JP4721858B2 - Method for producing retardation film - Google Patents

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Description

本発明は、位相差フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a retardation film.

液晶表示装置には、視野角特性を改善するために、各種の位相差フィルムが用いられている。しかしながら、従来の位相差フィルムを用いた液晶表示装置は、斜め方向で、コントラスト比が低下したり、見る角度に伴って変化する画像の色づき(斜め方向のカラーシフトともいう)が生じたりして、液晶パネルの画面全体で、表示が不均一となることが問題となっていた。また、位相差フィルムの光弾性係数の絶対値が大きいために、液晶表示装置のバックライトを長時間点灯させると、偏光子の収縮応力やバックライトの熱によって、該位相差フィルムに位相差値のずれやムラが発生し、画面の表示均一性を悪化させることが問題となっていた。   Various retardation films are used in liquid crystal display devices in order to improve viewing angle characteristics. However, a liquid crystal display device using a conventional retardation film has a contrast ratio that decreases in an oblique direction, and coloration of an image that changes with a viewing angle (also referred to as an oblique color shift) occurs. The problem is that the display is non-uniform across the entire screen of the liquid crystal panel. In addition, since the absolute value of the photoelastic coefficient of the retardation film is large, when the backlight of the liquid crystal display device is turned on for a long time, the retardation value is applied to the retardation film due to the contraction stress of the polarizer and the heat of the backlight. Displacement and unevenness occur and the display uniformity of the screen deteriorates.

従来、位相差フィルムの一つとして、短波長ほど位相差値が小さい特性(逆波長分散特性ともいう)を示す高分子フィルムの延伸フィルムが提案されている(特許文献1、2)。たとえば、フルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体を主成分とする高分子フィルムの延伸フィルム(特許文献1)や、セルロースエステルを主成分とする高分子フィルムの延伸フィルム(特許文献2)などが挙げられる。しかしながら、上記高分子フィルムの延伸フィルムは、光弾性係数の絶対値が大きいために、歪によって位相差値にずれやムラが生じやすく、液晶表示装置に用いた際に、均一な表示が得られないという問題があった。また、上記高分子フィルムは、一般には、ソルベントキャスティング法によって成形されているが、用いられる樹脂の溶解性が乏しいため、使用できる溶剤に制限があり、通常、大きな溶解力を持つ塩化メチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素が使用されてきた。しかしながら、これらの溶剤は、沸点が40℃付近と極めて揮発性が高いため、成形加工性や作業性が悪かった。また、溶剤の溶解力が強すぎるために、使用できる基材も、例えば、金属ベルトやガラス板などに制限があり、生産性が悪かった。そのため、逆波長分散特性を示し、光弾性係数の絶対値が小さく、且つ、成形加工性、生産性に優れる位相差フィルムの製造方法の開発が望まれていた。
特開2002−221622号公報 特開2001−091743号公報
Conventionally, as one of the retardation films, a stretched polymer film has been proposed (Patent Documents 1 and 2) that exhibits a characteristic that the retardation value is smaller as the wavelength is shorter (also referred to as reverse wavelength dispersion characteristic). Examples thereof include a stretched polymer film (Patent Document 1) mainly composed of a polycarbonate copolymer having a fluorene skeleton, and a stretched film (Patent Document 2) composed mainly of a cellulose ester. . However, since the stretched film of the polymer film has a large absolute value of the photoelastic coefficient, it is easy to cause a shift or unevenness in the retardation value due to strain, and a uniform display can be obtained when used in a liquid crystal display device. There was no problem. In addition, the polymer film is generally formed by a solvent casting method. However, since the solubility of the resin used is poor, there is a limit to the solvent that can be used. Halogenated aliphatic hydrocarbons have been used. However, since these solvents have extremely high volatility with a boiling point of around 40 ° C., the moldability and workability were poor. In addition, since the solvent dissolving power is too strong, usable substrates are limited in, for example, metal belts and glass plates, and productivity is poor. Therefore, it has been desired to develop a method for producing a retardation film that exhibits reverse wavelength dispersion characteristics, has a small absolute value of photoelastic coefficient, and is excellent in molding processability and productivity.
JP 2002-221622 A JP 2001-091743 A

本発明はこのような問題を解決するためになされたもので、その目的は、逆波長分散特性を示す位相差フィルムの製造方法であって、成形加工性や生産性に優れた位相差フィルムの製造方法を提供することである。   The present invention has been made in order to solve such problems, and the object thereof is a method for producing a retardation film exhibiting reverse wavelength dispersion characteristics, which is a retardation film excellent in molding processability and productivity. It is to provide a manufacturing method.

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下に示す位相差フィルムの製造方法により上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above object can be achieved by the following method for producing a retardation film, and have completed the present invention.

本発明は、下記式(1)および(2)を満足する位相差フィルムの製造方法であって、トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも1種類を含む溶剤に、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む:
Re[450]<Re[550]<Re[650] …(1)
20nm≦Re[550]≦400nm …(2)
ただし、Re[450]、Re[550]およびRe[650]は、それぞれ、23℃における波長450nm、550nmおよび650nmの光で測定した面内の位相差値である。
The present invention is a method for producing a retardation film satisfying the following formulas (1) and (2), and comprising at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone. A step of casting a solution prepared by dissolving a resin composition containing a polyvinyl acetal resin as a main component in a solvent, and casting the solution on a surface of a base material to evaporate the solvent to obtain a polymer film; As well as stretching the polymer film:
Re [450] <Re [550] <Re [650] (1)
20 nm ≦ Re [550] ≦ 400 nm (2)
However, Re [450], Re [550], and Re [650] are in-plane retardation values measured with light having wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm at 23 ° C., respectively.

好ましい実施形態においては、上記樹脂組成物が、下記一般式(I)で表される構造を有するポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする:   In a preferred embodiment, the resin composition is mainly composed of a polyvinyl acetal resin having a structure represented by the following general formula (I):

(一般式(I)中、R1は、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、R2およびR3は、同時に水素原子ではない。lは2以上の整数を表す。)。 (In general formula (I), R1 has a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a substituent. Represents an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted anthranyl group, or an optionally substituted phenanthrenyl group, R2, R3 and R4 each independently represent a hydrogen atom, a carbon number; 1 to 4 linear, branched or cyclic alkyl group, 1 to 4 linear or branched alkoxyl group, halogen atom, halogenated alkyl group, nitro group, amino group, hydroxyl group, A cyano group or a thiol group, provided that R2 and R3 are not hydrogen atoms at the same time. L represents an integer of 2 or more).

好ましい実施形態においては、上記ポリビニルアセタール系樹脂が、下記一般式(II)で表される構造である:   In a preferred embodiment, the polyvinyl acetal resin has a structure represented by the following general formula (II):

(一般式(II)中、R1、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を示す。ただし、R2およびR3は、同時に水素原子ではない。R7は、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、ベンジル基、シリル基、リン酸基、アシル基、ベンゾイル基、またはスルホニル基を示す。l、m、およびnは2以上の整数を表す。)。 (In general formula (II), R 1, R 5 and R 6 may each independently have a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituent. A phenyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted anthranyl group, or an optionally substituted phenanthrenyl group, each of R2, R3 and R4 represents Independently, a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a linear or branched alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a halogenated alkyl group, A nitro group, an amino group, a hydroxyl group, a cyano group or a thiol group, wherein R2 and R3 are not hydrogen atoms at the same time, R7 is a hydrogen atom, linear, branched or cyclic with 1 to 8 carbon atoms; Alkyl group Jill group, a silyl group, a phosphate group, an acyl group, .l showing a benzoyl group or a sulfonyl group,, m, and n is an integer of 2 or more.).

好ましい実施形態においては、上記樹脂組成物が、前記ポリビニルアセタール系樹脂100に対し、液晶化合物を0を超え20(重量比)以下含む。   In a preferred embodiment, the resin composition contains more than 0 and 20 (weight ratio) of liquid crystal compounds with respect to the polyvinyl acetal resin 100.

好ましい実施形態においては、上記高分子フィルムの厚みが20μm〜300μmである。   In preferable embodiment, the thickness of the said polymer film is 20 micrometers-300 micrometers.

本発明の位相差フィルムの製造方法は、トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも1種類を含む溶剤に、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む。この製造方法によれば、成形加工性や生産性に優れ、従来のハロゲン化脂肪族炭化水素を使用せずに、位相差フィルムを製造できる。また、この製造方法によって得られた位相差フィルムは、光弾性係数の絶対値が小さく、且つ、逆波長分散特性を示すため、液晶表示装置の表示特性の改善し得る。   The method for producing a retardation film of the present invention comprises a resin composition comprising a polyvinyl acetal resin as a main component in a solvent containing at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone. A solution prepared by dissolving the product is cast into a sheet on the surface of the substrate, and the solvent is evaporated to obtain a polymer film, and the polymer film is stretched. According to this manufacturing method, it is excellent in moldability and productivity, and a retardation film can be manufactured without using a conventional halogenated aliphatic hydrocarbon. In addition, the retardation film obtained by this production method has a small absolute value of the photoelastic coefficient and exhibits reverse wavelength dispersion characteristics, so that the display characteristics of the liquid crystal display can be improved.

《A.位相差フィルムの製造方法の概略》
本発明の位相差フィルムの製造方法は、下記式(1)および(2)を満足する位相差フィルムの製造方法であって、トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも1種類を含む溶剤に、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む:
Re[450]<Re[550]<Re[650] …(1)
20nm≦Re[550]≦400nm …(2)
ただし、Re[450]、Re[550]およびRe[650]は、それぞれ、23℃における波長450nm、550nmおよび650nmの光で測定した面内の位相差値である。
<< A. Outline of production method of retardation film >>
The method for producing a retardation film of the present invention is a method for producing a retardation film satisfying the following formulas (1) and (2), and includes toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone. A solution prepared by dissolving a resin composition containing a polyvinyl acetal resin as a main component in a solvent containing at least one kind selected from the following is cast into a sheet on the surface of a substrate, and the solvent is evaporated: Including obtaining a polymer film, and stretching the polymer film:
Re [450] <Re [550] <Re [650] (1)
20 nm ≦ Re [550] ≦ 400 nm (2)
However, Re [450], Re [550], and Re [650] are in-plane retardation values measured with light having wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm at 23 ° C., respectively.

本発明の製造方法によって得られた位相差フィルムは、代表的には、液晶セルの少なくとも片側に配置され、液晶表示装置の斜め方向で生じる光漏れを低減することによって、斜め方向のコントラスト比を高くし、斜め方向のカラーシフト量を小さくするために用いられる。また、光の波長(通常、可視光領域)に対して、面内の位相差値が約1/4であるλ/4板や、面内の位相差値が約1/2であるλ/2板などの波長板の用途としても用いられる。なお、上記位相差フィルムは、これらの用途に限定されず、従来公知の位相差フィルムが用いられる用途に使用できる。以下、本発明の製造方法についての詳細、および本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムの詳細について述べる。   The retardation film obtained by the production method of the present invention is typically disposed on at least one side of the liquid crystal cell, and reduces the light leakage that occurs in the oblique direction of the liquid crystal display device, thereby increasing the contrast ratio in the oblique direction. It is used to increase the color shift amount in the oblique direction. Further, with respect to the wavelength of light (usually in the visible light region), a λ / 4 plate having an in-plane retardation value of about ¼, or a λ / plate having an in-plane retardation value of about ½. It is also used as a wave plate such as two plates. In addition, the said retardation film is not limited to these uses, It can be used for the use for which a conventionally well-known retardation film is used. Hereinafter, the details of the production method of the present invention and the details of the retardation film obtained by the production method of the present invention will be described.

《B.樹脂組成物》
本発明に用いられる樹脂組成物は、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする。さらに好ましくは、本発明に用いられる樹脂組成物は、下記一般式(I)で表される構造を有するポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする。上記ポリビニルアセタール系樹脂は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂とアルデヒドまたはケトンとの縮合反応(アセタール化ともいう)によって得ることができる。上記ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムは、光弾性係数が小さく、また、延伸することによって逆波長分散特性を示す位相差フィルムとすることができる。
<< B. Resin composition >>
The resin composition used in the present invention contains a polyvinyl acetal resin as a main component. More preferably, the resin composition used in the present invention is mainly composed of a polyvinyl acetal resin having a structure represented by the following general formula (I). The polyvinyl acetal resin can be obtained, for example, by a condensation reaction (also referred to as acetalization) between a polyvinyl alcohol resin and an aldehyde or ketone. The polymer film containing the polyvinyl acetal resin as a main component has a small photoelastic coefficient and can be a retardation film exhibiting reverse wavelength dispersion characteristics by stretching.

一般式(I)中、R1は、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、R2およびR3は、同時に水素原子ではない。lは2以上の整数を表す。   In general formula (I), R1 has a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, or a substituent. It represents an naphthyl group which may be substituted, an anthranyl group which may have a substituent, or a phenanthrenyl group which may have a substituent. R2, R3 and R4 are each independently a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a linear or branched alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, Represents a halogen atom, a halogenated alkyl group, a nitro group, an amino group, a hydroxyl group, a cyano group or a thiol group; However, R2 and R3 are not hydrogen atoms at the same time. l represents an integer of 2 or more.

上記アセタール化は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂とアルデヒドまたはケトンを、強無機酸触媒または強有機酸触媒の存在下で反応させる方法である。酸触媒の具体例としては、塩酸、硫酸、リン酸、p−トルエンスルホン酸などが挙げられる。アセタール化の反応温度は、通常、0℃を超え、用いられる溶剤の沸点以下であり、好ましくは10℃〜100℃であり、最も好ましくは20℃〜80℃である。上記の反応温度であれば、高収率が得られ得る。アセタール化に用いられる溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、4−ジオキサンなどの環式エーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶剤等が好ましく用いられる。これらの溶剤は、1種類又は2種類以上を混合して用いられる。また、水と上記溶剤を混合して用いてもよい。   The acetalization is, for example, a method in which a polyvinyl alcohol resin and an aldehyde or ketone are reacted in the presence of a strong inorganic acid catalyst or a strong organic acid catalyst. Specific examples of the acid catalyst include hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, p-toluenesulfonic acid and the like. The reaction temperature for acetalization is usually above 0 ° C. and below the boiling point of the solvent used, preferably 10 ° C. to 100 ° C., most preferably 20 ° C. to 80 ° C. With the above reaction temperature, a high yield can be obtained. Solvents used for acetalization include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, cyclic ethers such as 4-dioxane, aprotic such as N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and dimethyl sulfoxide. A polar solvent or the like is preferably used. These solvents are used alone or in combination of two or more. Moreover, you may mix and use water and the said solvent.

上記一般式(I)中、R2、R3およびR4の置換基は、当該置換基が結合しているベンゼン環の立体配座を制御するために用いられる。より具体的には、上記一般式(I)で表される構造を有するポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムを延伸した際、該置換基は、立体障害により、上記一般式(I)中、2つの酸素原子の間に配座しやすくなると推定される。その結果、上記のベンゼン環の平面構造を、該2つの酸素原子を結ぶ仮想線に対して、略直交に配向させ得る。本発明の位相差フィルムの波長分散特性は、この該2つの酸素原子を結ぶ仮想線に略直交する方向に配向したベンゼン環の波長分散特性と、主鎖構造の波長分散特性との相互作用によって得られるものと考えられる。   In the general formula (I), the substituents R2, R3, and R4 are used to control the conformation of the benzene ring to which the substituent is bonded. More specifically, when a polymer film containing as a main component a polyvinyl acetal resin having a structure represented by the above general formula (I) is stretched, the substituent is sterically hindered to cause the above general formula (I ), It is presumed that it becomes easier to conform between two oxygen atoms. As a result, the planar structure of the benzene ring can be oriented substantially orthogonal to the virtual line connecting the two oxygen atoms. The wavelength dispersion characteristic of the retardation film of the present invention is based on the interaction between the wavelength dispersion characteristic of the benzene ring oriented in a direction substantially perpendicular to the virtual line connecting the two oxygen atoms and the wavelength dispersion characteristic of the main chain structure. It is considered to be obtained.

上記一般式(I)のR1、R2、R3およびR4は、例えば、上記ポリアセタール系樹脂を得る際に、アルコールと反応させるアルデヒド(代表的には、ベンズアルデヒド類)またはケトン(代表的には、アセトフェノン類やベンゾフェノン類)の種類によって適宜、選択され得る。R1に水素原子を置換する場合は、アルデヒドを用いればよく、水素原子以外の置換基を導入する場合は、ケトンを用いればよい。   R1, R2, R3 and R4 in the general formula (I) are, for example, an aldehyde (typically benzaldehyde) or a ketone (typically acetophenone) which is reacted with an alcohol when obtaining the polyacetal resin. And benzophenones) can be selected as appropriate. When a hydrogen atom is substituted for R1, an aldehyde may be used, and when a substituent other than a hydrogen atom is introduced, a ketone may be used.

ベンズアルデヒド類の具体例としては、2−メチルベンズアルデヒド、2−クロロベンズアルデヒド、2−ニトロベンズアルデヒド、2−エトキシベンズアルデヒド、2−(トリフルオロメチル)ベンズアルデヒド、2,4−ジクロロベンズアルデヒド、2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド、2,4−ジスルフォベンザルデヒドナトリウム、o−スルフォベンザルデヒド2ナトリウム、p−ジメチルアミノベンズアルデヒド、2,6−ジメチルベンズアルデヒド、2,6−ジクロロベンズアルデヒド、2,6−ジメトキシベンズアルデヒド、2,4,6−トリメチルベンズアルデヒド(メシトアルデヒド)、2,4,6−トリエチルベンズアルデヒド、2,4,6−トリクロロベンズアルデヒドなどが挙げられる。アセトフェノン類の具体例としては、2−メチルアセトフェノン、2−アミノアセトフェノン、2−クロロアセトフェノン、2−ニトロアセトフェノン、2−ヒドロキシアセトフェノン、2,4−ジメチルアセトフェノン、4´−フェノキシ−2,2−ジクロロアセトフェノン2−ブロモ−4´−クロロアセトフェノンなどが挙げられる。ベンゾフェノン類としては、2−メチルベンゾフェノン、2−アミノベンゾフェノン、2−ヒドロキシベンゾフェノン、4−ニトロベンゾフェノン、2,4´−ジクロロベンゾフェノン、2,4´−ジクロロベンゾフェノン、4,4´−ジクロロベンゾフェノン、4,4´−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−クロロ−4´−ジクロロベンゾフェノンなどが挙げられる。その他、1−ナフトアルデヒド、置換基を有する2−ナフトアルデヒド、9−アントラアルデヒド、置換基を有する9−アントラアルデヒド、アセトナフトン、フルオレン−9−アルデヒド、2,4,7−トリニトロフルオレン−9−オンなどが挙げられる。これらのアルデヒドまたはケトンは、単独で、または2種類以上を組み合わせて用いることもできる。また、上記アルデヒドまたはケトンは、任意の適切な変性を行ってから用いることもできる。   Specific examples of benzaldehydes include 2-methylbenzaldehyde, 2-chlorobenzaldehyde, 2-nitrobenzaldehyde, 2-ethoxybenzaldehyde, 2- (trifluoromethyl) benzaldehyde, 2,4-dichlorobenzaldehyde, 2,4-dihydroxybenzaldehyde. 2,4-disulfobenzaldehyde sodium, o-sulfobenzaldehyde disodium, p-dimethylaminobenzaldehyde, 2,6-dimethylbenzaldehyde, 2,6-dichlorobenzaldehyde, 2,6-dimethoxybenzaldehyde, 2,4 , 6-trimethylbenzaldehyde (mesitaldehyde), 2,4,6-triethylbenzaldehyde, 2,4,6-trichlorobenzaldehyde and the like. Specific examples of acetophenones include 2-methylacetophenone, 2-aminoacetophenone, 2-chloroacetophenone, 2-nitroacetophenone, 2-hydroxyacetophenone, 2,4-dimethylacetophenone, 4′-phenoxy-2,2-dichloro. Examples include acetophenone 2-bromo-4′-chloroacetophenone. Examples of benzophenones include 2-methylbenzophenone, 2-aminobenzophenone, 2-hydroxybenzophenone, 4-nitrobenzophenone, 2,4′-dichlorobenzophenone, 2,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4 4, 4'-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-chloro-4'-dichlorobenzophenone, and the like. In addition, 1-naphthaldehyde, 2-naphthaldehyde having a substituent, 9-anthraldehyde, 9-anthraldehyde having a substituent, acetonaphthone, fluorene-9-aldehyde, 2,4,7-trinitrofluorene-9- ON etc. are mentioned. These aldehydes or ketones can be used alone or in combination of two or more. The aldehyde or ketone may be used after any appropriate modification.

上記一般式(I)のR1として好ましくは、水素原子またはメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。上記一般式(I)のR2およびR3として好ましくは、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、およびハロゲン化アルキル基から選ばれる少なくとも1種の置換基であり、最も好ましくはメチル基である。上記一般式(I)のR4として好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ハロゲン原子、およびハロゲン化アルキル基から選ばれる少なくとも1種の置換基であり、最も好ましくはメチル基である。このような置換基を導入することにより、光学特性に優れた位相差フィルムが得られ得る。   R1 in the general formula (I) is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and most preferably a hydrogen atom. Preferably, R2 and R3 in the general formula (I) are each independently at least one substituent selected from a methyl group, an ethyl group, a halogen atom, and a halogenated alkyl group, and most preferably a methyl group. is there. R4 in the general formula (I) is preferably at least one substituent selected from a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a halogen atom, and a halogenated alkyl group, and most preferably a methyl group. By introducing such a substituent, a retardation film having excellent optical properties can be obtained.

上記ポリビニルアセタール系樹脂の原料となるポリビニルアルコール系樹脂としては、ビニルエステル系モノマーを重合して得られたビニルエステル系重合体をケン化し、ビニルエステル単位をビニルアルコール単位としたものを用いることができる。上記ビニルエステル系モノマーとしては、例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バレリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル、ピバリン酸ビニル、バーサティック酸ビニル等が挙げられる。これらのなかでも好ましくは、酢酸ビニルである。   As a polyvinyl alcohol resin used as a raw material for the polyvinyl acetal resin, a vinyl ester polymer obtained by polymerizing a vinyl ester monomer may be saponified to use a vinyl ester unit as a vinyl alcohol unit. it can. Examples of the vinyl ester monomers include vinyl formate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl valelate, vinyl laurate, vinyl stearate, vinyl benzoate, vinyl pivalate, vinyl versatate, and the like. Of these, vinyl acetate is preferable.

上記ポリビニルアセタール系樹脂の原料となるポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度としては、任意の適切な平均重合度が採用され得る。平均重合度は、好ましくは800〜3600であり、さらに好ましくは1000〜3200であり、最も好ましくは1500〜3000である。なお、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、JIS K 6726(:1994)に準じた方法によって測定することができる。   Any appropriate average degree of polymerization can be adopted as the average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-type resin that is a raw material of the polyvinyl acetal-type resin. The average degree of polymerization is preferably 800 to 3600, more preferably 1000 to 3200, and most preferably 1500 to 3000. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin can be measured by a method according to JIS K 6726 (: 1994).

上記ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化度は、好ましくは40モル%〜99モル%であり、さらに好ましくは50モル%〜95モル%であり、最も好ましくは60モル%〜90モル%である。上記の範囲とすることによって、透明性に優れた高分子フィルムが得られ、該高分子フィルムを延伸することにより、光学特性に優れた位相差フィルムを得ることができる。   The degree of acetalization of the polyvinyl acetal resin is preferably 40 mol% to 99 mol%, more preferably 50 mol% to 95 mol%, and most preferably 60 mol% to 90 mol%. By setting it as said range, the polymer film excellent in transparency is obtained, and the retardation film excellent in the optical characteristic can be obtained by extending | stretching this polymer film.

上記アセタール化度とは、アセタール化によりアセタール単位に変換され得る単位の中で、実際にビニルアルコール単位にアセタール化されている単位の割合を示したものである。なお、ポリビニルアルコール系樹脂のアセタール化度は、核磁気共鳴スペクトル(1H−NMR)によって求めることができる。 The degree of acetalization indicates the proportion of units that are actually acetalized to vinyl alcohol units among the units that can be converted to acetal units by acetalization. Incidentally, acetalization degree of the polyvinyl alcohol-based resin can be determined by nuclear magnetic resonance spectra (1 H-NMR).

特に好ましくは、本発明に用いられる樹脂組成物は、下記一般式(II)で表される構造のポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする。当該ポリビニルアセタール系樹脂は、ポリビニルアルコール系樹脂と、2種類以上のアルデヒド、2種類以上のケトン、または、少なくとも1種のアルデヒドと少なくとも1種のケトンを用い、縮合反応(アセタール化ともいう)によって得ることができる。下記一般式(II)で表される構造を有するポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムは、光弾性係数が小さく、延伸することによって、逆波長分散特性を示し、且つ、位相差値の安定性にも優れる位相差フィルムを得ることができる。また、延伸配向性にも優れるため、位相差フィルムの厚みを薄くすることができる。   Particularly preferably, the resin composition used in the present invention is mainly composed of a polyvinyl acetal resin having a structure represented by the following general formula (II). The polyvinyl acetal resin is obtained by a condensation reaction (also called acetalization) using a polyvinyl alcohol resin and two or more aldehydes, two or more ketones, or at least one aldehyde and at least one ketone. Obtainable. A polymer film mainly composed of a polyvinyl acetal resin having a structure represented by the following general formula (II) has a small photoelastic coefficient, exhibits reverse wavelength dispersion characteristics when stretched, and has a retardation value. A retardation film having excellent stability can be obtained. Moreover, since it is also excellent in stretch orientation, the thickness of the retardation film can be reduced.

一般式(II)中、R1、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を示す。ただし、R2およびR3は、同時に水素原子ではない。R7は、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、ベンジル基、シリル基、リン酸基、アシル基、ベンゾイル基、またはスルホニル基を示す。l、m、およびnは2以上の整数を表す。   In general formula (II), R 1, R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and optionally substituted phenyl. A naphthyl group which may have a group, a substituent, an anthranyl group which may have a substituent, or a phenanthrenyl group which may have a substituent. R2, R3 and R4 are each independently a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a linear or branched alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, A halogen atom, a halogenated alkyl group, a nitro group, an amino group, a hydroxyl group, a cyano group or a thiol group is shown. However, R2 and R3 are not hydrogen atoms at the same time. R7 represents a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a benzyl group, a silyl group, a phosphate group, an acyl group, a benzoyl group, or a sulfonyl group. l, m, and n represent an integer of 2 or more.

上記一般式(II)中、R5およびR6置換基は、上記一般式(II)で表される構造を有するポリアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムを延伸して得られる位相差フィルムの波長分散特性をより緻密に制御するために用いられる。より具体的には、R5およびR6に置換基を導入することによって、当該高分子フィルムを延伸した際に、当該置換基を延伸方向に対して略平行に配向させ得る。本発明の位相差フィルムの波長分散特性は、前述した2つの酸素原子を結ぶ仮想線に略直交する方向に配向したベンゼン環の波長分散特性と、主鎖構造の波長分散特性と、ここで述べたR5およびR6に導入される置換基の波長分散特性との相互作用によって得られるものと考えられる。また、該高分子フィルムの成形加工性、および延伸配向性をより一層向上させることもできる。   In the general formula (II), the R5 and R6 substituents are wavelengths of a retardation film obtained by stretching a polymer film mainly composed of a polyacetal resin having a structure represented by the general formula (II). Used to control the dispersion characteristics more precisely. More specifically, by introducing a substituent into R5 and R6, when the polymer film is stretched, the substituent can be oriented substantially parallel to the stretching direction. The chromatic dispersion characteristics of the retardation film of the present invention are as follows: the chromatic dispersion characteristics of the benzene ring oriented in the direction substantially perpendicular to the imaginary line connecting the two oxygen atoms, and the chromatic dispersion characteristics of the main chain structure. Further, it is considered to be obtained by the interaction with the wavelength dispersion characteristic of the substituent introduced into R5 and R6. Moreover, the moldability and stretch orientation of the polymer film can be further improved.

上記R5およびR6は、例えば、上記ポリビニルアセタール系樹脂を得る際に、アルコールと反応させるアルデヒド(代表的には、ベンズアルデヒド類)またはケトン(代表的には、アセトフェノン類やベンゾフェノン類)の種類によって適宜、選択され得る。アルデヒドおよびケトンの具体例としては、前述のとおりである。   R5 and R6 are appropriately selected depending on, for example, the type of aldehyde (typically benzaldehydes) or ketone (typically acetophenones or benzophenones) to be reacted with alcohol when the polyvinyl acetal resin is obtained. Can be selected. Specific examples of the aldehyde and ketone are as described above.

上記R5として好ましくは、水素原子またはメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。上記R6として好ましくは、メチル基またはエチル基であり、最も好ましくはメチル基である。このような置換基を導入することにより、溶解性、成形加工性、および延伸配向性に極めて優れた位相差フィルムが得られ得る。   R5 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and most preferably a hydrogen atom. R6 is preferably a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group. By introducing such a substituent, a retardation film having excellent solubility, molding processability, and stretch orientation can be obtained.

上記一般式(II)中、R7の置換基は、残存する水酸基を保護(エンドキャップ処理ともいう)することにより吸水率を適切な値に調整し、成形加工性、および位相差値の安定性を高めるために用いられる。したがって、得られた位相差フィルムの吸水率や光学特性、また、本発明の位相差フィルムが用いられる用途によっては、R7はエンドキャップ処理されていなくてもよく、水素原子のままでもよい。   In the above general formula (II), the substituent of R7 adjusts the water absorption rate to an appropriate value by protecting the remaining hydroxyl group (also referred to as end cap treatment), forming processability, and stability of retardation value. Used to increase Therefore, depending on the water absorption rate and optical characteristics of the obtained retardation film and the application in which the retardation film of the present invention is used, R7 may not be end-capped and may remain a hydrogen atom.

上記R7は、例えば、水酸基の残存するポリビニルアセタール系樹脂を得た後に、従来公知の、水酸基と反応して置換基を形成するもの(代表的には、保護基)を用いて、エンドキャップ処理することによって得ることができる。上記保護基の具体例としては、ベンジル基、4−メトキシフェニルメチル基、メトキシメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基、メタンスルホニル基、ビス−4−ニトロフェニルフォスファイトなどが挙げられる。エンドキャップ処理の反応条件としては、水酸基と反応させる置換基の種類によって、適宜、適切な反応条件が採用され得る。例えば、アルキル化、ベンジル基、シリル化、リン酸化、スルホニル化などの反応は、水酸基の残存するポリビニルアセタール系樹脂と目的とする置換基の塩化物とを、4(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンなどの触媒の存在下、25℃〜100℃で1時間〜20時間攪拌して行うことができる。上記R7として好ましくは、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、およびt−ブチルジメチルシリル基から選ばれる1種のシリル基である。これらの置換基を用いることによって、高温多湿下などの環境においても、高い透明性を保ち、位相差値の安定性に優れた位相差フィルムを得ることができる。   The above R7 is, for example, obtained by obtaining a polyvinyl acetal resin having a hydroxyl group remaining thereon, and then using a conventionally known one that forms a substituent by reacting with a hydroxyl group (typically a protecting group), and is subjected to an end cap treatment. Can be obtained. Specific examples of the protecting group include benzyl group, 4-methoxyphenylmethyl group, methoxymethyl group, trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, acetyl group, benzoyl group, methanesulfonyl group, bis-4 -Nitrophenyl phosphite etc. are mentioned. As the reaction conditions for the end cap treatment, appropriate reaction conditions may be employed as appropriate depending on the type of substituent to be reacted with a hydroxyl group. For example, a reaction such as alkylation, benzyl group, silylation, phosphorylation, sulfonylation can be performed by converting a polyvinyl acetal resin having a hydroxyl group remaining and a chloride of a desired substituent into 4 (N, N-dimethylamino). In the presence of a catalyst such as pyridine, the reaction can be performed by stirring at 25 ° C to 100 ° C for 1 hour to 20 hours. R7 is preferably one silyl group selected from a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, and a t-butyldimethylsilyl group. By using these substituents, a retardation film having high transparency and excellent retardation value stability can be obtained even in an environment such as high temperature and high humidity.

上記一般式(II)中、l、m、およびnの比率は、置換基の種類や目的に応じて、適宜選択され得る。好ましくは、l、m、およびnの合計を100(モル%)とした場合に、lは5〜30(モル%)、mは20〜80(モル%)、nは1〜70(モル%)であり、特に好ましくは、lは10〜28(モル%)、mは30〜75(モル%)、nは1〜50(モル%)であり、最も好ましくは、lは15〜25(モル%)、mは40〜70(モル%)、nは10〜40(モル%)である。上記の範囲とすることによって、逆波長分散特性を示し、溶解性、成形加工性、および延伸配向性に極めて優れた位相差フィルムを得ることができる。   In the general formula (II), the ratio of l, m, and n can be appropriately selected according to the type and purpose of the substituent. Preferably, when the sum of l, m, and n is 100 (mol%), l is 5 to 30 (mol%), m is 20 to 80 (mol%), and n is 1 to 70 (mol%). Particularly preferably, l is 10 to 28 (mol%), m is 30 to 75 (mol%), n is 1 to 50 (mol%), and most preferably, l is 15 to 25 (mol%). Mol%), m is 40 to 70 (mol%), and n is 10 to 40 (mol%). By setting it as the above range, it is possible to obtain a retardation film that exhibits reverse wavelength dispersion characteristics and is extremely excellent in solubility, molding processability, and stretch orientation.

本発明に用いられる上記ポリビニルアセタール系樹脂のガラス転移温度(Tg)として好ましくは90℃〜185℃であり、さらに好ましくは90℃〜150℃であり、最も好ましくは100℃〜140℃である。上記ガラス転移温度(Tg)は、JIS K 7121(:1987)に準じたDSC法によって求めることができる。   The glass transition temperature (Tg) of the polyvinyl acetal resin used in the present invention is preferably 90 ° C to 185 ° C, more preferably 90 ° C to 150 ° C, and most preferably 100 ° C to 140 ° C. The glass transition temperature (Tg) can be determined by a DSC method according to JIS K 7121 (: 1987).

本発明に用いられる樹脂組成物には、任意の適切な添加剤を含有し得る。上記添加剤の具体例としては、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、増粘剤、および位相差調整剤等が挙げられる。また、本発明の目的を満足する範囲において、従来公知の他の熱可塑性樹脂を混合して用いてもよい。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜選択され得る。例えば、上記添加剤の含有量は、用いられるポリビニルアセタール系樹脂100に対して、好ましくは0.01(重量比)〜20(重量比)であり、さらに好ましくは0.05(重量比)〜10(重量比)であり、最も好ましくは0.1(重量比)〜5(重量比)である。   The resin composition used in the present invention may contain any appropriate additive. Specific examples of the additives include plasticizers, heat stabilizers, light stabilizers, lubricants, antioxidants, ultraviolet absorbers, flame retardants, colorants, antistatic agents, compatibilizers, crosslinking agents, thickeners. , And a phase difference adjusting agent. In addition, other conventionally known thermoplastic resins may be mixed and used within a range that satisfies the object of the present invention. The kind and amount of the additive used can be appropriately selected depending on the purpose. For example, the content of the additive is preferably 0.01 (weight ratio) to 20 (weight ratio), more preferably 0.05 (weight ratio) to the polyvinyl acetal resin 100 used. 10 (weight ratio), most preferably 0.1 (weight ratio) to 5 (weight ratio).

また、上記樹脂組成物には、任意の適切な液晶化合物をさらに含有し得る。上記樹脂組成物に液晶化合物が含まれる場合、該樹脂組成物は、液晶相を呈し液晶性を示すものであっても、液晶性を示さないものであってもよい。本明細書において、「液晶化合物」とは、分子構造中にメソゲン基を有し、加熱、冷却などの温度変化によるか、またはある量の溶媒の作用により、液晶相を形成する分子をいう。また、「メソゲン基」とは、液晶相を形成するために必要な構造部分をいい、通常、環状単位を含む。上記メソゲン基の具体例としては、ビフェニル基、フェニルベンゾエート基、フェニルシクロヘキサン基、アゾキシベンゼン基、アゾメチン基、アゾベンゼン基、フェニルピリミジン基、ジフェニルアセチレン基、ジフェニルベンゾエート基、ビシクロヘキサン基、シクロヘキシルベンゼン基、ターフェニル基等が挙げられる。なお、これらの環状単位の末端は、例えば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基等の置換基を有していてもよい。なかでも、環状単位等からなるメソゲン基としては、ビフェニル基、フェニルベンゾエート基を有するものが好ましく用いられる。   Further, the resin composition may further contain any appropriate liquid crystal compound. When the resin composition contains a liquid crystal compound, the resin composition may exhibit a liquid crystal phase and exhibit liquid crystallinity, or may not exhibit liquid crystallinity. In the present specification, the “liquid crystal compound” refers to a molecule having a mesogenic group in the molecular structure and forming a liquid crystal phase by a temperature change such as heating and cooling or by the action of a certain amount of solvent. The “mesogen group” means a structural portion necessary for forming a liquid crystal phase, and usually contains a cyclic unit. Specific examples of the mesogenic group include a biphenyl group, a phenylbenzoate group, a phenylcyclohexane group, an azoxybenzene group, an azomethine group, an azobenzene group, a phenylpyrimidine group, a diphenylacetylene group, a diphenylbenzoate group, a bicyclohexane group, and a cyclohexylbenzene group. And terphenyl group. In addition, the terminal of these cyclic units may have substituents, such as a cyano group, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen group, for example. Especially, as a mesogenic group which consists of a cyclic unit etc., what has a biphenyl group and a phenylbenzoate group is used preferably.

上記樹脂組成物に液晶化合物が含まれる場合、好ましくは、該樹脂組成物は、ポリビニルアセタール系樹脂100に対し、液晶化合物を0を超え〜20(重量比)含み、さらに好ましくは、液晶化合物を1重量部〜15重量部含み、特に好ましくは、液晶化合物を2重量部〜10重量部含む。上記樹脂組成物中に液晶化合物を上記の範囲で含むことによって、透明性に優れ、且つ、延伸すると大きな位相差値が得られるため、位相差フィルム厚みを薄くすることができる。   When the resin composition contains a liquid crystal compound, the resin composition preferably contains more than 0 to 20 (weight ratio) of the liquid crystal compound with respect to the polyvinyl acetal resin 100, and more preferably, the liquid crystal compound. 1 to 15 parts by weight, particularly preferably 2 to 10 parts by weight of a liquid crystal compound. By including a liquid crystal compound in the above-mentioned range in the resin composition, transparency is excellent, and a large retardation value can be obtained by stretching, so that the retardation film thickness can be reduced.

上記液晶化合物は、温度変化によって液晶相が発現する温度転移形(サーモトロピック)液晶や、溶液状態で溶質の濃度によって液晶相が発現する濃度転移形(リオトロピック)液晶のいずれであっても良い。なお、上記温度転移形液晶は、結晶相(またはガラス状態)から液晶相への相転移が、可逆的な互変(エナンチオトロピック)相転移液晶や、降温過程にのみ液晶相が現れる単変(モノトロピック)相転移液晶を包含する。好ましくは、上記液晶化合物は、温度転移形(サーモトロピック)液晶である。フィルム成形の生産性、作業性、品質に優れるからである。   The liquid crystal compound may be either a temperature transition type (thermotropic) liquid crystal in which a liquid crystal phase develops due to a temperature change, or a concentration transition type (lyotropic) liquid crystal in which a liquid crystal phase develops depending on the concentration of a solute in a solution state. Note that the above-described temperature transition type liquid crystal has a phase transition from a crystalline phase (or glass state) to a liquid crystal phase, a reversible tautomatic (enantotropic) phase transition liquid crystal, or a single change in which a liquid crystal phase appears only in a temperature lowering process ( Monotropic) phase transition liquid crystals. Preferably, the liquid crystal compound is a temperature transition type (thermotropic) liquid crystal. It is because it is excellent in productivity, workability, and quality of film forming.

上記液晶化合物は、メソゲン基を主鎖および/または側鎖に有する高分子物質(高分子液晶)であっても良いし、分子構造の一部分にメソゲン基を有する低分子物質(低分子液晶)であっても良い。好ましくは、低分子液晶である。低分子液晶は、本発明に用いられるポリビニルアセタール系樹脂との相溶性に優れるため、透明性の高いフィルムが得られるからである。   The liquid crystal compound may be a high molecular substance (polymer liquid crystal) having a mesogenic group in the main chain and / or side chain, or a low molecular substance (low molecular liquid crystal) having a mesogenic group in a part of the molecular structure. There may be. Preferred is a low molecular liquid crystal. This is because the low-molecular liquid crystal is excellent in compatibility with the polyvinyl acetal resin used in the present invention, so that a highly transparent film can be obtained.

上記液晶化合物として好ましくは、分子構造の一部分に少なくとも1つ以上のメソゲン基と、重合性官能基とをそれぞれ有する低分子物質(低分子液晶)である。更に好ましくは、分子構造の一部分に、1つ以上のメソゲン基と、2つ以上の重合性官能基を有する低分子液晶である。配向性に優れ、光学均一性や透明性の極めて高い位相差フィルムが得られるからである。また、重合反応によって、重合性官能基を架橋させれば、位相差フィルムの機械的強度が増し、耐久性、寸法安定性に優れた位相差フィルムが得られ得る。分子構造の一部分に、1つ以上のメソゲン基と、2つ以上の重合性官能基を有する低分子液晶の具体例としては、BASF社製 商品名「Paliocolor LC242」や、HUNTSMAN社製 商品名「CB483」などが挙げられる。   The liquid crystal compound is preferably a low molecular substance (low molecular liquid crystal) each having at least one mesogenic group and a polymerizable functional group in a part of the molecular structure. More preferably, it is a low molecular liquid crystal having one or more mesogenic groups and two or more polymerizable functional groups in a part of the molecular structure. This is because a retardation film having excellent orientation and extremely high optical uniformity and transparency can be obtained. Moreover, if the polymerizable functional group is crosslinked by a polymerization reaction, the mechanical strength of the retardation film is increased, and a retardation film having excellent durability and dimensional stability can be obtained. Specific examples of the low-molecular liquid crystal having one or more mesogenic groups and two or more polymerizable functional groups in a part of the molecular structure include a product name “Paliocolor LC242” manufactured by BASF and a product name “manufactured by HUNTSMAN” CB483 "etc. are mentioned.

上記重合性官能基としては、任意の適切な官能基が選択され得る。例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、ビニルエーテル基等が挙げられる。なかでも、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましく用いられる。反応性に優れるほか、透明性の高い位相差フィルムが得られるからである。   Any appropriate functional group can be selected as the polymerizable functional group. For example, acryloyl group, methacryloyl group, epoxy group, vinyl ether group and the like can be mentioned. Of these, an acryloyl group and a methacryloyl group are preferably used. This is because, in addition to excellent reactivity, a highly transparent retardation film can be obtained.

《C.高分子フィルムの成形方法》
上記ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする高分子フィルムを得る方法としては、ソルベントキャスティング法が用いられる。具体的には、本発明で用いられるソルベントキャスティング法は、トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも1種類を含む溶剤に、樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る方法である。上記の製造方法であれば、平滑性、光学均一性(例えば、位相差値が面内にも厚み方向にも均一なフィルム)が良好な高分子フィルムが得られ、また、経済性、量産性にも優れる。
<< C. Polymer Film Molding Method >>
Solvent casting is used as a method for obtaining a polymer film containing the polyvinyl acetal resin as a main component. Specifically, the solvent casting method used in the present invention is obtained by dissolving a resin composition in a solvent containing at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone. In this method, the prepared solution is cast in the form of a sheet on the surface of the substrate, and the solvent is evaporated to obtain a polymer film. With the above production method, a polymer film having good smoothness and optical uniformity (for example, a film having a uniform retardation value both in the plane and in the thickness direction) can be obtained, and economical and mass-productive. Also excellent.

本発明のソルベントキャスティング法による高分子フィルムの作製方法の一例について、図1を参照して説明する。図1は、本発明の高分子フィルムを成形する工程の概念を示す模式図である。この工程では、基材202が、繰り出し部201から供給され、ガイドロール203で搬送され、コータ部204において、樹脂組成物を溶解した溶液が基材202の表面にシート状に流延(塗工)される。上記樹脂組成物が、塗工された基材は乾燥手段205〜207に送られ、低温から高温へ徐々に昇温しながら乾燥されることにより、溶剤を蒸発させて高分子フィルム208が成形される。高分子フィルム208は、巻き取り部209で巻き取られ、次の延伸工程に供される。   An example of a method for producing a polymer film by the solvent casting method of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic view showing the concept of a process for forming the polymer film of the present invention. In this step, the base material 202 is supplied from the feeding unit 201 and conveyed by the guide roll 203, and in the coater unit 204, a solution in which the resin composition is dissolved is cast (coated) on the surface of the base material 202. ) The base material coated with the resin composition is sent to drying means 205 to 207 and dried while gradually raising the temperature from a low temperature to a high temperature, thereby evaporating the solvent and forming a polymer film 208. The The polymer film 208 is wound up by the winding unit 209 and used for the next stretching step.

上記溶剤としては、上述したように、トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも1種類を含む。これらの溶剤は、単独で、または2種類以上を混合して用いることができる。さらに好ましくは、トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、およびシクロペンタノンから選ばれる少なくとも1種類を含む。特に好ましくは、トルエン、メチルイソブチルケトン、およびシクロペンタノンから選ばれる少なくとも1種類を含む。上記の溶剤(または混合溶剤)であれば、基材に対して実用上悪影響を及ぼすような侵食をせず、従来の基材の制限が大幅に改善され得る。また、ハロゲン化脂肪族炭化水素に比べ、沸点が適度に高いため、成形加工性に優れ、作業性や環境性にも優れる。   As described above, the solvent includes at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone. These solvents can be used alone or in admixture of two or more. More preferably, it contains at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, and cyclopentanone. Particularly preferably, it contains at least one selected from toluene, methyl isobutyl ketone, and cyclopentanone. If it is said solvent (or mixed solvent), the restriction | limiting of the conventional base material can be improved significantly, without eroding which has a practically bad influence with respect to a base material. In addition, since the boiling point is moderately higher than that of halogenated aliphatic hydrocarbons, the molding processability is excellent, and the workability and environmental performance are also excellent.

上記溶剤の沸点として好ましくは60℃〜160℃であり、さらに好ましくは70℃〜150℃であり、最も好ましくは80℃〜140℃である。上記の温度範囲であれば、溶剤が急激に蒸発せず、良好な表面均一性を有する高分子フィルムを得ることができる。   The boiling point of the solvent is preferably 60 ° C to 160 ° C, more preferably 70 ° C to 150 ° C, and most preferably 80 ° C to 140 ° C. If it is said temperature range, a solvent will not evaporate rapidly but the polymer film which has favorable surface uniformity can be obtained.

また、上記の溶剤は、他の有機溶剤と混合して用いてもよい。他の有機溶剤としては、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、脂肪族および芳香族炭化水素類、セロソルブ類などが用いられる。他の有機溶剤が用いられる場合、好ましくは、他の有機溶剤の総量Xに対する、トルエン,酢酸エチル,メチルイソブチルケトン,メチルエチルケトン,シクロペンタノン,およびシクロヘキサノンから選ばれて使用される溶剤の総量Yの比率(X/Y)が、6/4(体積/体積)〜1/9(体積/体積)であり、さらに好ましくは5/5(体積/体積)〜1/9(体積/体積)であり、最も好ましくは4/6(体積/体積)〜1/9(体積/体積)である。なお、上記の混合溶剤も、上述した沸点の温度範囲に調整して用いられることが好ましい。   Moreover, you may use said solvent mixed with another organic solvent. As other organic solvents, alcohols, ketones, ethers, esters, aliphatic and aromatic hydrocarbons, cellosolves and the like are used. When another organic solvent is used, preferably, the total amount Y of the solvent used is selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone with respect to the total amount X of the other organic solvent. The ratio (X / Y) is 6/4 (volume / volume) to 1/9 (volume / volume), more preferably 5/5 (volume / volume) to 1/9 (volume / volume). Most preferably, it is 4/6 (volume / volume) to 1/9 (volume / volume). In addition, it is preferable that said mixed solvent is also adjusted and used for the temperature range of the boiling point mentioned above.

上記溶液の全固形分濃度は、溶解性、使用されるコータの種類、塗工後の厚みなどによって、適宜選択される。通常、溶剤100に対して固形分(代表的には、樹脂および添加剤)を5(重量比)〜100(重量比)、更に好ましくは10(重量比)〜60(重量比)、特に好ましくは10(重量比)〜40(重量比)である。上記の範囲であれば、表面均一性に優れた高分子フィルムを得ることができる。   The total solid content concentration of the solution is appropriately selected depending on the solubility, the type of coater used, the thickness after coating, and the like. Usually, the solid content (typically resin and additive) is 5 (weight ratio) to 100 (weight ratio), more preferably 10 (weight ratio) to 60 (weight ratio), particularly preferably with respect to the solvent 100. Is 10 (weight ratio) to 40 (weight ratio). If it is said range, the polymer film excellent in surface uniformity can be obtained.

上記溶液を基材の表面にシート状に流延(塗工)する方法としては、適宜、適切なコータを用いた塗工方式を選択して、用いることができる。上記コータの具体例としては、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ナイフコータ、ロッドコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータ、エアドクタコータ、キスコータ、ディップコータ、ビードコータ、ブレードコータ、キャストコータ、スプレイコータ、スピンコータ、押出コータ、ホットメルトコータ等が挙げられる。これらのなかでも、コータとして好ましくは、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ロッドコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータ、スピンコータである。上記のコータを用いた塗工方式であれば、表面均一性に優れた高分子フィルムを得ることができる。   As a method of casting (coating) the above solution on the surface of the substrate in a sheet form, a coating method using an appropriate coater can be appropriately selected and used. Specific examples of the above coater include reverse roll coater, forward rotation roll coater, gravure coater, knife coater, rod coater, slot orifice coater, curtain coater, fountain coater, air doctor coater, kiss coater, dip coater, bead coater, blade coater, cast Examples include a coater, a spray coater, a spin coater, an extrusion coater, and a hot melt coater. Among these, as a coater, a reverse roll coater, a normal rotation roll coater, a gravure coater, a rod coater, a slot orifice coater, a curtain coater, a fountain coater, and a spin coater are preferable. If it is the coating method using said coater, the polymer film excellent in surface uniformity can be obtained.

上記溶液が塗工される基材としては、適宜、適切なものが選択され得る。具体例としては、ガラス板や石英基板などのガラス基材、フィルムやプラスチックス基板などの高分子基材、アルミや鉄などの金属基材、セラミックス基板などの無機基材、シリコンウエハーなどの半導体基材などが挙げられる。好ましくは、上記基材は、高分子基材である。基材表面均一性に優れ、且つ、ロールによる連続生産が可能で、生産性を大幅に向上させ得るからである。   As the substrate on which the solution is applied, an appropriate one can be selected as appropriate. Specific examples include glass substrates such as glass plates and quartz substrates, polymer substrates such as films and plastics substrates, metal substrates such as aluminum and iron, inorganic substrates such as ceramic substrates, and semiconductors such as silicon wafers. Examples include base materials. Preferably, the substrate is a polymer substrate. This is because the surface uniformity of the base material is excellent, continuous production using a roll is possible, and productivity can be greatly improved.

上記基材に高分子基材が用いられる場合、該高分子基材を形成する材料は、用いる溶剤の溶解力、平滑性、ぬれ性などに応じて、適宜選択される。該高分子基材を形成する材料の具体例としては、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、生分解性プラスチック等が挙げられる。好ましくは、熱可塑性樹脂である。上記熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリノルボルネン、セルロースエステル、ABS樹脂、AS樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げられる。これらの中でも、ポリノルボルネン、セルロースエステル、ポリメタクリル酸メチル、およびポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。平滑性、機械的強度、耐溶剤性に優れるからである。なお、上記基材の溶液が塗工される側には、予めコロナ処理やプラズマ処理などの乾式表面処理、アンカーコート層などの湿式表面処理などを施していてもよい。また、通常、基材は、得られた高分子フィルムが延伸される前に剥離されるが、例えば、基材の位相差値が非常に小さく、高分子フィルムと基材の積層体のまま液晶表示装置に用いても、実用上悪影響を及ぼさない場合には、基材は剥離せずに、そのままにしておいてもよい。   When a polymer substrate is used for the substrate, the material for forming the polymer substrate is appropriately selected according to the dissolving power, smoothness, wettability, and the like of the solvent used. Specific examples of the material forming the polymer substrate include thermosetting resins, ultraviolet curable resins, thermoplastic resins, thermoplastic elastomers, biodegradable plastics, and the like. A thermoplastic resin is preferable. Specific examples of the thermoplastic resin include polynorbornene, cellulose ester, ABS resin, AS resin, polymethyl methacrylate, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyamide, polycarbonate, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, polysulfone. , Polyethersulfone, polyetheretherketone, polyarylate, liquid crystal polymer, polyamideimide, polyimide, polytetrafluoroethylene and the like. Among these, polynorbornene, cellulose ester, polymethyl methacrylate, and polyethylene terephthalate are particularly preferable. It is because it is excellent in smoothness, mechanical strength, and solvent resistance. In addition, you may give wet surface treatments, such as dry-type surface treatments, such as a corona treatment and a plasma treatment, an anchor coat layer, etc. previously at the side by which the solution of the said base material is coated. Further, the substrate is usually peeled off before the obtained polymer film is stretched. For example, the retardation value of the substrate is very small, and the liquid crystal remains as a laminate of the polymer film and the substrate. Even if it is used for a display device, the substrate may be left as it is without peeling if it does not have a practically adverse effect.

また、上記高分子基材には、市販の高分子フィルムを用いることもできる。例えば、富士写真フィルム(株)製 商品名「フジタック」や、日本ゼオン(株)製 商品名「ゼオノア」、JSR(株)製 商品名「アートン」などが挙げられる。   Moreover, a commercially available polymer film can also be used for the said polymer base material. For example, the product name “Fujitac” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., the product name “Zeonor” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., and the product name “Arton” manufactured by JSR Co., Ltd. may be used.

上記溶剤を蒸発させる方法(乾燥方法)としては、例えば、熱風又は冷風が循環する空気循環式恒温オーブン、マイクロ波もしくは遠赤外線などを利用したヒーター、温度調節用に加熱されたロール、ヒートパイプロール又は金属ベルトなどの乾燥手段が用いられる。   Examples of the method for evaporating the solvent (drying method) include, for example, an air circulation type constant temperature oven in which hot air or cold air circulates, a heater using microwaves or far infrared rays, a roll heated for temperature control, a heat pipe roll Alternatively, a drying means such as a metal belt is used.

上記乾燥手段に採用される温度(乾燥温度)は、好ましくは、樹脂組成物のガラス転移温度以下であり、低温から高温へ徐々に昇温して乾燥させることが好ましい。具体的に好ましくは50℃〜130℃であり、さらに好ましくは80℃〜120℃であり、最も好ましくは90℃〜110℃である。上記の温度範囲であれば、表面均一性の高い高分子フィルムを得ることができる。   The temperature employed for the drying means (drying temperature) is preferably equal to or lower than the glass transition temperature of the resin composition, and is preferably dried by gradually raising the temperature from a low temperature to a high temperature. Specifically, it is preferably 50 ° C to 130 ° C, more preferably 80 ° C to 120 ° C, and most preferably 90 ° C to 110 ° C. If it is said temperature range, a polymer film with high surface uniformity can be obtained.

上記乾燥手段にかける時間(乾燥時間)は、特に制限はないが、良好な表示均一性を有し、残留揮発成分の少ない高分子フィルムを得るためには、例えば1分〜60分であり、好ましくは10分〜40分である。   The time required for the drying means (drying time) is not particularly limited, but in order to obtain a polymer film having good display uniformity and low residual volatile components, it is, for example, 1 minute to 60 minutes, Preferably, it is 10 minutes to 40 minutes.

《D.高分子フィルムの延伸方法》
本発明に用いられる高分子フィルムの延伸方法としては、目的に応じて、任意の適切な延伸方法が採用され得る。具体例としては、縦一軸延伸法、横一軸延伸法、縦横同時二軸延伸法、縦横逐次二軸延伸法等の他、高分子フィルムの両面に収縮性フィルムを貼り合せて、ロール延伸機にて縦一軸延伸法により、加熱延伸する方法などが挙げられる。延伸手段としては、ロール延伸機、テンター延伸機や二軸延伸機等の任意の適切な延伸機が用いられ得る。好ましくは、上記延伸機は、温度制御手段を備える。加熱して延伸を行う場合には、延伸機の内部の温度を連続的に変化させてもよく、段階的に変化させてもよい。また、延伸工程は、2回以上に分割してもよい。延伸方向は、フィルム長手方向(MD方向)であってもよく、幅方向(TD方向)であってもよい。また、特開2003−262721号公報の図1に記載の延伸法を用いて、斜め方向に延伸(斜め延伸)してもよい。
<< D. Polymer film stretching method >>
As a stretching method of the polymer film used in the present invention, any suitable stretching method can be adopted depending on the purpose. Specific examples include a longitudinal uniaxial stretching method, a transverse uniaxial stretching method, a longitudinal and transverse simultaneous biaxial stretching method, a longitudinal and transverse sequential biaxial stretching method, and the like. For example, a heat uniaxial stretching method may be used. As the stretching means, any suitable stretching machine such as a roll stretching machine, a tenter stretching machine, or a biaxial stretching machine can be used. Preferably, the stretching machine includes a temperature control unit. When extending | stretching by heating, the temperature inside an extending | stretching machine may be changed continuously and may be changed in steps. Further, the stretching step may be divided into two or more times. The stretching direction may be the film longitudinal direction (MD direction) or the width direction (TD direction). Moreover, you may extend | stretch in the diagonal direction (diagonal extending | stretching) using the extending | stretching method of FIG. 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-262721.

好ましくは、本発明に用いられる高分子フィルムの延伸方法は、高分子フィルムの両面に収縮性フィルムを貼り合せて、ロール延伸機にて縦一軸延伸法により、加熱延伸する方法である。上記収縮性フィルムは、加熱延伸時に延伸方向と直交する方向の収縮力を付与し、厚み方向の屈折率(nz)を高めるために用いられる。上記の延伸方法によれば、nx>nz>nyの屈折率分布を示す位相差フィルムが得られ得る。nx>nz>nyの屈折率分布を示す位相差フィルムは、液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高め、斜め方向のカラーシフト量を小さくするために好適である。   Preferably, the method for stretching the polymer film used in the present invention is a method in which a shrinkable film is bonded to both surfaces of the polymer film and heated and stretched by a longitudinal uniaxial stretching method using a roll stretching machine. The shrinkable film is used for imparting a shrinkage force in a direction perpendicular to the stretching direction at the time of heat stretching and increasing a refractive index (nz) in the thickness direction. According to said extending | stretching method, the retardation film which shows the refractive index distribution of nx> nz> ny can be obtained. A retardation film exhibiting a refractive index distribution of nx> nz> ny is suitable for increasing the contrast ratio in the oblique direction of the liquid crystal display device and reducing the amount of color shift in the oblique direction.

上記高分子フィルムの両面に収縮性フィルムを貼り合せる方法としては、特に制限はないが、上記高分子フィルムと上記収縮性フィルムとの間に、アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤層を設けて接着する方法が、作業性、経済性に優れる点から好ましい。   The method for attaching the shrinkable film on both sides of the polymer film is not particularly limited, but an acrylic pressure-sensitive adhesive layer having an acrylic polymer as a base polymer between the polymer film and the shrinkable film. The method of providing and bonding is preferable from the viewpoint of excellent workability and economical efficiency.

本発明の高分子フィルムの延伸方法の一例について、図2を参照して説明する。図2は、本発明の高分子フィルムを延伸する工程の概念を示す模式図である。高分子フィルム302は、第1の繰り出し部301から繰り出され、ラミネートロール307および308により、該高分子フィルムの両面に、2枚の粘着剤層を備える収縮性フィルムが貼り合わされる。一方の収縮性フィルム304は、第2の繰り出し部303から繰り出され、他方の収縮性フィルム306は、第3の繰り出し部305から繰り出される。両面に収縮性フィルムが貼着された高分子フィルムは、温度制御手段309によって一定温度に保持されながら、速比の異なるロール310、311、312、および313によって、フィルム長手方向の張力を付与され(同時に、収縮性フィルムが収縮することによって、該高分子フィルムへ厚み方向にも張力が付与される)ながら、延伸処理に供される。延伸処理後、粘着剤層を備える収縮性フィルム315および317は、第1の巻き取り部314および第2の巻き取り部316にて巻き取られ、得られた位相差フィルム318が第3の巻き取り部319で巻き取られる。   An example of the method for stretching the polymer film of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic view showing the concept of a step of stretching the polymer film of the present invention. The polymer film 302 is fed out from the first feeding unit 301, and a shrinkable film having two pressure-sensitive adhesive layers is bonded to both surfaces of the polymer film by the laminate rolls 307 and 308. One shrinkable film 304 is drawn out from the second drawing-out portion 303, and the other shrinkable film 306 is drawn out from the third drawing-out portion 305. The polymer film having the shrinkable film attached on both sides is given a tension in the film longitudinal direction by rolls 310, 311, 312 and 313 having different speed ratios while being held at a constant temperature by the temperature control means 309. (At the same time, when the shrinkable film shrinks, tension is also applied to the polymer film in the thickness direction), and the film is subjected to a stretching treatment. After the stretching treatment, the shrinkable films 315 and 317 having the pressure-sensitive adhesive layer are wound up by the first winding unit 314 and the second winding unit 316, and the obtained retardation film 318 is the third winding. It is wound up by the take-up part 319.

上記収縮性フィルムは、140℃におけるフィルム長手方向の収縮率:S(MD)が、2.7%〜9.4%であって、幅方向の収縮率:S(TD)が、4.6%〜15.8%であるものが好ましく用いられる。また、好ましくは、上記収縮性フィルムは、幅方向の収縮率と長手方向の収縮率の差:ΔS=S(TD)−S(MD)が、3.2%〜9.6%の範囲にあるものである。上記の範囲であれば、光学均一性に優れ、所望の光学特性を満足する位相差フィルムを得ることができる。なお、位相差フィルムの光学特性については、E項で後述する。   The shrinkable film has a shrinkage ratio in the film longitudinal direction at 140 ° C .: S (MD) of 2.7% to 9.4%, and a shrinkage ratio in the width direction: S (TD) of 4.6. What is% to 15.8% is preferably used. Preferably, the shrinkable film has a difference between the shrinkage in the width direction and the shrinkage in the longitudinal direction: ΔS = S (TD) −S (MD) in the range of 3.2% to 9.6%. There is something. Within the above range, a retardation film excellent in optical uniformity and satisfying desired optical characteristics can be obtained. The optical properties of the retardation film will be described later in Section E.

上記収縮率S(MD)およびS(TD)は、JIS Z 1712(:1997)の加熱収縮率A法に準じて求めることができる(ただし、加熱温度は120℃に代えて140℃とし、試験片に荷重3gを加えたことが異なる)。具体的には、幅20mm、長さ150mmの試験片を縦(MD)、横(TD)方向から各5枚採り、それぞれの中央部に約100mmの距離において標点をつけた試験片を作製する。該試験片は、温度140℃±3℃に保持された空気循環式乾燥オーブンに、荷重3gをかけた状態で垂直につるし、15分間加熱した後、取り出し、標準状態(室温)に30分間放置してから、JIS B 7507に規定するノギスを用いて、標点間距離を測定して、5個の測定値の平均値を求め、S(%)=[[加熱前の標点間距離(mm)−加熱後の標点間距離(mm)]/加熱前の標点間距離(mm)]×100より算出することができる。   The shrinkage rates S (MD) and S (TD) can be determined according to the method of heating shrinkage rate A of JIS Z 1712 (: 1997) (however, the heating temperature is set to 140 ° C. instead of 120 ° C. The difference is that a load of 3 g was applied to the piece). Specifically, five test pieces each having a width of 20 mm and a length of 150 mm were taken from the vertical (MD) and horizontal (TD) directions, and a test piece with a mark at a distance of about 100 mm at the center was prepared. To do. The test piece is suspended vertically in an air circulation drying oven maintained at a temperature of 140 ° C. ± 3 ° C. under a load of 3 g, heated for 15 minutes, taken out, and left in a standard state (room temperature) for 30 minutes. Then, using a caliper specified in JIS B 7507, the distance between the gauge points was measured to obtain an average value of five measured values, and S (%) = [[distance between gauge points before heating ( mm) −distance between gauge points after heating (mm)] / distance between gauge points before heating (mm)] × 100.

上記収縮性フィルムは、好ましくは、二軸延伸フィルムおよび一軸延伸フィルム等の延伸フィルムである。上記収縮性フィルムは、例えば、押出法によりシート状に成形された未延伸フィルムを同時二軸延伸機等で所定の倍率に縦および/または横方向に延伸して得ることができる。なお、成形および延伸条件は、用いる樹脂の組成や種類や目的に応じて、適宜選択され得る。   The shrinkable film is preferably a stretched film such as a biaxially stretched film or a uniaxially stretched film. The shrinkable film can be obtained, for example, by stretching an unstretched film formed into a sheet by an extrusion method in the longitudinal and / or transverse direction at a predetermined magnification with a simultaneous biaxial stretching machine or the like. The molding and stretching conditions can be appropriately selected depending on the composition, type and purpose of the resin used.

上記収縮性フィルムを形成する材料としては、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等が挙げられる。本発明に用いられる収縮性フィルムとしては、これらのなかでも、特に、機械的強度、熱安定性、表面均一性等に優れる点で、二軸延伸ポリプロピレンフィルムが好ましく用いられる。   Examples of the material for forming the shrinkable film include polyester, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, and polyvinylidene chloride. Among these, as the shrinkable film used in the present invention, a biaxially stretched polypropylene film is preferably used in view of excellent mechanical strength, thermal stability, surface uniformity and the like.

また、上記収縮性フィルムとしては、本発明の目的を満足するものであれば、一般包装用、食品包装用、パレット包装用、収縮ラベル用、キャップシール用、および電気絶縁用等の用途に使用される市販の収縮性フィルムも適宜、選択して用いることができる。これら市販の収縮性フィルムは、そのまま用いてもよく、延伸処理や収縮処理などの2次加工を施してから用いてもよい。市販の収縮性フィルムの具体例としては、王子製紙(株)製 商品名「アルファンシリーズ」、グンゼ(株)製 商品名「ファンシートップシリーズ」、東レ(株)製 商品名「トレファンシリーズ」、サン・トックス(株) 商品名「サントックス−OPシリーズ」、東セロ(株) 商品名「トーセロOPシリーズ」等が挙げられる。   In addition, the shrinkable film can be used for general packaging, food packaging, pallet packaging, shrinkage label, cap seal, and electrical insulation as long as the object of the present invention is satisfied. A commercially available shrinkable film can be appropriately selected and used. These commercially available shrinkable films may be used as they are, or after being subjected to secondary processing such as stretching treatment or shrinkage treatment. Specific examples of commercially available shrinkable films include Oji Paper Co., Ltd. product name “Alphan Series”, Gunze Co., Ltd. product name “Fancy Top Series”, and Toray Industries, Inc. product name “Trephan Series”. , Santox Co., Ltd., trade name “Santox-OP Series”, Tosero Co., Ltd., trade name “Tosero OP Series”, and the like.

上記高分子フィルムと収縮性フィルムとの積層体を加熱延伸する際の温度制御手段内の温度(延伸温度ともいう)は、目的とする位相差値、用いる高分子フィルムの種類や厚み等に応じて適宜選択され得る。好ましくは、上記高分子フィルムのガラス転移点(Tg)に対し、Tg+1℃〜Tg+30℃の範囲で行う。位相差値が均一になり易く、かつ、フィルムが結晶化(白濁)しにくいからである。より具体的には、上記延伸温度は、好ましくは90℃〜150℃であり、さらに好ましくは100℃〜140℃であり、最も好ましくは110℃〜135℃である。ガラス転移温度(Tg)は、JIS K 7121(:1987)に準じたDSC法により求めることができる。   The temperature in the temperature control means (also referred to as the stretching temperature) when heating and stretching the laminate of the polymer film and the shrinkable film depends on the target retardation value, the type and thickness of the polymer film used, etc. Can be appropriately selected. Preferably, it is performed in the range of Tg + 1 ° C. to Tg + 30 ° C. with respect to the glass transition point (Tg) of the polymer film. This is because the retardation value tends to be uniform, and the film is difficult to crystallize (white turbidity). More specifically, the stretching temperature is preferably 90 ° C to 150 ° C, more preferably 100 ° C to 140 ° C, and most preferably 110 ° C to 135 ° C. The glass transition temperature (Tg) can be determined by a DSC method according to JIS K 7121 (: 1987).

上記温度制御手段としては、特に制限はないが、熱風又は冷風が循環する空気循環式恒温オーブン、マイクロ波もしくは遠赤外線などを利用したヒーター、温度調節用に加熱されたロール、ヒートパイプロール又は金属ベルトなどを用いた公知の加熱方法や温度制御方法を挙げることができる。   The temperature control means is not particularly limited, but is an air circulation type constant temperature oven in which hot air or cold air circulates, a heater using microwaves or far infrared rays, a roll heated for temperature control, a heat pipe roll, or a metal. A known heating method and temperature control method using a belt or the like can be given.

また、上記高分子フィルムと収縮性フィルムとの積層体を延伸する際の延伸する倍率(延伸倍率)は、目的とする位相差値、用いる高分子フィルムの種類や厚み等に応じて適宜選択され得る。上記延伸倍率は、好ましくは1.1倍〜2.5倍であり、さらに好ましくは1.2倍〜2.0倍である。また、延伸時の送り速度は、特に制限はないが、延伸装置の機械精度、安定性等から好ましくは0.5m/分〜30m/分、より好ましくは1m/分〜20m/分である。上記の延伸条件であれば、目的とする光学特性を満足し得るのみならず、光学均一性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
E.本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムの諸特性
本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムの23℃における波長550nmの光で測定した透過率は、好ましくは80%以上であり、さらに好ましくは85%以上であり、特に好ましくは90%以上である。また、前述した高分子フィルムも同様の透過率を有することが好ましい。
Further, the stretching ratio (stretching ratio) when stretching the laminate of the polymer film and the shrinkable film is appropriately selected according to the target retardation value, the type and thickness of the polymer film to be used, and the like. obtain. The draw ratio is preferably 1.1 to 2.5 times, more preferably 1.2 to 2.0 times. The feed rate during stretching is not particularly limited, but is preferably 0.5 m / min to 30 m / min, more preferably 1 m / min to 20 m / min from the mechanical accuracy and stability of the stretching apparatus. If it is said extending | stretching conditions, not only the target optical characteristic can be satisfied, but the retardation film excellent in optical uniformity can be obtained.
E. Various properties of the retardation film obtained by the production method of the present invention The transmittance of the retardation film obtained by the production method of the present invention measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. is preferably 80% or more, and more preferably Is 85% or more, particularly preferably 90% or more. Moreover, it is preferable that the polymer film mentioned above also has the same transmittance | permeability.

上記位相差フィルムの厚みは、目的に応じて、適宜選択され得る。上記位相差フィルムの厚みの範囲として好ましくは20μm〜300μmであり、さらに好ましくは30μm〜200μmである。λ/4板として用いられる場合は、好ましくは40μm〜140μmであり、特に好ましくは60μm〜120μmである。λ/2板として用いられる場合は、好ましくは130μm〜230μmであり、特に好ましくは150μm〜210μmである。上記の範囲であれば、機械的強度や光学均一性に優れ、後述する光学特性を満足する位相差フィルムを得ることができる。   The thickness of the retardation film can be appropriately selected according to the purpose. The thickness range of the retardation film is preferably 20 μm to 300 μm, and more preferably 30 μm to 200 μm. When used as a λ / 4 plate, the thickness is preferably 40 μm to 140 μm, and particularly preferably 60 μm to 120 μm. When used as a λ / 2 plate, it is preferably 130 μm to 230 μm, particularly preferably 150 μm to 210 μm. If it is said range, the retardation film which is excellent in mechanical strength and optical uniformity, and satisfies the optical characteristic mentioned later can be obtained.

上記位相差フィルムの23℃における波長550nmの光で測定した光弾性係数の絶対値;C[550](m2/N)は、50×10-12以下である。位相差フィルムの光弾性係数の絶対値を小さくすることによって、偏光子の収縮応力や、液晶パネルのバックライトの熱によって発生する位相差値のずれやムラを防ぎ、その結果、良好な表示均一性を有する画像表示装置を得ることができる。好ましくは、上記位相差フィルムのC[550]は1×10-12〜40×10-12であり、特に好ましくは3×10-12〜30×10-12以下であり、最も好ましくは5×10-12〜25×10-12である。C[550]を上記の範囲とすることによって、目的とする位相差値が得られ、且つ、位相差値のずれやムラを低減することができる。 The absolute value of the photoelastic coefficient measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. of the retardation film; C [550] (m 2 / N) is 50 × 10 −12 or less. By reducing the absolute value of the photoelastic coefficient of the retardation film, the shrinkage stress of the polarizer and the shift and unevenness of the retardation value caused by the heat of the backlight of the liquid crystal panel are prevented, resulting in good display uniformity. An image display device having the characteristics can be obtained. Preferably, C [550] of the retardation film is 1 × 10 −12 to 40 × 10 −12 , particularly preferably 3 × 10 −12 to 30 × 10 −12 or less, and most preferably 5 ×. 10 −12 to 25 × 10 −12 . By setting C [550] in the above range, a target phase difference value can be obtained, and deviation or unevenness of the phase difference value can be reduced.

上記位相差フィルムの吸水率として好ましくは、0.01%〜5%であり、さらに好ましくは0.05%〜4%であり、特に好ましくは0.1%〜3%であり、最も好ましくは0.2%〜2%である。上記の範囲とすることによって、良好な位相差値の安定性を示す位相差フィルムが得られ得る。なお、上記位相差フィルムの吸水率は、JIS K 7209(:2000)に準じた方法によって求めることができる。なお、上記位相差フィルムの吸水率は、本発明に用いられるポリビニルアセタール系樹脂の置換基の種類や、水酸基の残存量によって、適宜調整される。   The water absorption of the retardation film is preferably 0.01% to 5%, more preferably 0.05% to 4%, particularly preferably 0.1% to 3%, most preferably. 0.2% to 2%. By setting it as said range, the retardation film which shows stability of favorable retardation value can be obtained. In addition, the water absorption rate of the said retardation film can be calculated | required by the method according to JISK7209 (: 2000). In addition, the water absorption rate of the said retardation film is suitably adjusted with the kind of substituent of the polyvinyl acetal type resin used for this invention, and the residual amount of a hydroxyl group.

本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムは、目的に応じた各種の屈折率分布を満足するように、延伸されてなる。上記屈折率分布の具体例としては、nx>ny=nz(Re>10nm、Re[550]=Rth[550])の関係を満たすもの、nx>ny>nz(10nm<Re[550]<Rth[550])の関係を満たすもの、nx=ny>nz(Rth[550]>10nm、Re[550]=0nm)の関係を満たすもの、nx=nz>ny(Re[550]>10nm、Rth[550]=0)の関係を満たすもの、nx>nz>ny(0nm<Rth[550]<Re[550])の関係を満たすもの、nz>nx>ny(Rth[550]<0nm<Re[550])の関係を満たすもの等が挙げられる。なお、上記nx、ny、nzとは、位相差フィルムの遅相軸方向、進相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ表す。これらの中でも好ましくは、本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムは、nx>nz>ny(0nm<Rth[550]<Re[550])の関係を満たすように延伸されてなる。   The retardation film obtained by the production method of the present invention is stretched so as to satisfy various refractive index distributions according to purposes. As specific examples of the refractive index distribution, those satisfying the relationship of nx> ny = nz (Re> 10 nm, Re [550] = Rth [550]), nx> ny> nz (10 nm <Re [550] <Rth [550]), nx = ny> nz (Rth [550]> 10 nm, Re [550] = 0 nm), nx = nz> ny (Re [550]> 10 nm, Rth [550] = 0), nx> nz> ny (0 nm <Rth [550] <Re [550]), nz> nx> ny (Rth [550] <0 nm <Re And those satisfying the relationship [550]). The nx, ny, and nz represent the refractive indexes in the slow axis direction, the fast axis direction, and the thickness direction of the retardation film, respectively. Among these, the retardation film obtained by the production method of the present invention is preferably stretched so as to satisfy the relationship of nx> nz> ny (0 nm <Rth [550] <Re [550]).

本明細書において、Re[550]とは、23℃における波長550nmの光で測定した面内の位相差値をいう。Re[550]は、波長550nmにおける位相差フィルムの遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、nx、nyとし、d(nm)を位相差フィルムの厚みとしたとき、式:Re[550]=(nx−ny)×dによって求めることができる。なお、遅相軸とは、面内の屈折率の最大となる方向をいう。Re[450]およびRe[650]は、それぞれ、23℃における波長450nmおよび650nmの光で測定した面内の位相差値を示す。   In this specification, Re [550] refers to an in-plane retardation value measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Re [550] is expressed by the formula: Re when the refractive index in the slow axis direction and the fast axis direction of the retardation film at a wavelength of 550 nm is nx and ny, and d (nm) is the thickness of the retardation film. [550] = (nx−ny) × d. The slow axis refers to the direction in which the in-plane refractive index is maximum. Re [450] and Re [650] indicate in-plane retardation values measured with light having a wavelength of 450 nm and 650 nm at 23 ° C., respectively.

本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムのRe[550]は、20nm〜400nmであり、好ましくは80nm〜350nmである。λ/4板として用いられる場合は、好ましくは100nm〜180nmであり、さらに好ましくは110nm〜170nmであり、特に好ましくは120nm〜160nmであり、最も好ましくは130〜150nmである。λ/2板として用いられる場合は、好ましくは220nm〜300nmであり、さらに好ましくは230nm〜290nmであり、特に好ましくは240nm〜280nmであり、最も好ましくは250nm〜270nmである。上記Re[550]を上記の範囲とすることによって、液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高めることができる。上記Re[550]は、延伸倍率や延伸温度によって適切な値に調整される。   Re [550] of the retardation film obtained by the production method of the present invention is 20 nm to 400 nm, preferably 80 nm to 350 nm. When used as a λ / 4 plate, it is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, particularly preferably 120 nm to 160 nm, and most preferably 130 to 150 nm. When used as a λ / 2 plate, it is preferably 220 nm to 300 nm, more preferably 230 nm to 290 nm, particularly preferably 240 nm to 280 nm, and most preferably 250 nm to 270 nm. By setting Re [550] in the above range, the contrast ratio in the oblique direction of the liquid crystal display device can be increased. The above Re [550] is adjusted to an appropriate value depending on the draw ratio and the draw temperature.

一般的に、位相差フィルムの位相差値は、波長に依存して変化する場合がある。これを位相差フィルムの波長分散特性という。本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムは、短波長ほど位相差値が小さくなる特性(逆波長分散特性ともいう)を示し、式;Re[450]<Re[550]<Re[650]を満足する。本明細書において、上記波長分散特性は、23℃における波長450nmおよび550nmの光で測定した面内の位相差値の比:Re[450]/Re[550]によって求めることができる。   Generally, the retardation value of the retardation film may vary depending on the wavelength. This is called the wavelength dispersion characteristic of the retardation film. The retardation film obtained by the production method of the present invention exhibits a characteristic that the retardation value becomes smaller as the wavelength is shorter (also referred to as reverse wavelength dispersion characteristic), and the formula: Re [450] <Re [550] <Re [650] Satisfied. In the present specification, the chromatic dispersion characteristic can be obtained by a ratio of in-plane retardation values measured with light having a wavelength of 450 nm and 550 nm at 23 ° C .: Re [450] / Re [550].

本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムのRe[450]/Re[550]は、1より小さい。好ましくは0.70〜0.99であり、さらに好ましくは0.76〜0.92であり、特に好ましくは0.80〜0.88であり、最も好ましくは、0.82〜0.86である。上記Re[450]/Re[550]を上記の範囲とすることによって、可視光の広い領域で位相差値が一定になるため、液晶表示装置に用いた場合に、光漏れする光に、波長の偏りが生じ難く、液晶表示装置の斜め方向のカラーシフト量をより一層小さくすることができる。上記Re[450]/Re[550]は、用いられるポリビニルアセタール系樹脂の置換基の種類や構造単位のモル比(例えば、上記一般式(II)で表される構造中、l、m、およびnの比率)によって調整される。   Re [450] / Re [550] of the retardation film obtained by the production method of the present invention is smaller than 1. Preferably it is 0.70-0.99, More preferably, it is 0.76-0.92, Especially preferably, it is 0.80-0.88, Most preferably, it is 0.82-0.86 is there. By setting Re [450] / Re [550] in the above range, the retardation value becomes constant in a wide visible light region. Therefore, when used in a liquid crystal display device, the wavelength of light leaked is reduced. Therefore, the color shift amount in the oblique direction of the liquid crystal display device can be further reduced. The above Re [450] / Re [550] is the type of substituent of the polyvinyl acetal resin used and the molar ratio of structural units (for example, in the structure represented by the general formula (II), l, m, and n ratio).

本明細書において、Rth[550]とは、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Rth[550]は、波長550nmにおける位相差フィルムの遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれnx、nzとし、d(nm)を位相差フィルムの厚みとしたとき、式:Rth[550]=(nx−nz)×dによって求めることができる。なお、遅相軸とは、面内の屈折率の最大となる方向をいう。   In this specification, Rth [550] refers to a thickness direction retardation value measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Rth [550] is expressed by the formula: Rth [550] when the refractive index in the slow axis direction and the thickness direction of the retardation film at a wavelength of 550 nm is nx and nz, and d (nm) is the thickness of the retardation film. = (Nx−nz) × d. The slow axis refers to the direction in which the in-plane refractive index is maximum.

好ましくは、本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムのRth[550]は、式:Rth[550]<Re[550]を満足する。このような範囲に設定することによって、斜め方向の位相差値を適切にすることができるので、液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高めることができる。具体的には、上記Rth[550]は、後述する位相差フィルムのNz係数に応じて適宜、適切な範囲が選択される。例えば、本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムが、Nz係数が0.5であるλ/4板として用いられる場合、Rth[550]として好ましくは50nm〜90nmであり、さらに好ましくは55nm〜85nmであり、特に好ましくは60nm〜80nmであり、最も好ましくは65nm〜75nmである。また、本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムが、Nz係数が0.5であるλ/2板として用いられる場合、Rth[550]として好ましくは110nm〜150nmであり、さらに好ましくは115nm〜145nmであり、特に好ましくは120nm〜140nmであり、最も好ましくは125nm〜135nmである。上記Rth[550]は、延伸倍率や延伸温度によって、また、収縮性フィルムが用いられる場合は、該収縮フィルムの収縮率によって、適切な値に調整される。   Preferably, Rth [550] of the retardation film obtained by the production method of the present invention satisfies the formula: Rth [550] <Re [550]. By setting in such a range, the phase difference value in the oblique direction can be made appropriate, so that the contrast ratio in the oblique direction of the liquid crystal display device can be increased. Specifically, an appropriate range of Rth [550] is appropriately selected according to the Nz coefficient of the retardation film described later. For example, when the retardation film obtained by the production method of the present invention is used as a λ / 4 plate having an Nz coefficient of 0.5, Rth [550] is preferably 50 nm to 90 nm, more preferably 55 nm to 85 nm, particularly preferably 60 nm to 80 nm, and most preferably 65 nm to 75 nm. When the retardation film obtained by the production method of the present invention is used as a λ / 2 plate having an Nz coefficient of 0.5, Rth [550] is preferably 110 nm to 150 nm, more preferably 115 nm to 145 nm, particularly preferably 120 nm to 140 nm, and most preferably 125 nm to 135 nm. The Rth [550] is adjusted to an appropriate value depending on the stretching ratio and the stretching temperature, and when a shrinkable film is used, depending on the shrinkage rate of the shrinkable film.

Re[550]およびRth[550]は、分光エリプソメーター[日本分光(株)製 製品名「M−220」]を用いても求めることができる。23℃における波長550nmの面内の位相差値(Re)、遅相軸を傾斜軸として40度傾斜させて測定した位相差値(R40)、光学素子(または、位相差フィルム)の厚み(d)及び光学素子(または、位相差フィルム)の平均屈折率(n0)を用いて、以下の式(i)〜(iv)からコンピュータ数値計算によりnx、ny及びnzを求め、次いで式(iv)によりRthを計算できる。ここで、φ及びny’はそれぞれ以下の式(v)及び(vi)で示される。
Re=(nx−ny)×d …(i)
R40=(nx−ny’)×d/cos(φ) …(ii)
(nx+ny+nz)/3=n0 …(iii)
Rth=(nx−nz)×d …(iv)
φ =sin-1[sin(40°)/n0] …(v)
ny’=ny×nz[ny2×sin2(φ)+nz2×cos2(φ)]1/2 …(vi)
Re [550] and Rth [550] can also be obtained using a spectroscopic ellipsometer [manufactured by JASCO Corporation, product name “M-220”]. In-plane retardation value (Re) at a wavelength of 550 nm at 23 ° C., retardation value (R40) measured by tilting the slow axis by 40 degrees with respect to the tilt axis, thickness of optical element (or retardation film) (d ) And the average refractive index (n0) of the optical element (or retardation film), nx, ny and nz are obtained by computer numerical calculation from the following formulas (i) to (iv), and then the formula (iv) Rth can be calculated by Here, φ and ny ′ are represented by the following equations (v) and (vi), respectively.
Re = (nx−ny) × d (i)
R40 = (nx−ny ′) × d / cos (φ) (ii)
(Nx + ny + nz) / 3 = n0 (iii)
Rth = (nx−nz) × d (iv)
φ = sin −1 [sin (40 °) / n0] (v)
ny ′ = ny × nz [ny 2 × sin 2 (φ) + nz 2 × cos 2 (φ)] 1/2 (vi)

本明細書において、Rth[550]/Re[550]は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差値と面内の位相差値との比をいう(Nz係数ともいう)。   In this specification, Rth [550] / Re [550] refers to a ratio between a thickness direction retardation value measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. and an in-plane retardation value (also referred to as an Nz coefficient). .

好ましくは、本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムのNz係数は、1.2以下である。さらに好ましくは、上記位相差フィルムのNz係数は1より小さい。Nz係数が1より小さい場合、上記位相差フィルムは、式;Rth[550]<Re[550]を満足する。好ましくは、上記位相差フィルムのNz係数は0を超え1より小さい。Nz係数が0を超え1より小さい場合、上記位相差フィルムは、式;0nm<Rth[550]<Re[550]を満足する。さらに好ましくは、上記位相差フィルムのNz係数は0.2〜0.8であり、特に好ましくは0.3〜0.7であり、最も好ましくは0.4〜0.6である。Nz係数を上記の範囲とすることによって、斜め方向の位相差値が適切に調整され(例えば、位相差値の角度依存性が小さくする)液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高くすることができる。   Preferably, the Nz coefficient of the retardation film obtained by the production method of the present invention is 1.2 or less. More preferably, the Nz coefficient of the retardation film is less than 1. When the Nz coefficient is smaller than 1, the retardation film satisfies the formula: Rth [550] <Re [550]. Preferably, the Nz coefficient of the retardation film is more than 0 and less than 1. When the Nz coefficient exceeds 0 and is smaller than 1, the retardation film satisfies the formula: 0 nm <Rth [550] <Re [550]. More preferably, the Nz coefficient of the retardation film is 0.2 to 0.8, particularly preferably 0.3 to 0.7, and most preferably 0.4 to 0.6. By setting the Nz coefficient in the above range, the phase difference value in the oblique direction is appropriately adjusted (for example, the angle dependency of the phase difference value is reduced), and the contrast ratio in the oblique direction of the liquid crystal display device can be increased. it can.

本発明について、以上の実施例および比較例を用いて更に説明する。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。なお、実施例で用いた各分析方法は、以下の通りである。
(1)組成比の測定:
核磁気共鳴スペクトルメーター[日本電子(株)製 製品名「LA400」](測定溶媒;重DMSO溶媒、周波数;400MHz、観測核;1H、測定温度;25℃)を用い、0.83ppm、0.95−2.0ppm、3.5−5.0ppm、6.76ppmのピークより求めた。
(2)ガラス転移温度の測定:
示差走査熱量計[セイコー(株)製 製品名「DSC−6200」]を用いて、JIS K 7121(:1987)(プラスチックの転移温度測定方法)に準じた方法により求めた。具体的には、10mgの粉末サンプルを、窒素雰囲気下(ガスの流量;50ml/分)で昇温(加熱速度;10℃/分)させて2回測定し、2回目のデータを採用した。熱量計は、標準物質(インジウム)を用いて温度補正を行った。
(3)厚みの測定方法:
厚みが10μm未満の場合、薄膜用分光光度計[大塚電子(株)製 製品名「瞬間マルチ測光システム MCPD−2000」]を用いて測定した。厚みが10μm以上の場合、アンリツ製デジタルマイクロメーター「KC−351C型」を使用して測定した。
(4)位相差値(Re、Rth)の測定方法:
分光エリプソメーター[日本分光(株)製 製品名「M−220」]を用いて、23℃における波長550nmの光で測定した。なお、波長分散測定については、波長450nmおよび650nmの光も用いた。
(5)フィルムの平均屈折率の測定方法:
アッベ屈折率計[アタゴ(株)製 製品名「DR−M4」]を用いて、23℃における波長589nmの光で測定した屈折率より求めた。
(6)透過率の測定方法:
紫外可視分光光度計[日本分光(株)製 製品名「V−560」]を用いて、23℃における波長550nmの光で測定した。
(7)光弾性係数の測定方法:
分光エリプソメーター[日本分光(株)製 製品名「M−220」]を用いて、サンプル(サイズ2cm×10cm)の両端を挟持して応力(5N〜15N)をかけながら、サンプル中央の位相差値(23℃/波長550nm)を測定し、応力と位相差値の関数の傾きから算出した。
(8)吸水率の測定:
JIS K 7209(:2000)(プラスチックの吸水率および沸騰吸水率試験方法)に準じた方法により測定した。試験サンプルは50mm×50mmで、厚みが40μm〜100μmで行った。
The present invention will be further described using the above examples and comparative examples. In addition, this invention is not limited only to these Examples. In addition, each analysis method used in the Example is as follows.
(1) Measurement of composition ratio:
Nuclear magnetic resonance spectrometer [product name “LA400” manufactured by JEOL Ltd.] (measurement solvent: heavy DMSO solvent, frequency: 400 MHz, observation nucleus: 1 H, measurement temperature: 25 ° C.), 0.83 ppm, 0 It calculated | required from the peak of .95-2.0 ppm, 3.5-5.0 ppm, and 6.76 ppm.
(2) Measurement of glass transition temperature:
Using a differential scanning calorimeter [manufactured by Seiko Co., Ltd., product name “DSC-6200”], it was determined by a method according to JIS K 7121 (: 1987) (method for measuring the transition temperature of plastics). Specifically, a 10 mg powder sample was heated twice (heating rate: 10 ° C./min) in a nitrogen atmosphere (gas flow rate: 50 ml / min) and measured twice, and the second data was adopted. The calorimeter corrected the temperature using a standard material (indium).
(3) Measuring method of thickness:
When the thickness was less than 10 μm, measurement was performed using a thin film spectrophotometer [manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., “instant multiphotometry system MCPD-2000”]. When the thickness was 10 μm or more, measurement was performed using an Anritsu digital micrometer “KC-351C type”.
(4) Measuring method of phase difference values (Re, Rth):
Using a spectroscopic ellipsometer [manufactured by JASCO Corporation, product name “M-220”], measurement was performed with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. For wavelength dispersion measurement, light with wavelengths of 450 nm and 650 nm was also used.
(5) Measuring method of average refractive index of film:
It calculated | required from the refractive index measured with the light of wavelength 589nm in 23 degreeC using the Abbe refractometer [The product name "DR-M4" by Atago Co., Ltd.].
(6) Transmittance measurement method:
It measured with the light of wavelength 550nm in 23 degreeC using the ultraviolet visible spectrophotometer [The product name "V-560" by JASCO Corporation].
(7) Photoelastic coefficient measurement method:
Using a spectroscopic ellipsometer [product name “M-220” manufactured by JASCO Corporation], the sample (size 2 cm × 10 cm) is sandwiched at both ends, and stress (5N to 15N) is applied to the phase difference at the center of the sample. The value (23 ° C./wavelength 550 nm) was measured and calculated from the slope of the function of stress and phase difference value.
(8) Measurement of water absorption:
It was measured by a method according to JIS K 7209 (: 2000) (Testing method for water absorption rate and boiling water absorption rate of plastic). The test sample was 50 mm × 50 mm and the thickness was 40 μm to 100 μm.

[参考例1]
5.0gのポリビニルアルコール系樹脂[日本合成化学(株)製 商品名「NH−18」(重合度;1800、ケン化度;99.0%)]を105℃で2時間乾燥させた後、95mlのジメチルスルホシキド(DMSO)に溶解した。ここに、2.02gの2,4,6−トリメチルベンズアルデヒド(メシトアルデヒド)、および0.44gのp−トルエンスルホン酸・1水和物を加えて、40℃で2時間攪拌した。これに、13.41gの1,1−ジエトキシエタン(アセタール)を加え、さらに40℃で2時間攪拌した。その後、1.18gのトリエチルアミンを加え、反応を終了した。得られた反応生成物(ポリマー)を、メタノール溶液に滴下し、再沈殿を行った。このポリマーを沈降させ、上澄み液をデカンテーションで除去した後、さらに、メタノール/水=1/1(体積/体積)を加えて、該ポリマーを洗浄した。これをろ過して得られたポリマーを乾燥させて、7.50gの白色ポリマーを得た。上記白色ポリマーは、1H−NMRにより測定したところ、下記化学構造式(III)に示す構造(l:m:n=21:58:21)のポリビニルアセタール系樹脂であった。また、示差走査熱量計により、該白色ポリマーのガラス転移温度を測定したところ、120℃であった。
[Reference Example 1]
After drying 5.0 g of a polyvinyl alcohol-based resin [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name “NH-18” (polymerization degree: 1800, saponification degree: 99.0%)] at 105 ° C. for 2 hours, Dissolved in 95 ml of dimethyl sulfoxide (DMSO). To this, 2.02 g of 2,4,6-trimethylbenzaldehyde (mesitaldehyde) and 0.44 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate were added and stirred at 40 ° C. for 2 hours. To this, 13.41 g of 1,1-diethoxyethane (acetal) was added and further stirred at 40 ° C. for 2 hours. Thereafter, 1.18 g of triethylamine was added to complete the reaction. The obtained reaction product (polymer) was dropped into a methanol solution, and reprecipitation was performed. After the polymer was allowed to settle and the supernatant was removed by decantation, methanol / water = 1/1 (volume / volume) was further added to wash the polymer. The polymer obtained by filtering this was dried to obtain 7.50 g of a white polymer. The white polymer was a polyvinyl acetal resin having a structure (l: m: n = 21: 58: 21) represented by the following chemical structural formula (III) as measured by 1 H-NMR. Moreover, it was 120 degreeC when the glass transition temperature of this white polymer was measured with the differential scanning calorimeter.

[参考例2]
サンプル瓶に、参考例1で得られたポリビニルアセタール系樹脂の粉末と、溶剤とを加え、各種の溶剤に対する該ポリビニルアセタール系樹脂の23℃および40℃における溶解性を調べた。表1に溶解性試験の結果を示す。試験は全て目視観察によって×、△、○、◎の4段階に区別した。評価基準は、溶剤100に対し、樹脂が0(重量比)以上5(重量比)未満溶解したものを“×”、溶剤100に対し、樹脂が5(重量比)以上15(重量比)未満溶解したものを“△”、溶剤100に対し、樹脂が15(重量比)以上25(重量比)未満溶解したものを“○”、溶剤100に対し、樹脂が25(重量比)以上溶解したものを“◎”とした。
[Reference Example 2]
The polyvinyl acetal resin powder obtained in Reference Example 1 and a solvent were added to a sample bottle, and the solubility of the polyvinyl acetal resin in various solvents at 23 ° C. and 40 ° C. was examined. Table 1 shows the results of the solubility test. All tests were classified into four stages of x, Δ, ○, and ◎ by visual observation. The evaluation criteria are “x” when the resin is dissolved in the solvent 100 from 0 (weight ratio) to less than 5 (weight ratio), and the resin is 5 (weight ratio) to less than 15 (weight ratio) in the solvent 100 “Δ” indicates that the resin is dissolved, and “◯” indicates that the resin is dissolved in the solvent 100 by 15 (weight ratio) or more and less than 25 (weight ratio), and the resin dissolves in the solvent 100 by 25 (weight ratio) or more. The thing was designated as “◎”.

[実施例1]
参考例1で得られたポリビニルアセタール系樹脂(30重量部)をトルエン(100重量部)に溶解し23重量%の溶液を調整した。この溶液を、厚み75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム[東レ(株)製 商品名「ルミラーS27−E」]の表面に、コンマコーターにてシート状に均一に流延し、多室型の空気循環式乾燥オーブン中(誤差±1℃)で、80℃で20分間、120℃で20分間、140℃で30分間と低温から徐々に昇温しながら溶剤を蒸発させた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離して、幅300mm、厚み80μmの高分子フィルを作製した。この高分子フィルムの透過率は90%、吸水率は3%、残留揮発成分量が5%であった。この高分子フィルム(平均屈折率=1.50、Re[550]=2.0nm、Rth[550]=2.0nm)を、130℃±1℃の空気循環式乾燥オーブン内で、ロール延伸機を用いてフィルム長手方向に1.5倍、縦一軸延伸した。得られた位相差フィルムAの特性を、以下実施例2〜3のフィルム特性と併せて下記表2に示す。また、上記位相差フィルムAの一部を80℃±1℃の空気循環式乾燥オーブン内で放置し、100時間後のRe[550]を測定したところ、Re[550]の変化は2%未満であり、上記位相差フィルムAは、優れた位相差値の安定性を示した。
[Example 1]
The polyvinyl acetal resin (30 parts by weight) obtained in Reference Example 1 was dissolved in toluene (100 parts by weight) to prepare a 23% by weight solution. This solution is uniformly cast in the form of a sheet with a comma coater on the surface of a polyethylene terephthalate film [trade name “Lumirror S27-E” manufactured by Toray Industries, Inc.] having a thickness of 75 μm. In the oven (error ± 1 ° C.), the solvent was evaporated while gradually raising the temperature from low temperature to 80 ° C. for 20 minutes, 120 ° C. for 20 minutes, and 140 ° C. for 30 minutes. The polyethylene terephthalate film was peeled off to produce a polymer film having a width of 300 mm and a thickness of 80 μm. This polymer film had a transmittance of 90%, a water absorption of 3%, and a residual volatile component content of 5%. This polymer film (average refractive index = 1.50, Re [550] = 2.0 nm, Rth [550] = 2.0 nm) is roll-stretched in an air circulation drying oven at 130 ° C. ± 1 ° C. The film was stretched uniaxially by 1.5 times in the longitudinal direction of the film. The properties of the obtained retardation film A are shown in Table 2 below together with the film properties of Examples 2-3. A part of the retardation film A was left in an air circulation type drying oven at 80 ° C. ± 1 ° C., and the Re [550] after 100 hours was measured. The change in Re [550] was less than 2%. The retardation film A exhibited excellent stability of the retardation value.

[実施例2]
参考例1で得られたポリビニルアセタール系樹脂28.5重量部に、液晶化合物[BASF社製 商品名「Paliocolor LC242」]1.5重量部を混合した樹脂組成物(30重量部)を、メチルイソブチルケトン100重量部に溶解し、23重量%の溶液を調製した。この溶液を、厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム[富士写真フィルム(株)製 商品名「UZ−TAC」]の表面に、コンマコーターにてシート状に均一に流延し、多室型の空気循環式乾燥オーブン中(誤差±1℃)で、80℃で20分間、120℃で20分間、140℃で30分間と低温から徐々に昇温しながら溶剤を蒸発させた。記トリアセチルセルロースフィルムを剥離して、幅300mm、厚み92μmの高分子フィルを作製した。この高分子フィルムの透過率は90%、吸水率は2%、残留揮発成分量が4%であった。この高分子フィルム(平均屈折率=1.51、Re[550]=1.8nm、Rth[550]=2.1nm)を、130℃±1℃の空気循環式乾燥オーブン内で、ロール延伸機を用いてフィルム長手方向に1.5倍、縦一軸延伸した。得られた位相差フィルムBの特性は、表2に示す。
[Example 2]
A resin composition (30 parts by weight) obtained by mixing 1.5 parts by weight of a liquid crystal compound [trade name “Paliocolor LC242” manufactured by BASF Corp.] with 28.5 parts by weight of the polyvinyl acetal resin obtained in Reference Example 1, It was dissolved in 100 parts by weight of isobutyl ketone to prepare a 23% by weight solution. This solution is uniformly cast in the form of a sheet with a comma coater on the surface of an 80 μm thick triacetylcellulose film [trade name “UZ-TAC” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.], and multi-chamber air circulation The solvent was evaporated while gradually raising the temperature from a low temperature in an oven drying oven (error ± 1 ° C.) at 80 ° C. for 20 minutes, 120 ° C. for 20 minutes, and 140 ° C. for 30 minutes. The triacetylcellulose film was peeled off to produce a polymer film having a width of 300 mm and a thickness of 92 μm. This polymer film had a transmittance of 90%, a water absorption of 2%, and a residual volatile component amount of 4%. This polymer film (average refractive index = 1.51, Re [550] = 1.8 nm, Rth [550] = 2.1 nm) is roll-stretched in an air circulation drying oven at 130 ° C. ± 1 ° C. The film was stretched uniaxially by 1.5 times in the longitudinal direction of the film. The properties of the obtained retardation film B are shown in Table 2.

[実施例3]
実施例1と同様の方法により得られた、厚み180μmの高分子フィルム(平均屈折率=1.50、Re[550]=2.8nm、Rth[550]=3.0nm)の両側に、二軸延伸ポリプロピレンフィルム[東レ(株)製 商品名「トレファンE60−高収縮タイプ」(厚み60μm)]をアクリル系粘着剤(厚み15μm)を介して貼り合せた。その後、145℃±1℃の空気循環式乾燥オーブン内で、ロール延伸機を用いてフィルム長手方向に1.5倍、縦一軸延伸した。得られた位相差フィルムCの特性を、表2に示す。
[Example 3]
On both sides of a 180 μm-thick polymer film (average refractive index = 1.50, Re [550] = 2.8 nm, Rth [550] = 3.0 nm) obtained by the same method as in Example 1. An axial stretched polypropylene film [trade name “Trefan E60-high shrinkage type” (thickness 60 μm) manufactured by Toray Industries, Inc.] was bonded via an acrylic pressure-sensitive adhesive (thickness 15 μm). Thereafter, the film was uniaxially stretched 1.5 times in the longitudinal direction of the film using a roll stretching machine in an air circulation drying oven at 145 ° C. ± 1 ° C. Table 2 shows the properties of the obtained retardation film C.

なお、本例で用いた二軸延伸ポリプロピレンフィルムは、140℃における収縮率が、MD方向に6.4%、TD方向に12.8%であった。アクリル系粘着剤は、ベースポリマーとして、溶液重合により合成されたイソノニルアクリレート(重量平均分子量=550,000)を用い、該ポリマー100重量部に対して、ポリイソシアネート化合物の架橋剤[日本ポリウレタン(株)製 商品名「コロネートL」]3重量部、触媒[東京ファインケミカル(株)製 商品名「OL−1」]10重量部を混合したものを用いた。   The biaxially stretched polypropylene film used in this example had a shrinkage rate at 140 ° C. of 6.4% in the MD direction and 12.8% in the TD direction. The acrylic pressure-sensitive adhesive uses isononyl acrylate (weight average molecular weight = 550,000) synthesized by solution polymerization as a base polymer, and a polyisocyanate compound cross-linking agent [Nippon Polyurethane (100% by weight). A product obtained by mixing 3 parts by weight of a trade name “Coronate L” manufactured by Co., Ltd. and 10 parts by weight of a catalyst [trade name “OL-1” manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.] was used.

[評価]
実施例1〜3に示すように、本発明の製造方法によって得られた位相差フィルムは、光弾性係数の絶対値が小さく、且つ、短波長ほど位相差値が小さい逆波長分散特性を示した。実施例2に示すように、特定構造を有するポリビニルアセタール系樹脂に、液晶化合物を添加した樹脂組成物を用いた場合は、延伸配向性がさらに向上し、従来の位相差フィルムに比べ、格段に薄い厚みで、λ/2やλ/4の位相差値を達成できた。また、実施例3に示すように、高分子フィルムを延伸することにより、nx>nz>ny(0nm<Rth[550]<Re[550])を満たす位相差フィルムが得られた。
[Evaluation]
As shown in Examples 1 to 3, the retardation film obtained by the production method of the present invention showed a reverse wavelength dispersion characteristic in which the absolute value of the photoelastic coefficient was small and the retardation value was smaller as the wavelength was shorter. . As shown in Example 2, when a resin composition in which a liquid crystal compound is added to a polyvinyl acetal resin having a specific structure is used, the stretch orientation is further improved, which is significantly higher than that of a conventional retardation film. A retardation value of λ / 2 or λ / 4 could be achieved with a small thickness. Further, as shown in Example 3, a retardation film satisfying nx>nz> ny (0 nm <Rth [550] <Re [550]) was obtained by stretching the polymer film.

以上のように、本発明の製造方法によって得られる位相差フィルムによれば、光弾性係数の絶対値が小さく、且つ、逆波長分散特性を示すため、液晶表示装置の表示特性向上に、極めて有用であると言える。本発明の液晶パネルは、液晶表示装置および液晶テレビに好適に用いられる。   As described above, according to the retardation film obtained by the production method of the present invention, the absolute value of the photoelastic coefficient is small and the inverse wavelength dispersion characteristic is exhibited, so that it is extremely useful for improving the display characteristic of the liquid crystal display device. It can be said that. The liquid crystal panel of the present invention is suitably used for a liquid crystal display device and a liquid crystal television.

本発明の高分子フィルムを成形する工程の概念を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the concept of the process which shape | molds the polymer film of this invention. 本発明の高分子フィルムを延伸する工程の概念を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the concept of the process of extending | stretching the polymer film of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

201 繰り出し部
202 基材
203 ガイドロール
204 コータ
205、206、207 乾燥手段
208 高分子フィルム
209 巻き取り部
301 第1の繰り出し部
302 高分子フィルム
303 第2の繰り出し部
304 収縮性フィルム
305 第3の繰り出し部
306 収縮性フィルム
307、308 ラミネートロール
309 温度制御手段
310、311、312、313 ロール
314 第1の巻き取り部
315、317 収縮性フィルム
316 第2の巻き取り部
318 位相差フィルム
319 第3の巻き取り部

201 Feeding unit 202 Base material 203 Guide roll 204 Coater 205, 206, 207 Drying means 208 Polymer film 209 Winding unit 301 First feeding unit 302 Polymer film 303 Second feeding unit 304 Shrinkable film 305 Third Feeding part 306 Contractive film 307, 308 Laminating roll 309 Temperature control means 310, 311, 312, 313 Roll 314 First winding part 315, 317 Contracting film 316 Second winding part 318 Phase difference film 319 Third Winding part

Claims (4)

下記式(1)および(2)を満足する位相差フィルムの製造方法であって、
トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも1種類を含む溶剤に、下記一般式(I)で表される構造を有するポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む、位相差フィルムの製造方法:
Re[450]<Re[550]<Re[650] ...(1)
20nm≦Re[550]≦400nm ...(2)
ただし、Re[450]、Re[550]およびRe[650]は、それぞれ、23℃における波長450nm、550nmおよび650nmの光で測定した面内の位相差値である。
(一般式(I)中、R1は、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を表す。ただし、R2およびR3は、同時に水素原子ではない。lは2以上の整数を表す。)。
A method for producing a retardation film satisfying the following formulas (1) and (2):
A solvent containing at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone is mainly composed of a polyvinyl acetal resin having a structure represented by the following general formula (I). Including a step of casting a solution prepared by dissolving a resin composition on a surface of a substrate in the form of a sheet and evaporating a solvent to obtain a polymer film, and a step of stretching the polymer film. Production method of retardation film:
Re [450] <Re [550] <Re [650] (1)
20 nm ≦ Re [550] ≦ 400 nm (2)
However, Re [450], Re [550], and Re [650] are in-plane retardation values measured with light having wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm at 23 ° C., respectively.
(In general formula (I), R1 has a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, or a substituent. Represents an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted anthranyl group, or an optionally substituted phenanthrenyl group, R2, R3 and R4 each independently represent a hydrogen atom, a carbon number; 1 to 4 linear, branched or cyclic alkyl group, 1 to 4 linear or branched alkoxyl group, halogen atom, halogenated alkyl group, nitro group, amino group, hydroxyl group, A cyano group or a thiol group, provided that R2 and R3 are not hydrogen atoms at the same time. L represents an integer of 2 or more).
前記ポリビニルアセタール系樹脂が、下記一般式(II)で表される構造である、請求項に記載の位相差フィルムの製造方法:
(一般式(II)中、R1、R5およびR6は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、置換基を有していてもよいアントラニル基、又は置換基を有していてもよいフェナントレニル基を表す。R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜4の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分鎖状のアルコキシル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、シアノ基又はチオール基を示す。ただし、R2およびR3は、同時に水素原子ではない。R7は、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状、分鎖状若しくは環状のアルキル基、ベンジル基、シリル基、リン酸基、アシル基、ベンゾイル基、またはスルホニル基を示す。l、m、およびnは2以上の整数を表す。)。
The method for producing a retardation film according to claim 1 , wherein the polyvinyl acetal resin has a structure represented by the following general formula (II):
(In general formula (II), R 1, R 5 and R 6 may each independently have a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituent. A phenyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted anthranyl group, or an optionally substituted phenanthrenyl group, each of R2, R3 and R4 represents Independently, a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a linear or branched alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a halogenated alkyl group, A nitro group, an amino group, a hydroxyl group, a cyano group or a thiol group, wherein R2 and R3 are not hydrogen atoms at the same time, R7 is a hydrogen atom, linear, branched or cyclic with 1 to 8 carbon atoms; Alkyl group Jill group, a silyl group, a phosphate group, an acyl group, .l showing a benzoyl group or a sulfonyl group,, m, and n is an integer of 2 or more.).
前記樹脂組成物が、前記ポリビニルアセタール系樹脂100に対し、液晶化合物を0を超え20(重量比)以下含む、請求項1または2に記載の位相差フィルムの製造方法。 The resin composition is, with respect to the polyvinyl acetal resin 100, a liquid crystal compound containing more than 20 (weight ratio) or less 0, method for producing a retardation film according to claim 1 or 2. 前記高分子フィルムの厚みが20μm〜300μmである、請求項1からのいずれかに記載の位相差フィルムの製造方法。 The polymer film thickness is 20Myuemu~300myuemu, method for producing a retardation film according to any one of claims 1 to 3.
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