JP5072067B2 - 基板収納容器 - Google Patents
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Description
リテーナは、蓋体の内側から容器本体に収納される半導体ウェーハ方向に伸び、複数枚の半導体ウェーハの整列方向に並ぶ複数の弾性片と、各弾性片の先端部に形成されて半導体ウェーハの周縁部を接触保持する保持溝片とを含み、各弾性片に可撓性を付与して蓋体の内面から突出させ、弾性片と保持溝片とを半円弧形に徐々に湾曲させて半導体ウェーハの幅方向外側に向けるとともに、保持溝片の先端部を半導体ウェーハの幅方向外側に向け、半導体ウェーハの周縁部に対する保持溝片の接触点のうち、当初の接触点を点接触あるいは線接触させ、
弾性片が撓んだ場合に半導体ウェーハと保持溝片との接触点を垂直上方向に移動させることにより、半導体ウェーハ上の接触点が当初の接触点から移動するのを規制しながら半導体ウェーハの周縁部に対する保持溝片の接触保持領域を当初の接触点から±1.5mmの範囲とするようにしたことを特徴としている。
また、半導体ウェーハの周縁部に対向する一対の弾性片を備え、この一対の弾性片を複数枚の半導体ウェーハの整列方向に配列することができる。
さらに、保持溝片の隣接する他の保持溝片に対向する両対向面のうち、一方の対向面に凹部を、他方の対向面に凸部をそれぞれ形成し、これら凹部と凸部の少なくとも一部を傾斜させて干渉回避面とし、凹部と凸部を用いて隣接する複数の保持溝片を位置合わせすることも可能である。
また、半導体ウェーハを収納する際に弾性片や保持溝片が湾曲半径の小さくなる上方向に撓み、保持溝片の接触部分以外が隣接する保持溝片方向に動いて接触するのを回避することができるので、半導体ウェーハの摺れや汚染の防止を図ることができる。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、干渉回避面37の形状の多様化を図ることができるのは明らかである。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、干渉回避面37の位置や形状の多様化を図ることができるのは明らかである。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、干渉回避面37の位置や形状の多様化が期待できる。
2 側壁
6 ティース
7 整列支持溝
7A 整列支持溝
10 容器本体
10A 容器本体
20 蓋体
20A 蓋体
30 リテーナ
31 弾性片
32 凹部
33 凸部
34 保持溝片
35 ガイド溝部
36 最深溝部
37 干渉回避面
40 取付板
W 半導体ウェーハ
Claims (3)
- 複数枚の半導体ウェーハを整列収納可能な容器本体と、この容器本体の開口した上部に嵌合される蓋体とを備え、これら容器本体と蓋体との間に、半導体ウェーハを保持するリテーナを介在した基板収納容器であって、
リテーナは、蓋体の内側から容器本体に収納される半導体ウェーハ方向に伸び、複数枚の半導体ウェーハの整列方向に並ぶ複数の弾性片と、各弾性片の先端部に形成されて半導体ウェーハの周縁部を接触保持する保持溝片とを含み、各弾性片に可撓性を付与して蓋体の内面から突出させ、弾性片と保持溝片とを半円弧形に徐々に湾曲させて半導体ウェーハの幅方向外側に向けるとともに、保持溝片の先端部を半導体ウェーハの幅方向外側に向け、半導体ウェーハの周縁部に対する保持溝片の接触点のうち、当初の接触点を点接触あるいは線接触させ、
弾性片が撓んだ場合に半導体ウェーハと保持溝片との接触点を垂直上方向に移動させることにより、半導体ウェーハ上の接触点が当初の接触点から移動するのを規制しながら半導体ウェーハの周縁部に対する保持溝片の接触保持領域を当初の接触点から±1.5mmの範囲とするようにしたことを特徴とする基板収納容器。 - 容器本体を箱形に形成してその内部には少なくとも上部の開口したカセットを着脱自在に嵌め入れ、このカセットの両側壁内面には、半導体ウェーハ用の整列支持溝をそれぞれ並べて形成した請求項1記載の基板収納容器。
- 半導体ウェーハの周縁部に対向する一対の弾性片を備え、この一対の弾性片を複数枚の半導体ウェーハの整列方向に配列した請求項1又は2記載の基板収納容器。
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2006
- 2006-11-27 JP JP2006318318A patent/JP5072067B2/ja active Active
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