JP5056021B2 - Optical laminate - Google Patents

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Description

本発明は、光学積層体に関するものである。 The present invention relates to an optical laminate.

陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の画像表示装置においては、一般に最表面には反射防止性、ハード性や透明性等の種々の機能を有する光学積層体が設けられている。これらの機能層の基材としては、透明性や硬度性に優れるアクリル樹脂等が使用されている。しかし、このような機能層の基材は、絶縁特性が高いため帯電しやすく、埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。 In an image display device such as a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), etc., the outermost surface generally has antireflection properties, hardware properties, transparency, etc. Optical laminates having various functions are provided. As the base material for these functional layers, an acrylic resin having excellent transparency and hardness is used. However, the base material of such a functional layer is easily charged due to its high insulating properties, and dirt due to adhesion of dust or the like is generated, and there are obstacles due to charging in the display manufacturing process as well as in use. There was a problem that occurred.

このような帯電を防止するために、上記光学積層体の一部に導電性の帯電防止剤を含有した帯電防止層を設けることが従来より行われている(例えば、特許文献1参照)。上記帯電防止剤としては、第4級アンモニウム塩等の公知の帯電防止剤や、無機系の導電性超微粒子が使用されてきた。 In order to prevent such charging, an antistatic layer containing a conductive antistatic agent has been conventionally provided on a part of the optical laminate (see, for example, Patent Document 1). As the antistatic agent, known antistatic agents such as quaternary ammonium salts and inorganic conductive ultrafine particles have been used.

近年、帯電防止剤として各種帯電防止剤にかわり有機導電性材料の使用が検討され始めている。上記有機導電性材料は、永久導電性と、優れた透明性を持つ良好な導電性材料として着目されている。上記有機導電性材料としては、電子がソリトンやポーラロンといったキャリアを介して移動する電子伝導タイプと、イオン自体が系内を移動するイオン伝導タイプの2種類に分類される。上記電子伝導タイプの有機導電性材料としては、例えば、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン等が挙げられる。しかしながら、これらの電子伝導タイプの有機導電性材料は、湿度や気温により帯電防止性能が安定しないという問題があった。 In recent years, the use of organic conductive materials instead of various antistatic agents as antistatic agents has begun to be studied. The organic conductive material has attracted attention as a good conductive material having permanent conductivity and excellent transparency. The organic conductive material is classified into two types: an electron conduction type in which electrons move via carriers such as solitons and polarons, and an ion conduction type in which ions themselves move in the system. Examples of the electron conductive organic conductive material include polyacetylene, polyaniline, and polythiophene. However, these electron conductive organic conductive materials have a problem that the antistatic performance is not stable due to humidity and temperature.

一方、イオン伝導タイプの有機導電性材料として、パーフルオロアルキルスルホン酸リチウム、リチウムビスパーフルオロアルキルスルホンイミド、過塩素酸リチウム等のリチウム系イオン伝導型帯電防止剤を使用した光学素子用組成物が開示されている(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、このようなリチウム系イオン伝導型帯電防止剤を含む組成物を、グラビアコーター等のコーターを用いて塗布する場合、コーターの金属部に錆が発生する場合があった。 On the other hand, as an ion conductive type organic conductive material, an optical element composition using a lithium ion conductive antistatic agent such as lithium perfluoroalkyl sulfonate, lithium bisperfluoroalkyl sulfonimide, or lithium perchlorate. It is disclosed (for example, see Patent Document 2). However, when a composition containing such a lithium ion conduction type antistatic agent is applied using a coater such as a gravure coater, rust may be generated on the metal part of the coater.

特開2006−126808号公報JP 2006-126808 A 特開2005−31282号公報JP 200531282 A

本発明は、上記現状に鑑み、透明性を維持し、安定に帯電防止性能を発揮し、製造時にコーター等への錆発生も抑制することのできる光学積層体を提供することを目的とするものである。 SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above situation, the present invention aims to provide an optical laminate that maintains transparency, stably exhibits antistatic performance, and can suppress rust generation on a coater or the like during production. It is.

本発明は、光透過性基材の上に、ハードコート層を備えてなる光学積層体であって、上記ハードコート層は、有機ホウ素化合物を含有し、上記有機ホウ素化合物は、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体であることを特徴とする光学積層体である。
本発明は、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を備えてなる光学積層体であって、上記帯電防止層は、有機ホウ素化合物を含有し、上記有機ホウ素化合物は、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体であることを特徴とする光学積層体でもある。
上記ハードコート層は、樹脂、溶剤、及び、有機ホウ素化合物を含むハードコート層用組成物により形成され、上記溶剤は、浸透性溶剤を含んでなることが好ましい。
上記帯電防止層は、樹脂、溶剤、及び、有機ホウ素化合物を含む帯電防止層用組成物により形成され、上記溶剤は、浸透性溶剤を含んでなることが好ましい。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、本発明の光学積層体が、該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けられていることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に本発明の光学積層体、又は、本発明の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に本発明を詳細に説明する。
The present invention is an optical laminate comprising a hard coat layer on a light transmissive substrate, wherein the hard coat layer contains an organic boron compound, and the organic boron compound comprises a polyether, a poly It is an optical laminate characterized by being an ionic conjugate of aldehyde or polyketone and boron .
The present invention is an optical laminate comprising an antistatic layer and a hard coat layer on a light transmissive substrate, wherein the antistatic layer contains an organic boron compound, It is also an optical laminate characterized in that it is an ionic conjugate of polyether, polyaldehyde or polyketone and boron .
The hard coat layer is formed of a hard coat layer composition containing a resin, a solvent, and an organoboron compound, and the solvent preferably contains a permeable solvent.
The antistatic layer is formed of a composition for an antistatic layer containing a resin, a solvent, and an organic boron compound, and the solvent preferably contains a permeable solvent.
The present invention is also a polarizing plate comprising a polarizing element, wherein the optical laminate of the present invention is provided on the surface of the polarizing element opposite to the surface on which the hard coat layer is present in the optical laminate. It is also a polarizing plate characterized by being made.
The present invention is also an image display device comprising the optical laminate of the present invention or the polarizing plate of the present invention on the outermost surface.
The present invention is described in detail below.

本発明は、帯電防止剤としてイオン伝導タイプの有機ホウ素化合物を含む光学積層体である。上記有機ホウ素化合物を帯電防止剤として含むことにより、高い透明性を有し、かつ、温度や湿度に影響されない安定な帯電防止性能を発揮することができるものである。更に、上記有機ホウ素化合物は、コストが低く、毒性も低いという利点もある。また、同様にイオン伝導タイプであるリチウム系イオン伝導型帯電防止剤を使用した場合に比べて、ブリードの発生頻度が低いという利点もあるため好ましい。
上記有機ホウ素化合物としては、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体が好ましい。
The present invention is an optical laminate comprising an ion conductive type organic boron compound as an antistatic agent. By containing the organoboron compound as an antistatic agent, it has high transparency and can exhibit stable antistatic performance that is not affected by temperature and humidity. Furthermore, the organoboron compound has the advantages of low cost and low toxicity. Similarly, it is preferable because there is an advantage that the occurrence frequency of bleed is low compared to the case of using a lithium ion conduction type antistatic agent which is an ion conduction type.
As the organic boron compound, an ionic conjugate of polyether, polyaldehyde or polyketone and boron is preferable.

本発明の光学積層体は、上記有機ホウ素化合物を帯電防止剤として使用し、良好な帯電性能を有するものである。本発明の光学積層体は、光透過性基材の上にハードコート層を形成してなるもの(光学積層体1)、及び、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を形成してなるもの(光学積層体2)を挙げることができる。 The optical layered body of the present invention uses the above organic boron compound as an antistatic agent and has good charging performance. The optical layered body of the present invention is obtained by forming a hard coat layer on a light transmissive substrate (optical layered body 1), and an antistatic layer and a hard coat layer on the light transmissive substrate. Can be mentioned (optical laminate 2).

上記光学積層体1は、光透過性基材の上にハードコート層を形成してなる光学積層体であり、上記ハードコート層は、上記有機ホウ素化合物を含有するものである。更に、上記光学積層体2は、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を形成してなるものであり、上記帯電防止層は、上記有機ホウ素化合物を含有するものである。 The optical laminate 1 is an optical laminate obtained by forming a hard coat layer on a light transmissive substrate, and the hard coat layer contains the organoboron compound. Furthermore, the optical layered body 2 is formed by forming an antistatic layer and a hard coat layer on a light-transmitting substrate, and the antistatic layer contains the organoboron compound. .

以下、本発明において使用する基材、組成物を具体的に説明する。なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、“樹脂”と記載する。 Hereinafter, the base material and composition used in the present invention will be specifically described. In the present invention, unless otherwise specified, curable resin precursors such as monomers, oligomers, and prepolymers are referred to as “resins”.

(光学積層体1)
ハードコート層
上記光学積層体1は、上記有機ホウ素化合物を含有するハードコート層を形成してなるものである。本発明における「ハードコート層」とは、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。本発明においては、ハードコート層は、鉛筆硬度2H以上であることが好ましく、また、ビッカース硬度は250N/mm以上であることが好ましい。
(Optical laminate 1)
Hard coat layer The optical laminate 1 is formed by forming a hard coat layer containing the organoboron compound. The “hard coat layer” in the present invention refers to a layer showing a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test specified by JIS K5600-5-4 (1999). In the present invention, the hard coat layer preferably has a pencil hardness of 2H or more, and the Vickers hardness is preferably 250 N / mm or more.

上記ハードコート層は、有機ホウ素化合物を含有するものであり、上記有機ホウ素化合物の固形分含有量は、30〜70質量%であることが好ましい。上記含有量が30質量%未満であると、充分な帯電防止性能を得ることができないおそれがある。上記含有量が70質量%を超えると、塗膜強度が低下するおそれがあるため好ましくない。 The hard coat layer contains an organic boron compound, and the solid content of the organic boron compound is preferably 30 to 70% by mass. If the content is less than 30% by mass, sufficient antistatic performance may not be obtained. If the content exceeds 70% by mass, the coating film strength may decrease, such being undesirable.

上記ハードコート層は、透明性を有する限り特に限定されないが、更に樹脂を含有することが好ましい。
上記樹脂としては特に限定されず、例えば、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。また、本発明の好ましい態様によれば、電離放射線硬化型樹脂と熱硬化型樹脂とを少なくとも含んでなる樹脂を用いることができる。
Although the said hard-coat layer is not specifically limited as long as it has transparency, It is preferable to contain resin further.
The resin is not particularly limited. For example, an ionizing radiation curable resin that is a resin curable by ultraviolet rays or an electron beam, an ionizing radiation curable resin, and a solvent-drying resin (added to adjust the solid content during coating) The resin may be a mixture of a resin that forms a film only by drying the solvent, or a thermosetting resin, and preferably an ionizing radiation curable resin. Moreover, according to a preferable aspect of the present invention, a resin comprising at least an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin can be used.

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の1又は2以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能化合物と(メタ)アルリレート等の反応生成物(例えば多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)、等を挙げることができる。なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。 Examples of the ionizing radiation curable resin include compounds having one or more unsaturated bonds such as compounds having an acrylate functional group. Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( Reaction products such as (meth) allyllate and polyfunctional compounds such as (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate And poly (meth) acrylate esters of polyhydric alcohols). In the present specification, “(meth) acrylate” refers to methacrylate and acrylate.

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。 In addition to the above compounds, relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, etc. It can be used as an ionizing radiation curable resin.

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミノキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。 When using an ionizing radiation curable resin as an ultraviolet curable resin, it is preferable to use a photopolymerization initiator. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amino oxime esters, thioxanthones, propiophenones, benzyls, benzoins, and acylphosphine oxides. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.

光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物100質量部に対し、0.1〜10質量部であることが好ましい。 As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radical polymerizable unsaturated group, it is preferable to use acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether or the like alone or in combination. In the case of a resin system having a cationic polymerizable functional group, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metallocene compound, a benzoin sulfonic acid ester or the like is used alone or as a mixture as a photopolymerization initiator. It is preferable. The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable composition.

電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、上記熱可塑性樹脂は、一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及び、ゴム又はエラストマー等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶剤(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤)に可溶な樹脂を使用することが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。 The solvent-drying resin used by mixing with the ionizing radiation curable resin mainly includes a thermoplastic resin. As the thermoplastic resin, those generally exemplified are used. By adding the solvent-drying resin, coating film defects on the coated surface can be effectively prevented. As a specific example of a preferable thermoplastic resin, as the thermoplastic resin, those generally exemplified are used. By adding the solvent-drying resin, coating film defects on the coated surface can be effectively prevented. Specific examples of preferable thermoplastic resins include, for example, styrene resins, (meth) acrylic resins, vinyl acetate resins, vinyl ether resins, halogen-containing resins, alicyclic olefin resins, polycarbonate resins, and polyester resins. , Polyamide resins, cellulose derivatives, silicone resins, rubbers or elastomers. As the thermoplastic resin, it is usually preferable to use a resin that is non-crystalline and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, resins with high moldability or film formability, transparency and weather resistance, such as styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) Etc. are preferred.

本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース「TAC」等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材とハードコート層との密着性及び透明性を向上させることができる。 According to a preferred embodiment of the present invention, when the material of the light-transmitting substrate is a cellulose resin such as triacetyl cellulose “TAC”, as a preferred specific example of the thermoplastic resin, a cellulose resin such as nitrocellulose, acetyl Examples include cellulose, cellulose acetate propionate, and ethyl hydroxyethyl cellulose. By using a cellulose-based resin, it is possible to improve the adhesion and transparency between the light-transmitting substrate and the hard coat layer.

上記樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。 Examples of the thermosetting resin that can be used as the resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, Examples thereof include silicon resins and polysiloxane resins. When a thermosetting resin is used, a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier, and the like can be used in combination as necessary.

光学積層体1における上記ハードコート層は、上記有機ホウ素化合物、樹脂及び必要に応じて添加剤(例えば、重合開始剤、防眩剤、防汚剤、レベリング剤等)を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、ハードコート層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより得ることができる。上記溶剤としては、樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分(複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤)を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶剤としては、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、水、アルコール類(エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。 The hard coat layer in the optical layered body 1 dissolves or disperses the organic boron compound, the resin and, if necessary, additives (for example, a polymerization initiator, an antiglare agent, an antifouling agent, a leveling agent) in a solvent. The resulting solution or dispersion is used as a composition for a hard coat layer, a coating film is formed from the composition, and the coating film is cured. The solvent can be selected and used according to the type and solubility of the resin, and can dissolve at least solids (a plurality of polymers and curable resin precursors, reaction initiators, other additives) uniformly. If it is. Examples of such solvents include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons ( Cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), water, alcohols (ethanol, isopropanol, Butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethylsulfoxide, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), etc. It may be a mixed solvent.

上記ハードコート層用組成物は、光透過性基材に対して浸透性のある浸透性溶剤を含有することが好ましい。本発明において、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。このような浸透性溶剤が光透過性基材を膨潤、湿潤することによって、ハードコート層用組成物の一部が光透過性基材まで浸透する挙動をとる。これによって、高い強度を得ることができる。更に、ハードコート層用組成物に含まれる有機ホウ素化合物がハードコート層中において凝集せずに、充分な分散状態で存在することができ、優れた帯電防止性能を維持することができるものである。 The hard coat layer composition preferably contains a permeable solvent that is permeable to the light transmissive substrate. In the present invention, the “permeability” of the osmotic solvent is intended to include all concepts such as permeability, swellability and wettability with respect to the light-transmitting substrate. When such a permeable solvent swells and wets the light-transmitting substrate, a part of the hard coat layer composition permeates to the light-transmitting substrate. Thereby, high strength can be obtained. Furthermore, the organoboron compound contained in the hard coat layer composition can be present in a sufficiently dispersed state without agglomerating in the hard coat layer, and excellent antistatic performance can be maintained. .

さらに、上記溶剤は、ハードコート層中の樹脂が基材に対して密着性を有するか否かに応じて決定することができる。例えば、上記樹脂が基材に対して密着性がない場合は、基材に対して浸透性を持つ溶剤を使用することが好ましい。例えば、基材がTACである場合、浸透性溶剤の具体例としては、ケトン類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エステル類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、含窒素化合物;ニトロメタン、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、グリコール類;メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、エーテル類;テトラヒドロフラン、1,4―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化水素;塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、グリコールエーテル類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられ、またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくはエステル類、ケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。その他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類も、上記浸透性溶剤と混合して用いることができる。
また、ハードコート層用組成物中において、上記浸透性溶剤は、溶剤全量中10〜100質量%、特に50〜100質量%となることが望ましい。
Furthermore, the said solvent can be determined according to whether resin in a hard-coat layer has adhesiveness with respect to a base material. For example, when the resin has no adhesion to the substrate, it is preferable to use a solvent that has permeability to the substrate. For example, when the base material is TAC, specific examples of the permeable solvent include ketones; acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, esters; methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate. , Ethyl lactate, nitrogen-containing compounds; nitromethane, acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, glycols; methyl glycol, methyl glycol acetate, ethers; tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dioxolane, diisopropyl ether, Halogenated hydrocarbons; methylene chloride, chloroform, tetrachloroethane, glycol ethers; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, other dimethyls Sulfoxide, include propylene carbonate, or include mixtures thereof, preferably esters, ketones; methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone. In addition, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, and isobutyl alcohol, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene can be mixed with the permeable solvent.
Moreover, in the composition for hard-coat layers, it is desirable that the permeable solvent is 10 to 100% by mass, particularly 50 to 100% by mass, based on the total amount of the solvent.

上記ハードコート層用組成物中における原料の含有割合(固形分)は限定的ではないが、通常は5〜70質量%、特に25〜60質量%とすることが好ましい。
上記ハードコート層用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、樹脂、分散剤、界面活性剤、その他の帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。
Although the content rate (solid content) of the raw material in the said composition for hard-coat layers is not limited, Usually, it is preferable to set it as 5-70 mass%, especially 25-60 mass%.
Depending on the purpose of increasing the hardness of the hard coat layer, suppressing cure shrinkage, controlling the refractive index, imparting anti-glare properties, etc., the hard coat layer composition has a resin, a dispersant, and a surface activity. Agents, other antistatic agents, silane coupling agents, thickeners, anti-coloring agents, coloring agents (pigments, dyes), antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, UV absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors Further, an antioxidant, a surface modifier, etc. may be added.

上記ハードコート層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。 The method for preparing the hard coat layer composition is not particularly limited as long as each component can be uniformly mixed. For example, the composition can be performed using a known apparatus such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, or a mixer.

上記ハードコート層を形成する工程は、具体的には、上記ハードコート層用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を硬化することによって行われる。上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。 Specifically, the step of forming the hard coat layer is performed by applying the hard coat layer composition to form a coating film, and curing the obtained coating film. The coating method is not particularly limited. For example, spin coating method, dip method, spray method, die coating method, bar coating method, roll coater method, meniscus coater method, flexographic printing method, screen printing method, pea coater method, etc. Can be mentioned.

上記塗膜の硬化としては特に限定されないが、必要に応じて乾燥し、そして加熱、活性エネルギー線照射等により硬化させて形成することが好ましい。 Although it does not specifically limit as hardening of the said coating film, It is preferable to form by drying as needed and making it harden | cure by heating, active energy ray irradiation, etc.

ハードコート層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。上記膜厚は、断面を電子顕微鏡(SEM、TEM、STEM)で観察し、測定した値である。 The thickness of the hard coat layer (during curing) is in the range of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. The film thickness is a value measured by observing the cross section with an electron microscope (SEM, TEM, STEM).

上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。 Examples of the active energy ray irradiation include irradiation with ultraviolet rays or electron beams. Specific examples of the ultraviolet light source include light sources such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a black light fluorescent lamp, and a metal halide lamp. As the wavelength of the ultraviolet light, a wavelength range of 190 to 380 nm can be used. Specific examples of the electron beam source include various electron beam accelerators such as a cockcroft-wald type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type.

光透過性基材
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテートが挙げられる。
Light-transmitting substrate The light-transmitting substrate is preferably one having smoothness and heat resistance and excellent mechanical strength. Specific examples of the material forming the light-transmitting substrate include polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, Examples thereof include thermoplastic resins such as polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyurethane, preferably polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), cellulose triacetate Is mentioned.

上記光透過性基材は、上記熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。 The light-transmitting substrate preferably uses the thermoplastic resin as a flexible film-like material, but uses a plate of these thermoplastic resins depending on the usage mode in which curability is required. It is also possible, or a glass plate plate may be used.

その他、上記光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー(Cyclo−Olefin−Polymer:COP)フィルムを挙げることができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン(株)製のゼオネックスやゼオノア(ノルボルネン系樹脂)、住友ベークライト(株)製のスミライトFS−1700、JSR(株)製 アートン(変性ノルボルネン系樹脂)、三井化学(株)製 のアペル(環状オレフィン共重合体)、Ticona社製のTopas(環状オレフィン共重合体)、日立化成(株)製のオプトレッツOZ−1000シリーズ(脂環式アクリル樹脂)等が挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ(株)製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましい。
In addition, examples of the light-transmitting substrate include an amorphous olefin polymer (Cyclo-Olefin-Polymer: COP) film having an alicyclic structure. This is a base material in which a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, a cyclic conjugated diene polymer, a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, or the like is used. ZEONEX, ZEONOR (norbornene resin), Sumilite FS-1700 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., Arton (modified norbornene resin) manufactured by JSR Corporation, Appel (cyclic olefin copolymer) manufactured by Mitsui Chemicals, Examples include Topas (cyclic olefin copolymer) manufactured by Ticona, Optretz OZ-1000 series (alicyclic acrylic resin) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., and the like.
Further, the FV series (low birefringence, low photoelastic modulus film) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation is also preferable as an alternative base material for triacetylcellulose.

光透過性基材の厚さは、20μm以上300μm以下であることが好ましく、より好ましくは上限が200μmであり、下限が30μmである。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを超える厚さであってもよい。基材は、その上にハードコート層、帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。 The thickness of the light-transmitting substrate is preferably 20 μm or more and 300 μm or less, more preferably the upper limit is 200 μm and the lower limit is 30 μm. When the light-transmitting substrate is a plate-like body, the thickness may exceed these thicknesses. The base material is a coating called an anchor agent or primer in addition to physical treatment such as corona discharge treatment and oxidation treatment to improve adhesion when forming a hard coat layer, an antistatic layer, etc. on the substrate. Application may be performed in advance.

本発明の光学積層体1は、光透過性等が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層(防眩層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等)の1層又は2層以上を適宜形成することができる。なかでも、防眩層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。 The optical layered body 1 of the present invention has other layers (an antiglare layer, a low refractive index layer, an antifouling layer, an adhesive layer, other hard coats) as necessary, as long as light transmittance and the like are not impaired. 1 layer or two or more layers can be appropriately formed. Among these, it is preferable to have at least one of an antiglare layer, a low refractive index layer, and an antifouling layer. These layers may be the same as those of a known antireflection laminate.

具体的には、例えば、図1に示したように、光透過性基材3の上に、防眩層4及びハードコート層5をこの順に形成してなる光学積層体等を挙げることができる。以下、任意の層について説明する。 Specifically, for example, as shown in FIG. 1, an optical laminated body in which an antiglare layer 4 and a hard coat layer 5 are formed in this order on a light transmissive substrate 3 can be exemplified. . Hereinafter, arbitrary layers will be described.

防眩層
防眩層は、例えば光透過性基材とハードコート層又は低屈折率層(後記)との間に形成されて良い。上記防眩層は、樹脂及び防眩剤を含む防眩層用組成物から形成されて良い。
Antiglare layer The antiglare layer may be formed, for example, between a light-transmitting substrate and a hard coat layer or a low refractive index layer (described later). The antiglare layer may be formed from a composition for an antiglare layer containing a resin and an antiglare agent.

上記樹脂としては、ハードコート層用組成物の項で説明したものから適宜選択して使用することができる。 As said resin, it can select from what was demonstrated by the term of the composition for hard-coat layers suitably, and can be used.

上記防眩剤としては、各種の微粒子を用いることができる。微粒子の平均粒径は限定的ではないが、一般的には0.01〜20μm程度とすれば良い。また、微粒子の形状は、真球状、楕円状等のいずれであっても良く、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、上記微粒子は、無機系又は有機系のものが挙げられる。 As the antiglare agent, various fine particles can be used. The average particle size of the fine particles is not limited, but is generally about 0.01 to 20 μm. Further, the shape of the fine particles may be any of a spherical shape, an elliptical shape, and the like, and preferably a spherical shape. The fine particles include inorganic or organic particles.

上記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものが良い。微粒子の具体例としては、無機系であれば、シリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.60)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。 The fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent. Specific examples of the fine particles include silica beads for inorganic materials and plastic beads for organic materials. Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.60), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), Examples thereof include polycarbonate beads and polyethylene beads.

防眩層の乾燥膜厚(硬化時)は、一般的には0.1〜100μm程度、特に0.8〜10μmの範囲とすることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。 The dry film thickness (at the time of curing) of the antiglare layer is generally about 0.1 to 100 μm, particularly preferably in the range of 0.8 to 10 μm. When the film thickness is within this range, the function as an antiglare layer can be sufficiently exhibited.

上記防眩層の膜厚は、以下の方法により測定することができる。
共焦点レーザー顕微鏡(LeicaTCS−NT:ライカ社製:倍率「300〜1000倍」)にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の測定基準により測定することができる。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率1.518のオイルを約2ml乗せて観察し判断する。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いる。
測定手順
1:レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。
2:測定条件は、上記の通りであった。
3:1画面につき 凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの層厚を1点ずつ計2点測定し、それを5画面分、計10点測定し、平均値を算出し、これを、防眩層の膜厚とする。このレーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察をすることができる。また、各層の組成の違いで観察できるSEM及びTEM断面写真の観察を用いて、5画面分の観察を行うことで同様に求めることができる。
The film thickness of the antiglare layer can be measured by the following method.
With a confocal laser microscope (Leica TCS-NT: Leica Co., Ltd .: magnification “300 to 1000 times”), the cross section of the optical laminate can be observed through transmission, the presence or absence of an interface can be determined, and the measurement can be performed according to the following measurement standards. . Specifically, in order to obtain a clear image without halation, a wet objective lens is used for the confocal laser microscope, and about 2 ml of oil having a refractive index of 1.518 is placed on the optical laminate. Judgment. The use of oil is used to eliminate the air layer between the objective lens and the optical laminate.
Measurement procedure 1: The average layer thickness was measured by laser microscope observation.
2: Measurement conditions were as described above.
For every 3: 1 screen, measure the layer thickness from the base material of the maximum uneven part and the minimum concave part one point at a time, and measure it for 5 screens, a total of 10 points, and calculate the average value. And the film thickness of the antiglare layer. This laser microscope can observe a non-destructive cross section by having a refractive index difference in each layer. Moreover, it can obtain | require similarly by performing observation for 5 screens using observation of the SEM and TEM cross-section photograph which can be observed with the difference in the composition of each layer.

低屈折率層
低屈折率層は、外部からの光(例えば蛍光灯、自然光等)が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。これらの低屈折率層は、その屈折率が1.45以下、特に1.42以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の乾燥厚みは限定されないが、通常は30nm〜1μm程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
Low-refractive index layer The low-refractive index layer is a layer that plays a role of reducing the reflectance when external light (for example, a fluorescent lamp, natural light, etc.) is reflected on the surface of the optical laminate. is there. These low refractive index layers preferably have a refractive index of 1.45 or less, particularly 1.42 or less.
Moreover, although the dry thickness of a low-refractive-index layer is not limited, Usually, what is necessary is just to set suitably from the range of about 30 nm-1 micrometer.

低屈折率層としては、好ましくは1)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、2)低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、3)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、4)シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかにより構成される。上記フッ素系樹脂以外の樹脂については、上記ハードコート層用組成物を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。 The low refractive index layer is preferably 1) a resin containing silica or magnesium fluoride, 2) a fluorine resin which is a low refractive index resin, 3) a fluorine resin containing silica or magnesium fluoride, and 4) silica. Alternatively, it is composed of a magnesium fluoride thin film or the like. About resin other than the said fluorine-type resin, resin similar to resin which comprises the said composition for hard-coat layers can be used.

上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。上記重合性化合物としては特に限定されず、例えば、電離放射線硬化性基、熱硬化性極性基等の硬化反応性基を有するものが好ましい。また、これらの反応性基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、上記重合体とは、上記のような反応性基等を一切もたないものである。 As the fluororesin, a polymerizable compound containing a fluorine atom in at least a molecule or a polymer thereof can be used. The polymerizable compound is not particularly limited, and for example, those having a curing reactive group such as an ionizing radiation curable group and a thermosetting polar group are preferable. Moreover, the compound which has these reactive groups simultaneously may be sufficient. In contrast to this polymerizable compound, the polymer has no reactive group as described above.

電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)を例示することができる。(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものとして、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、含フッ素(メタ)アクリレート化合物;分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物などもある。 As the polymerizable compound having an ionizing radiation curable group, fluorine-containing monomers having an ethylenically unsaturated bond can be widely used. More specifically, to illustrate fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) Can do. As having a (meth) acryloyloxy group, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoromethacryl Fluorinated (meth) acrylate compounds such as methyl acrylate and ethyl α-trifluoromethacrylate; C 1-14 fluoroalkyl group, fluorocycloalkyl group or fluoroalkylene having at least 3 fluorine atoms in the molecule And at least two (meth) acryloyloxy groups There are also fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds having a silyl group.

熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、4−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体;フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体;エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。 Preferable examples of the thermosetting polar group include hydrogen bond forming groups such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an epoxy group. These are excellent not only in adhesion to the coating film but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica. Examples of the polymerizable compound having a thermosetting polar group include 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymer; epoxy, polyurethane, cellulose, phenol, polyimide, and the like. Fluorine modified products of each resin can be mentioned.

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。 Polymerizable compounds having both ionizing radiation curable groups and thermosetting polar groups include acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters, fully or partially fluorinated vinyl ethers, fully or partially fluorine. Illustrative examples include fluorinated vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones, and the like.

また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体;上記含フッ素(メタ)アクリレート化合物の少なくとも1種類と、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない(メタ)アクリレート化合物との共重合体;フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。 Moreover, as a fluorine resin, the following can be mentioned, for example. Polymer of monomer or monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound of a polymerizable compound having an ionizing radiation curable group; at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound; and methyl (meth) Copolymers with (meth) acrylate compounds that do not contain fluorine atoms in the molecule such as acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate; fluoroethylene , Fluorine-containing compounds such as vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoropropylene, hexafluoropropylene Monomer homopolymer or Copolymer such as. Silicone-containing vinylidene fluoride copolymers obtained by adding a silicone component to these copolymers can also be used.

上記シリコーン成分としては特に限定されず、例えば、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。 The silicone component is not particularly limited. For example, (poly) dimethylsiloxane, (poly) diethylsiloxane, (poly) diphenylsiloxane, (poly) methylphenylsiloxane, alkyl-modified (poly) dimethylsiloxane, azo group-containing (poly ) Dimethylsiloxane, dimethylsilicone, phenylmethylsilicone, alkyl-aralkyl-modified silicone, fluorosilicone, polyether-modified silicone, fatty acid ester-modified silicone, methylhydrogen silicone, silanol group-containing silicone, alkoxy group-containing silicone, phenol group-containing silicone, methacryl Modified silicone, amino modified silicone, carboxylic acid modified silicone, carbinol modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone, Tsu-containing modified silicone, polyether-modified silicone are exemplified. Among them, those having a dimethylsiloxane structure are preferable.

上記ジメチルシロキサン構造としてより具体的には、末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル、又は、ポリアリールシロキサンに各種架橋剤、例えばテトラアセトキシシラン、テトラアルコキシシラン、テトラエチルメチルケトオキシムシラン、テトライソプロペニルシラン等の四官能シラン、さらにはアルキル又はアルケニルトリアセトキシシラン、トリケトオキシムシラン、トリイソプロペニルシラントリアルコキシシランなどの3官能シランなどを添加混合したもの、場合によってはあらかじめ反応させたものが挙げられる。 More specifically, as the dimethylsiloxane structure, polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, polymethylvinylsiloxane, or other polyalkyl, polyalkenyl, or polyarylsiloxane having a silanol group at the terminal may be added to various crosslinking agents such as tetra Tetrafunctional silanes such as acetoxysilane, tetraalkoxysilane, tetraethylmethyl ketoxime silane, tetraisopropenyl silane, trifunctional silanes such as alkyl or alkenyl triacetoxy silane, triketoxime silane, triisopropenyl silane trialkoxy silane, etc. And those that have been reacted in advance in some cases.

さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも1個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも1個有する化合物とを反応させて得られる化合物;フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。 Furthermore, non-polymers or polymers composed of the following compounds can also be used as the fluororesin. That is, a fluorine-containing compound having at least one isocyanato group in the molecule is reacted with a compound having at least one functional group in the molecule that reacts with an isocyanato group such as an amino group, a hydroxyl group, or a carboxyl group. Compound obtained: a compound obtained by reacting a fluorine-containing polyol such as fluorine-containing polyether polyol, fluorine-containing alkyl polyol, fluorine-containing polyester polyol, fluorine-containing ε-caprolactone modified polyol with a compound having an isocyanato group Can be used.

また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、ハードコート層用組成物に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。 In addition to the above-described polymerizable compound or polymer having a fluorine atom, resin components as described in the hard coat layer composition can be mixed and used. Furthermore, various additives and solvents can be used as appropriate in order to improve the curing agent for curing reactive groups and the like, to improve the coating property, and to impart antifouling properties.

低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物(屈折率層用組成物)を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分(樹脂等)及び必要に応じて添加剤(例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等)を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、特に限定されず、公知のものを挙げることができる。 In forming the low refractive index layer, for example, it can be formed using a composition containing a raw material component (a composition for a refractive index layer). More specifically, a raw material component (resin, etc.) and, if necessary, an additive (for example, “fine particles having voids”, a polymerization initiator, an antistatic agent, an antiglare agent, etc., described later) are dissolved or dispersed in a solvent. A low refractive index layer can be obtained by using the resulting solution or dispersion as a composition for a low refractive index layer, forming a coating film from the composition, and curing the coating film. In addition, additives, such as a polymerization initiator, an antistatic agent, and an anti-glare agent, are not specifically limited, A well-known thing can be mentioned.

上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を1.30〜1.45に調節することが可能である。 In the low refractive index layer, it is preferable to use “fine particles having voids” as the low refractive index agent. The “fine particles having voids” can lower the refractive index while maintaining the layer strength of the low refractive index layer. In the present invention, the term “fine particles having voids” refers to a structure in which a gas is filled with gas and / or a porous structure containing gas, and the gas in the fine particle is compared with the original refractive index of the fine particle. It means fine particles whose refractive index decreases in inverse proportion to the occupation ratio. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure at least inside and / or on the surface depending on the form, structure, aggregated state, and dispersed state of the fine particles inside the coating. The low refractive index layer using these fine particles can adjust the refractive index to 1.30 to 1.45.

空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開2001−233611号公報に記載された方法によって調製されたシリカ微粒子を挙げることができる。また、特開平7−133105号公報、特開2002−79616号公報、特開2006−106714号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってよい。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20〜1.45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。 Examples of the inorganic fine particles having voids include silica fine particles prepared by the method described in JP-A-2001-233611. Further, it may be silica fine particles obtained by the production methods described in JP-A-7-133105, JP-A-2002-79616, JP-A-2006-106714, and the like. Since silica fine particles having voids are easy to manufacture and have high hardness, when a low refractive index layer is formed by mixing with a binder, the layer strength is improved and the refractive index is 1.20-1. It is possible to prepare within the range of about 45. In particular, as specific examples of the organic fine particles having voids, hollow polymer fine particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-2002-80503 are preferably exemplified.

被膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体例としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。 The fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least a part of the surface of the coating are manufactured for the purpose of increasing the specific surface area in addition to the silica fine particles, and the packing column and the porous surface Examples include a release material that adsorbs various chemical substances on the part, a porous fine particle used for catalyst fixation, a dispersion or aggregate of hollow fine particles intended to be incorporated into a heat insulating material or a low dielectric material. As a specific example, aggregates of porous silica fine particles and silica fine particles manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. were linked in a chain form from the product names Nippon and Nippon manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd. as commercial products. From the colloidal silica UP series (trade name) having a structure, those within the range of the preferable particle diameter of the present invention can be used.

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が100nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が80nm以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法等によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中に樹脂100質量部に対して、通常0.1〜500質量部程度、好ましくは10〜200質量部程度とするのが好ましい。 The average particle diameter of the “fine particles having voids” is 5 nm or more and 300 nm or less, preferably the lower limit is 8 nm or more and the upper limit is 100 nm or less, more preferably the lower limit is 10 nm or more and the upper limit is 80 nm or less. When the average particle diameter of the fine particles is within this range, excellent transparency can be imparted to the low refractive index layer. The average particle diameter is a value measured by a dynamic light scattering method or the like. The “fine particles having voids” are usually about 0.1 to 500 parts by mass, preferably about 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin in the low refractive index layer.

上記溶剤としては特に限定されず、例えば、ハードコート層用組成物で例示したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソプロピルアルコール(IPA)、n−ブタノール、t−ブタノール、ジエチルケトン、PGME等である。 Examples of the solvent include, but are not limited to, those exemplified for the hard coat layer composition, preferably methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isopropyl alcohol (IPA), n-butanol, t-butanol, diethyl ketone. PGME and the like.

上記低屈折率層用組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。 The preparation method of the composition for a low refractive index layer is not particularly limited as long as the components can be mixed uniformly, and may be performed according to a known method. For example, it can mix using the well-known apparatus mentioned above in formation of a hard-coat layer.

塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した各種方法を用いることができる。 The formation method of a coating film should just follow a well-known method. For example, the various methods described above for forming the hard coat layer can be used.

低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる0.5〜5cps(25℃)、好ましくは0.7〜3cps(25℃)の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。 In the formation of the low refractive index layer, the viscosity of the composition for the low refractive index layer is in the range of 0.5 to 5 cps (25 ° C.), preferably 0.7 to 3 cps (25 ° C.) at which preferable coating properties are obtained. Preferably. An antireflection film excellent in visible light can be realized, a uniform thin film with no coating unevenness can be formed, and a low refractive index layer particularly excellent in adhesion to a substrate can be formed.

得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤が添加されることが好ましい。 What is necessary is just to select the hardening method of the obtained coating film suitably according to the content etc. of the composition. For example, in the case of an ultraviolet curing type, the coating film may be cured by irradiating with ultraviolet rays. When a heating means is used for the curing treatment, it is preferable to add a thermal polymerization initiator that generates, for example, a radical by heating to start polymerization of the polymerizable compound.

低屈折率層の膜厚(nm)dは、下記式(I):
=mλ/(4n) (I)
(上記式中、nは低屈折率層の屈折率を表し、mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)を満たすものが好ましい。
The film thickness (nm) d A of the low refractive index layer is expressed by the following formula (I):
d A = mλ / (4n A ) (I)
(In the above formula, n A represents the refractive index of the low refractive index layer, m represents a positive odd number, preferably 1 and λ is a wavelength, preferably a value in the range of 480 to 580 nm) Those satisfying these conditions are preferred.

また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式(II):
120<n<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
In the present invention, the low refractive index layer has the following formula (II):
120 <n A d A <145 (II)
It is preferable from the viewpoint of low reflectivity.

防汚層
防汚層は、光学積層体の最表面に汚れ(指紋、水性又は油性のインキ類、鉛筆等)が付着しにくく、又は付着した場合でも容易に拭取ることができるという役割を担う層である。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良く、特に低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の両側に防汚層が設けることが好ましい。防汚層の形成により、光学積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。低屈折率層がない場合でも、最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良い。
Antifouling layer The antifouling layer is difficult to adhere to dirt (fingerprints, water-based or oil-based inks, pencils, etc.) on the outermost surface of the optical laminate, or can be easily wiped off even when it adheres. It is a layer that plays a role. According to a preferred embodiment of the present invention, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing the outermost surface of the low refractive index layer from being stained, and in particular, one surface of the light-transmitting substrate on which the low refractive index layer is formed; It is preferable to provide an antifouling layer on both opposite sides. By forming the antifouling layer, the optical laminate can be further improved in antifouling properties and scratch resistance. Even when there is no low refractive index layer, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing contamination on the outermost surface.

防汚層は、一般的には、防汚染剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とするものであり、光学積層体の耐擦傷性を付与することもできる。上記防汚染剤としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、又はこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、2−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。上記樹脂としては特に限定されず、上述のハードコート層用組成物で例示した樹脂を挙げることができる。 In general, the antifouling layer can be formed of a composition containing an antifouling agent and a resin. The antifouling agent is mainly intended to prevent the outermost surface of the optical laminate from being stained, and can also impart scratch resistance to the optical laminate. Examples of the antifouling agent include fluorine compounds, silicon compounds, and mixed compounds thereof. More specifically, silane coupling agents having a fluoroalkyl group, such as 2-perfluorooctylethyltriaminosilane, and the like can be mentioned, and those having an amino group can be preferably used. It does not specifically limit as said resin, Resin illustrated by the above-mentioned composition for hard-coat layers can be mentioned.

防汚層は、例えばハードコート層の上に形成することができる。特に、防汚層が最表面になるように形成することが望ましい。防汚層は、例えばハードコート層自身に防汚性能を付与することにより代替することもできる。 The antifouling layer can be formed, for example, on the hard coat layer. In particular, it is desirable to form the antifouling layer so as to be the outermost surface. The antifouling layer can be replaced, for example, by imparting antifouling performance to the hard coat layer itself.

(光学積層体2)
次に、本発明の光学積層体2について説明する。本発明の光学積層体2は、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を形成してなるものである。光学積層体2において、上記帯電防止層は、有機ホウ素化合物を含有するものであり、上記有機ホウ素化合物の固形分含有量は、30〜70質量%であることが好ましい。上記含有量が30質量%未満であると、充分な帯電防止性能を得ることができないおそれがある。
(Optical laminate 2)
Next, the optical laminate 2 of the present invention will be described. The optical layered body 2 of the present invention is formed by forming an antistatic layer and a hard coat layer on a light transmissive substrate. In the optical layered body 2, the antistatic layer contains an organic boron compound, and the solid content of the organic boron compound is preferably 30 to 70% by mass. If the content is less than 30% by mass, sufficient antistatic performance may not be obtained.

帯電防止層
上記帯電防止層は、上記有機ホウ素化合物、並びに、必要に応じて樹脂及び添加剤(例えば、重合開始剤、防眩剤、防汚剤、レベリング剤等)を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、帯電防止層用組成物として用い、上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより得ることができる。
Antistatic layer The antistatic layer comprises the organic boron compound and, if necessary, a resin and an additive (for example, a polymerization initiator, an antiglare agent, an antifouling agent, a leveling agent) in a solvent. It can be obtained by using a solution or dispersion obtained by dissolving or dispersing as a composition for an antistatic layer, forming a coating film from the composition, and curing the coating film.

上記溶剤としては、用いる有機ホウ素化合物の種類に応じて公知の溶剤の中から適宜選択すればよいが、例えば、ハードコート層用組成物において例示したものを挙げることができる。上記溶剤は、上記ハードコート層用組成物と同様に、浸透性溶剤を使用することが好ましい。帯電防止用組成物において浸透性溶剤とは、光透過性基材に対して浸透性のある浸透性溶剤である。このような浸透性溶剤が光透過性基材を膨潤、湿潤することによって、帯電防止層用組成物の一部が光透過性基材まで浸透する挙動をとる。これによって、上記ハードコート層用組成物が浸透する場合と同様に、高い強度を得ることができるものである。更に、有機ホウ素化合物が帯電防止層中において凝集せずに、充分な分散状態で存在することができ、優れた帯電防止性能を維持することができるものである。 The solvent may be appropriately selected from known solvents according to the type of the organic boron compound to be used, and examples thereof include those exemplified in the hard coat layer composition. As for the said solvent, it is preferable to use a permeable solvent similarly to the said composition for hard-coat layers. In the antistatic composition, the permeable solvent is a permeable solvent that is permeable to the light-transmitting substrate. When such a permeable solvent swells and wets the light-transmitting substrate, a part of the composition for the antistatic layer permeates to the light-transmitting substrate. By this, high intensity | strength can be obtained similarly to the case where the said composition for hard-coat layers osmose | permeates. Furthermore, the organic boron compound can be present in a sufficiently dispersed state without aggregating in the antistatic layer, and excellent antistatic performance can be maintained.

上記樹脂としては特に限定されず、例えば、電離放射線硬化型樹脂、溶剤乾燥型樹脂、熱硬化型樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂としては特に限定されず、例えば、前述のものを挙げることができる。特に、透明性が高く、熱、光に対する耐久性を有し、硬化後に、帯電防止機能を阻害しないような、電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。 The resin is not particularly limited, and examples thereof include an ionizing radiation curable resin, a solvent drying resin, and a thermosetting resin. These resins are not particularly limited, and examples thereof include those described above. In particular, it is preferable to use an ionizing radiation curable resin that has high transparency, has durability against heat and light, and does not inhibit the antistatic function after curing.

上記帯電防止層用組成物は、上述した成分の他に、必要に応じて添加剤を添加することができる。上記添加剤としては、上述した以外の樹脂、界面活性剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、顔料又は染料等の着色剤、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を挙げることができる。これらは、帯電防止層に通常使用される公知のものを使用することができる。 In addition to the components described above, an additive may be added to the antistatic layer composition as necessary. Examples of the additive include resins other than those described above, surfactants, coupling agents, thickeners, anti-coloring agents, coloring agents such as pigments or dyes, antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, ultraviolet absorbers, Infrared absorbers, adhesion-imparting agents, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers and the like can be mentioned. As these, known materials usually used for an antistatic layer can be used.

上記帯電防止層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できる方法であれば特に限定されず、公知の方法に従って実施すればよい。例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用することができる。 The method for preparing the antistatic layer composition is not particularly limited as long as each component can be uniformly mixed, and may be carried out according to a known method. For example, a known apparatus such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, or a mixer can be used.

本発明における帯電防止層の形成は、具体的には、上記帯電防止層用組成物を光透過性基材の上に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を硬化することによって行われる。上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。 Specifically, the antistatic layer in the present invention is formed by coating the antistatic layer composition on a light-transmitting substrate to form a coating film, and then curing the obtained coating film. Done. The coating method is not particularly limited. For example, spin coating method, dip method, spray method, dye coating method, bar coating method, roll coater method, meniscus coater method, flexographic printing method, screen printing method, and pea coater method. And the like.

上記塗膜の形成後、必要に応じて硬化を行うものであっても良い。上記硬化方法としては、特に限定されず、使用する樹脂の種類等に応じて適宜選択することができるが、例えば、紫外線等のエネルギー線照射によって硬化することができる。 After the formation of the coating film, curing may be performed as necessary. Although it does not specifically limit as said hardening method, Although it can select suitably according to the kind etc. of resin to be used, For example, it can harden | cure by irradiation of energy rays, such as an ultraviolet-ray.

上記帯電防止層の厚さ(乾燥厚み)は、通常は10〜500nm程度、特に50〜200nmとすることが好ましい。厚さが10nm未満の場合は、全光線透過率、ヘイズ等の光学性能にとっては望ましいが、目的とする帯電防止性能(飽和帯電圧で2.0kV未満)を得ることができないことがある。また、厚さが500nmを超える場合、ハードコート層の断面相が帯電防止層を介し、光透過性基材中に存在させるためには、非常に時間を要し、生産加工面において非効率的になるおそれがある。以上のような理由から上記の膜厚範囲に設定することが好ましい。上記帯電防止層の厚さも、上記ハードコート層と同様に測定することができる。 The thickness (dry thickness) of the antistatic layer is usually about 10 to 500 nm, and preferably 50 to 200 nm. When the thickness is less than 10 nm, it is desirable for optical performance such as total light transmittance and haze, but the desired antistatic performance (saturation band voltage less than 2.0 kV) may not be obtained. Also, when the thickness exceeds 500 nm, it takes a very long time for the cross-sectional phase of the hard coat layer to exist in the light-transmitting substrate via the antistatic layer, which is inefficient in terms of production processing There is a risk of becoming. For the reasons described above, it is preferable to set the film thickness within the above range. The thickness of the antistatic layer can also be measured in the same manner as the hard coat layer.

本発明の光学積層体2は、光透過性基材の上に帯電防止層及びハードコート層を備えてなる光学積層体である。上記光学積層体2において、上記ハードコート層は上記有機ホウ素化合物を含有するものであっても、含有しないものであってもよい。 The optical laminate 2 of the present invention is an optical laminate comprising an antistatic layer and a hard coat layer on a light transmissive substrate. In the optical layered body 2, the hard coat layer may or may not contain the organic boron compound.

上記光学積層体2において、ハードコート層が有機ホウ素化合物を含有する場合、光学積層体1において述べたハードコート層を形成することが好ましい。上記光学積層体2においてハードコート層が有機ホウ素化合物を含有しない場合、有機ホウ素化合物を含有しないこと以外は光学積層体1において述べたハードコート層用組成物と同様の組成物によってハードコート層を形成することが好ましい。 In the optical laminate 2, when the hard coat layer contains an organic boron compound, it is preferable to form the hard coat layer described in the optical laminate 1. When the hard coat layer does not contain an organic boron compound in the optical laminate 2, the hard coat layer is made of the same composition as the hard coat layer composition described in the optical laminate 1 except that the organic boron compound is not contained. It is preferable to form.

上記光学積層体2におけるハードコート層は、光透過性基材及び帯電防止層に対して浸透性のある浸透性溶剤を含有することが好ましい。このような浸透性溶剤が光透過性基材を膨潤、湿潤することによって、ハードコート層用組成物の一部が帯電防止層を介して光透過性基材まで浸透する挙動をとる。これによって、高い強度を得ることができる。このような浸透性溶剤としては特に限定されず、例えば、上述のものを挙げることができる。 The hard coat layer in the optical layered body 2 preferably contains a permeable solvent that is permeable to the light-transmitting substrate and the antistatic layer. When such a permeable solvent swells and wets the light-transmitting substrate, a part of the hard coat layer composition permeates to the light-transmitting substrate through the antistatic layer. Thereby, high strength can be obtained. Such a permeable solvent is not particularly limited, and examples thereof include those described above.

本発明の光学積層体2は、必要に応じて他の層(防眩層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等)の1層又は2層以上を適宜有するものであってよい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもでき、例えば、上述のものを使用することができる。具体的には、例えば、図2に示したように、光透過性基材3の上に、帯電防止層6及びハードコート層5をこの順に形成し、更に防汚層7を形成してなる光学積層体等を挙げることができる。 The optical layered body 2 of the present invention appropriately comprises one or more other layers (antiglare layer, low refractive index layer, antifouling layer, adhesive layer, other hard coat layer, etc.) as necessary. You may have. These layers may be the same as those of a known antireflection laminate, and for example, those described above can be used. Specifically, for example, as shown in FIG. 2, an antistatic layer 6 and a hard coat layer 5 are formed in this order on a light-transmitting substrate 3, and an antifouling layer 7 is further formed. An optical laminated body etc. can be mentioned.

偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
By providing the optical laminate according to the present invention on the surface of the polarizing element on the surface opposite to the surface where the hard coat layer is present in the optical laminate, a polarizing plate can be obtained.
The polarizing element is not particularly limited, and for example, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film, etc. dyed and stretched with iodine or the like can be used. In the laminating process of the polarizing element and the optical laminate of the present invention, it is preferable to saponify the light-transmitting substrate (preferably a triacetyl cellulose film). By the saponification treatment, the adhesiveness is improved and an antistatic effect can be obtained.

最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置とすることもできる。上記画像表示装置は、LCD等の非自発光型画像表示装置であっても、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等の自発光型画像表示装置であってもよい。 It can also be set as the image display apparatus provided with the said optical laminated body or the said polarizing plate on the outermost surface. The image display device may be a non-self-luminous image display device such as an LCD, or a self-luminous image display device such as a PDP, FED, ELD (organic EL, inorganic EL), or CRT.

上記非自発発光型の代表的な例であるLCDは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がLCDである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は上述の偏光板が形成されてなるものである。 An LCD as a typical example of the non-spontaneous light emission type includes a transmissive display body and a light source device that irradiates the transmissive display body from the back. When the image display device is an LCD, the optical laminate of the present invention or the above-described polarizing plate is formed on the surface of the transmissive display body.

上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。 In the case of the liquid crystal display device having the optical laminated body, the light source of the light source device is irradiated from the lower side of the optical laminated body. Note that in the STN liquid crystal display device, a retardation plate may be inserted between the liquid crystal display element and the polarizing plate. An adhesive layer may be provided between the layers of the liquid crystal display device as necessary.

上記自発光型画像表示装置であるPDPは、表面ガラス基板(表面に電極を形成)と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板(電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成)とを備えてなるものである。上記画像表示装置がPDPである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板(ガラス基板又はフィルム基板)に上述した光学積層体を備えるものでもある。 The PDP, which is the self-luminous image display device, has a front glass substrate (electrodes are formed on the surface) and a rear glass substrate (electrodes and minute electrodes) disposed with a discharge gas sealed between the front glass substrate and the front glass substrate. Are formed on the surface, and red, green, and blue phosphor layers are formed in the groove). When the image display device is a PDP, the above-described optical laminate is provided on the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate).

上記自発発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質:発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行なうELD装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRTなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。 The self-luminous image display device is an ELD device that emits light when a voltage is applied, such as zinc sulfide and a diamine substance: a phosphor is deposited on a glass substrate, and the voltage applied to the substrate is controlled. It may be an image display device such as a CRT that converts light into light and generates an image visible to the human eye. In this case, the optical laminated body described above is provided on the outermost surface of each display device as described above or the surface of the front plate.

上記画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、CRT、液晶パネル、PDP、ELD、FEDなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。 In any case, the image display device can be used for display of a television, a computer, a word processor, or the like. In particular, it can be suitably used for the surface of high-definition image displays such as CRT, liquid crystal panel, PDP, ELD, FED and the like.

本発明の光学積層体は、透明性を維持し、安定に帯電防止性能を発揮し、製造時にコーター等への錆発生も抑制することのできるものである。従って、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等に好適に適用することができる。 The optical layered body of the present invention maintains transparency, exhibits stable antistatic performance, and can suppress the occurrence of rust on the coater and the like during production. Therefore, the optical laminate of the present invention can be suitably applied to a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD) and the like.

以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。 The features of the present invention will be described more specifically with reference to the following examples and comparative examples. However, the scope of the present invention is not limited to the examples.

実施例1
厚さ100μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績社製、商品名「A4300」)を透明基材として用い、ハイボロン(ボロンインターナショナル社製)を帯電防止層用組成物としてマイヤーバーによりバーコートした後、70℃の送風オーブン中で30秒間乾燥、溶剤除去することにより、乾燥膜厚200nmの帯電防止層を形成した。
続いて下記のハードコート層用組成物をバーコートし、乾燥により溶剤を除去した後、照射線量100mJ/cm で紫外線照射を行い、ハードコート層を硬化させて、塗膜5μmのハードコート層を形成し、光学積層体を得た。
Example 1
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (trade name “A4300”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was used as a transparent substrate, and high boron (manufactured by Boron International) was bar-coated with a Mayer bar as a composition for an antistatic layer. Then, the antistatic layer having a dry film thickness of 200 nm was formed by drying in a 70 ° C. blowing oven for 30 seconds and removing the solvent.
Subsequently, the following hard coat layer composition was bar-coated, and after removing the solvent by drying, the hard coat layer was cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation dose of 100 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a coating thickness of 5 μm. And an optical laminate was obtained.

ハードコート層用組成物の調製
下記の組成の成分を配合してハードコート層用コーティング組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート 100質量部
(日本化薬(株)製、商品名;PET30)
メチルエチルケトン 43質量部
レベリング剤 2質量部
(大日本インキ化学工業(株)、商品名;MCF−350−5)
重合開始剤 6質量部
(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア184)
Preparation of hard coat layer composition A component having the following composition was blended to prepare a hard coat layer coating composition.
100 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: PET30)
Methyl ethyl ketone 43 parts by mass Leveling agent 2 parts by mass (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: MCF-350-5)
Polymerization initiator 6 parts by mass (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 184)

実施例2
実施例1と同様にして、厚さ100μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績社製、商品名「A4300」)を透明基材として用い、下記の組成にて調製した、ホウ素系帯電防止材料を含有するハードコート層用組成物をマイヤーバーによりバーコートした後、乾燥により溶剤を除去した後、照射線量100mJ/cm で紫外線照射を行い、ハードコート層を硬化させて、塗膜5μmの帯電防止性ハードコート層を形成し、光学積層体を得た。
Example 2
A boron-based antistatic material prepared in the same manner as in Example 1, using a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (trade name “A4300”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm as a transparent substrate. After the bar coating of the hard coat layer composition containing the composition with a Meyer bar, after removing the solvent by drying, the hard coat layer was cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation dose of 100 mJ / cm 2 , and a coating film of 5 μm An antistatic hard coat layer was formed to obtain an optical laminate.

帯電防止性ハードコート層用組成物の調製
下記の組成の成分を配合して帯電防止性ハードコート層用コーティング組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート 70質量部
(日本化薬(株)製、商品名;PET30)
ハイボロン(ボロンインターナショナル社製) 30質量部
メチルエチルケトン 43質量部
レベリング剤 2質量部
(大日本インキ化学工業(株)、商品名;MCF−350−5)
重合開始剤 6質量部
(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア184)
Preparation of antistatic hard coat layer composition An antistatic hard coat layer coating composition was prepared by blending the components of the following composition.
70 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: PET30)
High boron (manufactured by Boron International) 30 parts by mass Methyl ethyl ketone 43 parts by mass Leveling agent 2 parts by mass (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: MCF-350-5)
Polymerization initiator 6 parts by mass (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 184)

比較例1
ハイボロンに代えてサンコノールTBX(リチウム系イオン伝導型帯電防止剤含有;三光化学工業社製)を配合したこと以外は実施例2と同様にして調製したハードコート層用組成物を、上記フィルム上にコーティング用巻線ロッド(メイヤーズバー)#14を用いて塗布し、70℃のオーブン中で1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、紫外線を照射線量が30mJになるよう照射して塗膜を硬化させハードコート層を形成し、光学積層体を得た。
Comparative Example 1
A hard coat layer composition prepared in the same manner as in Example 2 except that Sanconol TBX (containing a lithium ion conduction type antistatic agent; manufactured by Sanko Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of high boron. Apply using a winding rod (Meyer's bar) # 14 for coating, heat dry in an oven at 70 ° C for 1 minute, evaporate the solvent, and then irradiate with ultraviolet rays to a dose of 30 mJ. The film was cured to form a hard coat layer to obtain an optical laminate.

比較例2
サンコノールTBXを帯電防止層用組成物として使用したこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
Comparative Example 2
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that Sanconol TBX was used as the composition for the antistatic layer.

比較例3
ポリアニリン(電子伝導型導電性高分子材料、シグマアルドリッチ社製)を帯電防止層用組成物として使用したこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体を得た。
Comparative Example 3
An optical laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that polyaniline (electron-conducting conductive polymer material, manufactured by Sigma-Aldrich) was used as the antistatic layer composition.

得られた光学積層体について、表1記載の各測定環境における表面抵抗率を測定し、帯電防止性能の指標として評価した。また、ガラス瓶の内側面に各光学積層体を固定し、微量の純水を添加後、密閉し100℃オーブン中10時間放置した後の錆出の有無を評価した。結果を表1に示す。 About the obtained optical laminated body, the surface resistivity in each measurement environment of Table 1 was measured, and it evaluated as a parameter | index of antistatic performance. Moreover, each optical laminated body was fixed to the inner surface of a glass bottle, after adding a trace amount of pure water, it sealed, and the presence or absence of the rusting after leaving to stand in 100 degreeC oven for 10 hours was evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 0005056021
Figure 0005056021

実施例により得られた光学積層体は、環境に影響されず、安定な帯電防止性能を発揮することが示された。一方、比較例により得られた光学積層体は、使用環境による影響を大きく受け、特に低湿度下での帯電防止性能が低下することが示された。更に、実施例により得られた光学積層体は、錆発生が起こりにくく、非常に安定であることが示された。 It was shown that the optical laminates obtained by the examples exhibited stable antistatic performance without being affected by the environment. On the other hand, it was shown that the optical laminate obtained by the comparative example was greatly affected by the use environment, and the antistatic performance was lowered particularly under low humidity. Furthermore, it was shown that the optical laminates obtained by the examples are very stable because rust generation hardly occurs.

本発明により、透明性を維持し、安定に帯電防止性能を発揮し、製造時に印刷機等への錆発生も抑制することのできる光学積層体を得ることができる。本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等に好適に適用することができる。 According to the present invention, it is possible to obtain an optical laminate that maintains transparency, stably exhibits antistatic performance, and can suppress the occurrence of rust on a printing machine or the like during production. The optical laminate of the present invention can be suitably applied to a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD) and the like.

本発明の光学積層体の一例である。It is an example of the optical laminated body of this invention. 本発明の光学積層体の一例である。It is an example of the optical laminated body of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

3 光透過性基材
4 防眩層
5 ハードコート層
6 帯電防止層
7 防汚層
3 Light-transmitting substrate 4 Antiglare layer 5 Hard coat layer 6 Antistatic layer 7 Antifouling layer

Claims (6)

光透過性基材の上に、ハードコート層を備えてなる光学積層体であって、
前記ハードコート層は、有機ホウ素化合物を含有し、
前記有機ホウ素化合物は、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体である
ことを特徴とする光学積層体。
An optical laminate comprising a hard coat layer on a light transmissive substrate,
The hard coat layer contains an organoboron compound ,
The optical laminated body, wherein the organic boron compound is an ionic conjugate of polyether, polyaldehyde or polyketone and boron .
光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層を備えてなる光学積層体であって、
前記帯電防止層は、有機ホウ素化合物を含有し、
前記有機ホウ素化合物は、ポリエーテル、ポリアルデヒド又はポリケトンとホウ素とのイオン結合体である
ことを特徴とする光学積層体。
An optical laminate comprising an antistatic layer and a hard coat layer on a light transmissive substrate,
The antistatic layer contains an organic boron compound ,
The optical laminated body, wherein the organic boron compound is an ionic conjugate of polyether, polyaldehyde or polyketone and boron .
ハードコート層は、樹脂、溶剤、及び、有機ホウ素化合物を含むハードコート層用組成物により形成され、
前記溶剤は、浸透性溶剤を含んでなる請求項1記載の光学積層体。
The hard coat layer is formed of a hard coat layer composition containing a resin, a solvent, and an organic boron compound,
The optical layered body according to claim 1, wherein the solvent comprises a permeable solvent.
帯電防止層は、樹脂、溶剤、及び、有機ホウ素化合物を含む帯電防止層用組成物により形成され、
前記溶剤は、浸透性溶剤を含んでなる請求項2記載の光学積層体。
The antistatic layer is formed of a composition for an antistatic layer containing a resin, a solvent, and an organic boron compound,
The optical layered body according to claim 2, wherein the solvent comprises a permeable solvent.
偏光素子を備えてなる偏光板であって、A polarizing plate comprising a polarizing element,
前記偏光素子の表面に、請求項1、2、3又は4記載の光学積層体が、該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けられていることを特徴とする偏光板。Polarized light characterized in that the optical layered body according to claim 1, 2, 3 or 4 is provided on the surface of the polarizing element on a surface opposite to the surface on which the hard coat layer is present in the optical layered body. Board.
最表面に請求項1、2、3若しくは4記載の光学積層体、又は、請求項5記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。An image display device comprising the optical laminate according to claim 1, 3, or 4 or the polarizing plate according to claim 5 on an outermost surface.
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