JP5117949B2

JP5117949B2 - Vane pump

Info

Publication number: JP5117949B2
Application number: JP2008187033A
Authority: JP
Inventors: 政昭西方; 毅日下部; 悦夫松木; 司法上; 山本　　憲
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2008-07-18
Filing date: 2008-07-18
Publication date: 2013-01-16
Anticipated expiration: 2028-07-18
Also published as: JP2010024943A

Description

本発明は、ベーンポンプに関する。 The present invention relates to a vane pump.

従来のベーンポンプと同様の構成を有するロータリ式圧縮機として、特許文献１に開示されるものが知られている。特許文献１に開示されるロータリ式圧縮機では、回転部の回転軸方向に積層されたケーシング構成部材によって略一定高さの扁平なスペースが形成され、このスペース内に、円柱状の回転部と、当該回転部に放射状に形成されたスリットに突没可能に挿入されたベーンとが、収容されている。回転部を回転させると、ベーンによって区画される複数のポンプ室の容積がそれぞれ周期的に増減し、これにより、各ポンプ室に流体が吸入されて吐出されるようになっている。
特開昭６４−７７７８３号公報 As a rotary compressor having a configuration similar to that of a conventional vane pump, one disclosed in Patent Document 1 is known. In the rotary compressor disclosed in Patent Document 1, a flat space having a substantially constant height is formed by casing constituent members stacked in the direction of the rotation axis of the rotating portion, and in this space, a cylindrical rotating portion and The vanes inserted in the slits radially formed in the rotating part so as to protrude and retract are accommodated. When the rotating part is rotated, the volumes of the plurality of pump chambers partitioned by the vanes are periodically increased and decreased, whereby fluid is sucked into and discharged from each pump chamber.
JP-A 64-77783

上記特許文献１の構成では、ベーンの厚み寸法に対して当該ベーンが収容される空間の高さ寸法が大きい場合には、回転部やベーンが軸方向に往復動し、振動が大きくなって騒音が生じたり、摩耗が促進されたり、リークが大きくなってポンプ効率が低下する等の問題が生じる虞がある。これらの問題は、ベーンの厚み寸法と空間の高さ寸法とを個々に計測し、組み合わせる部品を選択すれば抑制することができるが、そうすると、組み付けに手間がかかってしまう。 In the configuration of Patent Document 1, when the height dimension of the space in which the vane is accommodated is larger than the thickness dimension of the vane, the rotating part and the vane reciprocate in the axial direction, resulting in increased vibration and noise. May occur, wear may be accelerated, leakage may increase, and pump efficiency may decrease. These problems can be suppressed by individually measuring the thickness dimension of the vane and the height dimension of the space, and selecting the parts to be combined.

そこで、本発明は、ベーンの軸方向の往復動を低減することが可能なベーンポンプを得ることを目的とする。 Then, an object of this invention is to obtain the vane pump which can reduce the reciprocation of the axial direction of a vane.

請求項１の発明にあっては、ケーシング内で回転する回転部の基体部に当該回転部の回転軸に対して放射状に伸びて径外方向および前記回転軸の軸方向一方側に開口する複数のスリットを形成し、各スリットにベーンを突没可能に収容し、ケーシング内で上記基体部の周囲に形成された環状室を上記複数のベーンで区画して複数のポンプ室を形成し、回転部を回転させることで上記ポンプ室の容積を周期的に増減させて当該ポンプ室に吸入した流体を吐出するように構成したベーンポンプにおいて、上記スリットの上記回転軸の周方向の両側の側面に、当該スリット内に導入開口で開口する流体通路を、上記基体部に形成し、上記基体部に形成された上記流体通路における上記スリット内に開口する上記導入開口と反対側の他端は、上記基体部の外周側端部に開口し、上記ポンプ室内の作動流体が上記基体部の外周側端部の開口より導入され上記導入開口より上記スリット内に導入され、上記ベーンの長手方向において、上記ベーンの各側面と天面との間の角部をそれぞれ面取りした上記傾斜面を形成し、上記基体部に、上記回転軸の軸方向他方側で上記ベーンを摺動可能に支持するガイド壁部を設けたことを特徴とする。 In the first aspect of the present invention, a plurality of base portions of the rotating portion that rotate within the casing extend radially with respect to the rotating shaft of the rotating portion and open to the radially outward direction and one axial direction of the rotating shaft. The slits are formed so that the vanes can be projected and retracted in the slits, and the annular chamber formed around the base in the casing is divided by the plurality of vanes to form a plurality of pump chambers. In the vane pump configured to periodically increase / decrease the volume of the pump chamber by rotating the part and discharge the fluid sucked into the pump chamber, on the side surfaces on both sides in the circumferential direction of the rotary shaft of the slit, A fluid passage that opens at the introduction opening in the slit is formed in the base portion, and the other end opposite to the introduction opening that opens in the slit in the fluid passage formed in the base portion is the base portion. The working fluid in the pump chamber is introduced from the opening at the outer peripheral side end of the base body and introduced into the slit from the introduction opening, and in the longitudinal direction of the vane, The inclined surface with chamfered corners between each side surface and the top surface is formed, and a guide wall portion that slidably supports the vane on the other axial side of the rotating shaft is provided on the base portion. It is characterized by that.

請求項１の発明によれば、スリット内に導入した流体の圧力でベーンをガイド壁部に押し付けることができるため、ベーンが軸方向に往復動するのを抑制することができる。また、流体の圧力を作用させる傾斜面を周方向の両側に形成したため、スリット内でのベーンのバランスを向上させて、ベーンのがたつきを抑制することができる。 According to the present invention, it is possible to press the guide wall vanes at a pressure of fluid introduced into the slit, it is possible to suppress the vanes to reciprocate in the axial direction. Moreover, since the inclined surfaces on which the pressure of the fluid acts are formed on both sides in the circumferential direction, the balance of the vanes in the slit can be improved and the rattling of the vanes can be suppressed.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の実施形態および複数の変形例には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素については、重複する説明を省略し、共通の符号を付与することとする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiment and the plurality of modifications include similar components. Therefore, below, about the same component, the overlapping description is abbreviate | omitted and suppose that a common code is provided.

（第１実施形態）図１は、本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図、図２は、ベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図、図３は、ベーンポンプの分解斜視図、図４は、図２の一部の拡大図、図５は、図１のV−V断面図、図６は、ベーンの斜視図である。なお、以下では、便宜上、図２，図３，図４の上側を回転軸Ａｘの軸方向一方側、下側を軸方向他方側とする。 (First Embodiment) FIG. 1 is a cross-sectional view of a vane pump according to a first embodiment of the present invention in a cross-section orthogonal to the rotation axis, FIG. 2 is a cross-sectional view of the vane pump including a rotation axis, FIG. FIG. 4 is an exploded perspective view of the vane pump, FIG. 4 is an enlarged view of a part of FIG. 2, FIG. 5 is a sectional view taken along line VV of FIG. In the following, for the sake of convenience, the upper side of FIGS. 2, 3, and 4 is defined as one axial side of the rotation axis Ax, and the lower side is defined as the other axial direction side.

まずは、図１を参照して、ベーンポンプ１の作動流体の吸入および吐出に関わる構成について説明する。 First, with reference to FIG. 1, the structure regarding the suction | inhalation and discharge of the working fluid of the vane pump 1 is demonstrated.

本実施形態にかかるベーンポンプ１では、図１に示すように、ケーシング２内で、円環状のリング３の略円筒状の内周面３ａと回転軸Ａｘを中心に回転する回転部４の略円柱状の基体部５の外周面５ａとの間に、作動流体（液体）を収容する環状室６が形成されている。環状室６の幅ｗは、回転軸Ａｘの周方向に沿って変化している。本実施形態では、内周面３ａの中心Ｃと回転軸Ａｘとを平行にずらして、リング３の内周面３ａと回転部４の基体部５とを偏心させてある。このため、環状室６の幅ｗは、図１の右端の位置で最小となり、当該右端の位置から時計回り方向に徐々に拡がって左端の位置で最大となり、当該左端の位置から右端の位置に向けて時計回り方向に徐々に狭まって最小となっている。 In the vane pump 1 according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, in the casing 2, a substantially circular shape of the rotating portion 4 that rotates around the substantially cylindrical inner peripheral surface 3 a of the annular ring 3 and the rotation axis Ax. An annular chamber 6 for storing a working fluid (liquid) is formed between the outer peripheral surface 5 a of the columnar base portion 5. The width w of the annular chamber 6 changes along the circumferential direction of the rotation axis Ax. In the present embodiment, the center C of the inner peripheral surface 3a and the rotation axis Ax are shifted in parallel so that the inner peripheral surface 3a of the ring 3 and the base portion 5 of the rotating portion 4 are eccentric. For this reason, the width w of the annular chamber 6 is minimum at the right end position in FIG. 1, gradually increases in the clockwise direction from the right end position, and becomes maximum at the left end position, from the left end position to the right end position. It gradually becomes narrower gradually in the clockwise direction.

基体部５には、回転部４の回転軸Ａｘに対して放射状に伸びて径外方向に開口する複数（本実施形態では４つ）のスリット７が形成されており、各スリット７には略角棒状または略帯板状のベーン８が突没可能に収容されている。ベーン８は、回転部４の回転に伴って生じる遠心力とスリット７内の回転軸Ａｘ側に導入される作動流体の与圧によって、スリット７内で径外方向に付勢されている。このため、ベーン８は内周面３ａと摺接しながら回転部４とともに回転することになる。 A plurality of (four in the present embodiment) slits 7 are formed in the base portion 5 so as to extend radially outward with respect to the rotation axis Ax of the rotating portion 4 and open in the radially outward direction. A rectangular bar-like or substantially strip-like vane 8 is accommodated so as to protrude and retract. The vane 8 is urged radially outward in the slit 7 by the centrifugal force generated with the rotation of the rotating portion 4 and the pressurization of the working fluid introduced to the rotation axis Ax side in the slit 7. For this reason, the vane 8 rotates together with the rotating portion 4 while being in sliding contact with the inner peripheral surface 3a.

環状室６は、周方向に一定のピッチで配置された複数のベーン８によって、同数（本実施形態では４つ）のポンプ室９に区画されている。回転部４およびベーン８の回転に伴い、ポンプ室９の容積は、環状室６の幅ｗの変化に従って変化することになる。すなわち、各ポンプ室９の容積は、図１の右端の位置で最小となっている。そして、回転部４の回転方向ＲＤ（図１の時計回り方向）への回転に伴って漸増し、左端の位置で最大となる。その位置からさらに回転部４が時計回り方向に回転すると、ポンプ室９の容積は漸減し、右端の位置で最小となる。つまり、本実施形態では、回転部４の１周回のうち図１の下半分の区間でポンプ室９の容積が拡大し、上半分の区間でポンプ室９の容積が縮小する。このため、リング３の内周面３ａおよびケーシング２（第１のケーシング１０）に、ポンプ室９の容積が拡大する区間に臨ませて吸入開口１１を設けるとともに、ポンプ室９の容積が縮小する区間に臨ませて吐出開口１２を設けてある。吸入開口１１は、第１のケーシング１０の側面上に突設された吸入パイプ１３内の吸入通路１４と連通し、吐出開口１２は、吸入パイプ１３と平行に突設された吐出パイプ１５内の吐出通路１６と連通している。 The annular chamber 6 is divided into the same number (four in this embodiment) of pump chambers 9 by a plurality of vanes 8 arranged at a constant pitch in the circumferential direction. With the rotation of the rotating unit 4 and the vane 8, the volume of the pump chamber 9 changes according to the change in the width w of the annular chamber 6. That is, the volume of each pump chamber 9 is minimum at the right end position in FIG. And it increases gradually with the rotation to the rotation direction RD (clockwise direction of FIG. 1) of the rotation part 4, and becomes the maximum in the position of a left end. When the rotating unit 4 further rotates in the clockwise direction from that position, the volume of the pump chamber 9 gradually decreases and becomes the minimum at the right end position. That is, in this embodiment, the volume of the pump chamber 9 is expanded in the lower half section of FIG. 1 in one rotation of the rotating unit 4, and the volume of the pump chamber 9 is decreased in the upper half section. Therefore, the suction opening 11 is provided on the inner peripheral surface 3a of the ring 3 and the casing 2 (first casing 10) so as to face the section in which the volume of the pump chamber 9 increases, and the volume of the pump chamber 9 is reduced. A discharge opening 12 is provided facing the section. The suction opening 11 communicates with the suction passage 14 in the suction pipe 13 projecting on the side surface of the first casing 10, and the discharge opening 12 is in the discharge pipe 15 projecting in parallel with the suction pipe 13. It communicates with the discharge passage 16.

したがって、図１において、回転部４が回転方向ＲＤに回転すると、隣接する２枚のベーン８によって区画されるポンプ室９は、右端の位置から容積を拡大させながら左端の位置まで移動する。このため、吸入通路１４から吸入開口１１を介してポンプ室９内に作動流体が流入する。そして、ポンプ室９は、左端の位置から容積を縮小しながら右端の位置まで移動する。このため、当該ポンプ室９から吐出開口１２を介して吐出通路１６に作動流体が流出する。複数のポンプ室９についてこのような作動流体の流入および流出が順次行われ、以て、ベーンポンプ１による連続的な作動流体の吸入および吐出が実現されている。 Therefore, in FIG. 1, when the rotating unit 4 rotates in the rotation direction RD, the pump chamber 9 partitioned by the two adjacent vanes 8 moves from the right end position to the left end position while increasing the volume. Therefore, the working fluid flows into the pump chamber 9 from the suction passage 14 via the suction opening 11. The pump chamber 9 moves from the left end position to the right end position while reducing the volume. For this reason, the working fluid flows out from the pump chamber 9 to the discharge passage 16 through the discharge opening 12. Such inflow and outflow of the working fluid are sequentially performed with respect to the plurality of pump chambers 9, and thus continuous suction and discharge of the working fluid by the vane pump 1 is realized.

次に、図１〜図６を参照して、本実施形態にかかるベーンポンプ１の各部の構成を詳細に説明する。 Next, with reference to FIGS. 1-6, the structure of each part of the vane pump 1 concerning this embodiment is demonstrated in detail.

図２に示すように、回転部４の基体部５に形成されたスリット７は、軸方向他方側で、底壁部１７によって塞がれており、ベーン８は、この底壁部１７と摺接しながらスリット７内を往復動するようになっている。すなわち、本実施形態では、この底壁部１７がベーン８を軸方向他方側で径方向にガイドするガイド壁部に相当するものである。なお、底壁部１７には、スリット７の径内側に連通する連通孔１７ａが形成されており、この連通孔１７ａを介してスリット７内に、底壁部１７の裏側（軸方向他方側）から作動流体の与圧が導入されるようになっている。 As shown in FIG. 2, the slit 7 formed in the base portion 5 of the rotating portion 4 is closed by the bottom wall portion 17 on the other side in the axial direction, and the vane 8 slides on the bottom wall portion 17. It reciprocates in the slit 7 in contact. That is, in the present embodiment, the bottom wall portion 17 corresponds to a guide wall portion that guides the vane 8 in the radial direction on the other side in the axial direction. The bottom wall portion 17 is formed with a communication hole 17a communicating with the inner diameter of the slit 7, and the back side (the other side in the axial direction) of the bottom wall portion 17 is formed in the slit 7 through the communication hole 17a. From the above, a pressurized pressure of the working fluid is introduced.

底壁部１７は、回転軸Ａｘを中心とし当該回転軸Ａｘと直交する円板状に形成されており、基体部５の外周面５ａより外側までフランジ状に張り出している。そして、この底壁部１７の外周縁に、略円筒状のスカート部１８が突設されている。スカート部１８は、回転軸Ａｘと同心となっており、基体部５から離間する側（軸方向他方側）に向けて略一定の厚みで突出している。 The bottom wall portion 17 is formed in a disc shape centering on the rotation axis Ax and orthogonal to the rotation axis Ax, and projects in a flange shape from the outer peripheral surface 5a of the base portion 5 to the outside. A substantially cylindrical skirt portion 18 projects from the outer peripheral edge of the bottom wall portion 17. The skirt portion 18 is concentric with the rotation axis Ax and protrudes with a substantially constant thickness toward the side away from the base portion 5 (the other side in the axial direction).

このスカート部１８は、回転部４を駆動するモータ１９の回転子（ロータ）として機能するものであり、コイルの巻回されたステータコア２０のティース２０ａに対応して周方向に沿ってＮ極Ｓ極が交互に着磁された着磁部１８ａを含んでいる。スカート部１８のうち少なくとも着磁部１８ａとして機能する部分は、磁性材料によって構成される。この場合、スカート部１８のうちティース２０ａに対向する部分のみを磁性材料（例えばフェライト磁石やサマリウムコバルト磁石等の硬磁性材料）によって構成してもよいし、スカート部１８全体を磁性材料によって構成しても良いし、回転部４全体を磁性材料によって構成してもよい。この場合、樹脂材料に磁性材料からなる粉状や粒状の磁性フィラーを混合して、回転部４やスカート部１８を成形することも可能である。 The skirt portion 18 functions as a rotor (rotor) of the motor 19 that drives the rotating portion 4, and corresponds to the teeth 20 a of the stator core 20 around which the coil is wound. It includes a magnetized portion 18a having poles alternately magnetized. At least a portion of the skirt portion 18 that functions as the magnetized portion 18a is made of a magnetic material. In this case, only the portion of the skirt portion 18 facing the teeth 20a may be made of a magnetic material (for example, a hard magnetic material such as a ferrite magnet or a samarium cobalt magnet), or the entire skirt portion 18 may be made of a magnetic material. Alternatively, the entire rotating unit 4 may be made of a magnetic material. In this case, the rotating part 4 and the skirt part 18 can be formed by mixing a resin material with a powdery or granular magnetic filler made of a magnetic material.

また、図１，図３に示すように、基体部５の外周面５ａは一定のピッチで径内方向に凹設され、これにより羽根部５ｂが形成されている。この羽根部５ｂは、基体部５（回転部４）とともに回転し、吸入開口１１と対峙するときにはポンプ室９への作動流体の吸入性能を高めるとともに、吐出開口１２と対峙するときにはポンプ室９からの作動流体の排出性能を高めている。 As shown in FIGS. 1 and 3, the outer peripheral surface 5a of the base portion 5 is recessed in the radially inward direction at a constant pitch, whereby a blade portion 5b is formed. The blade portion 5b rotates together with the base portion 5 (rotating portion 4), improves the suction performance of the working fluid into the pump chamber 9 when facing the suction opening 11, and from the pump chamber 9 when facing the discharge opening 12. The discharge performance of the working fluid is improved.

また、図２に示すように、基体部５（回転部４）の中央部には、シャフト２１を回転自在に支持する軸受部２２が固定されている。この軸受部２２は、メタルブッシュ等の滑り軸受としてもよいし、ニードルベアリング等の転がり軸受としてもよい。 As shown in FIG. 2, a bearing portion 22 that rotatably supports the shaft 21 is fixed to the central portion of the base body portion 5 (rotating portion 4). The bearing portion 22 may be a sliding bearing such as a metal bush, or may be a rolling bearing such as a needle bearing.

そして、回転部４は、ケーシング２によって形成される内部空間２ａ（図２参照）内で回転軸Ａｘ回りに回転するように構成されている。本実施形態では、ケーシング２は、軸方向一方側（図２および図３の上側）に位置する第１のケーシング１０と、軸方向他方側（図２および図３の下側）に位置する第２のケーシング２３と、環状室６の外周面（リング３の内周面３ａ）を形成するリング３と、を備えている。 The rotating unit 4 is configured to rotate about the rotation axis Ax in an internal space 2a (see FIG. 2) formed by the casing 2. In the present embodiment, the casing 2 includes a first casing 10 located on one axial side (the upper side in FIGS. 2 and 3) and a first casing 10 located on the other axial side (the lower side in FIGS. 2 and 3). 2 and a ring 3 forming the outer peripheral surface of the annular chamber 6 (the inner peripheral surface 3a of the ring 3).

リング３は、図３にも示すように、環状室６の外周面を形成する筒状部３ｂと、筒状部３ｂの軸方向他方側から回転軸Ａｘの径外方向に張り出すフランジ部３ｃとを備え、さらに、吸入通路１４および吐出通路１６の側壁の一部を成すリブ３ｄを備えている。円板環状のフランジ部３ｃから回転軸Ａｘの軸方向に筒状部３ｂとリブ３ｄとが略同じ高さで立設された形状となっている。 As shown in FIG. 3, the ring 3 includes a cylindrical portion 3 b that forms the outer peripheral surface of the annular chamber 6, and a flange portion 3 c that projects from the other axial side of the cylindrical portion 3 b in the radially outward direction of the rotation axis Ax. And a rib 3d that forms part of the side walls of the suction passage 14 and the discharge passage 16. The cylindrical portion 3b and the rib 3d are erected at substantially the same height in the axial direction of the rotation axis Ax from the disc-shaped annular flange portion 3c.

このリング３は、図２に示すように、第１のケーシング１０に形成された凹部１０ｂ内に収容される。すなわち、この凹部１０ｂは、リング３の筒状部３ｂとリブ３ｄを嵌合する形状に凹設されている。また、リング３のフランジ部３ｃの外周部３ｅは、凹部１０ｂの反対側で第２のケーシング２３の環状壁部２３ａと接触しており、この部分が第１のケーシング１０と第２のケーシング２３とによって挟持されることで、リング３が回転軸Ａｘの軸方向に固定されている。 As shown in FIG. 2, the ring 3 is accommodated in a recess 10 b formed in the first casing 10. That is, the concave portion 10b is formed in a shape that fits the cylindrical portion 3b of the ring 3 and the rib 3d. Further, the outer peripheral portion 3e of the flange portion 3c of the ring 3 is in contact with the annular wall portion 23a of the second casing 23 on the opposite side of the concave portion 10b, and this portion is in contact with the first casing 10 and the second casing 23. The ring 3 is fixed in the axial direction of the rotation axis Ax.

第２のケーシング２３には、回転部４のスカート部１８を収容する略円環状の凹部２３ｂと、回転部４の軸受部２２のうち第２のケーシング２３側（軸方向他方側、図２および図３の下側）に突出する部分を収容する凹部２３ｃとが形成されている。 The second casing 23 includes a substantially annular recess 23b that accommodates the skirt portion 18 of the rotating portion 4, and the second casing 23 side (the other axial side, FIG. A recess 23c is formed to accommodate a portion projecting to the lower side of FIG.

凹部２３ｂの外周にある環状壁部２３ａより径外側の領域は、第１のケーシング１０との当接面となる。この当接面には、Ｏリング３４用の溝部２３ｄを略円環状に形成し、この溝部２３ｄ内に装着したＯリング３４によって、第１のケーシング１０と第２のケーシング２３との境界部分でのシールを確保してある。なお、この境界部分以外の部材同士の境界部分（例えばリング３のフランジ部３ｃと第１のケーシング１０との間の境界面等）にも適宜にシール部材（例えばガスケットやＯリング等）を介在させ、各境界部分のシール性能を向上させるようにしてもよい。 A region outside the annular wall portion 23a on the outer periphery of the concave portion 23b is a contact surface with the first casing 10. A groove portion 23d for the O-ring 34 is formed in a substantially annular shape on the abutting surface, and the O-ring 34 mounted in the groove portion 23d is used at the boundary portion between the first casing 10 and the second casing 23. The seal is secured. In addition, a seal member (for example, a gasket, an O-ring, or the like) is appropriately interposed also in a boundary portion (for example, a boundary surface between the flange portion 3c of the ring 3 and the first casing 10) between the members other than the boundary portion. The sealing performance of each boundary portion may be improved.

凹部２３ｃの底壁部２３ｅと、第１のケーシング１０の突起部１０ｃとの間にはシャフト２１が架設され、このシャフト２１の中心が回転軸Ａｘとなっている。シャフト２１は、回転部４の中心に設けた軸受部２２を貫通し、当該軸受部２２に回転自在に支持されている。 A shaft 21 is installed between the bottom wall 23e of the recess 23c and the protrusion 10c of the first casing 10, and the center of the shaft 21 is a rotation axis Ax. The shaft 21 passes through a bearing portion 22 provided at the center of the rotating portion 4 and is rotatably supported by the bearing portion 22.

また、図２に示すように、凹部２３ｂと凹部２３ｃとの間には、回転部４の反対側（軸方向他方側、図２の下側）から回転部４側に向けて突設された環状の突起部２３ｆが形成されており、この突起部２３ｆの裏側となる環状の凹部２３ｊ内にモータ１９をなすステータコア２０が収容されている。 In addition, as shown in FIG. 2, a protrusion is provided between the recess 23 b and the recess 23 c from the opposite side of the rotating part 4 (the other side in the axial direction, the lower side in FIG. 2) toward the rotating part 4. An annular protrusion 23f is formed, and the stator core 20 constituting the motor 19 is accommodated in an annular recess 23j on the back side of the protrusion 23f.

ステータコア２０は、図２，図３に示すように、基板２４の表面２４ａの中央に取り付けられており、回転軸Ａｘと同心で中央に位置する円筒部２０ｂと、円筒部２０ｂから放射状に伸びてコイルが巻回された複数のティース２０ａとを備えている。 The stator core 20 is attached to the center of the surface 24a of the substrate 24, as shown in FIGS. 2 and 3, and extends radially from the cylindrical portion 20b concentrically with the rotational axis Ax and the cylindrical portion 20b. And a plurality of teeth 20a around which a coil is wound.

そして、基板２４のステータコア２０を設けた表面２４ａに対して反対側（軸方向他方側、図２の下側）となる裏面２４ｂには、各種電子部品（図示せず）が実装され、モータ１９の駆動回路やその他の回路が形成されている。本実施形態では、基板２４に形成された駆動回路によって各ティース２０ａに巻回されたコイルの通電状態を適宜に切り替えてティース２０ａの外周部分における極性を切り替え、これにより、ティース２０ａに対して径外方向に対向する着磁部１８ａ（スカート部１８）に周方向の推力を与え、以て、回転部４を回転させるようになっている。よって、第２のケーシング２３のうち、少なくとも、ステータコア２０（ティース２０ａ）の外周部とスカート部１８との間に介在する隔壁部２３ｇは、透磁性を有するものとする必要がある。このため、隔壁部２３ｇあるいは第２のケーシング２３の全体が、透磁性を有する材料（例えばステンレススチールや、樹脂材料等）で形成される。 Various electronic components (not shown) are mounted on the back surface 24b opposite to the front surface 24a of the substrate 24 on which the stator core 20 is provided (the other side in the axial direction, the lower side in FIG. 2). Drive circuits and other circuits are formed. In the present embodiment, the energization state of the coil wound around each tooth 20a is appropriately switched by the drive circuit formed on the substrate 24 to switch the polarity in the outer peripheral portion of the tooth 20a, and thereby the diameter relative to the tooth 20a. A circumferential thrust is applied to the magnetized portion 18a (skirt portion 18) opposed to the outer direction, so that the rotating portion 4 is rotated. Therefore, in the second casing 23, at least the partition wall portion 23 g interposed between the outer peripheral portion of the stator core 20 (the teeth 20 a) and the skirt portion 18 needs to have magnetic permeability. For this reason, the whole partition part 23g or the 2nd casing 23 is formed with the material (for example, stainless steel, resin material, etc.) which has magnetic permeability.

基板２４は、凹部２３ｃを回転部４の反対側（軸方向他方側）から塞ぐようにして取り付けられており、さらに、基板２４を、基板カバー２５によって、回転部４の反対側（軸方向他方側）から覆ってある。基板カバー２５には、基板２４との間に電子部品を配置する間隔を確保するため、突条２５ａを設けてある。 The substrate 24 is attached so as to block the concave portion 23c from the opposite side (the other axial side) of the rotating unit 4, and further, the substrate 24 is attached to the opposite side of the rotating unit 4 by the substrate cover 25 (the other axial direction). It is covered from the side). The board cover 25 is provided with ridges 25 a in order to secure an interval for arranging electronic components between the board 24 and the board 24.

第１のケーシング１０および第２のケーシング２３は、いずれも回転軸Ａｘに沿う軸方向視で略正方形状の外形状を呈している。そして、これらケーシング１０，２３の四隅に、これらを締結するねじ２６の貫通孔１０ａ，２３ｋを形成してある。これら貫通孔１０ａ，２３ｋおよび基板カバー２５の四隅に形成された貫通孔２５ｂにねじ２６を挿通して、ナット２７を螺結することで、ベーンポンプ１が組み立てられる。 Both the first casing 10 and the second casing 23 have a substantially square outer shape when viewed in the axial direction along the rotation axis Ax. And the through-holes 10a and 23k of the screw 26 which fastens these at the four corners of these casings 10 and 23 are formed. The vane pump 1 is assembled by inserting the screws 26 into the through holes 10a and 23k and the through holes 25b formed at the four corners of the substrate cover 25 and screwing the nuts 27 together.

なお、ベーンポンプ１をなす上記各構成部品の材料や製造方法は、上述した着磁性や透磁性の他、耐摩耗性、耐食性、耐膨潤性、成形性、部品精度等を考慮して適宜に選択される。 The material and manufacturing method of each component constituting the vane pump 1 are appropriately selected in consideration of wear resistance, corrosion resistance, swelling resistance, moldability, component accuracy, etc. in addition to the above-described magnetization and permeability. Is done.

また、本実施形態では、回転部４に、その回転に伴って上記回転軸Ａｘの軸方向一方側（図２，図３では上側）への流体力を発生させる流体力発生部２８を設け、回転部４を、底壁部１７を設けた側と反対側に位置する第１のケーシング１０に押し付けるようにしている。流体力発生部２８は、スカート部１８の軸方向他方側の端面１８ｂに、回転部４の回転方向ＲＤに対して傾斜する傾斜面として設けてある。傾斜面は、回転方向ＲＤの手前側から先方側にかけて軸方向他方側から一方側（図３の下側から上側）に向けて傾斜して設定してある。このため、回転部４の回転に伴ってこの傾斜面に当たった作動流体は、回転部４に流体力を作用させ、軸方向一方側（図３の上側）に押し上げることになる。 Further, in the present embodiment, the rotating unit 4 is provided with a fluid force generating unit 28 that generates a fluid force toward one side (upper side in FIGS. 2 and 3) of the rotating shaft Ax along with the rotation. The rotating portion 4 is pressed against the first casing 10 located on the side opposite to the side on which the bottom wall portion 17 is provided. The fluid force generator 28 is provided on the end surface 18 b on the other axial side of the skirt 18 as an inclined surface that is inclined with respect to the rotational direction RD of the rotating unit 4. The inclined surface is set to be inclined from the other side in the axial direction toward one side (from the lower side to the upper side in FIG. 3) from the front side to the front side in the rotational direction RD. For this reason, the working fluid hitting this inclined surface as the rotating unit 4 rotates causes a fluid force to act on the rotating unit 4 and pushes it up in one axial direction (the upper side in FIG. 3).

そして、かかる軸方向一方側に向けて作用する流体力（推力）を受けながら回転する回転部４を摺動可能に支持するため、第１のケーシング１０には、図４に示すように、スラスト支持部２９を設けてある。具体的には、第１のケーシング１０においてシャフト２１を嵌挿して支持する部分を軸方向他方側へ突出させて突起部１０ｃを形成し、この突起部１０ｃの頂面１０ｄに、ワッシャ３０を介して、回転部４（基体部５）の中央部に形成した凹部４ａの底面４ｂを突き当てている。本実施形態では、スラスト支持部２９にワッシャ３０を介在させるとともに、このワッシャ３０に回転部４の中央部に設けた軸受部２２の軸方向端面２２ａ（凹部４ａの底面４ｂに一部露出させて設けてある）を突き当てることで、耐摩耗性を高め易くしている。すなわち、かかる構成により、この部分の耐摩耗性はワッシャ３０と軸受部２２との摺接部分のスペック（材質、寸法、硬化処理等）によって調整し、回転部４の本体部分（基体部５、底壁部１７等）のスペックは、軽量化や、他の摺動部分の摺動性、耐食性等の観点から選定することができる。 Then, in order to slidably support the rotating portion 4 that rotates while receiving fluid force (thrust) acting toward one side in the axial direction, the first casing 10 has a thrust as shown in FIG. A support portion 29 is provided. Specifically, a projection 10c is formed by projecting a portion in which the shaft 21 is inserted and supported in the first casing 10 to the other side in the axial direction, and a washer 30 is provided on the top surface 10d of the projection 10c. Thus, the bottom surface 4b of the recess 4a formed at the center of the rotating part 4 (base part 5) is abutted. In the present embodiment, the washer 30 is interposed in the thrust support portion 29, and the axial end surface 22a of the bearing portion 22 provided in the central portion of the rotating portion 4 (partly exposed on the bottom surface 4b of the recess 4a). It is easy to improve the wear resistance. That is, with this configuration, the wear resistance of this portion is adjusted by the specifications (material, dimensions, curing treatment, etc.) of the sliding contact portion between the washer 30 and the bearing portion 22, and the main body portion (base portion 5, The specifications of the bottom wall portion 17 etc. can be selected from the viewpoints of weight reduction, slidability of other sliding portions, corrosion resistance, and the like.

そして、図４に示すように、スラスト支持部２９における摺動部分の直径Ｄ２を、基体部５の直径Ｄ１より小さくしてある。流体力発生部２８を設けた場合に、特段スラスト支持する部分を設けないと、基体部５の端面５ｃが第１のケーシング１０と摺接することになって、摺動抵抗が増大してしまう虞がある。この点、本実施形態では、摺動部分の直径Ｄ２を基体部５の直径Ｄ１より小さくしたため、摺動抵抗をより低減して、フリクションをより低減することができる。 As shown in FIG. 4, the diameter D <b> 2 of the sliding portion in the thrust support portion 29 is made smaller than the diameter D <b> 1 of the base portion 5. In the case where the fluid force generating portion 28 is provided, if no special thrust supporting portion is provided, the end surface 5c of the base portion 5 is in sliding contact with the first casing 10, and the sliding resistance may increase. There is. In this respect, in this embodiment, since the diameter D2 of the sliding portion is smaller than the diameter D1 of the base portion 5, the sliding resistance can be further reduced and the friction can be further reduced.

なお、図２に示すように、底壁部１７の軸方向一方側の端面１７ｂとリング３の軸方向他方側の端面３ｆとの間の隙間３１は狭く設定し、これら端面１７ｂ，３ｆ間の隙間からのリーク流量を可及的に減らしてある。また、軸受部２２の軸方向他方側にもワッシャ３０を介在させてある。 As shown in FIG. 2, the gap 31 between the end surface 17b on one side in the axial direction of the bottom wall portion 17 and the end surface 3f on the other side in the axial direction of the ring 3 is set narrow, and the space between these end surfaces 17b and 3f is set. The leak flow rate from the gap is reduced as much as possible. A washer 30 is also interposed on the other axial side of the bearing portion 22.

ここで、本実施形態では、図１および図５に示すように、基体部５に、スリット７内に導入開口３７で開口する流体通路３５ｂを形成してある。この流体通路３５ｂは、スリット７に対して回転方向ＲＤ（回転軸Ａｘの周方向、図５では上下方向）の手前側（図５では下側）のポンプ室９とスリット７内とを連通しており、具体的には、基体部５に形成された流体通路３５ｂにおけるスリット７内に開口する導入開口３７と反対側の他端は、基体部５の外周側端部に開口している。 Here, in the present embodiment, as shown in FIGS. 1 and 5, a fluid passage 35 b that opens at the introduction opening 37 in the slit 7 is formed in the base portion 5. The fluid passage 35 b communicates the pump chamber 9 on the near side (lower side in FIG. 5) and the inside of the slit 7 with respect to the slit 7 in the rotational direction RD (the circumferential direction of the rotational axis Ax, the vertical direction in FIG. Specifically, the other end opposite to the introduction opening 37 that opens into the slit 7 in the fluid passage 35 b formed in the base portion 5 is open to the outer peripheral side end portion of the base portion 5.

また、図５および図６に示すように、ベーン８には、導入開口３７から回転方向ＲＤに沿ってその先方側に離間するにつれて軸方向一方側（図５では左側、図６では上側）に向けて傾斜する傾斜面３６ｂを形成してある。すなわち、長手方向においてベーン８の側面８ｓｂと天面８ｕとの間の角部を面取りした傾斜面３６ｂを形成してある。 As shown in FIGS. 5 and 6, the vane 8 has an axially one side (the left side in FIG. 5 and the upper side in FIG. 6) as it is separated from the introduction opening 37 along the rotational direction RD to the far side. An inclined surface 36b that is inclined toward the surface is formed. That is, the inclined surface 36b is formed by chamfering the corner between the side surface 8sb of the vane 8 and the top surface 8u in the longitudinal direction.

かかる構成によって、流体通路３５ｂおよび導入開口３７を介してスリット７内に導入された流体の圧力により、ベーン８は、底壁部１７（すなわちスリット７の底面７ｃ）上に押し付けられ、ベーン８の底面８ｄとスリット７の底面７ｃとが相互に摺動することになる。 With this configuration, the vane 8 is pressed onto the bottom wall portion 17 (that is, the bottom surface 7c of the slit 7) by the pressure of the fluid introduced into the slit 7 through the fluid passage 35b and the introduction opening 37, and the vane 8 The bottom surface 8d and the bottom surface 7c of the slit 7 slide relative to each other.

以上の本実施形態によれば、スリット７内に導入した流体の圧力でベーン８を軸方向他方側に配置したガイド壁部としての底壁部１７に押し付けることができるため、ベーン８が軸方向に往復動するのを抑制することができる。 According to the above embodiment, since the vane 8 can be pressed against the bottom wall portion 17 as the guide wall portion disposed on the other side in the axial direction by the pressure of the fluid introduced into the slit 7, the vane 8 is axially Reciprocal movement can be suppressed.

そして、本実施形態では、流体力発生部２８によって回転部４を回転軸Ａｘの軸方向一方側に押し上げるようにした。かかる構成により、回転部４をケーシング２の軸方向一方側（すなわち第１のケーシング１０）に突き当てて、回転部４が回転中に軸方向に往復動するのを抑制することができ、当該往復動によって、振動や騒音が生じるのを抑制することができる。また、図４に示すように、基体部５の軸方向一方側の端面５ｃと、第１のケーシング１０の軸方向他方側の端面１０ｅとのギャップｇを、回転部４の寸法ｄ１と第１のケーシング１０の寸法ｄ２とで、より容易にかつより精度良く規定できるようになり、このギャップが拡大したり変動したりすることによるリーク流量の増大、ひいてはポンプ効率の低下を抑制できるとともに、ベーンポンプ１の吐出量のばらつき（個体差）を低減することができる。 In the present embodiment, the rotating part 4 is pushed up to one side in the axial direction of the rotation axis Ax by the fluid force generation part 28. With this configuration, the rotating unit 4 can be abutted against one side of the casing 2 in the axial direction (that is, the first casing 10), and the rotating unit 4 can be prevented from reciprocating in the axial direction during rotation. The reciprocating motion can suppress the occurrence of vibration and noise. Further, as shown in FIG. 4, the gap g between the end surface 5c on the one axial side of the base portion 5 and the end surface 10e on the other axial side of the first casing 10 is defined as the dimension d1 of the rotating portion 4 and the first The dimension d2 of the casing 10 can be defined more easily and more accurately, and an increase in the leakage flow rate and a decrease in the pump efficiency due to the expansion or fluctuation of the gap can be suppressed, and the vane pump can be suppressed. The variation (individual difference) of the discharge amount of 1 can be reduced.

さらに、上述したようにベーン８を摺動可能に軸方向他方側で支持する底壁部１７を設けたため、ベーン８の軸方向他方側への移動を抑制することができ、当該ベーン８が軸方向に往復動することによって振動や騒音が生じたり、リーク流量が増大して効率が低下したりするのを抑制することができる。かかる構成は、回転部４とともにベーン８を軸方向一方側へ移動させる構成と言うことができる。 Furthermore, as described above, the bottom wall portion 17 that supports the vane 8 on the other side in the axial direction so as to be slidable is provided, so that the movement of the vane 8 toward the other side in the axial direction can be suppressed. By reciprocating in the direction, it is possible to suppress the occurrence of vibration and noise, or increase in leak flow rate and decrease in efficiency. Such a configuration can be said to be a configuration in which the vane 8 is moved together with the rotating portion 4 to one side in the axial direction.

（第２実施形態）図７は、本発明の第２実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図、図８は、図７のVIII−VIII断面図、図９は、ベーンの斜視図である。 (Second Embodiment) FIG. 7 is a cross-sectional view of a vane pump according to a second embodiment of the present invention in a cross-section orthogonal to the rotation axis, FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII in FIG. FIG.

本実施形態にかかるベーンポンプは、基本的に上記第１実施形態にかかるベーンポンプ１と同様の構成を備えている。 The vane pump according to the present embodiment basically has the same configuration as the vane pump 1 according to the first embodiment.

ただし、本実施形態では、流体通路３５ｆおよび導入開口３７を、いずれも基体部５Ａの、スリット７に対して回転方向ＲＤ（回転軸Ａｘの周方向、図８では上下方向）の先方側（図８では上側）となる部分に形成してある。すなわち、基体部５Ａに形成された流体通路３５ｆにおけるスリット７内に開口する導入開口３７と反対側の他端は、基体部５Ａの外周側端部に開口し、ポンプ室９内の作動流体３５ｆが外周側端部の開口より導入され導入開口３７よりスリット７内に導入している。 However, in the present embodiment, the fluid passage 35f and the introduction opening 37 are both disposed on the front side (in the direction of the rotation direction RD (the circumferential direction of the rotation axis Ax, the vertical direction in FIG. 8)) of the base portion 5A with respect to the slit 7. 8 is formed on the upper part). That is, the other end of the fluid passage 35f formed in the base portion 5A opposite to the introduction opening 37 that opens into the slit 7 opens to the outer peripheral end of the base portion 5A, and the working fluid 35f in the pump chamber 9 Is introduced from the opening at the outer peripheral end and introduced into the slit 7 through the introduction opening 37.

また、図７および図８に示すように、ベーン８Ａには、導入開口３７から回転方向ＲＤに沿ってその手前側に離間するにつれて軸方向一方側（図８では左側、図９では上側）に向けて傾斜する傾斜面３６ｆを形成してある。すなわち、ベーン８Ａの長手方向においてベーン８Ｂの側面８ｓｆと天面８ｕとの間の角部を面取りした傾斜面３６ｆを形成してある。 Further, as shown in FIGS. 7 and 8, the vane 8A has an axial one side (left side in FIG. 8, upper side in FIG. 9) as the vane 8A moves away from the introduction opening 37 along the rotational direction RD. An inclined surface 36f that is inclined toward the surface is formed. That is, an inclined surface 36f is formed by chamfering a corner between the side surface 8sf of the vane 8B and the top surface 8u in the longitudinal direction of the vane 8A .

かかる構成によって、流体通路３５ｆおよび導入開口３７を介してスリット７内に導入された流体の圧力により、ベーン８Ａは、底壁部１７（すなわちスリット７の底面７ｃ）上に押し付けられ、ベーン８Ａの底面８ｄとスリット７の底面７ｃとが相互に摺動することになる。 With this configuration, the vane 8A is pressed onto the bottom wall portion 17 (that is, the bottom surface 7c of the slit 7) by the pressure of the fluid introduced into the slit 7 through the fluid passage 35f and the introduction opening 37, and the vane 8A The bottom surface 8d and the bottom surface 7c of the slit 7 slide relative to each other.

以上の本実施形態によっても、スリット７内に導入した流体の圧力でベーン８Ａを軸方向他方側に配置したガイド壁部としての底壁部１７に押し付けることができ、ベーン８Ａが軸方向に往復動するのを抑制することができる。 Also according to this embodiment, the vane 8A can be pressed against the bottom wall portion 17 as the guide wall portion disposed on the other axial side by the pressure of the fluid introduced into the slit 7, and the vane 8A reciprocates in the axial direction. It can suppress moving.

（第３実施形態）図１０は、本発明の第２実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図、図１１は、図１０のXI−XI断面図、図１２は、ベーンの斜視図である。 (Third Embodiment) FIG. 10 is a cross-sectional view of a vane pump according to a second embodiment of the present invention in a cross-section orthogonal to the rotation axis, FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line XI-XI in FIG. FIG.

ただし、本実施形態では、基体部５Ｂに、上記第１実施形態で形成した流体通路３５ｂと、上記第２実施形態で形成した流体通路３５ｆの双方を形成してある。すなわち、基体部５Ｂに形成された流体通路３５ｂ，３５ｆにおけるスリット７内に開口する導入開口３７と反対側の他端は、基体部５Ｂの外周側端部に開口している。 However, in this embodiment, both the fluid passage 35b formed in the first embodiment and the fluid passage 35f formed in the second embodiment are formed in the base portion 5B. That is, the other end opposite to the introduction opening 37 opened in the slit 7 in the fluid passages 35b and 35f formed in the base portion 5B is open to the outer peripheral side end portion of the base portion 5B.

そして、ベーン８Ｂには、上記第１実施形態で形成されたのと同じ傾斜面３６ｂと、上記第２実施形態で形成されたのと同じ傾斜面３６ｆの双方を形成してある。すなわち、ベーン８Ｂの長手方向においてベーン８Ｂの各側面８ｓｂ、８ｓｆと天面８ｕとの間の角部をそれぞれ面取りした傾斜面３６ｂ、３６ｆを形成してある。 The vane 8B is formed with both the same inclined surface 36b as formed in the first embodiment and the same inclined surface 36f as formed in the second embodiment. In other words, inclined surfaces 36b and 36f are formed by chamfering the corners between the side surfaces 8sb and 8sf of the vane 8B and the top surface 8u in the longitudinal direction of the vane 8B.

かかる構成によって、流体通路３５ｂ，３５ｆおよび導入開口３７を介してスリット７内に導入された流体の圧力により、ベーン８Ｂは底壁部１７（すなわちスリット７の底面７ｃ）上に押し付けられ、ベーン８Ｂの底面８ｄとスリット７の底面７ｃとが相互に摺動することになる。 With this configuration, the vane 8B is pressed onto the bottom wall portion 17 (that is, the bottom surface 7c of the slit 7) by the pressure of the fluid introduced into the slit 7 through the fluid passages 35b and 35f and the introduction opening 37, and the vane 8B. 8d and the bottom surface 7c of the slit 7 slide on each other.

以上の本実施形態によっても、スリット７内に導入した流体の圧力でベーン８Ｂを軸方向他方側に配置したガイド壁部としての底壁部１７に押し付けることができ、ベーン８Ｂが軸方向に往復動するのを抑制することができる。 Also in the present embodiment described above, the vane 8B can be pressed against the bottom wall portion 17 as the guide wall portion disposed on the other side in the axial direction by the pressure of the fluid introduced into the slit 7, and the vane 8B reciprocates in the axial direction. It can suppress moving.

さらに、本実施形態では、流体の圧力をベーン８Ｂに作用させる傾斜面３６ｂ，３６ｆを回転方向ＲＤの先方側および手前側の双方に形成したため、スリット７内でのベーン８Ｂのバランスをより一層向上させて、ベーン８Ｂのがたつきを抑制することができる。 Furthermore, in this embodiment, since the inclined surfaces 36b and 36f that apply the fluid pressure to the vane 8B are formed on both the front side and the near side in the rotational direction RD, the balance of the vane 8B in the slit 7 is further improved. Thus, rattling of the vane 8B can be suppressed.

以上、本発明の実施形態および変形例について説明したが、本発明は上記各実施形態や変形例には限定されず、種々の変形が可能である。例えば、ベーンポンプの回転部やリング、ケーシングの詳細な構成は上記実施形態には限定されない。また、流体通路や導入開口の位置、傾斜面の大きさ等については、本発明の範囲内で適宜に変更することができる。 As mentioned above, although embodiment and modification of this invention were described, this invention is not limited to said each embodiment and modification, A various deformation | transformation is possible. For example, the detailed configuration of the rotating part, ring, and casing of the vane pump is not limited to the above embodiment. Further, the position of the fluid passage and the introduction opening, the size of the inclined surface, and the like can be appropriately changed within the scope of the present invention.

本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図である。It is sectional drawing in the cross section orthogonal to the rotating shaft of the vane pump concerning 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図である。It is sectional drawing in the cross section containing the rotating shaft of the vane pump concerning 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの分解斜視図である。It is an exploded perspective view of the vane pump concerning a 1st embodiment of the present invention. 図２の一部の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a part of FIG. 2. 図１のV−V断面図である。It is VV sectional drawing of FIG. 本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプに含まれるベーンの斜視図である。It is a perspective view of the vane contained in the vane pump concerning a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第２実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図である。It is sectional drawing in the cross section orthogonal to the rotating shaft of the vane pump concerning 2nd Embodiment of this invention. 図７のVIII−VIII断面図である。It is VIII-VIII sectional drawing of FIG. 本発明の第２実施形態にかかるベーンポンプに含まれるベーンの斜視図である。It is a perspective view of the vane contained in the vane pump concerning a 2nd embodiment of the present invention. 本発明の第３実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図である。It is sectional drawing in the cross section orthogonal to the rotating shaft of the vane pump concerning 3rd Embodiment of this invention. 図１０のXI−XI断面図である。It is XI-XI sectional drawing of FIG. 本発明の第３実施形態にかかるベーンポンプに含まれるベーンの斜視図である。It is a perspective view of the vane contained in the vane pump concerning a 3rd embodiment of the present invention.

Explanation of symbols

１ベーンポンプ
２ケーシング
２ａ内部空間
３リング（ケーシング）
４回転部
５基体部
６環状室
７スリット
７ｂ，７ｆ側面
７ｃ底面
８ベーン
９ポンプ室
１０第１のケーシング（ケーシング）
１７底壁部（ガイド壁部）
２３第２のケーシング（ケーシング）
３５ｂ，３５ｆ流体通路
３６ｂ，３６ｆ傾斜面
３７導入開口
Ａｘ回転軸
ＲＤ回転方向（周方向） 1 Vane pump 2 Casing 2a Internal space 3 Ring (casing)
4 Rotating part 5 Base part 6 Annular chamber 7 Slit 7b, 7f Side surface 7c Bottom surface 8 Vane 9 Pump chamber 10 First casing (casing)
17 Bottom wall (guide wall)
23 Second casing (casing)
35b, 35f Fluid passage 36b, 36f Inclined surface 37 Introducing opening Ax Rotating shaft RD Rotating direction (circumferential direction)

Claims

A plurality of slits are formed in the base portion of the rotating portion that rotates in the casing so as to extend radially with respect to the rotating shaft of the rotating portion and open in the radially outward direction and on one side in the axial direction of the rotating shaft. In a casing, an annular chamber formed around the base portion in the casing is partitioned by the plurality of vanes to form a plurality of pump chambers, and the rotating portion is rotated to rotate the pump chamber. In the vane pump configured to periodically increase and decrease the volume and discharge the fluid sucked into the pump chamber,
On the side surfaces of both sides in the circumferential direction of the rotary shaft of the slit, a fluid passage that opens at the introduction opening in the slit is formed in the base portion,
The other end opposite to the introduction opening that opens into the slit in the fluid passage formed in the base portion opens to the outer peripheral side end of the base portion,
The working fluid in the pump chamber is introduced from the opening at the outer peripheral end of the base body and introduced into the slit from the introduction opening,
In the longitudinal direction of the vane, the inclined surface is formed by chamfering each corner between each side surface of the vane and the top surface,
A vane pump characterized in that a guide wall portion is provided on the base portion so as to slidably support the vane on the other axial side of the rotating shaft .