JP4774007B2 - X-ray generator and X-ray analyzer - Google Patents

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本発明は、複数のX線発生帯を備えた対陰極を有するX線発生装置に関する。また、本発明は、そのX線発生装置を用いたX線分析装置に関する。   The present invention relates to an X-ray generation apparatus having an anti-cathode having a plurality of X-ray generation bands. The present invention also relates to an X-ray analyzer using the X-ray generator.

X線回折装置、蛍光X線装置、X線小角散乱装置等といったX線分析装置においては、X線発生装置から発生するX線が分析対象である試料に照射される。一般のX線発生装置では、陰極から発生した電子を対陰極の表面に衝突させることにより、その対陰極の表面からX線を発生させている。電子が衝突する領域、すなわちX線が発生する領域は、通常、X線焦点と呼ばれている。   In an X-ray analysis apparatus such as an X-ray diffraction apparatus, a fluorescent X-ray apparatus, or an X-ray small angle scattering apparatus, X-rays generated from an X-ray generation apparatus are irradiated on a sample to be analyzed. In a general X-ray generator, electrons generated from the cathode collide with the surface of the counter cathode, thereby generating X-rays from the surface of the counter cathode. A region where electrons collide, that is, a region where X-rays are generated is usually called an X-ray focal point.

対陰極から発生するX線の波長は、当該対陰極におけるX線焦点に対応する領域の材質によって決められる。この対陰極の材質としては、Cu(銅)、Mo(モリブデン)、Cr(クロム)、Co(コバルト)等が知られている。対陰極の材質は行おうとしている分析の種類に応じて適宜に選択される。例えば、X線回折装置によってタンパク質の構造解析を行う場合には、それら複数の材料から選択される複数の材料が用いられる。   The wavelength of X-rays generated from the counter cathode is determined by the material of the region corresponding to the X-ray focal point in the counter cathode. Known materials for the counter cathode include Cu (copper), Mo (molybdenum), Cr (chromium), Co (cobalt), and the like. The material of the counter cathode is appropriately selected according to the type of analysis to be performed. For example, when protein structure analysis is performed by an X-ray diffractometer, a plurality of materials selected from the plurality of materials are used.

従来、1つの対陰極に2種類のX線発生帯を設け、これらのうちの1つを陰極に対向する位置に選択的に配置させることにより、1つのX線発生装置において2種類の波長のX線のうちの1つを必要に応じて選択して用いることにしたX線発生装置が知られている(例えば、特許文献1)。このX線発生装置では、陰極に対して対陰極を相対的に移動させることにより2色のうちの1色のX線発生帯を陰極に対向する位置に選択的に配置させている。   Conventionally, two types of X-ray generation bands are provided for one counter cathode, and one of these is selectively disposed at a position facing the cathode, so that one X-ray generation device has two types of wavelengths. There is known an X-ray generator that selects and uses one of X-rays as necessary (for example, Patent Document 1). In this X-ray generator, the X-ray generation band of one of the two colors is selectively arranged at a position facing the cathode by moving the counter cathode relative to the cathode.

また、従来、1つの対陰極に複数のX線発生帯を設け、陰極を対陰極に対して相対的に移動させることにしたX線発生装置が知られている(例えば、特許文献2)。このX線発生装置では、陰極を対陰極に対して移動させて電子照射領域を移動させることにより、X線を発生するX線発生帯を複数の中から1つだけ選択している。   Conventionally, there has been known an X-ray generator in which a plurality of X-ray generation bands are provided on one counter cathode and the cathode is moved relative to the counter cathode (for example, Patent Document 2). In this X-ray generation apparatus, only one X-ray generation band for generating X-rays is selected from a plurality by moving the electron irradiation region by moving the cathode with respect to the counter-cathode.

実願平1−103988号(実開平3−43251号)のマイクロフィルム(第4頁、図1)Microfilm (page 4, FIG. 1) of Japanese Utility Model Application No. 1-103988 (Japanese Utility Model Application Publication No. 3-43251) 特開平4−171700号公報(第2頁、図1)Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-171700 (second page, FIG. 1)

一般に、X線発生装置においては陰極及び対陰極は真空雰囲気に配置される。その理由は、例えば、放電の発生を防止したり、フィラメントの酸化を防止したり、できるだけ低い陰極温度で電子を放出させる等のためである。特許文献1のX線発生装置において対陰極が真空状態に置かれると、その対陰極は真空領域の方向へ空気圧力によって引っ張られる。このため、2色のX線発生帯を備えた対陰極をその真空吸引力に抗して移動させるために非常に大きな力が必要であり、移動装置を簡単に構築することが難しかった。   Generally, in an X-ray generator, the cathode and the counter cathode are arranged in a vacuum atmosphere. The reason is, for example, for preventing the occurrence of discharge, preventing the oxidation of the filament, or emitting electrons at the lowest possible cathode temperature. When the counter-cathode is placed in a vacuum state in the X-ray generator of Patent Document 1, the counter-cathode is pulled by air pressure in the direction of the vacuum region. For this reason, a very large force is required to move the counter cathode provided with the X-ray generation band of two colors against the vacuum suction force, and it is difficult to easily construct the moving device.

また、特許文献2に開示されたX線発生装置では、X線を発生するX線発生帯を変更したときにX線焦点の位置が変化するので、X線発生装置から発生したX線を使用するX線光学系、例えばX線回折光学系の光軸を再調整しなければならない、という問題があった。   In addition, in the X-ray generator disclosed in Patent Document 2, the X-ray focal point position changes when the X-ray generation band for generating X-rays is changed, so the X-ray generated from the X-ray generator is used. There has been a problem that the optical axis of an X-ray optical system, such as an X-ray diffraction optical system, must be readjusted.

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、X線焦点の位置を変化させること無くX線を発生するX線発生帯を変化させることができ、しかもそのための構成が簡単であるX線発生装置及びX線分析装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and can change an X-ray generation zone for generating X-rays without changing the position of the X-ray focal point. An object is to provide a simple X-ray generator and X-ray analyzer.

本発明に係る第1のX線発生装置は、電子を発生する陰極と、該陰極に対向して設けられ互いに隣接して並んだ2つのX線発生帯を備えた対陰極と、前記陰極及び前記対陰極を内部に収容したケーシングと、該ケーシングの内部を減圧する減圧手段と、前記対陰極を前記X線発生帯が並んだ方向で移動可能に支持する対陰極支持手段と、前記対陰極と一体に移動するフランジと、前記2つのX線発生帯のうち前記フランジに近い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる第1位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極側の面に当接する第1当接部材と、前記2つのX線発生帯のうち前記フランジから遠い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる第2位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極と反対側の面に当接する第2当接部材と、前記フランジに加える空気圧力を第1圧力状態と第2圧力状態とで切り替えるフランジ圧力調整手段とを有し、前記第1圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも小さい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、前記第2圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも大きい力を、前記フランジに加える圧力状態であることを特徴とする。   A first X-ray generator according to the present invention includes a cathode for generating electrons, an anti-cathode provided with two X-ray generation bands arranged opposite to each other so as to face the cathode, the cathode, A casing containing the counter cathode therein, a decompression means for decompressing the inside of the casing, an anti-cathode support means for supporting the counter cathode movably in a direction in which the X-ray generation zones are arranged, and the counter cathode And when the counter-cathode is in a first position where the X-ray generation band on the side close to the flange of the two X-ray generation bands is placed in a region where it collides with the electrons. A first abutting member that abuts the surface of the flange on the counter-cathode side, and an X-ray generation band located on the side farther from the flange of the two X-ray generation bands is placed in a region where the electrons collide. The flange when the counter-cathode is in a second position A second abutting member that abuts against the surface opposite to the counter cathode; and a flange pressure adjusting means for switching an air pressure applied to the flange between a first pressure state and a second pressure state, the first pressure The state is a force that moves the flange to the opposite side of the counter-cathode, and exerts a force on the flange that is smaller than the force by which the flange is pulled to the counter-cathode side based on the reduced pressure inside the casing. The second pressure state is a force that moves the flange to the side opposite to the counter-cathode, and the flange is pulled to the counter-cathode side based on the decompressed state inside the casing. It is a pressure state in which a force larger than the force is applied to the flange.

上記構成において、「対陰極支持手段」はケーシングの一部分によって構成されたり、ケーシングに固定された部材によって構成されたりすることが、X線発生装置を小型で簡単な構成とする上で望ましいものである。しかしながら、対陰極支持手段は、ケーシングと別体な(すなわち別々に存在する)部材によって構成しても良い。また、「フランジ」は他の部分よりも側方へ突出する部材、又は他の部分よりも半径方向へ突出する部材のことである。   In the above configuration, it is desirable that the “anti-cathode support means” is constituted by a part of the casing or a member fixed to the casing in order to make the X-ray generator small and simple. is there. However, the counter-cathode support means may be constituted by a member that is separate from the casing (that is, exists separately). In addition, the “flange” is a member that protrudes to the side from the other part, or a member that protrudes in the radial direction from the other part.

上記構成の本発明に係るX線発生装置によれば、フランジ圧力調整手段が第1圧力状態にあるときは、フランジが対陰極の在る方向へ真空吸引力によって引っ張られ、フランジに近い側のX線発生帯が陰極に対向する位置に配置される。一方、フランジ圧力調整手段が第2圧力状態にあるときは、フランジを対陰極と反対側へ移動させようとするフランジ圧力調整手段による力がフランジを対陰極方向へ引っ張る真空吸引力に打ち勝ち、フランジが第2当接部材に当接する位置まで移動する。この状態でフランジよりも遠い側のX線発生帯が陰極に対向する位置に配置される。こうして、2つのX線発生帯を空気圧力の調整によって陰極に対向する位置へ選択的に配置することができ、発生させるX線の波長を変化させることができる。   According to the X-ray generator of the present invention configured as described above, when the flange pressure adjusting means is in the first pressure state, the flange is pulled by the vacuum suction force in the direction in which the counter cathode is present, The X-ray generation band is disposed at a position facing the cathode. On the other hand, when the flange pressure adjusting means is in the second pressure state, the force by the flange pressure adjusting means for moving the flange to the opposite side of the counter cathode overcomes the vacuum suction force that pulls the flange toward the cathode. Moves to a position where it contacts the second contact member. In this state, the X-ray generation band on the side farther than the flange is disposed at a position facing the cathode. In this way, the two X-ray generation bands can be selectively arranged at a position facing the cathode by adjusting the air pressure, and the wavelength of the generated X-ray can be changed.

本発明によれば、2つのX線発生帯が移動する構成であって陰極の位置には変化がないので、X線焦点の位置を変化させること無くX線を発生するX線発生帯を変化させることができる。このため、本X線発生装置を用いたX線分析装置において、X線発生装置から発生するX線の波長を変化させたときにX線光学系の光軸の再調整を行う必要が無くなる。しかも、本発明によれば、X線発生帯を移動させるための駆動源が空気圧力であって、モータ等といった電動機器ではないので、複雑な動力伝達系を用いる必要が無くて構成が簡単である。構成が簡単であるが故に、故障の発生を抑制できる。   According to the present invention, since the two X-ray generation bands move and the position of the cathode does not change, the X-ray generation band that generates X-rays is changed without changing the position of the X-ray focal point. Can be made. This eliminates the need for readjustment of the optical axis of the X-ray optical system when the wavelength of X-rays generated from the X-ray generator is changed in the X-ray analyzer using the X-ray generator. In addition, according to the present invention, the drive source for moving the X-ray generation band is air pressure, and is not an electric device such as a motor. Therefore, it is not necessary to use a complicated power transmission system, and the configuration is simple. is there. Since the configuration is simple, the occurrence of failure can be suppressed.

次に、本発明に係るX線発生装置は、対陰極から延在しフランジが取り付けられた対陰極延在部をさらに有することができる。そしてその場合、対陰極支持手段はケーシングの一部分によって構成され、該ケーシングの一部分は対陰極延在部と摺接して該対陰極延在部を支持することにより前記対陰極を支持することが望ましい。   Next, the X-ray generator according to the present invention can further include an anti-cathode extension portion extending from the anti-cathode and having a flange attached thereto. In this case, it is desirable that the counter-cathode support means is constituted by a part of the casing, and a part of the casing supports the counter-cathode by slidingly contacting the counter-cathode extension and supporting the counter-cathode extension. .

対陰極延在部は必要に応じて種々の構造を採るものである。例えば、対陰極が回転方式の対陰極である場合は、対陰極を回転駆動する駆動部が収容された本体部分が対陰極延在部となることがある。また、対陰極が回転対陰極でない固定方式の場合にはその対陰極から延び出る何等かの部材が対陰極延在部となることがある。対陰極延在部をケーシングの一部分によって支持することにした本発明態様によれば、対陰極支持手段をケーシング以外の専用の部材によって構成する場合に比べて、X線発生装置を簡単で小型に形成できる。   The anti-cathode extension has various structures as required. For example, when the counter-cathode is a rotating type counter-cathode, a main body portion in which a drive unit that rotationally drives the counter-cathode is housed may be the counter-cathode extension. Further, in the case of a fixed system in which the counter cathode is not a rotating counter cathode, any member extending from the counter cathode may become the counter cathode extending portion. According to the aspect of the present invention in which the anti-cathode extension portion is supported by a part of the casing, the X-ray generator can be made simpler and smaller than when the anti-cathode support means is configured by a dedicated member other than the casing. Can be formed.

次に、対陰極支持手段をケーシングの一部分によって構成することにした上記の発明態様においては、ケーシングの他の一部分によって前記第1当接部材を構成することが望ましい。これにより、X線発生装置をさらに一層簡単で小型に形成できる。   Next, in the above aspect of the invention in which the counter-cathode support means is constituted by a part of the casing, it is desirable that the first contact member is constituted by another part of the casing. As a result, the X-ray generator can be made even simpler and smaller.

次に、本発明に係るX線発生装置において、ケーシングは対陰極を挿入するための開口部を有し、該開口部には当該開口部の中心方向へ向けて突出する突出部材が設けられ、前記第2当接部材は前記突出部材によって構成されることが望ましい。さらに、前記突出部材の内周面は対陰極を支持するための対陰極支持手段を構成することが望ましい。この構成によれば、X線発生装置をさらに一層簡単で小型に形成できる。   Next, in the X-ray generator according to the present invention, the casing has an opening for inserting the counter-cathode, and the opening is provided with a protruding member that protrudes toward the center of the opening, The second contact member is preferably constituted by the protruding member. Further, it is desirable that the inner peripheral surface of the protruding member constitutes a counter cathode support means for supporting the counter cathode. According to this configuration, the X-ray generator can be formed even more simply and compactly.

次に、本発明に係るX線発生装置においては、フランジから遠い側のX線発生帯が陰極に対向する位置に置かれる第2位置に対陰極が在るとき(すなわちフランジ圧力調整手段の圧力状態が第2圧力状態にあるとき)、フランジを移動不能に固定する固定手段を有することが望ましい。この構成によれば、フランジ圧力調整手段の圧力状態が第2圧力状態でなくなった場合に、フランジすなわち対陰極が第1位置へ自動的に戻ってしまうことを防止できる。   Next, in the X-ray generator according to the present invention, when the counter-cathode is present at the second position where the X-ray generating zone on the side far from the flange is located at the position facing the cathode (that is, the pressure of the flange pressure adjusting means). When the state is in the second pressure state), it is desirable to have a fixing means for fixing the flange immovably. According to this configuration, when the pressure state of the flange pressure adjusting means is no longer the second pressure state, it is possible to prevent the flange, that is, the counter cathode from being automatically returned to the first position.

次に、本発明に係るX線発生装置において、前記フランジ圧力調整手段は、前記フランジの前記対陰極側の面に大気圧を付与する手段と、前記フランジの前記対陰極と反対側の面に隣接した領域を減圧状態と大気圧状態とで切り替える第1圧力切替手段とを有することが望ましい。この圧力切替手段は、例えば、減圧ポンプと電磁弁との組み合わせによって構成できる。なお、この発明態様の場合、前記圧力切替手段は、ケーシングの内部の対陰極の周囲を減圧するための減圧手段によって兼用することができる。この構成によれば、X線発生装置の全体の構成を簡単且つ小型に形成でき、しかも減圧手段が1つで済むので、運転経費が安く済み、保守が楽である。   Next, in the X-ray generator according to the present invention, the flange pressure adjusting means includes means for applying an atmospheric pressure to the surface of the flange on the counter cathode side, and a surface on the opposite side of the flange to the counter cathode. It is desirable to have first pressure switching means for switching adjacent regions between a reduced pressure state and an atmospheric pressure state. This pressure switching means can be comprised by the combination of a pressure reduction pump and a solenoid valve, for example. In the case of this aspect of the invention, the pressure switching means can also be used as a pressure reducing means for reducing the pressure around the counter cathode inside the casing. According to this configuration, the entire configuration of the X-ray generator can be formed easily and compactly, and since only one decompression means is required, the operating cost is low and maintenance is easy.

次に、本発明に係るX線発生装置において、前記フランジ圧力調整手段は、前記フランジの前記対陰極と反対側の面に大気圧を付与する手段と、前記フランジの前記対陰極側の面に付与する圧力を大気圧状態と大気圧以上の状態とで切り替える第2圧力切替手段とを有することが望ましい。この構成は、対陰極を第1位置(第1X線発生帯が陰極に対向する位置)から第2位置(第2X線発生帯が陰極に対向する位置)へと移動させることを、フランジの対陰極と反対側の面を減圧状態にすることによって達成するのではなく、フランジの対陰極側の面に押圧力を付与することによって達成するものである。   Next, in the X-ray generator according to the present invention, the flange pressure adjusting means includes means for applying an atmospheric pressure to a surface of the flange opposite to the counter cathode, and a surface of the flange on the counter cathode side. It is desirable to have a second pressure switching means for switching the pressure to be applied between an atmospheric pressure state and a state equal to or higher than the atmospheric pressure. This configuration moves the counter cathode from the first position (the position where the first X-ray generation band faces the cathode) to the second position (the position where the second X-ray generation band faces the cathode). This is not achieved by reducing the pressure on the surface opposite to the cathode, but by applying a pressing force to the surface on the opposite cathode side of the flange.

前述した他の発明態様のように、対陰極を第1位置から第2位置へと移動させることを、フランジの対陰極と反対側の面を減圧状態にすることによって達成することができる。しかしながらこの場合には、フランジの対陰極と反対側の面が接する空間領域は気密な空間でなければならない。これに対し、本発明態様のように、フランジの対陰極側の面に押圧力を付与することによってその対陰極を第1位置から第2位置へと移動させることにすれば、フランジの対陰極と反対側の面が接する空間領域を気密な空間とする必要がなくなるので、構造を簡単にすることができる。   The movement of the counter cathode from the first position to the second position can be achieved by setting the surface of the flange opposite to the counter cathode to a reduced pressure state as in the above-described other aspects of the invention. However, in this case, the space area where the surface of the flange opposite to the counter-cathode contacts must be an airtight space. On the other hand, if the counter-cathode is moved from the first position to the second position by applying a pressing force to the surface of the flange on the counter-cathode side as in the embodiment of the present invention, the counter-cathode of the flange is provided. It is not necessary to make the space area where the surface on the opposite side contacts the airtight space, so that the structure can be simplified.

次に、本発明に係る第2のX線発生装置は、電子を発生する陰極と、該陰極に対向して設けられ互いに隣接して並んだ複数のX線発生帯を備えた対陰極と、前記陰極及び前記対陰極を内部に収容したケーシングと、該ケーシングの内部を減圧する減圧手段と、前記対陰極を前記X線発生帯が並んだ方向で移動可能に支持する対陰極支持手段と、前記対陰極と一体に移動するフランジと、前記複数のX線発生帯のうち前記フランジに最も近い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極側の面に当接する第1当接部材と、前記フランジの前記対陰極と反対側の面に当接可能な第3当接部材と、前記フランジに加える空気圧力を第1圧力状態と第2圧力状態とで切り替えるフランジ圧力調整手段とを有し、前記第1圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも小さい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、前記第2圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも大きい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、前記第3当接部材が前記フランジに当接する位置は、前記複数のX線発生帯のうち前記フランジに最も近い側に在るX線発生帯以外のX線発生帯のそれぞれが前記電子と衝突する領域に置かれるときの前記フランジの各位置に対応して変更可能であることを特徴とする。   Next, a second X-ray generator according to the present invention includes a cathode that generates electrons, an anti-cathode including a plurality of X-ray generation bands that are provided opposite to the cathode and arranged adjacent to each other, A casing in which the cathode and the counter-cathode are housed; a decompression unit that decompresses the inside of the casing; and a counter-cathode support unit that supports the counter-cathode so as to be movable in a direction in which the X-ray generation zones are arranged; A flange that moves integrally with the counter-cathode, and the counter-cathode is located at a position where an X-ray generation band that is closest to the flange among the plurality of X-ray generation bands is placed in a region that collides with the electrons. A first abutting member that abuts against the surface of the flange on the counter-cathode side, a third abutting member capable of abutting against a surface of the flange opposite to the anti-cathode, and an air pressure applied to the flange To switch between the first pressure state and the second pressure state And the first pressure state is a force that moves the flange to the opposite side of the counter-cathode, and the flange is on the counter-cathode side based on a reduced pressure state inside the casing. The second pressure state is a force that moves the flange to the opposite side of the counter-cathode, and is a reduced pressure state inside the casing. The position where the third abutting member abuts against the flange is a pressure state in which a force greater than the force with which the flange is attracted toward the cathode is applied to the flange. The X-ray generation band other than the X-ray generation band located on the side closest to the flange among the bands can be changed in accordance with each position of the flange when placed in a region where it collides with the electrons. It is characterized in.

前述した第1のX線発生装置は対陰極が2つのX線発生帯を有する構成であった。これに対し本第2X線発生装置は対陰極が複数(すなわち3つ以上)のX線発生帯を有する構成を規定している。この第2のX線発生装置では、第3当接部材がフランジと当接する位置が1つに固定されるのではなく、複数のX線発生帯のそれぞれに対応した複数の位置で変更可能になっている。この結果、フランジが第1当接部材に当接することにより第1X線発生帯が陰極に対向する位置に配置されることは第1のX線発生装置と同じであるが、第3当接部材のフランジに対する当接位置を適宜に変更することにより、複数のX線発生帯のうちの第1X線発生帯以外のX線発生帯を選択して、そのX線発生帯を陰極に対向する位置に配置させることができる。   In the first X-ray generator described above, the counter cathode has two X-ray generation bands. On the other hand, the second X-ray generator defines a configuration in which the counter cathode has a plurality of (that is, three or more) X-ray generation bands. In the second X-ray generator, the position where the third contact member contacts the flange is not fixed to one, but can be changed at a plurality of positions corresponding to each of the plurality of X-ray generation bands. It has become. As a result, the third abutting member is the same as the first X-ray generator in that the first X-ray generating band is disposed at a position facing the cathode by the flange abutting on the first abutting member. The X-ray generation band other than the first X-ray generation band is selected from among the plurality of X-ray generation bands by appropriately changing the contact position with respect to the flange, and the X-ray generation band is opposed to the cathode. Can be arranged.

この第2のX線発生装置によれば、陰極に対して複数のX線発生帯が移動する構成であって陰極の位置には変化がないので、X線焦点の位置を変化させること無くX線を発生するX線発生帯を3つ以上のX線発生帯間で変化させることができる。このため、本X線発生装置を用いたX線分析装置において、X線発生装置から発生するX線の波長を変化させたときにX線光学系の光軸の再調整を行う必要が無くなる。しかも、本発明によれば、X線発生帯を移動させるための駆動源が空気圧力であって、モータ等といった電動機器ではないので、複雑な動力伝達系を用いる必要が無くて構成が簡単である。   According to the second X-ray generator, since a plurality of X-ray generation bands move with respect to the cathode and there is no change in the position of the cathode, the X-ray focal point is not changed. The X-ray generation band for generating a line can be changed between three or more X-ray generation bands. This eliminates the need for readjustment of the optical axis of the X-ray optical system when the wavelength of X-rays generated from the X-ray generator is changed in the X-ray analyzer using the X-ray generator. In addition, according to the present invention, the drive source for moving the X-ray generation band is air pressure, and is not an electric device such as a motor. Therefore, it is not necessary to use a complicated power transmission system, and the configuration is simple. is there.

次に、本発明に係る第3のX線発生装置は、電子を発生する陰極と、該陰極に対向して設けられ互いに隣接して並んだ2つのX線発生帯を備えた対陰極と、前記陰極及び前記対陰極を内部に収容したケーシングと、該ケーシングの内部を減圧する減圧手段と、該対陰極を当該対陰極を通る軸線を中心として回転させる対陰極回転駆動手段と、該対陰極回転駆動手段を内部に収容すると共に前記対陰極から延在する対陰極ハウジングと、該対陰極ハウジングの外周面に設けられており当該対陰極ハウジングの半径方向に突出するフランジと、前記対陰極ハウジングを該対陰極ハウジングの軸線方向に移動可能に支持する対陰極支持手段と、前記フランジの前記対陰極側への移動を止める第1当接部材と、前記フランジの前記対陰極と反対側への移動を止める第2当接部材と、前記フランジに加える空気圧力を第1圧力状態と第2圧力状態とで切り替えるフランジ圧力調整手段とを有し、前記第1圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも小さい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、前記第2圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極の在る方向へ引かれる力よりも大きい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、前記第1当接部材は、前記2つのX線発生帯のうち前記フランジに近い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる第1位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極側の面に当接し、前記第2当接部材は、前記2つのX線発生帯のうち前記フランジから遠い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる第2位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極と反対側の面に当接することを特徴とする。   Next, a third X-ray generator according to the present invention includes a cathode for generating electrons, an anti-cathode having two X-ray generation bands provided opposite to the cathode and arranged adjacent to each other, A casing in which the cathode and the counter-cathode are housed; a decompression unit that depressurizes the interior of the casing; a counter-cathode rotation driving unit that rotates the counter-cathode around an axis passing through the counter-cathode; and the counter-cathode An anti-cathode housing which accommodates the rotation driving means and extends from the anti-cathode; a flange which is provided on an outer peripheral surface of the anti-cathode housing and projects in a radial direction of the anti-cathode housing; and the anti-cathode housing Counter-cathode support means for movably supporting the counter-cathode housing in the axial direction, a first abutting member for stopping the flange from moving toward the counter-cathode, and a flange on the opposite side of the counter-cathode. A second abutting member for stopping movement; and a flange pressure adjusting means for switching an air pressure applied to the flange between a first pressure state and a second pressure state. A force that moves to the opposite side of the cathode, and is a pressure state that applies a force to the flange that is smaller than a force that the flange pulls to the counter-cathode side based on a reduced pressure state inside the casing; The two-pressure state is a force that moves the flange to the side opposite to the counter-cathode, and is a force that is greater than the force that pulls the flange in the direction in which the counter-cathode is present based on the reduced pressure state inside the casing. Is applied to the flange, and the first abutting member is placed in a region where the X-ray generation band on the side closer to the flange of the two X-ray generation bands collides with the electrons. When the counter-cathode is in the first position, it abuts against the surface on the counter-cathode side of the flange, and the second abutment member is located on the far side from the flange of the two X-ray generation bands. When the counter-cathode is in a second position where the line-generating band collides with the electrons, the flange contacts the surface of the flange opposite to the counter-cathode.

前述した第1のX線発生装置は、対陰極が2つのX線発生帯を有する発明であって、対陰極が回転方式であるか固定方式であるかは特に規定していない発明であった。これに対し、本第3X線発生装置は、対陰極が回転型の対陰極であり、対陰極の回転駆動手段が対陰極ハウジングに収容され、この対陰極ハウジングの外周面にフランジが形成され、そして対陰極上に2つのX線発生帯が設けられる構成を規定している。   The first X-ray generator described above is an invention in which the counter cathode has two X-ray generation bands, and does not particularly define whether the counter cathode is a rotating type or a fixed type. . On the other hand, in the third X-ray generator, the counter-cathode is a rotating counter-cathode, the counter-cathode rotation driving means is accommodated in the counter-cathode housing, and a flange is formed on the outer peripheral surface of the counter-cathode housing, A configuration in which two X-ray generation bands are provided on the counter cathode is defined.

この第3のX線発生装置によれば、陰極に対して2つのX線発生帯が移動する構成であって陰極の位置には変化がないので、X線焦点の位置を変化させること無くX線を発生するX線発生帯を変化させることができる。このため、本第3のX線発生装置を用いたX線分析装置において、X線発生装置から発生するX線の波長を変化させたときにX線光学系の光軸の再調整を行う必要が無くなる。しかも、本発明によれば、X線発生帯を移動させるための駆動源が空気圧力であって、モータ等といった電動機器ではないので、複雑な動力伝達系を用いる必要が無くて構成が簡単である。   According to the third X-ray generator, since the two X-ray generation bands move with respect to the cathode and the position of the cathode does not change, the X-ray focal point is not changed. The X-ray generation zone for generating a line can be changed. Therefore, in the X-ray analyzer using the third X-ray generator, it is necessary to readjust the optical axis of the X-ray optical system when the wavelength of the X-ray generated from the X-ray generator is changed. Disappears. In addition, according to the present invention, the drive source for moving the X-ray generation band is air pressure, and is not an electric device such as a motor. Therefore, it is not necessary to use a complicated power transmission system, and the configuration is simple. is there.

次に、本発明に係るX線分析装置は、以上に記載した構成のX線発生装置と、該X線発生装置から発生したX線を用いるX線光学系と有することを特徴とする。このようなX線分析装置としては、X線回折装置、蛍光X線装置、X線小角散乱装置等が考えられる。本発明に係るX線分析装置によれば、X線発生装置においてX線焦点の位置を変化させること無くX線を発生するX線発生帯を変化させることができるので、X線発生装置から発生するX線の波長を変化させた場合でも、X線分析装置にけるX線光学系の光軸の再調整を行う必要がない。しかも、本発明に係るX線分析装置で用いるX線発生装置では、X線発生帯を移動させるための駆動源が空気圧力であって、モータ等といった電動機器ではないので、複雑な動力伝達系を用いる必要が無くて構成が簡単である。   Next, an X-ray analyzer according to the present invention is characterized by having the X-ray generator configured as described above and an X-ray optical system using X-rays generated from the X-ray generator. As such an X-ray analysis apparatus, an X-ray diffraction apparatus, a fluorescent X-ray apparatus, an X-ray small angle scattering apparatus, and the like are conceivable. According to the X-ray analysis apparatus of the present invention, the X-ray generation zone that generates X-rays can be changed without changing the position of the X-ray focal point in the X-ray generation apparatus. Even when the wavelength of the X-ray to be changed is changed, it is not necessary to readjust the optical axis of the X-ray optical system in the X-ray analyzer. In addition, in the X-ray generator used in the X-ray analyzer according to the present invention, the driving source for moving the X-ray generating zone is air pressure, not an electric device such as a motor. The configuration is simple because there is no need to use.

本発明に係るX線発生装置及びX線分析装置によれば、陰極に対して2つ又は複数のX線発生帯が移動する構成であって陰極の位置には変化がないので、X線焦点の位置を変化させること無くX線を発生するX線発生帯を変化させることができる。このため、本X線発生装置を用いたX線分析装置において、X線発生装置から発生するX線の波長を変化させたときに、X線光学系の光軸の再調整を行う必要が無い。
しかも、本発明に係るX線発生装置及びX線分析装置よれば、X線発生帯を移動させるための駆動源が空気圧力であって、モータ等といった電動機器ではないので、複雑な動力伝達系を用いる必要が無くて構成が簡単である。構成が簡単であるが故に、故障の発生を抑制できる。
また、X線発生帯を移動させるための駆動源を空気圧力としたので、陰極及び対陰極を収容したケーシングの内部を真空状態に設定するための減圧装置をX線発生帯を移動させるための駆動源として兼用することができ、構成を簡単にすることができる。
According to the X-ray generation apparatus and the X-ray analysis apparatus of the present invention, the X-ray focal point is configured so that two or more X-ray generation bands move with respect to the cathode and the position of the cathode does not change. The X-ray generation band for generating X-rays can be changed without changing the position of the X-ray. For this reason, in the X-ray analyzer using this X-ray generator, it is not necessary to readjust the optical axis of the X-ray optical system when the wavelength of the X-ray generated from the X-ray generator is changed. .
In addition, according to the X-ray generator and the X-ray analyzer according to the present invention, the driving source for moving the X-ray generating zone is air pressure, not an electric device such as a motor. The configuration is simple because there is no need to use. Since the configuration is simple, the occurrence of failure can be suppressed.
Further, since the driving source for moving the X-ray generation band is air pressure, a decompression device for setting the inside of the casing containing the cathode and the counter cathode to a vacuum state is for moving the X-ray generation band. It can also be used as a drive source, and the configuration can be simplified.

(X線分析装置の実施形態及びX線発生装置の第1実施形態)
以下、本発明に係るX線分析装置及びX線発生装置を実施形態に基づいて説明する。なお、本発明がこの実施形態に限定されないことはもちろんである。また、これ以降の説明では図面を参照するが、その図面では特徴的な部分を分かり易く示すために実際のものとは異なった比率で構成要素を示す場合がある。
(Embodiment of X-ray analyzer and first embodiment of X-ray generator)
Hereinafter, an X-ray analyzer and an X-ray generator according to the present invention will be described based on embodiments. Of course, the present invention is not limited to this embodiment. In the following description, the drawings are referred to. In the drawings, the components may be shown in different ratios from the actual ones in order to show the characteristic parts in an easy-to-understand manner.

図1は、本発明に係るX線分析装置の一実施形態であるX線回折装置1の平面構造を示している。図の紙面面内方向が水平方向であり、紙面に垂直方向が上下方向である。このX線回折装置1は、X線発生装置2Aと、ゴニオメータ3とを有する。ゴニオメータ3はθ回転台4と、2θ回転台5と、2θ回転台5から延びる検出器アーム6とを有する。θ回転台4は自身の中心軸線ω(紙面の垂直方向に延びている)を中心として回転可能である。また、2θ回転台5も同じ軸線ωを中心として回転可能である。X線発生装置2Aとゴニオメータ3との間には発散スリット7が設けられている。この発散スリット7は、X線発生装置2Aから出たX線の発散を規制してそれを試料Sへ照射させるスリットである。   FIG. 1 shows a planar structure of an X-ray diffraction apparatus 1 which is an embodiment of an X-ray analyzer according to the present invention. The in-plane direction of the drawing is the horizontal direction, and the vertical direction to the drawing is the vertical direction. The X-ray diffractometer 1 includes an X-ray generator 2A and a goniometer 3. The goniometer 3 includes a θ rotation table 4, a 2θ rotation table 5, and a detector arm 6 extending from the 2θ rotation table 5. The θ turntable 4 can rotate around its own central axis ω (extending in the direction perpendicular to the paper surface). The 2θ turntable 5 can also rotate around the same axis ω. A diverging slit 7 is provided between the X-ray generator 2 </ b> A and the goniometer 3. The divergence slit 7 is a slit that regulates the divergence of X-rays emitted from the X-ray generator 2 </ b> A and irradiates the sample S with it.

θ回転台4の上に試料ホルダ10が取り外し可能に装着されており、その試料ホルダ10に測定対象である試料Sが収容されている。例えば、試料ホルダ10に設けられた凹部内又は貫通開口内に試料Sが詰め込まれている。検出器アーム6の上には、散乱スリット11と、受光スリット12と、X線検出手段としてのX線カウンタ13が設けられている。散乱スリット11は、分析のために不要である散乱線がX線カウンタ13へ入るのを防止するスリットである。受光スリット12は、試料Sから出た2次X線、例えば回折線を通過させて他の不要なX線は阻止するスリットである。X線カウンタ13は位置分解能を持たないカウンタである0次元カウンタ、例えばSC(Scintillation Counter:シンチレーションカウンタ)によって構成されている。   A sample holder 10 is detachably mounted on the θ turntable 4, and a sample S to be measured is accommodated in the sample holder 10. For example, the sample S is packed in a recess provided in the sample holder 10 or in a through opening. On the detector arm 6, a scattering slit 11, a light receiving slit 12, and an X-ray counter 13 as an X-ray detection means are provided. The scattering slit 11 is a slit that prevents scattered rays unnecessary for analysis from entering the X-ray counter 13. The light receiving slit 12 is a slit that passes secondary X-rays emitted from the sample S, such as diffraction lines, and blocks other unnecessary X-rays. The X-ray counter 13 is configured by a zero-dimensional counter that is a counter having no position resolution, for example, an SC (Scintillation Counter).

X線発生装置2Aは一定の位置に固定配置されている。このX線発生装置2Aは、通電によって熱電子を放出する陰極であるフィラメント16と、フィラメント16に対向して配置された対陰極としてのターゲット17Aとを有する。フィラメント16から放出された電子はターゲット17Aに高速で衝突する。電子が衝突した領域がX線焦点Fであり、このX線焦点FからX線が発生する。X線焦点Fの平面形状は、例えば1mm×10mmである。ターゲット17Aから発生したX線R1は発散スリット7によって発散角度を規制されて試料Sへ入射する。   The X-ray generator 2A is fixedly arranged at a fixed position. The X-ray generator 2 </ b> A includes a filament 16 that is a cathode that emits thermoelectrons when energized, and a target 17 </ b> A as an anti-cathode disposed to face the filament 16. The electrons emitted from the filament 16 collide with the target 17A at high speed. The region where the electrons collide is the X-ray focal point F, and X-rays are generated from the X-ray focal point F. The planar shape of the X-ray focal point F is, for example, 1 mm × 10 mm. The X-ray R1 generated from the target 17A is incident on the sample S with the divergence angle regulated by the divergence slit 7.

θ回転台4はθ回転駆動装置20によって駆動されてω軸線を中心として回転する。この回転は、所定のステップ角度ごとの間欠回転のこともあるし、所定の角速度の連続回転のこともある。θ回転台4のこの回転は、試料SへのX線R1の入射角度θを変化させるための回転であり、一般にはθ回転と呼ばれている。   The θ turntable 4 is driven by the θ rotation driving device 20 and rotates around the ω axis. This rotation may be intermittent rotation at every predetermined step angle or may be continuous rotation at a predetermined angular velocity. This rotation of the θ turntable 4 is a rotation for changing the incident angle θ of the X-ray R1 to the sample S, and is generally called θ rotation.

2θ回転台5は2θ回転駆動装置21によって駆動されてω軸線を中心として回転する。この回転は、一般に2θ回転と呼ばれており、上記のθ回転と同じ方向へ2倍の角速度で行われる間欠回転又は連続回転である。この2θ回転は、入射角度θで試料SへX線が入射したときにその試料Sから2次X線(例えば回折線)R2が発生するときには、その2次X線R2をX線カウンタ13によって受光できるようにするための回転である。   The 2θ turntable 5 is driven by the 2θ rotation drive device 21 and rotates around the ω axis. This rotation is generally called 2θ rotation, and is intermittent rotation or continuous rotation performed in the same direction as the above θ rotation at a double angular velocity. This 2θ rotation is performed when X-rays are incident on the sample S at an incident angle θ, and when secondary X-rays (for example, diffraction lines) R2 are generated from the sample S, the secondary X-rays R2 are converted by the X-ray counter 13. This is a rotation for receiving light.

θ回転駆動装置20及び2θ回転駆動装置21は任意の回転駆動装置によって構成される。このような回転駆動装置は、例えば、回転動力源及び動力伝達装置によって構成される。回転動力源は、例えば、回転角度を制御可能なモータ、例えばサーボモータ、ステッピングモータによって構成される。動力伝達装置は、例えば、回転動力源の出力軸に固定されたウオームと、このウオームに噛み合うと共にθ回転台4の中心軸や2θ回転台5の中心軸に固定されたウオームホイールとによって構成される。   The θ rotation driving device 20 and the 2θ rotation driving device 21 are constituted by arbitrary rotation driving devices. Such a rotational drive device is constituted by, for example, a rotational power source and a power transmission device. The rotational power source is constituted by, for example, a motor capable of controlling the rotation angle, such as a servo motor or a stepping motor. The power transmission device includes, for example, a worm fixed to the output shaft of the rotational power source and a worm wheel that meshes with the worm and is fixed to the central axis of the θ rotary table 4 and the central axis of the 2θ rotary table 5. The

θ回転台4及びそれに装着された試料Sがθ回転し、2θ回転台4及びそれに支持されたX線カウンタ13が2θ回転するとき、X線焦点Fは軸線ωを中心とするゴニオメータ円Cg上に固定配置され、受光スリット12のX線集光点はゴニオメータ円Cg上を移動する。また、試料Sのθ回転及びX線カウンタ13の2θ回転の際、X線焦点F、ω軸線、及び受光スリット12のX線集光点は集中円Cf上に存在する。ゴニオメータ円Cgは半径一定の仮想円であり、集中円Cfはθ角度及び2θ角度の変化に従って半径が変化する仮想円である。   When the θ-rotation table 4 and the sample S mounted thereon rotate θ, and the 2θ-rotation table 4 and the X-ray counter 13 supported thereon rotate 2θ, the X-ray focal point F is on the goniometer circle Cg centered on the axis ω. The X-ray condensing point of the light receiving slit 12 moves on the goniometer circle Cg. Further, during the θ rotation of the sample S and the 2θ rotation of the X-ray counter 13, the X-ray focal point F, the ω-axis line, and the X-ray condensing point of the light receiving slit 12 exist on the concentrated circle Cf. The goniometer circle Cg is a virtual circle with a constant radius, and the concentrated circle Cf is a virtual circle whose radius changes according to changes in the θ angle and the 2θ angle.

以下、上記構成より成るX線回折装置1の動作を説明する。
まず、必要に応じて、X線焦点FからX線カウンタ13に至るX線光路上に存在する各種のX線光額要素をX線光軸上に正確に位置合わせする。すなわち、光軸調整を行う。次に、試料Sに対するX線の入射角度θ及びX線カウンタ13の回折角度2θを所望の初期位置(ゼロ位置)にセットする。
Hereinafter, the operation of the X-ray diffraction apparatus 1 having the above configuration will be described.
First, as necessary, various X-ray light forehead elements existing on the X-ray optical path from the X-ray focal point F to the X-ray counter 13 are accurately aligned on the X-ray optical axis. That is, optical axis adjustment is performed. Next, the X-ray incident angle θ with respect to the sample S and the diffraction angle 2θ of the X-ray counter 13 are set to desired initial positions (zero positions).

次に、フィラメント16を通電によって加熱して、該フィラメント16から熱電子を発生される。この電子は通常はウエネルト(図示せず)によって加えられる電界によって進行方向を規制された上でターゲット17Aの表面に高速で衝突してX線焦点Fを形成する。そして、X線焦点Fからターゲット17Aの材質に応じた波長のX線が放出される。フィラメント16への通電によって該フィラメント16を流れる電流は一般に管電流と呼ばれている。また、フィラメント16から放出されてターゲット17Aに衝突する電子を加速するために、フィラメント16とターゲット17Aとの間に所定の大きさの電圧が印加される。この電圧は一般に管電圧と呼ばれている。本実施形態では、管電圧及び管電流をそれぞれ40〜60kV及び50〜300mAに設定する。ターゲット材質については後述する。   Next, the filament 16 is heated by energization, and thermoelectrons are generated from the filament 16. The electrons are normally restricted in the traveling direction by an electric field applied by Wehnelt (not shown) and then collide with the surface of the target 17A at a high speed to form an X-ray focal point F. Then, X-rays having a wavelength corresponding to the material of the target 17A are emitted from the X-ray focal point F. The current flowing through the filament 16 by energization of the filament 16 is generally called tube current. Further, in order to accelerate the electrons emitted from the filament 16 and colliding with the target 17A, a voltage having a predetermined magnitude is applied between the filament 16 and the target 17A. This voltage is generally called a tube voltage. In the present embodiment, the tube voltage and the tube current are set to 40 to 60 kV and 50 to 300 mA, respectively. The target material will be described later.

X線発生装置2Aから放射されて発散するX線R1には、種々の波長のX線を含む連続X線及び特定波長の特性X線が含まれている。これらのX線から所望の特性X線を選択したい場合には、X線発生装置2Aから試料Sへ至るX線光路上に入射側モノクロメータ(いわゆるインシデントモノクロメータ)が設けられる。X線R1は発散スリット7によって発散を規制されて試料Sへ照射される。試料Sがθ回転しX線カウンタ13が2θ回転する間、試料Sへ入射するX線R1が試料S内の結晶格子面に対して所定の回折条件、すなわちブラッグの回折角度を満足する角度状態になると、試料Sから2次回折線、例えば回折線R2が回折角度2θで発生する。この回折線R2は散乱スリット11及び受光スリット12を通過してX線カウンタ13に受光される。X線カウンタ13は受光したX線のカウント数に応じた電気信号を出力し、この出力信号に基づいてX線強度が演算される。   The X-ray R1 emitted from the X-ray generator 2A and diverges includes continuous X-rays including X-rays having various wavelengths and characteristic X-rays having specific wavelengths. In order to select a desired characteristic X-ray from these X-rays, an incident-side monochromator (so-called incident monochromator) is provided on the X-ray optical path from the X-ray generator 2A to the sample S. The X-ray R1 is irradiated on the sample S with its divergence restricted by the divergence slit 7. While the sample S rotates by θ and the X-ray counter 13 rotates by 2θ, the X-ray R1 incident on the sample S satisfies the predetermined diffraction condition, that is, the Bragg diffraction angle with respect to the crystal lattice plane in the sample S. Then, a second-order diffraction line, for example, a diffraction line R2 is generated from the sample S at a diffraction angle 2θ. The diffraction line R2 passes through the scattering slit 11 and the light receiving slit 12, and is received by the X-ray counter 13. The X-ray counter 13 outputs an electrical signal corresponding to the number of X-rays received, and the X-ray intensity is calculated based on this output signal.

以上のX線強度の演算処理は入射X線角度θ及び回折角度2θの各角度に対して行われ、その結果、回折角度2θの各角度位置におけるX線強度I(2θ)が求められる。横軸に回折角度2θをとり、縦軸にX線強度Iをとった平面座標上に上記のX線強度I(2θ)をプロットすれば周知の回折線図形が求められる。そして、回折線図形上に現れたX線強度ピーク波形の発生角度(2θ)及び発生強度(I)を観察することにより、試料Sの内部構造を分析できる。   The above X-ray intensity calculation processing is performed for each of the incident X-ray angle θ and the diffraction angle 2θ, and as a result, the X-ray intensity I (2θ) at each angular position of the diffraction angle 2θ is obtained. If the X-ray intensity I (2θ) is plotted on the plane coordinates with the diffraction angle 2θ on the horizontal axis and the X-ray intensity I on the vertical axis, a known diffraction line figure can be obtained. Then, the internal structure of the sample S can be analyzed by observing the generation angle (2θ) and the generation intensity (I) of the X-ray intensity peak waveform that appears on the diffraction line pattern.

以下、X線発生装置2Aについて詳細に説明する。
図2はX線発生装置2Aを詳細に示している。このX線発生装置2Aは、既述のフィラメント16と、既述のターゲット17Aと、そのターゲット17Aを含んだターゲットユニット24と、ケーシング25とを有する。フィラメント16及びターゲット17Aはケーシング25の内部空間内に収容されている。ケーシング25の内部空間は矢印B方向から見て、概ね、軸線X0を中心とする円柱状空間となっている。ターゲットユニット24は、ターゲット17Aから延在する対陰極延在部としての対陰極ハウジング26を有している。対陰極ハウジング26はターゲット17Aを軸線X0を中心として矢印Aのように回転可能に支持している。ターゲット17Aの回転数は、例えば6,000rpmである。ケーシング25及び対陰極ハウジング26は、例えば銅あるいは銅合金によって形成されている。対陰極ハウジング26は矢印B方向から見て円筒形状に形成されている。ケーシング25は矢印B方向から見て円筒形状又は角筒形状に形成されている。
Hereinafter, the X-ray generator 2A will be described in detail.
FIG. 2 shows the X-ray generator 2A in detail. The X-ray generator 2A includes the filament 16 described above, the target 17A described above, a target unit 24 including the target 17A, and a casing 25. The filament 16 and the target 17A are accommodated in the internal space of the casing 25. The internal space of the casing 25 is generally a cylindrical space centered on the axis X0 when viewed from the direction of the arrow B. The target unit 24 has an anti-cathode housing 26 as an anti-cathode extension extending from the target 17A. The anti-cathode housing 26 supports the target 17A so as to be rotatable as indicated by an arrow A about the axis X0. The rotation speed of the target 17A is, for example, 6,000 rpm. The casing 25 and the counter cathode housing 26 are made of, for example, copper or a copper alloy. The counter cathode housing 26 is formed in a cylindrical shape when viewed from the direction of arrow B. The casing 25 is formed in a cylindrical shape or a rectangular tube shape when viewed from the arrow B direction.

ターゲット17Aは熱伝導率の高い材料(例えばCu(銅))によって図面で横向き状のカップ状に形成された基部材の外周面に、2種類のX線発生帯27A及び27Bを並置して設けることによって形成されている。X線発生帯27A及び27Bはターゲット17Aの中心軸線X0の延びる方向(すなわち軸方向)に並べてリング状(すなわち環状)且つ帯状に設けられている。X線発生帯27A及び27Bは互いに異なる材料によって形成されており、それぞれが、例えばCu、Mo(モリブデン)、Cr(クロム)、Co(コバルト)の中から選択される1つの材料によって形成されている。Mo、Cr、Coの各材料は、例えばイオンプレーティング、メッキ、焼き嵌め、その他適宜の成膜手法によってCu基部材上に形成される。X線焦点Fの大きさが1mm×10mmであれば、各X線発生帯27A,27Bの軸方向の幅は約13mmに設定される。   The target 17A is provided with two types of X-ray generating bands 27A and 27B juxtaposed on the outer peripheral surface of a base member formed in a laterally cup-like shape in the drawing with a material having high thermal conductivity (for example, Cu (copper)). It is formed by. The X-ray generation bands 27A and 27B are provided in a ring shape (that is, in an annular shape) and in a band shape in the direction in which the central axis line X0 of the target 17A extends (ie, in the axial direction). The X-ray generation bands 27A and 27B are formed of different materials, and each is formed of one material selected from, for example, Cu, Mo (molybdenum), Cr (chromium), and Co (cobalt). Yes. Each material of Mo, Cr, and Co is formed on the Cu base member by, for example, ion plating, plating, shrink fitting, and other appropriate film forming methods. If the size of the X-ray focal point F is 1 mm × 10 mm, the width in the axial direction of each X-ray generation band 27A, 27B is set to about 13 mm.

対陰極ハウジング26は図3に示すように概ね軸線X0を中心とする円筒形状に形成されており、その内部の中心部に細い円筒形状の第1内管30が設けられ、その第1内管30の外側に同軸に第2内管31が設けられている。第1内管30は対陰極ハウジング26の外壁に対して回転不能(すなわち固定状態)に設けられ、第2内管31は対陰極ハウジング26の外壁に対して回転可能に設けられている。第1内管30と第2内管31との間には通水用の隙間が形成されている。第2内管31はターゲット17Aの底部32を構成し、第1内管30はターゲット17Aの内部で仕切部材33を構成している。   As shown in FIG. 3, the anti-cathode housing 26 is generally formed in a cylindrical shape centering on the axis X0, and a thin cylindrical first inner tube 30 is provided at the center of the inside, and the first inner tube is provided. A second inner tube 31 is provided coaxially on the outside of 30. The first inner tube 30 is provided so as not to rotate (that is, fixed) with respect to the outer wall of the anti-cathode housing 26, and the second inner tube 31 is provided so as to be rotatable with respect to the outer wall of the anti-cathode housing 26. A gap for passing water is formed between the first inner pipe 30 and the second inner pipe 31. The second inner pipe 31 constitutes the bottom 32 of the target 17A, and the first inner pipe 30 constitutes a partition member 33 inside the target 17A.

対陰極ハウジング26の外壁には半径方向へ突出する円盤状のフランジ35が設けられている。フランジ35のターゲット17A側に隣接して、フランジ35よりも小径で円盤状の内側摺動部36が設けられている。内側摺動部36の外周面が摺動面36aである。フランジ35及び内側摺動部36のそれぞれの先端に気密用のシール材であるO(オー)リング37a,37bが設けられている。フランジ35に関してターゲット17Aと反対側の対陰極ハウジング26の外壁の適所にもOリング37cが設けられている。   A disc-shaped flange 35 protruding in the radial direction is provided on the outer wall of the counter-cathode housing 26. Adjacent to the target 17 </ b> A side of the flange 35, a disk-shaped inner sliding portion 36 having a smaller diameter than the flange 35 is provided. An outer peripheral surface of the inner sliding portion 36 is a sliding surface 36a. O (o) rings 37a and 37b, which are sealing materials for airtightness, are provided at the tips of the flange 35 and the inner sliding portion 36, respectively. An O-ring 37c is also provided at an appropriate position on the outer wall of the anti-cathode housing 26 on the side opposite to the target 17A with respect to the flange 35.

対陰極ハウジング26の側壁と第2内管31との間の空間内に、ターゲット17A側から順に、磁気シール装置38、軸受39、ダイレクトドライブ機構40、軸受41、そして漏水防止用のシール材42が設けられている。磁気シール装置38は、回転軸である第2内管31上に設けられた軸封装置であって、当該磁気シール装置38を境として回転軸に沿った一方領域と他方領域との圧力差を維持すると共にそれらの領域の一方を汚れのない雰囲気に維持するための周知のシール装置である。この磁気シール装置は、通常、回転軸とそれに対向するポールピースとの間に磁気閉回路を形成することにより、回転軸とポールピースとの間に磁性流体膜を磁力によって形成し、この磁性流体膜によって圧力差を維持するものである。   In the space between the side wall of the anti-cathode housing 26 and the second inner tube 31, the magnetic seal device 38, the bearing 39, the direct drive mechanism 40, the bearing 41, and the sealing material 42 for preventing water leakage are sequentially formed from the target 17 </ b> A side. Is provided. The magnetic seal device 38 is a shaft seal device provided on the second inner tube 31 that is a rotation shaft, and the pressure difference between one region and the other region along the rotation shaft with the magnetic seal device 38 as a boundary. It is a well-known sealing device for maintaining and maintaining one of those areas in a clean atmosphere. This magnetic seal device normally forms a magnetic fluid film between a rotating shaft and a pole piece by a magnetic force by forming a magnetic closed circuit between the rotating shaft and a pole piece facing the rotating shaft. The pressure difference is maintained by the membrane.

第2内管31は一対の軸受39,41によって軸線X0を中心として回転可能に支持されている。ダイレクトドライブ機構40は、第2内管31の外周面に設けられた透磁性部材から成るロータ44と、対陰極ハウジング26の側壁の内面に固定されていてロータ44の周囲に配置されたステータコイル45とを有する。図示しないモータ駆動制御回路によってステータコイル45にモータ駆動電流を通電することにより該ステータコイル45に回転磁界を形成する。形成されたこの回転磁界によってロータ44に回転駆動力を発生させることにより、第2内管31を軸線X0を中心として回転させる。   The second inner pipe 31 is supported by a pair of bearings 39 and 41 so as to be rotatable about the axis X0. The direct drive mechanism 40 includes a rotor 44 made of a magnetically permeable member provided on the outer peripheral surface of the second inner tube 31, and a stator coil fixed to the inner surface of the side wall of the counter-cathode housing 26 and disposed around the rotor 44. 45. A rotating magnetic field is formed in the stator coil 45 by energizing the stator coil 45 with a motor drive current by a motor drive control circuit (not shown). By generating a rotational driving force in the rotor 44 by this formed rotating magnetic field, the second inner tube 31 is rotated about the axis X0.

第2内管31が軸回転するときに、それと一体であるターゲット17Aが軸回転する。ターゲット17Aのこの軸回転によりターゲット17Aが冷却される。一方、対陰極ハウジング26の後端(図の左端)に設けた給水ポート46に水を供給する。この水は第1内管30と第2内管31との間の円筒状の空間内を流れてターゲット17Aの内部へ流入し、仕切部材33に沿って進むことによりターゲット17Aを内側から冷却する。その後、水は第1内管30の内部へ回収され、さらに第1内管30の内部を流れて対陰極ハウジング26の左端部の排水ポート47を通して外部へ排出される。ターゲット17Aを軸線X0を中心として回転させること、及びターゲット17Aの内面に冷却水を流すことの両方によってターゲット17Aを冷却するのは、X線発生帯27A又はX線発生帯27Bに熱電子を高速で衝突させたときにターゲット17Aが許容限度以上に高温になることを防止してターゲット17Aを保護するためである。   When the second inner pipe 31 is axially rotated, the target 17A integrated therewith rotates axially. The target 17A is cooled by this rotation of the target 17A. On the other hand, water is supplied to a water supply port 46 provided at the rear end (left end in the figure) of the counter cathode housing 26. This water flows in the cylindrical space between the first inner pipe 30 and the second inner pipe 31, flows into the target 17A, and proceeds along the partition member 33 to cool the target 17A from the inside. . Thereafter, the water is collected inside the first inner pipe 30, further flows inside the first inner pipe 30, and is discharged outside through the drain port 47 at the left end portion of the counter-cathode housing 26. The target 17A is cooled by both rotating the target 17A about the axis X0 and flowing the cooling water on the inner surface of the target 17A. The thermoelectrons are rapidly transferred to the X-ray generation band 27A or the X-ray generation band 27B. This is to protect the target 17A by preventing the target 17A from being heated to a temperature higher than the allowable limit when it is caused to collide.

図2において、ケーシング25の左端面の中央部分は開口、例えばB方向矢視で円形の開口となっており、その開口を通してターゲットユニット24の先端部がケーシング25の内部へ挿入されている。ケーシング25の内部には、中心(すなわち軸線X0)へ向けて張り出す部分であるケーシングフランジ49が設けられている。このケーシングフランジ49の端部(図の左端部)は段差部となっている。ケーシングフランジ49の段差部よりも開口側のケーシング25の内部空間は、B方向矢視で円板状又は円筒状の空間となっている。この空間の直径はターゲットユニット24のフランジ35よりもわずかに大きい径となっており、ターゲットフランジ35の外周面はケーシング25の開口部分の内周面に対して摺動可能(すなわち摺れ移動可能又は滑り移動可能)となっている。ターゲットフランジ35とケーシング25との間は、ターゲットフランジ35の外周に装着したOリング37aによって気密に保持されている。   In FIG. 2, the central portion of the left end surface of the casing 25 is an opening, for example, a circular opening as viewed in the direction B, and the tip of the target unit 24 is inserted into the casing 25 through the opening. Inside the casing 25, a casing flange 49, which is a portion protruding toward the center (that is, the axis X0), is provided. An end portion (left end portion in the figure) of the casing flange 49 is a stepped portion. The internal space of the casing 25 on the opening side of the stepped portion of the casing flange 49 is a disk-shaped or cylindrical space as viewed in the direction of the arrow B. The diameter of this space is slightly larger than the flange 35 of the target unit 24, and the outer peripheral surface of the target flange 35 is slidable with respect to the inner peripheral surface of the opening portion of the casing 25 (that is, slidable). Or sliding movement). A space between the target flange 35 and the casing 25 is airtightly held by an O-ring 37 a attached to the outer periphery of the target flange 35.

ケーシングフランジ49によって形成される内部空間は、フィラメント16が収容される空間を除いて、B方向矢視で円筒状の空間となっている。ケーシングフランジ49の内周面はターゲットユニット24の内側摺動部36の径よりもわずかに大きい径になっており、内側摺動部36はケーシングフランジ49に対して摺動可能となっている。内側摺動部36とケーシングフランジ49との間は、内側摺動部36の外周に装着したOリング37bによって気密に保持されている。ケーシングフランジ49の一部(図の下部)には半径方向へ延出する空間が設けられ、その空間内にフィラメント16が収容されている。   The internal space formed by the casing flange 49 is a cylindrical space as viewed in the direction B, except for the space in which the filament 16 is accommodated. The inner peripheral surface of the casing flange 49 has a diameter slightly larger than the diameter of the inner sliding portion 36 of the target unit 24, and the inner sliding portion 36 can slide with respect to the casing flange 49. A space between the inner sliding portion 36 and the casing flange 49 is hermetically maintained by an O-ring 37 b attached to the outer periphery of the inner sliding portion 36. A space extending in the radial direction is provided in a part of the casing flange 49 (lower part in the figure), and the filament 16 is accommodated in the space.

ケーシング25の左端開口にB方向矢視でリング状(すなわち環状)の突出部材50が設けられている。この突出部材50はケーシング25の左端開口において当該開口の中心(すなわち軸線X0)へ向かう半径方向に突出している。この突出部材50はリング部材をネジその他の固着手段によってケーシング25の左端面に固着することによって設けられている。突出部材50とケーシング25との間はOリング51によって気密となっている。   A ring-shaped (that is, annular) protruding member 50 is provided at the left end opening of the casing 25 as viewed in the direction of the arrow B. The protruding member 50 protrudes in the radial direction toward the center of the opening (that is, the axis X0) at the left end opening of the casing 25. The protruding member 50 is provided by fixing the ring member to the left end surface of the casing 25 with screws or other fixing means. The protruding member 50 and the casing 25 are hermetically sealed by an O-ring 51.

突出部材50の適所(図2では突出部材50の下部)にネジ52がネジ嵌合している。そして、ネジ52に対応するフランジ35に雌ネジ53が設けられている。ネジ52の周囲はシール材であるOリング63によって気密にシールされている。ネジ52及び雌ネジ53は協働して、フランジ35を位置不動に固定するための固定手段を構成している。   A screw 52 is screwed into an appropriate position of the protruding member 50 (a lower portion of the protruding member 50 in FIG. 2). A female screw 53 is provided on the flange 35 corresponding to the screw 52. The periphery of the screw 52 is hermetically sealed by an O-ring 63 that is a sealing material. The screw 52 and the female screw 53 cooperate to constitute a fixing means for fixing the flange 35 in a fixed position.

ケーシングフランジ49の先端内壁部は、対陰極ハウジング26の内側摺動部36の外周面である摺動面36aに摺接している。また、突出部材50の内周面は対陰極ハウジング26の外側摺動部43の外周面に摺接している。ここで、摺接とは、摺れる状態で接触していること、又は滑り移動可能な状態で接触していることである。以上の摺接構造により、ターゲットユニット24は、ケーシングフランジ49及び突出部材50の両方によって軸方向移動可能に支持されている。ケーシングフランジ49と対陰極ハウジング26との間はOリング37bによって気密となっている。突出部材50と対陰極ハウジング26との間はOリング37cによって気密となっている。   The inner wall portion at the front end of the casing flange 49 is in sliding contact with a sliding surface 36 a that is the outer peripheral surface of the inner sliding portion 36 of the counter-cathode housing 26. Further, the inner peripheral surface of the protruding member 50 is in sliding contact with the outer peripheral surface of the outer sliding portion 43 of the counter cathode housing 26. Here, the slidable contact means contact in a slidable state or contact in a slidable state. With the above sliding contact structure, the target unit 24 is supported by both the casing flange 49 and the protruding member 50 so as to be movable in the axial direction. The casing flange 49 and the counter-cathode housing 26 are hermetically sealed by an O-ring 37b. The protruding member 50 and the counter-cathode housing 26 are hermetically sealed by an O-ring 37c.

ケーシングフランジ49の先端の段差部は、ターゲットフランジ35のターゲット17A側の面が当接する第1当接部材を構成している。突出部材50のケーシング側の壁面は、ターゲットフランジ35のターゲット17Aと反対側の面が当接する第2当接部材を構成している。   The step portion at the tip of the casing flange 49 constitutes a first abutting member with which the surface of the target flange 35 on the target 17A side abuts. The casing-side wall surface of the projecting member 50 constitutes a second abutting member with which the surface of the target flange 35 on the side opposite to the target 17A abuts.

ケーシングフランジ49と対陰極ハウジング26の内側摺動部36とが気密に摺接することにより、ターゲット17A及びフィラメント16が収容されたケーシング25の内部空間が気密に保持されている。ターゲット17Aの側方のケーシング25の一部分にはターゲット17Aから発生するX線を外部へ取り出すためのX線窓28が設けられている。このX線窓28は真空状態と大気圧状態との間で気圧差を維持できるだけの機械的強度を有し、さらにX線を通過させることができる材料、例えばBe(ベリリウム)によって形成されている。通常、X線窓28から取り出されるX線の取出し角αはα=6°である。   Since the casing flange 49 and the inner sliding portion 36 of the counter-cathode housing 26 are in airtight sliding contact, the internal space of the casing 25 in which the target 17A and the filament 16 are accommodated is kept airtight. An X-ray window 28 for extracting X-rays generated from the target 17A to the outside is provided in a part of the casing 25 on the side of the target 17A. The X-ray window 28 has a mechanical strength sufficient to maintain a pressure difference between a vacuum state and an atmospheric pressure state, and is formed of a material that can pass X-rays, for example, Be (beryllium). . Usually, the extraction angle α of X-rays extracted from the X-ray window 28 is α = 6 °.

本実施形態では、ターゲット17Aを軸線X0の延びる方向へ移動可能に支持する対陰極支持手段が、ケーシングフランジ49及び突出部材50の両方によって構成されている。しかしながら、ケーシングフランジ49の内周面又は突出部材50の内周面のいずれか一方を対陰極ハウジング26の外周面から半径方向へ離して設けることにより、ケーシングフランジ49及び突出部材50のいずれか一方だけによってターゲットユニット24を平行移動可能に支持しても良い。   In the present embodiment, anti-cathode support means for supporting the target 17A so as to be movable in the direction in which the axis X0 extends is constituted by both the casing flange 49 and the protruding member 50. However, either one of the casing flange 49 and the protruding member 50 is provided by disposing either the inner peripheral surface of the casing flange 49 or the inner peripheral surface of the protruding member 50 in the radial direction away from the outer peripheral surface of the counter-cathode housing 26. Alternatively, the target unit 24 may be supported so as to be movable in parallel.

ターゲットユニット24は、ターゲットフランジ35の右側面(すなわちターゲット17A側の面)がケーシングフランジ49の先端段差部に当接する第1位置と、ターゲットフランジ35の左側面(すなわちターゲット17Aと反対側の面)が突出部材50の右側面(すなわちターゲット17A側の面)に当接する第2位置との間で、軸線X0に沿った方向へ平行移動できる。図2はターゲットユニット24が第1位置に在る状態を示している。図4はターゲットユニット24が第2位置に在る状態を示している。ターゲットユニット24が図2に示す第1位置にあるとき、フィラメント16は第1X線発生帯27A上にX線焦点Fを形成する。一方、ターゲットユニット24が図4に示す第2位置にあるとき、フィラメント16は第2X線発生帯27B上にX線焦点Fを形成する。   The target unit 24 includes a first position where the right side surface of the target flange 35 (that is, the surface on the target 17A side) abuts on the tip step portion of the casing flange 49, and the left side surface of the target flange 35 (that is, the surface opposite to the target 17A). ) Can be translated in the direction along the axis line X0 between the second position where the projection member 50 abuts against the right side surface of the projecting member 50 (ie, the surface on the target 17A side). FIG. 2 shows a state where the target unit 24 is in the first position. FIG. 4 shows a state in which the target unit 24 is in the second position. When the target unit 24 is in the first position shown in FIG. 2, the filament 16 forms an X-ray focal point F on the first X-ray generation band 27A. On the other hand, when the target unit 24 is in the second position shown in FIG. 4, the filament 16 forms an X-ray focal point F on the second X-ray generation band 27B.

図2において、ケーシング25の内部空間に連通して配管54が設けられている。そして、その配管54上にターボ分子ポンプ55及びロータリーポンプ56が設けられている。ロータリーポンプ56はケーシング25の内部を比較的高い気圧まで粗く減圧する減圧ポンプである。ターボ分子ポンプ55は、ロータリーポンプ56によってある程度まで減圧された雰囲気をさらに真空状態に近い状態に向けて減圧する減圧ポンプである。このターボ分子ポンプ55の働きにより、ターゲット17A及びフィラメント16の周囲を略真空状態である10−3Pa以下まで高精度に減圧できる。なお、ケーシング25の内部を略真空状態に減圧できるのであれば、ターボ分子ポンプ以外の高真空用ポンプとロータリーポンプ56以外の補助ポンプとの組合せでもかまわない。 In FIG. 2, a pipe 54 is provided in communication with the internal space of the casing 25. A turbo molecular pump 55 and a rotary pump 56 are provided on the pipe 54. The rotary pump 56 is a decompression pump that roughly decompresses the inside of the casing 25 to a relatively high atmospheric pressure. The turbo molecular pump 55 is a decompression pump that decompresses the atmosphere decompressed to some extent by the rotary pump 56 toward a state close to a vacuum state. By the action of the turbo molecular pump 55, the surroundings of the target 17A and the filament 16 can be decompressed with high accuracy to 10 −3 Pa or less, which is a substantially vacuum state. As long as the inside of the casing 25 can be reduced to a substantially vacuum state, a combination of a high vacuum pump other than the turbo molecular pump and an auxiliary pump other than the rotary pump 56 may be used.

ケーシングフランジ49が設けられた部分のケーシング25の壁中に通気穴57が設けられている。この通気穴57は本実施形態では断面が円形の穴であるが、この通気穴57は大気に通じてさえいれば形状を問わない開口部とすることができる。通気穴57の一方の端部はケーシングフランジ49のターゲットフランジ35との当接部(すなわち段差部)に開口し、他の端部がケーシング25の外周面に開口して大気圧に通じている。   A vent hole 57 is provided in the wall of the casing 25 where the casing flange 49 is provided. The vent hole 57 is a hole having a circular cross section in the present embodiment, but the vent hole 57 can be an opening having any shape as long as it communicates with the atmosphere. One end portion of the vent hole 57 opens to a contact portion (that is, a step portion) of the casing flange 49 with the target flange 35, and the other end portion opens to the outer peripheral surface of the casing 25 to communicate with the atmospheric pressure. .

ケーシング25の左端面に固着されたリング状の突出部材50に圧力切替装置58が付設されている。この圧力切替装置58は、突出部材50の適所に接続された配管59と、1つのポートがその配管59に接続された3ポート電磁弁60と、3ポート電磁弁60の他の1つのポートに接続されたロータリーポンプ61とを有する。3ポート電磁弁60の残りの1つのポートは大気圧に通じている。   A pressure switching device 58 is attached to a ring-shaped projecting member 50 fixed to the left end surface of the casing 25. The pressure switching device 58 is connected to a pipe 59 connected to an appropriate position of the protruding member 50, a three-port solenoid valve 60 having one port connected to the pipe 59, and another one port of the three-port solenoid valve 60. And a connected rotary pump 61. The remaining one port of the three-port solenoid valve 60 communicates with atmospheric pressure.

電磁弁60、ターボ分子ポンプ55、及びロータリーポンプ56,61の各要素の動作は制御装置62Aによって制御される。制御装置62Aは図1のX線回折装置1の全体を制御するコンピュータによって構成しても良いし、そのコンピュータとは別の独立したコンピュータによって構成しても良いし、コンピュータを含まない適宜のシーケンス回路であっても良い。   The operation of each element of the electromagnetic valve 60, the turbo molecular pump 55, and the rotary pumps 56 and 61 is controlled by the control device 62A. The control device 62A may be configured by a computer that controls the entire X-ray diffraction device 1 of FIG. 1, may be configured by an independent computer different from the computer, or an appropriate sequence not including the computer. It may be a circuit.

X線発生装置2A内のターゲット17AからX線を発生させる際、ターゲット17A周辺のケーシング25の内部は、ロータリーポンプ56及びターボ分子ポンプ55によって略真空状態に減圧される。この真空状態下でターゲットユニット24の全体は真空吸引力によってターゲット17A方向(図の右方向)へ引っ張られる。   When X-rays are generated from the target 17A in the X-ray generator 2A, the inside of the casing 25 around the target 17A is decompressed to a substantially vacuum state by the rotary pump 56 and the turbo molecular pump 55. Under this vacuum state, the entire target unit 24 is pulled in the direction of the target 17A (right direction in the figure) by the vacuum suction force.

圧力切替装置58内の電磁弁60は、例えば入力電圧がOFF状態のときに配管59を大気圧につなげる。このとき、ターゲットユニット24のフランジ35をターゲット17Aと反対側へ引っ張る力は作用しないので、ターゲットユニット24のフランジ35をターゲット17Aと反対側へ引っ張る力は、真空吸引力によってフランジ35がターゲット17A側へ引っ張られる力よりも小さいことになる。その結果、フランジ35は真空吸引力によって引っ張られてターゲット17A方向へ移動して、フランジ35の右側面が第1当接部材としてのケーシングフランジ49の段差部に当接した状態で静止している。   The electromagnetic valve 60 in the pressure switching device 58 connects the pipe 59 to atmospheric pressure when the input voltage is in an OFF state, for example. At this time, the force for pulling the flange 35 of the target unit 24 to the side opposite to the target 17A does not act. Therefore, the force for pulling the flange 35 of the target unit 24 to the side opposite to the target 17A is It will be less than the force that is pulled to. As a result, the flange 35 is pulled by the vacuum suction force and moves in the direction of the target 17A, and is stationary with the right side surface of the flange 35 in contact with the stepped portion of the casing flange 49 as the first contact member. .

この状態におけるターゲットユニット24及びフランジ35の位置を第1位置ということにする。フランジ35が第1位置にあるとき、ターゲット17A上のフランジ35側の第1X線発生帯27Aがフィラメント16に対向する位置にある。そのため、フィラメント16から電子が放出されたときにはX線発生帯27AからX線が発生し、そのX線がX線窓28から外部へ取り出される。X線発生帯27AがCuによって形成されていれば、Cuに対応する波長のX線がX線発生装置2Aから発生する。   The positions of the target unit 24 and the flange 35 in this state are referred to as a first position. When the flange 35 is in the first position, the first X-ray generation band 27A on the flange 35 side on the target 17A is in a position facing the filament 16. Therefore, when electrons are emitted from the filament 16, X-rays are generated from the X-ray generation band 27A, and the X-rays are taken out from the X-ray window 28 to the outside. If the X-ray generation band 27A is made of Cu, X-rays having a wavelength corresponding to Cu are generated from the X-ray generator 2A.

電磁弁60は、例えば入力電圧がON状態のときに配管59をロータリーポンプ61につなげる。これにより、フランジ35の左側の空間領域内がロータリーポンプ61によって減圧される。このときにフランジ35をターゲット17Aと反対側へ移動させようとする空気吸引力はフランジ35の面積に応じて変化する。本実施形態では、フランジ35をターゲット17Aと反対側へ移動させようとする力が、真空吸引力によってフランジ35をターゲット17A方向へ引っ張る力よりも大きくなるように、フランジ35の面積を設定している。従って、電磁弁60がON状態となってフランジ35の左側がロータリーポンプ61によって減圧されると、ターゲットユニット24の全体を左方向へ引っ張る力が右方向へ引っ張る力よりも大きくなり、ターゲットユニット24が左方向へ移動し、図4に示すように、フランジ35の左側面が第2当接部材としての突出部材50に当接して静止する。   The solenoid valve 60 connects the pipe 59 to the rotary pump 61 when the input voltage is in an ON state, for example. Thereby, the pressure in the space area on the left side of the flange 35 is reduced by the rotary pump 61. At this time, the air suction force that attempts to move the flange 35 to the side opposite to the target 17 </ b> A changes according to the area of the flange 35. In the present embodiment, the area of the flange 35 is set so that the force for moving the flange 35 to the side opposite to the target 17A is larger than the force for pulling the flange 35 toward the target 17A by the vacuum suction force. Yes. Accordingly, when the electromagnetic valve 60 is turned on and the left side of the flange 35 is decompressed by the rotary pump 61, the force pulling the entire target unit 24 in the left direction becomes larger than the force pulling in the right direction, and the target unit 24 4 moves to the left, and as shown in FIG. 4, the left side surface of the flange 35 comes into contact with the protruding member 50 as the second contact member and comes to rest.

この状態におけるターゲットユニット24及びフランジ35の位置を第2位置ということにする。フランジ35が第2位置にあるとき、ターゲット17A上のフランジ35から遠い側のX線発生帯27Bがフィラメント16に対向する位置にある。そのため、フィラメント16から電子が放出されたときにはX線発生帯27BからX線が発生し、そのX線がX線窓28から外部へ取り出される。X線発生帯27BがMoによって形成されていれば、Moに対応する波長のX線がX線発生装置2Aから発生する。   The position of the target unit 24 and the flange 35 in this state is referred to as a second position. When the flange 35 is in the second position, the X-ray generation band 27B far from the flange 35 on the target 17A is in a position facing the filament 16. Therefore, when electrons are emitted from the filament 16, X-rays are generated from the X-ray generation band 27B, and the X-rays are taken out from the X-ray window 28 to the outside. If the X-ray generation band 27B is made of Mo, X-rays having a wavelength corresponding to Mo are generated from the X-ray generator 2A.

以上のように、図2において圧力切替装置58をOFF状態にすれば第1X線発生帯27Aに対応した波長のX線をX線発生装置2Aから発生させることができ、他方、圧力切替装置58をON状態にすれば(図4参照)第2X線発生帯27Bに対応した波長のX線をX線発生装置2Aから発生させることができる。発生させるX線の種類をこのように切り替えたときでも、フィラメント16の位置に変化はないので、X線焦点Fにも位置的な変化は生じない。そのため、図1においてX線発生装置2Aから発生させるX線の種類を変化させた場合でも、X線光学系におけるX線焦点Fの位置は変化することがなく、従って、発散スリット7、ゴニオメータ3等といったX線光学系内の各要素の位置を再調整する必要がなく、非常に有利である。   As described above, when the pressure switching device 58 is turned off in FIG. 2, X-rays having a wavelength corresponding to the first X-ray generation band 27A can be generated from the X-ray generation device 2A, and on the other hand, the pressure switching device 58 Is turned on (see FIG. 4), X-rays having a wavelength corresponding to the second X-ray generation band 27B can be generated from the X-ray generator 2A. Even when the type of X-rays to be generated is switched in this way, the position of the filament 16 does not change, so that no positional change also occurs in the X-ray focal point F. Therefore, even when the type of X-rays generated from the X-ray generator 2A in FIG. 1 is changed, the position of the X-ray focal point F in the X-ray optical system does not change, and accordingly, the diverging slit 7 and the goniometer 3 are not changed. This is very advantageous because it is not necessary to readjust the position of each element in the X-ray optical system.

なお、圧力切替装置58をON状態にしてターゲット17Aを図4に示す第2位置に配置したとき、その第2位置を維持するために圧力切替装置58をON状態のままにしておくことは電力を無駄に消費するおそれがある。このことを解消するため、ターゲット17A及びフランジ35が第2位置に配置された後、固定用のネジ52をケーシング25側へ締め付けることにより、フランジ35を突出部材50の右側面に固定することが望ましい。こうすれば、圧力切替装置58をOFF状態に切り替えてもターゲット17Aを第2位置に配置し続けることができ、経費を節減できる。なお、固定方法はネジによる固定方法に限られず、必要に応じて適宜の方法を採用できる。   When the pressure switching device 58 is turned on and the target 17A is disposed at the second position shown in FIG. 4, it is necessary to keep the pressure switching device 58 in the on state in order to maintain the second position. May be consumed in vain. In order to solve this problem, after the target 17A and the flange 35 are arranged at the second position, the flange 35 can be fixed to the right side surface of the protruding member 50 by tightening the fixing screw 52 to the casing 25 side. desirable. In this way, even if the pressure switching device 58 is switched to the OFF state, the target 17A can be continuously disposed at the second position, and the cost can be reduced. The fixing method is not limited to the fixing method using screws, and an appropriate method can be adopted as necessary.

さらに、本実施形態では、ターゲットユニット24を第1位置(図2)と第2位置(図4)とで移動させることを空気圧に基づいて行っているので、モータ等といった電動機器を動力源とし、さらに複雑な動力伝達系を用いる場合に比べて、その移動のための構造が簡単で、しかも安定していて故障の発生もない。   Furthermore, in this embodiment, since the target unit 24 is moved between the first position (FIG. 2) and the second position (FIG. 4) based on the air pressure, an electric device such as a motor is used as a power source. Compared with the case where a more complicated power transmission system is used, the structure for the movement is simple, and it is stable and does not cause a failure.

ターゲットユニット24の全体をターゲット室内の真空状態に打ち勝って第1位置(図2)から第2位置(図4)へ移動させるために必要となるターゲットフランジ35の面積、特にターゲットフランジ35のターゲット17Aと反対側の面であって圧力切替装置58による圧力を受ける面の面積は、内側摺動部36の直径を100mmとした場合、各Oリング37a,37b,37cの摺動による摩擦抵抗を無視すると、ロータリーポンプ61によって減圧された状態で7,850mm以上である。この面積は、望ましくは、ロータリーポンプ61によって減圧された状態が1,000Pa以下のときに、8,000mm以上であること、より望ましくは10,000mm以上である。 The area of the target flange 35 required to overcome the vacuum state in the target chamber over the entire target unit 24 and move from the first position (FIG. 2) to the second position (FIG. 4), particularly the target 17A of the target flange 35. The area of the surface opposite to the surface that receives the pressure by the pressure switching device 58 ignores the frictional resistance caused by the sliding of the O-rings 37a, 37b, and 37c when the diameter of the inner sliding portion 36 is 100 mm. Then, it is 7,850 mm 2 or more in a state where the pressure is reduced by the rotary pump 61. This area is preferably 8,000 mm 2 or more, more preferably 10,000 mm 2 or more when the pressure reduced by the rotary pump 61 is 1,000 Pa or less.

以下、ターゲットユニット24を第1位置(図2)及び第2位置(図4)のそれぞれへ移動させる際の空気圧力による駆動力に関して、図5を用いて説明する。図5(a)及び図5(b)はターゲットユニット24が、それぞれ、第2位置(図4参照)及び第1位置(図2参照)にある場合の空気力の関係を示している。   Hereinafter, the driving force by the air pressure when the target unit 24 is moved to the first position (FIG. 2) and the second position (FIG. 4) will be described with reference to FIG. FIGS. 5A and 5B show the aerodynamic relationship when the target unit 24 is in the second position (see FIG. 4) and the first position (see FIG. 2), respectively.

まず、図5(a)に示す第2位置(真空領域と反対側へ移動した位置)の状態において、力F1はターゲット側の真空によって引かれる力を示し、力F2は外側の減圧によって引かれる力を示している。力F2はリング状のターゲットフランジ35の全体に作用する総力として示してあり、カッコ書きの力F2は理解を容易にするために参考として記載してある。   First, in the state of the second position shown in FIG. 5A (position moved to the opposite side of the vacuum region), the force F1 indicates a force drawn by the vacuum on the target side, and the force F2 is drawn by the outside pressure reduction. Showing power. The force F2 is shown as a total force acting on the entire ring-shaped target flange 35, and the parenthesized force F2 is shown as a reference for easy understanding.

ターゲットユニット24の全体がターゲット17A側へ引かれる力F1は、内側摺動部36の直径をdとしたとき、その全体の面積π(d/2)に比例する。一方、ターゲットユニット24の全体が外側の減圧によってケーシング25の外側(図の左側)へ引かれる力F2は、ターゲットフランジ35の直径d及び対陰極ハウジング26の外側摺動部の直径dに密接に関係しており、具体的には、
π(d/2)−π(d/2)
に比例する。つまり、図5(a)の第2位置を保持するためには、
π(d/2)−π(d/2)>π(d/2)
の関係式を満たす必要がある。
Force F1 entire target unit 24 is pulled to a target 17A side, when the diameter of the inner slide portion 36 and the d 1, proportional to the area π (d 1/2) 2 of the whole. On the other hand, the force F2 that the whole of the target unit 24 is pulled by the outer vacuum to the outside of the casing 25 (the left side in the figure), the diameter d 3 of the outer sliding portion of diameter d 2 and anticathode housing 26 of the target flange 35 Are closely related, specifically,
π (d 2/2) 2 -π (d 3/2) 2
Is proportional to That is, in order to hold the second position in FIG.
π (d 2/2) 2 -π (d 3/2) 2> π (d 1/2) 2
It is necessary to satisfy the relational expression.

次に、図5(b)に示す第1位置(真空領域側へ移動した位置)の状態において、ターゲットユニット24の全体にはターゲット17A側へ引かれる力F1のみが関係している。その他の部分は大気(1気圧)であるので、力F2は発生しない。内側摺動部36の直径をd1とすると、ターゲットユニット24を真空側へ引く力F1は内側摺動部36の全体の面積π(d/2)に比例する。力F1以外にターゲットユニット24を引く力は無いので、ターゲットユニット24は第1位置に保持される。 Next, in the state of the first position (position moved to the vacuum region side) shown in FIG. 5B, only the force F1 drawn to the target 17A side is related to the entire target unit 24. Since the other part is the atmosphere (1 atm), the force F2 is not generated. When the diameter of the inner bearing part 36 and d1, force F1 pulls the target unit 24 to the vacuum side is proportional to the total area π (d 1/2) 2 of the inner sliding portion 36. Since there is no force pulling the target unit 24 other than the force F1, the target unit 24 is held in the first position.

ターゲットユニット24の内側摺動部36の外径dが100mmであり、対陰極ハウジング26の外側摺動部43の直径dが80mmのとき、
π(d/2)−π(d/2)>π(d/2)
を満足するターゲットフランジ35の直径dは、128.1mm以上であるが、各Oリング37a,37b,37cの摺動時の摩擦抵抗を考慮すると、ターゲットユニット24の内側摺動部36の外径が100mmで、外側摺動部43の直径を80mmとしたとき、ターゲットフランジ35の外径は140mm以上であることが望ましい。
When the outer diameter d 1 of the inner sliding portion 36 of the target unit 24 is 100 mm, the diameter d 3 of the outer sliding portion 43 of the anticathode housing 26 is 80 mm,
π (d 2/2) 2 -π (d 3/2) 2> π (d 1/2) 2
The diameter d 2 of the target flange 35 that satisfies is not less than 128.1Mm, the O-ring 37a, 37b, considering the frictional resistance during 37c sliding of the outer of the inner sliding portion 36 of the target unit 24 When the diameter is 100 mm and the outer sliding portion 43 has a diameter of 80 mm, the outer diameter of the target flange 35 is desirably 140 mm or more.

(変形例)
図6は以上に説明した第1実施形態の変形例を示している。この変形例に係るX線発生装置2Bおいて図2と同じ符号は同じ部材を示しており、それらの部材の説明は省略することにする。本X線発生装置2Bが図2のX線発生装置2Aと異なる点は、図2において圧力切替装置58を構成しているロータリーポンプ61を取り除いて、その代わりにケーシング25の内部を減圧するためのロータリーポンプ56を兼用して圧力切替装置58を構成したことである。制御装置62Cは、3ポート電磁弁60、ターボ分子ポンプ55、及びロータリーポンプ56の各動作を制御する。
(Modification)
FIG. 6 shows a modification of the first embodiment described above. In the X-ray generator 2B according to this modification, the same reference numerals as those in FIG. 2 denote the same members, and the description of those members will be omitted. The X-ray generator 2B is different from the X-ray generator 2A in FIG. 2 in that the rotary pump 61 constituting the pressure switching device 58 in FIG. 2 is removed and the inside of the casing 25 is decompressed instead. That is, the pressure switching device 58 is configured by using the rotary pump 56 as well. The control device 62C controls each operation of the three-port solenoid valve 60, the turbo molecular pump 55, and the rotary pump 56.

図9は他の変形例を示している。この変形例に係るX線発生装置2Eおいて図2と同じ符号は同じ部材を示しており、それらの部材の説明は省略することにする。本X線発生装置2Eが図2のX線発生装置2Aと異なる点は、ケーシングフランジ49の形状に改変を加えたことである。具体的には、図2に示した実施形態では、ケーシングフランジ49がケーシング25の内部の全面に棚状に設けられていてが、図9に示す本実施形態では、ケーシングフランジ49がターゲットフランジ35とターゲット17Aとの間に部分的なリング状の突出部として設けられている。この実施形態によれば、ケーシング25の内部においてターゲット17Aの周囲に、図2の場合よりも広い空間が形成されている。   FIG. 9 shows another modification. In the X-ray generator 2E according to this modification, the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same members, and the description of those members will be omitted. The X-ray generator 2E is different from the X-ray generator 2A in FIG. 2 in that the shape of the casing flange 49 is modified. Specifically, in the embodiment shown in FIG. 2, the casing flange 49 is provided in a shelf shape on the entire inner surface of the casing 25, but in the present embodiment shown in FIG. 9, the casing flange 49 is the target flange 35. And a target 17A as a partial ring-shaped protrusion. According to this embodiment, a larger space than the case of FIG. 2 is formed around the target 17 </ b> A inside the casing 25.

(X線発生装置の第2実施形態)
図7は、本発明に係るX線発生装置の第2の実施形態を示している。図7において図2と同じ符号は同じ部材を示しており、それらの部材についての説明は省略する。本実施形態に係るX線発生装置2Cにおいて、ケーシングフランジ49の先端内壁部及び突出部材70の軸中心側内壁部が、ターゲットユニット24を軸線X0方向へ平行移動可能に支持する対陰極支持手段として作用する。ケーシングフランジ49の先端段差部が、フランジ35のターゲット17A側の面に当接する第1当接部材として作用する。そして、突出部材70のターゲット側内壁部が、フランジ35のターゲット17Aと反対側の面に当接する第2当接部材として作用する。
(Second embodiment of X-ray generator)
FIG. 7 shows a second embodiment of the X-ray generator according to the present invention. In FIG. 7, the same reference numerals as those in FIG. 2 denote the same members, and description of those members is omitted. In the X-ray generator 2C according to the present embodiment, the tip inner wall portion of the casing flange 49 and the axial center side inner wall portion of the projecting member 70 serve as an anti-cathode support means that supports the target unit 24 so that it can be translated in the direction of the axis X0. Works. The stepped portion of the casing flange 49 acts as a first contact member that contacts the surface of the flange 35 on the target 17A side. The target-side inner wall portion of the protruding member 70 acts as a second contact member that contacts the surface of the flange 35 opposite to the target 17A.

図2に示した第1の実施形態に係るX線発生装置2Aでは、ターゲットユニット24のフランジ35のターゲット17A側の面に対して通気穴57を設け、そのフランジ35のターゲット17Aと反対側の面に対して圧力切替装置58を設けた。そして、フランジ35のターゲット17Aと反対側の面に接する空間領域は、ケーシング25の左端面に固着されたリング状の突出部材50によって気密な空間とされていた。   In the X-ray generator 2A according to the first embodiment shown in FIG. 2, a vent hole 57 is provided on the surface of the flange 35 of the target unit 24 on the target 17A side, and the flange 35 is on the opposite side of the target 17A. A pressure switching device 58 was provided for the surface. The space region in contact with the surface of the flange 35 opposite to the target 17 </ b> A was made an airtight space by the ring-shaped projecting member 50 fixed to the left end surface of the casing 25.

これに対して図7に示す第2のX線発生装置2Cでは、ターゲットフランジ35のターゲット17A側の面に対して設けられた通気穴57の大気側の開口に圧力切替装置65が設けられている。そして、対陰極支持手段及び第2当接部材として機能する突出部材70は、ケーシング25の左端面に固着されているが、図2に示したリング状突出部材50とは異なる構成となっている。突出部材70は、矢印B方向から見てリング状(環状)であっても良いし、矢印B方向から見て複数のブロック状の突出部材70が適宜の角度間隔で間欠的に設けられていても良い。本実施形態では、矢印B方向から見て4つの突出部材70が90°の等配間隔で設けられているものとする。   On the other hand, in the second X-ray generator 2C shown in FIG. 7, the pressure switching device 65 is provided in the atmosphere side opening of the vent hole 57 provided to the surface of the target flange 35 on the target 17A side. Yes. The protruding member 70 functioning as the counter-cathode support means and the second contact member is fixed to the left end surface of the casing 25, but has a configuration different from the ring-shaped protruding member 50 shown in FIG. . The projecting member 70 may be ring-shaped (annular) when viewed from the direction of arrow B, or a plurality of block-shaped projecting members 70 are provided intermittently at appropriate angular intervals when viewed from the direction of arrow B. Also good. In the present embodiment, it is assumed that the four projecting members 70 are provided at equal intervals of 90 ° when viewed from the direction of arrow B.

図2においてターゲットフランジ35と突出部材50との間の空間領域は気密に保持されていた。これに対し図7に示す本実施形態では、ブロック状の突出部材70がケーシング25の左端面に間隔をおいて固着されているので、ターゲットフランジ35と突出部材70との間の空間領域は気密ではなく大気に通じている。また、突出部材70とケーシング25との間及び突出部材70と対陰極ハウジング26との間にシール材、例えばOリングは設けられていない。   In FIG. 2, the space area between the target flange 35 and the protruding member 50 is kept airtight. On the other hand, in the present embodiment shown in FIG. 7, since the block-like projecting member 70 is fixed to the left end surface of the casing 25 with a space therebetween, the space region between the target flange 35 and the projecting member 70 is airtight. Instead, it leads to the atmosphere. Further, no sealing material such as an O-ring is provided between the protruding member 70 and the casing 25 and between the protruding member 70 and the counter-cathode housing 26.

圧力切替装置65は3ポート電磁弁60を有し、この電磁弁60の1つのポートに通気穴57が接続している。また、電磁弁60の他の1つのポートに加圧ポンプ66が接続され、さらに電磁弁60の残りの1つのポートが大気に接続している。電磁弁60、加圧ポンプ66、ターボ分子ポンプ55、及びロータリーポンプ56の各動作は制御装置62Bによって制御される。制御装置62Bは図1のX線回折装置1の全体を制御するコンピュータによって構成しても良いし、そのコンピュータとは別の独立したコンピュータによって構成しても良いし、コンピュータを含まない適宜のシーケンス回路であっても良い。   The pressure switching device 65 has a three-port solenoid valve 60, and a vent hole 57 is connected to one port of the solenoid valve 60. The pressurizing pump 66 is connected to the other one port of the electromagnetic valve 60, and the remaining one port of the electromagnetic valve 60 is connected to the atmosphere. Each operation of the electromagnetic valve 60, the pressurizing pump 66, the turbo molecular pump 55, and the rotary pump 56 is controlled by the control device 62B. The control device 62B may be configured by a computer that controls the entire X-ray diffraction device 1 of FIG. 1, may be configured by an independent computer different from the computer, or an appropriate sequence not including the computer. It may be a circuit.

本実施形態においても、ターゲット17A及びフィラメント16が設けられたケーシング25の内部空間はロータリーポンプ56及びターボ分子ポンプ55によって高精度な真空状態に設定されている。圧力切替装置65は、通気穴57が電磁弁60によって大気に通じる第1圧力状態と、通気穴57が電磁弁60によって加圧ポンプ66に通じる第2圧力状態との2つの圧力状態を選択的に実現する。図7は通気穴57が大気に通じている第1圧力状態を示している。この第1圧力状態においてはフランジ35のターゲット17A側の面及びその反対側の面の両面に大気圧が加わっている。そして、ターゲットユニット24はターゲット25の内部の真空状態によって吸引され、フランジ35のターゲット17A側の面が第1当接部材であるケーシングフランジ49の先端段差部に当接した状態で静止している。この状態でターゲット17A上の第1X線発生帯27Aがフィラメント16に対向する位置に配置され、第1X線発生帯27Aからその材質(例えばCu)に対応した波長のX線が発生する。   Also in this embodiment, the internal space of the casing 25 provided with the target 17A and the filament 16 is set to a highly accurate vacuum state by the rotary pump 56 and the turbo molecular pump 55. The pressure switching device 65 selectively selects two pressure states: a first pressure state in which the vent hole 57 communicates with the atmosphere by the electromagnetic valve 60 and a second pressure state in which the vent hole 57 communicates with the pressurization pump 66 by the electromagnetic valve 60. Realize. FIG. 7 shows a first pressure state in which the vent hole 57 communicates with the atmosphere. In this first pressure state, atmospheric pressure is applied to both the surface of the flange 35 on the target 17A side and the opposite surface. The target unit 24 is sucked by the vacuum state inside the target 25 and is stationary with the surface of the flange 35 on the target 17A side in contact with the stepped portion of the casing flange 49 that is the first contact member. . In this state, the first X-ray generation band 27A on the target 17A is disposed at a position facing the filament 16, and X-rays having a wavelength corresponding to the material (for example, Cu) are generated from the first X-ray generation band 27A.

圧力切替装置65の圧力状態が第2圧力状態に切り替わると、通気穴57が電磁弁60によって加圧ポンプ66に通じる状態となる。この状態で、加圧ポンプ66は所定の圧力をターゲットフランジ35のターゲット17A側の面に供給し、ターゲットフランジ35に当該フランジ35がターゲット17Aと反対側(図7の左側)に移動しようとする力が加えられる。この力は、フランジ35の面積に応じて変化するものであるが、本実施形態では、加圧ポンプ66からの圧力がターゲットフランジ35に加わったときに、そのフランジ35が真空によってターゲット17A側(図7の右側)に引かれる力よりも大きい力がフランジ35の左側にかかるようにフランジ35の半径方向の大きさ(面積)を設定している。従って、圧力切替装置65の圧力状態が第2圧力状態に切り替わると、フランジ35は、ケーシング25の内部の真空吸引力に打ち勝って図7の左方向へ移動して、当該フランジ35のターゲット17Aと反対側の面が第2当接部材としての突出部材70のターゲット側内壁部に当接した状態で静止する。この状態でターゲット17A上の第2X線発生帯27Bがフィラメント16に対向する位置に配置され(図4参照)、第2X線発生帯27Bからその材質(例えばMo)に対応した波長のX線が発生する。   When the pressure state of the pressure switching device 65 is switched to the second pressure state, the vent hole 57 is brought into communication with the pressurizing pump 66 by the electromagnetic valve 60. In this state, the pressurizing pump 66 supplies a predetermined pressure to the surface of the target flange 35 on the target 17A side, and the flange 35 attempts to move to the target flange 35 to the side opposite to the target 17A (left side in FIG. 7). Power is applied. Although this force changes according to the area of the flange 35, in this embodiment, when the pressure from the pressurizing pump 66 is applied to the target flange 35, the flange 35 is evacuated by the target 17A side ( The size (area) of the flange 35 in the radial direction is set so that a force larger than the force drawn on the right side of FIG. Therefore, when the pressure state of the pressure switching device 65 is switched to the second pressure state, the flange 35 overcomes the vacuum suction force inside the casing 25 and moves to the left in FIG. The surface on the opposite side is stationary with the target-side inner wall of the projecting member 70 as the second contact member in contact. In this state, the second X-ray generation band 27B on the target 17A is disposed at a position facing the filament 16 (see FIG. 4), and X-rays having a wavelength corresponding to the material (for example, Mo) are emitted from the second X-ray generation band 27B. appear.

以上のように、図7において、圧力切替装置65を第1圧力状態(大気連通状態)にすれば第1X線発生帯27Aに対応した波長のX線をX線発生装置2Cから発生させることができ、他方、圧力気体供給装置65を第2圧力状態(圧力供給状態)にすれば第2X線発生帯27Bに対応した波長のX線をX線発生装置2Cから発生させることができる。発生させるX線の種類をこのように切り替えたときでも、フィラメント16の位置に変化はないので、X線焦点Fにも位置的な変化は生じない。そのため、図1においてX線発生装置2Cから発生させるX線の種類を変化させた場合でも、X線光学系におけるX線焦点Fの位置は変化することがなく、従って、発散スリット7、ゴニオメータ3等といったX線光学系内の各要素の位置を再調整する必要がなく、非常に有利である。   As described above, in FIG. 7, if the pressure switching device 65 is set to the first pressure state (atmosphere communication state), X-rays having a wavelength corresponding to the first X-ray generation band 27A can be generated from the X-ray generation device 2C. On the other hand, if the pressure gas supply device 65 is set to the second pressure state (pressure supply state), X-rays having a wavelength corresponding to the second X-ray generation zone 27B can be generated from the X-ray generation device 2C. Even when the type of X-rays to be generated is switched in this way, the position of the filament 16 does not change, so that no positional change also occurs in the X-ray focal point F. Therefore, even when the type of X-rays generated from the X-ray generator 2C in FIG. 1 is changed, the position of the X-ray focal point F in the X-ray optical system does not change, and accordingly, the divergence slit 7 and the goniometer 3 are changed. This is very advantageous because it is not necessary to readjust the position of each element in the X-ray optical system.

さらに、本実施形態でも、ターゲットユニット24を第1位置(図7)と第2位置(図4参照)とで移動させることを空気圧に基づいて行っているので、モータ等といった電動機器を動力源とし、さらに複雑な動力伝達系を用いる場合に比べて、その移動のための構造が簡単で、しかも安定していて故障の発生もない。   Furthermore, also in this embodiment, the target unit 24 is moved between the first position (FIG. 7) and the second position (see FIG. 4) based on the air pressure. Compared with the case where a more complicated power transmission system is used, the structure for the movement is simple, stable, and no breakdown occurs.

さらに、本実施形態では、突出部材70をケーシング25に対して気密構造にしなくて良いので、図2に示した突出部材50に対して施したような気密構造を施す必要が無く、X線発生装置全体の構造をさらに簡単に且つ故障し難い構造にすることができる。   Furthermore, in this embodiment, since the protruding member 70 does not have to be airtight with respect to the casing 25, it is not necessary to provide the airtight structure as applied to the protruding member 50 shown in FIG. The structure of the entire apparatus can be made simpler and less likely to fail.

(X線発生装置の第3実施形態)
図8は、本発明に係るX線発生装置の第3の実施形態を示している。図8において図2と同じ符号は同じ部材を示しており、それらの部材についての説明は省略する。本実施形態に係るX線発生装置2Dが図2に示した実施形態と異なる点は、ターゲット17Bが4個のX線発生帯27A、27B、27C、27Dを有していること、及びリング状の突出部材50の適所(図8では下部に示す位置)に第3当接部材としての止めボルト72を設けたことである。
(Third embodiment of X-ray generator)
FIG. 8 shows a third embodiment of the X-ray generator according to the present invention. In FIG. 8, the same reference numerals as those in FIG. 2 denote the same members, and description of those members is omitted. The X-ray generator 2D according to this embodiment differs from the embodiment shown in FIG. 2 in that the target 17B has four X-ray generation bands 27A, 27B, 27C, and 27D, and a ring shape. That is, a set bolt 72 as a third abutting member is provided at an appropriate position (a position shown in the lower part in FIG. 8) of the protruding member 50.

第1X線発生帯27A、第2X線発生帯27B、第3X線発生帯27C、及び第4X線発生帯27Dは、それぞれ、例えばCu、Mo、Cr、Coによって形成されている。なお、X線発生帯の数は4個に限られず必要に応じて3個以上の所望の数とすることができる。止めボルト72は突出部材50に設けた雌ネジに嵌合しており、頭部を軸中心に正時計方向又は反時計方向に回転させることにより、その先端当接面(図8の右端面)がフランジ35に近づく方向又はフランジ35から遠ざかる方向へ移動する。止めボルト72の周囲はシール材であるOリング73によって気密に保持されている。   The first X-ray generation band 27A, the second X-ray generation band 27B, the third X-ray generation band 27C, and the fourth X-ray generation band 27D are each formed of, for example, Cu, Mo, Cr, and Co. Note that the number of X-ray generation bands is not limited to four and can be a desired number of three or more as required. The set bolt 72 is fitted to a female screw provided on the projecting member 50, and its tip abutting surface (right end surface in FIG. 8) is rotated by rotating the head in the clockwise or counterclockwise direction around the axis. Moves in a direction approaching the flange 35 or away from the flange 35. The periphery of the set bolt 72 is hermetically held by an O-ring 73 that is a sealing material.

圧力切替装置58内の電磁弁60は、入力電圧がOFF状態のときに配管59を大気圧につなげる。このとき、ターゲットユニット24のフランジ35をターゲット17Bと反対側へ引っ張る力は作用しないので、ターゲットユニット24のフランジ35をターゲット17Bと反対側へ引っ張る力は真空吸引力によってフランジ35がターゲット17B側へ引っ張られる力よりも小さいことになる。その結果、フランジ35は真空吸引力によって引っ張られてターゲット17B方向へ移動して、フランジ35の右側面が第1当接部材としてのケーシングフランジ49の先端段差部に当接した状態で静止する。   The electromagnetic valve 60 in the pressure switching device 58 connects the pipe 59 to atmospheric pressure when the input voltage is in the OFF state. At this time, the force for pulling the flange 35 of the target unit 24 to the opposite side to the target 17B does not act. Therefore, the force for pulling the flange 35 of the target unit 24 to the opposite side to the target 17B is caused by the vacuum suction force. It will be less than the pulling force. As a result, the flange 35 is pulled by the vacuum suction force and moves in the direction of the target 17B, and stops in a state where the right side surface of the flange 35 is in contact with the tip step portion of the casing flange 49 as the first contact member.

この状態におけるターゲットユニット24及びフランジ35の位置を第1位置ということにする。ターゲットフランジ35が第1位置にあるとき、ターゲット17B上のターゲットフランジ35側の第1X線発生帯27Aがフィラメント16に対向する位置にある。そのため、フィラメント16から電子が放出されたときにはX線発生帯27AからX線が発生し、そのX線がX線窓28から外部へ取り出される。X線発生帯27AがCuによって形成されていれば、Cuに対応する波長のX線がX線発生装置2Dから発生する。   The positions of the target unit 24 and the flange 35 in this state are referred to as a first position. When the target flange 35 is in the first position, the first X-ray generation band 27A on the target flange 35 side on the target 17B is in a position facing the filament 16. Therefore, when electrons are emitted from the filament 16, X-rays are generated from the X-ray generation band 27A, and the X-rays are taken out from the X-ray window 28 to the outside. If the X-ray generation band 27A is made of Cu, X-rays having a wavelength corresponding to Cu are generated from the X-ray generator 2D.

次に、電磁弁60は、入力電圧がON状態のときに配管59をロータリーポンプ61につなげる。これにより、フランジ35の左側の空間領域内がロータリーポンプ61によって減圧される。このときにターゲットフランジ35をターゲット17Bと反対側へ移動させようとする空気吸引力はターゲットフランジ35の面積に応じて変化する。本実施形態では、ターゲットフランジ35をターゲット17Bと反対側へ移動させようとする力が、真空吸引力によってターゲットフランジ35をターゲット17B方向へ引っ張る力よりも大きくなるように、ターゲットフランジ35の面積を設定している。従って、電磁弁60がON状態となってターゲットフランジ35の左側がロータリーポンプ61によって減圧されると、ターゲットユニット24の全体を左方向へ引っ張る力が右方向へ引っ張る力よりも大きくなり、ターゲットユニット24が左方向へ移動する。移動するターゲットユニット24は、ターゲットフランジ35の左側面が第3当接部材としての止めボルト72の先端当接面に当接して静止する。   Next, the solenoid valve 60 connects the pipe 59 to the rotary pump 61 when the input voltage is in the ON state. Thereby, the pressure in the space area on the left side of the flange 35 is reduced by the rotary pump 61. At this time, the air suction force for moving the target flange 35 to the side opposite to the target 17 </ b> B changes according to the area of the target flange 35. In the present embodiment, the area of the target flange 35 is set so that the force for moving the target flange 35 to the side opposite to the target 17B is larger than the force for pulling the target flange 35 toward the target 17B by the vacuum suction force. It is set. Therefore, when the electromagnetic valve 60 is turned on and the left side of the target flange 35 is decompressed by the rotary pump 61, the force pulling the entire target unit 24 in the left direction becomes larger than the force pulling in the right direction. 24 moves to the left. The moving target unit 24 comes to rest with the left side surface of the target flange 35 coming into contact with the tip contact surface of a set bolt 72 as a third contact member.

ターゲットフランジ35の右側面が第1当接部材としてのケーシングフランジ49の先端段差部に当接しているときに止めボルト72の先端当接面が、そのフランジ35の左側面に対してX線発生帯27A〜27Dの1つ分の幅だけ離間していれば、ロータリーポンプ61による減圧によって左方向へ移動するターゲットフランジ35が止めボルト72の先端当接面に当接して静止したとき、ターゲット17Bの第2X線発生帯27Bがフィラメント16に対向する位置に配置される。この位置を第2位置ということにする。第2X線発生帯27BがMoによって形成されていれば、Moに対応する波長のX線がX線発生装置2Dから発生する。   When the right side surface of the target flange 35 is in contact with the front end step portion of the casing flange 49 as the first contact member, the front end contact surface of the set bolt 72 generates X-rays with respect to the left side surface of the flange 35. If the target flange 35 moving to the left by the pressure reduction by the rotary pump 61 comes into contact with the tip abutting surface of the set bolt 72 and is stationary when the band 27A to 27D is separated by one width, the target 17B The second X-ray generation band 27 </ b> B is disposed at a position facing the filament 16. This position is referred to as the second position. If the second X-ray generation band 27B is made of Mo, X-rays having a wavelength corresponding to Mo are generated from the X-ray generator 2D.

他方、ターゲットフランジ35の右側面が第1当接部材としてのケーシングフランジ49の先端段差部に当接しているときに止めボルト72の先端当接面が、ターゲットフランジ35の左側面に対してX線発生帯27A〜27Dの2つ分又は3つ分の幅だけ離間していれば、それぞれの場合、ロータリーポンプ61による減圧によって左方向へ移動するターゲットフランジ35が止めボルト72の先端当接面に当接して静止したとき、ターゲット17Bの第3X線発生帯27C又は第4X線発生帯27Dがフィラメント16に対向する位置に配置される。第3X線発生帯27Cがフィラメント16に対向する位置を第3位置といい、第4X線発生帯27Dがフィラメント16に対向する位置を第4位置ということにする。第3X線発生帯27CがCrによって形成されていれば、Crに対応する波長のX線がX線発生装置2Dから発生し、第4X線発生帯27DがCoによって形成されていれば、Coに対応する波長のX線がX線発生装置2Dから発生する。   On the other hand, when the right side surface of the target flange 35 is in contact with the front end step portion of the casing flange 49 as the first contact member, the front end contact surface of the set bolt 72 is X with respect to the left side surface of the target flange 35. If each of the line generating bands 27A to 27D is separated by a width corresponding to two or three, the target flange 35 that moves to the left by the pressure reduction by the rotary pump 61 is the tip contact surface of the set bolt 72 in each case. The third X-ray generation band 27C or the fourth X-ray generation band 27D of the target 17B is disposed at a position facing the filament 16 when the target 17B comes to rest. The position where the third X-ray generation band 27C faces the filament 16 is referred to as a third position, and the position where the fourth X-ray generation band 27D faces the filament 16 is referred to as a fourth position. If the third X-ray generation band 27C is formed of Cr, X-rays having a wavelength corresponding to Cr are generated from the X-ray generator 2D, and if the fourth X-ray generation band 27D is formed of Co, the Co X-rays with corresponding wavelengths are generated from the X-ray generator 2D.

以上のように、本実施形態によれば、圧力切替装置58のON/OFF制御、及び止めボルト72の先端当接面の位置調整により、第1X線発生帯27Aがフィラメント16に対向する第1位置、第2X線発生帯27Bがフィラメント16に対向する第2位置、第3X線発生帯27Cがフィラメント16に対向する第3位置、又は第4X線発生帯27Dがフィラメント16に対向する第4位置のいずれか所望の位置に対陰極17Bを配置させることができる。そして、各位置において異なる波長のX線を発生させることができる。4種類の波長のX線を発生できるので、多様なX線分析を行うことができる。もちろん、X線発生帯の数を4つ以上とすれば、さらに多様なX線分析を行うことができる。なお、第3当接部材の具体的な構造は図示の止めボルト72に限定されるものではない。   As described above, according to the present embodiment, the first X-ray generation band 27 </ b> A is opposed to the filament 16 by the ON / OFF control of the pressure switching device 58 and the position adjustment of the tip contact surface of the set bolt 72. A second position where the second X-ray generation band 27B faces the filament 16, a third position where the third X-ray generation band 27C faces the filament 16, or a fourth position where the fourth X-ray generation band 27D faces the filament 16. The counter cathode 17B can be arranged at any desired position. Then, X-rays having different wavelengths can be generated at each position. Since X-rays with four types of wavelengths can be generated, various X-ray analyzes can be performed. Of course, if the number of X-ray generation bands is four or more, further various X-ray analyzes can be performed. The specific structure of the third contact member is not limited to the illustrated set bolt 72.

発生させるX線の種類を上記のように変更した場合でも、フィラメント16の位置は変化しないので、X線焦点Fの位置にも変化は生じない。そのため、図1においてX線発生装置2Dから発生させるX線の種類を変化させた場合でも、X線光学系におけるX線焦点Fの位置は変化することがなく、従って、発散スリット7、ゴニオメータ3等といったX線光学系内の各要素の位置を再調整する必要がなく、非常に有利である。   Even when the type of X-rays to be generated is changed as described above, since the position of the filament 16 does not change, the position of the X-ray focal point F does not change. Therefore, even when the type of X-rays generated from the X-ray generator 2D in FIG. 1 is changed, the position of the X-ray focal point F in the X-ray optical system does not change, and accordingly, the divergence slit 7 and the goniometer 3 are changed. This is very advantageous because it is not necessary to readjust the position of each element in the X-ray optical system.

さらに、本実施形態では、ターゲットユニット24を第1位置〜第4位置の間で移動させることを空気圧に基づいて行っているので、モータ等といった電動機器を動力源とし、さらに複雑な動力伝達系を用いる場合に比べて、その移動のための構造が簡単で、しかも安定していて故障の発生もない。   Furthermore, in this embodiment, since the target unit 24 is moved between the first position to the fourth position based on air pressure, an electric device such as a motor is used as a power source, and a more complicated power transmission system Compared with the case of using, the structure for the movement is simple, stable and no failure occurs.

(X線発生装置の第4実施形態)
図10は、本発明に係るX線発生装置の第4の実施形態を示している。図10において図2と同じ符号は同じ部材を示しており、それらの部材についての説明は省略する。本実施形態に係るX線発生装置2Fが図2に示した実施形態と異なる点は次の通りである。
(Fourth embodiment of X-ray generator)
FIG. 10 shows a fourth embodiment of the X-ray generator according to the present invention. In FIG. 10, the same reference numerals as those in FIG. 2 denote the same members, and a description of these members is omitted. The X-ray generator 2F according to this embodiment is different from the embodiment shown in FIG. 2 as follows.

(1)図2の実施形態ではケーシング25の内部に形成したケーシングフランジ49の先端段差部をターゲットフランジ35のための第1当接部材として用いた。これに対し、図10に示す本実施形態では、ケーシング25のケーシング壁25aをフィラメント16の格納部分以外の一部分(図10の上端部分)で薄く形成し、その薄くしたケーシング壁25aの先端端面部分をターゲットフランジ35のための第1当接部材として用いている。つまり、ケーシング25の側壁それ自体を第1当接部材として用いている。   (1) In the embodiment of FIG. 2, the stepped portion of the casing flange 49 formed inside the casing 25 is used as the first contact member for the target flange 35. On the other hand, in the present embodiment shown in FIG. 10, the casing wall 25a of the casing 25 is formed thin at a portion other than the storage portion of the filament 16 (upper end portion in FIG. 10), and the tip end surface portion of the thinned casing wall 25a is formed. Is used as the first contact member for the target flange 35. That is, the side wall of the casing 25 itself is used as the first contact member.

(2)図2の実施形態ではケーシング25の開口側先端部によってターゲットフランジ35の外周面を摺動可能に支持した。これに対し、図10に示す本実施形態では、ケーシング25の一部分(図10の下部)にボルト74によって突出部材50を取り付け、その突出部材50の側壁部分によってターゲットフランジ35の外周面を摺動可能に支持している。   (2) In the embodiment of FIG. 2, the outer peripheral surface of the target flange 35 is slidably supported by the opening side tip of the casing 25. On the other hand, in the present embodiment shown in FIG. 10, the protruding member 50 is attached to a part of the casing 25 (lower part of FIG. 10) by the bolt 74, and the outer peripheral surface of the target flange 35 is slid by the side wall portion of the protruding member 50. I support it as possible.

(3)図2の実施形態ではケーシング25に通気穴57を設け、この通気穴57の一端をケーシングフランジ49の先端段差部の所でターゲットフランジ35に向かって開口させていた。これに対し、図10に示す本実施形態では、ケーシング25の側壁25aをフィラメント16の格納部分以外の一部分(図10の上端部分)で薄く形成することにより、ケーシング25の側壁25aの外周面と突出部材50の側壁部分の内周面との間に開口部(すなわち隙間)を形成し、この開口部を介してターゲットフランジ35に大気圧を付与している。   (3) In the embodiment of FIG. 2, a ventilation hole 57 is provided in the casing 25, and one end of the ventilation hole 57 is opened toward the target flange 35 at the stepped portion of the casing flange 49. On the other hand, in the present embodiment shown in FIG. 10, the side wall 25 a of the casing 25 is formed thin at a portion other than the storage portion of the filament 16 (upper end portion in FIG. 10). An opening (that is, a gap) is formed between the protruding member 50 and the inner peripheral surface of the side wall portion, and atmospheric pressure is applied to the target flange 35 through the opening.

以上の構成から成るX線発生装置2Fによれば、圧力切替装置58のON/OFF制御により、ターゲットフランジ35を、第1当接部材としてのケーシング壁25aの先端端面部分に当接する位置と、第2当接部材としての突出部材50のターゲット側内壁部に当接する位置との間で平行移動させることができる。そして、この平行移動により、フィラメント16に対向するX線発生帯27A、27Bを切り替えることができ、発生するX線の波長を切り替えることができる。   According to the X-ray generator 2F configured as described above, the position at which the target flange 35 abuts on the tip end surface portion of the casing wall 25a as the first abutting member by the ON / OFF control of the pressure switching device 58; The projecting member 50 as the second abutting member can be translated between the projecting member 50 and the position that abuts against the target-side inner wall portion. And by this parallel movement, the X-ray generation bands 27A and 27B facing the filament 16 can be switched, and the wavelength of the generated X-ray can be switched.

(その他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
以上の実施形態では対陰極として回転型のターゲット17A(図2)、17B(図8)を採用した。本発明では、そのような回転型のターゲットに代えて固定型のターゲットを用いることも可能である。回転型のターゲットを用いた場合には、図3に示したように、ターゲット17Aから延在していてフランジ35が取り付けられる対陰極延在部を、回転駆動装置であるダイレクトドライブ機構40を収容した対陰極ハウジング26によって構成した。固定型のターゲットを用いる場合には、回転駆動装置が不要であるので、対陰極延在部は何等かの形でターゲットから延在する部分によって構成される。
(Other embodiments)
The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims.
In the above embodiment, the rotary targets 17A (FIG. 2) and 17B (FIG. 8) are employed as the counter cathode. In the present invention, it is possible to use a fixed target instead of such a rotary target. When a rotary type target is used, as shown in FIG. 3, the counter-cathode extending portion that extends from the target 17A and to which the flange 35 is attached accommodates the direct drive mechanism 40 that is a rotary drive device. An anti-cathode housing 26 is used. When a fixed target is used, a rotary drive device is not necessary, and therefore the anti-cathode extension is constituted by a portion extending from the target in some form.

図2に示した実施形態では、ケーシング25の内部に形成したケーシングフランジ49及びケーシング25の左端面に固着されたリング状の突出部材50の両方によって、ターゲット17Aを軸線X0方向へ平行移動可能に支持する対陰極支持手段を構成した。しかしながら、対陰極支持手段はケーシングフランジ49又は突出部材50のいずれか一方だけによって形成しても良い。また、対陰極支持手段はケーシングフランジ49及び突出部材50以外の他の適宜の部材又は構造物によって構成しても良い。   In the embodiment shown in FIG. 2, the target 17A can be translated in the direction of the axis X0 by both the casing flange 49 formed inside the casing 25 and the ring-shaped protruding member 50 fixed to the left end surface of the casing 25. An anti-cathode support means for supporting was constructed. However, the counter-cathode support means may be formed by only one of the casing flange 49 and the protruding member 50. Further, the counter-cathode support means may be constituted by an appropriate member or structure other than the casing flange 49 and the protruding member 50.

図2に示した実施形態では、ターゲットフランジ35のターゲット17A側の面に当接する第1当接部材をケーシングフランジ49の先端段差部によって構成した。しかしながら、第1当接部材はケーシングフランジ49以外の任意の部材によって構成できる。また、ターゲットフランジ35のターゲット17Aと反対側の面に当接する第2当接部材を突出部材50のターゲット側内壁部によって構成した。しかしながら、第2当接部材は突出部材50以外の任意の部材によって構成できる。   In the embodiment shown in FIG. 2, the first contact member that contacts the surface of the target flange 35 on the target 17 </ b> A side is configured by the tip step portion of the casing flange 49. However, the first contact member can be configured by any member other than the casing flange 49. Further, the second abutting member that abuts the surface of the target flange 35 opposite to the target 17 </ b> A is configured by the target-side inner wall portion of the protruding member 50. However, the second contact member can be configured by any member other than the protruding member 50.

本発明に係るX線分析装置の一実施形態であるX線回折装置の平面図である。1 is a plan view of an X-ray diffraction apparatus which is an embodiment of an X-ray analysis apparatus according to the present invention. 本発明に係るX線発生装置の一実施形態を示す平面図である。It is a top view which shows one Embodiment of the X-ray generator which concerns on this invention. 図2のX線発生装置で用いる対陰極の一実施形態を示す平面断面図である。FIG. 3 is a plan sectional view showing an embodiment of an anti-cathode used in the X-ray generator of FIG. 2. 図2に示すX線発生装置の図2の場合とは異なる動作時点の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state of the operation | movement time point different from the case of FIG. 2 of the X-ray generator shown in FIG. ターゲットユニットを駆動する空気力を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the aerodynamic force which drives a target unit. 本発明に係るX線発生装置の他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the X-ray generator which concerns on this invention. 本発明に係るX線発生装置のさらに他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the X-ray generator which concerns on this invention. 本発明に係るX線発生装置のさらに他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the X-ray generator which concerns on this invention. 本発明に係るX線発生装置のさらに他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the X-ray generator which concerns on this invention. 本発明に係るX線発生装置のさらに他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the X-ray generator which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1.X線回折装置(X線分析装置)、
2A,2B,2C,2D,2E,2F.X線発生装置、
3.ゴニオメータ、 4.θ回転台、 5.2θ回転台、 6.検出器アーム、
7.発散スリット、 10.試料ホルダ、 11.散乱スリット、
12.受光スリット、 13.X線カウンタ(X線検出手段)、
16.フィラメント(陰極)、 17A,17B.ターゲット(対陰極)、
20.θ回転駆動装置、 21.2θ回転駆動装置、 24.ターゲットユニット、
25.ケーシング、 26.対陰極ハウジング(対陰極延在部)、
27A,27B,27C,27D.X線発生帯、 28.X線窓、 30.第1内管、
31.第2内管、 32.ターゲット底部、 33.仕切部材、
35.ターゲットフランジ、 36.内側摺動部、 36a.摺動面、
37a,37b,37c.Oリング、 38.磁気シール装置、 39,41.軸受、
40.ダイレクトドライブ機構、 42.シール材、 43.外側摺動部、
44.ロータ、 45.ステータコイル、 46.給水ポート、 47.排水ポート、
49.ケーシングフランジ(第1当接部材、対陰極支持部材)、
50.突出部材(第2当接部材、対陰極支持部材)、 51.Oリング、 54.配管、
55.ターボ分子ポンプ、 56.ロータリーポンプ、 57.通気穴、
58.圧力切替装置、 59.配管、 60.3ポート電磁弁、
61.ロータリーポンプ、 62A,62B,62C.制御装置、
65.圧力切替装置、 66.加圧ポンプ、 70.突出部材、
72.止めボルト(第3当接部材)、 73.Oリング、 Cg.ゴニオメータ円、
Cf.集中円、 F.X線焦点、 R1,R2.X線、 S.試料、
θ.X線入射角度、 2θ.X線回折角度、 α.X線取出し角、 ω.中心軸線
1. X-ray diffractometer (X-ray analyzer),
2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F. X-ray generator,
3. Goniometer, 4. 5. θ turntable, 5.2θ turntable, 6. Detector arm,
7). Divergent slit, 10. Sample holder, 11. Scattering slit,
12 Light receiving slit, 13. X-ray counter (X-ray detection means),
16. Filament (cathode), 17A, 17B. Target (anti-cathode),
20. θ rotation driving device, 21.2 θ rotation driving device, 24. Target unit,
25. Casing, 26. Anti-cathode housing (anti-cathode extension),
27A, 27B, 27C, 27D. X-ray generation zone, 28. X-ray window, 30. First inner pipe,
31. Second inner pipe, 32. Target bottom, 33. Partition member,
35. Target flange, 36. Inner sliding part 36a. Sliding surface,
37a, 37b, 37c. O-ring, 38. Magnetic seal device, 39,41. bearing,
40. Direct drive mechanism, 42. Sealing material, 43. Outer sliding part,
44. Rotor, 45. Stator coil, 46. Water supply port 47. Drainage port,
49. Casing flange (first contact member, anti-cathode support member),
50. 51. protruding member (second contact member, counter-cathode support member) O-ring, 54. Piping,
55. Turbomolecular pump, 56. Rotary pump, 57. Vents,
58. Pressure switching device, 59. Piping, 60.3 port solenoid valve,
61. Rotary pump 62A, 62B, 62C. Control device,
65. Pressure switching device, 66. Pressure pump, 70. Protruding member,
72. Stop bolt (third abutting member), 73. O-ring, Cg. Goniometer circle,
Cf. Concentrated circle, F. X-ray focus, R1, R2. X-ray, S. sample,
θ. X-ray incident angle, 2θ. X-ray diffraction angle, α. X-ray extraction angle, ω. Center axis

Claims (12)

電子を発生する陰極と、
該陰極に対向して設けられ互いに隣接して並んだ2つのX線発生帯を備えた対陰極と、
前記陰極及び前記対陰極を内部に収容したケーシングと、
該ケーシングの内部を減圧する減圧手段と、
前記対陰極を前記X線発生帯が並んだ方向で移動可能に支持する対陰極支持手段と、
前記対陰極と一体に移動するフランジと、
前記2つのX線発生帯のうち前記フランジに近い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる第1位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極側の面に当接する第1当接部材と、
前記2つのX線発生帯のうち前記フランジから遠い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる第2位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極と反対側の面に当接する第2当接部材と、
前記フランジに加える空気圧力を第1圧力状態と第2圧力状態とで切り替えるフランジ圧力調整手段とを有し、
前記第1圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも小さい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、
前記第2圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも大きい力を、前記フランジに加える圧力状態である
ことを特徴とするX線発生装置。
A cathode that generates electrons;
An anti-cathode provided with two X-ray generating bands provided opposite to the cathode and arranged adjacent to each other;
A casing containing the cathode and the counter cathode therein;
Decompression means for decompressing the inside of the casing;
Anti-cathode support means for supporting the anti-cathode so as to be movable in the direction in which the X-ray generation bands are arranged;
A flange that moves integrally with the counter-cathode;
When the counter-cathode is in a first position where the X-ray generation band on the side closer to the flange of the two X-ray generation bands is placed in a region where it collides with the electrons, A first contact member that contacts the surface;
When the counter-cathode is in a second position where the X-ray generation band on the side farther from the flange of the two X-ray generation bands is placed in a region where it collides with the electrons, opposite to the counter-cathode of the flange A second abutting member that abuts against the side surface;
Flange pressure adjusting means for switching the air pressure applied to the flange between a first pressure state and a second pressure state;
The first pressure state is a force that moves the flange to the side opposite to the counter cathode, and a force that is smaller than a force that pulls the flange to the counter cathode side based on a reduced pressure state inside the casing. , The pressure applied to the flange,
The second pressure state is a force that moves the flange to the side opposite to the counter-cathode, and a force that is greater than a force that pulls the flange toward the counter-cathode side based on a reduced pressure state inside the casing. The X-ray generator is in a pressure state applied to the flange.
請求項1記載のX線発生装置において、
前記対陰極から延在し前記フランジが取り付けられた対陰極延在部をさらに有し、
前記対陰極支持手段は前記ケーシングの一部分によって構成され、該ケーシングの一部分は前記対陰極延在部と摺接して該対陰極延在部を支持することにより前記対陰極を支持する
ことを特徴とするX線発生装置。
The X-ray generator according to claim 1,
An anti-cathode extension extending from the anti-cathode and having the flange attached thereto;
The counter-cathode support means is constituted by a part of the casing, and a part of the casing supports the counter-cathode by slidingly contacting the counter-cathode extension and supporting the counter-cathode extension. X-ray generator.
請求項2記載のX線発生装置において、
前記第1当接部材は前記ケーシングの他の一部分によって構成される
ことを特徴とするX線発生装置。
The X-ray generator according to claim 2,
The X-ray generator according to claim 1, wherein the first contact member is constituted by another part of the casing.
請求項1から請求項3のいずれか1つに記載のX線発生装置において、
前記ケーシングは前記対陰極を挿入するための開口部を有しており、該開口部には当該開口部の中心方向へ向けて突出する突出部材が設けられ、前記第2当接部材は前記突出部材によって構成されることを特徴とするX線発生装置。
In the X-ray generator as described in any one of Claims 1-3,
The casing has an opening for inserting the counter-cathode, and the opening is provided with a protruding member protruding toward the center of the opening, and the second contact member is the protruding An X-ray generator characterized by comprising members.
請求項4記載のX線発生装置において、前記突出部材の内周面は前記対陰極支持手段を構成することを特徴とするX線発生装置。   5. The X-ray generator according to claim 4, wherein an inner peripheral surface of the projecting member constitutes the counter-cathode support means. 請求項1から請求項5のいずれか1つに記載のX線発生装置において、前記対陰極が前記第2位置に在るときの前記フランジを移動不能に固定する固定手段を有することを特徴とするX線発生装置。   6. The X-ray generator according to claim 1, further comprising a fixing unit that fixes the flange so as not to be movable when the counter-cathode is in the second position. X-ray generator. 請求項1から請求項6のいずれか1つに記載のX線発生装置において、
前記フランジ圧力調整手段は、
前記フランジの前記対陰極側の面に大気圧を付与する手段と、
前記フランジの前記対陰極と反対側の面に隣接した領域を減圧状態と大気圧状態とで切り替える第1圧力切替手段と
を有することを特徴とするX線発生装置。
In the X-ray generator as described in any one of Claims 1-6,
The flange pressure adjusting means is
Means for applying an atmospheric pressure to the surface of the flange on the counter-cathode side;
An X-ray generator comprising: first pressure switching means for switching a region adjacent to the surface of the flange opposite to the counter-cathode between a reduced pressure state and an atmospheric pressure state.
請求項7記載のX線発生装置において、
前記第1圧力切替手段は前記ケーシングの内部を減圧する前記減圧手段を兼用して前記領域を減圧状態にすることを特徴とするX線発生装置。
The X-ray generator according to claim 7,
The X-ray generator according to claim 1, wherein the first pressure switching means also serves as the decompression means for decompressing the inside of the casing to bring the region into a decompressed state.
請求項1から請求項6のいずれか1つに記載のX線発生装置において、
前記フランジ圧力調整手段は、
前記フランジの前記対陰極と反対側の面に大気圧を付与する手段と、
前記フランジの前記対陰極側の面に付与する圧力を大気圧状態と大気圧以上の状態とで切り替える第2圧力切替手段とを有する
ことを特徴とするX線発生装置。
In the X-ray generator as described in any one of Claims 1-6,
The flange pressure adjusting means is
Means for applying atmospheric pressure to the surface of the flange opposite to the counter-cathode;
An X-ray generator comprising: second pressure switching means for switching a pressure applied to the surface of the flange on the counter-cathode side between an atmospheric pressure state and a state equal to or higher than atmospheric pressure.
電子を発生する陰極と、
該陰極に対向して設けられ互いに隣接して並んだ複数のX線発生帯を備えた対陰極と、
前記陰極及び前記対陰極を内部に収容したケーシングと、
該ケーシングの内部を減圧する減圧手段と、
前記対陰極を前記X線発生帯が並んだ方向で移動可能に支持する対陰極支持手段と、
前記対陰極と一体に移動するフランジと、
前記複数のX線発生帯のうち前記フランジに最も近い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極側の面に当接する第1当接部材と、
前記フランジの前記対陰極と反対側の面に当接可能な第3当接部材と、
前記フランジに加える空気圧力を第1圧力状態と第2圧力状態とで切り替えるフランジ圧力調整手段とを有し、
前記第1圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも小さい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、
前記第2圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも大きい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、
前記第3当接部材が前記フランジに当接する位置は、前記複数のX線発生帯のうち前記フランジに最も近い側に在るX線発生帯以外のX線発生帯のそれぞれが前記電子と衝突する領域に置かれるときの前記フランジの各位置に対応して変更可能である
ことを特徴とするX線発生装置。
A cathode that generates electrons;
An anti-cathode provided with a plurality of X-ray generating bands provided opposite to the cathode and arranged adjacent to each other;
A casing containing the cathode and the counter cathode therein;
Decompression means for decompressing the inside of the casing;
Anti-cathode support means for supporting the anti-cathode so as to be movable in the direction in which the X-ray generation bands are arranged;
A flange that moves integrally with the counter-cathode;
The surface on the counter-cathode side of the flange when the counter-cathode is in a position where the X-ray generation band that is closest to the flange among the plurality of X-ray generation bands is placed in a region that collides with the electrons A first abutting member that abuts on
A third abutting member capable of abutting against a surface of the flange opposite to the counter-cathode;
Flange pressure adjusting means for switching the air pressure applied to the flange between a first pressure state and a second pressure state;
The first pressure state is a force that moves the flange to the side opposite to the counter cathode, and a force that is smaller than a force that pulls the flange to the counter cathode side based on a reduced pressure state inside the casing. , The pressure applied to the flange,
The second pressure state is a force that moves the flange to the side opposite to the counter-cathode, and a force that is greater than a force that pulls the flange toward the counter-cathode side based on a reduced pressure state inside the casing. , The pressure applied to the flange,
The position where the third abutting member comes into contact with the flange is such that each of the X-ray generation bands other than the X-ray generation band that is closest to the flange among the plurality of X-ray generation bands collides with the electrons. An X-ray generator capable of being changed corresponding to each position of the flange when placed in a region to be operated.
電子を発生する陰極と、
該陰極に対向して設けられ互いに隣接して並んだ2つのX線発生帯を備えた対陰極と、
前記陰極及び前記対陰極を内部に収容したケーシングと、
該ケーシングの内部を減圧する減圧手段と、
該対陰極を当該対陰極を通る軸線を中心として回転させる対陰極回転駆動手段と、
該対陰極回転駆動手段を内部に収容すると共に前記対陰極から延在する対陰極ハウジングと、
該対陰極ハウジングの外周面に設けられており当該対陰極ハウジングの半径方向に突出するフランジと、
前記対陰極ハウジングを該対陰極ハウジングの軸線方向に移動可能に支持する対陰極支持手段と、
前記フランジの前記対陰極側への移動を止める第1当接部材と、
前記フランジの前記対陰極と反対側への移動を止める第2当接部材と、
前記フランジに加える空気圧力を第1圧力状態と第2圧力状態とで切り替えるフランジ圧力調整手段とを有し、
前記第1圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極側へ引かれる力よりも小さい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、
前記第2圧力状態は、前記フランジを前記対陰極と反対側へ移動させる力であって、前記ケーシングの内部の減圧状態に基づいて前記フランジが前記対陰極の在る方向へ引かれる力よりも大きい力を、前記フランジに加える圧力状態であり、
前記第1当接部材は、前記2つのX線発生帯のうち前記フランジに近い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる第1位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極側の面に当接し、
前記第2当接部材は、前記2つのX線発生帯のうち前記フランジから遠い側に在るX線発生帯が前記電子と衝突する領域に置かれる第2位置に前記対陰極があるときに前記フランジの前記対陰極と反対側の面に当接する
ことを特徴とするX線発生装置。
A cathode that generates electrons;
An anti-cathode provided with two X-ray generating bands provided opposite to the cathode and arranged adjacent to each other;
A casing containing the cathode and the counter cathode therein;
Decompression means for decompressing the inside of the casing;
Counter-cathode rotation driving means for rotating the counter-cathode around an axis passing through the counter-cathode;
An anti-cathode housing which accommodates the counter-cathode rotation driving means and extends from the counter-cathode;
A flange provided on an outer peripheral surface of the counter-cathode housing and projecting in a radial direction of the counter-cathode housing;
Anti-cathode support means for supporting the anti-cathode housing movably in the axial direction of the anti-cathode housing;
A first abutting member that stops movement of the flange toward the cathode side;
A second abutting member that stops movement of the flange to the opposite side of the counter-cathode;
Flange pressure adjusting means for switching the air pressure applied to the flange between a first pressure state and a second pressure state;
The first pressure state is a force that moves the flange to the side opposite to the counter cathode, and a force that is smaller than a force that pulls the flange to the counter cathode side based on a reduced pressure state inside the casing. , The pressure applied to the flange,
The second pressure state is a force that moves the flange to the side opposite to the counter cathode, and is more than a force that pulls the flange in the direction in which the counter cathode exists based on a reduced pressure state inside the casing. A pressure state in which a large force is applied to the flange;
The first abutting member has the counter-cathode at a first position where an X-ray generation band on the side closer to the flange of the two X-ray generation bands is placed in a region where it collides with the electrons. Abuts against the surface of the flange on the counter-cathode side,
The second contact member has the counter cathode at a second position where an X-ray generation band on the side farther from the flange of the two X-ray generation bands is placed in a region where it collides with the electrons. An X-ray generating apparatus, wherein the X-ray generator is in contact with a surface of the flange opposite to the counter cathode.
請求項1から請求項11のいずれか1つに記載のX線発生装置と、該X線発生装置から発生したX線を用いるX線光学系と有することを特徴とするX線分析装置。   An X-ray analysis apparatus comprising: the X-ray generation apparatus according to any one of claims 1 to 11; and an X-ray optical system using X-rays generated from the X-ray generation apparatus.
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