーン社製)に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた後、再度、同一の液状シリコーン樹脂中に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって、厚さ約0.1〜5mmのシリコーン樹脂皮膜を形成したものである。得られためっき用治具は、図2(a)に示すように、絶縁被覆部の全体が、シリコーン樹脂皮膜5で形成され、被めっき物との接触部2については、約15mmの長さでステンレス線が露出した状態である。これをめっき用治具1とする。
(1) Jig for plating 1
A plating jig having the shape shown in FIG. 1 was prepared using a stainless steel wire having a diameter of 3 mm as a conductive material. The jig for plating is made of a stainless steel wire into a predetermined shape, applied with a commercially available primer for liquid silicone resin (trade name: ME121, manufactured by GE Toshiba Silicone), dried, and then condensed, two-component liquid Type liquid silicone resin (trade name: TSE350, manufactured by GE Toshiba Silicone) for 5 seconds, baked at 180 ° C. for 5 minutes, and then immersed again in the same liquid silicone resin for 5 seconds and at 180 ° C. for 7 minutes. A silicone resin film having a thickness of about 0.1 to 5 mm is formed by baking. In the obtained plating jig, as shown in FIG. 2A, the entire insulating coating portion is formed of the silicone resin film 5, and the contact portion 2 with the object to be plated has a length of about 15 mm. The stainless steel wire is exposed. This is referred to as a plating jig 1.

(2)めっき用治具2
めっき用治具1と同様の方法で、ステンレス線からなるめっき用治具上に厚さ約0.1〜5mmのシリコーン樹脂皮膜5を形成した。その後、軟塩化ビニル系コーティングゾル(商標名:PG2401,アルファ化成株式会社製)に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付け、再度、同一の軟塩化ビニル系コーティングゾルに5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって、厚さ約0.1〜5mmの軟塩化ビニル皮膜6を形成した。
(2) Jig for plating 2
A silicone resin film 5 having a thickness of about 0.1 to 5 mm was formed on a plating jig made of stainless steel wire in the same manner as the plating jig 1. Thereafter, it is immersed in a soft vinyl chloride coating sol (trade name: PG2401, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.) for 5 seconds, baked at 180 ° C. for 5 minutes, and again immersed in the same soft vinyl chloride coating sol for 5 seconds. A soft vinyl chloride film 6 having a thickness of about 0.1 to 5 mm was formed by baking at a temperature of 7 ° C. for 7 minutes.

尚、被めっき物との接触部2については、約15mmの長さでステンレス線が露出した状態とし、この部分に隣接する絶縁被覆部5’については、シリコーン樹脂が幅5mm程度露出するように、軟塩化ビニルゾルを塗布した。   The contact portion 2 with the object to be plated is in a state where the stainless wire is exposed with a length of about 15 mm, and the silicone resin is exposed about 5 mm in width in the insulating coating portion 5 ′ adjacent to this portion. Soft vinyl chloride sol was applied.

以上の方法で得られためっき用治具は、図2(b)に示すように、絶縁被覆部は、シリコーン樹脂皮膜5上に軟塩化ビニル皮膜6が積層された状態であり、被めっき物との接触部2については、約15mmの長さでステンレス線が露出し、被めっき物との接触部付近の幅5mm程度の絶縁被覆部5’については、シリコーン樹脂が露出した状態である。これをめっき用治具2とする。   In the plating jig obtained by the above method, as shown in FIG. 2 (b), the insulating coating portion is a state in which the soft vinyl chloride film 6 is laminated on the silicone resin film 5, and the object to be plated As for the contact portion 2 with a length of about 15 mm, the stainless steel wire is exposed, and the insulating coating portion 5 ′ having a width of about 5 mm near the contact portion with the object to be plated is in a state where the silicone resin is exposed. This is referred to as a plating jig 2.

(3)めっき用治具3
直径3mmのステンレス線を導電性材料として、図1に示す形状のめっき用治具を作製した後、市販の軟塩化ビニル系コーティングゾル用プライマー(商標名:MP-3000,アルファ化成株式会社製)を塗布し、乾燥させた後、軟塩化ビニル系コーティングゾル(商標名:PG2401,アルファ化成株式会社製)に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた。その後、再度、同一の軟塩化ビニル系コーティングゾル中に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって、厚さ約0.1〜5mmの軟塩化ビニル皮膜6を形成した。
(3) Jig 3 for plating
Using a stainless steel wire with a diameter of 3 mm as a conductive material, a plating jig having the shape shown in FIG. 1 was prepared, and then a commercially available primer for soft vinyl chloride coating sol (trade name: MP-3000, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.) After being coated and dried, it was immersed in a soft vinyl chloride coating sol (trade name: PG2401, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.) for 5 seconds and baked at 180 ° C. for 5 minutes. Then, the soft vinyl chloride film 6 having a thickness of about 0.1 to 5 mm was formed by immersing again in the same soft vinyl chloride coating sol for 5 seconds and baking at 180 ° C. for 7 minutes.

次いで、上記した方法で軟塩化ビニル系皮膜6を形成した治具を、液状シリコーン樹脂(商標名:TSE350, GE東芝シリコーン社製)に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた後、再度、同一の液状シリコーン樹脂中に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって、厚さ約0.1〜5mmのシリコーン樹脂皮膜5を形成した。   Next, the jig on which the soft vinyl chloride film 6 is formed by the above-described method is immersed in a liquid silicone resin (trade name: TSE350, manufactured by GE Toshiba Silicone) for 5 seconds, baked at 180 ° C. for 5 minutes, and then again. The silicon resin film 5 having a thickness of about 0.1 to 5 mm was formed by immersing in the same liquid silicone resin for 5 seconds and baking at 180 ° C. for 7 minutes.

以上の方法で得られためっき用治具は、図2(c)に示すように、絶縁被覆部は、軟塩化ビニル皮膜6上にシリコーン樹脂皮膜5が積層されており、被めっき物との接触部2については、約15mmの長さでステンレス線が露出した状態である。これをめっき用治具3とする。   In the plating jig obtained by the above method, as shown in FIG. 2 (c), the insulating coating portion is formed by laminating the silicone resin film 5 on the soft vinyl chloride film 6, and with the object to be plated. The contact portion 2 is in a state where the stainless wire is exposed with a length of about 15 mm. This is referred to as a plating jig 3.

(4)めっき用治具4
めっき用治具3と同様の方法で、ステンレス線からなるめっき用治具上に厚さ約0.1〜5mmの難塩化ビニル皮膜6を形成した。次いで、上記した方法で軟塩化ビニル系皮膜6を形成した治具を、液状シリコーン樹脂(商標名:TSE350, GE東芝シリコーン社製)に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた後、再度、同一の液状シリコーン樹脂中に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって、厚さ約0.1〜5mmのシリコーン樹脂皮膜5を形成した。尚、シリコーン樹脂皮膜5は、難塩化ビニル皮膜の全面に形成するのではなく、被めっき物との接触部2の近傍部分にのみ、幅10mm程度形成した。
(4) Jig for plating 4
In the same manner as the plating jig 3, a hard vinyl chloride film 6 having a thickness of about 0.1 to 5 mm was formed on a plating jig made of stainless steel wire. Next, the jig on which the soft vinyl chloride film 6 is formed by the above-described method is immersed in a liquid silicone resin (trade name: TSE350, manufactured by GE Toshiba Silicone) for 5 seconds, baked at 180 ° C. for 5 minutes, and then again. The silicon resin film 5 having a thickness of about 0.1 to 5 mm was formed by immersing in the same liquid silicone resin for 5 seconds and baking at 180 ° C. for 7 minutes. The silicone resin film 5 was not formed on the entire surface of the hard vinyl chloride film, but only about 10 mm in width in the vicinity of the contact portion 2 with the object to be plated.

以上の方法で得られためっき用治具は、図2(d)に示すように、絶縁被覆部が、軟塩化ビニル皮膜6で形成され、被めっき物との接触部2の近傍部分にのみ、幅10mm程度のシリコーン樹脂皮膜5が形成され、被めっき物との接触部2については、約15mmの長さでステンレス線が露出した状態である。これをめっき用治具4とする。   In the plating jig obtained by the above method, as shown in FIG. 2 (d), the insulating coating portion is formed of the soft vinyl chloride film 6, and only in the vicinity of the contact portion 2 with the object to be plated. The silicone resin film 5 having a width of about 10 mm is formed, and the stainless steel wire is exposed at a length of about 15 mm at the contact portion 2 with the object to be plated. This is referred to as a plating jig 4.

(5)めっき用治具5
直径3mmのステンレス線を導電性材料として、図1に示す形状のめっき用治具を作製した後、市販の軟塩化ビニル系コーティングゾル用プライマー(商標名:MP-3000,アルファ化成株式会社製)を塗布し、乾燥させた。その後、軟塩化ビニル系コーティングゾル(商標名:PG2401,アルファ化成株式会社製)と液状シリコーン樹脂(商標名:TSE350, GE東芝シリコーン社製)を1:1の重量比で混合した溶液に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた後、再度、同一の溶液に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって、軟塩化ビニルとシリコーン樹脂の混合樹脂7からなる厚さ約0.1〜5mmの絶縁被覆を形成した。得られためっき用治具は、図2(e)に示すように、絶縁被覆部が軟塩化ビニルとシリコーン樹脂の混合樹脂7で形成され、被めっき物との接触部2については、約15mmの長さでステンレス線が露出した状態である。これをめっき用治具5とする。
(5) Jig for plating 5
Using a stainless steel wire with a diameter of 3 mm as a conductive material, a plating jig having the shape shown in FIG. 1 was prepared, and then a commercially available primer for soft vinyl chloride coating sol (trade name: MP-3000, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.) Was applied and dried. After that, a soft vinyl chloride coating sol (trade name: PG2401, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.) and a liquid silicone resin (trade name: TSE350, manufactured by GE Toshiba Silicone) at a 1: 1 weight ratio for 5 seconds. After immersing and baking at 180 ° C. for 5 minutes, it is immersed again in the same solution for 5 seconds and baked at 180 ° C. for 7 minutes, so that the thickness of the mixed resin 7 of soft vinyl chloride and silicone resin is about 0.1 to 5 mm. Insulation coating was formed. In the obtained plating jig, as shown in FIG. 2 (e), the insulating coating portion is formed of a mixed resin 7 of soft vinyl chloride and silicone resin, and the contact portion 2 with the object to be plated is about 15 mm. The length of the stainless steel wire is exposed. This is referred to as a plating jig 5.

(6)めっき用治具6
直径3mmのステンレス線を導電性材料として、図1に示す形状のめっき用治具を作製した後、市販の軟塩化ビニル系コーティングゾル用プライマー(商標名:MP-3000,アルファ化成株式会社製)を塗布し、乾燥させた。その後、軟塩化ビニル系コーティングゾル(商標名:PG2401,アルファ化成株式会社製)に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた後、再度、同一の軟塩化ビニル系コーティングゾル中に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって、厚さ約0.1〜5mmの軟塩化ビニル皮膜を形成した。
(6) Jig for plating 6
Using a stainless steel wire with a diameter of 3 mm as a conductive material, a plating jig having the shape shown in FIG. 1 was prepared, and then a commercially available primer for soft vinyl chloride coating sol (trade name: MP-3000, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.) Was applied and dried. After that, it is immersed in a soft vinyl chloride coating sol (trade name: PG2401, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.) for 5 seconds, baked at 180 ° C. for 5 minutes, and then again immersed in the same soft vinyl chloride coating sol for 5 seconds. The film was baked at 180 ° C. for 7 minutes to form a soft vinyl chloride film having a thickness of about 0.1 to 5 mm.

得られためっき用治具は、絶縁被覆部が軟塩化ビニル皮膜で形成され、被めっき物との接触部については、約15mmの長さでステンレス線が露出した状態である。これをめっき用治具6とする。   In the obtained plating jig, the insulating coating part is formed of a soft vinyl chloride film, and the stainless steel wire is exposed with a length of about 15 mm at the contact part with the object to be plated. This is referred to as a plating jig 6.

めっき試験結果
被めっき物として、ABS樹脂(UMG ABS(株)製、商標名:サイコラック3001M)の平板(10cm×5cm×0.3cm、表面積約1dm)を用い、上記しためっき用冶具1〜6に被めっき物を固定して、下記表1に記載されている処理工程に従って無電解銅めっき(奥野製薬工業(株) CRPセレクター)および電気銅めっきを行った。尚、各工程の間には、水洗を行った。
As a plating test result, a flat plate (10 cm × 5 cm × 0.3 cm, surface area of about 1 dm 2 ) of ABS resin (manufactured by UMG ABS Co., Ltd., trade name: Psycolac 3001M) is used. An object to be plated was fixed to -6, and electroless copper plating (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. CRP selector) and electrolytic copper plating were performed according to the processing steps described in Table 1 below. In addition, between each process, it washed with water.

Figure 0005131683
Figure 0005131683

上記した処理工程に従って最大5分間の電気銅めっきを行い、各めっき冶具の絶縁被覆部における電気銅めっきの析出状態と、被めっき物における電気銅めっき皮膜の析出状態を目視で観察した。被めっき物の全面に均一な銅めっき皮膜が形成されている場合を○として評価した。結果を表2に示す。   According to the above-described processing steps, electrolytic copper plating was performed for a maximum of 5 minutes, and the state of electrolytic copper plating in the insulating coating part of each plating jig and the state of electrolytic copper plating film deposition on the object to be plated were visually observed. The case where a uniform copper plating film was formed on the entire surface of the object to be plated was evaluated as ○. The results are shown in Table 2.

Figure 0005131683
Figure 0005131683

以上の結果から明らかなように、めっき用治具の絶縁被覆部の表面がシリコーン樹脂又はシリコーン樹脂を含む混合樹脂によって形成されているめっき用治具1、2及び5を用いた場合には、無電解めっき後に引き続き電気めっきを行った場合であっても、治具上への電気めっきの析出を防止できた。また、絶縁被覆部表面の一部についてのみシリコーン皮膜が露出した状態のめっき用治具3及び4では、被めっき物の電気接点からシリコーン樹脂皮膜が露出した部分までは電気めっきが析出するものの、それより先の絶縁被覆部への電気めっき析出の拡がりを防止できた。尚、めっき用治具4では、電気めっきの経過とともに軟塩化ビニル皮膜上に析出した無電解めっきは電気めっき液中に溶解した。   As is clear from the above results, when using the plating jigs 1, 2, and 5 in which the surface of the insulating coating portion of the plating jig is formed of a silicone resin or a mixed resin containing a silicone resin, Even when electroplating was subsequently performed after electroless plating, the deposition of electroplating on the jig could be prevented. In addition, in the plating jigs 3 and 4 in which the silicone film is exposed only on a part of the surface of the insulating coating portion, although electroplating is deposited from the electrical contact of the object to be plated to the portion where the silicone resin film is exposed, It was possible to prevent the electroplating deposition from spreading on the insulation coating part beyond that. In the plating jig 4, the electroless plating deposited on the soft vinyl chloride film with the progress of electroplating was dissolved in the electroplating solution.

これに対して、絶縁被覆部が軟質塩化ビニル樹脂によって形成されているめっき用治具6では、無電解めっき後に、引き続いて電気めっきを行うと、絶縁被腹部に電気めっきが析出した。また、絶縁被覆部に電気めっきが析出したことによって被めっき物への電気供給が不十分となり、被めっき物表面に電気めっきの未析出部が生じた。   In contrast, in the plating jig 6 in which the insulating coating portion is formed of a soft vinyl chloride resin, when electroplating is subsequently performed after electroless plating, electroplating is deposited on the insulating stomach portion. Moreover, since the electroplating was deposited on the insulating coating portion, the electric supply to the object to be plated was insufficient, and an undeposited part of the electroplating was generated on the surface of the object to be plated.

以上の結果から明らかなように、絶縁被覆部の全体又は表面の一部にシリコーン樹脂皮膜が形成されためっき用治具を用いることにより、めっき用治具を交換することなく、無電解めっきと電気めっきを連続して行うことが可能となり、めっき処理が大きく効率化されることが判る。   As is clear from the above results, by using a plating jig in which a silicone resin film is formed on the entire insulating coating part or a part of the surface, electroless plating can be performed without replacing the plating jig. It can be seen that electroplating can be performed continuously, and the plating process is greatly improved in efficiency.

実施例2(ポリエチレン樹脂皮膜)
実施例1で用いたシリコーン樹脂に代えてポリエチレン樹脂を用いること以外は、実施例1と同様にしてめっき用治具1〜4と同様の構造のめっき用治具を作製した。
Example 2 (polyethylene resin film)
A plating jig having the same structure as the plating jigs 1 to 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that a polyethylene resin was used instead of the silicone resin used in Example 1.

尚、ポリエチレン樹脂による皮膜は、金属製冶具を180℃のオーブンで加熱した後、平均粒径1,000μmの粉末状ポリエチレン中に浸漬して1分静置した後、取り出して再び180℃のオーブン中で5分加熱して表面を溶融させて平滑にし、最後に水中に浸漬して冷却する方法によって形成した。形成されたポリエチレン皮膜の厚さは約1〜2mmの範囲であった。   The film made of polyethylene resin was heated in a 180 ° C oven, then immersed in powdered polyethylene with an average particle size of 1,000 µm and allowed to stand for 1 minute, then taken out and again in an oven at 180 ° C. It was formed by a method in which the surface was melted and smoothed by heating for 5 minutes, and finally immersed in water and cooled. The thickness of the polyethylene film formed was in the range of about 1-2 mm.

また、めっき用治具5については、軟塩化ビニルとシリコーン樹脂の混合樹脂による皮膜に代えて、軟塩化ビニルとポリエチレンの混合樹脂からなる厚さ約1〜5mmの絶縁被覆を形成すること以外は、実施例1と同様の方法によって作製した。尚、軟塩化ビニルとポリエチレンの混合樹脂からなる皮膜は、塩化ビニル系コーティングゾル(商標名:PG2401,アルファ化成株式会社製)と粉体のポリエチレン樹脂を1:1の重量比で混合した溶液に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた後、再度、同一の溶液に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付ける方法で形成した。   Further, with respect to the plating jig 5, instead of a film made of a mixed resin of soft vinyl chloride and silicone resin, an insulating coating having a thickness of about 1 to 5 mm made of a mixed resin of soft vinyl chloride and polyethylene is formed. This was produced by the same method as in Example 1. A film made of a mixed resin of soft vinyl chloride and polyethylene is a solution in which a vinyl chloride coating sol (trade name: PG2401, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.) and powdered polyethylene resin are mixed at a weight ratio of 1: 1. After immersing for 5 seconds and baking at 180 ° C. for 5 minutes, it was again immersed in the same solution for 5 seconds and baked at 180 ° C. for 7 minutes.

以上の方法によって得られためっき用治具(ポリエチレン樹脂被覆品)1〜5を用いて、実施例1と同様の工程で無電解銅めっき及び電気銅めっきを行った。   Using the plating jigs (polyethylene resin coated products) 1 to 5 obtained by the above method, electroless copper plating and electrolytic copper plating were performed in the same process as in Example 1.

その結果、シリコーン樹脂による皮膜を形成しためっき用治具を用いた場合とほぼ同様の結果となり、めっき用治具1、2及び5を用いた場合には、無電解めっき後に引き続き電気めっきを行った場合であっても、治具上への電気めっきの析出を防止できた。また、絶縁被覆部表面の一部についてのみポリエチレン皮膜が露出した状態のめっき用治具3及び4を用いた場合には、被めっき物の電気接点からポリエチレン樹脂皮膜が露出した部分までは電気めっきが析出するものの、それより先の絶縁被覆部への電気めっき析出の拡がりを防止できた。尚、めっき用治具4では、電気めっきの経過とともに軟塩化ビニル皮膜上に析出した無電解めっきは電気めっき液中に溶解した。   As a result, the result is almost the same as when using a plating jig formed with a film made of silicone resin. When using the plating jigs 1, 2, and 5, electroplating is continued after electroless plating. Even in this case, the deposition of electroplating on the jig could be prevented. Further, when the plating jigs 3 and 4 with the polyethylene film exposed on only a part of the surface of the insulating coating portion are used, electroplating is performed from the electrical contact of the object to be plated to the portion where the polyethylene resin film is exposed. Although it was deposited, it was possible to prevent the spread of electroplating deposition on the insulation coating portion beyond that. In the plating jig 4, the electroless plating deposited on the soft vinyl chloride film with the progress of electroplating was dissolved in the electroplating solution.

以上の結果から明らかなように、絶縁被覆部の全体又は表面の一部にポリエチレン樹脂皮膜が形成されためっき用治具を用いる場合にも、めっき用治具を交換することなく、無電解めっきと電気めっきを連続して行うことが可能となり、めっき処理が大きく効率化されることが判る。   As is clear from the above results, even when using a plating jig in which a polyethylene resin film is formed on the entire insulation coating part or a part of the surface, electroless plating is performed without replacing the plating jig. It can be seen that electroplating can be performed continuously, and the plating process is greatly improved in efficiency.

実施例3(シリコーン樹脂とポリエチレン樹脂の混合樹脂皮膜)
実施例1のめっき用治具1で用いたシリコーン樹脂に代えて、シリコーン樹脂とポリエチレンン樹脂の混合樹脂を用いること以外は、実施例1と同様にしてめっき用治具1と同様の構造のめっき用治具を作製した。
Example 3 (mixed resin film of silicone resin and polyethylene resin)
Instead of the silicone resin used in the plating jig 1 of Example 1, a structure similar to that of the plating jig 1 is obtained in the same manner as in Example 1 except that a mixed resin of silicone resin and polyethylene resin is used. A plating jig was produced.

尚、シリコーン樹脂とポリエチレンン樹脂の混合樹脂による皮膜は、液状シリコーン樹脂(商標名:TSE350, GE東芝シリコーン社製)とポリエチレン樹脂を1:1の重量比で混合した溶液に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた後、再度、同一の溶液に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって形成した。形成された皮膜の厚さは、約0.1〜5mmの範囲であった。   The film made of a mixed resin of silicone resin and polyethylene resin is immersed for 5 seconds in a solution in which a liquid silicone resin (trade name: TSE350, manufactured by GE Toshiba Silicone) and polyethylene resin are mixed at a weight ratio of 1: 1. After baking at 180 ° C. for 5 minutes, it was again immersed in the same solution for 5 seconds and baked at 180 ° C. for 7 minutes. The thickness of the formed film was in the range of about 0.1-5 mm.

得られためっき用治具を用いて、実施例1と同様の工程で無電解銅めっき及び電気銅めっきを行った。その結果、シリコーン樹脂による皮膜を形成しためっき用治具を用いた場合とほぼ同様の結果となり、無電解めっき後に引き続き電気めっきを行った場合であっても、治具上への電気めっきの析出を防止できた。   Using the obtained plating jig, electroless copper plating and electrolytic copper plating were performed in the same steps as in Example 1. As a result, the result is almost the same as when using a plating jig formed with a film made of silicone resin. Even when electroplating is subsequently performed after electroless plating, electroplating is deposited on the jig. We were able to prevent.

実施例4(液状シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、及び塩化ビニルゾルの混合樹脂皮膜)
実施例1のめっき用治具5で用いた軟塩化ビニルとシリコーン樹脂の混合樹脂による皮膜に代えて、軟塩化ビニル、シリコーン樹脂及びポリエチレン樹脂の混合樹脂による皮膜を形成すること以外は、実施例1におけるめっき用治具5と同様にしてめっき用治具を作製した。
Example 4 (mixed resin film of liquid silicone resin, polyethylene resin, and vinyl chloride sol)
Example except that a film made of a mixed resin of soft vinyl chloride, silicone resin and polyethylene resin was formed instead of the film made of a mixed resin of soft vinyl chloride and silicone resin used in the plating jig 5 of Example 1. The plating jig was prepared in the same manner as the plating jig 5 in FIG.

尚、軟塩化ビニル、シリコーン樹脂及びポリエチレン樹脂の混合樹脂による皮膜は、軟塩化ビニル系コーティングゾル(商標名:PG2401,アルファ化成株式会社製)、液状シリコーン樹脂(商標名:TSE350, GE東芝シリコーン社製)、及びポリエチレン樹脂を1:1:1の重量比した溶液に5秒間浸漬し、180℃で5分間焼き付けた後、再度、同一の溶液に5秒間浸漬し、180℃で7分間焼き付けることによって形成した。形成された皮膜の厚さは、約0.1〜3mmの範囲であった。   The film made of a mixed resin of soft vinyl chloride, silicone resin and polyethylene resin is made of soft vinyl chloride coating sol (trade name: PG2401, manufactured by Alpha Kasei Co., Ltd.), liquid silicone resin (trade name: TSE350, GE Toshiba Silicone Co., Ltd.) Manufactured) and polyethylene resin is immersed in a 1: 1 weight ratio solution for 5 seconds, baked at 180 ° C. for 5 minutes, then again immersed in the same solution for 5 seconds and baked at 180 ° C. for 7 minutes. Formed by. The thickness of the formed film was in the range of about 0.1-3 mm.

得られためっき用治具を用いて、実施例1と同様の工程で無電解銅めっき及び電気銅めっきを行った。その結果、シリコーン樹脂による皮膜を形成しためっき用治具を用いた場合とほぼ同様の結果となり、無電解めっき後に引き続き電気めっきを行った場合であっても、治具上への電気めっきの析出を防止できた。   Using the obtained plating jig, electroless copper plating and electrolytic copper plating were performed in the same steps as in Example 1. As a result, the result is almost the same as when using a plating jig formed with a film made of silicone resin. Even when electroplating is subsequently performed after electroless plating, electroplating is deposited on the jig. We were able to prevent.

本発明のめっき用治具を模式的に示す概略図。Schematic which shows typically the jig | tool for plating of this invention. 図1のめっき用治具の部分断面図。The fragmentary sectional view of the jig | tool for plating of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 治具本体
2 被めっき物との接触部
3 絶縁被覆部
4 給電部
5 シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜
6 絶縁性樹脂層
7 混合樹脂層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Jig body 2 Contact part with to-be-plated object 3 Insulation coating | cover part 4 Electric power feeding part 5 Film | membrane 6 which contains at least 1 type of resin chosen from the group which consists of silicone resin and olefin resin 6 Insulating resin layer 7 Mixed resin layer

Claims (5)

樹脂成形体のめっき処理に用いるめっき用治具であって、該めっき用治具の絶縁被覆部の全体又は絶縁被覆部の表面部分の少なくとも一部がシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜によって形成されていることを特徴とするめっき用治具であって、
過マンガン酸塩を含むエッチング液によるエッチング処理工程を含むめっき処理方法で用いられるめっき用治具
A plating jig for use in plating treatment of a resin molded body, wherein the entire insulating coating portion of the plating jig or at least a part of the surface portion of the insulating coating portion is selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin. A plating jig characterized by being formed of a film containing at least one kind of resin ,
A plating jig used in a plating method including an etching process step using an etchant containing a permanganate .
絶縁被覆部の全体がシリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜によって形成されている請求項1に記載のめっき用治具。 The plating jig according to claim 1, wherein the entire insulating coating portion is formed of a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin. 絶縁被覆部において、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜の下層にその他の絶縁性皮膜が形成されている請求項1に記載のめっき用治具。 The plating jig according to claim 1, wherein in the insulating coating portion, another insulating film is formed under the film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin. 絶縁被覆部において、シリコーン樹脂及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜上にその他の絶縁性皮膜が形成されている請求項1に記載のめっき用治具。 The plating jig according to claim 1, wherein in the insulating coating portion, another insulating film is formed on a film containing at least one resin selected from the group consisting of a silicone resin and an olefin resin. シリコーン樹及びオレフィン系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種の樹脂を含む皮膜が、(i)シリコーン樹脂の単独皮膜、(ii)シリコーン樹脂とその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜、(iii)オレフィン系樹脂の単独皮膜、(iv)オレフィン系樹脂とその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜、又は(v)シリコーン樹脂、オレフィン系樹脂及びその他の絶縁性樹脂の混合樹脂からなる皮膜である請求項1〜4のいずれかに記載のめっき用治具。 Coating film containing at least one resin selected from the group consisting of silicone resins and olefin resin consists of (i) alone coating of silicone resin, (ii) a silicone resin and a mixed resin of other insulating resin, (iii) Single film of olefin resin, (iv) Film made of mixed resin of olefin resin and other insulating resin, or (v) Made of mixed resin of silicone resin, olefin resin and other insulating resin It is a film | membrane, The jig | tool for plating in any one of Claims 1-4.
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