JP4666619B2 - Terahertz wave imaging device - Google Patents

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この発明は、テラヘルツ波を用いたイメージング装置に関する。   The present invention relates to an imaging apparatus using terahertz waves.

従来、テラヘルツ波(約0.01THzから100THzまでの範囲の周波数の電磁波)を用いたイメージング装置が知られている(下記非特許文献参照)。イメージング装置はテラヘルツ波の物質透過性を利用して、例えば封筒内の薬物(試料)を開封せずに判定する検査装置として用いられている。   Conventionally, an imaging apparatus using a terahertz wave (an electromagnetic wave having a frequency ranging from about 0.01 THz to 100 THz) is known (see the following non-patent document). An imaging apparatus is used as an inspection apparatus that uses a substance permeability of terahertz waves to determine, for example, a drug (sample) in an envelope without opening it.

イメージング装置は、試料からのテラヘルツ光を電気光学結晶に結像させる光学系と、この光学系に導かれたテラヘルツ光の電場強度に応じて電気光学結晶上に現れる複屈折の分布状態を光強度に変換する検光子と、この電気光学結晶と検光子とによって得られた像を撮像するCCDカメラとを備えている。
Physics in Medicine and Biology、47、3749(2002)
The imaging device is an optical system that forms an image of terahertz light from a sample on an electro-optic crystal, and the distribution of birefringence that appears on the electro-optic crystal according to the electric field strength of the terahertz light guided to this optical system. And an CCD camera that captures an image obtained by the electro-optic crystal and the analyzer.
Physics in Medicine and Biology, 47, 3749 (2002)

上述のイメージング装置の光学系は凸レンズを2つ並べて構成されたものであるので、以下に述べる問題がある。   Since the optical system of the imaging apparatus described above is configured by arranging two convex lenses side by side, there is a problem described below.

図3は従来のイメージング装置の電気光学結晶に対するテラヘルツ波の収束状態を説明する図である。   FIG. 3 is a diagram for explaining the convergence state of the terahertz wave with respect to the electro-optic crystal of the conventional imaging apparatus.

図に示すように、従来のイメージング装置の光学系の場合、テラヘルツ波TWは電気光学結晶111の中心部では電気光学結晶111の入射端面に対して垂直に入射するが、電気光学結晶111の周縁部では電気光学結晶111の入射端面に対して斜めに入射し、テラヘルツ波TWの伝播ロスが発生する。そのため、電気光学結晶111の中心部と周縁部とでは複屈折が誘起される効率に差異が生じ、プローブ光PBの偏光状態が変化する効率にも差異が生じる。その結果、撮影領域を広げようとすると、上述のイメージング装置では試料に対する撮影すべき領域(撮影領域)の周縁部にケラレが発生し、撮影領域の中心部と周縁部との光量差が大きくなり、画質が悪化するという問題がある。   As shown in the figure, in the case of the optical system of the conventional imaging apparatus, the terahertz wave TW is incident perpendicularly to the incident end face of the electro-optic crystal 111 at the center of the electro-optic crystal 111, but the peripheral edge of the electro-optic crystal 111. Part is incident obliquely on the incident end face of the electro-optic crystal 111 and a propagation loss of the terahertz wave TW occurs. Therefore, there is a difference in the efficiency with which birefringence is induced between the central portion and the peripheral portion of the electro-optic crystal 111, and there is also a difference in the efficiency with which the polarization state of the probe light PB changes. As a result, when the imaging region is expanded, the above-described imaging apparatus causes vignetting in the peripheral portion of the region to be imaged (imaging region) with respect to the sample, and the light amount difference between the central portion and the peripheral portion of the imaging region increases. There is a problem that image quality deteriorates.

この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、質の良い画像を得ることができるテラヘルツ波イメージング装置を提供することである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and is to provide a terahertz wave imaging apparatus capable of obtaining a high-quality image.

上記課題を解決するため請求項1記載の発明は、試料からのテラヘルツ光を電気光学結晶に結像させる第一の光学系と、この第一の光学系に導かれたテラヘルツ光の電場強度に応じて前記電気光学結晶上に現れる複屈折の分布状態を光強度に変換する光強度変換手段と、この光強度変換手段によって得られた像を撮像手段に結像させる第二の光学系とを備え、前記第一の光学系および前記第二の光学系は共にテレセントリック光学系であることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 1 is directed to a first optical system that forms an image of terahertz light from a sample on an electro-optic crystal, and an electric field intensity of the terahertz light guided to the first optical system. Accordingly, a light intensity converting means for converting the distribution state of birefringence appearing on the electro-optic crystal into light intensity, and a second optical system for forming an image obtained by the light intensity converting means on the imaging means. The first optical system and the second optical system are both telecentric optical systems.

この発明によれば、質の良い画像を得ることができる。   According to the present invention, a high-quality image can be obtained.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1はこの発明の一実施形態に係るテラヘルツ波イメージング装置の構成を示す概念図、図2は電気光学結晶に対するテラヘルツ波の収束状態を説明する図である。   FIG. 1 is a conceptual diagram showing a configuration of a terahertz wave imaging apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram for explaining a convergence state of a terahertz wave with respect to an electro-optic crystal.

このテラヘルツ波イメージング装置は、ビームスプリッタ2,10と、ディレイステージ3と、ビームエキスパンダ4,8と、偏光子9と、テラヘルツ発生器5と、第1のテレセントリック光学系(第一の光学系)7と、電気光学結晶11と、検光子(光強度変換手段)12と、第2のテレセントリック光学系(第二の光学系)13と、CCD(Charge Coupled Device)カメラ(撮像手段)14とを備えている。 This terahertz wave imaging apparatus includes beam splitters 2 and 10, a delay stage 3, beam expanders 4 and 8, a polarizer 9, a terahertz generator 5, and a first telecentric optical system (first optical system). ) 7, an electro-optic crystal 11, an analyzer (light intensity converting means) 12, a second telecentric optical system (second optical system) 13, a CCD (Charge Coupled Device) camera (imaging means) 14, and It has.

ビームスプリッタ2はレーザ光源1からのパルス光P1をポンプ光P3とプローブ光P2とに分割する。レーザ光源1としては、例えば、フェムト秒パルスレーザが用いられる。   The beam splitter 2 splits the pulsed light P1 from the laser light source 1 into pump light P3 and probe light P2. As the laser light source 1, for example, a femtosecond pulse laser is used.

ビームスプリッタ10はテラヘルツ波P5を透過させ、ビームスプリッタ2で分割されたプローブ光P2を反射させる。   The beam splitter 10 transmits the terahertz wave P5 and reflects the probe light P2 divided by the beam splitter 2.

ディレイステージ3はビームスプリッタ2で分割されたポンプ光P3の時間遅延を行う。ディレイステージ3は移動可能な可動鏡3aと固定された平面反射鏡3bとを組み合わせてなる。可動鏡3aは矢印に示すように移動してポンプ光P3の光路長を変化させる。   The delay stage 3 performs time delay of the pump light P3 divided by the beam splitter 2. The delay stage 3 is composed of a movable movable mirror 3a and a fixed planar reflecting mirror 3b. The movable mirror 3a moves as indicated by the arrow to change the optical path length of the pump light P3.

テラヘルツ発生器5はポンプ光P3の照射によってテラヘルツ波を発生させる。テラヘルツ発生器5としては、半絶縁性GaAs等で形成された半導体基板上にアンテナ形状をもつ2つの電極を付け、それらの電極間にバイアス電圧を印加した大口径光伝導アンテナと呼ばれるものやZnTe等の非線形光学結晶が使用される。   The terahertz generator 5 generates a terahertz wave by irradiation with the pump light P3. The terahertz generator 5 includes a so-called large-diameter photoconductive antenna in which two electrodes having an antenna shape are provided on a semiconductor substrate made of semi-insulating GaAs or the like, and a bias voltage is applied between these electrodes, or ZnTe Nonlinear optical crystals such as are used.

第1のテレセントリック光学系7はポリエチレンレンズ、絞り等(図示せず)で構成されている。第1のテレセントリック光学系7の前側焦点位置に試料6が配置され、後側焦点位置に電気光学結晶11が配置されている。電気光学結晶11としてはZnTe等の結晶が使用される。   The first telecentric optical system 7 is composed of a polyethylene lens, a diaphragm or the like (not shown). The sample 6 is disposed at the front focal position of the first telecentric optical system 7, and the electro-optic crystal 11 is disposed at the rear focal position. As the electro-optic crystal 11, a crystal such as ZnTe is used.

第2のテレセントリック光学系13はポリエチレンレンズ、絞り等(図示せず)等で構成されている。第2のテレセントリック光学系13の前側焦点位置に電気光学結晶11が配置され、後側焦点位置にCCDカメラ14が配置されている。   The second telecentric optical system 13 is composed of a polyethylene lens, a diaphragm or the like (not shown). The electro-optic crystal 11 is disposed at the front focal position of the second telecentric optical system 13, and the CCD camera 14 is disposed at the rear focal position.

ビームエキスパンダ4は凹レンズ4Aと凸レンズ4Bとを有し、ポンプ光P3のビーム径を広げる。   The beam expander 4 has a concave lens 4A and a convex lens 4B, and widens the beam diameter of the pump light P3.

ビームエキスパンダ8は凹レンズ8Aと凸レンズ8Bとを有し、プローブ光P2のビーム径を広げる。   The beam expander 8 has a concave lens 8A and a convex lens 8B, and widens the beam diameter of the probe light P2.

偏光子9はビームエキスパンダ8とビームスプリッタ10との間に配置されている。偏光子9はプローブ光P2を直線偏光とする。   The polarizer 9 is disposed between the beam expander 8 and the beam splitter 10. The polarizer 9 makes the probe light P2 linearly polarized light.

検光子12は電気光学結晶11と第2のテレセントリック光学系13との間に配置されている。検光子12はプローブ光P2の偏光状態の変化を光強度に変換する。検光子12は偏光子9に対して直交配置になっており、偏光が変化した成分だけがCCDカメラ14の受光領域に結像するように配置されている。   The analyzer 12 is disposed between the electro-optic crystal 11 and the second telecentric optical system 13. The analyzer 12 converts the change in the polarization state of the probe light P2 into light intensity. The analyzer 12 is arranged orthogonally with respect to the polarizer 9 and is arranged so that only the component whose polarization has changed is imaged in the light receiving region of the CCD camera 14.

CCDカメラ14は偏光状態の変化を光強度の強弱として画像化する。   The CCD camera 14 images the change in polarization state as the intensity of light.

レーザ光源1から放射されたパルス光P1は平面反射鏡M1を経てビームスプリッタ2で2つのパルス光に分割される。パルス光P1は、中心波長が近赤外領域のうちの780〜800nm程度、繰り返し周期が数kHzから100MHz程度、パルス幅が10〜150fs程度の直線偏光のパルス光である。   The pulsed light P1 emitted from the laser light source 1 is split into two pulsed lights by the beam splitter 2 through the plane reflecting mirror M1. The pulsed light P1 is linearly polarized pulsed light having a center wavelength of about 780 to 800 nm in the near infrared region, a repetition period of about several kHz to about 100 MHz, and a pulse width of about 10 to 150 fs.

ビームスプリッタ2で分割された一方のパルス光は、テラヘルツ発生器5を励起してテラヘルツ波を発生させるためのポンプ光P3となる。このポンプ光P3は平面反射鏡M2、ディレイステージ3、ビームエキスパンダ4及び平面反射鏡M3を経てテラヘルツ発生器5へ導かれる。テラヘルツ発生器5に100フェムト秒程度のパルス光が照射されるとテラヘルツ発生器5からテラヘルツ領域の周波数を持ったテラヘルツ波P4が放射される。   One pulsed light split by the beam splitter 2 becomes pump light P3 for exciting the terahertz generator 5 to generate a terahertz wave. The pump light P3 is guided to the terahertz generator 5 through the plane reflecting mirror M2, the delay stage 3, the beam expander 4, and the plane reflecting mirror M3. When the terahertz generator 5 is irradiated with pulsed light of about 100 femtoseconds, a terahertz wave P4 having a frequency in the terahertz region is emitted from the terahertz generator 5.

テラヘルツ波P4は約0.01×1012から100×1012ヘルツまでの周波数領域の電磁波である。テラヘルツ発生器5で発生したテラヘルツ波P4は平行光となって試料6に照射される。 The terahertz wave P4 is an electromagnetic wave in a frequency range from about 0.01 × 10 12 to 100 × 10 12 hertz. The terahertz wave P4 generated by the terahertz generator 5 becomes parallel light and is irradiated on the sample 6.

試料6を透過したテラヘルツ波P5は第1のテレセントリック光学系7、ビームスプリッタ10を介して電気光学結晶11上に試料6の像を結ぶ。   The terahertz wave P5 that has passed through the sample 6 forms an image of the sample 6 on the electro-optic crystal 11 via the first telecentric optical system 7 and the beam splitter 10.

このとき、図2に示すように、実線で示されたテラヘルツ波P5は電気光学結晶11の中心部のみならず周縁部においても電気光学結晶11の入射端面に対して垂直に入射する。   At this time, as shown in FIG. 2, the terahertz wave P <b> 5 indicated by the solid line is perpendicularly incident on the incident end face of the electro-optic crystal 11 not only at the central portion but also at the peripheral portion of the electro-optic crystal 11.

ビームスプリッタ2で分割された他方のパルス光はプローブ光P2となり、平面反射鏡M4,M5,M6を介してビームエキスパンダ8に入射する。ビームエキスパンダ8によってプローブ光P2のビーム径が広がり、偏光子9によってプローブ光P2が直線偏光となる。プローブ光P2はビームスプリッタ10で反射されてテラヘルツ波P5と同一の伝播経路上に導かれ、電気光学結晶11を照射する。   The other pulsed light split by the beam splitter 2 becomes probe light P2, and enters the beam expander 8 via the plane reflecting mirrors M4, M5, and M6. The beam expander 8 widens the beam diameter of the probe light P2, and the polarizer 9 turns the probe light P2 into linearly polarized light. The probe light P2 is reflected by the beam splitter 10 and guided to the same propagation path as the terahertz wave P5, and irradiates the electro-optic crystal 11.

このとき、図2に示すように、点線で示されたプローブ光P2は電気光学結晶11の中心部のみならず周縁部においても電気光学結晶11の入射端面に対して垂直に入射する。   At this time, as shown in FIG. 2, the probe light P <b> 2 indicated by the dotted line is incident perpendicularly to the incident end face of the electro-optic crystal 11 not only in the central portion but also in the peripheral portion.

そのため、電気光学結晶11の中心部と周縁部との両方の領域で同程度の複屈折が誘起される(ポッケルス効果)。   Therefore, the same degree of birefringence is induced in both the central portion and the peripheral portion of the electro-optic crystal 11 (Pockels effect).

プローブ光P2が電気光学結晶11に入射すると、テラヘルツ波P5の電場によって誘起された複屈折のために位相変化が生じる。プローブ光P2は電気光学結晶11を透過することにより偏光状態が変化して楕円偏光となる。   When the probe light P2 enters the electro-optic crystal 11, a phase change occurs due to birefringence induced by the electric field of the terahertz wave P5. The probe light P2 passes through the electro-optic crystal 11 and changes its polarization state to become elliptically polarized light.

プローブ光P2の偏光状態の変化は検光子12によって光強度の強弱に変換される。偏光状態が変化した成分だけが第2のテレセントリック光学系13によりCCDカメラ14の受光領域に結像される。   The change in the polarization state of the probe light P2 is converted into a light intensity level by the analyzer 12. Only the component whose polarization state has changed is imaged on the light receiving area of the CCD camera 14 by the second telecentric optical system 13.

このとき、少なくとも第2のテレセントリック光学系13の視野の大きさとプローブ光P2のビーム径の大きさとはそれぞれ第1のテレセントリック光学系7で結像された試料の像の大きさより大きくする必要がある。なお、第1のテレセントリック光学系7で結像された試料の像の大きさと第2のテレセントリック光学系13の視野の大きさとプローブ光P2のビーム径の大きさとを等しくするのが好ましい。   At this time, at least the size of the field of view of the second telecentric optical system 13 and the size of the beam diameter of the probe light P2 need to be larger than the size of the sample image formed by the first telecentric optical system 7, respectively. . It is preferable that the size of the sample image formed by the first telecentric optical system 7, the size of the field of view of the second telecentric optical system 13, and the size of the beam diameter of the probe light P2 are equal.

この実施形態によれば、第二の光学系として第2のテレセントリック光学系13を採用したので、撮影領域の周縁部のケラレがない、撮影領域の中心部と周縁部とで光量差の小さい良質で、広い視野の画像を得ることができる。また、テラヘルツ波に感度を有しないカメラを用いてテラヘルツ波領域の画像を可視化することができる。更に、第一の光学系として第1のテレセントリック光学系7を採用したので、一層良質な画像を得ることができる。 According to this embodiment, since the second telecentric optical system 13 is adopted as the second optical system, there is no vignetting at the peripheral portion of the photographing region, and the light quality difference between the central portion and the peripheral portion of the photographing region is small. Thus, an image with a wide field of view can be obtained. In addition, an image in the terahertz wave region can be visualized using a camera that is not sensitive to terahertz waves. Furthermore, since the first telecentric optical system 7 is employed as the first optical system, a higher quality image can be obtained.

なお、上記実施形態ではCCDカメラ14を用いたが、CCDカメラ14の代わりにCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)カメラを用いてもよい。   In the above embodiment, the CCD camera 14 is used. However, a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) camera may be used instead of the CCD camera 14.

また、上記実施形態では、第一の光学系と第二の光学系とをテレセントリック光学系としたが、第二の光学系だけをテレセントリック光学系とするようにしてもよい。   In the above embodiment, the first optical system and the second optical system are telecentric optical systems, but only the second optical system may be a telecentric optical system.

更に、上記実施形態では、第一の光学系として透過光学系を用いた場合を説明したが、透過光学系に代えて反射光学系を用いてもよい。   Furthermore, although the case where the transmission optical system was used as the first optical system has been described in the above embodiment, a reflection optical system may be used instead of the transmission optical system.

図1はこの発明の一実施形態に係るテラヘルツ波イメージング装置の構成を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing a configuration of a terahertz wave imaging apparatus according to an embodiment of the present invention. 図2は電気光学結晶に対するテラヘルツ波の収束状態を説明する図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the convergence state of the terahertz wave with respect to the electro-optic crystal. 図3は従来のイメージング装置の電気光学結晶に対するテラヘルツ波の収束状態を説明する図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the convergence state of the terahertz wave with respect to the electro-optic crystal of the conventional imaging apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

6:試料、7:第1のテレセントリック光学系(第一の光学系)、11:電気光学結晶、12:検光子(光強度変換手段)、13:第2のテレセントリック光学系(第二の光学系)、14:CCDカメラ(撮像手段)。 6: sample, 7: first telecentric optical system (first optical system), 11: electro-optic crystal, 12: analyzer (light intensity converting means), 13: second telecentric optical system (second optical system) System), 14: CCD camera (imaging means).

Claims (1)

試料からのテラヘルツ光を電気光学結晶に結像させる第一の光学系と、
この第一の光学系に導かれたテラヘルツ光の電場強度に応じて前記電気光学結晶上に現れる複屈折の分布状態を光強度に変換する光強度変換手段と、
この光強度変換手段によって得られた像を撮像手段に結像させる第二の光学系とを備え、
前記第一の光学系および前記第二の光学系は共にテレセントリック光学系であることを特徴とするテラヘルツ波イメージング装置。
A first optical system for imaging terahertz light from a sample on an electro-optic crystal;
A light intensity converting means for converting the distribution state of birefringence appearing on the electro-optic crystal into light intensity according to the electric field intensity of the terahertz light guided to the first optical system;
A second optical system for forming an image obtained by the light intensity conversion unit on the imaging unit,
The first optical system and the second optical system are both telecentric optical systems.
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