JP4608227B2 - Substrate processing system, external connection apparatus, substrate processing apparatus, and display method for substrate processing system - Google Patents

Substrate processing system, external connection apparatus, substrate processing apparatus, and display method for substrate processing system Download PDF

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Description

本発明は基板処理システムに係り、特に装置内で発生する事象を把握するものに関する。   The present invention relates to a substrate processing system, and more particularly to an apparatus for grasping an event occurring in an apparatus.

現在、半導体製造ラインでは高い生産性が望まれ、半導体製造装置の性能が重視されている。半導体製造装置に求められる性能の中でも、特に高稼働率、高スループット、高ターンアラウンドタイムは重要視されている。
しかしながら半導体製造ラインにおいて、製造装置運用時には装置の障害の発生による停止、装置の非効率な動作およびウェハ搬送機器間とのカセット搬送での時間ロス、非効率なメンテナンス作業等様々な要因により、半導体製造装置にはウェハを処理していない時間が多々存在している。また、半導体製造装置は準備できているが、ウェハが提供されない等、生産性低下の要因が多々ある。
それらを招く要因を排除すべく製造装置メーカは半導体製造装置の性能向上、およびデバイスメーカは生産ラインの改善等を行い、それを繰り返し、生産性向上に努めている。
Currently, high productivity is desired in the semiconductor manufacturing line, and the performance of the semiconductor manufacturing apparatus is emphasized. Of the performance required for semiconductor manufacturing equipment, high availability, high throughput, and high turnaround time are particularly important.
However, in the semiconductor manufacturing line, when operating the manufacturing equipment, due to various factors such as stoppage due to equipment failure, inefficient operation of the equipment and time loss in cassette transportation between wafer transport equipment, inefficient maintenance work, etc. There are many times when a wafer is not processed in the manufacturing apparatus. Moreover, although a semiconductor manufacturing apparatus is prepared, there are many factors that cause a decrease in productivity, such as a wafer not being provided.
In order to eliminate these factors, manufacturing equipment manufacturers improve the performance of semiconductor manufacturing equipment, and device manufacturers improve production lines, etc., and repeatedly strive to improve productivity.

例えば、製造装置メーカは、装置性能向上の施策の効果を、時間であればストップウォッチ等で計測する等して、その結果から、行った施策の効果があるかどうかを判断していた。また、デバイスメーカは、半導体製造装置による生産の記録を取り、生産性向上施策を実施または作業改善し、再びその結果を記録し施策・改善の効果があったかどうかを判断していた。   For example, the manufacturer of the manufacturing apparatus measures the effect of the measure for improving the device performance with a stopwatch or the like if it is time, and determines whether or not the effect of the measure taken is effective from the result. In addition, device manufacturers have recorded production by semiconductor manufacturing equipment, implemented productivity improvement measures or improved work, and recorded the results again to determine whether the measures / improvements were effective.

なお、前提となる技術として、半導体製造装置を制御するコントローラに通信回線を介して制御プログラムを供給するものがある(例えば特許文献1参照)。
特開2002−217182号公報
As a prerequisite technique, there is a technique that supplies a control program to a controller that controls a semiconductor manufacturing apparatus via a communication line (see, for example, Patent Document 1).
JP 2002-217182 A

しかしながら、製造装置メーカのストップウオッチ等で計測するやり方では、数多くある駆動部分等が複雑に連携して動作する箇所では、ストップウオッチ等の計測結果からでは、果たして、おこなった施策の効果があるかどうか確証することが出来なかった。
また、デバイスメーカが行う生産の記録は、主としてロット(カセット)の着工、完了の時刻程度のものであり、細かい装置、例えばウェハ搬送機や自走型搬送車等の装置周辺機器と基板処理装置間の連絡状況等が把握できなかったため、施策が効率的・効果的であったかどうかの確認も正確には出来ていなかった。
これらの原因は、装置の動作の詳細を知ることができないことに起因していた。
However, in the method of measuring with the stopwatch etc. of the manufacturing equipment manufacturer, at the place where many drive parts etc. operate in a complex manner, it is confirmed from the measurement result of the stopwatch etc. whether the measures taken are indeed effective. I could not do it.
In addition, production records performed by device manufacturers are mainly about the start and completion times of lots (cassettes), and include fine equipment such as peripheral equipment and substrate processing equipment such as wafer transfer machines and self-propelled transfer vehicles. Since we could not grasp the situation of communication between them, it was not possible to accurately confirm whether the measure was efficient or effective.
These causes are due to the fact that details of the operation of the apparatus cannot be known.

本発明の課題は、上述した従来技術の問題点を解消して、装置の動作の詳細を握することが可能な基板処理システムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a substrate processing system capable of solving the above-described problems of the prior art and grasping details of the operation of the apparatus.

本発明は、基板処理システムを構成する基板処理装置において、基板処理装置内部において発生する事象を外部に出力し、外部接続装置により事象に時刻を付して記録、加工(編集)、表示することにより、基板処理装置の生産性向上手法の方向を指標すると共に、実施施策の効果が確認できる外部接続装置を備えたものである。なお、外部接続装置に代えて内部制御装置でもよい。より具体的にはつぎの各発明をいう。   In the substrate processing apparatus which comprises a substrate processing system, this invention outputs the event which generate | occur | produces inside a substrate processing apparatus outside, attaches time to an event by an external connection apparatus, records, processes (edits), and displays Accordingly, the direction of the productivity improvement method of the substrate processing apparatus is indicated, and an external connection device that can confirm the effect of the implementation measure is provided. An internal control device may be used instead of the external connection device. More specifically, it refers to the following inventions.

第1の発明は、基板を処理する基板処理装置と、該基板処理装置に接続される外部接続装置とを備え、前記外部接続装置は、基板処理装置内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象を予め設定する設定手段と、前記抽出された事象の各々が発生する時刻を前記抽出された事象と関連づけてデータとして記憶する記憶手段と、前記データを表示する表示手段と、前記データを編集する編集手段とを有することを特徴とする基板処理システムである。   A first invention includes a substrate processing apparatus for processing a substrate and an external connection device connected to the substrate processing apparatus, wherein the external connection device is extracted from a plurality of events occurring in the substrate processing apparatus. A setting means for presetting an event to be performed, a storage means for storing the time at which each of the extracted events occurs in association with the extracted event, a display means for displaying the data, and the data An editing means for editing the substrate.

基板処理装置が基板を処理するために動作すると、その動作にともなって基板処理装置内に複数の事象が発生する。発生した複数の事象は、外部接続装置に送られる。外部接続装置に送られた複数の事象の中から、設定手段で予め設定された事象が抽出される。抽出された事象は、当該事象の各々が発生する時刻と関連づけられてデータとして記憶手段に記憶される。記憶手段に記憶されたデータは表示手段によりそのまま表示されるか、あるいは編集手段によって編集された後表示される。   When the substrate processing apparatus operates to process a substrate, a plurality of events occur in the substrate processing apparatus with the operation. The plurality of events that have occurred are sent to the external connection device. An event preset by the setting means is extracted from a plurality of events sent to the external connection device. The extracted events are stored in the storage means as data in association with the time at which each of the events occurs. The data stored in the storage means is displayed as it is by the display means or after being edited by the editing means.

事象がその発生時刻と関連づけられたデータとして、そのまま、あるいは編集されて表示手段に表示されるので、事象の発生、変動、消滅が明らかとなり、これまで可視化出来なかった装置の動作の詳細を、装置外部で把握することができる。
基板処理装置内に発生する事象には、基板処理装置のオペレータ操作、基板処理装置と装置周辺機器との連動状況も含まれる。
As the data related to the time of occurrence of the event is displayed as it is or edited and displayed on the display means, the occurrence, fluctuation, and disappearance of the event become clear, and details of the operation of the device that could not be visualized until now, It can be grasped outside the device.
Events that occur in the substrate processing apparatus include operator operations of the substrate processing apparatus, and the interlocking status between the substrate processing apparatus and apparatus peripheral equipment.

第2の発明は、基板を処理する基板処理装置であって、基板処理装置内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象を予め設定する設定手段と、前記抽出された事象の各々が発生する時刻を前記抽出された事象と関連づけて時系列データとして記憶する記憶手段と、前記データを表示する表示手段と、前記データを編集する編集手段と
を備えていることを特徴とする基板処理装置である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus for processing a substrate, wherein setting means for presetting an event to be extracted from a plurality of events occurring in the substrate processing apparatus, and each of the extracted events is Substrate processing characterized by comprising storage means for storing time of occurrence as time-series data in association with the extracted event, display means for displaying the data, and editing means for editing the data Device.

基板処理装置が基板を処理するために動作すると、その動作にともなって基板処理装置内に複数の事象が発生する。発生した複数の事象は、基板処理装置内部で、次のように処理される。複数の事象の中から、設定手段で予め設定された事象が抽出される。抽出された事象は、当該事象の各々が発生する時刻と関連づけられてデータとして記憶手段に記憶される。記憶手段に記憶されたデータは表示手段によりそのまま表示されるか、あるいは編集手段によって編集された後表示される。   When the substrate processing apparatus operates to process a substrate, a plurality of events occur in the substrate processing apparatus with the operation. The plurality of events that have occurred are processed in the substrate processing apparatus as follows. An event preset by the setting means is extracted from the plurality of events. The extracted events are stored in the storage means as data in association with the time at which each of the events occurs. The data stored in the storage means is displayed as it is by the display means or after being edited by the editing means.

事象がその発生時刻と関連づけられたデータとして、そのまま、あるいは編集されて表示手段に表示されるので、事象の発生、変動、消滅(終了)が明らかとなり、これまで可視化出来なかった装置の動作の詳細を、装置内部で把握することができる。   Since the event is displayed as data associated with the time of its occurrence, or edited and displayed on the display means, the occurrence, change and disappearance (termination) of the event become clear, and the operation of the device that could not be visualized so far Details can be grasped inside the apparatus.

第3の発明は、基板を処理する基板処理装置と、該基板処理装置に接続される外部接続装置とを備え、前記外部接続装置は、基板処理装置内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象に予め事象コードを設定して、事象コードと事象との対応づけを行う事象コード設定手段と、前記事象コードが設定された事象の各々が発生する時刻を、前記設定された事象と関連づけて、前記時刻、前記事象コード、及び前記事象からなる事象データを作成するデータ作成手段と、前記事象コードに対応する所望の二つの事象や該二つの事象間の動作の所要時間に、時間コードを設定して、時間コードと前記二つの事象ないし前記所要時間との対応付けを行う時間コード設定手段と、前記事象データ、時間コードを記憶する記憶手段と、前記事象データ、時間コードを表示する表示手段と、前記事象コード及び事象コードに対応する事象、前記時間コード及び時間コードに対応する二つの事象間の動作を編集する編集手段を有することを特徴とする基板処理システムである。   A third invention includes a substrate processing apparatus for processing a substrate and an external connection device connected to the substrate processing apparatus, and the external connection device is extracted from a plurality of events occurring in the substrate processing apparatus. Event code setting means for setting an event code in advance to an event to be associated and associating the event code with the event, and the time at which each of the events for which the event code is set occurs is set to the set event Data creation means for creating event data consisting of the time, the event code, and the event, and two desired events corresponding to the event code and the operation between the two events A time code setting means for setting a time code in time and associating the time code with the two events or the required time; storage means for storing the event data and the time code; and the event data Substrate processing comprising: display means for displaying a time code; and editing means for editing the event code, an event corresponding to the event code, and an operation between the time code and two events corresponding to the time code System.

基板処理装置が基板を処理するために動作すると、その動作にともなって基板処理装置内に複数の事象が発生する。発生した複数の事象は、外部接続装置に送られる。事象コード設定手段により、外部接続装置に送られた複数の事象の中から、予め設定した事象が抽出されて、この抽出された事象に事象コードが付与される。   When the substrate processing apparatus operates to process a substrate, a plurality of events occur in the substrate processing apparatus with the operation. The plurality of events that have occurred are sent to the external connection device. By the event code setting means, a preset event is extracted from a plurality of events sent to the external connection device, and an event code is assigned to the extracted event.

データ作成手段により、事象コードが付与された事象と、該事象の各々が発生する時刻とが関連づけられた事象データが作成される。また、時間コード設定手段により、所望の二つの前記事象コードや所望の二つの前記事象コード間の時間に時間コードが付与される。前述した事象データ、時間コードは記憶手段に記憶される。記憶手段に記憶されたデータ及びコードは、表示手段によりそのまま表示されるか、編集手段によって編集された後表示される。   The data creation means creates event data in which the event to which the event code is assigned is associated with the time at which each event occurs. Further, the time code setting means assigns a time code to the desired two event codes and the time between the two desired event codes. The aforementioned event data and time code are stored in the storage means. The data and code stored in the storage means are displayed as they are by the display means or after being edited by the editing means.

所望の二つの事象コードや所望の二つの事象コード間の所要時間に時間コードが付与されるので、時間コードから、事象の発生、変動、消滅が明らかとなり、これまで可視化出来なかった装置の動作の詳細を、装置外部で把握することができる。   Since the time code is given to the desired two event codes and the required time between the two desired event codes, the occurrence, fluctuation, and disappearance of the events become clear from the time code, and the operation of the device that could not be visualized so far The details can be ascertained outside the apparatus.

第4の発明は、基板を処理する基板処理装置と、該基板処理装置に接続される外部接続装置とを備え、前記外部接続装置は、基板処理装置内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象に予め事象コードを設定して、事象コードと事象との対応づけを行う事象コード設定手段と、前記事象コードが設定された事象の各々が発生する時刻を、前記設定された事象と関連づけて、前記時刻、前記事象コード、及び前記事象からなる事象データを作成するデータ作成手段と、前記事象コードに対応する所望の二つの事象や該二つの事象間の動作の所要時間に、時間コードを設定して、時間コードと前記二つの事象ないし前記所要時間との対応付けを行う時間コード設定手段と、一動作が複数の事象間動作の組合わせからなり、一動作に要する事象を対応付けるように設定したり、一動作に要する総合時間を、前記複数の事象間動作の所要時間を加算した事象加工期間として設定したりする期間設定手段と、前記事象データ、時間コード、事象加工期間を記憶する記憶手段と、前記事象データ、時間コード、事象加工期間を表示する表示手段と、前記事象コード及び事象コードに対応する事象、前記時間コード及び時間コードに対応する二つの事象間の動作、または一動作を構成する複数の事象間動作の組合わせを編集する編集手段とを有することを特徴とする基板処理システムである。   A fourth invention includes a substrate processing apparatus for processing a substrate and an external connection device connected to the substrate processing apparatus, wherein the external connection device is extracted from a plurality of events occurring in the substrate processing apparatus. Event code setting means for setting an event code in advance to an event to be associated and associating the event code with the event, and the time at which each of the events for which the event code is set occurs is set to the set event Data creation means for creating event data consisting of the time, the event code, and the event, and two desired events corresponding to the event code and the operation between the two events Time code setting means for setting a time code in time and associating the time code with the two events or the required time, and one action is a combination of a plurality of inter-event actions. Events required A period setting means for setting so as to be associated with each other, or setting a total time required for one operation as an event processing period obtained by adding the time required for the operation between the plurality of events, and the event data, time code, and event processing Storage means for storing a period; display means for displaying the event data, time code, and event processing period; an event corresponding to the event code and the event code; and two events corresponding to the time code and the time code And an editing means for editing a combination of a plurality of inter-event operations constituting one operation.

基板処理装置が基板を処理するために動作すると、その動作にともなって基板処理装置内に複数の事象が発生する。発生した複数の事象は、外部接続装置に送られる。事象コード設定手段により、外部接続装置に送られた複数の事象の中から、予め設定した事象が抽出されて、この抽出された事象に事象コードが付与される。   When the substrate processing apparatus operates to process a substrate, a plurality of events occur in the substrate processing apparatus with the operation. The plurality of events that have occurred are sent to the external connection device. By the event code setting means, a preset event is extracted from a plurality of events sent to the external connection device, and an event code is assigned to the extracted event.

データ作成手段により、事象コードが付与された事象と、該事象の各々が発生する時刻とが関連づけられた事象データが作成される。また、時間コード設定手段により、所望の二つの前記事象コードや所望の二つの前記事象コード間の時間に時間コードが付与される。期間設定手段により、一動作に要する事象を対応付けるように設定されたり、一動作に要する総合時間が、前記複数の事象間動作の所要時間を加算した事象加工期間として設定されたりする。前述した事象データ、時間コード、事象加工期間は記憶手段に記憶される。記憶手段に記憶された事象データ、時間コード及び事象加工期間は、表示手段によりそのまま表示されるか、編集手段によって編集された後表示される。   The data creation means creates event data in which the event to which the event code is assigned is associated with the time at which each event occurs. Further, the time code setting means assigns a time code to the desired two event codes and the time between the two desired event codes. The period setting means sets the events required for one operation so as to be associated with each other, or sets the total time required for one operation as an event processing period obtained by adding the times required for the operations between the plurality of events. The event data, time code, and event processing period described above are stored in the storage means. The event data, time code, and event processing period stored in the storage means are displayed as they are by the display means or after being edited by the editing means.

所望の二つの事象コードや所望の二つの事象コード間の所要時間に時間コード、期間コードが付与されるので、時間コード、期間コードから、事象の発生、変動、消滅が明らかとなり、これまで可視化出来なかった装置の動作の詳細を、装置内部で把握することができる。   Since the time code and the period code are added to the desired two event codes and the required time between the two desired event codes, the occurrence, fluctuation, and disappearance of the event will be clarified from the time code and the period code. Details of the operation of the device that could not be performed can be grasped inside the device.

本発明によれば、いままで可視化出来なかった装置の動作を可視化して把握することできる。したがって、製造装置メーカは装置の性能向上、およびデバイスメーカは生産ラインの改善等を行う手掛かりが得られると共に、実施施策の効果の確認も容易に出来るようになる。   According to the present invention, it is possible to visualize and grasp the operation of an apparatus that could not be visualized until now. Accordingly, the manufacturing apparatus manufacturer can obtain clues for improving the performance of the apparatus and the device manufacturer for improving the production line, and the effect of the implementation measure can be easily confirmed.

以下に本発明の基板処理システムの実施の形態を説明する。
本発明の基板処理システムを構成する基板処理装置の構成を図面を用いて説明する。尚、以下の説明では、基板処理装置として基板に拡散処理やCVD処理などを行う縦型の装置に適用した場合について述べる。図9は、本発明に適用される基板処理装置の外観斜視図である。尚、この図は透視図として描かれている。また、図10は図9に示す基板処理装置の側面図である。
Embodiments of the substrate processing system of the present invention will be described below.
The structure of the substrate processing apparatus which comprises the substrate processing system of this invention is demonstrated using drawing. In the following description, a case where the substrate processing apparatus is applied to a vertical apparatus that performs diffusion processing, CVD processing, or the like on the substrate will be described. FIG. 9 is an external perspective view of a substrate processing apparatus applied to the present invention. This figure is drawn as a perspective view. FIG. 10 is a side view of the substrate processing apparatus shown in FIG.

基板処理装置は、シリコン等からなるウェハ(基板)200を収納したポッド(基板収納容器)100を、外部から筐体101内へ挿入するため、およびその逆に筐体101内から外部へ払出すためのI/Oステージ(保持具授受部材)105が筐体101の前面に付設され、筐体101内に挿入されたポッド100を保管するためのカセット棚(載置手段)109が敷設されている。なお、ポッド対応仕様ではなく、カセット対応仕様の装置では、I/Oステージ105に対応する筐体101の前面にシャッタが設けられ、このシャッタを介して筐体101内にカセットが挿入される。。   In the substrate processing apparatus, a pod (substrate storage container) 100 storing a wafer (substrate) 200 made of silicon or the like is inserted from the outside into the housing 101 and vice versa. An I / O stage (holder holding member) 105 is attached to the front surface of the housing 101, and a cassette shelf (mounting means) 109 for storing the pod 100 inserted into the housing 101 is laid. Yes. Note that in an apparatus with a cassette-compatible specification instead of a pod-compatible specification, a shutter is provided on the front surface of the casing 101 corresponding to the I / O stage 105, and the cassette is inserted into the casing 101 via this shutter. .

また、ウェハ200の搬送エリアであり、後述のボート(基板保持手段)217のローディング、アンローディング空間となる気密なN2パージ室102が設けられている。ウェハ200に処理を行なうときのN2パージ室102の内部は、ウェハ200の自然酸化膜を防止するためにN2ガスなどの不活性ガスが充満されるように、N2パージ室102は密閉容器となっている。 In addition, an airtight N 2 purge chamber 102 serving as a transfer area for the wafer 200 and serving as a loading / unloading space for a boat (substrate holding means) 217 described later is provided. The N 2 purge chamber 102 is hermetically sealed so that the inside of the N 2 purge chamber 102 when processing the wafer 200 is filled with an inert gas such as N 2 gas in order to prevent a natural oxide film on the wafer 200. It is a container.

上述したポッド100としては、現在FOUPというタイプが主流で使用されており、ポッド100の一側面に設けられた開口部を蓋体(図示せず)で塞ぐことで大気からウェハ200を隔離して搬送でき、蓋体を取り去る事でポッド100内へウェハ200を入出させることができる。このポッド100の蓋体を取外し、ポッド内の雰囲気とN2パージ室102の雰囲気とを連通させるために、N2パージ室102の前面側には、ポッドオープナ(開閉手段)108が設けられている。なお、ポッド対応仕様ではなく、カセット対応仕様の装置では、N2パージ室102の前面にゲートバルブが設けられ、N2パージ室102と搬送空間とはゲートバルブにより連結されている。 As the pod 100 described above, the FOUP type is currently mainly used, and the opening provided on one side of the pod 100 is closed with a lid (not shown) to isolate the wafer 200 from the atmosphere. The wafer 200 can be transferred into and out of the pod 100 by removing the lid. A pod opener (opening / closing means) 108 is provided on the front side of the N 2 purge chamber 102 in order to remove the lid of the pod 100 and to communicate the atmosphere in the pod and the atmosphere of the N 2 purge chamber 102. Yes. Instead of the pod corresponding specification, in the apparatus of the cassette corresponding specification, a gate valve is provided on the front surface of the N 2 purge chamber 102 are connected by a gate valve and the N 2 purge chamber 102 and the conveying space.

ポッドオープナ108、カセット棚109、およびI/Oステージ105間のポッド100の搬送は、カセットローダ114によって行なわれる。なお、ポッド対応仕様ではなく、カセット対応仕様の装置では、カセットローダ114に回転ステージを備える。このカセットローダ114によるポッド100の搬送空間には、筐体101に設けられたクリーンユニット(図示せず)によって清浄化した空気をフローさせるようにしている。   The cassette loader 114 carries the pod 100 between the pod opener 108, the cassette shelf 109, and the I / O stage 105. Note that in a cassette-compatible specification apparatus, not a pod-compatible specification, the cassette loader 114 includes a rotation stage. Air that has been cleaned by a clean unit (not shown) provided in the casing 101 is caused to flow in the conveyance space of the pod 100 by the cassette loader 114.

2パージ室102の内部には、複数のウェハ200を多段に積載するボート217と、ウェハ200のノッチ(又はオリエンテーションフラット)の位置を任意の位置に合わせる基板位置合わせ装置106と、ポッドオープナ108上のポッド100と基板位置合わせ装置106とボート217との間でウェハ200の搬送を行なうウェハ移載機(搬送手段)112とが設けられている。また、N2パージ室102の上部にはウェハ200を処理するための処理炉202が設けられており、ボート217はボートエレベータ(昇降手段)115によって処理炉202へローディング、又は処理炉202からアンローディングすることができる。 Inside the N 2 purge chamber 102, a boat 217 for loading a plurality of wafers 200 in multiple stages, a substrate alignment device 106 for adjusting the position of the notch (or orientation flat) of the wafers 200 to an arbitrary position, and a pod opener 108 A wafer transfer machine (carrying means) 112 that carries the wafer 200 between the upper pod 100, the substrate alignment device 106, and the boat 217 is provided. Further, a processing furnace 202 for processing the wafer 200 is provided in the upper part of the N 2 purge chamber 102, and the boat 217 is loaded into the processing furnace 202 by the boat elevator (lifting means) 115 or unloaded from the processing furnace 202. Can be loaded.

次に、本発明の基板処理装置の動作について説明する。
先ず、AGV(自走型搬送車)やOHT(天井吊下式搬送装置)などにより筐体101の外部から搬送されてきたポッド100は、I/Oステージ105に載置される。I/Oステージ105に載置されたポッド100は、シャッタを介して搬送空間に挿入された後、カセットローダ114によって、直接ポッドオープナ108上に搬送されるか、または、一旦カセット棚109にストックされた後にポッドオープナ108上に搬送される。なお、ポッド対応仕様ではなく、カセット対応仕様の装置では、搬送空間とN2パージ室102との間に設けられたゲートバルブがオープンされる。ポッドオープナ108上に搬送されたポッド100は、ポッドオープナ108によってポッド100の蓋体を取り外され、ポッド100の内部雰囲気がN2パージ室102の雰囲気と連通される。
Next, the operation of the substrate processing apparatus of the present invention will be described.
First, the pod 100 that has been transported from the outside of the housing 101 by an AGV (self-propelled transport vehicle) or an OHT (ceiling suspended transport device) is placed on the I / O stage 105. The pod 100 placed on the I / O stage 105 is inserted into the transfer space via the shutter and then directly transferred onto the pod opener 108 by the cassette loader 114 or once stored in the cassette shelf 109. And then conveyed onto the pod opener 108. Note that, in a cassette-compatible specification apparatus instead of a pod-compatible specification, a gate valve provided between the transfer space and the N 2 purge chamber 102 is opened. The pod 100 transferred to the pod opener 108 is removed from the pod 100 by the pod opener 108, and the internal atmosphere of the pod 100 is communicated with the atmosphere of the N 2 purge chamber 102.

次に、ウェハ搬送機112によって、N2パージ室102の雰囲気と連通した状態のポッド100内からウェハ200を取り出す。取り出されたウェハ200は、基板位置合わせ装置106によって任意の位置にノッチが定まる様に位置合わせが行なわれ、位置合わせ後、ボート217へ搬送される。
ボート217へのウェハ200の搬送が完了したならば、処理室201の炉口シャッタ116を開けて、ボートエレベータ115によりウェハ200を搭載したボート217をローディングする。
ローディング後は、処理炉202にてウェハ200に任意の処理が実施され、処理後は上述の逆の手順で、ウェハ200およびポッド100は筐体101の外部へ払出される。
Next, the wafer 200 is taken out from the pod 100 in communication with the atmosphere of the N 2 purge chamber 102 by the wafer transfer device 112. The taken-out wafer 200 is aligned so that a notch is determined at an arbitrary position by the substrate alignment device 106, and is transferred to the boat 217 after alignment.
When the transfer of the wafer 200 to the boat 217 is completed, the furnace port shutter 116 of the processing chamber 201 is opened, and the boat 217 loaded with the wafer 200 is loaded by the boat elevator 115.
After loading, an arbitrary process is performed on the wafer 200 in the processing furnace 202. After the process, the wafer 200 and the pod 100 are discharged out of the casing 101 in the reverse procedure described above.

上述した基板処理装置、例えば半導体製造装置は、図11に示すように、工場に複数台(#1〜#n)設置されて、これら半導体製造装置の動作をコントローラにより制御している。各半導体製造装置には、反応室の温度などの加熱温度を制御する温度コントローラ21、エレベータやロボットアームなどのメカニカル部分の動作を制御するメカコントローラ22、反応室の反応圧などの圧力を制御する圧力コントローラ23、反応室へ供給するガス流などを制御するガスコントローラ24、これらコントローラ21〜24をLANなどの通信回線26を介して統括制御するメインコントローラ25が備えられている。更に、当該工場にはこれら複数の半導体製造装置のメインコントローラ25をLANなどの通信回線28を介して統括制御するブロックコントローラ27が設けられている。   As shown in FIG. 11, a plurality of the substrate processing apparatuses described above, for example, semiconductor manufacturing apparatuses, are installed in a factory (# 1 to #n), and the operation of these semiconductor manufacturing apparatuses is controlled by a controller. Each semiconductor manufacturing apparatus controls a temperature controller 21 that controls a heating temperature such as a temperature in a reaction chamber, a mechanical controller 22 that controls the operation of a mechanical part such as an elevator or a robot arm, and a pressure such as a reaction pressure in the reaction chamber. A pressure controller 23, a gas controller 24 for controlling a gas flow supplied to the reaction chamber, and a main controller 25 for controlling these controllers 21 to 24 through a communication line 26 such as a LAN are provided. Further, the factory is provided with a block controller 27 that controls the main controller 25 of the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses through a communication line 28 such as a LAN.

これらコントローラ21〜24のうち、例えばメカコントローラ22には、モータ13、電磁弁12、センサ11等が接続されている。圧力コントローラ23には圧力弁14や圧力センサ15が接続されている。これらコントローラ21〜24、25、27はコンピュータにより構成されており、プロセッサやメモリなどのハードウエアで所定の制御プログラムを実行することにより、所定の制御処理を実行する。このような制御プログラムは、例えば、コントローラに備えられたハードディスクメモリに記憶され、或いは、コントローラに備えられたROMに予め格納されて、コントローラに設定されている。   Of these controllers 21 to 24, for example, the mechanical controller 22 is connected to the motor 13, the electromagnetic valve 12, the sensor 11, and the like. A pressure valve 14 and a pressure sensor 15 are connected to the pressure controller 23. These controllers 21 to 24, 25, and 27 are configured by a computer, and execute predetermined control processing by executing a predetermined control program by hardware such as a processor and a memory. Such a control program is stored in, for example, a hard disk memory provided in the controller, or stored in advance in a ROM provided in the controller and set in the controller.

ところで、本実施の形態の基板処理システムは、上述した各基板処理装置内で発生する複数の事象を把握しようとするものである。事象とは、ここでは、基板処理装置を構成する機構の動作開始や動作終了、センサON、センサOFF、基板処理装置操作の命令や履歴、あるいは後述する生産ライン設置機器の通信結果等の現象をいう。複数の事象から、動作素が構成され、複数の動作素から一動作が構成される。
この一動作を、例えば複数の動作1〜10(動作素)からなるカセット払出し動作を例にとって説明する。
By the way, the substrate processing system of the present embodiment is intended to grasp a plurality of events that occur in each of the above-described substrate processing apparatuses. Here, the phenomenon refers to a phenomenon such as operation start and operation of a mechanism constituting the substrate processing apparatus, sensor ON, sensor OFF, instruction and history of substrate processing apparatus operation, or a communication result of a production line installation device described later. Say. An operation element is composed of a plurality of events, and one operation is composed of the plurality of operation elements.
This one operation will be described by taking, for example, a cassette payout operation composed of a plurality of operations 1 to 10 (operation elements).

図12〜図14に、そのようなカセット払出し動作を実行するための一連の動作素を示す。
図12(a)にカセット払出し動作を行なうための模式的な基本機器構成を示す。なお、ここでの基本機器構成は、便宜上、図9及び図10に示す基板処理装置の機器とは、ポッドとカセットの相違や機種タイプの相違から、必ずしも一致するものではない。
予備室(LL室)33とロードロック室35とはゲート34を介して連結されている。ゲート34と反対側のLL室33の入口はシャッタ31により開閉自在になっている。また、シャッタ31とLL室33との間にカセット37を搭載するステージ32が設けられる。ステージ32は、カセット37をLL室33に対して搬入、搬出するために断面L字形状をしており、CY軸(ステージ回転用軸)36を中心に回転可能になっている。
12 to 14 show a series of operating elements for executing such a cassette dispensing operation.
FIG. 12A shows a schematic basic equipment configuration for performing the cassette payout operation. Note that the basic equipment configuration here is not necessarily the same as the equipment of the substrate processing apparatus shown in FIGS. 9 and 10 due to the difference in the pod and cassette and the difference in the model type.
The spare chamber (LL chamber) 33 and the load lock chamber 35 are connected via a gate 34. The entrance of the LL chamber 33 on the side opposite to the gate 34 can be opened and closed by a shutter 31. A stage 32 on which a cassette 37 is mounted is provided between the shutter 31 and the LL chamber 33. The stage 32 has an L-shaped cross section for loading and unloading the cassette 37 into and from the LL chamber 33, and is rotatable about a CY axis (stage rotation axis) 36.

さて、初期状態では、カセット37はLL室33に存在し、LL室33は真空状態にある(図12(b))。   In the initial state, the cassette 37 exists in the LL chamber 33, and the LL chamber 33 is in a vacuum state (FIG. 12B).

動作1では、つぎの複数の事象によって、LL室33のベントを行なう。(1)LL室ベント命令が圧力弁(図11の圧力弁14に相当)などに出され、(2)LL室33のベント処理実施がなされ、(3)大気圧センサ(図11の圧力センサ15に相当)ONによりLL室ベントが完了する(図12(c))。   In the operation 1, the LL chamber 33 is vented by the following plurality of events. (1) An LL chamber vent command is issued to a pressure valve (corresponding to the pressure valve 14 in FIG. 11), (2) the LL chamber 33 is vented, and (3) an atmospheric pressure sensor (pressure sensor in FIG. 11). (Corresponding to 15) The LL chamber venting is completed by turning on (FIG. 12C).

動作2では、つぎの複数の事象によって、シャッタ31をオープンする。(1)シャッタオープン命令がシャッタ31を操作する電磁弁(図11の電磁弁12に相当)に出され、(2)シャッタ31がオープン動作し、(3)オープンセンサ(図11のセンサ11に相当)ONによりシャッタオープンが終了する(図12(d))。   In the operation 2, the shutter 31 is opened by the following plurality of events. (1) A shutter open command is issued to an electromagnetic valve (corresponding to the electromagnetic valve 12 in FIG. 11) that operates the shutter 31, (2) the shutter 31 opens, and (3) an open sensor (to the sensor 11 in FIG. 11). Equivalent) Shutter opening ends when ON (FIG. 12 (d)).

動作3では、つぎの複数の事象によって、ステージ32の取出しが行なわれる。(1)CY軸回転命令がモータ(図11のモータ13に相当)に出され、(2)CY軸36が回転動作してステージ32が反時計方向に回転し、(3)モータ動作完了によりCY軸回転が完了し、ステージ32が半回転して止り、カセット37をL字形ステージ32の一方の載置部から他方の載置部に移載して、LL室33の外に払い出す(図12(e))。   In the operation 3, the stage 32 is taken out by the following plurality of events. (1) A CY-axis rotation command is issued to the motor (corresponding to the motor 13 in FIG. 11), (2) the CY-axis 36 rotates and the stage 32 rotates counterclockwise, and (3) the motor operation is completed. The CY-axis rotation is completed, the stage 32 is half-rotated and stopped, the cassette 37 is transferred from one placement portion of the L-shaped stage 32 to the other placement portion, and is discharged out of the LL chamber 33 ( FIG. 12 (e)).

動作4では、つぎの複数の事象によって、図示しないAGVにカセット37を受け渡す。(1)AGVにカセット取出し要求をし、(2)AGVと装置間でカセット受渡し通信を開始し、(3)AGVと装置間でカセット受け渡し動作を開始し、(4)AGVと装置でカセット受け渡し動作を終了し、(5)AGVと装置間でカセット受け渡し通信が終了する(図13(a))。   In operation 4, the cassette 37 is delivered to the AGV (not shown) by the following plurality of events. (1) Request AGV to take out cassette, (2) Start cassette delivery communication between AGV and device, (3) Start cassette delivery operation between AGV and device, (4) Cassette delivery between AGV and device The operation is terminated, and (5) the cassette delivery communication is completed between the AGV and the apparatus (FIG. 13 (a)).

動作5では、つぎの複数の事象によって、次カセット払出しのためにステージ32が回転する。(1)CY軸回転命令が出され、(2)CY軸36が回転動作し、ステージ32が反転し、(3)モータ動作完了によりCY軸36の回転が完了し、ステージ32がLL室33に納まる(図13(b))。   In the operation 5, the stage 32 rotates for the next cassette payout due to the following plurality of events. (1) CY axis rotation command is issued, (2) CY axis 36 rotates, stage 32 reverses, (3) CY axis 36 rotates upon completion of motor operation, and stage 32 moves to LL chamber 33. (FIG. 13B).

動作6では、つぎの複数の事象によって、シャッタ31がクローズする。(1)シャッタクローズ命令が電磁弁に出され、(2)シャッタ31がクローズ動作し、LL室33を密閉し、(3)クローズセンサONによりシャッタ31のクローズが終了する(図13(c))。   In the operation 6, the shutter 31 is closed by the following plurality of events. (1) A shutter close command is issued to the solenoid valve, (2) the shutter 31 is closed, the LL chamber 33 is sealed, and (3) the closing of the shutter 31 is ended by the close sensor ON (FIG. 13C). ).

動作7では、つぎの複数の事象によって、LL室33をエバック(真空に到達するまで減圧処理することをいう)する。(1)LL室エバック命令が出され、(2)LL室33のエバック処理が実施され、(3)真空圧力センサONによりLL室33のエバックを完了する(図13(d))。   In the operation 7, the LL chamber 33 is evacuated (which means that the pressure is reduced until a vacuum is reached) by the following plurality of events. (1) An LL chamber evacuation command is issued, (2) evacuation processing of the LL chamber 33 is performed, and (3) evacuation of the LL chamber 33 is completed by the vacuum pressure sensor ON (FIG. 13 (d)).

動作8では、つぎの複数の事象によって、LL室33とロードロック室35との間のゲート34をオープンする。(1)ゲートオープン命令が電磁弁に出され、(2)ゲート34がオープン動作し、(3)オープンセンサONによりゲート34のオープンが終了して、LL室33とロードロック室35とが連通する(図14(a))。   In the operation 8, the gate 34 between the LL chamber 33 and the load lock chamber 35 is opened by the following plurality of events. (1) A gate open command is issued to the solenoid valve, (2) the gate 34 is opened, and (3) the opening of the gate 34 is completed when the open sensor is turned ON, so that the LL chamber 33 and the load lock chamber 35 communicate with each other. (FIG. 14A).

動作9では、つぎの複数の事象によって、ロードロック室35からLL室33に次カセット37が搬入される。(1)カセット搬入命令が出され、(2)カセット移載機により、ロードロック室35からLL室33へのカセット搬入動作に入り、(3)カセット37のLL室33へ搬入を完し、カセット37はL字形ステージ32の一方の載置部に移載される(図14(b))。   In operation 9, the next cassette 37 is carried from the load lock chamber 35 to the LL chamber 33 due to the following plurality of events. (1) A cassette loading command is issued, (2) the cassette transfer machine enters a cassette loading operation from the load lock chamber 35 to the LL chamber 33, and (3) completes loading of the cassette 37 into the LL chamber 33. The cassette 37 is transferred to one mounting portion of the L-shaped stage 32 (FIG. 14B).

動作10では、つぎの複数の事象によって、ゲート34をクローズする。(1)ゲートクローズ命令が出され、(2)ゲート34がクローズ動作に入り、(3)クローズセンサONによりゲートクローズが終了して、LL室33とロードロック室35との連通が遮断される(図14(c))。
動作10が終了すると、動作1に戻る。
In operation 10, the gate 34 is closed by the following plurality of events. (1) A gate close command is issued, (2) the gate 34 enters a close operation, and (3) the gate close is terminated by the close sensor ON, and the communication between the LL chamber 33 and the load lock chamber 35 is cut off. (FIG. 14 (c)).
When the operation 10 ends, the process returns to the operation 1.

上述したカセット払出し動作のような基板処理装置内で発生する複数の事象、ないし一動作を把握するために、実施の形態では、図2のブロックに示すような基板処理システムを構築している。基板処理システムは、オペレータの装置操作により動いて基板を処理する基板処理装置1と、装置周辺機器(生産ライン設置機器2)と、外部接続装置(外部ツール3)とを備える。外部ツール3は、基板処理装置1および生産ライン設置機器2と接続されている。通常、生産ライン設置機器2や外部ツール3とは通信で接続される。   In the embodiment, a substrate processing system as shown in the block of FIG. 2 is constructed in order to grasp a plurality of events or one operation that occurs in the substrate processing apparatus such as the cassette dispensing operation described above. The substrate processing system includes a substrate processing apparatus 1 that moves by an operator's apparatus operation to process a substrate, apparatus peripheral equipment (production line installation equipment 2), and an external connection device (external tool 3). The external tool 3 is connected to the substrate processing apparatus 1 and the production line installation device 2. Usually, the production line installation device 2 and the external tool 3 are connected by communication.

基板処理装置1は、半導体製造装置やLCD装置をいい、生産性が評価され基板を処理する産業用機器全般をいう。   The substrate processing apparatus 1 refers to a semiconductor manufacturing apparatus or an LCD apparatus, and refers to general industrial equipment that processes a substrate after productivity is evaluated.

生産ライン設置機器2とは、AGVシステム、ホストコンピュータ(デバイスメーカホストコンピュータ等)、測定器、基板処理装置が枚葉装置であれば、例えば、クラスタ状に配設される複数のモジュール(チャンバー)が独立して制御部を持ち、メインコントローラとの接続が必要な場合のモジュール等であって、装置と物品,情報のやりとりを行なう機器全般である。   The production line installation device 2 is, for example, a plurality of modules (chambers) arranged in a cluster if the AGV system, host computer (device manufacturer host computer, etc.), measuring instrument, and substrate processing apparatus are single wafer devices. Is a module that has an independent control unit and needs to be connected to the main controller, and is a general device that exchanges articles and information with the apparatus.

外部ツール3は、基板処理装置1内で発生する事象、または生産ライン設置機器2と基板処理装置1間の連動状況を示す事象を基板処理装置1を介して受け取るようになっている。また、外部ツール3は、生産ライン設置機器2内で発生する事象を、直接受け取るようにもなっている。これらの事象を受け取った外部ツール3は、後述するイベントを設定し、イベントデータの収集、蓄積、加工、表示を行うように構成されている。そのために、外部ツール3には、イベントデータの収集・蓄積・加工・表示用機器が設置される。   The external tool 3 is configured to receive, via the substrate processing apparatus 1, an event that occurs in the substrate processing apparatus 1 or an event that indicates an interlocking state between the production line installation device 2 and the substrate processing apparatus 1. In addition, the external tool 3 directly receives events that occur in the production line installation device 2. The external tool 3 that receives these events is configured to set events to be described later and to collect, store, process, and display event data. For this purpose, event data collection, storage, processing, and display devices are installed in the external tool 3.

外部ツール3は、例えば、図1に示すように、イベントコード設定手段51、データ形成手段52、記憶手段53、編集手段54、表示手段55から構成され、編集には、時間コード設定手段としての時間定義テーブル56、および期間設定手段としての期間定義テーブル57が用いられる。   For example, as shown in FIG. 1, the external tool 3 includes an event code setting unit 51, a data forming unit 52, a storage unit 53, an editing unit 54, and a display unit 55. For editing, the external tool 3 serves as a time code setting unit. A time definition table 56 and a period definition table 57 as period setting means are used.

事象コード設定手段51は、基板処理装置1内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象に予め事象コード(以下、イベントコードという)を設定して、イベントコードと事象との対応づけを行う。データ作成手段52は、イベントコードが設定された事象の各々が発生する時刻を、設定された事象と関連づけて、時刻、イベントコード、及び事象からなる事象データを作成する。時間定義テーブル56は、イベントコードに対応する所望の二つの事象を対応付けるようにしたり、該二つの事象間の動作の所要時間に、時間コードを設定して、時間コードと所要時間との対応付けを行う。期間定義テーブル57は、時間定義テーブル56で設定された時間コードを複数選択し動作名称を設定して、動作名称と前記複数の時間コードとの対応付けを行ったり、一動作が複数の事象間動作の組合わせからなり、一動作に要する総合時間を、前記複数の事象間動作の所要時間を加算した事象加工期間として設定したりする。記憶手段53は、編集された時間定義テーブルや期間定義テーブル、事象データ、時間コード、事象加工期間を記憶する。表示手段55は、事象データ、時間コード、事象加工期間を表示する。編集手段54は、イベントコード及びイベントコードに対応する事象、前記時間コード及び時間コードに対応する二つの事象間の動作、または一動作を構成する複数の事象間動作の組合わせ等を編集する。編集されたデータは、記憶手段53に保存する。   The event code setting means 51 sets an event code (hereinafter referred to as an event code) in advance for an event to be extracted from a plurality of events that occur in the substrate processing apparatus 1, and associates the event code with the event. Do. The data creation means 52 creates event data composed of the time, the event code, and the event by associating the time at which each of the events for which the event code is set occurs with the set event. The time definition table 56 associates two desired events corresponding to the event code, or sets a time code for the time required for the operation between the two events, and associates the time code with the required time. I do. The period definition table 57 selects a plurality of time codes set in the time definition table 56, sets operation names, associates the operation names with the plurality of time codes, or sets one operation between a plurality of events. It consists of a combination of actions, and the total time required for one action is set as an event processing period obtained by adding the time required for the plurality of actions between events. The storage means 53 stores the edited time definition table, period definition table, event data, time code, and event processing period. The display means 55 displays event data, a time code, and an event processing period. The editing unit 54 edits an event code and an event corresponding to the event code, an operation between the two events corresponding to the time code and the time code, or a combination of a plurality of inter-event operations constituting one operation. The edited data is stored in the storage means 53.

つぎに、上述した構成の作用を説明する。基板処理装置1が基板を処理するために動作すると、その動作にともなって基板処理装置1内に複数の事象が発生する。発生した複数の事象は、外部ツール3に送られる。事象コード設定手段51により、外部ツール3に送られた複数の事象の中から、予め設定した事象が抽出されて、この抽出された事象にイベントコードが付与される。   Next, the operation of the above-described configuration will be described. When the substrate processing apparatus 1 operates to process a substrate, a plurality of events occur in the substrate processing apparatus 1 along with the operation. The plurality of events that have occurred are sent to the external tool 3. The event code setting means 51 extracts a preset event from a plurality of events sent to the external tool 3, and assigns an event code to the extracted event.

データ作成手段52により、イベントコードが付与された事象と、該事象の各々が発生する時刻とが関連づけられた事象データが作成される。また、時間定義テーブル56を参照あるいは選択することにより、所望の二つのイベントコード間の時間に時間コードを付与することができる。期間定義テーブル57を参照あるいは選択することにより、一動作に要する総合時間が、複数の事象間動作の所要時間を加算した事象加工期間として設定することができる。前述した事象データ、時間コードは記憶手段53に記憶される。記憶手段53に記憶された事象データ及時間コードは、表示手段55によりそのまま表示されるか、編集手段54によって編集された後表示される。所望の二つのイベントコード間の所要時間に時間コードが付与されるので、時間コードから、事象の発生、変動、消滅が明らかとなり、これまで可視化出来なかった装置の動作の詳細を、基板処理装置1の外部ツール3で容易に把握することができる。   The data creation means 52 creates event data in which an event to which an event code is assigned is associated with the time at which each event occurs. Further, by referring to or selecting the time definition table 56, a time code can be given to the time between two desired event codes. By referring to or selecting the period definition table 57, the total time required for one operation can be set as an event processing period obtained by adding the time required for a plurality of inter-event operations. The aforementioned event data and time code are stored in the storage means 53. The event data and time code stored in the storage means 53 are displayed as they are by the display means 55 or after being edited by the editing means 54. Since a time code is given to the required time between two desired event codes, the occurrence, fluctuation, and disappearance of events are clarified from the time code, and details of the operation of the apparatus that could not be visualized so far are shown in the substrate processing apparatus. 1 can be easily grasped by the external tool 3.

つぎに、上述したイベントの定義、イベントの設定、イベントの収集・蓄積、加工データの表示について具体的に説明する。   Next, the event definition, event setting, event collection / accumulation, and processing data display will be described in detail.

イベントの定義
ここでイベントとは、基板処理装置1内部において発生する事象、または基板処理装置1の操作、生産ライン設置機器2との連動によって発生する事象を、その発生した時刻とともに記録されるものをいう。イベントにはその分類のために系統立てられたコードが付与されている。コードには一部イベントの属性を表す情報も含まれる。主たるイベント情報を図3に記す。
図3に示すように、1イベントは発生時刻、イベントコード、イベント名称から構成される。発生時刻は例えば[yy/mm/dd hh:mm:ss]で示される。イベントコードは、例えば8桁のコード[△△□□□○○○×××]で表され、△△は2桁の数字で示される属性コード、□□□は3桁の数字で示されるポジションコード、○○○は3桁の数字で示されるパーツコード、及び×××は3桁の数字で示されるシリアルナンバを意味する。
Definition of an event Here, an event is an event that is recorded in the substrate processing apparatus 1 or an event that occurs due to the operation of the substrate processing apparatus 1 or in conjunction with the production line installation equipment 2 along with the time at which the event occurred. Say. Events are given a systematic code for their classification. The code also includes information that represents some event attributes. The main event information is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, one event includes an occurrence time, an event code, and an event name. The occurrence time is indicated by, for example, [yy / mm / dd hh: mm: ss]. The event code is represented by, for example, an 8-digit code [△△ □□□ ○○○ ×××], where Δ △ is an attribute code represented by a 2-digit number, and □□□ is represented by a 3-digit number. Position code, XXX means a part code indicated by a three-digit number, and XXX means a serial number indicated by a three-digit number.

図3に示すように、属性コードはイベントの性格を定義する。ポジションコードはイベント発生箇所を定義する。パーツコードはセンサなどの部品を定義する。イベント名称は、基板処理装置1内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象に付けられた名称である。図示例では、L/L1ゲートオープンの例が示されている。これは複数ある予備室(L/L室)のうちの1番目の予備室(L/L1)のゲートがオープンしたことを意味する。
イベントコードを構成する属性コード、ポジションコード、パーツコード、シリアルナンバは、共に、ユーザもしくは装置によって定義可能なように開放してあり、使用目的により定義を変えることができるようになっている。したがって、稼働率といったマクロ的な動作を把握したいのか、それとも一動作の細かい動きを把握したいのかにより、定義を変えることができる。
As shown in FIG. 3, the attribute code defines the nature of the event. The position code defines the event occurrence location. The part code defines a part such as a sensor. The event name is a name given to an event to be extracted from a plurality of events that occur in the substrate processing apparatus 1. In the illustrated example, an example of L / L1 gate opening is shown. This means that the gate of the first spare chamber (L / L1) among the plurality of spare chambers (L / L chambers) has been opened.
The attribute code, position code, part code, and serial number constituting the event code are all open so that they can be defined by the user or the apparatus, and the definition can be changed depending on the purpose of use. Therefore, the definition can be changed depending on whether you want to understand the macro operation such as the operation rate or the detailed movement of one operation.

イベントの設定
上述した構成のイベントの設定は次のようになされる。基板処理装置1および生産ライン設置機器2において発生した事象は、その発生時点において外部ツール3に報告される。報告された事象は、それが抽出すべき事象である場合にのみ、外部ツール3が受付ける。外部ツール3は事象受付け時に、イベントコード設定手段51で抽出すべき事象に予め決められているイベントコードを設定する。また、データ形成手段52で、事象発生時間となる時刻を付与したイベントデータを形成して、外部ツール3内の記憶手段53に収集・蓄積(記録)する。イベントコードから、該イベントコードに対応する情報(発生時刻及びイベント名称)が取得できるようになる。
Event setting The event configuration described above is set as follows. Events occurring in the substrate processing apparatus 1 and the production line installation equipment 2 are reported to the external tool 3 at the time of occurrence. The reported event is accepted by the external tool 3 only if it is an event to be extracted. The external tool 3 sets a predetermined event code to an event to be extracted by the event code setting means 51 when receiving the event. Further, the data forming means 52 forms event data to which the time that is the event occurrence time is given, and collects and accumulates (records) it in the storage means 53 in the external tool 3. Information (occurrence time and event name) corresponding to the event code can be acquired from the event code.

イベントの収集・蓄積
図4に、この外部ツール3内の記憶手段53に記録される複数のイベントデータの記録状況を示す。イベントデータは、図示するように発生時刻、イベントコード、イベント名称からなるデータ構造をしている。記憶手段(イベントデータ収集用機器)53には、イベントデータがこの構造で、時系列に記録される。図示例のイベントデータは、前述したカセット払出し動作(一動作)を実行するための複数の動作のうち、最初の動作1〜動作3を示している。
Event Collection / Accumulation FIG. 4 shows the recording status of a plurality of event data recorded in the storage means 53 in the external tool 3. As shown in the figure, the event data has a data structure including an occurrence time, an event code, and an event name. In the storage means (event data collection device) 53, event data is recorded in time series in this structure. The event data in the illustrated example indicates the first operation 1 to operation 3 among a plurality of operations for executing the above-described cassette payout operation (one operation).

イベントデータの加工
記憶手段53に収集・蓄積されたイベントデータは、ユーザーの意図に従って作成されている時間定義テーブル56ないし期間定義テーブル57を参照あるいは参考にすることによって、編集手段54で所望の加工データに編集され、その編集結果が表示手段55に表示される。ユーザーは目的によりイベントデータをどのように加工するのかを設定することにより、意図する加工データを画面表示させ、情報を得ることが出来る。
イベントデータの加工方法を時間要素で設定するために、ここでは図5及び図6にそれぞれ示す時間定義テーブル56と期間定義テーブル57とを用いる。なお、これらの定義テーブル56、57は予め記憶手段53に登録しておく。
ここでテーブルの意味は、ユーザ(装置メーカを含む)が、目的の時間を実施し、生産性向上につながるために、イベントを定義して登録できるワークエリアという位置付けである。ユーザは例えば記憶手段53から「登録画面」を表示手段55に読み出して、「登録画面」からこのテーブルを構築し、外部ツール3の記憶手段53に「登録する」ことにより、容易に目的のツールを使うことができるようになる。ユーザはイベントコードの作成→時間定義テーブルの作成→期間定義テーブルの作成という順序で設定作業を勧める。
Event data processing The event data collected and stored in the storage means 53 is processed by the editing means 54 by referring to or referring to the time definition table 56 or the period definition table 57 created according to the user's intention. The data is edited and the editing result is displayed on the display means 55. By setting how the event data is processed according to the purpose, the user can display the intended processing data on the screen and obtain information.
In order to set the event data processing method by time elements, here, a time definition table 56 and a period definition table 57 shown in FIGS. 5 and 6 are used. These definition tables 56 and 57 are registered in the storage means 53 in advance.
Here, the meaning of the table is the positioning of a work area where the user (including the device manufacturer) can define and register an event in order to implement the target time and improve productivity. For example, the user reads the “registration screen” from the storage unit 53 to the display unit 55, constructs this table from the “registration screen”, and “registers” the storage unit 53 of the external tool 3, so that the target tool can be easily obtained. Can be used. The user recommends the setting work in the order of event code creation → time definition table creation → period definition table creation.

まず、図5に示す時間定義テーブル56について説明する。時間定義テーブル56は、所望の二つのイベント間に要する時間を、時間コードとして設定するものをいい、時間コードと前記所要時間との対応付けを行う。機能の運用方法が異なる場合にも対応できるようにするため、この定義テーブルは複数用意される。図示例の時間定義テーブルは、時間名称欄、計測開始イベントコード欄、計測終了イベントコード欄から構成される。時間コードが付与される名称欄に、二つのイベントや、二つのイベント間の所要時間に付けられるイベント間動作の名称が入力される。計測開始イベントコード欄と計測終了イベントコード欄とには、当該名称を定義するための、二つのイベントがそれぞれ入力される。ここでの入力イベント内容は、図4で説明したイベントコードとイベント名称の二つの項目であるが、さらに発生時刻を含ませてもよい。イベント間動作時間の名称欄の時間とは、計測開始イベントの発生から計測終了イベントの発生までと定義される。上述した時間コードは登録され、時間コードに対応する情報(イベント間動作時間名称、計測開始及び計測終了のイベントデータ)が取得できるようになる。このとき編集手段54は、計測開始から計測終了イベント間の所要時間を演算するようにし、時間定義テーブル56に所要時間欄を設け、二つのイベントを設定したときに演算させ、表示させるようにしてもよい。   First, the time definition table 56 shown in FIG. 5 will be described. The time definition table 56 is a table in which the time required between two desired events is set as a time code, and the time code is associated with the required time. A plurality of definition tables are prepared in order to be able to cope with cases where the operation methods of functions are different. The time definition table in the illustrated example includes a time name field, a measurement start event code field, and a measurement end event code field. In the name field to which a time code is assigned, two events and the name of an inter-event operation attached to the required time between the two events are entered. In the measurement start event code field and the measurement end event code field, two events for defining the name are respectively input. The contents of the input event here are the two items of the event code and the event name described in FIG. 4, but may further include the time of occurrence. The time in the name column of the operation time between events is defined as from the occurrence of the measurement start event to the occurrence of the measurement end event. The above-described time code is registered, and information corresponding to the time code (inter-event operation time name, measurement start and measurement end event data) can be acquired. At this time, the editing means 54 calculates the required time between the measurement start event and the measurement end event, and provides the required time column in the time definition table 56 so that it is calculated and displayed when two events are set. Also good.

時間コード1の場合を例にとって説明すると、L/L1シャッタオープン時間は、L/L1シャッタオープン命令が出てから、L/L1シャッタオープン動作終了までの所要時間となる。この時間定義テーブル56を用いることにより、時間コード1から、時間コード1に対応する上記シャッタオープン命令、シャッタオープン動作終了の二つのイベント情報(発生時刻を含む)の全てが取得できるようになる。   The case of the time code 1 will be described as an example. The L / L1 shutter open time is a time required from the L / L1 shutter open command to the end of the L / L1 shutter open operation. By using this time definition table 56, it is possible to acquire from the time code 1 all of the two event information (including the occurrence time) of the shutter open command and the shutter open operation end corresponding to the time code 1.

つぎに、図6に示す期間定義テーブル57について説明する。一動作は、複数のイベント間動作からなる一連の動作ないし動作情報をいう。一動作の総合時間は、登録した複数のイベント間動作に係る時間コードの時間データをすべて加算した時間と定義する。機能の運用方法が異なる場合にも対応できるようにするため、この定義テーブルも複数用意される。図示例の期間定義テーブルは、一動作名称欄、登録コード欄から構成される。一動作名称欄には一動作の名称が記入される。ここでは一動作名称としてカセット搬出動作に限定した名称が記入されているが、所望する一動作名称が記載される。登録コード欄には、複数の登録コード番号が記入され、各登録コード番号欄には、図5で説明した時間コードとイベント間動作時間名称が記入されている。登録コードから、登録コードに対応する時間コード、名称等の情報が取得できる。   Next, the period definition table 57 shown in FIG. 6 will be described. One operation refers to a series of operations or operation information including operations between a plurality of events. The total time of one operation is defined as a time obtained by adding all the time data of time codes related to a plurality of registered inter-event operations. A plurality of definition tables are also prepared in order to be able to cope with cases where the operation methods of functions are different. The period definition table in the illustrated example includes an operation name field and a registration code field. The name of one action is entered in one action name column. Here, a name limited to the cassette unloading operation is entered as one operation name, but the desired one operation name is described. In the registration code column, a plurality of registration code numbers are entered, and in each registration code number column, the time code and the inter-event operation time name described in FIG. 5 are entered. Information such as a time code and a name corresponding to the registration code can be acquired from the registration code.

図示例の「カセット搬出動作」は、L/L1カセット払出し動作と、タイムラグ時間詳細とからなる。L/L1カセット払出し動作や動作時間は、横の欄に記入されている時間コード2のL/L1ベント時間、時間コード1のL/L1シャッタオープン時間、時間コード6のL/L1ステージ取出し時間や、それら全てを加算した時間である。タイムラグ時間詳細は、時間コード3のL/L1ベント命令タイムラグ時間、時間コード4のL/L1大気戻しタイムラグ時間、L/L1真空引きタイムラグ時間や、それら全てを加算した時間である。期間定義テーブル57を用いることにより、複数の登録コードに対応する一動作の名称欄の「カセット搬出動作」のイベント情報(発生時刻を含む)の全てや、一動作の情報である時間定義テーブルに基づく総合時間、イベント間動作時間名称等が取得できるようになる。このとき、編集手段54は、選択された欄に記入された全ての時間や、一部の時間を組合わせ演算するようにできる。例えば、図6における時間コード2のL/L1ベント時間、時間コード1のL/L1シャッタオープン時間、時間コード6のL/L1ステージ取出し時間の全てを加算するようにし、期間定義テーブル57に所要時間欄を設け、登録コードを設定したときに演算させ、表示させるようにしてもよい。   The “cassette unloading operation” in the illustrated example includes an L / L1 cassette unloading operation and time lag time details. The L / L1 cassette payout operation and operation time are as follows: L / L1 vent time for time code 2, L / L1 shutter open time for time code 1, L / L1 stage takeout time for time code 6 Or the sum of all of them. The time lag time details are the time code 3 L / L1 vent command time lag time, the time code 4 L / L1 air return time lag time, the L / L1 evacuation time lag time, and the time obtained by adding all of them. By using the period definition table 57, all the event information (including the occurrence time) of “cassette unloading operation” in the name column of one operation corresponding to a plurality of registration codes and the time definition table which is information of one operation are stored. Based on the total time, the operation time name between events can be acquired. At this time, the editing means 54 can calculate all the times entered in the selected column or a part of the times. For example, the time code 2 L / L1 vent time, the time code 1 L / L1 shutter open time, and the time code 6 L / L1 stage extraction time in FIG. A time field may be provided and calculated when a registration code is set and displayed.

加工データの表示
定義テーブルに基づいて編集手段54でイベント加工された加工結果は、記憶手段53に記憶されるとともに、表示画面55に表示される。なお表示に代えて、あるいは表示とともに、プリントアウトしてもよい。
図7にそのようなイベント加工期間データ表示画面60を示す。図5及び図6と同様、表示内容はL/L1カセット払出し動作(一動作)に関するものであって、この一動作の総合時間を構成するL/L1ベント時間、L/L1シャッタオープン時間、L/L1ステージ取出し時間の総合時間に対する構成比、及び各時間コードの測定値を示している。測定値は自動的に複数回行なわれる。構成比は、期間定義テーブル57の定義時間の総和を分母にその百分率を表示する。各時間コードの時間が全体に占める割合を知ることにより、装置性能の改善、改良の目安にする。
Processing Data Display The processing result processed by the editing unit 54 based on the definition table is stored in the storage unit 53 and displayed on the display screen 55. In addition, it may print out instead of the display or together with the display.
FIG. 7 shows such an event processing period data display screen 60. Similar to FIGS. 5 and 6, the display contents relate to the L / L1 cassette payout operation (one operation), and the L / L1 vent time, L / L1 shutter open time, L constituting the total time of this one operation. The composition ratio of the / L1 stage take-out time with respect to the total time and the measured value of each time code are shown. Measurements are automatically made multiple times. The composition ratio is displayed as a percentage with the sum of the definition times in the period definition table 57 as the denominator. By knowing the ratio of each time code to the total time, it is possible to improve the performance of the apparatus and use it as a guide for improvement.

画面60のリセットボタン61は、ユーザによるリセット操作により時間の蓄積を初期化する。リセット操作により、リセット前の「現在測定中」のデータは「前回」にデータが移行する。画面の保存ボタン62は、ユーザによる保存操作により、画面に表示されているデータが、表示されていない「前回」以前のデータと共に記憶手段53に保存される。   A reset button 61 on the screen 60 initializes time accumulation by a reset operation by the user. As a result of the reset operation, the data “currently being measured” before resetting is transferred to “previous”. With the save button 62 on the screen, the data displayed on the screen is saved in the storage unit 53 together with the data before “previous” which is not displayed, by the saving operation by the user.

計測リセットトリガーイベント指定ボタン63は、ユーザによる指定操作によりトリガーイベントを登録して、イベントによる「リセット」操作を可能にする。この計測リセットトリガーイベント指定は、時間測定に際して、自動的に複数回の時間測定を行なうため、あるイベントの発生を期に、新たに計測開始とする仕組みである。例えば何回もカセットを払い出して、その各回の時間を連続的に計測したいようなとき、カセット払出し動作の開始イベントである「L/L1ベント命令」をトリガーイベントとすれば、1回毎のカセット払出し動作の時間が計測できる。L/L1ベント命令ではなく、例えば障害イベントをトリガーすれば、MTTRやMTBFを計測することができる。
ユーザにより機能の運用方法が異なるため、この画面は複数用意される。
計測リセットトリガーイベント指定ボタン63を押すと、図8の計測リセットトリガーイベント設定画面に移行する。図8は計測リセットトリガーイベント設定画面の例示である。計測リセットトリガーイベント設定画面はトリガー指定欄とイベント名称欄で構成され、このイベント名称欄での各イベント名称は、期間定義テーブルにて登録コードを構成するイベント名称が選択可能となっており、トリガーしたい所望のイベントのトリガー指定欄を選択することにより、設定が完了する。
The measurement reset trigger event designation button 63 registers a trigger event by a designation operation by the user, and enables a “reset” operation by the event. This measurement reset trigger event designation is a mechanism in which a new measurement is started at the occurrence of a certain event because time measurement is automatically performed a plurality of times. For example, when you want to pay out a cassette several times and want to measure the time of each time continuously, if the “L / L1 vent command”, which is the start event of the cassette payout operation, is used as the trigger event, the cassette for each time The time for payout operation can be measured. If, for example, a fault event is triggered instead of the L / L1 vent command, MTTR and MTBF can be measured.
Since the operation method of the function differs depending on the user, a plurality of this screen are prepared.
When the measurement reset trigger event designation button 63 is pressed, the screen shifts to the measurement reset trigger event setting screen shown in FIG. FIG. 8 is an example of a measurement reset trigger event setting screen. The measurement reset trigger event setting screen consists of a trigger designation field and an event name field. For each event name in this event name field, the event name that constitutes the registration code can be selected in the period definition table. The setting is completed by selecting the trigger designation column of the desired event to be performed.

上述したように、実施の形態によれば、基板処理装置1と外部ツール3とを備え、外部ツール3は、事象コード設定手段51とデータ作成手段52と時間定義テーブル56と期間定義テーブル57と記憶手段53と表示手段55と編集手段54とを備えることにより、基板処理装置1の動作や基板処理装置1の動作と生産ライン設置機器2との連動状況の時間的な情報を可視化するようにしたので、いままで可視化出来なかった装置の動作(例えば一動作にかかる時間や二つのイベント間の動作にかかる時間など)および生産ライン設置機器2との連動状況の詳細が把握でき、基板処理装置の性能向上、およびデバイスメーカは生産ラインの改善等を行う手掛かりとなると共に、実施施策の効果の確認も出来るようになる。   As described above, according to the embodiment, the substrate processing apparatus 1 and the external tool 3 are provided. The external tool 3 includes the event code setting unit 51, the data creation unit 52, the time definition table 56, and the period definition table 57. By providing the storage means 53, the display means 55, and the editing means 54, it is possible to visualize temporal information on the operation of the substrate processing apparatus 1 and the linkage status between the operation of the substrate processing apparatus 1 and the production line installation equipment 2. Therefore, it is possible to grasp the details of the operation of the device that could not be visualized until now (for example, the time required for one operation and the time required for the operation between two events) and the interlocking status with the production line installation equipment 2, and the substrate processing apparatus. As a result, the device manufacturer will be able to improve the production line, etc., and also be able to confirm the effect of the implementation measures.

なお、上述した実施の形態では、基板処理装置1の外部に設けられた外部ツール3を使用した場合について説明した。これによれば、装置メーカ、デバイスメーカ双方の問題解決のために使用、運用できる。しかし、本発明はこれに限定されない。例えば、外部ツール3に相当する制御部が基板処理装置1内に備っている場合には、その制御部に外部ツールと同じ機能をもたせることによっても本発明を実現することができる。これによれば、特に装置メーカの問題解決のために使用、運用できる。   In the above-described embodiment, the case where the external tool 3 provided outside the substrate processing apparatus 1 is used has been described. According to this, it can be used and operated for solving problems of both the device manufacturer and the device manufacturer. However, the present invention is not limited to this. For example, when a control unit corresponding to the external tool 3 is provided in the substrate processing apparatus 1, the present invention can also be realized by providing the control unit with the same function as the external tool. According to this, it can be used and operated particularly for solving problems of equipment manufacturers.

また、実施の形態では、イベントデータを編集する際に、時間定義テーブル及び期間定義テーブルを利用した場合について説明した、テーブルの形である必要はない。要するに、時間定義テーブルにあっては、事象コードに対応する所望の二つの事象間の動作や二つの事象間の所要時間に、時間コードを設定して、時間コードと二つの事象や所要時間との対応付けを行う時間コード設定手段であればよい。また、期間定義テーブルにあっては、一動作が複数の事象間動作の組合わせからなり、一動作に要する事象を対応付けるように設定したり、一動作に要する総合時間を、複数の事象間動作の所要時間を加算した事象加工期間として設定したりする期間設定手段であればよい。   In the embodiment, it is not necessary to use the table form described for the case where the time definition table and the period definition table are used when editing the event data. In short, in the time definition table, the time code is set to the operation between the two desired events corresponding to the event code and the required time between the two events. Any time code setting means for associating with each other may be used. Also, in the period definition table, one action consists of a combination of actions between events, and it is set to associate events required for one action, or the total time required for one action is set to multiple actions between events. Any period setting means may be used as long as it is set as an event processing period in which the required time is added.

また、基板処理装置としては、半導体製造装置、LCD製造装置を挙げられるが、本発明はこれらに限定されず、広く生産性が評価される産業機器全般に適用することも可能である。   Further, examples of the substrate processing apparatus include a semiconductor manufacturing apparatus and an LCD manufacturing apparatus, but the present invention is not limited to these, and can be applied to general industrial equipment whose productivity is widely evaluated.

実施の形態による外部ツールのブロック図である。It is a block diagram of the external tool by embodiment. 実施の形態による基板処理システムのブロック図である。1 is a block diagram of a substrate processing system according to an embodiment. 実施の形態による1イベントの構成図である。It is a block diagram of 1 event by embodiment. 実施の形態によるイベントデータの記録状況を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the recording condition of the event data by embodiment. 実施の形態による時間定義テーブルの説明図である。It is explanatory drawing of the time definition table by embodiment. 実施の形態による期間定義テーブルの説明図である。It is explanatory drawing of the period definition table by embodiment. 実施の形態によるイベント加工期間データ表示画面の説明図である。It is explanatory drawing of the event process period data display screen by embodiment. 実施の形態による計測リセットトリガーイベント設定画面を示す図である。It is a figure which shows the measurement reset trigger event setting screen by embodiment. 本発明に適用される処理装置の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the processing apparatus applied to this invention. 本発明に適用される処理装置の側面図である。It is a side view of the processing apparatus applied to this invention. 本発明に適用される半導体製造装置の制御系の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the control system of the semiconductor manufacturing apparatus applied to this invention. 実施の形態によるカセット払出し動作を実行するための説明図である。It is explanatory drawing for performing the cassette payout operation | movement by embodiment. 実施の形態によるカセット払出し動作を実行するための説明図である。It is explanatory drawing for performing the cassette payout operation | movement by embodiment. 実施の形態によるカセット払出し動作を実行するための説明図である。It is explanatory drawing for performing the cassette payout operation | movement by embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板処理装置
3 外部ツール(外部接続装置)
51 事象コード設定(設定手段)
52 データ作成手段
53 記憶手段
54 編集手段
55 表示手段
56 時間定義テーブル
57 期間定義テーブル
1 Substrate processing equipment 3 External tool (external connection equipment)
51 Event code setting (setting method)
52 Data creation means 53 Storage means 54 Editing means 55 Display means 56 Time definition table 57 Period definition table

Claims (4)

基板を処理する基板処理装置と該基板処理装置に接続される外部接続装置とを備え、
前記外部接続装置は、
前記基板処理装置内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象を予め設定する設定手段と、
前記抽出された事象の各々が発生する時刻を前記抽出された事象と関連づけてデータとして記憶する記憶手段と、
前記データを表示する表示手段と、
を有し、
前記基板処理装置が前記基板を処理するために動作すると、その動作に伴って前記基板処理装置に発生する複数の事象が前記外部接続装置に送信され、
前記外部接続装置は、前記複数の事象の中から予め設定された事象を抽出し、前記抽出された複数の事象の各々が発生する時刻と関連づけられたデータを表示する
ことを特徴とする基板処理システム。
A substrate processing apparatus for processing a substrate and an external connection device connected to the substrate processing apparatus;
The external connection device is:
Setting means for presetting the event to be extracted from a plurality of events occurring on the substrate processing apparatus,
Storage means for storing the time at which each of the extracted events occurs in association with the extracted events as data;
Display means for displaying the data;
I have a,
When the substrate processing apparatus operates to process the substrate, a plurality of events that occur in the substrate processing apparatus along with the operation are transmitted to the external connection device,
The external connection device extracts a preset event from the plurality of events, and displays data associated with a time at which each of the extracted events occurs. system.
基板を処理する基板処理装置に接続される外部接続装置であって、An external connection device connected to a substrate processing apparatus for processing a substrate,
前記基板処理装置内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象を予め設定する設定手段と、Setting means for presetting an event to be extracted from a plurality of events occurring in the substrate processing apparatus;
前記抽出された事象の各々が発生する時刻を前記抽出された事象と関連づけてデータとして記憶する記憶手段と、Storage means for storing the time at which each of the extracted events occurs in association with the extracted events as data;
前記データを表示する表示手段と、Display means for displaying the data;
を有し、Have
前記基板処理装置が前記基板を処理するために動作され、その動作に伴って前記基板処理装置に発生する複数の事象が送信されると、前記複数の事象の中から予め設定された事象を抽出し、前記抽出された複数の事象の各々が発生する時刻と関連づけられたデータを表示するWhen the substrate processing apparatus is operated to process the substrate and a plurality of events occurring in the substrate processing apparatus are transmitted along with the operation, a preset event is extracted from the plurality of events. And displaying data associated with the time at which each of the plurality of extracted events occurs.
ことを特徴とする外部接続装置。An external connection device characterized by that.
基板を処理する基板処理装置であって、A substrate processing apparatus for processing a substrate,
前記基板処理装置内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象を予め設定する設定Settings for presetting events to be extracted from a plurality of events occurring in the substrate processing apparatus
手段と、前記抽出された事象の各々が発生する時刻を前記抽出された事象と関連づけて時系列データとして記憶する記憶手段と、前記データを表示する表示手段と、を有する外部記憶装置に接続され、Connected to an external storage device comprising: means; storage means for storing time at which each of the extracted events occurs in association with the extracted events as time series data; and display means for displaying the data. ,
前記基板を処理するために動作すると、その動作に伴って前記基板処理装置に発生する複数の事象を送信し、前記複数の事象の中から予め設定された事象を前記外部記憶装置に抽出させ、前記抽出された複数の事象が発生する時刻と関連づけられたデータを前記外部記憶装置に表示させるWhen operating to process the substrate, send a plurality of events that occur to the substrate processing apparatus in accordance with the operation, let the external storage device extract a preset event from the plurality of events, Causing the external storage device to display data associated with the time at which the plurality of extracted events occur
ことを特徴とする基板処理装置。A substrate processing apparatus.
基板を処理する基板処理装置と該基板処理装置に接続される外部接続装置とを備える基板処理システムにより実施される基板処理システムの表示方法であって、A display method for a substrate processing system implemented by a substrate processing system comprising a substrate processing apparatus for processing a substrate and an external connection device connected to the substrate processing apparatus,
前記外部接続装置の設定手段が、前記基板処理装置内に発生する複数の事象の中から抽出すべき事象を予め設定する工程と、A step of setting in advance an event to be extracted from a plurality of events occurring in the substrate processing apparatus by the setting means of the external connection apparatus;
前記外部接続装置の記憶手段が、前記抽出された事象の各々が発生する時刻を前記抽出された事象と関連づけてデータとして記憶する工程と、Storing the time at which each of the extracted events occurs as data in association with the extracted events, the storage means of the external connection device;
前記外部接続装置の表示手段が、前記データを表示する工程と、A display means of the external connection device displaying the data;
前記基板処理装置が、前記基板を処理するために動作すると、その動作に伴って前記基板処理装置に発生する複数の事象を送信する工程と、When the substrate processing apparatus operates to process the substrate, a step of transmitting a plurality of events that occur in the substrate processing apparatus along with the operation;
前記外部接続装置が、前記複数の事象の中から予め設定された事象を抽出し、前記抽出された複数の事象の各々が発生する時刻と関連づけられたデータを表示する工程と、を有するThe external connection device extracting a preset event from the plurality of events and displaying data associated with a time at which each of the extracted events occurs.
ことを特徴とする基板処理システムの表示方法。A display method for a substrate processing system.
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