JP4667856B2 - Method for producing polybenzazole complex and polybenzazole complex - Google Patents

Method for producing polybenzazole complex and polybenzazole complex Download PDF

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本発明は、分子鎖が高度に配向されることにより優れた異方性機能を有するとともに、その物性が改善されたポリベンズアゾール複合体の製造方法およびポリベンズアゾール複合体に関する。 The present invention, which has excellent anisotropy function by molecular chains are highly oriented, a manufacturing method and a polybenzazole complex of polybenzazole complex physical properties thereof are improved.

近年、ポリベンズアゾールにより形成されるフィルムは、高強度及び高弾性率を有し、耐熱性や難燃性に優れていることから、磁気テープ、電気電子部品用絶縁フィルム又は液晶配向膜等の新規用途に向けて多くの研究が行なわれている。例えば、特許文献1には平滑性に優れる特定の表面粗さのフィルム形のポリベンズアゾール成形体が開示されている。特許文献2には磁気記録媒体に好適な特定の伸度やヤング率を有するフィルム状のポリベンズアゾール成形体が開示されている。さらに、特許文献3にはポリパラフェニレンベンゾビスチアゾールフィルムの製造方法が示されており、特許文献4には2軸延伸して延伸方向に配向させたフィルム形のポリベンズアゾール成形体が開示されている。また、機械的な強度をさらに向上させる目的で、特許文献5には剛直高分子を三次元網目鎖構造とした高分子複合体が開示されている。特許文献6には剛直高分子をマトリックスポリマー中に分子レベルで分散させることにより、機械的強度などに優れた高分子ブレンド系複合体が開示されている。   In recent years, films formed from polybenzazole have high strength and high elastic modulus, and are excellent in heat resistance and flame retardancy, such as magnetic tape, insulating films for electrical and electronic parts, liquid crystal alignment films, etc. Much research is being done for new applications. For example, Patent Document 1 discloses a film-shaped polybenzazole molded body having a specific surface roughness excellent in smoothness. Patent Document 2 discloses a film-like polybenzazole molded body having specific elongation and Young's modulus suitable for a magnetic recording medium. Furthermore, Patent Document 3 discloses a method for producing a polyparaphenylene benzobisthiazole film, and Patent Document 4 discloses a polybenzazole molded body in the form of a film that is biaxially stretched and oriented in the stretching direction. ing. For the purpose of further improving mechanical strength, Patent Document 5 discloses a polymer composite having a rigid polymer having a three-dimensional network chain structure. Patent Document 6 discloses a polymer blend composite having excellent mechanical strength and the like by dispersing a rigid polymer in a matrix polymer at a molecular level.

ところが、最近の小型化及び薄型化の傾向が加速する半導体パッケージ材料や高機能化及び高性能化が進む電子デバイスの材料に要求される特性としては、従来のポリベンズアゾール成形体の高強度、高弾性率及び高耐熱性に加えて新たな特性が求められている。すなわち、ポリベンズアゾール成形体において、その光学的性質、磁気的性質、力学的性質、熱的性質、電気的性質等の各種特性が、該成形体の特定の方向において特に強化されている、いわゆる異方性機能が求められている。しかしながら、従来技術である機械的な延伸方法やせん断流動を利用する方法では、ポリベンズアゾールの分子鎖が剛直な棒状であるため、ポリベンズアゾールの分子鎖が成形体の表面に沿って配向したものしか得られなかった。したがって、フィルム状の成形体において、その厚み方向に分子鎖を配向させ、当該方向に異方性機能を発現させることは、上記の従来技術では全く不可能であった。   However, as the characteristics required for semiconductor package materials that have recently been accelerating downsizing and thinning and materials for electronic devices that are becoming more functional and high performance, the high strength of conventional polybenzazole moldings, In addition to high elastic modulus and high heat resistance, new characteristics are required. That is, in the polybenzazole molded body, various properties such as optical properties, magnetic properties, mechanical properties, thermal properties, electrical properties and the like are particularly enhanced in a specific direction of the molded product, so-called An anisotropic function is required. However, in the conventional mechanical stretching method and the method using shear flow, the molecular chain of polybenzazole is a rigid rod, so the molecular chain of polybenzazole is oriented along the surface of the molded body. Only thing was obtained. Therefore, in the film-like molded body, it is impossible to align molecular chains in the thickness direction and develop an anisotropic function in the direction in the above prior art.

また、最近では、小型電子機器にも高速動作の半導体素子が使用されるようになってきたが、この高速動作半導体素子は発熱量が大きく、高密度実装状態とも相まって、いかにしてデバイスの放熱性を高めるかということが問題となっている。しかし、ポリイミドを含めた多くの高分子材料は熱伝導性が低く、放熱性が不十分である。伝熱性が良好な金属箔を基材の一部に用いてメタルベース基板を形成したり、金属微粉末等を高分子材料に添加して熱伝導性を高めたデバイス材料を得るという試みも行われている。しかし、これらの熱伝導性改良手段は、電気伝導度の上昇、すなわち電気絶縁性の低下を伴なうので、フレキシブル配線板等の用途に対しては好ましくない。したがって、このような用途においては、特に熱伝導性について優れた異方性機能を有するポリベンズアゾール成形体の開発が期待されている。
特開平11−171993号公報 特開2000−273214号公報 特開昭63−74612号公報 特表平6−503521号公報 特開2001−11189号公報 特開平9−157522号公報
Recently, semiconductor devices that operate at high speed have come to be used in small electronic devices. This high-speed operating semiconductor device generates a large amount of heat and is coupled with the state of high-density mounting. The problem is whether to improve the sex. However, many polymer materials including polyimide have low thermal conductivity and insufficient heat dissipation. Attempts have also been made to form a metal base substrate using a metal foil with good heat conductivity as part of the base material, or to obtain a device material with improved thermal conductivity by adding metal fine powder to a polymer material. It has been broken. However, these means for improving thermal conductivity are accompanied by an increase in electrical conductivity, that is, a decrease in electrical insulation, and thus are not preferable for applications such as flexible wiring boards. Therefore, in such applications, development of a polybenzazole molded body having an anisotropic function particularly excellent in thermal conductivity is expected.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-171993 JP 2000-273214 A JP-A-63-74612 JP-T 6-503521 JP 2001-11189 A JP 9-157522 A

しかしながら、ポリベンズアゾール単体で、その分子鎖を一定方向に高度に配向させた成形体を形成する場合、得られる成形体は、熱伝導性、線膨張係数、誘電率、光透過性、気体透過率、液体透過率、電気伝導率、およびイオン伝導率等の特性において優れた異方性機能を発現するものの、ポリベンズアゾールの分子鎖が剛直であるために、柔軟性に乏しく、特に分子鎖の配向方向に直交する方向における機械的強度が弱く、脆くなる傾向にあった。上記特許文献5および6には、機械的強度が改善された高分子複合体が開示されているが、これらの高分子複合体に上記のような異方性機能を付与する方法は示唆されていなかった。   However, in the case of forming a molded body in which the molecular chain is highly oriented in a certain direction with polybenzazole alone, the resulting molded body has thermal conductivity, linear expansion coefficient, dielectric constant, light transmittance, gas permeability. It exhibits excellent anisotropy function in properties such as conductivity, liquid permeability, electrical conductivity, and ionic conductivity, but the polybenzazole molecular chain is rigid, so it has poor flexibility, especially molecular chain The mechanical strength in the direction perpendicular to the orientation direction was weak and tended to be brittle. Patent Documents 5 and 6 disclose polymer composites with improved mechanical strength, but methods for imparting the above anisotropic functions to these polymer composites are suggested. There wasn't.

本発明は、上記のような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、分子鎖が一定方向に高度に配向されることにより、優れた異方性機能を発現するとともに、可撓性や機械的強度などの物性が改善されたポリベンズアゾール複合体の製造方法およびポリベンズアゾール複合体を提供することにある。 The present invention has been made paying attention to the problems existing in the prior art as described above. The purpose of the polybenzazole composite is to have excellent anisotropic functions and improved physical properties such as flexibility and mechanical strength by highly oriented molecular chains in a certain direction. It is in providing the manufacturing method of a body, and a polybenzazole complex .

上記問題点を解決するために、請求項に記載の発明は、ポリベンズアゾールと、少なくとも1種類の物性調整材とを含む、ポリベンズアゾール複合体を製造する方法であって、前記ポリベンズアゾールは、下記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを有し、 In order to solve the above problems, the invention described in claim 1 is a method for producing a polybenzazole composite comprising polybenzazole and at least one physical property modifier, wherein The azole has at least one of the repeating units represented by the following general formulas (1) to (4),

Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar及びArは芳香族炭化水素基をそれぞれ表し、nは10〜500の整数であり、
下記式(i)によって求められるポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖の配向度Aが0.6以上1.0未満の範囲であり、
配向度A=(180−ΔB)/180・・・(i)
(式中、ΔBは該成形体のX線回折測定によるピーク散乱角を固定して、方位角方向の0〜360°までの強度分布における半値幅を表す)
前記物性調整材は、
ポリオレフィン系化合物、ポリエステル系化合物、ポリアクリル系化合物、ポリメタクリル系化合物、ポリビニル系化合物、ポリスチレン系化合物、ポリウレタン系化合物、ポリエーテルアミド系化合物、ポリエステルアミド系化合物、芳香族系ポリマー、フルオロアルキル高分子、液晶性高分子、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、及び液晶性エポキシ樹脂から選ばれるものであり、
該方法が、
前記ポリベンズアゾールと少なくとも1種の物性調整材とを含み、前記ポリベンズアゾールのリオトロピック液晶性を発現し得る混合溶液を調製する工程と、
前記リオトロピック液晶性を発現させた混合溶液に一定方向の磁場または電場を印加することにより、同混合溶液中のポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖を一定方向に配向させる工程と、
そのポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖の配向状態を維持したまま、前記混合溶液を凝固させて、ポリベンズアゾールの分子鎖の間に前記物性調整材が含浸された複合基体を形成する工程と、
前記複合基体を硬化させる工程とを含むことを要旨とする。
Figure 0004667856
In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 each represent an aromatic hydrocarbon group, n is an integer of 10 to 500,
The degree of orientation A of the molecular chain of the polybenzazole and the physical property modifier determined by the following formula (i) is in the range of 0.6 to less than 1.0,
Orientation degree A = (180−ΔB) / 180 (i)
(In the formula, ΔB represents the half-value width in the intensity distribution from 0 to 360 ° in the azimuth direction with the peak scattering angle measured by X-ray diffraction measurement of the molded body fixed)
The physical property adjusting material is
Polyolefin compounds, polyester compounds, polyacrylic compounds, polymethacrylic compounds, polyvinyl compounds, polystyrene compounds, polyurethane compounds, polyetheramide compounds, polyesteramide compounds, aromatic polymers, fluoroalkyl polymers , Liquid crystalline polymer, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, triphenolalkane type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and It is chosen from liquid crystalline epoxy resins,
The method is
A step of said polybenzazole and saw including at least one physical property adjusting material to prepare a mixed solution capable of expressing a lyotropic liquid crystal of said polybenzazole,
Applying a magnetic field or an electric field in a certain direction to the mixed solution exhibiting the lyotropic liquid crystallinity, thereby orienting molecular chains of the polybenzazole and the physical property adjusting material in the mixed solution in a certain direction;
A step of solidifying the mixed solution while maintaining the alignment state of the molecular chains of the polybenzazole and the physical property adjusting material to form a composite substrate in which the physical property adjusting material is impregnated between the molecular chains of the polybenzazole. When,
And a step of curing the composite substrate.

請求項に記載の発明は、ポリベンズアゾールと、第1及び第2の物性調整材とを含む、ポリベンズアゾール複合体を製造する方法であって、前記ポリベンズアゾールは、下記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを有し、 The invention according to claim 2 is a method for producing a polybenzazole complex comprising polybenzazole and first and second physical property modifiers, wherein the polybenzazole has the following general formula ( Having at least one of the repeating units represented by 1) to (4),

Figure 0004667856
Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar及びArは芳香族炭化水素基をそれぞれ表し、nは10〜500の整数であり、
下記式(i)によって求められるポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖の配向度Aが0.6以上1.0未満の範囲であり、
配向度A=(180−ΔB)/180・・・(i)
(式中、ΔBは該成形体のX線回折測定によるピーク散乱角を固定して、方位角方向の0〜360°までの強度分布における半値幅を表す)
前記第1及び第2の物性調整材は、
ポリオレフィン系化合物、ポリエステル系化合物、ポリアクリル系化合物、ポリメタクリル系化合物、ポリビニル系化合物、ポリスチレン系化合物、ポリウレタン系化合物、ポリエーテルアミド系化合物、ポリエステルアミド系化合物、芳香族系ポリマー、フルオロアルキル高分子、液晶性高分子、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、及び液晶性エポキシ樹脂から選ばれるものであり、
該方法が、
前記ポリベンズアゾールと第1の物性調整材とを含み、前記ポリベンズアゾールのリオトロピック液晶性を発現し得る混合溶液を調製する工程と、
前記リオトロピック液晶性を発現させた混合溶液に一定方向の磁場または電場を印加することにより、同混合溶液中のポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖を一定方向に配向させる工程と、
そのポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖の配向状態を維持したまま、前記混合溶液を凝固させて、ポリベンズアゾールと第1の物性調整材との複合基体を形成する工程と、
前記複合基体の分子鎖の間に第2の物性調整材を含浸させる工程と、
前記第2の物性調整材を含浸させた複合基体を硬化させる工程とを有することを要旨とする。
請求項3に記載の発明は、ポリベンズアゾールと、少なくとも1種類の物性調整材とを含む、ポリベンズアゾール複合体であって、前記ポリベンズアゾールは、下記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを有し、
Figure 0004667856
Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar及びArは芳香族炭化水素基を表し、nは10〜500の整数であり、
前記物性調整材は、ポリイミドであり、該複合体前記ポリベンズアゾールと前記ポリイミドとを含む混合溶液から得られることで前記ポリベンズアゾールの分子鎖の間に前記ポリイミドが含浸されており、前記ポリイミドの分子鎖が、前記ポリベンズアゾールの分子鎖と共に一定方向に配向されており、下記式(i)によって求められる前記ポリベンズアゾールおよび前記ポリイミドの分子鎖の配向度Aが0.6以上1.0未満の範囲であることを要旨とする。
配向度A=(180−ΔB)/180 ・・・ (i)
(式中、ΔBは該成形体のX線回折測定によるピーク散乱角を固定して、方位角方向の0〜360°までの強度分布における半値幅を表す
請求項4に記載の発明は、ポリベンズアゾールと、少なくとも1種類の物性調整材とを含む、ポリベンズアゾール複合体であって、前記ポリベンズアゾールは、上記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを有し、上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar 及びAr は芳香族炭化水素基を表し、nは10〜500の整数であり、前記物性調整材は、ポリイミドであり、該複合体は、前記ポリベンズアゾールと前記ポリイミドとを含む混合溶液から得られることで前記ポリベンズアゾールの分子鎖の間に前記ポリイミドが含浸されており、前記ポリイミドの分子鎖が、前記ポリベンズアゾールの分子鎖と共に一定方向に配向されたポリベンズアゾール複合基体にエポキシ樹脂が含浸されており、上記式(i)によって求められる前記ポリベンズアゾールおよび前記ポリイミドおよび前記エポキシ樹脂の分子鎖の配向度Aが0.6以上1.0未満の範囲であることを要旨とする
請求項に記載の発明は、請求項に記載のポリベンズアゾール複合体において、前記ポリベンズアゾール複合基体がフィルム状であることを要旨とする。
Figure 0004667856
Figure 0004667856
In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 each represent an aromatic hydrocarbon group, n is an integer of 10 to 500,
The degree of orientation A of the molecular chain of the polybenzazole and the first physical property modifier determined by the following formula (i) is in the range of 0.6 or more and less than 1.0,
Orientation degree A = (180−ΔB) / 180 (i)
(In the formula, ΔB represents the half-value width in the intensity distribution from 0 to 360 ° in the azimuth direction with the peak scattering angle measured by X-ray diffraction measurement of the molded body fixed)
The first and second property adjusting materials are:
Polyolefin compounds, polyester compounds, polyacrylic compounds, polymethacrylic compounds, polyvinyl compounds, polystyrene compounds, polyurethane compounds, polyetheramide compounds, polyesteramide compounds, aromatic polymers, fluoroalkyl polymers , Liquid crystalline polymer, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, triphenolalkane type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and It is chosen from liquid crystalline epoxy resins,
The method is
A step of said polybenzazole and saw including a first physical property adjusting material to prepare a mixed solution capable of expressing a lyotropic liquid crystal of said polybenzazole,
Applying a magnetic field or electric field in a certain direction to the mixed solution in which the lyotropic liquid crystal properties are expressed, thereby orienting molecular chains of the polybenzazole and the first physical property adjusting material in the mixed solution in a certain direction;
Maintaining the orientation state of the molecular chains of the polybenzazole and the first physical property modifier, solidifying the mixed solution to form a composite substrate of the polybenzazole and the first physical property modifier,
Impregnating a second physical property adjusting material between the molecular chains of the composite substrate;
And a step of curing the composite substrate impregnated with the second physical property adjusting material.
The invention according to claim 3 is a polybenzazole complex including polybenzazole and at least one physical property modifier, wherein the polybenzazole has the following general formulas (1) to (4). Having at least one of the repeating units represented by
Figure 0004667856
Figure 0004667856
In the above formulas, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 represents an aromatic hydrocarbon group, n is an integer of 10 to 500,
The physical property adjusting material is a polyimide, the complex, the polyimide during the molecular chains of the polybenzazole by obtained from a mixed solution containing said said polybenzazole polyimide is impregnated, The molecular chain of the polyimide is oriented in a certain direction together with the molecular chain of the polybenzazole , and the degree of orientation A of the molecular chain of the polybenzazole and the polyimide determined by the following formula (i) is 0.6 or more The gist is that it is less than 1.0.
Orientation degree A = (180−ΔB) / 180 (i)
(In the formula, ΔB represents the half-value width in the intensity distribution from 0 to 360 ° in the azimuth direction with the peak scattering angle measured by X-ray diffraction measurement of the molded body fixed )
The invention according to claim 4 is a polybenzazole complex including polybenzazole and at least one physical property modifier, wherein the polybenzazole is represented by the general formulas (1) to (4). In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 represent an aromatic hydrocarbon group, and n represents 10 to 10 The physical property adjusting material is polyimide, and the composite is obtained from a mixed solution containing the polybenzazole and the polyimide, whereby the polyimide is interposed between the molecular chains of the polybenzazole. The polybenzazole composite substrate in which the molecular chain of the polyimide is oriented in a certain direction together with the molecular chain of the polybenzazole is impregnated with an epoxy resin. It is, and summarized in that the orientation degree A of molecular chains of said polybenzazole and the polyimide and the epoxy resin obtained by the above formula (i) is in a range of 0.6 or more and less than 1.0.
The gist of the invention described in claim 5 is that, in the polybenzazole complex according to claim 4 , the polybenzazole composite substrate is in the form of a film.

本発明は、以上のように構成されているため、次のような効果を奏する Since this invention is comprised as mentioned above, there exist the following effects .

請求項に記載のポリベンズアゾール複合体の製造方法によれば、ポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖が一定方向に配向したポリベンズアゾール複合体を容易に製造することができる。また、ポリベンズアゾールの分子鎖を磁場または電場によって配向させるため、その配向方向を自由に制御することが可能となる。 According to the method for producing a polybenzazole complex according to claim 1 , it is possible to easily produce a polybenzazole complex in which the molecular chains of the polybenzazole and the physical property modifier are oriented in a certain direction. Further, since the molecular chains of polybenzazole are aligned by a magnetic field or an electric field, the alignment direction can be freely controlled.

請求項2に記載のポリベンズアゾール複合体の製造方法によれば、ポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖が一定方向に配向され、さらに第2の物性調整材が複合されたポリベンズアゾール複合体を容易に製造することができる。また、ポリベンズアゾールの分子鎖を磁場または電場によって配向させるため、その配向方向を自由に制御することが可能となる。
請求項3に記載のポリベンズアゾール複合体によれば、ポリベンズアゾールおよび物性調整材の双方を一定方向に配向させることにより、その配向方向において、より優れた異方性機能を発揮することができる。さらに、剛直なポリベンズアゾールにポリイミドを複合させることにより、該複合体の可撓性および機械的強度を改善することができる。
請求項及び請求項に記載のポリベンズアゾール複合体によれば、請求項3の効果に加え、エポキシ樹脂を複合させることにより、該複合体の可撓性および機械的強度を改善することができる。
According to the method for producing a polybenzazole complex according to claim 2, the polybenzazole and the first physical property adjusting material are aligned in a certain direction, and the second physical property adjusting material is further combined. A benzazole complex can be easily produced. Further, since the molecular chains of polybenzazole are aligned by a magnetic field or an electric field, the alignment direction can be freely controlled.
According to the polybenzazole complex of claim 3, by aligning both the polybenzazole and the physical property modifier in a certain direction, a more excellent anisotropic function can be exhibited in the orientation direction. it can. Furthermore, by conjugating the polyimide rigid polybenzazole can improve the flexibility and mechanical strength of the composite.
According to the polybenzazole complex according to claims 4 and 5, in addition to the effect of claim 3, by combining epoxy resin, to improve the flexibility and mechanical strength of the composite Can do.

以下、本発明のポリベンズアゾール複合体の実施形態について説明する。
図1に本発明のポリベンズアゾール複合体をポリベンズアゾール複合フィルム1として具体化した実施形態を示す。ポリベンズアゾール複合フィルム1は、ポリベンズアゾールに物性調整材が複合されたものであり、物性調整材は該フィルムに可撓性(柔軟性)や耐折強度のような特性を付与している。
Hereinafter, embodiments of the polybenzazole complex of the present invention will be described.
FIG. 1 shows an embodiment in which the polybenzazole composite of the present invention is embodied as a polybenzazole composite film 1. The polybenzazole composite film 1 is a polybenzazole compounded with a physical property adjusting material, and the physical property adjusting material imparts characteristics such as flexibility (flexibility) and folding resistance to the film. .

第1実施形態のポリベンズアゾール複合フィルム1においては、ポリベンズアゾールの分子鎖は一定方向、例えば図1のX軸方向、Y軸方向、またはZ軸方向に沿って高度に配向されて、ポリベンズアゾール基体を形成している。そのポリベンズアゾール基体、すなわちポリベンズアゾール分子鎖の間に、前記物性調整材が含浸されることにより、ポリベンズアゾールと物性調整材とが複合化されている。前記ポリベンズアゾール分子鎖の配向度Aは、0.6以上1.0未満の範囲である。   In the polybenzazole composite film 1 of the first embodiment, the molecular chains of polybenzazole are highly oriented along a certain direction, for example, the X-axis direction, the Y-axis direction, or the Z-axis direction in FIG. A benzazole substrate is formed. The polybenzazole base and the polybenzazole molecular chain are impregnated with the physical property adjusting material, so that the polybenzazole and the physical property adjusting material are combined. The degree of orientation A of the polybenzazole molecular chain is in the range of 0.6 or more and less than 1.0.

第2実施形態のポリベンズアゾール複合フィルム1においては、前記物性調整材の分子鎖が、前記ポリベンズアゾールの分子鎖と共に一定方向、例えば図1のX軸方向、Y軸方向、またはZ軸方向に高度に配向されることにより、ポリベンズアゾールと物性調整材とが複合化されている。前記物性調整材の分子鎖およびポリベンズアゾールの混合分子鎖の配向度は、0.6以上1.0未満の範囲にある。   In the polybenzazole composite film 1 of the second embodiment, the molecular chain of the physical property adjusting material is in a certain direction together with the molecular chain of the polybenzazole, for example, the X-axis direction, the Y-axis direction, or the Z-axis direction in FIG. By being highly oriented, polybenzazole and a physical property adjusting material are combined. The degree of orientation of the molecular chain of the physical property modifier and the mixed molecular chain of polybenzazole is in the range of 0.6 or more and less than 1.0.

第3実施形態のポリベンズアゾール複合フィルム1において、ポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材は、第1の物性調整材の分子鎖が、前記ポリベンズアゾールの分子鎖と共に一定方向、例えば図1のX軸方向、Y軸方向、またはZ軸方向に高度に配向されることにより、ポリベンズアゾール複合基体を形成している。このポリベンズアゾール複合基体、すなわち配向されたポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖の間に、さらに第2の物性調整材が含浸されることによって、ポリベンズアゾールと物性調整材とが複合化されている。前記第1の物性調整材およびポリベンズアゾールの混合分子鎖の配向度は、0.6以上1.0未満の範囲にある。第1の物性調整材と第2の物性調整材とは、同一の材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。   In the polybenzazole composite film 1 according to the third embodiment, the molecular chain of the polybenzazole and the first physical property adjusting material are in a certain direction along with the molecular chain of the polybenzazole, for example, FIG. The polybenzazole composite substrate is formed by being highly oriented in the X-axis direction, Y-axis direction, or Z-axis direction. This polybenzazole composite substrate, that is, a polybenzazole and a physical property modifier are combined by further impregnating a second physical property modifier between the molecular chains of the oriented polybenzazole and the physical property modifier. Has been. The degree of orientation of the mixed molecular chain of the first physical property adjusting material and polybenzazole is in the range of 0.6 or more and less than 1.0. The first physical property adjusting material and the second physical property adjusting material may be the same material or different materials.

上記第1〜3実施形態のポリベンズアゾール複合フィルム1では、ポリベンズアゾールの分子鎖、またはポリベンズアゾールおよび物性調整材の混合分子鎖(以下、「ポリベンズアゾールを含む混合分子鎖」とする)が一定方向に配向されている。それにより、その方向において光学的性質、磁気的性質、力学的性質、熱的性質、物理的性質及び電気的性質などの特性が強化された異方性機能を有する。さらに、ポリベンズアゾール複合フィルム1は、剛直な構造を有するポリベンズアゾールに物性調整材を添加することによって、その物性が改善されている。例えば、ポリベンズアゾール複合フィルム1は、適度な可撓性および優れた耐折強度を有する。また、第2実施形態においては、物性調整材は、ポリベンズアゾールと共に一定方向に配向されているため、特にその配向方向において複合材の物性を改善することができる。第3実施形態においては、第1の物性調整材は、ポリベンズアゾールと共に一定方向に配向されているため、特にその配向方向において複合材の物性を改善する。さらに、第2の物性調整材は特定の配向を有さないので、前記配向方向以外の方向においても複合材の物性を改善する。従って、第3実施形態によれば、可撓性や機械的強度のような物性をより改善することができる。   In the polybenzazole composite film 1 of the first to third embodiments, a molecular chain of polybenzazole or a mixed molecular chain of polybenzazole and a physical property modifier (hereinafter referred to as “mixed molecular chain containing polybenzazole”). ) Are oriented in a certain direction. Thereby, it has an anisotropic function with enhanced properties such as optical properties, magnetic properties, mechanical properties, thermal properties, physical properties and electrical properties in that direction. Furthermore, the physical property of the polybenzazole composite film 1 is improved by adding a physical property adjusting material to the polybenzazole having a rigid structure. For example, the polybenzazole composite film 1 has moderate flexibility and excellent folding strength. In the second embodiment, since the physical property adjusting material is oriented in a certain direction together with polybenzazole, the physical properties of the composite material can be improved particularly in the orientation direction. In the third embodiment, since the first physical property adjusting material is oriented in a certain direction together with polybenzazole, the physical property of the composite material is improved particularly in the orientation direction. Furthermore, since the second physical property adjusting material does not have a specific orientation, it improves the physical properties of the composite material in directions other than the orientation direction. Therefore, according to the third embodiment, physical properties such as flexibility and mechanical strength can be further improved.

本発明においてポリベンズアゾールとは、ポリベンゾオキサゾール(PBO)、ポリベンゾチアゾール(PBT)、ポリベンズイミダゾール(PBI)から選ばれる少なくとも一種を含む高分子を指す。このようなポリベンズアゾールとしては、PBO、PBT、PBIのいずれか一種からなるホモポリマー、PBO、PBT、PBIから選ばれる二種以上からなる混合物、ブロックコポリマー又はランダムコポリマー、およびPBO、PBT又はPBIのうち少なくとも一種を含むコポリマー等が挙げられる。   In the present invention, polybenzazole refers to a polymer containing at least one selected from polybenzoxazole (PBO), polybenzothiazole (PBT), and polybenzimidazole (PBI). Examples of such polybenzazoles include homopolymers composed of any one of PBO, PBT, and PBI, mixtures of two or more selected from PBO, PBT, and PBI, block copolymers, or random copolymers, and PBO, PBT, or PBI. Among them, a copolymer containing at least one of them can be mentioned.

PBOとは、芳香族基に結合した少なくとも1つのオキサゾール環を有する繰り返し単位からなる高分子を指し、例えば、ポリ(フェニレンベンゾビスオキサゾール)などが含まれる。PBTとは、芳香族基に結合した少なくとも1つのチアゾール環を有する繰り返し単位からなる高分子を指し、例えば、ポリ(フェニレンベンゾビスチアゾール)等が含まれる。PBIとは、芳香族基に結合した少なくとも1つのイミダゾール環を有する繰り返し単位からなる高分子を指し、例えばポリ(フェニレンベンズビスイミダゾール)等が含まれる。   PBO refers to a polymer composed of a repeating unit having at least one oxazole ring bonded to an aromatic group, and includes, for example, poly (phenylenebenzobisoxazole). PBT refers to a polymer composed of a repeating unit having at least one thiazole ring bonded to an aromatic group, and includes, for example, poly (phenylenebenzobisthiazole). PBI refers to a polymer composed of a repeating unit having at least one imidazole ring bonded to an aromatic group, and includes, for example, poly (phenylenebenzbisimidazole).

具体的には、本発明のポリベンズアゾール複合体は、下記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうち少なくともいずれかを有するポリベンズアゾールを含む。   Specifically, the polybenzazole complex of the present invention includes polybenzazole having at least one of repeating units represented by the following general formulas (1) to (4).

Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar及びArは芳香族炭化水素基をそれぞれ表し、nは10〜500の整数である。
Figure 0004667856
In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 each represents an aromatic hydrocarbon group, and n is an integer of 10 to 500.

Arの具体例としては、下記一般式(I)〜(IV)で示すものが挙げられる。 Specific examples of Ar 1 include those represented by the following general formulas (I) to (IV).

Figure 0004667856
Arの具体例としては、下記一般式(V)〜(VIII)で示すものが挙げられる。
Figure 0004667856
Specific examples of Ar 2 include those represented by the following general formulas (V) to (VIII).

Figure 0004667856
上記一般式(I)〜(VIII)中のZは、それぞれ酸素原子、イオウ原子、SO、CO、CH、C(CH、CF又はC(CFのいずれかを表すか、または、隣り合うベンゼン環中の炭素同士の直接結合を表す。また、上記一般式(I)〜(VIII)中のベンゼン環において、各炭素原子と結合している水素原子は低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子又はトリフルオロメチル等のハロゲン化アルキル基、ニトロ基、スルホン酸基、ホスホン酸基等に置換されていてもよい。この置換反応は、重縮合反応前に対応する上記部分を含む原材料において行なわれてもよいし、または重縮合反応後のポリベンズアゾールの対応する部分について行なわれてもよい。
Figure 0004667856
Z in the general formulas (I) to (VIII) represents an oxygen atom, a sulfur atom, SO 2 , CO, CH 2 , C (CH 3 ) 2 , CF 2, or C (CF 3 ) 2 , respectively. Or a direct bond between carbons in adjacent benzene rings. In the benzene rings in the above general formulas (I) to (VIII), the hydrogen atom bonded to each carbon atom is a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a halogen atom or a halogenated alkyl group such as trifluoromethyl, It may be substituted with a nitro group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, or the like. This substitution reaction may be performed on the raw material containing the corresponding part before the polycondensation reaction, or may be performed on the corresponding part of the polybenzazole after the polycondensation reaction.

本発明のポリベンズアゾール複合体は、最も好ましくは、上記一般式(1)および(2)の少なくともいずれかの繰り返し単位を有するポリベンズアゾールであって、前記式中、Xは酸素原子であり、ArおよびArは一般式(I)〜(VIII)においてZが酸素原子または直接結合を示すものであるポリベンズアゾールから形成される。このよう
な構造を有することにより、ポリベンズアゾール分子鎖がより直線的となり、一定方向に配向されることによって、より高度な異方性機能が発現する。
The polybenzazole complex of the present invention is most preferably a polybenzazole having at least one repeating unit of the above general formulas (1) and (2), wherein X is an oxygen atom , Ar 1 and Ar 2 are formed from polybenzazoles in which in formulas (I) to (VIII), Z represents an oxygen atom or a direct bond. By having such a structure, the polybenzazole molecular chain becomes more linear, and a higher degree of anisotropic function is expressed by being oriented in a certain direction.

また、本発明のポリベンズアゾールは、上記一般式(1)〜(4)で示す繰り返し単位の他に、その製造過程で生じる、下記式(IX)および(X)で示すような未反応の開環部分を有する繰り返し単位を含んでもよい。   In addition to the repeating units represented by the above general formulas (1) to (4), the polybenzazole of the present invention is an unreacted product represented by the following formulas (IX) and (X) generated in the production process. It may contain a repeating unit having a ring-opening moiety.

Figure 0004667856
上記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位を有するポリベンズアゾールは、溶媒に溶解すると所定の濃度範囲において光学異方性を示し、特に限られた濃度範囲においてはリオトロピック液晶性を示す。このようにポリベンズアゾールが光学異方性を示す状態、すなわちポリベンズアゾール分子鎖が一定の規則性を有している状態において、磁場または電場の印加などの手段により、ポリベンズアゾールの分子鎖をさらに所望の一定方向に配向させることによって、ポリベンズアゾールの分子鎖がより高度に配向した複合体を得ることができる。このように、本発明のポリベンズアゾール複合体は、ポリベンズアゾールの分子鎖が一定方向に配向されることにより、異方性機能を発現するように構成されている。
Figure 0004667856
The polybenzazole having the repeating units represented by the general formulas (1) to (4) exhibits optical anisotropy in a predetermined concentration range when dissolved in a solvent, and exhibits lyotropic liquid crystallinity particularly in a limited concentration range. Show. Thus, in the state where polybenzazole exhibits optical anisotropy, that is, in the state where the polybenzazole molecular chain has a certain regularity, the molecular chain of polybenzazole is applied by means such as application of a magnetic field or an electric field. Is further oriented in a desired constant direction to obtain a complex in which the molecular chains of polybenzazole are more highly oriented. Thus, the polybenzazole complex of the present invention is configured to exhibit an anisotropic function by aligning the molecular chain of polybenzazole in a certain direction.

第2および第3実施形態においては、ポリベンズアゾールとともに物性調整材の分子鎖も配向されている。この場合には、ポリベンズアゾールおよび物性調整材を溶媒に溶解した混合溶液が、所定の濃度範囲において光学異方性を示し、特に限られた濃度範囲においてリオトロピック液晶性を示すことが好ましい。   In the second and third embodiments, the molecular chains of the physical property adjusting material are oriented together with the polybenzazole. In this case, it is preferable that a mixed solution obtained by dissolving polybenzazole and a physical property modifier in a solvent exhibits optical anisotropy in a predetermined concentration range, and particularly exhibits lyotropic liquid crystallinity in a limited concentration range.

ポリベンズアゾールを含む分子鎖の配向は、ポリベンズアゾール複合体が所定の光線透過性を有する場合には、2枚の偏光子や偏光顕微鏡を用いた光学的異方性(位相差、複屈折)の測定による方法又は偏光赤外線吸収スペクトルによる解析法によって確認することができる。さらに、偏光ラマンスペクトル法、X線回析分析による方法、電子線回析分析による方法、電子顕微鏡により観察する方法等によっても確認することができる。   The orientation of the molecular chain containing polybenzazole is such that when the polybenzazole complex has a predetermined light transmittance, optical anisotropy (phase difference, birefringence using two polarizers or a polarizing microscope) is used. ) Measurement or a polarized infrared absorption spectrum analysis method. Further, it can be confirmed by a polarized Raman spectrum method, a method by X-ray diffraction analysis, a method by electron beam diffraction analysis, a method of observation by an electron microscope, and the like.

本発明のポリベンズアゾール複合体において、異方性が発現される特性としては、光学的性質、磁気的性質、力学的性質、熱的性質、物理的性質及び電気的性質から選ばれる少なくとも一種が有用である。より詳細には、熱伝導性、線膨張係数、誘電率、光透過性、気体透過率、液体透過率、電気伝導率、およびイオン伝導率等の特性が挙げられる。例えば、ポリベンズアゾール複合体中で一定方向に配向されたポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖がπ電子共役系分子として働き、π電子共役系が一定の配向方向に延びることにより、該複合体は磁気的性質において異方性機能を発現することができる。また、一般に高分子材料のような絶縁体における熱伝導はフォノンの
散乱により起こり、このフォノンは分子鎖の長手方向に沿って散乱し易いと考えらている。従って、複合体中においてポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が一定方向に配向されていることにより、その方向における熱伝導率λが向上し、優れた熱伝導性を発揮することが可能となる。
In the polybenzazole complex of the present invention, the characteristic that anisotropy is manifested is at least one selected from optical properties, magnetic properties, mechanical properties, thermal properties, physical properties, and electrical properties. Useful. More specifically, characteristics such as thermal conductivity, linear expansion coefficient, dielectric constant, light permeability, gas permeability, liquid permeability, electrical conductivity, and ionic conductivity can be mentioned. For example, a polybenzazole molecular chain oriented in a certain direction in a polybenzazole complex or a mixed molecular chain containing polybenzazole acts as a π-electron conjugated molecule, and the π-electron conjugated system extends in a certain orientation direction. Thus, the composite can exhibit an anisotropic function in magnetic properties. In general, heat conduction in an insulator such as a polymer material is caused by phonon scattering, and it is considered that this phonon is likely to be scattered along the longitudinal direction of the molecular chain. Therefore, when the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole is oriented in a certain direction in the composite, the thermal conductivity λ in that direction is improved, and excellent thermal conductivity is exhibited. It becomes possible.

上記第1〜3実施形態では、複合体中においてポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が一定方向に配向されており、下記式(i)によって求められる、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖の配向度Aが、0.6以上1.0未満の範囲にある。   In the first to third embodiments, the polybenzazole molecular chain obtained by the following formula (i) in which the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole is oriented in a certain direction in the complex. Or the orientation degree A of the mixed molecular chain containing polybenzazole is in the range of 0.6 or more and less than 1.0.

配向度A=(180−ΔB)/180 ・・・ (i)
このポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖の配向度Aは、ポリベンズアゾール複合体の広角X線回折測定(透過)を行うことによって求められる。
Orientation degree A = (180−ΔB) / 180 (i)
The degree of orientation A of the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole can be obtained by performing wide-angle X-ray diffraction measurement (transmission) of the polybenzazole complex.

配向度Aを求めるには、ポリベンズアゾール複合体について広角X線回折測定を行う。X線回折装置において、試料にX線を照射すると、該試料中に含まれる粒子(分子鎖)に配向がある場合には同心弧状の回折パターン(デバイ環)が得られる。まず、複合体試料について、このデバイ環の中心から半径方向におけるX線回折強度分布を示す回折パターンを得る(図2参照)。この回折パターンにおいて、横軸はX線の回折角2θを示し、横軸の特定の位置に確認されるピークは分子鎖間の距離を表すものと考えられている。この回折ピークが得られた角度(ピーク散乱角)を固定して、方位角方向(デバイ環の周方向)に0°〜360°までのX線回折強度分布を測定することにより、図3に示すような方位角方向のX線回折強度分布が得られる。この強度分布におけるピークが急峻であるほど、ポリベンズアゾールあるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が一定方向に高度に配向されていることを示している。従って、この方位角方向の強度分布において、ピーク高さの半分の位置における幅(半値幅ΔB)を求め、この半値幅ΔBを上記式(i)に代入することによって、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖間の配向度Aを算出することができる。例えば、図3に示す方位角方向の強度分布の場合、配向度Aは0.8である。   In order to obtain the orientation degree A, wide angle X-ray diffraction measurement is performed on the polybenzazole complex. In an X-ray diffractometer, when a sample is irradiated with X-rays, a concentric arc-shaped diffraction pattern (Debye ring) is obtained when the particles (molecular chains) contained in the sample are oriented. First, a diffraction pattern showing an X-ray diffraction intensity distribution in the radial direction from the center of the Debye ring is obtained for the composite sample (see FIG. 2). In this diffraction pattern, the horizontal axis represents the X-ray diffraction angle 2θ, and the peak confirmed at a specific position on the horizontal axis is considered to represent the distance between molecular chains. By fixing the angle (peak scattering angle) at which this diffraction peak was obtained and measuring the X-ray diffraction intensity distribution from 0 ° to 360 ° in the azimuth angle direction (circumferential direction of the Debye ring), FIG. An X-ray diffraction intensity distribution in the azimuth direction as shown is obtained. The steeper peak in the intensity distribution indicates that polybenzazole or a mixed molecular chain containing polybenzazole is highly oriented in a certain direction. Therefore, in the intensity distribution in the azimuth angle direction, a width at half the peak height (half-value width ΔB) is obtained, and this half-value width ΔB is substituted into the above formula (i), whereby the polybenzazole molecular chain or The degree of orientation A between the mixed molecular chains containing polybenzazole can be calculated. For example, in the case of the intensity distribution in the azimuth direction shown in FIG. 3, the degree of orientation A is 0.8.

本発明のポリベンズアゾール複合体における配向度Aは、好ましくは0.6以上1.0未満、さらに好ましくは0.65以上1.0未満、最も好ましくは0.7以上1.0未満の範囲にある。この配向度Aが0.6未満であると、前記複合体中においてポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が十分に配向されていない。従って、例えば、期待される異方性特性が熱伝導性である場合には、複合体の特定方向における熱伝導率λが低く、十分な熱伝導性が得られない。一方、1.0以上の配向度Aは、半値幅ΔBが常に正の値を示すため、上記式(i)からはとり得ない。配向度Aの範囲が0.6以上1.0未満であると、ポリベンズアゾール複合体中においてポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が十分に配向されており、その複合体はポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖の配向方向において優れた異方性機能、例えば、優れた熱伝導性を発揮できる。   The orientation degree A in the polybenzazole complex of the present invention is preferably in the range of 0.6 or more and less than 1.0, more preferably 0.65 or more and less than 1.0, and most preferably 0.7 or more and less than 1.0. It is in. When the degree of orientation A is less than 0.6, the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole is not sufficiently oriented in the complex. Therefore, for example, when the expected anisotropic characteristic is thermal conductivity, the thermal conductivity λ in a specific direction of the composite is low, and sufficient thermal conductivity cannot be obtained. On the other hand, an orientation degree A of 1.0 or more cannot be taken from the above formula (i) because the full width at half maximum ΔB always shows a positive value. When the range of the orientation degree A is 0.6 or more and less than 1.0, the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole is sufficiently oriented in the polybenzazole complex, and the complex Can exhibit an excellent anisotropic function, for example, excellent thermal conductivity, in the orientation direction of a polybenzazole molecular chain or a mixed molecular chain containing polybenzazole.

本発明のポリベンズアゾール複合体は、半導体用絶縁膜、配線基板材料、封止剤、ディスプレイ用配向膜、偏光フィルム用フィルム基材、磁気記録フィルム基材、コンデンサ用フィルム、太陽電池、面状発熱体、電磁波対策用フィルム、センサー、アクチュエータ、電池用材料、実装材料、ガスバリアー材、積層フィルム、フィルター、分離膜、イオン交換膜等において、異方性機能が必要とされる用途に用いることができる。   The polybenzazole composite of the present invention includes a semiconductor insulating film, a wiring board material, a sealant, a display alignment film, a polarizing film film base, a magnetic recording film base, a capacitor film, a solar cell, and a planar shape. Use in applications that require anisotropy in heating elements, electromagnetic wave prevention films, sensors, actuators, battery materials, mounting materials, gas barrier materials, laminated films, filters, separation membranes, ion exchange membranes, etc. Can do.

ポリベンズアゾール複合体をフィルム状に成形したポリベンズアゾール複合フィルム1
の場合、該フィルム1の厚みは1μm以上2mm以下であることが好ましい。フィルム1の厚みが1μm未満であると、同複合体において破断等の欠陥が生じやすい。一方、フィルム1の厚みが2mmを超えると、フィルム1の成形が困難となり、製造コストが嵩む傾向にある。
Polybenzazole composite film 1 formed by forming a polybenzazole composite into a film shape
In this case, the thickness of the film 1 is preferably 1 μm or more and 2 mm or less. If the thickness of the film 1 is less than 1 μm, defects such as breakage tend to occur in the composite. On the other hand, when the thickness of the film 1 exceeds 2 mm, it becomes difficult to form the film 1 and the manufacturing cost tends to increase.

一般にポリベンズアゾールの合成法には、間接重縮合法と直接重縮合法との2つの方法がある。間接重縮合法では、ポリベンズアゾール前駆体を経由し、該ポリベンズアゾール前駆体を熱処理することによって、該前駆体の含窒素環形成部を閉環させ、目的のポリベンズアゾールを得る。直接重縮合法では、ポリベンズアゾール前駆体を経由せずに、原料物質を直接反応させることによって、含窒素環形成部を閉環させて、目的のポリベンズアゾールを得る。本発明に用いるポリベンズアゾールは、直接重縮合法により合成することが好ましい。間接重縮合法によって、ポリベンズアゾール前駆体を熱処理して得られたポリベンズアゾールでは、加熱時にポリベンズアゾール分子の再配列が起こり、分子鎖の配向を妨げる要因となる。   In general, there are two methods for synthesizing polybenzazole, an indirect polycondensation method and a direct polycondensation method. In the indirect polycondensation method, the polybenzazole precursor is heat-treated through a polybenzazole precursor to close the nitrogen-containing ring-forming portion of the precursor to obtain the target polybenzazole. In the direct polycondensation method, the target polybenzazole is obtained by ring-closing the nitrogen-containing ring-forming part by directly reacting the raw materials without going through the polybenzazole precursor. The polybenzazole used in the present invention is preferably synthesized by a direct polycondensation method. In a polybenzazole obtained by heat-treating a polybenzazole precursor by the indirect polycondensation method, rearrangement of the polybenzazole molecules occurs during heating, which becomes a factor that hinders molecular chain orientation.

本発明に用いられるポリベンズアゾールは、下記一般式(5)で示されるジカルボン酸又はそのアミド形成性誘導体(以下、これらを「酸成分」と称する)と、下記一般式(6)又は(7)で示されるアミノ塩基性成分あるいは下記一般式(8)又は(9)で示されるアミノベンゼン酸誘導体とを縮合反応させることにより得られる。   The polybenzazole used in the present invention includes a dicarboxylic acid represented by the following general formula (5) or an amide-forming derivative thereof (hereinafter referred to as “acid component”), the following general formula (6) or (7 ) Or an aminobenzene acid derivative represented by the following general formula (8) or (9).

Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表す。Ar及びArは芳香族炭化水素基をそれぞれ表す。
Figure 0004667856
In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group. Ar 1 and Ar 2 each represent an aromatic hydrocarbon group.

上記一般式(5)中のArの具体例としては、式(1)〜(4)における定義と同様
に、下記一般式(V)〜(VIII)で示すものが挙げられる。
Specific examples of Ar 2 in the general formula (5) include those represented by the following general formulas (V) to (VIII) as in the definitions in the formulas (1) to (4).

Figure 0004667856
また、上記一般式(6)又は(7)中のArの具体例としては、式(1)〜(4)における定義と同様に、下記一般式(I)〜(IV)で示すものが挙げられる。
Figure 0004667856
In addition, specific examples of Ar 1 in the general formula (6) or (7) include those represented by the following general formulas (I) to (IV) as in the definitions in the formulas (1) to (4). Can be mentioned.

Figure 0004667856
上記一般式(I)〜(IV)中のZは、それぞれ酸素原子、イオウ原子、SO、CO、CH、C(CH、CF又はC(CFのいずれかを表すか、または、隣り合うベンゼン環中の炭素同士の直接結合を表す。また、上記一般式(I)〜(IV)中のベンゼン環において、各炭素原子と結合している水素原子を低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲン原子又はトリフルオロメチル等のハロゲン化アルキル基、ニトロ基、スルホン酸基、ホスホン酸基等に置換してもよい。
Figure 0004667856
Z in the general formulas (I) to (IV) represents oxygen atom, sulfur atom, SO 2 , CO, CH 2 , C (CH 3 ) 2 , CF 2 or C (CF 3 ) 2 , respectively. Or a direct bond between carbons in adjacent benzene rings. In the benzene rings in the general formulas (I) to (IV), a hydrogen atom bonded to each carbon atom is a lower alkyl group, a lower alkoxyl group, a halogen atom or a halogenated alkyl group such as trifluoromethyl, A nitro group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, or the like may be substituted.

上記一般式(5)で示されるジカルボン酸の具体例としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、3,3’−ジカルボキシジフェニルエーテル、3,4’−ジカルボキシジフェニルエーテル、4,4’−ジカルボキシジフェニルエーテル、3,3’−ジカルボ
キシジフェニルメタン、3,4’−ジカルボキシジフェニルメタン、4,4’−ジカルボキシジフェニルメタン、3,3’−ジカルボキシジフェニルジフルオロメタン、3,4’−ジカルボキシジフェニルジフルオロメタン、4,4’−ジカルボキシジフェニルジフルオロメタン、3,3’−ジカルボキシジフェニルスルホン、3,4’−ジカルボキシジフェニルスルホン、4,4’−ジカルボキシジフェニルスルホン、3,3’−ジカルボキシジフェニルスルフィド、3,4’−ジカルボキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジカルボキシジフェニルスルフィド、3,3’−ジカルボキシジフェニルケトン、3,4’−ジカルボキシジフェニルケトン、4,4’−ジカルボキシジフェニルケトン、2,2−ビス(3−カルボキシルフェニル)プロパン、2,2−(3,4’−ジカルボキシルジフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−(3,4’−ジカルボキシルジフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−カルボキシルジフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(3−カルボキシルフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシルフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシルフェノキシ)ベンゼン、3,3’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビス安息香酸、3,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビス安息香酸、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビス安息香酸、ビス[4−(3−カルボキシルフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(4−カルボキシルフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−カルボキシルフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−カルボキシルフェノキシ)フェニル]スルホン、また、2,5−ジカルボキシベンゼンスルホン酸、3,5−ジカルボキシベンゼンスルホン酸、4,6−ジカルボキシー1,3−ジスルホン酸、などのスルホン酸含有ジカルボン酸及びこれらの誘導体、2,5−ジカルボキシベンゼンホスホン酸、3,5−ジカルボキシベンゼンホスホン酸、2,5−ビスホスホノテレフタル酸、などのホスホン酸含有ジカルボン酸及びそれらの誘導体等の芳香族ジカルボン酸が挙げられる。ジカルボン酸のカルボキシラト(COO)基は、ナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属、マグネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属、アンモニア、アミンなどと塩を形成していてもよい。これらイオン性基含有ジカルボン酸は単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
Specific examples of the dicarboxylic acid represented by the general formula (5) include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 3,3'-dicarboxydiphenyl ether, 3,4'-dicarboxydiphenyl ether, 4,4'-di Carboxydiphenyl ether, 3,3′-dicarboxydiphenylmethane, 3,4′-dicarboxydiphenylmethane, 4,4′-dicarboxydiphenylmethane, 3,3′-dicarboxydiphenyldifluoromethane, 3,4′-dicarboxydiphenyldifluoro Methane, 4,4′-dicarboxydiphenyldifluoromethane, 3,3′-dicarboxydiphenylsulfone, 3,4′-dicarboxydiphenylsulfone, 4,4′-dicarboxydiphenylsulfone, 3,3′-dicarboxy Diphenyl sulfide, 3,4'-dicarboxydi Phenyl sulfide, 4,4′-dicarboxydiphenyl sulfide, 3,3′-dicarboxydiphenyl ketone, 3,4′-dicarboxydiphenyl ketone, 4,4′-dicarboxydiphenyl ketone, 2,2-bis (3 -Carboxylphenyl) propane, 2,2- (3,4'-dicarboxyldiphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxylphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxylphenyl) hexafluoropropane, 2,2- (3,4'-dicarboxyldiphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-carboxyldiphenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (3-carboxylphenoxy) benzene, 1,4- Bis (3-carboxylphenoxy) benzene, 1,4-bis (4-carboxylphenyl) Enoxy) benzene, 3,3 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisbenzoic acid, 3,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisbenzoic acid, 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisbenzoic acid, bis [4- (3-carboxylphenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-carboxylphenoxy) phenyl] sulfide Bis [4- (3-carboxylphenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-carboxylphenoxy) phenyl] sulfone, 2,5-dicarboxybenzenesulfonic acid, 3,5-dicarboxybenzenesulfonic acid Sulfonic acid-containing dicarboxylic acids such as 4,6-dicarboxy-1,3-disulfonic acid, and derivatives thereof; 5-dicarboxylate benzene phosphonic acid, 3,5-dicarboxybenzenesulfonic acid, 2,5-bis phosphono terephthalic acid, aromatic dicarboxylic acids such as phosphonic acid-containing dicarboxylic acids and derivatives thereof, such as. The carboxylate (COO ) group of the dicarboxylic acid may form a salt with an alkali metal such as sodium or potassium, an alkaline earth metal such as magnesium or calcium, ammonia or an amine. These ionic group-containing dicarboxylic acids may be used alone or in combination of two or more.

上記一般式(5)で示されるジカルボン酸のアミド形成性誘導体の具体例としては、上記一般式(5)で示されるジカルボン酸のジクロライド、ジブロマイド等の酸ハロゲン化物、ジメチルエステル、ジエチルエステル等のジアルキルエステル等が挙げられる。これら酸成分は単独でもよいし、二種以上を組み合わせてもよい。また、酸成分は、そのジハライドとして構成されてもよい。   Specific examples of the amide-forming derivative of the dicarboxylic acid represented by the general formula (5) include acid halides such as dichloride and dibromide of the dicarboxylic acid represented by the general formula (5), dimethyl ester, diethyl ester, etc. And dialkyl esters. These acid components may be used alone or in combination of two or more. The acid component may also be configured as the dihalide.

上記一般式(6)又は(7)で示されるアミノ塩基性成分の具体例としては、3,4−ジアミノ−1,5−ベンゼンジオール、3,3’−ジヒドロキシ−4,4−ジアミノビフェニル、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ケトン、2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、2,2’−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)エーテル、2,2’−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)スルホン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)メタン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ジフルオロプロパン等が挙げられる。これらアミノ塩基性成分は単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the amino basic component represented by the general formula (6) or (7) include 3,4-diamino-1,5-benzenediol, 3,3′-dihydroxy-4,4-diaminobiphenyl, 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) ketone, 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfide 2,2′-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) ether, 2,2′-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) sulfone, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) methane, 2,2-bis (3-a No-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) difluoropropane and the like. It is done. These amino basic components may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いるポリベンズアゾールを合成するためには、まず上述の酸成分とアミノ塩基性成分とを、不活性雰囲気下で、反応溶媒として酸化作用を有さない無水酸にそれぞれ溶解させて反応溶液を調製する。次いで、反応溶液を激しく攪拌またはせん断しながら70℃から200℃まで段階的に昇温して、反応させることによってポリベンズアゾールが得られる。このとき、酸成分とアミノ塩基性成分との反応は、等モル又はほぼ等モルで行うのが好ましく、各成分の添加順序は限定されない。酸成分としてジハライドを用いる場合には、反応をハロゲン化水素トラップ剤の存在下で行うことが好ましい。ハロゲン化水素トラップ剤の具体例としてはピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン等の第三級アミン等が挙げられる。   In order to synthesize the polybenzazole used in the present invention, first, the above acid component and amino basic component are respectively dissolved in an anhydrous acid having no oxidizing action as a reaction solvent under an inert atmosphere. Prepare the solution. Next, the reaction solution is heated stepwise from 70 ° C. to 200 ° C. with vigorous stirring or shearing, and reacted to obtain polybenzazole. At this time, the reaction between the acid component and the amino basic component is preferably performed in equimolar or almost equimolar amounts, and the order of addition of the components is not limited. When dihalide is used as the acid component, the reaction is preferably performed in the presence of a hydrogen halide trapping agent. Specific examples of the hydrogen halide trapping agent include tertiary amines such as pyridine, triethylamine and dimethylaniline.

反応溶媒の具体例としては、ポリリン酸、メタンスルホン酸、クレゾール及び高濃度の硫酸等が挙げられる。反応溶媒として、これらの物質を単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。これらの物質のうち、反応溶媒としては、特に、ポリリン酸、メタンスルホン酸、及びそれらの混合物が好ましく、ポリリン酸が最も好ましい。   Specific examples of the reaction solvent include polyphosphoric acid, methanesulfonic acid, cresol, and high-concentration sulfuric acid. As the reaction solvent, these substances may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used. Among these substances, as the reaction solvent, polyphosphoric acid, methanesulfonic acid, and a mixture thereof are particularly preferable, and polyphosphoric acid is most preferable.

本発明において、物性調整材とは、前記ポリベンザゾールと複合することによって、得られるポリベンズアゾール複合体の物性、例えば、機械的強度、柔軟性および可撓性などを調整することができる物質を指す。   In the present invention, the physical property adjusting material is a substance that can adjust the physical properties of the resulting polybenzazole complex, for example, mechanical strength, flexibility and flexibility, by combining with the polybenzazole. Point to.

このような物性調整材としては、熱可塑性もしくは熱/光硬化性ポリマー、あるいは最終的にはポリマーを形成する熱/光反応モノマーがある。より具体的には、ポリオレフィン系化合物、ポリエステル系化合物、ポリアクリル系化合物、ポリメタクリル系化合物、ポリビニル系化合物、ポリスチレン系化合物、ポリウレタン系化合物、ポリエーテルアミド系化合物、ポリエステルアミド系化合物、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルスルホン、ポリアリールスルホン、ポリアリールエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスルホキシド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィドスルホン、ポリパラフェニレン、ポリフェニルキノキサリン、ポリアリールケトン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルエーテルケトンケトン、ポリエーテルケトンエーテルケトンケトンなどの芳香族系ポリマー、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−トリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリテトラフルオロエチレン−エチレン共重合体に代表されるフルオロアルキル高分子、また、高分子主鎖および/または高分子側鎖に剛直性を有するビフェニレン基、ビフェニル基等を有する液晶性高分子、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、液晶性エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの物性調整材は、単独で用いてもよいし、数種類を組み合わせて用いてもよい。   Such physical property modifiers include thermoplastic or thermo / photo curable polymers, or ultimately thermo / photoreactive monomers that form polymers. More specifically, polyolefin compounds, polyester compounds, polyacryl compounds, polymethacryl compounds, polyvinyl compounds, polystyrene compounds, polyurethane compounds, polyether amide compounds, polyester amide compounds, polysulfones, poly Ether sulfone, polyether ether sulfone, polyaryl sulfone, polyaryl ether sulfone, polyphenyl sulfone, polyphenylene sulfone, polyamide, polyimide, polyetherimide, polyphenylene oxide, polyphenylene sulfoxide, polyphenylene sulfide, polyphenylene sulfide sulfone, polyparaphenylene, poly Phenylquinoxaline, polyaryl ketone, polyether ketone, polyether ether ketone, poly -Aromatic polymers such as terketone ketone, polyether ether ketone ketone, polyether ketone ether ketone ketone, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, vinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer, vinylidene fluoride-hexafluoro Fluoroalkyl polymer typified by propylene copolymer, polytetrafluoroethylene-ethylene copolymer, and liquid crystal having biphenylene group, biphenyl group, etc. having rigidity in polymer main chain and / or polymer side chain Polymer, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, triphenolalkane type epoxy resin, bife Le epoxy resins, such as liquid crystalline epoxy resin. These physical property adjusting materials may be used alone or in combination of several kinds.

得られるポリベンズアゾール複合材が、電子機器部品などの高温を発する部材に適用される場合など、高温に晒される用途に用いられる場合には、前記物性調整材は少なくとも100°C以上の耐熱性を有することが好ましい。   When the obtained polybenzazole composite material is used for applications exposed to high temperatures such as when applied to members that generate high temperatures such as electronic device parts, the physical property adjusting material has a heat resistance of at least 100 ° C or higher. It is preferable to have.

ポリベンズアゾール複合体中におけるポリベンズアゾールの含有量は、ポリベンズアゾール複合体全体の、好ましくは、50重量%以上100重量%未満でより好ましくは、70重量%以上100重量%未満である。このポリベンズアゾールの含有量がポリベンズアゾール複合体全体の50重量%未満である場合には、ポリベンズアゾール濃度が低くなり、熱伝導性などのポリベンズアゾールに起因する特性が十分に得られない傾向にある。   The polybenzazole content in the polybenzazole complex is preferably 50% by weight or more and less than 100% by weight, more preferably 70% by weight or more and less than 100% by weight, based on the entire polybenzazole complex. When the polybenzazole content is less than 50% by weight of the entire polybenzazole complex, the polybenzazole concentration is lowered, and the properties attributable to the polybenzazole such as thermal conductivity are sufficiently obtained. There is no tendency.

次に、ポリベンズアゾール複合体の製造方法について説明する。
第1実施形態のポリベンズアゾール複合フィルム1を製造する方法は、ポリベンズアゾールの溶液を調製する工程と、そのポリベンズアゾール溶液に磁場または電場を印加することにより、ポリベンズアゾール分子鎖を一定方向に配向させる工程と、そのポリベンズアゾール分子鎖の配向状態を維持したまま、前記ポリベンズアゾール溶液を凝固させてポリベンズアゾール基体を形成する工程と、前記ポリベンズアゾール基体に物性調整材を含浸させる工程と、物性調整材を含浸させたポリベンズアゾール基体を硬化させる工程とを有する。これらの工程によって、一定方向に配向されたポリベンズアゾール分子鎖の間に物性調整材が充填されているポリベンズアゾール複合フィルム1が得られる。
Next, a method for producing a polybenzazole complex will be described.
The method for producing the polybenzazole composite film 1 according to the first embodiment includes a step of preparing a polybenzazole solution, and applying a magnetic field or an electric field to the polybenzazole solution, thereby fixing the polybenzazole molecular chain. A step of orienting in a direction, a step of solidifying the polybenzazole solution while maintaining the orientation state of the polybenzazole molecular chain, and forming a polybenzazole substrate; and a physical property adjusting material on the polybenzazole substrate. An impregnation step and a step of curing the polybenzazole substrate impregnated with the physical property adjusting material. By these steps, the polybenzazole composite film 1 in which the physical property adjusting material is filled between the polybenzazole molecular chains oriented in a certain direction is obtained.

第2実施形態のポリベンズアゾール複合フィルム1を製造する方法は、ポリベンズアゾールおよび物性調整材を含む混合溶液を調製する工程と、その混合溶液に磁場または電場を印加することにより、ポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖を一定方向に配向させる工程と、そのポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖の配向状態を維持したまま、前記混合溶液を凝固させて、ポリベンズアゾールと物性調整材との複合基体を形成する工程と、前記複合基体を硬化させる工程とを有する。これらの工程によって、ポリベンズアゾールと物性調整材とが一定方向に配向されて複合されたポリベンズアゾール複合フィルム1が得られる。   The method for producing the polybenzazole composite film 1 of the second embodiment includes a step of preparing a mixed solution containing a polybenzazole and a physical property adjusting material, and applying a magnetic field or an electric field to the mixed solution, thereby producing a polybenzazole. And a step of orienting the molecular chains of the physical property adjusting material in a certain direction, and solidifying the mixed solution while maintaining the alignment state of the molecular chains of the polybenzazole and the physical property adjusting material, so that the polybenzazole and the physical property adjusting material Forming a composite substrate and a step of curing the composite substrate. By these steps, the polybenzazole composite film 1 in which the polybenzazole and the physical property adjusting material are combined in a certain direction is obtained.

第3実施形態のポリベンズアゾール複合フィルム1を製造する方法は、ポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材を含む混合溶液を調製する工程と、その混合溶液に磁場または電場を印加することにより、ポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖を一定方向に配向させる工程と、そのポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖の配向状態を維持したまま、前記混合溶液を凝固させて、ポリベンズアゾールと第1の物性調整材との複合基体を形成する工程と、前記複合基体にさらに第2の物性調整材を含浸させる工程と、第2の物性調整材を含浸させた複合基体を硬化させる工程とを含む。これらの工程によって、ポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖が一定方向に配向されており、さらにそれらの分子鎖の間に第2の物性調整材が充填しているポリベンズアゾール複合フィルム1が得られる。   The method for producing the polybenzazole composite film 1 according to the third embodiment includes a step of preparing a mixed solution containing polybenzazole and the first physical property adjusting material, and applying a magnetic field or an electric field to the mixed solution. A step of orienting the molecular chains of the polybenzazole and the first physical property adjusting material in a certain direction, and solidifying the mixed solution while maintaining the alignment state of the molecular chains of the polybenzazole and the first physical property adjusting material A step of forming a composite substrate of polybenzazole and the first physical property modifier, a step of impregnating the composite substrate with a second physical property modifier, and a composite impregnated with the second physical property modifier Curing the substrate. By these steps, the polybenzazole compound in which the molecular chains of the polybenzazole and the first physical property modifier are oriented in a certain direction and the second physical property modifier is filled between the molecular chains. Film 1 is obtained.

第1〜第3実施形態のポリベンズアゾールフィルムの製造方法において、ポリベンズアゾール溶液およびポリベンズアゾールおよび物性調整材を含む混合溶液は、少なくとも部分的に液晶性を有し、上記配向工程において、その液晶性が発現されていることが好ましい。それにより、ポリベンズアゾール分子鎖、またはそれに加えて物性調整材の分子鎖をより高度に配向させることができる。   In the method for producing the polybenzazole film of the first to third embodiments, the polybenzazole solution and the mixed solution containing the polybenzazole and the physical property modifier have at least partially liquid crystal properties. It is preferable that the liquid crystallinity is expressed. Thereby, the polybenzazole molecular chain, or in addition to that, the molecular chain of the physical property modifier can be more highly oriented.

ポリベンズアゾールと物性調整材とを混合する方法としては、双方を適当な溶媒に溶解して混合したり、溶融混練したり、粉砕して混合したりすることなどできるが、これらに限定されるものではない。これらの混合方法の中でもポリベンズアゾールと物性調整材とを溶媒に溶解して混合する方法が好ましく、ポリベンズアゾールおよび物性調整材双方をそれぞれ溶解した溶液を混合してもよいし、一度に双方を混合して溶解してもよい。   As a method of mixing the polybenzazole and the physical property adjusting material, both of them can be dissolved and mixed in an appropriate solvent, melt-kneaded, pulverized and mixed, etc., but are not limited thereto. It is not a thing. Among these mixing methods, a method in which polybenzazole and a physical property modifier are dissolved in a solvent is preferable, and a solution in which both polybenzazole and a physical property modifier are dissolved may be mixed, or both may be mixed at once. May be mixed and dissolved.

ポリベンズアゾール溶液、並びにポリベンズアゾールおよび物性調整材調整材の混合溶液(以下、前記溶液および混合溶液をまとめて「ポリベンズアゾール含有溶液」とする)を調製するための溶媒としては、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン極性溶媒やポリリン酸、メタンスルホン酸、クレゾール及び高濃度の硫酸等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。これらの物質うち、特に、ポリリン酸、メタンスルホン酸、及びそれらの混合物が好ましく、ポリリン酸が最も好ましい。さらに、両者の溶解性を向上させる手段とし
て臭化リチウム、塩化リチウム、塩化アルミニウムなどのルイス酸を溶剤に添加しても良い。また、必要により、ポリベンズアゾール含有溶液を調製する前に、ポリベンズアゾールを再沈殿などのような従来の手法によって精製してもよい。
As a solvent for preparing a polybenzazole solution, and a mixed solution of a polybenzazole and a physical property modifier adjusting material (hereinafter, the solution and the mixed solution are collectively referred to as a “polybenzazole-containing solution”), N, Examples include aprotic polar solvents such as N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, hexamethylphosphortriamide, polyphosphoric acid, methanesulfonic acid, cresol, and high-concentration sulfuric acid. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Of these substances, polyphosphoric acid, methanesulfonic acid, and a mixture thereof are particularly preferable, and polyphosphoric acid is most preferable. Furthermore, a Lewis acid such as lithium bromide, lithium chloride, or aluminum chloride may be added to the solvent as a means for improving the solubility of both. If necessary, the polybenzazole may be purified by a conventional method such as reprecipitation before preparing the polybenzazole-containing solution.

ポリベンズアゾール含有溶液中のポリベンズアゾールの濃度は、ポリベンズアゾール含有溶液中においてポリベンズアゾールが液晶性を発現するのに十分高い濃度であることが好ましい。また、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖を容易に配向させるためには、ポリベンズアゾール含有溶液中のポリベンズアゾール濃度は、好ましくは2〜30重量%、より好ましくは5〜25重量%、さらに好ましくは5〜20重量%である。   The polybenzazole concentration in the polybenzazole-containing solution is preferably sufficiently high so that the polybenzazole exhibits liquid crystallinity in the polybenzazole-containing solution. In order to easily orient a polybenzazole molecular chain or a mixed molecular chain containing polybenzazole, the polybenzazole concentration in the polybenzazole-containing solution is preferably 2 to 30% by weight, more preferably 5%. -25% by weight, more preferably 5-20% by weight.

ポリベンズアゾール含有溶液中のポリベンズアゾールの最大濃度は主に、ポリベンズアゾール、場合によっては物性調整材の溶媒に対する溶解性及びポリベンズアゾール含有溶液の粘度のような物理的因子により限定される。ポリベンズアゾール含有溶液中のポリベンズアゾールの濃度が30重量%を超えると、溶液の粘性が高すぎてポリベンズアゾールの分子鎖あるいはポリベンズアゾールおよび物性調整材の混合分子鎖が配向され難い。また、ポリベンズアゾール含有溶液中のポリベンズアゾールの濃度が2重量%未満であると、ポリベンズアゾールの濃度が低いため、ポリベンズアゾール含有溶液が液晶性を発現できない。従って、磁場印加などによりポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールおよび物性調整材の混合分子鎖の配向を促す効果が低いために、ポリベンズアゾール複合体において十分な異方性機能が得られないことがある。   The maximum concentration of polybenzazole in a polybenzazole-containing solution is mainly limited by physical factors such as the solubility of the polybenzazole, and in some cases, the property modifier in the solvent, and the viscosity of the polybenzazole-containing solution. . When the concentration of polybenzazole in the polybenzazole-containing solution exceeds 30% by weight, the viscosity of the solution is too high and the molecular chains of polybenzazole or the mixed molecular chains of polybenzazole and the physical property modifier are difficult to be oriented. Further, when the polybenzazole concentration in the polybenzazole-containing solution is less than 2% by weight, the polybenzazole-containing solution cannot exhibit liquid crystallinity because the polybenzazole concentration is low. Therefore, since the effect of promoting the orientation of the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain of the polybenzazole and the physical property modifier by applying a magnetic field is low, a sufficient anisotropic function cannot be obtained in the polybenzazole complex. There is.

本発明に用いられ得るポリベンズアゾールの極限粘度は、25°Cにおいて溶媒としてメタンスルホン酸を用いたオストワルド粘度計による測定(米国材料試験協会規格 ASTM D2857−95準拠)で、好ましくは0.5〜30dl/g、より好ましくは0.5〜20dl/g、さらに好ましくは0.5〜15dl/gである。ポリベンズアゾールの極限粘度が0.5dl/g未満である場合、一般にそのようなポリベンズアゾールは低い分子量を有するために、成形が困難である。一方、ポリベンズアゾールの極限粘度が30dl/gを超えると、そのポリベンズアゾールからポリベンズアゾール含有溶液を調製した場合に、粘度が高すぎてポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が配向され難い。   The intrinsic viscosity of the polybenzazole that can be used in the present invention is measured by an Ostwald viscometer using methanesulfonic acid as a solvent at 25 ° C. (according to American Society for Testing and Materials standard ASTM D2857-95), preferably 0.5 It is -30 dl / g, More preferably, it is 0.5-20 dl / g, More preferably, it is 0.5-15 dl / g. When the intrinsic viscosity of a polybenzazole is less than 0.5 dl / g, such polybenzazole generally has a low molecular weight and is difficult to mold. On the other hand, when the intrinsic viscosity of the polybenzazole exceeds 30 dl / g, when a polybenzazole-containing solution is prepared from the polybenzazole, the viscosity is too high and the polybenzazole molecular chain or the mixed molecule containing the polybenzazole is contained. The chain is difficult to be oriented.

ポリベンズアゾール含有溶液には、ガラス繊維等の補強材、各種充填剤、顔料、染料、蛍光増白剤、分散剤、安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、可塑剤等を少量添加してもよい。   Polybenzazole-containing solutions include glass fibers and other reinforcing materials, various fillers, pigments, dyes, fluorescent brighteners, dispersants, stabilizers, UV absorbers, antistatic agents, antioxidants, thermal stabilizers, A small amount of a lubricant, a plasticizer or the like may be added.

ポリベンズアゾール含有溶液からポリベンザゾール基体または複合基体を成形する方法としては、ダイ、例えばスリットダイから基材上にポリベンズアゾール含有溶液を流延させる方法や、キャスト法などによってポリベンズアゾール含有溶液を基材上に塗布する方法があるが、これに限定されるものではない。このとき、図5に示すように、ポリベンズアゾール含有溶液をスリットダイから下側の基材3上に流延させ、流延されたポリベンズアゾール含有溶液上に別の基材3を重ねて、ポリベンズアゾール溶液を2枚の基材3の間に挟持する構成としてもよい。このようにポリベンズアゾール含有溶液を2枚の基材3の間に挟持することにより、ポリベンズアゾール含有溶液が空気に触れて劣化することを防止することができる。   As a method for forming a polybenzazole substrate or a composite substrate from a polybenzazole-containing solution, a polybenzazole-containing solution is produced by casting a polybenzazole-containing solution onto a substrate from a die, for example, a slit die, or a casting method. There is a method for applying the solution on the substrate, but the method is not limited thereto. At this time, as shown in FIG. 5, the polybenzazole-containing solution is cast from the slit die onto the lower substrate 3, and another substrate 3 is stacked on the cast polybenzazole-containing solution. The polybenzazole solution may be sandwiched between two substrates 3. By sandwiching the polybenzazole-containing solution between the two substrates 3 in this manner, it is possible to prevent the polybenzazole-containing solution from being deteriorated by contact with air.

前記基材3は特に限定されるものではないが、長尺の均一なフィルム状ポリベンゾアゾール複合体を得るためには、閉ループ状のエンドレスベルト、エンドレスドラム又はエンドレスフィルム等を用いることが好ましい。また、基板としてガラス板および樹脂フィルムなどの板状物を使用することも可能である。基板は金属から形成されていてもよく、特
にステンレス鋼、ハステロイ系合金、タンタル等が好ましい。
The substrate 3 is not particularly limited, but it is preferable to use a closed loop endless belt, an endless drum, an endless film, or the like in order to obtain a long uniform film-like polybenzoazole composite. Moreover, it is also possible to use plate-shaped objects, such as a glass plate and a resin film, as a board | substrate. The substrate may be made of metal, and stainless steel, hastelloy alloy, tantalum, etc. are particularly preferable.

ポリベンズアゾール含有溶液がリオトロピック液晶性を有する場合、液晶性の発現は、溶液の濃度および温度の双方の条件に依存する。よって、上記配向工程の前、あるいは最中に、必要に応じて、ポリベンズアゾール含有溶液の液晶性を発現させるために、ポリベンズアゾール含有溶液を加熱してもよい。具体的には、支持面上に流延したポリベンズアゾール含有溶液を、該溶液が液晶性を示す温度範囲まで昇温させる。あるいは、ポリベンズアゾール含有溶液を該溶液が液晶性を有さない温度範囲まで昇温して、一旦、ポリベンズアゾール含有溶液を均一な非液晶状態に転移させた後、同溶液が液晶性を有する温度範囲まで徐々に降温してもよい。これにより、より大きく成長した液晶相を得ることができる。あるいは、上記のような昇温と降温とを逐次的に併用してもよい。前記加熱は、通常、40〜250℃、好ましくは40〜200℃、最も好ましくは60〜150℃の温度範囲で行われる。加熱手段は特に限定されるものではなく、高温の加湿空気を中間体に当てる方法、紫外線ランプから紫外線を照射する方法、誘電加熱による方法等が挙げられる。   When the polybenzazole-containing solution has lyotropic liquid crystallinity, the development of liquid crystallinity depends on both the concentration and temperature conditions of the solution. Therefore, before or during the alignment step, the polybenzazole-containing solution may be heated, if necessary, in order to develop liquid crystallinity of the polybenzazole-containing solution. Specifically, the polybenzazole-containing solution cast on the support surface is heated to a temperature range where the solution exhibits liquid crystallinity. Alternatively, the polybenzazole-containing solution is heated to a temperature range in which the solution does not have liquid crystallinity, and once the polybenzazole-containing solution is transferred to a uniform non-liquid crystal state, the solution exhibits liquid crystallinity. The temperature may be gradually lowered to the temperature range. Thereby, the liquid crystal phase grown larger can be obtained. Or you may use together temperature rising and temperature falling as mentioned above sequentially. The heating is usually performed in a temperature range of 40 to 250 ° C, preferably 40 to 200 ° C, and most preferably 60 to 150 ° C. The heating means is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying high-temperature humidified air to the intermediate, a method of irradiating ultraviolet rays from an ultraviolet lamp, and a method of dielectric heating.

ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖を配向させる方法としては、ポリベンズアゾール含有溶液に対して、所望の配向方向に磁力線が平行になるように磁場を印加することが好ましい。磁場の磁束密度は、好ましくは1〜30テスラ(T)、より好ましくは2〜25T、さらに好ましくは3〜20Tである。1T未満の磁場では、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖の配向が不十分となることがある。一方、磁束密度が30Tを超えると、磁場の磁束密度を向上させるためのコストが増大する。   As a method for orienting the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole, it is preferable to apply a magnetic field to the polybenzazole-containing solution so that the magnetic lines of force are parallel to the desired orientation direction. The magnetic flux density of the magnetic field is preferably 1 to 30 Tesla (T), more preferably 2 to 25 T, and still more preferably 3 to 20 T. When the magnetic field is less than 1 T, the orientation of the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole may be insufficient. On the other hand, when the magnetic flux density exceeds 30T, the cost for improving the magnetic flux density of the magnetic field increases.

ポリベンズアゾール含有溶液の凝固は、単なる溶媒の蒸発によっても可能であるが、好ましくは、凝固液を用いることによって行われる。この凝固液はポリベンズアゾール含有溶液の溶媒と相溶性を有し、かつポリベンズアゾールおよび物性調整材を溶解することはない物質である。この凝固液を前記ポリベンズアゾール含有溶液に接触させることにより、ポリベンズアゾール含有溶液中の溶媒のみが凝固液に溶解し、その結果、ポリベンズアゾールあるいはポリベンズアゾールおよび物性調整材が析出することにより凝固する。これによりポリベンズアゾール基体またはポリベンズアゾールと物性調整材との複合基体が得られる。凝固液を用いる方法によれば、溶媒を蒸発させるための加熱装置や蒸発した溶媒を回収する装置などを必要とすることがなく、より容易にポリベンズアゾールの凝固を行なうことができる。また、溶媒としてポリリン酸のような強酸を用いる場合には、凝固液を用いることによって、そのような強酸が薄められるので安全面においても好ましい。   The polybenzazole-containing solution can be coagulated by mere evaporation of the solvent, but is preferably performed by using a coagulation solution. This coagulation liquid is a substance that is compatible with the solvent of the polybenzazole-containing solution and does not dissolve the polybenzazole and the physical property modifier. By bringing this coagulation liquid into contact with the polybenzazole-containing solution, only the solvent in the polybenzazole-containing solution is dissolved in the coagulation liquid, and as a result, polybenzazole or polybenzazole and a property modifier are precipitated. To solidify. Thereby, a polybenzazole substrate or a composite substrate of polybenzazole and a physical property adjusting material is obtained. According to the method using the coagulating liquid, polybenzazole can be coagulated more easily without requiring a heating device for evaporating the solvent or a device for collecting the evaporated solvent. In addition, when a strong acid such as polyphosphoric acid is used as a solvent, such a strong acid can be diluted by using a coagulating liquid, which is preferable in terms of safety.

凝固液として使用できる物質は、水、リン酸水溶液、硫酸水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、メタノール、エタノール、アセトン、およびエチレングリコール等が挙げられ、それらの物質を単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。また、この凝固工程中、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖の配向を維持するため、磁場を印加し続けてもよい。凝固液とポリベンズアゾール溶液の溶媒との交換が穏やかで、フィルム表面の荒れを抑制できることから、凝固液として、10〜70重量%のリン酸水溶液または低級アルコールを使用することが特に好ましい。   Substances that can be used as the coagulation liquid include water, phosphoric acid aqueous solution, sulfuric acid aqueous solution, sodium hydroxide aqueous solution, methanol, ethanol, acetone, ethylene glycol, and the like. You may mix and use. Further, during this coagulation step, a magnetic field may be continuously applied in order to maintain the orientation of the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole. It is particularly preferable to use a 10 to 70% by weight phosphoric acid aqueous solution or a lower alcohol as the coagulating liquid since the exchange of the coagulating liquid with the solvent of the polybenzazole solution is gentle and the roughness of the film surface can be suppressed.

凝固液の温度は−60〜60℃にすることが好ましく、より好ましくは−30〜30℃、最も好ましくは0〜10℃である。凝固液の温度が60℃を超える場合は成形体の表面が荒れたり、成形体の表裏で密度に差が生じることがあり、−60℃未満では物性の低下や溶液の凝固速度が遅く、生産性が低下する。   The temperature of the coagulation liquid is preferably −60 to 60 ° C., more preferably −30 to 30 ° C., and most preferably 0 to 10 ° C. When the temperature of the coagulation liquid exceeds 60 ° C, the surface of the molded body may be rough, or the density may be different between the front and back of the molded body. Sexuality decreases.

ポリベンズアゾール含有溶液の凝固によって得られるポリベンズアゾール基体またはポリベンズアゾールと物性調整材との複合基体は、好ましくは、硬化させる前に洗浄される
。洗浄は、例えば、それらのポリベンズアゾール基体または複合基体を支持する基板を洗浄液中にて走行させたり、前記基体または複合基体に洗浄液を噴霧することにより行われる。洗浄液として通常は水が用いられるが、必要に応じて温水を用いてもよい。まず、前記ポリベンズアゾール基体または複合基体を水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等のアルカリ水溶液で中和洗浄した後、水などで洗浄してもよい。洗浄された後のポリベンズアゾール基体または複合基体における酸成分、アミノ塩基性成分及び無機塩の濃度は、それぞれ500ppm以下であることが好ましい。洗浄後の前記酸成分、アミノ塩基性成分及び無機塩の濃度が500ppmを超えると、ポリベンズアゾール基体あるいはポリベンズアゾールを含む複合基体が劣化(分解)する原因となり、最終的に得られるポリベンズアゾール複合体の特性が損なわれる可能性があるので好ましくない。
The polybenzazole substrate obtained by coagulation of the polybenzazole-containing solution or the composite substrate of the polybenzazole and the physical property modifier is preferably washed before curing. Cleaning is performed, for example, by running a substrate that supports the polybenzazole substrate or the composite substrate in a cleaning solution, or by spraying the cleaning solution onto the substrate or the composite substrate. Water is usually used as the cleaning liquid, but warm water may be used as necessary. First, the polybenzazole substrate or composite substrate may be neutralized and washed with an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide or lithium hydroxide, and then washed with water or the like. The concentration of the acid component, amino basic component and inorganic salt in the polybenzazole substrate or composite substrate after washing is preferably 500 ppm or less. When the concentration of the acid component, amino basic component, and inorganic salt after washing exceeds 500 ppm, the polybenzazole substrate or the composite substrate containing polybenzazole may be deteriorated (decomposed), and finally obtained polybenz Since the properties of the azole complex may be impaired, it is not preferable.

ポリベンズアゾール複合体が、半導体用絶縁膜、封止剤、ディスプレイ用配向膜等のように基板に直接製膜して用いられる場合には、まず、基板上に、物性調整材を含浸させたポリベンズアゾール基体、ポリベンズアゾールと第1の物性調整材との複合基体、またはさらに第2の物性調整材を含浸させた複合基体を形成する。その第2の物性調整材が含浸した複合基体を静置した状態又は延伸した状態で乾燥させ、基板上に製膜されたポリベンズアゾール複合体を得ることができる。   When the polybenzazole complex is used by directly forming a film on a substrate such as a semiconductor insulating film, a sealing agent, a display alignment film, etc., first, the physical property adjusting material was impregnated on the substrate. A polybenzazole substrate, a composite substrate of polybenzazole and the first physical property adjusting material, or a composite substrate impregnated with the second physical property adjusting material is formed. The composite substrate impregnated with the second physical property adjusting material is dried in a standing state or in a stretched state to obtain a polybenzazole composite film formed on the substrate.

ポリベンズアゾール基体に第1の物性調整材を含浸させる方法およびポリベンズアゾールと第1の物性調整材との複合基体にさらに第2の物性調整材を含浸させる方法としては、ポリベンズアゾール基体および複合基体を硬化させる前に、前記基体または複合基体を、第2の物性調整材の溶液または溶融液に浸漬することなどがあるが、これらに限定されるものではない。第2の物性調整材は、先にポリベンズアゾールと共に一定方向に配向されている第1の物性調整材と同一であってもよいし、異なる材料であってもよい。また、各物性調整材は、上記に挙げた材料のうち複数種類を混合して使用してもよい。   Examples of a method for impregnating a polybenzazole substrate with a first physical property adjusting material and a method for impregnating a composite substrate of a polybenzazole and a first physical property adjusting material with a second physical property adjusting material include a polybenzazole substrate and Before the composite substrate is cured, the substrate or the composite substrate may be immersed in a solution or melt of the second physical property adjusting material, but is not limited thereto. The second physical property adjusting material may be the same as or different from the first physical property adjusting material previously oriented in a certain direction together with the polybenzazole. In addition, each physical property adjusting material may be used by mixing a plurality of types among the materials listed above.

上記含浸工程において、物性調整材を溶媒に溶解して物性調整材の溶液を調製し、その溶液を前記ポリベンズアゾール基体または複合基体に含浸させることが好ましい。そのような溶媒としては、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン極性溶媒やポリリン酸、メタンスルホン酸、クレゾール及び高濃度の硫酸等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。これらの物質うち、特に、ポリリン酸、メタンスルホン酸、及びそれらの混合物が好ましく、ポリリン酸が最も好ましい。さらに、両者の溶解性を向上させる手段として臭化リチウム、塩化リチウム、塩化アルミニウムなどのルイス酸を溶剤に添加しても良い。この場合、前記溶媒溶液中における物性調整材の溶質最大濃度は主に、物性調整材の溶媒に対する溶解性及び物性調整材の粘度のような物理的因子により限定される。   In the impregnation step, it is preferable to prepare a solution of the physical property modifier by dissolving the physical property modifier in a solvent and impregnate the polybenzazole substrate or the composite substrate with the solution. Examples of such solvents include aprotic polar solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, hexamethylphosphortriamide, polyphosphoric acid, methanesulfonic acid, cresol, and the like. Examples include high-concentration sulfuric acid. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Among these substances, polyphosphoric acid, methanesulfonic acid, and a mixture thereof are particularly preferable, and polyphosphoric acid is most preferable. Furthermore, a Lewis acid such as lithium bromide, lithium chloride, or aluminum chloride may be added to the solvent as a means for improving the solubility of both. In this case, the maximum solute concentration of the physical property modifier in the solvent solution is mainly limited by physical factors such as the solubility of the physical property modifier in the solvent and the viscosity of the physical property modifier.

ポリベンズアゾール複合体が、フレキシブルプリント配線基板用フィルム、磁気記録フィルム基材等のようにベースフィルムとして用いられる場合には、基板上に製膜されたポリベンズアゾール基体または複合基体を硬化させた後に基板から剥離することによって、フィルム状のポリベンズアゾール複合体を得ることができる。また、凝固したポリベンズアゾール基体または複合基体を硬化前に基板から剥離し、剥離後に硬化させてフィルム形のポリベンズアゾール複合体を得てもよい。   When the polybenzazole composite is used as a base film such as a film for a flexible printed wiring board or a magnetic recording film base, the polybenzazole base or composite base formed on the base is cured. A film-like polybenzazole complex can be obtained by peeling from the substrate later. Alternatively, the solidified polybenzazole substrate or composite substrate may be peeled off from the substrate before curing and cured after peeling to obtain a film-shaped polybenzazole complex.

凝固したポリベンズアゾール基体または複合基体の硬化方法は特に限定されるものではないが、空気、窒素、アルゴン等の加熱気体を用いる方法、電気ヒータや赤外線ランプ等の輻射熱を利用する方法、および誘電加熱法などの加熱による乾燥が挙げられる。ポリベンズアゾールあるいはポリベンズアゾールを含む混合分子が光架橋性分子を含む場合は光照射による架橋反応が挙げられる。   The method for curing the solidified polybenzazole substrate or the composite substrate is not particularly limited, but a method using a heated gas such as air, nitrogen or argon, a method using radiant heat such as an electric heater or an infrared lamp, and a dielectric Examples thereof include drying by heating such as a heating method. In the case where polybenzazole or a mixed molecule containing polybenzazole contains a photocrosslinkable molecule, a crosslinking reaction by light irradiation may be mentioned.

ポリベンズアゾール基体または複合基体を硬化させる際、それらのポリベンズアゾール基体または複合基体の外縁部を拘束してその収縮を制限してもよい。ポリベンズアゾール基体または複合基体を硬化させるための温度は、好ましくは100〜500℃、より好ましくは100〜400℃、最も好ましくは100〜200℃である。100℃未満では、ポリベンズアゾール基体または複合基体が硬化し難いため好ましくない。   When curing a polybenzazole substrate or composite substrate, the outer edge of the polybenzazole substrate or composite substrate may be constrained to limit its shrinkage. The temperature for curing the polybenzazole substrate or the composite substrate is preferably 100 to 500 ° C, more preferably 100 to 400 ° C, and most preferably 100 to 200 ° C. When the temperature is lower than 100 ° C., the polybenzazole substrate or the composite substrate is difficult to be cured, which is not preferable.

本発明において、上記成形工程、並びにそれに続く加熱・磁場配向・凝固・洗浄・含浸・硬化等の工程を連続的に行ってもよいし、これらの全部又は一部の工程を断続的に、つまり回分式に行っても構わない。   In the present invention, the molding step and the subsequent steps such as heating, magnetic field orientation, solidification, washing, impregnation, and curing may be performed continuously, or all or some of these steps may be performed intermittently, that is, You may go batch-wise.

以下、図4及び図5に従って、本発明のポリベンズアゾール複合体をポリベンズアゾール複合フィルム1として具体化した実施形態の製造方法をより詳細に説明する。
第1態様として、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖がポリベンズアゾール複合フィルム1の厚み方向(図1のZ軸方向)に配向されることにより、その方向において熱伝導性等の特性に異方性を有するポリベンズアゾール複合体の製造方法について説明する。まず、本発明に用いられるポリベンズアゾールあるいはポリベンズアゾールと物性調整材とを含むポリベンズアゾール含有溶液を調製する。前記ポリベンズアゾール含有溶液は、ポリベンズアゾールが液晶状態を有する濃度範囲にあることが好ましい。次に、その溶液を、スリットダイ(図示せず)から下側の基材3の上に流延し、流延された溶液上に別の基材3を重ねて、前記溶液を2枚の基材3の間に挟持することにより、前記溶液が一定の厚さを有するフィルム状に成形されたフィルム中間体2を形成する。
Hereinafter, according to FIG.4 and FIG.5, the manufacturing method of embodiment which actualized the polybenzazole composite of this invention as the polybenzazole composite film 1 is demonstrated in detail.
As a first embodiment, a polybenzazole molecular chain or a mixed molecular chain containing polybenzazole is oriented in the thickness direction of the polybenzazole composite film 1 (Z-axis direction in FIG. 1), so that thermal conductivity in that direction is obtained. A method for producing a polybenzazole complex having anisotropy in characteristics such as the above will be described. First, a polybenzazole-containing solution containing polybenzazole or polybenzazole used for the present invention and a physical property adjusting material is prepared. The polybenzazole-containing solution is preferably in a concentration range in which the polybenzazole has a liquid crystal state. Next, the solution is cast on a lower substrate 3 from a slit die (not shown), another substrate 3 is overlaid on the cast solution, and the solution is separated into two sheets. By sandwiching between the base materials 3, the film intermediate body 2 in which the solution is formed into a film shape having a certain thickness is formed.

次に、図4に示すように、基材3の上下に、磁場発生装置として一対の永久磁石4を配設することにより、フィルム中間体2に磁場を印加する。一対の永久磁石4は、磁力線5が、フィルム状に成形されたフィルム中間体2の厚み方向に沿うように、N極とS極とが対向して配設されている。   Next, as shown in FIG. 4, a magnetic field is applied to the film intermediate 2 by disposing a pair of permanent magnets 4 as a magnetic field generator above and below the base material 3. The pair of permanent magnets 4 are arranged such that the N pole and the S pole face each other so that the lines of magnetic force 5 are along the thickness direction of the film intermediate body 2 formed into a film shape.

これにより、フィルム中間体2中のポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が、該フィルム中間体2の厚み方向に配向される。このとき基材3の両側には加熱装置(図示せず)が備えられ、フィルム中間体2は該溶液が液晶状態を発現する温度範囲に維持される。この配向状態を維持したまま、フィルム中間体2を凝固させることにより、ポリベンズアゾール基体またはポリベンズアゾールと物性調整材との複合基体を形成する。その後、それらのポリベンズアゾール基体または複合基体に、必要に応じて物性調整材を含浸させた後、硬化させることによって、フィルムの厚み方向にポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が配向され、その方向において優れた異方性機能を有するポリベンズアゾール複合フィルム1を得ることができる。   Thereby, the polybenzazole molecular chain in the film intermediate 2 or the mixed molecular chain containing polybenzazole is oriented in the thickness direction of the film intermediate 2. At this time, a heating device (not shown) is provided on both sides of the substrate 3, and the film intermediate 2 is maintained in a temperature range in which the solution exhibits a liquid crystal state. While maintaining this orientation, the film intermediate 2 is solidified to form a polybenzazole substrate or a composite substrate of a polybenzazole and a physical property adjusting material. Thereafter, the polybenzazole substrate or composite substrate is impregnated with a physical property adjusting agent as necessary, and then cured, so that a polybenzazole molecular chain or a mixed molecular chain containing polybenzazole in the thickness direction of the film is obtained. Can be obtained, and a polybenzazole composite film 1 having an excellent anisotropic function in that direction can be obtained.

第2態様として、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖がポリベンズアゾール複合フィルム1の表面に沿った方向(図1におけるX軸方向又はY軸方向)に配向され、その方向において熱伝導性等の特性に異方性を有するポリベンズアゾール複合体の製造方法について説明する。この実施形態においては、図5に示すように、磁力線5がフィルム中間体2の表面に沿う方向に一致するように、一対の永久磁石4を基材3に挟持された前記フィルム中間体2の左右に配置して、磁場を印加すること以外は、第1態様の方法と同様である。これにより、フィルムの表面に沿う方向にポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖が配向され、その方向において優れた異方性機能を有するポリベンズアゾール複合フィルム1を得ることができる。   As a second embodiment, a polybenzazole molecular chain or a mixed molecular chain containing polybenzazole is oriented in a direction along the surface of the polybenzazole composite film 1 (X-axis direction or Y-axis direction in FIG. 1), and the direction A method for producing a polybenzazole composite having anisotropy in characteristics such as thermal conductivity will be described. In this embodiment, as shown in FIG. 5, the film intermediate body 2 having the pair of permanent magnets 4 sandwiched between the base materials 3 so that the lines of magnetic force 5 coincide with the direction along the surface of the film intermediate body 2. The method is the same as that of the first aspect except that the magnetic field is applied by arranging them on the left and right. Thereby, the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole is oriented in the direction along the surface of the film, and the polybenzazole composite film 1 having an excellent anisotropic function in that direction can be obtained. .

上記実施形態を以下のように変更することも可能である。
・第1および第2の態様のポリベンズアゾール複合体の製造方法において、ポリベンズアゾール含有溶液を、ポリベンズアゾールの溶融液またはポリベンズアゾールおよび物性調整材の混合溶融液(双方をまとめて、「ポリベンズアゾール含有溶融液」とする)として調製してもよい。その場合、ポリベンズアゾール含有溶融液の調製工程、成形工程、およびポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖の配向工程を通じて、ポリベンズアゾール含有溶融液はその溶融状態を維持できる温度に加熱されている。そのような温度の範囲は、100〜450°C、より好ましくは、200〜400°Cである。
The above embodiment can be modified as follows.
In the method for producing the polybenzazole complex of the first and second aspects, the polybenzazole-containing solution is a polybenzazole melt or a mixed melt of a polybenzazole and a physical property modifier (both together, It may be prepared as a “polybenzazole-containing melt”. In that case, the temperature at which the polybenzazole-containing melt can maintain its molten state through the preparation process of the polybenzazole-containing melt, the molding process, and the orientation process of the polybenzazole molecular chain or the mixed molecular chain containing polybenzazole. Has been heated. Such a temperature range is 100 to 450 ° C, more preferably 200 to 400 ° C.

・第1および第2の態様のポリベンズアゾール複合体の製造方法において、永久磁石4を基材3の片側のみに配設してもよい。さらに、磁力線5は曲線状等でもよい。
・第1および第2の態様のポリベンズアゾール複合体の製造方法において、永久磁石を電磁石、超電導磁石、コイル等に変更してもよい。また、永久磁石を、電極、スライダック等を備えた電場発生装置に変更してもよい。このように構成した場合は、ポリベンズアゾール複合体中のポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖は電場方向に配向され、その方向において優れた異方性機能を発現する。
-In the manufacturing method of the polybenzazole complex of the 1st and 2nd aspect, you may arrange | position the permanent magnet 4 only to the one side of the base material 3. FIG. Further, the magnetic field lines 5 may be curved.
-In the manufacturing method of the polybenzazole complex of the 1st and 2nd aspect, you may change a permanent magnet into an electromagnet, a superconducting magnet, a coil, etc. Moreover, you may change a permanent magnet into the electric field generator provided with the electrode, the slider, etc. When configured in this manner, the polybenzazole molecular chain in the polybenzazole complex or the mixed molecular chain containing polybenzazole is oriented in the electric field direction and exhibits an excellent anisotropic function in that direction.

・本発明の成形体は、積層フィルムであってもよい。積層の方法としては、周知の方法たとえば、ダイの口金内での積層や、一層を形成しておいて、その上に他の層を形成する方法などがある。   -The molded body of the present invention may be a laminated film. As a method of stacking, there are known methods such as stacking in a die base, or forming one layer and forming another layer thereon.

次に、参考例、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明する。
参考例1、実施例〜9)
参考例1では、ポリベンズアゾールとして、式(1)においてArおよびArが共にベンゼン環であり、Xが酸素原子であるポリベンゾオキサゾールを合成した。まず、攪拌装置、窒素導入管、乾燥器を備えた反応容器に、ポリリン酸(HPO当量115% )300g、4,6−ジアミノレゾルシノール2塩酸塩5g(23.4mmol)、テレフタル酸ジクロライド4.76g(23.4mmol)および所定量の塩化ベンゾイルを充填し、70℃で16時間撹拌した。さらに、その溶液を攪拌しながら、90℃で5時間、130℃で3時間、150℃で16時間、170℃で3時間、185℃で3時間、200℃で48時間の順に段階的に昇温し、各段階においてその温度を一定時間維持することによって、溶液を反応させ、粗製ポリベンゾオキサゾール溶液を得た。次に上記粗製ポリベンゾオキサゾール溶液をメタノール、アセトン、水で再沈殿して固有粘度約10dl/gのポリベンゾオキサゾールを得た。得られたポリベンゾオキサゾールに、ポリリン酸を加え、最終濃度が9wt%のポリベンゾオキサゾール溶液を調製した。ここで、偏光顕微鏡を用いてポリベンゾオキサゾール溶液を観察し、そのポリベンゾオキサゾール溶液が液晶性を示すことを確認した。
Next, the embodiment will be described more specifically with reference examples, examples, and comparative examples.
( Reference Example 1, Examples 2 to 9)
In Reference Example 1, polybenzoxazole in which Ar 1 and Ar 2 are both a benzene ring and X is an oxygen atom in the formula (1) was synthesized as polybenzazole. First, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introduction tube, and a dryer, 300 g of polyphosphoric acid (H 3 PO 4 equivalent 115%), 5 g of 4,6-diaminoresorcinol dihydrochloride (23.4 mmol), terephthalic acid dichloride 4.76 g (23.4 mmol) and a predetermined amount of benzoyl chloride were charged and stirred at 70 ° C. for 16 hours. Further, while stirring the solution, the temperature was increased stepwise in the order of 5 hours at 90 ° C, 3 hours at 130 ° C, 16 hours at 150 ° C, 3 hours at 170 ° C, 3 hours at 185 ° C, 48 hours at 200 ° C. The solution was reacted by warming and maintaining the temperature at each stage for a certain time to obtain a crude polybenzoxazole solution. Next, the crude polybenzoxazole solution was reprecipitated with methanol, acetone and water to obtain polybenzoxazole having an intrinsic viscosity of about 10 dl / g. Polyphosphoric acid was added to the obtained polybenzoxazole to prepare a polybenzoxazole solution having a final concentration of 9 wt%. Here, the polybenzoxazole solution was observed using a polarizing microscope, and it was confirmed that the polybenzoxazole solution exhibited liquid crystallinity.

図4に示すように、ポリベンゾオキサゾール溶液を2枚の基材3の間に塗布して、フィルム中間体2を成形した。次に、磁力線5がフィルム中間体2の厚み方向と平行になるように、基材3の上下に一対の磁石4を配置した。それにより、フィルム中間体2に10Tの磁場を印加しながら、120℃で20分加熱し、さらに、室温まで自然冷却させて静置した。   As shown in FIG. 4, the polybenzoxazole solution was apply | coated between the two base materials 3, and the film intermediate body 2 was shape | molded. Next, a pair of magnets 4 were arranged above and below the base material 3 so that the lines of magnetic force 5 were parallel to the thickness direction of the film intermediate 2. Thereby, while applying a magnetic field of 10 T to the film intermediate 2, it was heated at 120 ° C. for 20 minutes, further allowed to cool naturally to room temperature, and left still.

その後、基材3に挟持されたフィルム中間体2を取出して、メタノールと水の混合溶液中に浸漬した。前記混合溶液中にて、基材3のうちの1枚を取り外し、フィルム中間体2を凝固させて、ポリベンゾオキサゾール基体を得た。そのポリベンゾオキサゾール基体を
そのまま同混合溶液中に1時間浸漬し、次いで水中で1時間、さらにアセトンに1時間浸漬した。その後、表1に示すように、物性調整材として、大日本インキ化学工業社製エポキシ樹脂「EPICLON EXA−4850−150」と三井化学ファイン社製硬化剤「D−400」との混合物(モル比=2:1)に浸漬することによって、ポリベンゾオキサゾール基体に該混合物を含浸させた。このポリベンゾオキサゾール複合体を100℃で1時間、150℃で2時間乾燥し、エポキシ樹脂含有率が約60重量%で、厚み約100μmのポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。ここで、磁場印加方向は基板上に広がるポリベンゾオキサゾール複合フィルムに対して図1に示すZ軸方向に一致している。
Thereafter, the film intermediate 2 sandwiched between the base materials 3 was taken out and immersed in a mixed solution of methanol and water. In the mixed solution, one of the substrates 3 was removed, and the film intermediate 2 was solidified to obtain a polybenzoxazole substrate. The polybenzoxazole substrate was immersed in the same mixed solution for 1 hour as it was, then immersed in water for 1 hour and further in acetone for 1 hour. Thereafter, as shown in Table 1, as a physical property adjusting material, a mixture (molar ratio) of an epoxy resin “EPICLON EXA-4850-150” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. and a curing agent “D-400” manufactured by Mitsui Chemical Fine Co., Ltd. = 2: 1) impregnated the mixture onto a polybenzoxazole substrate. This polybenzoxazole composite was dried at 100 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 2 hours to obtain a polybenzoxazole composite film 1 having an epoxy resin content of about 60% by weight and a thickness of about 100 μm. Here, the magnetic field application direction coincides with the Z-axis direction shown in FIG. 1 with respect to the polybenzoxazole composite film spreading on the substrate.

実施例2では、ポリベンズアゾールとして、参考例1と同一の固有粘度約10dl/gのポリベンゾオキサゾール(PBO)と、物性調整材として東洋紡績社製ポリイミド「P84」とを重量比が7:3になるようにポリリン酸に溶解させて、最終濃度として12wt%のポリベンゾオキサゾールを含む混合溶液を調製した。ここで、偏光顕微鏡を用いてポリベンゾオキサゾール溶液を観察し、そのポリベンゾオキサゾール混合溶液が液晶性を示すことを確認した。そのポリベンゾオキサゾール混合溶液を2枚の基材3の間に塗布して、フィルム中間体2を成形した。次に、磁力線5がフィルム中間体2の厚み方向と平行になるように、基材3の上下に一対の磁石4の間に配置した。それにより、フィルム中間体2に10Tの磁場を印加しながら、120℃で20分加熱し、さらに、室温まで自然冷却させて静置した。その後、基材3に挟持されたフィルム中間体2を取出して、メタノールと水との混合溶液中に浸漬した。前記混合溶液中にて、基材3のうちの1枚を取り外し、フィルム中間体2を凝固させて、ポリベンゾオキサゾールとポリイミドとの複合基体を得た。その複合基体をそのまま同混合溶液中に1時間浸漬し、次いで水中で1時間浸漬した後、110℃で2時間乾燥し、厚み約100mのポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。 In Example 2, polybenzoxazole (PBO) having the same intrinsic viscosity of about 10 dl / g as that of Reference Example 1 as polybenzazole and polyimide “P84” manufactured by Toyobo Co., Ltd. as a physical property adjusting material has a weight ratio of 7: 3 was dissolved in polyphosphoric acid to prepare a mixed solution containing 12 wt% polybenzoxazole as the final concentration. Here, the polybenzoxazole solution was observed using a polarizing microscope, and it was confirmed that the polybenzoxazole mixed solution exhibited liquid crystallinity. The polybenzoxazole mixed solution was applied between two substrates 3 to form a film intermediate 2. Next, the magnetic field lines 5 were arranged between the pair of magnets 4 on the top and bottom of the base material 3 so as to be parallel to the thickness direction of the film intermediate 2. Thereby, while applying a magnetic field of 10 T to the film intermediate 2, it was heated at 120 ° C. for 20 minutes, further allowed to cool naturally to room temperature, and left still. Thereafter, the film intermediate 2 sandwiched between the substrates 3 was taken out and immersed in a mixed solution of methanol and water. In the mixed solution, one of the substrates 3 was removed, and the film intermediate 2 was solidified to obtain a composite substrate of polybenzoxazole and polyimide. The composite substrate was immersed in the same mixed solution for 1 hour, then immersed in water for 1 hour, and then dried at 110 ° C. for 2 hours to obtain a polybenzoxazole composite film 1 having a thickness of about 100 m.

実施例3においては、表1に記載の重量比に変更した以外は、実施例2と同様の方法によってポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。
実施例4および実施例5においては、物性調整材として、ポリイミドを東洋紡製ポリイミド「P84」から新日本理化社製ポリイミド「リカコート SN−20」に変更し、表1に記載の重量比に変更した以外は、実施例2〜実施例4と同様の方法によってポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。
In Example 3, the polybenzoxazole composite film 1 was obtained by the same method as Example 2 except having changed into the weight ratio of Table 1.
In Example 4 and Example 5, as a physical property adjusting material, polyimide was changed from polyimide “P84” manufactured by Toyobo to polyimide “Rika Coat SN-20” manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., and the weight ratio shown in Table 1 was changed. Except for the above, a polybenzoxazole composite film 1 was obtained in the same manner as in Examples 2 to 4.

実施例6では、実施例2と同一のポリベンズアゾールとポリイミド(物性調整材)とを同一の組成で用いて、実施例2と同様の方法によってポリベンゾオキサゾールとポリイミドとの複合基体を得た。その複合体基体をそのまま同混合溶液中に1時間浸漬し、次いで水中で1時間、さらにアセトンに1時間浸漬した。その後、表1に示すように、含浸させる物性調整材(第2の物性調整材)として、大日本インキ化学工業社製エポキシ樹脂「EPICLON EXA−4850−150」と三井化学ファイン社製硬化剤「D−400」との混合物(モル比=2:1)に浸漬することによって、ポリベンゾオキサゾール複合基体に該混合物を含浸させた。このポリベンゾオキサゾール複合体を100℃で1時間、150℃で2時間乾燥し、エポキシ樹脂含有率が約60重量%で、厚み約100μmのポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。   In Example 6, a composite substrate of polybenzoxazole and polyimide was obtained in the same manner as in Example 2 using the same polybenzazole and polyimide (physical property adjusting material) as in Example 2 with the same composition. . The composite substrate was immersed in the mixed solution for 1 hour as it was, then immersed in water for 1 hour and further in acetone for 1 hour. Thereafter, as shown in Table 1, as a physical property adjusting material to be impregnated (second physical property adjusting material), an epoxy resin “EPICLON EXA-4850-150” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. and a curing agent “Mitsui Chemical Fine Co., Ltd.” The polybenzoxazole composite substrate was impregnated with the mixture by dipping in a mixture with D-400 "(molar ratio = 2: 1). This polybenzoxazole composite was dried at 100 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 2 hours to obtain a polybenzoxazole composite film 1 having an epoxy resin content of about 60% by weight and a thickness of about 100 μm.

実施例7においては、含浸させる物性調整材(第2の物性調整材)を、大日本インキ化学工業社製エポキシ樹脂「EPICLON EXA−4850−150」と三井化学ファイン社製硬化剤「D−400」との混合物(モル比=2:1)から東洋紡製ポリイミド「P84」5wt%ジメチルアセトアミド溶液に変更した以外は、実施例6と同様の方法によってポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。   In Example 7, the physical property adjusting material to be impregnated (second physical property adjusting material) was an epoxy resin “EPICLON EXA-4850-150” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. and a curing agent “D-400 manufactured by Mitsui Chemical Fine Co., Ltd. The polybenzoxazole composite film 1 was obtained by the same method as in Example 6 except that the mixture was changed from a mixture with a polyimide (P84) 5 wt% dimethylacetamide solution to Toyobo (molar ratio = 2: 1).

実施例8においては、図5に示すように、ポリベンゾオキサゾール溶液を基材3に塗布して、フィルム中間体2を成形した後、該フィルム中間体2の表面が磁力線5と平行となるように基材3を磁石4の間に配置したこと以外は、参考例1と同様の方法によりポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。ここで、磁場印加方向は、基板上に広がるポリベンゾオキサゾールフィルムに対して図1に示したX軸方向に一致している。 In Example 8, as shown in FIG. 5, after applying the polybenzoxazole solution to the base material 3 to form the film intermediate 2, the surface of the film intermediate 2 is parallel to the magnetic force lines 5. A polybenzoxazole composite film 1 was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that the substrate 3 was disposed between the magnets 4. Here, the magnetic field application direction coincides with the X-axis direction shown in FIG. 1 with respect to the polybenzoxazole film spreading on the substrate.

実施例9においては、図5に示すように、ポリベンゾオキサゾール混合溶液を基材3に塗布して、フィルム中間体2を得た後、そのフィルム中間体2の表面が磁力線5と平行となるように基材3を磁石4の間に配置したこと以外は、実施例2と同様の方法によりポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。ここで、磁場印加方向は、基板上に広がるポリベンゾオキサゾール複合フィルムに対して図1に示したX軸方向に一致している。
(比較例1〜9)
比較例1においては、参考例1と同一の9wt%ポリベンゾオキサゾール溶液を基板上に塗布してフィルム中間体2を成形した後、磁場を印加せずに、120℃で20分加熱し、さらに、室温まで自然冷却した。その後、基材3に挟持された状態のフィルム中間体2をメタノールと水との混合溶液中に浸漬し、基材3のうち1枚を取り外して、フィルム中間体2を凝固させて、ポリベンゾオキサゾール基体を得た。そのポリベンゾオキサゾール基体を基板から剥離して、そのままメタノールと水との混合溶液中に1時間浸漬し、次いで水中に1時間、さらにアセトンに1時間浸漬した。その後、表2に示すように、物性調整材として、大日本インキ化学工業社製エポキシ樹脂「EPICLON EXA−4850−150」と三井化学ファイン社製硬化剤「D−400」との混合物(モル比=2:1)に浸漬することによって、ポリベンゾオキサゾール基体に前記混合物を含浸させた。このポリベンゾオキサゾール複合体を110℃で1時間、150℃で2時間乾燥し、エポキシ樹脂含有率が約65%で、厚み約100μmのポリベンゾオキサゾール複合フィルムを得た。
In Example 9, as shown in FIG. 5, after applying the polybenzoxazole mixed solution to the base material 3 to obtain the film intermediate 2, the surface of the film intermediate 2 is parallel to the magnetic force lines 5. Thus, the polybenzoxazole composite film 1 was obtained by the same method as Example 2 except having arrange | positioned the base material 3 between the magnets 4 in this way. Here, the magnetic field application direction coincides with the X-axis direction shown in FIG. 1 with respect to the polybenzoxazole composite film spreading on the substrate.
(Comparative Examples 1-9)
In Comparative Example 1, the same 9 wt% polybenzoxazole solution as in Reference Example 1 was applied onto a substrate to form a film intermediate 2 and then heated at 120 ° C. for 20 minutes without applying a magnetic field. Cooled naturally to room temperature. Thereafter, the film intermediate 2 sandwiched between the substrates 3 is immersed in a mixed solution of methanol and water, one of the substrates 3 is removed, the film intermediate 2 is solidified, and polybenzo An oxazole substrate was obtained. The polybenzoxazole substrate was peeled from the substrate and immersed in a mixed solution of methanol and water for 1 hour, then immersed in water for 1 hour and further in acetone for 1 hour. Thereafter, as shown in Table 2, as a physical property adjusting material, a mixture (molar ratio) of an epoxy resin “EPICLON EXA-4850-150” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. and a curing agent “D-400” manufactured by Mitsui Chemical Fine Co., Ltd. = 2: 1) so that the polybenzoxazole substrate was impregnated with the mixture. This polybenzoxazole composite was dried at 110 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 2 hours to obtain a polybenzoxazole composite film having an epoxy resin content of about 65% and a thickness of about 100 μm.

比較例2においては、実施例2と同一のポリベンゾオキサゾールと、物性調整材として東洋紡績社製ポリイミド「P84」とを重量比が7:3になるようにポリリン酸に溶解させて、最終濃度として12wt%のポリベンゾオキサゾールを含む混合溶液を調製した。ここで、偏光顕微鏡を用いてポリベンゾオキサゾール混合溶液を観察し、そのポリベンゾオキサゾール混合溶液が液晶性を示すことを確認した。そのポリベンゾオキサゾール混合溶液を2枚の基材3の間に塗布して、フィルム中間体2を成形した。このフィルム中間体2を、磁場を印加せずに120℃で20分加熱し、さらに、室温まで自然冷却した。その後、基材3に挟持されたフィルム中間体2を取出して、メタノールと水の混合溶液中に浸漬した。前記混合溶液中にて、基材3のうちの1枚を取り外し、フィルム中間体2を凝固させて、ポリベンゾオキサゾール複合基体を得た。そのポリベンゾオキサゾール複合基体をそのまま同混合溶液中に1時間浸漬し、次いで水中で1時間浸漬した後、110℃で2時間乾燥し、厚み約100mのポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。   In Comparative Example 2, the same polybenzoxazole as in Example 2 and polyimide “P84” manufactured by Toyobo Co., Ltd. as a physical property adjusting material were dissolved in polyphosphoric acid so that the weight ratio was 7: 3, and the final concentration As a mixed solution containing 12 wt% polybenzoxazole. Here, the polybenzoxazole mixed solution was observed using a polarizing microscope, and it was confirmed that the polybenzoxazole mixed solution exhibited liquid crystallinity. The polybenzoxazole mixed solution was applied between two substrates 3 to form a film intermediate 2. This film intermediate 2 was heated at 120 ° C. for 20 minutes without applying a magnetic field, and then naturally cooled to room temperature. Thereafter, the film intermediate 2 sandwiched between the base materials 3 was taken out and immersed in a mixed solution of methanol and water. In the mixed solution, one of the substrates 3 was removed, and the film intermediate 2 was solidified to obtain a polybenzoxazole composite substrate. The polybenzoxazole composite substrate was immersed in the same mixed solution as it was for 1 hour, then immersed in water for 1 hour, and then dried at 110 ° C. for 2 hours to obtain a polybenzoxazole composite film 1 having a thickness of about 100 m.

比較例3においては、表2に記載の重量比に変更した以外は、比較例2と同様の方法によってポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。
比較例4、比較例5においては、物性調整材として、ポリイミドを東洋紡製ポリイミド「P84」から新日本理化社製ポリイミド「リカコート SN−20」に変更し、表2に記載の重量比に変更した以外は、比較例2〜比較例4と同様の方法によって各ポリベンゾオキサゾール複合フィルムを得た。
In Comparative Example 3, a polybenzoxazole composite film 1 was obtained by the same method as in Comparative Example 2 except that the weight ratios were changed to those shown in Table 2.
In Comparative Example 4 and Comparative Example 5, polyimide was changed from Toyobo polyimide “P84” to Shin Nippon Rika Co., Ltd. “Rika Coat SN-20” as a physical property adjusting material, and the weight ratios shown in Table 2 were changed. Except for the above, each polybenzoxazole composite film was obtained by the same method as in Comparative Examples 2 to 4.

比較例6では、比較例2と同一のポリベンズアゾールとポリイミド(物性調整材)とを同一の組成で用いて、比較例2と同様の方法によってポリベンゾオキサゾールとポリイミドとの複合基体を得た。その複合体基体をそのまま同混合溶液中に1時間浸漬し、次いで水中で1時間、さらにアセトンに1時間浸漬した。その後、表2に示すように、含浸させ
る物性調整材(第2の物性調整材)として、大日本インキ化学工業社製エポキシ樹脂「EPICLON EXA−4850−150」と三井化学ファイン社製硬化剤「D−400」との混合物(モル比=2:1)に浸漬することによって、ポリベンゾオキサゾール複合基体に該混合物を含浸させた。このポリベンゾオキサゾール複合体を100℃で1時間、150℃で2時間乾燥し、エポキシ樹脂含有率が約60重量%で、厚み約80μmのポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。
In Comparative Example 6, a composite substrate of polybenzoxazole and polyimide was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 using the same polybenzazole and polyimide (material property adjusting material) as in Comparative Example 2 with the same composition. . The composite substrate was immersed in the mixed solution for 1 hour as it was, then immersed in water for 1 hour and further in acetone for 1 hour. Thereafter, as shown in Table 2, as a physical property adjusting material to be impregnated (second physical property adjusting material), an epoxy resin “EPICLON EXA-4850-150” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. and a curing agent “Mitsui Chemical Fine Co., Ltd.” The polybenzoxazole composite substrate was impregnated with the mixture by dipping in a mixture with D-400 "(molar ratio = 2: 1). This polybenzoxazole composite was dried at 100 ° C. for 1 hour and 150 ° C. for 2 hours to obtain a polybenzoxazole composite film 1 having an epoxy resin content of about 60% by weight and a thickness of about 80 μm.

比較例7においては、含浸させる物性調整材(第2の物性調整材)を、大日本インキ化学工業社製エポキシ樹脂「EPICLON EXA−4850−150」と三井化学ファイン社製硬化剤「D−400」との混合物(モル比=2:1)から東洋紡製ポリイミド「P84」5wt%ジメチルアセトアミド溶液に変更した以外は、比較例6と同様の方法によってポリベンゾオキサゾール複合フィルム1を得た。   In Comparative Example 7, the physical property adjusting material to be impregnated (second physical property adjusting material) was an epoxy resin “EPICLON EXA-4850-150” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. and a curing agent “D-400 manufactured by Mitsui Chemical Fine Co., Ltd. The polybenzoxazole composite film 1 was obtained by the same method as in Comparative Example 6 except that the mixture was changed from a mixture with a polyimide (P84) 5 wt% dimethylacetamide solution to Toyobo (molar ratio = 2: 1).

比較例8においては、上記参考例1、実施例〜9および比較例1〜7と同一の固有粘度約10dl/gのポリベンゾオキサゾールをポリリン酸に溶解させて、最終濃度が約9wt%のポリベンゾオキサゾール溶液を得た。図4に示すように、この約9wt%ポリベンゾオキサゾール溶液を2枚の基材3の間に塗布して、フィルム中間体2を成形した。次に、磁力線5がフィルム中間体2の厚み方向と平行になるように、基材3の上下に一対の磁石4の間に配置した。それにより、フィルム中間体2に10Tの磁場を印加しながら、120℃で20分加熱し、さらに、室温まで自然冷却した。その後、基材3に挟持されたフィルム中間体2を取出して、メタノールと水の混合溶液中に浸漬した。前記混合溶液中にて、基材3のうちの1枚を取り外し、フィルム中間体2を凝固させて、ポリベンゾオキサゾール基体を得た。そのポリベンゾオキサゾール基体をそのまま同混合溶液中に1時間、次いで水中で1時間浸漬した後、120℃で2時間乾燥し、厚み約100μmのポリベンゾオキサゾールフィルムを得た。ここで、磁場印加方向は基板上に広がるポリベンゾオキサゾールフィルムに対して図1に示すZ軸方向に一致している。 In Comparative Example 8, polybenzoxazole having the same intrinsic viscosity of about 10 dl / g as in Reference Example 1, Examples 2 to 9 and Comparative Examples 1 to 7 was dissolved in polyphosphoric acid, and the final concentration was about 9 wt%. A polybenzoxazole solution was obtained. As shown in FIG. 4, this about 9 wt% polybenzoxazole solution was applied between two substrates 3 to form a film intermediate 2. Next, the magnetic field lines 5 were arranged between the pair of magnets 4 on the top and bottom of the base material 3 so as to be parallel to the thickness direction of the film intermediate 2. Thereby, while applying a 10 T magnetic field to the film intermediate 2, it was heated at 120 ° C. for 20 minutes, and further naturally cooled to room temperature. Thereafter, the film intermediate 2 sandwiched between the base materials 3 was taken out and immersed in a mixed solution of methanol and water. In the mixed solution, one of the substrates 3 was removed, and the film intermediate 2 was solidified to obtain a polybenzoxazole substrate. The polybenzoxazole substrate was immersed in the same mixed solution for 1 hour and then in water for 1 hour, and then dried at 120 ° C. for 2 hours to obtain a polybenzoxazole film having a thickness of about 100 μm. Here, the magnetic field application direction coincides with the Z-axis direction shown in FIG. 1 with respect to the polybenzoxazole film spreading on the substrate.

比較例9には、厚さ75μmのポリイミドフィルム(PI)(商品名「カプトン」;デュポン社製)を示す。
表1および表2に、得られた各フィルムに関して、参考例1、実施例〜7と比較例1〜8ではその厚み方向(Z軸方向)、実施例8〜9ではフィルム1の表面に沿う方向(X軸方向)における、配向度Aおよび異方性を発現する特性として熱拡散率αおよび熱伝導率λを示す。なお、X軸方向の熱拡散率をα、Z軸方向の熱拡散率をαとする。X軸方向の熱伝導率を熱伝導率λで示し、Z軸方向の熱伝導率を熱伝導率λで示す。尚、フィルム1の表面に沿う方向(X軸方向)は、該フィルムを成形する際の基材3上におけるポリベンズアゾール溶液または混合溶液の塗布方向に一致する。
Comparative Example 9 shows a polyimide film (PI) having a thickness of 75 μm (trade name “Kapton”; manufactured by DuPont).
In each of the obtained films shown in Tables 1 and 2, the thickness direction (Z-axis direction) in Reference Example 1, Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 to 8, and the surface of film 1 in Examples 8 to 9 A thermal diffusivity α and a thermal conductivity λ are shown as characteristics that exhibit the degree of orientation A and anisotropy in the direction along the X-axis. The thermal diffusivity in the X-axis direction is α X , and the thermal diffusivity in the Z-axis direction is α Z. The thermal conductivity of the X-axis direction indicated by the thermal conductivity lambda X, showing the thermal conductivity in the Z-axis direction by the thermal conductivity lambda Z. In addition, the direction (X-axis direction) along the surface of the film 1 coincides with the application direction of the polybenzazole solution or the mixed solution on the substrate 3 when the film is formed.

ポリベンゾオキサゾール複合フィルムの配向度Aは、X線回折装置(理学電機株式会社製「RINT−RAPID」)を使用して、得られた各ポリベンゾオキサゾール複合フィルムの方位角方向のX線回折強度分布におけるピークの半値幅ΔBから式(i)によって算出した。一例として、実施例4のポリベンゾオキサゾール複合フィルムについて、図2にX線回折測定による赤道方向の回折パターンを示し、図3に回折ピーク角度2θ=約26°における方位角方向のX線回折強度分布を示す。また、比較例4のポリベンゾオキサゾール複合フィルムについて、図6にX線回折測定による赤道方向の回折パターンを示し、図7に回折ピーク角度2θ=約26°における方位角方向のX線回折強度分布を示す。   The degree of orientation A of the polybenzoxazole composite film is determined by using an X-ray diffractometer (“RINT-RAPID” manufactured by Rigaku Corporation) and the X-ray diffraction intensity in the azimuth direction of each obtained polybenzoxazole composite film. It was calculated by the formula (i) from the half-value width ΔB of the peak in the distribution. As an example, for the polybenzoxazole composite film of Example 4, FIG. 2 shows a diffraction pattern in the equator direction by X-ray diffraction measurement, and FIG. 3 shows an X-ray diffraction intensity in the azimuth direction at a diffraction peak angle 2θ = about 26 °. Show the distribution. Further, for the polybenzoxazole composite film of Comparative Example 4, FIG. 6 shows a diffraction pattern in the equator direction by X-ray diffraction measurement, and FIG. 7 shows an X-ray diffraction intensity distribution in the azimuth direction at a diffraction peak angle 2θ = about 26 °. Indicates.

フィルムの厚み方向の熱拡散率αは、熱拡散率測定装置(株式会社アイフェイズ製「アイフェイズα」)を用い、各フィルムの表面にスパッタリングにより電極を直接形成し、銀ペーストによりリード線を取り付け、各フィルムの下面にセンサー、上面にヒーターを当接させて、室温にて測定した。また、面に沿った方向の熱拡散率αは、赤外線カメ
ラを利用した2次元熱分析装置(株式会社アイフェイズ製「アイフェイズIR」)を用い、試料表面にスパッタリングによりL字型長さ4mm、幅1mmの電極を直接形成し、室温における図1に示したX軸方向およびY軸方向への熱流観測から測定した。
The thermal diffusivity α Z in the thickness direction of the film was determined by directly forming electrodes on the surface of each film by sputtering using a thermal diffusivity measuring device (“Eye Phase α” manufactured by Eye Phase Co., Ltd.) Was attached, and a sensor was brought into contact with the lower surface of each film, and a heater was brought into contact with the upper surface, followed by measurement at room temperature. Further, the thermal diffusivity α X in the direction along the surface is determined by the L-shaped length by sputtering on the sample surface using a two-dimensional thermal analyzer (“Eye Phase IR” manufactured by Eye Phase Co., Ltd.) using an infrared camera. An electrode having a width of 4 mm and a width of 1 mm was directly formed, and measurement was performed from observation of heat flow in the X axis direction and the Y axis direction shown in FIG. 1 at room temperature.

熱伝導率λは、フィルムの熱拡散率αから下記式(iii)によって求めた。
熱伝導率λ=α・ρ・C ・・・(iii)
(ただし、αは熱拡散率、ρは密度、Cは比熱を示す。)
ポリベンゾオキサゾール複合フィルム中において、該複合体に含浸された物性調整材含有率の測定方法は、まず乾燥したポリベンゾオキサゾール複合フィルムの目付け量Ds[g/m]を測定した。次いで、ポリベンゾオキサゾール複合フィルムの作製と同様の条件で作製したポリベンゾオキサゾールのみからなるポリベンゾオキサゾール基体を複合化することなく乾燥させ、そのポリベンゾオキサゾール基体の目付け量Dr[g/m]を測定した。これらの値から、ポリベンゾオキサゾール複合フィルムにおける含浸物の含有率を下記式(iv)によって求めた。
The thermal conductivity λ was determined from the thermal diffusivity α of the film according to the following formula (iii).
Thermal conductivity λ = α · ρ · C P (iii)
(However, alpha is the thermal diffusivity, [rho is the density, C P represents the specific heat.)
In the polybenzoxazole composite film, the physical property modifier content rate impregnated in the composite was measured by first measuring the basis weight Ds [g / m 2 ] of the dried polybenzoxazole composite film. Next, the polybenzoxazole substrate made of only polybenzoxazole prepared under the same conditions as the preparation of the polybenzoxazole composite film is dried without being combined, and the basis weight Dr [g / m 2 ] of the polybenzoxazole substrate is obtained. Was measured. From these values, the content of the impregnated material in the polybenzoxazole composite film was determined by the following formula (iv).

物性調整材の含有率[重量%]=(Ds−Dr)/Dr×100・・・(iv)
各ポリベンゾオキサゾール複合フィルムの屈曲寿命を評価した。屈曲寿命は、曲げ半径約10mm、屈曲速度100回/分、ストローク20mmの条件で室温下で測定し、屈曲回数が5万回以上のものを○、5万回に満たなかったものを×とした。
Content ratio of physical property adjusting material [% by weight] = (Ds−Dr) / Dr × 100 (iv)
The flex life of each polybenzoxazole composite film was evaluated. The bending life was measured at room temperature under conditions of a bending radius of about 10 mm, a bending speed of 100 times / minute, and a stroke of 20 mm. The number of bending times was 50,000 times or more. did.

Figure 0004667856
Figure 0004667856

Figure 0004667856
表1に示すように、参考例1、実施例〜9においては、いずれも配向度Aは0.6以上の値を示しており、ポリベンゾオキサゾール複合フィルム中において、ポリベンゾオキサソール分子鎖(参考例1および8)またはポリベンゾオキサソールおよび物性調整材の混合分子鎖(実施例2〜5および9)は磁場を印加した方向であるZ軸またはX軸方向に高度に配向していた。また、参考例1、実施例〜9の各ポリベンゾオキサゾール複合フィルム1は前記配向方向において、いずれも高い熱拡散率および熱伝導率を有するといった優れた異方性機能を発現した。加えて、それらポリベンゾオキサゾール複合フィルム1は、可撓性を有するため、十分な屈曲寿命を有していた。ポリベンゾオキサゾール複合フィルムは可撓性を有するとともに熱伝導性に優れているため、例えば種々の電子機器の屈曲部等において発熱を伴う回路を配する場合や、熱が蓄積し易いような狭い場所に複数の配線板を高密度で配する場合等に好適に使用することができる。
Figure 0004667856
As shown in Table 1, in Reference Example 1 and Examples 2 to 9, the orientation degree A shows a value of 0.6 or more. In the polybenzoxazole composite film, the polybenzoxazole molecular chain ( Reference Examples 1 and 8) or mixed molecular chains of polybenzoxazole and physical property modifiers (Examples 2 to 5 and 9) were highly oriented in the Z-axis or X-axis direction, which is the direction in which the magnetic field was applied. . In addition, each of the polybenzoxazole composite films 1 of Reference Example 1 and Examples 2 to 9 exhibited excellent anisotropic functions such as high thermal diffusivity and thermal conductivity in the orientation direction. In addition, since these polybenzoxazole composite films 1 have flexibility, they had a sufficient bending life. The polybenzoxazole composite film has flexibility and excellent thermal conductivity. For example, when a circuit with heat generation is arranged in a bent part of various electronic devices, or in a narrow place where heat is likely to accumulate. It can be suitably used when arranging a plurality of wiring boards at a high density.

一方、比較例1〜7においては、表2に示すように、Z軸方向における配向度Aはいずれも0.6未満の低い値を示した。そのため、X軸方向における熱拡散率および熱伝導率は、参考例1、実施例〜7と比べ、概して一桁小さい値であった。 On the other hand, in Comparative Examples 1 to 7, as shown in Table 2, the degree of orientation A in the Z-axis direction showed a low value of less than 0.6. Therefore, the thermal diffusivity and thermal conductivity in the X-axis direction were generally an order of magnitude smaller than those of Reference Example 1 and Examples 2 to 7.

比較例8においては、表2に示すように、Z軸方向における配向度Aは0.75と高い値を示したが、得られたフィルムは脆く、十分な屈曲寿命が得られなかった。
比較例9のポリイミドフィルムは、屈曲寿命には優れていたが、Z軸方向の熱拡散率および熱伝導率はいずれも実施例と比べて小さい値を示した。
In Comparative Example 8, as shown in Table 2, the degree of orientation A in the Z-axis direction was as high as 0.75, but the obtained film was brittle and a sufficient bending life could not be obtained.
The polyimide film of Comparative Example 9 was excellent in the bending life, but both the thermal diffusivity and thermal conductivity in the Z-axis direction showed smaller values than in the Examples.

上記実施形態から把握できる技術的思想について下記に記載する。
・ポリベンズアゾール複合体において、該成形体は、上記一般式(1)および(2)の少なくともいずれかの繰り返し単位を有するポリベンズアゾールから形成され、一般式(1)および(2)において、Xは酸素原子であり、ArおよびArは一般式(I)〜(VIII)においてZが酸素原子または直接結合であるものを示すポリベンズアゾール複合体。
The technical idea that can be grasped from the above embodiment will be described below.
· In Po Li benzazole complex molded article is formed from polybenzazole having at least one of the repeating units of the general formula (1) and (2), in the general formula (1) and (2) , X is an oxygen atom, and Ar 1 and Ar 2 are polybenzazole complexes showing that in formulas (I) to (VIII), Z is an oxygen atom or a direct bond.

このポリベンズアゾール複合体によれば、該成形体中においてポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖がより高度に配向されることにより、優れた異方性機能を発現することができる。
・ポリベンズアゾール複合体において、該成形体がフィルムの形態にあるポリベンズアゾール複合体。これにより、異方性機能を有するフィルムが要求される用途において使用可能なポリベンズアゾール複合体が得られる。
・上記ポリベンズアゾール複合体において、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖がフィルムの表面に沿う方向に配向されているポリベンズアゾール複合体。これにより、その表面に沿って異方性機能を有するフィルムが要求される用途において使用可能なポリベンズアゾール複合体が得られる。
・上記ポリベンズアゾール複合体において、ポリベンズアゾール分子鎖あるいはポリベンズアゾールを含む混合分子鎖がフィルムの厚み方向に配向されているポリベンズアゾール複合体。これにより、その厚み方向に異方性機能を有するフィルムが要求される用途において使用可能なポリベンズアゾール複合体が得られる。
・上記ポリベンズアゾール複合体において、厚み方向の熱伝導率λが1〜50W/(m・K)であるポリベンズアゾール複合体。これにより、フィルム状のポリベンズアゾール複合体はその厚み方向に優れた熱伝導性を発揮することができる。
・ポリベンズアゾール複合体を製造する方法において、前記配向工程中、ポリベンズアゾール溶液の少なくとも一部が液晶状態にある方法。
・ポリベンズアゾール複合体を製造する方法において、前記配向工程中、前記混合溶液の少なくとも一部が液晶状態にある方法。
According to this polybenzazole complex, a polybenzazole molecular chain or a mixed molecular chain containing polybenzazole is more highly oriented in the molded body, thereby exhibiting an excellent anisotropic function. it can.
Po in Li benzazole complex, polybenzazole composite molded product is in the form of a film. Thereby, the polybenzazole composite which can be used in the use for which the film which has an anisotropic function is requested | required is obtained.
-In the said polybenzazole complex, the polybenzazole complex in which the mixed molecular chain containing a polybenzazole molecular chain or a polybenzazole is orientated in the direction along the surface of a film. Thereby, the polybenzazole composite which can be used in the use for which the film which has an anisotropic function is requested | required along the surface is obtained.
-A polybenzazole complex in which the polybenzazole molecular chain or a mixed molecular chain containing polybenzazole is oriented in the thickness direction of the film. Thereby, the polybenzazole composite which can be used in the use for which the film which has an anisotropic function in the thickness direction is requested | required is obtained.
-The polybenzazole composite body whose thermal conductivity (lambda) of the thickness direction is 1-50 W / (m * K) in the said polybenzazole composite body. Thereby, the film-form polybenzazole composite can exhibit the thermal conductivity excellent in the thickness direction.
In-process for producing a port re benzazole complex, in the alignment step, wherein at least a portion of the polybenzazole solution is in a liquid crystalline state.
- a process for the preparation of Po Li benzazole complex, in the alignment step, wherein at least a portion of the mixed solution is in a liquid crystalline state.

本発明のポリベンズアゾール複合体の一実施形態を示す斜視図。The perspective view which shows one Embodiment of the polybenzazole composite_body | complex of this invention. 本発明のポリベンズアゾール複合体のデバイ環の中心から半径方向のX線回折パターンの例を示すグラフ。The graph which shows the example of the X-ray-diffraction pattern of radial direction from the center of the Debye ring of the polybenzazole complex of this invention. 本発明のポリベンズアゾール複合体の方位角方向のX線回折強度分布の例を示すグラフ。The graph which shows the example of the X-ray diffraction intensity distribution of the azimuth direction of the polybenzazole composite of this invention. ポリベンズアゾール複合体を構成する分子鎖が厚み方向に配向されたポリベンズアゾール複合体の製造方法を示す概略図。Schematic which shows the manufacturing method of the polybenzazole complex in which the molecular chain which comprises a polybenzazole complex was orientated in the thickness direction. ポリベンズアゾール複合体を構成する分子鎖が表面に沿う方向に配向されたポリベンズアゾール複合体の製造方法に用いられる装置を示す概略図。Schematic which shows the apparatus used for the manufacturing method of the polybenzazole complex in which the molecular chain which comprises a polybenzazole complex was orientated in the direction along a surface. 比較例4のポリベンズアゾール複合体のデバイ環の中心から半径方向のX線回折パターンを示すグラフ。The graph which shows the X-ray-diffraction pattern of radial direction from the center of the Debye ring of the polybenzazole complex of the comparative example 4. 比較例4のポリベンズアゾール複合体の方位角方向のX線回折強度分布を示すグラフ。The graph which shows the X-ray-diffraction intensity distribution of the azimuth direction of the polybenzazole composite of the comparative example 4.

符号の説明Explanation of symbols

1…ポリベンズアゾール複合フィルム、2…フィルム中間体、3…基材、4…永久磁石、5…磁力線、ΔB…半値幅   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Polybenzazole composite film, 2 ... Film intermediate body, 3 ... Base material, 4 ... Permanent magnet, 5 ... Magnetic field line, (DELTA) B ... Half value width

Claims (5)

ポリベンズアゾールと、少なくとも1種類の物性調整材とを含む、ポリベンズアゾール複合体を製造する方法であって、前記ポリベンズアゾールは、下記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを有し、
Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar及びArは芳香族炭化水素基をそれぞれ表し、nは10〜500の整数であり、下記式(i)によって求められるポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖の配向度Aが0.6以上1.0未満の範囲であり、
配向度A=(180−ΔB)/180 ・・・ (i)
(式中、ΔBは該成形体のX線回折測定によるピーク散乱角を固定して、方位角方向の0〜360°までの強度分布における半値幅を表す)
前記物性調整材は、
ポリオレフィン系化合物、ポリエステル系化合物、ポリアクリル系化合物、ポリメタクリル系化合物、ポリビニル系化合物、ポリスチレン系化合物、ポリウレタン系化合物、ポリエーテルアミド系化合物、ポリエステルアミド系化合物、芳香族系ポリマー、フルオロアルキル高分子、液晶性高分子、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、及び液晶性エポキシ樹脂から選ばれるものであり、
該方法が、
前記ポリベンズアゾールと少なくとも1種の物性調整材とを含み、前記ポリベンズアゾールのリオトロピック液晶性を発現し得る混合溶液を調製する工程と、
前記リオトロピック液晶性を発現させた混合溶液に一定方向の磁場または電場を印加することにより、同混合溶液中のポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖を一定方向に配向させる工程と、
そのポリベンズアゾールおよび物性調整材の分子鎖の配向状態を維持したまま、前記混合溶液を凝固させて、ポリベンズアゾールの分子鎖の間に前記物性調整材が含浸された複合基体を形成する工程と、
前記複合基体を硬化させる工程とを含む方法。
A method for producing a polybenzazole complex comprising polybenzazole and at least one physical property modifier, wherein the polybenzazole is a repeating unit represented by the following general formulas (1) to (4) Having at least one of
Figure 0004667856
In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 each represent an aromatic hydrocarbon group, n is an integer of 10 to 500, and is determined by the following formula (i). The molecular chain orientation degree A of the polybenzazole and the physical property modifier is in the range of 0.6 or more and less than 1.0,
Orientation degree A = (180−ΔB) / 180 (i)
(In the formula, ΔB represents the half-value width in the intensity distribution from 0 to 360 ° in the azimuth direction with the peak scattering angle measured by X-ray diffraction measurement of the molded body fixed)
The physical property adjusting material is
Polyolefin compounds, polyester compounds, polyacrylic compounds, polymethacrylic compounds, polyvinyl compounds, polystyrene compounds, polyurethane compounds, polyether amide compounds, polyester amide compounds, aromatic polymers, fluoroalkyl polymers , Liquid crystalline polymer, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, triphenolalkane type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and It is chosen from liquid crystalline epoxy resins,
The method is
A step of said polybenzazole and saw including at least one physical property adjusting material to prepare a mixed solution capable of expressing a lyotropic liquid crystal of said polybenzazole,
Applying a magnetic field or an electric field in a certain direction to the mixed solution in which the lyotropic liquid crystallinity is expressed, thereby orienting molecular chains of the polybenzazole and the physical property modifier in the mixed solution in a certain direction;
A step of solidifying the mixed solution while maintaining the orientation state of the molecular chains of the polybenzazole and the physical property adjusting material to form a composite substrate in which the physical property adjusting material is impregnated between the molecular chains of the polybenzazole. When,
Curing the composite substrate.
ポリベンズアゾールと、第1及び第2の物性調整材とを含む、ポリベンズアゾール複合体を製造する方法であって、前記ポリベンズアゾールは、下記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを有し、
Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar及びArは芳香族炭化水素基をそれぞれ表し、nは10〜500の整数であり、下記式(i)によって求められるポリベンズアゾール分子鎖および第1の物性調整材の配向度Aが0.6以上1.0未満の範囲であり、
配向度A=(180−ΔB)/180 ・・・ (i)
(式中、ΔBは該成形体のX線回折測定によるピーク散乱角を固定して、方位角方向の0〜360°までの強度分布における半値幅を表す)
前記第1及び第2の物性調整材は、
ポリオレフィン系化合物、ポリエステル系化合物、ポリアクリル系化合物、ポリメタクリル系化合物、ポリビニル系化合物、ポリスチレン系化合物、ポリウレタン系化合物、ポリエーテルアミド系化合物、ポリエステルアミド系化合物、芳香族系ポリマー、フルオロアルキル高分子、液晶性高分子、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、及び液晶性エポキシ樹脂から選ばれるものであり、
該方法が、
前記ポリベンズアゾールと第1の物性調整材とを含み、前記ポリベンズアゾールのリオトロピック液晶性を発現し得る混合溶液を調製する工程と、
前記リオトロピック液晶性を発現させた混合溶液に一定方向の磁場または電場を印加することにより、同混合溶液中のポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖を一定方向に配向させる工程と、
そのポリベンズアゾールおよび第1の物性調整材の分子鎖の配向状態を維持したまま、前記混合溶液を凝固させて、ポリベンズアゾールと第1の物性調整材との複合基体を形成する工程と、
前記複合基体の分子鎖の間に第2の物性調整材を含浸させる工程と、
前記第2の物性調整材を含浸させた複合基体を硬化させる工程とを有する方法。
A method for producing a polybenzazole composite comprising polybenzazole and first and second physical property modifiers, wherein the polybenzazole is represented by the following general formulas (1) to (4): Having at least one of the repeating units,
Figure 0004667856
In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 each represent an aromatic hydrocarbon group, n is an integer of 10 to 500, and is determined by the following formula (i). The degree of orientation A of the polybenzazole molecular chain and the first physical property modifier is in the range of 0.6 or more and less than 1.0,
Orientation degree A = (180−ΔB) / 180 (i)
(In the formula, ΔB represents the half-value width in the intensity distribution from 0 to 360 ° in the azimuth direction with the peak scattering angle measured by X-ray diffraction measurement of the molded body fixed)
The first and second property adjusting materials are:
Polyolefin compounds, polyester compounds, polyacrylic compounds, polymethacrylic compounds, polyvinyl compounds, polystyrene compounds, polyurethane compounds, polyetheramide compounds, polyesteramide compounds, aromatic polymers, fluoroalkyl polymers , Liquid crystalline polymer, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, triphenolalkane type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and It is chosen from liquid crystalline epoxy resins,
The method is
A step of said polybenzazole and saw including a first physical property adjusting material to prepare a mixed solution capable of expressing a lyotropic liquid crystal of said polybenzazole,
By applying a constant direction of the magnetic field or electric field to the mixed solution prepared by expressing the lyotropic liquid crystalline, a step of orienting the polybenzazole and molecular chains of the first physical property adjusting material of the mixed solution in a given direction,
Maintaining the orientation state of the molecular chains of the polybenzazole and the first physical property modifier, solidifying the mixed solution to form a composite substrate of the polybenzazole and the first physical property modifier,
Impregnating a second physical property adjusting material between the molecular chains of the composite substrate;
Curing the composite substrate impregnated with the second physical property adjusting material.
ポリベンズアゾールと、少なくとも1種類の物性調整材とを含む、ポリベンズアゾール複合体であって、前記ポリベンズアゾールは、下記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを有し、
Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar及びArは芳香族炭化水素基を表し、nは10〜500の整数であり、
前記物性調整材は、ポリイミドであり、
該複合体前記ポリベンズアゾールと前記ポリイミドとを含む混合溶液から得られることで前記ポリベンズアゾールの分子鎖の間に前記ポリイミドが含浸されており、前記ポリイミドの分子鎖が、前記ポリベンズアゾールの分子鎖と共に一定方向に配向されており、下記式(i)によって求められる前記ポリベンズアゾールおよび前記ポリイミドの分子鎖の配向度Aが0.6以上1.0未満の範囲であることを特徴とするポリベンズアゾール複合体。
配向度A=(180−ΔB)/180 ・・・ (i)
(式中、ΔBは該成形体のX線回折測定によるピーク散乱角を固定して、方位角方向の0〜360°までの強度分布における半値幅を表す)
A polybenzazole complex comprising polybenzazole and at least one physical property modifier, wherein the polybenzazole is at least one of repeating units represented by the following general formulas (1) to (4): Have either
Figure 0004667856
In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 represent an aromatic hydrocarbon group, n is an integer of 10 to 500,
The physical property adjusting material is polyimide,
The complex, said polyimide between the molecular chains of the polybenzazole by polybenzazole to be obtained from a mixed solution containing the said polyimide is impregnated, the molecular chains of the polyimide, the Poribenzu It is oriented in a certain direction together with the molecular chain of the azole, and the orientation degree A of the molecular chain of the polybenzazole and the polyimide determined by the following formula (i) is in the range of 0.6 or more and less than 1.0. Polybenzazole complex characterized.
Orientation degree A = (180−ΔB) / 180 (i)
(In the formula, ΔB represents the half-value width in the intensity distribution from 0 to 360 ° in the azimuth direction with the peak scattering angle measured by X-ray diffraction measurement of the molded body fixed)
ポリベンズアゾールと、少なくとも1種類の物性調整材とを含む、ポリベンズアゾール複合体であって、前記ポリベンズアゾールは、下記一般式(1)〜(4)で示される繰り返し単位のうちの少なくともいずれかを有し、
Figure 0004667856
上記式中、Xはイオウ原子、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar及びArは芳香族炭化水素基を表し、nは10〜500の整数であり、
前記物性調整材は、ポリイミドであり、
該複合体前記ポリベンズアゾールと前記ポリイミドとを含む混合溶液から得られることで前記ポリベンズアゾールの分子鎖の間に前記ポリイミドが含浸されており、前記ポリイミドの分子鎖が、前記ポリベンズアゾールの分子鎖と共に一定方向に配向されたポリベンズアゾール複合基体にエポキシ樹脂が含浸されており、下記式(i)によって求められる前記ポリベンズアゾールおよび前記ポリイミドおよび前記エポキシ樹脂の分子鎖の配向度Aが0.6以上1.0未満の範囲であることを特徴とするポリベンズアゾール複合体。
A polybenzazole complex comprising polybenzazole and at least one physical property modifier, wherein the polybenzazole is at least one of repeating units represented by the following general formulas (1) to (4): Have either
Figure 0004667856
In the above formula, X represents a sulfur atom, an oxygen atom or an imino group, Ar 1 and Ar 2 represent an aromatic hydrocarbon group, n is an integer of 10 to 500,
The physical property adjusting material is polyimide,
The complex, said polyimide between the molecular chains of the polybenzazole by polybenzazole to be obtained from a mixed solution containing the said polyimide is impregnated, the molecular chains of the polyimide, the Poribenzu The polybenzazole composite substrate oriented in a certain direction together with the azole molecular chain is impregnated with an epoxy resin , and the degree of orientation of the molecular chains of the polybenzazole, the polyimide and the epoxy resin determined by the following formula (i) A polybenzazole complex, wherein A is in the range of 0.6 or more and less than 1.0.
前記ポリベンズアゾール複合基体がフィルム状である請求項に記載のポリベンズアゾール複合体。 The polybenzazole complex according to claim 4 , wherein the polybenzazole complex substrate is in the form of a film.
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