JP4816480B2 - Harness manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、ハーネスおよびハーネスの製造方法に関し、たとえばシールドの径が異なる複数本の同軸線がシールド処理されているハーネスおよびハーネスの製造方法に関する。   The present invention relates to a harness and a method for manufacturing the harness, for example, a harness and a method for manufacturing the harness in which a plurality of coaxial wires having different shield diameters are shielded.

近年、電子機器分野においては、たとえばノートパソコンや携帯電話機等の普及によって、これらの情報通信機器の小型化や軽量化が求められている。そのため、機器本体と液晶表示部との接続や機器内の配線等に、ハーネスが用いられている。図6に示すように、ハーネス200は、芯線211と、芯線211の外周側に配置される絶縁体212と、絶縁体212の外周側に配置されるシールド213と、シールド213の外周側に配置される外被214とを有する、複数の同軸線210を備えている。なお、図6は、従来のハーネスを示す概略斜視図である。   In recent years, in the field of electronic devices, for example, notebook computers and mobile phones have been widely used, so that these information communication devices have been required to be reduced in size and weight. Therefore, harnesses are used for connection between the device main body and the liquid crystal display unit, wiring in the device, and the like. As shown in FIG. 6, the harness 200 is disposed on the outer periphery side of the core wire 211, the insulator 212 disposed on the outer periphery side of the core wire 211, the shield 213 disposed on the outer periphery side of the insulator 212, and the shield 213. A plurality of coaxial lines 210 having an outer sheath 214 to be provided. FIG. 6 is a schematic perspective view showing a conventional harness.

ハーネス200は、狭いスペースで配線され、かつ高い精度での特性インピーダンスのマッチングが求められている。このような要求に対応するために、それぞれの同軸線210について、シールド213を確実にアースにおとす(接地する)必要があり、シールド213とグランドバー220,230とを接続するシールド処理がなされている。シールド処理は、たとえば同軸線210の露出されたシールド213とグランドバー220,230とを接着部材240で接続することにより行なわれる。   The harness 200 is wired in a narrow space, and matching of characteristic impedance with high accuracy is required. In order to meet such a requirement, the shield 213 must be securely grounded (grounded) with respect to each coaxial line 210, and the shield process for connecting the shield 213 and the ground bars 220 and 230 is performed. Yes. The shield process is performed, for example, by connecting the exposed shield 213 of the coaxial line 210 and the ground bars 220 and 230 with the adhesive member 240.

シールド処理として、たとえば特開平11−297133号公報(特許文献1)には、同軸線のシールドを露出させるとともに、当該シールドを上下方向からグランドバーで挟み、半田付けを行なうことにより、シールドとグランドバーとを接続する技術が開示されている。
特開平11−297133号公報
As a shield process, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-297133 (Patent Document 1), the shield of the coaxial line is exposed, and the shield is sandwiched by a ground bar from above and below, and soldering is performed. A technique for connecting a bar is disclosed.
JP 11-297133 A

しかしながら、上記特許文献1に開示されたシールド処理では、露出したシールドとグランドバーとの接続が充分でない同軸線が含まれる場合があることがわかった。シールドとグランドバーとの接続が充分でない同軸線が存在すると、当該同軸線のシールドを接地するシールド効果が充分に得られない。   However, it has been found that the shield process disclosed in Patent Document 1 may include a coaxial line in which the connection between the exposed shield and the ground bar is not sufficient. If there is a coaxial line in which the connection between the shield and the ground bar is not sufficient, a shielding effect for grounding the shield of the coaxial line cannot be obtained sufficiently.

したがって、本発明の目的は、複数の同軸線の露出したシールドのシールド効果を向上できるハーネスおよびハーネスの製造方法を提供することである。   Therefore, the objective of this invention is providing the manufacturing method of the harness which can improve the shielding effect of the shield which the several coaxial line exposed.

本願発明者は、露出したシールドとグランドバーとの接続が充分でない同軸線が含まれる場合があるという問題は、露出したシールドの径にばらつきがあることに起因することを見出した。しかし、グランドバーは変形しにくく厚さが均一な金属板であるので、シールドの径にばらつきがあると、グランドバーと接触しているシールドと、グランドバーと接触していないシールドとが生じる。その結果、シールドとグランドバーとの接続性能が安定しない。   The inventor of the present application has found that the problem that a coaxial line in which the connection between the exposed shield and the ground bar is not sufficient may be included due to variations in the diameter of the exposed shield. However, since the ground bar is a metal plate that is not easily deformed and has a uniform thickness, if the shield diameter varies, a shield that is in contact with the ground bar and a shield that is not in contact with the ground bar are generated. As a result, the connection performance between the shield and the ground bar is not stable.

そこで、本発明のハーネスは、複数の同軸線と、薄板と、薄膜と、接着部材とを備えている。同軸線は、芯線と、芯線の外周側に配置される絶縁体と、絶縁体の外周側に配置されるシールドと、シールドの外周側に配置される外被とを有している。また、同軸線は、一方端部において芯線およびシールドが露出している。薄板は、少なくとも一方の表面が導電性である。薄膜は、薄板よりも柔軟性が高く、少なくとも一方の表面が導電性である。接着部材は、シールドと、薄板の表面および薄膜の表面とを電気的に接続する。複数の同軸線のうち、露出したシールドの少なくとも2つの径は異なっている。薄板の表面上に露出したシールドが並列に配置され、シールド上に薄膜の表面がシールドの高さに応じて配置されていることを特徴としている。   Therefore, the harness of the present invention includes a plurality of coaxial lines, a thin plate, a thin film, and an adhesive member. The coaxial line has a core wire, an insulator disposed on the outer peripheral side of the core wire, a shield disposed on the outer peripheral side of the insulator, and a jacket disposed on the outer peripheral side of the shield. Moreover, the core wire and the shield are exposed at one end of the coaxial wire. The thin plate is conductive on at least one surface. The thin film is more flexible than the thin plate, and at least one surface is conductive. The adhesive member electrically connects the shield and the surface of the thin plate and the surface of the thin film. Of the plurality of coaxial lines, at least two of the exposed shields have different diameters. The exposed shield is arranged in parallel on the surface of the thin plate, and the surface of the thin film is arranged on the shield according to the height of the shield.

本発明のハーネスによれば、薄板より柔軟性の高い薄膜をグランドバーとして用いている。そのため、薄板上に配置されたシールド上に、シールドの径が異なることから生じる高さの変動に応じて、薄膜を配置することができる。よって、細い径のシールドと薄板および薄膜との接続を安定させることができる。すなわち、複数の同軸線の露出したシールドについてシールド効果を向上できる。   According to the harness of the present invention, a thin film having higher flexibility than a thin plate is used as a ground bar. Therefore, the thin film can be disposed on the shield disposed on the thin plate according to the variation in height caused by the difference in the diameter of the shield. Therefore, the connection between the thin shield and the thin plate and thin film can be stabilized. That is, the shielding effect can be improved for the exposed shield of a plurality of coaxial lines.

なお、上記「柔軟性」とは、同じ条件で同じ力を印加したときの変形量を基準とされ、変形量が大きいものを柔軟性が高いとしている。   The “flexibility” is based on the amount of deformation when the same force is applied under the same conditions, and a material having a large amount of deformation is considered to have high flexibility.

上記ハーネスにおいて好ましくは、薄膜は、フレキシブルプリント配線板(FPC:Flexible Printed Circuits)であることを特徴としている。   In the harness described above, the thin film is preferably a flexible printed circuit (FPC).

フレキシブルプリント配線板は径の異なるシールドに追随させやすいので、同軸線のシールドを接地するシールド効果をより向上できる。   Since the flexible printed wiring board can easily follow shields having different diameters, the shielding effect of grounding the shield of the coaxial line can be further improved.

上記ハーネスにおいて好ましくは、接着部材は、熱硬化性樹脂であることを特徴としている。これにより、シールドと、薄板および薄膜とをより強固に接続できる。   In the harness, the adhesive member is preferably a thermosetting resin. Thereby, a shield, a thin plate, and a thin film can be connected more firmly.

上記ハーネスにおいて好ましくは、接着部材は、熱硬化性樹脂と、前記熱硬化性樹脂中に配合された導電性粒子とからなることを特徴としている。これにより、シールドと、薄板および薄膜とをより強固に接続できる。   In the harness, preferably, the adhesive member is composed of a thermosetting resin and conductive particles blended in the thermosetting resin. Thereby, a shield, a thin plate, and a thin film can be connected more firmly.

本発明のハーネスの製造方法は、第1同軸線準備工程と、第2同軸線準備工程と、薄板準備工程と、薄膜準備工程と、接続工程とを備えている。第1同軸線準備工程は、芯線と、芯線の外周側に配置される絶縁体と、絶縁体の外周側に配置されるシールドと、シールドの外周側に配置される外被とを有し、一方端部において芯線およびシールドが露出している、同軸線を準備する。第2同軸線準備工程は、露出したシールドの少なくとも2つは異なる径である同軸線を複数準備する。薄板準備工程は、少なくとも一方の表面が導電性の薄板を準備する。薄膜準備工程は、薄板よりも柔軟性が高く、かつ少なくとも一方の表面が導電性の薄膜を準備する。接続工程は、薄板の表面上に露出したシールドを並列に配置するとともに、シールド上に薄膜の表面をシールドの高さに応じて配置した状態で、露出したシールドと薄板の表面および薄膜の表面とを接着部材で電気的に接続する。接続工程では、薄板と薄膜との間に露出したシールドを配置する前に、薄板の表面と薄膜の表面とに接着部材を配置する。薄板と薄膜との間に露出したシールドを配置した後に、一方の表面に薄板よりも柔軟性の高い緩衝部材を有する加圧部材を用い、緩衝部材と薄膜とを接触させて加圧を行なう。 The method for manufacturing a harness according to the present invention includes a first coaxial line preparation step, a second coaxial line preparation step, a thin plate preparation step, a thin film preparation step, and a connection step. The first coaxial line preparation step has a core wire, an insulator disposed on the outer peripheral side of the core wire, a shield disposed on the outer peripheral side of the insulator, and a jacket disposed on the outer peripheral side of the shield, A coaxial line is prepared with the core wire and shield exposed at one end. In the second coaxial line preparation step, a plurality of coaxial lines having different diameters are prepared for at least two of the exposed shields. In the thin plate preparation step, a thin plate having at least one surface conductive is prepared. In the thin film preparation step, a thin film having higher flexibility than that of a thin plate and having a conductive surface on at least one surface is prepared. In the connecting process, the exposed shield is arranged in parallel on the surface of the thin plate, and the surface of the thin film is arranged on the shield according to the height of the shield, and the exposed shield, the surface of the thin plate, and the surface of the thin film Are electrically connected by an adhesive member. In the connecting step, the adhesive member is disposed on the surface of the thin plate and the surface of the thin film before the exposed shield is disposed between the thin plate and the thin film. After the exposed shield is disposed between the thin plate and the thin film, a pressure member having a buffer member having higher flexibility than the thin plate is used on one surface, and the buffer member and the thin film are brought into contact with each other to perform pressurization.

本発明のハーネスの製造方法によれば、薄板および薄板よりも柔軟性の高い薄膜と、露出したシールドとを接続している。そのため、薄板上に配置されたシールドについて、シールドの径が異なることから生じる高さの変動に応じて、薄膜を配置することができる。よって、細い径のシールドと薄板および薄膜との接続を安定させることができる。すなわち、複数の同軸線の露出したシールドを接地するシールド効果を向上できるハーネスを製造できる。   According to the harness manufacturing method of the present invention, the thin plate and the thin film having higher flexibility than the thin plate are connected to the exposed shield. For this reason, the thin film can be disposed in accordance with the fluctuation of the height caused by the difference in the diameters of the shields disposed on the thin plate. Therefore, the connection between the thin shield and the thin plate and thin film can be stabilized. That is, it is possible to manufacture a harness that can improve the shield effect of grounding the exposed shields of a plurality of coaxial lines.

柔軟性の高い緩衝部材により、薄板上に配置されたシールドの高さに応じて薄膜を変形させることができる。そのため、細い径のシールドと薄板および薄膜とをより安定して接続できる。   With a highly flexible cushioning member, the thin film can be deformed according to the height of the shield disposed on the thin plate. Therefore, the shield with a thin diameter can be connected to the thin plate and the thin film more stably.

本発明のハーネスおよびハーネスの製造方法によれば、薄板および薄板よりも柔軟性の高い薄膜を用いて、径の異なる複数のシールドと接続しているので、複数の同軸線の露出したシールドのシールド効果を向上できる。   According to the harness and the method of manufacturing the harness of the present invention, since the thin plate and the thin film having higher flexibility than the thin plate are used to connect to the plurality of shields having different diameters, the shield of the exposed shield of the plurality of coaxial lines The effect can be improved.

以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には、同一の参照符号を付し、その説明は繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof will not be repeated.

図1は、本発明の実施の形態におけるハーネスを示す斜視図である。図2は、図1における線分II−IIでの断面図である。図1および図2を参照して、本発明の実施の形態におけるハーネスを説明する。図1および図2に示すように、実施の形態におけるハーネス100は、複数の同軸線110と、薄板120と、薄膜130と、接着部材140とを備えている。同軸線110は、芯線111と、芯線111の外周側に配置される絶縁体112と、絶縁体112の外周側に配置されるシールド113と、シールド113の外周側に配置される外被114とを有している。同軸線110は、一方端部において芯線111およびシールド113が露出している。薄板120は、少なくとも一方の表面が導電性である。薄膜130は、薄板120よりも柔軟性が高く、少なくとも一方の表面が導電性である。接着部材140は、シールド113と、薄板120および薄膜130の表面とを接続する。複数の同軸線110のうち、露出したシールド113の少なくとも2つの径は異なっている。薄板120上に露出したシールド113が並列に配置され、シールド113上に薄膜130の表面がシールド113の高さに応じて配置されていることを特徴とする。   FIG. 1 is a perspective view showing a harness according to an embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the harness in embodiment of this invention is demonstrated. As shown in FIGS. 1 and 2, the harness 100 according to the embodiment includes a plurality of coaxial wires 110, a thin plate 120, a thin film 130, and an adhesive member 140. The coaxial line 110 includes a core wire 111, an insulator 112 disposed on the outer peripheral side of the core wire 111, a shield 113 disposed on the outer peripheral side of the insulator 112, and a jacket 114 disposed on the outer peripheral side of the shield 113. have. The coaxial wire 110 has a core wire 111 and a shield 113 exposed at one end. At least one surface of the thin plate 120 is conductive. The thin film 130 is more flexible than the thin plate 120, and at least one surface thereof is conductive. The adhesive member 140 connects the shield 113 to the surfaces of the thin plate 120 and the thin film 130. Among the plurality of coaxial wires 110, at least two diameters of the exposed shield 113 are different. The shield 113 exposed on the thin plate 120 is arranged in parallel, and the surface of the thin film 130 is arranged on the shield 113 according to the height of the shield 113.

実施の形態では、薄板120上に、複数の露出したシールド113が平行に配列されている。そして、露出したシールド113の上に薄膜130が配置されている。薄膜130は、露出したシールド113の曲率に沿うように湾曲している。すなわち、薄膜130は、露出したシールドの高さの変動に追随して湾曲している。そして、薄板120と薄膜130との間を、露出したシールド113を埋め込むように接着部材140が配置されている。すなわち、露出したシールド113は、薄板120、薄膜130、および接着部材140で覆われて固定されている。そのため、全ての同軸線110の露出したシールド113は、薄板120および薄膜130と接続されている。   In the embodiment, a plurality of exposed shields 113 are arranged in parallel on the thin plate 120. A thin film 130 is disposed on the exposed shield 113. The thin film 130 is curved so as to follow the curvature of the exposed shield 113. That is, the thin film 130 is curved following the variation in the height of the exposed shield. An adhesive member 140 is disposed between the thin plate 120 and the thin film 130 so as to embed the exposed shield 113. That is, the exposed shield 113 is covered and fixed by the thin plate 120, the thin film 130, and the adhesive member 140. Therefore, the exposed shields 113 of all the coaxial wires 110 are connected to the thin plate 120 and the thin film 130.

詳細には、同軸線110は、芯線111と、絶縁体112と、シールド113と、外被114とを有している。芯線111は、コネクタなどの部材と電気的に接続される導電性の部材である。絶縁体112は、芯線111の外周側に配置される絶縁性の部材である。シールド113は、絶縁体112の外周側に配置される絶縁性の部材である。外被114は、シールド113の外周側に配置される絶縁性の部材である。   Specifically, the coaxial line 110 includes a core wire 111, an insulator 112, a shield 113, and a jacket 114. The core wire 111 is a conductive member that is electrically connected to a member such as a connector. The insulator 112 is an insulating member disposed on the outer peripheral side of the core wire 111. The shield 113 is an insulating member disposed on the outer peripheral side of the insulator 112. The outer jacket 114 is an insulating member disposed on the outer peripheral side of the shield 113.

また、同軸線110の形状は、同軸線110の一方端部において芯線111とシールド113とが露出していれば特に限定されないが、実施の形態1では芯線111と、絶縁体112と、シールド113とが一方端に向けて順に露出している。なお、一方端部とは、同軸線110において一方の端から他方の端に向けて(一方の端から同軸線110の延びる方向に向けて)所定の長さの領域であり、露出した芯線111と、露出した絶縁体112と、露出したシールド113とを含む領域を意味する。   The shape of the coaxial wire 110 is not particularly limited as long as the core wire 111 and the shield 113 are exposed at one end of the coaxial wire 110. However, in the first embodiment, the core wire 111, the insulator 112, and the shield 113 are used. Are exposed in order toward one end. The one end portion is a region having a predetermined length from one end to the other end of the coaxial line 110 (from one end toward the direction in which the coaxial line 110 extends), and the exposed core wire 111. And a region including the exposed insulator 112 and the exposed shield 113.

複数の同軸線110のうち、露出したシールド113の少なくとも2つの径が異なっていれば、任意の同軸線110を用いることができる。たとえば、複数の同軸線110は、工業的に同じ大きさとして作製されているが実際には径が異なる場合、工業的に同じ大きさとして作製されており実際にも径が完全に同一であるが露出したシールド113の径のみが異なる場合、および工業的に異なる径の同軸線を作製する場合のすべてを含む。   Any coaxial line 110 can be used as long as at least two diameters of the exposed shield 113 are different among the plurality of coaxial lines 110. For example, the plurality of coaxial wires 110 are manufactured as the same size industrially, but when the diameters are actually different, they are manufactured as the same size industrially and are actually the same in diameter. This includes all cases in which only the diameter of the shield 113 where is exposed differs, and in the case of producing coaxial wires of industrially different diameters.

また、用いる同軸線110の外径寸法などに特に制限はない。たとえば、芯線111の径が100μm以下で、シールド113の径が200μm〜300μmの同軸線110を用いることができる。また、たとえば、同軸線110の少なくとも1つに外径寸法が1mm以下の極細同軸線を用いることもできる。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the outer diameter dimension of the coaxial line 110 to be used. For example, a coaxial wire 110 having a core wire 111 with a diameter of 100 μm or less and a shield 113 with a diameter of 200 μm to 300 μm can be used. Further, for example, an ultrafine coaxial line having an outer diameter of 1 mm or less can be used for at least one of the coaxial lines 110.

薄板120は、複数の露出したシールド113と接続され、シールド113をアースにおとしている。なお、アースにおとす方法は特に限定されず、たとえば薄板120および薄膜130を介して、グランド電極(図示せず)と接続することにより、シールド113とグラウンドとを固定する方法などが挙げられる。   The thin plate 120 is connected to a plurality of exposed shields 113, and the shield 113 is grounded. The method for grounding is not particularly limited, and examples thereof include a method of fixing the shield 113 and the ground by connecting to a ground electrode (not shown) via the thin plate 120 and the thin film 130.

また、薄板120は、シールド113と接続されている表面が導電性であれば特に限定されないが、たとえば銅などの金属からなる板状の金属板を用いることができる。   The thin plate 120 is not particularly limited as long as the surface connected to the shield 113 is conductive, but a plate-like metal plate made of a metal such as copper can be used, for example.

また、薄板120は、薄膜130よりも柔軟性が低ければ特に限定されないが、ハンドリングが容易である観点から、シールド113を乗せた状態で0.3MPaの圧力が印加されたときの変形量が10μm未満であることが好ましい。   Further, the thin plate 120 is not particularly limited as long as it is less flexible than the thin film 130. However, from the viewpoint of easy handling, the deformation amount when a pressure of 0.3 MPa is applied with the shield 113 placed is 10 μm. It is preferable that it is less than.

薄膜130は、複数の露出したシールド113において薄板120と接続されている側と反対側と接続されている。薄膜130は、薄板120と同様に、シールド113をアースにおとしている。   The thin film 130 is connected to the opposite side of the exposed shield 113 to the side connected to the thin plate 120. As with the thin plate 120, the thin film 130 has the shield 113 grounded.

また、薄膜130は、薄板120上に並列に配置されたシールド113の高さに追随させやすい観点から、シールド113の上に重ねた状態で0.3MPaの圧力が印加されたときの変形量が10μm以上であることが好ましい。   Further, the thin film 130 has a deformation amount when a pressure of 0.3 MPa is applied in a state of being superimposed on the shield 113 from the viewpoint of easily following the height of the shield 113 arranged in parallel on the thin plate 120. It is preferable that it is 10 micrometers or more.

このような薄膜130として、フレキシブルプリント配線板を用いることが好ましい。フレキシブルプリント配線板は、パターンなどの金属膜131と絶縁膜132とを備えていれば特に限定されず、片面板、両面板、および多層板のいずれを用いてもよい。なお、片面板とは、配線板の一方面のみにパターン(回路)があるものを意味する。両面板とは、配線板の両面にパターン(回路)があるものを意味する。多層板とは、ウエハース状に絶縁体とパターン(回路)とを積み重ねたものを意味する。実施の形態では、ポリイミドなどの絶縁膜132上に、銅箔などのパターンである金属膜131が形成されている片面板のフレキシブルプリント配線板を用いている。薄膜130としてフレキシブルプリント配線板を用いる場合には、シールド113上に、パターンが形成された側の導電性の表面が配置されている。   As such a thin film 130, a flexible printed wiring board is preferably used. The flexible printed wiring board is not particularly limited as long as it includes a metal film 131 such as a pattern and an insulating film 132, and any of a single-sided board, a double-sided board, and a multilayer board may be used. In addition, a single-sided board means what has a pattern (circuit) only on one side of a wiring board. A double-sided board means what has a pattern (circuit) on both surfaces of a wiring board. A multilayer board means what laminated | stacked the insulator and the pattern (circuit) on the wafer form. In the embodiment, a single-sided flexible printed wiring board in which a metal film 131 having a pattern such as copper foil is formed on an insulating film 132 such as polyimide is used. When a flexible printed wiring board is used as the thin film 130, the conductive surface on the side where the pattern is formed is disposed on the shield 113.

また、薄膜130は、導電性の材料からなる一層以上の膜であってもよい。このような膜としては、たとえば、銅、アルミニウム、金、またはそれらの合金からなる箔などが挙げられる。   The thin film 130 may be one or more films made of a conductive material. Examples of such a film include a foil made of copper, aluminum, gold, or an alloy thereof.

また、薄膜130は、たとえば300μm以下の厚みであり、5μm以上50μm以下であることが好ましい。10μm以上50μm以下の厚みとすることによって、シールド113の高さの変動により追随させて配置できる。   The thin film 130 has a thickness of, for example, 300 μm or less, and preferably 5 μm or more and 50 μm or less. By setting the thickness to 10 μm or more and 50 μm or less, the thickness of the shield 113 can be changed to follow.

また、薄膜130は、薄板120と同じ組成からなっていてもよく、その場合には、たとえば厚みを薄くすることによって、薄膜130の柔軟性を薄板120の柔軟性よりも高くする。   Further, the thin film 130 may have the same composition as that of the thin plate 120. In this case, for example, by reducing the thickness, the flexibility of the thin film 130 is made higher than that of the thin plate 120.

なお、薄板120および薄膜130は、露出したシールド113と接続される表面の少なくとも一部が導電性であればよい。薄板120および薄膜130は、露出したシールド113と接続される面の全部が導電性であることが好ましい。   In addition, the thin plate 120 and the thin film 130 should just be electroconductive at least one part of the surface connected with the exposed shield 113. FIG. The thin plate 120 and the thin film 130 are preferably all conductive surfaces connected to the exposed shield 113.

また、図1に示すように、薄板120のおよび薄膜130の幅Wは、露出したシールド113の同軸線110の延びる方向の長さの80%〜100%であることが好ましい。これにより、シールド113と薄板120および薄膜130とを接続するシールド処理をより確実にできる。また、図2に示すように、薄板120の長さL123および薄膜130の長さL130は、同軸線110を平行に並べたときのすべてのシールド113をまたぐことができる長さとすることが好ましい。   As shown in FIG. 1, the width W of the thin plate 120 and the thin film 130 is preferably 80% to 100% of the length of the exposed shield 113 in the extending direction of the coaxial line 110. Thereby, the shield process which connects the shield 113, the thin plate 120, and the thin film 130 can be performed more reliably. As shown in FIG. 2, the length L123 of the thin plate 120 and the length L130 of the thin film 130 are preferably long enough to straddle all the shields 113 when the coaxial lines 110 are arranged in parallel.

接着部材140は、熱硬化性樹脂であること、または熱硬化性樹脂と、熱硬化性樹脂中に配合された導電性粒子とからなることが好ましい。熱硬化性樹脂は、たとえばエポキシ樹脂を用いることができる。また、熱硬化性樹脂としては、耐熱性の高い樹脂が好ましく、耐熱性が100℃以上であることがより好ましい。熱硬化性樹脂と、熱硬化性樹脂中に配合された導電性粒子とからなる接着部材140としては、たとえば異方性導電性膜を用いることができる。なお、「異方性導電性膜(ACF:Anisotropic Conductive Film)」とは、フィルム状の絶縁樹脂材料の中に微細な導電性粒子を分散させ、特定(面間)方向の導電性が高い性質(異方導電性)を持つ膜を意味する。導電性粒子としては、たとえばニッケル、銅、銀、金、あるいは黒鉛等の導電性粒子の粉末を用いることができる。   It is preferable that the adhesive member 140 is a thermosetting resin or is composed of a thermosetting resin and conductive particles blended in the thermosetting resin. For example, an epoxy resin can be used as the thermosetting resin. Moreover, as a thermosetting resin, resin with high heat resistance is preferable, and it is more preferable that heat resistance is 100 degreeC or more. For example, an anisotropic conductive film can be used as the adhesive member 140 made of the thermosetting resin and the conductive particles blended in the thermosetting resin. The “anisotropic conductive film (ACF)” is a property in which fine conductive particles are dispersed in a film-like insulating resin material, and the conductivity in a specific (between plane) direction is high. It means a film having (anisotropic conductivity). As the conductive particles, for example, powder of conductive particles such as nickel, copper, silver, gold, or graphite can be used.

次に、図1〜図5を参照して、本発明の実施の形態におけるハーネスの製造方法について説明する。なお、図3は、本発明の実施の形態におけるハーネスの製造方法を示すフローチャートである。図4は、本発明の実施の形態における同軸線準備工程で準備される同軸線を示し、(A)は斜視図であり、(B)は断面図である。図5は、本発明の実施の形態における接続工程を示す概略断面図である。   Next, with reference to FIGS. 1-5, the manufacturing method of the harness in embodiment of this invention is demonstrated. In addition, FIG. 3 is a flowchart which shows the manufacturing method of the harness in embodiment of this invention. 4A and 4B show the coaxial line prepared in the coaxial line preparation step in the embodiment of the present invention, where FIG. 4A is a perspective view and FIG. 4B is a cross-sectional view. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a connection process in the embodiment of the present invention.

図3、図4(A)および(B)に示すように、芯線111と、芯線111の外周側に配置される絶縁体112と、絶縁体112の外周側に配置されるシールド113と、シールド113の外周側に配置される外被114とを有し、一方端部において芯線111およびシールド113が露出している、同軸線110を準備する第1同軸線準備工程(S10)を実施する。第1同軸線準備工程(S10)では、市販の同軸線を入手することにより同軸線110を準備して良いし、後述する露出工程を実施することにより同軸線110を準備しても良い。   As shown in FIGS. 3, 4A and 4B, the core wire 111, the insulator 112 disposed on the outer peripheral side of the core wire 111, the shield 113 disposed on the outer peripheral side of the insulator 112, and the shield A first coaxial line preparation step (S10) for preparing the coaxial line 110 having the outer jacket 114 arranged on the outer peripheral side of the 113 and having the core wire 111 and the shield 113 exposed at one end is performed. In the first coaxial line preparation step (S10), the coaxial line 110 may be prepared by obtaining a commercially available coaxial line, or the coaxial line 110 may be prepared by performing an exposure step described later.

第1同軸線準備工程(S10)で露出工程を実施する場合には、たとえば以下のように行なう。まず、芯線111と、芯線111の外周側に配置される絶縁体112と、絶縁体112の外周側に配置されるシールド113と、シールド113の外周側に配置される外被114とを含む同軸線110を準備する。そして、一方端部において芯線111およびシールド113を露出する露出工程を実施する。露出工程は、芯線111と、絶縁体112と、シールド113とが一方端部に向けて順に露出することが好ましい。   When performing an exposure process by the 1st coaxial line preparation process (S10), it carries out as follows, for example. First, a coaxial including a core wire 111, an insulator 112 disposed on the outer peripheral side of the core wire 111, a shield 113 disposed on the outer peripheral side of the insulator 112, and a jacket 114 disposed on the outer peripheral side of the shield 113. Line 110 is prepared. And the exposure process which exposes the core wire 111 and the shield 113 in one end part is implemented. In the exposing step, it is preferable that the core wire 111, the insulator 112, and the shield 113 are sequentially exposed toward one end.

露出工程を実施する場合には、芯線111およびシールド113を露出させる方法は、レーザを用いて行なう方法やメカニカルに剥ぐ方法など任意の方法を採用できる。実施の形態では、たとえばレーザにより同軸線110の一方端部の外被114を除去する。そして、外被114近傍のシールド113を一部残して、残部のシールド113をレーザにより除去する。そして、シールド113近傍の絶縁体112を一部残して、残部の絶縁体112をレーザにより除去する。これにより、図4(A)に示すような芯線111と、絶縁体112と、シールド113とが一方端に向けて順に露出した同軸線110を形成できる。   In the case of performing the exposure process, the method of exposing the core wire 111 and the shield 113 can employ any method such as a method using a laser or a mechanical peeling method. In the embodiment, the jacket 114 at one end of the coaxial line 110 is removed by, for example, a laser. Then, a part of the shield 113 in the vicinity of the outer jacket 114 is left, and the remaining shield 113 is removed by laser. Then, a part of the insulator 112 in the vicinity of the shield 113 is left, and the remaining insulator 112 is removed by laser. Thereby, the coaxial wire 110 as shown in FIG. 4A in which the core wire 111, the insulator 112, and the shield 113 are sequentially exposed toward one end can be formed.

次に、露出したシールド113の少なくとも2つは異なる径である同軸線110を複数準備する第2同軸線準備工程(S20)を実施する。具体的には、第2同軸線準備工程(S20)では、第1同軸線準備工程(S10)で複数の同軸線110を準備する。複数の同軸線110のうち、少なくとも2つは異なる径である。   Next, a second coaxial wire preparation step (S20) is performed in which a plurality of coaxial wires 110 having different diameters at least two of the exposed shields 113 are prepared. Specifically, in the second coaxial line preparation step (S20), a plurality of coaxial wires 110 are prepared in the first coaxial line preparation step (S10). At least two of the plurality of coaxial wires 110 have different diameters.

第2同軸線準備工程(S20)では、上述したように、工業的に同じ大きさとして作製されているが実際にはシールド113の径が異なる場合、工業的に同じ大きさとして作製されており実際にも径が完全に同一であるが露出工程などにより露出されたシールド113の径のみが異なる場合、および工業的に異なる径の同軸線110を作製した場合などにより、複数の同軸線110を準備する。   In the second coaxial line preparation step (S20), as described above, the same size is manufactured industrially, but when the diameter of the shield 113 is actually different, the same size is manufactured industrially. Actually, when the diameter of the shield 113 that is completely the same, but exposed by the exposure process or the like is different, or when the coaxial wires 110 having industrially different diameters are manufactured, the plurality of coaxial wires 110 are formed. prepare.

次に、少なくとも一方の表面が導電性の薄板120を準備する薄板準備工程(S30)を実施する。具体的には、薄板準備工程(S30)では、上述した薄板120を準備する。なお、薄板準備工程(S30)では、ハンドリングが容易である観点から、シールド113を乗せた状態で0.3MPaの圧力が印加されたときの変形量が10μm未満である薄板120を準備することが好ましい。   Next, a thin plate preparation step (S30) in which at least one surface prepares a conductive thin plate 120 is performed. Specifically, in the thin plate preparation step (S30), the above-described thin plate 120 is prepared. In the thin plate preparation step (S30), from the viewpoint of easy handling, it is possible to prepare a thin plate 120 having a deformation amount of less than 10 μm when a pressure of 0.3 MPa is applied with the shield 113 placed. preferable.

次に、薄板120よりも柔軟性が高く、かつ少なくとも一方の表面が導電性の薄膜130を準備する薄膜準備工程(S40)を実施することが好ましい。具体的には、薄膜準備工程(S40)では、上述した薄膜130を準備する。薄膜準備工程(S40)では、シールド113の上に重ねた状態で0.3MPaの圧力が印加されたときの変形量が10μm以上である薄膜130を準備することが好ましい。これにより、後述する接続工程(S50)で薄板120上に並列に配置されたシールド113の高さに追随させやすくなる。また、薄膜準備工程(S40)では、薄膜130としてフレキシブルプリント配線板を準備することがより好ましい。これにより、後述する接続工程(S50)で薄板120上に並列に配置されたシールド113の高さに容易に追随できる。   Next, it is preferable to perform a thin film preparation step (S40) in which a thin film 130 having higher flexibility than that of the thin plate 120 and having at least one surface of the conductive film 130 is prepared. Specifically, in the thin film preparation step (S40), the above-described thin film 130 is prepared. In the thin film preparation step (S40), it is preferable to prepare a thin film 130 having a deformation amount of 10 μm or more when a pressure of 0.3 MPa is applied in a state of being superimposed on the shield 113. Thereby, it becomes easy to follow the height of the shield 113 arranged in parallel on the thin plate 120 in the connection step (S50) described later. In the thin film preparation step (S40), it is more preferable to prepare a flexible printed wiring board as the thin film 130. Accordingly, it is possible to easily follow the height of the shield 113 arranged in parallel on the thin plate 120 in a connection step (S50) described later.

次に、薄板120の表面上に露出したシールド113を並列に配置するとともに、シールド113上に薄膜130の表面をシールド113の高さに応じて配置した状態で、露出したシールド113と薄板120の表面および薄膜130の表面とを接着部材140で電気的に接続する接続工程(S50)を実施する。接続工程(S50)では、接着部材140として、熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、異方性導電性膜を用いることがより好ましい。   Next, the exposed shield 113 and the thin plate 120 are arranged in a state where the exposed shield 113 is arranged in parallel on the surface of the thin plate 120 and the surface of the thin film 130 is arranged on the shield 113 according to the height of the shield 113. A connection step (S50) for electrically connecting the surface and the surface of the thin film 130 with the adhesive member 140 is performed. In the connecting step (S50), it is preferable to use a thermosetting resin as the adhesive member 140, and it is more preferable to use an anisotropic conductive film.

接続工程(S50)では、たとえば、薄板120の導電性の表面上に接着部材140を配置する。また、薄膜130の導電性の表面上に接着部材140を配置する。そして、薄板120の当該表面上に露出したシールド113を並列に配置する。そして、シールド113上に、薄膜130の導電性の表面を配置する。そして、それぞれの位置合わせを行なう。そして、図5に示すように、加圧部材20を用いて、接着部材140により、露出したシールド113と薄板120の表面および薄膜130の表面とを接着部材140で接続する。これにより、薄板上に配置したシールド113の高さに応じて薄膜130が配置される。   In the connecting step (S50), for example, the adhesive member 140 is disposed on the conductive surface of the thin plate 120. In addition, the adhesive member 140 is disposed on the conductive surface of the thin film 130. And the shield 113 exposed on the said surface of the thin plate 120 is arrange | positioned in parallel. Then, the conductive surface of the thin film 130 is disposed on the shield 113. And each position alignment is performed. Then, as shown in FIG. 5, the exposed shield 113 and the surface of the thin plate 120 and the surface of the thin film 130 are connected by the adhesive member 140 by the adhesive member 140 using the pressure member 20. Thereby, the thin film 130 is arrange | positioned according to the height of the shield 113 arrange | positioned on a thin plate.

接続工程(S50)は、一方の表面に薄板120よりも柔軟性の高い緩衝部材10を有する加圧部材20を用い、緩衝部材10と薄膜130とを接触させて加圧を行なうことが好ましい。緩衝部材10は柔軟性が高いので、加圧する際に薄板120上のシールド113の高さに応じて薄膜130を変形させることができる。なお、緩衝部材10は、加圧部材20の表面が平らで変形しにくい場合に、シールド113の曲径に応じて薄膜130を変形させる際の薄膜130の変形を吸収するクッション材としての役割りを果たす。   In the connecting step (S50), it is preferable to use the pressure member 20 having the buffer member 10 having higher flexibility than the thin plate 120 on one surface, and press the buffer member 10 and the thin film 130 in contact with each other. Since the buffer member 10 is highly flexible, the thin film 130 can be deformed according to the height of the shield 113 on the thin plate 120 when being pressurized. The buffer member 10 serves as a cushioning material that absorbs deformation of the thin film 130 when the thin film 130 is deformed according to the curved diameter of the shield 113 when the surface of the pressure member 20 is flat and hardly deformed. Fulfill.

緩衝部材10は、耐熱性が高く、柔軟性も良好である観点から、シリコンゴムシートなどのゴムシートが好適に用いられる。また、緩衝部材10は2層以上であってもよく、2層の場合には、薄膜130と接触する表面層がゴムシートであることが好ましい。   The buffer member 10 is preferably a rubber sheet such as a silicon rubber sheet from the viewpoint of high heat resistance and good flexibility. The buffer member 10 may have two or more layers, and in the case of two layers, the surface layer in contact with the thin film 130 is preferably a rubber sheet.

また、緩衝部材10の厚みは、50μm以上500μm以下であることが好ましく、200μm以上300μm以下であることがより好ましい。この範囲内とすることによって、薄膜130の変形をより吸収しやすい。   Further, the thickness of the buffer member 10 is preferably 50 μm or more and 500 μm or less, and more preferably 200 μm or more and 300 μm or less. By making it within this range, the deformation of the thin film 130 is more easily absorbed.

また、緩衝部材10は、薄膜130の変形を吸収しやすい観点から、シールド113の上に薄膜130を重ね、さらにその上に緩衝部材10を重ねた状態で0.3MPaの圧力が印加されたときの変形量が10μm以上であることが好ましい。   In addition, the buffer member 10 has a structure in which the thin film 130 is stacked on the shield 113 and the buffer member 10 is further stacked on the shield 113 from the viewpoint of easily absorbing the deformation of the thin film 130. The deformation amount is preferably 10 μm or more.

接続工程(S50)では、薄膜130は変形し、薄板120は変形しない条件で加熱および加圧を行なう。このような条件として、たとえば圧力を0.1MPaから5.0MPaの範囲で、温度を150℃から300℃の範囲で、時間を3秒から60秒の範囲で、加熱および加圧を行なうことが好ましい。これにより、柔軟性の高い薄膜130のみをシールド113に追随させて変形させることができる。また、柔軟性の低い薄板120は変形しないので、補強材の役割りを果たすことができる。   In the connecting step (S50), the thin film 130 is deformed, and the thin plate 120 is heated and pressurized under the conditions that do not deform. As such a condition, for example, heating and pressurization may be performed in a pressure range of 0.1 MPa to 5.0 MPa, a temperature range of 150 ° C. to 300 ° C., and a time range of 3 seconds to 60 seconds. preferable. Thereby, only the highly flexible thin film 130 can be deformed by following the shield 113. Moreover, since the thin plate 120 with low flexibility does not deform, it can serve as a reinforcing material.

接着部材140は特に限定されないが、熱硬化性樹脂であることが好ましい。この場合には、熱硬化性樹脂を融点よりも高い温度に加熱し、硬化させることによって、露出したシールド113と薄板120の表面および薄膜130の表面とが接続される。   The adhesive member 140 is not particularly limited, but is preferably a thermosetting resin. In this case, the exposed shield 113 is connected to the surface of the thin plate 120 and the surface of the thin film 130 by heating and curing the thermosetting resin to a temperature higher than the melting point.

また、接着部材140は、異方性導電性膜であることがより好ましい。この場合には、用いる異方性導電性膜に応じた条件で加熱および加圧を行なうことによって、露出したシールド113と薄板120の表面および薄膜130の表面とが接続される。接着部材140を異方性導電性膜とすると、異方性導電性膜の厚み方向について電気的に接続がなされるので、露出したシールド113と薄板120の表面および薄膜130の表面とが電気的に接続される。   The adhesive member 140 is more preferably an anisotropic conductive film. In this case, the exposed shield 113 is connected to the surface of the thin plate 120 and the surface of the thin film 130 by performing heating and pressurization under conditions according to the anisotropic conductive film to be used. When the adhesive member 140 is an anisotropic conductive film, electrical connection is made in the thickness direction of the anisotropic conductive film, so that the exposed shield 113 and the surface of the thin plate 120 and the surface of the thin film 130 are electrically connected. Connected to.

上記の工程(S10〜S50)を実施することによって、図1および図2に示すハーネス100を製造できる。なお、上記の工程(S10〜S50)は任意の順で実施してもよいし、同時に2以上の工程を実施してもよい。   By performing the above steps (S10 to S50), the harness 100 shown in FIGS. 1 and 2 can be manufactured. In addition, said process (S10-S50) may be implemented in arbitrary orders, and may implement two or more processes simultaneously.

以上説明したように、本発明の実施の形態におけるハーネスによれば、芯線111と、芯線111の外周側に配置される絶縁体112と、絶縁体112の外周側に配置されるシールド113と、シールド113の外周側に配置される外被114とを有し、一方端部において芯線111およびシールド113が露出している、複数の同軸線110と、少なくとも一方の表面が導電性の薄板120と、薄板120よりも柔軟性が高く、少なくとも一方の表面が導電性の薄膜130と、シールド113と、薄板120の表面および薄膜130の表面とを接続する接着部材140とを備え、複数の同軸線110のうち、露出したシールド113の少なくとも2つの径は異なっており、薄板120の表面上に露出したシールド113が並列に配置され、シールド113上に薄膜130の表面がシールド113の高さに応じて配置されていることを特徴としている。   As described above, according to the harness in the embodiment of the present invention, the core wire 111, the insulator 112 disposed on the outer peripheral side of the core wire 111, the shield 113 disposed on the outer peripheral side of the insulator 112, A plurality of coaxial wires 110 having an outer sheath 114 disposed on the outer peripheral side of the shield 113, the core wire 111 and the shield 113 being exposed at one end, and a conductive thin plate 120 having at least one surface A thin film 130 having a higher flexibility than the thin plate 120 and having at least one surface conductive, a shield 113, and an adhesive member 140 connecting the surface of the thin plate 120 and the surface of the thin film 130, and a plurality of coaxial wires 110, at least two diameters of the exposed shield 113 are different, and the exposed shields 113 are arranged in parallel on the surface of the thin plate 120, The surface of the thin film 130 on Rudo 113 is characterized in that it is arranged according to the height of the shield 113.

本願発明者は、鋭意研究の結果、図6に示すような従来のハーネス200は、露出したシールド213の径にばらつきがあるため、露出したシールド213とグランドバー220,230との接続が充分でない同軸線210が含まれる場合があるという問題を見出した。具体的には、図7に示すように、グランドバー220,230は変形しにくく厚さが均一な金属板であるので、シールド213の径にばらつきがあると、グランドバー220,230と接触しているシールド213と、グランドバー220,230と接触していないシールド213とが生じる。その結果、シールド213とグランドバー220,230との接続性能が安定しない。なお、図7は、従来のハーネスを示す概略断面図である。   As a result of earnest research, the inventor of the present application has a variation in the diameter of the exposed shield 213 in the conventional harness 200 as shown in FIG. A problem has been found that the coaxial line 210 may be included. Specifically, as shown in FIG. 7, since the ground bars 220 and 230 are metal plates that are difficult to deform and have a uniform thickness, if the diameter of the shield 213 varies, the ground bars 220 and 230 come into contact with the ground bars 220 and 230. The shield 213 which is not in contact with the ground bars 220 and 230 is generated. As a result, the connection performance between the shield 213 and the ground bars 220 and 230 is not stable. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a conventional harness.

そこで、実施の形態のハーネス100によれば、薄板120より柔軟性の高い薄膜130をグランドバーとして用いている。そのため、薄板120上に配置されたシールド113上に、シールド113の径が異なることから生じる高さの変動に応じて、薄膜130を配置することができる。そのため、全ての同軸線110のシールド113と薄板120および薄膜130とは接続されている。よって、細い径のシールド113と薄板120および薄膜130との接続を安定させることができる。また、薄膜130はシールド113の曲径に追随させて配置できるので、シールド113と薄膜130との接触面積を増加できる。したがって、実施の形態におけるハーネス100によれば、上述した問題を解決でき、複数の同軸線110の露出したシールド113についてシールド効果を向上できる。   Therefore, according to the harness 100 of the embodiment, the thin film 130 having higher flexibility than the thin plate 120 is used as the ground bar. Therefore, the thin film 130 can be disposed on the shield 113 disposed on the thin plate 120 in accordance with the variation in height caused by the difference in the diameter of the shield 113. Therefore, the shields 113 of all the coaxial wires 110 are connected to the thin plate 120 and the thin film 130. Therefore, the connection between the thin shield 113 and the thin plate 120 and the thin film 130 can be stabilized. Further, since the thin film 130 can be arranged following the diameter of the shield 113, the contact area between the shield 113 and the thin film 130 can be increased. Therefore, according to the harness 100 in the embodiment, the above-described problems can be solved, and the shielding effect can be improved with respect to the shield 113 where the plurality of coaxial wires 110 are exposed.

上記ハーネス100において好ましくは、薄膜130は、フレキシブルプリント配線板であることを特徴としている。フレキシブルプリント配線板は径の異なるシールド113に追随させやすいので、シールド113を接地するシールド効果をより向上できる。   In the harness 100, the thin film 130 is preferably a flexible printed wiring board. Since the flexible printed wiring board easily follows the shield 113 having a different diameter, the shield effect for grounding the shield 113 can be further improved.

上記ハーネス100において好ましくは、接着部材140は、熱硬化性樹脂であることを特徴としている。これにより、シールド113と、薄板120および薄膜130とをより強固に接続できる。   In the harness 100, the adhesive member 140 is preferably a thermosetting resin. Thereby, the shield 113, the thin plate 120, and the thin film 130 can be connected more firmly.

上記ハーネス100において好ましくは、接着部材140は、熱硬化性樹脂と、前記熱硬化性樹脂中に配合された導電性粒子とからなることを特徴としている。これにより、シールド113と、薄板120および薄膜130とをより強固に接続できる。   In the harness 100, preferably, the adhesive member 140 is composed of a thermosetting resin and conductive particles blended in the thermosetting resin. Thereby, the shield 113, the thin plate 120, and the thin film 130 can be connected more firmly.

本発明の実施の形態におけるハーネス100の製造方法は、芯線111と、芯線111の外周側に配置される絶縁体112と、絶縁体112の外周側に配置されるシールド113と、シールド113の外周側に配置される外被114とを有し、一方端部において芯線111およびシールド113が露出している、同軸線110を準備する第1同軸線準備工程(S10)と、露出したシールド113の少なくとも2つは異なる径である同軸線110を複数準備する第2同軸線準備工程(S20)と、少なくとも一方の表面が導電性の薄板120を準備する薄板準備工程(S30)と、薄板120よりも柔軟性が高く、かつ少なくとも一方の表面が導電性の薄膜130を準備する薄膜準備工程(S40)と、薄板120の表面上に露出したシールド113を並列に配置するとともに、シールド113上に薄膜130の表面をシールド113の高さに応じて配置した状態で、露出したシールド113と薄板120の表面および薄膜130の表面とを接着部材140で電気的に接続する接続工程(S50)とを備えている。   The manufacturing method of the harness 100 according to the embodiment of the present invention includes a core wire 111, an insulator 112 disposed on the outer peripheral side of the core wire 111, a shield 113 disposed on the outer peripheral side of the insulator 112, and an outer periphery of the shield 113. A first coaxial line preparation step (S10) for preparing the coaxial line 110, wherein the core line 111 and the shield 113 are exposed at one end, and the exposed shield 113 From the thin plate 120, a second coaxial wire preparation step (S20) for preparing a plurality of coaxial wires 110 having at least two different diameters, a thin plate preparation step (S30) for preparing a conductive thin plate 120 having at least one surface. A thin film preparation step (S40) for preparing a thin film 130 having a high flexibility and at least one surface of which is conductive, and a seal exposed on the surface of the thin plate 120 113 are arranged in parallel, and the surface of the thin film 130 is arranged on the shield 113 according to the height of the shield 113, and the exposed shield 113, the surface of the thin plate 120, and the surface of the thin film 130 are bonded by the adhesive member 140. A connection step (S50) for electrical connection.

本発明の実施の形態におけるハーネス100の製造方法によれば、接続工程(S50)によって、薄板120および薄板120よりも柔軟性の高い薄膜130と、露出したシールド113とを接続している。そのため、薄板120上に配置されたシールド113について、シールド113の径が異なることから生じる高さの変動に応じて、薄膜130を配置することができる。そのため、全ての同軸線110のシールド113と薄板120および薄膜130とを接続することができる。よって、細い径のシールド113と薄板120および薄膜130との接続を安定させることができる。また、薄膜130はシールド113の曲径に追随させて配置できるので、シールド113と薄膜130との接触面積を増加できる。そのため、実施の形態におけるハーネス100の製造方法によれば、上述した問題を解決でき、複数の同軸線110の露出したシールド113についてシールド効果を向上できるハーネス100を製造できる。   According to the method of manufacturing harness 100 in the embodiment of the present invention, thin plate 120 and thin film 130 having higher flexibility than thin plate 120 and exposed shield 113 are connected by the connecting step (S50). Therefore, for the shield 113 disposed on the thin plate 120, the thin film 130 can be disposed in accordance with the height variation caused by the difference in the diameter of the shield 113. Therefore, the shield 113 of all the coaxial wires 110 can be connected to the thin plate 120 and the thin film 130. Therefore, the connection between the thin shield 113 and the thin plate 120 and the thin film 130 can be stabilized. Further, since the thin film 130 can be arranged following the diameter of the shield 113, the contact area between the shield 113 and the thin film 130 can be increased. Therefore, according to the method of manufacturing the harness 100 in the embodiment, the above-described problems can be solved, and the harness 100 that can improve the shielding effect with respect to the shields 113 where the plurality of coaxial wires 110 are exposed can be manufactured.

なお、近年、工業的に異なる径の同軸線110を集合させて、シールド処理を行なうことが要望されている。そのため、実施の形態におけるハーネス100の製造方法によれば、露出したシールド113の径が大きく異なっている同軸線110を複数備えるハーネス100についても、シールド効果を向上してシールド処理を行なうことができる。   In recent years, it has been desired to perform shield processing by gathering coaxial wires 110 having different industrial diameters. Therefore, according to the method of manufacturing harness 100 in the embodiment, the shield effect can be improved and the shielding process can be performed for harness 100 including a plurality of coaxial wires 110 having different diameters of exposed shield 113. .

上記ハーネス100の製造方法において好ましくは、接続工程(S50)は、一方の表面に薄板120よりも柔軟性の高い緩衝部材10を有する加圧部材20を用い、緩衝部材10と薄膜130とを接触させて加圧を行なうことを特徴としている。これにより、緩衝部材10により、薄板120上に配置されたシールド113の高さに応じて薄膜130を変形させることができる。そのため、細い径のシールド113と薄板120および薄膜130との接続をより安定させることができる。   Preferably, in the method of manufacturing the harness 100, the connecting step (S50) uses the pressure member 20 having the buffer member 10 having higher flexibility than the thin plate 120 on one surface, and contacts the buffer member 10 and the thin film 130. It is characterized by pressurizing. Thereby, the thin film 130 can be deformed according to the height of the shield 113 disposed on the thin plate 120 by the buffer member 10. Therefore, the connection between the thin shield 113 and the thin plate 120 and the thin film 130 can be further stabilized.

以上に開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものと意図される。   The embodiment disclosed above should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments but by the scope of claims, and is intended to include all modifications and variations within the scope and meaning equivalent to the scope of claims.

本発明の実施の形態におけるハーネスを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the harness in embodiment of this invention. 図1における線分II−IIでの断面図である。It is sectional drawing in line segment II-II in FIG. 本発明の実施の形態におけるハーネスの製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the harness in embodiment of this invention. 本発明の実施の形態における同軸線準備工程で準備される同軸線を示し、(A)は斜視図であり、(B)は断面図である。The coaxial line prepared by the coaxial line preparation process in embodiment of this invention is shown, (A) is a perspective view, (B) is sectional drawing. 本発明の実施の形態における接続工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the connection process in embodiment of this invention. 従来のハーネスを示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the conventional harness. 従来のハーネスを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the conventional harness.

符号の説明Explanation of symbols

10 緩衝部材、20 加圧部材、100,200 ハーネス、110,210 同軸線、111,211 芯線、112,212 絶縁体、113,213 シールド、114,214 外被、120 薄板、130 薄膜、131 金属膜、132 絶縁膜、140,240 接着部材、220,230 グランドバー、W 幅、L120,L130 長さ。   10 cushioning member, 20 pressure member, 100, 200 harness, 110, 210 coaxial wire, 111, 211 core wire, 112, 212 insulator, 113, 213 shield, 114, 214 jacket, 120 thin plate, 130 thin film, 131 metal Film, 132 Insulating film, 140, 240 Adhesive member, 220, 230 Ground bar, W width, L120, L130 length.

Claims (1)

芯線と、前記芯線の外周側に配置される絶縁体と、前記絶縁体の外周側に配置されるシールドと、前記シールドの外周側に配置される外被とを有し、一方端部において前記芯線および前記シールドが露出している、同軸線を準備する第1同軸線準備工程と、
前記同軸線を複数準備する第2同軸線準備工程と、
少なくとも一方の表面が導電性の薄板を準備する薄板準備工程と、
前記薄板よりも柔軟性が高く、かつ少なくとも一方の表面が導電性の薄膜を準備する薄膜準備工程と、
前記薄板の前記表面上に露出した前記シールドを並列に配置するとともに、前記シールド上に前記薄膜の前記表面を前記シールドの高さに応じて配置した状態で、露出した前記シールドと前記薄板の前記表面および前記薄膜の前記表面とを接着部材で電気的に接続する接続工程とを備え、
前記第2同軸線準備工程において、複数の前記同軸線のうち、少なくとも2つは露出した前記シールドの径が互いに異なり、
前記接続工程では、
前記薄板と前記薄膜との間に露出した前記シールドを配置する前に、前記薄板の前記表面と前記薄膜の前記表面とに前記接着部材を配置し、
前記薄板と前記薄膜との間に露出した前記シールドを配置した後に、一方の表面に前記薄板よりも柔軟性の高い緩衝部材を有する加圧部材を用い、前記緩衝部材と前記薄膜とを接触させて加圧を行なうことを特徴とする、ハーネスの製造方法。
A core wire, an insulator disposed on the outer peripheral side of the core wire, a shield disposed on the outer peripheral side of the insulator, and a jacket disposed on the outer peripheral side of the shield; A first coaxial line preparation step of preparing a coaxial line, wherein a core line and the shield are exposed;
A second coaxial line preparation step of preparing a plurality of the coaxial lines;
A thin plate preparation process in which at least one surface prepares a conductive thin plate;
A thin film preparation step of preparing a thin film having higher flexibility than the thin plate and at least one surface of which is conductive,
The exposed shield and the thin plate are arranged in parallel with the exposed shield on the surface of the thin plate, and the surface of the thin film is arranged on the shield according to the height of the shield. A connection step of electrically connecting the surface and the surface of the thin film with an adhesive member,
In the second coaxial line preparation step, at least two of the plurality of coaxial lines have different exposed shield diameters,
In the connecting step,
Before placing the exposed shield between the thin plate and the thin film, place the adhesive member on the surface of the thin plate and the surface of the thin film,
After placing the exposed shield between the thin plate and the thin film, a pressure member having a buffer member having higher flexibility than the thin plate is used on one surface, and the buffer member and the thin film are brought into contact with each other. A method for manufacturing a harness, characterized in that pressurizing is performed.
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