JP4943836B2 - 光学構造書き込みシステム - Google Patents

Description

本発明は、概して、導波路における光学構造の書き込みシステム、導波路における光学構造の書き込み方法および干渉計に関する。

一般に、ブラッグ回折格子等の光学構造を感光性材料内に書き込むには、２本のコヒーレントな光線（通常はＵＶ波長域）が別個の光路に沿って方向付けられ、実質的に感光性材料内で干渉させられる干渉計が必要である。感光性材料内では、光線と感光性材料間の相互作用によって、干渉パターンによって決定される屈折率プロファイルにしたがって屈折率の変化が生じる。

複雑な光学回折格子を例えば光ファイバにおいて書き込むためには、通常、高コントラスト、位相安定、および任意にチャープ可能なＵＶ干渉パターンが必要とされる。このような光学回折格子書き込み用ＵＶ干渉パターンの作成に関連する設計上の問題は多次元的であり、光学および機械コンポーネントの非理想的性質に起因する各次元における誤差を最小に抑えつつ、全ての基準を同時に満たすことができる光学系の設計に重要であることが分かっている。

本発明は、導波路における光学構造書き込み用の代替システムおよび方法を提供しようとするものであり、少なくとも好適な実施形態においては、誤差項の和を最小限に抑えつつ要求される柔軟性を持った構造書き込み要件を満たすものである。

本明細書を通して、「位相シフト」は、いずれも一定の位相シフトまたは時間的に変化する位相シフト、すなわち動的位相シフトを指す。さらに、周波数と位相とは密接に関係するため、位相制御が、いずれも周波数制御として読まれうることが当業者には理解されよう。

本発明の第１の態様は、光線を２本のコヒーレントな書き込みビームに分割する手段と、前記２本のコヒーレントな書き込みビームが実質的に導波路内の干渉領域において干渉パターンを生成し、前記導波路の感光性材料中に屈折率変化を生じさせることによって光学構造を書き込むように、前記２本のコヒーレントな書き込みビームを実質的に同じ光路に沿って反対方向に方向付ける光学回路とを備え、前記光学回路は通過して伝播する光線に制御可能な位相シフトを印加することができるように構成された少なくとも２個の音響光学変調器（ＡＯＭ）を有し、前記２本のコヒーレントな書き込みビームが前記少なくとも２個のＡＯＭのそれぞれを通過して伝播するようにされており、前記少なくとも２個のＡＯＭは使用時に各ＡＯＭを通過して伝播している前記２本のコヒーレントな書き込みビームの一方のみの位相をシフトすることによって、前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間に制御可能な位相差を与えるように配置されており、前記導波路に延長された光学構造を書き込むために、前記導波路と干渉する前記２本のコヒーレントな書き込みビームとの間に相対移動を与える手段と、前記光線を分割する手段と干渉する前記２本のコヒーレントな書き込みビームとの間に相対移動を与える手段とをさらに備え、使用時に、前記光線を分割する手段と前記導波路が、前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対して同一の移動を行い、前記干渉パターンにおける変動の速度と前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対する前記導波路の移動の速度との間でバランスをとるように、前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間で相対位相シフトが生じさせられる、導波路における光学構造の書き込みシステムである。

この少なくとも１個のＡＯＭは、各書き込みビームの位相をシフトするように構成可能であるか、あるいはＡＯＭが同じ書き込みビームの位相をシフトするように構成可能である。
２個のＡＯＭを有する一実施形態では、両方の書き込みビームが両方のＡＯＭを通過して伝播する。

このシステムが、導波路および干渉する書き込みビーム間に相対移動を与えて、導波路における延長された光学構造の書き込みを可能とする手段を含むのが好ましい。このシステムは、光線を分割する手段および干渉する書き込みビーム間に相対移動を与える手段をさらに含むことができ、使用時に、この光線を分割する手段と導波路が書き込みビームに対して同一の移動を行い、相対位相シフトが書き込みビーム間で生じて干渉パターンにおける変動の速度と書き込みビームに対する導波路の移動の速度とのバランスをとる。

このシステムは、干渉パターンにおける変動および書き込みビームに対する導波路の移動の速度バランスをデチューン（detune：離調）するように、ＡＯＭを用いて書き込みビーム間の相対位相シフトを制御することによって、変動する位相および／またはピッチで光学構造を書き込み可能に構成することができる。

このＡＯＭは、変動する振幅プロファイルの光学構造を書き込むために干渉パターン中の干渉縞をディザリング可能に構成することができる。このＡＯＭは、光学構造の書き込み中に干渉領域を移動させるように構成することができる。
ある実施形態では、ＡＯＭが集束する書き込みビーム間の角度を変化させることが可能に構成することができる。
ある実施形態では、少なくとも１個のＡＯＭの部分ブラッグ回折駆動を用いて書き込みビームの強度が制御される。

分割手段は位相マスクを備えているのが好ましい。このシステムは、干渉領域において書き込みビームの焦点を合わせる手段をさらに含むことができる。
光学回路が実質的にサニャック（Sagnac）干渉計のフォーマットで構成されているのが好ましい。
また、導波路が光ファイバを備えていることが好ましい。

本発明の第２の態様は、光線を２本のコヒーレントな書き込みビームに分割するステップと、前記２本のコヒーレントな書き込みビームが実質的に導波路内の干渉領域において干渉パターンを生成し、前記導波路の感光性材料中に屈折率変化を生じさせることによって光学構造を書き込むように、前記２本のコヒーレントな書き込みビームを実質的に同じ光路に沿って反対方向に方向付けるステップと、ここで前記光路は少なくとも２つの音響光学変調器（ＡＯＭ）を有し、前記２本のコヒーレントな書き込みビームが前記ＡＯＭのそれぞれを通過して伝播するようにされているものであり、少なくとも２個の前記ＡＯＭを選択的に用いて前記２本のコヒーレントな書き込みビームの少なくとも一方の位相をシフトして、前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間の位相差を制御するステップであって、各ＡＯＭは前記２本のコヒーレントな書き込みビームの一方のみの位相をシフトするステップと、干渉する前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対して前記導波路を移動させ、前記導波路に延長された光学構造を書き込むステップと、前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対し前記導波路に合わせてビーム分割手段を移動するステップと、前記干渉パターンにおける変動の速度と前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対する前記導波路の移動の速度とのバランスをとるために、前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間で相対位相シフトを生じさせるステップと、を含む、導波路に光学構造を書き込む方法である。

２本の書き込みビーム間の位相差を制御するステップは、２個のＡＯＭを用いて同じ書き込みビームの位相をシフトすることを含むことができる。あるいは、２本の書き込みビーム間の位相差を制御するステップは、２個のＡＯＭを用いて異なる書き込みビームの位相をシフトすることを含むことができる。

また、この方法は、干渉する書き込みビームに対して導波路を移動させ、導波路において延長された光学構造を書き込むことを含むことができる。この方法は、書き込みビームに対し導波路に合わせてビーム分割手段を移動することと、干渉パターンにおける変動の速度と書き込みビームに対する導波路の移動の速度とのバランスをとるために、書き込みビーム間で相対位相シフトを生じさせることを含むことができる。

いくつかの実施において、この方法は、書き込みビーム間の相対位相シフトを制御することによって、干渉パターンにおける変動および導波路の移動の速度バランスの範囲をデチューンすることを含むことができる。
また、この方法は、少なくとも１個のＡＯＭを用いて光学導波路について干渉縞をディザリング（dithering）することを含むことができる。
また、この方法は、少なくとも１個のＡＯＭを用いて光学構造の書き込み中に干渉領域を移動することを含むことができる。さらに、この方法は、ＡＯＭを用いて集束する書き込みビーム間の角度を変化させることを含むことができる。

ある実施形態では、この方法は、少なくとも１個のＡＯＭの部分ブラッグ回折駆動を用いて干渉する書き込みビームの強度を制御することを含んでいる。
この方法は、干渉領域において書き込みビームの焦点を合わせることをさらに含むことができる。

本発明の第３の態様では、干渉計の干渉する書き込みビームに対して移動する導波路において光学構造を書き込む干渉計が提供され、干渉計が書き込みビーム間の制御された位相差を導入する少なくとも２個の音響光学変調器（ＡＯＭ）を含み、使用時に、干渉計によって作成された干渉パターンの位相誤差が、約１００ｍｍの導波路の相対移動に対して約±１０°未満である。位相誤差は約±３°未満であるのが好ましい。

干渉計が２個のＡＯＭを含んでいるのが好ましい。
一実施形態では、干渉計が、書き込みビームが実質的に同じ光路に沿って反対方向に進行するように構成され、使用時に、各ＡＯＭが書き込みビームの一方のみの位相をシフトする形で両方の書き込みビームが少なくとも２個のＡＯＭを通過して伝播するように、ＡＯＭが配置される。

本発明の第４の態様では、前述の方法のいずれか１つを用いて書き込まれた光学構造を含む導波路が提供される。
したがって、ある実施形態では、このシステムは強い同相除去を示し、電気位相制御の柔軟性を提供しつつ書き込まれた回折格子の品質を高める。

ほんの一例として、本発明の好適な実施形態について添付の図面を参照して説明する。
説明される好適な実施形態は、回折格子の書き込み中に導入される誤差項の和を減らしつつ要求される柔軟性を持ったファイバ回折格子の書き込み要件を満たす、光ファイバに回折格子を書き込むシステムおよび方法を提供する。

図１は、長尺な光学回折格子を光ファイバ１０２内に書き込むための回折格子書き込み構成１００を示す。このシステム１００は、光吸収により生じる光ファイバ１０２中の屈折率変化によって光学回折格子を書き込むためのレーザビーム１０６を発生するＵＶレーザ光源１０４を含んでいる。

適当な干渉計セットアップ１０８が、入射レーザ１０６を２本のコヒーレントビーム１１０、１１２に分割し、２本の書き込みビーム１１０、１１２を光ファイバ１０２の干渉領域１１４で干渉させるように用いられる。図１の挿入部分に示すように、干渉領域１１４で干渉パターン１１６がこのように作成される。

干渉計セットアップ１０８は、さらに、周波数オフセットを書き込みビーム１１０、１１２間に導入するように構成されている。結果として、干渉パターン１１６が静的なものでなく、むしろ連続的に変化するものとなる。すなわち、干渉縞、例えば１１８が矢印１２０で示すように速度ｖ_Pで干渉領域１１４を「横切って」移動する。速度ｖ_Pはとりわけ書き込みビーム１１０、１１２間に生じる相対位相シフトおよび書き込みビーム１１０、１１２間の干渉角度に依存する。

干渉パターン変化の速度ｖ_Pが、光ファイバ１０２の速度、すなわち並進ステージ１１４の速度ｖ_Tに一致する場合には、光ファイバ１０２中に一定ピッチの長尺な光学回折格子を書き込み可能であることが当業者には理解されよう。

例えばチャープされた（chirped）回折格子をシステム１００で書き込むには、書き込みビーム１１０、１１２間の相対位相シフトを変化させる必要があり、次に、それに従って書き込まれた回折格子のピッチがｖ_Pおよびｖ_T間の不一致に応じて変更される。

本明細書の背景技術の項で述べたように、システム１００は、システム１００の光学および機械コンポーネントの非理想的性質に起因する多重誤差を被っている。１つの重要な誤差成分は、並進ステージ１２４の非理想的な並進挙動に起因するものである。特定の設計の回折格子を書き込むことが所望され、干渉計セットアップ１０８の制御ユニット１２６がそれに応じてプログラムされていれば、結果として並進ステージの非理想的な挙動は、ファイバ速度、すなわちステージ速度ｖ_Tの理想的挙動からの逸脱となる。このことは、理論的な所望の設計と比較した場合に、書き込まれた回折格子における並進位相誤差と称されることもある。

図２Ａおよび２Ｂは、それぞれ光ファイバ１２内に回折格子を書き込むための本発明を用いたシステム１０の概略上面図および端面図を示す。入射ＵＶビーム１６を２本のコヒーレントな書き込みビーム１８、２０に分割するために使用される光ファイバ１２および位相マスク１４は、両方とも同じ並進ステージ２２上に取り付けられる。そのため、使用時に、システム１０の残りのコンポーネント、特に入射ＵＶビーム１６および２本の書き込みビーム１８、２０に対して、光ファイバ１２および位相マスク１４の両方に同一の移動が与えられる。

このように、書き込みビーム１８、２０に与えられるドップラーシフトが、実質的に光ファイバ１２の速度を干渉パターン変化の速度に一致させるのに必要なものであることが当業者には理解されよう。図２Ａおよび図２Ｂに示した本実施形態において、位相マスク１４での入射ＵＶビーム１６の分割点２６と比較すると、再結合または干渉点２４が少量だけ水平および垂直平面の両方においてオフセットされていることがわかる。

このように、本実施例の干渉計の構成は、戻りビームが垂直および水平方向に若干オフセットされ、位相マスク１４から離れた位置でファイバ１２上に再結合される点を除けば、サニャック干渉計に近いものである。この構成は、本物のサニャック干渉計が示すのとほぼ同じ大きさの同相除去を示す。干渉計が本物のサニャック干渉計に近いほど、同相除去が良くなる。したがって、再結合点２４はできるだけ位相マスク１８から分割点２６に近いほうが望ましい。

書き込みビーム１８、２０は、位相マスク１４にダメージを与えることなく、光ファイバ１２で再結合点２４の高強度スポットに焦点が合わされる。システム１０は、書き込みビーム１８、２０間に位相差を生じさせる２個の音響光学変調器（ＡＯＭ）３４、３６をさらに備える。

例えば、再結合点２４が水平面において位相マスク１４から前方に移動するので、小さい相対周波数シフトがＡＯＭ３４、３６に付与されて、光ファイバ１２と再結合点２４で進行する干渉パターンとの小さい速度不一致の原因となる。速度不一致は、書き込みビーム１８、２０が干渉し、本物のサニャック干渉計構成と比較して、再結合点２４が位相マスク１４の分割点２６と等しくなる角度の変化によって導入される。

例えば、水平面において再結合点２４を位相マスク１４から前方に１ｍｍ移動しても、まだ９９％超の並進位相誤差補償が与えられることが分かっている。垂直面において、書き込みビーム１８、２０の分割点２６および再結合点２４の分離が進むと、光学コンポーネントにおいて機械的および熱的にドリフトさせるだけでなく、並進ステージ２２においてシステム１０の感度を横揺れ、縦揺れ、偏揺れさせることになる。にもかかわらず、約５ｍｍのかなり大きなオフセットがあっても、このような干渉計構成は横揺れ、縦揺れ、偏揺れに十分な耐性をもつことが分かっている。

チャープされた回折格子を書き込むには、一方の書き込みビーム１８の位相を他方の書き込みビーム２０に対して変化させる必要がある。さらに、ＡＯＭ３４、３６は必要な相対位相シフトを導入するのに用いられる。また、ＡＯＭ３４、３６は、書き込まれた回折格子中にアポダイゼーション（apodisation）を導入するのに用いることもできる。ＡＯＭ３４、３６は、音波でブラッグ回折を介して書き込みビーム１８、２０中に必要な相対位相シフトを導入する。各書き込みビーム１８、２０は、ＡＯＭ３４、３６の一方のみ、すなわちそれぞれの光路中の最初の一方のみで周波数シフトされる。他方のＡＯＭ通過時に、ブラッグ条件はそのＡＯＭに対しては満たされなくなり、故にさらなる周波数シフトは発生しない。

あるいは、またはさらに、ＡＯＭ３４、３６は、変動する振幅プロファイルの光学構造、例えばアポダイズされた光学回折格子を書き込むために、ファイバ１２に関して干渉パターン中の干渉縞をディザリングするのに用いられてもよい。あるいは、またはさらに、ＡＯＭ３４、３６は、光学構造の書き込み中に干渉点を移動させるのに用いられてもよい。これは、ＡＯＭを駆動する信号の絶対周波数を変更することにより達成されるが、干渉計のアラインメントまたはＡＯＭ中のブラッグ条件に影響を与えることなく行われることが重要である。ここで留意すべきは、これが、書き込まれたＦＢＧの位相および振幅制御を行うのに用いられる２本のビーム間の相対周波数差とは無関係に行うこともできる点である。あるいは、またはさらに、ＡＯＭ３４、３６は、ＡＯＭ３４、３６の一方または両方の部分ブラッグ回折駆動を利用して、干渉するビームの強度を制御するのに用いられてもよい。

ＡＯＭを組み込んだ干渉計の位相安定度の尺度を得るのに、種々の動作状態を表わす以下のデータが得られている。図３に示したように、書き込みビーム１８、２０の部分が、並進ステージ２０より前に書き込みビーム１８、２０の「戻り」光路中に取り出される。次に、取り出された部分１８ｂ、２０ｂは静的干渉計セットアップ４２を利用して干渉させられ、干渉領域３８で生じた干渉パターンがアナライザ４０を用いて分析される。

図４に、測定された干渉計位相誤差が取り出された書き込みビーム部分１８Ｂ、２０Ｂの得られた干渉パターンにおける経時的なステージ移動の関数として示されている。プロット４２から分かるように、測定された干渉計位相誤差は±４０°程度であり、並進ステージ２２の移動により導入される並進位相誤差を表わしている。

比較のために、図５は再結合点２４で、すなわち並進ステージ２２上で測定された干渉計位相誤差のプロット４５を示している。図５から分かるように、測定された干渉計位相誤差は±３°程度である。さらに、測定された干渉計位相誤差は、書き込みシステム１０を利用した回折格子の書き込み中に現れるであろう、今や補償された並進位相誤差を表わしている。この性能は、光学回路中のＡＯＭの存在とともに達成され、結果としてこの性能は、ＦＢＧピッチおよび振幅における完全な柔軟性を維持しつつ達成される。さらなる比較のために、追加のプロット４６、４８が図５に示されている。プロット４６は、停止した、すなわちスイッチをオフした並進ステージ２２について測定された干渉計位相誤差を示す。プロット４８は、スイッチをオンした並進ステージ２２について測定された干渉計位相誤差を示すが、速度はゼロに設定されている。プロット４５、４６および４８の比較から分かるように、干渉計位相誤差はそれらの全ての条件下で実質的に同程度の大きさである。このことは、ＡＯＭの存在があっても、本発明の好適な実施形態において高い受動的位相安定性が達成可能であることを証明するものである。

当技術分野に精通している方々には、好適な実施形態においてＡＯＭを導入したことにより、かなりの干渉縞ノイズを導入することなく干渉縞制御が可能となり、それにより完全な柔軟性と高い安定性の希少な組み合わせが提供されることが理解されよう。
当業者には、広く説明された本発明の精神または範囲から逸脱することなく、特定の実施形態に示したような数々の変形および／または変更を本発明に加えうることが理解されよう。したがって、本実施形態は全ての態様において例示的であるが限定的ではないことが考慮されるべきである。

例えば、本発明の別の実施形態では、分割手段と書き込みビームの相対移動の結果として、光線を分割する代替手段が書き込みビームの相対位相を変調するとして、光線をコヒーレントな書き込みビームに分割する他の手段が利用されてもよい。

また、本発明の別の実施形態における書き込みビームの焦点合わせは、位相マスク前の光学レンズ（または実際の複数のレンズ）の代わりまたは追加として、位相マスク後の１本の光路または複数の光路に１個または複数個の光学レンズを配置することを含んでもよい。さらに、別の実施形態における光学回路は本物のサニャック干渉計として構成されてもよい。

ここに説明された好適な実施形態は、書き込みビーム間の位相差を制御する２個のＡＯＭを含んでいるが、ある実施形態では、この目的のために３個または４個以上のＡＯＭを用いることができる。

また、本発明の別の実施形態における光学回路は、説明された好適な実施形態に示されたコンポーネントの代わりに、またはそれに追加して他の光学コンポーネントを備えてもよいことが理解されよう。例えば、電気光学変調器等の他の光学コンポーネントが書き込みビーム間の相対的な位相シフトを生じさせるために用いられ、ならびに／またはミラー以外の他の光学素子が光線を方向付けるために用いられる。

本発明の特許請求の範囲および課題を解決する手段には、文脈が表現言語または必要な含意によって他のものを要求する以外は、用語「備える」は「含む」の意味で用いられ、すなわち規定された特徴は、本発明の種々の実施形態におけるさらなる特徴に関連することもある。

従来の回折格子書き込み構成の概略図である。 平面図で表わされた本発明を具現化する例示的な回折格子書き込みシステムの概略図（図２Ａ）と、端部図で表わされた本発明を具現化する例示的な回折格子書き込みシステムの概略図（図２Ｂ）である。 本発明を具現化する並進位相誤差補償を示す比較データを得るための、図２に示された回折格子書き込みシステムの変形の概略図である。 補償されていない並進位相誤差を表わす、経時的なステージ移動の関数としての干渉計位相誤差プロット図である。 本発明を具現化する補償された並進位相誤差を表わす、異なる並進ステージ設定に対する経時的なステージ移動の関数としての干渉計位相誤差プロット図である。

Claims (22)

1. 光線を２本のコヒーレントな書き込みビームに分割する手段と、
   前記２本のコヒーレントな書き込みビームが実質的に導波路内の干渉領域において干渉パターンを生成し、前記導波路の感光性材料中に屈折率変化を生じさせることによって光学構造を書き込むように、前記２本のコヒーレントな書き込みビームを実質的に同じ光路に沿って反対方向に方向付ける光学回路とを備え、
   前記光学回路は通過して伝播する光線に制御可能な位相シフトを印加することができるように構成された少なくとも２個の音響光学変調器（ＡＯＭ）を有し、前記２本のコヒーレントな書き込みビームが前記少なくとも２個のＡＯＭのそれぞれを通過して伝播するようにされており、
   前記少なくとも２個のＡＯＭは使用時に各ＡＯＭを通過して伝播している前記２本のコヒーレントな書き込みビームの一方のみの位相をシフトすることによって、前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間に制御可能な位相差を与えるように配置されており、
   前記導波路に延長された光学構造を書き込むために、前記導波路と干渉する前記２本のコヒーレントな書き込みビームとの間に相対移動を与える手段と、
   前記光線を分割する手段と干渉する前記２本のコヒーレントな書き込みビームとの間に相対移動を与える手段とをさらに備え、
   使用時に、前記光線を分割する手段と前記導波路が、前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対して同一の移動を行い、前記干渉パターンにおける変動の速度と前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対する前記導波路の移動の速度との間でバランスをとるように、前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間で相対位相シフトが生じさせられる、導波路における光学構造の書き込みシステム。
2. 前記コヒーレントな書き込みビームの各々が、該書き込みビームの位相をシフトするように構成されている少なくとも１個のＡＯＭを通して伝播する、請求項１に記載のシステム。
3. 前記少なくとも２個のＡＯＭが同じ書き込みビームの位相をシフトするように構成されている、請求項１に記載のシステム。
4. 前記干渉パターンにおける変動と前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対する前記導波路の移動の速度バランスをデチューンするように、前記ＡＯＭを用いて前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間の相対位相シフトを制御することによって、変動する位相および／またはピッチで複数の光学構造が書き込み可能であるように構成されている、請求項１に記載のシステム。
5. 前記ＡＯＭが、変動する振幅プロファイルの光学構造を書き込むために前記干渉パターン中の干渉縞のディザリングを可能とするように構成されている、請求項１から４のいずれか１項に記載のシステム。
6. 前記ＡＯＭが、前記光学構造の書き込み中に前記干渉領域を移動させるように構成されている、請求項１から５のいずれか１項に記載のシステム。
7. 前記ＡＯＭが集束する前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間の角度を変化させることが可能であるように構成されている、請求項１から６のいずれか１項に記載のシステム。
8. 少なくとも１個の前記ＡＯＭの部分ブラッグ回折駆動を用いて前記２本のコヒーレントな書き込みビームの強度が制御される、請求項１から７のいずれか１項に記載のシステム。
9. 前記分割手段が位相マスクを備えている、請求項１から８のいずれか１項に記載のシステム。
10. 前記干渉領域において前記２本のコヒーレントな書き込みビームの焦点を合わせる手段をさらに含む、請求項１から９のいずれか１項に記載のシステム。
11. 前記光学回路が実質的にサニャック干渉計のフォーマットで構成されている、請求項１から１０のいずれか１項に記載のシステム。
12. 前記導波路が光ファイバを備えている、請求項１から１１のいずれか１項に記載のシステム。
13. 光線を２本のコヒーレントな書き込みビームに分割するステップと、
    前記２本のコヒーレントな書き込みビームが実質的に導波路内の干渉領域において干渉パターンを生成し、前記導波路の感光性材料中に屈折率変化を生じさせることによって光学構造を書き込むように、前記２本のコヒーレントな書き込みビームを実質的に同じ光路に沿って反対方向に方向付けるステップと、ここで前記光路は少なくとも２つの音響光学変調器（ＡＯＭ）を有し、前記２本のコヒーレントな書き込みビームが前記ＡＯＭのそれぞれを通過して伝播するようにされているものであり、
    少なくとも２個の前記ＡＯＭを選択的に用いて前記２本のコヒーレントな書き込みビームの少なくとも一方の位相をシフトして、前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間の位相差を制御するステップであって、各ＡＯＭは前記２本のコヒーレントな書き込みビームの一方のみの位相をシフトするステップと、
    干渉する前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対して前記導波路を移動させ、前記導波路に延長された光学構造を書き込むステップと、
    前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対し前記導波路に合わせてビーム分割手段を移動するステップと、
    前記干渉パターンにおける変動の速度と前記２本のコヒーレントな書き込みビームに対する前記導波路の移動の速度とのバランスをとるために、前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間で相対位相シフトを生じさせるステップと、
    を含む、導波路に光学構造を書き込む方法。
14. 前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間の位相差を制御するステップが、前記２個のＡＯＭを用いて同じ書き込みビームの位相をシフトすることを含む、請求項１３に記載の方法。
15. 前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間の位相差を制御するステップが、前記２個のＡＯＭを用いて、各ＡＯＭがそれぞれ異なる書き込みビームの位相をシフトすることを含む、請求項１３に記載の方法。
16. 前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間の相対位相シフトを制御することによって、前記干渉パターンにおける変動と前記導波路の移動の速度バランスの範囲をデチューンすることを含む、請求項１３に記載の方法。
17. 少なくとも１個の前記ＡＯＭを用いて前記光学導波路について干渉縞をディザリングすることを含む、請求項１３から１６のいずれか１項に記載の方法。
18. 少なくとも１個の前記ＡＯＭを用いて前記光学構造の書き込み中に前記干渉領域を移動することを含む、請求項１３から１７のいずれか１項に記載の方法。
19. 前記ＡＯＭを用いて集束する前記２本のコヒーレントな書き込みビーム間の角度を変化させることを含む、請求項１３から１７のいずれか１項に記載の方法。
20. 少なくとも１個のＡＯＭの部分ブラッグ回折駆動を用いて前記干渉する２本のコヒーレントな書き込みビームの強度を制御することを含む、請求項１３から１９のいずれか１項に記載の方法。
21. 前記干渉領域において前記２本のコヒーレントな書き込みビームの焦点を合わせることをさらに含む、請求項１３から２０のいずれか１項に記載の方法。
22. 干渉計によって作られる前記干渉パターンの位相誤差が、約１００ｍｍの前記導波路の相対移動に対して、約±３°の範囲内である、請求項１から１２のいずれか１項に記載のシステム。

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