JP5126128B2 - Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group - Google Patents
Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group Download PDFInfo
- Publication number
- JP5126128B2 JP5126128B2 JP2009064947A JP2009064947A JP5126128B2 JP 5126128 B2 JP5126128 B2 JP 5126128B2 JP 2009064947 A JP2009064947 A JP 2009064947A JP 2009064947 A JP2009064947 A JP 2009064947A JP 5126128 B2 JP5126128 B2 JP 5126128B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- compound
- steps
- represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 115
- 125000005701 difluoromethyleneoxy group Chemical group FC(F)([*:1])O[*:2] 0.000 title claims description 53
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title description 114
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title description 28
- -1 bromodifluoromethyl Chemical class 0.000 claims description 180
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 128
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 88
- XNNQFQFUQLJSQT-UHFFFAOYSA-N bromo(trichloro)methane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Br XNNQFQFUQLJSQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 71
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 62
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 62
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 58
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 49
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 41
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 36
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 24
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 23
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 20
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 18
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 11
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000005407 trans-1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])[C@]([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[C@@]1([H])[*:1] 0.000 claims description 9
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims description 8
- YHTBENWQVKABNE-UHFFFAOYSA-N [bromo(difluoro)methyl]cyclohexane Chemical class FC(F)(Br)C1CCCCC1 YHTBENWQVKABNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001905 inorganic group Chemical group 0.000 claims description 5
- ABEOVMZJUFQJCZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoroacetic acid ethene Chemical compound FC(C(=O)O)F.C=C ABEOVMZJUFQJCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- YBBJKCMMCRQZMA-UHFFFAOYSA-N pyrithione Chemical compound ON1C=CC=CC1=S YBBJKCMMCRQZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XNRNJIIJLOFJEK-UHFFFAOYSA-N sodium;1-oxidopyridine-2-thione Chemical compound [Na+].[O-]N1C=CC=CC1=S XNRNJIIJLOFJEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GZKHDVAKKLTJPO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2,2-difluoroacetate Chemical class CCOC(=O)C(F)F GZKHDVAKKLTJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 131
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 129
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 107
- 239000000047 product Substances 0.000 description 98
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- 239000002585 base Substances 0.000 description 60
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 59
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 45
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 44
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 41
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 34
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 34
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 31
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 31
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 31
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 31
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 31
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 31
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 31
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 24
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 24
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 21
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 21
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 20
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 18
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 18
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 18
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 18
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 18
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 description 16
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 16
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 15
- 229910052751 metal Chemical group 0.000 description 15
- 239000002184 metal Chemical group 0.000 description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 14
- 229960000549 4-dimethylaminophenol Drugs 0.000 description 13
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 13
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 13
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 12
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- OPFJDXRVMFKJJO-ZHHKINOHSA-N N-{[3-(2-benzamido-4-methyl-1,3-thiazol-5-yl)-pyrazol-5-yl]carbonyl}-G-dR-G-dD-dD-dD-NH2 Chemical compound S1C(C=2NN=C(C=2)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CCCN=C(N)N)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(N)=O)=C(C)N=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 OPFJDXRVMFKJJO-ZHHKINOHSA-N 0.000 description 11
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 11
- 229940126086 compound 21 Drugs 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 11
- GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N (1s,2s,3r,4r)-3-[[5-chloro-2-[(1-ethyl-6-methoxy-2-oxo-4,5-dihydro-3h-1-benzazepin-7-yl)amino]pyrimidin-4-yl]amino]bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide Chemical compound CCN1C(=O)CCCC2=C(OC)C(NC=3N=C(C(=CN=3)Cl)N[C@H]3[C@H]([C@@]4([H])C[C@@]3(C=C4)[H])C(N)=O)=CC=C21 GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N 0.000 description 10
- QBWKPGNFQQJGFY-QLFBSQMISA-N 3-[(1r)-1-[(2r,6s)-2,6-dimethylmorpholin-4-yl]ethyl]-n-[6-methyl-3-(1h-pyrazol-4-yl)imidazo[1,2-a]pyrazin-8-yl]-1,2-thiazol-5-amine Chemical compound N1([C@H](C)C2=NSC(NC=3C4=NC=C(N4C=C(C)N=3)C3=CNN=C3)=C2)C[C@H](C)O[C@H](C)C1 QBWKPGNFQQJGFY-QLFBSQMISA-N 0.000 description 10
- 229940125758 compound 15 Drugs 0.000 description 10
- 229940125846 compound 25 Drugs 0.000 description 10
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 9
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N (2S,3R)-N-[(2S)-3-(cyclopenten-1-yl)-1-[(2R)-2-methyloxiran-2-yl]-1-oxopropan-2-yl]-3-hydroxy-3-(4-methoxyphenyl)-2-[[(2S)-2-[(2-morpholin-4-ylacetyl)amino]propanoyl]amino]propanamide Chemical compound C1(=CCCC1)C[C@@H](C(=O)[C@@]1(OC1)C)NC([C@H]([C@@H](C1=CC=C(C=C1)OC)O)NC([C@H](C)NC(CN1CCOCC1)=O)=O)=O GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N 0.000 description 8
- WWTBZEKOSBFBEM-SPWPXUSOSA-N (2s)-2-[[2-benzyl-3-[hydroxy-[(1r)-2-phenyl-1-(phenylmethoxycarbonylamino)ethyl]phosphoryl]propanoyl]amino]-3-(1h-indol-3-yl)propanoic acid Chemical compound N([C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)C(=O)O)C(=O)C(CP(O)(=O)[C@H](CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)OCC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 WWTBZEKOSBFBEM-SPWPXUSOSA-N 0.000 description 8
- ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 1-[2-[(2s,3r,4s,5r)-3,4-dihydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]oxy-4,6-dihydroxyphenyl]-3-(4-hydroxyphenyl)propan-1-one Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)CCC1=CC=C(O)C=C1 ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 0.000 description 8
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000005108 alkenylthio group Chemical group 0.000 description 8
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229940125797 compound 12 Drugs 0.000 description 8
- 229940126142 compound 16 Drugs 0.000 description 8
- 229940126208 compound 22 Drugs 0.000 description 8
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 8
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N (1S,2S,4R,8S,9S,11S,12R,13S,19S)-6-[(3-chlorophenyl)methyl]-12,19-difluoro-11-hydroxy-8-(2-hydroxyacetyl)-9,13-dimethyl-6-azapentacyclo[10.8.0.02,9.04,8.013,18]icosa-14,17-dien-16-one Chemical compound C([C@@H]1C[C@H]2[C@H]3[C@]([C@]4(C=CC(=O)C=C4[C@@H](F)C3)C)(F)[C@@H](O)C[C@@]2([C@@]1(C1)C(=O)CO)C)N1CC1=CC=CC(Cl)=C1 AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N 0.000 description 7
- 229940126657 Compound 17 Drugs 0.000 description 7
- 230000000911 decarboxylating effect Effects 0.000 description 7
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 7
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 7
- TVTJUIAKQFIXCE-HUKYDQBMSA-N 2-amino-9-[(2R,3S,4S,5R)-4-fluoro-3-hydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]-7-prop-2-ynyl-1H-purine-6,8-dione Chemical compound NC=1NC(C=2N(C(N(C=2N=1)[C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H]1O)F)CO)=O)CC#C)=O TVTJUIAKQFIXCE-HUKYDQBMSA-N 0.000 description 6
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000006959 Williamson synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 6
- 229940125851 compound 27 Drugs 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 6
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- ZRTWIJKGTUGZJY-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trifluorophenol Chemical compound OC1=CC(F)=C(F)C(F)=C1 ZRTWIJKGTUGZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000006350 alkyl thio alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 5
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 5
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 5
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 5
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 4
- JGTSCNDQYLOBRH-CMDGGOBGSA-N (E)-4-[2,6-difluoro-4-(4-propylphenyl)phenyl]-2,2-difluorobut-3-enoic acid Chemical compound FC=1C=C(C=C(C1/C=C/C(C(=O)O)(F)F)F)C1=CC=C(C=C1)CCC JGTSCNDQYLOBRH-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 4
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YSUIQYOGTINQIN-UZFYAQMZSA-N 2-amino-9-[(1S,6R,8R,9S,10R,15R,17R,18R)-8-(6-aminopurin-9-yl)-9,18-difluoro-3,12-dihydroxy-3,12-bis(sulfanylidene)-2,4,7,11,13,16-hexaoxa-3lambda5,12lambda5-diphosphatricyclo[13.2.1.06,10]octadecan-17-yl]-1H-purin-6-one Chemical compound NC1=NC2=C(N=CN2[C@@H]2O[C@@H]3COP(S)(=O)O[C@@H]4[C@@H](COP(S)(=O)O[C@@H]2[C@@H]3F)O[C@H]([C@H]4F)N2C=NC3=C2N=CN=C3N)C(=O)N1 YSUIQYOGTINQIN-UZFYAQMZSA-N 0.000 description 4
- 125000004777 2-fluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])* 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JADOPXNOWBESOE-UXHINADGSA-N C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)/C=C/C(C(=O)O)(F)F Chemical compound C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)/C=C/C(C(=O)O)(F)F JADOPXNOWBESOE-UXHINADGSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N asunaprevir Chemical compound O=C([C@@H]1C[C@H](CN1C(=O)[C@@H](NC(=O)OC(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=NC=C(C2=CC=C(Cl)C=C21)OC)N[C@]1(C(=O)NS(=O)(=O)C2CC2)C[C@H]1C=C XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 4
- 229940125810 compound 20 Drugs 0.000 description 4
- 229940125961 compound 24 Drugs 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- YKFRSGPMPSPPHL-UHFFFAOYSA-N cyclohexen-1-yl 2,2-difluoroacetate Chemical class FC(F)C(=O)OC1=CCCCC1 YKFRSGPMPSPPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JAXFJECJQZDFJS-XHEPKHHKSA-N gtpl8555 Chemical compound OC(=O)C[C@H](N)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N1CCC[C@@H]1C(=O)N[C@H](B1O[C@@]2(C)[C@H]3C[C@H](C3(C)C)C[C@H]2O1)CCC1=CC=C(F)C=C1 JAXFJECJQZDFJS-XHEPKHHKSA-N 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- UAOUIVVJBYDFKD-XKCDOFEDSA-N (1R,9R,10S,11R,12R,15S,18S,21R)-10,11,21-trihydroxy-8,8-dimethyl-14-methylidene-4-(prop-2-enylamino)-20-oxa-5-thia-3-azahexacyclo[9.7.2.112,15.01,9.02,6.012,18]henicosa-2(6),3-dien-13-one Chemical compound C([C@@H]1[C@@H](O)[C@@]23C(C1=C)=O)C[C@H]2[C@]12C(N=C(NCC=C)S4)=C4CC(C)(C)[C@H]1[C@H](O)[C@]3(O)OC2 UAOUIVVJBYDFKD-XKCDOFEDSA-N 0.000 description 3
- IWZSHWBGHQBIML-ZGGLMWTQSA-N (3S,8S,10R,13S,14S,17S)-17-isoquinolin-7-yl-N,N,10,13-tetramethyl-2,3,4,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydro-1H-cyclopenta[a]phenanthren-3-amine Chemical compound CN(C)[C@H]1CC[C@]2(C)C3CC[C@@]4(C)[C@@H](CC[C@@H]4c4ccc5ccncc5c4)[C@@H]3CC=C2C1 IWZSHWBGHQBIML-ZGGLMWTQSA-N 0.000 description 3
- KQZLRWGGWXJPOS-NLFPWZOASA-N 1-[(1R)-1-(2,4-dichlorophenyl)ethyl]-6-[(4S,5R)-4-[(2S)-2-(hydroxymethyl)pyrrolidin-1-yl]-5-methylcyclohexen-1-yl]pyrazolo[3,4-b]pyrazine-3-carbonitrile Chemical compound ClC1=C(C=CC(=C1)Cl)[C@@H](C)N1N=C(C=2C1=NC(=CN=2)C1=CC[C@@H]([C@@H](C1)C)N1[C@@H](CCC1)CO)C#N KQZLRWGGWXJPOS-NLFPWZOASA-N 0.000 description 3
- WZZBNLYBHUDSHF-DHLKQENFSA-N 1-[(3s,4s)-4-[8-(2-chloro-4-pyrimidin-2-yloxyphenyl)-7-fluoro-2-methylimidazo[4,5-c]quinolin-1-yl]-3-fluoropiperidin-1-yl]-2-hydroxyethanone Chemical compound CC1=NC2=CN=C3C=C(F)C(C=4C(=CC(OC=5N=CC=CN=5)=CC=4)Cl)=CC3=C2N1[C@H]1CCN(C(=O)CO)C[C@@H]1F WZZBNLYBHUDSHF-DHLKQENFSA-N 0.000 description 3
- UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 1-[6-[2-[3-[3-[3-[2-[2-[3-[[2-[2-[[(2r)-1-[[2-[[(2r)-1-[3-[2-[2-[3-[[2-(2-amino-2-oxoethoxy)acetyl]amino]propoxy]ethoxy]ethoxy]propylamino]-3-hydroxy-1-oxopropan-2-yl]amino]-2-oxoethyl]amino]-3-[(2r)-2,3-di(hexadecanoyloxy)propyl]sulfanyl-1-oxopropan-2-yl Chemical compound O=C1C(SCCC(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(=O)N[C@@H](CSC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CO)C(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(N)=O)CC(=O)N1CCNC(=O)CCCCCN\1C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2CC/1=C/C=C/C=C/C1=[N+](CC)C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C1 UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JXXULIMAYICWIB-TWEVBFGDSA-N C(CC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1CC(=C(CC1)Br)C(F)F Chemical compound C(CC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1CC(=C(CC1)Br)C(F)F JXXULIMAYICWIB-TWEVBFGDSA-N 0.000 description 3
- GLRARIUJCMRCCD-MRJYIUEKSA-N C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1CC=C(C(F)(F)OC=2C=C(F)C(F)=C(F)C=2)CC1 Chemical compound C1C[C@@H](CCC)CC[C@@H]1C1CC=C(C(F)(F)OC=2C=C(F)C(F)=C(F)C=2)CC1 GLRARIUJCMRCCD-MRJYIUEKSA-N 0.000 description 3
- SAMNBHYYJKDPSD-IFSQOONMSA-N C1C[C@@H](CCCCC)CC[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@H](C(F)(F)OC=2C=CC(OC(F)(F)F)=CC=2)CC1 Chemical compound C1C[C@@H](CCCCC)CC[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@H](C(F)(F)OC=2C=CC(OC(F)(F)F)=CC=2)CC1 SAMNBHYYJKDPSD-IFSQOONMSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LJOOWESTVASNOG-UFJKPHDISA-N [(1s,3r,4ar,7s,8s,8as)-3-hydroxy-8-[2-[(4r)-4-hydroxy-6-oxooxan-2-yl]ethyl]-7-methyl-1,2,3,4,4a,7,8,8a-octahydronaphthalen-1-yl] (2s)-2-methylbutanoate Chemical compound C([C@H]1[C@@H](C)C=C[C@H]2C[C@@H](O)C[C@@H]([C@H]12)OC(=O)[C@@H](C)CC)CC1C[C@@H](O)CC(=O)O1 LJOOWESTVASNOG-UFJKPHDISA-N 0.000 description 3
- LNUFLCYMSVYYNW-ZPJMAFJPSA-N [(2r,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6r)-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-6-[[(3s,5s,8r,9s,10s,13r,14s,17r)-10,13-dimethyl-17-[(2r)-6-methylheptan-2-yl]-2,3,4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-tetradecahydro-1h-cyclopenta[a]phenanthren-3-yl]oxy]-4,5-disulfo Chemical compound O([C@@H]1[C@@H](COS(O)(=O)=O)O[C@@H]([C@@H]([C@H]1OS(O)(=O)=O)OS(O)(=O)=O)O[C@@H]1[C@@H](COS(O)(=O)=O)O[C@@H]([C@@H]([C@H]1OS(O)(=O)=O)OS(O)(=O)=O)O[C@@H]1[C@@H](COS(O)(=O)=O)O[C@H]([C@@H]([C@H]1OS(O)(=O)=O)OS(O)(=O)=O)O[C@@H]1C[C@@H]2CC[C@H]3[C@@H]4CC[C@@H]([C@]4(CC[C@@H]3[C@@]2(C)CC1)C)[C@H](C)CCCC(C)C)[C@H]1O[C@H](COS(O)(=O)=O)[C@@H](OS(O)(=O)=O)[C@H](OS(O)(=O)=O)[C@H]1OS(O)(=O)=O LNUFLCYMSVYYNW-ZPJMAFJPSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- KGNDCEVUMONOKF-UGPLYTSKSA-N benzyl n-[(2r)-1-[(2s,4r)-2-[[(2s)-6-amino-1-(1,3-benzoxazol-2-yl)-1,1-dihydroxyhexan-2-yl]carbamoyl]-4-[(4-methylphenyl)methoxy]pyrrolidin-1-yl]-1-oxo-4-phenylbutan-2-yl]carbamate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1CO[C@H]1CN(C(=O)[C@@H](CCC=2C=CC=CC=2)NC(=O)OCC=2C=CC=CC=2)[C@H](C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(O)(O)C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C1 KGNDCEVUMONOKF-UGPLYTSKSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 3
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 3
- 229940125833 compound 23 Drugs 0.000 description 3
- 229940127204 compound 29 Drugs 0.000 description 3
- 229940125877 compound 31 Drugs 0.000 description 3
- 125000002243 cyclohexanonyl group Chemical class *C1(*)C(=O)C(*)(*)C(*)(*)C(*)(*)C1(*)* 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- UMYZHWLYICNGRQ-UHFFFAOYSA-N ethanol;heptane Chemical compound CCO.CCCCCCC UMYZHWLYICNGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- HUWSZNZAROKDRZ-RRLWZMAJSA-N (3r,4r)-3-azaniumyl-5-[[(2s,3r)-1-[(2s)-2,3-dicarboxypyrrolidin-1-yl]-3-methyl-1-oxopentan-2-yl]amino]-5-oxo-4-sulfanylpentane-1-sulfonate Chemical compound OS(=O)(=O)CC[C@@H](N)[C@@H](S)C(=O)N[C@@H]([C@H](C)CC)C(=O)N1CCC(C(O)=O)[C@H]1C(O)=O HUWSZNZAROKDRZ-RRLWZMAJSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 2
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 1-undecene Chemical compound CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 2
- ZUOBHRXEMDNEGE-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluorobut-3-enoic acid Chemical class OC(=O)C(F)(F)C=C ZUOBHRXEMDNEGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOOQHCXWMOBHNB-UHFFFAOYSA-N 2-[2,6-difluoro-4-(4-propylphenyl)phenyl]acetaldehyde Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1C1=CC(F)=C(CC=O)C(F)=C1 AOOQHCXWMOBHNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEKMMPMTSPZNIN-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3,3-difluoroprop-1-ene Chemical group FC(F)C(Br)=C VEKMMPMTSPZNIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILPJNQOCORRCHP-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylidenepropanoic acid Chemical class OC(=O)C(C)=C1CCCCC1 ILPJNQOCORRCHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005653 3,5-difluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C(F)C([*:2])=C(F)C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 2
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCRXXWNFJYKLHB-UHFFFAOYSA-N 5-[difluoro-[4-(4-propylcyclohexyl)cyclohexyl]methoxy]-1,2,3-trifluorobenzene Chemical compound C1CC(CCC)CCC1C1CCC(C(F)(F)OC=2C=C(F)C(F)=C(F)C=2)CC1 QCRXXWNFJYKLHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJIBKDVKUCZVAW-YEFDVDDDSA-N C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1CC(=C(CC1)Br)C(F)F Chemical compound C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1CC(=C(CC1)Br)C(F)F MJIBKDVKUCZVAW-YEFDVDDDSA-N 0.000 description 2
- AJSOLUSDEPDVLC-UXHINADGSA-N C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)/C=C/C(C(=O)Cl)(F)F Chemical compound C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)/C=C/C(C(=O)Cl)(F)F AJSOLUSDEPDVLC-UXHINADGSA-N 0.000 description 2
- BQXUPNKLZNSUMC-YUQWMIPFSA-N CCN(CCCCCOCC(=O)N[C@H](C(=O)N1C[C@H](O)C[C@H]1C(=O)N[C@@H](C)c1ccc(cc1)-c1scnc1C)C(C)(C)C)CCOc1ccc(cc1)C(=O)c1c(sc2cc(O)ccc12)-c1ccc(O)cc1 Chemical compound CCN(CCCCCOCC(=O)N[C@H](C(=O)N1C[C@H](O)C[C@H]1C(=O)N[C@@H](C)c1ccc(cc1)-c1scnc1C)C(C)(C)C)CCOc1ccc(cc1)C(=O)c1c(sc2cc(O)ccc12)-c1ccc(O)cc1 BQXUPNKLZNSUMC-YUQWMIPFSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N DMF Natural products CC1=CC=C(C)O1 GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- CDECIRBSMVPHFQ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2,2-difluoroacetate Chemical class FC(F)C(=O)OC1CCCCC1 CDECIRBSMVPHFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOCGMLSHRBHNCM-UHFFFAOYSA-N difluoromethoxy(difluoro)methane Chemical class FC(F)OC(F)F IOCGMLSHRBHNCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 2
- IRSJDVYTJUCXRV-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-bromo-2,2-difluoroacetate Chemical compound CCOC(=O)C(F)(F)Br IRSJDVYTJUCXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N ethyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 2
- 125000006351 ethylthiomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])SC([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 2
- 125000004785 fluoromethoxy group Chemical group [H]C([H])(F)O* 0.000 description 2
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 2
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 2
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- 125000004372 methylthioethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004092 methylthiomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004373 methylthiopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006233 propoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000006225 propoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005034 trifluormethylthio group Chemical group FC(S*)(F)F 0.000 description 2
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- STBLNCCBQMHSRC-BATDWUPUSA-N (2s)-n-[(3s,4s)-5-acetyl-7-cyano-4-methyl-1-[(2-methylnaphthalen-1-yl)methyl]-2-oxo-3,4-dihydro-1,5-benzodiazepin-3-yl]-2-(methylamino)propanamide Chemical compound O=C1[C@@H](NC(=O)[C@H](C)NC)[C@H](C)N(C(C)=O)C2=CC(C#N)=CC=C2N1CC1=C(C)C=CC2=CC=CC=C12 STBLNCCBQMHSRC-BATDWUPUSA-N 0.000 description 1
- AJKNNUJQFALRIK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trifluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1F AJKNNUJQFALRIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGINAUQXFXVBND-UHFFFAOYSA-N 1,2,6,7,8,8a-hexahydropyrrolo[1,2-a]pyrimidine Chemical compound N1CC=CN2CCCC21 XGINAUQXFXVBND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSYHVNATNGNOOY-UHFFFAOYSA-N 1,3-difluoro-5-(4-propylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(CCC)=CC=C1C1=CC(F)=CC(F)=C1 MSYHVNATNGNOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YERVGFUGFCFVBV-UHFFFAOYSA-N 1,4-diazabicyclo[2.2.2]oct-2-ene Chemical compound C1CN2CCN1C=C2 YERVGFUGFCFVBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXNHBTVDVRBJKO-UHFFFAOYSA-N 1-(difluoromethyl)cyclohexene Chemical compound FC(F)C1=CCCCC1 GXNHBTVDVRBJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- YIVIANCSGPQANE-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluorobut-3-enoyl chloride Chemical compound C=CC(F)(F)C(Cl)=O YIVIANCSGPQANE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFRDNAQOMSKPMZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluoro-4-(4-propylphenyl)benzaldehyde Chemical group C1=CC(CCC)=CC=C1C1=CC(F)=C(C=O)C(F)=C1 UFRDNAQOMSKPMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UABAUSFVSHNOTB-XNTDXEJSSA-N 2-[(E)-2-bromo-3,3-difluoroprop-1-enyl]-1,3-difluoro-5-(4-propylphenyl)benzene Chemical group FC=1C=C(C=C(C1/C=C(/Br)\C(F)F)F)C1=CC=C(C=C1)CCC UABAUSFVSHNOTB-XNTDXEJSSA-N 0.000 description 1
- LZCMQBRCQWOSHZ-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-2,2-difluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)Br LZCMQBRCQWOSHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJMDTERTPNYIGZ-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylacetaldehyde Chemical compound O=CCC1CCCCC1 JJMDTERTPNYIGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMBRHGJEDJVDOB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanimidamide;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.CC(C)C(N)=N SMBRHGJEDJVDOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004361 3,4,5-trifluorophenyl group Chemical group [H]C1=C(F)C(F)=C(F)C([H])=C1* 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLFNAZSDVXEFU-UHFFFAOYSA-N 4-(4-pentylcyclohexyl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1CC(CCCCC)CCC1C1CCC(=O)CC1 OZLFNAZSDVXEFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKCZQKBKWXBJOF-UHFFFAOYSA-N 4-(4-propylcyclohexyl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1CC(CCC)CCC1C1CCC(=O)CC1 AKCZQKBKWXBJOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDRJNKMAZMEYOF-UHFFFAOYSA-N 4-(trifluoromethoxy)phenol Chemical compound OC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 WDRJNKMAZMEYOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJDBKBDHPSEJPV-DZCCIXSQSA-N C(C)OC(=O)/C(=C\[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)CCCCC)/C(F)F Chemical group C(C)OC(=O)/C(=C\[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)CCCCC)/C(F)F HJDBKBDHPSEJPV-DZCCIXSQSA-N 0.000 description 1
- YEVCDXBVCCCNRW-YABIWKLUSA-N C(C)OC(=O)C(C[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)CCCCC)(O)C(F)F Chemical compound C(C)OC(=O)C(C[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)CCCCC)(O)C(F)F YEVCDXBVCCCNRW-YABIWKLUSA-N 0.000 description 1
- TYOYHADZQVGZLZ-SNTVYSHSSA-N C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)CCC(OC1(CC=CC(=C1F)F)F)(F)F Chemical compound C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)CCC(OC1(CC=CC(=C1F)F)F)(F)F TYOYHADZQVGZLZ-SNTVYSHSSA-N 0.000 description 1
- XOWIZEXFOZJIIJ-HRDTWJONSA-N CCCCC[C@H](CC1)CC[C@@H]1C(CC1)CC(C(F)F)C1(C(OCC)=O)O Chemical compound CCCCC[C@H](CC1)CC[C@@H]1C(CC1)CC(C(F)F)C1(C(OCC)=O)O XOWIZEXFOZJIIJ-HRDTWJONSA-N 0.000 description 1
- BJAHZKXKWVXDCE-OWJQWKPMSA-N CCC[C@H](CC1)CC[C@@H]1C(CC1)CC(C(F)F)C1(C(OCC)=O)O Chemical compound CCC[C@H](CC1)CC[C@@H]1C(CC1)CC(C(F)F)C1(C(OCC)=O)O BJAHZKXKWVXDCE-OWJQWKPMSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126639 Compound 33 Drugs 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical group OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNUZDKCDAWUEGK-CYZMBNFOSA-N Sitafloxacin Chemical compound C([C@H]1N)N(C=2C(=C3C(C(C(C(O)=O)=CN3[C@H]3[C@H](C3)F)=O)=CC=2F)Cl)CC11CC1 PNUZDKCDAWUEGK-CYZMBNFOSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N [2-[(1-azaniumyl-1-imino-2-methylpropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanimidoyl]azanium;dichloride Chemical compound Cl.Cl.NC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(N)=N LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical group OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 150000004768 bromobenzenes Chemical class 0.000 description 1
- OKOSPWNNXVDXKZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoyl chloride Chemical compound ClC(=O)CC=C OKOSPWNNXVDXKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940125878 compound 36 Drugs 0.000 description 1
- 229940127573 compound 38 Drugs 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- KVFDZFBHBWTVID-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarbaldehyde Chemical class O=CC1CCCCC1 KVFDZFBHBWTVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N dbdmh Chemical compound CC1(C)N(Br)C(=O)N(Br)C1=O VRLDVERQJMEPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- LTVOKYUPTHZZQH-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical group F[C]F LTVOKYUPTHZZQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- ONSHBCMUUXTPOJ-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-difluoroacetate Chemical class FC(F)C(=O)OC=C ONSHBCMUUXTPOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- CFHGBZLNZZVTAY-UHFFFAOYSA-N lawesson's reagent Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1P1(=S)SP(=S)(C=2C=CC(OC)=CC=2)S1 CFHGBZLNZZVTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJFNDMHZXCUXSA-UHFFFAOYSA-M methoxymethyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(COC)C1=CC=CC=C1 SJFNDMHZXCUXSA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- PIDFDZJZLOTZTM-KHVQSSSXSA-N ombitasvir Chemical compound COC(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N1CCC[C@H]1C(=O)NC1=CC=C([C@H]2N([C@@H](CC2)C=2C=CC(NC(=O)[C@H]3N(CCC3)C(=O)[C@@H](NC(=O)OC)C(C)C)=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)C=C1 PIDFDZJZLOTZTM-KHVQSSSXSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCCS ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- GRJJQCWNZGRKAU-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;fluoride Chemical compound F.C1=CC=NC=C1 GRJJQCWNZGRKAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
本発明は液晶性化合物として有用なジフルオロメチレンオキシ誘導体の簡便かつ効率的な製造方法に関する。 The present invention relates to a simple and efficient method for producing a difluoromethyleneoxy derivative useful as a liquid crystal compound.
液晶表示素子は液晶性化合物が有する光学異方性および誘電率異方性を利用するものであり、時計を初めとし、電卓、各種測定機器、自動車用パネル、ワープロ、電子手帳、プリンター、パーソナルコンピューター、テレビジョン、携帯電話等に広く利用され、その需要も年々増加傾向にある。液晶相は固体相と液体相の中間に位置し、ネマチック相、スメクチック相、およびコレステリック相に大別される。中でもネマチック相を利用した表示素子が現在最も広く使用されている。一方表示方式はこれまで多数のものが考案され、動的散乱型(DS型)、ゲスト・ホスト型(GH型)、ねじれネマチック型(TN型)、超ねじれネマチック型(STN型)、薄膜トランジスター型(TFT型)、強誘電液晶(FLC)等が知られている。 Liquid crystal display elements utilize the optical anisotropy and dielectric anisotropy of liquid crystalline compounds, including watches, calculators, various measuring instruments, automotive panels, word processors, electronic notebooks, printers, personal computers. It is widely used for televisions, mobile phones, etc., and its demand is increasing year by year. The liquid crystal phase is located between the solid phase and the liquid phase, and is roughly classified into a nematic phase, a smectic phase, and a cholesteric phase. Among them, display elements using a nematic phase are currently most widely used. On the other hand, many display systems have been devised so far, including dynamic scattering type (DS type), guest-host type (GH type), twisted nematic type (TN type), super twisted nematic type (STN type), thin film transistor A type (TFT type), a ferroelectric liquid crystal (FLC), and the like are known.
これらの分野における近年の開発傾向は携帯電話に代表されるように液晶表示素子の小型化、低消費電力化および高速応答化を中心に推進されており、これに用いられるためには、すなわちしきい値電圧が低く、粘度も小さい液晶性化合物および液晶組成物であることが要求されている。 Recent development trends in these fields have been promoted mainly by miniaturization, low power consumption and high-speed response of liquid crystal display elements, as represented by mobile phones. Liquid crystal compounds and liquid crystal compositions having a low threshold voltage and a low viscosity are required.
しきい値電圧(Vth)は、以下の式にて表されるように誘電率異方性(Δε)の関数である(Mol. Cryst. Liq. Cryst., 12, 57 (1970))。
Vth=π(K/ε0Δε)1/2
(式中、Kは弾性定数、ε0は真空の誘電率である。)
この式からわかるように、しきい値電圧を小さくするためには誘電率異方性を大きくする方法、または弾性定数を小さくする方法の2通りの方法が考えられる。しかし、既存の技術では弾性定数のコントロールは困難であることから、誘電率異方性の大きな材料を使用することにより低しきい値電圧の要求に対処している。そのため誘電率異方性の大きな液晶性化合物の開発が活発に行われている。また粘度は液晶分子の電場に対する応答速度を支配する要素であり、高速応答性を示す液晶組成物を調製するためには粘度の小さい液晶性化合物を多量に使用することが好ましい。
The threshold voltage (Vth) is a function of dielectric anisotropy (Δε) as expressed by the following equation (Mol. Cryst. Liq. Cryst., 12, 57 (1970)).
Vth = π (K / ε 0 Δε) 1/2
(In the formula, K is an elastic constant, and ε 0 is a vacuum dielectric constant.)
As can be seen from this equation, in order to reduce the threshold voltage, two methods are conceivable: a method of increasing the dielectric anisotropy or a method of decreasing the elastic constant. However, since it is difficult to control the elastic constant with the existing technology, the requirement for a low threshold voltage is addressed by using a material having a large dielectric anisotropy. For this reason, liquid crystal compounds having a large dielectric anisotropy are being actively developed. Viscosity is a factor governing the response speed of liquid crystal molecules to an electric field. In order to prepare a liquid crystal composition exhibiting high-speed response, it is preferable to use a large amount of a liquid crystal compound having a low viscosity.
近年情報端末、携帯ゲーム機等としての用途に液晶表示素子が普及している。これら表示素子は電池での駆動を必然とするため、低いしきい値電圧で駆動し、かつ長時間の使用が可能となるように低消費電力であることが要求される。特に素子自身の消費電力を低くするために、最近ではバックライトを必要としない反射型の表示素子の開発が盛んである。これら反射型の表示素子に使用される液晶組成物にはしきい値電圧が低いことに加え、その光学異方性が小さいことも要求される。このため組成物を構成する液晶材料としても誘電率異方性が大きくかつ光学異方性が小さな液晶性化合物の開発がこの分野の鍵となっている。TFT型の液晶表示素子に使用される、代表的な低電圧駆動用液晶材料として下記の化合物31および32を示すことができる(特許文献1参照。)。 In recent years, liquid crystal display elements have been widely used for applications such as information terminals and portable game machines. Since these display elements are inevitably driven by a battery, they are required to be driven at a low threshold voltage and to have low power consumption so that they can be used for a long time. In particular, in order to reduce the power consumption of the element itself, a reflective display element that does not require a backlight has been developed recently. The liquid crystal composition used in these reflective display elements is required to have low optical anisotropy in addition to low threshold voltage. Therefore, the development of a liquid crystalline compound having a large dielectric anisotropy and a small optical anisotropy as a liquid crystal material constituting the composition is a key in this field. The following compounds 31 and 32 can be shown as typical low-voltage driving liquid crystal materials used in TFT-type liquid crystal display elements (see Patent Document 1).
式中Rはアルキル基を表す。 In the formula, R represents an alkyl group.
化合物31および32は何れも分子の末端に3,4,5−トリフルオロフェニル基を有し、低電圧駆動用の液晶材料として期待されているものである。しかし、上述の反射型表示素子用途としては、化合物31は誘電率異方性(Δε=〜10)が小さく、また化合物32は誘電率異方性(Δε=〜12)では満足できるものの、光学異方性が約0.12と大きく、これらの化合物の使用では上述の要求を十分満足できる液晶組成物の調製は困難と考えられていた。 Both compounds 31 and 32 have a 3,4,5-trifluorophenyl group at the end of the molecule, and are expected as liquid crystal materials for low voltage driving. However, as the above-described reflective display device application, the compound 31 has a small dielectric anisotropy (Δε = −10), and the compound 32 is satisfactory in the dielectric anisotropy (Δε = ˜12). The anisotropy is as large as about 0.12, and it has been considered difficult to prepare a liquid crystal composition that can sufficiently satisfy the above-described requirements by using these compounds.
しかし、上述の化合物31と同等の透明点、光学異方性および粘度を示しながら、その誘電率異方性(Δε)は約14と化合物31よりも遥かに大きな値を示し、上述の反射型表示素子用液晶材料としての用途の他、種々のTFT方式における低電圧駆動用液晶材料として期待されている、結合基にジフルオロメチレンオキシ基を有する化合物33が開示されている(特許文献2参照。)。 However, while showing the clearing point, optical anisotropy and viscosity equivalent to those of the above-mentioned compound 31, the dielectric anisotropy (Δε) is about 14 and a value much larger than that of the compound 31, and the reflection type described above. In addition to use as a liquid crystal material for display elements, a compound 33 having a difluoromethyleneoxy group as a bonding group, which is expected as a liquid crystal material for low-voltage driving in various TFT systems, is disclosed (see Patent Document 2). ).
式中、Rはアルキル基を示す。
In the formula, R represents an alkyl group.
上記ジフルオロメチレンオキシ基を結合基に有する化合物の製造方法は三つ知られている。第一の方法は、対応するエステル誘導体をローソン試薬(Fieser13,38)にてチオノエステル誘導体に変換し、酸化剤の存在下、フッ化水素−ピリジンを反応させてフッ素化し製造する方法である(特許文献2、特許文献3参照。)。 Three methods for producing a compound having the difluoromethyleneoxy group as a linking group are known. The first method is a method in which a corresponding ester derivative is converted to a thionoester derivative with Lawesson's reagent (Fieser 13, 38), and fluorinated by reacting with hydrogen fluoride-pyridine in the presence of an oxidizing agent (patent) Reference 2 and Patent Reference 3).
式中、R1はアルキル基であり、環A1’、環A2’、環A4’は1,4−シクロヘキシレン基または1,4−フェニレン基であり、Z1’は単結合または−CH2CH2−である。 In the formula, R 1 is an alkyl group, ring A 1 ′, ring A 2 ′, ring A 4 ′ is a 1,4-cyclohexylene group or 1,4-phenylene group, and Z 1 ′ is a single bond or -CH 2 CH 2 -.
第二の方法は、対応するカルボン酸誘導体に1,3−プロパンジチオールおよびトリフルオロメタンスルホン酸を反応させてジチアリウムトリフラートに変換した後、3,4,5−トリフルオロフェノール、トリエチルアミン、次いでフッ化水素−トリエチルアミンおよび1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントインを反応させて製造する方法である(特許文献4参照。)。 The second method involves reacting the corresponding carboxylic acid derivative with 1,3-propanedithiol and trifluoromethanesulfonic acid to convert to dithialium triflate, followed by 3,4,5-trifluorophenol, triethylamine, and then fluorinated. In this method, hydrogen-triethylamine and 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin are reacted (refer to Patent Document 4).
第三の方法は、対応するα,α−ジフルオロシクロヘキシリデン誘導体に臭素を付加させた後、塩基性条件下で3,4,5−トリフルオロフェノールと反応させ、最後に水素添加させて製造する方法である(特許文献5参照。)。 The third method is prepared by adding bromine to the corresponding α, α-difluorocyclohexylidene derivative, reacting with 3,4,5-trifluorophenol under basic conditions, and finally hydrogenating the product. (See Patent Document 5).
しかし、上記の三つの方法は、腐食性が大きいまたは悪臭が強い試薬を使う、収率が高くなく副生成物が多い、スケールアップが容易でないといった課題がある。そこで、液晶化合物として好適な諸物性を発現するジフルオロメチレンオキシ誘導体の、簡便なる製造方法の開発が望まれていた。本発明の目的はジフルオロメチレンオキシ誘導体の簡便かつ効率的な製造方法を提供することである。 However, the above three methods have problems such as using a reagent having a high corrosiveness or a strong malodor, a high yield and a large amount of by-products, and a difficulty in scaling up. Therefore, development of a simple method for producing a difluoromethyleneoxy derivative that exhibits various physical properties suitable as a liquid crystal compound has been desired. An object of the present invention is to provide a simple and efficient method for producing a difluoromethyleneoxy derivative.
本発明者らは前述した課題を解決すべく鋭意検討した結果、シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステル誘導体、シクロヘキシリデンプロピオン酸エステル、またはビニルジフルオロ酢酸エステル誘導体を出発原料として、加水分解し、酸塩化物への変換、脱炭酸臭素化、ウィリアムソンエーテル化、そして水素添加することにより、目的とするジフルオロメチレンオキシ誘導体が高収率で得られることを見出した。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have hydrolyzed and converted to acid chlorides using cyclohexenyl difluoroacetate derivatives, cyclohexylidenepropionate esters, or vinyldifluoroacetate derivatives as starting materials. It was found that the desired difluoromethyleneoxy derivative can be obtained in a high yield by conversion, decarboxylation bromination, Williamson etherification, and hydrogenation.
また、脱炭酸臭素化した後水素添加し、ウィリアムソンエーテル化によりジフルオロメチレンオキシ誘導体が高収率で得られることも見出した。さらにシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステル誘導体、シクロヘキシリデンプロピオン酸エステル、またはビニルジフルオロ酢酸エステル誘導体に水素原子を付加させ、加水分解、酸塩化物への変換、脱炭酸臭素化、ウィリアムソンエーテル化によりジフルオロメチレンオキシ誘導体が高収率で得られることも見出し、本発明を完成させるに至った。 It has also been found that difluoromethyleneoxy derivatives can be obtained in high yield by decarboxylation bromination, hydrogenation, and Williamson etherification. Furthermore, hydrogen atoms are added to cyclohexenyl difluoroacetate derivatives, cyclohexylidenepropionate esters, or vinyldifluoroacetate derivatives, followed by hydrolysis, conversion to acid chlorides, decarboxylation bromination, and Williamson etherification to difluoromethylene. The inventors have also found that an oxy derivative can be obtained in a high yield, and have completed the present invention.
以下、各製造方法での説明では、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドを「DCC」と示し、N−ヒドロキシピリジンチオンを「オマジン」と示し、N−ヒドロキシピリジンチオンナトリウム塩を「ナトリウムオマジン」と示し、4−ジメチルアミノピリジンを「DMAP」と示す。
まず、最初の出発原料を用いた本発明は、式1で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを出発原料とする式2で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
In the following description of each production method, N, N′-dicyclohexylcarbodiimide is indicated as “DCC”, N-hydroxypyridinethione is indicated as “omazine”, and N-hydroxypyridinethione sodium salt is indicated as “sodium omadin”. 4-dimethylaminopyridine is shown as “DMAP”.
First, the present invention using the first starting material is a method for producing a difluoromethyleneoxy derivative represented by formula 2 using a cyclohexenyl difluoroacetate ester represented by formula 1 as a starting material.
式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数1〜20のアルキル基であり、アルキル基中の任意の−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−に置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、またアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく;R3は、1価の有機基または無機基であり;環A1、環A2、環A3、および環A4はそれぞれ独立して、任意の−CH2−が−O−、−S−で置き換えられてもよい1,4−シクロヘキシレン基、任意の=CH−が=N−で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数1〜10のアルキル基で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基であり;Z1、Z2、Z3、およびZ4はそれぞれ独立して、単結合または炭素数1〜4のアルキレン基であり、アルキレン基中の任意の−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−に置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、またアルキレン基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく;Y1、Y2、Y3、およびY4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数1〜10のアルキル基であり;k、l、mおよびnはそれぞれ独立して、0または1である。 In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and any —CH 2 — in the alkyl group is —O—, -S-, -CH = CH-, or -C≡C- may be substituted, but -O- is not continuous, and any hydrogen atom in the alkyl group is replaced by a fluorine atom. R 3 is a monovalent organic group or inorganic group; Ring A 1 , Ring A 2 , Ring A 3 , and Ring A 4 are each independently any —CH 2 — can be —O—. 1,4-cyclohexylene group optionally substituted with -S-, 1,4-phenylene group optionally substituted with ═CH—, or any hydrogen atom on the ring is fluorine Replaced by atoms, cyano groups or alkyl groups of 1 to 10 carbon atoms It is a good 1,4-phenylene group; Z 1, Z 2, Z 3, and Z 4 are each independently a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, any -CH 2 in the alkylene radical 2 — may be replaced by —O—, —S—, —CH═CH—, or —C≡C—, but —O— is not continuous, and any hydrogen atom in the alkylene group May be replaced by a fluorine atom; Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; k , L, m and n are each independently 0 or 1.
すなわち本発明に係る製造方法の第1は、工程(1)〜(5)の5つの工程を有する製造方法である。
工程(1):式1で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式3で表されるカルボン酸を製造する。
工程(2):式3で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式4で表される酸塩化物を製造する。
工程(3):式4で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式5で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程(4):塩基の存在下で、式5のブロモジフルオロメチル誘導体を、式Pで表されるフェノール化合物と反応させて、式6のシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程(5):式6で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式2で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
That is, the 1st of the manufacturing method which concerns on this invention is a manufacturing method which has five processes of process (1)-(5).
Step (1): Cyclohexenyl difluoroacetic acid ester represented by Formula 1 is hydrolyzed to produce a carboxylic acid represented by Formula 3.
Step (2): The carboxylic acid represented by Formula 3 is reacted with thionyl chloride to produce the acid chloride represented by Formula 4.
Step (3): The acid chloride represented by Formula 4 is reacted with sodium omazine and bromotrichloromethane to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 5.
Step (4): A bromodifluoromethyl derivative of formula 5 is reacted with a phenol compound represented by formula P in the presence of a base to produce a cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative of formula 6.
Step (5): The cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 6 is reduced with hydrogen to produce the difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 2.
式中、R1、R2、R3、環A1、環A2、環A3、環A4、Z1、Z2、Z3、Z4、Y1、Y2、Y3、Y4、k、l、m、およびnは、それぞれ前記式1、2の意味と同一である。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , ring A 3 , ring A 4 , Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 , Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , k, l, m, and n have the same meanings as in the above formulas 1 and 2, respectively.
また本発明に係る製造方法の第2は、製造方法の第1において工程(2)および(3)にかわりに工程(2’)を有し、あわせて4つの工程を有する前記製造方法である。
工程(2’):式3で表されるカルボン酸を、DCCおよび塩基の存在下、オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式5で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
A second manufacturing method according to the present invention is the above manufacturing method having the step (2 ′) instead of the steps (2) and (3) in the first manufacturing method, and a total of four steps. .
Step (2 ′): The carboxylic acid represented by Formula 3 is reacted with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 5.
また本発明に係る製造方法の第3は、工程(1)〜(3)の後に、工程(6)および(7)を有し、あわせて5つの工程を有する前記製造方法である。
工程(6):式5で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式7で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程(7):塩基の存在下で、式7のシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を、前記工程(4)記載の式Pで表されるフェノール化合物と反応させて、式2で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
A third manufacturing method according to the present invention is the above manufacturing method which includes steps (6) and (7) after steps (1) to (3), and has five steps in total.
Step (6): The bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 5 is reduced with hydrogen to produce the cyclohexyl bromodifluoromethane derivative represented by Formula 7.
Step (7): In the presence of a base, the cyclohexyl bromodifluoromethane derivative of Formula 7 is reacted with a phenol compound represented by Formula P described in Step (4) to obtain difluoromethyleneoxy represented by Formula 2. A derivative is produced.
式中、R1、環A1、環A2、Z1、Z2、kおよびlは、それぞれ前記式1、式2の意味と同一である。 In the formula, R 1 , ring A 1 , ring A 2 , Z 1 , Z 2 , k, and l have the same meanings as in the formulas 1 and 2, respectively.
また本発明に係る製造方法の第4は、製造方法の第3において工程(2)および(3)にかわりに工程(2’)を有し、あわせて4つの工程を有するジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 A fourth production method according to the present invention includes a step (2 ′) in place of steps (2) and (3) in the third production method, and a difluoromethyleneoxy derivative having four steps in total. It is a manufacturing method.
また本発明に係る製造方法の第5は、工程(8)〜(11)の後に、製造方法の第3の工程(7)を有し、あわせて5つの工程を有する前記製造方法である。
工程(8):式1で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式8で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程(9):式8で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式9で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程(10):式9で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式10で表される酸塩化物を製造する。
工程(11):式10で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式7で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
The fifth manufacturing method according to the present invention is the manufacturing method having the third step (7) of the manufacturing method after the steps (8) to (11), and has five steps in total.
Step (8): Cyclohexenyl difluoroacetic acid ester represented by Formula 1 is reduced with hydrogen to produce a cyclohexyl difluoroacetic acid ester derivative represented by Formula 8.
Step (9): The cyclohexyl difluoroacetic acid ester derivative represented by Formula 8 is hydrolyzed to produce the carboxylic acid derivative represented by Formula 9.
Step (10): The carboxylic acid derivative represented by Formula 9 is reacted with thionyl chloride to produce an acid chloride represented by Formula 10.
Step (11): The acid chloride represented by Formula 10 is reacted with sodium omadin and bromotrichloromethane to produce a cyclohexyl bromodifluoromethane derivative represented by Formula 7.
式中、R1、R3、環A1、環A2、Z1、Z2、kおよびlは、それぞれ前記式1、2の意味と同一である。 In the formula, R 1 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , Z 1 , Z 2 , k, and l have the same meanings as in the above formulas 1 and 2, respectively.
また、本発明に係る製造方法の第6は、製造方法の第5において工程(10)および(11)にかわりに工程(10’)を有し、あわせて4つの工程を有する前記製造方法である。
工程(10’):式9で表されるカルボン酸をDCCおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式7で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
A sixth manufacturing method according to the present invention is the manufacturing method according to the fifth manufacturing method, which includes the step (10 ′) instead of the steps (10) and (11), and has four steps in total. is there.
Step (10 '): The carboxylic acid represented by formula 9 is reacted with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by formula 7.
さらには、前記製造方法の第1において、工程(1)〜(4)の4工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 Furthermore, in the first of the production methods, the method is a production method of a cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative having four steps (1) to (4).
そして、さらには上記製造方法の第2において、工程(1)、(2’)および(4)の3工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 Further, in the second production method, the method is a production method of a cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative having three steps (1), (2 ′) and (4).
また第2の出発原料を用いた本発明は、化合物11で表されるエチレンジフルオロ酢酸エステル誘導体を出発原料とする、式12で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 Further, the present invention using the second starting material is a method for producing a difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 12 using an ethylenedifluoroacetic acid ester derivative represented by the compound 11 as a starting material.
式中、R1、R2、R3、環A1、環A2、環A3、環A4、Z1、Z2、Z3、Z4、Y1、Y2、Y3、Y4、k、l、m、およびnは、それぞれ前記式1、2の意味と同一であり;環A5はそれぞれ独立して、任意の−CH2−が−O−、−S−で置き換えられてもよい1,4−シクロヘキシレン基、任意の=CH−が=N−で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数1〜10のアルキル基で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基であり;oは0〜10の整数である。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , ring A 3 , ring A 4 , Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 , Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , k, l, m, and n are the same as defined in Formulas 1 and 2; ring A 5 is independently substituted with any —CH 2 — by —O— or —S—. 1,4-cyclohexylene group which may be substituted, 1,4-phenylene group where arbitrary ═CH— may be replaced by ═N—, or any hydrogen atom on the ring is a fluorine atom, cyano group or carbon 1,4-phenylene group which may be substituted with an alkyl group of 1 to 10; o is an integer of 0-10.
すなわち本発明に係る製造方法の第7は、工程(12)〜(16)の5つの工程を有する前記製造方法である。
工程(12):式11で表されるエチレンジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式13で表されるカルボン酸を製造する。
工程(13):式13で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式14で表される酸塩化物を製造する。
工程(14):式14で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式15で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程(15):塩基の存在下で、式15で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、前記工程(4)記載の式Pで表されるフェノール化合物と反応させて、式16で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程(16):式16で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式12で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
That is, the seventh of the manufacturing methods according to the present invention is the manufacturing method having the five steps (12) to (16).
Step (12): Ethylene difluoroacetate represented by Formula 11 is hydrolyzed to produce a carboxylic acid represented by Formula 13.
Step (13): The carboxylic acid represented by Formula 13 is reacted with thionyl chloride to produce the acid chloride represented by Formula 14.
Step (14): The acid chloride represented by formula 14 is reacted with sodium omadin and bromotrichloromethane to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by formula 15.
Step (15): In the presence of a base, the bromodifluoromethyl derivative represented by the formula 15 is reacted with the phenol compound represented by the formula P described in the step (4) to obtain a cyclohexane represented by the formula 16. A hexenyl difluoromethyleneoxy derivative is produced.
Step (16): The cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 16 is reduced with hydrogen to produce the difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 12.
式中、R1、R2、R3、環A1、環A2、環A3、環A4、環A5、Z1、Z2、Z3、Z4、Y1、Y2、Y3、Y4、k、l、m、nおよびoは、それぞれ前記式11、12の定義と同じである。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , ring A 3 , ring A 4 , ring A 5 , Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 , Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , k, l, m, n, and o are the same as defined in Formulas 11 and 12, respectively.
また本発明に係る製造方法の第8は、製造方法の第7において工程(13)および(14)にかわりに工程(13’)を有し、あわせて4つの工程を有する前記製造方法である。
工程(13’):式13で表されるカルボン酸をDCCおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式15のブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
The eighth of the manufacturing methods according to the present invention is the above manufacturing method which has the step (13 ′) instead of the steps (13) and (14) in the seventh manufacturing method and has four steps in total. .
Step (13 ′): The carboxylic acid represented by formula 13 is reacted with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base to produce a bromodifluoromethyl derivative of formula 15.
また本発明に係る製造方法の第9は、工程(12)〜(14)の後に、工程(17)および(18)を有し、あわせて5つの工程を有するブルモジフルオロメチル誘導体の製造方法である。
工程(17):式15で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式17で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメチルアルカン誘導体を製造する。
工程(18):塩基の存在下で、式17で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメチルアルカン誘導体を、前記工程(4)記載の式Pで表されるフェノール化合物と反応させて、式2で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
The ninth production method according to the present invention comprises steps (17) and (18) after steps (12) to (14), and a method for producing a bromodifluoromethyl derivative having five steps in total. It is.
Step (17): The bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 15 is reduced with hydrogen to produce a cyclohexyl bromodifluoromethylalkane derivative represented by Formula 17.
Step (18): In the presence of a base, a cyclohexyl bromodifluoromethylalkane derivative represented by Formula 17 is reacted with a phenol compound represented by Formula P described in Step (4), and represented by Formula 2. A difluoromethyleneoxy derivative is produced.
式中、R1、環A1、環A2、環A5、Z1、Z2、kおよびlは、それぞれ前記式11、12の意味と同一である。 In the formula, R 1 , ring A 1 , ring A 2 , ring A 5 , Z 1 , Z 2 , k and l have the same meanings as in the above formulas 11 and 12, respectively.
また本発明に係る製造方法の第10は、製造方法の第9において工程(13)および(14)にかわりに製造方法の第8の工程(13’)を有し、あわせて4つの工程を有する前記製造方法である。
工程(13’):式13のカルボン酸をDCCおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式15のブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
The tenth manufacturing method according to the present invention includes an eighth step (13 ′) of the manufacturing method instead of the steps (13) and (14) in the ninth manufacturing method, and has four steps in total. It is the said manufacturing method which has.
Step (13 ′): The carboxylic acid of formula 13 is reacted with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base to produce a bromodifluoromethyl derivative of formula 15.
また本発明に係る製造方法の第11は、工程(19)〜(22)の後に、製造方法第9の工程(18)を有し、あわせて5つの工程を有する前記製造方法である。
工程(19):式11で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式18で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程(20):式18で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式19で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程(21):式19で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式20で表される酸塩化物を製造する。
工程(22):式20で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式17で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
An eleventh aspect of the manufacturing method according to the present invention is the above manufacturing method including the ninth step (18) of the manufacturing method after the steps (19) to (22) and a total of five steps.
Step (19): Cyclohexenyl difluoroacetate represented by the formula 11 is reduced with hydrogen to produce a cyclohexyl difluoroacetate derivative represented by the formula 18.
Step (20): A cyclohexyldifluoroacetic acid ester derivative represented by the formula 18 is hydrolyzed to produce a carboxylic acid derivative represented by the formula 19.
Step (21): The carboxylic acid derivative represented by Formula 19 is reacted with thionyl chloride to produce an acid chloride represented by Formula 20.
Step (22): The acid chloride represented by formula 20 is reacted with sodium omadin and bromotrichloromethane to produce a cyclohexyl bromodifluoromethane derivative represented by formula 17.
式中、R1、R3、環A1、環A2、環A5、Z1、Z2、k、lおよびoは、それぞれ前記式11、12の意味と同一である。 In the formula, R 1 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , ring A 5 , Z 1 , Z 2 , k, l and o have the same meanings as in the above formulas 11 and 12, respectively.
また本発明に係る製造方法の第12は、製造方法の第11において工程(21)および(22)にかわりに工程(21’)を有し、あわせて4つの工程を有する前記製造方法である。
工程(21’):式19で表されるカルボン酸をDCCおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式17で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
A twelfth manufacturing method according to the present invention is the manufacturing method according to the eleventh manufacturing method, which includes the step (21 ′) instead of the steps (21) and (22), and has four steps in total. .
Step (21 ′): The carboxylic acid represented by Formula 19 is reacted with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 17.
さらには上記製造方法の第7において、工程(12)〜(15)の4工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 Furthermore, in the seventh of the above production methods, the method is a production method of a cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative having four steps (12) to (15).
そしてさらには上記製造方法の第8において、工程(12)、(13’)および(15)の3工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 Further, in the eighth of the above production methods, a method for producing a cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative having three steps (12), (13 ') and (15).
さらに第3の出発原料を用いた本発明は、式21で表されるシクロヘキシリデンジフルオロプロピオン酸エステルを出発原料とする、式22で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 Furthermore, the present invention using the third starting material is a method for producing a difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 22 using a cyclohexylidene difluoropropionic acid ester represented by the formula 21 as a starting material.
式中、R1、R2、R3、環A1、環A2、Z1、Z2、Y1、Y2、Y3、Y4、k、l、m、およびnは、それぞれ前記式11、12の定義と同じである。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , Z 1 , Z 2 , Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , k, l, m, and n are the same as defined above. This is the same as the definitions in equations 11 and 12.
すなわち、本発明に係る製造方法の第13は工程(23)〜(27)の5つの工程を有する前記製造方法である。
工程(23):式21で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式23で表されるカルボン酸を製造する。
工程(24):式23で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式24で表される酸塩化物を製造する。
工程(25):式24で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式25で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程(26):塩基の存在下で、式25で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、前記工程(4)記載の式Pで表されるフェノール化合物と反応させて、式26で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程(27):式6で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式22で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
That is, the thirteenth manufacturing method according to the present invention is the manufacturing method having the five steps (23) to (27).
Step (23): The cyclohexenyl difluoroacetate ester represented by the formula 21 is hydrolyzed to produce the carboxylic acid represented by the formula 23.
Step (24): The carboxylic acid represented by Formula 23 is reacted with thionyl chloride to produce the acid chloride represented by Formula 24.
Step (25): The acid chloride represented by formula 24 is reacted with sodium omadin and bromotrichloromethane to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by formula 25.
Step (26): In the presence of a base, a bromodifluoromethyl derivative represented by the formula 25 is reacted with a phenol compound represented by the formula P described in the step (4) to obtain a cyclohexane represented by the formula 26. A hexenyl difluoromethyleneoxy derivative is produced.
Step (27): The cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 6 is reduced with hydrogen to produce the difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 22.
式中、R1、R2、R3、環A1、環A2、環A3、環A4、Z1、Z2、Z3、Z4、Y1、Y2、Y3、Y4、k、l、m、およびnは、それぞれ前記式1、2の定義と同じである。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , ring A 3 , ring A 4 , Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 , Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , k, l, m, and n are the same as defined in Formulas 1 and 2, respectively.
また本発明に係る製造方法の第14は、製造方法の第13において工程(24)および(25)にかわりに工程(24’)を有し、あわせて4つの工程を有する前記製造方法である。
工程(24’):式23で表されるカルボン酸をDCCおよび塩基の存在下、オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式25で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
A fourteenth manufacturing method according to the present invention is the manufacturing method according to the thirteenth manufacturing method, which includes the step (24 ′) instead of the steps (24) and (25), and has four steps in total. .
Step (24 ′): The carboxylic acid represented by Formula 23 is reacted with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 25.
また本発明に係る製造方法の第15は、工程(23)〜(25)の後に、工程(28)および(29)を有し、あわせて5つの工程を有する前記製造方法である。
工程(28):式25で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式27で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程(29):塩基の存在下で、式27で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を、前記工程(4)記載の式Pで表されるフェノール化合物と反応させて、式2で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
The fifteenth manufacturing method according to the present invention is the manufacturing method having the steps (28) and (29) after the steps (23) to (25) and a total of five steps.
Step (28): The bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 25 is reduced with hydrogen to produce a cyclohexyl bromodifluoromethane derivative represented by Formula 27.
Step (29): In the presence of a base, a cyclohexyl bromodifluoromethane derivative represented by Formula 27 is reacted with a phenol compound represented by Formula P described in Step (4), and represented by Formula 2. A difluoromethyleneoxy derivative is produced.
式中、R1、環A1、環A2、Z1、Z2、k、およびlは、それぞれ前記式1、2の定義と同じである。 In the formula, R 1 , ring A 1 , ring A 2 , Z 1 , Z 2 , k, and l are the same as defined in the above formulas 1 and 2, respectively.
また本発明に係る製造方法の第16は、製造方法の第15において工程(24)および(25)にかわりに製造方法の第13の工程(24’)を有し、あわせて4つの工程を有するジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 The sixteenth manufacturing method according to the present invention has a thirteenth step (24 ′) of the manufacturing method instead of the steps (24) and (25) in the fifteenth manufacturing method, and has four steps in total. It is a manufacturing method of the difluoromethyleneoxy derivative which has.
また本発明に係る製造方法の第17は、(30)〜(33)の後に、請求項22に記載の(29)を有し、あわせて5つの工程を有する前記製造方法である。
工程(30):式21で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式28で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程(31):式28で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式29で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程(32):式29で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式30で表される酸塩化物を製造する。
工程(33):式30で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式27で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
A seventeenth aspect of the manufacturing method according to the present invention is the manufacturing method according to (29) described in claim 22 after (30) to (33), and further including five steps.
Step (30): Cyclohexenyl difluoroacetate represented by the formula 21 is reduced with hydrogen to produce a cyclohexyl difluoroacetate derivative represented by the formula 28.
Step (31): A cyclohexyldifluoroacetic acid ester derivative represented by the formula 28 is hydrolyzed to produce a carboxylic acid derivative represented by the formula 29.
Step (32): The carboxylic acid derivative represented by Formula 29 is reacted with thionyl chloride to produce an acid chloride represented by Formula 30.
Step (33): The acid chloride represented by Formula 30 is reacted with sodium omadin and bromotrichloromethane to produce a cyclohexyl bromodifluoromethane derivative represented by Formula 27.
式中、R1、R3、環A1、環A2、Z1、Z2、kおよびlは、それぞれ前記式11、12の定義と同じである。 In the formula, R 1 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , Z 1 , Z 2 , k and l are the same as defined in the above formulas 11 and 12, respectively.
また本発明に係る製造方法の第18は、製造方法の第17において工程(32)および(33)にかわりに工程(32’)を有し、あわせて4つの工程を有する前記製造方法である。
工程(32’):式29で表されるカルボン酸をDCCおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式27で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
The eighteenth aspect of the manufacturing method according to the present invention is the manufacturing method according to the seventeenth aspect of the present invention, which includes the step (32 ′) instead of the steps (32) and (33) and has four steps in total. .
Step (32 ′): The carboxylic acid represented by Formula 29 is reacted with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 27.
さらには上記製造方法の第13に記載の工程(23)〜(26)の4工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 Furthermore, it is a manufacturing method of the cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative which has 4 processes of process (23)-(26) as described in 13th of the said manufacturing method.
そしてさらには上記製造方法の第14に記載の工程(23)、(24’)および(26)の3工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。 Further, it is a method for producing a cyclohexenyl difluoromethyleneoxy derivative having the three steps (23), (24 ') and (26) described in the 14th of the above production method.
さらに、本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法を、より好適に行えるのは、式中の、R1が炭素数2〜5の直鎖のアルキル基であり;R2はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子であり;R3がメチル基またはエチル基であり;環A1がトランス−1,4−シクロヘキシレン基であり;k=1、l=0であり;Y1およびY2が水素原子で;Y3およびY4はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子であり;m=n=0である場合である。 Furthermore, the production method of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be more suitably carried out in which R 1 is a linear alkyl group having 2 to 5 carbon atoms; R 2 is independently hydrogen. R 3 is a methyl group or an ethyl group; Ring A 1 is a trans-1,4-cyclohexylene group; k = 1, l = 0; Y 1 and Y 2 are A hydrogen atom; Y 3 and Y 4 are each independently a hydrogen atom or a fluorine atom; and m = n = 0.
本発明の製造方法を用いることにより、ジフルオロメチルエーテル誘導体を、容易に安全にかつ高収率で製造することができる。腐食性が大きいまたは悪臭が強い試薬を使うことなく、収率が高く副生成物が少ない、スケールアップが容易であるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法を開発できた。
そして、この液晶性化合物を成分として、その化合物を構成する環、置換基、結合基などを適当に選択することにより、様々な液晶表示素子が所望する最適な物性を有する新たな液晶組成物を調製することができる。
By using the production method of the present invention, a difluoromethyl ether derivative can be produced easily and safely in a high yield. A method for producing a difluoromethyleneoxy derivative that can be easily scaled up with a high yield and little by-products without using a highly corrosive or bad odor reagent has been developed.
Then, by using this liquid crystalline compound as a component, by appropriately selecting a ring, a substituent, a bonding group and the like constituting the compound, a new liquid crystal composition having optimum physical properties desired by various liquid crystal display elements can be obtained. Can be prepared.
以下本発明の製造方法を、シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルである化合物1を出発原料とする方法Aと、ビニルジフルオロ酢酸エステル11を出発原料とする方法Bと、シクロヘキシリデンプロピオン酸エステル21を出発原料とする方法Cとに分けて説明する。
式1〜式32で表される化合物を「化合物1」〜「化合物32」と表わすことがある。
Hereinafter, the production method of the present invention is carried out by using Method A using Compound 1 which is cyclohexenyl difluoroacetic acid ester as a starting material, Method B using vinyldifluoroacetic acid ester 11 as a starting material, and cyclohexylidenepropionic acid ester 21 as a starting material. The method C will be described separately.
The compounds represented by Formulas 1 to 32 may be referred to as “Compound 1” to “Compound 32”.
方法A
方法Aによる化合物2の製造方法は、化合物1を出発原料とする。
Method A
In the production method of Compound 2 by Method A, Compound 1 is used as a starting material.
式1と式2において、R1およびR2は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または、基中の任意の−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−に置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、また基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよい炭素数1〜20のアルキル基である。
R1およびR2としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、フッ素置換アルキル基、フッ素置換アルコキシ基、フッ素置換アルコキシアルキル基、フッ素置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルケニルオキシ基が好ましい。
In Formula 1 and Formula 2, R 1 and R 2 are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or any —CH 2 — in the group is —O—, —S—, —CH═CH—, or — C≡C— may be substituted, but —O— is not continuous, and any hydrogen atom in the group is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom.
Examples of R 1 and R 2 include a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkyl group, an alkylthio group, an alkylthioalkyl group, an alkenyl group, an alkenyloxy group, an alkenylthio group, and a fluorine-substituted alkyl group. , A fluorine-substituted alkoxy group, a fluorine-substituted alkoxyalkyl group, a fluorine-substituted alkenyl group, a fluorine-substituted alkenylthio group, and a fluorine-substituted alkenyloxy group are preferred.
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素が好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基がより好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基が好ましい。アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基がより好ましい。アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基が好ましい。アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、メチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基が好ましい。 As the halogen atom, fluorine, chlorine and bromine are preferable. As the alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, and a decyl group are more preferable. As the alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentoxy group, a heptyloxy group, and an octyloxy group are preferable. As the alkoxyalkyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a propoxymethyl group, a propoxyethyl group, a methoxypropyl group, an ethoxypropyl group, and a propoxypropyl group are more preferable. As the alkylthio group, a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, a pentylthio group, a hexylthio group, a heptylthio group, and an octylthio group are preferable. As the alkylthioalkyl group, a methylthiomethyl group, an ethylthiomethyl group, a propylthiomethyl group, a butylthiomethyl group, a methylthioethyl group, an ethylthioethyl group, a propylthioethyl group, a methylthiopropyl group, and a propylthiopropyl group are preferable.
アルケニル基としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基が好ましい。アルケニルオキシ基としては、アリルオキシ基が好ましい。フッ素置換アルキル基としては、トリフルオロメチル基、フルオロメチル基、2−フルオロエチル基、ジフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、2−フルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、5−フルオロペンチル基が好ましい。フッ素置換アルコキシ基としては、フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロプロポキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロポキシ基が好ましい。トリフルオロメトキシメチル基、フッ素置換アルケニル基としては、2−フルオロエテニル基、2,2−ジフルオロエテニル基、1,2,2−トリフルオロエテニル基、3−フルオロ−1−ブテニル基、4−フルオロ−1−ブテニル基が好ましい。フッ素置換アルケニルチオ基としては、トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、1,1,2,2−テトラフルオロエチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基が好ましい。 As the alkenyl group, a vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-pentenyl group, 3-butenyl group and 3-pentenyl group are preferable. As the alkenyloxy group, an allyloxy group is preferable. Examples of the fluorine-substituted alkyl group include trifluoromethyl group, fluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, difluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, A 2-fluoroethyl group, a 3-fluoropropyl group, a 4-fluorobutyl group, and a 5-fluoropentyl group are preferable. Fluorine-substituted alkoxy groups include fluoromethoxy, trifluoromethoxy, difluoromethoxy, pentafluoroethoxy, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy, pentafluoropropoxy, 1,1,2,3 , 3,3-hexafluoropropoxy group is preferred. Examples of the trifluoromethoxymethyl group and fluorine-substituted alkenyl group include 2-fluoroethenyl group, 2,2-difluoroethenyl group, 1,2,2-trifluoroethenyl group, 3-fluoro-1-butenyl group, 4 A -fluoro-1-butenyl group is preferred. As the fluorine-substituted alkenylthio group, a trifluoromethylthio group, a difluoromethylthio group, a 1,1,2,2-tetrafluoroethylthio group, and a 2,2,2-trifluoroethylthio group are preferable.
最も好適なR1およびR2は、炭素数2〜5の直鎖のアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基などが挙げられる。 R 1 and R 2 are most preferably a linear alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-butyl group, and a pentyl group. .
式1において、R3は一価の有機基または無機基である。
一価の有機基としては、例えば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、ハロゲンアルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシアルキル基、ハロゲン置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルケニルオキシ基などが挙げられる。
一価の無機基としては、例えば、ハロゲン原子、金属原子などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素が好ましい。金属原子としては、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムが好ましい。
R3は、一価の有機基が好ましく、アルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基およびデシル基がさらに好ましく、メチル基およびエチル基がもっと好ましい。
In Formula 1, R 3 is a monovalent organic group or inorganic group.
Examples of the monovalent organic group include cyano group, alkyl group, alkoxy group, alkoxyalkyl group, alkylthio group, alkylthioalkyl group, alkenyl group, alkenyloxy group, alkenylthio group, halogen alkyl group, halogen-substituted alkoxy group, Examples include a halogen-substituted alkoxyalkyl group, a halogen-substituted alkenyl group, a fluorine-substituted alkenylthio group, and a fluorine-substituted alkenyloxy group.
Examples of the monovalent inorganic group include a halogen atom and a metal atom. As the halogen atom, fluorine, chlorine and bromine are preferable. As a metal atom, sodium, potassium, calcium, and magnesium are preferable.
R 3 is preferably a monovalent organic group, more preferably an alkyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group and decyl group. Groups are more preferred, with methyl and ethyl groups being more preferred.
式1と式2において、環A1〜A4はそれぞれ独立して、任意の−CH2−が−O−、−S−で置き換えられてもよい1,4−シクロヘキシレン基、=CH−が=N−で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基、または、環の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数1〜10のアルキル基で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基である。好ましくは、1、4−フェニレン基であり、さらに好ましくはトランス−1、4−フェニレン基である。 In formula 1 and formula 2, rings A 1 to A 4 are each independently a 1,4-cyclohexylene group in which any —CH 2 — may be replaced by —O— or —S—, ═CH— 1,4-phenylene group which may be replaced by ═N—, or any hydrogen atom in the ring may be replaced by a fluorine atom, a cyano group or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms A phenylene group. Preferred is a 1,4-phenylene group, and more preferred is a trans-1,4-phenylene group.
式1と式2おいてY1、Y2、Y3、およびY4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数1〜10のアルキル基である。R1およびR2としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、フッ素置換アルキル基、フッ素置換アルコキシ基、フッ素置換アルコキシアルキル基、フッ素置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルケニルオキシ基が好ましい。 In Formula 1 and Formula 2, Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of R 1 and R 2 include a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkyl group, an alkylthio group, an alkylthioalkyl group, an alkenyl group, an alkenyloxy group, an alkenylthio group, and a fluorine-substituted alkyl group. , A fluorine-substituted alkoxy group, a fluorine-substituted alkoxyalkyl group, a fluorine-substituted alkenyl group, a fluorine-substituted alkenylthio group, and a fluorine-substituted alkenyloxy group are preferred.
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素がより好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基がより好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基がより好ましい。アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基がより好ましい。アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基がより好ましい。 As the halogen atom, fluorine, chlorine and bromine are more preferable. As the alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, and a decyl group are more preferable. As the alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentoxy group, a heptyloxy group, and an octyloxy group are more preferable. As the alkoxyalkyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a propoxymethyl group, a propoxyethyl group, a methoxypropyl group, an ethoxypropyl group, and a propoxypropyl group are more preferable. As the alkylthio group, a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, a pentylthio group, a hexylthio group, a heptylthio group, and an octylthio group are more preferable.
アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、メチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基より好ましい。アルケニル基としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基がより好ましい。アルケニルオキシ基としては、アリルオキシ基がより好ましい。フッ素置換アルキル基としては、トリフルオロメチル基、フルオロメチル基、2−フルオロエチル基、ジフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、2−フルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、5−フルオロペンチル基がより好ましい。フッ素置換アルコキシ基としては、フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロプロポキシ基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロポキシ基がより好ましい。トリフルオロメトキシメチル基、フッ素置換アルケニル基としては、2−フルオロエテニル基、2,2−ジフルオロエテニル基、1,2,2−トリフルオロエテニル基、3−フルオロ−1−ブテニル基、4−フルオロ−1−ブテニル基がより好ましい。フッ素置換アルケニルチオ基としては、トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、1,1,2,2−テトラフルオロエチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基がより好ましい。
最も好適なY1、Y2、Y3、およびY4は、水素原子、フッ素原子である。
As the alkylthioalkyl group, a methylthiomethyl group, an ethylthiomethyl group, a propylthiomethyl group, a butylthiomethyl group, a methylthioethyl group, an ethylthioethyl group, a propylthioethyl group, a methylthiopropyl group, and a propylthiopropyl group are more preferable. As the alkenyl group, a vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-pentenyl group, 3-butenyl group, and 3-pentenyl group are more preferable. As the alkenyloxy group, an allyloxy group is more preferable. Examples of the fluorine-substituted alkyl group include trifluoromethyl group, fluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, difluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, A 2-fluoroethyl group, a 3-fluoropropyl group, a 4-fluorobutyl group, and a 5-fluoropentyl group are more preferable. Fluorine-substituted alkoxy groups include fluoromethoxy, trifluoromethoxy, difluoromethoxy, pentafluoroethoxy, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy, pentafluoropropoxy, 1,1,2,3 , 3,3-hexafluoropropoxy group is more preferred. Examples of the trifluoromethoxymethyl group and fluorine-substituted alkenyl group include 2-fluoroethenyl group, 2,2-difluoroethenyl group, 1,2,2-trifluoroethenyl group, 3-fluoro-1-butenyl group, 4 A -fluoro-1-butenyl group is more preferred. As the fluorine-substituted alkenylthio group, a trifluoromethylthio group, a difluoromethylthio group, a 1,1,2,2-tetrafluoroethylthio group, and a 2,2,2-trifluoroethylthio group are more preferable.
Most preferred Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 are a hydrogen atom or a fluorine atom.
式1、式2において、環A1〜A4はそれぞれ独立して、任意の−CH2−が−O−、−S−で置き換えられてもよい1,4−シクロヘキシレン基、任意の=CH−が=N−で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数1〜10のアルキル基で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基であり、具体的には(r−1)〜(r−21)で示される環構造のものなどが挙げられる。
環中の黒丸は、六員環の立体配置がトランスであることを示す。
In formulas 1 and 2, rings A 1 to A 4 are each independently a 1,4-cyclohexylene group in which any —CH 2 — may be replaced by —O— or —S—, CH— may be replaced by ═N—, or any hydrogen atom on the ring may be replaced by a fluorine atom, a cyano group or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Specific examples thereof include 4-phenylene groups, specifically those having a ring structure represented by (r-1) to (r-21).
A black circle in the ring indicates that the configuration of the six-membered ring is trans.
式1、式2において、Z1〜Z4はそれぞれ独立して単結合または基中の任意の−CH2−が−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−に置き換えられてもよい炭素数1〜4のアルキレン基である。k、l、m、およびnはそれぞれ独立して0または1である。 In Formula 1 and Formula 2, Z 1 to Z 4 are each independently a single bond or any —CH 2 — in the group is —O—, —S—, —CH═CH—, or —C≡C—. It is a C1-C4 alkylene group which may be replaced by. k, l, m, and n are each independently 0 or 1.
Z1〜Z4については具体的には単結合、1,2−エチレン、1,4−ブチレン、メチレンオキシ、オキシメチレン、プロピレンオキシ、オキシプロピレン、ビニレン、1(E)−1,4−ブテニレン、2(Z)−1,4−ブテニレン、3(E)−1,4−ブテニレン、エチニレン、1,4−ブチニレン、1,1−ジフルオロ−1,2−エチレン、1,1,2,2−テトラフルオロ−1,2−エチレン、1,1−ジフルオロ−1,4−ブチレン等があげられる。 Z 1 to Z 4 are specifically a single bond, 1,2-ethylene, 1,4-butylene, methyleneoxy, oxymethylene, propyleneoxy, oxypropylene, vinylene, 1 (E) -1,4-butenylene. 2 (Z) -1,4-butenylene, 3 (E) -1,4-butenylene, ethynylene, 1,4-butynylene, 1,1-difluoro-1,2-ethylene, 1,1,2,2 -Tetrafluoro-1,2-ethylene, 1,1-difluoro-1,4-butylene and the like.
本発明の方法Aには、合成経路1〜6が含まれる。
合成経路1は、
工程(1):化合物1を加水分解して化合物3を製造する、
工程(2):化合物3に塩化チオニルを反応させて酸塩化物4を製造する、
工程(3):化合物4にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物5を製造する、
工程(4):化合物5を塩基存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物6を製造する、
工程(5):化合物6を水素還元して化合物2を製造する、
の5工程を有する。
Method A of the present invention includes synthetic routes 1-6.
Synthesis route 1 is
Step (1): Compound 1 is produced by hydrolyzing Compound 1.
Step (2): Compound 3 is reacted with thionyl chloride to produce acid chloride 4.
Step (3): Compound 5 is produced by reacting compound 4 with sodium omadin and bromotrichloromethane.
Step (4): Compound 6 is produced by reacting Compound 5 with phenol compound P in the presence of a base.
Step (5): Compound 6 is produced by hydrogen reduction of Compound 6;
It has five steps.
合成経路2は合成経路1において工程(2)および(3)のかわりに、
工程(2’):DCCおよびDMAPの存在下、化合物3とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物5を製造する、
の4工程を有する。
In the synthetic route 2, in the synthetic route 1, instead of the steps (2) and (3),
Step (2 ′): Compound 5 is produced by reacting Compound 3 with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and DMAP.
It has 4 processes.
合成経路3は工程(1)〜(3)の後、
工程(6):化合物5の水素還元して化合物7を製造する、
工程(7):塩基存在下、化合物7をフェノール化合物Pと反応させて化合物2を製造する、
の5工程を有する。
Synthesis route 3 is after steps (1) to (3),
Step (6): Compound 7 is produced by hydrogen reduction of Compound 5;
Step (7): Compound 7 is produced by reacting Compound 7 with phenol compound P in the presence of a base.
It has five steps.
合成経路4は合成経路3において工程(2)および(3)のかわりに工程(2’)を有し、あわせて4工程を有する。 Synthetic route 4 has step (2 ') in place of steps (2) and (3) in synthetic route 3, and has four steps in total.
合成経路5は、
工程(8):化合物1を水素還元して化合物8を製造する、
工程(9):化合物8を加水分解してカルボン酸9を製造する、
工程(10):化合物9に塩化チオニルを反応させて酸塩化物10を製造する、
工程(11):化合物10にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物7を製造する、
工程(7):塩基存在下、化合物7をフェノール化合物Pと反応させて化合物2を製造する、
の5工程を有する。
Synthesis route 5 is
Step (8): Compound 1 is produced by reducing Compound 1 with hydrogen,
Step (9): Compound 8 is hydrolyzed to produce carboxylic acid 9.
Step (10): Compound 9 is reacted with thionyl chloride to produce acid chloride 10.
Step (11): Compound 10 is produced by reacting compound 10 with sodium omadin and bromotrichloromethane.
Step (7): Compound 7 is produced by reacting Compound 7 with phenol compound P in the presence of a base.
It has five steps.
合成経路6は合成経路5において工程(10)および(11)のかわりに、
工程(10’):DCCおよびDMAPの存在下、化合物9とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物7を製造する、
の4工程を有する。
In synthetic route 5, instead of steps (10) and (11) in synthetic route 5,
Step (10 ′): Compound 7 is produced by reacting Compound 9 with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and DMAP.
It has 4 processes.
合成経路1について、説明する。
合成経路1は、工程(1)〜(5)の5つの工程を有する。
工程(1)
工程(1)は、化合物1を加水分解して化合物3を製造する。
The synthesis route 1 will be described.
The synthesis route 1 has five steps of steps (1) to (5).
Process (1)
In step (1), compound 1 is hydrolyzed to produce compound 3.
化合物1の製造方法
化合物1は、シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステル誘導体である。
Production Method of Compound 1 Compound 1 is a cyclohexenyl difluoroacetic acid ester derivative.
本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法における方法Aの出発原料となる化合物1は、当業者であれば容易に製造することができる。たとえば、C. R. Hauser and D. S. Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). に記載の方法に準じて、シクロヘキサノン誘導体34とブロモジフルオロ酢酸エステル35を亜鉛粉末の存在下反応させてシクロヘキサノール誘導体36とした後、たとえば、W. S. Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). に記載の方法に準じて、化合物36に塩化チオニルとピリジンを反応させことにより容易に製造することができる。 The compound 1 that is the starting material of Method A in the method for producing a difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be easily produced by those skilled in the art. For example, according to the method described in CR Hauser and DS Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955)., Cyclohexanone derivative 34 and bromodifluoroacetate 35 are reacted in the presence of zinc powder. In this manner, thionyl chloride and pyridine are added to compound 36 according to the method described in WS Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). It can be easily produced by reacting.
式中、R1、R3、環A1、環A2、Z1、Z2、kおよびlは前記と同一の意味を表し、好ましいもの、具体例なども同じである。
シクロヘキサノン誘導体34は、市販品あるいは新実験化学講座(丸善株式会社出版)等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
In the formula, R 1 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , Z 1 , Z 2 , k and l represent the same meaning as described above, and preferred examples and specific examples thereof are also the same.
The cyclohexanone derivative 34 can be easily obtained by a method described in an organic synthesis book such as a commercial product or a new experimental chemistry course (published by Maruzen Co., Ltd.).
この場合の反応条件としては、加水分解試薬には酸または塩基の水溶液を使用することができる。酸としては塩化水素、臭化水素が好ましく、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。反応溶媒は水単独でもよいが、前記酸または塩基と反応しない有機溶媒との混合溶媒でもよい。水との混合溶媒として使用可能な有機溶媒としては、芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、プロトン性有機溶媒、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン化炭化水素を使用することが好ましい。芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタンが好ましい。脂環式炭化水素としては、シクロヘキサンが好ましい。脂肪族エーテル化合物としては、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。環状エーテル化合物としては、テトラヒドロフラン(以下THFと示す)、ジオキサンが好ましい。プロトン性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド(以下DMFと示す)、ジメチルスルホキシド(以下DMSOと示す)、アセトニトリルが好ましい。ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンが好ましい。また前記溶媒を混合しても加水分解反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、化合物1の溶解度が大きく、かつ水とよく混ざり合う脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、あるいはプロトン性有機溶媒である。 As reaction conditions in this case, an acid or base aqueous solution can be used as the hydrolysis reagent. The acid is preferably hydrogen chloride or hydrogen bromide, and the base is preferably lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide. The reaction solvent may be water alone or a mixed solvent with an organic solvent that does not react with the acid or base. Organic solvents that can be used as a mixed solvent with water include aromatic compounds, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aliphatic ether compounds, cyclic ether compounds, protic organic solvents, aprotic polar solvents, halogens It is preferable to use a fluorinated hydrocarbon. As the aromatic compound, benzene, toluene, chlorobenzene, and bromobenzene are preferable. As the aliphatic hydrocarbon, hexane and heptane are preferable. As the alicyclic hydrocarbon, cyclohexane is preferable. As the aliphatic ether compound, diethyl ether, methyl tert-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol dimethyl ether are preferable. As the cyclic ether compound, tetrahydrofuran (hereinafter referred to as THF) and dioxane are preferable. As the protic organic solvent, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, ethylene glycol, and ethylene glycol monomethyl ether are preferable. As the aprotic polar solvent, N, N-dimethylformamide (hereinafter referred to as DMF), dimethyl sulfoxide (hereinafter referred to as DMSO), and acetonitrile are preferable. As the halogenated hydrocarbon, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, and 1,2-dichloroethane are preferable. The hydrolysis reaction can also be carried out by mixing the solvent. A more preferable reaction solvent is an aliphatic ether compound, a cyclic ether compound, or a protic organic solvent in which the solubility of the compound 1 is high and is well mixed with water.
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物1に対して重量で5〜20倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、−10℃から80℃までの範囲が好ましい。より好ましくは原料である化合物1または生成物3の−CF2−の加水分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる0℃〜40℃の範囲である。酸または塩基の使用量は化合物1に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物1に対して1.5〜2.0当量の範囲である。該範囲であれば、原料である化合物1を完全に消費させることができる。また、反応時間については化合物の構造、反応温度に大きく依存するが、室温での反応時間は、約30分である。 About the usage-amount of a solvent, what is necessary is just the quantity which can implement reaction safely and stably. Preferably, it is in the range of 5 to 20 times the weight of Compound 1. The reaction temperature should just be temperature which can stir favorably. Depending on the structure of the compound, a range from -10 ° C to 80 ° C is preferred. More preferably, it is in the range of 0 ° C. to 40 ° C. which can suppress the hydrolysis of —CF 2 — of compound 1 or product 3 as a raw material and improve the conversion rate. The amount of acid or base used is preferably equivalent to or greater than that of Compound 1. More preferably, it is in the range of 1.5 to 2.0 equivalents relative to Compound 1. If it is this range, the compound 1 which is a raw material can be consumed completely. The reaction time largely depends on the structure of the compound and the reaction temperature, but the reaction time at room temperature is about 30 minutes.
工程(2)
工程(2)は、化合物3に塩化チオニルを反応させて酸塩化物4を製造する工程である。
Step (2)
Step (2) is a step for producing acid chloride 4 by reacting compound 3 with thionyl chloride.
工程(2)の反応条件は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸3と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。溶媒については、カルボン酸、塩化チオニルおよび酸塩化物のいずれとも反応しないものであれば使用可能である。反応溶媒としては、芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン原子化炭化水素を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタンが好ましい。脂環式炭化水素としては、シクロヘキサンが好ましい。脂肪族エーテル化合物としては、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。環状エーテル化合物としては、THF、ジオキサンが好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、DMF、DMSO、アセトニトリルが好ましい。ハロゲン原子化炭化水素としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンが好ましい。また前記溶媒を混合しても反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができ、減圧濃縮での留去が容易な芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、および環状エーテル化合物である。 The reaction conditions in step (2) can be carried out by mixing carboxylic acid 3 and thionyl chloride in the absence of a solvent or in a solvent. Any solvent that does not react with any of carboxylic acid, thionyl chloride, and acid chloride can be used. As the reaction solvent, it is preferable to use an aromatic compound, an aliphatic hydrocarbon, an alicyclic hydrocarbon, an aliphatic ether compound, a cyclic ether compound, an aprotic polar solvent, or a halogen atomized hydrocarbon. For example, as the aromatic compound, benzene, toluene, chlorobenzene, and bromobenzene are preferable. As the aliphatic hydrocarbon, hexane and heptane are preferable. As the alicyclic hydrocarbon, cyclohexane is preferable. As the aliphatic ether compound, diethyl ether, methyl tert-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol dimethyl ether are preferable. As the cyclic ether compound, THF and dioxane are preferable. As the aprotic polar solvent, DMF, DMSO, and acetonitrile are preferable. As the halogen atomized hydrocarbon, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, and 1,2-dichloroethane are preferable. The reaction can also be carried out by mixing the solvent. More preferred reaction solvents are aromatic compounds, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aliphatic ethers that can increase the reaction rate, complete the reaction in a short time, and can be easily distilled off by concentration under reduced pressure. Compounds, and cyclic ether compounds.
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物3に対して重量で5〜20倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、20℃〜200℃の範囲が好ましい。より好ましい反応温度は原料である化合物3または生成物である化合物4の−CF2−の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる40℃〜60℃の範囲である。塩化チオニルの使用量は化合物3に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物1に対して1.05〜2.0当量の範囲である。この範囲であれば、原料である化合物3をほぼ完全に消費させることができる。また、反応時間については化合物の構造、反応温度に大きく依存するが、室温では反応開始後約3時間で反応は完結する。 About the usage-amount of a solvent, what is necessary is just the quantity which can implement reaction safely and stably. Preferably, it is in the range of 5 to 20 times the weight of compound 3. The reaction temperature should just be temperature which can stir favorably. Although depending on the structure of the compound, a range of 20 ° C. to 200 ° C. is preferable. A more preferable reaction temperature is in the range of 40 ° C. to 60 ° C., which can suppress the decomposition of —CF 2 — of compound 3 as a raw material or compound 4 as a product and improve the conversion rate. The amount of thionyl chloride used is preferably equal to or greater than that of Compound 3. More preferably, it is the range of 1.05-2.0 equivalent with respect to the compound 1. If it is this range, the compound 3 which is a raw material can be consumed almost completely. The reaction time largely depends on the structure of the compound and the reaction temperature, but at room temperature, the reaction is completed in about 3 hours after the start of the reaction.
溶媒を使用しない場合は、塩化チオニルを3に対して過剰量使用することになるが、その量は、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物3に対して1当量以上かつ重量で5〜20倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、20℃から塩化チオニルの沸点である79℃までの範囲が好ましい。より好ましくは原料である化合物3または生成物4の−CF2−の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる40℃〜60℃の範囲である。 When no solvent is used, thionyl chloride is used in an excess amount relative to 3, but the amount may be an amount that allows the reaction to be carried out safely and stably. Preferably, it is in the range of 1 equivalent or more and 5 to 20 times the weight of compound 3. The reaction temperature should just be temperature which can stir favorably. Although it depends on the structure of the compound, a range from 20 ° C. to 79 ° C. which is the boiling point of thionyl chloride is preferable. More preferably, it is in the range of 40 ° C. to 60 ° C. which can suppress the decomposition of —CF 2 — of compound 3 or product 4 as a raw material and can improve the conversion rate.
工程(3)
工程(3)は、化合物4にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、脱炭酸臭素化を行い化合物5を製造する。
工程(3)の反応において、脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物4にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。溶媒については、酸塩化物、ナトリウムオマジン、およびブロモトリクロロメタンのいずれとも反応せず、反応中に発生するラジカルにも反応しないものであれば使用可能である。反応溶媒としては、芳香族化合物、完全塩素化炭化水素を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。完全塩素化炭化水素としては、四塩化炭素が好ましい。また前記溶媒を混合しても反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができ、減圧下での留去が容易なベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、および四塩化炭素である。
Process (3)
In step (3), compound 4 is produced by reacting compound 4 with sodium omadin and bromotrichloromethane, followed by decarboxylation bromination.
In the reaction of the step (3), decarboxylation bromination is carried out according to the method of Barton et al. (DHR Barton, B. Lacher, and SZ Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987)). This can be carried out by reacting chloride 4 with sodium omadin and bromotrichloromethane. Any solvent can be used as long as it does not react with any of acid chloride, sodium omadin, and bromotrichloromethane, and does not react with radicals generated during the reaction. As the reaction solvent, it is preferable to use an aromatic compound or a completely chlorinated hydrocarbon. For example, as the aromatic compound, benzene, toluene, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, and bromobenzene are preferable. As the fully chlorinated hydrocarbon, carbon tetrachloride is preferred. The reaction can also be carried out by mixing the solvent. More preferred reaction solvents are benzene, toluene, chlorobenzene, and carbon tetrachloride, which can increase the reaction rate, complete the reaction in a short time, and can be easily distilled off under reduced pressure.
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物4に対して重量で5〜20倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、20℃〜200℃の範囲が好ましい。より好ましくは原料である化合物4または生成物5の−CF2−の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる70℃〜120℃の範囲である。ナトリウムオマジンの使用量は化合物4に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物4に対して1.05〜2.0当量の範囲である。この範囲であれば、原料である化合物4をほぼ完全に消費させることができる。ブロモトリクロロメタンの使用量は化合物4に対して等モル以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物4に対して1.05〜5.0当量の範囲である。該範囲であれば、原料である化合物4をほぼ完全に消費させることができる。また、反応時間については化合物の構造、反応温度に大きく依存するが、室温では反応開始後約30分で反応は完結する。 About the usage-amount of a solvent, what is necessary is just the quantity which can implement reaction safely and stably. Preferably, it is in the range of 5 to 20 times the weight of compound 4. The reaction temperature should just be temperature which can stir favorably. Although depending on the structure of the compound, a range of 20 ° C. to 200 ° C. is preferable. More preferably, it is in the range of 70 ° C. to 120 ° C. which can suppress the decomposition of —CF 2 — of the compound 4 or the product 5 as a raw material and can improve the conversion rate. The amount of sodium omadin used is preferably equal to or greater than that of Compound 4. More preferably, it is in the range of 1.05 to 2.0 equivalents relative to compound 4. If it is this range, the compound 4 which is a raw material can be consumed almost completely. The amount of bromotrichloromethane used is preferably equimolar or more with respect to compound 4. More preferably, it is in the range of 1.05 to 5.0 equivalents relative to compound 4. If it is this range, the compound 4 which is a raw material can be consumed almost completely. The reaction time largely depends on the structure of the compound and the reaction temperature, but at room temperature, the reaction is completed about 30 minutes after the start of the reaction.
溶媒を使用しない場合は、ブロモトリクロロメタンを化合物4に対して過剰量使用することになるが、その量は、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物3に対して1当量以上かつ重量で5〜20倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、70℃からブロモトリクロロメタンの沸点である105℃までの範囲が好ましい。 When no solvent is used, bromotrichloromethane is used in an excess amount relative to compound 4, but the amount may be an amount that allows the reaction to be carried out safely and stably. Preferably, it is in the range of 1 equivalent or more and 5 to 20 times the weight of compound 3. The reaction temperature should just be temperature which can stir favorably. Although it depends on the structure of the compound, a range from 70 ° C. to 105 ° C. which is the boiling point of bromotrichloromethane is preferable.
工程(3)の脱炭酸臭素化反応においては、ラジカル開始剤としてアゾ化合物を添加することにより反応速度を向上させることが可能である。アゾ化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(以下、AIBNと示す)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロリド、4,4’−アゾビス(4−シアノ基ペンタン酸)が好ましい。アゾ化合物の添加量は、化合物4に対して0.03当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物4に対して0.05〜0.3当量の範囲である。 In the decarboxylation bromination reaction of the step (3), the reaction rate can be improved by adding an azo compound as a radical initiator. Examples of the azo compound include 2,2′-azobisisobutyronitrile (hereinafter referred to as AIBN), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2′-azobis. (2-Methylpropionamidine) dihydrochloride and 4,4′-azobis (4-cyanopentanoic acid) are preferred. The addition amount of the azo compound is preferably 0.03 equivalent or more with respect to the compound 4. More preferably, it is in the range of 0.05 to 0.3 equivalents relative to compound 4.
工程(4)
工程(4)は、化合物5を塩基の存在下でフェノール化合物Pと反応させて化合物6を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
Process (4)
In step (4), compound 5 is produced by reacting compound 5 with phenol compound P in the presence of a base. That is, it is a step of etherification.
化合物P
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Pは、R. L. Kidwell等の方法(Org. Syn., Coll. Vol., 5, 918 (1973).)にしたがい製造することができる。まず、ブロモベンゼン誘導体P−1からグリニヤール試薬を調製する。該グリニヤール試薬にホウ酸トリアルキル基を反応させてホウ酸エステル誘導体調製する。これを過酸化物、例えば過酸化水素原子、過酢酸で酸化することによりフェノール誘導体Pを製造することができる。
Compound P
The phenol derivative P used in the etherification reaction can be produced according to the method of RL Kidwell et al. (Org. Syn., Coll. Vol., 5, 918 (1973)). First, a Grignard reagent is prepared from the bromobenzene derivative P-1. A boric acid ester derivative is prepared by reacting the Grignard reagent with a trialkyl borate group. The phenol derivative P can be produced by oxidizing this with a peroxide such as hydrogen peroxide atom or peracetic acid.
式中、R2、環A3、環A4、Z3、Z4、Y1、Y2、Y3、Y4、m、およびnは前記と同一の意味を表し、R10はアルキル基を表す。 In the formula, R 2 , ring A 3 , ring A 4 , Z 3 , Z 4 , Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , m, and n represent the same meaning as described above, and R 10 represents an alkyl group. Represents.
また特開昭62−11716号公報、J. Fluorine Chem., 67, 41 (1994)、特開平3−246244号公報、特開昭62−207229号公報、および特開平2−34335号公報に記載の方法に準じてもフェノール誘導体Pの製造が可能である。 Moreover, it describes in Unexamined-Japanese-Patent No. 62-11716, J. Fluorine Chem., 67, 41 (1994), Unexamined-Japanese-Patent No. 3-246244, Unexamined-Japanese-Patent No. 62-207229, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2-334335. The phenol derivative P can also be produced according to this method.
第4工程のエーテル化反応は、一般に知られているウィリアムソン反応の条件下で実施可能である。エーテル化反応に使用できる塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属の炭酸塩、金属アルコキシド類、アルカリ金属の水素化物、酸化銀等金属酸化物、アミン類が好ましい。例えばアルカリ金属水酸化物としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムが好ましい。例えばアルカリ金属の炭酸塩としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムが好ましい。例えば金属アルコキシド類としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−tert−ブトキシドが好ましい。例えばアルカリ金属の水素化物としては、水素化ナトリウムが好ましい。例えば金属酸化物としては、ジエチルアミン、トリエチルアミンが好ましい。より好ましくは、取り扱いが容易であるアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属の炭酸塩である。 The etherification reaction in the fourth step can be carried out under the conditions of generally known Williamson reaction. As the base that can be used in the etherification reaction, alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, metal alkoxides, alkali metal hydrides, metal oxides such as silver oxide, and amines are preferable. For example, the alkali metal hydroxide is preferably potassium hydroxide or sodium hydroxide. For example, as the alkali metal carbonate, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, and cesium carbonate are preferable. For example, as the metal alkoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, and potassium tert-butoxide are preferable. For example, sodium hydride is preferable as the alkali metal hydride. For example, diethylamine and triethylamine are preferable as the metal oxide. More preferred are alkali metal hydroxides and alkali metal carbonates that are easy to handle.
また塩基の使用量については、化合物5に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物5に対して2〜5当量の範囲である。該範囲であれば、反応の転化率を向上させることができる。反応溶媒については、化合物5、塩基、およびフェノール化合物Pのいずれとも反応しないものであれば何れも使用できる。反応溶媒としては、芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、非プロトン性極性溶媒、あるいは水を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエンが好ましい。脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタンが好ましい。脂環式炭化水素としては、シクロヘキサンが好ましい。脂肪族エーテル化合物としては、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。環状エーテル化合物としては、THF、ジオキサンが好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、DMF、DMSO、アセトニトリル、1−メチル−2−ピロリジノン(以下、NMPと示す)が好ましい。また前記溶媒を混合してもエーテル化反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができる比較的沸点の高い芳香族化合物、環状エーテル化合物、および非プロトン性極性溶媒である。 In addition, the amount of the base used is preferably equal to or greater than that of Compound 5. More preferably, it is in the range of 2 to 5 equivalents relative to compound 5. If it is this range, the conversion of reaction can be improved. Any reaction solvent can be used as long as it does not react with any of compound 5, base, and phenol compound P. As the reaction solvent, it is preferable to use an aromatic compound, an aliphatic hydrocarbon, an alicyclic hydrocarbon, an aliphatic ether compound, a cyclic ether compound, an aprotic polar solvent, or water. For example, benzene and toluene are preferable as the aromatic compound. As the aliphatic hydrocarbon, hexane and heptane are preferable. As the alicyclic hydrocarbon, cyclohexane is preferable. As the aliphatic ether compound, diethyl ether, methyl tert-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol dimethyl ether are preferable. As the cyclic ether compound, THF and dioxane are preferable. As the aprotic polar solvent, DMF, DMSO, acetonitrile, and 1-methyl-2-pyrrolidinone (hereinafter referred to as NMP) are preferable. The etherification reaction can also be carried out by mixing the solvent. More preferred reaction solvents are aromatic compounds, cyclic ether compounds, and aprotic polar solvents having a relatively high boiling point that can increase the reaction rate and complete the reaction in a short time.
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物5に対して重量で5〜20倍量の範囲である。反応温度は、室温〜200℃の範囲が好ましい。より好ましくは、化合物5および生成物6の−CF2−基の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる80℃〜130℃の範囲である。反応時間については、化合物5の種類、反応温度に大きく依存するが、80〜130℃の範囲で実施する場合には1〜10時間が好ましい。第4工程のエーテル化反応においては、ハロゲン化塩または第4級アンモニウム塩を添加することにより反応速度を向上させることが可能である。ハロゲン化塩としては、臭化カリウム、ヨウ化カリウムが好ましい。第4級アンモニウム塩としては、テトラアルキル基アンモニウムハライド、テトラアルキル基アンモニウムテトラフルオロボレートが好ましい。ハロゲン化塩または第4級アンモニウム塩の使用量は、化合物5に対して0.03当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物5に対して0.05〜0.3当量の範囲である。 About the usage-amount of a solvent, what is necessary is just the quantity which can implement reaction safely and stably. Preferably, it is in the range of 5 to 20 times the weight of compound 5. The reaction temperature is preferably in the range of room temperature to 200 ° C. More preferably, it is in the range of 80 ° C. to 130 ° C. which can suppress the decomposition of the —CF 2 — group of the compound 5 and the product 6 and can improve the conversion rate. The reaction time largely depends on the type of compound 5 and the reaction temperature, but is preferably 1 to 10 hours when carried out in the range of 80 to 130 ° C. In the etherification reaction in the fourth step, the reaction rate can be improved by adding a halide salt or a quaternary ammonium salt. As the halide salt, potassium bromide and potassium iodide are preferred. As the quaternary ammonium salt, a tetraalkyl group ammonium halide and a tetraalkyl group ammonium tetrafluoroborate are preferable. The amount of the halogenated salt or quaternary ammonium salt used is preferably 0.03 equivalent or more with respect to Compound 5. More preferably, it is in the range of 0.05 to 0.3 equivalents relative to compound 5.
工程(5)
工程(5)は、化合物6を水素還元して化合物2を製造する。
第5工程での水素還元は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒(株式会社東京化学同人発行)等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。金属触媒としては、以下の金属からなる金属触媒が好ましい。例えば、ニッケル、コバルト、鉄、銅、モリブデン、タングステン、ルテニウム、ロジウム、白金、パラジウム、オスミウム、レニウム、イリジウム、クロム、チタン、ジルコニウムである。より好ましくは、ニッケル系触媒とパラジウム系触媒である。どちらも市販されており入手が容易であり、また取り扱いも容易である。ニッケル系触媒としてはラレーニッケル系触媒、パラジウム系触媒としてはパラジウム−炭素触媒がある。また金属触媒の使用量については、化合物6に対して1〜30重量%の範囲であることが好ましい。より好ましくは、反応を効率的に進め、短時間にて反応を完結させることができる3〜10重量%の範囲である。
Process (5)
In step (5), compound 6 is produced by reducing compound 6 with hydrogen.
The hydrogen reduction in the fifth step can be carried out using various metal catalysts described in, for example, Shigeo Nishimura, Gen Takamatsu, contact hydrogenation catalyst (published by Tokyo Chemical Co., Ltd.). As a metal catalyst, the metal catalyst which consists of the following metals is preferable. For example, nickel, cobalt, iron, copper, molybdenum, tungsten, ruthenium, rhodium, platinum, palladium, osmium, rhenium, iridium, chrome, titanium, zirconium. More preferred are nickel-based catalysts and palladium-based catalysts. Both are commercially available and easy to obtain, and are easy to handle. Examples of the nickel-based catalyst include a Raleigh nickel-based catalyst, and examples of the palladium-based catalyst include a palladium-carbon catalyst. The amount of the metal catalyst used is preferably in the range of 1 to 30% by weight with respect to compound 6. More preferably, it is in the range of 3 to 10% by weight, which allows the reaction to proceed efficiently and complete the reaction in a short time.
反応溶媒については、化合物6と反応しないものであれば何れも使用できる。反応溶媒としては、芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、アルコール類を使用することが好ましい。芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエンが好ましい。脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタンが好ましい。脂環式炭化水素としては、シクロヘキサンが好ましい。脂肪族エーテル化合物としては、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。環状エーテル化合物としては、THF、ジオキサンが好ましい。アルコール類としては、エタノール、プロパノールが好ましい。より好ましい反応溶媒は、化合物6の溶解度が大きい芳香族化合物、アルコール類である。溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物6に対して重量で5〜20倍量の範囲である。 Any reaction solvent can be used as long as it does not react with compound 6. As the reaction solvent, it is preferable to use aromatic compounds, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aliphatic ether compounds, cyclic ether compounds, and alcohols. As the aromatic compound, benzene and toluene are preferable. As the aliphatic hydrocarbon, hexane and heptane are preferable. As the alicyclic hydrocarbon, cyclohexane is preferable. As the aliphatic ether compound, diethyl ether, methyl tert-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol dimethyl ether are preferable. As the cyclic ether compound, THF and dioxane are preferable. As alcohols, ethanol and propanol are preferable. More preferable reaction solvents are aromatic compounds and alcohols in which the compound 6 has high solubility. About the usage-amount of a solvent, what is necessary is just the quantity which can implement reaction safely and stably. Preferably, it is in the range of 5 to 20 times by weight with respect to compound 6.
反応温度は、室温〜200℃の範囲が好ましい。反応温度は、化合物6においてY1、Y2、Y3、およびY4の少なくと一つがハロゲン原子である化合物については置換されているハロゲン原子の水素還元を抑制することができる0℃〜室温の範囲であることがより好ましい。また0℃〜室温の範囲であれば、シクロヘキサン環のトランス選択性を向上させることもできる。水素圧については、大気圧〜5MPaの範囲が好ましい。より好ましくは生成する2のシクロヘキサン環のトランス選択性を向上させ、かつ反応時間を短縮することができる0.1〜1MPaの範囲である。反応時間については、化合物6の種類、反応温度に大きく依存するが、0℃〜室温の範囲で反応させる場合には、2〜10時間が好ましい。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。 The reaction temperature is preferably in the range of room temperature to 200 ° C. The reaction temperature is 0 ° C. to room temperature at which a compound in which at least one of Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 is a halogen atom in compound 6 can suppress hydrogen reduction of a substituted halogen atom. More preferably, it is the range. Moreover, if it is the range of 0 degreeC-room temperature, the trans selectivity of a cyclohexane ring can also be improved. The hydrogen pressure is preferably in the range of atmospheric pressure to 5 MPa. More preferably, it is in the range of 0.1 to 1 MPa which can improve the trans selectivity of the two cyclohexane rings to be produced and can shorten the reaction time. The reaction time largely depends on the type of compound 6 and the reaction temperature. However, when the reaction is carried out in the range of 0 ° C. to room temperature, 2 to 10 hours are preferable. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路2
合成経路2は、合成経路1において工程(2)および(3)のかわりに工程(2’)を有する。
工程(1)
前記工程(1)で記載したものと同一である。
Synthesis route 2
Synthesis route 2 has step (2 ′) in place of steps (2) and (3) in synthesis route 1.
Process (1)
The same as described in the step (1).
工程(2’)
工程(2’)はDCCおよび塩基の存在下、カルボン酸3にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物(5)を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で、脱炭酸臭素化する工程である。
Process (2 ')
In step (2 ′), compound (5) is produced by reacting carboxylic acid 3 with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base. That is, it is a step of decarboxylating and brominating carboxylic acid in one step.
工程(2’)の脱炭酸臭素化は、無溶媒または溶媒中でDCCおよび塩基の存在下、カルボン酸3にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。溶媒については、カルボン酸、オマジン、およびブロモトリクロロメタンのいずれとも反応せず、反応中に発生するラジカルにも反応しないものであれば使用可能である。反応溶媒としては、芳香族化合物を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。また前記溶媒を混合しても反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができ、減圧濃縮での留去が容易なベンゼン、トルエン、およびクロロベンゼンである。塩基については、ブロモトリクロロメタンと反応せず、反応中に発生するラジカルにも反応しないものであれば使用可能である。好ましくはDMAP、ピリジン、2,6−ルチジン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、キノリン、アニリン、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノネン(以下、DBNと示す)、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン(以下、DBUと示す)、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクテン(以下、DABCOと示す)であり、より好ましくはDMAP、ピリジン、トリエチルアミンである。 The decarboxylation bromination in the step (2 ') can be carried out by reacting carboxylic acid 3 with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base without solvent or in a solvent. As the solvent, any solvent can be used as long as it does not react with any of carboxylic acid, omazine, and bromotrichloromethane and does not react with radicals generated during the reaction. As the reaction solvent, an aromatic compound is preferably used. For example, as the aromatic compound, benzene, toluene, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, and bromobenzene are preferable. The reaction can also be carried out by mixing the solvent. More preferred reaction solvents are benzene, toluene, and chlorobenzene, which can improve the reaction rate, complete the reaction in a short time, and can be easily distilled off under reduced pressure. Any base that does not react with bromotrichloromethane and does not react with radicals generated during the reaction can be used. Preferably, DMAP, pyridine, 2,6-lutidine, triethylamine, diethylamine, quinoline, aniline, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene (hereinafter referred to as DBN), 1,8-diazabicyclo [5.4. 0.0] undecene (hereinafter referred to as DBU) and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octene (hereinafter referred to as DABCO), more preferably DMAP, pyridine and triethylamine.
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物3に対して重量で5〜20倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、−20℃〜200℃の範囲が好ましい。より好ましくは原料である化合物3または生成物である化合物5の−CF2−基の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる0℃〜70℃の範囲である。オマジンの使用量は化合物3に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物3に対して1.05〜2.0当量の範囲である。この範囲であれば、原料である化合物3をほぼ完全に消費させることができる。ブロモトリクロロメタンの使用量は化合物3に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物3に対して1.05〜5.0当量の範囲である。この範囲であれば、原料である化合物3をほぼ完全に消費させることができる。また、反応時間については化合物の構造、反応温度に大きく依存するが、室温では反応開始後約8時間で反応は完結する。 About the usage-amount of a solvent, what is necessary is just the quantity which can implement reaction safely and stably. Preferably, it is in the range of 5 to 20 times the weight of compound 3. The reaction temperature should just be temperature which can stir favorably. Although it depends on the structure of the compound, a range of -20 ° C to 200 ° C is preferable. More preferably, it is in the range of 0 ° C. to 70 ° C. capable of suppressing decomposition of the —CF 2 — group of the compound 3 as a raw material or the product 5 as a product and improving the conversion rate. The amount of omadin used is preferably equal to or greater than the amount of compound 3. More preferably, it is the range of 1.05-2.0 equivalent with respect to the compound 3. If it is this range, the compound 3 which is a raw material can be consumed almost completely. The amount of bromotrichloromethane used is preferably equal to or greater than that of Compound 3. More preferably, it is the range of 1.05-5.0 equivalent with respect to the compound 3. If it is this range, the compound 3 which is a raw material can be consumed almost completely. The reaction time largely depends on the structure of the compound and the reaction temperature, but at room temperature, the reaction is completed in about 8 hours after the start of the reaction.
溶媒を使用しない場合は、ブロモトリクロロメタンを3に対して過剰量使用することになるが、その量は、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物3に対して1当量以上かつ重量で5〜20倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、0℃からブロモトリクロロメタンの沸点である70℃までの範囲が好ましい。 When no solvent is used, an excessive amount of bromotrichloromethane is used with respect to 3, but the amount may be an amount that allows the reaction to be carried out safely and stably. Preferably, it is in the range of 1 equivalent or more and 5 to 20 times the weight of compound 3. The reaction temperature should just be temperature which can stir favorably. Although it depends on the structure of the compound, a range from 0 ° C. to 70 ° C. which is the boiling point of bromotrichloromethane is preferable.
工程(2’)の脱炭酸臭素化反応においては、工程(3)と同様にラジカル開始剤としてアゾ化合物を添加することにより反応速度を向上させることが可能である。アゾ化合物としては、AIBN、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロリド、4,4’−アゾビス(4−シアノ基ペンタン酸)が好ましい。アゾ化合物の添加量は、化合物3に対して0.03当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物3に対して0.05〜0.3当量の範囲である。 In the decarboxylation bromination reaction in the step (2 '), the reaction rate can be improved by adding an azo compound as a radical initiator as in the step (3). Examples of the azo compound include AIBN, 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 4,4′-azobis ( 4-cyano pentanoic acid) is preferred. The amount of the azo compound added is preferably 0.03 equivalent or more with respect to compound 3. More preferably, it is in the range of 0.05 to 0.3 equivalents relative to compound 3.
加熱やラジカル開始剤を使用するかわりに、またはそれらと併せて光を照射して反応を促進させることが可能である。照射光は紫外および可視光が使用でき、その波長は化合物の構造にもよるが、10〜700nmの範囲が好ましい。光源としては自然光、電灯光はもちろん、光化学反応装置用光源が使用できる。 The reaction can be promoted by irradiating light instead of or in combination with heating or using a radical initiator. Irradiation light can be ultraviolet or visible light, and its wavelength is preferably in the range of 10 to 700 nm, although it depends on the structure of the compound. As a light source, natural light and electric light as well as a light source for a photochemical reaction device can be used.
塩基の使用量については、化合物3に対して0〜10mol%が好ましい。より好ましくは、化合物3に対して0.5〜5mol%の範囲である。 About the usage-amount of a base, 0-10 mol% with respect to the compound 3 is preferable. More preferably, it is in the range of 0.5 to 5 mol% with respect to compound 3.
工程(4)
前記工程(4)で記載したものと同一である。
Process (4)
The same as described in the step (4).
工程(5)
前記工程(5)で記載したものと同一である。
本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80重量%以上の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90重量%以上の生成物を得ることができる。該純度90重量%以上の生成物を再結晶することにより純度95重量%以上の生成物を得ることができる。
Process (5)
The same as described in the step (5).
The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80% by weight or more as a residue. . A product having a purity of 90% by weight or more can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. A product having a purity of 95% by weight or more can be obtained by recrystallizing the product having a purity of 90% by weight or more.
合成経路3
合成経路3は、化合物5を製造する工程(1)〜(3)までは合成経路1と同じで、化合物5を水素還元して7を製造する工程(6)と、化合物7を塩基の存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物2を製造する工程(7)とからなる。
Synthesis route 3
Synthetic route 3 is the same as synthetic route 1 until steps (1) to (3) for producing compound 5, step (6) for producing compound 7 by hydrogen reduction of compound 5, and presence of a base in compound 7 It comprises a step (7) of producing compound 2 by reacting with lower phenol compound P.
工程(1)
前記工程(1)で記載したものと同一である。
Process (1)
The same as described in the step (1).
工程(2)
前記工程(2)で記載したものと同一である。
Step (2)
The same as described in the step (2).
工程(3)
前記工程(3)で記載したものと同一である。
Process (3)
The same as described in the step (3).
工程(6)
工程(6)の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒(株式会社東京化学同人発行)等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路1の工程(5)で記載した条件と同様である。
Step (6)
The hydrogen reduction reaction in the step (6) can be carried out using various metal catalysts described in, for example, Shigeo Nishimura, Gen Takamatsu, catalytic hydrogenation catalyst (published by Tokyo Chemical Co., Ltd.). The conditions for the hydrogen reduction reaction, including the catalyst that can be used for the hydrogen reduction reaction, are the same as those described in Step (5) of Synthesis Route 1.
工程(7)
工程(7)は、化合物7を塩基の存在下でフェノール化合物Pと反応させて化合物2を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
Step (7)
In step (7), compound 7 is reacted with phenol compound P in the presence of a base to produce compound 2. That is, it is a step of etherification.
化合物P
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Pは、前記合成経路1の工程(4)で記載したフェノール誘導体Pと同様である。
Compound P
The phenol derivative P used for the etherification reaction is the same as the phenol derivative P described in the step (4) of the synthesis route 1.
工程(5)のエーテル化反応は、一般に知られるウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記合成経路1の第4工程で記載した条件と同様である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。 The etherification reaction in the step (5) can be carried out under generally known Williamson reaction conditions. The conditions for the etherification reaction, including the base that can be used for the etherification reaction, are the same as those described in the fourth step of the synthesis route 1. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路4
合成経路4は、合成経路3において工程(2)および(3)のかわりに工程(2’)を有する。
工程(1)
前記工程(1)で記載したものと同一である。
Synthesis route 4
The synthetic route 4 has the step (2 ′) in the synthetic route 3 instead of the steps (2) and (3).
Process (1)
The same as described in the step (1).
工程(2’)
前記工程(2’)で記載したものと同一である。
Process (2 ')
This is the same as described in the step (2 ′).
工程(6)
前記工程(6)で記載したものと同一である。
Step (6)
The same as described in the step (6).
工程(7)
前記工程(7)で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (7)
The same as described in the step (7). The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路5
合成経路5は、化合物1を水素還元して化合物8を製造する工程(8)と、化合物8を加水分解してカルボン酸誘導体9を製造する工程(9)と、化合物9に塩化チオニルを反応させて酸塩化物10を製造する工程(10)と、化合物10にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物7を製造する工程(11)と、化合物7を塩基存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物2を製造する工程(7)とからなる。
Synthesis route 5
Synthesis route 5 includes a step (8) for producing compound 8 by hydrogen reduction of compound 1, a step (9) for producing carboxylic acid derivative 9 by hydrolyzing compound 8, and a reaction of thionyl chloride with compound 9. A step (10) for producing acid chloride 10, a step (11) for producing compound 7 by reacting compound 10 with sodium omazine and bromotrichloromethane, and compound 7 in the presence of a base with phenol compound P. And a step (7) of producing compound 2 by reaction.
工程(8)
工程(8)は、化合物1を水素還元して化合物8を製造する。
Step (8)
In step (8), compound 1 is produced by reducing compound 1 with hydrogen.
化合物1は、
前記合成経路1で記載の化合物1の製造方法に準じて、製造できる。
工程(8)での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒(株式会社東京化学同人発行)等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路1の工程(5)で記載した条件と同様である。
Compound 1 is
It can be produced according to the production method of Compound 1 described in Synthesis Route 1.
The hydrogen reduction reaction in the step (8) can be carried out using various metal catalysts described in, for example, Shigeo Nishimura, Gen Takamatsu, a catalytic hydrogenation catalyst (published by Tokyo Chemical Co., Ltd.). The conditions for the hydrogen reduction reaction, including the catalyst that can be used for the hydrogen reduction reaction, are the same as those described in Step (5) of Synthesis Route 1.
工程(9)
工程(9)は、化合物8を加水分解してカルボン酸9を製造する。
工程(9)の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路1の工程(1)で記載した条件と同様である。
Step (9)
In step (9), compound 8 is hydrolyzed to produce carboxylic acid 9.
The hydrolysis reaction in the step (9) can be carried out under conditions of acid or alkali hydrolysis of generally known esters. The conditions of the hydrolysis reaction including the acid and base that can be used for the hydrolysis reaction are the same as those described in the step (1) of the synthesis route 1.
工程(10)
工程(10)は、化合物9に塩化チオニルを反応させて酸塩化物4を製造する工程である。
工程(10)の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸9と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路1の工程(2)で記載した条件と同様である。
Step (10)
Step (10) is a step for producing acid chloride 4 by reacting compound 9 with thionyl chloride.
The reaction of step (10) can be carried out by mixing carboxylic acid 9 and thionyl chloride in the absence of solvent or in a solvent. The conditions for the acid chloride synthesis reaction are the same as those described in Step (2) of Synthesis Route 1.
工程(11)
工程(11)は、化合物10にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物7を製造する。
工程(11)の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物4にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路1の工程(3)で記載した条件と同様である。
Step (11)
In step (11), compound 10 is produced by reacting compound 10 with sodium omazine and bromotrichloromethane for decarboxylation bromination.
The decarboxylation bromination in step (11) is carried out according to the method of Barton et al. (DHR Barton, B. Lacher, and SZ Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) The reaction can be carried out by reacting sodium omazine with bromotrichloromethane. The conditions for the decarboxylation bromination reaction are the same as those described in the step (3) of the synthesis route 1.
工程(7)
前記合成経路3の工程(7)で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (7)
This is the same as described in the step (7) of the synthesis route 3. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路6
合成経路6は、合成経路5において工程(10)および(11)のかわりに工程(10’)を有する。
工程(8)
前記工程(8)で記載したものと同一である。
Synthesis route 6
The synthetic route 6 has a step (10 ′) instead of the steps (10) and (11) in the synthetic route 5.
Step (8)
The same as described in the step (8).
工程(9)
前記工程(9)で記載したものと同一である。
Step (9)
The same as described in the step (9).
工程(10’)
工程(10’)はDCCおよび塩基の存在下、カルボン酸9にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物(7)を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路2の工程(2’)で記載した条件と同様である。
Step (10 ')
In step (10 ′), compound (7) is produced by reacting carboxylic acid 9 with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base. That is, it is a step of decarboxylating and brominating carboxylic acid in one step. The reaction conditions for decarboxylation bromination are the same as those described in Step (2 ′) of Synthesis Route 2.
工程(7)
前記合成経路5の工程(7)で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (7)
This is the same as that described in step (7) of the synthesis route 5. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
方法B
本発明の化合物12の製造方法は、化合物11を出発原料とするものである。
Method B
The method for producing compound 12 of the present invention is based on compound 11 as a starting material.
本発明の方法Bにより製造可能なジフルオロメチレンオキシ誘導体は化合物12で表される。化合物12において、R1、R2、環A1〜環A4、Y1〜Y4、Z1〜Z4、k、l、m、およびnは化合物2と同じものを表す。また、環A5は環A1〜A4と同様であるが、環A1〜環A4とは独立である。oは1〜10の整数を表す。
本発明の方法Bには、 合成経路7〜12が含まれる。
The difluoromethyleneoxy derivative that can be produced by Method B of the present invention is represented by Compound 12. In the compound 12, R 1 , R 2 , ring A 1 to ring A 4 , Y 1 to Y 4 , Z 1 to Z 4 , k, l, m, and n represent the same as in the compound 2. Ring A 5 is the same as rings A 1 to A 4 , but is independent of ring A 1 to ring A 4 . o represents an integer of 1 to 10.
Method B of the present invention includes synthesis routes 7-12.
合成経路7は
工程(12):化合物11を加水分解してカルボン酸誘導体13を製造する、
工程(13):化合物13に塩化チオニルを反応させて酸塩化物14を製造する、
工程(14):化合物14にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物15を製造する、
工程(15):化合物15を塩基の存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物16を製造する、
工程(16):化合物16を水素還元して化合物12を製造する、
の5工程を有する。
Synthesis route 7 is step (12): Compound 11 is hydrolyzed to produce carboxylic acid derivative 13.
Step (13): Compound 13 is reacted with thionyl chloride to produce acid chloride 14.
Step (14): Compound 14 is produced by reacting compound 14 with sodium omadin and bromotrichloromethane to perform decarboxylation bromination.
Step (15): Compound 16 is produced by reacting Compound 15 with phenol compound P in the presence of a base.
Step (16): Compound 16 is produced by hydrogen reduction of Compound 16;
It has five steps.
合成経路8は合成経路7において工程(13)および(14)のかわりに
工程(13’):DCCおよびDMAPの存在下、化合物13とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物15を製造する、
の4工程を有する。
In the synthetic route 8, instead of the steps (13) and (14) in the synthetic route 7, the step (13 ′): Compound 13 is reacted with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and DMAP to produce the compound 15. ,
It has 4 processes.
合成経路9は工程(12)〜(14)の後、
工程(17):化合物15を水素還元して化合物17を製造する、
工程(18):化合物17を塩基の存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物12を製造する、
の5工程を有する。
Synthesis route 9 is after steps (12) to (14),
Step (17): Compound 15 is produced by hydrogen reduction of Compound 15;
Step (18): Compound 12 is produced by reacting Compound 17 with phenol compound P in the presence of a base.
It has five steps.
合成経路10は合成経路9において工程(13)および(14)のかわりに工程(13’)を有し、あわせて4工程を有する。 Synthetic route 10 has step (13 ') instead of steps (13) and (14) in synthetic route 9, and has four steps in total.
合成経路11は
工程(19):化合物11を水素還元して化合物18を製造する、
工程(20):化合物18を加水分解してカルボン酸誘導体19を製造する、
工程(21):化合物19に塩化チオニルを反応させて酸塩化物20を製造する、
工程(22):化合物20にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物17を製造する、
工程(18):化合物17を塩基の存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物12を製造する、
の5工程を有する。
Synthesis route 11 is step (19): Compound 11 is produced by hydrogen reduction of Compound 11;
Step (20): Compound 18 is hydrolyzed to produce carboxylic acid derivative 19.
Step (21): Compound 19 is reacted with thionyl chloride to produce acid chloride 20.
Step (22): Compound 20 is produced by reacting compound 20 with sodium omazine and bromotrichloromethane to perform decarboxylation bromination.
Step (18): Compound 12 is produced by reacting Compound 17 with phenol compound P in the presence of a base.
It has five steps.
合成経路12は合成経路11において工程(21)および(22)のかわりに
工程(21’):DCCおよびDMAPの存在下、化合物19とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物17を製造する、
の4工程を有する。
In the synthetic route 12, instead of steps (21) and (22) in the synthetic route 11, step (21 ′): compound 19 is reacted with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and DMAP to produce compound 17. ,
It has 4 processes.
合成経路7
合成経路7は、工程(12)〜(16)の5つの工程とからなる。
Synthesis route 7
The synthesis route 7 includes five steps (12) to (16).
工程(12)
工程(12)は、化合物11を加水分解してカルボン酸誘導体13を製造する。
Step (12)
In the step (12), the compound 11 is hydrolyzed to produce the carboxylic acid derivative 13.
化合物11
化合物11は、ビニルジフルオロ酢酸エステル誘導体である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法における方法Bの出発原料となる化合物11は、当業者であれば容易に製造することができる。たとえば、C. R. Hauser and D. S. Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). に記載の方法に準じて、シクロヘキシルアセトアルデヒド誘導体37とブロモジフルオロ酢酸エステル35を亜鉛粉末の存在下反応させて化合物38とした後、たとえば、W. S. Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). に記載の方法に準じて、化合物38に塩化チオニルとピリジンを反応さることにより容易に製造することができる。
Compound 11
Compound 11 is a vinyl difluoroacetate derivative. The compound 11 that is the starting material of Method B in the method for producing a difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be easily produced by those skilled in the art. For example, in accordance with the method described in CR Hauser and DS Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). Compound 38 is reacted with thionyl chloride and pyridine according to the method described in WS Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). Thus, it can be easily manufactured.
式中、R1、R3、環A1、環A2、環A5、Z1、Z2、kおよびlは前記と同一の意味を表し、好ましいもの、具体例なども前記と同じである。
シクロヘキサノン誘導体34は、市販品あるいは新実験化学講座(丸善株式会社出版)等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
In the formula, R 1 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , ring A 5 , Z 1 , Z 2 , k and l represent the same meaning as described above, and preferable examples, specific examples and the like are the same as above is there.
The cyclohexanone derivative 34 can be easily obtained by a method described in an organic synthesis book such as a commercial product or a new experimental chemistry course (published by Maruzen Co., Ltd.).
加水分解試薬には酸または塩基の水溶液を使用することができる。酸としては塩化水素、臭化水素が好ましく、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。反応溶媒は、前記方法Aの合成経路1の第1工程で使用することが好ましい反応溶媒として記載したものと同じである。溶媒の使用量、反応温度、酸またはアルカリの使用量および反応時間についても同様である。 An acid or base aqueous solution can be used as the hydrolysis reagent. The acid is preferably hydrogen chloride or hydrogen bromide, and the base is preferably lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide. The reaction solvent is the same as that described as the reaction solvent preferably used in the first step of the synthesis route 1 of the method A. The same applies to the amount of solvent used, the reaction temperature, the amount of acid or alkali used, and the reaction time.
工程(13)
工程(13)は、化合物13に塩化チオニルを反応させて酸塩化物14を製造する。
工程(13)の反応条件は前記方法Aの合成経路1の工程(2)で記載したものと同様である。
Step (13)
In step (13), acid chloride 14 is produced by reacting compound 13 with thionyl chloride.
The reaction conditions in the step (13) are the same as those described in the step (2) of the synthesis route 1 of the method A.
工程(14)
工程(14)は、化合物14にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物15を製造する。
工程(14)の脱炭酸臭素化反応の反応条件は前記方法Aの合成経路1の工程(3)で記載したものと同様である。
Step (14)
In Step (14), Compound 14 is produced by reacting Compound 14 with sodium omadin and bromotrichloromethane for decarboxylation bromination.
The reaction conditions for the decarboxylation bromination reaction in the step (14) are the same as those described in the step (3) of the synthesis route 1 of the method A.
工程(15)
工程(15)は、化合物15を塩基の存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物16を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
Step (15)
In step (15), compound 15 is produced by reacting compound 15 with phenol compound P in the presence of a base. That is, it is a step of etherification.
化合物P
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Pは、前記方法Aの合成経路1の工程(4)で記載したフェノール誘導体Pと同様である。
工程(15)のエーテル化反応は、一般に知られているウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記方法Aの合成経路1の工程(4)に記載した条件と同様である。
Compound P
The phenol derivative P used in the etherification reaction is the same as the phenol derivative P described in the step (4) of the synthesis route 1 of the method A.
The etherification reaction in the step (15) can be carried out under generally known Williamson reaction conditions. The conditions for the etherification reaction, including the base that can be used for the etherification reaction, are the same as those described in step (4) of synthesis route 1 of Method A.
工程(16)
工程(16)は、化合物16を水素還元して化合物12を製造する。
工程(16)での水素還元における触媒およびその使用量ならびに反応溶媒およびその使用量は、前記方法Aの合成経路1の工程(5)で記載した条件と同様である。反応温度は、化合物16においてY1、Y2、Y3、およびY4のいづれか一つ以上がハロゲン原子で置換されている化合物については置換されているハロゲン原子の水素還元を抑制することができる0℃〜室温の範囲であることがより好ましい。反応時間については、化合物16の種類、反応温度に大きく依存するが、0℃〜室温の範囲で実施する場合には、2〜10時間が好ましい。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Process (16)
In step (16), compound 12 is produced by reducing compound 16 with hydrogen.
The catalyst and its use amount and the reaction solvent and its use amount in the hydrogen reduction in the step (16) are the same as the conditions described in the step (5) of the synthesis route 1 of the method A. The reaction temperature can suppress hydrogen reduction of the substituted halogen atom in the compound 16 in which any one or more of Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 is substituted with a halogen atom. A range of 0 ° C. to room temperature is more preferable. The reaction time largely depends on the type of compound 16 and the reaction temperature, but 2 to 10 hours are preferable when the reaction is carried out in the range of 0 ° C. to room temperature. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路8
合成経路8は、合成経路7において工程(13)および(14)のかわりに工程(13’)を有する。
工程(12)
前記合成経路7の工程(12)と同一である。
Synthesis route 8
The synthetic route 8 has the step (13 ′) in the synthetic route 7 instead of the steps (13) and (14).
Step (12)
This is the same as step (12) of the synthesis route 7.
工程(13’)
工程(13’)はDCCおよび塩基の存在下、カルボン酸13にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物(15)を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路2の工程(2’)で記載した条件と同様である。
Step (13 ')
In step (13 ′), carboxylic acid 13 is reacted with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base to produce compound (15). That is, it is a step of decarboxylating and brominating carboxylic acid in one step. The reaction conditions for decarboxylation bromination are the same as those described in Step (2 ′) of Synthesis Route 2.
工程(15)
工程(15)は、前記合成経路7に記載の工程(15)と同一である。
Step (15)
Step (15) is the same as Step (15) described in Synthesis Route 7.
工程(16)
工程(16)は、前記合成経路7の工程(16)で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Process (16)
Step (16) is the same as that described in Step (16) of Synthesis Route 7. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路9
合成経路9は、(12)〜(14)までは前記合成経路7と同一で、化合物15を製造し、化合物15を水素還元して化合物17を製造する工程(17)と、化合物17を塩基の存在下でフェノール化合物Pと反応させて化合物12を製造する工程(18)とからなる。
Synthesis route 9
The synthetic route 9 is the same as the synthetic route 7 from (12) to (14). The compound 15 is produced, the compound 15 is hydrogen-reduced to produce the compound 17 (17), and the compound 17 is converted into a base. (18) which reacts with the phenolic compound P in the presence of
工程(12)
前記合成経路7の工程(12)と同一である。
Step (12)
This is the same as step (12) of the synthesis route 7.
工程(13)
前記合成経路7の工程(13)と同一である。
Step (13)
This is the same as step (13) of the synthesis route 7.
工程(14)
前記合成経路7の工程(14)と同一である。
Step (14)
This is the same as the step (14) of the synthesis route 7.
工程(17)
工程(17)は、化合物15を水素還元して化合物18を製造する。
工程(17)の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒(株式会社東京化学同人発行)等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路7の工程(16)で記載した条件と同様である。
Step (17)
In step (17), compound 18 is produced by reducing compound 15 with hydrogen.
The hydrogen reduction reaction in the step (17) can be carried out using various metal catalysts described in a book such as Shigeo Nishimura, Gen Takamatsu, and a catalytic hydrogenation catalyst (published by Tokyo Chemical Co., Ltd.). The conditions of the hydrogen reduction reaction including the catalyst that can be used for the hydrogen reduction reaction are the same as those described in the step (16) of the synthesis route 7.
工程(18)
工程(18)は、化合物17を塩基の存在下でフェノール化合物Pと反応させて化合物12を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
Step (18)
In step (18), compound 12 is produced by reacting compound 17 with phenol compound P in the presence of a base. That is, it is a step of etherification.
化合物P
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Pは、前記合成経路7の工程(15)で記載したフェノール誘導体Pと同様である。
工程(18)のエーテル化反応は、一般に知られるウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記合成経路7の工程(15)で記載した条件と同様である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Compound P
The phenol derivative P used for the etherification reaction is the same as the phenol derivative P described in the step (15) of the synthesis route 7.
The etherification reaction in step (18) can be carried out under the conditions of generally known Williamson reaction. The conditions for the etherification reaction, including the base that can be used for the etherification reaction, are the same as those described in Step (15) of Synthesis Route 7. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路10
合成経路10は、合成経路9において(13)および(14)のかわりに(13’)を有し、あわせて4つの工程を有する。
Synthesis route 10
The synthetic route 10 has (13 ′) instead of (13) and (14) in the synthetic route 9, and has four steps in total.
工程(12)
工程(12)は前記合成経路7の工程(12)と同一である。
Step (12)
Step (12) is the same as step (12) of the synthesis route 7.
工程(13’)
工程(13’)はDCCおよび塩基の存在下、カルボン酸13にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物15を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路2の工程(2’)で記載した条件と同様である。
Step (13 ')
In step (13 ′), compound 15 is produced by reacting carboxylic acid 13 with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base. That is, it is a step of decarboxylating and brominating carboxylic acid in one step. The reaction conditions for decarboxylation bromination are the same as those described in Step (2 ′) of Synthesis Route 2.
工程(17)
工程17は前記合成経路9の工程(17)と同一である。
Step (17)
Step 17 is the same as step (17) of the synthetic route 9.
工程(18)
工程18は前記合成経路9の工程(18)と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (18)
Step 18 is the same as step (18) of the synthetic route 9. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路11
合成経路11は、工程(19)〜(22)の後に、工程(18)を有し、あわせて5つの工程を有する。
Synthesis route 11
The synthesis route 11 has the step (18) after the steps (19) to (22), and has five steps in total.
工程(19)
工程(19)では、化合物11を水素還元して化合物18を製造する。
Process (19)
In step (19), compound 11 is produced by reducing compound 11 with hydrogen.
化合物11
前記合成経路7で記載したものと同様である。
工程(19)での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒(株式会社東京化学同人発行)等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路7の工程(16)で記載した条件と同様である。
Compound 11
The same as described in the synthesis route 7.
The hydrogen reduction reaction in the step (19) can be carried out using various metal catalysts described in a book such as Shigeo Nishimura, Gen Takamatsu, and a catalytic hydrogenation catalyst (published by Tokyo Chemical Co., Ltd.). The conditions of the hydrogen reduction reaction including the catalyst that can be used for the hydrogen reduction reaction are the same as those described in the step (16) of the synthesis route 7.
工程(20)
工程(20)は、化合物18を加水分解してカルボン酸19を製造する。
工程(20)の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路7の工程(12)で記載した条件と同様である。
Step (20)
In step (20), compound 18 is hydrolyzed to produce carboxylic acid 19.
The hydrolysis reaction in the step (20) can be carried out under generally known conditions of ester acid or alkali hydrolysis. The conditions for the hydrolysis reaction including the acid and base that can be used for the hydrolysis reaction are the same as those described in the step (12) of the synthetic pathway 7.
工程(21)
工程(21)は、化合物19に塩化チオニルを反応させて酸塩化物20を製造する工程である。
工程(21)の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸19と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路7の工程(13)で記載した条件と同様である。
Step (21)
Step (21) is a step for producing acid chloride 20 by reacting compound 19 with thionyl chloride.
The reaction of step (21) can be carried out by mixing carboxylic acid 19 and thionyl chloride in the absence of solvent or in a solvent. The conditions for the acid chloride synthesis reaction are the same as those described in step (13) of the synthesis route 7.
工程(22)
工程(22)は、化合物20にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物17を製造する。
工程(22)の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物20にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路7の工程(14)で記載した条件と同様である。
Step (22)
In step (22), compound 20 is produced by reacting compound 20 with sodium omadin and bromotrichloromethane for decarboxylation bromination.
The decarboxylation bromination in the step (22) is carried out according to the method of Barton et al. (DHR Barton, B. Lacher, and SZ Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987)). The reaction can be carried out by reacting sodium omazine with bromotrichloromethane. The conditions for the decarboxylation bromination reaction are the same as those described in the step (14) of the synthesis route 7.
工程(18)
前記合成経路9工程(18)で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (18)
This is the same as described in the synthetic route 9 step (18). The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路12
合成経路12は、合成経路11において工程(21)および(22)のかわりに工程(21’)を有し、あわせて4つの工程を有する。
Synthesis route 12
The synthesis route 12 has the step (21 ′) instead of the steps (21) and (22) in the synthesis route 11, and has four steps in total.
工程(19)
工程(19)は前記合成経路11の工程(19)と同一である。
Process (19)
The step (19) is the same as the step (19) of the synthesis route 11.
工程20
工程(20)は前記合成経路11の工程(20)と同一である。
Step 20
The step (20) is the same as the step (20) of the synthesis route 11.
工程21’
工程(21’)はDCCおよび塩基の存在下、カルボン酸19にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物17を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路2の工程(2’)で記載した条件と同様である。
Step 21 '
In the step (21 ′), Compound 17 is produced by reacting carboxylic acid 19 with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base. That is, it is a step of decarboxylating and brominating carboxylic acid in one step. The reaction conditions for decarboxylation bromination are the same as those described in Step (2 ′) of Synthesis Route 2.
工程18
工程(18)は前記合成経路11の工程(18)と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step 18
The step (18) is the same as the step (18) of the synthesis route 11. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
方法C
本発明の化合物22の製造方法は、化合物21を出発原料とするものである。
Method C
The method for producing compound 22 of the present invention is based on compound 21 as a starting material.
本発明の方法Cにより製造可能なジフルオロメチレンオキシ誘導体は化合物22で表される。化合物22において、R1、R2、環A1〜環A4、Y1〜Y4、Z1〜Z4、k、l、m、およびnは化合物2と同じものを表す。oは1〜10の整数を表す。本発明の方法Cには、合成経路13〜18が含まれる。 The difluoromethyleneoxy derivative that can be produced by Method C of the present invention is represented by Compound 22. In the compound 22, R 1 , R 2 , ring A 1 to ring A 4 , Y 1 to Y 4 , Z 1 to Z 4 , k, l, m, and n represent the same as in the compound 2. o represents an integer of 1 to 10. Method C of the present invention includes synthesis routes 13-18.
合成経路13は、
工程(23):化合物21を加水分解してカルボン酸誘導体23を製造する、
工程(24):化合物23に塩化チオニルを反応させて酸塩化物24を製造する、
工程(25):化合物24にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物25を製造する、
工程(26):化合物25を塩基の存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物26を製造する、
工程(27):化合物26を水素還元して化合物22を製造する、の5つの工程を有する。
The synthesis route 13 is
Step (23): Compound 21 is hydrolyzed to produce carboxylic acid derivative 23.
Step (24): Compound 23 is reacted with thionyl chloride to produce acid chloride 24.
Step (25): Compound 24 is produced by reacting compound 24 with sodium omadin and bromotrichloromethane to perform decarboxylation bromination.
Step (26): Compound 25 is produced by reacting compound 25 with phenol compound P in the presence of a base.
Step (27): There are five steps of producing compound 22 by reducing compound 26 with hydrogen.
合成経路14は合成経路13において工程(24)および(25)のかわりに、
工程(24’):DCCおよびDMAPの存在下、化合物23とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物25を製造する、
を行うあわせて4工程を有する。
Synthetic pathway 14 replaces steps (24) and (25) in synthetic pathway 13
Step (24 ′): Compound 23 is reacted with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and DMAP to produce Compound 25.
There are four steps in total.
合成経路15は工程(23)〜(25)の後、
工程(26):化合物25を水素還元して化合物27を製造する、
工程(27):化合物27を塩基の存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物22を製造する、
の5つの工程を有する。
The synthesis route 15 is after steps (23) to (25),
Step (26): Compound 25 is produced by reducing Compound 25 with hydrogen.
Step (27): Compound 22 is produced by reacting compound 27 with phenol compound P in the presence of a base.
There are five steps.
合成経路16は合成経路15において工程(24)および(25)のかわりに工程(24’)を有し、あわせて4工程を有する。 The synthetic route 16 has the step (24 ') in place of the steps (24) and (25) in the synthetic route 15, and has four steps in total.
合成経路17は、
工程(29):化合物21を水素還元して化合物28を製造する、
工程(30):化合物28を加水分解してカルボン酸誘導体29を製造する、
工程(31):化合物29に塩化チオニルを反応させて酸塩化物30を製造する、
工程(32):化合物30にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物27を製造する、
工程(28):塩基の存在下、化合物27をフェノール化合物Pと反応させて化合物22を製造する、
の5つの工程を有する。
Synthesis route 17 is
Step (29): Compound 21 is reduced with hydrogen to produce Compound 28.
Step (30): Compound 28 is hydrolyzed to produce carboxylic acid derivative 29.
Step (31): Compound 29 is reacted with thionyl chloride to produce acid chloride 30.
Step (32): Compound 27 is produced by reacting compound 30 with sodium omazine and bromotrichloromethane to perform decarboxylation bromination.
Step (28): Compound 22 is produced by reacting Compound 27 with phenol compound P in the presence of a base.
There are five steps.
合成経路18は合成経路17において工程(31)および(32)のかわりに、
工程(32’):DCCおよびDMAPの存在下、化合物29とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物27を製造する、
の4工程を有する。
Synthetic pathway 18 is the same as synthetic pathway 17 in place of steps (31) and (32).
Step (32 ′): Compound 29 is reacted with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and DMAP to produce Compound 27.
It has 4 processes.
合成経路13
合成経路13は、工程(23)〜(27)の5つの工程を有する。
Synthesis route 13
The synthesis route 13 has five steps of steps (23) to (27).
工程(23)
工程(23)は、化合物21を加水分解してカルボン酸誘導体23を製造する。
Step (23)
In the step (23), the compound 21 is hydrolyzed to produce the carboxylic acid derivative 23.
化合物21
化合物21は、シクロヘキシリデンジフルオロプロピオン酸エステル誘導体である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法における方法Cの出発原料となる化合物21は、当業者であれば容易に製造することができる。たとえば、C. R. Hauser and D. S. Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). に記載の方法に準じて、シクロヘキサンカルボアセトアルデヒド誘導体39とブロモジフルオロ酢酸エステル35を亜鉛粉末の存在下反応させて化合物40とした後、たとえば、W. S. Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). に記載の方法に準じて、化合物40に塩化チオニルとピリジンを反応さることにより化合物21を容易に製造することができる。
Compound 21
Compound 21 is a cyclohexylidene difluoropropionic acid ester derivative. The compound 21 that is the starting material of Method C in the method for producing a difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be easily produced by those skilled in the art. For example, according to the method described in CR Hauser and DS Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955)., Cyclohexanecarboacetaldehyde derivative 39 and bromodifluoroacetic acid ester 35 are added in the presence of zinc powder. After reacting to compound 40, for example, thionyl chloride and pyridine are added to compound 40 according to the method described in WS Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). Compound 21 can be easily produced by reacting.
式中、R1、R3、R3、環A1、環A2、Z1、Z2、kおよびlは前記と同一の意味を表わし、好ましいもの、具体例も同じである。
シクロヘキサンカルボアルデヒド誘導体39は、市販品あるいは新実験化学講座(丸善株式会社出版)等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
In the formula, R 1 , R 3 , R 3 , ring A 1 , ring A 2 , Z 1 , Z 2 , k and l represent the same meaning as described above, and preferred examples and specific examples are also the same.
The cyclohexane carbaldehyde derivative 39 can be easily obtained by a method described in an organic synthesis book such as a commercial product or a new experimental chemical course (published by Maruzen Co., Ltd.).
加水分解試薬には酸または塩基の水溶液を使用することができる。酸としては塩化水素、臭化水素が好ましく、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。反応溶媒は、前記方法Aの合成経路1の第1工程で使用することが好ましい反応溶媒として記載したものと同じである。溶媒の使用量、反応温度、酸またはアルカリの使用量および反応時間についても同様である。 An acid or base aqueous solution can be used as the hydrolysis reagent. The acid is preferably hydrogen chloride or hydrogen bromide, and the base is preferably lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide. The reaction solvent is the same as that described as the reaction solvent preferably used in the first step of the synthesis route 1 of the method A. The same applies to the amount of solvent used, the reaction temperature, the amount of acid or alkali used, and the reaction time.
工程(24)
工程(24)は、化合物23に塩化チオニルを反応させて酸塩化物24を製造する。
工程(24)の反応条件は前記方法Aの合成経路1の第2工程で記載したものと同様である。
Process (24)
In step (24), compound 23 is reacted with thionyl chloride to produce acid chloride 24.
The reaction conditions in the step (24) are the same as those described in the second step of the synthesis route 1 of the method A.
工程(25)
工程(25)は、化合物24にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物25を製造する。
工程(25)の脱炭酸臭素化反応の反応条件は、前記方法Aの合成経路1の工程(3)で記載したものと同様である。
Step (25)
In the step (25), compound 24 is produced by reacting compound 24 with sodium omazine and bromotrichloromethane for decarboxylation bromination.
The reaction conditions for the decarboxylation bromination reaction in the step (25) are the same as those described in the step (3) of the synthesis route 1 of the method A.
工程(26)
工程(26)は、化合物25を塩基の存在下フェノール化合物Pと反応させて化合物26を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
Step (26)
In step (26), compound 25 is produced by reacting compound 25 with phenol compound P in the presence of a base. That is, it is a step of etherification.
化合物P
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Pは、前記方法Aの合成経路1の工程(4)で記載したフェノール誘導体Pと同様である。
工程(26)のエーテル化反応は、一般に知られているウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記方法Aの合成経路1の工程(4)に記載した条件と同様である。
Compound P
The phenol derivative P used in the etherification reaction is the same as the phenol derivative P described in the step (4) of the synthesis route 1 of the method A.
The etherification reaction in step (26) can be carried out under the conditions of generally known Williamson reaction. The conditions for the etherification reaction, including the base that can be used for the etherification reaction, are the same as those described in step (4) of synthesis route 1 of Method A.
工程(27)
工程(27)は、化合物26を水素還元して化合物22を製造する。
工程(27)での水素還元における触媒およびその使用量ならびに反応溶媒およびその使用量は、前記方法Aの合成経路1の工程(5)で記載した条件と同様である。反応温度は、化合物26においてY1、Y2、Y3、およびY4のいづれか一つ以上がハロゲン原子で置換されている化合物については置換されているハロゲン原子の水素還元を抑制することができる0℃〜室温の範囲であることがより好ましい。反応時間については、化合物26の種類、反応温度に大きく依存するが、0℃〜室温の範囲で実施する場合には、2〜10時間が好ましい。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (27)
In step (27), compound 26 is reduced by hydrogen to produce compound 22.
The catalyst and its use amount and the reaction solvent and its use amount in the hydrogen reduction in the step (27) are the same as the conditions described in the step (5) of the synthesis route 1 of the method A. The reaction temperature can suppress hydrogen reduction of the substituted halogen atom in the compound 26 in which one or more of Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 is substituted with a halogen atom. A range of 0 ° C. to room temperature is more preferable. The reaction time largely depends on the type of compound 26 and the reaction temperature, but 2 to 10 hours are preferable when carried out in the range of 0 ° C. to room temperature. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路14
合成経路14は、合成経路13において工程(24)および(25)のかわりに工程(24’)を有し、あわせて4つの工程を有する。
Synthesis route 14
The synthetic route 14 has a step (24 ′) instead of the steps (24) and (25) in the synthetic route 13, and has four steps in total.
工程(23)
工程(23)は前記合成経路13の工程(23)と同一である。
Step (23)
Step (23) is the same as step (23) of the synthesis route 13.
工程24’
工程(24’)はDCCおよび塩基の存在下、カルボン酸23にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物25を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路2の工程(2’)で記載した条件と同様である。
Step 24 '
In step (24 ′), compound 25 is produced by reacting carboxylic acid 23 with omazine and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base. That is, it is a step of decarboxylating and brominating carboxylic acid in one step. The reaction conditions for decarboxylation bromination are the same as those described in Step (2 ′) of Synthesis Route 2.
工程(26)
前記合成経路13の工程(26)と同一である。
Step (26)
This is the same as the step (26) of the synthesis route 13.
工程(27)
前記合成経路13の工程(27)と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (27)
This is the same as the step (27) of the synthesis route 13. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路15
合成経路15は、工程(23)〜(25)の後に、工程(28)および(29)を有し、あわせて5工程を有する。
Synthesis route 15
The synthesis route 15 has steps (28) and (29) after steps (23) to (25), and has five steps in total.
工程(23)
前記合成経路13の工程(23)と同一である。
Step (23)
This is the same as step (23) of the synthesis route 13.
工程(24)
前記合成経路13の工程(24)と同一である。
Process (24)
This is the same as the step (24) of the synthesis route 13.
工程(25)
前記合成経路13の工程(25)と同一である。
Step (25)
This is the same as step (25) of the synthesis route 13.
工程(28)
工程(28)は、化合物25を水素還元して化合物27を製造する。
工程(28)の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒(株式会社東京化学同人発行)等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路13の工程(27)で記載した条件と同様である。
Step (28)
In step (28), compound 25 is produced by reducing compound 25 with hydrogen.
The hydrogen reduction reaction in the step (28) can be carried out using various metal catalysts described in, for example, Shigeo Nishimura, Gen Gen Takamatsu, a catalytic hydrogenation catalyst (published by Tokyo Chemical Co., Ltd.). The conditions for the hydrogen reduction reaction including the catalyst that can be used for the hydrogen reduction reaction are the same as those described in the step (27) of the synthesis route 13.
工程(29)
工程(29)は、化合物27を塩基の存在下で、フェノール化合物Pと反応させて化合物22を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
Step (29)
In step (29), compound 27 is reacted with phenol compound P in the presence of a base to produce compound 22. That is, it is a step of etherification.
化合物P
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Pは、前記合成経路13の第4工程で記載したフェノール誘導体Pと同様である。
工程(29)のエーテル化反応は、一般に知られるウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記合成経路13の工程(26)で記載した条件と同様である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Compound P
The phenol derivative P used for the etherification reaction is the same as the phenol derivative P described in the fourth step of the synthetic route 13.
The etherification reaction in the step (29) can be carried out under generally known Williamson reaction conditions. The conditions for the etherification reaction including the base that can be used for the etherification reaction are the same as those described in the step (26) of the synthesis route 13. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路16
合成経路16は、合成経路15において工程(24)および(25)のかわりに工程(24’)を有し、あわせて4つの工程を有する。
Synthesis route 16
The synthetic route 16 has the step (24 ′) instead of the steps (24) and (25) in the synthetic route 15, and has four steps in total.
工程(23)
工程(23)は前記合成経路13の工程(23)と同一である。
Step (23)
Step (23) is the same as step (23) of the synthesis route 13.
工程(24’)
工程(24’)は前記合成経路13の工程(24’)と同一である。
Step (24 ')
The step (24 ′) is the same as the step (24 ′) of the synthesis route 13.
工程(28)
工程(28)は前記合成経路15の工程(28)と同一である。
Step (28)
The step (28) is the same as the step (28) of the synthesis route 15.
工程(29)
工程(29)は前記合成経路15の工程(29)と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (29)
The step (29) is the same as the step (29) of the synthesis route 15. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路17
合成経路17は、工程(29)〜(32)の後に工程(28)を有し、あわせて5つの工程を有する。
Synthesis route 17
The synthesis route 17 has the step (28) after the steps (29) to (32), and has five steps in total.
工程(29)
工程(29)は、化合物21を水素還元して化合物28を製造する。
Step (29)
In step (29), compound 21 is produced by reducing compound 21 with hydrogen.
化合物21
前記合成経路13で記載したものと同様である。
工程(29)での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒(株式会社東京化学同人発行)等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路13の工程(27)で記載した条件と同様である。
Compound 21
This is the same as described in the synthesis route 13.
The hydrogen reduction reaction in the step (29) can be carried out using various metal catalysts described in a book such as Shigeo Nishimura, Gen Takamatsu, and a catalytic hydrogenation catalyst (published by Tokyo Chemical Co., Ltd.). The conditions for the hydrogen reduction reaction including the catalyst that can be used for the hydrogen reduction reaction are the same as those described in the step (27) of the synthesis route 13.
工程(30)
工程(30)は、化合物28を加水分解してカルボン酸29を製造する。
工程(30)の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路13の工程(23)で記載した条件と同様である。
Step (30)
In step (30), compound 28 is hydrolyzed to produce carboxylic acid 29.
The hydrolysis reaction in the step (30) can be carried out under conditions of acid or alkali hydrolysis of generally known esters. The conditions for the hydrolysis reaction including the acid and base that can be used for the hydrolysis reaction are the same as those described in the step (23) of the synthesis route 13.
工程(31)
工程(31)は、化合物29に塩化チオニルを反応させて酸塩化物30を製造する工程である。
工程(31)の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸29と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路13の工程(24)で記載した条件と同様である。
Step (31)
Step (31) is a step for producing acid chloride 30 by reacting compound 29 with thionyl chloride.
The reaction of step (31) can be carried out by mixing carboxylic acid 29 and thionyl chloride in the absence of solvent or in a solvent. The conditions for the acid chloride synthesis reaction are the same as those described in the step (24) of the synthesis route 13.
工程(32)
工程(32)は、化合物30にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物27を製造する。
工程(32)の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物20にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路13の工程(25)で記載した条件と同様である。
Process (32)
In step (32), compound 30 is produced by reacting compound 30 with sodium omadin and bromotrichloromethane for decarboxylation bromination.
The decarboxylation bromination in the step (32) is carried out according to the method of Barton et al. (DHR Barton, B. Lacher, and SZ Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987)). The reaction can be carried out by reacting sodium omazine with bromotrichloromethane. The conditions for the decarboxylation bromination reaction are the same as those described in the step (25) of the synthesis route 13.
工程(28)
前記合成経路15の工程(28)で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (28)
This is the same as described in the step (28) of the synthetic route 15. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
合成経路18
合成経路18は、合成経路17において工程(32)および(33)のかわりに工程(32’)を有し、あわせて4つの工程を有する。
Synthesis route 18
The synthetic route 18 has the step (32 ′) instead of the steps (32) and (33) in the synthetic route 17, and has four steps in total.
工程(30)
工程(30)は前記合成経路17の工程(30)と同一である。
Step (30)
Step (30) is the same as step (30) of the synthesis route 17.
工程(31)
工程(31)は前記合成経路17の工程(31)と同一である。
Step (31)
The step (31) is the same as the step (31) of the synthesis route 17.
工程(32’)
工程(32’)はDCCおよび塩基の存在下、カルボン酸29にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応さて化合物27を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路2の工程(2’)で記載した条件と同様である。
Step (32 ')
In step (32 ′), compound 27 is produced by reacting carboxylic acid 29 with omadin and bromotrichloromethane in the presence of DCC and a base. That is, it is a step of decarboxylating and brominating carboxylic acid in one step. The reaction conditions for decarboxylation bromination are the same as those described in Step (2 ′) of Synthesis Route 2.
工程(29)
工程(29)は前記合成経路17の工程(29)と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度80〜100重量%の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度90〜100重量%の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度95〜100重量%の生成物を得ることができる。
Step (29)
Step (29) is the same as step (29) of the synthesis route 17. The product in each production process of the difluoromethyleneoxy derivative of the present invention can be separated by a method usually used in organic synthesis. For example, water and an organic solvent for extraction are added to the reaction and stirred. The organic layer is separated, washed with water, dried with a desiccant such as anhydrous sodium sulfate or anhydrous magnesium sulfate, and then the organic solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a product having a purity of 80 to 100% by weight as a residue. it can. A product having a purity of 90 to 100% by weight can be obtained by subjecting the residue to silica gel column chromatography or distillation. By recrystallizing the product, a product having a purity of 95 to 100% by weight can be obtained.
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。
なお、以下の実施例において、Crは結晶、Smはスメクチック相、Nはネマチック相、Isoは等方性液体を表す。「Cr 43.5 N 103.0 Iso」という表記は、CrとNとの転移点が43.5℃であり、NとIsoとの転移点が103.0℃であることを示す。また、1H-NMRのデータ表示においてsは一重線、dは二重線、tは三重線を表し、GC-MSにおいてM+は分子イオンピークを表し、( )内は、最大ピークを100とした時の強度を示す。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
In the following examples, Cr represents a crystal, Sm represents a smectic phase, N represents a nematic phase, and Iso represents an isotropic liquid. The notation “Cr 43.5 N 103.0 Iso” indicates that the transition point between Cr and N is 43.5 ° C., and the transition point between N and Iso is 103.0 ° C. In the 1 H-NMR data display, s represents a single line, d represents a double line, t represents a triple line, and in GC-MS, M + represents a molecular ion peak. Indicates the strength.
実施例1
液晶性化合物2の製造方法の例
合成経路1による1−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルジフルオロメトキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物2においてk=1、l=m=n=0、R1がn−プロピル基、環A1がトランス−1,4−シクロヘキシレン基、Z1が単結合、Y1、Y2共に水素原子、Y3、Y4およびR2が共にフッ素である化合物(化合物番号57))の製造である。
Example 1
Example of production method of liquid crystal compound 2 1- (trans-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexyldifluoromethoxy) -3,4,5-trifluorobenzene (k = 1 in compound 2) according to synthesis route 1 l = m = n = 0, R 1 is an n-propyl group, ring A 1 is a trans-1,4-cyclohexylene group, Z 1 is a single bond, Y 1 and Y 2 are both hydrogen atoms, Y 3 and Y 4 And R 2 is a fluorine compound (Compound No. 57)).
出発原料である化合物1の製造工程
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol) と4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサノン37.1g(167mmol)をTHF83mlに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のTHF(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して3M塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の1−エトキシカルボニルジフルオロメチル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサノール 59.9gを得た。粗収率103%。
これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、3M塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して48.8gの4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチルを得た。2段階収率89%。
Production process of starting compound 1 In a nitrogen atmosphere, 13.8 g (217 mmol) of zinc powder and 37.1 g (167 mmol) of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexanone were suspended in 83 ml of THF, and ethyl bromodifluoroacetate at room temperature. A solution of 40.9 g (202 mmol) in THF (84 ml) was added dropwise over 30 minutes. The mixture was heated to maintain the temperature at 50 ° C. and stirred for 5 hours, and then ice-cooled and 73 ml of 3M hydrochloric acid was added to stop the reaction. After separation, ordinary post-treatment operations were performed, and the extract was concentrated under reduced pressure to obtain 59.9 g of 1-ethoxycarbonyldifluoromethyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexanol in a crude state. Crude yield 103%.
This was dissolved in 344 ml of toluene, 66.0 g (835 mmol) of pyridine and then 39.7 g (334 mmol) of thionyl chloride were added and stirred at 80 ° C. for 2.5 hours. After cooling in an ice bath, 334 ml of 3M hydrochloric acid was added to carry out ordinary workup, the extract was concentrated under reduced pressure, and the residue was distilled under reduced pressure to give 48.8 g of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyldifluoro. Ethyl acetate was obtained. Two-stage yield 89%.
工程(1)
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル82.8g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、3M塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して76.5gの粗生成物を得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて70.8gの4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を得た。収率94%。
Process (1)
To a solution of 82.8 g (252 mmol) of ethyl 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyldifluoroacetate in ethanol (504 ml) was added dropwise 504 ml of 1M aqueous sodium hydroxide over 7 minutes while cooling with ice. After stirring for 30 minutes, 252 ml of 3M hydrochloric acid was added for normal post-treatment, and the extract was concentrated under reduced pressure to obtain 76.5 g of a crude product. This was recrystallized from 750 ml of heptane to give 70.8 g of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetic acid. Yield 94%.
工程(2)
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留して4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド24.3gを得た。収率95%。
Step (2)
To 24.0 g (80 mmol) of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetic acid, 160 ml of thionyl chloride was added and refluxed for 5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure to remove excess thionyl chloride, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 24.3 g of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetyl chloride. Yield 95%.
工程(3)
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これに4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド19.1g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン)で精製して4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85%。
Process (3)
A suspension of 13.4 g (90 mmol) of sodium omadin in bromotrichloromethane (90 ml) was refluxed, and 19.1 g (60 mmol) of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyldifluoroacetyl chloride was added to bromotrichloro. A methane (90 ml) solution was added dropwise over 20 minutes. After further refluxing for 10 minutes, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane) to obtain 17.1 g of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-bromodifluoromethylcyclohexene. Obtained. Yield 85%.
工程(4)
3,4,5−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、および4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン16.8g(50mmol)のDMF(100ml) 懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン)で精製して、1−(4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イル−ジフルオロメトキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン19.1gを無色結晶として得た。収率95%。
Process (4)
3,4,5-trifluorophenol 8.15 g (55 mmol), potassium carbonate 7.60 g (55 mmol), tetrabutylammonium bromide 0.806 g (2.5 mmol), and 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-bromo A suspension of 16.8 g (50 mmol) of difluoromethylcyclohexene in DMF (100 ml) was stirred at 115 ° C. for 30 minutes, then cooled, water and toluene were added for normal post-treatment, and the extract was concentrated under reduced pressure to give a residue. Was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane) to give 19.1-g of 1- (4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexen-1-yl-difluoromethoxy) -3,4,5-trifluorobenzene. Was obtained as colorless crystals. Yield 95%.
工程(5)
1−(4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イル−ジフルオロメトキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン6.84g(17mmol) のトルエン(17ml)−エタノール(17ml)溶液に5%パラジウム炭素を0.684g加え、室温、水素原子圧0.5MPaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン)で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の1−トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル−ジフルオロメトキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン4.81g得た。収率70%であった。
該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Cr 43.5 N 103.0 Iso
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 0.87-1.34 (m, 20H), 1.57-2.02 (m, 7H), 6.82-6.85 (m, 2H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -79.33 (d, 2F, -CF2O-), -133.76−133.83 (m, 2F), -165.21−165.31 (m, 1F)
Process (5)
1- (4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexen-1-yl-difluoromethoxy) -3,4,5-trifluorobenzene 6.84 g (17 mmol) in toluene (17 ml) -ethanol (17 ml) in 5 0.684 g of% palladium on carbon was added, and the mixture was stirred at room temperature and a hydrogen atomic pressure of 0.5 MPa for 10 hours. After the catalyst was filtered off from the reaction solution and the filtrate was concentrated under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane), and further recrystallized from an equivalent mixture of heptane-ethanol to give colorless crystals 1 -Trans-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexyl-difluoromethoxy) -3,4,5-trifluorobenzene (4.81 g) was obtained. The yield was 70%.
The compound showed a liquid crystal phase and showed the transition point described below.
Cr 43.5 N 103.0 Iso
The measurement results of various spectral data strongly supported the structure of the compound.
1 H-NMR (δ ppm, CDCl 3 ): 0.87-1.34 (m, 20H), 1.57-2.02 (m, 7H), 6.82-6.85 (m, 2H)
19 F-NMR (δ ppm, CDCl 3 ): -79.33 (d, 2F, -CF 2 O-), -133.76-133.83 (m, 2F), -165.21-165.31 (m, 1F)
実施例2
合成経路2による1−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルジフルオロメトキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物2においてk=1、l=m=n=0、R1がn−プロピル基、環A1がトランス−1,4−シクロヘキシレン基、Z1が単結合、Y1およびY2が共に水素原子、Y3、Y4およびR2が共にフッ素原子である化合物(化合物番号57)の製造である。
Example 2
1- (trans-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexyldifluoromethoxy) -3,4,5-trifluorobenzene (in compound 2, k = 1, l = m = n = 0, R according to synthesis route 2 1 is an n-propyl group, ring A 1 is a trans-1,4-cyclohexylene group, Z 1 is a single bond, Y 1 and Y 2 are both hydrogen atoms, Y 3 , Y 4 and R 2 are both fluorine atoms This is the production of a compound (Compound No. 57).
工程(1)
前記実施例1工程(1)に準じて、4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を製造した。
Process (1)
4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetic acid was produced according to the step (1) of Example 1.
工程(2’)
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびDMAP0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにDCC19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85%。
Process (2 ')
A solution of 24.0 g (80 mmol) of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetic acid, 12.2 g (96 mmol) of omadin and 0.49 g (4 mmol) of DMAP in bromotrichloromethane (160 ml) was ice-cooled. A solution of DCC 19.8 g (96 mmol) in bromotrichloromethane (20 ml) was added dropwise over 10 minutes. The mixture was further reacted for 24 hours at the same temperature, and then stirred at 70 ° C. for 30 minutes. After cooling the reaction solution to room temperature, insoluble matters were filtered off, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 17.1 g of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-bromodifluoromethylcyclohexene. . Yield 85%.
工程(4)
前記実施例1工程(4)に準じて、1−(4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イル−ジフルオロメトキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼンを無色結晶として得た。収率95%であった。
Process (4)
According to the step (4) of Example 1, 1- (4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexen-1-yl-difluoromethoxy) -3,4,5-trifluorobenzene was obtained as colorless crystals. . The yield was 95%.
工程(5)
前記実施例1工程(5)に準じて、1−トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル−ジフルオロメトキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン4.81gを得た。収率70%であった。
Process (5)
According to the step (5) of Example 1, 1-trans-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexyl-difluoromethoxy) -3,4,5-trifluorobenzene (4.81 g) was obtained. The yield was 70%.
実施例3
合成経路1による1−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルジフルオロメトキシ)−4−トリフルオロメトキシベンゼン(化合物2においてk=1、l=m=n=0、R1がn−ペンチル基、環A1がトランス1,4−シクロヘキシレン基、Z1が単結合、Y1、Y2、Y3およびY4が共に水素原子、R2がトリフルオロメトキシ基である化合物(化合物番号58)の製造である。
Example 3
1- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyldifluoromethoxy) -4-trifluoromethoxybenzene (in compound 2, k = 1, l = m = n = 0, R 1 is n A compound in which the pentyl group, ring A 1 is a trans 1,4-cyclohexylene group, Z 1 is a single bond, Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 are all hydrogen atoms, and R 2 is a trifluoromethoxy group ( Compound No. 58).
出発原料である化合物1の製造工程
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol)と4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサノン41.8g(167mmol)を83mlのTHFに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のTHF(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して3M塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の1−エトキシカルボニルジフルオロメチル−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサノール67.5gを得た。粗収率103%であった。
これをトルエン344mlに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、3M塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル55.1gを得た。2段階収率89%。
Production process of starting compound 1 In a nitrogen atmosphere, 13.8 g (217 mmol) of zinc powder and 41.8 g (167 mmol) of 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexanone were suspended in 83 ml of THF and bromodifluoro at room temperature. A solution of 40.9 g (202 mmol) of ethyl acetate in THF (84 ml) was added dropwise over 30 minutes. The mixture was heated to maintain the temperature at 50 ° C. and stirred for 5 hours, and then ice-cooled and 73 ml of 3M hydrochloric acid was added to stop the reaction. After separation, ordinary post-treatment operations were performed, and the extract was concentrated under reduced pressure to obtain 67.5 g of 1-ethoxycarbonyldifluoromethyl-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexanol in a crude state. The crude yield was 103%.
This was dissolved in 344 ml of toluene, 66.0 g (835 mmol) of pyridine and then 39.7 g (334 mmol) of thionyl chloride were added and stirred at 80 ° C. for 2.5 hours. After cooling in an ice bath, 334 ml of 3M hydrochloric acid was added to carry out ordinary workup, and the extract was concentrated under reduced pressure. The residue was distilled under reduced pressure, and ethyl 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetate 55.1 g was obtained. Two-stage yield 89%.
工程(1)
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル83.6g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、3M塩酸252 mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して86.4gの粗生成物を得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸80.0gを得た。収率94%。
Process (1)
To a solution of 83.6 g (252 mmol) of ethyl 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-cyclohexenyldifluoroacetate in ethanol (504 ml) was added dropwise 504 ml of 1M aqueous sodium hydroxide over 7 minutes while cooling with ice. After stirring for 30 minutes, 252 ml of 3M hydrochloric acid was added for normal post-treatment, and the extract was concentrated under reduced pressure to obtain 86.4 g of a crude product. This was recrystallized from 750 ml of heptane to obtain 80.0 g of 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetic acid. Yield 94%.
工程(2)
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸27.1g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留して4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド27.5gを得た。収率95%。
Step (2)
To 27.1 g (80 mmol) of 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetic acid, 160 ml of thionyl chloride was added and refluxed for 5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure to remove excess thionyl chloride, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 27.5 g of 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetyl chloride. Yield 95%.
工程(3)
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これに4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド21.2g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン)で精製して4−(トランス-4-ペンチルシクロヘキシル)−1−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン19.3gを得た。収率85%。
Process (3)
A suspension of 13.4 g (90 mmol) of sodium omadin in bromotrichloromethane (90 ml) was refluxed, and 21.2 g (60 mmol) of 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetyl chloride in bromotrichloro was refluxed. A methane (90 ml) solution was added dropwise over 20 minutes. After further refluxing for 10 minutes, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (heptane) to obtain 19.3 g of 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-bromodifluoromethylcyclohexene. Yield 85%.
工程(4)
4−トリフルオロメトキシフェノール9.80g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、および4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン 19.0g(50mmol)のDMF(100ml)懸濁液を115 ℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン)で精製して、1−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イルジフルオロメトキシ)−4−トリフルオロメトキシベンゼン21.9gを無色結晶として得た。収率95%。
Process (4)
4-trifluoromethoxyphenol 9.80 g (55 mmol), potassium carbonate 7.60 g (55 mmol), tetrabutylammonium bromide 0.806 g (2.5 mmol), and 4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-bromodifluoromethylcyclohexene A suspension of 19.0 g (50 mmol) of DMF (100 ml) was stirred at 115 ° C. for 30 minutes, then cooled and added with water and toluene for normal post-treatment, the extract was concentrated under reduced pressure, and the residue was concentrated on a silica gel column. Purification by chromatography (developing solvent; heptane) yielded 21.9 g of 1- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexen-1-yldifluoromethoxy) -4-trifluoromethoxybenzene as colorless crystals. It was. Yield 95%.
工程(5)
1−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イルジフルオロメトキシ)−4−トリフルオロメトキシベンゼン7.82g(17mmol)のトルエン(17ml)−エタノール(17ml) 溶液に5%パラジウム炭素を0.684g加え、室温、水素原子圧0.5Mpaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘプタン) で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の1−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルジフルオロメトキシ)−4−トリフルオロメトキシベンゼン5.50gを得た。収率70%。該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Cr 35.1 Sm 116.7 N 156.9 Iso
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 0.6-2.2 (m, 31H), 7.19 (bs, 4H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -51.68 (s, 3F, -OCF3), -78.77 (s, 2F, -CF2O-)
Process (5)
5% palladium in a solution of 7.82 g (17 mmol) of 1- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexen-1-yldifluoromethoxy) -4-trifluoromethoxybenzene in toluene (17 ml) -ethanol (17 ml) 0.684 g of carbon was added, and the mixture was stirred at room temperature and a hydrogen atomic pressure of 0.5 MPa for 10 hours. The catalyst was filtered off from the reaction solution, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (heptane), and recrystallized from an equal volume of heptane-ethanol to give 1- (trans 4.50 g of -4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyldifluoromethoxy) -4-trifluoromethoxybenzene was obtained. Yield 70%. The compound showed a liquid crystal phase and showed the transition point described below.
Cr 35.1 Sm 116.7 N 156.9 Iso
The measurement results of various spectral data strongly supported the structure of the compound.
1 H-NMR (δ ppm, CDCl3): 0.6-2.2 (m, 31H), 7.19 (bs, 4H)
19 F-NMR (δ ppm, CDCl3): -51.68 (s, 3F, -OCF 3 ), -78.77 (s, 2F, -CF 2 O-)
実施例4
合成経路2による1−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルジフルオロメトキシ)−4−トリフルオロメトキシベンゼン(化合物2においてk=1、l=m=n=0、R1がn−ペンチル基、環A1がトランス−1,4−シクロヘキシレン基、Z1が単結合、Y1、Y2、Y3、およびY4が共に水素原子、R2がトリフルオロメトキシ基である化合物(化合物番号58)の製造である。
Example 4
1- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyldifluoromethoxy) -4-trifluoromethoxybenzene (in compound 2, k = 1, l = m = n = 0, R 1 is n A pentyl group, ring A 1 is a trans-1,4-cyclohexylene group, Z 1 is a single bond, Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 are all hydrogen atoms, and R 2 is a trifluoromethoxy group This is the production of the compound (Compound No. 58).
工程(1)
前記実施例1の工程(1)により4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を製造した。
Process (1)
4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetic acid was prepared by the step (1) of Example 1.
工程(2’)
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびDMAP0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにDCC19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85%。
Process (2 ')
A solution of 24.0 g (80 mmol) of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-cyclohexenyl difluoroacetic acid, 12.2 g (96 mmol) of omadin and 0.49 g (4 mmol) of DMAP in bromotrichloromethane (160 ml) was ice-cooled. A solution of DCC 19.8 g (96 mmol) in bromotrichloromethane (20 ml) was added dropwise over 10 minutes. The mixture was further reacted for 24 hours at the same temperature, and then stirred at 70 ° C. for 30 minutes. After cooling the reaction solution to room temperature, insoluble matters were filtered off, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 17.1 g of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) -1-bromodifluoromethylcyclohexene. . Yield 85%.
工程(4)
前記実施例3の工程(4)に準じた方法で、1−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イルジフルオロメトキシ)−4−トリフルオロメトキシベンゼン21.9gを無色結晶として得た。収率95%。
Process (4)
In the same manner as in Step (4) of Example 3, 21.9 g of 1- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexen-1-yldifluoromethoxy) -4-trifluoromethoxybenzene was obtained as colorless crystals. Got as. Yield 95%.
工程(5)
前記実施例3の工程(5)に準じた方法で、1−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルジフルオロメトキシ)−4−トリフルオロメトキシベンゼン5.50gを得た。収率70%。
Process (5)
By the method according to the step (5) of Example 3, 1.50 g of 1- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyldifluoromethoxy) -4-trifluoromethoxybenzene was obtained. Yield 70%.
実施例5
合成経路7による1−(3−(トランス4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1,1−ジフルオロ−2−プロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物16においてk=1、l=m=n=o=0、R1がn−ペンチル基、環A1、環A5がともにトランス−1,4−シクロヘキシレン基、Z1が単結合、Y1およびY2がともに水素原子、Y3、Y4およびR2がともにフッ素原子である化合物(化合物番号145)の製造である。
Example 5
1- (3- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1,1-difluoro-2-propenyloxy) -3,4,5-trifluorobenzene (k = 1 in compound 16) according to synthetic route 7 , L = m = n = o = 0, R 1 is an n-pentyl group, ring A 1 and ring A 5 are both trans-1,4-cyclohexylene groups, Z 1 is a single bond, Y 1 and Y 2 are This is the production of a compound (compound number 145) in which both hydrogen atom, Y 3 , Y 4 and R 2 are both fluorine atoms.
出発原料である化合物11の製造工程
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol)と4−(トラン−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルアセトアルデヒド46.5g(167mmol)を83mlのTHFに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のTHF(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して3M塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の1−エトキシカルボニルジフルオロメチル−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エタノール69.3gを得た。粗収率103%。これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、3M塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して、E−1−エトキシカルボニルジフルオロメチル−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エチレン59.5gを得た。2段階収率89%。
Production Process of Compound 11 as Starting Material In a nitrogen atmosphere, 13.8 g (217 mmol) of zinc powder and 46.5 g (167 mmol) of 4- (tran-4-pentylcyclohexyl) cyclohexylacetaldehyde were suspended in 83 ml of THF, and bromo at room temperature. A solution of 40.9 g (202 mmol) of ethyl difluoroacetate in THF (84 ml) was added dropwise over 30 minutes. The mixture was heated to maintain the temperature at 50 ° C. and stirred for 5 hours, and then ice-cooled and 73 ml of 3M hydrochloric acid was added to stop the reaction. After separation, the usual post-treatment operation was performed, and the extract was concentrated under reduced pressure to obtain 69.3 g of 1-ethoxycarbonyldifluoromethyl-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethanol in a crude state. It was. Crude yield 103%. This was dissolved in 344 ml of toluene, 66.0 g (835 mmol) of pyridine and then 39.7 g (334 mmol) of thionyl chloride were added and stirred at 80 ° C. for 2.5 hours. After cooling in an ice bath, 334 ml of 3M hydrochloric acid was added to carry out ordinary workup, and the extract was concentrated under reduced pressure. The residue was distilled under reduced pressure to give E-1-ethoxycarbonyldifluoromethyl-2- (trans-4- (trans-4- (trans There was obtained 59.5 g of -4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethylene. Two-stage yield 89%.
工程(12)
E−1−エトキシカルボニルジフルオロメチル−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エチレン101.0g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、3M塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して粗生成物86.4gを得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、E−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エテニルジフルオロ酢酸88.2gを得た。収率94%。
Step (12)
E-1-Ethoxycarbonyldifluoromethyl-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethylene In 101.0 g (252 mmol) of ethanol (504 ml) was added to a solution of 504 ml of 1M aqueous sodium hydroxide solution in ice. The solution was added dropwise over 7 minutes. After stirring for 30 minutes, 252 ml of 3M hydrochloric acid was added to carry out ordinary workup, and the extract was concentrated under reduced pressure to obtain 86.4 g of a crude product. This was recrystallized from 750 ml of heptane to obtain 88.2 g of E-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethenyl difluoroacetic acid. Yield 94%.
工程(13)
E−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エテニルジフルオロ酢酸29.8g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留してE−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エテニルジフルオロアセチルクロリド29.7gを得た。収率95%。
Step (13)
160 ml of thionyl chloride was added to 29.8 g (80 mmol) of E-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethenyl difluoroacetic acid and refluxed for 5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure to remove excess thionyl chloride, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain 29.7 g of E-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethenyl difluoroacetyl chloride. It was. Yield 95%.
工程(14)
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これにE−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エテニルジフルオロアセチルクロリド23.5g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン)で精製して、E−1−ブロモジフルオロメチル−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エチレン20.8gを得た。収率85%。
Step (14)
A suspension of 13.4 g (90 mmol) of sodium omadin in bromotrichloromethane (90 ml) was refluxed, and 23.5 g of E-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethenyl difluoroacetyl chloride was added thereto. A solution of (60 mmol) in bromotrichloromethane (90 ml) was added dropwise over 20 minutes. After further refluxing for 10 minutes, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane) to give E-1-bromodifluoromethyl-2- (trans-4- (trans-4). -20.8 g of pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethylene was obtained. Yield 85%.
工程(15)
3,4,5−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、およびE−1−ブロモジフルオロメチル−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エチレン20.4g(50mmol)のDMH(100ml)懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン)で精製して、1−(3−(トランス4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1,1−ジフルオロ−2−プロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物番号145)22.5gを無色結晶として得た。収率95%。
Step (15)
3,4,5-trifluorophenol 8.15 g (55 mmol), potassium carbonate 7.60 g (55 mmol), tetrabutylammonium bromide 0.806 g (2.5 mmol), and E-1-bromodifluoromethyl-2- (trans-4) -(Trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) A suspension of 20.4 g (50 mmol) of ethylene in DMH (100 ml) was stirred at 115 ° C. for 30 minutes, then cooled and added with water and toluene for normal post-treatment. The extract was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane) to give 1- (3- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1,1-difluoro-2. -Propenyloxy) -3,4,5-trifluorobenzene (Compound No. 145) 22.5 g was obtained as colorless crystals, yield 95%.
実施例6
合成経路8による1−(3−(トランス4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1,1−ジフルオロ−2−プロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物16においてk=1、l=m=n=o=0、R1がn−ペンチル基、環A1、環A5がともにトランス−1,4−シクロヘキシレン基、z1が単結合、Y1およびY2がともに水素原子、Y3、Y4およびR2がともにフッ素原子である化合物(化合物番号145)の製造である。
Example 6
1- (3- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1,1-difluoro-2-propenyloxy) -3,4,5-trifluorobenzene (k = 1 in compound 16) according to synthetic route 8 , L = m = n = o = 0, R 1 is an n-pentyl group, ring A 1 and ring A 5 are both trans-1,4-cyclohexylene groups, z 1 is a single bond, Y 1 and Y 2 are This is the production of a compound (compound number 145) in which both hydrogen atom, Y 3 , Y 4 and R 2 are both fluorine atoms.
工程(12)
前記実施例5の工程(12)によりE−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エテニルジフルオロ酢酸を製造した。
Step (12)
E-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethenyl difluoroacetic acid was prepared by the step (12) of Example 5.
工程(13’)
E−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エテニルジフルオロ酢酸29.8g(80mmol)、オマジン12.2 g(96mmol) およびDMAP0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにDCC19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留してE−1−ブロモジフルオロメチル−2−(トランス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)エチレン20.8gを得た。収率85%。
Step (13 ')
A solution of E-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl) ethenyldifluoroacetic acid 29.8 g (80 mmol), omadin 12.2 g (96 mmol) and DMAP 0.49 g (4 mmol) in bromotrichloromethane (160 ml) Was cooled with ice, and a solution of 19.8 g (96 mmol) of DCC in bromotrichloromethane (20 ml) was added dropwise over 10 minutes. The mixture was further reacted for 24 hours at the same temperature, and then stirred at 70 ° C. for 30 minutes. After cooling the reaction solution to room temperature, insolubles were filtered off, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was distilled under reduced pressure to give E-1-bromodifluoromethyl-2- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl). ) 20.8 g of cyclohexyl) ethylene was obtained. Yield 85%.
工程(15)
前記実施例5の工程(4)に準じた方法で、1−(3−(トランス4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1,1−ジフルオロ−2−プロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物番号145)22.5gを無色結晶として得た。収率95%。
Step (15)
1- (3- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1,1-difluoro-2-propenyloxy) -3,4,5 is prepared by a method according to the step (4) of Example 5. -22.5 g of trifluorobenzene (Compound No. 145) was obtained as colorless crystals, yield 95%.
実施例7
1−(3−(トランス4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル−1,1−ジフルオロプロポキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物12においてk=1、l=m=n=o=0、R1がn−ペンチル基、環A1、環A5がともにトランス−1,4−シクロヘキシレン基、Z1が単結合、Y1およびY2がともに水素原子、Y3、Y4およびR2がともにフッ素原子である化合物(化合物番号106)の製造である。
Example 7
1- (3- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl-1,1-difluoropropoxy) -3,4,5-trifluorobenzene (in compound 12, k = 1, l = m = n = o = 0, R 1 is an n-pentyl group, ring A 1 and ring A 5 are both trans-1,4-cyclohexylene groups, Z 1 is a single bond, Y 1 and Y 2 are both hydrogen atoms, Y 3 , This is the production of a compound (Compound No. 106) in which Y 4 and R 2 are both fluorine atoms.
工程(16)
上記実施例5で得られた1−(3−(トランス4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−1,1−ジフルオロ−2−プロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン8.07g(17mmol)のトルエン(17ml)−エタノール(17ml)溶液に5%パラジウム炭素0.684gを加え、室温、水素原子圧0.5MPaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン)で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の1−(3−(トランス4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル−1,1−ジフルオロプロポキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン5.67gを得た。収率70%。
該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Cr 65.5 (SA 50.76) N 116.9 Iso
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 2.2 (m, 35H), 6.88 (m, 2H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -79.26 (t, 2F, -CF2O-), -133.53〜-133.65 (m, 2F), -165.00〜-165.06 (m, 1F)
GC-MS (EI): 460 (M+, 12.5%), 148 (92.4), 97 (93.6), 83 (100), 81 (55), 69 (54.9), 55 (76.4), 41 (30.7)
Process (16)
1- (3- (trans-4- (trans-4-pentylcyclohexyl) -1,1-difluoro-2-propenyloxy) -3,4,5-trifluorobenzene 8.07 g obtained in Example 5 above ( 17 mmol) in toluene (17 ml) -ethanol (17 ml) was added with 0.684 g of 5% palladium on carbon, and the mixture was stirred for 10 hours at room temperature and at a hydrogen atomic pressure of 0.5 MPa, the catalyst was filtered off from the reaction solution, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. Thereafter, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane), and recrystallized from an equal volume mixture of heptane-ethanol to give colorless crystals of 1- (3- (trans-4- (trans-4-pentyl). Cyclohexyl) cyclohexyl-1,1-difluoropropoxy) -3,4,5-trifluorobenzene 5.67 g was obtained, yield 70%.
The compound showed a liquid crystal phase and showed the transition point described below.
Cr 65.5 (SA 50.76) N 116.9 Iso
The measurement results of various spectral data strongly supported the structure of the compound.
1 H-NMR (δ ppm, CDCl 3 ): 2.2 (m, 35H), 6.88 (m, 2H)
19 F-NMR (δ ppm, CDCl 3 ): -79.26 (t, 2F, -CF 2 O-), -133.53 to -133.65 (m, 2F), -165.00 to -165.06 (m, 1F)
GC-MS (EI): 460 (M + , 12.5%), 148 (92.4), 97 (93.6), 83 (100), 81 (55), 69 (54.9), 55 (76.4), 41 (30.7)
実施例8
合成経路7による1−(3−4’−プロピル−3,5−ジフルオロビフェニル−4−イル)−1,1−ジフルオロプロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(式16においてk=1、l=m=n=o=0、R1がn−プロピル基、環A1が1,4−フェニレン基、環A5が3,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、Z1が単結合、Y1およびY2がともに水素原子、Y3、Y4、およびR2がともにフッ素原子である化合物(化合物番号148)の製造である。
Example 8
1- (3-4′-propyl-3,5-difluorobiphenyl-4-yl) -1,1-difluoropropenyloxy) -3,4,5-trifluorobenzene (in formula 16, k = 1, l = m = n = o = 0, R 1 is an n-propyl group, ring A 1 is a 1,4-phenylene group, ring A 5 is a 3,5-difluoro-1,4-phenylene group, Z 1 Is a single bond, Y 1 and Y 2 are both hydrogen atoms, and Y 3 , Y 4 , and R 2 are both fluorine atoms (Compound No. 148).
出発原料である化合物11の製造工程の第1工程
窒素雰囲気下、3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル23.2g(100mmol)のTHF(300ml) 溶液に-70℃でn−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液)69 ml(110mmol)を滴下した。-70℃にて1時間撹拌後、DMF9.3ml(120mmol)のTHF溶液(100ml)を滴下しさらに1時間撹拌した。反応混合物に1N塩酸200mlを注ぎヘプタンで抽出し、有機層を水200ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液200 ml、水200mlで順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン:トルエン=4:6)で精製し、3,5−ジフルオロ−4−ホルミル−4’−プロピルビフェニル(無色油状)26.0gを得た。収率100%。
First step of production process of compound 11 as starting material In a nitrogen atmosphere, n-butyllithium (1.6%) was added to a solution of 23.2 g (100 mmol) of 3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl in THF (300 ml) at −70 ° C. M hexane solution) 69 ml (110 mmol) was added dropwise. After stirring at -70 ° C. for 1 hour, a THF solution (100 ml) of DMF 9.3 ml (120 mmol) was added dropwise and further stirred for 1 hour. 200 ml of 1N hydrochloric acid was poured into the reaction mixture and the mixture was extracted with heptane. The organic layer was washed successively with 200 ml of water, 200 ml of a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and 200 ml of water, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane: toluene = 4: 6), and 3,5-difluoro-4-formyl-4′-propylbiphenyl (colorless oil) 26.0 g was obtained. Yield 100%.
出発原料である化合物11の製造工程の第2工程
窒素雰囲気下メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド42.2g(130mmol) のTHF溶液(250ml)に0℃でカリウム-tert-ブトキシド14.6g(130mmol)を少量ずつ添加し、1時間室温で撹拌した。再度0℃に冷却後上記で得た3,5−ジフルオロ−4−ホルミル−4’−プロピルビフェニル26.0g(100mmol) のTHF(150ml)溶液を滴下し、室温で2時間撹拌した。反応混合物を200mlの水に注ぎトルエンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン:トルエン=1:10)で精製して、反応物(無色油状)28.8 gを得た。これを全量トルエン200mlに溶解し、ギ酸70mlを加えて6時間還流させた。冷却後、反応液を水200mlに注ぎ、トルエン100mlで抽出し、有機層を水(100mlx3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100mlx2)、水(200mlx1)で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン:トルエン=1:1)で精製し、2−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)アセトアルデヒド(無色油状)26.2gを得た。収率96%。
Second step of the production process of compound 11 as a starting material In a nitrogen atmosphere, 14.6 g (130 mmol) of potassium tert-butoxide was added little by little to a THF solution (250 ml) of 42.2 g (130 mmol) of methoxymethyltriphenylphosphonium chloride at 0 ° C. Added and stirred for 1 hour at room temperature. After cooling again to 0 ° C., a solution of 3,6.0-difluoro-4-formyl-4′-propylbiphenyl 26.0 g (100 mmol) obtained above in THF (150 ml) was added dropwise and stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was poured into 200 ml of water and extracted with toluene, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. After the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane: toluene = 1: 10) to obtain 28.8 g of a reaction product (colorless oil). This was dissolved in a total amount of 200 ml of toluene, and 70 ml of formic acid was added and refluxed for 6 hours. After cooling, the reaction solution was poured into 200 ml of water and extracted with 100 ml of toluene, and the organic layer was washed successively with water (100 ml × 3), saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (100 ml × 2), water (200 ml × 1), and dried over anhydrous magnesium sulfate. . After the solvent was distilled off, the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane: toluene = 1: 1) to give 2- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) acetaldehyde ( 26.2 g of colorless oil) was obtained. Yield 96%.
出発原料である化合物11の製造工程の第3工程
窒素雰囲気下、上記で得た2−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)アセトアルデヒド45.8g(167mmol)をTHF83mlに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のTHF(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して3M塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−3−ヒドロキシ−2,2−ジフルオロブタン酸エチル68.5gを得た。粗収率103%。これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、3M塩酸334 mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して、E−4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−2,2−ジフルオロ−3−ブテン酸エチル56.7gを得た。2段階収率89%。
Third step of production process of compound 11 as starting material In a nitrogen atmosphere, 45.8 g (167 mmol) of 2- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) acetaldehyde obtained above was suspended in 83 ml of THF. Then, a solution of 40.9 g (202 mmol) of ethyl bromodifluoroacetate in THF (84 ml) was added dropwise at room temperature over 30 minutes. The mixture was heated to maintain the temperature at 50 ° C. and stirred for 5 hours, and then ice-cooled and 73 ml of 3M hydrochloric acid was added to stop the reaction. After separation, normal post-treatment is performed, and the extract is concentrated under reduced pressure to give crude 4- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) -3-hydroxy-2,2-difluoro. 68.5 g of ethyl butanoate was obtained. Crude yield 103%. This was dissolved in 344 ml of toluene, 66.0 g (835 mmol) of pyridine and then 39.7 g (334 mmol) of thionyl chloride were added and stirred at 80 ° C. for 2.5 hours. After cooling in an ice bath, 334 ml of 3M hydrochloric acid was added to carry out ordinary post-treatment, the extract was concentrated under reduced pressure, the residue was distilled under reduced pressure, and E-4- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl- 56.7 g of ethyl 4-yl) -2,2-difluoro-3-butenoate was obtained. Two-stage yield 89%.
工程(12)
E−4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−2,2−ジフルオロ−3−ブテン酸エチル95.9g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、3M塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して、粗生成物86.4gを得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、E−4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−2,2−ジフルオロ−3−ブテン酸83.5gを得た。収率94%。
Step (12)
E-4- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) -2,2-difluoro-3-butenoate ethyl 95.9 g (252 mmol) in ethanol (504 ml) in solution with 1M sodium hydroxide 504 ml of the aqueous solution was added dropwise over 7 minutes while cooling with ice. After stirring for 30 minutes, 252 ml of 3M hydrochloric acid was added for normal post-treatment, and the extract was concentrated under reduced pressure to obtain 86.4 g of a crude product. This was recrystallized from 750 ml of heptane to obtain 83.5 g of E-4- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) -2,2-difluoro-3-butenoic acid. Yield 94%.
工程(13)
E−4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−2,2−ジフルオロ−3−ブテン酸28.2g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留してE−4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−2,2−ジフルオロ−3−ブテン酸クロリド30.6gを得た。収率95%。
Step (13)
160 ml of thionyl chloride was added to 28.2 g (80 mmol) of E-4- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) -2,2-difluoro-3-butenoic acid and refluxed for 5 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure to remove excess thionyl chloride, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain E-4- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) -2,2-difluoro- 30.6 g of 3-butenoic acid chloride was obtained. Yield 95%.
工程(14)
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これにE−4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−2,2−ジフルオロ−3−ブテン酸クロリド24.2g(60mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘプタン) で精製して、E−2−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−1−ブロモジフルオロメチルエチレン20.7gを得た。収率85%。
Step (14)
A suspension of 13.4 g (90 mmol) of sodium omadin in bromotrichloromethane (90 ml) was refluxed, and E-4- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) -2,2- A solution of 24.2 g (60 mmol) of difluoro-3-butenoic acid chloride in bromotrichloromethane (90 ml) was added dropwise over 20 minutes. After further refluxing for 10 minutes, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (heptane) to give E-2- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl)- 20.7 g of 1-bromodifluoromethylethylene was obtained. Yield 85%.
工程(15)
3,4,5−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、およびE−2−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−1−ブロモジフルオロメチルエチレン21.6g(50mmol)のDMF(100ml)懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘプタン)で精製して、1−(3−4’−プロピル−3,5−ジフルオロビフェニル−4−イル)−1,1−ジフルオロプロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物番号148)23.7gを無色結晶として得た。収率95%。
この化合物は液晶相を示し、その転移点を以下に記す。
Cr 47.4 N 51.5 Iso
Step (15)
3,4,5-trifluorophenol 8.15 g (55 mmol), potassium carbonate 7.60 g (55 mmol), tetrabutylammonium bromide 0.806 g (2.5 mmol), and E-2- (3,5-difluoro-4′- Propylbiphenyl-4-yl) -1-bromodifluoromethylethylene (21.6 g, 50 mmol) in DMF (100 ml) suspension was stirred at 115 ° C. for 30 minutes, then cooled and added with water and toluene for normal workup. The extract was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; heptane) to give 1- (3-4′-propyl-3,5-difluorobiphenyl-4-yl) -1 , 1-Difluoropropenyloxy) -3,4,5-trifluorobenzene (Compound No. 148) was obtained as colorless crystals. Yield 95%.
This compound exhibits a liquid crystal phase, and its transition point is described below.
Cr 47.4 N 51.5 Iso
なお、各種スペクトルの測定データはその構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm CDCl3): 0.97 (t, J = 7.3 Hz, 3H), 1.67 (m, 2H), 6.65 (dt, J = 6.8, 16.5 Hz, 1H), 6.94 (dd, J = 6.1, 7.7 Hz, 2H), 7.18 (d, 10.1 Hz, 2H), 7.26 (d, 16.5 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.0 Hz, 2H)
13C-NMR (δ ppm CDCl3): 14.2, 24.8, 38.1, 107.5 (d, J = 5.7 Hz), 107.7 (d, J = 5.7 Hz), 121.7 (t, J = 261.5 Hz), 123.9 (t, J = 7.5 Hz), 124.2 (tt, J = 8.7, 32.2 Hz), 126.8, 129.8, 135.7, 137.6 (t, J = 15.9 Hz), 139.5 (t, J = 15.0 Hz), 143.3, 144.8 (dd, J = 5.8, 10.8 Hz), 152.4 (dd, J = 5.5, 10.6 Hz), 161.0 (d, J = 7.9 Hz), 163.0 (d, J = 8.1 Hz)
19F-NMR (δ ppm CDCl3): -68.1 (d, J = 6.2 Hz), -111.9 (d, J = 10.4 Hz), -133.2 (m), -164.3 (m)
GC-MS (EI), m/z (%): 454 (M+, 1), 309 (2), 308 (21), 307 (100), 279 (3), 278 (13), 277 (2), 259 (3)
The measurement data of various spectra strongly supported the structure.
1 H-NMR (δ ppm CDCl 3 ): 0.97 (t, J = 7.3 Hz, 3H), 1.67 (m, 2H), 6.65 (dt, J = 6.8, 16.5 Hz, 1H), 6.94 (dd, J = 6.1, 7.7 Hz, 2H), 7.18 (d, 10.1 Hz, 2H), 7.26 (d, 16.5 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.0 Hz, 2H )
13 C-NMR (δ ppm CDCl 3 ): 14.2, 24.8, 38.1, 107.5 (d, J = 5.7 Hz), 107.7 (d, J = 5.7 Hz), 121.7 (t, J = 261.5 Hz), 123.9 (t , J = 7.5 Hz), 124.2 (tt, J = 8.7, 32.2 Hz), 126.8, 129.8, 135.7, 137.6 (t, J = 15.9 Hz), 139.5 (t, J = 15.0 Hz), 143.3, 144.8 (dd , J = 5.8, 10.8 Hz), 152.4 (dd, J = 5.5, 10.6 Hz), 161.0 (d, J = 7.9 Hz), 163.0 (d, J = 8.1 Hz)
19 F-NMR (δ ppm CDCl 3 ): -68.1 (d, J = 6.2 Hz), -111.9 (d, J = 10.4 Hz), -133.2 (m), -164.3 (m)
GC-MS (EI), m / z (%): 454 (M + , 1), 309 (2), 308 (21), 307 (100), 279 (3), 278 (13), 277 (2 ), 259 (3)
実施例9
合成経路8による1−(3−4’−プロピル−3,5−ジフルオロビフェニル−4−イル)−1,1−ジフルオロプロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(式16においてk=1、l=m=n=o=0、R1がn−プロピル基、環A1が1,4−フェニレン基、環A5が3,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、Z1が単結合、Y1およびY2がともに水素原子、Y3、Y4およびR2がともにフッ素原子である化合物(化合物番号148)の製造である。
Example 9
1- (3-4′-propyl-3,5-difluorobiphenyl-4-yl) -1,1-difluoropropenyloxy) -3,4,5-trifluorobenzene (in formula 16, k = 1, l = m = n = o = 0, R 1 is an n-propyl group, ring A 1 is a 1,4-phenylene group, ring A 5 is a 3,5-difluoro-1,4-phenylene group, Z 1 Is a single bond, Y 1 and Y 2 are both hydrogen atoms, and Y 3 , Y 4 and R 2 are both fluorine atoms (Compound No. 148).
工程(12)
前記実施例8工程(12)に準じた方法で、E−4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−2,2−ジフルオロ−3−ブテン酸を製造した。
Step (12)
E-4- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) -2,2-difluoro-3-butenoic acid was produced by a method according to Example 8 step (12).
工程(13’)
E−4−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−2,2−ジフルオロ−3−ブテン酸28.2g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびDMAP0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにDCC19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留してE−2−(3,5−ジフルオロ−4’−プロピルビフェニル−4−イル)−1−ブロモジフルオロメチルエチレン20.7gを得た。収率85%。
Step (13 ')
E-4- (3,5-Difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl) -2,2-difluoro-3-butenoic acid 28.2 g (80 mmol), 12.2 g (96 mmol) omadin and 0.49 g (4 mmol) DMAP ) In bromotrichloromethane (160 ml) was ice-cooled, and a solution of DCC 19.8 g (96 mmol) in bromotrichloromethane (20 ml) was added dropwise over 10 minutes. The mixture was further reacted for 24 hours at the same temperature, and then stirred at 70 ° C. for 30 minutes. After cooling the reaction solution to room temperature, insolubles were filtered off, the filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain E-2- (3,5-difluoro-4′-propylbiphenyl-4-yl)- 20.7 g of 1-bromodifluoromethylethylene was obtained. Yield 85%.
工程(15)
前記実施例8工程(15)に準じた方法で、の1−(3−4’−プロピル−3,5−ジフルオロビフェニル−4−イル)−1,1−ジフルオロプロペニルオキシ)−3,4,5−トリフルオロベンゼン(化合物番号148)23.7gを無色結晶として得た。収率95%。
Step (15)
1- (3-4′-propyl-3,5-difluorobiphenyl-4-yl) -1,1-difluoropropenyloxy) -3,4, in a manner similar to Example 8 step (15). 23.7 g of 5-trifluorobenzene (Compound No. 148) was obtained as colorless crystals. Yield 95%.
上記実施例1〜4および7に示した方法に準じて、例えば以下のジフルオロメチルエーテル誘導体(化合物番号41〜131)が好適に製造できる。なお、実施例1〜4および7の化合物についても併せて示した。 In accordance with the methods shown in Examples 1 to 4 and 7, for example, the following difluoromethyl ether derivatives (Compound Nos. 41 to 131) can be preferably produced. The compounds of Examples 1 to 4 and 7 are also shown.
上記実施例5、6、および実施例8に示した方法に準じ、例えば以下の1,1−ジフルオロ−2−プロペニルオキシ基を結合基に有する化合物(化合物番号132〜182)が好適に製造できる。なお、実施例5、6、および8の化合物についても併せて示した。 According to the methods shown in Examples 5 and 6 and Example 8 above, for example, the following compounds (compound numbers 132 to 182) having the following 1,1-difluoro-2-propenyloxy group as a linking group can be preferably produced. . The compounds of Examples 5, 6, and 8 are also shown.
Claims (9)
工程(12):式11で表されるエチレンジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式13で表されるカルボン酸を製造する。
工程(13):式13で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式14で表される酸塩化物を製造する。
工程(14):式14で表される酸塩化物に、N−ヒドロキシピリジンチオンナトリウム塩とブロモトリクロロメタンを反応させて、式15で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程(15):塩基の存在下、式15で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、式Pで表されるフェノール化合物と反応させて、式16で表されるエチレンジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程(16):式16で表されるエチレンジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式12で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数1〜20のアルキル基であり、アルキル基中の少なくとも1つの−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−で置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、アルキル基中の少なくとも1つの水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく;R3は、1価の有機基または無機基であり;環A1、環A2、環A3、A4および環A5はそれぞれ独立して、少なくとも1つの−CH2−が−O−、−S−で置き換えられてもよい1,4−シクロヘキシレン基、少なくとも1つの=CH−が=N−で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基、または環上の少なくとも1つの水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数1〜10のアルキル基で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基であり;Z1、Z2、Z3、およびZ4はそれぞれ独立して、単結合または炭素数1〜4のアルキレン基であり、アルキレン基中の少なくとも1つの−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−で置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、アルキレン基中の少なくとも1つの水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく;Y1、Y2、Y3、およびY4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数1〜10のアルキル基であり;k、l、m、およびnはそれぞれ独立して、0または1であり、oは0〜10の整数である。 A process for producing a difluoromethyleneoxy derivative represented by formula 12, wherein an ethylenedifluoroacetate derivative represented by formula 11 having five steps of steps (12) to (16) is used as a starting material.
Step (12): Ethylene difluoroacetate represented by Formula 11 is hydrolyzed to produce a carboxylic acid represented by Formula 13.
Step (13): The carboxylic acid represented by Formula 13 is reacted with thionyl chloride to produce the acid chloride represented by Formula 14.
Step (14): The acid chloride represented by formula 14 is reacted with N-hydroxypyridinethione sodium salt and bromotrichloromethane to produce a bromodifluoromethyl derivative represented by formula 15.
Step (15): the presence of a base, bromo difluoromethyl derivative of formula 15, is reacted with a phenol compound represented by the formula P, and produce ethylene difluoromethyleneoxy derivative of formula 16.
Step (16): The ethylenedifluoromethyleneoxy derivative represented by Formula 16 is reduced with hydrogen to produce the difluoromethyleneoxy derivative represented by Formula 12.
In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and at least one —CH 2 — in the alkyl group is —O—. , -S-, -CH = CH-, or -C≡C-, but -O- is not consecutive, and at least one hydrogen atom in the alkyl group is replaced by a fluorine atom. R 3 is a monovalent organic group or inorganic group; Ring A 1 , Ring A 2 , Ring A 3 , A 4 and Ring A 5 are each independently at least one —CH 2 —. , -O-, -S-, a 1,4-cyclohexylene group optionally substituted with at least one ═CH- with ═N—, or at least on the ring One hydrogen atom is a fluorine atom, cyano Or an alkyl replaced by or 1,4-phenylene group with a group having 1 to 10 carbon atoms; Z 1, Z 2, Z 3, and Z 4 are each independently a single bond or a 1 to 4 carbon atoms Wherein at least one —CH 2 — in the alkylene group may be replaced by —O—, —S—, —CH═CH—, or —C≡C—, And at least one hydrogen atom in the alkylene group may be replaced with a fluorine atom; Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, cyano Or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; k, l, m, and n are each independently 0 or 1, and o is an integer of 0 to 10.
工程(13’):式13で表されるカルボン酸に、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドおよび4−ジメチルアミノピリジンの存在下、N−ヒドロキシピリジンチオンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式15で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
In the series of steps (12) to (16) according to claim 1, the step (13 ′) is provided instead of the steps (13) and (14), and four steps are combined, that is, (12) (13 ′). (15) A process for producing a difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 12 according to claim 1, which comprises (16).
Step (13 ′): The carboxylic acid represented by Formula 13 is reacted with N-hydroxypyridinethione and bromotrichloromethane in the presence of N, N′-dicyclohexylcarbodiimide and 4-dimethylaminopyridine to obtain Formula 15 The represented bromodifluoromethyl derivative is prepared.
工程(17):式15で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式17で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメチルアルカン誘導体を製造する。
工程(18):塩基の存在下で、式17で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメチルアルカン誘導体を請求項1工程(15)記載の式Pで表されるフェノール化合物と反応させて、式2で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数1〜20のアルキル基であり、アルキル基中の少なくとも1つの−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−で置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、アルキル基中の少なくとも1つの水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく;環A1、環A2および環A5はそれぞれ独立して、少なくとも1つの−CH2−が−O−、−S−で置き換えられてもよい1,4−シクロヘキシレン基、少なくとも1つの=CH−が=N−で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基、または環上の少なくとも1つの水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数1〜10のアルキル基で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基であり;Z1およびZ2はそれぞれ独立して、単結合または炭素数1〜4のアルキレン基であり、アルキレン基中の少なくとも1つの−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−で置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、アルキレン基中の少なくとも1つの水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく;kおよびlはそれぞれ独立して、0または1であり、oは0〜10の整数である。 After the steps described (12) to (14) in claim 1, step (17) and (18) have, together with five of the method for manufacturing difluoromethyleneoxy derivative according to claim 1 having a step.
Step (17): The bromodifluoromethyl derivative represented by Formula 15 is reduced with hydrogen to produce a cyclohexyl bromodifluoromethylalkane derivative represented by Formula 17.
Step (18): In the presence of a base, the cyclohexyl bromodifluoromethylalkane derivative represented by the formula 17 is reacted with the phenol compound represented by the formula P according to the step ( 15 ) of claim 1 to obtain The difluoromethyleneoxy derivative is produced.
In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and at least one —CH 2 — in the alkyl group is —O—, —S—, —CH. ═CH— or —C≡C— may be substituted, but —O— is not consecutive, and at least one hydrogen atom in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom ; ring A 1 , Ring A 2 and ring A 5 are each independently a 1,4-cyclohexylene group in which at least one —CH 2 — may be replaced by —O— or —S—, and at least one ═CH— 1,4-phenylene group which may be replaced by ═N—, or 1,4-phenylene group in which at least one hydrogen atom on the ring may be replaced by a fluorine atom, a cyano group or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms A phenylene group; 1 and Z 2 are each independently a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, at least one -CH 2 in the alkylene group - is -O -, - S -, - CH = CH-, Alternatively, -C≡C- may be substituted, but -O- is not continuous, and at least one hydrogen atom in the alkylene group may be replaced by a fluorine atom; k and l are each independently And 0 is an integer of 0-10.
工程(19):式11で表されるエチレンジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式18で表されるエチルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程(20):式18で表されるエチルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式19で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程(21):式19で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式20で表される酸塩化物を製造する。
工程(22):式20で表される酸塩化物に、N−ヒドロキシピリジンチオンナトリウム塩とブロモトリクロロメタンを反応させて式17で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数1〜20のアルキル基であり、アルキル基中の少なくとも1つの−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−で置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、アルキル基中の少なくとも1つの水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく;R3は、1価の有機基または無機基であり;環A1、環A2および環A5はそれぞれ独立して、少なくとも1つの−CH2−が−O−、−S−で置き換えられてもよい1,4−シクロヘキシレン基、少なくとも1つの=CH−が=N−で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基、または環上の少なくとも1つの水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数1〜10のアルキル基で置き換えられてもよい1,4−フェニレン基であり;Z1、およびZ2はそれぞれ独立して、単結合または炭素数1〜4のアルキレン基であり、アルキレン基中の少なくとも1つの−CH2−は−O−、−S−、−CH=CH−、または−C≡C−で置き換えられてもよいが、−O−が連続することはなく、アルキレン基中の少なくとも1つの水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく;kおよびlはそれぞれ独立して、0または1であり、oは0〜10の整数である。 After the steps (19) to (22), the difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 12 described in claim 1 has the step (18) according to claim 3 and has five steps in total. Production method.
Step (19): Ethylene difluoroacetate represented by Formula 11 is reduced with hydrogen to produce an ethyl difluoroacetate derivative represented by Formula 18.
Step (20): The ethyldifluoroacetic acid ester derivative represented by Formula 18 is hydrolyzed to produce a carboxylic acid derivative represented by Formula 19.
Step (21): The carboxylic acid derivative represented by Formula 19 is reacted with thionyl chloride to produce an acid chloride represented by Formula 20.
Step (22): The acid chloride represented by formula 20 is reacted with N-hydroxypyridinethione sodium salt and bromotrichloromethane to produce a cyclohexyl bromodifluoromethane derivative represented by formula 17.
In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and at least one —CH 2 — in the alkyl group is —O—, —S—, —CH. = CH-, or it may be replaced by -C≡C-, but never -O- is continuous, at least one hydrogen atom may be replaced by fluorine atom in the alkyl group; R 3 is A monovalent organic group or an inorganic group; ring A 1 , ring A 2, and ring A 5 may each independently have at least one —CH 2 — replaced by —O— or —S—. 1,4-cyclohexylene group, 1,4-phenylene group in which at least one ═CH— may be replaced by ═N—, or at least one hydrogen atom on the ring is a fluorine atom, cyano group or carbon number 1 Replaced with -10 alkyl groups Each of Z 1 and Z 2 independently represents a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and at least one —CH 2 — in the alkylene group. May be replaced by —O—, —S—, —CH═CH—, or —C≡C—, but —O— is not continuous, and at least one hydrogen atom in the alkylene group is fluorine. May be replaced by an atom; k and l are each independently 0 or 1, and o is an integer from 0 to 10;
工程(21’):式19で表されるカルボン酸誘導体に、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドおよび4−ジメチルアミノピリジンの存在下、N−ヒドロキシピリジンチオンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式17で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
In the series of steps (19) to (22) (18) according to claim 5, the step (21 ′) is provided instead of the steps (21) and (22), and a total of four steps, that is, (19) (20) The method for producing a difluoromethyleneoxy derivative represented by the formula 12 according to claim 1, which has (21 ′) (18).
Step (21 ′): The carboxylic acid derivative represented by the formula 19 is reacted with N-hydroxypyridinethione and bromotrichloromethane in the presence of N, N′-dicyclohexylcarbodiimide and 4-dimethylaminopyridine to obtain the formula 17 A bromodifluoromethyl derivative represented by the formula:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009064947A JP5126128B2 (en) | 2009-03-17 | 2009-03-17 | Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009064947A JP5126128B2 (en) | 2009-03-17 | 2009-03-17 | Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003063139A Division JP4378979B2 (en) | 2003-03-10 | 2003-03-10 | Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009132740A JP2009132740A (en) | 2009-06-18 |
JP5126128B2 true JP5126128B2 (en) | 2013-01-23 |
Family
ID=40864952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009064947A Expired - Fee Related JP5126128B2 (en) | 2009-03-17 | 2009-03-17 | Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5126128B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6555144B2 (en) * | 2016-02-01 | 2019-08-07 | Jnc株式会社 | Liquid crystal compound, liquid crystal composition, and liquid crystal display device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3646399B2 (en) * | 1996-04-10 | 2005-05-11 | チッソ株式会社 | Liquid crystal compound having fluorine-substituted bond group, liquid crystal composition, and liquid crystal display device |
JP3800051B2 (en) * | 2000-08-10 | 2006-07-19 | チッソ株式会社 | Liquid crystalline compound, liquid crystal composition and liquid crystal display element having difluoropropyleneoxy group as bonding group |
JP4734579B2 (en) * | 2000-08-10 | 2011-07-27 | Jnc株式会社 | Difluoromethyl ether derivative and process for producing the same |
JP4161663B2 (en) * | 2002-09-27 | 2008-10-08 | チッソ株式会社 | Liquid crystalline compounds, liquid crystal compositions and liquid crystal display devices having difluoromethyl and trifluoromethyl groups on the benzene ring |
JP4442179B2 (en) * | 2002-10-10 | 2010-03-31 | チッソ株式会社 | Allyl ether compound, liquid crystal composition containing this compound, and liquid crystal display device containing this liquid crystal composition |
-
2009
- 2009-03-17 JP JP2009064947A patent/JP5126128B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009132740A (en) | 2009-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4734579B2 (en) | Difluoromethyl ether derivative and process for producing the same | |
US6231785B1 (en) | Benzene derivative and its production method | |
US6475595B1 (en) | Fluorocyclohexene derivatives, and liquid-crystalline medium | |
JP2006241040A (en) | Difluoro derivative production method using substituted difluoroacetic acid | |
JP4887605B2 (en) | Chroman derivative and liquid crystal composition containing the compound | |
JP4378979B2 (en) | Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group | |
JPWO2008111417A1 (en) | 1- (trifluoromethyl) naphthalene derivative | |
US8273420B2 (en) | Liquid crystal compound and process for production thereof, liquid crystal composition, and liquid crystal electrooptical element | |
JP4104350B2 (en) | Method for producing difluorobenzyl bromide derivative and difluorobenzyl ether derivative | |
JP5126128B2 (en) | Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group | |
JP5678615B2 (en) | Fluorinated compound having bicyclooctane structure and liquid crystal composition thereof | |
JP4963863B2 (en) | Novel compound and liquid crystal composition containing the compound | |
JP2009132741A (en) | Method for producing liquid crystal compound having difluoromethyleneoxy group | |
JP4835032B2 (en) | Trifluoronaphthalene derivative | |
Kanie et al. | A Facile Synthesis of Novel Liquid Crystalline Materials Having a Trifluorornethoxy Group and Their Electro-Optical Properties. | |
JP2843629B2 (en) | Chiral or non-chiral cyclic compounds | |
JP2002105003A (en) | Dialkyne compound | |
JP5763937B2 (en) | Liquid crystal compound, method for producing the same, liquid crystal composition, and liquid crystal electro-optical element | |
JP5680381B2 (en) | Liquid crystal compound, method for producing the same, liquid crystal composition, and liquid crystal electro-optical element | |
JP3598469B2 (en) | Trifluoromethylbenzene derivatives and liquid crystal compositions containing them | |
JP2013241401A (en) | Production method of liquid crystal compound, and intermediate thereof | |
JP5519955B2 (en) | Process for producing fluorine-containing compound and intermediate | |
JPH1017544A (en) | Thion-o-ester derivative and its production | |
JP5763938B2 (en) | Liquid crystal compound, method for producing the same, liquid crystal composition, and liquid crystal electro-optical element | |
JPH0640968A (en) | Butene derivative |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090318 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20110331 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120326 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120911 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121002 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121015 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5126128 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |