JP4765386B2 - Glass substrate heating method - Google Patents
Glass substrate heating method Download PDFInfo
- Publication number
- JP4765386B2 JP4765386B2 JP2005126287A JP2005126287A JP4765386B2 JP 4765386 B2 JP4765386 B2 JP 4765386B2 JP 2005126287 A JP2005126287 A JP 2005126287A JP 2005126287 A JP2005126287 A JP 2005126287A JP 4765386 B2 JP4765386 B2 JP 4765386B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- hot plate
- heating
- liquid crystal
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本発明は、ガラス基板上にフォトリソグラフィ法によってパターンを形成する際のプリベーク処理に関するものであり、特に、ガラス基板の浮き上がりによる部分的な熱量の不足を解消し、ムラのないパターンを形成するガラス基板の加熱方法に関する。 The present invention relates to a pre-bake process for forming a pattern on a glass substrate by photolithography, and in particular, glass that eliminates partial shortage of heat due to the floating of the glass substrate and forms a uniform pattern. The present invention relates to a method for heating a substrate.
図4は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図5は、図4に示すカラーフィルタのX−X’線における断面図である。
図4、及び図5に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ(4)は、ガラス基板(40)上にブラックマトリックス(41)、着色画素(42)、及び透明導電膜(43)が順次に形成されたものである。
図4、及び図5はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素(42)は12個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角17インチの画面に数百μm程度の着色画素が多数個配列されている。
FIG. 4 is a plan view schematically showing an example of a color filter used in the liquid crystal display device. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line XX ′ of the color filter shown in FIG.
As shown in FIGS. 4 and 5, the color filter (4) used in the liquid crystal display device has a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) on a glass substrate (40). Are formed sequentially.
4 and 5 schematically show a color filter, and 12 colored pixels (42) are represented. In an actual color filter, for example, several hundreds are displayed on a 17-inch diagonal screen. A large number of colored pixels of about μm are arranged.
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、このブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス(41)は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素(42)は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜(43)は、透明な電極として設けられたものである。
As a method of manufacturing a color filter having the above structure, which is used in many liquid crystal display devices, first, a black matrix is formed on a glass substrate, and then a colored pixel is aligned with this black matrix pattern. A method of forming a transparent conductive film and aligning a transparent conductive film is widely used.
The black matrix (41) is a matrix having light shielding properties, the colored pixels (42) have, for example, red, green, and blue filter functions, and the transparent conductive film (43) is transparent. Provided as a simple electrode.
ブラックマトリックス(41)は、着色画素(42)間のマトリックス部(41A)と、着色画素(42)が形成された領域(表示部)の周辺部を囲む額縁部(41B)とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
The black matrix (41) is composed of a matrix portion (41A) between the colored pixels (42) and a frame portion (41B) surrounding the peripheral portion of the region (display portion) where the colored pixels (42) are formed. Yes.
The black matrix determines the position of the colored pixels of the color filter, makes the size uniform, and shields unwanted light when used in a display device, making the image of the display device uniform and uniform. In addition, it has a function of making an image with improved contrast.
ガラス基板上へのブラックマトリックスの形成は、ガラス基板(40)上にブラックマトリックスの材料としてのクロム(Cr)、酸化クロム(CrOX )などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Cr、CrOX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス(41)を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板(40)上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス(41)を形成するといった方法がとられている。
Forming a black matrix on a glass substrate, chromium as the material of the black matrix on a glass substrate (40) (Cr), a metal such as chromium oxide (CrO X), or a metal compound was formed into a thin film, An etching resist pattern is formed on the formed thin film using, for example, a positive type photoresist, and then etching of the exposed portion of the formed metal thin film and stripping of the etching resist pattern are performed. A method of forming a black matrix (41) made of a metal thin film such as CrO x is employed.
Alternatively, the black matrix (41) is formed on the glass substrate (40) by photolithography using a black photosensitive resin for forming a black matrix.
また、着色画素(42)の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜(43)の形成は、ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
The colored pixel (42) is formed by providing a coating film on the glass substrate on which the black matrix is formed using, for example, a negative type photoresist in which a pigment such as a pigment is dispersed. A method of forming colored pixels by exposure and development is used.
In addition, the transparent conductive film (43) is formed on a glass substrate on which a black matrix and colored pixels are formed by, for example, forming a transparent conductive film by sputtering using ITO (Indium Tin Oxide). ing.
図4、及び図5に示すカラーフィルタ(4)は、一基の液晶表示装置に対応した1枚のカラーフィルタを表しており、カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。
図6は、例えば、対角17インチのカラーフィルタ(4)を650mm×850mm程度の大サイズのガラス基板に4面付けして製造するカラーフィルタ基板(60)の一例を示した平面図である。
The color filter (4) shown in FIG. 4 and FIG. 5 represents one color filter corresponding to one liquid crystal display device. When a large number of color filters are manufactured, one liquid crystal display is displayed. The color filter corresponding to the apparatus is manufactured in a state where it is applied to a large glass substrate.
FIG. 6 is a plan view showing an example of a color filter substrate (60) manufactured by attaching four color filters (4) having a diagonal size of 17 inches on a large glass substrate of about 650 mm × 850 mm. .
図4、及び図5に示すカラーフィルタ(4)は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーTV、ノート型PCなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
The color filter (4) shown in FIGS. 4 and 5 has a basic function as a color filter used in a liquid crystal display device. The liquid crystal display device incorporates such a color filter to realize full color display, and its application range is dramatically expanded, and many products using liquid crystal display devices such as liquid crystal color TVs and notebook PCs are created. It was done.
With the development and practical use of various liquid crystal display devices, the following various functions have been added to the color filters used in the liquid crystal display devices in addition to the above basic functions.
1)高信頼性機能
液晶表示装置として高信頼性が求められる際には、着色画素のもつ耐熱性、耐湿性、及び耐薬品性などの性能を補うために、また、着色画素からの溶出物のバリアとして着色画素上に保護層(オーバーコート層)を形成することがある。
或いは、カラーフィルタとTFT側基板とのシール強度を向上させるために、保護層(オーバーコート層)を形成することがある。
或いは、液晶分子の配向をより均一なものにして表示品質を向上させる際に、着色画素上に保護層(オーバーコート層)を形成し、平坦性の高いカラーフィルタとすることがある。
1) Highly reliable function When high reliability is required as a liquid crystal display device, in order to supplement the performance of colored pixels, such as heat resistance, moisture resistance, and chemical resistance, and eluate from the colored pixels As a barrier, a protective layer (overcoat layer) may be formed on the colored pixels.
Alternatively, a protective layer (overcoat layer) may be formed in order to improve the sealing strength between the color filter and the TFT side substrate.
Alternatively, when the display quality is improved by making the alignment of liquid crystal molecules more uniform, a protective layer (overcoat layer) may be formed on the colored pixels to obtain a highly flat color filter.
2)透過・反射併用機能
一基の液晶表示装置において透過型と反射型の両機能を兼ね備えた半透過型液晶表示装置は、屋外の明るい環境下でも、屋内の暗い環境下でも用いることができる。図9は、半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例の断面図である。図9に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板(40)上にブラックマトリックス(41)、着色画素(42)、及び透明導電膜(43)が形成されたものである。
着色画素(42)は透過表示の着色画素(42Tr)と反射表示の着色画素(42Re)で構成されている。
2) Combined transmission / reflection function A transflective liquid crystal display device that has both transmission and reflection functions in a single liquid crystal display device can be used both in bright outdoors and in dark indoor environments. . FIG. 9 is a cross-sectional view of an example of a color filter used in a transflective liquid crystal display device. As shown in FIG. 9, this color filter is obtained by forming a black matrix (41), colored pixels (42), and a transparent conductive film (43) on a glass substrate (40).
The colored pixel (42) includes a colored pixel (42Tr) for transmissive display and a colored pixel (42Re) for reflective display.
透過表示の着色画素(42Tr)、及び反射表示の着色画素(42Re)の分光特性は、各々が透過表示用として、また反射表示用として適切な分光特性のものである。従って、液晶表示装置を透過型として表示する際には優れた明度、彩度を有するものとなり、また、反射型として表示する際には優れた明度、彩度を有するものとなる。
カラーフィルタとしては、透過表示の着色画素(42Tr)のRGB3色と、反射表示の着色画素(42Re)のRGB3色の計6色の着色画素を形成することとなる。すなわち、透過表示の着色画素3色と反射表示の着色画素3色を形成する。
The spectral characteristics of the colored pixel (42Tr) for transmissive display and the colored pixel (42Re) for reflective display are respectively suitable for transmissive display and reflective display. Therefore, when the liquid crystal display device is displayed as a transmission type, it has excellent brightness and saturation, and when it is displayed as a reflection type, it has excellent brightness and saturation.
As the color filter, there are formed a total of six colored pixels, that is, three RGB colors of the colored pixels (42Tr) for transmissive display and three RGB colors of the colored pixels (42Re) for reflective display. That is, three colored pixels for transmissive display and three colored pixels for reflective display are formed.
3)分光特性調整機能
図10は、半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの他の例の断面図である。図10に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板(40)上にブラックマトリックス(41)、着色画素(42)、及び透明導電膜(43)が形成されたものである。
3) Spectral Characteristic Adjustment Function FIG. 10 is a cross-sectional view of another example of a color filter used in a transflective liquid crystal display device. As shown in FIG. 10, this color filter is obtained by forming a black matrix (41), colored pixels (42), and a transparent conductive film (43) on a glass substrate (40).
着色画素(42)は透過表示の着色画素(42Tr)と反射表示の着色画素(42Re)で構成されている。反射表示の着色画素(42Re)は着色部(45)と透明部(46)で構成されている。 The colored pixel (42) includes a colored pixel (42Tr) for transmissive display and a colored pixel (42Re) for reflective display. The colored pixel (42Re) for reflection display is composed of a colored portion (45) and a transparent portion (46).
透過表示の着色画素(42Tr)と反射表示の着色画素(42Re)の着色部(45)は、透過表示用として適切な分光特性のものである。反射表示の着色画素(42Re)に透明部(46)を設けることによって、着色部(45)の色光と透明部(46)の白色光が混色し、反射表示の着色画素(42Re)の分光特性は反射表示用として適切な分光特性に調節されたものとなる。この透明部(46)は透明なフォトレジストによって形成される。 The colored portion (45Tr) of the transmissive display colored pixel (42Tr) and the reflective display colored pixel (42Re) has spectral characteristics suitable for transmissive display. By providing the transparent portion (46) in the colored pixel (42Re) for reflective display, the color light of the colored portion (45) and the white light of the transparent portion (46) are mixed, and the spectral characteristics of the colored pixel (42Re) for reflective display. Is adjusted to an appropriate spectral characteristic for reflection display. The transparent portion (46) is formed of a transparent photoresist.
上記、1)高信頼性機能、2)透過・反射併用機能、3)分光特性調整機能は、いずれも図4に示すカラーフィルタ(4)に付加されたものであるが、これらは、透明導電膜(43)の形成前にガラス基板上に設けられており、これらの上面に透明導電膜(43)が形成されている。
一方、基本的な機能を備えたカラーフィルタ(4)の透明導電膜(43)の上面に設けられる機能としては、例えば、下記のものが挙げられる。
The above 1) high-reliability function, 2) transmission / reflection combined function, and 3) spectral characteristic adjustment function are all added to the color filter (4) shown in FIG. It is provided on the glass substrate before forming the film (43), and the transparent conductive film (43) is formed on the upper surface thereof.
On the other hand, examples of the function provided on the upper surface of the transparent conductive film (43) of the color filter (4) having basic functions include the following.
4)スペーサー機能
従来の液晶表示装置に於いては、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるガラス又は合成樹脂の透明球状体粒子(ビーズ)を散布している。このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。
4) Spacer function In conventional liquid crystal display devices, transparent spherical particles (beads) of glass or synthetic resin called spacers are dispersed in order to form a gap between substrates. Since these spacers are transparent particles, if a spacer is included with the liquid crystal in the pixel, light will leak through the spacer during black display, and the substrate in which the liquid crystal material is enclosed Due to the presence of the spacers between them, the alignment of the liquid crystal molecules in the vicinity of the spacers is disturbed, and light leakage occurs at this part, and the contrast is lowered and the display quality is adversely affected.
このような問題を解決する技術として、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により画素間のブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するフォトスペーサー(突起部)を形成する方法が開発、実用された。
図7は、このような液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。図7に示すように、液晶表示装置用カラーフィルタ(7)は、ガラス基板(40)上にブラックマトリックス(41)、着色画素(42)、及び透明導電膜(43)が順次に形成され、ブラックマトリックス(41)上方の透明導電膜(43)上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー(44)が形成されている。このような液晶表示装置用カラーフィルタ(7)を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー(44)が画素内を避けた位置に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。
As a technique for solving such a problem, a method of forming a photo spacer (projection) having a spacer function at a position of a black matrix between pixels by using a photosensitive resin and using a photolithography method has been developed and put into practical use.
FIG. 7 is a partial cross-sectional view of such a color filter for a liquid crystal display device. As shown in FIG. 7, in the color filter (7) for a liquid crystal display device, a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) are sequentially formed on a glass substrate (40). A photospacer (44) as a protrusion having a spacer function is formed on the transparent conductive film (43) above the black matrix (41). In the liquid crystal display device using such a color filter (7) for the liquid crystal display device, the photo spacer (44) is formed at a position avoiding the inside of the pixel, and thus the contrast is improved.
5)配向分割機能
従来の液晶表示装置に於いては、液晶分子を一様に配向させるために、液晶を挟持する両基板に設けられた透明導電膜上に、予めポリイミドを塗布し、その表面に一様なラビング処理をしておく。
しかし、多くの液晶表示装置に用いられているTN型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、中間調表示状態では斜め視角において光がもれ、コントラストが低下し表示品質が悪化する。すなわち、コントラストが良好な視野角は狭いといった問題を有していた。
5) Orientation division function In the conventional liquid crystal display device, in order to uniformly align the liquid crystal molecules, polyimide is applied in advance onto the transparent conductive film provided on both substrates sandwiching the liquid crystal, and its surface A uniform rubbing process is performed.
However, in TN type liquid crystal used in many liquid crystal display devices, in principle, it is difficult to obtain a wide viewing angle. In a halftone display state, light leaks at an oblique viewing angle, and the contrast is lowered and displayed. Quality deteriorates. That is, there is a problem that the viewing angle with good contrast is narrow.
このような問題を解決する一技術として、一画素内での液晶分子の配向方向が一方向でなく、複数の方向になるように制御し、複数の方向で均一な中間調表示をするようにした、すなわち視野角の広い、配向分割垂直配向型液晶表示装置(MVA、Multi−domain Vertical Alignment−LCD)が開発された。 As one technique for solving such a problem, the liquid crystal molecules in one pixel are controlled so that the alignment direction of the liquid crystal molecules is not a single direction but a plurality of directions, and uniform halftone display is performed in a plurality of directions. In other words, an alignment-divided vertical alignment type liquid crystal display (MVA, Multi-domain Vertical Alignment-LCD) having a wide viewing angle has been developed.
図8は、このようなMVA−LCDの断面を模式的に示した説明図である。図8に示す
ように、MVA−LCD(80)は、液晶分子(1)を介して配向制御突起(2a)、(2b)が設けられたTFT側基板(9)と、配向制御突起(3)が設けられたカラーフィルタ(8)とを配置した構造であるが、配向制御突起(2a)、(2b)及び配向制御突起(3)は一画素内で互い違いの位置に設けられている。
FIG. 8 is an explanatory view schematically showing a cross section of such an MVA-LCD. As shown in FIG. 8, the MVA-LCD (80) includes a TFT side substrate (9) provided with alignment control protrusions (2a) and (2b) via liquid crystal molecules (1), and an alignment control protrusion (3 ) Are arranged, and the alignment control protrusions (2a) and (2b) and the alignment control protrusion (3) are provided at different positions in one pixel.
図8に白太矢印で示すように、電圧印加時の状態では、一画素内で配向制御突起(2a)〜配向制御突起(3)間の液晶分子は、図中左斜めに傾斜し、配向制御突起(3)〜配向制御突起(2b)間の液晶分子は、右斜めに傾斜する。すなわち、ラビング処理に代わり、突起を設けることにより液晶分子の配向を制御するものである。
図8に示す例では、一画素が2分割されたものとなり、一画素内で液晶分子の傾斜方向が2方向になり視野角特性の優れた液晶表示装置となる。
As shown by the thick white arrow in FIG. 8, in the state at the time of voltage application, the liquid crystal molecules between the alignment control protrusions (2a) to the alignment control protrusions (3) in the pixel are inclined obliquely to the left in the figure. The liquid crystal molecules between the control protrusion (3) and the alignment control protrusion (2b) are inclined obliquely to the right. That is, the alignment of the liquid crystal molecules is controlled by providing protrusions instead of the rubbing treatment.
In the example shown in FIG. 8, one pixel is divided into two, and the tilt direction of the liquid crystal molecules is two directions in one pixel, and the liquid crystal display device is excellent in viewing angle characteristics.
上記諸機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき1機能或いは複数の機能が図4に示すカラーフィルタ(4)に追加される。
これらの機能は、基本となるカラーフィルタ上に付随する層として、各々対応して、透明導電膜(43)の形成前に保護層(オーバーコート層)、反射表示の着色画素、分光特性調整用の透明部などを形成し具備させる。或いは透明導電膜(43)の形成後にフォトスペーサー、配向制御用突起などを形成し具備させる。
従って、例えば、図4に示すカラーフィルタ(4)にスペーサー機能及び配向分割機能が追加された仕様のカラーフィルタを製造する際には、図4に示すカラーフィルタ(4)を作製した後に、例えば、配向制御用突起を形成し、続いてフォトスペーサーを形成する。
Among the above functions, one function or a plurality of functions are added to the color filter (4) shown in FIG. 4 based on the use and specification of the color filter.
These functions correspond to the layers associated with the basic color filter, respectively, and a protective layer (overcoat layer), colored pixels for reflective display, and spectral characteristic adjustment before forming the transparent conductive film (43). A transparent part of the film is formed and provided. Alternatively, after the transparent conductive film (43) is formed, a photospacer, an alignment control protrusion, and the like are formed and provided.
Therefore, for example, when manufacturing a color filter having a specification in which a spacer function and an orientation division function are added to the color filter (4) shown in FIG. 4, after producing the color filter (4) shown in FIG. Then, an alignment control protrusion is formed, and then a photo spacer is formed.
上記、基本となるカラーフィルタ上に付随する層を形成する際には、パターンとして形成されない保護層(オーバーコート層)を除き、いずれの層も前記ブラックマトリックス(41)、着色画素(42)と同様に、フォトレジストを用いてのフォトリソグラフィ法によってパターンに形成される。 When forming a layer associated with the basic color filter, all the layers except the protective layer (overcoat layer) not formed as a pattern are the black matrix (41), the colored pixel (42), and the like. Similarly, a pattern is formed by a photolithography method using a photoresist.
上記ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する各層をフォトリソグラフィ法によりパターンとして形成する際には、例えば、先ずガラス基板に対して必要に応じた洗浄処理を施し、続いて塗布装置によるフォトレジストの塗布、減圧乾燥装置による予備乾燥処理、プリベーク装置によるプリベーク処理、露光装置によるパターン露光、現像処理ユニットによる現像処理、加熱ユニットによるポストベーク処理が順次に施され、ガラス基板に所定のパターンを形成する。 When forming the black matrix, the colored pixels, and the associated layers as a pattern by photolithography, for example, first, a glass substrate is subjected to a cleaning treatment as necessary, and then a photoresist is applied by a coating apparatus. Then, a preliminary drying process by a reduced pressure drying apparatus, a pre-baking process by a pre-baking apparatus, a pattern exposure by an exposure apparatus, a developing process by a developing process unit, and a post-baking process by a heating unit are sequentially performed to form a predetermined pattern on the glass substrate.
上記フォトレジストの塗布直後は、フォトレジストの塗膜は乾燥していないために流動性があり、次工程へガラス基板を搬送した場合には、搬送中に塗膜の膜厚が変化し易く膜厚にムラを発生させることがある。予備乾燥処理は、この搬送に伴う塗膜の膜厚の変化を防止するために、塗膜中の溶剤を減圧下で半ば蒸発させる予備的な乾燥処理である。 Immediately after application of the photoresist, the coating film of the photoresist is fluid because it is not dried. When the glass substrate is transported to the next process, the film thickness of the coating film is likely to change during transportation. May cause unevenness in thickness. The preliminary drying process is a preliminary drying process in which the solvent in the coating film is evaporated halfway under reduced pressure in order to prevent a change in the film thickness of the coating film accompanying the conveyance.
次工程のプリベーク処理は、塗膜中の溶剤を加熱によって蒸発させる本格的な乾燥処理である。塗膜中の溶剤が残留していると、フォトレジストの感度は著しく低下し、加えてガラス基板への接着力が弱まるので、塗膜中に溶剤が残留することは好ましいことではない。 The pre-baking process in the next step is a full-fledged drying process in which the solvent in the coating film is evaporated by heating. If the solvent in the coating film remains, the sensitivity of the photoresist is remarkably lowered and the adhesive force to the glass substrate is weakened. Therefore, it is not preferable that the solvent remains in the coating film.
図1(a)は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。図1(a)に示すように、プリベーク装置(10)は、加熱チャンバー(20)と冷却チャンバー(30)で構成されている。加熱チャンバー(20)内には、ホットプレート(21)を上部に備えたバキューム・テーブル(22)が設けられており、また、冷却チャンバー(30)内には、クールプレート(31)を上部に備えたバキューム・テーブル(32)が設けられている。 Fig.1 (a) is sectional drawing which shows the outline of an example of a prebaking apparatus. As shown to Fig.1 (a), the prebaking apparatus (10) is comprised by the heating chamber (20) and the cooling chamber (30). A vacuum table (22) having a hot plate (21) at the top is provided in the heating chamber (20), and a cool plate (31) is at the top in the cooling chamber (30). A provided vacuum table (32) is provided.
前記予備乾燥処理によって、塗膜中の溶剤を半ば蒸発させたガラス基板は、加熱チャンバー(20)内のホットプレート(21)上に載置され、加熱による乾燥処理が施される。続いて、ガラス基板は、冷却チャンバー(30)に搬送され、クールプレート(31)上に載置され冷却されて常温に戻される。
図1(b)は、ホットプレート(21)を上部に備えたバキューム・テーブル(22)の一例の概略を示す断面図である。図1(b)は、移載用のロボット(図示せず)によって、ガラス基板(60)がリフトピン(23)上に受け渡された段階を示したものである。
The glass substrate obtained by partially evaporating the solvent in the coating film by the preliminary drying process is placed on the hot plate (21) in the heating chamber (20) and subjected to a drying process by heating. Subsequently, the glass substrate is transferred to the cooling chamber (30), placed on the cool plate (31), cooled, and returned to room temperature.
FIG.1 (b) is sectional drawing which shows the outline of an example of the vacuum table (22) which equipped the hot plate (21) in the upper part. FIG. 1B shows a stage where the glass substrate (60) is transferred onto the lift pins (23) by a transfer robot (not shown).
ガラス基板(60)は、前工程から移載用のロボットによって、底面を2本のアーム(図示せず)で支えられた状態でホットプレート(21)上に載置されるが、そのままではホットプレート(21)上に載置後、アームを退避することができないので、一旦、ホットプレート(21)の上面から突出した状態でアームと干渉しない位置に設けられた複数のリフトピン(23)上に受け渡され、その後にアームが退避する。 The glass substrate (60) is placed on the hot plate (21) with the bottom surface supported by two arms (not shown) by the transfer robot from the previous step, but if left as it is, it is hot. Since the arm cannot be retracted after being placed on the plate (21), the arm once protrudes from the upper surface of the hot plate (21) and then on a plurality of lift pins (23) provided at positions that do not interfere with the arm. The arm is retracted.
リフトピン(23)は、ホットプレート(21)に対し垂直方向に昇降自在であり、ガラス基板(60)が受け渡された後に下降し、ホットプレート(21)上に載置される。リフトピン(23)が昇降するホットプレート(21)に設けられた開口(24)は、リフトピン(23)が中空部(25)内まで下降した後に、ガラス基板(60)とホットプレート(21)の間の空気を吸引する開口と兼ねている。
ホットプレート(21)には、ヒーターが内蔵されている。また、バキューム・テーブル(22)は、中空部(25)を有し、上部にホットプレート(21)を備え、下部には排気口(26)が設けられている。ホットプレート(21)上のガラス基板(60)を真空吸着する際には、排気口からの排気により行う。
The lift pins (23) are vertically movable with respect to the hot plate (21). The lift pins (23) are lowered after the glass substrate (60) has been delivered and placed on the hot plate (21). The opening (24) provided in the hot plate (21) on which the lift pin (23) moves up and down is formed between the glass substrate (60) and the hot plate (21) after the lift pin (23) is lowered into the hollow portion (25). Also serves as an opening for sucking air between.
The hot plate (21) has a built-in heater. The vacuum table (22) has a hollow portion (25), is provided with a hot plate (21) in the upper portion, and an exhaust port (26) is provided in the lower portion. When the glass substrate (60) on the hot plate (21) is vacuum-adsorbed, it is exhausted from the exhaust port.
図2(a)〜(c)は、上記加熱チャンバー(20)を用いたプリベーク処理の動作を説明する断面図である。図2は、図1(b)におけるホットプレート(21)、リフトピン(23)、ガラス基板(60)の一部分を拡大して示したものである。
図2に示すように、ガラス基板(60)へのプリベーク処理の動作は、温度の急激な変化に伴うガラス基板の破壊を回避するために、前工程から搬送されたガラス基板(60)を直ちにホットプレート(21)に吸着させての加熱は行わず、(a)ならし加熱、(b)プロキシ加熱、(c)コンタクト加熱の三段階で加熱する動作から成っている。
2A to 2C are cross-sectional views illustrating the operation of the pre-bake process using the heating chamber (20). FIG. 2 is an enlarged view of a portion of the hot plate (21), lift pins (23), and glass substrate (60) in FIG. 1 (b).
As shown in FIG. 2, the pre-baking operation to the glass substrate (60) is performed immediately on the glass substrate (60) conveyed from the previous step in order to avoid the destruction of the glass substrate due to a rapid change in temperature. Heating by adsorbing to the hot plate (21) is not performed, and the heating is performed in three stages: (a) leveling heating, (b) proxy heating, and (c) contact heating.
先ず、図2(a)に示すように、ならし加熱を行う。例えば、厚さ0.7〜1.0mm程度のコーニング社製:無アルカリガラス♯1737(品番)を用いたガラス基板(60)がリフトピン(23)上に受け渡された状態で、ホットプレート(21)上面とガラス基板(60)の距離(D1)を、例えば、45〜50mm程度に離し、5秒程度の加熱を行う。
ホットプレート(21)上面からの距離(D1)を45〜50mm程度に離すことによって、高温で一定に保たれているホットプレート(21)からは、ゆるやかな第一段階の加熱がなされる。ホットプレート(21)の温度は80〜150℃程度であり、また、リフトピン(23)間の距離(L)は、100〜300mm程度のものである。
First, leveling heating is performed as shown in FIG. For example, in a state where a glass substrate (60) using non-alkali glass # 1737 (product number) having a thickness of about 0.7 to 1.0 mm is transferred onto the lift pins (23), a hot plate ( 21) The distance (D1) between the upper surface and the glass substrate (60) is, for example, about 45 to 50 mm, and heating is performed for about 5 seconds.
By separating the distance (D1) from the upper surface of the hot plate (21) to about 45 to 50 mm, a gentle first stage heating is performed from the hot plate (21) kept constant at a high temperature. The temperature of the hot plate (21) is about 80 to 150 ° C., and the distance (L) between the lift pins (23) is about 100 to 300 mm.
次に、図2(b)に示すように、ガラス基板(60)がリフトピン(23)上に受け渡された状態で、リフトピン(23)を下降させ、ホットプレート(21)上面とガラス基板(60)の距離(D2)を、例えば、2mm程度に縮め、15〜60秒程度のプロキシ加熱を行う。
ホットプレート(21)上面からの距離(D2)を1〜10mm程度に縮めることによって、高温で一定に保たれているホットプレート(21)からは、ホットプレート上と略同等の温度での第二段階の加熱がなされる。
Next, as shown in FIG. 2B, in a state where the glass substrate (60) is transferred onto the lift pins (23), the lift pins (23) are lowered, and the upper surface of the hot plate (21) and the glass substrate ( The distance (D2) of 60) is reduced to, for example, about 2 mm, and proxy heating is performed for about 15 to 60 seconds.
By reducing the distance (D2) from the upper surface of the hot plate (21) to about 1 to 10 mm, the hot plate (21) kept at a high temperature is kept at a second temperature at a temperature substantially equal to that on the hot plate. Stage heating is done.
次に、図2(c)に示すように、リフトピン(23)を更に下降させ、ガラス基板(60)をホットプレート(21)上に載置し、効果的に均一な加熱をするために、ガラス基板(60)とホットプレート(21)の間の空気を吸引し、ガラス基板(60)をホットプレート(21)に吸着させながら第三段階のコンタクト加熱を、例えば、50〜150秒程度行うといった三段階で加熱を行う動作である。 Next, as shown in FIG. 2 (c), the lift pin (23) is further lowered, and the glass substrate (60) is placed on the hot plate (21) to effectively heat uniformly. A third stage of contact heating is performed, for example, for about 50 to 150 seconds while sucking air between the glass substrate (60) and the hot plate (21) and adsorbing the glass substrate (60) to the hot plate (21). This is an operation of heating in three stages.
しかしながら、上記のような三段階の加熱動作によってプリベーク処理を行うと、温度の急激な変化、すなわち、熱衝撃によるガラス基板(60)の破壊は確かに回避されるものの、加熱中に、複数の開口(24)に対応したガラス基板の部分と部分の間は、熱膨張によってホットプレート(21)から浮き上がり、露光、現像処理後のガラス基板(60)のパターンにはムラが発生するといった問題がある。 However, when the pre-baking process is performed by the three-stage heating operation as described above, a rapid change in temperature, that is, destruction of the glass substrate (60) due to thermal shock is surely avoided. Between the portions of the glass substrate corresponding to the openings (24), the glass plate floats from the hot plate (21) due to thermal expansion, and unevenness occurs in the pattern of the glass substrate (60) after exposure and development. is there.
図3は、図2(c)に示す状態で加熱を行った際のガラス基板(60)の浮き上がりを説明する断面図である。図3に示すように、複数の開口(24)に対応したガラス基板の複数の部分は、ホットプレート(21)に吸着されているが、開口(24)と開口(24)の間の部分は、熱膨張によってホットプレート(21)から浮き上がっている。このホットプレート(21)から浮き上がったガラス基板(60)の部分は、プリベーク処理の熱量が不足気味になり、塗膜中の溶剤の蒸発が不充分となる。
すなわち、この浮き上がった部分のフォトレジストの感度は不足気味になり、露光、現像処理後のパターン寸法に差が生じ、ガラス基板(60)のパターンは不均一となりムラが現れる。
That is, the sensitivity of the photoresist in the floating portion is insufficient, the pattern dimensions after the exposure and development processes are different, and the pattern of the glass substrate (60) becomes non-uniform and uneven.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ホットプレートを用いガラス基板を、ならし加熱、プロキシ加熱、コンタクト加熱の三段階の加熱によるプリベーク処理を行っても、そのコンタクト加熱において、ガラス基板の部分が熱膨張によってホットプレートから浮き上がることのない、ガラス基板の加熱方法を提供することを課題とする。
これにより、開口と開口の間に対応したガラス基板の部分は、プリベーク処理の熱量が不足気味になることはなく、露光、現像処理後のガラス基板は、そのパターンにムラのないものが得られる。
The present invention has been made to solve the above problems, and even if a pre-baking process is performed on a glass substrate using a hot plate by three stages of heating, proxy heating, and contact heating, the contact heating is performed. In the above, an object of the present invention is to provide a method for heating a glass substrate in which a portion of the glass substrate does not float from the hot plate due to thermal expansion.
As a result, the portion of the glass substrate corresponding to the space between the openings does not feel that the amount of heat in the pre-baking process is insufficient, and the glass substrate after the exposure and development processes can be obtained with a uniform pattern. .
本発明は、ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレートを用いたプリベーク処理におけるガラス基板の加熱方法において、
1)熱衝撃によるガラス基板の破壊を防ぐため、
リフトピンで保持されたガラス基板とホットプレートとの距離を順次変えて、ガラス基板にならし加熱、及びプロキシ加熱を行う工程と、
2)続いて、ガラス基板をホットプレート上に吸着させてのコンタクト加熱の途中で、一旦、リフトピンにてホットプレート上よりガラス基板を再プロキシ加熱を行いつつ上昇させ、しかる後、リフトピンを下降させ、再度ガラス基板をホットプレート上に載置しコンタクト加熱を継続して行う工程からなることを特徴とするガラス基板の加熱方法である。
In the present invention, a color filter is formed by forming a pattern on a glass substrate by a photolithography method in which a cleaning process, a photoresist application, a preliminary drying process, a pre-bake process, a pattern exposure, a development process, and a post-bake process are sequentially performed. In the heating method of the glass substrate in the pre-baking process using the hot plate when manufacturing ,
1) To prevent breakage of the glass substrate due to thermal shock,
A step of sequentially changing the distance between the glass substrate held by the lift pins and the hot plate , and performing a tempering heating and a proxy heating on the glass substrate ,
2) have continued in the middle of the contact heating by adsorbing a glass substrate on a hot plate, once again proxy heated is raised while performing glass substrate than on a hot plate at the lift pins, and thereafter, lowering the lift pins The method of heating a glass substrate is characterized by comprising a step of placing the glass substrate again on a hot plate and continuously performing contact heating.
本発明は、プリベーク処理において、熱衝撃によるガラス基板の破壊を防ぐための、ならし加熱及びプロキシ加熱を行い、続く、ホットプレート上に吸着させてのコンタクト加熱の途中で、一旦、熱膨張によるガラス基板の部分の浮き上がりを是正するための、再プロキシ加熱を行い、継続して該コンタクト加熱を行うガラス基板の加熱方法であるので、ホットプレートを用いてガラス基板を、ならし加熱、プロキシ加熱、コンタクト加熱の三段階の加熱によるプリベーク処理を行っても、ガラス基板の部分が熱膨張によってホットプレートから浮き上がることのない、ガラス基板の加熱方法となる。 In the pre-baking process, the present invention performs break-in heating and proxy heating to prevent breakage of the glass substrate due to thermal shock, and then in the middle of contact heating by adsorption onto the hot plate, once due to thermal expansion The glass substrate is heated by re-proxy heating to correct the floating of the glass substrate, and the contact heating is performed continuously. Even if the pre-baking process by the three-step heating of contact heating is performed, the glass substrate heating method is such that the glass substrate portion does not rise from the hot plate due to thermal expansion.
従って、開口と開口の間に対応したガラス基板の部分は、プリベーク処理の熱量が不足気味になることはなく、露光、現像処理後のガラス基板は、そのパターンにムラのないものが得られる。 Accordingly, the portion of the glass substrate corresponding to the space between the openings does not feel that the amount of heat in the pre-baking process is insufficient, and the glass substrate after the exposure and development processes can be obtained with a uniform pattern.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図11(a)〜(f)は、本発明のガラス基板の加熱方法におけるプリベーク処理の動作を説明する断面図である。図11は、ホットプレート(21)、リフトピン(23)、ガラス基板(60)の一部分を拡大して示したものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
FIGS. 11A to 11F are cross-sectional views illustrating the operation of the pre-baking process in the glass substrate heating method of the present invention. FIG. 11 is an enlarged view of a portion of the hot plate (21), lift pins (23), and glass substrate (60).
図11(a)、(b)に示すように、先ず、ならし加熱、次に、プロキシ加熱を行うが、これらの動作は、前記図2(a)、(b)に示す加熱処理の動作と同一である。
次に、図11(c)に示すように、リフトピン(23)を更に下降させ、ガラス基板(60)をホットプレート(21)上に載置し、ガラス基板(60)とホットプレート(21)の間の空気を吸引し、ガラス基板(60)をホットプレート(21)に吸着させながら第三段階のコンタクト加熱を行う。
As shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b), first, leveling heating and then proxy heating are performed. These operations are the operations of the heat treatment shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). Is the same.
Next, as shown in FIG. 11 (c), the lift pins (23) are further lowered to place the glass substrate (60) on the hot plate (21), and the glass substrate (60) and the hot plate (21). The third stage contact heating is performed while the glass substrate (60) is adsorbed on the hot plate (21).
ホットプレート(21)上に吸着させながらのコンタクト加熱によって、前記図3に示す状態と同様に、複数の開口(24)に対応したガラス基板の複数の部分は、ホットプレート(21)に吸着されているが、開口(24)と開口(24)の間の部分は、熱膨張によってホットプレート(21)から浮き上がる(図11(d))。
このガラス基板の複数の部分が浮き上がった段階で、ガラス基板(60)とホットプレート(21)の間の空気の吸引を中断し、ホットプレート(21)へのガラス基板(60)の吸着を解除する。
By the contact heating while adsorbed on the hot plate (21), a plurality of portions of the glass substrate corresponding to the plurality of openings (24) are adsorbed on the hot plate (21) as in the state shown in FIG. However, the portion between the opening (24) and the opening (24) is lifted from the hot plate (21) by thermal expansion (FIG. 11 (d)).
When a plurality of portions of the glass substrate are lifted, air suction between the glass substrate (60) and the hot plate (21) is interrupted, and the adsorption of the glass substrate (60) to the hot plate (21) is released. To do.
次に、図11(e)に示すように、リフトピン(23)を上昇させて再プロキシ加熱を行う。この再プロキシ加熱を行う際の、ホットプレート(21)上面とガラス基板(60)との距離(D3)は、図11(b)に示す距離(D2)と略同一の、例えば、1〜10mm程度であり、時間は1〜10秒程度の加熱である。
リフトピン(23)を上昇させることによって、カラーフィルタ基板(60)は、ホットプレート(21)から開放され、浮き上がった部分は、矢印で示すように、ガラス基板(60)の水平方向の膨張へと転化し、ガラス基板(60)はリフトピン(23)上で平坦な状態になる。
Next, as shown in FIG. 11E, the lift pins (23) are raised to perform re-proxy heating. The distance (D3) between the upper surface of the hot plate (21) and the glass substrate (60) when performing this re-proxy heating is substantially the same as the distance (D2) shown in FIG. The time is about 1 to 10 seconds of heating.
By raising the lift pins (23), the color filter substrate (60) is released from the hot plate (21), and the lifted portion is caused to expand in the horizontal direction of the glass substrate (60) as shown by the arrows. The glass substrate (60) is converted into a flat state on the lift pins (23).
次に、図11(f)に示すように、再び、リフトピン(23)を下降させてガラス基板(60)をホットプレート(21)上に載置し、ガラス基板(60)とホットプレート(21)の間の空気の吸引を再開し、ガラス基板(60)をホットプレート(21)に吸着させながら、中断した、前記第三段階のコンタクト加熱を継続して行う。 Next, as shown in FIG. 11 (f), the lift pins (23) are lowered again to place the glass substrate (60) on the hot plate (21), and the glass substrate (60) and the hot plate (21) are placed. ) Is resumed, and the third stage contact heating is continued while the glass substrate (60) is adsorbed to the hot plate (21).
この継続して行う第三段階のコンタクト加熱においては、ガラス基板(60)の温度は既にホットプレート(21)の温度と同一になっているために、温度の上昇に伴う熱膨張は最早起こらず、以降は開口(24)と開口(24)の間でガラス基板の複数の部分が浮
き上がることはなく、ガラス基板(60)は平坦に吸着された状態を保ち、ガラス基板(60)への均一な第三段階のコンタクト加熱が終了する。
In the third stage of contact heating performed continuously, since the temperature of the glass substrate (60) is already the same as the temperature of the hot plate (21), thermal expansion accompanying the increase in temperature no longer occurs. Thereafter, a plurality of portions of the glass substrate do not float between the opening (24) and the opening (24), and the glass substrate (60) remains in a flatly adsorbed state, and is uniformly applied to the glass substrate (60). The third stage of contact heating ends.
1・・・液晶分子
2a、2b、3・・・配向制御突起
4、7、8・・・カラーフィルタ
9・・・TFT側基板
10・・・プリベーク装置
20・・・加熱チャンバー
21・・・ホットプレート
22・・・加熱チャンバーのバキューム・テーブル
23・・・リフトピン
24・・・開口
25・・・中空部
26・・・排気口
30・・・冷却チャンバー
31・・・クールプレート
32・・・冷却チャンバーのバキューム・テーブル
40・・・ガラス基板
41・・・ブラックマトリックス
41A・・・ブラックマトリックスのマトリックス部
41B・・・ブラックマトリックスの額縁部
42・・・着色画素
42Tr・・・透過表示の着色画素
42Re・・・反射表示の着色画素
43・・・透明導電膜
44・・・フォトスペーサー
45・・・着色部
46・・・透明部
60・・・ガラス基板
80・・・MVA−LCD
D1・・・ならし加熱でのホットプレートとガラス基板の距離
D2・・・プロキシ加熱でのホットプレートとガラス基板の距離
D3・・・再プロキシ加熱でのホットプレートとガラス基板の距離
L・・・リフトピン間の距離
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
D1 ··· The distance between the hot plate and the glass substrate during leveling D2 · · · The distance between the hot plate and the glass substrate during proxy heating D3 · · · The distance L between the hot plate and the glass substrate during re-proxy heating・ Distance between lift pins
Claims (1)
1)熱衝撃によるガラス基板の破壊を防ぐため、
リフトピンで保持されたガラス基板とホットプレートとの距離を順次変えて、ガラス基板にならし加熱、及びプロキシ加熱を行う工程と、
2)続いて、ガラス基板をホットプレート上に吸着させてのコンタクト加熱の途中で、一旦、リフトピンにてホットプレート上よりガラス基板を再プロキシ加熱を行いつつ上昇させ、しかる後、リフトピンを下降させ、再度ガラス基板をホットプレート上に載置しコンタクト加熱を継続して行う工程からなることを特徴とするガラス基板の加熱方法。 When manufacturing a color filter by forming a pattern by a photolithography method in which washing treatment, photoresist application, pre-drying treatment, pre-baking treatment, pattern exposure, development processing, and post-baking treatment are sequentially performed on a glass substrate. In the heating method of the glass substrate in the pre-baking process using a hot plate ,
1) To prevent breakage of the glass substrate due to thermal shock,
A step of sequentially changing the distance between the glass substrate held by the lift pins and the hot plate , and performing a tempering heating and a proxy heating on the glass substrate ,
2) have continued in the middle of the contact heating by adsorbing a glass substrate on a hot plate, once again proxy heated is raised while performing glass substrate than on a hot plate at the lift pins, and thereafter, lowering the lift pins A method for heating a glass substrate, comprising the step of placing the glass substrate on a hot plate again and continuously performing contact heating.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005126287A JP4765386B2 (en) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | Glass substrate heating method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005126287A JP4765386B2 (en) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | Glass substrate heating method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006301496A JP2006301496A (en) | 2006-11-02 |
JP4765386B2 true JP4765386B2 (en) | 2011-09-07 |
Family
ID=37469815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005126287A Expired - Fee Related JP4765386B2 (en) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | Glass substrate heating method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4765386B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015100781A1 (en) * | 2013-12-31 | 2015-07-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Vacuum dryer |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010079217A (en) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Toppan Printing Co Ltd | Prebake method and prebake apparatus |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3448501B2 (en) * | 1999-02-19 | 2003-09-22 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate temperature controller |
JP3479771B2 (en) * | 2000-06-02 | 2003-12-15 | 東京エレクトロン株式会社 | Heat treatment equipment |
JP2002333515A (en) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Canon Inc | Hot plate for manufacturing color filter |
JP2004117856A (en) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Mitsubishi Chemicals Corp | Coloring composition, color filter substrate, and liquid crystal display device |
JP2004339501A (en) * | 2003-04-25 | 2004-12-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | Colored resin composition, color filter, and liquid crystal display device |
-
2005
- 2005-04-25 JP JP2005126287A patent/JP4765386B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015100781A1 (en) * | 2013-12-31 | 2015-07-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Vacuum dryer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006301496A (en) | 2006-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9804445B2 (en) | Liquid crystal display device and method of manufacturing that | |
US8045130B2 (en) | Rubbing method, method of fabricating liquid crystal display device using the same, and liquid crystal display device manufactured thereby | |
US6795141B2 (en) | Liquid crystal display device and color filter substrate having spacers formed directly on black matrix | |
KR100379195B1 (en) | Liquid crystal display apparatus and method for manufacturing same | |
US10295713B2 (en) | Color filter substrate, preparing method thereof, and display device | |
WO2019085057A1 (en) | Liquid crystal display panel and liquid crystal display device | |
CN103901659B (en) | Filter, liquid crystal indicator for IPS mode liquid crystal display panel | |
JP2007101992A (en) | Color filter for liquid crystal display and manufacturing method thereof | |
JP4604885B2 (en) | Glass substrate heating method | |
WO2016029516A1 (en) | Method for manufacturing pairing marks of cf substrate | |
JP2007240711A (en) | Manufacturing method for color filter for liquid crystal display device, and color filter for liquid crystal display device | |
JP4765386B2 (en) | Glass substrate heating method | |
JP5055709B2 (en) | Pre-baking device | |
WO2020107537A1 (en) | Display panel and manufacturing method therefor, and display apparatus | |
JP2007147832A (en) | Cooling method of glass substrate and prebake device | |
JP4806961B2 (en) | Manufacturing method and manufacturing apparatus for color filter for liquid crystal display device | |
US8891049B2 (en) | In-plane switching mode liquid crystal display device | |
JP4385588B2 (en) | Color filter for liquid crystal display | |
KR20030064976A (en) | Apparatus for liquid crystal display and method for manufacturing the same | |
JPH04178622A (en) | Liquid crystal display device and production thereof | |
JP2006284668A (en) | Manufacturing method and manufacturing apparatus of color filter | |
JP2009169058A (en) | Color filter, color filter substrate, and liquid crystal display device | |
JP4862581B2 (en) | Manufacturing method of color filter for liquid crystal display device | |
US20210405417A1 (en) | Display Device and Method for Manufacturing Display Device | |
KR20050064888A (en) | Polyimide repair apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101109 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110107 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110517 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |