JP4811662B2 - Manufacturing method of ceramic honeycomb filter - Google Patents

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Description

本発明は、セル壁で仕切られた多数のセルを有するセラミックハニカム構造体の所定のセルを目封止材で目封止するセラミックハニカムフィルタの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic honeycomb filter in which predetermined cells of a ceramic honeycomb structure having a large number of cells partitioned by cell walls are plugged with a plugging material.

ディーゼルエンジンなどの排気ガス中には黒煙を主体とする微粒子状物質(パティキュレート・マター、以下「PM」という)が多量に含まれており、これが大気中に放出されると、人体や環境に悪影響を与える。このため、ディーゼルエンジンなどの排気ガス系には、PMを捕捉、浄化するためのフィルタが搭載されている。図2は、自動車の排気ガス中のPMを捕集・浄化する、セラミックハニカムフィルタ(以下「ハニカムフィルタ」という)20の一例を示し、(a)は正面図、(b)一部を断面した側面図である。図2で、セラミックハニカム構造体(以下「ハニカム構造体」という)21は、外周壁21aの内側にセル壁24で仕切られた多数のセル25a、25bを有する。そして、ハニカム構造体21の両端面22a、22bの所定のセル25a、25bが目封止材23a、23bで交互に目封止され、ハニカムフィルタ20とされている。図示はしないが、ハニカムフィルタ20は、ハニカム構造体21の外周壁21aの外周が、金属メッシュあるいはセラミックス製のマットなどで形成された把持部材で使用中に動かないように把持され、金属製の収納容器に配置されている。   Exhaust gas from diesel engines, etc. contains a large amount of particulate matter (particulate matter, hereinafter referred to as “PM”) mainly composed of black smoke, and when released into the atmosphere, the human body and environment Adversely affects. For this reason, an exhaust gas system such as a diesel engine is equipped with a filter for capturing and purifying PM. FIG. 2 shows an example of a ceramic honeycomb filter (hereinafter referred to as “honeycomb filter”) 20 that collects and purifies PM in automobile exhaust gas, (a) is a front view, and (b) is a partial cross section. It is a side view. In FIG. 2, a ceramic honeycomb structure (hereinafter referred to as “honeycomb structure”) 21 has a large number of cells 25a and 25b partitioned by cell walls 24 inside an outer peripheral wall 21a. Then, predetermined cells 25 a and 25 b on both end faces 22 a and 22 b of the honeycomb structure 21 are alternately plugged with plugging materials 23 a and 23 b to form the honeycomb filter 20. Although not shown, the honeycomb filter 20 is gripped so that the outer periphery of the outer peripheral wall 21a of the honeycomb structure 21 is not moved during use by a gripping member formed of a metal mesh or a ceramic mat or the like. Arranged in the storage container.

図2に示すようなハニカムフィルタ20において、排気ガスの浄化は以下の通り行われる。排気ガス(点線矢印で示す)は、端面22aに開口するセル25bから流入する。そして、排気ガス中に含まれるPMは、セル壁24を通過する際に捕集され、浄化された排気ガスは、端面22bに開口しているセル25aから流出、大気中に放出される。   In the honeycomb filter 20 as shown in FIG. 2, the exhaust gas is purified as follows. Exhaust gas (indicated by a dotted arrow) flows from the cell 25b that opens to the end face 22a. The PM contained in the exhaust gas is collected when passing through the cell wall 24, and the purified exhaust gas flows out of the cell 25a opened in the end face 22b and is released into the atmosphere.

図2に示すようなハニカムフィルタ20は、以下のような工程で製造されてきている。先ず、セラミック粉末とバインダーほかの原料を秤量、混合、混練を行って坏土とする。次に、坏土を例えばスクリュー式押出機のハニカム形状口金から押し出す。同時に、所定の長さに切断して、ハニカム構造を有する成形体とする。次に、この成形体を乾燥、焼成して、ハニカム構造体21とする。さらに、目封止工程において、ハニカム構造体21の両端面22a、22bの所定のセル25a、25bを各々目封止材23a、23bで目封止する。図3(a)〜(c)は、この目封止工程の模式図である。図3(a)で、ハニカム構造体21の一方の端面22aに、マスキングフィルム31を貼着した後、レーザ加工装置のレーザ発振部(何れも図示せず)から発したレーザ光によってマスキングフィルム31の所定のセル25aに対応した位置を穿孔する。次に、図3(b)で、ハニカム構造体のマスキングフィルム31の貼着面側を目封止材23に浸漬して穿孔された穴32から目封止材23をセル25aに充填する。次に図3(c)で、充填後の目封止材23を硬化、乾燥させ、片方の端面22a側のセルが目封止材23aで交互に目封止されたハニカム構造体21とする。同様にして、他方の端面22b側のセルも目封止材23bで交互に目封止を行い、さらにマスキングフィルム31を除去して、図2に示すハニカムフィルタ20とする。   The honeycomb filter 20 as shown in FIG. 2 has been manufactured by the following process. First, ceramic powder and binder and other raw materials are weighed, mixed and kneaded to form a clay. Next, the clay is extruded from, for example, a honeycomb-shaped die of a screw type extruder. At the same time, it is cut into a predetermined length to obtain a formed body having a honeycomb structure. Next, the formed body is dried and fired to obtain the honeycomb structure 21. Further, in the plugging step, predetermined cells 25a and 25b on both end faces 22a and 22b of the honeycomb structure 21 are plugged with plugging materials 23a and 23b, respectively. 3A to 3C are schematic views of this plugging process. In FIG. 3A, after the masking film 31 is adhered to one end face 22a of the honeycomb structure 21, the masking film 31 is irradiated with laser light emitted from a laser oscillation unit (none of which is shown) of the laser processing apparatus. A position corresponding to the predetermined cell 25a is drilled. Next, in FIG. 3B, the plugging material 23 is filled into the cells 25 a from the holes 32 that are formed by immersing the bonding surface side of the masking film 31 of the honeycomb structure in the plugging material 23. Next, in FIG. 3C, the plugged material 23 after filling is cured and dried, and the honeycomb structure 21 in which the cells on one end face 22a side are alternately plugged with the plugged material 23a is obtained. . Similarly, the cells on the other end face 22b side are plugged alternately with the plugging material 23b, and the masking film 31 is further removed to obtain the honeycomb filter 20 shown in FIG.

マスキングフィルムへのレーザ光による穿孔に関して、特許文献1には、セル位置の認識を画像処理で、またマスキングフィルムへの穿孔をレーザ光で行い、穿孔された穴の形状は円形でその径がセル面積の30〜70%、好ましくは50%程度とすることが提案されている。この特許文献1によれば、多少のセルピッチの変動があっても、セルに対して穿孔された穴径が小さいので、セル壁や隣接するセルにまたがって穿孔する心配がないとしている。   Regarding perforating the masking film with laser light, Patent Document 1 discloses that the cell position is recognized by image processing, and the masking film is perforated by laser light. The shape of the perforated hole is circular and the diameter thereof is the cell. It has been proposed to make the area 30 to 70%, preferably about 50%. According to Patent Document 1, even if there is a slight variation in cell pitch, the diameter of the hole drilled in the cell is small, so there is no fear of drilling across the cell wall or adjacent cells.

本出願人も、特許文献2として、ハニカム構造体の端面を複数の加工エリアに分け、また、マスキングフィルムへの穿孔をレーザ光で行い、穿孔された穴の寸法をセル形状に倣った形状とし、セル面積の40〜90%とすることを提案している。本出願人が提案した特許文献2によれば、目封止を必要とするセルを確実に選定することができ、レーザ光がセル壁に当たることなくマスキングフィルムへ穿孔することができ、また、フィルムを除去した穴が十分な大きさを有することから、目封止材が開口穴全面に浸透させることができるとしている。   The present applicant also disclosed in Patent Document 2 that the end face of the honeycomb structure is divided into a plurality of processing areas, and the masking film is perforated with laser light, and the dimensions of the perforated holes are made to follow the cell shape. It is proposed that the cell area be 40 to 90%. According to Patent Document 2 proposed by the present applicant, a cell that needs plugging can be reliably selected, and the masking film can be perforated without the laser beam hitting the cell wall. Since the hole from which the hole is removed has a sufficient size, the plugging material can penetrate the entire opening hole.

特開2001−300922号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-300922 特開2003−200010号公報JP 2003-200010 A 実開平4−43486号公報Japanese Utility Model Publication No. 4-43486

近年、ディーゼルエンジン用のハニカムフィルタは、外径が300mmと大型で、セルの数も数万個と膨大となっており、各セルの寸法が小さくなってきている。このようなハニカムフィルタにおいて、マスキングフィルムへレーザ光で穿孔を行う場合、穿孔された穴から目封止材が充填され難くなって、目封止材がセル壁と十分に固着せず、ハニカムフィルタとして使用中に目封止材が外れて、PMの捕集率が低下することがある。そのため、目封止材が充填され易くなるように、セル開口面積に対する穿孔された穴の面積割合を大きくする必要がある。しかし、特許文献1及び2に記載されているように、セル開口面積に対する穿孔された穴の面積割合が大きくなるようにした場合、穿孔した穴の位置が穿孔すべき位置からずれてしまい、セル壁に近接し過ぎたり、隣接するセルに跨ってしまうことがあった。図5(a)に示すように、マスキングフィルムに穿孔した穴の位置が穿孔すべきセル25aから隣接する穿孔すべきでないセル25bに跨ってしまうと、図5(b)に示すように目封止材(スラリー)23の充填を行う際に、目封止材23が隣のセル25bへ浸入34してしまい、目封止材を設けるべきセル25aへの目封止材スラリーの充填量が減少し、目封止材の強度が得られなくなったり、或いは目封止材23aを設けてはいけない隣接するセル25bの一部または全体が目封止材で塞がれてしまい、図2に示す所定のセルが両端面で交互に目封止されたハニカムフィルタが得られず、ハニカムフィルタの圧力損失が大きくなるという問題につながることがあった。このような現象は、セル開口面積に対する穿孔された穴の面積割合が45%を越えると発生しやすくなるという問題があった。   In recent years, a honeycomb filter for a diesel engine has a large outer diameter of 300 mm, and the number of cells has become as large as tens of thousands, and the size of each cell has been reduced. In such a honeycomb filter, when perforating a masking film with a laser beam, it becomes difficult to fill the plugging material from the perforated hole, and the plugging material is not sufficiently fixed to the cell wall. As the plugging material is removed during use, the PM collection rate may be reduced. Therefore, it is necessary to increase the area ratio of the perforated hole to the cell opening area so that the plugging material is easily filled. However, as described in Patent Documents 1 and 2, when the area ratio of the perforated hole to the cell opening area is increased, the position of the perforated hole is shifted from the position to be perforated, and the cell Sometimes it was too close to the wall or straddled adjacent cells. As shown in FIG. 5 (a), when the position of the hole punched in the masking film extends from the cell 25a to be punched to the adjacent cell 25b that should not be punched, as shown in FIG. 5 (b). When the sealing material (slurry) 23 is filled, the plugging material 23 enters the adjacent cell 25b 34, and the amount of plugging material slurry filled in the cell 25a where the plugging material is to be provided is small. 2 and the strength of the plugging material cannot be obtained, or a part or the whole of the adjacent cell 25b that should not be provided with the plugging material 23a is blocked with the plugging material. A honeycomb filter in which the predetermined cells shown are alternately plugged at both end faces cannot be obtained, which may lead to a problem that the pressure loss of the honeycomb filter increases. Such a phenomenon is likely to occur when the area ratio of the perforated hole to the cell opening area exceeds 45%.

本発明者は、上記穿孔した穴の位置が穿孔すべきセルからずれる問題に対して鋭意検討を行った結果、レーザ発振部から発せられたレーザ光の進行方向を可変させる、レーザヘッド内のガルバノメータの温度が、レーザ光により変動するために発生していることをつき止めた。特に、レーザ加工装置が停止した状態から運転開始した際には、レーザ光によりレーザヘッド内にあるガルバノメータの温度が上昇していくため、温度ドリフトによるレーザ光のずれがより大きくなるという問題を生じていた。
このレーザ加工装置のガルバノメータの温度ドリフト問題に対して、特許文献3では、マスキングフィルムの孔開けに用いる記載はないものの、ガルバノメータの温度を測定して、温度がある一定の変動幅を超えたときにトリガー信号を発する温度トリガー部と、温度トリガー部より発せられたトリガー信号を受けて加工点の画像認識を行って加工目標とのずれを検出し、ガルバノコントロール部の位置データに補正を与える画像処理部とを有する、ガルバノ温度ドリフト自己補正機能付きレーザ加工装置が提案されており、リアルタイムで温度ドリフトによるレーザ光のずれをなくし、正確な位置にレーザ加工が行えるとしている。しかしながら、このようなガルバノ温度ドリフト自己補正機能付きレーザ加工装置は、加工目標とのずれを検出して、ガルバノコントロール部の位置データに補正を与える画像処理部を要することから、補正のために複雑な機構が必要となっていた。
As a result of earnest study on the problem that the position of the drilled hole deviates from the cell to be drilled, the present inventor has made the galvanometer in the laser head change the traveling direction of the laser light emitted from the laser oscillation unit. It has been found that the temperature of this is generated because it fluctuates due to the laser beam. In particular, when the operation is started from a state in which the laser processing apparatus is stopped, the temperature of the galvanometer in the laser head rises due to the laser light, which causes a problem that the deviation of the laser light due to temperature drift becomes larger. It was.
With respect to the temperature drift problem of the galvanometer of this laser processing apparatus, in Patent Document 3, there is no description used to make a hole in the masking film, but when the temperature of the galvanometer is measured and the temperature exceeds a certain fluctuation range An image that gives a correction to the position data of the galvano control unit by detecting the deviation from the processing target by performing the image recognition of the processing point in response to the trigger signal generated from the temperature trigger unit A laser processing apparatus with a galvano temperature drift self-correction function having a processing unit has been proposed, and laser beam displacement due to temperature drift is eliminated in real time, and laser processing can be performed at an accurate position. However, such a laser processing apparatus with a galvano temperature drift self-correction function requires an image processing unit that detects a deviation from the processing target and corrects the position data of the galvano control unit. Mechanism was necessary.

本発明は、上記穿孔した穴の位置が穿孔すべきセルからずれるという課題を解決するためになされたもので、レーザ加工装置における温度ドリフトによるレーザ光のずれが生じ難く、正確な位置にマスキングフィルムを穿孔することができ、かつ、複雑な機構を必要とすることがない、セラミックハニカムフィルタの製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problem that the position of the perforated hole deviates from the cell to be perforated, and it is difficult for the laser beam to shift due to temperature drift in the laser processing apparatus, and the masking film is accurately positioned. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a ceramic honeycomb filter, which can perforate and does not require a complicated mechanism.

本発明者らは、セラミックハニカム構造体の端面に貼着したマスキングフィルムの所定のセルに対応した位置に、レーザ光でセル面積の45%以上の穿孔をする場合において、温度ドリフトによるレーザ光のずれが生じ難く、マスキングフィルムの所定の位置に正確に穿孔することができ、目封止材を良好に充填することができる方法を鋭意検討した結果、以下の知見を得た。つまり、レーザ光によりレーザヘッド内にあるガルバノメータの温度が上昇していくのに伴い、温度ドリフトによりレーザ光がずれることから、レーザ加工装置(特に、レーザヘッド内のガルバノメータ)の温度を所定の範囲とすることにより、上記課題が解決できるとの知見を得、本発明に想到した。   In the case where 45% or more of the cell area is perforated with a laser beam at a position corresponding to a predetermined cell of the masking film adhered to the end face of the ceramic honeycomb structure, the inventors of the present invention have a laser beam caused by temperature drift. The following findings were obtained as a result of intensive investigations on a method that hardly causes a shift, can accurately perforate a predetermined position of the masking film, and can satisfactorily fill the plugging material. That is, as the temperature of the galvanometer in the laser head rises due to the laser beam, the laser beam is shifted due to the temperature drift, so that the temperature of the laser processing apparatus (particularly, the galvanometer in the laser head) is kept within a predetermined range. As a result, the inventors have obtained knowledge that the above problems can be solved, and have arrived at the present invention.

すなわち本発明は、セル壁で仕切られた多数のセルを有するセラミックハニカム構造体の端面にマスキングフィルムを貼着した後、レーザ加工装置のレーザヘッドから発したレーザ光によって前記マスキングフィルムの所定の前記セルに対応した位置を穿孔し、次いで、前記マスキングフィルムの貼着面を目封止材に浸漬して前記穿孔された穴から目封止材を前記所定のセルに充填して目封止するセラミックハニカムフィルタの製造方法であって、前記レーザ光によって前記マスキングフィルムの所定の位置にセル面積の45%以上を穿孔するにあたり、前記レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36±5℃として、前記セラミックハニカム構造体に貼着した前記マスキングフィルムに前記レーザ光で穿孔することを特徴とする。
本発明において、前記レーザ加工装置の周囲温度を23℃±5℃として前記レーザ光で穿孔することが好ましい。
さらに、本発明において、前記レーザ光を空照射して、前記レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36±5℃として、前記セラミックハニカム構造体に貼着した前記マスキングフィルムに前記レーザ光で穿孔することが好ましい。
さらに、本発明において、前記レーザ光をダミー体に照射して、前記レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36±5℃として、前記セラミックハニカム構造体に貼着した前記マスキングフィルムに前記レーザ光で穿孔することが好ましい。
That is, in the present invention, a masking film is attached to an end face of a ceramic honeycomb structure having a large number of cells partitioned by cell walls, and then a predetermined amount of the masking film is applied by laser light emitted from a laser head of a laser processing apparatus. A position corresponding to the cell is perforated, and then, the bonding surface of the masking film is dipped in a plugging material, and the plugging material is filled into the predetermined cell from the perforated hole and plugged. A method for manufacturing a ceramic honeycomb filter, wherein when the laser beam punctures 45% or more of a cell area at a predetermined position of the masking film, a temperature of a galvanometer in the laser head is set to 36 ± 5 ° C. The masking film adhered to the honeycomb structure is perforated with the laser beam.
In the present invention, it is preferable that the laser beam is perforated with the laser beam at an ambient temperature of 23 ° C. ± 5 ° C.
Further, in the present invention, the laser beam is irradiated in the air, and the temperature of the galvanometer in the laser head is set to 36 ± 5 ° C., and the masking film attached to the ceramic honeycomb structure is punched with the laser beam. Is preferred.
Further, in the present invention, the laser beam is irradiated to the dummy body, the temperature of the galvanometer in the laser head is set to 36 ± 5 ° C., and the masking film attached to the ceramic honeycomb structure is perforated with the laser beam. It is preferable to do.

次に、本発明の作用効果について説明する。
本発明において、セル壁で仕切られた多数のセルを有するセラミックハニカム構造体の端面にマスキングフィルムを貼着した後、レーザ加工装置のレーザヘッドから発したレーザ光によって前記マスキングフィルムの所定の前記セルに対応した位置を穿孔し、次いで、前記マスキングフィルムの貼着面を目封止材に浸漬して前記穿孔された穴から目封止材を前記所定のセルに充填して目封止するセラミックハニカムフィルタの製造方法であって、前記レーザ光によって前記マスキングフィルムの所定の位置にセル面積の45%以上を穿孔するにあたり、前記レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36±5℃として、前記セラミックハニカム構造体に貼着した前記マスキングフィルムに前記レーザ光で穿孔することで、次のような作用効果を有する。即ち、レーザ発振部から発したレーザ光によりレーザヘッド内のガルバノメータの温度が変動すると、温度ドリフトによってレーザ光のずれが大きくなり、図5(a)に示すように、正確な位置にマスキングフィルムを穿孔することができない。しかし、セル面積の45%以上を穿孔する場合において、レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36℃±5℃とすることで、目封止材を良好に充填することができるとともに、ガルバノメータの温度が安定し、レーザ光のずれが生じ難くなるため、図4(a)に示すように、セル壁24からの間隔(d)が所定の範囲となるように、正確な位置にマスキングフィルムを穿孔することができる。そして、穿孔された穴の位置がセル壁に近接し過ぎたり、図5(a)に示すように、隣接するセルに跨ってしまうことで、図5(b)に示すように、目封止材23が隣のセル25bへ浸入(34)してしまい、目封止材を設けないはずの隣のセル25bが、一部または全体が塞がれたハニカムフィルタとなる不良の発生を抑制することができる。ここで、レーザヘッド内のガルバノメータの温度が31℃未満や41℃を超えると、レーザ光の温度ドリフトが生じ易くなり、安定して、正確な位置にマスキングフィルムを穿孔することができない。
尚、レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36℃±5℃と安定して維持させるために、レーザヘッドのガルバノメータ近傍にヒータを設置してもよい。
Next, the function and effect of the present invention will be described.
In the present invention, after a masking film is attached to an end face of a ceramic honeycomb structure having a large number of cells partitioned by cell walls, predetermined cells of the masking film are formed by laser light emitted from a laser head of a laser processing apparatus. And then plugging the surface of the masking film in a plugging material, filling the predetermined cells with the plugging material through the holes, and plugging the plugging material. A method for manufacturing a honeycomb filter, wherein when the laser beam punctures 45% or more of a cell area at a predetermined position of the masking film, the temperature of a galvanometer in the laser head is set to 36 ± 5 ° C. By punching the masking film attached to the structure with the laser beam, the following effects are obtained. A. That is, when the temperature of the galvanometer in the laser head fluctuates due to the laser light emitted from the laser oscillation unit, the deviation of the laser light increases due to the temperature drift, and the masking film is placed at an accurate position as shown in FIG. Cannot drill. However, when perforating 45% or more of the cell area, the temperature of the galvanometer in the laser head is set to 36 ° C. ± 5 ° C., so that the plugging material can be satisfactorily filled, and the temperature of the galvanometer is Since the laser beam is stable and hardly displaced, the masking film is punched at an accurate position so that the distance (d) from the cell wall 24 is within a predetermined range as shown in FIG. be able to. And, as shown in FIG. 5 (b), the position of the drilled hole is too close to the cell wall or straddles adjacent cells as shown in FIG. 5 (a). The material 23 permeates into the adjacent cell 25b (34), and the adjacent cell 25b that should not be provided with the plugging material suppresses occurrence of a defect that becomes a honeycomb filter partially or entirely blocked. be able to. Here, if the temperature of the galvanometer in the laser head is less than 31 ° C. or exceeds 41 ° C., the temperature drift of the laser beam is likely to occur, and the masking film cannot be stably punched at an accurate position.
In order to stably maintain the temperature of the galvanometer in the laser head as 36 ° C. ± 5 ° C., a heater may be installed in the vicinity of the galvanometer of the laser head.

本発明において、前記レーザ加工装置の周囲温度を23℃±5℃として前記レーザ光で穿孔することが好ましいのは、次の理由による。レーザ加工装置の周囲温度を23℃±5℃とすることで、レーザヘッド内のガルバノメータの温度とレーザ加工装置の周囲温度との温度差が小さくなるので、レーザヘッド内のガルバノメータの温度がさらに安定し易くなり、ハニカム構造体に貼着したマスキングフィルムに位置精度良く穿孔することができるからである。レーザ加工装置の周囲温度を23℃±5℃とするには、例えばレーザ加工装置を23℃に空調設定した恒温室に設置することで可能である。レーザ加工装置の周囲温度が20℃未満の場合、レーザヘッド内のガルバノメータの温度とレーザ加工装置の周囲温度との温度差が大きくなり、レーザヘッド内のガルバノメータの温度が安定し難く、正確な位置にマスキングフィルムを穿孔することができない。一方、レーザ加工装置の周囲温度が26℃を超えると、マスキングフィルムがハニカム構造体の端面から剥がれ易くなり、ハニカム構造体のハンドリングに注意を要するため好ましくない。
尚、本発明において、図4(a)に示すように、マスキングフィルムをセル壁24からの間隔(d)が0.01〜0.2mmの位置に穿孔することで、目封止材を充填した際、目封止材がセル開口穴全面に浸透することができるので好ましい。
In the present invention, it is preferable that the laser beam is perforated with the laser beam at an ambient temperature of 23 ° C. ± 5 ° C. for the following reason. By setting the ambient temperature of the laser processing device to 23 ° C. ± 5 ° C., the temperature difference between the temperature of the galvanometer in the laser head and the ambient temperature of the laser processing device is reduced, so that the temperature of the galvanometer in the laser head is further stabilized. This is because it is easy to perform, and it is possible to perforate with high positional accuracy in the masking film adhered to the honeycomb structure. In order to set the ambient temperature of the laser processing apparatus to 23 ° C. ± 5 ° C., for example, the laser processing apparatus can be installed in a temperature-controlled room set to 23 ° C. When the ambient temperature of the laser processing device is less than 20 ° C, the temperature difference between the temperature of the galvanometer in the laser head and the ambient temperature of the laser processing device becomes large, and the temperature of the galvanometer in the laser head is difficult to stabilize, so that the accurate position The masking film cannot be perforated. On the other hand, when the ambient temperature of the laser processing apparatus exceeds 26 ° C., the masking film is easily peeled off from the end face of the honeycomb structure, and it is not preferable because the handling of the honeycomb structure requires attention.
In the present invention, as shown in FIG. 4 (a), the plugging material is filled by perforating the masking film at a position where the distance (d) from the cell wall 24 is 0.01 to 0.2 mm. In this case, the plugging material can penetrate the entire cell opening hole, which is preferable.

本発明において、レーザ光を空照射して、前記レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36±5℃として、前記セラミックハニカム構造体に貼着した前記マスキングフィルムに前記レーザ光で穿孔することが好ましいのは、次の理由による。レーザ加工装置が停止した状態から運転した場合、レーザ発振部から発したレーザ光によりレーザヘッド内のガルバノメータの温度上昇が大きく、ガルバノメータの温度が上昇している状態では、温度ドリフトによるレーザ光のずれが大きくなる。さらに、レーザ光の出力が安定していないため、レーザ光のずれが大きくなる。そのため、レーザヘッド内のガルバノメータの温度が36±5℃となるまで、レーザ光を空照射してレーザヘッド内のガルバノメータの温度を上昇させるとともに、レーザ光の出力を安定させることで、図4(a)に示すように、セル壁24からの間隔(d)が所定の範囲となるように、正確な位置にマスキングフィルムを穿孔することができるのである。
本発明において、レーザ光を空照射する際、ダミー体にレーザ光を照射しても良い。ダミー体とは、レーザ光を照射させることができるものであれば何を用いても良いが、マスキングフィルムを貼着した、良品若しくは不良品のセラミックハニカム構造体を用いることが好ましい。マスキングフィルムを貼着した、良品若しくは不良品のセラミックハニカム構造体をダミー体として用いると、レーザヘッドレーザヘッド内のガルバノメータの温度が36℃±5℃となった後に、実際に使用するセラミックハニカム構造体をセットしても、レーザ光の設定(例えば、出力や移動方法等)を特に変更することなく、そのまま速やかに生産に移れるので好ましい。
In the present invention, it is preferable that the laser beam is irradiated and the temperature of the galvanometer in the laser head is set to 36 ± 5 ° C., and the masking film attached to the ceramic honeycomb structure is punched with the laser light. The reason is as follows. When operating from a state where the laser processing device is stopped, the galvanometer temperature in the laser head is greatly increased by the laser light emitted from the laser oscillator, and in the state where the galvanometer temperature is rising, the laser beam shifts due to temperature drift. Becomes larger. Further, since the output of the laser beam is not stable, the deviation of the laser beam becomes large. Therefore, until the temperature of the galvanometer in the laser head reaches 36 ± 5 ° C., the temperature of the galvanometer in the laser head is increased by irradiating the laser beam, and the output of the laser beam is stabilized, whereby FIG. As shown in a), the masking film can be punched at an accurate position so that the distance (d) from the cell wall 24 falls within a predetermined range.
In the present invention, the dummy body may be irradiated with the laser beam when the laser beam is irradiated in the sky. Any dummy body may be used as long as it can be irradiated with laser light. However, it is preferable to use a non-defective or defective ceramic honeycomb structure to which a masking film is attached. When a good or defective ceramic honeycomb structure with a masking film attached is used as a dummy body, the ceramic honeycomb structure actually used after the temperature of the galvanometer in the laser head laser head becomes 36 ° C. ± 5 ° C. Even if the body is set, it is preferable because the setting of the laser beam (for example, output, moving method, etc.) is not particularly changed, and the production can be promptly moved to production.

本発明のハニカムフィルタの製造方法によれば、温度ドリフトによるレーザ光のずれが生じ難く、正確な位置にマスキングフィルムを穿孔することができ、かつ、複雑な機構を必要とすることのない、セラミックハニカムフィルタの製造方法を提供することができる。   According to the method for manufacturing a honeycomb filter of the present invention, the laser beam is not easily displaced due to temperature drift, the masking film can be perforated at an accurate position, and a complicated mechanism is not required. A method for manufacturing a honeycomb filter can be provided.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき詳細に説明する。
(実施の形態
図1は、本発明に係るレーザ加工装置11の模式図である。図1で、両端面にマスキングフィルム31が貼着されたハニカム構造体21がXYステージ12上にセットされ、XYステージ12の上方には、ハニカム構造体21の端面を撮像するCCDカメラ13と、レーザヘッド15を配設し、レーザヘッド15には、レーザ発振部から発したレーザ光を制御するガルバノメータを収納する。また、レーザ光を空照射した後、レーザヘッド内のガルバノメータ18の温度を36℃±5℃に安定して維持させるためにレーザヘッド15の周囲にヒータ17を設置している。さらに、レーザ加工装置11は、23℃に空調設定した恒温室16に設置し、レーザ加工装置の周囲温度を23℃±5℃とする。XYステージ12は、ハニカム構造体21をセットし取出す位置と、CCDカメラ13で撮像する位置と、レーザ光を照射する位置との間を移動できるストロークとする。制御装置14は、XYステージ12の位置制御をするとともに、撮像時のCCDカメラ13からの画像情報およびXYステージ12の移動情報を取込んで、目封止すべき所定のセルの位置と穿孔形状を決め、レーザ光の照射制御およびXYステージ12の位置制御を行う。CCDカメラ13は、セルの形状を規定するに十分の画像分解能とする。また、レーザ光は、レーザヘッド15内のガルバノメータを用いて機械的に或いは電気的に偏向させて進行方向に振る。なお、CCDカメラ13は、マスキングフィルム31を通してセルを撮像するので、マスキングフィルム31を光透過性とし、レーザ光や目封止材(スラリー)に合わせた材質、厚さのものを使用する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(Embodiment 1 )
FIG. 1 is a schematic diagram of a laser processing apparatus 11 according to the present invention. In FIG. 1, a honeycomb structure 21 having masking films 31 attached to both end faces is set on an XY stage 12. Above the XY stage 12, a CCD camera 13 that images the end face of the honeycomb structure 21; A laser head 15 is provided, and a galvanometer for controlling the laser light emitted from the laser oscillation unit is accommodated in the laser head 15. In addition, a heater 17 is provided around the laser head 15 in order to stably maintain the temperature of the galvanometer 18 in the laser head at 36 ° C. ± 5 ° C. after the laser beam is radiated. Furthermore, the laser processing apparatus 11 is installed in the temperature-controlled room 16 set to air conditioning at 23 ° C., and the ambient temperature of the laser processing apparatus is set to 23 ° C. ± 5 ° C. The XY stage 12 has a stroke that can move between a position where the honeycomb structure 21 is set and taken out, a position where the image is captured by the CCD camera 13, and a position where the laser beam is irradiated. The control device 14 controls the position of the XY stage 12 and takes in the image information from the CCD camera 13 and the movement information of the XY stage 12 at the time of imaging, and the position of the predetermined cell to be plugged and the perforation shape. The laser beam irradiation control and the XY stage 12 position control are performed. The CCD camera 13 has an image resolution sufficient to define the cell shape. Further, the laser light is deflected mechanically or electrically using a galvanometer in the laser head 15 and shaken in the traveling direction. Since the CCD camera 13 images the cell through the masking film 31, the masking film 31 is made to be light transmissive and uses a material and thickness that match the laser light and the plugging material (slurry).

まず、ハニカム構造体21を準備する。ハニカム構造体21は、図2に示すように、外径が300mm、全長が300mmで、セル25a、25bは略正方形状で開口寸法(A)が0.7〜1.3mm、セル25a、25bが約15000個有するものを用いる。
次に、ハニカム構造体21をXYステージ12上にセットし、レーザ加工装置が停止した状態から運転を開始して、ハニカム構造体に当たらないようにXYステージの位置をずらしてレーザ光を空照射する。そして、レーザ加工装置11のレーザヘッド15内のガルバノメータ18の温度が36℃±5℃となった時、一旦、レーザ光の照射を終了し、マスキングフィルム31へレーザ光が当たるようにXYステージの位置をセットし直して、マスキングフィルムへレーザ光で穿孔を行う。マスキングフィルム31へのレーザ光での穿孔は、セル開口面積に対して、穿孔された穴の面積が45%以上となるよう、図4(a)に示すように、セル壁24からの間隔(d)が0.01〜0.2mmの位置に行う。ハニカム構造体21の一方の端面に貼着したマスキングフィルム31への穿孔が終了すると、ハニカム構造体21の上下を反対にし、他方の端面に貼着したマスキングフィルム31へも同様に穿孔する。
次に、図3(b)に示すように、マスキングフィルム31の貼着面を目封止材(スラリー)23に浸漬し、穿孔32から目封止材(スラリー)23をセル25aに充填する。そして、図3(c)に示すように、充填後の目封止材(スラリー)23を硬化、乾燥させ、一方の端面22a側が目封止材23aで交互に目封止されたハニカム構造体21とする。同様にして、他方の端面22b側も目封止材(スラリー)23で交互に目封止を行い、さらにマスキングフィルム31を除去して、図2に示すハニカムフィルタ20とする。
First, the honeycomb structure 21 is prepared. As shown in FIG. 2, the honeycomb structure 21 has an outer diameter of 300 mm and an overall length of 300 mm, the cells 25a and 25b are substantially square, and have an opening dimension (A) of 0.7 to 1.3 mm, and the cells 25a and 25b. Using about 15000 pieces.
Next, the honeycomb structure 21 is set on the XY stage 12, the operation is started from the state where the laser processing apparatus is stopped, and the position of the XY stage is shifted so as not to hit the honeycomb structure, and the laser beam is irradiated with the laser beam. To do. Then, when the temperature of the galvanometer 18 in the laser head 15 of the laser processing apparatus 11 reaches 36 ° C. ± 5 ° C., the irradiation of the laser beam is once terminated, and the XY stage is irradiated so that the laser beam strikes the masking film 31. The position is reset and the masking film is perforated with laser light. As shown in FIG. 4A, the masking film 31 is perforated with laser light so that the area of the perforated hole is 45% or more with respect to the cell opening area. d) is performed at a position of 0.01 to 0.2 mm. When the perforation to the masking film 31 attached to one end face of the honeycomb structure 21 is completed, the top and bottom of the honeycomb structure 21 are reversed and the perforation is similarly performed to the masking film 31 attached to the other end face.
Next, as shown in FIG. 3B, the sticking surface of the masking film 31 is immersed in the plugging material (slurry) 23, and the plugging material (slurry) 23 is filled into the cells 25a from the perforations 32. . Then, as shown in FIG. 3 (c), the plugged material (slurry) 23 after filling is cured and dried, and one end face 22a side is alternately plugged with the plugging material 23a. 21. Similarly, the other end face 22b side is plugged alternately with a plugging material (slurry) 23, and the masking film 31 is further removed to obtain the honeycomb filter 20 shown in FIG.

(実施の形態
実施の形態2で示したレーザ加工装置において、ハニカム構造体21とダミー体40を準備する。ハニカム構造体21は、図2に示すように、外径が300mm、全長が300mmで、セル25a、25bは略正方形状で開口寸法(A)が0.7〜1.3mm、セル25a、25bが約15000個有するものを用いる。また、ダミー体40として、前記したハニカム構造体21の不良品にマスキングフィルム31を貼着したものを用いる。
次に、ダミー体40をXYステージ12上にセットし、ダミー体40に貼着されたマスキングフィルム31にレーザ光を照射して、マスキングフィルムを穿孔していく。そして、レーザ加工装置11のレーザヘッド15内のガルバノメータ18の温度が36℃±5℃となった時、ダミー体へのレーザ光の照射を終了し、ダミー体40をXYステージ12上から取り出す。そして、マスキングフィルム31を貼着したハニカム構造体21をXYステージ12上にセットし、マスキングフィルム31にレーザ光で穿孔を行う。マスキングフィルム31へのレーザ光での穿孔は、セル開口面積に対して、穿孔された穴の面積が45%以上となるよう、図4(a)に示すように、セル壁24からの間隔(d)が0.01〜0.2mmの位置に行う。ハニカム構造体21の一方の端面に貼着したマスキングフィルム31への穿孔が終了すると、ハニカム構造体21の上下を反対にし、他方の端面に貼着したマスキングフィルム31へも同様に穿孔する。
次に、図3(b)に示すように、マスキングフィルム31の貼着面を目封止材(スラリー)23に浸漬し、穿孔32から目封止材(スラリー)23をセル25aに充填する。そして、図3(c)に示すように、充填後の目封止材(スラリー)23を硬化、乾燥させ、一方の端面22a側が目封止材23aで交互に目封止されたハニカム構造体21とする。同様にして、他方の端面22b側も目封止材(スラリー)23で交互に目封止を行い、さらにマスキングフィルム31を除去して、図2に示すハニカムフィルタ20とする。
(Embodiment 2 )
In the laser processing apparatus shown in the second embodiment, the honeycomb structure 21 and the dummy body 40 are prepared. As shown in FIG. 2, the honeycomb structure 21 has an outer diameter of 300 mm and an overall length of 300 mm, the cells 25a and 25b are substantially square, and have an opening dimension (A) of 0.7 to 1.3 mm, and the cells 25a and 25b. Using about 15000 pieces. Further, as the dummy body 40, a defective product of the above-described honeycomb structure 21 with a masking film 31 attached is used.
Next, the dummy body 40 is set on the XY stage 12, and the masking film 31 attached to the dummy body 40 is irradiated with laser light to perforate the masking film. When the temperature of the galvanometer 18 in the laser head 15 of the laser processing apparatus 11 reaches 36 ° C. ± 5 ° C., the irradiation of the laser beam to the dummy body is finished, and the dummy body 40 is taken out from the XY stage 12. Then, the honeycomb structure 21 to which the masking film 31 is adhered is set on the XY stage 12, and the masking film 31 is punched with a laser beam. As shown in FIG. 4A, the masking film 31 is perforated with laser light so that the area of the perforated hole is 45% or more with respect to the cell opening area. d) is performed at a position of 0.01 to 0.2 mm. When the perforation to the masking film 31 attached to one end face of the honeycomb structure 21 is completed, the top and bottom of the honeycomb structure 21 are reversed and the perforation is similarly performed to the masking film 31 attached to the other end face.
Next, as shown in FIG. 3B, the sticking surface of the masking film 31 is immersed in the plugging material (slurry) 23, and the plugging material (slurry) 23 is filled into the cells 25a from the perforations 32. . Then, as shown in FIG. 3 (c), the plugged material (slurry) 23 after filling is cured and dried, and one end face 22a side is alternately plugged with the plugging material 23a. 21. Similarly, the other end face 22b side is plugged alternately with a plugging material (slurry) 23, and the masking film 31 is further removed to obtain the honeycomb filter 20 shown in FIG.

ハニカム構造体21の端面にマスキングフィルム31を貼着した後、レーザ加工装置11のレーザ光でマスキングフィルムの所定のセルに対応した位置を穿孔するにあたり、レーザ加工装置が停止した状態から運転する場合において、次のような条件で実施した。つまり、セル開口面積に対する穿孔された穴の面積割合、空照射実施の有無、及び、ハニカム構造体21に貼着したマスキングフィルム31への穿孔を開始する時のレーザヘッド内のガルバノメータ18の温度、レーザ加工装置の周囲温度を表1に示す条件で実施した。そして、ハニカム構造体21の端面に貼着したマスキングフィルム31への穿孔を終了した後、マスキングフィルム31の貼着面を目封止材(スラリー)23に浸漬し、目封止材(スラリー)をセルに充填した後、乾燥させて目封止材23aを形成する。そして、評価として、目封止材を設けないはずのセルのうち、目封止材が隣のセルへ浸入してしまい、目封止材で塞がれたセルの数を計数し、目封止材を設けないはずの全セル数に対する割合が、0.5%以下であったものを(◎)、0.5%を超え1%以下であったものを(○)、1%を超え5%以下であったものを(△)、5%を超えたものを(×)として表1にあわせて示した。また、目封止材の充填性として、目封止材とセル壁との強度を測定して評価した。目封止材とセル壁との接合強度は、先端が直径1mmの丸棒形状の圧子を目封止材に押し込み、圧子が押し抜けたときの強度を測定した。そして、目封止材とセル壁との接合強度が十分確保されているものを(◎)、目封止材とセル壁との接合強度が確保され実使用上問題のないものを(○)、目封止材とセル壁との接合強度が確保されず使用できないものを(×)として評価した。   When the masking film 31 is adhered to the end face of the honeycomb structure 21 and then the laser processing apparatus 11 is operated from a state where the laser processing apparatus is stopped when the laser processing apparatus 11 drills a position corresponding to a predetermined cell of the masking film. The test was carried out under the following conditions. That is, the area ratio of the hole perforated with respect to the cell opening area, the presence or absence of empty irradiation, and the temperature of the galvanometer 18 in the laser head when starting to perforate the masking film 31 attached to the honeycomb structure 21; The ambient temperature of the laser processing apparatus was performed under the conditions shown in Table 1. And after piercing | boring to the masking film 31 stuck to the end surface of the honeycomb structure 21 is complete | finished, the sticking surface of the masking film 31 is immersed in the plugging material (slurry) 23, and plugging material (slurry) After filling the cells, the plugging material 23a is formed by drying. Then, as an evaluation, among the cells that should not be provided with the plugging material, the number of cells in which the plugging material has infiltrated into the adjacent cells and was blocked by the plugging material is counted, The ratio of the total number of cells that should not be provided with a stopper is 0.5% or less (◎), the ratio exceeding 0.5% and 1% or less (○), exceeding 1% Table 1 also shows (Δ) that was 5% or less and (x) that exceeded 5%. Further, the filling property of the plugging material was evaluated by measuring the strength of the plugging material and the cell wall. The bonding strength between the plugging material and the cell wall was measured by pressing a round bar-shaped indenter having a diameter of 1 mm into the plugging material and the indenter was pushed through. And, the one with sufficient bonding strength between the plugging material and the cell wall (◎), the one with sufficient bonding strength between the plugging material and the cell wall and having no problem in practical use (○) The case where the bonding strength between the plugging material and the cell wall was not ensured and could not be used was evaluated as (x).

Figure 0004811662
Figure 0004811662

表1に示すように、本発明のセラミックハニカムフィルタの製造方法で製造した、実施例1〜17のセラミックハニカムフィルタは、正確な位置にマスキングフィルムを穿孔することができ、目封止材を設けないはずのセルに目封止材が浸入するセルの数が少ないことがわかる。一方、比較例1では、セル開口面積に対する穿孔される穴の面積を45%未満でレーザ光で穿孔を実施したため、目封止材が充填され難くなり、目封止材がセル壁と十分に固着せず、ハニカムフィルタとして使用中に目封止材が外れて、PMの捕集率が低下することがある。比較例2、3は、レーザヘッド内のガルバノメータの温度が31℃未満であったため、目封止材を設けないはずのセルに目封止材が浸入するセルの数が多いことがわかる。
As shown in Table 1, the ceramic honeycomb filters of Examples 1 to 17 manufactured by the method for manufacturing a ceramic honeycomb filter of the present invention can perforate a masking film at an accurate position, and are provided with a plugging material. It can be seen that the number of cells into which the plugging material penetrates into the cells that should not be present is small. On the other hand, in Comparative Example 1, the area of the hole to be perforated with respect to the cell opening area was less than 45%, and the hole was drilled with the laser beam. The plugging material may come off during use as a honeycomb filter without being fixed, and the PM collection rate may decrease. In Comparative Examples 2 and 3, since the temperature of the galvanometer in the laser head was less than 31 ° C., it can be seen that the number of cells in which the plugging material penetrates into cells that should not be provided with the plugging material is large.

実施の形態で用いるレーザ加工装置11の模式図である。It is a schematic diagram of the laser processing apparatus 11 used by embodiment. 自動車の排気ガス中のPMを捕集・浄化する、セラミック基材からなるハニカムフィルタ(以下「ハニカムフィルタ」という)20の一例を示し、(a)は正面図、(b)一部を断面した側面図である。An example of a honeycomb filter made of a ceramic base material (hereinafter referred to as “honeycomb filter”) 20 that collects and purifies PM in automobile exhaust gas is shown, (a) is a front view, and (b) is a partial cross section. It is a side view. (a)〜(c)は、目封止工程の模式図である。(A)-(c) is a schematic diagram of a plugging process. (a)は、実施例のハニカム構造体21とマスキングフィルム31にレーザLRZで穿孔32した後の一部の平面図、(b)は、実施例のハニカム構造体21に目封止材(スラリー)33を充填している状態の断面模式図である。(A) is a plan view of a part of the honeycomb structure 21 and masking film 31 of the example after being perforated 32 with a laser LRZ, and (b) is a plugging material (slurry) in the honeycomb structure 21 of the example. ) 33 is a schematic cross-sectional view of a state in which 33 is filled. (a)は、比較例のハニカム構造体21とマスキングフィルム31にレーザLRZで穿孔32した後の一部の平面図で、(b)は、比較例のハニカム構造体21に目封止材(スラリー)33を充填している状態の断面模式図である。(A) is a plan view of a part of the honeycomb structure 21 and the masking film 31 of the comparative example after being perforated 32 by the laser LRZ, and (b) is a plugging material ( FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a state in which (slurry) 33 is filled.

符号の説明Explanation of symbols

11:レーザ加工装置
12:XYステージ
13:CCDカメラ
14:制御装置
15:レーザヘッド
16:恒温室
17:ヒータ
18:ガルバノメータ
20:セラミックハニカムフィルタ(ハニカムフィルタ)
21:セラミックハニカム構造体(ハニカム構造体)
21a:外周壁
22a、22b:端面
23:目封止材(スラリー)
23a、23b:目封止材
24:セル壁
25a、25b:セル
31:マスキングフィルム
32:穿孔
34:隣接のセルへ侵入した目封止材(スラリー)
40:ダミー体
A:対辺寸法
b:隙間
11: Laser processing device 12: XY stage 13: CCD camera 14: Control device 15: Laser head 16: Constant temperature chamber 17: Heater 18: Galvanometer 20: Ceramic honeycomb filter (honeycomb filter)
21: Ceramic honeycomb structure (honeycomb structure)
21a: outer peripheral wall 22a, 22b: end face 23: plugging material (slurry)
23a, 23b: plugging material 24: cell wall 25a, 25b: cell 31: masking film 32: perforation 34: plugging material (slurry) that has entered into adjacent cells
40: Dummy body A: Width across flats b: Clearance

Claims (3)

セル壁で仕切られた多数のセルを有するセラミックハニカム構造体の端面にマスキングフィルムを貼着した後、レーザ加工装置のレーザヘッドから発したレーザ光によって前記マスキングフィルムの所定の前記セルに対応した位置を穿孔し、次いで、前記マスキングフィルムの貼着面を目封止材に浸漬して前記穿孔された穴から目封止材を前記所定のセルに充填して目封止するセラミックハニカムフィルタの製造方法であって、前記レーザ光によって前記マスキングフィルムの所定の位置に、セル面積の45%以上を穿孔するにあたり、前記レーザ光を空照射して、前記レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36±5℃として、前記セラミックハニカム構造体に貼着した前記マスキングフィルムに前記レーザ光で穿孔することを特徴とするセラミックハニカムフィルタの製造方法。 A position corresponding to a predetermined cell of the masking film by laser light emitted from a laser head of a laser processing apparatus after a masking film is attached to an end face of a ceramic honeycomb structure having a large number of cells partitioned by cell walls Manufacturing of a ceramic honeycomb filter in which the bonding surface of the masking film is immersed in a plugging material, the plugging material is filled into the predetermined cells from the holes, and plugged. In the method, when 45% or more of the cell area is perforated at a predetermined position of the masking film by the laser beam, the laser beam is irradiated with the laser beam, and the temperature of the galvanometer in the laser head is set to 36 ± 5. The masking film adhered to the ceramic honeycomb structure is perforated with the laser beam at a temperature of ° C. Method for producing a ceramic honeycomb filter. 前記レーザ加工装置の周囲温度を23℃±5℃として前記レーザ光で穿孔することを特徴とする請求項1に記載のセラミックハニカムフィルタの製造方法。 2. The method for manufacturing a ceramic honeycomb filter according to claim 1, wherein the laser beam is perforated with the laser beam at an ambient temperature of 23 ° C. ± 5 ° C. 3. 前記レーザ光をダミー体に照射して、前記レーザヘッド内のガルバノメータの温度を36±5℃として、前記セラミックハニカム構造体に貼着した前記マスキングフィルムに前記レーザ光で穿孔することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のセラミックハニカムフィルタの製造方法。
The dummy body is irradiated with the laser beam, the temperature of the galvanometer in the laser head is set to 36 ± 5 ° C., and the masking film bonded to the ceramic honeycomb structure is punched with the laser beam. The manufacturing method of the ceramic honeycomb filter of Claim 1 or Claim 2 .
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