JP4892206B2 - Method for producing fullerene derivative - Google Patents
Method for producing fullerene derivative Download PDFInfo
- Publication number
- JP4892206B2 JP4892206B2 JP2005213226A JP2005213226A JP4892206B2 JP 4892206 B2 JP4892206 B2 JP 4892206B2 JP 2005213226 A JP2005213226 A JP 2005213226A JP 2005213226 A JP2005213226 A JP 2005213226A JP 4892206 B2 JP4892206 B2 JP 4892206B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fullerene
- dioxolane
- reaction
- oxide
- solid acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 97
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 claims description 93
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 40
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 claims description 30
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 claims description 11
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 4
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 2
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 44
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 28
- -1 m-CPBA Chemical compound 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 11
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 11
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 10
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 9
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 9
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 7
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 5
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004895 liquid chromatography mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 3
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 3
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BFIMMTCNYPIMRN-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5-tetramethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C)=C1 BFIMMTCNYPIMRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C)C(C)=CC=C21 QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006091 1,3-dioxolane group Chemical group 0.000 description 2
- IYDMICQAKLQHLA-UHFFFAOYSA-N 1-phenylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 IYDMICQAKLQHLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 1-tetralone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCCC2=C1 XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 3-hexanone Chemical compound CCCC(=O)CC PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940010552 ammonium molybdate Drugs 0.000 description 2
- 239000011609 ammonium molybdate Substances 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000668 atmospheric pressure chemical ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVFDZFBHBWTVID-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarbaldehyde Chemical compound O=CC1CCCCC1 KVFDZFBHBWTVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N heptane - octane Natural products CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229940094933 n-dodecane Drugs 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N prehnitene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1C UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N tert-butylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- DPEYHNFHDIXMNV-UHFFFAOYSA-N (9-amino-3-bicyclo[3.3.1]nonanyl)-(4-benzyl-5-methyl-1,4-diazepan-1-yl)methanone dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.CC1CCN(CCN1Cc1ccccc1)C(=O)C1CC2CCCC(C1)C2N DPEYHNFHDIXMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSRLURSZEMLAFO-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC(Br)=C1 JSRLURSZEMLAFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1 ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxyethane Chemical compound COCCBr YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMIMBQIBIZZZHQ-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(Br)C(C)=CC=C21 CMIMBQIBIZZZHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XQQBUAPQHNYYRS-UHFFFAOYSA-N 2-methylthiophene Chemical compound CC1=CC=CS1 XQQBUAPQHNYYRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 3-(5-amino-1h-indol-3-yl)-2-azaniumylpropanoate Chemical compound C1=C(N)C=C2C(CC(N)C(O)=O)=CNC2=C1 YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003341 Bronsted base Substances 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000000634 Cytochrome c oxidase subunit IV Human genes 0.000 description 1
- 108050008072 Cytochrome c oxidase subunit IV Proteins 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N Methylthiophene Natural products CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQLSEYOOXBRDFZ-UHFFFAOYSA-N N-formylnornicotine Natural products O=CN1CCCC1C1=CC=CN=C1 GQLSEYOOXBRDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006217 Nerdel homologation reaction Methods 0.000 description 1
- 102220500397 Neutral and basic amino acid transport protein rBAT_M41T_mutation Human genes 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000908838 Parietaria mottle virus Species 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102220485915 Putative uncharacterized protein DHRS4-AS1_C20S_mutation Human genes 0.000 description 1
- 241001168730 Simo Species 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical class OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000008043 acidic salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000018660 ammonium molybdate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001439 antimony ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000000065 atmospheric pressure chemical ionisation Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940023913 cation exchange resins Drugs 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000006 cesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- NNBZCPXTIHJBJL-AOOOYVTPSA-N cis-decalin Chemical compound C1CCC[C@H]2CCCC[C@H]21 NNBZCPXTIHJBJL-AOOOYVTPSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 1
- UGBFRCHGZFHSBC-UHFFFAOYSA-N cycloheptanecarbaldehyde Chemical compound O=CC1CCCCCC1 UGBFRCHGZFHSBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGZZMOTZOONQIA-UHFFFAOYSA-N cycloheptanone Chemical compound O=C1CCCCCC1 CGZZMOTZOONQIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGUWVNICWZJQU-UHFFFAOYSA-N cyclooctanecarbaldehyde Chemical compound O=CC1CCCCCCC1 IGGUWVNICWZJQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIRFCWANHMSDCG-UHFFFAOYSA-N cyclooctanone Chemical compound O=C1CCCCCCC1 IIRFCWANHMSDCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VELDYOPRLMJFIK-UHFFFAOYSA-N cyclopentanecarbaldehyde Chemical compound O=CC1CCCC1 VELDYOPRLMJFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N dihydroxyacetone Chemical compound OCC(=O)CO RXKJFZQQPQGTFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052675 erionite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- 229910001657 ferrierite group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N formylthiophene Chemical compound O=CC1=CC=CS1 CNUDBTRUORMMPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N indan-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCC2=C1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNWQUNCRDLUDEX-UHFFFAOYSA-N inden-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC2=C1 SNWQUNCRDLUDEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- FPBMTPLRBAEUMV-UHFFFAOYSA-N nickel sodium Chemical compound [Na][Ni] FPBMTPLRBAEUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004967 organic peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZDFRGGOXGETNN-UHFFFAOYSA-N phosphane;potassium Chemical compound P.[K] PZDFRGGOXGETNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- PJGSXYOJTGTZAV-UHFFFAOYSA-N pinacolone Chemical compound CC(=O)C(C)(C)C PJGSXYOJTGTZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical class CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJZUKDFHGGYHMC-UHFFFAOYSA-N pyridine-3-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CN=C1 QJZUKDFHGGYHMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 102220091827 rs1059046 Human genes 0.000 description 1
- 159000000005 rubidium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJMWRROPUADPEA-UHFFFAOYSA-N sec-butylbenzene Chemical compound CCC(C)C1=CC=CC=C1 ZJMWRROPUADPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N silicic acid;trioxotungsten Chemical compound O[Si](O)(O)O.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical group OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical compound C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- NNBZCPXTIHJBJL-MGCOHNPYSA-N trans-decalin Chemical compound C1CCC[C@@H]2CCCC[C@H]21 NNBZCPXTIHJBJL-MGCOHNPYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001392 ultraviolet--visible--near infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910001456 vanadium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D317/70—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with ring systems containing two or more relevant rings
Description
本発明は、フラーレンオキシドからのフラーレン1,3−ジオキソランの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing fullerene 1,3-dioxolane from fullerene oxide.
フラーレンおよびその誘導体は、包接化合物に関連するクラスター科学や医薬品、光電子デバイスへの応用の分野で注目されている。中でも、フラーレン1,3−ジオキソランは、電子受容体であり、高機能性材料として注目されている。 Fullerenes and their derivatives are attracting attention in the fields of cluster science related to clathrate compounds, pharmaceuticals, and optoelectronic devices. Among them, fullerene 1,3-dioxolane is an electron acceptor and has attracted attention as a highly functional material.
エポキシドとカルボニル化合物から、
例えば、非特許文献1には、BF3エーテレートを触媒として使用し、
For example, Non-Patent Document 1 uses BF 3 etherate as a catalyst,
また、非特許文献2には、触媒として無水CuSO4を使用し、
更に、非特許文献3には、以下の反応により、1,3−ジオキソランを製造する方法が記載されている。
非特許文献4には、
これら文献に記載の反応の反応機構については、非特許文献1に記載の方法による生成物の立体化学およびO18アセトンを用いた実験結果により、以下に示すように、カルボニル酸素のバックサイドアタックに続いてC−C結合の回転を経て、第2のC−O結合が生成することにより、1,3−ジオキソランが生成すると考えられている。しかし、この反応は、エポキシドやアルデヒドの副反応により1,3−ジオキソランの収率が低下するという問題があった。また、使用する触媒は、吸湿性が高く、取り扱いが容易ではなかった。
また、触媒としてピリジニウム塩を用いて、以下の反応により、1,3−ジオキソランを製造する方法が、非特許文献5に記載されている。
一方、フラーレンを出発物質としてフラーレン1,3−ジオキソランを得る方法が、非特許文献6〜8に報告されている。しかし、非特許文献6〜8に記載の方法では、フラーレン1,3−ジオキソランが他のフラーレン誘導体とともに得られることが多い。そのため、これらの方法では、フラーレン1,3−ジオキソランを高収率で得ることはできなかった。また、使用する試薬、例えば過酸化物の取り扱いが困難であるという問題もあった。
本発明の目的は、フラーレン1,3−ジオキソランを簡便かつ高収率で製造する方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a method for producing fullerene 1,3-dioxolane in a simple and high yield.
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、固体酸触媒存在下でフラーレンオキシドとカルボニル化合物とを反応させることにより、簡便かつ高収率でフラーレン1,3−ジオキソランを製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、上記本発明の目的を達成する手段は、以下の通りである。
[1]固体酸触媒存在下で、フラーレンオキシドとカルボニル化合物とを反応させることにより、フラーレン1,3−ジオキソランを製造する方法。
[2]前記固体酸触媒は、プロトン供与体である[1]に記載の方法。
[3]前記固体酸触媒は、スルホン酸基を含有する[1]または[2]に記載の方法。
[4]前記固体酸触媒は、陽イオン交換樹脂である[1]〜[3]のいずれかに記載の方法。
[5]前記カルボニル化合物はアルデヒドまたはケトンである[1]〜[4]のいずれかに記載の方法。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have made fullerene 1,3-dioxolane easily and in high yield by reacting fullerene oxide with a carbonyl compound in the presence of a solid acid catalyst. Has been found to be able to be produced, and the present invention has been completed.
That is, the means for achieving the object of the present invention is as follows.
[1] A method for producing fullerene 1,3-dioxolane by reacting fullerene oxide with a carbonyl compound in the presence of a solid acid catalyst.
[2] The method according to [1], wherein the solid acid catalyst is a proton donor.
[3] The method according to [1] or [2], wherein the solid acid catalyst contains a sulfonic acid group.
[4] The method according to any one of [1] to [3], wherein the solid acid catalyst is a cation exchange resin.
[5] The method according to any one of [1] to [4], wherein the carbonyl compound is an aldehyde or a ketone.
本発明によれば、高機能性材料として有用なフラーレン1,3−ジオキソランを簡便かつ高収率で得ることができる。 According to the present invention, fullerene 1,3-dioxolane useful as a highly functional material can be obtained simply and in high yield.
本発明は、固体酸触媒存在下で、フラーレンオキシドとカルボニル化合物とを反応させることにより、フラーレン1,3−ジオキソランを製造する方法に関する。本発明において、「固体酸」とは、常温(25℃)、常圧(1atm)下において固体状態を保持する酸をいうものとする。 The present invention relates to a method for producing fullerene 1,3-dioxolane by reacting fullerene oxide with a carbonyl compound in the presence of a solid acid catalyst. In the present invention, the “solid acid” refers to an acid that maintains a solid state at normal temperature (25 ° C.) and normal pressure (1 atm).
本発明の製造方法によれば、出発物質としてフラーレンオキシドを使用し、カルボニル化合物との簡便な反応により、高収率でフラーレン1,3−ジオキソランを得ることができる。更に、本発明の製造方法は、1,3−ジオキソランの位置を制御できるという利点も有する。
前述の非特許文献6〜8に記載の技術のように、出発物質としてフラーレンを使用すると、1,3−ジオキソランが生成する位置を制御することは困難である。一方、フラーレンオキシドを出発物質として使用すれば、エポキシドの位置に1,3−ジオキソランが生成するため、1,3−ジオキソランの位置を制御することが可能になる。更に、本発明者らは、特定の位置にエポキシドが存在するフラーレンオキシドを得る方法を確立した(特開2003−277373号公報参照)。この方法により得られたフラーレンオキシドを出発物質として用いれば、特定の位置に1,3−ジオキソランを有するフラーレン1,3−ジオキソランを得ることができる。
According to the production method of the present invention, fullerene oxide can be used as a starting material, and fullerene 1,3-dioxolane can be obtained in a high yield by a simple reaction with a carbonyl compound. Furthermore, the production method of the present invention has an advantage that the position of 1,3-dioxolane can be controlled.
When the fullerene is used as a starting material as in the techniques described in Non-Patent Documents 6 to 8, it is difficult to control the position where 1,3-dioxolane is generated. On the other hand, when fullerene oxide is used as a starting material, 1,3-dioxolane is generated at the epoxide position, and therefore the position of 1,3-dioxolane can be controlled. Furthermore, the present inventors have established a method for obtaining fullerene oxide in which an epoxide is present at a specific position (see JP-A-2003-277373). If fullerene oxide obtained by this method is used as a starting material, fullerene 1,3-dioxolane having 1,3-dioxolane at a specific position can be obtained.
一方、前述のように、エポキシドとカルボニル化合物から1,3−ジオキソランを得る反応の反応機構は、カルボニル酸素のバックサイドアタックに続いてC−C結合の回転を経て、第2のC−O結合が生成することにより、1,3−ジオキソランが生成すると推定されている。しかし、フラーレンオキシドの場合、カルボニル酸素がバックサイドアタックする位置に、フラーレンが存在するため、カルボニル酸素のバックサイドアタックによりC−C結合を回転させることは不可能と考えられる。つまり、この反応機構では、フラーレンオキシドとカルボニル化合物から、フラーレン1,3−ジオキソランを得ることは不可能である。 On the other hand, as described above, the reaction mechanism for obtaining 1,3-dioxolane from an epoxide and a carbonyl compound is based on the backside attack of carbonyl oxygen followed by the rotation of the C—C bond and the second C—O bond. It is estimated that 1,3-dioxolane is produced by the formation of However, in the case of fullerene oxide, it is considered impossible to rotate the C—C bond by the backside attack of carbonyl oxygen because fullerene exists at the position where the carbonyl oxygen is backside attacked. That is, with this reaction mechanism, it is impossible to obtain fullerene 1,3-dioxolane from fullerene oxide and a carbonyl compound.
しかし、驚くべきことに、本発明者らの検討の結果、フラーレンオキシドとカルボニル化合物とを反応させることにより、フラーレン1,3−ジオキソランが得られることが判明した。しかも、本発明の方法によれば、高い収率でフラーレン1,3−ジオキソランを得ることができる。本発明の方法では、従来推定されていた反応機構とは異なる反応機構によって、フラーレンオキシドとカルボニル化合物との反応が進行することにより、フラーレン1,3−ジオキソランを高収率で得ることができると考えられる。 Surprisingly, however, as a result of the study by the present inventors, it was found that fullerene 1,3-dioxolane can be obtained by reacting fullerene oxide with a carbonyl compound. Moreover, according to the method of the present invention, fullerene 1,3-dioxolane can be obtained with high yield. In the method of the present invention, fullerene 1,3-dioxolane can be obtained in a high yield by the reaction of fullerene oxide and a carbonyl compound by a reaction mechanism different from the reaction mechanism that has been estimated conventionally. Conceivable.
更に、本発明の方法は、固体酸触媒を使用するため、反応終了後の精製が非常に容易になるという工業的利点もある。固体酸を用いる場合には、固液系での反応となるため、生成物であるフラーレン1,3−ジオキソランと触媒とをろ過等の簡便な方法によって容易に分離することができ、工業的にも非常に有用である。 Furthermore, since the method of the present invention uses a solid acid catalyst, there is an industrial advantage that purification after completion of the reaction becomes very easy. When a solid acid is used, since the reaction is a solid-liquid system, the product fullerene 1,3-dioxolane and the catalyst can be easily separated by a simple method such as filtration. Is also very useful.
本発明において使用されるフラーレンオキシドは、フラーレンを酸化することにより得ることができる。原料フラーレンとしては、C60を用いることができ、C70、C76、C78、C82、C84等を用いることもできる。原料フラーレンは、公知の方法で得ることができ、また、市販品として入手可能なものもある。 The fullerene oxide used in the present invention can be obtained by oxidizing fullerene. As the raw material fullerene, C 60 can be used, and C 70 , C 76 , C 78 , C 82 , C 84 and the like can also be used. The raw material fullerene can be obtained by a known method, and there is also a commercially available product.
フラーレンの酸化は、例えば、フラーレンC60をm−クロル過安息香酸(m-CPBA)で酸化することにより行うことができる。m-CPBAによる酸化反応は、例えば、以下の条件で行うことができる。
フラーレンC60とm-CPBAとのモル比:1:10〜1:100、好ましくは1:30〜1:60
反応温度:80〜120℃
反応時間:1分〜60分、好ましくは10〜30分
The oxidation of fullerene can be performed, for example, by oxidizing fullerene C 60 with m-chloroperbenzoic acid (m-CPBA). The oxidation reaction with m-CPBA can be performed, for example, under the following conditions.
Molar ratio of fullerene C 60 to m-CPBA: 1:10 to 1: 100, preferably 1:30 to 1:60
Reaction temperature: 80-120 ° C
Reaction time: 1 to 60 minutes, preferably 10 to 30 minutes
フラーレンオキシドの調製は、上記m-CPBAのような過安息香酸を用いる方法以外に例えば、酸化剤としては、フランペルオキシド等の有機過酸、ジオキシラン化合物、オゾン、P450:チトクロームオキシダーゼ等を用いる方法を用いることもできる。 For the preparation of fullerene oxide, in addition to the method using perbenzoic acid such as m-CPBA, for example, as an oxidizing agent, a method using organic peracid such as furan peroxide, dioxirane compound, ozone, P 450 : cytochrome oxidase, etc. Can also be used.
前記方法により調製されたフラーレンオキシドは、フラーレンオキシドの混合物であり、分画工程に付すことにより、所望のフラーレンオキシド(モノオキシド、ジオキシド、トリオキシド等)を単離することができる。分画工程は、公知の方法で行うことができる。以下、C60のフラーレンオキシドを例にとり、分画工程について説明する。 The fullerene oxide prepared by the above method is a mixture of fullerene oxides, and a desired fullerene oxide (monooxide, dioxide, trioxide, etc.) can be isolated by subjecting it to a fractionation step. The fractionation step can be performed by a known method. Hereinafter, the fractionation process will be described using C 60 fullerene oxide as an example.
フラーレンオキシドの混合物には、一般に未反応のフラーレンや低次および高次のエポキシドが混在する。例えば、フラーレンオキシドの混合物をHPLCにかけると、種々のフラグメントが存在する。そして、これらの各フラグメントは、例えば、LC-APCI-MS(Liquid chromatography-Atmospheric pressure chemical ionixation(APCI)-Mass-spectroscopy(MS)、大気圧化学イオン化質量分析器を接続した高速液体クロマトグラフィー)を用いることで質量数を決定できる。 In the mixture of fullerene oxides, unreacted fullerenes and lower and higher order epoxides are generally mixed. For example, when a mixture of fullerene oxides is subjected to HPLC, various fragments are present. Each of these fragments is, for example, LC-APCI-MS (Liquid chromatography-Atmospheric pressure chemical ionixation (APCI) -Mass-spectroscopy (MS), high performance liquid chromatography connected to an atmospheric pressure chemical ionization mass spectrometer)). The mass number can be determined by using it.
例えば、上記LC-APCI-MSを用いて、フラーレンオキシドの混合物の中から、所望のエポキシド(モノオキシド、ジオキシド、トリオキシド等)のみを含む画分を、シリカゲルを用いて分離することができる。具体的には、シリカゲルを充填したカラムにフラーレンオキシドの混合物を供給し、次いで、適当な溶出液を用いて各フラグメントを順次溶出させ、目的とするフラーレンエポキシドのみを含む画分を得ることができる。 For example, using LC-APCI-MS, a fraction containing only a desired epoxide (monooxide, dioxide, trioxide, etc.) can be separated from a mixture of fullerene oxides using silica gel. Specifically, a mixture of fullerene oxide is supplied to a column packed with silica gel, and then each fragment is sequentially eluted using an appropriate eluent to obtain a fraction containing only the desired fullerene epoxide. .
使用するシリカゲルには特に制限はないが、例えば、アルカン基結合シリカゲルであることが好ましく、アルカン基結合シリカゲルとしては、C18(オクタドデシル)基結合シリカゲル、C30基結合シリカゲル等を挙げることができる。
また、溶出液は、使用するシリカゲルの種類により適宜決定されるが、例えば、疎水性移動相という観点から、トルエンとアセトニトリルとの混合溶媒、トルエンとメタノールとの混合溶媒、オルトジクロロベンゼンとメタノールとの混合溶媒等を使用することができる。また、フラーレンオキシドの異性体の分離方法については、特開2003−277373号公報を参照することができる。
また、本発明では、フラーレンの酸化により得られたフラーレンオキシド混合物を、カルボニル化合物との反応に用いることもできる。但し、この混合物には、未反応のフラーレンも含まれる場合があるため、前述のように、シリカゲルを充填したカラムを用いて、未反応フラーレンを除いた後に、反応に付すことが好ましい。
Although there is no restriction | limiting in particular in the silica gel to be used, For example, it is preferable that it is an alkane group bonded silica gel, and examples of the alkane group bonded silica gel include C18 (octadodecyl) group bonded silica gel, C30 group bonded silica gel and the like.
The eluent is appropriately determined depending on the type of silica gel used. For example, from the viewpoint of a hydrophobic mobile phase, a mixed solvent of toluene and acetonitrile, a mixed solvent of toluene and methanol, orthodichlorobenzene and methanol, and the like. A mixed solvent or the like can be used. JP, 2003-277373, A can be referred to for the separation method of the isomer of fullerene oxide.
Moreover, in this invention, the fullerene oxide mixture obtained by oxidation of fullerene can also be used for reaction with a carbonyl compound. However, since this mixture may contain unreacted fullerene, as described above, it is preferable to remove the unreacted fullerene by using a column packed with silica gel and then subject to the reaction.
本発明の方法では、前述の方法によって得られたフラーレンオキシドを、固体酸触媒存在下でカルボニル化合物と反応させることにより、フラーレン1,3−ジオキソランを製造する。
カルボニル化合物としては、アルデヒドを使用することができ、ケトンを使用することもできる。カルボニル化合物の構造は、最終生成物であるフラーレン1,3−ジオキソランの物性(溶剤溶解性や樹脂との親和性等)を考慮して適宜設定することができる。また、カルボニル化合物として、環構造をもつものを使用することもできる。
In the method of the present invention, fullerene 1,3-dioxolane is produced by reacting the fullerene oxide obtained by the above-described method with a carbonyl compound in the presence of a solid acid catalyst.
An aldehyde can be used as the carbonyl compound, and a ketone can also be used. The structure of the carbonyl compound can be appropriately set in consideration of the physical properties (solvent solubility, affinity with resin, etc.) of fullerene 1,3-dioxolane as the final product. A carbonyl compound having a ring structure can also be used.
具体的には、フラーレンオキシドとの反応に用いるアルデヒドとしては、芳香族アルデヒド、脂肪族アルデヒド、脂環式アルデヒド等を挙げることができる。芳香族アルデヒドとしては、ベンズアルデヒド、3−または4−アルキルベンズアルデヒド(アルキル基はC1〜C20で置換されていてもよい)、3−または4−アルコキシアルデヒド(アルコキシはC1O−からC20O−で置換されていてもよい)等を挙げることができる。脂肪族アルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、R1−CHO(R1はC2〜C20の置換基を有してもよいアルキル基)等を挙げることができる。脂環式アルデヒドとしては、シクロペンタンカルバルデヒド、シクロヘキサンカルバルデヒド、シクロヘプタンカルバルデヒド、シクロオクタンカルバルデヒド等を挙げることができる。更に、ヘテロ環含有アルデヒドとしては、フルフラール、ニコチンアルデヒド、2−テトラハイドフランカルバルデヒド、2−チオフェンカルバルデヒド等を挙げることができる。 Specifically, examples of the aldehyde used for the reaction with fullerene oxide include aromatic aldehyde, aliphatic aldehyde, and alicyclic aldehyde. Examples of the aromatic aldehyde, benzaldehyde, 3- or 4-alkyl benzaldehyde (alkyl groups may be substituted by C 1 -C 20), 3- or 4-alkoxy-aldehyde (alkoxy to C 20 C 1 O- And may be substituted with O-). Examples of the aliphatic aldehyde include formaldehyde, acetaldehyde, R 1 —CHO (R 1 is an alkyl group which may have a C 2 to C 20 substituent), and the like. Examples of the alicyclic aldehyde include cyclopentanecarbaldehyde, cyclohexanecarbaldehyde, cycloheptanecarbaldehyde, cyclooctanecarbaldehyde, and the like. Furthermore, examples of the heterocyclic ring-containing aldehyde include furfural, nicotine aldehyde, 2-tetrahydrane furan carbaldehyde, 2-thiophene carbaldehyde and the like.
フラーレンオキシドとの反応に用いるケトンとしては、芳香族ケトン、脂肪族ケトン、炭素環式ケトン、複素環式ケトン等を挙げることができる。芳香族ケトンとしては、アセトフェノン、3−または4−アルキル置換アセトフェノン(R(C6H4)COCH3;R=C1〜C20の置換されていてもよいアルキル基)、3−または4−アルコキシ置換アセトフェノン(RO(C6H4)COCH3;R=C1〜C10の置換されていてもよいアルキル基)、プロピオフェノン誘導体(R(C6H4)COC2H5;R=C1〜C20の置換されていてもよいアルキル基またはC1〜C10の置換されていてもよいアルコキシ基)、デオキシベンゾイン類(R1(C6H4)CH2CO(C6H4)R2;R1,R2は、それぞれ独立にH、C1〜C20のアルキル基、またはC1〜C10のアルコキシ基)、R1(C6H4)COR2(R1=C1〜C20のアルキル基、C1〜C10のアルコキシ基、R2=C3〜C10のアルキル基)、ベンゾフェノン誘導体(R1(C6H4)CO(C6H4)R2(R1,R2はそれぞれ独立に水素、C1〜C20のアルキル基、C1〜C10のアルコキシ基、またはハロゲン原子)等を挙げることができる。脂肪族ケトンとしては、R1COR2(R1,R2はそれぞれ独立にC1〜C20の置換基を有してもよいアルキル基)、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、エチルプロピルケトン、ジプロピルケトン、メチルt−ブチルケトン、エチルt−ブチルケトンなどを挙げることができる。炭素環式ケトンとしては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、インデン−1−オン、インダノン、9−フルオレノン、アンスロン、1−オキソー1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン等を挙げることができる。複素環式ケトンとしては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含むもの、より好ましくは、エステル構造を有するもの、例えば、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−バレロラクトン等を挙げることができる。 Examples of ketones used for the reaction with fullerene oxide include aromatic ketones, aliphatic ketones, carbocyclic ketones, and heterocyclic ketones. Aromatic ketones include acetophenone, 3- or 4-alkyl substituted acetophenone (R (C 6 H 4 ) COCH 3 ; R = C 1 -C 20 optionally substituted alkyl group), 3- or 4- Alkoxy-substituted acetophenone (RO (C 6 H 4 ) COCH 3 ; R = C 1 -C 10 optionally substituted alkyl group), propiophenone derivative (R (C 6 H 4 ) COC 2 H 5 ; R = C 1 -C 20 optionally substituted alkyl group or C 1 -C 10 optionally substituted alkoxy group), deoxybenzoins (R 1 (C 6 H 4 ) CH 2 CO (C 6 H 4 ) R 2 ; R 1 and R 2 are each independently H, a C 1 to C 20 alkyl group, or a C 1 to C 10 alkoxy group), R 1 (C 6 H 4 ) COR 2 (R 1 = alkyl group of C 1 -C 20, alkoxy group of C 1 -C 10 R 2 = alkyl group of C 3 ~C 10), benzophenone derivatives (R 1 (C 6 H 4 ) CO (C 6 H 4) R 2 (R 1, R 2 are each independently hydrogen, C 1 -C 20 Alkyl group, C 1 -C 10 alkoxy group, or halogen atom), etc. As the aliphatic ketone, R 1 COR 2 (R 1 and R 2 are each independently a C 1 -C 20 group ). Examples of the alkyl group which may have a substituent include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl propyl ketone, ethyl propyl ketone, dipropyl ketone, methyl t-butyl ketone, and ethyl t-butyl ketone. The cyclic ketones include cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, inden-1-one, indanone, 9-fluorenone, anth , 1-oxo-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene, etc. As the heterocyclic ketone, those containing an oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom, more preferably those having an ester structure Examples include γ-butyrolactone, δ-valerolactone, γ-valerolactone, and the like.
反応に使用する固体酸触媒は、常温、常圧下で固体状態を保持するものである。前述のように、固体酸触媒を使用することにより、反応終了後の精製が容易になるという工業的利点を得ることができる。 The solid acid catalyst used for the reaction is one that maintains a solid state at normal temperature and normal pressure. As described above, by using a solid acid catalyst, an industrial advantage that purification after completion of the reaction becomes easy can be obtained.
前記固体酸触媒としては、一分子内にプロトン(H+)として供与可能な水素原子を少なくとも1つ有し、反応においてプロトン供与体として作用するものを用いることが好ましい。そのようなものとしては、一般にブレンステッド酸とよばれる酸を挙げることができる。なお、ブレンステッド酸とは、1923年にブレンステッドとローリーが提案した定義である。これによると、ブレンステッド酸とはプロトンを与える物質であり、ブレンステッド塩基とはプロトンを受け取る物質をいう。 As the solid acid catalyst, a catalyst having at least one hydrogen atom that can be donated as a proton (H + ) in one molecule and acting as a proton donor in the reaction is preferably used. As such a thing, the acid generally called a Bronsted acid can be mentioned. The Bronsted acid is a definition proposed by Bronsted and Raleigh in 1923. According to this, a Bronsted acid is a substance that gives protons, and a Bronsted base is a substance that receives protons.
具体的には、本発明において固体酸触媒として使用可能な酸としては、以下のものを例示できる:リン酸、ポリリン酸等公知のプロトン酸;ベンゼンスルホン酸(融点45-50℃)、トルエンスルホン酸類等各種スルホン酸類;CsHSO4、Cs2(HSO4)等のセシウム塩類;Rb3H(SeO4)2のようなルビジウム塩類;(NH4)3H(SO4)2のようなアンモニウム塩類;K3H(SO4)2のような硫酸水素塩類;HZr2(PO4)3のようなリン酸水素塩;各種へテロポリ酸類;各種陽イオン交換樹脂;ゼオライト類;シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、含水酸化ニオブ、含水酸化タンタル等の各種の無機酸化物;Zr、Sn等の金属酸化物;スメクタイト、カオリナイト、バイミキュライト等の各種層状化合物をアルミニウムおよびケイ素、チタン、ジルコニウムの中から選ばれる一種類以上の金属酸化物で処理したイオン交換型層状化合物等。なお、本発明においては、固体酸触媒を一種単独で用いることができ、また二種以上を併用することも可能である。 Specific examples of acids that can be used as the solid acid catalyst in the present invention include the following: known protonic acids such as phosphoric acid and polyphosphoric acid; benzenesulfonic acid (melting point: 45-50 ° C.), toluenesulfone Various sulfonic acids such as acids; Cesium salts such as CsHSO 4 and Cs 2 (HSO 4 ); Rubidium salts such as Rb 3 H (SeO 4 ) 2 ; Ammonium salts such as (NH 4 ) 3 H (SO 4 ) 2 Hydrogen sulfates such as K 3 H (SO 4 ) 2 ; hydrogen phosphates such as HZr 2 (PO 4 ) 3 ; various heteropoly acids; various cation exchange resins; zeolites; silica, alumina, zirconia , Titania, hydrous niobium, hydrous tantalum and other inorganic oxides; metal oxides such as Zr and Sn; and lamellar compounds such as smectite, kaolinite and bimiculite are selected from aluminum, silicon, titanium and zirconium This And ion-exchange layered compound treated in one or more metal oxides. In the present invention, the solid acid catalyst can be used alone or in combination of two or more.
本発明におけるヘテロポリ酸とは、遊離酸ならびにその中性および酸性塩を含む概念である。ここで、酸性塩とは、水素イオンの幾つかが塩基性カチオン、例えばアルカリ金属カチオンで置き換えられたヘテロポリ酸(HPA)の塩を意味する。従って、本発明における触媒に使用されるヘテロポリ酸には、遊離酸およびその配位型の塩が含まれ、該塩中でアニオンは錯体高分子量物質として存在する。典型的には、該アニオンは2〜18個の酸素が結合した多価金属原子を含み、それは周辺原子と呼ばれる。これらの周辺原子は、1個またはそれ以上の中心原子を対称的に取り囲む。該周辺原子は通常、1個またはそれ以上のモリブデン、タングステン、バナジウム、ニオブ、タンタル、およびその他の金属からなる群から選ばれる少なくとも一種である。中心原子は通常、ケイ素またはリンであるが、元素の周期表の第IA〜VIIA族および第VIII族に属する元素を含んでいても良い。これら元素のイオンとしては、例えば、第二銅イオン;二価のベリリウム、亜鉛、コバルトまたはニッケルの各イオン;三価のホウ素、アルミニウム、ガリウム、鉄、セリウム、ヒ素、アンチモン、リン、ビスマス、クロムまたはロジウムの各イオン;四価のケイ素、ゲルマニウム、錫、チタン、ジルコニウム、バナジウム、イオウ、テルル、マンガン、ニッケル、白金、トリウム、ハフニウム、セリウムの各イオン、およびその他の稀土類イオン;五価のリン、ヒ素、バナジウム、アンチモンの各イオン;六価のテルルイオン;ならびに七価のヨウ素イオンが挙げられる。ヘテロポリ酸はまた、"ポリオキソアニオン"、"ポリオキソメタレート"または"金属酸化物クラスター"として知られる。代表的なアニオン構造として、ケギン(Keggin)構造、ウエルズ−ダウソン(Wells-Dawson)構造,アンダーソン−エヴァンズ−ペルロフ(Anderson-Evans-Perloff)構造(何れも当該分野の先駆的研究者に因んで命名された)が挙げられる。 The heteropolyacid in the present invention is a concept including a free acid and neutral and acidic salts thereof. Here, the acid salt means a salt of a heteropolyacid (HPA) in which some of hydrogen ions are replaced with a basic cation, for example, an alkali metal cation. Accordingly, the heteropolyacid used in the catalyst of the present invention includes a free acid and a coordination salt thereof, and an anion exists as a complex high molecular weight substance in the salt. Typically, the anion contains a polyvalent metal atom bonded with 2-18 oxygens, which is called a peripheral atom. These peripheral atoms symmetrically surround one or more central atoms. The peripheral atoms are usually at least one selected from the group consisting of one or more molybdenum, tungsten, vanadium, niobium, tantalum, and other metals. The central atom is usually silicon or phosphorus, but may contain elements belonging to Groups IA-VIIA and VIII of the periodic table of elements. Examples of ions of these elements include cupric ions; divalent beryllium, zinc, cobalt, or nickel ions; trivalent boron, aluminum, gallium, iron, cerium, arsenic, antimony, phosphorus, bismuth, and chromium. Or rhodium ions; tetravalent silicon, germanium, tin, titanium, zirconium, vanadium, sulfur, tellurium, manganese, nickel, platinum, thorium, hafnium, cerium ions, and other rare earth ions; pentavalent Examples include phosphorus, arsenic, vanadium, and antimony ions; hexavalent tellurium ions; and heptavalent iodine ions. Heteropolyacids are also known as “polyoxoanions”, “polyoxometalates” or “metal oxide clusters”. Typical anion structures include Keggin structure, Wells-Dawson structure, Anderson-Evans-Perloff structure (all named after pioneering researchers in the field) ).
ヘテロポリ酸は通常、例えば700〜8500程度の高分子量を有し、二量錯体の構造を採る場合もある。また、ヘテロポリ酸は水やその他の酸素含有溶媒等の極性溶媒に比較的高い溶解性を有する。この溶解性は、ヘテロポリ酸が遊離酸やある種の塩の形態を採る場合に高くなることが知られており、適当な対イオンを選択することにより調節することができる。本発明において固体酸触媒として使用し得るヘテロポリ酸としては、下記のものを例示できる;リン−12−タングステン酸(H3[PW12O40]xH2O),リン−12−モリブデン酸(H3[PMo12O40]xH2O),ケイ−12−タングステン酸(H4[SiW12O40]xH2O),ケイ−12−タングステン酸モノナトリウム(H3Na[SiW12O40]xH2O),ケイ−12−モリブデン酸(H4[SiMo12O40]xH2O),リンタングステン酸カリウム(K6[P2W18O62]xH2O),リンモリブデン酸ナトリウム(Na3[PMo12O40]xH2O),二リン−モリブデン酸アンモニウム((NH4)6[P2Mo18O62]xH2O),ニッケル−タングステン酸ナトリウム(Na4[NiW6O24H6]xH2O),二コバルト−モリブデン酸アンモニウム((NH4)[Co2Mo10O36]xH2O),ケイタングステン酸セシウム水素(Cs3H[SiW12O40]xH2O),リンモリブドジバナジウム酸カリウム(K5[PMoV2O40]xH2O)。 The heteropolyacid usually has a high molecular weight of, for example, about 700 to 8500 and may take the structure of a dimeric complex. Heteropolyacids have a relatively high solubility in polar solvents such as water and other oxygen-containing solvents. This solubility is known to increase when the heteropolyacid takes the form of a free acid or certain salts, and can be adjusted by selecting an appropriate counterion. Examples of the heteropolyacid that can be used as the solid acid catalyst in the present invention include the following: phosphorus-12-tungstic acid (H 3 [PW 12 O 40 ] xH 2 O), phosphorus-12-molybdic acid (H 3 [PMo 12 O 40] xH 2 O), silicic 12- tungstate (H 4 [SiW 12 O 40 ] xH 2 O), silica-12-tungstic acid monosodium (H 3 Na [SiW 12 O 40] xH 2 O), silico-12-molybdic acid (H 4 [SiMo 12 O 40 ] xH 2 O), potassium phosphotungstate (K 6 [P 2 W 18 O 62 ] xH 2 O), sodium phosphomolybdate ( Na 3 [PMo 12 O 40 ] xH 2 O), diphosphorus-ammonium molybdate ((NH 4 ) 6 [P 2 Mo 18 O 62 ] xH 2 O), nickel-sodium tungstate (Na 4 [NiW 6 O 24 6] xH 2 O), dicobalt - ammonium molybdate ((NH 4) [Co 2 Mo 10 O 36] xH 2 O), silicotungstic acid cesium hydrogen (Cs 3 H [SiW 12 O 40] xH 2 O) , Potassium phosphorus molybdodivanadate (K 5 [PMoV 2 O 40 ] xH 2 O).
本発明において固体酸触媒として使用し得る無機酸化物や金属酸化物は、無水状態でも水を化学的または物理的に含有した状態で用いても構わない。また、シリカーアルミナ、シリカージルコニア、シリカーチタニア等のように二種類以上の元素の混合酸化物や複合酸化物であっても構わない。 The inorganic oxide or metal oxide that can be used as the solid acid catalyst in the present invention may be used in an anhydrous state or in a state where water is chemically or physically contained. Further, it may be a mixed oxide or composite oxide of two or more elements such as silica-alumina, silica-zirconia, silica-titania and the like.
本発明において固体酸触媒として使用し得る陽イオン交換樹脂としては、スルホン酸基を有する強酸性陽イオン交換樹脂、カルボン酸基またはフェノール性ヒドロキシル基を有する弱酸性陽イオン交換樹脂を挙げることができる。なお、陽イオン交換樹脂は、通常プロトン交換型(H型)が用いられるが、その一部がNa、Ca等で交換されていてもよい。 Examples of the cation exchange resin that can be used as the solid acid catalyst in the present invention include a strong acid cation exchange resin having a sulfonic acid group, and a weak acid cation exchange resin having a carboxylic acid group or a phenolic hydroxyl group. . The cation exchange resin is usually a proton exchange type (H type), but a part thereof may be exchanged with Na, Ca or the like.
本発明において固体酸触媒として使用し得る陽イオン交換樹脂としては、以下のものを例示できる:シグマアルドリッチ製のアンバーライトIR120 sodium form、アンバーライトIRP−69、アンバーリスト15 hydrogen form(以上スルホン酸基含有)、アンバ−ライトIRC−50 hydrogen form、アンバーライトIRP−64hydrogen form(以上カルボン酸基含有);オルガノ株式会社製のアンバーリスト15DRY、アンバーリスト15JWET、アンバーリスト16WET、アンバーリスト31WET,アンバーリスト35WET、アンバーライトIR120B Na、アンバーライトIR120BN Na、アンバーライトIR124 Na、アンバーライト1006FH、アンバーライト200CT Na、アンバーライト252 Na(以上スルホン酸基含有)、アンバーライトIRC50、アンバーライトIRC76(以上カルボン酸基含有);三菱化学株式会社製のダイヤイオンSK1B、ダイヤイオンSK104、ダイヤイオンSK110、ダイヤイオンSK112、ダイヤイオンSK116、ダイヤイオンUBK530、ダイヤイオンUBK550、ダイヤイオンUBK535、ダイヤイオンダイヤイオン555(以上スルホン酸基含有)、ダイヤイオンPK208、ダイヤイオンPK212、ダイヤイオンPK216、ダイヤイオンPK220、ダイヤイオンPK228、ダイヤイオンWK10、ダイヤイオンWK11、ダイヤイオンWK100、ダイヤイオンWT01S、ダイヤイオンWK40(以上カルボン酸基含有);米国ザ・ダウ・ケイミカル・カンパニー製のダウエックス50W×2、ダウエックス50W×4、ダウエックス50W×8、ダウエックスマラソンC、ダウエックスモノスフィアー650C、ダウエックスHCR−W2、ダウエックス88(以上スルホン酸基含有)、ダウエックスMAC−3(カルボン酸基含有)、ダウエックスHCR−2、ダウエックスマラソンMSC(以上スルホン酸基含有);米国ローム・アンド・ハース社製のデュオライトC20S、デュオライトC20、デュオライトC20LF、デュオライトC26A(以上スルホン酸基含有)、デュオライトC433LF、デュオライトC476(以上カルボン酸基含有)等を用いることが出来る。 Examples of the cation exchange resin that can be used as the solid acid catalyst in the present invention include the following: Amberlite IR120 sodium form, Amberlite IRP-69, Amberlyst 15 hydrogen form (sulphonic acid group) Amberlite IRC-50 hydrogen form, Amberlite IRP-64 hydrogen form (containing carboxylic acid group); Organo Corporation Amberlist 15DRY, Amberlist 15JWET, Amberlist 16WET, Amberlist 31WET, Amberlist 35WET Amberlite IR120B Na, Amberlite IR120BN Na, Amberlite IR124 Na, Amberlite 1006FH, Amberlite 200CT Na, Amberlite 252 Na (above sulfo Acid group), Amberlite IRC50, Amberlite IRC76 (containing carboxylic acid group); Diaion SK1B, Diaion SK104, Diaion SK110, Diaion SK112, Diaion SK116, Diaion UBK530 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation , Diamond ion UBK550, Diamond ion UBK535, Diamond ion Diamond ion 555 (containing sulfonic acid group), Diamond ion PK208, Diamond ion PK212, Diamond ion PK216, Diamond ion PK220, Diamond ion PK228, Diamond ion WK10, Diamond ion WK11, DIAION WK100, DIAION WT01S, DIAION WK40 (containing carboxylic acid group); Dowe made by The Dow Chemical Company 50W × 2, Dowex 50W × 4, Dowex 50W × 8, Dowex Marathon C, Dowex Monosphere 650C, Dowex HCR-W2, Dowex 88 (over sulfonic acid group-containing), Dowex MAC-3 (Containing carboxylic acid group), Dowex HCR-2, Dowex Marathon MSC (containing sulfonic acid group); Duolite C20S, Duolite C20, Duolite C20LF, Duolite C26A (Rohm and Haas, USA) As described above, sulfonic acid group-containing), Duolite C433LF, Duolite C476 (including carboxylic acid group-containing) and the like can be used.
本発明において固体酸触媒として使用し得るゼオライト類は、プロトン酸性を有するゼオライトであることが好ましく、モルデナイト、エリオナイト、フェリエライト、モービル社発表のZSM−5、ZSM−4、ZSM−8、ZSM−11、ZSM−12、ZSM−20、ZSM−40、ZSM−35、ZSM−48系ゼオライトやMCM−41、MCM−48、MCM−50、FSM−16等のいわゆるM41Sメソポーラスゼオライト等の結晶性アルミノシリケート、およびボロシリケート、ガロシリケート、フェロアルミノシリケート、チタノシリケート等の異元素含有ゼオライト等の公知のゼオライトが例示できる。また、これらのゼオライトは、通常プロトン交換型(H型)が用いられるが、その一部がNa、K、Li等のアルカリ金属、Mg、Ca、Sr等のアルカリ土類元素、Fe、Co、Ni、Ru、Pd、Pt、Zr、Ti等の遷移金属元素から選ばれた少なくとも一種のカチオン種で交換されていてもよい。なお、ゼオライトの使用される形態はいかなるものでもよく、粉末状、顆粒状のものが使用できる。また、担体あるいはバインダーとして、アルミナ、チタニア、シリカ等を使用することもできる。 Zeolites that can be used as a solid acid catalyst in the present invention are preferably zeolites having proton acidity, and are mordenite, erionite, ferrierite, ZSM-5, ZSM-4, ZSM-8, ZSM published by Mobil Corporation. -11, ZSM-12, ZSM-20, ZSM-40, ZSM-35, ZSM-48 based zeolites and crystallinity of so-called M41S mesoporous zeolite such as MCM-41, MCM-48, MCM-50, FSM-16 Examples of known zeolites include aluminosilicates and foreign element-containing zeolites such as borosilicates, gallosilicates, ferroaluminosilicates, and titanosilicates. In addition, these zeolites are usually used in proton exchange type (H type), but some of them are alkali metals such as Na, K and Li, alkaline earth elements such as Mg, Ca and Sr, Fe, Co, It may be exchanged with at least one cationic species selected from transition metal elements such as Ni, Ru, Pd, Pt, Zr and Ti. Note that any form of zeolite may be used, and powder and granular forms can be used. Further, alumina, titania, silica or the like can be used as a carrier or a binder.
本発明では、以上説明した固体酸触媒の中でも、スルホン酸基を含有する固体酸触媒を用いることが反応効率および収率の点で好ましい。なお、固体酸触媒の使用される形態は特に制限はないが、通常粉末状、顆粒状で使用することができる。また、担体あるいはバインダーとして、アルミナ、シリカ、チタニア等を使用してもよい。 In the present invention, among the solid acid catalysts described above, it is preferable to use a solid acid catalyst containing a sulfonic acid group in terms of reaction efficiency and yield. The form in which the solid acid catalyst is used is not particularly limited, but can usually be used in powder form or granule form. Further, alumina, silica, titania or the like may be used as the carrier or binder.
反応に使用する溶媒は、フラーレンオキシドに対して良溶媒であることが好ましい。具体的には、例えば、ベンゼン分子系溶媒、ナフタレン分子系溶媒、複素環分子系溶媒、アルカン分子系溶媒、ハロアルカン分子系溶媒、極性分子系溶媒等を挙げることができる。 The solvent used for the reaction is preferably a good solvent for fullerene oxide. Specific examples include benzene molecular solvents, naphthalene molecular solvents, heterocyclic molecular solvents, alkane molecular solvents, haloalkane molecular solvents, polar molecular solvents, and the like.
ベンゼン分子系溶媒としては、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、n−プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、sec−ブチルベンゼン、tert−ブチルベンゼン、キシレン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、1,2,3−トリメチルベンゼン、1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3、5−トリメチルベンゼン、1,2,3,4−テトラメチルベンゼン、1,2,3,5−テトラメチルベンゼン、テトラリン、o−クレゾール、ベンゾニトリル、フルオロベンゼン、ニトロベンゼン、ヨードベンゼン、ブロモベンゼン、o−ジブロモベンゼン、m−ジブロモベンゼン、アニソール、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、および1,2,4−トリクロロベンゼン等を挙げることができる。これらベンゼン分子系溶媒の中でも工業的に好ましいものは、ベンゼン、トルエン、キシレン、1,2,4−トリメチルベンゼン、およびo−ジクロロベンゼンである。 Examples of the benzene molecular solvent include benzene, toluene, ethylbenzene, n-propylbenzene, isopropylbenzene, n-butylbenzene, sec-butylbenzene, tert-butylbenzene, xylene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, 1,2,3-trimethylbenzene, 1,2,4-trimethylbenzene, 1,3,5-trimethylbenzene, 1,2,3,4-tetramethylbenzene, 1,2,3,5-tetramethylbenzene , Tetralin, o-cresol, benzonitrile, fluorobenzene, nitrobenzene, iodobenzene, bromobenzene, o-dibromobenzene, m-dibromobenzene, anisole, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, and 1,2, 4-trichlorobenzene, etc. It can be mentioned. Among these benzene molecular solvents, industrially preferred are benzene, toluene, xylene, 1,2,4-trimethylbenzene, and o-dichlorobenzene.
ナフタレン分子系溶媒としては、1−メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、1−フェニルナフタレン,1−クロロナフタレン、および1−ブロモー2−メチルナフタレン等を挙げることができる。これらナフタレン分子系溶媒の中でも工業的に好ましいものは、1−メチルナフタレン、1−フェニルナフタレンである。 Examples of the naphthalene molecular solvent include 1-methylnaphthalene, dimethylnaphthalene, 1-phenylnaphthalene, 1-chloronaphthalene, and 1-bromo-2-methylnaphthalene. Among these naphthalene molecular solvents, industrially preferred ones are 1-methylnaphthalene and 1-phenylnaphthalene.
複素環分子系溶媒としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、2−メチルチオフェン、ピリジン、キノリン、およびチオフェン等を挙げることができる。これら複素環分子系溶媒の中でも工業的に好ましいものは、テトラヒドロフラン、キノリンである。 Examples of the heterocyclic molecular solvent include tetrahydrofuran, tetrahydrothiophene, 2-methylthiophene, pyridine, quinoline, and thiophene. Among these heterocyclic molecular solvents, industrially preferred are tetrahydrofuran and quinoline.
アルカン分子系溶媒としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−オクタン、2,2,4−トリメチルペンタン、n−デカン、n−ドデカン、n−テトラデカン、デカリン、cis−デカリン、およびtrans−デカリン等を挙げることができる。これらアルカン分子系溶媒の中でも工業的に好ましいものは、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−デカン、n−ドデカン、n−テトラデカン、デカリンである。 Examples of alkane molecular solvents include n-hexane, cyclohexane, n-octane, 2,2,4-trimethylpentane, n-decane, n-dodecane, n-tetradecane, decalin, cis-decalin, and trans-decalin. Can be mentioned. Among these alkane molecular solvents, industrially preferred are n-hexane, cyclohexane, n-decane, n-dodecane, n-tetradecane, and decalin.
ハロアルカン分子系溶媒としては、ジクロロメタン、クロロフォルム、四塩化炭素、1,2−ジブロモエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ジクロロジフルオロエタン、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン、および1,1,2,2−テトラクロロエタンを挙げることができる。これらハロアルカン分子系溶媒の中でも工業的に好ましいものは、ジクロロメタン、クロロフォルムである。 Haloalkane molecular solvents include dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dibromoethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, dichlorodifluoroethane, 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, and 1, Mention may be made of 1,2,2-tetrachloroethane. Among these haloalkane molecular solvents, industrially preferred are dichloromethane and chloroform.
極性分子系溶媒としては、N−メチル−2−ピロリドン等を挙げることができる。また、その他の溶媒としては、二硫化炭素を挙げることができる。本発明では、使用するカルボニル化合物に応じて最適な溶媒を選択することにより、反応収率を向上させることができる。 Examples of the polar molecular solvent include N-methyl-2-pyrrolidone. Moreover, carbon disulfide can be mentioned as another solvent. In the present invention, the reaction yield can be improved by selecting an optimum solvent according to the carbonyl compound to be used.
これらの溶媒は、一種単独としても、または二種以上の混合溶媒としても使用することができ、またフラーレンオキシドの溶解性が確保できる範囲では、それ以外の溶媒との混合溶媒としても使用することができる。 These solvents can be used singly or as a mixed solvent of two or more, and as long as the solubility of fullerene oxide can be ensured, it can also be used as a mixed solvent with other solvents. Can do.
フラーレンオキシドとカルボニル化合物との混合比は、カルボニル化合物が過剰になるように設定することが好ましい。フラーレンオキシドとカルボニル化合物との混合比は、例えばフラーレンオキシド:カルボニル化合物=1:1〜1:1000、好ましくは1:10〜1:100とすることができる。 The mixing ratio of the fullerene oxide and the carbonyl compound is preferably set so that the carbonyl compound becomes excessive. The mixing ratio of fullerene oxide and carbonyl compound can be, for example, fullerene oxide: carbonyl compound = 1: 1 to 1: 1000, preferably 1:10 to 1: 100.
フラーレンオキシドの濃度は、溶媒に対するフラーレンオキシドの溶解度に依存し、例えば、10-1〜10-4Mとすることができ、10-2〜10-3Mオーダーであることが好ましい。カルボニル化合物の濃度は、フラーレンオキシドの濃度に応じて、フラーレンオキシドとカルボニル化合物の混合比が上記範囲になるように設定することが好ましい。 The concentration of fullerene oxide depends on the solubility of fullerene oxide in the solvent, and can be, for example, 10 −1 to 10 −4 M, and is preferably on the order of 10 −2 to 10 −3 M. The concentration of the carbonyl compound is preferably set so that the mixing ratio of the fullerene oxide and the carbonyl compound falls within the above range according to the concentration of the fullerene oxide.
反応に使用する固体酸触媒量は、フラーレンオキシドに対して0.1モル%〜100モル%とすることができ、1モル%〜50モル%とすることが好ましい。反応温度は−10℃〜110℃とすることができ、好ましくは20℃〜100℃である。反応時間は反応温度に依存し、例えば30分〜100時間とすることができ、好ましくは1時間〜3時間である。反応は、空気下で行うことが可能であるが、不活性雰囲気下で行うこともできる。例えば、アルゴン、ヘリウム、または窒素雰囲気下でも行うことが出来る。 The amount of the solid acid catalyst used in the reaction can be 0.1 mol% to 100 mol% with respect to the fullerene oxide, and is preferably 1 mol% to 50 mol%. The reaction temperature can be −10 ° C. to 110 ° C., preferably 20 ° C. to 100 ° C. The reaction time depends on the reaction temperature, and can be, for example, 30 minutes to 100 hours, preferably 1 hour to 3 hours. The reaction can be performed under air, but can also be performed under an inert atmosphere. For example, it can be performed in an argon, helium, or nitrogen atmosphere.
前記反応後、固体酸触媒を予めろ過・デカンテーション等によって除去し、減圧下で溶媒を留去し、残渣を適当な溶媒で洗浄した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製することにより、フラーレン1,3−ジオキソランを得ることができる。本発明によれば、固体酸触媒をろ過・デカンテーション等によって容易に除去することができ、この点は、工業的にも非常に大きな利点である。なお、原料としてフラーレンジオキシドを使用した場合には、フラーレンビス1,3−ジオキソランが得られるが、反応初期には、フラーレンモノ1,3−ジオキソランとフラーレンビス1,3−ジオキソランの混合物が得られる。フラーレンモノ1,3−ジオキソランとフラーレンビス1,3−ジオキソランは、カラムクロマトグラフィーによってそれぞれを単離することができる。原料としてフラーレントリオキシドを使用した場合も同様である。目的のフラーレン1,3−ジオキソランが得られていることは、マススペクトル、FT-IR、13C-NMR、および1H-NMRにより確認することができる。 After the reaction, the solid acid catalyst is previously removed by filtration, decantation, etc., the solvent is distilled off under reduced pressure, the residue is washed with an appropriate solvent, and then purified by silica gel column chromatography to obtain fullerene 1, 3-dioxolane can be obtained. According to the present invention, the solid acid catalyst can be easily removed by filtration, decantation or the like, which is a very significant advantage industrially. When fullerene oxide is used as a raw material, fullerene bis 1,3-dioxolane is obtained, but at the initial stage of the reaction, a mixture of fullerene mono 1,3-dioxolane and fullerene bis 1,3-dioxolane is obtained. It is done. Fullerene mono 1,3-dioxolane and fullerene bis 1,3-dioxolane can be isolated by column chromatography. The same applies when fullerene trioxide is used as a raw material. The target fullerene 1,3-dioxolane can be confirmed by mass spectrum, FT-IR, 13 C-NMR, and 1 H-NMR.
フラーレン1,3−ジオキソランは、太陽電池材料として好適であり、特に、バルクヘテロ接合型有機薄膜太陽電池用材料として使用することができる。本発明によれば、このように、太陽電池材料等の高機能性材料として有用なフラーレン1,3−ジオキソランを、簡便かつ高収率で製造することができる。 Fullerene 1,3-dioxolane is suitable as a solar cell material, and in particular, can be used as a material for bulk heterojunction organic thin film solar cells. According to the present invention, fullerene 1,3-dioxolane useful as a highly functional material such as a solar cell material can be produced in a simple and high yield.
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
[例1]
フラーレンオキシド混合体C60On(n≧1:フロンティアカーボン社製)をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離することによって得られたフラーレンモノオキシドC60O(下記(a))の0.001モル%ベンゼン溶液20mLに、カルボニル化合物としてシクロヘキサノン200mg、固体酸触媒としてp-トルエンスルホン酸50mgを加え、窒素ガスで10分間置換した後、65℃に保って攪拌した。反応の進行はLC-MSで追跡し、C60Oの消失を確認した後、反応溶液から減圧下でベンゼンを留去し、残渣をメタノールで洗浄した。その後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、分子量834.8の生成物を収率40%で得た。この生成物は、mass、UV-vis-NIR、FT-IR、1H-、13C-NMRの各スペクトル測定により所望の1,3-ジオキソラン(下記(b))であることを確認された。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
[Example 1]
Fullerene oxide mixture C 60 O n (n ≧ 1 : manufactured by Frontier Carbon Corporation) 0.001 mol% benzene solution 20mL fullerene monoxide obtained by the separating by silica gel column chromatography C 60 O (below (a)) To the mixture, 200 mg of cyclohexanone as a carbonyl compound and 50 mg of p-toluenesulfonic acid as a solid acid catalyst were added, followed by replacement with nitrogen gas for 10 minutes, and the mixture was stirred at 65 ° C. The progress of the reaction was followed by LC-MS. After confirming the disappearance of C 60 O, benzene was distilled off from the reaction solution under reduced pressure, and the residue was washed with methanol. Thereafter, the product was purified by silica gel column chromatography to obtain a product having a molecular weight of 834.8 in a yield of 40%. This product was confirmed to be the desired 1,3-dioxolane (below (b)) by measuring each spectrum of mass, UV-vis-NIR, FT-IR, 1 H-, 13 C-NMR. .
[例2]
例1と同様の方法で得られたフラーレンモノオキシドC60O(下記(a))の0.001モル%ベンゼン溶液20mLに、カルボニル化合物としてシクロヘキサノン200mg、固体酸触媒として陽イオン交換性樹脂Amberlyst15 hydrogen form(シグマアルドリッチ製)250mgを加え、窒素ガスで10分間置換した後、65℃に保って攪拌した。反応の進行はLC-MSで追跡し、C60Oの消失を確認した後、反応溶液をろ過し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いた精製によって分子量834.8の生成物を収率60%で得た。この生成物は、例1と同様の1,3-ジオキソラン(下記(b))であった。
[Example 2]
To 20 mL of a 0.001 mol% benzene solution of fullerene monooxide C 60 O (following (a)) obtained by the same method as in Example 1, 200 mg of cyclohexanone as a carbonyl compound, cation exchange resin Amberlyst 15 hydrogen form (as solid acid catalyst) Sigma Aldrich) (250 mg) was added, and the mixture was purged with nitrogen gas for 10 minutes. The progress of the reaction was followed by LC-MS. After confirming the disappearance of C 60 O, the reaction solution was filtered, and a product having a molecular weight of 834.8 was obtained in a yield of 60% by purification using silica gel column chromatography. This product was 1,3-dioxolane similar to Example 1 ((b) below).
[例3]
フラーレンオキシド混合体C60On(n≧1:フロンティアカーボン社製)をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離することによって得られたフラーレンジオキシドC60O2(cis-1)(下記(c))の0.001モル%ベンゼン溶液20mLに、カルボニル化合物としてシクロヘキサノン400mg、固体酸触媒として陽イオン交換性樹脂Amberlyst15 hydrogen form(シグマアルドリッチ製)250mgを加え、窒素ガスで10分間置換した後、65℃に保って攪拌した。反応の進行はLC-MSで追跡し、C60Oの消失を確認した後、反応溶液をろ過し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いた精製によって分子量948.9および834.8の生成物をそれぞれ収率12%及び5%で得た。これらの生成物は、ビス1,3-ジオキソラン(下記(d))および1,3-ジオキソラン(上記(b))であった。
Fullerene oxide mixture C 60 O n (n ≧ 1 : manufactured by Frontier Carbon Corporation) Fullerene dioxide obtained by a separated by silica gel column chromatography C 60 O 2 (cis-1 ) of (below (c)) To 20 mL of a 0.001 mol% benzene solution, add 400 mg of cyclohexanone as the carbonyl compound and 250 mg of the cation exchange resin Amberlyst15 hydrogen form (Sigma Aldrich) as the solid acid catalyst. After replacing with nitrogen gas for 10 minutes, maintain at 65 ° C and stir did. The progress of the reaction was followed by LC-MS, and after confirming the disappearance of C 60 O, the reaction solution was filtered, and purification using silica gel column chromatography yielded products having molecular weights of 948.9 and 834.8 with a yield of 12% and Obtained at 5%. These products were bis 1,3-dioxolane (below (d)) and 1,3-dioxolane (below (b)).
[例4]
フラーレンオキシド混合体C60On(n≧1:フロンティアカーボン社製)をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離することによって得られたフラーレンジオキシドC60O2(equatorial) (下記(e))を主成分とするフラーレンジオキシドの0.001モル%ベンゼン溶液20mLに、カルボニル化合物としてシクロヘキサノン400mg、固体酸触媒として陽イオン交換性樹脂Amberlyst15(シグマアルドリッチ製)250mgを加え、窒素ガスで10分間置換した後、65℃に保って攪拌した。反応の進行はLC-MSで追跡し、C60Oの消失を確認した後、反応溶液をろ過し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いた精製によって分子量948.9及び834.7の生成物をそれぞれ収率50%及び23%で得た。これらの生成物は、ビス1,3-ジオキソラン(下記(f))および1,3-ジオキソラン(上記(b))であった。
[Example 4]
Fullerene oxide mixture C 60 O n (n ≧ 1 : manufactured by Frontier Carbon Corporation) mainly containing fullerene dioxide obtained by a separated by silica gel column chromatography C 60 O 2 (equatorial) (below (e)) After adding 400 mg of cyclohexanone as a carbonyl compound and 250 mg of cation exchange resin Amberlyst15 (manufactured by Sigma-Aldrich) as a carbonyl compound to 20 mL of a 0.001 mol% benzene solution of fullerene oxide to be replaced with nitrogen gas for 10 minutes, 65 ° C And stirred. The progress of the reaction was followed by LC-MS, and after confirming the disappearance of C 60 O, the reaction solution was filtered, and purification using silica gel column chromatography yielded products with molecular weights of 948.9 and 834.7, respectively, with a yield of 50% and Obtained at 23%. These products were bis 1,3-dioxolane (below (f)) and 1,3-dioxolane (above (b)).
本発明の方法によって得られるフラーレン1,3−ジオキソランは、太陽電池材料等の高機能性材料として好適である。 Fullerene 1,3-dioxolane obtained by the method of the present invention is suitable as a highly functional material such as a solar cell material.
Claims (4)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005213226A JP4892206B2 (en) | 2005-07-22 | 2005-07-22 | Method for producing fullerene derivative |
PCT/JP2006/314400 WO2007010990A1 (en) | 2005-07-22 | 2006-07-20 | Method of producing fullerene derivative |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005213226A JP4892206B2 (en) | 2005-07-22 | 2005-07-22 | Method for producing fullerene derivative |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007031298A JP2007031298A (en) | 2007-02-08 |
JP4892206B2 true JP4892206B2 (en) | 2012-03-07 |
Family
ID=37668862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005213226A Active JP4892206B2 (en) | 2005-07-22 | 2005-07-22 | Method for producing fullerene derivative |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4892206B2 (en) |
WO (1) | WO2007010990A1 (en) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5993022A (en) * | 1982-11-16 | 1984-05-29 | Kao Corp | Polyol ether compound, its preparation and cosmetic containing the same |
JP2003196881A (en) * | 2001-09-03 | 2003-07-11 | Mitsui Chemicals Inc | Fullerene dyestuff and its application |
JP3963270B2 (en) * | 2001-12-27 | 2007-08-22 | 独立行政法人理化学研究所 | Fullerene epoxide and method for producing the same |
JP2005126357A (en) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Asahi Denka Kogyo Kk | Method for producing 1,2-alkanediol |
EP1767532A4 (en) * | 2004-05-28 | 2009-04-01 | Riken | Method for producing fullerene derivative |
-
2005
- 2005-07-22 JP JP2005213226A patent/JP4892206B2/en active Active
-
2006
- 2006-07-20 WO PCT/JP2006/314400 patent/WO2007010990A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2007010990A1 (en) | 2007-01-25 |
JP2007031298A (en) | 2007-02-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Van de Vyver et al. | Metalloenzyme‐Like Zeolites as Lewis Acid Catalysts for C C Bond Formation | |
JP5600118B2 (en) | Method for producing divinylarene dioxide | |
Fatiadi | The classical permanganate ion: still a novel oxidant in organic chemistry | |
US8742145B2 (en) | Method for manufacturing an epoxy compound and method for epoxidizing a carbon—carbon double bond | |
Liu et al. | Total synthesis of natural products containing a bridgehead double bond | |
Ravelli et al. | Benzoyl radicals from (hetero) aromatic aldehydes. Decatungstate photocatalyzed synthesis of substituted aromatic ketones | |
Mckillop et al. | Organic synthesis using supported reagents-part I | |
Kozhevnikov | Fine organic synthesis with the aid of heteropolycompounds | |
JP4891071B2 (en) | Method for producing fullerene derivative | |
US6610864B2 (en) | Process for the epoxidation of CIS double bonds | |
Bedenko et al. | The Prins reaction over heterogeneous catalysts (a Review) | |
Back et al. | Substitution reactions of organocuprates with. beta.-(phenylseleno) vinyl sulfones derived from the selenosulfonation of acetylenes. A convenient and stereospecific preparation of vinyl sulfones and olefins from acetylenes | |
US20140018579A1 (en) | Process for preparing a polyol ether | |
EP2636665B1 (en) | Method for producing ester | |
JP4892206B2 (en) | Method for producing fullerene derivative | |
Brownbridge | Silyl enol ethers in Synthesis-part I | |
EP2212306B1 (en) | Process for the preparation of tetranorlabdane derivatives | |
TP et al. | Iron-mediated site-selective oxidative C–H/C–H cross-coupling of aryl radicals with quinones: synthesis of β-secretase-1 inhibitor B and related arylated quinones | |
US7425519B2 (en) | Liquid phase oxygenation reaction using tungsten species | |
EP0606183A1 (en) | Process for the preparation of a P-fuchsone and its use in the preparation of an aromatic p-dihydroxylated compound | |
JP5296549B2 (en) | Method for producing alkylated aromatic compound and method for producing phenol | |
ES2792176B2 (en) | Catalytic method for the synthesis of mesitylene from acetone | |
JP2009285583A (en) | Catalyst for oxidation reaction | |
GB2059955A (en) | Process for preparing methylvanillyl ketone | |
Aristov et al. | Oxidation of aromatic compounds: XIV. Oxidation of arylethynyl ketones in the system CF 3 CO 2 H-CH 2 Cl 2-PbO 2 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080709 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090602 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090605 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090602 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110912 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111206 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111219 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4892206 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141222 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |