JP4782476B2 - Method for producing SiH group-containing compound - Google Patents

Method for producing SiH group-containing compound Download PDF

Info

Publication number
JP4782476B2
JP4782476B2 JP2005164261A JP2005164261A JP4782476B2 JP 4782476 B2 JP4782476 B2 JP 4782476B2 JP 2005164261 A JP2005164261 A JP 2005164261A JP 2005164261 A JP2005164261 A JP 2005164261A JP 4782476 B2 JP4782476 B2 JP 4782476B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
group
compound
sih
allyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2005164261A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006335718A (en
Inventor
典克 一柳
雅幸 藤田
克哉 大内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaneka Corp
Original Assignee
Kaneka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaneka Corp filed Critical Kaneka Corp
Priority to JP2005164261A priority Critical patent/JP4782476B2/en
Publication of JP2006335718A publication Critical patent/JP2006335718A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4782476B2 publication Critical patent/JP4782476B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

本発明はSiH基含有化合物の製造方法に関する。更に詳しくは、SiH基含有ポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせず、ゲル化させることなく低粘度のSiH基含有化合物を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a SiH group-containing compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing a low-viscosity SiH group-containing compound without requiring the recycling of the SiH group-containing polyorganosiloxane raw material and without causing gelation.

1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンと、アリルグリシジルエーテルを白金触媒により、ヒドロシリル化反応させる製造方法が提案されている(例えば特許文献1)。しかし、反応完結後に多量の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンが反応液中に未反応状態で存在し、リサイクルが必要であった。
また、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンと、トリアリルイソシアヌレートを白金触媒により、ヒドロシリル化反応させる製造方法が提案されている(例えば特許文献2)。しかし、トリアリルイソシアヌレートに対して、過剰量の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンを使用しており、反応完結後に1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンが反応液中に未反応状態で存在し、リサイクルが必要であった。一方、トリアリルイソシアヌレートのアリル基と、当モル量の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンを反応させる場合、高粘度の反応生成物が得られたり、反応中にゲル化する可能性がある。
特開2003−261783号公報 特開2002−317048号公報
A production method in which 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and allyl glycidyl ether are subjected to a hydrosilylation reaction using a platinum catalyst has been proposed (for example, Patent Document 1). However, after completion of the reaction, a large amount of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was present in the reaction solution in an unreacted state, and it was necessary to recycle.
In addition, a production method in which 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and triallyl isocyanurate are hydrosilylated with a platinum catalyst has been proposed (for example, Patent Document 2). However, an excess amount of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane is used with respect to triallyl isocyanurate, and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane reacts after completion of the reaction. It was present in the liquid in an unreacted state and needed to be recycled. On the other hand, when an allyl group of triallyl isocyanurate is reacted with an equimolar amount of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, a highly viscous reaction product is obtained or gelation occurs during the reaction. there is a possibility.
JP 2003-26183A JP 2002-317048 A

本発明の目的は、SiH基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物を製造する方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a method for producing a compound having at least two SiH groups in one molecule having a low viscosity and without gelation without requiring recycling of a polyorganosiloxane raw material having SiH groups. Is to provide.

本発明者らは検討の結果、(A)1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、(B)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、(C)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させることによって、上記課題が解決できることを見出し、本発明に到達した。 As a result of investigations, the present inventors have studied (A) a linear and / or cyclic polyorganosiloxane compound having at least three SiH groups in one molecule, and (B) a carbon-carbon reactive with SiH groups. After reacting a compound containing one double bond in one molecule in the presence of (D) a hydrosilylation catalyst, the obtained reaction product and (C) a carbon-reactive with SiH group The present inventors have found that the above problem can be solved by reacting a compound containing at least two carbon double bonds in one molecule in the presence of (D) a hydrosilylation catalyst.

すなわち、本発明は、(A)1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、(B)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、(C)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させることを特徴とする、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物の製造方法に関する。 That is, the present invention comprises (A) a linear and / or cyclic polyorganosiloxane compound having at least 3 SiH groups in one molecule, and (B) a carbon-carbon double bond having reactivity with SiH groups. Is reacted in the presence of a hydrosilylation catalyst, and then the resulting reaction product is further reacted with (C) a carbon-carbon double compound having reactivity with SiH groups. The present invention relates to a method for producing a compound containing at least two SiH groups in one molecule, wherein a compound containing at least two bonds in one molecule is reacted in the presence of (D) a hydrosilylation catalyst. .

また、本発明は、
(A)成分の1分子中のSiH基の平均数(α)、(A)成分とヒドロシリル化反応する(B)成分の平均分子数(β)、(A)成分とヒドロシリル化反応する(C)成分のアリル基の数が平均して1個とすると、(α−β)≦3.5であることを特徴とする上記SiH基含有化合物の製造方法;
(A)成分が、下記一般式(I)
The present invention also provides:
(A) The average number of SiH groups in one molecule of the component (α), the average number of molecules (β) of the component (B) that undergoes a hydrosilylation reaction with the component (A), and the hydrosilylation reaction of the component (A) (C ) If the average number of allyl groups in the component is 1, the production method of the SiH group-containing compound is characterized in that (α−β) ≦ 3.5;
(A) component is the following general formula (I)

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは炭素数1〜6の有機基を表し、それぞれのRは異なっていても同一であっても良い。nは3〜10の数を表す。)で表されるSiH基を有する環状ポリオルガノシロキサン化合物であることを特徴とする上記SiH基含有化合物の製造方法;
(B)成分の分子量が500以下であることを特徴とする上記SiH基含有化合物の製造方法;
(B)成分がアリルグリシジルエーテルであることを特徴とする上記SiH基含有化合物の製造方法;
(C)成分が、1分子中にSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を2〜3個含有し、かつ、分子量が900未満であることを特徴とする上記SiH基含有化合物の製造方法;
(C)成分がトリアリルイソシアヌレートであることを特徴とする上記SiH基含有化合物の製造方法;
(C)成分がジアリルモノグリシジルイソシアヌレートであることを特徴とする上記SiH基含有化合物の製造方法;
(C)成分がビスフェノールSのジアリルエーテルであることを特徴とする上記SiH基含有化合物の製造方法;
に関する。
(In the formula, R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and each R 1 may be different or the same. N represents a number of 3 to 10). A process for producing the SiH group-containing compound, characterized in that it is a cyclic polyorganosiloxane compound having
(B) The manufacturing method of the said SiH group containing compound characterized by the molecular weight of a component being 500 or less;
(B) The manufacturing method of the said SiH group containing compound characterized by the component being allyl glycidyl ether;
The component (C) contains 2 to 3 carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups in one molecule and has a molecular weight of less than 900. Production method;
(C) The manufacturing method of the said SiH group containing compound characterized by the component being triallyl isocyanurate;
(C) Component is diallyl monoglycidyl isocyanurate, The manufacturing method of the said SiH group containing compound characterized by the above-mentioned;
(C) Component is the diallyl ether of bisphenol S, The manufacturing method of the said SiH group containing compound characterized by the above-mentioned;
About.

以下に、本発明の製造方法について説明する。
本発明の1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物の製造方法は、(A)1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、(B)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、(C)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させることを特徴とするものである。
Below, the manufacturing method of this invention is demonstrated.
The method for producing a compound containing at least two SiH groups in one molecule of the present invention comprises: (A) a linear and / or cyclic polyorganosiloxane compound having at least three SiH groups in one molecule; (B) a compound containing one carbon-carbon double bond reactive with a SiH group in one molecule is reacted in the presence of (D) a hydrosilylation catalyst; (C) A compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with a SiH group in one molecule is reacted in the presence of (D) a hydrosilylation catalyst. .

((A)成分)
まず、本発明の(A)成分について説明する。
本発明の(A)成分は、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物である。
((A) component)
First, the component (A) of the present invention will be described.
The component (A) of the present invention is a linear and / or cyclic polyorganosiloxane compound having at least 3 SiH groups in one molecule.

(A)成分については、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物であれば特に限定されず、例えば国際公開第WO96/15194号パンフレットに記載される化合物で、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有するもの等が使用できる。
具体的には、例えば
The component (A) is not particularly limited as long as it is a linear and / or cyclic polyorganosiloxane compound having at least 3 SiH groups in one molecule, and is described in, for example, International Publication No. WO96 / 15194. A compound having at least three SiH groups in one molecule can be used.
Specifically, for example

Figure 0004782476
Figure 0004782476

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
これらのうち、入手性の面からは、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状オルガノポリシロキサンが好ましい。また、(B)成分及び/又は(C)成分の炭素−炭素二重結合とのヒドロシリル化反応性が良く、しかも反応生成物の貯蔵安定性が良いという観点からは、さらに、下記一般式(I)
Etc.
Among these, from the viewpoint of availability, a linear and / or cyclic organopolysiloxane having at least 3 SiH groups in one molecule is preferable. Further, from the viewpoint of good hydrosilylation reactivity with the carbon-carbon double bond of the component (B) and / or the component (C) and the storage stability of the reaction product is good, the following general formula ( I)

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中、Rは炭素数1〜6の有機基を表し、それぞれのRは異なっていても同一であっても良い。nは3〜10の数を表す。)で表される、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する環状オルガノポリシロキサンが好ましい。
一般式(I)で表される化合物中の置換基Rは、C、H、Oから構成されるものであることが好ましく、炭化水素基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。それぞれの置換基Rは異なっていてもよく、同一であってもよい。
一般式(I)で表される化合物としては、入手容易性の観点からは、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンであることが好ましい。
(A)成分は、単独又は2種以上のものを混合して用いることが可能である。
(Wherein R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and each R 1 may be different or the same. N represents a number of 3 to 10). Cyclic organopolysiloxanes having at least 3 SiH groups per molecule are preferred.
The substituent R 1 in the compound represented by the general formula (I) is preferably composed of C, H, and O, more preferably a hydrocarbon group, and a methyl group. Further preferred. Each substituent R 1 may be different or the same.
From the viewpoint of availability, the compound represented by the general formula (I) is preferably 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane.
(A) A component can be used individually or in mixture of 2 or more types.

((B)成分)
次に、本発明の(B)成分について説明する。
(B)成分としては、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する有機化合物であれば特に限定されないが、(A)成分を(B)成分とヒドロシリル化反応させて、反応生成物の極性を高くするという点においては、(B)成分としてはポリシロキサン−有機ブロックコポリマーやポリシロキサン−有機グラフトコポリマーのようなシロキサン単位(Si−O−Si)を含むものではなく、構成元素としてC、H、N、O、S、及びハロゲンのみを含むものであることが好ましい。
(B)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の結合位置は特に限定されず、分子内のどこに存在してもよい。
((B) component)
Next, (B) component of this invention is demonstrated.
The component (B) is not particularly limited as long as it is an organic compound containing one carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group in one molecule, but the component (A) is combined with the component (B) and hydrosilyl. The component (B) is a siloxane unit (Si-O-Si) such as a polysiloxane-organic block copolymer or a polysiloxane-organic graft copolymer. It is preferable not to include but to include only C, H, N, O, S, and halogen as constituent elements.
The bonding position of the carbon-carbon double bond having reactivity with the component (B) SiH group is not particularly limited, and may be present anywhere in the molecule.

(B)成分の化合物は、重合体系化合物と単量体系化合物に分類できる。
重合体系化合物としては、例えば、ポリシロキサン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリアリレート系、ポリカーボネート系、飽和炭化水素系、不飽和炭化水素系、ポリアクリル酸エステル系、ポリアミド系、フェノール−ホルムアルデヒド系(フェノール樹脂系)、ポリイミド系の化合物を用いることができる。
単量体系化合物としては、例えば、フェノール系、ビスフェノール系、ベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素系化合物;直鎖系、脂環系等の脂肪族炭化水素系化合物;複素環系化合物;シリコン系化合物;これらの混合物等が挙げられる。
The compound of the component (B) can be classified into a polymer compound and a monomer compound.
Examples of the polymer compound include polysiloxane, polyether, polyester, polyarylate, polycarbonate, saturated hydrocarbon, unsaturated hydrocarbon, polyacrylate ester, polyamide, phenol-formaldehyde (Phenol resin type) and polyimide type compounds can be used.
Examples of the monomer compound include aromatic hydrocarbon compounds such as phenol, bisphenol, benzene, and naphthalene; aliphatic hydrocarbon compounds such as linear and alicyclic; heterocyclic compounds; silicon Compounds; and mixtures thereof.

(B)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては、特に限定されないが、下記一般式(II) (B) Although it does not specifically limit as a carbon-carbon double bond reactive with SiH group of a component, The following general formula (II)

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは水素原子あるいはメチル基を表す。)で示される基が、反応性の点から好適である。また、原料の入手の容易さからは、 A group represented by the formula (wherein R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group) is preferable from the viewpoint of reactivity. In addition, from the availability of raw materials,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

示される基が特に好ましい。
(B)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては、下記一般式(III)
The groups shown are particularly preferred.
As the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group of the component (B), the following general formula (III)

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは水素原子あるいはメチル基を表す。それぞれのRは異なっていても同一であってもよい。)で表される部分構造を環内に有する脂環式の基が、硬化物の耐熱性が高いという点から好適である。また、原料の入手の容易さからは、下記式で表される部分構造を環内に有する脂環式の基が好適である。 (In the formula, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group. Each R 3 may be different or the same), and the alicyclic group having a partial structure in the ring is cured. This is preferable because the heat resistance of the object is high. Moreover, from the ease of acquisition of a raw material, the alicyclic group which has the partial structure represented by a following formula in a ring is suitable.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合は、(B)成分の骨格部分に直接結合していてもよく、2価以上の置換基を介して共有結合していても良い。
2価以上の置換基としては、炭素数0〜10の置換基であれば特に限定されないが、(A)成分を(B)成分とヒドロシリル化反応させて、反応生成物の極性を高くするという点においては、構成元素としてC、H、N、O、S、及びハロゲンのみを含むものが好ましい。これらの置換基の例としては、
The carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group may be directly bonded to the skeleton portion of the component (B) or may be covalently bonded via a divalent or higher valent substituent.
The divalent or higher valent substituent is not particularly limited as long as it is a substituent having 0 to 10 carbon atoms. However, the component (A) is hydrosilylated with the component (B) to increase the polarity of the reaction product. In terms of points, elements containing only C, H, N, O, S, and halogen as constituent elements are preferable. Examples of these substituents include

Figure 0004782476
Figure 0004782476

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。また、これらの2価以上の置換基の2つ以上が共有結合によりつながって1つの2価以上の置換基を構成していてもよい。 Etc. Moreover, two or more of these divalent or higher valent substituents may be connected by a covalent bond to constitute one divalent or higher valent substituent.

以上のような骨格部分に共有結合する基の例としては、ビニル基、アリル基、メタリル基、アクリル基、メタクリル基、2−ヒドロキシ−3−(アリルオキシ)プロピル基、2−アリルフェニル基、3−アリルフェニル基、4−アリルフェニル基、2−(アリルオキシ)フェニル基、3−(アリルオキシ)フェニル基、4−(アリルオキシ)フェニル基、2−(アリルオキシ)エチル基、2,2−ビス(アリルオキシメチル)ブチル基、3−アリルオキシ−2,2−ビス(アリルオキシメチル)プロピル基、 Examples of the group covalently bonded to the skeleton as described above include vinyl group, allyl group, methallyl group, acrylic group, methacryl group, 2-hydroxy-3- (allyloxy) propyl group, 2-allylphenyl group, 3 -Allylphenyl group, 4-allylphenyl group, 2- (allyloxy) phenyl group, 3- (allyloxy) phenyl group, 4- (allyloxy) phenyl group, 2- (allyloxy) ethyl group, 2,2-bis (allyl) Oxymethyl) butyl group, 3-allyloxy-2,2-bis (allyloxymethyl) propyl group,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
(B)成分の具体的な例としては、エチレン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン、1−ドデセン、1−ウンデセン、出光石油化学社製リニアレン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、2−メチル−1−ヘキセン、2,3,3−トリメチル−1−ブテン、2,4,4−トリメチル−1−ペンテン等の鎖状脂肪族炭化水素系化合物類;シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン、メチレンシクロヘキサン、ノルボルニレン、エチリデンシクロヘキサン、ビニルシクロヘキサン、アリルシクロへキサン、カンフェン、カレン、αピネン、βピネン等の環状脂肪族炭化水素系化合物類;スチレン、αメチルスチレン、インデン、フェニルアセチレン、4−エチニルトルエン、アリルベンゼン、4−フェニル−1−ブテン等の芳香族炭化水素系化合物;アルキルアリルエーテル、アリルフェニルエーテル等のアリルエーテル類、グリセリンモノアリルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、4−ビニル−1,3−ジオキソラン−2−オン等の脂肪族系化合物類;1,2−ジメトキシ−4−アリルベンゼン、アリルアニソール、o−アリルフェノール等の芳香族系化合物類;モノアリルジベンジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート等の置換イソシアヌレート類;ビニルトリメチルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェニルシラン等のシリコン化合物等が挙げられる。さらに、片末端アリル化ポリエチレンオキサイド、片末端アリル化ポリプロピレンオキサイド等のポリエーテル系樹脂;片末端アリル化ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂;片末端アリル化ポリブチルアクリレート、片末端アリル化ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂;等の片末端にビニル基を有するポリマーあるいはオリゴマー類等も挙げることができる。
Etc.
Specific examples of the component (B) include ethylene, propene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-dodecene, 1- Undecene, linearene manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., 4,4-dimethyl-1-pentene, 2-methyl-1-hexene, 2,3,3-trimethyl-1-butene, 2,4,4-trimethyl-1-pentene Chain aliphatic hydrocarbon compounds such as cyclohexene, methylcyclohexene, methylenecyclohexane, norbornylene, ethylidenecyclohexane, vinylcyclohexane, allylcyclohexane, camphene, carene, α-pinene, β-pinene, etc. Styrene, α-methylstyrene, indene, phenylacetylene, 4-ethynyltoluene, a Aromatic hydrocarbon compounds such as rubenzene and 4-phenyl-1-butene; allyl ethers such as alkyl allyl ether and allyl phenyl ether, glycerin monoallyl ether, ethylene glycol monoallyl ether, 4-vinyl-1,3- Aliphatic compounds such as dioxolan-2-one; Aromatic compounds such as 1,2-dimethoxy-4-allylbenzene, allylanisole, o-allylphenol; monoallyl dibenzyl isocyanurate, monoallyl diglycidyl Substituted isocyanurates such as isocyanurate; silicon compounds such as vinyltrimethylsilane, vinyltrimethoxysilane, and vinyltriphenylsilane. Furthermore, polyether resins such as one-end allylated polyethylene oxide and one-end allylated polypropylene oxide; hydrocarbon resins such as one-end allylated polyisobutylene; one-end allylated polybutyl acrylate, one-end allylated polymethyl methacrylate Examples thereof also include polymers or oligomers having a vinyl group at one end, such as acrylic resins.

(B)成分の構造は、線状でも枝分かれ状でもよい。
(B)成分の分子量は、特に制約はなく種々のものを用いることができる。
取扱い性が良い粘度であるという点からは、(B)成分の分子量は500以下が好ましく、300以下がより好ましい。
また、(B)成分を、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの4つのSiH基に対して、確率論的にヒドロシリル化反応するという点からは、(B)成分の分子量は200以下が好ましく、100以下がより好ましい。
逆に、(B)成分を、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの4つのSiH基に対して、2個を優先してヒドロシリル化反応するという点からは、(B)成分の分子量は100以上が好ましく、200以上がより好ましい。
The structure of component (B) may be linear or branched.
The molecular weight of the component (B) is not particularly limited, and various types can be used.
The molecular weight of the component (B) is preferably 500 or less, more preferably 300 or less, from the viewpoint that the viscosity is easy to handle.
In addition, from the point that the component (B) undergoes a hydrosilylation reaction stochastically with respect to four SiH groups of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, the molecular weight of the component (B) is 200 or less is preferable and 100 or less is more preferable.
On the contrary, the component (B) is a component (B) from the viewpoint that two components are preferentially reacted with respect to four SiH groups of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane. The molecular weight of is preferably 100 or more, more preferably 200 or more.

(B)成分の分子量分布も特に制限はないが、反応生成物の粘度が低くなりやすいという点においては、分子量分布が3以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましく、1.5以下であることがさらに好ましい。 The molecular weight distribution of the component (B) is not particularly limited, but the molecular weight distribution is preferably 3 or less, more preferably 2 or less in that the viscosity of the reaction product tends to be low. More preferably, it is 5 or less.

(B)成分のガラス転移温度が存在する場合は、特に限定はなく種々のものが用いられるる。
得られる硬化物が強靭となりやすいという点においては、ガラス転移温度は100℃以下であることが好ましく、50℃以下であることがより好ましく、0℃以下であることがさらに好ましい。好ましい樹脂の例としてはポリブチルアクリレート樹脂等が挙げられる。
逆に、得られる硬化物の耐熱性が高くなるという点においては、ガラス転移温度は100℃以上であることが好ましく、120℃以上であることがより好ましく、150℃以上であることがさらに好ましく、170℃以上であることが最も好ましい。
当該ガラス転移温度は、動的粘弾性測定においてtanδが極大を示す温度として求めることができる。
When the glass transition temperature of (B) component exists, there is no limitation and various things are used.
The glass transition temperature is preferably 100 ° C. or lower, more preferably 50 ° C. or lower, and further preferably 0 ° C. or lower in that the obtained cured product is likely to be tough. Examples of preferred resins include polybutyl acrylate resins.
On the contrary, the glass transition temperature is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and further preferably 150 ° C. or higher in that the heat resistance of the resulting cured product is increased. Most preferably, it is 170 ° C. or higher.
The glass transition temperature can be determined as a temperature at which tan δ exhibits a maximum in dynamic viscoelasticity measurement.

(B)成分としては、得られる硬化物の耐光性が高くなるという点においては、脂肪族炭化水素化合物であることが好ましい。この場合、好ましい炭素数の下限は2であり、好ましい炭素数の上限は10である。
(B)成分としては、得られる硬化物の耐熱性が高くなるという点においては、芳香族炭化水素化合物であることが好ましい。この場合、好ましい炭素数の下限は7であり、好ましい炭素数の上限は10である。
The component (B) is preferably an aliphatic hydrocarbon compound from the viewpoint that the light resistance of the resulting cured product is increased. In this case, the lower limit of the preferable carbon number is 2, and the upper limit of the preferable carbon number is 10.
The component (B) is preferably an aromatic hydrocarbon compound in that the cured product to be obtained has high heat resistance. In this case, the lower limit of the preferable carbon number is 7, and the upper limit of the preferable carbon number is 10.

(B)成分は、その他の反応性基を有していてもよい。
当該反応性基としては、エポキシ基、アミノ基、ラジカル重合性不飽和基、カルボキシル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アルコキシシリル基、ビニロキシル基、酸無水物基等が挙げられる。これらの官能基を有している場合には、得られる硬化性組成物の接着性が高くなりやすく、得られる硬化物の強度が高くなりやすい。接着性がより高くなりうるという点からは、これらの官能基のうちエポキシ基が好ましい。また、得られる硬化物の耐熱性が高くなりやすいという点においては、反応性基を平均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。
The component (B) may have other reactive groups.
Examples of the reactive group include an epoxy group, an amino group, a radical polymerizable unsaturated group, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, an alkoxysilyl group, a vinyloxyl group, and an acid anhydride group. When it has these functional groups, the adhesiveness of the resulting curable composition tends to be high, and the strength of the resulting cured product tends to be high. Of these functional groups, an epoxy group is preferable from the viewpoint that the adhesiveness can be further increased. Moreover, it is preferable to have 1 or more reactive groups in one molecule on average from the point that the heat resistance of the obtained cured product tends to be high.

当該(B)成分としては、具体的には、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、アリルグリシジルエーテル、アリルビニルエーテル、アリルメタクリレート、アリロキシエチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリロキシエチルアクリレート、ビニルトリメトキシシラン、4−ビニルシクロヘキセン−1−オキシド等が挙げられる。なかでも、アリルグリシジルエーテルが特に好ましい。
上記のような(B)成分としては、単一のものを用いてもよいし、複数のものを組み合わせて用いてもよい。
Specific examples of the component (B) include monoallyl diglycidyl isocyanurate, allyl glycidyl ether, allyl vinyl ether, allyl methacrylate, allyloxyethyl methacrylate, allyl acrylate, allyloxyethyl acrylate, vinyltrimethoxysilane, 4- Examples include vinylcyclohexene-1-oxide. Of these, allyl glycidyl ether is particularly preferable.
As the above component (B), a single component may be used, or a plurality of components may be used in combination.

((C)成分)
本発明の(C)成分について説明する。
(C)成分としては、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機化合物であれば特に限定されないが、(A)成分を(B)成分とヒドロシリル化反応した後、さらに(C)成分をヒドロシリル化反応して得られるSiH基含有化合物の極性を高くするという点においては、(C)成分としてはポリシロキサン−有機ブロックコポリマーやポリシロキサン−有機グラフトコポリマーのようなシロキサン単位(Si−O−Si)を含むものではなく、構成元素としてC、H、N、O、S、及びハロゲンのみを含むものであることが好ましい。
SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の結合位置は特に限定されず、分子内のどこに存在してもよい。
((C) component)
The component (C) of the present invention will be described.
The component (C) is not particularly limited as long as it is an organic compound containing at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule, but the component (A) and the component (B) In terms of increasing the polarity of the SiH group-containing compound obtained by hydrosilylating the component (C) after the hydrosilylation reaction, the component (C) may be a polysiloxane-organic block copolymer or polysiloxane-organic. It is preferable not to contain a siloxane unit (Si—O—Si) like a graft copolymer but to contain only C, H, N, O, S, and halogen as constituent elements.
The bonding position of the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group is not particularly limited, and may be present anywhere in the molecule.

(C)成分の有機化合物は、有機重合体系化合物と有機単量体系化合物に分類できる。
有機重合体系化合物としては、例えば、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリアリレート系、ポリカーボネート系、飽和炭化水素系、不飽和炭化水素系、ポリアクリル酸エステル系、ポリアミド系、フェノール−ホルムアルデヒド系(フェノール樹脂系)、ポリイミド系の化合物等を用いることができる。
有機単量体系化合物としては、例えば、フェノール系、ビスフェノール系、ベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素系、直鎖系、脂環系等の脂肪族炭化水素系、複素環系の化合物及びこれらの混合物等が挙げられる。
The organic compound (C) can be classified into an organic polymer compound and an organic monomer compound.
Examples of organic polymer compounds include polyether-based, polyester-based, polyarylate-based, polycarbonate-based, saturated hydrocarbon-based, unsaturated hydrocarbon-based, polyacrylate ester-based, polyamide-based, phenol-formaldehyde-based (phenolic resin). System), polyimide compounds, and the like.
Examples of organic monomer compounds include aromatic hydrocarbons such as phenols, bisphenols, benzene, and naphthalene, linear hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons such as alicyclics, heterocyclic compounds, and the like. A mixture etc. are mentioned.

(C)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては、特に限定されないが、下記一般式(II) Although it does not specifically limit as a carbon-carbon double bond which has reactivity with SiH group of (C) component, The following general formula (II)

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは水素原子あるいはメチル基を表す。)で示される基が、反応性の点から好適である。また、原料の入手の容易さからは、 A group represented by the formula (wherein R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group) is preferable from the viewpoint of reactivity. In addition, from the availability of raw materials,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

で示される基が特に好ましい。
(C)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合としては、下記一般式(III)
Is particularly preferred.
As the carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group of component (C), the following general formula (III)

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは水素原子あるいはメチル基を表す。それぞれのRは異なっていても同一であってもよい。)で表される部分構造を環内に有する脂環式の基が、硬化物の耐熱性が高いという点から好適である。また、原料の入手の容易さからは、下記式で表される部分構造を環内に有する脂環式の基が好適である。 (In the formula, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group. Each R 3 may be different or the same), and the alicyclic group having a partial structure in the ring is cured. This is preferable because the heat resistance of the object is high. Moreover, from the ease of acquisition of a raw material, the alicyclic group which has the partial structure represented by a following formula in a ring is suitable.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合は、(C)成分の骨格部分に直接結合していてもよく、2価以上の置換基を介して共有結合していても良い。
2価以上の置換基としては、炭素数0〜10の置換基であれば特に限定されないが、構成元素としてC、H、N、O、S、及びハロゲンのみを含むものが好ましい。これらの置換基の例としては、
The carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group may be directly bonded to the skeleton portion of the component (C) or may be covalently bonded via a divalent or higher valent substituent.
The divalent or higher valent substituent is not particularly limited as long as it is a substituent having 0 to 10 carbon atoms, but preferably includes only C, H, N, O, S, and halogen as constituent elements. Examples of these substituents include

Figure 0004782476
Figure 0004782476

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。また、これらの2価以上の置換基の2つ以上が共有結合によりつながって1つの2価以上の置換基を構成していてもよい。 Etc. Moreover, two or more of these divalent or higher valent substituents may be connected by a covalent bond to constitute one divalent or higher valent substituent.

以上のような骨格部分に共有結合する基の例としては、ビニル基、アリル基、メタリル基、アクリル基、メタクリル基、2−ヒドロキシ−3−(アリルオキシ)プロピル基、2−アリルフェニル基、3−アリルフェニル基、4−アリルフェニル基、2−(アリルオキシ)フェニル基、3−(アリルオキシ)フェニル基、4−(アリルオキシ)フェニル基、2−(アリルオキシ)エチル基、2,2−ビス(アリルオキシメチル)ブチル基、3−アリルオキシ−2,2−ビス(アリルオキシメチル)プロピル基、 Examples of the group covalently bonded to the skeleton as described above include vinyl group, allyl group, methallyl group, acrylic group, methacryl group, 2-hydroxy-3- (allyloxy) propyl group, 2-allylphenyl group, 3 -Allylphenyl group, 4-allylphenyl group, 2- (allyloxy) phenyl group, 3- (allyloxy) phenyl group, 4- (allyloxy) phenyl group, 2- (allyloxy) ethyl group, 2,2-bis (allyl) Oxymethyl) butyl group, 3-allyloxy-2,2-bis (allyloxymethyl) propyl group,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
(C)成分の具体的な例としては、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、1,1,2,2−テトラアリロキシエタン、ジアリリデンペンタエリスリット、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン類(純度50〜100%のもの、好ましくは純度80〜100%のもの)、ジビニルビフェニル、1,3−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、ビスフェノールAのジアリルエーテル、ビスフェノールSのジアリルエーテル、及びそれらのオリゴマー、1,2−ポリブタジエン(1,2比率10〜100%のもの、好ましくは1,2比率50〜100%のもの)、ノボラックフェノールのアリルエーテル、アリル化ポリフェニレンオキサイド、
Etc.
Specific examples of the component (C) include diallyl phthalate, triallyl trimellitate, diethylene glycol bisallyl carbonate, trimethylolpropane diallyl ether, pentaerythritol triallyl ether, 1,1,2,2-tetraallyloxyethane. Diarylidene pentaerythritol, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, 1,2,4-trivinylcyclohexane, divinylbenzenes (having a purity of 50 to 100%, preferably having a purity of 80 to 100%) , Divinylbiphenyl, 1,3-diisopropenylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, diallyl monoglycidyl isocyanurate, diallyl ether of bisphenol A, diallyl ether of bisphenol S, and oligos thereof Chromatography, 1,2-polybutadiene (1,2 ratio 10-100% of those, preferably 1,2 ratio 50-100% of those), allyl ether of novolak phenol, allylated polyphenylene oxide,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

Figure 0004782476
Figure 0004782476

の他、従来公知のエポキシ樹脂のグリシジル基の一部あるいは全部をアリル基に置き換えたもの等が挙げられる。 In addition, there may be mentioned those in which part or all of the glycidyl group of a conventionally known epoxy resin is replaced with an allyl group.

(C)成分としては、上記のように骨格部分とアルケニル基とに分けて表現しがたい、低分子量化合物も用いることができる。
当該低分子量化合物の具体例としては、ブタジエン、イソプレン、オクタジエン、デカジエン等の脂肪族鎖状ポリエン化合物系;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、ノルボルナジエン等の脂肪族環状ポリエン化合物系;ビニルシクロペンテン、ビニルシクロヘキセン等の置換脂肪族環状オレフィン化合物系等が挙げられる。
As the component (C), it is also possible to use low molecular weight compounds that are difficult to express separately as described above for the skeleton and alkenyl groups.
Specific examples of the low molecular weight compounds include aliphatic chain polyene compound systems such as butadiene, isoprene, octadiene and decadiene; aliphatics such as cyclopentadiene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene and norbornadiene. Cyclic polyene compound systems; substituted aliphatic cyclic olefin compound systems such as vinylcyclopentene and vinylcyclohexene.

(C)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の数は、平均して1分子当たり少なくとも2個あればよいが、本製造方法によって得られるSiH含有化合物を用いて、硬化物を作成する場合に、力学強度をより向上したい場合には2個を越えることが好ましく、3個以上であることがより好ましい。(C)成分のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の数が1分子当たり1個以下の場合は、(A)成分と反応してもグラフト構造となるのみで架橋構造とならない。 The number of carbon-carbon double bonds that are reactive with the SiH group of component (C) should be at least two on average per molecule, but curing can be carried out using the SiH-containing compound obtained by this production method. When creating a product, if it is desired to further improve the mechanical strength, the number is preferably more than 2, more preferably 3 or more. When the number of carbon-carbon double bonds reactive with the SiH group of the component (C) is 1 or less per molecule, even if it reacts with the component (A), it will only become a graft structure but not a crosslinked structure. .

(C)成分としては、反応性が良好であるという観点からは、1分子中にビニル基を1個以上含有していることが好ましく、1分子中にビニル基を2個以上含有していることがより好ましい。また貯蔵安定性が良好となりやすいという観点からは、1分子中にビニル基を6個以下含有していることが好ましく、1分子中にビニル基を4個以下含有していることがより好ましい。 As the component (C), from the viewpoint of good reactivity, it is preferable that one or more vinyl groups are contained in one molecule, and two or more vinyl groups are contained in one molecule. It is more preferable. Further, from the viewpoint that the storage stability tends to be good, it is preferable that 6 or less vinyl groups are contained in one molecule, and it is more preferable that 4 or less vinyl groups are contained in one molecule.

(C)成分としては、本製造方法により得られるSiH含有化合物がゲル化し難く、かつ低粘度であるという点からは、1分子中のSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合の数が、4個以下であることが好ましく、2〜3個であることがより好ましい。
(C)成分としては、本製造方法により得られるSiH含有化合物を用いて、硬化物を作成する場合に、力学的耐熱性が高いという観点、かつ取扱い性が良い粘度であるという点からは、分子量が900未満のものが好ましく、700未満のものがより好ましく、500未満のものがさらに好ましい。
なかでも、1分子中にSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を2〜3個含有し、かつ、分子量が900未満である(C)成分が好ましい。さらに、1分子中にSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を2〜3個含有し、かつ、分子量が500未満である(C)成分が特に好ましい。
As the component (C), the number of carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule from the viewpoint that the SiH-containing compound obtained by this production method is difficult to gel and has low viscosity. Is preferably 4 or less, more preferably 2 to 3.
As the component (C), when a cured product is prepared using the SiH-containing compound obtained by the present production method, from the viewpoint of high mechanical heat resistance and a viscosity with good handleability, The molecular weight is preferably less than 900, more preferably less than 700, and even more preferably less than 500.
Of these, the component (C) having 2 to 3 carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule and having a molecular weight of less than 900 is preferable. Furthermore, the component (C) having 2 to 3 carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule and having a molecular weight of less than 500 is particularly preferable.

(C)成分としては、本製造方法により得られるSiH含有化合物を用いて、硬化物を作成する場合に、他の成分との均一な混合性及び良好な作業性を得るためには、その粘度が、23℃において100Pa・s未満のものが好ましく、30Pa・s未満のものがより好ましく、3Pa・s未満のものがさらに好ましい。
なお、当該粘度は、E型粘度計によって測定することができる。
As the component (C), when a cured product is prepared using the SiH-containing compound obtained by the present production method, in order to obtain uniform mixing properties with other components and good workability, the viscosity thereof is used. However, at 23 ° C., those less than 100 Pa · s are preferred, those less than 30 Pa · s are more preferred, and those less than 3 Pa · s are even more preferred.
The viscosity can be measured with an E-type viscometer.

(C)成分としては、本製造方法により得られるSiH含有化合物を用いて、硬化物を作成する場合に、硬化物の着色、特に黄変の抑制の観点からは、フェノール性水酸基及び/又はフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量が少ないものが好ましく、フェノール性水酸基及び/又はフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物を含まないものが好ましい。
本発明におけるフェノール性水酸基とは、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等に例示される芳香族炭化水素核に直接結合した水酸基を示し、フェノール性水酸基の誘導体とは、上述のフェノール性水酸基の水素原子を、メチル基、エチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、アセトキシ基等のアシル基等により置換した基を示す。
As the component (C), when a cured product is prepared using the SiH-containing compound obtained by the present production method, from the viewpoint of suppressing the coloring of the cured product, particularly yellowing, a phenolic hydroxyl group and / or phenol. A compound having a low content of a compound having a derivative of a phenolic hydroxyl group is preferred, and a compound having no phenolic hydroxyl group and / or a compound having a derivative of a phenolic hydroxyl group is preferred.
The phenolic hydroxyl group in the present invention refers to a hydroxyl group directly bonded to an aromatic hydrocarbon nucleus exemplified by a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc., and the phenolic hydroxyl group derivative refers to the hydrogen of the above-mentioned phenolic hydroxyl group. A group in which an atom is substituted with an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, an alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group, an acyl group such as an acetoxy group, or the like is shown.

(C)成分としては、本製造方法により得られるSiH含有化合物を用いて、硬化物を作成する場合に、硬化物の着色が少なく、耐光性が高いという観点からは、ビニルシクロヘキセン、ジシクロペンタジエン、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジアリルエーテル、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンが好ましく、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンのジアリルエーテル、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンが特に好ましい。 As the component (C), when a cured product is prepared using the SiH-containing compound obtained by the present production method, vinylcyclohexene and dicyclopentadiene are used from the viewpoint that the cured product is less colored and has high light resistance. , Triallyl isocyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanurate, diallyl ether of 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 1,2,4-trivinylcyclohexane, triallyl isocyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanurate 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane diallyl ether and 1,2,4-trivinylcyclohexane are particularly preferred.

(C)成分は、その他の反応性基を有していてもよい。
当該反応性基としては、エポキシ基、アミノ基、ラジカル重合性不飽和基、カルボキシル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、アルコキシシリル基、酸無水物基等が挙げられる。これらの官能基を有している場合には、本製造方法により得られるSiH含有化合物を用いて、硬化物を作成する場合に、得られる硬化性組成物の接着性が高くなりやすく、得られる硬化物の強度が高くなりやすい。接着性がより高くなりうるという点からは、これらの官能基のうちエポキシ基が好ましい。また、得られる硬化物の耐熱性が高くなりやすいという点においては、反応性基を平均して1分子中に1個以上有していることが好ましい。
また、(C)成分としては、耐熱性・耐光性が高いという観点から、下記一般式(IV)
The component (C) may have other reactive groups.
Examples of the reactive group include an epoxy group, an amino group, a radical polymerizable unsaturated group, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, an alkoxysilyl group, and an acid anhydride group. When these functional groups are included, when a cured product is prepared using the SiH-containing compound obtained by the present production method, the adhesive property of the resulting curable composition is likely to be high and obtained. The strength of the cured product tends to increase. Of these functional groups, an epoxy group is preferable from the viewpoint that the adhesiveness can be further increased. Moreover, it is preferable to have 1 or more reactive groups in one molecule on average from the point that the heat resistance of the obtained cured product tends to be high.
In addition, as the component (C), from the viewpoint of high heat resistance and light resistance, the following general formula (IV)

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは炭素数1〜50の一価の有機基を表し、それぞれのRは異なっていても同一であってもよい。)で表される有機化合物が好ましく、トリアリルイソシアヌレート及びその誘導体が特に好ましい。 (Wherein R 4 represents a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms, and each R 4 may be different or the same) and is preferably a triallyl isocyanurate. And its derivatives are particularly preferred.

上記一般式(IV)のRとしては、得られる硬化物の耐熱性がより高くなりうるという観点からは、炭素数1〜20の一価の有機基であることが好ましく、炭素数1〜10の一価の有機基であることがより好ましく、炭素数1〜4の一価の有機基であることがさらに好ましい。これらの好ましいRの例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニル基、アリル基、グリシジル基、 R 4 in the general formula (IV) is preferably a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms from the viewpoint that the heat resistance of the obtained cured product can be further increased. 10 monovalent organic groups are more preferable, and monovalent organic groups having 1 to 4 carbon atoms are more preferable. Examples of these preferable R 4 are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, vinyl group, allyl group, glycidyl group,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
上記一般式(IV)のRとしては、得られる硬化物の各種材料との接着性が良好になりうるという観点からは、3つのRのうち少なくとも1つがエポキシ基を一つ以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることが好ましく、
Etc.
R 4 in the general formula (IV) is a carbon in which at least one of the three R 4 s contains one or more epoxy groups from the viewpoint that adhesion of the obtained cured product to various materials can be improved. A monovalent organic group of 1 to 50 is preferable,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

で表されるエポキシ基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることがより好ましい。これらの好ましいRの例としては、グリシジル基、 It is more preferable that it is a C1-C50 monovalent organic group containing 1 or more of epoxy groups represented by these. Examples of these preferred R 4 include glycidyl group,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
上記一般式(IV)のRとしては、得られる硬化物の化学的な熱安定性が良好になりうるという観点からは、2個以下の酸素原子を含みかつ構成元素としてC、H、Oのみを含む炭素数1〜50の一価の有機基であることが好ましく、炭素数1〜50の一価の炭化水素基であることがより好ましい。これらの好ましいRの例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ビニル基、アリル基、グリシジル基、
Etc.
As R 4 in the general formula (IV), from the viewpoint that the chemical thermal stability of the resulting cured product can be improved, it contains 2 or less oxygen atoms and contains C, H, O as constituent elements. It is preferably a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms, and more preferably a monovalent hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms. Examples of these preferable R 4 are methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, vinyl group, allyl group, glycidyl group,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
上記一般式(IV)のRとしては、反応性が良好になるという観点からは、3つのRのうち少なくとも1つが、
Etc.
As R 4 in the above general formula (IV), at least one of the three R 4 is selected from the viewpoint of good reactivity.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることが好ましく、下記一般式(V) It is preferable that it is a C1-C50 monovalent organic group containing 1 or more groups represented by general formula (V) below.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは水素原子あるいはメチル基を表す。)で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることがより好ましく、
3つのRのうち少なくとも2つが、下記一般式(VI)
(Wherein R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group), and more preferably a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms and containing at least one group represented by:
At least two of the three R 4 are represented by the following general formula (VI)

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の有機基を表し、Rは水素原子あるいはメチル基を表す。複数のR及びRはそれぞれ異なっていても同一であってもよい。)で表される基を1個以上含む炭素数1〜50の一価の有機基であることがさらに好ましい。 (Wherein R 6 represents a direct bond or a divalent organic group having 1 to 48 carbon atoms, and R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group. The plurality of R 6 and R 7 may be the same even if they are different from each other. It is more preferable that it is a C1-C50 monovalent organic group containing 1 or more groups represented by this.

上記一般式(VI)のRは、直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の有機基であるが、得られる硬化物の耐熱性がより高くなりうるという観点からは、直接結合あるいは炭素数1〜20の二価の有機基であることが好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜10の二価の有機基であることがより好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜4の二価の有機基であることがさらに好ましい。これらの好ましいRの例としては、 R 6 in the general formula (VI) is a direct bond or a divalent organic group having 1 to 48 carbon atoms. From the viewpoint that the obtained cured product can have higher heat resistance, the direct bond or carbon It is preferably a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a direct bond or a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms, and a direct bond or a divalent organic group having 1 to 4 carbon atoms. More preferably, it is a group. Examples of these preferred R 6 include

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
上記一般式(VI)のRとしては、得られる硬化物の化学的な熱安定性が良好になりうるという観点からは、直接結合あるいは2つ以下の酸素原子を含みかつ構成元素としてC、H、Oのみを含む炭素数1〜48の二価の有機基であることが好ましく、直接結合あるいは炭素数1〜48の二価の炭化水素基であることがより好ましい。これらの好ましいRの例としては、
Etc.
As R 6 in the general formula (VI), from the viewpoint that the chemical thermal stability of the resulting cured product can be improved, it is a direct bond or contains two or less oxygen atoms and contains C as a constituent element. It is preferably a C1-C48 divalent organic group containing only H and O, more preferably a direct bond or a C1-C48 divalent hydrocarbon group. Examples of these preferred R 6 include

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
上記一般式(VI)のRは、水素原子あるいはメチル基であるが、反応性が良好であるという観点からは、水素原子が好ましい。
Etc.
R 7 in the general formula (VI) is a hydrogen atom or a methyl group, and a hydrogen atom is preferable from the viewpoint of good reactivity.

ただし、上記のような一般式(IV)で表される有機化合物の好ましい例においても、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有することは必要である。耐熱性をより向上し得るという観点からは、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に3個以上含有する有機化合物であることがより好ましい。
以上のような一般式(IV)で表される有機化合物の好ましい具体例としては、トリアリルイソシアヌレート、
However, in the preferred examples of the organic compound represented by the general formula (IV) as described above, it is necessary to contain at least two carbon-carbon double bonds having reactivity with the SiH group in one molecule. is there. From the viewpoint that heat resistance can be further improved, an organic compound containing three or more carbon-carbon double bonds having reactivity with SiH groups in one molecule is more preferable.
Preferred specific examples of the organic compound represented by the above general formula (IV) include triallyl isocyanurate,

Figure 0004782476
Figure 0004782476

等が挙げられる。
硬化物の接着性向上のためには、(C)成分としては、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、ビスフェノールSのジアリルエーテルが好ましい。
(C)成分は、単独又は2種以上のものを用いることが可能である。
Etc.
In order to improve the adhesiveness of the cured product, as the component (C), diallyl monoglycidyl isocyanurate and diallyl ether of bisphenol S are preferable.
Component (C) can be used alone or in combination of two or more.

((D)成分)
本発明の(D)成分であるヒドロシリル化触媒について説明する。
ヒドロシリル化触媒としては、ヒドロシリル化反応の触媒活性があれば特に限定されないが、例えば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−オレフィン錯体(例えば、Pt(CH=CH(PPh、Pt(CH=CHCl)、白金−ビニルシロキサン錯体(例えば、Pt(ViMeSiOSiMeVi)、Pt[(MeViSiO))、白金−ホスフィン錯体(例えば、Pt(PPh、Pt(PBu)、白金−ホスファイト錯体(例えば、Pt[P(OPh)、Pt[P(OBu))(式中、Meはメチル基、Buはブチル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表し、n、mは、整数を示す。)、ジカルボニルジクロロ白金、カールシュテト(Karstedt)触媒、アシュビー(Ashby)の米国特許第3159601号及び3159662号明細書中に記載された白金−炭化水素複合体、ラモロー(Lamoreaux)の米国特許第3220972号明細書中に記載された白金アルコラート触媒等が挙げられる。さらに、モディック(Modic)の米国特許第3516946号明細書中に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明において有用である。
((D) component)
The hydrosilylation catalyst that is the component (D) of the present invention will be described.
The hydrosilylation catalyst is not particularly limited as long as it has a catalytic activity for the hydrosilylation reaction. For example, a platinum simple substance, a support made of alumina, silica, carbon black or the like on which solid platinum is supported, chloroplatinic acid, platinum chloride Complexes of acids with alcohols, aldehydes, ketones, etc., platinum-olefin complexes (eg, Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 (PPh 3 ) 2 , Pt (CH 2 ═CH 2 ) 2 Cl 2 ), platinum-vinyl Siloxane complexes (eg, Pt (ViMe 2 SiOSiMe 2 Vi) n , Pt [(MeViSiO) 4 ] m ), platinum-phosphine complexes (eg, Pt (PPh 3 ) 4 , Pt (PBu 3 ) 4 ), platinum-phos Fight complexes (e.g., Pt [P (OPh) 3 ] 4, Pt [P (OBu) 3] 4) ( in the formula, Me represents a methyl group, u represents a butyl group, Vi represents a vinyl group, Ph represents a phenyl group, and n and m represent an integer.), dicarbonyldichloroplatinum, Karstedt catalyst, Ashby U.S. Pat. No. 3,159,601 and And platinum-hydrocarbon composites described in US Pat. No. 3,159,662, and platinum alcoholate catalysts described in US Pat. No. 3,220,972 to Lamoreaux. In addition, platinum chloride-olefin complexes described in Modic US Pat. No. 3,516,946 are also useful in the present invention.

また、白金化合物以外の触媒の例としては、RhCl(PPh)、RhCl、RhAl、RuCl、IrCl、FeCl、AlCl、PdCl・2HO、NiCl、TiCl等が挙げられる。
これらの中では、触媒活性の点から塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体等が好ましい。
また、これらの触媒は、単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
Examples of catalysts other than platinum compounds include RhCl (PPh) 3 , RhCl 3 , RhAl 2 O 3 , RuCl 3 , IrCl 3 , FeCl 3 , AlCl 3 , PdCl 2 .2H 2 O, NiCl 2 , TiCl 4. Etc.
Of these, chloroplatinic acid, platinum-olefin complexes, platinum-vinylsiloxane complexes and the like are preferable from the viewpoint of catalytic activity.
Moreover, these catalysts may be used independently and may be used together 2 or more types.

ヒドロシリル化触媒の添加量は特に限定されないが、十分なヒドロシリル化反応性を有し、かつ得られるSiH基含有化合物の保存安定性を良くする、かつSiH基含有化合物の製造におけるコストを比較的低く抑えるために好ましい触媒の添加量は、添加するPt原子のモル数を(X)、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合のモル数を(Y)とすると、X/Yが10−3以下、より好ましくはX/Yが10−4以下、さらに好ましくはX/Yが10−5以下である。 The addition amount of the hydrosilylation catalyst is not particularly limited, but has sufficient hydrosilylation reactivity, improves the storage stability of the resulting SiH group-containing compound, and lowers the cost in producing the SiH group-containing compound. The preferable amount of the catalyst added to suppress it is that X / Y is 10 when the number of moles of Pt atoms to be added is (X) and the number of moles of carbon-carbon double bonds reactive with SiH groups is (Y). −3 or less, more preferably X / Y is 10 −4 or less, and further preferably X / Y is 10 −5 or less.

また、上記触媒には助触媒を併用することが可能である。
助触媒としては、トリフェニルフォスフィン等のリン系化合物、ジメチルマレート等の1,2−ジエステル系化合物、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ブチン等のアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄等の硫黄系化合物等が挙げられる。
助触媒の添加量は特に限定されないが、上記ヒドロシリル化触媒1モルに対して、好ましい添加量の下限は10−2モル、より好ましくは10−1モルであり、好ましい添加量の上限は10モル、より好ましくは10モルである。
In addition, a cocatalyst can be used in combination with the catalyst.
Co-catalysts include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, 1,2-diester compounds such as dimethyl malate, acetylene alcohol compounds such as 2-hydroxy-2-methyl-1-butyne, single sulfur, etc. And sulfur compounds.
The addition amount of the cocatalyst is not particularly limited, but the lower limit of the preferable addition amount is 10 −2 mol, more preferably 10 −1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 2 with respect to 1 mol of the hydrosilylation catalyst. Mol, more preferably 10 mol.

尚、本製造方法において添加したヒドロシリル化触媒を除去することなく、得られたSiH基含有化合物を室温以下で保存することができ、かつ硬化物を作成するために使用できる。 The obtained SiH group-containing compound can be stored at room temperature or lower without removing the hydrosilylation catalyst added in the present production method, and can be used for preparing a cured product.

((A)成分と(B)成分と(C)成分の反応)
(A)成分と(B)成分と(C)成分のヒドロシリル化反応に関して説明する。
本製造方法により得られるSiH基含有化合物は、(A)1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物に、(B)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物と、(C)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、ヒドロシリル化反応させることにより得られる、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物であれば特に限定されない。(A)成分と(B)成分及び(C)成分のヒドロシリル化反応は、(D)成分のヒドロシリル化触媒の存在下で行う。
なお、本製造方法により得られるSiH基含有化合物は、(A)成分と(B)成分をヒドロシリル化反応した化合物を含む複数の化合物の混合物であるが、そこから(A)成分と(B)成分をヒドロシリル化反応した化合物を分離することなく、混合物のままで硬化性組成物として使用できる。
(Reaction of (A) component, (B) component and (C) component)
The hydrosilylation reaction of the component (A), the component (B), and the component (C) will be described.
The SiH group-containing compound obtained by this production method is (A) a chain and / or cyclic polyorganosiloxane compound having at least three SiH groups in one molecule, and (B) has reactivity with SiH groups. Hydrosilylation reaction of a compound containing one carbon-carbon double bond in one molecule and (C) a compound containing at least two carbon-carbon double bonds reactive with SiH group in one molecule If it is a compound which contains at least 2 SiH group in 1 molecule obtained by making it do, it will not specifically limit. The hydrosilylation reaction of the component (A), the component (B), and the component (C) is performed in the presence of the hydrosilylation catalyst of the component (D).
The SiH group-containing compound obtained by this production method is a mixture of a plurality of compounds including a compound obtained by hydrosilylation reaction of the component (A) and the component (B). From there, the component (A) and the component (B) The mixture can be used as a curable composition as it is without separation of the compound obtained by hydrosilylation reaction of the components.

好ましい(A)成分、(B)成分及び(C)成分は、用いる(B)成分及び(C)成分の組み合わせにより異なるが、より好ましい(A)成分は、下記一般式(I) The preferred component (A), component (B) and component (C) vary depending on the combination of component (B) and component (C) used, but more preferred component (A) is represented by the following general formula (I):

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中、Rは炭素数1〜6の有機基を表し、それぞれのRは異なっていても同一であっても良い。nは3〜10の数を表す。)で表される、1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する環状オルガノポリシロキサンである。より好ましい(B)成分は、取扱い性が良い粘度であるという点から、分子量500以下、より好ましくは分子量300以下の、SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する有機化合物である。より好ましい(C)成分は、耐熱性・耐光性が高いという点から、下記一般式(IV) (Wherein R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and each R 1 may be different or the same. N represents a number of 3 to 10). It is a cyclic organopolysiloxane having at least 3 SiH groups in one molecule. A more preferable component (B) has a molecular weight of 500 or less, more preferably a molecular weight of 300 or less and a carbon-carbon double bond reactive with a SiH group in one molecule in terms of viscosity with good handleability. It is an organic compound containing a single component. More preferred component (C) is the following general formula (IV) from the viewpoint of high heat resistance and light resistance.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(式中Rは炭素数1〜50の一価の有機基を表し、それぞれのRは異なっていても同一であってもよい。)で表される有機化合物である。 (Wherein R 4 represents a monovalent organic group having 1 to 50 carbon atoms, and each R 4 may be different or the same).

上述のような、(A)成分と(B)成分及び(C)成分のヒドロシリル化反応物であるSiH基含有化合物の例としては、1−ヘキセン及びジビニルベンゼンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレン及びジビニルベンゼンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテル及びジビニルベンゼンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、1−ヘキセン及びビスフェノールAジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレン及びビスフェノールAジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテル及びビスフェノールAジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、1−ヘキセン及びビスフェノールSジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレン及びビスフェノールSジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテル及びビスフェノールSジアリルエーテルと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、1−ヘキセン及びビニルシクロヘキセンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレン及びビニルシクロヘキセンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテル及びビニルシクロヘキセンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、1−ヘキセン及びジシクロペンタジエンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレン及びジシクロペンタジエンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテル及びジシクロペンタジエンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、1−ヘキセン及びトリアリルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレン及びトリアリルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテル及びトリアリルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、1−ヘキセン及びジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、αメチルスチレン及びジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテル及びジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物等を挙げることができる。 Examples of the SiH group-containing compound that is a hydrosilylation reaction product of the components (A), (B), and (C) as described above include 1-hexene and divinylbenzene, 1,3,5,7- Reaction product of tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of α-methylstyrene and divinylbenzene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and divinylbenzene and 1,3,5,7-tetramethyl Reaction product of cyclotetrasiloxane, reaction product of 1-hexene and bisphenol A diallyl ether and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, α-methylstyrene and bisphenol A diallyl ether and 1,3,5,7- Reactants of tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and bisphenol Reaction product of diol A diallyl ether and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of 1-hexene and bisphenol S diallyl ether and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, α-methyl Reaction product of styrene and bisphenol S diallyl ether with 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of allyl glycidyl ether and bisphenol S diallyl ether with 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, Reaction product of 1-hexene and vinylcyclohexene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of α-methylstyrene and vinylcyclohexene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl Ether and vinyl Reaction product of chlorhexene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of 1-hexene and dicyclopentadiene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, α-methylstyrene and dicyclohexane Reaction product of pentadiene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of allyl glycidyl ether and dicyclopentadiene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1-hexene and triallyl Reaction product of isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, reaction product of α-methylstyrene and triallyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and Triallyl isocyanurate and 1,3,5,7- Reactant of tetramethylcyclotetrasiloxane, 1-hexene and diallyl monoglycidyl isocyanurate with 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, α-methylstyrene and diallyl monoglycidyl isocyanurate with 1,3,3 Examples thereof include a reaction product of 5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, a reaction product of allyl glycidyl ether and diallyl monoglycidyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane.

硬化物の耐光性の点から1−ヘキセン及びジビニルベンゼンと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、1−ヘキセン及びトリアリルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物が好ましい。また、耐熱性・耐光性・接着性の点からアリルグリシジルエーテル及びトリアリルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物、アリルグリシジルエーテル及びジアリルモノグリシジルイソシアヌレートと1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの反応物が好ましい。 From the point of light resistance of the cured product, a reaction product of 1-hexene and divinylbenzene and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1-hexene and triallyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetra A reaction product of methylcyclotetrasiloxane is preferred. Further, from the viewpoint of heat resistance, light resistance and adhesiveness, a reaction product of allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate and 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and diallyl monoglycidyl isocyanurate and 1 , 3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane reactant is preferred.

(A)成分に(B)成分及び(C)成分をヒドロシリル化反応させる場合の各成分の割合は特に限定されないが、反応系において、(A)成分の1分子中のSiH基の平均数(α)、(A)成分とヒドロシリル化反応する(B)成分の平均分子数(β)、(A)成分とヒドロシリル化反応する(C)成分のアリル基の数が平均して1個とすると、これら(α)と(β)の関係は、本製造方法により得られるSiH基含有化合物をゲル化することなく、かつ低粘度で取得でき、かつヒドロシリル化反応終了後に反応液中に未反応状態で残る(A)成分が、反応に使用した(A)成分の5.0%以下という点からは、(α−β)≦3.5であることが好ましく、(α−β)≦3.0であることがさらに好ましく、(α−β)≦2.5であることが最も好ましい。(α)及び(β)は各成分の仕込み時の秤量値から求めることができる。 The ratio of each component when the component (B) and the component (C) are subjected to a hydrosilylation reaction with the component (A) is not particularly limited, but in the reaction system, the average number of SiH groups in one molecule of the component (A) ( When the average number of molecular groups (β) of the component (B) that undergoes hydrosilylation reaction with the component (A) and (A) and the number of allyl groups of the component (C) that undergoes hydrosilylation reaction with the component (A) is one on average. The relationship between (α) and (β) can be obtained without gelation of the SiH group-containing compound obtained by the present production method and with low viscosity, and in the reaction solution in the unreacted state after completion of the hydrosilylation reaction. From the point that the component (A) remaining in (5) is 5.0% or less of the component (A) used in the reaction, it is preferable that (α−β) ≦ 3.5, and (α−β) ≦ 3. 0 is more preferable, and (α−β) ≦ 2.5 is most preferable. Arbitrariness. (Α) and (β) can be determined from the weighed values when each component is charged.

反応させる際の(A)成分、(B)成分、(C)成分と、(D)成分の触媒の混合方法としては、各種方法をとることができる。好ましくは、(B)成分に触媒を混合したものを、(A)成分に混合して反応させた後、得られた(A)成分と(B)成分の反応物に、(C)成分に触媒を混合したものを、混合する方法である。なお、(A)成分と(B)成分の反応後に、触媒を一旦除去してもしなくてもよいが、除去しない場合には、次の反応にも当該触媒をそのまま用いることができる。
一方、(A)成分と(B)成分の混合物や、(A)成分と(B)成分の反応物と(C)成分の混合物に、触媒を混合する方法であると、反応の制御が困難になり易い傾向がある。また、(A)成分と触媒を混合したものに、(B)成分を混合する方法の場合は、触媒の存在下、(A)成分が混入している水分と反応性を有するため、変質することがある。
Various methods can be used as a method of mixing the (A) component, (B) component, (C) component, and (D) component catalyst during the reaction. Preferably, the mixture of the component (B) with the catalyst is mixed with the component (A) and reacted, and the reaction product of the component (A) and the component (B) thus obtained is converted into the component (C). This is a method of mixing a mixture of catalysts. The catalyst may or may not be removed once after the reaction between the component (A) and the component (B). However, if the catalyst is not removed, the catalyst can be used as it is for the next reaction.
On the other hand, if the catalyst is mixed with the mixture of the component (A) and the component (B) or the mixture of the reaction product of the components (A) and (B) and the component (C), it is difficult to control the reaction. There is a tendency to become. Further, in the case of mixing the component (A) and the catalyst and the method of mixing the component (B), in the presence of the catalyst, the component (A) is reactive with the moisture mixed therein, and therefore the quality is changed. Sometimes.

全反応において反応温度としては種々設定できるが、好ましい温度範囲の下限は30℃、より好ましくは50℃であり、好ましい温度範囲の上限は200℃、より好ましくは150℃である。反応温度が30℃より低いと十分に反応させるための反応時間が長くなる傾向があり、反応温度が200℃より高いと実用的でなくなる傾向がある。反応は、一定の温度で行ってもよいが、必要に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよい。
また、反応時間、反応時の圧力も必要に応じて種々設定できる。
Although the reaction temperature can be variously set in the entire reaction, the lower limit of the preferable temperature range is 30 ° C, more preferably 50 ° C, and the upper limit of the preferable temperature range is 200 ° C, more preferably 150 ° C. If the reaction temperature is lower than 30 ° C, the reaction time for sufficient reaction tends to be long, and if the reaction temperature is higher than 200 ° C, it tends to be impractical. The reaction may be performed at a constant temperature, but the temperature may be changed in multiple steps or continuously as required.
Also, the reaction time and the pressure during the reaction can be variously set as necessary.

ヒドロシリル化反応の際に酸素を使用できる。反応容器の気相部に酸素を添加することで、ヒドロシリル化反応を促進できる。酸素の添加量を爆発限界下限以下とする点から、気相部の酸素体積濃度は3%以下に管理する必要がある。酸素添加によるヒドロシリル化反応の促進効果が見られるという点からは、気相部の酸素体積濃度は0.1%以上が好ましく、1%以上がより好ましい。 Oxygen can be used during the hydrosilylation reaction. The hydrosilylation reaction can be promoted by adding oxygen to the gas phase portion of the reaction vessel. From the point of setting the amount of oxygen to be below the lower limit of explosion limit, the oxygen volume concentration in the gas phase must be controlled to 3% or less. The oxygen volume concentration in the gas phase is preferably 0.1% or more, more preferably 1% or more, from the viewpoint that the effect of promoting the hydrosilylation reaction by addition of oxygen is observed.

ヒドロシリル化反応の際に溶媒を使用してもよい。
当該溶媒としては、ヒドロシリル化反応を阻害しない限り特に限定されるものではなく、具体的には、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒等を好適に用いることができる。
当該溶媒は、単独で用いてもよいし、2種以上の混合溶媒として用いることもできる。
上記溶媒のうち、トルエン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、クロロホルムが好ましい。使用する溶媒量も適宜設定できる。
A solvent may be used during the hydrosilylation reaction.
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the hydrosilylation reaction. Specifically, hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, heptane; tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1, 3 -Ether solvents such as dioxolane and diethyl ether; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; halogen solvents such as chloroform, methylene chloride and 1,2-dichloroethane can be preferably used.
The said solvent may be used independently and can also be used as 2 or more types of mixed solvents.
Of the above solvents, toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane and chloroform are preferred. The amount of solvent to be used can also be set as appropriate.

(A)成分に(B)成分と(C)成分をヒドロシリル化反応させた後に、溶媒、未反応の(A)成分、(B)成分、(C)成分を除去することもできる。これらの揮発分を除去することにより、得られるSiH基含有化合物が揮発分を有さないため、このSiH基含有化合物を用いて硬化物を作成する場合に、揮発分の揮発によるボイド、クラックの問題が生じにくい。
除去する方法としては、例えば、減圧脱揮の他、活性炭、ケイ酸アルミニウム、シリカゲル等による処理等が挙げられる。
減圧脱揮する場合には、低温で処理することが好ましい。この場合の好ましい温度の上限は100℃であり、より好ましくは80℃である。100℃より高温で処理すると増粘等の変質を伴いやすい傾向がある。
After the component (A) is hydrosilylated with the component (B) and the component (C), the solvent, the unreacted component (A), the component (B), and the component (C) can be removed. By removing these volatile components, the resulting SiH group-containing compound does not have volatile components. Therefore, when creating a cured product using this SiH group-containing compound, voids and cracks due to volatilization of volatile components are eliminated. Problems are less likely to occur.
Examples of the removing method include treatment with activated carbon, aluminum silicate, silica gel and the like in addition to devolatilization under reduced pressure.
When devolatilizing under reduced pressure, it is preferable to treat at a low temperature. The upper limit of the preferable temperature in this case is 100 ° C, more preferably 80 ° C. When it is processed at a temperature higher than 100 ° C., it tends to be accompanied by alteration such as thickening.

本発明の製造方法では、目的に応じて種々の添加剤を使用できる。
(ゲル化遅延剤)
本製造方法により得られるSiH基含有化合物の保存安定性を改良する目的、或いは(A)成分に(B)成分と(C)成分をヒドロシリル化反応させた後に、溶媒、未反応の(A)成分、(B)成分、(C)成分を除去する場合の減圧脱揮のときの、加熱処理による増粘等の変質を抑制する目的で、ゲル化遅延剤を使用することができる。
ゲル化遅延剤としては、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられ、これらを併用してもかまわない。
In the production method of the present invention, various additives can be used depending on the purpose.
(Gelling retarder)
For the purpose of improving the storage stability of the SiH group-containing compound obtained by this production method, or after subjecting the (A) component to the hydrosilylation reaction of the (B) component and the (C) component, the solvent, unreacted (A) A gelation retarder can be used for the purpose of suppressing alterations such as thickening due to heat treatment during vacuum devolatilization when removing the component, the component (B), and the component (C).
Examples of the gel retarder include a compound containing an aliphatic unsaturated bond, an organic phosphorus compound, an organic sulfur compound, a nitrogen-containing compound, a tin compound, an organic peroxide, etc., and these may be used in combination. .

脂肪族不飽和結合を含有する化合物としては、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、3−ヒドロキシ−3−フェニル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のプロパギルアルコール類、エン−イン化合物類、ジメチルマレート等のマレイン酸エステル類等が例示される。
有機リン化合物としては、トリオルガノフォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類等が例示される。
有機イオウ化合物としては、オルガノメルカプタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示される。
窒素含有化合物としては、ベンゾチアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイド等が例示される。
スズ系化合物としては、ハロゲン化第一スズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。
有機過酸化物としては、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香酸t−ブチル等が例示される。
Examples of the compound containing an aliphatic unsaturated bond include propargyl alcohols such as 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 3-hydroxy-3-phenyl-1-butyne and 1-ethynyl-1-cyclohexanol. And maleate esters such as ene-yne compounds and dimethyl malate.
Examples of the organophosphorus compound include triorganophosphine, diorganophosphine, organophosphon, and triorganophosphite.
Examples of organic sulfur compounds include organomercaptans, diorganosulfides, hydrogen sulfide, benzothiazole, thiazole, benzothiazole disulfide and the like.
Examples of the nitrogen-containing compound include benzothiazole, thiazole, benzothiazole disulfide and the like.
Examples of tin compounds include stannous halide dihydrate and stannous carboxylate.
Examples of the organic peroxide include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, benzoyl peroxide, and t-butyl perbenzoate.

これらのゲル化遅延剤のうち、遅延活性が良好で原料入手性がよいという観点からは、ベンゾチアゾール、チアゾール、ジメチルマレート、3−ヒドロキシ−3−メチル−1−ブチン、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、トリフェニルフォスフィンが好ましい。 Among these gelation retarders, benzothiazole, thiazole, dimethyl malate, 3-hydroxy-3-methyl-1-butyne, 1-ethynyl-1 are used from the viewpoint of good retarding activity and good raw material availability. -Cyclohexanol and triphenylphosphine are preferred.

ゲル化遅延剤の添加量は種々設定できるが、使用するヒドロシリル化触媒1molに対する好ましい添加量の下限は10−1モル、より好ましくは1モルであり、好ましい添加量の上限は10モル、より好ましくは50モルである。
また、これらのゲル化遅延剤は単独で使用してもよく、2種以上併用してもよい。
The addition amount of the gelation retarder can be variously set, but the lower limit of the preferable addition amount with respect to 1 mol of the hydrosilylation catalyst to be used is 10 −1 mol, more preferably 1 mol, and the upper limit of the preferable addition amount is 10 3 mol. Preferably it is 50 mol.
These gelation retarders may be used alone or in combination of two or more.

(溶媒)
本製造方法により得られるSiH基含有化合物が高粘度である場合、溶媒に溶解して用いることも可能である。
使用できる溶媒は特に限定されるものではなく、具体的に例示すれば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート、エチレングリコールジエチルエーテル等のグリコール系溶媒;クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒等を好適に用いることができる。
なかでも、トルエン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート、クロロホルムが好ましい。
(solvent)
When the SiH group-containing compound obtained by this production method has a high viscosity, it can be dissolved in a solvent and used.
Solvents that can be used are not particularly limited, and specific examples include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, hexane, and heptane; tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, diethyl ether, and the like. Ether solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc .; ketone solvents such as propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, ethylene glycol diethyl ether; chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane A halogen-based solvent such as can be suitably used.
Of these, toluene, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, and chloroform are preferable.

これらの溶媒は、単独で使用してもよく、2種類以上の混合溶媒として用いることもできる。
溶媒の使用量は適宜設定できるが、用いるSiH基含有化合物1gに対して、好ましい使用量の下限は0.1mLであり、好ましい使用量の上限は10mLである。使用量が0.1mLより少ないと、低粘度化等の溶媒を用いることの効果が得られにくい傾向があり、また、使用量が10mLより多いと、材料に溶媒が残留して熱クラック等の問題となり易く、またコスト的にも不利になり工業的利用価値が低下する傾向がある。
These solvents may be used alone or as a mixed solvent of two or more types.
Although the usage-amount of a solvent can be set suitably, the minimum of the preferable usage-amount is 0.1 mL with respect to 1g of SiH group containing compounds to be used, and the upper limit of a preferable usage-amount is 10 mL. If the amount used is less than 0.1 mL, there is a tendency that the effect of using a solvent such as viscosity reduction is difficult to obtain, and if the amount used is more than 10 mL, the solvent remains in the material, causing thermal cracks, etc. It tends to be a problem and is disadvantageous in terms of cost, and the industrial utility value tends to decrease.

本発明の製造方法を用いることにより、SiH基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物を製造することができる。 By using the production method of the present invention, a low-viscosity compound having at least two SiH groups can be obtained without gelation without requiring recycling of a polyorganosiloxane raw material having SiH groups. Can be manufactured.

以下に、実施例及び比較例により、本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

(分析方法)
下記実施例及び比較例において、各物性は以下のようにして測定した。
(NMR)
バリアン・テクノロジーズ・ジャパン・リミテッド製、300MHz NMR装置を用いた。アリル基の反応率は、反応液を重クロロホルムで1%程度まで希釈したものをNMR用チューブに加えて測定し、未反応アリル基由来のメチレン基のピークと、反応アリル基由来のメチレン基のピークから求めた。本製造方法により得られるSiH基含有化合物の官能基価については、適当なサンプル管にSiH基含有化合物0.02±0.005g、ジブロモエタン0.02±0.005g、重クロロホルム約1.5gを秤量し、均一にした後、NMR用チューブに加えて調製し、ジブロモエタン換算でのSiH基価(mmol/g)とアリル基価(mmol/g)を求めた。
(Analysis method)
In the following examples and comparative examples, each physical property was measured as follows.
(NMR)
A 300 MHz NMR apparatus manufactured by Varian Technologies Japan Limited was used. The reaction rate of the allyl group was measured by adding the reaction solution diluted to about 1% with deuterated chloroform to the NMR tube and measuring the peak of the methylene group derived from the unreacted allyl group and the methylene group derived from the reacted allyl group. Obtained from the peak. As for the functional group value of the SiH group-containing compound obtained by this production method, 0.02 ± 0.005 g of the SiH group-containing compound, 0.02 ± 0.005 g of dibromoethane, and about 1.5 g of deuterated chloroform are placed in an appropriate sample tube. Were weighed and made uniform, and then added to the NMR tube to prepare the SiH group value (mmol / g) and allyl group value (mmol / g) in terms of dibromoethane.

(GC)
島津製作所製、SHIMADZU GAS CHROMATOGRAPH GC−14B/C−R5Aを用いた。カラムは、SHIMADZU CBP1−M25−025を用いた。スプリット比20とした。インジェクション温度250℃、カラム温度条件50℃6分、昇温20℃/分、250℃10分とした。打込み量0.2〜0.8μlとした。
反応液中の未反応1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの組成を求めるために、信越シリコーン(株)製 LS−8660を内部標準物質、和光純薬(株)製 脱水トルエン、信越シリコーン(株)製 KF−9902を用いて検量線を作成した。サンプルの調製について、反応液2.0gに対してLS−8660を0.20g秤量したものを均一にしたものを用いた。
本製造方法により得られるSiH基含有化合物中の残揮発成分量を求めるために、信越シリコーン(株)製 LS−8660を内部標準物質、和光純薬(株)製 シクロへキサンを溶媒として、和光純薬(株)製 脱水トルエン、信越シリコーン(株)製 KF−9902、和光純薬(株)製 アリルグリシジルエーテルを用いて検量線を作成した。サンプルの調製について、LS−8660の0.20wt%シクロへキサン溶液を予め調製し、この調製溶液と、本製造方法により得られるSiH基含有化合物を等量混ぜたものを均一にしたものを用いた。
(GC)
SHIMADZU GAS CHROMATOGRAPH GC-14B / C-R5A manufactured by Shimadzu Corporation was used. As the column, SHIMADZU CBP1-M25-025 was used. The split ratio was 20. The injection temperature was 250 ° C., the column temperature was 50 ° C. for 6 minutes, the temperature was raised 20 ° C./minute, and the temperature was 250 ° C. for 10 minutes. The implantation amount was 0.2 to 0.8 μl.
In order to determine the composition of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane in the reaction solution, LS-8660 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. was used as an internal standard substance, dehydrated toluene manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., A calibration curve was prepared using KF-9902 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. For sample preparation, 0.20 g of LS-8660 was weighed with respect to 2.0 g of the reaction solution, and the sample was made uniform.
In order to determine the amount of residual volatile components in the SiH group-containing compound obtained by this production method, LS-8660 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. was used as an internal standard substance, and cyclohexane manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was used as a solvent. A calibration curve was prepared using dehydrated toluene manufactured by Kojun Pharmaceutical Co., Ltd., KF-9902 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., and allyl glycidyl ether manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. For sample preparation, a 0.20 wt% cyclohexane solution of LS-8660 was prepared in advance, and a uniform mixture of this preparation solution and an equivalent amount of the SiH group-containing compound obtained by this production method was used. It was.

(GPC)
約1重量%のトルエン溶液を調製し、WATERS社製LC MODULE1を使用、トルエン溶媒で流量1ml/min、カラム温度40℃、ポリスチレン換算、接続カラムは昭和電工社製カラム4本(KF806L/KF804L/KF8025/KF802)を用いて、RI検出器で測定した。
(GPC)
Prepare a 1% by weight toluene solution and use LC MODULE 1 manufactured by WATERS, flow rate of 1 ml / min with toluene solvent, column temperature 40 ° C., polystyrene conversion, connecting columns are 4 columns (KF806L / KF804L / Using a KF8025 / KF802), measurement was performed with an RI detector.

(粘度)
東京計器(株)製、E型粘度計を用いた。測定温度23.0℃、EHD型48φ1倍コーンで測定した。
(viscosity)
An E-type viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. was used. Measurement was performed at a measurement temperature of 23.0 ° C. and an EHD type 48φ 1-fold cone.

(比較例1)
2Lオートクレーブにトルエン696g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン463gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温105℃で加熱、攪拌した。トリアリルイソシアヌレート80g、トルエン80g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.050gの混合液を40分かけて滴下した。滴下終了から3時間後にH−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は57%だった。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンを合計5,000ppm以下まで減圧留去し、無色透明の液体を得た。
(Comparative Example 1)
696 g of toluene and 463 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed in a 2 L autoclave, the gas phase was replaced with nitrogen, and then heated and stirred at a jacket temperature of 105 ° C. A mixed solution of 80 g of triallyl isocyanurate, 80 g of toluene, and 0.050 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 40 minutes. Three hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 57%. Unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure to a total of 5,000 ppm or less to obtain a colorless and transparent liquid.

本生成物の粘度は3.0Pa・sであった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、混合物であることが示唆された。本生成物は、H−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がトリアリルイソシアヌレートのアリル基と反応したもの(下記構造式)であり、8.8mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。 The viscosity of this product was 3.0 Pa · s. When this product was measured by GPC, a multimodal chromatogram was obtained, suggesting a mixture. This product is a product in which a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane has reacted with the allyl group of triallyl isocyanurate (the following structural formula), as determined by 1 H-NMR. Yes, it was found to contain 8.8 mmol / g SiH groups.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(実施例1)
2Lオートクレーブにトルエン600g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン200gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温50℃で加熱、攪拌した。アリルグリシジルエーテル96g、トルエン96g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.027gの混合液を60分かけて滴下した。滴下終了後にジャケット温を60℃に上げて40分反応させ、H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認した。トリアリルイソシアヌレート14g、トルエン14gの混合液を滴下した後、ジャケット温を105℃に上げて、トリアリルイソシアヌレート56g、トルエン56g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.017gの混合液を30分かけて滴下した。滴下終了から4時間後にH−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は3.9%だった。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンとアリルグリシジルエーテルの副生物(アリルグリシジルエーテルのビニル基の内転移物(シス体及びトランス体))を合計5,000ppm以下まで減圧留去し、無色透明の液体を得た。
Example 1
A 2 L autoclave was charged with 600 g of toluene and 200 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, the gas phase portion was replaced with nitrogen, and the mixture was heated and stirred at a jacket temperature of 50 ° C. A mixed solution of 96 g of allyl glycidyl ether, 96 g of toluene, and 0.027 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 60 minutes. After completion of dropping, the jacket temperature was raised to 60 ° C. and reacted for 40 minutes, and it was confirmed by 1 H-NMR that the allyl group reaction rate was 95% or more. After dropwise addition of a mixed solution of 14 g of triallyl isocyanurate and 14 g of toluene, the jacket temperature was raised to 105 ° C., and 56 g of triallyl isocyanurate, 56 g of toluene and a xylene solution of a platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) 017 g of the mixed solution was dropped over 30 minutes. Four hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 3.9%. A total of 5,000 ppm or less of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, toluene and allyl glycidyl ether by-product (inner transition products of allylic glycidyl ether vinyl group (cis isomer and trans isomer)) The solution was distilled off under reduced pressure to obtain a colorless and transparent liquid.

本生成物の粘度は2.3Pa・sであった。本生成物はH−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がアリルグリシジルエーテル及びトリアリルイソシアヌレートのアリル基と反応したものであり、5.1mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルとトリアリルイソシアヌレートが反応した化合物群(下記構造式)と、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルのみの反応物群の混合物であることが示唆された。 The viscosity of this product was 2.3 Pa · s. From the measurement of 1 H-NMR, this product was obtained by reacting a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane with the allyl group of allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate, It was found to contain 5.1 mmol / g SiH groups. When this product is subjected to GPC measurement, a multimodal chromatogram is obtained, and a group of compounds in which 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate are reacted (the following structural formula) And a mixture of reactant groups of only 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and allyl glycidyl ether.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(実施例2)
2Lオートクレーブにトルエン720g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン240gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温50℃で加熱、攪拌した。アリルグリシジルエーテル171g、トルエン171g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.049gの混合液を90分かけて滴下した。滴下終了後にジャケット温を60℃に上げて40分反応させ、H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認した。トリアリルイソシアヌレート17g、トルエン17gの混合液を滴下した後、ジャケット温を105℃に上げて、トリアリルイソシアヌレート66g、トルエン66g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.033gの混合液を30分かけて滴下した。滴下終了から4時間後にH−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は0.8%だった。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンとアリルグリシジルエーテルの副生物(アリルグリシジルエーテルのビニル基の内転移物(シス体及びトランス体))を合計5,000ppm以下まで減圧留去し、無色透明の液体を得た。
(Example 2)
720 g of toluene and 240 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed in a 2 L autoclave, the gas phase was replaced with nitrogen, and then heated and stirred at a jacket temperature of 50 ° C. A mixed solution of 171 g of allyl glycidyl ether, 171 g of toluene, and 0.049 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 90 minutes. After completion of dropping, the jacket temperature was raised to 60 ° C. and reacted for 40 minutes, and it was confirmed by 1 H-NMR that the allyl group reaction rate was 95% or more. After dropwise addition of 17 g of triallyl isocyanurate and 17 g of toluene, the jacket temperature was raised to 105 ° C., and 66 g of triallyl isocyanurate, 66 g of toluene and a xylene solution of a platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) 033 g of the mixed solution was added dropwise over 30 minutes. Four hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 0.8%. A total of 5,000 ppm or less of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, toluene and allyl glycidyl ether by-product (inner transition products of allylic glycidyl ether vinyl group (cis isomer and trans isomer)) The solution was distilled off under reduced pressure to obtain a colorless and transparent liquid.

本生成物の粘度は1.8Pa・sであった。本生成物はH−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がアリルグリシジルエーテル及びトリアリルイソシアヌレートのアリル基と反応したものであり、3.9mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルとトリアリルイソシアヌレートが反応した化合物群(下記構造式)と、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルのみの反応物群の混合物であることが示唆された。 The viscosity of this product was 1.8 Pa · s. From the measurement of 1 H-NMR, this product was obtained by reacting a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane with the allyl group of allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate, It was found to contain 3.9 mmol / g SiH groups. When this product is subjected to GPC measurement, a multimodal chromatogram is obtained, and a group of compounds in which 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate are reacted (the following structural formula) And a mixture of reactant groups of only 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and allyl glycidyl ether.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(実施例3)
2Lオートクレーブにトルエン600g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン200gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温50℃で加熱、攪拌した。アリルグリシジルエーテル190g、トルエン190g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.033gの混合液を90分かけて滴下した。滴下終了後にジャケット温を60℃に上げて120分反応させ、H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認した。トリアリルイソシアヌレート14g、トルエン14gの混合液を滴下した後、ジャケット温を105℃に上げて、トリアリルイソシアヌレート56g、トルエン56g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.028gの混合液を30分かけて滴下した。滴下終了から9時間後のH−NMRによるアリル基の反応率が90%だった。冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応物は見られなかった。トルエンとアリルグリシジルエーテルの副生物(アリルグリシジルエーテルのビニル基の内転移物(シス体及びトランス体))を合計5,000ppm以下まで減圧留去し、無色透明の液体を得た。
(Example 3)
A 2 L autoclave was charged with 600 g of toluene and 200 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, the gas phase portion was replaced with nitrogen, and the mixture was heated and stirred at a jacket temperature of 50 ° C. A mixed liquid of 190 g of allyl glycidyl ether, 190 g of toluene, and 0.033 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 90 minutes. After completion of dropping, the jacket temperature was raised to 60 ° C. and reacted for 120 minutes, and it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of allyl group was 95% or more. After dropwise addition of a mixed solution of 14 g of triallyl isocyanurate and 14 g of toluene, the jacket temperature was raised to 105 ° C., and 56 g of triallyl isocyanurate, 56 g of toluene and a xylene solution of a platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) 028 g of the mixed solution was added dropwise over 30 minutes. The reaction rate of the allyl group by 1 H-NMR 9 hours after the completion of dropping was 90%. The reaction was terminated by cooling. There was no unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane. By-products of toluene and allyl glycidyl ether (internally transferred products of vinyl groups of allylic glycidyl ether (cis- and trans-isomers)) were distilled off under reduced pressure to a total of 5,000 ppm or less to obtain a colorless and transparent liquid.

本生成物の粘度は1.0Pa・sであった。本生成物はH−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がアリルグリシジルエーテル及びトリアリルイソシアヌレートのアリル基と反応したものであり、2.8mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルとトリアリルイソシアヌレートが反応した化合物群(下記構造式)と、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルのみの反応物群の混合物であることが示唆された。 The viscosity of this product was 1.0 Pa · s. From the measurement of 1 H-NMR, this product was obtained by reacting a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane with the allyl group of allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate, It was found to contain 2.8 mmol / g SiH groups. When this product is subjected to GPC measurement, a multimodal chromatogram is obtained, and a group of compounds in which 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and triallyl isocyanurate are reacted (the following structural formula) And a mixture of reactant groups of only 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and allyl glycidyl ether.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(比較例2)
2Lオートクレーブにトルエン362g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン362gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温105℃で加熱、攪拌した。ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート100g、トルエン100g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.049gの混合液を90分かけて滴下した。滴下終了から2時間後にH−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は55%だった。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンを合計5,000ppm以下まで減圧留去し、無色透明の液体を得た。
(Comparative Example 2)
After putting 362 g of toluene and 362 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane in a 2 L autoclave and replacing the gas phase with nitrogen, the mixture was heated and stirred at a jacket temperature of 105 ° C. A mixed liquid of 100 g of diallyl monoglycidyl isocyanurate, 100 g of toluene, and 0.049 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 90 minutes. Two hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 55%. Unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure to a total of 5,000 ppm or less to obtain a colorless and transparent liquid.

本生成物の粘度は8.1Pa・sであった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、混合物であることが示唆された。本生成物は、H−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がジアリルモノグリシジルイソシアヌレートのアリル基と反応したもの(下記構造式)であり、7.4mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。 The viscosity of this product was 8.1 Pa · s. When this product was measured by GPC, a multimodal chromatogram was obtained, suggesting a mixture. This product was obtained by measuring a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and reacting with the allyl group of diallylmonoglycidyl isocyanurate from the 1 H-NMR measurement (the following structural formula) And found to contain 7.4 mmol / g SiH groups.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(実施例4)
2Lオートクレーブにトルエン500g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン200gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温50℃で加熱、攪拌した。アリルグリシジルエーテル95g、トルエン95g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.027gの混合液を80分かけて滴下した。滴下終了後にジャケット温を60℃に上げて60分反応させ、H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認した。ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート110g、トルエン110g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.243gの混合液の5分の1量を滴下した後、ジャケット温を105℃に上げて、残りの5分の4量を30分かけて滴下した。滴下終了から2時間後にH−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は4.0%だった。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンとアリルグリシジルエーテルの副生物(アリルグリシジルエーテルのビニル基の内転移物(シス体及びトランス体))を合計5,000ppm以下まで減圧留去し、無色透明の液体を得た。
Example 4
500 g of toluene and 200 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed in a 2 L autoclave, the gas phase was replaced with nitrogen, and then heated and stirred at a jacket temperature of 50 ° C. A mixed solution of 95 g of allyl glycidyl ether, 95 g of toluene, and 0.027 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 80 minutes. After completion of dropping, the jacket temperature was raised to 60 ° C. and reacted for 60 minutes, and it was confirmed by 1 H-NMR that the allyl group reaction rate was 95% or more. After dropping 1/5 of a mixture of 110 g of diallyl monoglycidyl isocyanurate, 110 g of toluene and 0.243 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum), the jacket temperature was raised to 105 ° C., The remaining 4/5 amount was added dropwise over 30 minutes. Two hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 4.0%. A total of 5,000 ppm or less of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, toluene and allyl glycidyl ether by-product (inner transition products of allylic glycidyl ether vinyl group (cis isomer and trans isomer)) The solution was distilled off under reduced pressure to obtain a colorless and transparent liquid.

本生成物の粘度は2.8Pa・sであった。本生成物はH−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がアリルグリシジルエーテル及びジアリルモノグリシジルイソシアヌレートのアリル基と反応したものであり、4.3mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルとジアリルモノグリシジルイソシアヌレートが反応した化合物群(下記構造式)と、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルのみの反応物群の混合物であることが示唆された。 The viscosity of this product was 2.8 Pa · s. This product is a product in which a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane has reacted with the allyl group of allyl glycidyl ether and diallyl monoglycidyl isocyanurate from 1 H-NMR measurement. It was found to contain 4.3 mmol / g SiH groups. When this product was subjected to GPC measurement, a multimodal chromatogram was obtained, and a compound group in which 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and diallyl monoglycidyl isocyanurate reacted (the following structural formula) ) And 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and allyl glycidyl ether reaction group.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(実施例5)
2Lオートクレーブにトルエン600g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン200gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温50℃で加熱、攪拌した。アリルグリシジルエーテル142g、トルエン142g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.041gの混合液を90分かけて滴下した。滴下終了後にジャケット温を60℃に上げて60分反応させ、H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認した。ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート110g、トルエン110g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.230gの混合液の5分の1量を滴下した後、ジャケット温を105℃に上げて、残りの5分の4量を30分かけて滴下した。滴下終了から2時間後にH−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は1.0%だった。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンとアリルグリシジルエーテルの副生物(アリルグリシジルエーテルのビニル基の内転移物(シス体及びトランス体))を合計5,000ppm以下まで減圧留去し、無色透明の液体を得た。
(Example 5)
A 2 L autoclave was charged with 600 g of toluene and 200 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, the gas phase portion was replaced with nitrogen, and the mixture was heated and stirred at a jacket temperature of 50 ° C. A mixed solution of 142 g of allyl glycidyl ether, 142 g of toluene and 0.041 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 90 minutes. After completion of dropping, the jacket temperature was raised to 60 ° C. and reacted for 60 minutes, and it was confirmed by 1 H-NMR that the allyl group reaction rate was 95% or more. After dropping 1/5 amount of a mixed solution of 110 g of diallyl monoglycidyl isocyanurate, 110 g of toluene and 0.230 g of platinum vinylsiloxane complex in xylene (containing 3 wt% as platinum), the jacket temperature was raised to 105 ° C., The remaining 4/5 amount was added dropwise over 30 minutes. Two hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 1.0%. A total of 5,000 ppm or less of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, toluene and allyl glycidyl ether by-product (inner transition products of allylic glycidyl ether vinyl group (cis isomer and trans isomer)) The solution was distilled off under reduced pressure to obtain a colorless and transparent liquid.

本生成物の粘度は2.0Pa・sであった。本生成物はH−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がアリルグリシジルエーテル及びジアリルモノグリシジルイソシアヌレートのアリル基と反応したものであり、3.3mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルとジアリルモノグリシジルイソシアヌレートが反応した化合物群(下記構造式)と、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルのみの反応物群の混合物であることが示唆された。 The viscosity of this product was 2.0 Pa · s. This product is a product in which a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane has reacted with the allyl group of allyl glycidyl ether and diallyl monoglycidyl isocyanurate from 1 H-NMR measurement. It was found to contain 3.3 mmol / g SiH groups. When this product was subjected to GPC measurement, a multimodal chromatogram was obtained, and a compound group in which 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and diallyl monoglycidyl isocyanurate reacted (the following structural formula) ) And 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and allyl glycidyl ether reaction group.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(比較例3)
500ml四つ口フラスコにトルエン218g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン109gを入れ、気相部を窒素で置換した後、オイルバス温90℃で加熱、攪拌した。白色粉末状のビスフェノールSのジアリルエーテル10gをトルエン3gで添加し、続けて白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)をトルエンで1000倍に薄めた溶液3.93gをシリンジで滴下した。ビスフェノールSのジアリルエーテルは数分で溶解した。60分後、ビスフェノールSのジアリルエーテル10gをトルエン3gで添加し、続けて白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)をトルエンで1000倍に薄めた溶液2.62gをシリンジで滴下した。さらに60分後、ビスフェノールSのジアリルエーテル10gをトルエン3gで添加し、続けて白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)をトルエンで1000倍に薄めた溶液1.31gをシリンジで滴下した。滴下終了から3時間後にH−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は60%だった。反応液にゲル化遅延剤として、トリフェニルフォスフィンをトルエンで100倍に希釈した溶液1.58gを添加した。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンを合計5,000ppm以下まで減圧留去し、微黄色透明の液体を得た。
(Comparative Example 3)
A 500 ml four-necked flask was charged with 218 g of toluene and 109 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, and the gas phase was replaced with nitrogen, and then heated and stirred at an oil bath temperature of 90 ° C. 10 g of diallyl ether of bisphenol S in the form of white powder was added with 3 g of toluene, followed by dropwise addition of 3.93 g of a solution obtained by diluting a platinum vinylsiloxane complex xylene solution (containing 3 wt% of platinum) 1000 times with toluene. . The diallyl ether of bisphenol S dissolved in a few minutes. After 60 minutes, 10 g of diallyl ether of bisphenol S was added with 3 g of toluene, and then 2.62 g of a solution obtained by diluting a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) 1000 times with toluene was dropped with a syringe. . After 60 minutes, 10 g of diallyl ether of bisphenol S was added with 3 g of toluene, and then 1.31 g of a solution obtained by diluting a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% of platinum) 1000 times with toluene was dropped with a syringe. did. Three hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 60%. As a gelation retarder, 1.58 g of a solution obtained by diluting triphenylphosphine with toluene 100 times was added to the reaction solution. Unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and toluene were distilled off under reduced pressure to a total of 5,000 ppm or less to obtain a slightly yellow transparent liquid.

本生成物の粘度は11.3Pa・sであった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、混合物であることが示唆された。本生成物は、H−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がビスフェノールSのジアリルエーテルのアリル基と反応したもの(下記構造式)であり、6.9mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。 The viscosity of this product was 11.3 Pa · s. When this product was measured by GPC, a multimodal chromatogram was obtained, suggesting a mixture. This product is from the measurement of 1 H-NMR, 1,3,5,7-that part of the SiH groups of tetramethylcyclotetrasiloxane were reacted with allyl groups of diallyl ether of bisphenol S (following structural formula) And found to contain 6.9 mmol / g SiH groups.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

(実施例6)
1Lの四つ口フラスコにトルエン365g、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン146gを入れ、気相部を窒素で置換した後、ジャケット温55℃で加熱、攪拌した。アリルグリシジルエーテル104g、トルエン104g及び白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)0.030gの混合液を120分かけて滴下した。60分後、H−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認した。ビスフェノールSのジアリルエーテル20gをトルエン20gで添加し、ガラス壁についたビスフェノールSのジアリルエーテルをトルエン4gで流し入れた。ジャケット温95℃に変更した。内温95℃に安定したところで、ビスフェノールSのジアリルエーテル20gとトルエン20gと白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有)をトルエンで100倍に薄めた溶液0.493gを添加し、ガラス壁についたビスフェノールSのジアリルエーテルをトルエン4gで流し入れた。この操作を20分毎に4回実施した(実施例6で使用したビスフェノールSのジアリルエーテルは100g)。滴下終了から2時間後にH−NMRでアリル基の反応率が95%以上であることを確認し、冷却により反応を終了した。1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率は0.4%だった。反応液にゲル化遅延剤として、トリフェニルフォスフィンをトルエンで100倍に希釈した溶液0.199gを添加した。未反応の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとトルエンとアリルグリシジルエーテルの副生物(アリルグリシジルエーテルのビニル基の内転移物(シス体及びトランス体))を合計5,000ppm以下まで減圧留去し、微黄色透明の液体を得た。
(Example 6)
Into a 1 L four-necked flask, 365 g of toluene and 146 g of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane were placed, and the gas phase portion was replaced with nitrogen, followed by heating and stirring at a jacket temperature of 55 ° C. A mixed solution of 104 g of allyl glycidyl ether, 104 g of toluene, and 0.030 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% as platinum) was added dropwise over 120 minutes. After 60 minutes, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more. 20 g of diallyl ether of bisphenol S was added with 20 g of toluene, and diallyl ether of bisphenol S attached to the glass wall was poured with 4 g of toluene. The jacket temperature was changed to 95 ° C. When the internal temperature was stabilized at 95 ° C., 20 g of diallyl ether of bisphenol S, 20 g of toluene and 0.493 g of a xylene solution of platinum vinylsiloxane complex (containing 3 wt% of platinum) diluted 100 times with toluene were added, and glass was added. Diallyl ether of bisphenol S attached to the wall was poured into 4 g of toluene. This operation was performed 4 times every 20 minutes (100 g of diallyl ether of bisphenol S used in Example 6). Two hours after the completion of the dropwise addition, it was confirmed by 1 H-NMR that the reaction rate of the allyl group was 95% or more, and the reaction was terminated by cooling. The unreacted rate of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane was 0.4%. As a gelation retarder, 0.199 g of a solution obtained by diluting triphenylphosphine with toluene 100 times was added to the reaction solution. A total of 5,000 ppm or less of unreacted 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, toluene and allyl glycidyl ether by-product (inner transition products of allylic glycidyl ether vinyl group (cis isomer and trans isomer)) Until the pressure was reduced, a slightly yellow transparent liquid was obtained.

本生成物の粘度は5.8Pa・sであった。本生成物はH−NMRの測定より、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのSiH基の一部がアリルグリシジルエーテル及びビスフェノールSのジアリルエーテルのアリル基と反応したものであり、3.1mmol/gのSiH基を含有していることがわかった。本生成物のGPC測定をすると多峰性のクロマトグラムが得られ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルとビスフェノールSのジアリルエーテルが反応した化合物群(下記構造式)と、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンとアリルグリシジルエーテルのみの反応物群の混合物であることが示唆された。 The viscosity of this product was 5.8 Pa · s. This product is a product in which a part of the SiH group of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane has reacted with the allyl group of allyl glycidyl ether and diallyl ether of bisphenol S from 1 H-NMR measurement. It was found to contain 3.1 mmol / g SiH groups. When this product was subjected to GPC measurement, a multimodal chromatogram was obtained. A compound group in which 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, allyl glycidyl ether and diallyl ether of bisphenol S were reacted (the following structural formula) ) And 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane and allyl glycidyl ether reaction group.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

実施例1〜6、比較例1〜3について、ヒドロシリル化反応終了後の1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンの未反応率、得られたSiH基含有化合物の粘度の結果を表1に示した。 Tables 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 show the results of the unreacted ratio of 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane after completion of the hydrosilylation reaction and the viscosity of the resulting SiH group-containing compound. It was shown in 1.

Figure 0004782476
Figure 0004782476

本発明の製造方法を用いることにより、SiH基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物を製造することができる。 By using the production method of the present invention, a low-viscosity compound having at least two SiH groups can be obtained without gelation without requiring recycling of a polyorganosiloxane raw material having SiH groups. Can be manufactured.

Claims (8)

(A)1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、(B)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、(C)SiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させることを特徴とする、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物の製造方法であって、
(B)成分が、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、アリルグリシジルエーテル、アリルビニルエーテル、アリルメタクリレート、アリロキシエチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリロキシエチルアクリレート、ビニルトリメトキシシラン、または4−ビニルシクロヘキセン−1−オキシドであり、
(C)成分が、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、1,1,2,2−テトラアリロキシエタン、ジアリリデンペンタエリスリット、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、1,2,4−トリビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、1,3−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、ビスフェノールAのジアリルエーテル、ビスフェノールSのジアリルエーテル、それらのオリゴマー、1,2−ポリブタジエン、ノボラックフェノールのアリルエーテル、アリル化ポリフェニレンオキサイド、下記式
Figure 0004782476
Figure 0004782476
で表される化合物、脂肪族鎖状ポリエン化合物、脂肪族環状ポリエン化合物、または置換脂肪族環状オレフィン化合物である、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物の製造方法
(A) A linear and / or cyclic polyorganosiloxane compound having at least three SiH groups in one molecule, and (B) one carbon-carbon double bond having reactivity with SiH groups in one molecule. After reacting the compound containing the compound in the presence of (D) a hydrosilylation catalyst, a further obtained reaction product and (C) a carbon-carbon double bond having reactivity with the SiH group are contained in one molecule. A method for producing a compound containing at least two SiH groups in one molecule, characterized by reacting a compound containing at least two in the presence of (D) a hydrosilylation catalyst ,
Component (B) is monoallyl diglycidyl isocyanurate, allyl glycidyl ether, allyl vinyl ether, allyl methacrylate, allyloxyethyl methacrylate, allyl acrylate, allyloxyethyl acrylate, vinyltrimethoxysilane, or 4-vinylcyclohexene-1-oxide And
Component (C) is diallyl phthalate, triallyl trimellitate, diethylene glycol bisallyl carbonate, trimethylolpropane diallyl ether, pentaerythritol triallyl ether, 1,1,2,2-tetraallyloxyethane, diarylidenepentaeri Slit, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, 1,2,4-trivinylcyclohexane, divinylbenzene, divinylbiphenyl, 1,3-diisopropenylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, diallyl monoglycidyl isocyanate Nurate, diallyl ether of bisphenol A, diallyl ether of bisphenol S, oligomers thereof, 1,2-polybutadiene, allyl ether of novolak phenol, allylated polyphenyle Oxide, the following formula
Figure 0004782476
Figure 0004782476
A method for producing a compound containing at least two SiH groups in one molecule, which is a compound represented by the formula: an aliphatic chain polyene compound, an aliphatic cyclic polyene compound, or a substituted aliphatic cyclic olefin compound .
(A)成分の1分子中のSiH基の平均数(α)、(A)成分とヒドロシリル化反応する(B)成分の平均分子数(β)、(A)成分とヒドロシリル化反応する(C)成分のアリル基の数が平均して1個とすると、(α−β)≦3.5であることを特徴とする請求項1に記載のSiH基含有化合物の製造方法。 (A) The average number of SiH groups in one molecule of the component (α), the average number of molecules (β) of the component (B) that undergoes a hydrosilylation reaction with the component (A), and the hydrosilylation reaction of the component (A) (C 2) The method for producing a SiH group-containing compound according to claim 1, wherein the average number of allyl groups in the component is one (α−β) ≦ 3.5. (A)成分が、下記一般式(I)
Figure 0004782476
(式中Rは炭素数1〜6の有機基を表し、それぞれのRは異なっていても同一であっても良い。nは3〜10の数を表す。)で表されるSiH基を有する環状ポリオルガノシロキサン化合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載のSiH基含有化合物の製造方法。
(A) component is the following general formula (I)
Figure 0004782476
(In the formula, R 1 represents an organic group having 1 to 6 carbon atoms, and each R 1 may be different or the same. N represents a number of 3 to 10). The method for producing a SiH group-containing compound according to claim 1, wherein the SiH group-containing compound is a cyclic polyorganosiloxane compound.
(B)成分がアリルグリシジルエーテルであることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載のSiH基含有化合物の製造方法。 (B) A component is allyl glycidyl ether, The manufacturing method of the SiH group containing compound as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. (C)成分が、1分子中にSiH基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を2〜3個含有し、かつ、分子量が900未満であることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載のSiH基含有化合物の製造方法。 Component (C), carbon reactive with a SiH group in each molecule - carbon double bond and containing 2 to 3, and, according to claim 1-4, wherein the molecular weight is less than 900 The manufacturing method of the SiH group containing compound as described in any one. (C)成分がトリアリルイソシアヌレートであることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載のSiH基含有化合物の製造方法。 (C) A component is triallyl isocyanurate, The manufacturing method of the SiH group containing compound as described in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. (C)成分がジアリルモノグリシジルイソシアヌレートであることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載のSiH基含有化合物の製造方法。 (C) A component is diallyl monoglycidyl isocyanurate, The manufacturing method of the SiH group containing compound as described in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. (C)成分がビスフェノールSのジアリルエーテルであることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載のSiH基含有化合物の製造方法。 (C) A component is diallyl ether of bisphenol S, The manufacturing method of the SiH group containing compound as described in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned.
JP2005164261A 2005-06-03 2005-06-03 Method for producing SiH group-containing compound Active JP4782476B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005164261A JP4782476B2 (en) 2005-06-03 2005-06-03 Method for producing SiH group-containing compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005164261A JP4782476B2 (en) 2005-06-03 2005-06-03 Method for producing SiH group-containing compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006335718A JP2006335718A (en) 2006-12-14
JP4782476B2 true JP4782476B2 (en) 2011-09-28

Family

ID=37556573

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005164261A Active JP4782476B2 (en) 2005-06-03 2005-06-03 Method for producing SiH group-containing compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4782476B2 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4723289B2 (en) * 2005-06-03 2011-07-13 株式会社カネカ SiH group-containing compound, method for producing the same, curable composition using SiH group-containing compound, and cured product thereof
JP2008201851A (en) * 2007-02-16 2008-09-04 Kaneka Corp Curable composition and optical material using the same
WO2008136351A1 (en) * 2007-04-26 2008-11-13 Hitachi Chemical Company, Ltd. Thermosetting resin composition and optical member using cured product of the thermosetting resin composition
JP5032236B2 (en) * 2007-08-21 2012-09-26 株式会社カネカ Method for producing compound having SiH group and curable composition
KR101858022B1 (en) * 2010-08-23 2018-05-16 다우 실리콘즈 코포레이션 Saccharide siloxanes stable in aqueous environtments and methods for the preparation and use of such saccharide siloxanes
JP5813357B2 (en) * 2011-04-19 2015-11-17 株式会社カネカ Curable composition
JP7077795B2 (en) * 2017-08-31 2022-05-31 信越化学工業株式会社 Epoxy group-containing isocyanuric acid-modified silicone resin, photosensitive resin composition, photosensitive dry film, laminate, and pattern forming method.
EP3450478B1 (en) 2017-08-31 2020-11-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Epoxy-containing, isocyanurate-modified silicone resin, photosensitive resin composition, photosensitive dry film, laminate, and pattern forming process

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003262701A (en) * 2002-03-08 2003-09-19 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Composition for optical material, optical material, liquid crystal display device and light emitting diode obtained by using the same, and method for manufacturing them
JP5000072B2 (en) * 2002-04-04 2012-08-15 株式会社カネカ Light emitting diode
JP5192117B2 (en) * 2003-10-03 2013-05-08 株式会社カネカ Curing agent, curable composition, and cured material obtained by curing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006335718A (en) 2006-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4782476B2 (en) Method for producing SiH group-containing compound
JP4925026B2 (en) Method for preparing branched polymer derived from organohydrogensilicon compound
EP3665210B1 (en) Method for preparing a graft copolymer with a polyolefin backbone and polyorganosiloxane pendant groups
JP5426064B2 (en) Curable composition
JP4925027B2 (en) Method for preparing branched polymer obtained from organohydrogensilicon compound
JPH05320346A (en) Siloxane copolymer containing alkenyloxy group, its preparation, crosslinkable organopolysiloxane composition containing same and preparation of photocurable coating material
JPH0632906A (en) Synthesis method of epoxy silicone
JP4723289B2 (en) SiH group-containing compound, method for producing the same, curable composition using SiH group-containing compound, and cured product thereof
Sahmetlioglu et al. Silicon acetal metathesis polymerization
TWI495666B (en) Organohydrogenpolysiloxane, making method, and addition-cure silicone composition
EP2276794B1 (en) Silicon-containing polymer, method of manufacturing thereof, and curable polymer composition
CN113260640B (en) Interpenetrating network polymer containing organopolysiloxane crosslinked material and (meth) acrylic polymer and method for producing same
JP2009019140A (en) Curable composition
JP2007009041A (en) Curable composition and its cured product
JP2007154008A (en) Method for producing epoxy group-containing organosiloxane compound
Pawluc et al. Synthesis of phenylene–silylene–ethylene polymers via transition metal complex catalyzed hydrosilylation polymerization
JP4475413B2 (en) Oligosiloxane-modified norbornene resin and method for producing the same
CN115584204A (en) Ultralow-release-force organic silicon UV (ultraviolet) coating
JP4468629B2 (en) Organic polymer having epoxy group-containing silicon group at terminal and method for producing the same
JP2009046617A (en) MANUFACTURING METHOD FOR SiH GROUP-CONTAINING COMPOUND
JP2004175887A (en) Curable composition
KR20150084940A (en) Photo-dimerization functional group-containing organopolysiloxane, activation energy radiation-curable organopolysiloxane composition, and cured product thereof
JP4631270B2 (en) Method for producing cyclic siloxane skeleton-containing compound having SiH group
JP2011099036A (en) Cured product excellent in heat resistance
EP0913420A2 (en) Silphenylenesilalkylene polymer, methods for preparing same, and coating composition

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060922

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080421

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110125

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110310

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20110310

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110614

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110707

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140715

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4782476

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140715

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250