JP4795153B2 - Method for treating borazine compounds - Google Patents

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Description

本発明は、ボラジン化合物の処理方法に関する。詳細には、本発明は、有機溶媒を用いたボラジン化合物の処理方法に関する。   The present invention relates to a method for treating a borazine compound. Specifically, the present invention relates to a method for treating a borazine compound using an organic solvent.

情報機器の高性能化に伴い、LSIのデザインルールは、年々微細になっている。微細なデザインルールのLSI製造においては、LSIを構成する材料も高性能で、微細なLSI上でも機能を果たすものでなければならない。   As the performance of information equipment increases, LSI design rules become finer year by year. In the manufacture of LSIs with fine design rules, the materials that make up LSIs must also have high performance and function on fine LSIs.

例えば、LSI中の層間絶縁膜に用いられる材料に関していえば、高い誘電率は信号遅延の原因となる。微細なLSIにおいては、この信号遅延の影響が特に大きい。このため、層間絶縁膜として用いられ得る、新たな低誘電率材料の開発が所望されていた。また、層間絶縁膜として使用されるためには、誘電率が低いだけでなく、耐湿性、耐熱性、機械的強度などの特性にも優れている必要がある。   For example, regarding materials used for interlayer insulating films in LSIs, a high dielectric constant causes signal delay. In a fine LSI, the influence of this signal delay is particularly great. For this reason, development of a new low dielectric constant material that can be used as an interlayer insulating film has been desired. Further, in order to be used as an interlayer insulating film, it is necessary not only to have a low dielectric constant but also to be excellent in characteristics such as moisture resistance, heat resistance and mechanical strength.

かような要望に応えるものとして、分子内にボラジン環骨格を有するボラジン化合物が提案されている(例えば、特許文献1を参照)。ボラジン化合物は分子分極率が小さいため、形成される被膜は低誘電率である。その上、形成される被膜は、耐熱性にも優れる。   As a response to such a demand, a borazine compound having a borazine ring skeleton in the molecule has been proposed (see, for example, Patent Document 1). Since the borazine compound has a low molecular polarizability, the formed film has a low dielectric constant. In addition, the formed film is excellent in heat resistance.

従来、ボラジン化合物はフラスコ等を反応容器として用い、実験室レベルで少量合成されるのみであった。一方、ボラジン化合物の有用性に鑑み、今後の大量生産を念頭に置くと、スケールアップされたより大きな反応容器中で大量に合成する必要が生じることは明らかである。   Conventionally, borazine compounds have only been synthesized in a small amount at a laboratory level using a flask or the like as a reaction vessel. On the other hand, in view of the usefulness of the borazine compound, it is clear that it is necessary to synthesize in a large amount in a larger scaled-up reaction vessel in view of mass production in the future.

ここで、工場などの大規模プラントなどにおいてボラジン化合物を大量に合成する場合を考えると、ボラジン化合物と接触しうる装置(例えば、反応装置と精製装置とを連結する配管や、精製装置からボラジン化合物を取り出すための配管など;以下、単に「ボラジン化合物用装置」とも称する)にボラジン化合物が付着することが予想される。そして、かような付着物を放置したままボラジン化合物の合成を続けると、生成物であるボラジン化合物中に不純物が混入し、純度低下などの品質低下をもたらす虞がある。LSI中の層間絶縁膜のような半導体分野において、材料に不純物や微粒子が存在すると半導体素子等の特性に悪影響を与えるため、極めて純度の高い品質が要求される。従って、大規模プラントなどにおいてボラジン化合物を大量に合成する際には、定期的にプラントの運転を停止し、装置を開放して付着したボラジン化合物を洗浄処理する必要があると考えられる。
特開2000−340689号公報
Here, considering the case of synthesizing a large amount of a borazine compound in a large-scale plant such as a factory, an apparatus that can come into contact with the borazine compound (for example, a pipe connecting a reaction apparatus and a purification apparatus, or a borazine compound from a purification apparatus) It is expected that the borazine compound adheres to a pipe for taking out the gas; hereinafter, also simply referred to as “borazine compound device”). If the synthesis of the borazine compound is continued while leaving such a deposit, the impurities may be mixed into the borazine compound that is the product, leading to a decrease in quality such as a decrease in purity. In the semiconductor field such as an interlayer insulating film in an LSI, the presence of impurities and fine particles in the material adversely affects the characteristics of the semiconductor element and the like, and therefore extremely high quality is required. Therefore, when synthesizing a large amount of a borazine compound in a large-scale plant or the like, it is considered that it is necessary to periodically stop the operation of the plant, open the apparatus, and wash the adhered borazine compound.
JP 2000-340689 A

ボラジン化合物用装置に付着したボラジン化合物を洗浄処理する手法として、例えば、水やアルコール(例えば、メタノールなど)を用いて洗浄するという手法が考えられる。
しかしながら、水やアルコールといったOH基を有する化合物を用いてボラジン化合物を洗浄処理すると、当該化合物とボラジン化合物との反応により水素が発生する。このようにして発生した水素は、火気の存在下にて空気中の酸素と爆発的に反応する虞があり極めて危険であることから、化学工業分野においては好ましくない。一方、このように発生した水素の爆発を回避するためには、水素を捕集するための装置を別途設置する必要があり、製造コストが高騰する虞がある。
As a method for cleaning the borazine compound adhering to the borazine compound apparatus, for example, a method of cleaning with water or alcohol (for example, methanol) can be considered.
However, when a borazine compound is washed using a compound having an OH group such as water or alcohol, hydrogen is generated by a reaction between the compound and the borazine compound. The hydrogen generated in this manner is not preferable in the chemical industry because it is extremely dangerous because it may react explosively with oxygen in the air in the presence of fire. On the other hand, in order to avoid the explosion of hydrogen generated in this way, it is necessary to separately install a device for collecting hydrogen, which may increase the manufacturing cost.

そこで本発明は、水素の発生を伴うことなく、ボラジン化合物用装置に付着したボラジン化合物を安全に洗浄処理しうる手段を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide means for safely washing a borazine compound adhering to a borazine compound apparatus without generating hydrogen.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った。そしてその過程において、ボラジン化合物が還元性を示すことを見出した。具体的には、ボラジン骨格を形成するホウ素原子の少なくとも1つに水素原子が結合したボラジン化合物が還元性を示すことを見出した。そして当該知見に基づき、上述したような構造を有するボラジン化合物中のB−H結合を酸化開裂させうる有機溶媒を用いることにより、当該ボラジン化合物を洗浄処理しうることを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。   The present inventors have intensively studied to solve the above problems. And in the process, it discovered that a borazine compound showed reducibility. Specifically, it has been found that a borazine compound in which a hydrogen atom is bonded to at least one of boron atoms forming a borazine skeleton exhibits reducibility. And based on the said knowledge, it discovers that the said borazine compound can be wash-processed by using the organic solvent which can carry out the oxidative cleavage of the BH bond in the borazine compound which has the above structures, and completes this invention. It came to.

すなわち、本発明は、下記化学式1:   That is, the present invention has the following chemical formula 1:

式中、Rは、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基であり、Rは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つのRは、水素原子である、
で表されるボラジン化合物と、前記ボラジン化合物中のB−H結合を酸化開裂させうる有機溶媒と、を接触させる接触工程を有する、ボラジン化合物の処理方法である。
In the formula, each R 1 is independently a hydrogen atom or an alkyl group, each R 2 is independently a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and at least one R 2 is a hydrogen atom.
A borazine compound treatment method comprising a contacting step of contacting a borazine compound represented by the formula (1) with an organic solvent capable of oxidative cleavage of the BH bond in the borazine compound.

本発明によれば、水素の発生を伴うことなく、ボラジン化合物用装置に付着したボラジン化合物を安全に洗浄処理可能である。   According to the present invention, the borazine compound adhering to the borazine compound apparatus can be safely washed without accompanying the generation of hydrogen.

本発明は、下記化学式1:   The present invention has the following chemical formula 1:

で表されるボラジン化合物と、前記ボラジン化合物中のB−H結合を酸化開裂させうる有機溶媒と、を接触させる接触工程を有する、ボラジン化合物の処理方法である。 A borazine compound treatment method comprising a contacting step of contacting a borazine compound represented by the formula (1) with an organic solvent capable of oxidative cleavage of the BH bond in the borazine compound.

本発明は、上記化学式1で表されるボラジン化合物が還元性を示すことを見出したことにより完成されたものであるが、化学式1で表されるボラジン化合物が還元性を示すメカニズムについては完全には明らかとはなっていない。ただし、以下のメカニズムが推定されている。すなわち、後述するように、化学式1で表されるボラジン化合物において、ホウ素に結合しているRの少なくとも1つは水素原子であるが、このB−H結合における水素原子がヒドリド(H-)として作用し、還元性を示すものと考えられるのである。なお、当該メカニズムはあくまでも推測に基づくものであって、他のメカニズムによってボラジン化合物の還元性が発揮されていたとしても、本発明の技術的範囲は何ら影響を受けることはない。 The present invention has been completed by finding that the borazine compound represented by the chemical formula 1 exhibits reducibility, but the mechanism by which the borazine compound represented by the chemical formula 1 exhibits reducibility is completely described. Is not clear. However, the following mechanism has been estimated. That is, as will be described later, in the borazine compound represented by Chemical Formula 1, at least one of R 2 bonded to boron is a hydrogen atom, and the hydrogen atom in this B—H bond is hydride (H ). Therefore, it is considered that it exhibits reducibility. In addition, the said mechanism is based on estimation to the last, Comprising: Even if the reducibility of a borazine compound is exhibited by the other mechanism, the technical scope of this invention is not influenced at all.

化学式1において、Rは、水素原子またはアルキル基である。かようなアルキル基としては特に制限されず、直鎖状、分岐状または環状のいずれであってもよいが、アルキル基の炭素原子数は、好ましくは1〜8個、より好ましくは1〜4個、さらに好ましくは1〜2個である。アルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
これら以外のアルキル基が用いられてもよい。なかでも、合成および取扱いが容易であるという観点から、Rはメチル基またはエチル基であることが特に好ましく、メチル基であることが最も好ましい。なお、Rはそれぞれ同一であってもよいし、互いに異なっていてもよいが、合成および取扱いが容易であるという観点から、Rは全て同一であることが好ましい。
In Chemical Formula 1, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group. Such an alkyl group is not particularly limited and may be linear, branched or cyclic, but the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms. The number is more preferably 1-2. Specific examples of the alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexyl group, Examples include heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, and cyclohexyl group.
Alkyl groups other than these may be used. Among these, from the viewpoint of easy synthesis and handling, R 1 is particularly preferably a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group. R 1 may be the same or different from each other, but from the viewpoint of easy synthesis and handling, all R 1 are preferably the same.

化学式1において、Rは、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つのRは、水素原子である。かようなアルキル基の形態およびアルコキシ基の炭素原子数の形態としては、上記のRと同様であるため、ここでは説明を省略する。アルコキシ基の具体例としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ネオペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、ノニロキシ基、デシロキシ基などが挙げられる。これら以外のアルコキシ基が用いられてもよい。なかでも、処理時の反応の効率の観点から、Rは水素原子であることが好ましい。なお、Rはそれぞれ同一であってもよいし、互いに異なっていてもよいが、合成および取扱いが容易であるという観点から、Rは全て同一(すなわち、Rが全て水素原子)であることが好ましい。 In Chemical Formula 1, R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and at least one R 2 is a hydrogen atom. Since the form of such an alkyl group and the number of carbon atoms of the alkoxy group are the same as those of R 1 described above, the description thereof is omitted here. Specific examples of the alkoxy group include, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, an s-butoxy group, a t-butoxy group, a pentoxy group, an isopentoxy group, a neopentoxy group, and a hexoxy group. , Heptoxy group, octoxy group, nonyloxy group, decyloxy group and the like. Alkoxy groups other than these may be used. Among them, from the viewpoint of efficiency of reaction during processing, it is preferred that R 2 is a hydrogen atom. R 2 may be the same or different from each other, but from the viewpoint of easy synthesis and handling, all R 2 are the same (that is, all R 2 are hydrogen atoms). It is preferable.

本発明は、所定の有機溶媒をボラジン化合物と接触させることにより、当該ボラジン化合物を処理する点に特徴を有する。ここで、用いられうるボラジン化合物の具体例としては、例えば、ボラジン、N,N’,N”−トリメチルボラジン、N,N’,N”−トリエチルボラジン、N,N’,N”−トリ(n−プロピル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(イソプロピル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(n−ブチル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(s−ブチル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(イソブチル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(t−ブチル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(1−メチルブチル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(2−メチルブチル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(ネオペンチル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(1,2−ジメチルプロピル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(1−エチルプロピル)ボラジン、N,N’,N”−トリ(n−ヘキシル)ボラジン、N,N’,N”−トリシクロヘキシルボラジン、N,N’−ジメチル−N”−エチルボラジン、N,N’−ジエチル−N”−メチルボラジン、N,N’−ジメチル−N”−プロピルボラジンなどが挙げられる。なお、本発明において、ボラジン化合物は、1種のみが単独で処理されてもよいし、2種以上の混合物の形態で処理されてもよい。通常は、1種のみが単独で処理される。   The present invention is characterized in that the borazine compound is treated by bringing a predetermined organic solvent into contact with the borazine compound. Here, specific examples of borazine compounds that can be used include, for example, borazine, N, N ′, N ″ -trimethylborazine, N, N ′, N ″ -triethylborazine, N, N ′, N ″ -tri ( n-propyl) borazine, N, N ′, N ″ -tri (isopropyl) borazine, N, N ′, N ″ -tri (n-butyl) borazine, N, N ′, N ″ -tri (s-butyl) Borazine, N, N ′, N ″ -tri (isobutyl) borazine, N, N ′, N ″ -tri (t-butyl) borazine, N, N ′, N ″ -tri (1-methylbutyl) borazine, N, N ′, N ″ -tri (2-methylbutyl) borazine, N, N ′, N ″ -tri (neopentyl) borazine, N, N ′, N ″ -tri (1,2-dimethylpropyl) borazine, N, N ', N "-tri (1-ethylpropyl) borazine, , N ′, N ″ -tri (n-hexyl) borazine, N, N ′, N ″ -tricyclohexylborazine, N, N′-dimethyl-N ″ -ethylborazine, N, N′-diethyl-N ″- Examples include methyl borazine, N, N′-dimethyl-N ″ -propyl borazine and the like. In the present invention, only one borazine compound may be treated alone, or may be treated in the form of a mixture of two or more. Usually, only one type is treated alone.

本発明のボラジン化合物の処理方法は、例えば、ボラジン化合物の合成時にボラジン化合物用装置に付着したボラジン化合物を洗浄処理する目的で用いられる。   The borazine compound treatment method of the present invention is used, for example, for the purpose of washing the borazine compound adhering to the borazine compound apparatus during the synthesis of the borazine compound.

ボラジン化合物を合成する手法については特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。上記の化学式1で表されるボラジン化合物のうち、Rが全て水素原子であるN−アルキルボラジンの調製方法の一例を挙げると、ABH(Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である)で表される水素化ホウ素アルカリと、(RNHX(Rは水素原子またはアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子であり、nは1または2である)で表されるアミン塩とを、溶媒中で反応させる手法が例示される。 There is no restriction | limiting in particular about the method of synthesize | combining a borazine compound, A conventionally well-known knowledge can be referred suitably. An example of a method for preparing an N-alkylborazine in which R 2 is all hydrogen atoms among the borazine compounds represented by Chemical Formula 1 above is ABH 4 (A is a lithium atom, a sodium atom or a potassium atom. ) And an alkali boron hydride represented by (RNH 3 ) n X (R is a hydrogen atom or an alkyl group, X is a sulfuric acid group or a halogen atom, and n is 1 or 2) An example is a method in which an amine salt is reacted in a solvent.

水素化ホウ素アルカリ(ABH)において、Aは、リチウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である。水素化ホウ素アルカリの例としては、水素化ホウ素ナトリウムおよび水素化ホウ素リチウムが挙げられる。 In alkali borohydride (ABH 4 ), A is a lithium atom, a sodium atom or a potassium atom. Examples of alkali borohydrides include sodium borohydride and lithium borohydride.

アミン塩((RNHX)において、Rは水素原子またはアルキル基であり、Xは硫酸基またはハロゲン原子である。そして、Xが硫酸基である場合にはnは2であり、Xがハロゲン原子である場合にはnは1である。nが2である場合に、Rは、それぞれ同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。合成反応の収率や取扱いの容易性を考慮すると、Rは好ましくは同一のアルキル基である。Rは、上記化学式1におけるRに対応することから、アミン塩におけるRの具体的な形態は、上記化学式1におけるRと同様であり、所望のボラジン化合物の構造に応じて選択されうる。従って、ここでは詳細な説明を省略する。アミン塩の例としては、例えば、塩化アンモニウム(NHCl)、モノメチルアミン塩酸塩(CHNHCl)、モノエチルアミン塩酸塩(CHCHNHCl)、モノメチルアミン臭化水素酸塩(CHNHBr)、モノエチルアミンフッ化水素酸塩(CHCHNHF)、硫酸アンモニウム((NHSO)、モノメチルアミン硫酸塩((CHNHSO)などが挙げられる。ただし、これらに制限されることはない。 In the amine salt ((RNH 3 ) n X), R is a hydrogen atom or an alkyl group, and X is a sulfate group or a halogen atom. And when X is a sulfate group, n is 2, and when X is a halogen atom, n is 1. When n is 2, R may be the same or different from each other. In consideration of the yield of the synthesis reaction and the ease of handling, R is preferably the same alkyl group. R, since corresponding to R 1 in Formula 1, specific form of the R in the amine salt is the same as R 1 in Formula 1 can be selected depending on the structure of the desired borazine compound. Therefore, detailed description is omitted here. Examples of amine salts include, for example, ammonium chloride (NH 4 Cl), monomethylamine hydrochloride (CH 3 NH 3 Cl), monoethylamine hydrochloride (CH 3 CH 2 NH 3 Cl), monomethylamine hydrobromide (CH 3 NH 3 Br), monoethylamine hydrofluorate (CH 3 CH 2 NH 3 F), ammonium sulfate ((NH 4 ) 2 SO 4 ), monomethylamine sulfate ((CH 3 NH 3 ) 2 SO 4 ) And the like. However, it is not limited to these.

使用する水素化ホウ素アルカリおよびアミン塩は、合成するボラジン化合物の構造に応じて選択すればよい。例えば、ボラジン環を構成する窒素原子にメチル基が結合しているN−メチルボラジンを製造する場合には、アミン塩として、モノメチルアミン塩酸塩などの、Rがメチル基であるアミン塩を用いればよい。   What is necessary is just to select the alkali borohydride and amine salt to be used according to the structure of the borazine compound to synthesize | combine. For example, when producing N-methylborazine in which a methyl group is bonded to the nitrogen atom constituting the borazine ring, an amine salt such as monomethylamine hydrochloride, where R is a methyl group, is used as the amine salt. Good.

水素化ホウ素アルカリとアミン塩との混合比は、特に限定されないが、アミン塩の使用量を1モルとした場合に、水素化ホウ素アルカリの使用量を1〜1.5モルとすることが好ましい。   The mixing ratio of alkali borohydride and amine salt is not particularly limited, but when the amount of amine salt used is 1 mol, the amount of alkali borohydride used is preferably 1 to 1.5 mol. .

合成用の溶媒としては、特に制限されないが、例えば、テトラヒドロフラン、モノエチレングリコールジメチルエーテル(モノグライム)、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(トリグライム)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(テトラグライム)等が挙げられる。   The solvent for synthesis is not particularly limited, and examples thereof include tetrahydrofuran, monoethylene glycol dimethyl ether (monoglyme), diethylene glycol dimethyl ether (diglyme), triethylene glycol dimethyl ether (triglyme), and tetraethylene glycol dimethyl ether (tetraglyme). .

水素化ホウ素アルカリとアミン塩との反応条件は、特に限定されない。反応温度は、好ましくは20〜250℃、より好ましくは50〜240℃、さらに好ましくは100〜220℃である。上記範囲で反応させると、水素発生量の制御が容易である。反応温度は、K熱電対などの温度センサーを用いて測定されうる。   The reaction conditions between the alkali borohydride and the amine salt are not particularly limited. Reaction temperature becomes like this. Preferably it is 20-250 degreeC, More preferably, it is 50-240 degreeC, More preferably, it is 100-220 degreeC. When the reaction is performed within the above range, the amount of hydrogen generation can be easily controlled. The reaction temperature can be measured using a temperature sensor such as a K thermocouple.

一方、ボラジン骨格を形成するホウ素原子の1つまたは2つにアルキル基またはアルコキシ基が結合したボラジン化合物は、Rが全て水素原子であるN−アルキルボラジンのB−H結合に対して、アルケンを挿入するハイドロボレーション反応や、アルキル金属化合物またはアルコールなどによる置換反応といった手法によって合成されうる。 On the other hand, a borazine compound in which an alkyl group or an alkoxy group is bonded to one or two boron atoms forming a borazine skeleton is an alkene with respect to the B—H bond of N-alkylborazine in which R 2 is all hydrogen atoms. Can be synthesized by a technique such as a hydroboration reaction in which is inserted, or a substitution reaction with an alkyl metal compound or alcohol.

合成されたボラジン化合物は、必要に応じて精製されうる。ボラジン化合物の精製方法としては、例えば、蒸留精製が用いられる。   The synthesized borazine compound can be purified as necessary. As a purification method of the borazine compound, for example, distillation purification is used.

蒸留精製装置の大きさや種類は、環境や規模に応じて決定されればよい。例えば、大量のボラジン化合物を処理するのであれば、工業的規模の蒸留塔が用いられうる。少量のボラジン化合物を処理するのであれば、蒸留管を用いた蒸留精製が用いられうる。例えば、少量のボラジン化合物を処理する蒸留装置の具体例としては、3つ口フラスコにクライゼン型の連結管でリービッヒ冷却管を取り付けた蒸留装置が用いられうる。ただし、このような蒸留装置を用いる実施形態に、本発明の技術的範囲が限定されるわけではない。   The size and type of the distillation purification apparatus may be determined according to the environment and scale. For example, if a large amount of borazine compound is to be processed, an industrial scale distillation column can be used. If a small amount of borazine compound is to be treated, distillation purification using a distillation tube can be used. For example, as a specific example of a distillation apparatus for treating a small amount of a borazine compound, a distillation apparatus in which a Liebig cooling pipe is attached to a three-necked flask with a Claisen type connecting pipe can be used. However, the technical scope of the present invention is not limited to the embodiment using such a distillation apparatus.

蒸留精製の際の温度は特に制限されず、合成されたボラジン化合物の種類に応じて適宜設定されうる。一例を挙げると、通常は100〜150℃程度である。   The temperature at the time of distillation purification is not particularly limited, and can be appropriately set according to the type of borazine compound synthesized. For example, the temperature is usually about 100 to 150 ° C.

さらに、得られたボラジン化合物の純度を向上させることを日的として、濾過処理などの追加的な処理が施されてもよい。   Furthermore, additional treatments such as filtration treatment may be performed on a daily basis to improve the purity of the obtained borazine compound.

上述した通り、本発明の処理方法は、例えばボラジン化合物用装置に付着したボラジン化合物を処理する目的で用いられる。付着したボラジン化合物の処理により、ボラジン化合物用装置が清浄に洗浄され、その後新たに合成されるボラジン化合物の純度低下といった問題の発生が抑制されうる。以下、ボラジン化合物用装置に付着したボラジン化合物を処理する形態を例に挙げて、本発明の処理方法を詳細に説明するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、下記の形態のみに限定されるべきではない。   As described above, the treatment method of the present invention is used for the purpose of treating a borazine compound adhering to a borazine compound apparatus, for example. By the treatment of the adhering borazine compound, it is possible to suppress the occurrence of the problem that the apparatus for borazine compound is cleaned cleanly and the purity of the borazine compound newly synthesized thereafter is lowered. Hereinafter, the treatment method of the present invention will be described in detail by taking as an example a form for treating the borazine compound adhering to the apparatus for borazine compounds, but the technical scope of the present invention is determined based on the description of the claims. Should be done and should not be limited to only the following forms.

「ボラジン化合物用装置」とは、ボラジン化合物の合成や保存などの工業的な一連の全ての工程において、ボラジン化合物と接触しうる全ての装置を意味する。例えば、以上の説明において例示したボラジン化合物の合成方法において、ボラジン化合物は、合成装置や蒸留精製装置と接触しうる。また、濾過処理が施される場合には、濾過装置にもまた、ボラジン化合物は接触しうる。さらに、これらの各装置どうしの間をボラジン化合物が流通しうるように各装置間を接続する配管にも、ボラジン化合物は接触しうる。従って、これらの合成装置、蒸留精製装置、濾過装置、配管などは全て、「ボラジン化合物用装置」の概念に包含される。   “Apparatus for borazine compounds” means all apparatuses that can come into contact with borazine compounds in all industrial series of processes such as synthesis and storage of borazine compounds. For example, in the method for synthesizing a borazine compound exemplified in the above description, the borazine compound can come into contact with a synthesizer or a distillation purification apparatus. Moreover, when a filtration process is performed, a borazine compound can also contact a filtration apparatus. Further, the borazine compound can also come into contact with the piping connecting the devices so that the borazine compound can flow between these devices. Therefore, these synthesis devices, distillation purification devices, filtration devices, pipes, etc. are all included in the concept of “device for borazine compounds”.

ただし、ボラジン化合物用装置の形態はこれらのみに限定されない。通常、工業的に合成されたボラジン化合物は、ボラジン化合物保存用容器に充填され、密封状態で保存される。そして、必要に応じ、ホラジン化合物は当該容器に充填された状態で輸送され、輸送先において当該容器から取り出されて、半導体用層間絶縁膜の形成などの目的に使用される。ここで、使用済みのボラジン化合物保存用容器においても同様に、合成装置やその配管などにおける問題が生じうる。すなわち、容器中に充填されたボラジン化合物をその使用時に当該容器から完全に取り出すことはほとんど不可能であるから、一定の割合のボラジン化合物は当該容器中に残存せざるを得ない。そして、容器中に残存したボラジン化合物は、空気中の水分との接触によりN−B結合が加水分解され、分解物(例えば、メチルアミンおよびホウ酸)が不純物として生成してしまう。従って、もともと充填されていたボラジン化合物の純度が極めて高かったとしても、使用済みのボラジン化合物保存用容器を回収する間に不純物が混入してしまうのはやむを得ない。そして、このように回収時に不純物が混入してしまった使用済みのボラジン化合物保存用容器を水やアルコールを用いて洗浄しても、同様に水素が発生し、爆発の危険性が生じうる。   However, the form of the apparatus for borazine compounds is not limited to these. Usually, industrially synthesized borazine compounds are filled in borazine compound storage containers and stored in a sealed state. If necessary, the holazine compound is transported in a state of being filled in the container, taken out from the container at the transport destination, and used for the purpose of forming an interlayer insulating film for a semiconductor. Here, similarly in the used borazine compound storage container, problems may occur in the synthesis apparatus and its piping. That is, since it is almost impossible to completely remove the borazine compound filled in the container from the container at the time of use, a certain proportion of the borazine compound has to remain in the container. The borazine compound remaining in the container is hydrolyzed by the NB bond by contact with moisture in the air, and decomposed products (for example, methylamine and boric acid) are generated as impurities. Therefore, even if the purity of the originally filled borazine compound is extremely high, it is inevitable that impurities are mixed during the collection of the used borazine compound storage container. Even if the used borazine compound storage container in which impurities are mixed during the recovery is washed with water or alcohol, hydrogen is generated in the same manner, which may cause an explosion.

これに対し、かような使用済みのボラジン化合物保存用容器を本発明の手法により洗浄した場合には、上述したような水素の発生が防止され、容器に付着したボラジン化合物を安全に処理することが可能である。従って、本発明における「ボラジン化合物用装置」の概念には、「ボラジン化合物保存用容器」もまた、包含されうる。   On the other hand, when such a used borazine compound storage container is washed by the method of the present invention, generation of hydrogen as described above is prevented and the borazine compound adhering to the container is safely treated. Is possible. Therefore, the “borazine compound storage container” can also be included in the concept of “the apparatus for borazine compound” in the present invention.

続いて、本発明の特徴的な構成である「接触工程」について詳細に説明する。   Next, the “contact process” which is a characteristic configuration of the present invention will be described in detail.

木工程においては、上記の化学式1で表されるボラジン化合物と、当該ボラジン化合物中のB−H結合を酸化開裂させうる有機溶媒と、を接触させる。これにより、ボラジン化合物が処理される。   In the wood process, the borazine compound represented by the above chemical formula 1 is brought into contact with an organic solvent capable of oxidative cleavage of the BH bond in the borazine compound. Thereby, a borazine compound is processed.

本工程において、ボラジン化合物と接触させる有機溶媒は、上述した通り、ボラジン化合物中のB−H結合を酸化開裂させる機能を有する。かような機能を有する限り、本工程において用いられる有機溶媒の具体例は特に制限されない。本工程において用いられうる有機溶媒の一例を挙げると、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類;ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドなどのアルデヒド類;酢酸エチルなどのエステル類;ギ酸、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸類;ホルムアミド、アセトアミドなどのアミド類;アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニトリルなどのニトリル類などが例示される。ただし、これら以外の有機溶媒が、ボラジン化合物の処理のために用いられてもよい。これらの有機溶媒は1種のみが単独で処理に用いられてもよいし、2種以上が混合されて処理に用いられてもよい。   In this step, the organic solvent brought into contact with the borazine compound has a function of oxidative cleavage of the B—H bond in the borazine compound as described above. As long as it has such a function, the specific example of the organic solvent used in this step is not particularly limited. Examples of organic solvents that can be used in this step include, for example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone; aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, and propionaldehyde; esters such as ethyl acetate; Examples thereof include carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid; amides such as formamide and acetamide; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and isobutyronitrile. However, organic solvents other than these may be used for the treatment of the borazine compound. Only one kind of these organic solvents may be used alone for the treatment, or two or more kinds thereof may be mixed and used for the treatment.

ボラジン化合物の処理の具体的な形態についても特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。例えば、ボラジン化合物用装置に付着したボラジン化合物の処理には、化合物の合成や保存に用いられる装置に付着した化合物の処理に関する従来公知の知見が適宜参照されうる。一例を挙げると、例えばボラジン化合物の合成終了時に合成装置に付着したボラジン化合物を処理する場合には、合成装置に付着したボラジン化合物に、上述したような有機溶媒を接触させて、ボラジン化合物を処理すればよい。有機溶媒の接触の具体的な操作も特に制限されないが、例えばホースやスプレーなどを用いたかけ洗いが例示される。また、かけ洗いが困難な部位の洗浄には、拭き洗いも有効である。なお、かような洗浄操作は、手動で行ってもよいし、半白動化または自動化された装置を用いて行ってもよい。一方、ボラジン化合物保存用容器の洗浄を考えると、上述したようなかけ洗いや拭き洗いも有効であるが、容器内に上述した有機溶媒を充填して静置するといった手法が用いられてもよい。また、洗浄される装置に対して必要に応じて振動を加えることで、本工程における洗浄が促進されうる。この際に用いられる加振装置としては、例えば、超音波印加装置などが挙げられるが、これらに限定されることはない。   There is no restriction | limiting in particular also about the specific form of a process of a borazine compound, A conventionally well-known knowledge can be referred suitably. For example, for the treatment of a borazine compound adhering to a borazine compound apparatus, conventionally known knowledge relating to the treatment of a compound adhering to an apparatus used for compound synthesis or storage can be referred to as appropriate. For example, when the borazine compound attached to the synthesizer at the end of the synthesis of the borazine compound is treated, the borazine compound attached to the synthesizer is contacted with the organic solvent as described above to treat the borazine compound. do it. Although the specific operation of contacting the organic solvent is not particularly limited, for example, washing with a hose or a spray is exemplified. In addition, wiping is also effective for cleaning parts that are difficult to wash. Such a cleaning operation may be performed manually, or may be performed using a semi-whitened or automated apparatus. On the other hand, in consideration of washing of the borazine compound storage container, the above-described over-washing and wiping are effective, but a method of leaving the container filled with the above-described organic solvent and allowing to stand may be used. . Moreover, the washing | cleaning in this process can be accelerated | stimulated by applying a vibration to the apparatus wash | cleaned as needed. Examples of the vibration device used at this time include an ultrasonic wave application device, but are not limited thereto.

本工程における有機溶媒の接触回数についても特に制限はなく、1回でもよいし複数回であってもよいが、ボラジン化合物の十分な処理を達成するという観点からは、有機溶媒を用いた処理回数は、好ましくは2〜50回であり、より好ましくは3〜10回である。
なお、処理回数が多すぎると、処理回数の増加に見合っただけの洗浄効果が得られない虞がある。
There is no particular limitation on the number of contact times of the organic solvent in this step, and it may be one or more times. From the viewpoint of achieving sufficient treatment of the borazine compound, the number of times of treatment using the organic solvent Is preferably 2 to 50 times, more preferably 3 to 10 times.
If the number of treatments is too large, there is a possibility that a cleaning effect corresponding to the increase in the number of treatments cannot be obtained.

本工程が行われる際の温度条件は特に制限されないが、好ましくは−80〜100℃であり、より好ましくは0〜50℃であり、さらに好ましくは0〜30℃である。かような範囲内の温度条件下にて接触工程を行うことで、ボラジン化合物が効率的に処理されうる。   Although the temperature conditions in particular when this process is performed are not restrict | limited, Preferably it is -80-100 degreeC, More preferably, it is 0-50 degreeC, More preferably, it is 0-30 degreeC. A borazine compound can be efficiently processed by performing a contact process under the temperature conditions in such a range.

本工程において用いられる有機溶媒の使用量も特に制限されないが、処理されるボラジン化合物中のB−H結合1モルに対して、好ましくは1.0〜10モルであり、より好ましくは1.0〜5.0モルであり、さらに好ましくは1.0〜2.0モルである。有機溶媒の使用量がかような範囲内の値であると、有機溶媒を無駄に消費することなくボラジン化合物を効率的に処理することができる。   The amount of the organic solvent used in this step is not particularly limited, but is preferably 1.0 to 10 mol, more preferably 1.0 mol, relative to 1 mol of the B—H bond in the borazine compound to be treated. It is -5.0 mol, More preferably, it is 1.0-2.0 mol. When the amount of the organic solvent used is within such a range, the borazine compound can be efficiently treated without wasting the organic solvent.

本発明の処理方法においては、上述した接触工程終了後に、処理物に対して水を接触させて、処理物中に依然として含まれるボラジン化合物を加水分解する工程(以下、単に「加水分解工程」とも称する)を行うことが好ましい。当該工程においては、ボラジン化合物の加水分解によって水素が発生しうるが、上述した接触工程においてボラジン化合物の大部分は酸化されて他の化合物へと変換されていることから、ボラジン化合物の加水分解によって発生する水素の量はごくわずかである。従って、当該加水分解工程において発生する水素に起因して爆発が生じる虞はない。   In the treatment method of the present invention, after completion of the above-described contact step, water is brought into contact with the treated product to hydrolyze the borazine compound still contained in the treated product (hereinafter simply referred to as “hydrolysis step”). It is preferable to carry out. In this process, hydrogen can be generated by hydrolysis of the borazine compound. However, since most of the borazine compound is oxidized and converted into other compounds in the above-described contact process, the hydrolysis of the borazine compound The amount of hydrogen generated is negligible. Therefore, there is no risk of explosion due to hydrogen generated in the hydrolysis step.

加水分解工程において、処理物に水を接触させる際の具体的な形態は特に制限されず、上述した接触工程の欄において説明したのと同様の形態が採用されうる。例えば、処理物に接触させる水の量や、接触時間などは、処理物中に残存していると思われるボラジン化合物の量に応じて、適宜決定されうる。   In the hydrolysis step, the specific form when water is brought into contact with the treated product is not particularly limited, and the same form as described in the column of the contact step described above can be adopted. For example, the amount of water to be contacted with the treated product, the contact time, and the like can be appropriately determined according to the amount of the borazine compound that appears to remain in the treated product.

なお、可能であれば、接触工程や必要に応じた加水分解工程は、所定のクリーン度(清浄度クラス)を有するクリーンルーム内において行われることが好ましい。本形態は、ボラジン化合物用装置がボラジン化合物保存用容器である場合に特に好適である。具体的には、本工程は、クラス10000よりも清浄なクリーンルーム内で行われることが好ましい。なお、本明細書において「クリーン度(清浄度クラス)」とは、FED−STD−209D(米国連邦規格、1988年)による値を採用するものとする。当該規格において、「クリーン度(清浄度クラス)」とは、1ftあたりの0.5μm以上の粒径を有する粒子の個数として定義される。従って、例えば「クラス10000よりも清浄なクリーンルーム」とは、雰囲気中の0.5μm以上の粒径を有する粒子の個数が10000個/ft以下のクリーンルームを意味する。なお、本工程は、クラス1000よりも清浄なクリーンルーム内で行われることがより好ましく、クラス100よりも清浄なクリーンルーム内で行われることがさらに好ましい。 In addition, if possible, it is preferable that a contact process and the hydrolysis process as needed are performed in the clean room which has a predetermined | prescribed cleanness (cleanliness class). This embodiment is particularly suitable when the borazine compound apparatus is a borazine compound storage container. Specifically, this step is preferably performed in a clean room that is cleaner than class 10000. In this specification, “cleanness (cleanliness class)” is a value according to FED-STD-209D (US Federal Standard, 1988). In this standard, “cleanness (cleanliness class)” is defined as the number of particles having a particle size of 0.5 μm or more per 1 ft 3 . Therefore, for example, “clean room cleaner than class 10000” means a clean room in which the number of particles having a particle diameter of 0.5 μm or more in the atmosphere is 10,000 / ft 3 or less. In addition, it is more preferable that this process is performed in a clean room cleaner than class 1000, and it is more preferable that it is performed in a clean room cleaner than class 100.

以下、実施例および比較例を用いて本発明の実施の形態をより詳細に説明するが、本発明の技術的範囲は下記の形態のみには制限されない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail using examples and comparative examples. However, the technical scope of the present invention is not limited to the following embodiments.

<実施例>
ボラジン化合物であるN,N’,N”−トリメチルボラジン(TMB)5.0g、および、TMB中のB−H結合を酸化開裂させうる有機溶媒であるアセトン10.0gを反応器中で1時間混合し、ボラジン化合物を処理した。次いで、反応系に10.0gの水を添加して反応を完結させた。
<Example>
In the reactor, 5.0 g of N, N ′, N ″ -trimethylborazine (TMB), which is a borazine compound, and 10.0 g of acetone, which is an organic solvent capable of oxidative cleavage of the B—H bond in TMB, are obtained for 1 hour. After mixing and treating the borazine compound, 10.0 g of water was added to the reaction system to complete the reaction.

その後、反応液をGC−MSにより分析して、TMBの消失およびアセトンの還元により生成しうるイソプロピルアルコールの生成を確認した。また、ガス検知管(北側式、型式137U)によって、反応中の水素の発生は確認されなかった。なお、GC−MSの測定条件は以下の通りである。   Thereafter, the reaction solution was analyzed by GC-MS to confirm the disappearance of TMB and the production of isopropyl alcohol that could be produced by the reduction of acetone. Moreover, generation | occurrence | production of hydrogen during reaction was not confirmed by the gas detection pipe | tube (north side type | mold, model 137U). The measurement conditions for GC-MS are as follows.

[GC−MSの測定条件]
装置:サーモエレクトロン株式会社製 POLARIS Q
カラム:ジーエルサイエンス株式会社製 TC−WAX
長さ:30m、内径:0.25mm、膜厚:0.25μm
キャリアガス:窒素
キャリアガス流量:1.0mL/分
試料注入温度:250℃
カラム温度:40℃(5分)→15℃/分の昇温速度で230℃まで昇温
保持時間:2.18分(イソプロピルアルコール)

<比較例>
ボラジン化合物であるN,N’,N”−トリメチルボラジン(TMB)5.0g、および、メタノール10.0gを反応器中で1時間混合し、ボラジン化合物を処理した。次いで、反応系に10.0gの水を添加して反応を完結させた。
[Measurement conditions for GC-MS]
Apparatus: POLARIS Q manufactured by Thermo Electron Co., Ltd.
Column: TC-WAX manufactured by GL Sciences Inc.
Length: 30m, inner diameter: 0.25mm, film thickness: 0.25μm
Carrier gas: Nitrogen Carrier gas flow rate: 1.0 mL / min Sample injection temperature: 250 ° C.
Column temperature: 40 ° C. (5 minutes) → heated to 230 ° C. at a rate of temperature increase of 15 ° C./min Retention time: 2.18 minutes (isopropyl alcohol)

<Comparative example>
The borazine compound N, N ′, N ″ -trimethylborazine (TMB) 5.0 g and 10.0 g of methanol were mixed in the reactor for 1 hour to treat the borazine compound. 0 g of water was added to complete the reaction.

その後、反応液をGC−MSにより分析して、TMBの消失を確認した。また、ガス検知管(北側式、型式137U)によって、反応中の水素の発生が確認された。   Thereafter, the reaction solution was analyzed by GC-MS to confirm disappearance of TMB. Moreover, generation | occurrence | production of hydrogen during reaction was confirmed by the gas detection pipe | tube (north side type | mold, type 137U).

以上の実施例および比較例に示す結果から、本発明の処理方法によれば、所定の有機溶媒を用いてボラジン化合物を処理することにより、水素を発生させることなく、安全にボラジン化合物を処理可能であることが示される。   From the results shown in the above Examples and Comparative Examples, according to the treatment method of the present invention, a borazine compound can be safely treated without generating hydrogen by treating the borazine compound with a predetermined organic solvent. It is shown that.

Claims (7)

下記化学式1:

式中、Rは、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基であり、Rは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基またはアルコキシ基であり、少なくとも1つのRは、水素原子である、
で表されるボラジン化合物と、前記ボラジン化合物中のB−H結合を酸化開裂させる有機溶媒と、を接触させる接触工程を有し、
前記有機溶媒が、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、アミド類、およびニトリル類からなる群から選択される1種または2種以上である、ボラジン化合物の洗浄処理方法。
The following chemical formula 1:

In the formula, each R 1 is independently a hydrogen atom or an alkyl group, each R 2 is independently a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and at least one R 2 is a hydrogen atom.
It possesses a borazine compound represented in an organic solvent for oxidative cleavage of the B-H bonds in the borazine compound, a contact step of contacting,
A method for cleaning a borazine compound , wherein the organic solvent is one or more selected from the group consisting of ketones, aldehydes, carboxylic acids, amides, and nitriles .
前記Rのすべてがアルキル基である、請求項1に記載の処理方法。 The processing method according to claim 1 , wherein all of R 1 are alkyl groups. 前記アルキル基がメチル基である、請求項2に記載の処理方法。   The processing method according to claim 2, wherein the alkyl group is a methyl group. 前記有機溶媒がアセトンである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の処理方法。 The processing method according to claim 1, wherein the organic solvent is acetone. 前記接触工程において用いられる前記有機溶媒の使用量が、前記ボラジン化合物中のB−H結合1モルに対して1.0〜10モルである、請求項1〜のいずれか1項に記載の処理方法。 The usage-amount of the said organic solvent used in the said contact process is 1.0-10 mol with respect to 1 mol of BH bonds in the said borazine compound, The any one of Claims 1-4 . Processing method. 前記接触工程が、−80〜100℃の温度条件下にて行われる、請求項1〜のいずれ
か1項に記載の処理方法。
It said contacting step is carried out at a temperature of -80 to 100 ° C., the processing method according to any one of claims 1-5.
前記接触工程終了後に、処理物に対して水を接触させて、処理物中に含まれるボラジン
化合物を加水分解する加水分解工程をさらに有する、請求項1〜のいずれか1項に記載
の処理方法。
The treatment according to any one of claims 1 to 6 , further comprising a hydrolysis step of hydrolyzing a borazine compound contained in the treated product by bringing water into contact with the treated product after completion of the contacting step. Method.
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