JP4946679B2 - Keyboard device - Google Patents

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Description

本発明は、電子鍵盤楽器等に使用される鍵盤装置に係り、特に、鍵のタッチ感を改良するための鍵および質量体(ハンマ)の構造に関するものである。   The present invention relates to a keyboard device used for an electronic keyboard instrument or the like, and more particularly, to a key and mass (hammer) structure for improving the touch feeling of a key.

従来から、電子鍵盤楽器の鍵盤装置にアコースティックピアノのような自然な押鍵感触(質量感)を擬似的に得るために、例えば特許文献1に示すような鍵盤装置が提案されている。この種の鍵盤装置では、例えば、鍵の回動に連動して上下方向に回動する質量体が鍵に設けられている。   Conventionally, for example, a keyboard device as shown in Patent Document 1 has been proposed in order to obtain a natural key press feeling (mass feeling) like an acoustic piano in a keyboard device of an electronic keyboard instrument. In this type of keyboard device, for example, a mass body that rotates up and down in conjunction with the rotation of the key is provided on the key.

上述した質量体の回動範囲(初期位置から押し切り位置まで)は、2つのストッパにより規制されている。上記鍵盤装置は、質量体が2つのストッパの一方に当接したときに鍵は押鍵押し切り位置となり、2つのストッパの他方に当接したときに鍵は初期位置となる。   The rotation range (from the initial position to the push-off position) of the mass body described above is regulated by two stoppers. In the keyboard device, when the mass body comes into contact with one of the two stoppers, the key becomes the key pressing position, and when the mass body comes into contact with the other of the two stoppers, the key becomes the initial position.

演奏者の押鍵により押し切り状態になると、前述のように質量体はストッパに衝突する。ストッパはフェルトなどのある程度柔軟性と弾性の高い材料を備えているため、質量体とストッパとが衝突するとストッパが弾性変形し、ストッパの内部損失により質量体の運動エネルギーが吸収される。これにより、質量体とストッパとの衝突時の衝撃を緩衝し、制動に寄与する。   When the player presses the key, the mass body collides with the stopper as described above. Since the stopper includes a material having a certain degree of flexibility and elasticity such as felt, when the mass body and the stopper collide, the stopper is elastically deformed, and the kinetic energy of the mass body is absorbed by the internal loss of the stopper. Thereby, the impact at the time of a collision with a mass body and a stopper is buffered, and it contributes to braking.

しかしながら、ストッパは、弾性変形から元に戻るときに弾性復元力を発生する。この弾性復元力が質量体を介して鍵に対する反発力(リバウンド)となって演奏者の指に伝わり、演奏者に不快感を与える(鍵がピタっと止まらないでブルブルする)、という問題があった。   However, the stopper generates an elastic restoring force when returning from the elastic deformation. This elastic restoring force becomes a repulsive force (rebound) against the key through the mass body and is transmitted to the performer's finger, giving the player an unpleasant feeling (the key does not stop tightly and blurs). there were.

上記問題を解決するために、質量体に空洞部を設けて、その空洞部に微粒子を充填する鍵盤装置が提案されている(例えば特許文献2)。この鍵盤装置によれば、ストッパと質量体との衝突エネルギーを微粒子が吸収するため、押し切り時に演奏者に伝わる反発力を減少することができるという利点があった。   In order to solve the above problem, a keyboard device has been proposed in which a cavity is provided in a mass body and the cavity is filled with fine particles (for example, Patent Document 2). According to this keyboard apparatus, since the fine particles absorb the collision energy between the stopper and the mass body, there is an advantage that the repulsive force transmitted to the player at the time of pressing can be reduced.

しかしながら、特許文献2に記載された鍵盤装置は、何回か押鍵操作を行うと初期位置において空洞部内での微粒子の分布に偏りが生じるため、これに起因して押し切り位置となり質量体とストッパとが当接する毎に演奏者に伝わるストップ感が異なる、という問題があった。
特開平9−198037号公報 特開平8−16153号公報
However, in the keyboard device described in Patent Document 2, since the distribution of the fine particles in the cavity portion is biased at the initial position when the key pressing operation is performed several times, the mass body and the stopper become the pressing position due to this. There was a problem that the feeling of stop transmitted to the performer was different each time.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-198037 JP-A-8-16153

そこで、本発明は、上記のような問題点に着目し、鍵の初期位置における空洞部内での微粒子の分布を毎回同じにすることにより、良好なストップ感を安定して得ることができる鍵盤装置を提供することを課題とする。   Therefore, the present invention pays attention to the above-mentioned problems, and by making the distribution of fine particles in the cavity at the initial position of the key the same every time, a keyboard device that can stably obtain a good stop feeling It is an issue to provide.

上記課題を解決するためになされた請求項1記載の発明は、左右方向に並設された複数の鍵と、前記鍵の前端部が上下方向に回動可能となるように前記鍵の後端部を支持するフレームと、前記鍵の回動に連動して上下方向に回動するように前記フレームに支持された質量体と、前記鍵又は前記質量体と当接して前記鍵及び前記質量体の回動範囲を規制するストッパと、を備えた鍵盤装置において、前記質量体が、一部に設けられた空洞部と、前記空洞部内で移動可能となるように前記空洞部に充填された複数の微粒子と、前記空洞部を2つ以上に隔てる隔壁と、前記隔壁の下部に設けられた供給孔と、を有することを特徴とする鍵盤装置に存する。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 is characterized in that a plurality of keys arranged in parallel in the left-right direction and a rear end of the key so that a front end of the key can be rotated in the vertical direction. A frame for supporting a portion, a mass body supported by the frame so as to rotate in the vertical direction in conjunction with the rotation of the key, and the key and the mass body in contact with the key or the mass body A keyboard device including a stopper for restricting the rotation range of the plurality of cavities, wherein the mass body is provided in a part of the cavity, and a plurality of cavities filled in the cavity so as to be movable in the cavity. The keyboard device is characterized by having a fine particle, a partition wall that divides the cavity into two or more, and a supply hole provided in a lower portion of the partition wall.

請求項2記載の発明は、前記2つ以上に隔てられた一方の空間から他方の空間に向かうに従って下側に近づくテーパ又は前記一方の空間の下部が前記他方の空間の下部よりも高くなるような段差が前記空洞部の下部に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の鍵盤装置に存する。なお、少なくとも鍵が初期位置にあるときに、テーパが一方の空間から他方の空間に向かうに従って下側に近づくように設けられ、段差が一方の空間の下部が前記他方の空間の下部よりも高くなるように設けられていればよい。   According to a second aspect of the present invention, the taper that approaches the lower side as it goes from the one space separated by the two or more to the other space or the lower portion of the one space is higher than the lower portion of the other space. The keyboard device according to claim 1, wherein a step is provided at a lower portion of the hollow portion. Note that at least when the key is in the initial position, the taper is provided so as to approach the lower side from one space to the other space, and the lower portion of one space is higher than the lower portion of the other space. What is necessary is just to be provided.

請求項3記載の発明は、前記一方の空間が前記他方の空間よりも前記質量体の回動支点から近い側に設けられたことを特徴とする請求項2に記載の鍵盤装置に存する。   The invention according to claim 3 resides in the keyboard device according to claim 2, wherein the one space is provided closer to the rotation fulcrum of the mass body than the other space.

請求項4記載の発明は、連通孔が前記隔壁の上部に設けられ、前記他方の空間から前記一方の空間に向かうに従って上側に近づくテーパが前記空洞部の上側に設けられていることを特徴とする請求項2に記載の鍵盤装置に存する。   The invention according to claim 4 is characterized in that a communication hole is provided in the upper part of the partition wall, and a taper approaching the upper side from the other space toward the one space is provided on the upper side of the cavity. The present invention resides in the keyboard device according to claim 2.

以上説明したように請求項1記載の発明によれば、鍵の初期位置において、自重によって隔壁によって隔てられた前後方向の一方の空間に溜められた微粒子に生じる圧力と、自重によって他方の空間に溜められた微粒子に生じる圧力とが釣り合うまで、供給孔を通じて一方の空間から他方の空間または他方の空間から一方の空間に向かう微粒子の流れを作ることができる。これにより、鍵の初期位置における空洞部内での微粒子の分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。   As described above, according to the first aspect of the present invention, at the initial position of the key, the pressure generated in the fine particles accumulated in one space in the front-rear direction separated by the partition wall by its own weight, and the other space by its own weight. Until the pressure generated in the collected fine particles is balanced, a flow of fine particles from one space to the other space or from the other space to the one space can be created through the supply hole. Thereby, the distribution of the fine particles in the cavity at the initial position of the key can be made the same every time, and a good stop feeling can be stably obtained.

請求項2記載の発明によれば、空洞部の底面にテーパ又は段差を設けることにより、安定して一方の空間から他方の空間に向かう微粒子の流れを作ることができる。このため、より確実に鍵の初期位置における空洞部内での微粒子の分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。   According to the second aspect of the present invention, by providing a taper or a step on the bottom surface of the cavity, it is possible to stably produce a flow of fine particles from one space toward the other space. For this reason, the distribution of the fine particles in the cavity at the initial position of the key can be made the same each time, and a good stop feeling can be stably obtained.

請求項3記載の発明によれば、一方の空間に溜められた微粒子の分布は、他方の空間に溜められた微粒子の分布よりもばらつきが大きくなる。このため、微粒子分布のばらつきが大きい一方の空間を回動支点から近い側に設けて、この一方の空間内の微粒子による慣性モーメント影響を受けにくくすることにより、より確実に、良好なストップ感を安定して得ることができる。   According to the third aspect of the present invention, the distribution of the fine particles stored in one space is more varied than the distribution of the fine particles stored in the other space. For this reason, by providing one space where the dispersion of the fine particle distribution is large on the side closer to the rotation fulcrum and making it less susceptible to the moment of inertia due to the fine particles in this one space, a more reliable stop feeling can be obtained more reliably. It can be obtained stably.

請求項4記載の発明によれば、押し切り時に他方の空間にある微粒子が誘導壁により連通孔を通じて一方の空間に誘導されるため、押し切り後、鍵の初期位置において再び供給孔を通じて一方の空間から他方の空間に向かう微粒子の流れを作ることがきる。このため、より確実に鍵の初期位置における空洞部内での微粒子の分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。   According to the fourth aspect of the present invention, since the fine particles in the other space are guided to the one space through the communication hole by the guide wall at the time of the push-off, after the push-off, the first position from the one space through the supply hole again. The flow of fine particles toward the other space can be made. For this reason, the distribution of the fine particles in the cavity at the initial position of the key can be made the same each time, and a good stop feeling can be stably obtained.

第1実施形態
以下、図面を参照して本発明の第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態における鍵盤装置100を示す概略断面図である。図2は、図1に示す錘部32の拡大図である。以下説明において、鍵盤装置100の「上下左右前後」は演奏時の演奏者側から見た正立状態における「上下左右前後」を意味する。
First Embodiment Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a keyboard device 100 according to the first embodiment. FIG. 2 is an enlarged view of the weight portion 32 shown in FIG. In the following description, “up / down / left / right front / back” of the keyboard device 100 means “up / down / left / right front / back” when viewed from the performer side during performance.

鍵盤装置100は、例えば電子鍵盤楽器に用いられるものである。同図に示すように、鍵盤装置100は、鍵としての複数の黒鍵10及び白鍵11と、フレーム20と、質量体30と、ストッパとしての上限ストッパ41及び下限ストッパ42と、を備えている。   The keyboard device 100 is used for an electronic keyboard instrument, for example. As shown in the figure, the keyboard device 100 includes a plurality of black keys 10 and white keys 11 as keys, a frame 20, a mass body 30, and an upper limit stopper 41 and a lower limit stopper 42 as stoppers. Yes.

上記黒鍵10及び白鍵11は、左右方向に複数並設されている。フレーム20は、上板部21と、上板部21の前後方向両端から垂下された前側立壁部22及び後側立壁部23と、前側立壁部22下端の前側に設けられた前側底板部24と、前側底板部24の前側に立設された立壁部25と、後側立壁部23の後側に設けられた後側底板部26と、を有している。   A plurality of the black keys 10 and the white keys 11 are juxtaposed in the left-right direction. The frame 20 includes an upper plate portion 21, a front standing wall portion 22 and a rear standing wall portion 23 that are suspended from both front and rear ends of the upper plate portion 21, and a front bottom plate portion 24 provided on the front side of the lower end of the front standing wall portion 22. And a rear wall 25 that is erected on the front side of the front bottom plate 24, and a rear bottom plate 26 that is provided on the rear side of the rear vertical wall 23.

上述した上板部21の前側の上面には、黒鍵10の押鍵時に黒鍵10の前端部を上下方向に案内する鍵ガイド部27が立設されている。また、上述した立壁部25の上端部には、白鍵11の押鍵時に白鍵11の前端部を上下方向に案内する鍵ガイド部28が立設されている。   On the upper surface on the front side of the upper plate portion 21 described above, a key guide portion 27 is provided to guide the front end portion of the black key 10 in the vertical direction when the black key 10 is depressed. In addition, a key guide portion 28 that vertically guides the front end portion of the white key 11 when the white key 11 is depressed is provided upright at the upper end portion of the standing wall portion 25 described above.

上述した上板部21の後側の上面には、黒鍵10及び白鍵11が上下方向に回動可能となるように黒鍵10及び白鍵11の後端部を支持する鍵支持部21Aが設けられている。黒鍵10及び白鍵11は、回転軸C1を支点として鍵支持部21Aに軸支されていて、回転軸C1を中心として回動する。   On the upper surface of the rear side of the upper plate portion 21 described above, a key support portion 21A that supports the rear end portions of the black key 10 and the white key 11 so that the black key 10 and the white key 11 can be rotated in the vertical direction. Is provided. The black key 10 and the white key 11 are pivotally supported by the key support portion 21A with the rotation axis C1 as a fulcrum, and rotate around the rotation axis C1.

上記質量体30は、上板部21の下側に設けられた前後方向に伸びるアーム部31と、アーム部31の後側に設けられた錘部32と、アーム部31の前側に設けられた作動部33とで構成されている。上記アーム部31は、質量体支持部21Bにより作動部33の回転軸C2を支点として軸支されている。質量体支持部21Bは、上記鍵支持部21Aよりも前側の上板部21下面に設けられている。   The mass body 30 is provided on the lower side of the upper plate portion 21, extending in the front-rear direction, the weight portion 32 provided on the rear side of the arm portion 31, and on the front side of the arm portion 31. The operation part 33 is comprised. The arm portion 31 is pivotally supported by the mass body support portion 21B with the rotation axis C2 of the operating portion 33 as a fulcrum. The mass body support portion 21B is provided on the lower surface of the upper plate portion 21 in front of the key support portion 21A.

上記アーム部31は、その後端が後側立壁部23よりも後側に突出して設けられている。これにより、錘部32は後側立壁部23よりも後側に設けられる。また、作動部33の前端には上下に二股に分かれた連結片33Aが形成されており、黒鍵10及び白鍵11から下側に向かって突出する作用部12の下端部に設けられた連結板12Bが連結片33Aに連結されている。   The rear end of the arm portion 31 is provided so as to protrude rearward from the rear standing wall portion 23. Thereby, the weight part 32 is provided in the rear side rather than the rear side standing wall part 23. FIG. In addition, a connecting piece 33A that is bifurcated into upper and lower portions is formed at the front end of the operating portion 33, and is connected to the lower end portion of the operating portion 12 that protrudes downward from the black key 10 and the white key 11. The plate 12B is connected to the connecting piece 33A.

上述した上限ストッパ41、下限ストッパ42は、質量体30と当接して黒鍵10及び白鍵11の回動範囲を規制するストッパである。上記上限ストッパ41は、上板部21の後端部に設けられている。そして、演奏者が黒鍵10及び白鍵11を押鍵すると作用部12が作動部33を押し下げ、質量体30が回転軸C2を回動中心として図1において反時計回りに回動して、質量体30と上限ストッパ41とが当接すると押し切り状態となる。一方、下限ストッパ42は、後側底板部26上に設けられている。そして、演奏者が押鍵操作を止めると、質量体30が回転軸C2を回動中心として図1において時計回りに回動して、質量体30と下限ストッパ42とが当接すると初期位置となる。   The upper limit stopper 41 and the lower limit stopper 42 described above are stoppers that abut the mass body 30 and restrict the rotation range of the black key 10 and the white key 11. The upper limit stopper 41 is provided at the rear end portion of the upper plate portion 21. Then, when the performer depresses the black key 10 and the white key 11, the action part 12 pushes down the actuating part 33, and the mass body 30 rotates counterclockwise in FIG. 1 about the rotation axis C2, When the mass body 30 and the upper limit stopper 41 come into contact with each other, a push-off state is established. On the other hand, the lower limit stopper 42 is provided on the rear bottom plate portion 26. When the performer stops the key pressing operation, the mass body 30 rotates clockwise in FIG. 1 about the rotation axis C2, and when the mass body 30 and the lower limit stopper 42 come into contact with each other, the initial position is set. Become.

次に、上述した錘部32の構成について図2を参照して説明する。錘部32は、空洞部32Aと、微粒子32B(図3)と、隔壁32Cと、供給孔32Dと、連通孔32Eと、を有している。上記空洞部32Aは、閉空間として設けられている。上記微粒子32Bは、空洞部32A内を移動可能となるように空洞部32Aに充填されている。即ち、微粒子32Bは、空洞部32A内に空き空間が設けられるように充填されている。この微粒子32Bは、砂や金属粉、その他セラミック、金属、プラスチックなどから構成されている。大きさは、直径、外形3mm以下が望ましい。なお、図3では、微粒子32Bは球体だが、微粒子32Bは球体に限らない。   Next, the structure of the weight part 32 mentioned above is demonstrated with reference to FIG. The weight portion 32 includes a hollow portion 32A, fine particles 32B (FIG. 3), a partition wall 32C, a supply hole 32D, and a communication hole 32E. The hollow portion 32A is provided as a closed space. The fine particles 32B are filled in the cavity 32A so as to be movable in the cavity 32A. That is, the fine particles 32B are filled so that an empty space is provided in the hollow portion 32A. The fine particles 32B are made of sand, metal powder, other ceramics, metal, plastic, or the like. The size is preferably a diameter and an outer shape of 3 mm or less. In FIG. 3, the fine particles 32B are spheres, but the fine particles 32B are not limited to spheres.

上記隔壁32Cは、空洞部32Aを前後方向に隔てる壁であり、前後方向に略垂直に設けられている。第1実施形態では、隔壁32Cによって前後方向に隔てられた前側の空間を第1微粒子蓄積領域32A−1とし、後側の空間を第2微粒子蓄積領域32A−2とする。上記供給孔32Dは、隔壁32Cの下端部に設けられている。連通孔32Eは、隔壁32Cの上端部に設けられている。この供給孔32D、連通孔32Eによって、第1微粒子蓄積領域32A−1と第2微粒子蓄積領域32A−2とが連通している。   The partition wall 32C is a wall that separates the cavity portion 32A in the front-rear direction, and is provided substantially perpendicular to the front-rear direction. In the first embodiment, the front space separated by the partition wall 32C in the front-rear direction is referred to as a first particle accumulation region 32A-1, and the rear space is referred to as a second particle accumulation region 32A-2. The supply hole 32D is provided at the lower end of the partition wall 32C. The communication hole 32E is provided at the upper end of the partition wall 32C. The first fine particle accumulation region 32A-1 and the second fine particle accumulation region 32A-2 communicate with each other through the supply hole 32D and the communication hole 32E.

上述した空洞部32Aの底面には、一方の空間としての第2微粒子蓄積領域32A−2の底面が他方の空間としての第1微粒子蓄積領域32A−1の底面よりも高くなるような段差32A−3が設けられている。そして、この段差32A−3には、第2微粒子蓄積領域32A−2から第1微粒子蓄積領域32A−1に向かうに従って下側に近づくテーパ32A−4が設けられている。   On the bottom surface of the cavity 32A described above, the step 32A- is such that the bottom surface of the second particle accumulation region 32A-2 as one space is higher than the bottom surface of the first particle accumulation region 32A-1 as the other space. 3 is provided. The step 32A-3 is provided with a taper 32A-4 that approaches the lower side from the second particle accumulation region 32A-2 toward the first particle accumulation region 32A-1.

上述した空洞部32Aの上面には、第1微粒子蓄積領域32A−1の上方に第1微粒子蓄積領域32A−1から第2微粒子蓄積領域32A−2に向かうに従って上側に近づくテーパ状の第1誘導壁32A−5が設けられている。また、上述した空洞部32Aの上面には、第2微粒子蓄積領域32A−2の上方に第1微粒子蓄積領域32A−1から第2微粒子蓄積領域32A−2に向かうに従って下側に近づくテーパ状の第2誘導壁32A−6が設けられている。   On the upper surface of the cavity 32A described above, a tapered first guide that approaches the upper side as it goes from the first particle accumulation region 32A-1 to the second particle accumulation region 32A-2 above the first particle accumulation region 32A-1. A wall 32A-5 is provided. Further, the upper surface of the cavity 32A described above has a tapered shape that approaches the lower side as it goes from the first particle accumulation region 32A-1 to the second particle accumulation region 32A-2 above the second particle accumulation region 32A-2. A second guide wall 32A-6 is provided.

さらに、上述した空洞部32Aの後側の側面には、隔壁32Cに向かって突出する突起32A−7が設けられている。そして、上述した隔壁32Cには、突起32A−7が設けられた空洞部32Aの側面に向かって突出する突起32C−1が設けられている。上記突起32A−7及び突起32C−1は、上下方向に沿って互い違いに設けられている。   Further, a protrusion 32A-7 protruding toward the partition wall 32C is provided on the rear side surface of the cavity portion 32A described above. The partition wall 32C described above is provided with a protrusion 32C-1 that protrudes toward the side surface of the cavity 32A provided with the protrusion 32A-7. The protrusions 32A-7 and the protrusions 32C-1 are provided alternately along the vertical direction.

上述した構成の鍵盤装置100において空洞部32Aに充填された微粒子32Bの動きについて図3を参照して以下説明する。黒鍵10及び白鍵11の押鍵操作が行われていない初期状態では、同図(A)に示すように、微粒子32Bは、重力によって空洞部32Aの下方に集まっている。このとき、自重によって第1微粒子蓄積領域32A−1に溜められた微粒子32Bに生じる圧力と、第2微粒子蓄積領域32A−2に溜められた微粒子32Bに生じる圧力とは釣り合っているため、供給孔32Dを通じての微粒子32Bの流れは発生していない。その後、黒鍵10及び白鍵11の押鍵操作が行われると、黒鍵10及び白鍵11の回動に連動して錘部32が上方に回動し、質量体30が上限ストッパ41に当接して押し切り状態となる。   The movement of the fine particles 32B filled in the cavity 32A in the keyboard device 100 configured as described above will be described below with reference to FIG. In an initial state in which the key pressing operation of the black key 10 and the white key 11 is not performed, the fine particles 32B are gathered below the cavity portion 32A by gravity as shown in FIG. At this time, the pressure generated in the fine particles 32B accumulated in the first fine particle accumulation region 32A-1 by the dead weight and the pressure generated in the fine particles 32B accumulated in the second fine particle accumulation region 32A-2 are balanced. The flow of the fine particles 32B through 32D is not generated. Thereafter, when the black key 10 and the white key 11 are pressed, the weight portion 32 is rotated upward in conjunction with the rotation of the black key 10 and the white key 11, and the mass body 30 is moved to the upper limit stopper 41. It comes into contact and pushes down.

質量体30と上限ストッパ41との当接によって微粒子32Bに慣性モーメントが働き、同図(B)に示すように、微粒子32Bが空洞部32Aの上方に移動する。これにより、質量体30と上限ストッパ41との衝突エネルギーを微粒子32Bが吸収するため、反発力が減少する。   The moment of inertia acts on the fine particles 32B by the contact between the mass body 30 and the upper limit stopper 41, and the fine particles 32B move above the hollow portion 32A as shown in FIG. Thereby, since the fine particles 32B absorb the collision energy between the mass body 30 and the upper limit stopper 41, the repulsive force is reduced.

このとき、第1微粒子蓄積領域32A−1に蓄積された微粒子32Bは、空洞部32Aの上方に移動した後、第1誘導壁32A−5に当たる。その後、第1誘導壁32A−5、第2誘導壁32A−6の順に沿って移動した結果、連通孔32Eを通じて第2微粒子蓄積領域32A−2に供給される。   At this time, the fine particles 32B accumulated in the first fine particle accumulation region 32A-1 move above the cavity 32A and then hit the first guide wall 32A-5. Then, as a result of moving along the order of the first guide wall 32A-5 and the second guide wall 32A-6, the first guide wall 32A-5 is supplied to the second particle accumulation region 32A-2 through the communication hole 32E.

結果、押鍵操作が終了して質量体30が下限ストッパ42に当接する初期位置となったとき、同図(C)に示すように、同図(A)に示す場合に比べて、第2微粒子蓄積領域32A−2に蓄積される微粒子32Bの量が増える。よって、供給孔32Dを通じて第2微粒子蓄積領域32A−2から第1微粒子蓄積領域32A−1に微粒子32Bが流れる。   As a result, when the key pressing operation is finished and the mass body 30 reaches the initial position where it comes into contact with the lower limit stopper 42, as shown in FIG. The amount of fine particles 32B accumulated in the fine particle accumulation region 32A-2 increases. Therefore, the fine particles 32B flow from the second fine particle accumulation region 32A-2 to the first fine particle accumulation region 32A-1 through the supply hole 32D.

その後、第1微粒子蓄積領域32A−1に溜められた微粒子32Bに生じる圧力と、第2微粒子蓄積領域32A−2に溜められた微粒子32Bに生じる圧力とが釣り合って、同図(A)に示す状態に戻ると、供給孔32Dを通じての微粒子32Bの流れは止まる。これにより、黒鍵10及び白鍵11における空洞部32A内での微粒子32Bの分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。   Thereafter, the pressure generated in the fine particles 32B accumulated in the first fine particle accumulation region 32A-1 and the pressure generated in the fine particles 32B accumulated in the second fine particle accumulation region 32A-2 are balanced, as shown in FIG. When returning to the state, the flow of the fine particles 32B through the supply holes 32D stops. Thereby, the distribution of the fine particles 32B in the hollow portion 32A in the black key 10 and the white key 11 can be made the same every time, and a good stop feeling can be stably obtained.

また、上述した鍵盤装置100によれば、段差32A−3及びテーパ32A−4が空洞部32Aの底面に設けられている。このように、空洞部32Aの底面に段差32A−3及びテーパ32A−4を設けることにより、安定して第2微粒子蓄積領域32A−2から第1微粒子蓄積領域32A−1に向かう微粒子32Bの流れを作ることができる。このため、より確実に黒鍵10及び白鍵11の初期位置における空洞部32A内での微粒子32Bの分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。   Further, according to the keyboard device 100 described above, the step 32A-3 and the taper 32A-4 are provided on the bottom surface of the cavity 32A. As described above, by providing the step 32A-3 and the taper 32A-4 on the bottom surface of the cavity 32A, the flow of the particles 32B from the second particle accumulation region 32A-2 toward the first particle accumulation region 32A-1 stably. Can be made. For this reason, the distribution of the fine particles 32B in the hollow portion 32A at the initial positions of the black key 10 and the white key 11 can be more reliably made the same every time, and a good stop feeling can be stably obtained.

また、上述した鍵盤装置100によれば、第2微粒子蓄積領域32A−1に上下方向に互い違いに設けた突起32A−7、32C−1を設けている。これにより、第2微粒子蓄積領域32A−2での微粒子32Bの流れを整流して、第2微粒子蓄積領域32A−2での微粒子32Bの分布にばらつきが生じるのを防ぐことができる。   Further, according to the keyboard device 100 described above, the protrusions 32A-7 and 32C-1 provided alternately in the vertical direction are provided in the second fine particle accumulation region 32A-1. Thereby, the flow of the fine particles 32B in the second fine particle accumulation region 32A-2 can be rectified to prevent variation in the distribution of the fine particles 32B in the second fine particle accumulation region 32A-2.

第2実施形態
次に、第2実施形態について説明する。図4は、第2実施形態における鍵盤装置100を示す概略断面図である。図5は、図4に示す錘部32の拡大図である。図4及び図5において、図1及び図2について上述した第1実施形態で既に説明した部分と同等の部分は同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
Second Embodiment Next, a second embodiment will be described. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the keyboard device 100 according to the second embodiment. FIG. 5 is an enlarged view of the weight portion 32 shown in FIG. 4 and 5, the same parts as those already described in the first embodiment described above with reference to FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

第1実施形態と異なる点は、錘部32の構成である。図4及び図5に示すように、錘部32は、第1実施形態と同様に、空洞部32Aと、微粒子32Bと、隔壁32Cと、供給孔32Dと、連通孔32Eと、を有している。空洞部32A、微粒子32B、供給孔32D及び連通孔32Eは、第1実施形態と同様のため詳細な説明は省略する。隔壁32Cは、第1実施形態と同様に、空洞部32Aを前後方向に隔てる壁であり、前後方向に略垂直に設けられている。第2実施形態では、第1実施形態と同様に、隔壁32Cによって前後方向に隔てられた前側の空間を第1微粒子蓄積領域32A−1とし、後側の空間を第2微粒子蓄積領域32A−2とする。   The difference from the first embodiment is the configuration of the weight portion 32. As shown in FIGS. 4 and 5, the weight portion 32 has a cavity portion 32A, fine particles 32B, partition walls 32C, supply holes 32D, and communication holes 32E, as in the first embodiment. Yes. Since the cavity 32A, the fine particles 32B, the supply holes 32D, and the communication holes 32E are the same as those in the first embodiment, detailed description thereof is omitted. Similar to the first embodiment, the partition wall 32C is a wall that separates the cavity 32A in the front-rear direction, and is provided substantially perpendicular to the front-rear direction. In the second embodiment, similarly to the first embodiment, the front space separated in the front-rear direction by the partition wall 32C is defined as the first particle accumulation region 32A-1, and the rear space is defined as the second particle accumulation region 32A-2. And

上述した空洞部32Aの底面には、一方の空間としての第2微粒子蓄積領域32A−2の底面が他方の空間としての第1微粒子蓄積領域32A−1の底部よりも高くなるような段差32A−3が設けられている。この段差32A−3は、第2微粒子蓄積領域32A−2から第1微粒子蓄積領域32A−1に向かうに従って下側に近づくテーパ32A−4が設けられている。また、空洞部32Aの上面には、第1実施形態と同様に、第1誘導壁32A−5及び第2誘導壁32A−6が設けられている。また、上述した第2微粒子蓄積領域32A−2内には、微粒子32Bの上下方向の流れを整流するための整流壁32Fが設けられている。整流壁32Fは、隔壁32Cと略平行になるように設けられている。また、整流壁32Fは、その高さが隔壁32Cの高さよりも低くなるように設けられている。上述した構成の鍵盤装置100において空洞部32Aに充填された微粒子32Bの動きは第1実施形態とほぼ同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。   On the bottom surface of the cavity 32A described above, the step 32A- is such that the bottom surface of the second particle accumulation region 32A-2 as one space is higher than the bottom of the first particle accumulation region 32A-1 as the other space. 3 is provided. The step 32A-3 is provided with a taper 32A-4 that approaches the lower side from the second particle accumulation region 32A-2 toward the first particle accumulation region 32A-1. Further, similarly to the first embodiment, the first guiding wall 32A-5 and the second guiding wall 32A-6 are provided on the upper surface of the hollow portion 32A. Further, a rectifying wall 32F for rectifying the vertical flow of the fine particles 32B is provided in the second fine particle accumulation region 32A-2. The rectifying wall 32F is provided so as to be substantially parallel to the partition wall 32C. The rectifying wall 32F is provided such that its height is lower than the height of the partition wall 32C. In the keyboard device 100 having the above-described configuration, the movement of the fine particles 32B filled in the cavity 32A is substantially the same as that in the first embodiment, and thus detailed description thereof is omitted here.

上述した鍵盤装置100によれば、第1実施形態と同様に、空洞部32Aを隔壁32Cによって前後方向に隔てると共に隔壁32Cの下端に供給孔32Dを設けることにより、黒鍵10及び白鍵11における空洞部32A内での微粒子32Bの分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。また、空洞部32Aの底面に段差32A−3及びテーパ32A−4を設けると共に、上側に第1誘導壁32A−5、第2誘導壁32A−6を設けることにより、より確実に空洞部32A内での微粒子32Bの分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。   According to the keyboard device 100 described above, as in the first embodiment, the hollow portion 32A is separated in the front-rear direction by the partition wall 32C, and the supply hole 32D is provided at the lower end of the partition wall 32C. The distribution of the fine particles 32B in the hollow portion 32A can be made the same every time, and a good stop feeling can be stably obtained. Further, the step 32A-3 and the taper 32A-4 are provided on the bottom surface of the cavity portion 32A, and the first guide wall 32A-5 and the second guide wall 32A-6 are provided on the upper side, so that the inside of the cavity portion 32A can be more reliably provided. The distribution of the fine particles 32B can be made the same every time, and a good stop feeling can be stably obtained.

また、上述した鍵盤装置100によれば、第2微粒子蓄積領域32A−2内に、複数の整流壁32Fを、隔壁32Cと略平行なるように、並べて配置している。これにより、第2微粒子蓄積領域32A−2内での微粒子32Bの流れを整流して、第2微粒子蓄積領域32A−2での微粒子32Bの分布にばらつきが生じるのを防ぐことができる。   Further, according to the keyboard device 100 described above, the plurality of rectifying walls 32F are arranged side by side in the second fine particle accumulation region 32A-2 so as to be substantially parallel to the partition walls 32C. Thereby, the flow of the fine particles 32B in the second fine particle accumulation region 32A-2 can be rectified to prevent the distribution of the fine particles 32B in the second fine particle accumulation region 32A-2 from varying.

第3実施形態
次に、第3実施形態について説明する。図6は、第3実施形態における鍵盤装置100を示す概略断面図である。図7は、図6に示す錘部32の拡大図である。図6及び図7において、図1及び図2について上述した第1実施形態で既に説明した部分と同等の部分は同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
Third Embodiment Next, a third embodiment will be described. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the keyboard device 100 according to the third embodiment. FIG. 7 is an enlarged view of the weight portion 32 shown in FIG. 6 and FIG. 7, parts that are the same as those already described in the first embodiment with reference to FIGS. 1 and 2 are given the same reference numerals, and detailed descriptions thereof are omitted.

第1実施形態と異なる点は、錘部32の構成である。図6及び図7に示すように、錘部32は、第1実施形態と同様に、空洞部32Aと、微粒子32Bと、隔壁32Cと、供給孔32Dと、連通孔32Eと、を有している。空洞部32A、微粒子32B、供給孔32D及び連通孔32Eは、第1実施形態と同様のため詳細な説明を省略する。隔壁32Cは、空洞部32Aを前後方向に隔てる壁であり、第3実施形態では上側が後側に傾いて設けられている。第3実施形態では、隔壁32Cによって前後方向に隔てられた前側の空間を第2微粒子蓄積領域32A−2とし、後側の空間を第1微粒子蓄積領域32A−1とする。   The difference from the first embodiment is the configuration of the weight portion 32. As shown in FIGS. 6 and 7, the weight portion 32 has a cavity portion 32A, fine particles 32B, partition walls 32C, supply holes 32D, and communication holes 32E, as in the first embodiment. Yes. Since the cavity 32A, the fine particles 32B, the supply holes 32D, and the communication holes 32E are the same as those in the first embodiment, detailed description thereof is omitted. The partition wall 32C is a wall that separates the cavity 32A in the front-rear direction, and in the third embodiment, the upper side is provided inclined to the rear side. In the third embodiment, the front space separated in the front-rear direction by the partition walls 32C is referred to as a second particle accumulation region 32A-2, and the rear space is referred to as a first particle accumulation region 32A-1.

上述した空洞部32Aの底面には、一方の空間としての第2微粒子蓄積領域32A−2の底面が他方の空間としての第1微粒子蓄積領域32A−1の底部よりも高くなるような段差32A−3が設けられている。さらにその段差32A−3には、第2微粒子蓄積領域32A−2から第1微粒子蓄積領域32A−1に向かうに従って下側に近づくテーパ32A−4が設けられている。さらに、段差32A−3よりも前側の底面も第2微粒子蓄積領域32A−2から第1微粒子蓄積領域32A−1に向かうに従って下側に近づくテーパ32A−8が設けられている。また、空洞部32Aの上面には、第1実施形態と同様に、第1誘導壁32A−5が設けられている。   On the bottom surface of the cavity 32A described above, the step 32A- is such that the bottom surface of the second particle accumulation region 32A-2 as one space is higher than the bottom of the first particle accumulation region 32A-1 as the other space. 3 is provided. Further, the step 32A-3 is provided with a taper 32A-4 that approaches the lower side from the second particle accumulation region 32A-2 toward the first particle accumulation region 32A-1. Further, a taper 32A-8 that is closer to the lower side from the second particle accumulation region 32A-2 toward the first particle accumulation region 32A-1 is also provided on the bottom surface in front of the step 32A-3. In addition, a first guide wall 32A-5 is provided on the upper surface of the cavity 32A, as in the first embodiment.

また、上述した第2微粒子蓄積領域32A−2内には、微粒子32Bの上下方向の流れを整流するための複数、例えば2つの整流壁32Fが設けられている。複数の整流壁32Fは、隔壁32Cと略平行になるように互いに離間して配置されている。また、整流壁32Fは、その高さが隔壁32Cの高さよりも低くなるように設けられている。上述した構成の鍵盤装置100において空洞部32Aに充填された微粒子32Bの動きは第1実施形態とほぼ同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。   A plurality of, for example, two rectifying walls 32F for rectifying the vertical flow of the fine particles 32B are provided in the second fine particle accumulation region 32A-2. The plurality of rectifying walls 32F are spaced apart from each other so as to be substantially parallel to the partition wall 32C. The rectifying wall 32F is provided such that its height is lower than the height of the partition wall 32C. In the keyboard device 100 having the above-described configuration, the movement of the fine particles 32B filled in the cavity 32A is substantially the same as that in the first embodiment, and thus detailed description thereof is omitted here.

上述した鍵盤装置100によれば、第1実施形態と同様に、空洞部32Aを隔壁32Cによって前後方向に隔てると共に隔壁32Cの下端に供給孔32Dを設けることにより、黒鍵10及び白鍵11における空洞部32A内での微粒子32Bの分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。また、空洞部32Aの底面に段差32A−3及びテーパ32A−4、32A−8を設けると共に、上側に第1誘導壁32A−5を設けることにより、より確実に空洞部32A内での微粒子32Bの分布を毎回同じにすることができ、良好なストップ感を安定して得ることができる。   According to the keyboard device 100 described above, as in the first embodiment, the hollow portion 32A is separated in the front-rear direction by the partition wall 32C, and the supply hole 32D is provided at the lower end of the partition wall 32C. The distribution of the fine particles 32B in the hollow portion 32A can be made the same every time, and a good stop feeling can be stably obtained. Further, the step 32A-3 and the tapers 32A-4 and 32A-8 are provided on the bottom surface of the cavity portion 32A, and the first guide wall 32A-5 is provided on the upper side, so that the fine particles 32B in the cavity portion 32A can be more reliably provided. Can be made the same every time, and a good stop feeling can be stably obtained.

また、上述した鍵盤装置100によれば、第2微粒子蓄積領域32A−2内に、複数の整流壁32Fを、隔壁32Cと略平行なるように、並べて配置している。これにより、第2微粒子蓄積領域32A−2内での微粒子32Bの流れを整流して、第2微粒子蓄積領域32A−2での微粒子32Bの分布にばらつきが生じるのを防ぐことができる。   Further, according to the keyboard device 100 described above, the plurality of rectifying walls 32F are arranged side by side in the second fine particle accumulation region 32A-2 so as to be substantially parallel to the partition walls 32C. Thereby, the flow of the fine particles 32B in the second fine particle accumulation region 32A-2 can be rectified to prevent the distribution of the fine particles 32B in the second fine particle accumulation region 32A-2 from varying.

また、上述した鍵盤装置100によれば、第2微粒子蓄積領域32A−2が、第1微粒子蓄積領域32A−1よりも質量体30の回動支点(回転軸C2)から近い側に設けられている。第2微粒子蓄積領域32A−2に溜められた微粒子32Bの分布は、第1微粒子蓄積領域32A−1の空間に溜められた微粒子32Bの分布よりもばらつきが大きくなる。このため、微粒子32B分布のばらつきが大きい第2微粒子蓄積領域32A−2を回動支点から近い側に設けて、第2微粒子蓄積領域32A−2内の微粒子32Bによる慣性モーメント影響を受けにくくすることにより、より確実に、良好なストップ感を安定して得ることができる。   Further, according to the keyboard device 100 described above, the second particle accumulation region 32A-2 is provided closer to the rotation fulcrum (rotation axis C2) of the mass body 30 than the first particle accumulation region 32A-1. Yes. The distribution of the fine particles 32B accumulated in the second fine particle accumulation region 32A-2 is more varied than the distribution of the fine particles 32B accumulated in the space of the first fine particle accumulation region 32A-1. For this reason, the second fine particle accumulation region 32A-2 having a large variation in the fine particle 32B distribution is provided on the side closer to the rotation fulcrum so as to be less affected by the moment of inertia due to the fine particles 32B in the second fine particle accumulation region 32A-2. Thus, it is possible to stably obtain a good stop feeling more reliably.

なお、上述した第1〜第3実施形態によれば、空洞部32Aの底部は段差32A−3及びテーパ32A−4の両方を設けていたが、本発明はこれに限ったものではない。例えば、図8(A)に示すように、段差32A−3のみを設けてもよいし、図8(B)に示すように、テーパ32A−4のみを設けてもよい。また、空洞部32Aの底部を平らに設けてもよいが、上述したように段差32A−3及びテーパ32A−4を設けた方が最適である。   In addition, according to the 1st-3rd embodiment mentioned above, although the bottom part of 32 A of hollow parts provided both level | step difference 32A-3 and taper 32A-4, this invention is not limited to this. For example, only the step 32A-3 may be provided as shown in FIG. 8A, or only the taper 32A-4 may be provided as shown in FIG. 8B. Moreover, although the bottom part of the cavity part 32A may be provided flat, it is more optimal to provide the step 32A-3 and the taper 32A-4 as described above.

また、上述した第1〜第3実施形態によれば、第1及び第2誘導壁32A−5、32A−6を設けていたが、本発明はこれに限ったものではない。空洞部32Aの上面に、第1及び第2誘導壁32A−5、32A−6を設けずに、例えば空洞部32Aの上面を平面に設けてもよい。   Moreover, according to the first to third embodiments described above, the first and second guide walls 32A-5 and 32A-6 are provided, but the present invention is not limited to this. Instead of providing the first and second guide walls 32A-5 and 32A-6 on the upper surface of the cavity portion 32A, for example, the upper surface of the cavity portion 32A may be provided on a plane.

また、上述した第1〜第3実施形態によれば、上限、下限ストッパ41、42は質量体30と当接して黒鍵10、白鍵11及び質量体30の回動範囲を規制していたが、本発明はこれに限ったものではない。上限、下限ストッパ41、42は、例えば、黒鍵10及び白鍵11と当接して黒鍵10、白鍵11及び質量体30の回動範囲を規制してもよい。   In addition, according to the first to third embodiments described above, the upper and lower limit stoppers 41 and 42 are in contact with the mass body 30 to restrict the rotation ranges of the black key 10, the white key 11, and the mass body 30. However, the present invention is not limited to this. For example, the upper and lower limit stoppers 41 and 42 may be in contact with the black key 10 and the white key 11 to restrict the rotation range of the black key 10, the white key 11, and the mass body 30.

また、上述した第1〜第3実施形態によれば、空洞部32Aは、質量体30の後端部に設けられた錘部32に設けていたが、本発明はこれに限ったものではない。空洞部32Aは、質量体30の一部であればどこでもよい。   Further, according to the first to third embodiments described above, the hollow portion 32A is provided in the weight portion 32 provided at the rear end portion of the mass body 30, but the present invention is not limited to this. . The hollow portion 32 </ b> A may be anywhere as long as it is a part of the mass body 30.

また、上述した第1〜第3実施形態によれば、隔壁32Cは空洞部32Aを2つに隔てていたが本発明はこれに限ったものではない。例えば空洞部32Aを3つに隔てるように隔壁32Cを2つ設けてもよいし、空洞部32Aを4つ以上に隔てるようにしてもよい。   Further, according to the first to third embodiments described above, the partition wall 32C has two hollow portions 32A, but the present invention is not limited to this. For example, two partition walls 32C may be provided so that the cavity portions 32A are separated into three, or the cavity portions 32A may be separated into four or more.

また、上述した第1〜第3実施形態によれば、隔壁32Cは空洞部32Aを前後方向に隔てていたが本発明はこれに限ったものではない。隔壁32Cとしては空洞部32Aを2つ以上に隔てるように設ければよく、例えば空洞部32Aを左右方向、上下方向に隔てるように設けてもよい。   Further, according to the first to third embodiments described above, the partition wall 32C separates the cavity 32A in the front-rear direction, but the present invention is not limited to this. The partition wall 32C may be provided so as to separate the cavity portion 32A into two or more. For example, the cavity portion 32A may be provided so as to be separated in the horizontal direction and the vertical direction.

また、上述した第1〜第3実施形態によれば、空洞部32Aの底面に、テーパ32A−4や段差32A−3を設けていたが、本発明はこれに限ったものではない。テーパ32A−4や段差32A−3は空洞部32Aの下部に設けていればよく、例えば、空洞部32Aの底面より上側にテーパ32A−4や段差32A−3が設けられるようにしてもよい。   Further, according to the first to third embodiments described above, the taper 32A-4 and the step 32A-3 are provided on the bottom surface of the cavity 32A, but the present invention is not limited to this. The taper 32A-4 and the step 32A-3 may be provided below the cavity 32A. For example, the taper 32A-4 and the step 32A-3 may be provided above the bottom surface of the cavity 32A.

また、上述した第1〜第3実施形態によれば、空洞部32Aの上面に、第1誘導壁32A−5及び第2誘導壁32A−6が設けられていたが、本発明はこれに限ったものではない。第1誘導壁32A−5及び第2誘導壁32A−6は空洞部32Aの上部に設けていればよく、例えば、空洞部32Aの上面より下側に第1誘導壁32A−5及び第2誘導壁32A−6を設けるようにしてもよい。   Further, according to the first to third embodiments described above, the first guide wall 32A-5 and the second guide wall 32A-6 are provided on the upper surface of the cavity portion 32A, but the present invention is not limited to this. Not a thing. The first guide wall 32A-5 and the second guide wall 32A-6 may be provided on the upper portion of the cavity portion 32A. For example, the first guide wall 32A-5 and the second guide wall 32A-5 are provided below the upper surface of the cavity portion 32A. A wall 32A-6 may be provided.

また、前述した実施形態は本発明の代表的な形態を示したに過ぎず、本発明は、実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。   Further, the above-described embodiments are merely representative forms of the present invention, and the present invention is not limited to the embodiments. That is, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

第1実施形態における本発明の鍵盤装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the keyboard apparatus of this invention in 1st Embodiment. 図1に示す錘部の拡大図である。It is an enlarged view of the weight part shown in FIG. 空洞部に充填された微粒子の動きを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the motion of the microparticles | fine-particles with which the cavity part was filled. 第2実施形態における本発明の鍵盤装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the keyboard apparatus of this invention in 2nd Embodiment. 図4に示す錘部の拡大図である。It is an enlarged view of the weight part shown in FIG. 第3実施形態における本発明の鍵盤装置を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the keyboard apparatus of this invention in 3rd Embodiment. 図6に示す錘部の拡大図である。It is an enlarged view of the weight part shown in FIG. (A)及び(B)は、他の実施形態における錘部の拡大図である。(A) And (B) is an enlarged view of the weight part in other embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10…黒鍵(鍵)、11…白鍵(鍵)、20…フレーム、30…質量体、32A…空洞部、32B…微粒子、32C…隔壁、32D…供給孔、32E…連通孔、32A−1…第1微粒子蓄積領域(他方の空間)、32A−2…第2微粒子蓄積領域(一方の空間)、32A−3…段差、32A−4…テーパ、32A−5…第1誘導壁(テーパ)41…上限ストッパ(ストッパ)、42…下限ストッパ(ストッパ)、100…鍵盤装置   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Black key (key), 11 ... White key (key), 20 ... Frame, 30 ... Mass body, 32A ... Hollow part, 32B ... Fine particle, 32C ... Partition, 32D ... Supply hole, 32E ... Communication hole, 32A- DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... 1st fine particle accumulation | storage area | region (other space), 32A-2 ... 2nd fine particle accumulation | storage area | region (one space), 32A-3 ... level | step difference, 32A-4 ... taper, 32A-5 ... 1st guide wall (taper) 41 ... Upper limit stopper (stopper), 42 ... Lower limit stopper (stopper), 100 ... Keyboard device

Claims (4)

左右方向に並設された複数の鍵と、前記鍵の前端部が上下方向に回動可能となるように前記鍵の後端部を支持するフレームと、前記鍵の回動に連動して上下方向に回動するように前記フレームに支持された質量体と、前記鍵又は前記質量体と当接して前記鍵及び前記質量体の回動範囲を規制するストッパと、を備えた鍵盤装置において、
前記質量体が、一部に設けられた空洞部と、前記空洞部内で移動可能となるように前記空洞部に充填された複数の微粒子と、前記空洞部を2つ以上に隔てる隔壁と、前記隔壁の下部に設けられた供給孔と、を有する
ことを特徴とする鍵盤装置。
A plurality of keys arranged side by side in the left-right direction, a frame that supports the rear end of the key so that the front end of the key can be rotated in the up-down direction, and up and down in conjunction with the rotation of the key In a keyboard device comprising: a mass body supported by the frame so as to rotate in a direction; and a stopper that contacts the key or the mass body and regulates the rotation range of the key and the mass body.
A cavity part provided in a part, a plurality of fine particles filled in the cavity part so as to be movable in the cavity part, a partition wall separating the cavity part into two or more, and And a supply hole provided in a lower part of the partition wall.
前記2つ以上に隔てられた一方の空間から他方の空間に向かうに従って下側に近づくテーパ又は前記一方の空間の下部が前記他方の空間の下部よりも高くなるような段差が前記空洞部の下部に設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載の鍵盤装置。
A taper that approaches the lower side from one space separated by two or more to the other space or a step that makes the lower portion of the one space higher than the lower portion of the other space is the lower portion of the cavity portion. The keyboard device according to claim 1, wherein the keyboard device is provided.
前記一方の空間が前記他方の空間よりも前記質量体の回動支点から近い側に設けられたことを特徴とする請求項2に記載の鍵盤装置。   The keyboard device according to claim 2, wherein the one space is provided closer to the rotation fulcrum of the mass body than the other space. 連通孔が前記隔壁の上部に設けられ、
前記他方の空間から前記一方の空間に向かうに従って上側に近づくテーパが前記空洞部の上側に設けられている
ことを特徴とする請求項2に記載の鍵盤装置。
A communication hole is provided in the upper part of the partition wall,
The keyboard device according to claim 2, wherein a taper approaching the upper side from the other space toward the one space is provided on the upper side of the hollow portion.
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