JP4650205B2 - Laser scribing method for multilayer substrate, laser scribing method for droplet discharge head, multilayer substrate, droplet discharge head - Google Patents

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Description

本発明は、積層基板のレーザスクライブ方法及び液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法、並びに前記レーザスクライブ方法によって加工された積層基板及び液滴吐出ヘッドに関する。   The present invention relates to a laser scribing method for a multilayer substrate, a laser scribing method for a droplet discharge head, and a multilayer substrate processed by the laser scribing method and a droplet discharge head.

従来の積層基板としての液滴吐出ヘッドは、例えば、下記の特許文献1に記載されているように、封止基板の一方の面にコンプライアンス基板が接着され、他方の面にアクチュエータ基板が接着されている。接着には接着剤が用いられ、封止基板との接着力を確保するため、コンプライアンス基板及びアクチュエータ基板のほぼ全面に接着剤が充填するように、圧力を加えて上記基板の端辺から接着剤が漏れ出す程度に接着が行われる。一方、このように構成された液滴吐出ヘッドをレーザ光によって切断するときは、例えば、下記の特許文献2に記載されているように、封止基板の内部にレーザ光の集光点を合わせて、即ち、集光点でレーザ光のパワー密度が最大となるようにレーザ光を照射し、多光子吸収という現象を利用することにより、集光点部に改質領域を形成させる。これにより、改質領域を起点にして切断される。   In a conventional droplet discharge head as a multilayer substrate, for example, as described in Patent Document 1 below, a compliance substrate is bonded to one surface of a sealing substrate, and an actuator substrate is bonded to the other surface. ing. Adhesive is used for adhesion, and in order to secure the adhesive force with the sealing substrate, the adhesive is applied from the edge of the substrate by applying pressure so that the adhesive fills almost the entire surface of the compliance substrate and the actuator substrate. Adhesion is performed to such an extent that leaks out. On the other hand, when the droplet discharge head configured as described above is cut by laser light, for example, as described in Patent Document 2 below, the condensing point of the laser light is aligned with the inside of the sealing substrate. In other words, the modified region is formed in the condensing point portion by irradiating the laser light so that the power density of the laser light is maximized at the condensing point and utilizing the phenomenon of multiphoton absorption. Thereby, it cut | disconnects starting from a modification | reformation area | region.

特開2005−138518号公報JP 2005-138518 A 特開2002−192371号公報JP 2002-192371 A

しかしながら、上記のように基板の接着によって接着剤が漏れ出したエリアがレーザ光を照射するエリアに相当すると、該エリアにレーザ光を照射したときに、レーザ光が漏れ出した接着剤に当たって散乱し、集光性が低下するという問題があった。   However, if the area where the adhesive leaks out due to the adhesion of the substrate as described above corresponds to the area where the laser beam is irradiated, the laser beam hits the leaked adhesive and scatters when the area is irradiated with the laser beam. There was a problem that the light condensing property was lowered.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、照射されたレーザ光の集光性の低下を抑えることができる積層基板のレーザスクライブ方法、液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法、積層基板、液滴吐出ヘッドを提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a laser scribing method for a multilayer substrate, a droplet discharge head, and the like capable of suppressing a decrease in the condensing property of irradiated laser light. An object is to provide a laser scribing method, a laminated substrate, and a droplet discharge head.

上記課題を解決するために、本発明では、第1基板の一の面に設けられた第1レーザ光照射領域と第2基板が接着されるべき第1接着領域のうち、第1接着領域内において、第1レーザ光照射領域の近傍である位置に、第1基板の接着面と第2基板の接着面のうち、少なくとも一方に凹部が設けられ、第1基板と第2基板とが接着剤によって接着された積層基板を形成する製造工程と、第1レーザ光照射領域に向けてレーザ光を照射する照射工程とを備えたことを要旨とする。   In order to solve the above-described problems, in the present invention, the first laser beam irradiation area provided on one surface of the first substrate and the first adhesion area to which the second substrate should be bonded are within the first adhesion area. , A recess is provided in at least one of the bonding surface of the first substrate and the bonding surface of the second substrate at a position in the vicinity of the first laser light irradiation region, and the first substrate and the second substrate are bonded with an adhesive. The present invention includes a manufacturing process for forming a laminated substrate bonded by the above and an irradiation process for irradiating a laser beam toward the first laser beam irradiation region.

本発明に係る積層基板のレーザスクライブ方法によれば、製造工程では、第1基板の接着面と第2基板の接着面のうち、少なくとも一方に凹部が設けられる。該凹部は、第1接着領域であって第1レーザ光照射領域近傍に設けられる。第1基板と第2基板とが接着剤によって接着されるとき、接着剤は両基板の接着面に対して漏れ広がり、凹部に溜まって、第1レーザ光照射領域への漏れ広がりを抑える。従って、照射工程で、第1レーザ光照射領域に向けてレーザ光を照射したとき、第1レーザ光照射領域には、レーザ光を散乱させる原因となる接着剤が漏れ広がっていないので、集光性の低下を抑えることができる。   According to the laser scribing method for a laminated substrate according to the present invention, in the manufacturing process, a recess is provided on at least one of the adhesion surface of the first substrate and the adhesion surface of the second substrate. The recess is provided in the vicinity of the first laser light irradiation region in the first adhesion region. When the first substrate and the second substrate are bonded to each other with an adhesive, the adhesive spreads on the bonding surfaces of the two substrates and accumulates in the recesses, thereby suppressing the spread of leakage to the first laser light irradiation region. Therefore, when the laser beam is irradiated toward the first laser beam irradiation region in the irradiation step, the adhesive that causes the laser beam to scatter does not leak and spread in the first laser beam irradiation region. The decline in sex can be suppressed.

本発明の積層基板のレーザスクライブ方法の製造工程では、第1基板の一の面に対向する他の面に設けられた第1レーザ光照射領域に対応する領域である第2レーザ光照射領域と第2基板の位置に対応する位置である第2接着領域のうち、第2接着領域内において、第2レーザ光照射領域の近傍である位置に、第1基板の接着面と第3基板の接着面のうち、少なくとも一方に凹部が設けられ、第1基板と第3基板とが接着剤によって接着された積層基板を形成し、照射工程では、第1または第2レーザ光照射領域に向けてレーザ光を照射してもよい。   In the manufacturing process of the laser scribing method of the multilayer substrate according to the present invention, the second laser light irradiation region which is a region corresponding to the first laser light irradiation region provided on the other surface facing one surface of the first substrate; Of the second adhesion region corresponding to the position of the second substrate, the adhesion between the adhesion surface of the first substrate and the third substrate is located in the vicinity of the second laser light irradiation region in the second adhesion region. At least one of the surfaces is provided with a recess, and a laminated substrate in which the first substrate and the third substrate are bonded with an adhesive is formed. In the irradiation step, a laser is directed toward the first or second laser light irradiation region. You may irradiate light.

これによれば、製造工程で、第2基板が接着された第1基板の一の面に対向する他の面には、第3基板がさらに備えられ、第1基板と接着剤によって接着される。第1基板の接着面と第3基板の接着面のうち、少なくとも一方に凹部が設けられており、第2レーザ光照射領域に対する接着剤の漏れ広がりを抑える。従って、照射工程で、第1または第2レーザ光照射領域に対してレーザ光を照射したとき、いずれの側にも接着剤が漏れ広がっていないので、集光性の低下を抑えることができる。   According to this, in the manufacturing process, the third substrate is further provided on the other surface opposite to the one surface of the first substrate to which the second substrate is bonded, and is bonded to the first substrate with the adhesive. . A recess is provided in at least one of the adhesive surface of the first substrate and the adhesive surface of the third substrate, and suppresses the spread of the adhesive from leaking to the second laser light irradiation region. Therefore, when the first or second laser light irradiation region is irradiated with the laser beam in the irradiation step, the adhesive does not leak on either side, so that it is possible to suppress a decrease in light condensing performance.

本発明の積層基板のレーザスクライブ方法の凹部は、第1基板の平面視において、第1及び第2レーザ光照射領域に沿って形成されてもよい。   The concave portion of the laser scribing method of the multilayer substrate of the present invention may be formed along the first and second laser light irradiation regions in a plan view of the first substrate.

これによれば、レーザ光照射ラインに沿って凹部が形成されるので、さらに接着剤の漏れ防止を向上させることができる。   According to this, since the concave portion is formed along the laser beam irradiation line, the prevention of adhesive leakage can be further improved.

本発明の積層基板は、上記の積層基板のレーザスクライブ方法によって加工されたことを要旨とする。   The gist of the multilayer substrate of the present invention is that it is processed by the laser scribing method for the multilayer substrate.

本発明の積層基板によれば、レーザ光照射エリアに接着剤が漏れ広がらないように部材に凹部が設けられ、該凹部によって確実にレーザスクライブすることができるので、信頼性の高い積層基板を提供することができる。   According to the multilayer substrate of the present invention, a concave portion is provided in the member so that the adhesive does not leak and spread in the laser light irradiation area, and the laser scribe can be surely performed by the concave portion, thereby providing a highly reliable multilayer substrate. can do.

本発明では、上記の積層基板のレーザスクライブ方法によって加工される液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法であって、積層基板の第1基板は、封止基板であり、第2基板は、コンプライアンス基板であり、第3基板は、アクチュエータ基板であること要旨とする。   The present invention provides a laser scribing method for a droplet discharge head processed by the laser scribing method for a multilayer substrate, wherein the first substrate of the multilayer substrate is a sealing substrate, and the second substrate is a compliance substrate. Yes, the third substrate is an actuator substrate.

本発明の液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法によれば、製造工程では、封止基板の接着面とコンプライアンス基板の接着面のうち、少なくとも一方に凹部が設けられる。該凹部は、第1接着領域であって第1レーザ光照射領域近傍に設けられる。封止基板とコンプライアンス基板とが接着剤によって接着されるとき、接着剤は両基板の接着面に対して漏れ広がり、凹部に溜まって、第1レーザ光照射領域への漏れ広がりを抑える。また、コンプライアンス基板が接着された封止基板の一の面に対向する他の面には、アクチュエータ基板がさらに備えられ、封止基板と接着剤によって接着される。封止基板の接着面とアクチュエータ基板の接着面のうち、少なくとも一方に凹部が設けられており、第2レーザ光照射領域に対する接着剤の漏れ広がりを抑える。従って、照射工程で、第1または第2レーザ光照射領域に対してレーザ光を照射したとき、いずれの側にも接着剤が漏れ広がっていないので、集光性の低下を抑えることができる。   According to the laser scribing method for a droplet discharge head of the present invention, in the manufacturing process, a recess is provided on at least one of the adhesion surface of the sealing substrate and the adhesion surface of the compliance substrate. The recess is provided in the vicinity of the first laser light irradiation region in the first adhesion region. When the sealing substrate and the compliance substrate are bonded by an adhesive, the adhesive spreads on the bonding surfaces of the two substrates and accumulates in the recesses, thereby suppressing the spread of leakage to the first laser light irradiation region. In addition, an actuator substrate is further provided on the other surface opposite to one surface of the sealing substrate to which the compliance substrate is bonded, and is bonded to the sealing substrate with an adhesive. A recess is provided in at least one of the adhesive surface of the sealing substrate and the adhesive surface of the actuator substrate, and suppresses the leakage spread of the adhesive to the second laser light irradiation region. Therefore, when the first or second laser light irradiation region is irradiated with the laser beam in the irradiation step, the adhesive does not leak on either side, so that it is possible to suppress a decrease in light condensing performance.

本発明の液滴吐出ヘッドは、上記の液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法によって加工されたことを要旨とする。   The gist of the droplet discharge head of the present invention is that it is processed by the above-described laser scribing method of the droplet discharge head.

本発明に係る液滴吐出ヘッドによれば、レーザ光照射エリアに接着剤が漏れ広がらないように部材に凹部が設けられ、確実にレーザスクライブすることができるので、信頼性の高い液滴吐出ヘッドを提供することができる。   According to the droplet discharge head according to the present invention, since the concave portion is provided in the member so that the adhesive does not leak and spread in the laser light irradiation area and laser scribing can be performed reliably, a highly reliable droplet discharge head. Can be provided.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.

(積層基板の構成)
まず、積層基板の構成について説明する。図1は、マザー基板の概略を示し、図1(a)は、平面図を示し、同図(b)は、同図(a)のA−A線の断面図を示す。
(Configuration of laminated substrate)
First, the configuration of the multilayer substrate will be described. FIG. 1 shows an outline of a mother substrate, FIG. 1 (a) shows a plan view, and FIG. 1 (b) shows a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1 (a).

図1(a)において、マザー基板Wは、複数個の積層基板としての液滴吐出ヘッド10が区画形成して構成されている。そして、図1(b)に示すように、第1基板としての封止基板11の一の面に第2基板としてのコンプライアンス基板14が接着され、一の面の対向する他の面には、第3基板としてのアクチュエータ基板15が接着されている。1つの液滴吐出ヘッド10は、封止基板11に設けられた第1,第2レーザ光照射領域40a,40bにレーザ光を照射して、封止基板11の内部に改質領域を形成することによって切断され、マザー基板Wから切り出される。   In FIG. 1A, a mother substrate W is configured by partitioning and forming droplet discharge heads 10 as a plurality of laminated substrates. And as shown in FIG.1 (b), the compliance board | substrate 14 as a 2nd board | substrate is adhere | attached on one surface of the sealing substrate 11 as a 1st board | substrate, An actuator substrate 15 as a third substrate is bonded. One droplet discharge head 10 irradiates laser light to the first and second laser light irradiation regions 40 a and 40 b provided on the sealing substrate 11 to form a modified region inside the sealing substrate 11. And is cut out from the mother substrate W.

図2は、液滴吐出ヘッド10の構成を示し、図2(a)は断面図を示し、同図(b)は平面図を示す。   2 shows the configuration of the droplet discharge head 10, FIG. 2 (a) shows a cross-sectional view, and FIG. 2 (b) shows a plan view.

図2において、液滴吐出ヘッド10は、シリコン単結晶からなる封止基板11と、機能液を供給するための供給穴21を有するコンプライアンス基板14と、アクチュエータ基板15と、さらにアクチュエータ基板15に接着されたノズル穴31を有するノズルプレート30で構成されている。アクチュエータ基板15は、駆動膜22と、駆動膜22の一部である駆動部22aに電圧を印加するための配線25と、駆動部22aに接する酸化シリコン層26aと酸化ジルコニウム層26bによって構成される弾性膜26と、圧力室27aを有する圧力室部材27で構成されている。   In FIG. 2, the droplet discharge head 10 is bonded to the sealing substrate 11 made of silicon single crystal, the compliance substrate 14 having the supply holes 21 for supplying the functional liquid, the actuator substrate 15, and the actuator substrate 15. The nozzle plate 30 has the nozzle hole 31 formed. The actuator substrate 15 includes a drive film 22, a wiring 25 for applying a voltage to the drive unit 22a that is a part of the drive film 22, and a silicon oxide layer 26a and a zirconium oxide layer 26b that are in contact with the drive unit 22a. The pressure chamber member 27 includes an elastic film 26 and a pressure chamber 27a.

封止基板11は、一の面に第1レーザ光照射領域40aと第1接着領域12が設けられ、第1接着領域12内において、第1レーザ光照射領域40aの近傍の位置に凹部17が形成されている。また、封止基板11の一の面の対向する他の面に第2レーザ光照射領域40bと第2接着領域13が設けられ、第2接着領域13内において、第2レーザ光照射領域40bの近傍の位置に凹部19が形成されている。凹部17,19は、図2(b)に示すように、第1及び第2レーザ光照射領域40a,40bに沿って形成されており、本実施形態においては、格子状に設けられた第1及び第2レーザ光照射領域40a,40bの形状に伴って、ロの字の形状で形成されている。   The sealing substrate 11 is provided with a first laser light irradiation region 40a and a first adhesion region 12 on one surface, and a recess 17 is provided in the first adhesion region 12 at a position near the first laser light irradiation region 40a. Is formed. In addition, the second laser light irradiation region 40b and the second adhesion region 13 are provided on the other surface opposite to the one surface of the sealing substrate 11, and the second laser light irradiation region 40b in the second adhesion region 13 is provided. A recess 19 is formed in the vicinity. As shown in FIG. 2B, the recesses 17 and 19 are formed along the first and second laser light irradiation regions 40a and 40b. In the present embodiment, the first recesses 19 and 19 are provided in a lattice shape. Along with the shapes of the second laser light irradiation regions 40a and 40b, the second laser light irradiation regions 40a and 40b are formed in a square shape.

封止基板11とコンプライアンス基板14は、第1接着領域12において接着剤16によって互いに接着されている。接着剤16は、コンプライアンス基板14の接着面のほぼ全面に広がり、第1レーザ光照射領域40aの近傍に形成された凹部17に溜まるようになっている。   The sealing substrate 11 and the compliance substrate 14 are bonded to each other with an adhesive 16 in the first bonding region 12. The adhesive 16 spreads over almost the entire bonding surface of the compliance substrate 14 and accumulates in the recess 17 formed in the vicinity of the first laser light irradiation region 40a.

封止基板11とアクチュエータ基板15は、第2接着領域13において接着剤18によって互いに接着されている。接着剤18は、アクチュエータ基板15の接着面のほぼ全面に広がり、第2レーザ光照射領域40bの近傍に形成された凹部19に溜まるようになっている。   The sealing substrate 11 and the actuator substrate 15 are bonded to each other with an adhesive 18 in the second bonding region 13. The adhesive 18 spreads over almost the entire adhesive surface of the actuator substrate 15 and accumulates in the recess 19 formed in the vicinity of the second laser light irradiation region 40b.

(積層基板のレーザスクライブ方法)
次に、積層基板のレーザスクライブ方法について説明する。まず、レーザ光を照射して積層基板を切断するために用いられるレーザ照射装置について説明する。
(Laser substrate laser scribing method)
Next, a laser scribing method for the multilayer substrate will be described. First, a laser irradiation apparatus used for irradiating a laser beam and cutting the laminated substrate will be described.

図3は、レーザ照射装置の構成を示す概略図である。図3に示すように、レーザ照射装置100は、パルスレーザ光を出射するレーザ光源101と、出射されたパルスレーザ光を反射するダイクロイックミラー102と、反射したパルスレーザ光を集光する集光手段としての集光レンズ103とを備えている。また、加工対象物となる液滴吐出ヘッド10を構成するマザー基板Wを載置するステージ107と、ステージ107を集光レンズ103に対してX,Y軸方向に移動させる移動手段としてのX軸スライド部110およびY軸スライド部108とを備えている。また、ステージ107に載置されたマザー基板Wに対して集光レンズ103のZ軸方向の位置を変えて、パルスレーザ光の集光点の位置を調整する調整手段としてのZ軸スライド機構104を備えている。さらには、ダイクロイックミラー102を挟んで集光レンズ103と反対側に位置する撮像装置112を備えている。   FIG. 3 is a schematic diagram showing the configuration of the laser irradiation apparatus. As shown in FIG. 3, a laser irradiation apparatus 100 includes a laser light source 101 that emits pulsed laser light, a dichroic mirror 102 that reflects the emitted pulsed laser light, and a condensing unit that collects the reflected pulsed laser light. As a condensing lens 103. Further, a stage 107 on which a mother substrate W constituting the droplet discharge head 10 to be processed is placed, and an X axis as a moving means for moving the stage 107 in the X and Y axis directions with respect to the condenser lens 103. A slide part 110 and a Y-axis slide part 108 are provided. Further, the Z-axis slide mechanism 104 as an adjusting means for adjusting the position of the focused point of the pulsed laser light by changing the position of the focusing lens 103 in the Z-axis direction with respect to the mother substrate W placed on the stage 107. It has. Furthermore, an imaging device 112 is provided that is located on the opposite side of the condenser lens 103 with the dichroic mirror 102 interposed therebetween.

レーザ照射装置100は、上記各構成を制御するメインコンピュータ120を備えており、メインコンピュータ120には、CPUや各種メモリーの他に撮像装置112が撮像した画像情報を処理する画像処理部124を有している。撮像装置112は、同軸落射型光源とCCD(固体撮像素子)が組み込まれたものである。同軸落射型光源から出射した可視光は、集光レンズ103を透過して焦点を結ぶ。   The laser irradiation apparatus 100 includes a main computer 120 that controls each of the above components. The main computer 120 includes an image processing unit 124 that processes image information captured by the imaging apparatus 112 in addition to a CPU and various memories. is doing. The imaging device 112 incorporates a coaxial incident light source and a CCD (solid-state imaging device). Visible light emitted from the coaxial incident light source passes through the condenser lens 103 and is focused.

メインコンピュータ120には、レーザ加工の際に用いられる各種加工条件のデータを入力する入力部125とレーザ加工時の各種情報を表示する表示部126が接続されている。また、レーザ光源101の出力やパルス幅、パルス周期を制御するレーザ制御部121と、Z軸スライド機構104を駆動して集光レンズ103のZ軸方向の位置を制御するレンズ制御部122とが接続されている。さらに、X軸スライド部110とY軸スライド部108をそれぞれレール109,111に沿って移動させるサーボモータ(図示省略)を駆動するステージ制御部123が接続されている。   Connected to the main computer 120 are an input unit 125 for inputting data of various processing conditions used in laser processing and a display unit 126 for displaying various information at the time of laser processing. In addition, a laser control unit 121 that controls the output, pulse width, and pulse period of the laser light source 101, and a lens control unit 122 that drives the Z-axis slide mechanism 104 to control the position of the condenser lens 103 in the Z-axis direction. It is connected. Further, a stage control unit 123 that drives a servo motor (not shown) that moves the X-axis slide unit 110 and the Y-axis slide unit 108 along the rails 109 and 111, respectively, is connected.

集光レンズ103をZ軸方向に移動させるZ軸スライド機構104には、移動距離を検出可能な位置センサが内蔵されており、レンズ制御部122は、この位置センサの出力を検出して集光レンズ103のZ軸方向の位置を制御可能となっている。したがって、撮像装置112の同軸落射型光源から出射した可視光の焦点が基板Wの表面と合うように集光レンズ103をZ軸方向に移動させれば、基板Wの厚みを計測することが可能である。   The Z-axis slide mechanism 104 that moves the condensing lens 103 in the Z-axis direction has a built-in position sensor capable of detecting the moving distance, and the lens control unit 122 detects the output of the position sensor and collects the light. The position of the lens 103 in the Z-axis direction can be controlled. Therefore, the thickness of the substrate W can be measured by moving the condenser lens 103 in the Z-axis direction so that the focus of the visible light emitted from the coaxial incident light source of the imaging device 112 is aligned with the surface of the substrate W. It is.

レーザ光源101は、パルスレーザ光を発生するNd:YAGレーザである。レーザ光源101に用いることができるレーザとして、この他に、Nd:YVO4レーザやNd:YLFレーザやチタンサファイアレーザがある。   The laser light source 101 is an Nd: YAG laser that generates pulsed laser light. Other lasers that can be used for the laser light source 101 include an Nd: YVO4 laser, an Nd: YLF laser, and a titanium sapphire laser.

尚、本実施形態では、ステージ107は、Y軸スライド部108に支持されているが、X軸スライド部110とY軸スライド部108との位置関係を逆転させてX軸スライド部110に支持される形態としてもよい。また、ステージ107をθテーブルを介してY軸スライド部108に支持することが好ましい。これによれば、マザー基板Wを光軸101aに対してより垂直な状態とすることが可能である。   In this embodiment, the stage 107 is supported by the Y-axis slide unit 108, but is supported by the X-axis slide unit 110 by reversing the positional relationship between the X-axis slide unit 110 and the Y-axis slide unit 108. It is good also as a form. Moreover, it is preferable to support the stage 107 on the Y-axis slide part 108 via the θ table. According to this, it is possible to make the mother substrate W more perpendicular to the optical axis 101a.

次に、積層基板のレーザスクライブ方法について説明する。図4〜図6は、積層基板としての液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法を示す工程図であり、図4(a)〜(c)及び図5(d)〜(f)は、液滴吐出ヘッドの製造工程を示し、図6(g),(h)は、液滴吐出ヘッドにレーザ光を照射する照射工程を示し、図6(i)は、液滴吐出ヘッドを個々に切断するブレイク工程を示す。   Next, a laser scribing method for the multilayer substrate will be described. 4 to 6 are process diagrams showing a laser scribing method of a droplet discharge head as a laminated substrate, and FIGS. 4A to 4C and FIGS. 6 (g) and 6 (h) show an irradiation process for irradiating the droplet discharge head with laser light, and FIG. 6 (i) shows a break for individually cutting the droplet discharge head. A process is shown.

図4(a)では、封止基板11の両面に凹部17,19と、封止部23を形成する。これらの形成は、ウエットエッチングまたはドライエッチングによって行うことができるが、凹部17,19と封止部23とが同時期に形成することができるウエットエッチングの方が好ましい。凹部17は、封止基板11の第1接着領域であって、第1レーザ光照射領域40aの近傍である位置に形成される。凹部19は、封止基板11の第2接着領域であって、第2レーザ光照射領域40bの近傍である位置に形成される。   In FIG. 4A, recesses 17 and 19 and a sealing portion 23 are formed on both surfaces of the sealing substrate 11. These formations can be performed by wet etching or dry etching, but wet etching in which the recesses 17 and 19 and the sealing portion 23 can be formed at the same time is preferable. The concave portion 17 is a first adhesion region of the sealing substrate 11 and is formed at a position in the vicinity of the first laser light irradiation region 40a. The recess 19 is a second adhesion region of the sealing substrate 11 and is formed at a position in the vicinity of the second laser light irradiation region 40b.

図4(b)では、第1接着領域12内に液状の接着剤16aを塗布する。液状の接着剤16aは、例えば、エポキシ樹脂が用いられる。   In FIG. 4B, a liquid adhesive 16 a is applied in the first adhesive region 12. For example, an epoxy resin is used as the liquid adhesive 16a.

図4(c)では、封止基板11に液状の接着剤16aを介してコンプライアンス基板14を接着させる。このとき、コンプライアンス基板14の接着面に液状の接着剤16aが広く行き渡るように、コンプライアンス基板14を封止基板11側に押圧する。押圧によってコンプライアンス基板14の端辺方向に押し出された液状の接着剤16aは、凹部17に流れ込むようになっている。その後、乾燥を行い、固化した接着剤16が形成される。乾燥は、常温乾燥または加熱乾燥等によって行われる。   In FIG. 4C, the compliance substrate 14 is bonded to the sealing substrate 11 via the liquid adhesive 16a. At this time, the compliance substrate 14 is pressed to the sealing substrate 11 side so that the liquid adhesive 16a spreads widely on the bonding surface of the compliance substrate 14. The liquid adhesive 16 a pushed out in the direction of the edge of the compliance substrate 14 by the pressure flows into the recess 17. Thereafter, drying is performed to form a solidified adhesive 16. Drying is performed by room temperature drying or heat drying.

図5(d)では、第2接着領域13内に液状の接着剤18aを塗布する。液状の接着剤18aは、エポキシ樹脂が用いられる。   In FIG. 5 (d), a liquid adhesive 18 a is applied in the second adhesive region 13. An epoxy resin is used for the liquid adhesive 18a.

図5(e)では、封止基板11に液状の接着剤18aを介してアクチュエータ基板15を接着させる。このとき、アクチュエータ基板15の接着面に液状の接着剤18aが広く行き渡るように、アクチュエータ基板15を封止基板11側に押圧する。押厚によってアクチュエータ基板15の端辺方向に押し出された液状の接着剤18aは、凹部19に流れ込むようになっている。その後、乾燥を行い、固化した接着剤18が形成される。乾燥は、常温乾燥または加熱乾燥等によって行われる。   In FIG. 5E, the actuator substrate 15 is bonded to the sealing substrate 11 via the liquid adhesive 18a. At this time, the actuator substrate 15 is pressed toward the sealing substrate 11 so that the liquid adhesive 18a spreads widely on the bonding surface of the actuator substrate 15. The liquid adhesive 18 a pushed out in the direction of the edge of the actuator substrate 15 by the pushing thickness flows into the recess 19. Thereafter, drying is performed to form a solidified adhesive 18. Drying is performed by room temperature drying or heat drying.

図5(f)では、必要に応じてアクチュエータ基板15の封止基板11に対して反対側の面をバックグラインドして規定の厚みになるように加工する。その後、エッチングにより共通インク室20,圧力室27aを形成する。そして、ノズルプレート30をアクチュエータ基板15に接合する。   In FIG. 5F, if necessary, the surface of the actuator substrate 15 opposite to the sealing substrate 11 is back-ground and processed to have a specified thickness. Thereafter, the common ink chamber 20 and the pressure chamber 27a are formed by etching. Then, the nozzle plate 30 is joined to the actuator substrate 15.

図6(g)では、レーザ照射装置100を用いて、レーザ光源101から出射されたレーザ光を集光する集光レンズ103から、封止基板11の第1レーザ光照射領域40aに向けて、封止基板11の面と垂直な方向にレーザ光103aを照射する。レーザ光源101は、パルスレーザ光を発生するNd:YAGレーザである。この場合、波長:1064nm、パルス幅:30ns、繰り返し周波数:100kHzである。集光レンズ103は、倍率:100倍、開口数(NA):0.8の対物レンズである。   In FIG. 6G, from the condensing lens 103 that condenses the laser light emitted from the laser light source 101 using the laser irradiation device 100, toward the first laser light irradiation region 40a of the sealing substrate 11, Laser light 103 a is irradiated in a direction perpendicular to the surface of the sealing substrate 11. The laser light source 101 is an Nd: YAG laser that generates pulsed laser light. In this case, the wavelength is 1064 nm, the pulse width is 30 ns, and the repetition frequency is 100 kHz. The condenser lens 103 is an objective lens having a magnification of 100 times and a numerical aperture (NA) of 0.8.

レーザ光照射に際しては、マザー基板Wをレーザ照射装置100のステージ107に載置して、レーザ光103aの集光点Pがマザー基板Wの任意の第1レーザ光照射領域40aに位置するように、サーボモータを駆動しX軸スライド部110およびY軸スライド部108を移動させる。その後、撮像装置112を用いて封止基板11の厚みデータ取得し、取得したデータに基づいて、レーザ光103aの集光点Pの位置が調整される。レーザ光照射開始の集光点Pは、第1レーザ光照射領域40aから封止基板11の厚さ方向に5割を超える程度の位置に設定される。   During laser light irradiation, the mother substrate W is placed on the stage 107 of the laser irradiation apparatus 100 so that the condensing point P of the laser light 103a is positioned in an arbitrary first laser light irradiation region 40a of the mother substrate W. Then, the servo motor is driven to move the X-axis slide unit 110 and the Y-axis slide unit 108. Thereafter, the thickness data of the sealing substrate 11 is acquired using the imaging device 112, and the position of the condensing point P of the laser light 103a is adjusted based on the acquired data. The condensing point P at the start of laser light irradiation is set to a position that exceeds 50% in the thickness direction of the sealing substrate 11 from the first laser light irradiation region 40a.

レーザ光103aの照射は、集光レンズ103に対してマザー基板Wを相対移動させながら行われる。この場合、レーザ光103aの照射に対応してマザー基板Wを移動させる速度は、およそ300mm/sである。さらに、集光点Pを第1レーザ光照射領域40aに近づく方向に位置設定しレーザ光103aの照射を行う。そして、集光点設定位置がほぼ封止基板11の面に達するまで走査を繰り返し行い、封止基板11の内部に改質領域を形成する。   The laser beam 103 a is irradiated while the mother substrate W is moved relative to the condenser lens 103. In this case, the speed at which the mother substrate W is moved in response to the irradiation with the laser beam 103a is approximately 300 mm / s. Further, the condensing point P is set in a direction approaching the first laser beam irradiation region 40a, and the laser beam 103a is irradiated. Then, scanning is repeated until the condensing point setting position substantially reaches the surface of the sealing substrate 11, and a modified region is formed inside the sealing substrate 11.

図6(h)では、封止基板11の第2レーザ光照射領域40bに向けて、封止基板11の面と垂直な方向にレーザ光103aを照射する。レーザ光103aの集光点は、図6(g)のレーザ光照射開始の集光点Pの深さ位置に設定され、前記同様に、集光点Pを第2レーザ光照射領域40bに近づく方向に位置設定しながらレーザ光103aの照射を行う。そして、集光点設定位置ほぼ封止基板11の面に達するまで走査を繰り返し行い、封止基板11の内部に改質領域を形成する。   In FIG. 6H, the laser beam 103 a is irradiated in a direction perpendicular to the surface of the sealing substrate 11 toward the second laser light irradiation region 40 b of the sealing substrate 11. The condensing point of the laser beam 103a is set to the depth position of the condensing point P at the start of laser light irradiation in FIG. 6G, and the condensing point P approaches the second laser light irradiation region 40b as described above. The laser beam 103a is irradiated while setting the position in the direction. Then, scanning is repeated until the condensing point setting position almost reaches the surface of the sealing substrate 11 to form a modified region inside the sealing substrate 11.

そして、図6(i)では、マザー基板Wに外部応力を加えることにより、形成された改質領域を起点として、封止基板11が個々に切り離され、液滴吐出ヘッド10が形成される。   6 (i), by applying external stress to the mother substrate W, the sealing substrate 11 is individually separated from the formed modified region as a starting point, and the droplet discharge head 10 is formed.

従って、本実施形態によれば、以下に示す効果がある。   Therefore, according to the present embodiment, there are the following effects.

(1)封止基板11の第1接着領域12には凹部17が形成され、コンプライアンス基板14が接着剤によって接着されるとき、漏れ広がった液状の接着剤16aが凹部17に流れ込み、第1レーザ光照射領域40aへの接着剤16の漏れ広がりを抑えるため、第1レーザ光照射領域40aに向けてレーザ光103aを照射したとき、集光性の低下を抑えることができる。   (1) A concave portion 17 is formed in the first adhesion region 12 of the sealing substrate 11, and when the compliance substrate 14 is adhered by an adhesive, the leaked liquid adhesive 16a flows into the concave portion 17, and the first laser In order to suppress the leakage spread of the adhesive 16 to the light irradiation region 40a, when the laser beam 103a is irradiated toward the first laser light irradiation region 40a, it is possible to suppress a decrease in light condensing property.

(2)封止基板11の第2接着領域13には凹部19が形成され、アクチュエータ基板15が接着剤によって接着されるとき、漏れ広がった液状の接着剤18aが凹部19に流れ込み、第2レーザ光照射領域40bへの接着剤18の漏れ広がりを抑えるため、第2レーザ光照射領域40bに向けてレーザ光103aを照射したとき、集光性の低下を抑えることができる。   (2) A recess 19 is formed in the second adhesion region 13 of the sealing substrate 11, and when the actuator substrate 15 is adhered by an adhesive, the leaked liquid adhesive 18a flows into the recess 19 and the second laser In order to suppress the spread of the leakage of the adhesive 18 to the light irradiation region 40b, when the laser beam 103a is irradiated toward the second laser light irradiation region 40b, it is possible to suppress a decrease in light condensing property.

(3)凹部17,19は、第1,第2接着領域12,13内であって、第1,第2レーザ光照射領域40a,40bに沿って略ロ形状に形成されているので、第1,第2レーザ光照射領域40a,40bに対して接着剤16,18の漏れ広がりをほぼ防止することができる。   (3) Since the recesses 17 and 19 are formed in the first and second adhesion regions 12 and 13 and have a substantially rectangular shape along the first and second laser light irradiation regions 40a and 40b. The leakage spread of the adhesives 16 and 18 can be substantially prevented with respect to the first and second laser light irradiation regions 40a and 40b.

本発明は、上記の実施形態に限定されるものでなく、以下のような変形例が挙げられる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the following modifications can be given.

(変形例1)本実施形態では、封止基板11側に凹部を設けたが、これに限定されない。同様の位置に対応したコンプライアンス基板14の接着面に設けてもよい。このようにしても、液状の接着剤16aがコンプライアンス基板14に設けられた凹部に流れ込むので、第1レーザ光照射領域40aへの接着剤16の漏れ広がりを防止することができる。アクチュエータ基板15においても同様の位置に対応した接着面に凹部を設けてもよい。このようにしても、液状の接着剤18aがアクチュエータ基板15に設けられた凹部に流れ込むので、第2レーザ光照射領域40bへの接着剤18の漏れ広がりを防止することができる。   (Modification 1) In this embodiment, the recess is provided on the sealing substrate 11 side, but the present invention is not limited to this. You may provide in the adhesion surface of the compliance board | substrate 14 corresponding to the same position. Even in this case, since the liquid adhesive 16a flows into the concave portion provided in the compliance substrate 14, it is possible to prevent the adhesive 16 from spreading to the first laser light irradiation region 40a. Also in the actuator substrate 15, a concave portion may be provided on the bonding surface corresponding to the same position. Even in this case, since the liquid adhesive 18a flows into the recess provided in the actuator substrate 15, it is possible to prevent the adhesive 18 from spreading to the second laser light irradiation region 40b.

(変形例2)本実施形態では、封止基板11の両面に凹部17,19を設けたが、これに限定されない。例えば、封止基板11の厚みを考慮して、第1レーザ光照射領域40aからのみレーザ光を照射して、封止基板11を切断できる場合には、第1レーザ光照射領域40aに対応する面にのみ凹部17を形成してもよい。このようにしても、レーザ光の集光性を低下させることなく、封止基板11を切断することができる。   (Modification 2) In the present embodiment, the recesses 17 and 19 are provided on both surfaces of the sealing substrate 11, but the present invention is not limited to this. For example, in consideration of the thickness of the sealing substrate 11, when the sealing substrate 11 can be cut by irradiating laser light only from the first laser light irradiation region 40a, it corresponds to the first laser light irradiation region 40a. You may form the recessed part 17 only in a surface. Even if it does in this way, the sealing substrate 11 can be cut | disconnected, without reducing the condensing property of a laser beam.

マザー基板の概略を示し、(a)は平面図、(b)は断面図。The outline of a mother board is shown, (a) is a top view and (b) is a sectional view. 多層構造部材としての液滴吐出ヘッドの構成を示し、(a)は断面図、(b)は平面図。The structure of the droplet discharge head as a multilayer structure member is shown, (a) is sectional drawing, (b) is a top view. レーザ光照射装置の構成を示す概略図。Schematic which shows the structure of a laser beam irradiation apparatus. 多層構造部材としての液滴吐出ヘッドの製造方法を示し、(a)〜(c)は製造工程を示す工程図。The manufacturing method of the droplet discharge head as a multilayer structure member is shown, (a)-(c) is process drawing which shows a manufacturing process. 多層構造部材としての液滴吐出ヘッドの製造方法を示し、(d)〜(f)は製造工程を示す工程図。The manufacturing method of the droplet discharge head as a multilayer structure member is shown, (d)-(f) is process drawing which shows a manufacturing process. 多層構造部材としての液滴吐出ヘッドの製造方法を示し、(g),(h)はレーザ光照射工程、(i)はブレイク工程を示す工程図。The manufacturing method of the droplet discharge head as a multilayer structure member is shown, (g), (h) is a laser beam irradiation process, (i) is a process figure which shows a breaking process.

符号の説明Explanation of symbols

10…液滴吐出ヘッド、11…封止基板、12…第1接着領域、13…第2接着領域、14…コンプライアンス基板、15…アクチュエータ基板、16,18…接着剤、17,19…凹部、40a…第1レーザ光照射領域、40b…第2レーザ光照射領域、100…レーザ照射装置、103a…レーザ光、W…マザー基板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Droplet discharge head, 11 ... Sealing board | substrate, 12 ... 1st adhesion area | region, 13 ... 2nd adhesion area | region, 14 ... Compliance board | substrate, 15 ... Actuator board | substrate, 16, 18 ... Adhesive agent, 17, 19 ... Recessed part 40a ... first laser light irradiation region, 40b ... second laser light irradiation region, 100 ... laser irradiation device, 103a ... laser light, W ... mother substrate.

Claims (6)

第1基板の一の面に設けられた第1レーザ光照射領域と、
前記第1基板の前記一の面に設けられ、第2基板と接着されるべき第1接着領域と、
を含む積層基板のレーザスクライブ法であって、
前記第1接着領域に凹部を設ける工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを接着剤によって接着する基板接着工程と、
前記第1レーザ光照射領域を前記第1基板の厚さ方向に投影させたときに前記第1基板内部に形成される立体領域の一部に前記レーザ光を集光させて、前記内部位置に改質領域を形成する改質領域形成工程と、
前記改質領域形成工程の後に、前記第1基板に応力を加えて、前記改質領域を起点にして前記積層基板を分割する工程とを有し、
前記改質領域形成工程では、前記改質領域を前記第1基板の厚さ方向に複数層形成する、
ことを特徴とする積層基板のレーザスクライブ方法。
A first laser light irradiation region provided on one surface of the first substrate;
A first adhesion region provided on the one surface of the first substrate and to be adhered to the second substrate;
A laser scribing method for a laminated substrate including:
Providing a recess in the first adhesive region;
A substrate bonding step of bonding the first substrate and the second substrate with an adhesive;
When the first laser beam irradiation region is projected in the thickness direction of the first substrate, the laser beam is focused on a part of a three-dimensional region formed inside the first substrate, and is then moved to the internal position. A modified region forming step for forming a modified region;
A step of applying stress to the first substrate after the modified region forming step and dividing the laminated substrate starting from the modified region;
In the modified region forming step, a plurality of modified regions are formed in the thickness direction of the first substrate.
A laser scribing method for a multilayer substrate, comprising:
請求項1に記載の積層基板のレーザスクライブ方法において、
前記積層基板は、
前記第1基板の前記一の面に対向する面に設けられた第2レーザ光照射領域と、
前記第1基板の前記一の面に対向する面に設けられ、第3基板と接着されるべき第2接着領域と、
をさらに含み、
前記第2接着領域に凹部を設ける工程と、
前記第1基板と前記第3基板とを接着剤によって接着する基板接着工程と、
をさらに有することを特徴とする積層基板のレーザスクライブ方法。
In the laser scribing method of the multilayer substrate according to claim 1,
The laminated substrate is
A second laser light irradiation region provided on a surface facing the one surface of the first substrate;
A second bonding region provided on a surface of the first substrate facing the one surface and to be bonded to a third substrate;
Further including
Providing a recess in the second adhesive region;
A substrate bonding step of bonding the first substrate and the third substrate with an adhesive;
A laser scribing method for a multilayer substrate , further comprising:
請求項1または2に記載の積層基板のレーザスクライブ方法において、
前記凹部は、前記第1基板の平面視において、第1及び第2レーザ光照射領域に沿って形成されたことを特徴とする積層基板のレーザスクライブ方法。
In the laser scribing method of the multilayer substrate according to claim 1 or 2,
The method of laser scribing a laminated substrate, wherein the recess is formed along the first and second laser light irradiation regions in a plan view of the first substrate.
請求項1〜 3のいずれか一項に記載の積層基板のレーザスクライブ方法によって加工されたことを特徴とする積層基板。 A laminated substrate processed by the laser scribing method for a laminated substrate according to any one of claims 1 to 3. 請求項1〜 3のいずれか一項に記載の積層基板のレーザスクライブ方法によって加工される液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法であって、
前記積層基板の前記第1基板は、封止基板であり、前記第2基板は、コンプライアンス基板であり、前記第3基板は、アクチュエータ基板であることを特徴とする液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法。
A laser scribing method for a droplet discharge head processed by the laser scribing method for a multilayer substrate according to any one of claims 1 to 3,
The laser scribing method for a droplet discharge head, wherein the first substrate of the multilayer substrate is a sealing substrate, the second substrate is a compliance substrate, and the third substrate is an actuator substrate. .
請求項5に記載の液滴吐出ヘッドのレーザスクライブ方法によって加工されたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。 A droplet discharge head processed by the laser scribing method for a droplet discharge head according to claim 5.
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