JP4597737B2 - Novel polyimide film, use thereof and production method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、フレキシブルプリント配線板、TAB用テープ、太陽電池用基板などの電気・電子機器基板用途や高密度記録媒体、磁気記録媒体に好適に用いられるポリイミドフィルムおよびその利用に関するものである。より具体的には、金属層を形成する工程、特に加熱しながら金属箔を積層する工程や、金属層をエッチングする工程を経ても、寸法変化率を小さくすることが可能であり、フィルムの全幅において物性値(寸法変化率)を安定化させることが可能なポリイミドフィルムに関するものである。   The present invention relates to a polyimide film suitably used for electric / electronic device substrates such as flexible printed wiring boards, TAB tapes, solar cell substrates, high-density recording media, and magnetic recording media, and uses thereof. More specifically, the dimensional change rate can be reduced even after the process of forming the metal layer, in particular, the process of laminating the metal foil while heating or the process of etching the metal layer, and the entire width of the film. It relates to a polyimide film capable of stabilizing physical property values (dimensional change rate).

エレクトロニクスの技術分野においては、益々高密度実装の要求が高くなっている。それに伴い、例えばフレキシブルプリント配線板(以下、FPCという)を用いる技術分野においても、高密度実装に対応できるような物性などが要求されてきている。   In the electronics technical field, there is an increasing demand for high-density mounting. Accordingly, for example, in the technical field using a flexible printed wiring board (hereinafter referred to as FPC), physical properties that can cope with high-density mounting have been required.

ここで、上記FPCの製造工程は、(1)ベースフィルムに金属を積層する工程(以下金属積層工程と称する)、(2)金属表面に所望のパターンの配線を形成する工程(以下配線形成工程と称する)に大別することができる。特に、高密度実装を想定したFPCの製造工程においては、ベースフィルムの寸法変化率が小さいことが望まれている。   Here, the manufacturing process of the FPC includes (1) a process of laminating a metal on a base film (hereinafter referred to as a metal laminating process), and (2) a process of forming a wiring having a desired pattern on the metal surface (hereinafter referred to as a wiring forming process). Can be broadly classified. In particular, in an FPC manufacturing process assuming high-density mounting, it is desired that the dimensional change rate of the base film is small.

上記金属積層工程および配線形成工程のうち、特に、ベースフィルムの寸法変化率が大きくなる段階は、(1)金属積層工程では、ベースフィルムを加熱しながら金属を積層する段階の前後であり、(2)配線形成工程では、金属をパターニングする際のエッチングの前後である。それゆえ、高密度実装を想定したFPCを製造する場合には、これらの段階の前後において、ベースフィルムの寸法変化率が小さいことが望まれている。   Among the metal laminating process and the wiring forming process, in particular, the stage where the dimensional change rate of the base film is increased is (1) the metal laminating process before and after the stage of laminating the metal while heating the base film, 2) In the wiring formation step, it is before and after etching when patterning the metal. Therefore, when manufacturing an FPC assuming high-density mounting, it is desired that the dimensional change rate of the base film is small before and after these stages.

ところで、FPCの製造においては、幅の広いベースフィルムをロールトゥロールで処理して金属層を積層している。それゆえ、当該ベースフィルムにおいては、その全幅(幅方向全体)においてその物性値が安定している、つまり、ベースフィルム全幅において寸法変化率が安定していることが望まれる。   By the way, in manufacture of FPC, the wide base film is processed with roll toe roll, and the metal layer is laminated | stacked. Therefore, in the base film, it is desired that the physical property value is stable in the entire width (the entire width direction), that is, the dimensional change rate is stable in the entire width of the base film.

上記ベースフィルムとしては、ポリイミド樹脂を主成分とするポリイミドフィルムが好適に用いられる。このように、ベースフィルムとして用いられるポリイミドフィルムにおいては、その寸法変化率を制御する目的で、さまざまな技術が提案されている。   As said base film, the polyimide film which has a polyimide resin as a main component is used suitably. Thus, in the polyimide film used as a base film, various techniques have been proposed for the purpose of controlling the dimensional change rate.

一方、特許文献1〜5には、組成、厚み、引張弾性率、引裂き伝播抵抗値を規定したポリイミドフィルムが開示されている。   On the other hand, Patent Documents 1 to 5 disclose polyimide films that define the composition, thickness, tensile elastic modulus, and tear propagation resistance value.

しかし、特許文献1〜5はいずれも、本発明で開示する、分子配向軸の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dが、特定の関係を満足するフィルムについては記載されていない。また、基板への実装時などにおけるハンドリング性および打ち抜き性を向上させることを目的としており、例えば、フィルムに連続的に金属を積層する工程や、金属層をエッチングして配線を形成する工程を経た場合の寸法変化の発生を抑制することが不充分となる場合がある。また、ポリイミドフィルム端部と中央部位での寸法変化量が異なり、その結果、フィルム全幅において寸法変化率を安定化させることが困難な場合があった。   However, Patent Documents 1 to 5 all disclose a film disclosed in the present invention in which the tear propagation resistance value c of the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis satisfy a specific relationship. Is not listed. In addition, the purpose is to improve handling and punching properties when mounted on a substrate, for example, a process of continuously laminating a metal on a film or a process of forming a wiring by etching a metal layer. In some cases, it is insufficient to suppress the occurrence of dimensional changes. In addition, the amount of dimensional change between the end portion of the polyimide film and the central portion is different, and as a result, it may be difficult to stabilize the dimensional change rate over the entire width of the film.

ところで、一般にポリイミドフィルムはテンター炉方式と呼ばれるフィルム端部をクリップもしくはピンシートで把持してフィルムを高温炉内に搬送して焼成する製造方法が用いられている。しかし、テンター炉方式を用いてポリイミドフィルムを製造する場合には、例えば非特許文献1〜2記載の分子配向の異方性(通常ボーイング現象と呼ばれる)と同様の現象がポリイミドフィルムの製造過程においても発生し、フィルム端部(特に、フィルム把持装置から約50cm以内の部分)に分子配向の異方性が発生する。異方性が発現すると、例えば熱膨張係数の差異や寸法変化の差異がフィルム幅方向において発生する。   By the way, a manufacturing method is generally used in which a polyimide film is called a tenter furnace method in which a film end is held by a clip or a pin sheet, and the film is conveyed into a high temperature furnace and baked. However, when a polyimide film is manufactured using a tenter furnace method, for example, a phenomenon similar to the anisotropy of molecular orientation described in Non-Patent Documents 1 and 2 (usually referred to as a bowing phenomenon) occurs in the polyimide film manufacturing process. And anisotropy of molecular orientation occurs at the film edge (particularly, within a portion within about 50 cm from the film gripping device). When anisotropy develops, for example, a difference in thermal expansion coefficient or a difference in dimensional change occurs in the film width direction.

また、本発明者らは、ポリイミドフィルムの分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向(これを便宜上垂直方向ということがある)の引裂き伝播抵抗値dの比が特定の範囲内となっているポリイミドフィルムであれば、フィルムに連続的に金属を積層する工程や、金属層をエッチングして配線を形成する工程を経た場合の寸法変化率が小さく、あるいは、全幅において寸法変化率を安定化させることが可能であることを見出した。
特開平11−246685 0009 特開2000−244083 0010、0011 特開2000−198969 0009、0010 特開2000−208563 0008、0009 特開2000−208564 0008、0009 坂本國輔著、高分子論文集,Vol.48,No.11,671〜678(1991年) 野々村千里他著、成形加工,第4巻,第5号,312〜317(1992年)
Further, the present inventors specify the ratio of the tear propagation resistance value c in the molecular orientation axis direction of the polyimide film to the tear propagation resistance value d in a direction perpendicular to the molecular orientation axis (sometimes referred to as a vertical direction for convenience). If the polyimide film is within the range, the rate of dimensional change is small when the process of laminating metal continuously on the film, the process of etching the metal layer to form the wiring, or at the full width It has been found that the dimensional change rate can be stabilized.
JP-A-11-246685 0009 JP 2000-244083 0010, 0011 JP 2000-198969 0009, 0010 JP 2000-208563 0008, 0009 JP 2000-208564 0008, 0009 Sakamoto Kunisuke, Polymer Papers, Vol. 48, No. 11, 671-678 (1991) Norimura Chisato et al., Molding, Vol. 4, No. 5, 312-317 (1992)

これまで知られているポリイミドフィルムでは、フィルムに金属を積層する工程や、金属層をエッチングして配線を形成する工程を経た場合の寸法変化率を小さくすること、あるいは、全幅において寸法変化率を安定化させることが困難な場合があった。また、ポリイミドフィルムをベースフィルムとしてFPCを製造する工程、例えば、ベースフィルムに金属を積層する工程、金属表面に所望のパターンの配線を形成する工程の前後において、寸法変化が小さく、特に、広幅のベースフィルムをロールトゥロールで処理して金属を積層して製造しても、フィルムの全幅において寸法変化率が安定しているポリイミドフィルムは得られていなかった。そこで、このような課題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。   In the polyimide film known so far, the dimensional change rate when the metal is laminated on the film, the metal layer is etched and the wiring is formed, or the dimensional change rate is reduced over the entire width. In some cases, it was difficult to stabilize. In addition, before and after the process of manufacturing an FPC using a polyimide film as a base film, for example, the process of laminating a metal on the base film and the process of forming a wiring with a desired pattern on the metal surface, the dimensional change is small. Even when the base film is processed by roll-to-roll and laminated with metal, a polyimide film having a stable dimensional change rate over the entire width of the film has not been obtained. Therefore, as a result of intensive studies to solve such problems, the present invention has been achieved.

本発明は、以下の新規なポリイミドフィルムおよびこれを用いた積層体によって上記課題を解決しうる。
1)連続的に生産されるポリイミドフィルムであって、その全幅において、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dとを測定したときに、引裂き伝播抵抗値比d/cが1.01以上1.20以下となっており、かつ、引裂き伝播抵抗値比d/cの最大値と最小値の差が0.10以下となっていることを特徴とするポリイミドフィルム。
2)さらに、全幅において、ポリイミドフィルムの分子配向角の最大値と最小値の差が40°以下となっていることを特徴とする1)記載のポリイミドフィルム。
3)さらに、全幅において、ポリイミドフィルムの分子配向角が、連続的に製造されるときの搬送方向(MD方向)を0°としたときに、0±20°以内となっていることを特徴とする請求項1)または2)記載のポリイミドフィルム
4)1)〜3)の何れか一項に記載のポリイミドフィルムを含む積層体。
5)さらに、少なくとも金属層を含むことを特徴とする4)に記載の積層体。
6)1)〜2)の何れか1項に記載のポリイミドフィルムをベースフィルムとして用いてなるフレキシブルプリント配線板。
This invention can solve the said subject with the following novel polyimide films and a laminated body using the same.
1) Continuously produced polyimide film, and when the tear propagation resistance value c in the direction of the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis are measured over the entire width, The propagation resistance value ratio d / c is 1.01 or more and 1.20 or less, and the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio d / c is 0.10 or less. Characteristic polyimide film.
2) Further, the polyimide film according to 1), wherein the difference between the maximum value and the minimum value of the molecular orientation angle of the polyimide film is 40 ° or less over the entire width.
3) Further, in the full width, the molecular orientation angle of the polyimide film is within 0 ± 20 ° when the transport direction (MD direction) when continuously produced is 0 °. A laminate comprising the polyimide film according to any one of claims 1) to 2).
5) The laminate according to 4), further comprising at least a metal layer.
6) A flexible printed wiring board using the polyimide film according to any one of 1) to 2) as a base film.

本発明のポリイミドフィルムは、連続的に生産されるポリイミドフィルムであって、その全幅において、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dとを測定したときに、引裂き伝播抵抗値比d/cが1.01以上1.20以下となっていることを特徴とするポリイミドフィルムである。   The polyimide film of the present invention is a continuously produced polyimide film, and the tear propagation resistance value c in the direction of the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis are measured over the entire width. The polyimide film is characterized by having a tear propagation resistance value ratio d / c of 1.01 or more and 1.20 or less.

このフィルムによって、例えば、ポリイミドフィルムをFPCのベースフィルムとして用いた場合に、金属層を積層し、エッチング処理をした前後において発生する寸法変化率を小さいものとし、全幅において寸法変化率を安定化させることができる。その結果、例えば、得られるFPCを、高密度実装が可能な高品質なものとすることができるという効果を奏する。   With this film, for example, when a polyimide film is used as an FPC base film, the dimensional change rate generated before and after the metal layer is laminated and etched is reduced, and the dimensional change rate is stabilized over the entire width. be able to. As a result, for example, there is an effect that the obtained FPC can be of high quality capable of high-density mounting.

本実施の形態では、本発明にかかるポリイミドフィルムの概要、当該ポリイミドフィルムの製造方法の代表例、並びに、当該ポリイミドフィルムの利用の順で、本発明を詳細に説明する。   In the present embodiment, the present invention will be described in detail in the order of the outline of the polyimide film according to the present invention, a representative example of the method for producing the polyimide film, and the use of the polyimide film.

(I)本発明にかかるポリイミドフィルム
本発明にかかるポリイミドフィルムは、FPCのベースフィルムとして好適に用いられるものであり、金属層を積層しエッチング処理をした前後における寸法変化率が小さいものとなっている。特に、その全幅において寸法変化率が安定化したポリイミドフィルムとなっている。
(I) Polyimide film according to the present invention The polyimide film according to the present invention is suitably used as an FPC base film, and has a small dimensional change rate before and after the metal layer is laminated and etched. Yes. In particular, the polyimide film has a dimensional change rate stabilized over its entire width.

一般には、FPCを製造するときには、金属を積層した金属積層板(以下CCLと称する)のエッチング加工前後、加熱処理前後における寸法変化率を予め測定しておき、その値をもとに補正係数が設定される。   In general, when manufacturing an FPC, a dimensional change rate before and after etching processing of a metal laminated plate (hereinafter referred to as CCL) laminated with metal is measured in advance, and a correction coefficient is calculated based on the measured value. Is set.

ここで、CCLの寸法変化率が全幅において安定していれば、CCLの全幅において同一の補正係数を用いて寸法変化量を予測することが可能となる。そのため、上述したようなFPC製造工程において、加熱工程を経たときの寸法変化量やエッチング後の寸法変化量を予め予測することができる。その結果、例えば、CCLの金属層に金属配線を形成する際に、パターン配線を形成しやすくなり、歩留まりが向上するほか、パターン配線の接続の信頼性を向上させることが可能になり、FPCの品質の向上、収率向上等に広く貢献することができる。   Here, if the dimensional change rate of the CCL is stable over the entire width, the dimensional change amount can be predicted using the same correction coefficient over the entire CCL width. Therefore, in the FPC manufacturing process as described above, it is possible to predict in advance the dimensional change amount after the heating process and the dimensional change amount after etching. As a result, for example, when forming the metal wiring on the metal layer of the CCL, it becomes easier to form the pattern wiring, the yield is improved, and the connection reliability of the pattern wiring can be improved. It can contribute widely to quality improvement and yield improvement.

しかしながら、寸法変化率がフィルムの場所によりばらつく場合には、同一の補正係数を用いて寸法変化量を推定し、FPCを製造することが困難になる。そのため、CCLの寸法変化率の安定した部位だけを選別して使用する、もしくは、CCLの寸法変化率に特に影響を及ぼすポリイミドフィルムの物性値が安定した部位だけを選別して使用することが必要となり、この方法では廃棄部位が増えるため歩留まりが悪い。   However, when the rate of dimensional change varies depending on the location of the film, it is difficult to estimate the amount of dimensional change using the same correction coefficient and manufacture an FPC. Therefore, it is necessary to select and use only the part where the dimensional change rate of CCL is stable, or to select and use only the part where the physical property value of the polyimide film which has a particular influence on the dimensional change rate of CCL is stable. In this method, the number of waste sites increases, so the yield is poor.

上記のプロセスを経ても、寸法変化率が小さく、全幅における寸法変化率のばらつきを小さく制御するには、少なくとも、ポリイミドフィルムの全幅において、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dとを測定したときに、引裂き伝播抵抗値比d/cを所定範囲内に規定する、そして、当該引裂き伝播抵抗値比の最大値・最小値の差の上限を規定する、という条件を満たしており、好ましくは、ポリイミドフィルムの全幅における分子配向角に関して規定する、という条件を満たすようになっている。   In order to control the dimensional change rate to be small and to control the variation of the dimensional change rate over the entire width even after the above-described process, at least the tear propagation resistance value c in the molecular orientation axis direction and the molecular orientation axis in the full width of the polyimide film. When the tear propagation resistance value d in the vertical direction is measured, the tear propagation resistance value ratio d / c is defined within a predetermined range, and the upper limit of the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio Is satisfied, and preferably, the condition is satisfied regarding the molecular orientation angle in the full width of the polyimide film.

これにより得られるポリイミドフィルムにおいては、優れた寸法安定性を発揮することが可能となり(後述する実施例、特に寸法変化率を参照)、FPCのベースフィルム等として好適に用いることが可能となる。   In the polyimide film obtained by this, it becomes possible to exhibit the outstanding dimensional stability (refer the Example mentioned later, especially a dimensional change rate), and it can use suitably as a base film etc. of FPC.

さらに、本発明のポリイミドフィルムは、各種接着材料を介して連続的に金属箔を加熱・圧着することにより貼りあわせる熱ロールラミネート方式で張り合わせた場合の圧着前後での寸法変化率を小さく制御することもできる。さらには、ポリイミドフィルムを真空装置内で加熱しながらスパッタリング装置や真空蒸着装置で金属を直接に積層した後に、電解メッキ法を用いて金属を積層する方法(PVD法)においてその金属層をエッチング処理した後の寸法変化率を小さく制御することもできる。熱ロールラミネート方式で、金属箔を張り合わせる場合は、材料は張力がかけられた状態で加熱環境下に置かれることが多く、これに起因して寸法変化率が問題となることがあると考えられる。同様に、PVD法においても金属を積層する際に加熱しながら金属を積層する場合には、材料は張力がかけられた状態で加熱環境下に置かれることが多く、これに起因して寸法変化率が問題があると考えられる。そこで、本発明の特定のポリイミドフィルムを用いれば、寸法変化率を小さく、かつ、全幅において寸法変化率の量を安定化させることができる。   Furthermore, the polyimide film of the present invention can control the rate of dimensional change before and after pressure bonding when bonded by a hot roll laminating method in which metal foils are bonded by heating and pressure bonding continuously through various adhesive materials. You can also. Furthermore, after heating the polyimide film in a vacuum device and directly laminating the metal with a sputtering device or a vacuum vapor deposition device, the metal layer is etched by a method of laminating the metal using an electrolytic plating method (PVD method). It is also possible to control the dimensional change rate after the reduction. When laminating metal foils with the hot roll laminating method, the material is often placed in a heated environment under tension, and this may cause a problem of dimensional change. It is done. Similarly, in the PVD method, when a metal is laminated while heating the metal, the material is often placed in a heated environment under tension, resulting in dimensional changes. The rate seems to be problematic. Therefore, if the specific polyimide film of the present invention is used, the dimensional change rate can be reduced and the dimensional change rate can be stabilized over the entire width.

以下、これら条件について具体的に説明する。     Hereinafter, these conditions will be specifically described.

<分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dおよび、引裂き伝播抵抗値比d/c>
本発明にかかるポリイミドフィルムは、連続的に生産されるものであって、当該ポリイミドフィルムの全幅において、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dとを測定したときに、引裂き伝播抵抗値比d/cが1.01以上1.20以下となっており、さらに好ましくは1.01以上、1.15以下となっている。
<Tear propagation resistance value c in the direction of molecular orientation axis, tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis, and tear propagation resistance value ratio d / c>
The polyimide film according to the present invention is continuously produced, and the tear propagation resistance value c in the direction perpendicular to the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis are obtained over the entire width of the polyimide film. The tear propagation resistance value ratio d / c is 1.01 or more and 1.20 or less, more preferably 1.01 or more and 1.15 or less.

上記「全幅」とは、本発明にかかるポリイミドフィルムにおいて、連続的に製造されるときの搬送方向(MD方向)に垂直な方向(幅方向、TD方向)の全体を指すものとする。全幅における物性値(引裂き伝播抵抗値他)の具体的な測定方法は特に限定されるものではないが、後述する実施例に示すように、TD方向に沿って、ポリイミドフィルムの両端部および中央部の計3箇所について物性値を測定し、これら測定値を比較したり利用したりすればよい。   The above-mentioned “full width” refers to the entire direction (width direction, TD direction) perpendicular to the transport direction (MD direction) when continuously produced in the polyimide film according to the present invention. Although the specific measurement method of the physical property value (tear propagation resistance value etc.) in the full width is not particularly limited, as shown in the examples described later, both end portions and the central portion of the polyimide film along the TD direction. The physical property values may be measured at a total of three locations, and these measured values may be compared or used.

通常、テンター炉方式を用いてフィルム(ポリイミドフィルム)を製造すると、フィルムの収縮に伴う応力がフィルムの端部に集中するために、端部の物性値が中央部の物性値と大きく異なることがある。そのため、両端部と中央部との物性値をそれぞれ測定することで、フィルムの全幅の物性値を表現していると考えることは妥当である。   Normally, when a film (polyimide film) is manufactured using a tenter furnace method, the stress due to film shrinkage concentrates on the edge of the film, so that the physical property value of the edge portion is significantly different from the physical property value of the central portion. is there. Therefore, it is reasonable to consider that the physical property values of the entire width of the film are expressed by measuring the physical property values at both ends and the central portion.

本発明における連続的に生産されるポリイミドフィルムは、幅方向に200mm以上、長尺方向に20m以上の長さを有するポリイミドフィルムであるときに、発明の効果が顕著となる。幅方向の広いフィルムであるほど発明の効果が顕著であり、さらに好ましくは250mm以上、特に好ましくは500mm以上である。尚、本発明における連続的に生産されたポリイミドフィルムとは、上記幅で製造後にフィルムの幅方向及び長さ方向にある一定の値でスリットされたフィルムも含まれる。   When the polyimide film continuously produced in the present invention is a polyimide film having a length of 200 mm or more in the width direction and 20 m or more in the longitudinal direction, the effect of the invention becomes remarkable. The wider the film in the width direction, the more remarkable the effect of the invention, and the more preferable is 250 mm or more, and particularly preferable is 500 mm or more. In addition, the polyimide film produced continuously in the present invention includes a film slit with a certain value in the width direction and the length direction of the film after the manufacture with the above width.

上記分子配向軸とは、ポリイミドフィルムのMD方向をY軸、フィルムのTD方向をX軸として、当該ポリイミドフィルムのXY平面上で見たときに、最も分子配向度が大きい方向を指す。分子配向軸の測定は、汎用の測定装置であればどのような装置を用いても良く、特に限定されるものではない。例えば、本発明では、実施例でも例示するように、王子計測機器株式会社製の分子配向計、商品名:MOA2012Aまたは商品名:MOA6015を用いて測定を行うことができる。   The molecular orientation axis refers to the direction with the highest degree of molecular orientation when viewed on the XY plane of the polyimide film, where the MD direction of the polyimide film is the Y axis and the TD direction of the film is the X axis. The measurement of the molecular orientation axis may be any device as long as it is a general-purpose measuring device, and is not particularly limited. For example, in the present invention, measurement can be performed using a molecular orientation meter manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., trade name: MOA2012A or trade name: MOA6015 as exemplified in the examples.

本発明における、ポリイミドフィルムの分子配向軸方向の引き裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直方向の引裂き伝播抵抗値dを測定するには、まず、分子配向軸を上記装置にて決定する。分子配向軸の測定には、ポリイミドフィルムの幅方向の両端部および中央部位から測定用サンプル(40mm×40mm)を採取し、当該測定用サンプルについて分子配向軸の測定を行う。尚、フィルムの巾が狭い場合にはそれぞれのサンプルをMD方向にずらしながらサンプリングすることが好ましい。例えばフィルム巾が100mmの場合には図1のようにMD方向にずらしながらサンプリングすることが好ましい。   In order to measure the tear propagation resistance value c in the molecular orientation axis direction of the polyimide film and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis in the present invention, first, the molecular orientation axis is determined by the above apparatus. For the measurement of the molecular orientation axis, a measurement sample (40 mm × 40 mm) is taken from both ends and the central part in the width direction of the polyimide film, and the molecular orientation axis is measured for the measurement sample. When the film width is narrow, it is preferable to sample each sample while shifting it in the MD direction. For example, when the film width is 100 mm, sampling is preferably performed while shifting in the MD direction as shown in FIG.

本発明における、ポリイミドフィルムの分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に直交する方向(便宜上、垂直方向と称する)の引裂き伝播抵抗値dを測定するには、ポリイミドフィルムの幅方向の両端部および中央部位から測定用サンプル(40mm×40mm)を採取し、当該測定用サンプルについて分子配向軸の測定を行い、分子配向軸を求める。次に、当該測定用サンプルを用いて、図2のように分子配向軸方向(図2の20)と分子配向軸に垂直な方向(図2の23)にそれぞれ切り出し(図2の21および22)を行い、切り出した試験片(10mm×20mm)について引裂き伝播抵抗値を測定することで求められる。なお、引裂き伝播抵抗値は、切り出した試験片についてASTM D1938に準拠して測定を行う。   In the present invention, the tear propagation resistance value c in the molecular orientation axis direction of the polyimide film and the tear propagation resistance value d in a direction perpendicular to the molecular orientation axis (referred to as a vertical direction for convenience) are measured in the width direction of the polyimide film. Samples for measurement (40 mm × 40 mm) are collected from both ends and the central part of the sample, and the molecular orientation axis of the measurement sample is measured to obtain the molecular orientation axis. Next, using the measurement sample, as shown in FIG. 2, cut out in the molecular orientation axis direction (20 in FIG. 2) and the direction perpendicular to the molecular orientation axis (23 in FIG. 2) (21 and 22 in FIG. 2). ) And measuring the tear propagation resistance value for the cut specimen (10 mm × 20 mm). The tear propagation resistance value is measured according to ASTM D1938 for the cut specimen.

本発明では寸法変化率を小さくするには、ポリイミドフィルムの分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dを用いて下記算出式(1)を用いて算出した場合に、引裂き伝播抵抗値比が1.01以上1.20以下であることが好ましい。さらに好ましくは1.01以上、1.15以下である。
引裂き伝播抵抗値比=d/c・・・(1)
ポリイミドフィルムの引裂き伝播抵抗値比を上記範囲内に制御することでポリイミドフィルムの寸法変化率を小さく抑えることが可能なり、また、フィルムの全幅において寸法変化率が安定するので好ましい。
In the present invention, in order to reduce the dimensional change rate, the following equation (1) is used by using the tear propagation resistance value c in the molecular orientation axis direction of the polyimide film and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis. When calculated, the tear propagation resistance value ratio is preferably 1.01 or more and 1.20 or less. More preferably, they are 1.01 or more and 1.15 or less.
Tear propagation resistance value ratio = d / c (1)
By controlling the tear propagation resistance value ratio of the polyimide film within the above range, the dimensional change rate of the polyimide film can be kept small, and the dimensional change rate is stable over the entire width of the film, which is preferable.

さらに、本発明では、引裂き伝播抵抗値比の最大値と最小値の差が0.10以下であることが、寸法変化率を小さくできるだけでなく、フィルムの幅方向での物性値(寸法変化率)のバラツキを小さくできるという点から好ましい。本発明における最大値と最小値の差が0.10以下とは、ポリイミドフィルムの両端部の引裂き伝播抵抗値比と中央部の引裂き伝播抵抗値比の中で最も大きな値と最も小さな値の差を下記算出式(2)より算出した値を意味する。
引裂き伝播抵抗値比の最大値と最小値の差=引裂き伝播抵抗値比の最大値−引裂き伝播抵抗値比の最小値・・・(2)
このように、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dを規定する、さらには、引裂き伝播抵抗値比d/cを規定することによって、CCLの寸法変化率が全幅において安定し、FPC製造工程において、加熱工程を経たときの寸法変化量やエッチング後の寸法変化量を予め予測することができる。その結果、例えば、CCLの金属層に金属配線を形成する際に、パターン配線を形成しやすくなる。
Furthermore, in the present invention, the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio is not more than 0.10, not only can the dimensional change rate be reduced, but also the physical property values (dimensional change rate) in the width direction of the film. ) Is preferable in that the variation can be reduced. The difference between the maximum value and the minimum value in the present invention is 0.10 or less means that the difference between the largest value and the smallest value among the tear propagation resistance value ratio at both ends of the polyimide film and the tear propagation resistance value ratio at the center portion. Is a value calculated from the following calculation formula (2).
Difference between maximum value and minimum value of tear propagation resistance value ratio = maximum value of tear propagation resistance value ratio−minimum value of tear propagation resistance value ratio (2)
Thus, by defining the tear propagation resistance value c in the direction of the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis, and further by defining the tear propagation resistance value ratio d / c, CCL The dimensional change rate is stable over the entire width, and the dimensional change amount after the heating step and the dimensional change amount after etching can be predicted in advance in the FPC manufacturing process. As a result, for example, when the metal wiring is formed on the metal layer of the CCL, the pattern wiring is easily formed.

さらに、ポリイミドフィルムをベースフィルムとして、金属積層板を製造する方法として、例えば、ポリイミドフィルムに接着剤を塗布した後に、金属箔との熱圧着処理を施す方法(熱ラミネート法)や、ポリイミドフィルムを真空装置内で加熱しながらスパッタリング装置や真空蒸着装置で金属を直接に積層した後に、電解メッキ法を用いて金属を積層する方法(PVD法)が挙げられる。この方法では、熱圧着時にポリイミドフィルムのMD方向には、熱圧着装置により延伸され、TD方向には収縮する。このように、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dを規定する、さらには、引裂き伝播抵抗値比d/cを規定することができれば、熱ラミネート法やPVD法により金属積層板を製造する際、ポリイミドフィルムの全幅に対して均一なテンションがMD方向に沿ってかかる。これにより、加熱下で引っ張られた場合、フィルムの両端部の伸び率が異なることが原因で発生する、フィルムの片伸びや、フィルムのカールも抑制することができる。従って、特に熱ラミネート法やPVD法を用いた場合の、寸法変化率を小さくし、かつ全幅において寸法変化率を安定化させることが可能となる。   Furthermore, as a method for producing a metal laminate using a polyimide film as a base film, for example, a method of applying a thermocompression treatment with a metal foil after applying an adhesive to the polyimide film (thermal lamination method), or a polyimide film There is a method (PVD method) in which a metal is directly laminated by a sputtering apparatus or a vacuum vapor deposition apparatus while being heated in a vacuum apparatus, and then the metal is laminated by using an electrolytic plating method. In this method, the polyimide film is stretched in the MD direction by a thermocompression bonding apparatus and contracted in the TD direction during thermocompression bonding. Thus, if the tear propagation resistance value c in the direction of the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis can be defined, and further, the tear propagation resistance value ratio d / c can be defined, When a metal laminate is manufactured by a thermal lamination method or a PVD method, a uniform tension is applied along the MD direction with respect to the entire width of the polyimide film. Thereby, when it is pulled under heating, it is possible to suppress the half-elongation of the film and the curl of the film, which are caused by the difference in the elongation rates at both ends of the film. Therefore, it is possible to reduce the dimensional change rate and stabilize the dimensional change rate over the entire width, particularly when the thermal lamination method or the PVD method is used.

<分子配向角・分子配向角差>
本発明にかかるポリイミドフィルムは、上記引裂き伝播抵抗値比および引裂き伝播抵抗値比の最大値と最小値の差を規定することに加えて、さらに、ポリイミドフィルムの全幅における分子配向角に関して規定することが好ましい。分子配向角の規定としては、ポリイミドフィルムの全幅における分子配向角の最大値・最小値の差分の規定と、ポリイミドフィルムの全幅における分子配向角のバラツキが小さいことの少なくとも何れかが挙げられる。この分子配向角とは、前記引裂き伝播抵抗値比の項において説明した分子配向軸により形成される角度のことを指す。
<Molecular orientation angle / molecular orientation angle difference>
In addition to defining the tear propagation resistance value ratio and the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio, the polyimide film according to the present invention further defines the molecular orientation angle in the entire width of the polyimide film. Is preferred. The regulation of the molecular orientation angle includes at least one of the regulation of the difference between the maximum value and the minimum value of the molecular orientation angle in the full width of the polyimide film and the small variation in the molecular orientation angle in the full width of the polyimide film. The molecular orientation angle refers to an angle formed by the molecular orientation axis described in the section of the tear propagation resistance value ratio.

本発明における分子配向角とは、上記分子配向軸を測定した場合の分子配向軸がMD方向からずれてくる角度を意味しており、ポリイミドフィルムの分子配向角が0°とは、分子配向軸がMD方向(図3の14と同じ方向)と並行な方向(図3の10と同じ方向)であることを意味している。正(プラス)の分子配向角とはMD方向から反時計回りに角度が傾斜した場合のこと(図3の11)をいう。一方、負(マイナス)の分子配向角とはMD方向から時計回りに角度が傾斜した場合のこと(図3の12)をいう。本発明における分子配向角差とは、上記分子配向角をフィルム巾方向に測定して、その測定方向が最も正に振れている正の分子配向角と負に振れている負の分子配向角から下記算出式(3)にて測定することができる。尚、巾方向に正の分子配向角のみが確認される場合には式(4)を用いる。巾方向に負の分子配向角のみが確認される場合には式(5)を用いる。分子配向角の最大値もしくは最小値が0°の場合には、0°が最大値の場合には最小値となる負の分子配向角を用いて(6)より分子配向角差が求められる。0°が最小値の場合には最大値となる正の分子配向角を用いて(7)より算出される。
分子配向角差=(正の分子配向角)−(負の分子配向角) ・・・(3)
分子配向角差=(正の分子配向角の最大値)−(正の分子配向角の最小値)・・・(4)
分子配向角差=(負の分子配向角最小値)−(負の分子配向角の最大値)・・・(5)
分子配向角差=0 −(負の分子配向角最小値)・・・(6)
分子配向角差=(正の分子配向角最大値) ・・・(7)
なお、本発明における分子配向角の最大値と最小値との差分とは、ポリイミドフィルムの両端部の分子配向角と中央部の分子配向角の中から上記算出式を用いて算出した値を意味する。
The molecular orientation angle in the present invention means an angle at which the molecular orientation axis is deviated from the MD direction when the molecular orientation axis is measured. The molecular orientation angle of the polyimide film is 0 °. Means a direction parallel to the MD direction (the same direction as 14 in FIG. 3) (the same direction as 10 in FIG. 3). The positive (plus) molecular orientation angle refers to a case where the angle is inclined counterclockwise from the MD direction (11 in FIG. 3). On the other hand, the negative (minus) molecular orientation angle means that the angle is inclined clockwise from the MD direction (12 in FIG. 3). The difference in molecular orientation angle in the present invention is the measurement of the molecular orientation angle in the film width direction, from the positive molecular orientation angle in which the measurement direction is most positive and the negative molecular orientation angle in which the measurement direction is negative. It can be measured by the following calculation formula (3). When only the positive molecular orientation angle is confirmed in the width direction, the formula (4) is used. When only a negative molecular orientation angle is confirmed in the width direction, formula (5) is used. When the maximum or minimum value of the molecular orientation angle is 0 °, the difference in molecular orientation angle is obtained from (6) using the negative molecular orientation angle that is the minimum value when 0 ° is the maximum value. When 0 ° is the minimum value, it is calculated from (7) using the positive molecular orientation angle that is the maximum value.
Difference in molecular orientation angle = (positive molecular orientation angle) − (negative molecular orientation angle) (3)
Difference in molecular orientation angle = (maximum value of positive molecular orientation angle) − (minimum value of positive molecular orientation angle) (4)
Difference in molecular orientation angle = (minimum negative molecular orientation angle) − (maximum negative molecular orientation angle) (5)
Molecular orientation angle difference = 0- (minimum negative molecular orientation angle) (6)
Molecular orientation angle difference = (maximum positive molecular orientation angle) (7)
In addition, the difference between the maximum value and the minimum value of the molecular orientation angle in the present invention means a value calculated using the above calculation formula from the molecular orientation angle at both ends of the polyimide film and the molecular orientation angle at the central portion. To do.

本願発明においては、分子配向角の最大値と最小値との差分(便宜上、分子配向角差と称する)は、40°以下が好ましく、分子配向角の方向はどのような方向でもよい。さらに好ましくは分子配向角の差分が30°以下である。分子配向角差の上限が上記値であれば、金属層を設けてFPCを成形した場合、エッチング前後での寸法変化率の全幅におけるバラツキが小さくなるので好ましい。なお、このときの分子配向角の方向は特に限定されるものではなく、どのような方向でもよい。   In the present invention, the difference between the maximum value and the minimum value of the molecular orientation angle (referred to as a molecular orientation angle difference for convenience) is preferably 40 ° or less, and the direction of the molecular orientation angle may be any direction. More preferably, the difference in molecular orientation angle is 30 ° or less. If the upper limit of the molecular orientation angle difference is the above value, when the FPC is formed by providing a metal layer, the variation in the full width of the dimensional change rate before and after the etching is reduced, which is preferable. In addition, the direction of the molecular orientation angle at this time is not particularly limited and may be any direction.

本発明においては更に、分子配向角のバラツキを規定する。すなわち、ポリイミドフィルムの全幅において、分子配向角が0±20°以内となっていることで規定する。ポリイミドフィルムのフィルム搬送方向(MD方向)を基準(0°)とした場合(図3の10)に、該ポリイミドフィルムの分子配向角が全幅において、0±20°となっていることが好ましい。本発明における分子配向角が0±20°となっていることは、図3記載のフィルム搬送方向(図3の14)と分子配向角の関係を示した図により説明することができる。ポリイミドフィルムの分子配向角が0°とは、MD方向と並行方向(図3の10)を意味しており、20°の分子配向角とはMD方向から反時計回りに角度が傾斜した場合のこと(図3の11が20°)をいう。一方、−20°の分子配向角とはMD方向から時計回りに角度が傾斜した場合のこと(図3の12が−20°)をいう。つまり、本発明に好ましい0±20°の分子配向角とは、MD方向に対して左右に20°以内となるように制御されていることを意味する。   In the present invention, the variation of the molecular orientation angle is further defined. That is, it is defined by the molecular orientation angle being within 0 ± 20 ° in the entire width of the polyimide film. When the film transport direction (MD direction) of the polyimide film is taken as the reference (0 °) (10 in FIG. 3), the molecular orientation angle of the polyimide film is preferably 0 ± 20 ° over the entire width. The fact that the molecular orientation angle in the present invention is 0 ± 20 ° can be explained by a diagram showing the relationship between the film transport direction (14 in FIG. 3) and the molecular orientation angle shown in FIG. The molecular orientation angle of the polyimide film of 0 ° means the direction parallel to the MD direction (10 in FIG. 3), and the molecular orientation angle of 20 ° is when the angle is inclined counterclockwise from the MD direction. (11 in FIG. 3 is 20 °). On the other hand, the molecular orientation angle of −20 ° means that the angle is inclined clockwise from the MD direction (12 in FIG. 3 is −20 °). That is, the preferred molecular orientation angle of 0 ± 20 ° for the present invention means that the molecular orientation angle is controlled to be within 20 ° to the left and right with respect to the MD direction.

また、熱ラミネート法やPVD法により金属張り積層板を製造する場合、分子配向軸が0±20°以下に制御されていれば、フィルム全幅において均等にMD方向に引き延ばされることになり、例えば、250mm以上の幅を持ったフィルムの場合には、ポリイミドフィルムの全幅に対して均一なテンションがMD方向に沿ってかかる。これにより、加熱下で引っ張られた場合、フィルムの両端部の伸び率が異なることが原因で発生する、フィルムの片伸びや、フィルムのカールも抑制することができる。従って、このように分子配向角を制御することにより、特に熱ラミネート法やPVD法を用いた場合の、寸法変化率を小さくし、かつ全幅において寸法変化率を安定化させることが可能となる。   In addition, when producing a metal-clad laminate by a thermal laminating method or PVD method, if the molecular orientation axis is controlled to 0 ± 20 ° or less, the film will be uniformly stretched in the MD direction, for example, In the case of a film having a width of 250 mm or more, a uniform tension is applied along the MD direction with respect to the entire width of the polyimide film. Thereby, when it is pulled under heating, it is possible to suppress the half-elongation of the film and the curl of the film, which are caused by the difference in the elongation rates at both ends of the film. Therefore, by controlling the molecular orientation angle in this way, it is possible to reduce the dimensional change rate and stabilize the dimensional change rate over the entire width, particularly when the thermal laminating method or the PVD method is used.

(II) 本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法
本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法は特に限定されるものではない。また、ポリイミド樹脂の種類も特に限定されるものではないが、フィルムの全幅において、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dとを測定したときに、引裂き伝播抵抗値比d/cが1.01以上1.20以下となっているポリイミドフィルムを得る手段の一つとして、フィルムの製造条件を変更する方法が挙げられる。目的とするポリイミドフィルムを得るためには、例えば、
(A)ポリアミド酸を重合する工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物を支持体上に流延・塗布後、ゲルフィルムを形成する工程、
(C)該ゲルフィルムを引き剥がし、両端を固定する工程
(D)フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程、
を含む製造方法を採用することができ、これらの各条件を適宜選定する、あるいは、さらなる工程を追加することによって、製造すればよいのであるが、変更しうる製造条件および製造例について以下に例示する。
(II) Manufacturing method of polyimide film concerning this invention The manufacturing method of the polyimide film concerning this invention is not specifically limited. Also, the type of polyimide resin is not particularly limited, but when the tear propagation resistance value c in the direction of the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis are measured over the entire width of the film. Furthermore, as one of means for obtaining a polyimide film having a tear propagation resistance value ratio d / c of 1.01 or more and 1.20 or less, a method of changing the film production conditions can be mentioned. In order to obtain the target polyimide film, for example,
(A) Step of polymerizing polyamic acid (B) Step of forming a gel film after casting and applying a composition containing polyamic acid and an organic solvent on a support,
(C) Step of peeling off the gel film and fixing both ends (D) Step of conveying the inside of the heating furnace while fixing both ends of the film,
The manufacturing method can be adopted, and each of these conditions can be selected as appropriate, or can be manufactured by adding additional steps, but the manufacturing conditions and manufacturing examples that can be changed are exemplified below. To do.

(A)工程
(A)工程は、ポリアミド酸を重合する工程である。ポリアミド酸としては、特に限定されないが、有機溶媒中にて芳香族テトラカルボン酸二無水物(以下酸二無水物と略す場合がある)と芳香族ジアミン(以下ジアミンと略す場合がある)とをおおよそ等モル反応させることで得られるポリアミド酸溶液であることが好ましい。
Step (A) Step (A) is a step of polymerizing polyamic acid. The polyamic acid is not particularly limited, but an aromatic tetracarboxylic dianhydride (hereinafter sometimes abbreviated as acid dianhydride) and an aromatic diamine (hereinafter sometimes abbreviated as diamine) in an organic solvent. A polyamic acid solution obtained by approximately equimolar reaction is preferred.

重合方法としてはあらゆる公知の方法を用いることができるが、特に好ましい重合方法として次のような方法が挙げられる。すなわち、
1)芳香族ジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。
2)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
3)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合物を追加添加後、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。
4)芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解及び/または分散させた後、実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
5)実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。
などのような方法である。
Any known method can be used as the polymerization method, and the following method is particularly preferable as the polymerization method. That is,
1) A method in which an aromatic diamine is dissolved in an organic polar solvent and this is reacted with a substantially equimolar amount of an aromatic tetracarboxylic dianhydride for polymerization.
2) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with a small molar amount of an aromatic diamine compound in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having acid anhydride groups at both ends. Then, the method of superposing | polymerizing using an aromatic diamine compound so that an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine compound may become substantially equimolar in all the processes.
3) An aromatic tetracarboxylic dianhydride and an excess molar amount of the aromatic diamine compound are reacted in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having amino groups at both ends. Subsequently, after adding an aromatic diamine compound here, using the aromatic tetracarboxylic dianhydride so that the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine compound are substantially equimolar in all steps. How to polymerize.
4) A method in which an aromatic tetracarboxylic dianhydride is dissolved and / or dispersed in an organic polar solvent and then polymerized using an aromatic diamine compound so as to be substantially equimolar.
5) A method of polymerizing by reacting a substantially equimolar mixture of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine in an organic polar solvent.
And so on.

ポリアミド酸の重合に使用される有機溶媒としては、テトラメチル尿素、N,N−ジメチルエチルウレアのようなウレア類、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホン、テトラメチルスルフォンのようなスルホキシドあるいはスルホン類、N,N−ジメチルアセトアミド(略称DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド(略称DMF)、N−メチル−2−ピロリドン(略称NMP)、γ―ブチルラクトン、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類、またはホスホリルアミド類の非プロトン性溶媒、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化アルキル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、フェノール、クレゾールなどのフェノール類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、p−クレゾールメチルエーテルなどのエーテル類が挙げられることができ、通常これらの溶媒を単独で用いるが必要に応じて2種以上を適宜組合わせて用いて良い。これらのうちDMF、DMAc、NMPなどのアミド類が高分子溶解性が高いという点から溶剤として好ましく使用される。   Examples of the organic solvent used for the polymerization of the polyamic acid include ureas such as tetramethylurea, N, N-dimethylethylurea, sulfoxides or sulfones such as dimethylsulfoxide, diphenylsulfone, and tetramethylsulfone, N, N An amide such as dimethylacetamide (abbreviation DMAc), N, N-dimethylformamide (abbreviation DMF), N-methyl-2-pyrrolidone (abbreviation NMP), γ-butyllactone, hexamethylphosphate triamide, or phosphorylamide Aprotic solvents such as alkyl halides such as chloroform and methylene chloride, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, phenols such as phenol and cresol, esters such as dimethyl ether, diethyl ether, and p-cresol methyl ether. Can ethers may be mentioned, usually may be used in combination as appropriate of two or more as needed using these solvents alone. Of these, amides such as DMF, DMAc, and NMP are preferably used as solvents because of their high polymer solubility.

ポリアミド酸溶液中のポリアミド酸固形分の重量%は、有機溶媒中にポリアミド酸が5〜40wt%、好ましくは10〜30wt%、更に好ましくは、13〜25wt%溶解されているのが取り扱い面から好ましい。尚、ポリアミド酸の平均分子量は、GPCのPEG(ポリエチレングリコール)換算で10000以上である方がフィルム物性上好ましい。   From the handling aspect, the polyamic acid solid content in the polyamic acid solution is 5% to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight, and more preferably 13 to 25% by weight in the organic solvent. preferable. The average molecular weight of the polyamic acid is preferably 10,000 or more in terms of GPC PEG (polyethylene glycol) in view of film properties.

また、上記ポリアミド酸溶液の粘度は、23℃に保温された水浴中で1時間保温し、その時の粘度をB型粘度計で、ローターはNo.7を回転数は4rpmで測定を行いその粘度が50Pa・s以上1000Pa・s以下であることがフィルム成形体を作製する際に取扱いが容易である点から好ましく、さらに好ましくは100Pa・s以上500Pa・s以下、最も好ましくは200Pa・s以上350Pa・s以下である。   The viscosity of the polyamic acid solution was kept in a water bath kept at 23 ° C. for 1 hour, and the viscosity at that time was measured with a B-type viscometer. 7 is measured at a rotation speed of 4 rpm, and the viscosity is preferably 50 Pa · s to 1000 Pa · s from the viewpoint of easy handling when producing a film molded body, and more preferably 100 Pa · s to 500 Pa. · S or less, most preferably 200 Pa · s or more and 350 Pa · s or less.

尚、上記ポリアミド酸溶液の粘度および濃度は、必要に応じて、上記ポリアミド酸の重合用溶媒のような有機溶媒を加えて調整することができる。   The viscosity and concentration of the polyamic acid solution can be adjusted by adding an organic solvent such as the polyamic acid polymerization solvent, if necessary.

本発明に係るポリアミド酸溶液の製造において好適に用いることのできる酸二無水物としては、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、p−メチルフェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、p−(2,3−ジメチルフェニレン)ビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、4,4’−ビフェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、1,4−ナフタレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、2,6−ナフタレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、2,2−ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンジベンゾエート−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物等のエステル酸無水物類、エチレンテトラカルボン酸二無水物、1, 2, 3, 4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、1, 2, 3, 4―ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2, 2’, 3, 3’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2, 2’, 3, 3’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(2, 3―無水ジカルボキシフェニル)メタン、ビス(3, 4―無水ジカルボキシフェニル)メタン、1, 1―ビス(2, 3―無水ジカルボキシフェニル)エタン、2, 2―ビス(3, 4―無水ジカルボキシフェニル)プロパン、2, 2―ビス(2, 3―無水ジカルボキシフェニル)プロパン、ビス(3, 4―無水ジカルボキシフェニル)エーテル、ビス(2, 3―無水ジカルボキシフェニル)エーテル、ビス(2, 3―無水ジカルボキシフェニル)スルホン、2, 3, 6, 7―ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1, 4, 5, 8―ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2, 5, 6―ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2, 3, 6, 7―アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1, 2, 7, 8―フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、3, 4, 9, 10―ペリレンテトラカルボン酸二無水物、4, 4―(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4, 4 ―(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、2, 2―ビス[(2, 3―無水ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン等の酸二無水物が挙げられ、これらは単独であるいは2種以上用いることができる。   Examples of the acid dianhydride that can be suitably used in the production of the polyamic acid solution according to the present invention include p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) and p-methylphenylenebis (trimellitic acid monoester acid). Anhydride), p- (2,3-dimethylphenylene) bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 4,4'-biphenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 1,4-naphthalenebis (Trimellitic acid monoester acid anhydride), 2,6-naphthalene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-3,3 ′, 4 Ester anhydrides such as 4'-tetracarboxylic dianhydride, ethylenetetracarboxylic dianhydride, 1, 2, 3, 4-butanetetraca Rubonic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 1, 2, 3, 4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4'-biphenyltetra Carboxylic dianhydride, 2, 2 ', 3, 3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3, 3', 4, 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2, 2 ', 3, 3 '-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, bis (2,3-anhydrodicarboxyphenyl) methane, bis (3,4-anhydrodicarboxyphenyl) methane, 1,1-bis (2,3-anhydrodicarboxyphenyl) ) Ethane, 2,2-bis (3,4-anhydrodicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (2,3-anhydrodicarboxyphenyl) propane, bis (3,4-anhydrodicarboxyphenyl) ether, (2,3-anhydrodicarboxyphenyl) ether, bis (2,3-anhydrodicarboxyphenyl) sulfone, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8- Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrenetetra Carboxylic dianhydride, 3, 4, 9, 10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 4, 4- (p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, 4, 4- (m-phenylenedioxy) Acid dianhydrides such as diphthalic dianhydride, 2,2-bis [(2,3-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane, and the like can be used, and these can be used alone or in combination of two or more.

これらの酸二無水物の中で、ピロメリット酸二無水物、1, 2, 3, 4―ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2, 2’, 3, 3’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2, 2’, 3, 3’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)の酸二無水物から選択される少なくとも1種以上を用いることがポリイミドフィルムに耐熱性を付与し、フィルムの弾性率を向上させてポリイミドフィルムの配向角等を制御しやすくするので好ましい。   Among these acid dianhydrides, pyromellitic dianhydride, 1, 2, 3, 4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride 2, 2 ', 3, 3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3, 3', 4, 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2, 2 ', 3, 3'-benzophenone tetracarboxylic The use of at least one selected from acid dianhydride and acid dianhydride of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) imparts heat resistance to the polyimide film and increases the elastic modulus of the film. It is preferable because the orientation angle of the polyimide film can be easily controlled.

また、アミン化合物類としては、p-フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、3,3’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、3,3’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−5−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、3,3’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、3,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、
ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジフェノキシジベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(4−アミノフェニル)スルホン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェニル)スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エ−テル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エ−テル、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エ−テル、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン、
1,3−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノ−6−トリフルオロメチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノ−6−フルオロメチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノ−6−メチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノ−6−シアノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、ジアミノポリシロキサンが挙げられ、これらを単独であるいは2種以上を用いることができる。
Examples of amine compounds include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 3,3′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′- Diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminobenzophenone, 3,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 3,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (4-aminophen Nyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1, 1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) ben, 1,3-bis (4-aminophenoxy) Benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino) Benzoyl) benzene 1,3-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 3,3′-diamino-4-phenoxybenzophenone, 4,4′-diamino-5-phenoxybenzophenone, 3,4′-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,4′-diamino-5-phenoxybenzophenone, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 3,3′-bis (4-aminophenoxy) Biphenyl, 3,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone,
Bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, 3,3′-diamino-4,4′-diphenoxydibenzophenone, 4,4′- Diamino-5,5′-diphenoxybenzophenone, 3,4′-diamino-4,5′-diphenoxybenzophenone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (4-aminophenoxy) ) Phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3 -(4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenyl) sulfone, bis [3- (3-a Nophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenyl) sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether Bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [3- ( 3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenyl) Noxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3- Hexafluoropropane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [3- (4-aminophenoxy) ) Phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-amino) Phenoxy) benzoyl] benzene,
1,3-bis (3-amino-4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-5-phenoxybenzoyl) benzene 1,3-bis (4-amino-5-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-5-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-4-bi) Phenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3 -Bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-trifluoromethylphenoxy) α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-fluoromethylphenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino) -6-methylphenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-cyanophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, diaminopolysiloxane. These can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、3,3’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパンから選択される少なくとも1種以上を用いることがポリイミドフィルムの耐熱性を向上しフィルムの剛性を付与できる点から好ましい。尚、特にp-フェニレンジアミン及び/もしくは、3,4’−ジアミノジフェニルエ−テルを必須成分として併用することでポリイミドフィルムの弾性率を向上させてポリイミドフィルムの配向角を制御しやすくなるので好ましい。   Among these, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 3,3′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2 It is preferable to use at least one selected from -bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane from the viewpoint that the heat resistance of the polyimide film can be improved and the rigidity of the film can be imparted. It is particularly preferable to use p-phenylenediamine and / or 3,4'-diaminodiphenyl ether as an essential component because the elasticity modulus of the polyimide film is improved and the orientation angle of the polyimide film can be easily controlled. .

本発明においては、ポリイミドフィルムの弾性率が高い方が分子配向角を好ましい範囲に制御しやすくなるという点から好ましい。弾性率は、ポリイミドフィルムの中央部位(図1の5)の部位の、MD方向とTD方向の引張り弾性率を測定し、弾性率={MD方向の引張り弾性率+TD方向の引張り弾性率}/2 の算出式で算出した。弾性率は4.2GPa以上、好ましくは4.8GPa以上であることが配向角の制御から好ましく。取り扱う上でフレキシビリティーに欠ける点から上限は10.0GPa以下であることが好ましい。   In the present invention, a higher elastic modulus of the polyimide film is preferable from the viewpoint that the molecular orientation angle can be easily controlled within a preferable range. The elastic modulus was measured by measuring the tensile elastic modulus in the MD direction and the TD direction at the central portion (5 in FIG. 1) of the polyimide film, and the elastic modulus = {tensile elastic modulus in the MD direction + tensile elastic modulus in the TD direction} / The calculation formula 2 was used. The elastic modulus is 4.2 GPa or more, preferably 4.8 GPa or more from the control of the orientation angle. The upper limit is preferably 10.0 GPa or less from the viewpoint of lack of flexibility in handling.

特に好ましいポリイミドフィルムは、
1)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)の4つのモノマーで作製されるポリイミドフィルム、
2)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いて作製されるポリイミドフィルム、
3)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いて作製されるポリイミドフィルム、
4)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いて作製されるポリイミドフィルム、
5)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3, 3’,4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いて作製されるポリイミドフィルム、
6)4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物を用いて作製されるポリイミドフィルム、
7)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、ピロメリット酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いて作製されるポリイミドフィルム、
8)p-フェニレンジアミン、3, 3’,4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いて作製されるポリイミドフィルム、
9)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物を用いて作製されるポリイミドフィルムがフィルムの配向角を制御しやすく好適に用いられる。
Particularly preferred polyimide film is
1) A polyimide film made of four monomers: p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride, and p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride),
2) Polyimide film prepared using p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride ,
3) Polyimide film produced using p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride ,
4) p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride, p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 3, 3 ', 4, 4'- A polyimide film made using biphenyltetracarboxylic dianhydride,
5) Polyimide film prepared using p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride,
6) 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, a polyimide film prepared using pyromellitic dianhydride,
7) p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, pyromellitic dianhydride, 3, 3 ′, 4, A polyimide film produced using 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride,
8) Polyimide film produced using p-phenylenediamine, 3, 3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride,
9) A polyimide film produced using p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, and pyromellitic dianhydride is preferably used because the orientation angle of the film can be easily controlled.

(B)工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物(ポリアミド酸溶液ともいう)を支持体上に流延・塗布後、ゲルフィルムを形成する工程、である。(B)工程で用いる組成物は、ポリアミド酸と反応しうる反応剤など、その他の成分を添加した組成物を用いてもよい。
(B) Step (B) A step of forming a gel film after casting and applying a composition containing a polyamic acid and an organic solvent (also referred to as a polyamic acid solution) on a support. The composition used in step (B) may be a composition to which other components such as a reactive agent capable of reacting with polyamic acid are added.

上記ポリアミド酸溶液の粘度は、23℃に保温された水浴中で1時間保温し、その時の粘度をB型粘度計で、ローターはNo.7を回転数は4rpmで測定を行いその粘度が50Pa・s以上1000Pa・s以下であることが好ましく、さらに好ましくは100Pa・s以上500Pa・s以下、最も好ましくは200Pa・s以上350Pa・s以下であることがフィルム成形体を製造する際に、取扱いやすいという点から最も好ましい。     The viscosity of the polyamic acid solution was kept for 1 hour in a water bath kept at 23 ° C., and the viscosity at that time was measured with a B-type viscometer. 7 is measured at 4 rpm, and the viscosity is preferably 50 Pa · s or more and 1000 Pa · s or less, more preferably 100 Pa · s or more and 500 Pa · s or less, and most preferably 200 Pa · s or more and 350 Pa · s or less. It is most preferable from the viewpoint that it is easy to handle when producing a film molded body.

また、(B)工程で用いるポリアミド酸溶液中のポリアミド酸の固形分濃度は、5〜40wt%、好ましくは10〜30wt%であることが好ましく、さらには13〜25wt%であることが好ましい。上記範囲内であれば、フィルム成形体を製造する際に、取扱いやすくなる傾向にある。   Moreover, the solid content concentration of the polyamic acid in the polyamic acid solution used in the step (B) is preferably 5 to 40 wt%, preferably 10 to 30 wt%, and more preferably 13 to 25 wt%. If it is in the said range, when manufacturing a film molded object, it exists in the tendency which becomes easy to handle.

ポリアミド酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法については従来公知の方法を用いることができる。この方法には熱イミド化法と化学イミド化法が挙げられる。熱イミド化法は、加熱によってのみイミド化を促進させる方法である。加熱条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ等により、変動し得る。さらに、適宜ポリアミド酸溶液中に剥離剤、熱イミド化触媒等を混合してイミド化することが望ましい。化学イミド化法は、ポリアミド酸溶液に、イミド化触媒、脱水剤を作用させる方法である。脱水剤としては、例えば無水酢酸などの脂肪族酸無水物、無水安息香酸などの芳香族酸無水物などが挙げられる。イミド化触媒としては、例えばトリエチルアミンなどの脂肪族第3級アミン類、ジメチルアニリンなどの芳香族第3級アミン類、ピリジン、ピコリン、イソキノリンなどの複素環式第3級アミン類などが挙げられる。   A conventionally well-known method can be used about the method of manufacturing a polyimide film from a polyamic acid solution. This method includes a thermal imidization method and a chemical imidization method. The thermal imidization method is a method for promoting imidization only by heating. The heating conditions can vary depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, and the like. Furthermore, it is desirable that the polyamic acid solution is mixed with a release agent, a thermal imidation catalyst, etc. as appropriate for imidization. The chemical imidization method is a method in which an imidization catalyst and a dehydrating agent are allowed to act on a polyamic acid solution. Examples of the dehydrating agent include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and aromatic acid anhydrides such as benzoic anhydride. Examples of the imidization catalyst include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline, and isoquinoline.

用いるイミド化触媒の量は特に限定されないが、モル比で、イミド化触媒/ポリアミド酸中アミド基=10〜0.01が好ましい。更に好ましくは、イミド化触媒/ポリアミド酸中アミド基=5〜0.5が好ましい。   The amount of the imidization catalyst to be used is not particularly limited, but is preferably an imidization catalyst / amide group in polyamic acid = 10 to 0.01 in terms of molar ratio. More preferably, imidation catalyst / amide group in polyamic acid = 5 to 0.5 is preferable.

また脱水剤及びイミド化触媒を併用する際は、モル比で、脱水剤/ポリアミド酸中アミド基=10〜0.01が好ましく、イミド化触媒/ポリアミド酸中アミド基=10〜0.01であることが好ましい。更に好ましくは、脱水剤/ポリアミド酸中アミド基=5〜0.5が好ましく、イミド化触媒/ポリアミド酸中アミド基=5〜0.5が好ましい。なお、この場合には、アセチルアセトン等の反応遅延剤を併用しても良い。また、ポリアミド酸に対する脱水剤及びイミド化触媒の含有量は、0℃にてポリアミド酸と脱水剤・触媒混合物とが混合されてから粘度上昇が始まるまでの時間(ポットライフ)で規定しても良い。一般にはポットライフが0.1分〜120分、さらに好ましくは1分〜60分が好ましい。   When a dehydrating agent and an imidization catalyst are used in combination, the dehydrating agent / amide acid in polyamic acid is preferably 10 to 0.01 in terms of molar ratio, and the imidization catalyst / amido acid in polyamic acid is preferably 10 to 0.01. Preferably there is. More preferably, dehydrating agent / amide group in polyamic acid = 5 to 0.5 is preferable, and imidation catalyst / amide group in polyamic acid = 5 to 0.5 is preferable. In this case, a reaction retarder such as acetylacetone may be used in combination. The content of the dehydrating agent and the imidization catalyst with respect to the polyamic acid may be defined by the time (pot life) from when the polyamic acid and the dehydrating agent / catalyst mixture are mixed at 0 ° C. until the viscosity starts to increase. good. Generally, the pot life is preferably 0.1 minute to 120 minutes, more preferably 1 minute to 60 minutes.

また、熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、脂肪酸エステル、有機滑剤(例えばワックス)などの添加物を添加して用いてもよい。また、表面の易滑性や耐磨耗性、耐スクラッチ性等を付与するために、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、湿式または乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、硫酸バリウム、アルミナおよびジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン等を構成成分とする有機粒子等を添加してもよい。   Further, additives such as a heat stabilizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a flame retardant, a pigment, a dye, a fatty acid ester, and an organic lubricant (for example, wax) may be added and used. In addition, clay, mica, titanium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, wet or dry silica, colloidal silica, calcium phosphate, phosphoric acid are used to impart surface slipperiness, abrasion resistance, scratch resistance, etc. Inorganic particles such as calcium hydrogen, barium sulfate, alumina and zirconia, organic particles containing acrylic acid, styrene and the like as constituent components may be added.

上述のイミド化触媒、脱水剤、添加剤などを含むポリアミド酸溶液を得る場合は、これらを混合する前にフィルター等にて不溶解原料や混入異物を取り除く工程を設けることがフィルム中の異物・欠陥を減少させる上で好ましい。上記フィルターの目開きは、取得フィルム厚みの1/2、好ましくは1/5、更に好ましくは1/10が良い。   When obtaining a polyamic acid solution containing the above-mentioned imidization catalyst, dehydrating agent, additives, etc., it is necessary to provide a step of removing insoluble raw materials and mixed foreign matters with a filter or the like before mixing them. It is preferable in reducing defects. The aperture of the filter is preferably 1/2, preferably 1/5, and more preferably 1/10 of the thickness of the obtained film.

このようにして得られたポリアミド酸溶液を、支持体上に連続的に流延・塗布し、乾燥させることでゲルフィルムを得る。支持体としては、該溶液樹脂により溶解することが無く、該ポリイミド溶液の有機溶剤溶液を除去するために要する加熱にも耐えうる支持体であればどのような支持体でも用いることができる。特に好ましくは、金属板を繋ぎ合わせて作製した、エンドレスベルトもしくは金属ドラムが溶液状の塗布液を乾燥させる上で好ましい。尚、エンドレスベルトもしくはドラムの材質は、金属が好ましく用いられ中でも、SUS材が好ましく用いられる。表面には、クロム、チタン、ニッケル、コバルト等の金属にてメッキを施したものを用いることで表面上の溶剤の密着性が向上する、或いは、乾燥した有機絶縁性フィルムが剥離しやすくなるのでメッキ処理を施すことが好ましい。エンドレスベルト、金属ドラム上は平滑な表面を有することが好ましいが、エンドレスベルト上もしくは金属ドラム上には無数の凸凹を作製して用いることも可能である。エンドレスベルトもしくは金属ドラム上に加工される凸凹の直径は0.1μm〜100μmで深さが0.1〜100μmであることが好ましい。金属表面に凸凹を作製することで有機絶縁性フィルムの表面に微細な突起を作製することが可能となり、該突起によりフィルム同士の摩擦による傷の発生、もしくは、フィルム同士のすべり性を向上させることが可能となる。   The polyamic acid solution thus obtained is continuously cast and applied onto a support and dried to obtain a gel film. Any support can be used as long as it can withstand the heating required to remove the organic solvent solution of the polyimide solution without being dissolved by the solution resin. Particularly preferably, an endless belt or a metal drum produced by joining metal plates is preferable for drying a coating solution in the form of a solution. The material of the endless belt or drum is preferably a metal, and among them, a SUS material is preferably used. Because the surface is plated with a metal such as chromium, titanium, nickel, cobalt, etc., the adhesion of the solvent on the surface is improved, or the dried organic insulating film is easy to peel off. Plating treatment is preferably performed. The endless belt and the metal drum preferably have a smooth surface, but it is also possible to produce and use innumerable irregularities on the endless belt or the metal drum. It is preferable that the unevenness processed on the endless belt or the metal drum has a diameter of 0.1 to 100 μm and a depth of 0.1 to 100 μm. By producing irregularities on the metal surface, it becomes possible to produce fine protrusions on the surface of the organic insulating film, and the protrusions can generate scratches due to friction between films, or improve the slipperiness between films. Is possible.

本発明におけるゲルフィルムについて説明する。ゲルフィルムは、ポリアミド酸と有機溶剤を含有した有機溶剤溶液を加熱・乾燥させて一部の有機溶剤もしくは反応生成物(これらを残存成分と称する)がフィルム中に残存している状態を言う。ポリイミドフィルムの製造工程においては、ポリアミド酸溶液を溶解している有機溶剤、イミド化触媒、脱水剤、反応生成物(脱水剤の吸水成分、水)がゲルフィルム中の残存成分として残る。ゲルフィルム中に残存する残存成分割合は、該ゲルフィルム中に存在する完全乾燥ポリイミド重量a(g)に対して残存する残存成分重量b(g)を算出した際に、残留成分割合cは下記の算出式(8)で算出される値であり、該残存成分割合が500%以下であることが好ましく、さらに好ましくは25%以上200%以下、特に好ましくは30%以上150%以下であることが好ましい。
c=b/a×100・・・(8)
500%以上の場合にはハンドリング性が悪くなる場合があり、また溶媒除去時のフィルムの縮みが大きく配向角、あるいは、フィルムの全幅において物性値(寸法変化率)を安定化させることが難しくなる場合がある。また、残留成分割合が、25%以上であることが、ポリイミドフィルムの配向角がMD方向(0°)に向き易く、幅方向のフィルムの物性値が安定しやすくなるため好ましい。
The gel film in this invention is demonstrated. A gel film is a state in which an organic solvent solution containing a polyamic acid and an organic solvent is heated and dried to leave a part of the organic solvent or reaction product (referred to as residual components) in the film. In the production process of the polyimide film, the organic solvent dissolving the polyamic acid solution, the imidization catalyst, the dehydrating agent, and the reaction product (water absorbing component of the dehydrating agent, water) remain as the remaining components in the gel film. The residual component ratio c remaining in the gel film was calculated by calculating the residual component weight b (g) remaining relative to the completely dry polyimide weight a (g) present in the gel film. And the residual component ratio is preferably 500% or less, more preferably 25% or more and 200% or less, and particularly preferably 30% or more and 150% or less. Is preferred.
c = b / a × 100 (8)
If it is 500% or more, the handleability may deteriorate, and the shrinkage of the film upon removal of the solvent is large, making it difficult to stabilize the physical property value (dimensional change rate) at the orientation angle or the entire width of the film. There is a case. The residual component ratio is preferably 25% or more because the orientation angle of the polyimide film is easily oriented in the MD direction (0 °), and the physical properties of the film in the width direction are easily stabilized.

完全乾燥ポリイミド重量aと残存成分重量bの算出方法は、100mm×100mmのゲルフィルム重量dを測定した後に、該ゲルフィルムを300℃のオーブン中で20分乾燥した後、室温まで冷却後、重量を測定し完全乾燥ポリイミド重量aとする。残存成分重量bは、ゲルフィルム重量dと完全乾燥ポリイミド重量aからb=d−aの算出式より算出される。   The calculation method of the completely dry polyimide weight a and the remaining component weight b is as follows. After measuring the gel film weight d of 100 mm × 100 mm, the gel film is dried in an oven at 300 ° C. for 20 minutes, and then cooled to room temperature. Is measured as a completely dry polyimide weight a. The remaining component weight b is calculated from the gel film weight d and the completely dry polyimide weight a using the formula b = da.

ゲルフィルムを製造する工程において、支持体上で加熱・乾燥させる際の温度・風速・排気速度は残存成分割合が上記範囲内になるように決定することが好ましい。特に、ポリイミドフィルムの製造過程においては50〜200℃の範囲の温度で高分子と有機溶剤を含有した有機溶剤溶液を加熱・乾燥させることが好ましく、特に好ましくは50〜180℃で加熱・乾燥させることが好ましい。尚、乾燥時間は、1〜300分の範囲内で乾燥させ、多段式の温度管理で乾燥させることが好ましい。   In the step of producing the gel film, it is preferable that the temperature, wind speed, and exhaust speed when heating and drying on the support are determined so that the ratio of the remaining components is within the above range. In particular, in the process of producing a polyimide film, it is preferable to heat and dry an organic solvent solution containing a polymer and an organic solvent at a temperature in the range of 50 to 200 ° C., and particularly preferably heat and dry at 50 to 180 ° C. It is preferable. In addition, it is preferable to dry within drying time within the range of 1 to 300 minutes, and to dry by multistage type temperature control.

(C)工程
(C)工程は、ゲルフィルムを支持体から引き剥がし連続的にゲルフィルムの両端を固定する工程である。本発明における、ゲルフィルムの端部を固定する工程とは、ピンシート、クリップ等の一般にフィルムの製造装置において用いられる把持装置を用いてゲルフィルムの端部を把持する工程である。なお、本発明でいう両端を固定する部位としては、例えば図4の31に記載している、フィルム搬送装置に取り付けられた端部把持装置(ピンシートもしくはクリップ)でフィルム端部を把持し始める部位図4の37を挙げることができる。
(C) Process (C) A process is a process which peels off a gel film from a support body and fixes both ends of a gel film continuously. In the present invention, the step of fixing the end portion of the gel film is a step of gripping the end portion of the gel film using a gripping device generally used in a film manufacturing apparatus such as a pin sheet or a clip. In addition, as a site | part which fixes both ends said by this invention, for example, it begins to hold | grip the film edge part with the edge part holding device (pin sheet or clip) attached to the film conveyance apparatus described in 31 of FIG. Part 37 of FIG.

後述する(D)工程の少なくとも一部においてTD方向の張力が実質的に無張力となるように固定する方法として、この(C)工程の、ゲルフィルムの端部を固定する際に、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定してもよい。フィルムを固定する段階で、TD方向の張力が実質的に無張力となるように行い、そのまま(D)工程へ送る方法である。具体的には、端部を固定する際に、フィルムを弛ませて固定するのである。   As a method of fixing the tension in the TD direction so as to be substantially no tension in at least a part of the step (D) described later, when fixing the end of the gel film in the step (C), the TD direction You may fix so that the tension | tensile_strength may become a tension | tensile_strength substantially. This is a method in which the tension in the TD direction becomes substantially no tension at the stage of fixing the film, and the film is sent to the step (D) as it is. Specifically, when the end portion is fixed, the film is loosened and fixed.

(D)工程
(D)工程は、フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程である。本発明においては、この(D)工程の少なくとも一部においてフィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送すること((D−1)工程という)が、本発明の目的とするポリイミドフィルムが得られる点から重要である。
(D) Process (D) A process is a process of conveying the inside of a heating furnace, fixing the both ends of a film. In the present invention, in at least a part of the step (D), it is fixed and transported so that the tension in the film width direction (TD direction) is substantially no tension (referred to as the step (D-1)). It is important from the point that the polyimide film which is the object of the present invention is obtained.

ここで、TD方向の張力が実質的に無張力であるとは、フィルムの自重による張力以外に、機械的なハンドリングによる引っ張り張力がTD方向にかからないことを意味している。実質的にはフィルムの両端部固定端の距離(図5の38)よりも両端部固定端間のフィルムの幅(図5の39)が広いことを意味しており、そのような状況下でのフィルムを実質的に無張力下のフィルムと言う。図5を用いて説明すると、フィルムは、把持装置によって固定され、このとき(図5の38)の長さが両端部固定装置端の距離である。通常は、フィルムの両端はピンと張力がかかった状態であり、このとき、両端部固定端距離38と両端部固定端間のフィルムの幅39は同じである。本発明においては、図5)のように、両端部固定端距離38とこの間のフィルムの幅39は異なり、両端部固定端の距離が小さくなっている。具体的には、フィルムは弛ませて固定されているのである。特に、本発明に望ましい特性(例えば、引裂き伝播抵抗値比や寸法変化率)を発現しやすいという点から、両端部固定端の距離38をX、両端部固定端間のフィルムの幅39をYとしたとき、XとYが下記式を満足するように固定されていることが好ましい。
20.0≧(Y−X)/Y×100>0.00・・・・(式9)
(Y−X)/Y×100(これを便宜上TD収縮率という場合がある)を上記範囲以上に大きくすると、フィルムの弛みを安定的に制御することが難しくなり、弛み量が進行方向に対して変化する場合がある。また場合によってはフィルムの弛みによる端部把持装置からの脱落が生じ、安定したフィルムの製造ができない場合がある。さらに好ましくは
15.0≧(Y−X)/Y×100>0.00である。特に好ましくは10.0≧(Y−X)/Y×100>0.00である。
Here, the fact that the tension in the TD direction is substantially tensionless means that the tensile tension due to mechanical handling is not applied in the TD direction other than the tension due to the weight of the film. This means that the width of the film between the fixed ends at both ends (39 in FIG. 5) is substantially larger than the distance between the fixed ends at both ends of the film (38 in FIG. 5). This film is called a film under substantially no tension. If it demonstrates using FIG. 5, a film will be fixed by the holding | grip apparatus, and the length of this time (38 of FIG. 5) is the distance of a both-ends fixing device end. Normally, both ends of the film are in tension with the pins. At this time, the fixed end distance 38 at both ends and the width 39 of the film between the fixed ends at both ends are the same. In the present invention, as shown in FIG. 5), the both-end fixed end distance 38 and the film width 39 between them are different, and the both-end fixed end distance is small. Specifically, the film is loosened and fixed. In particular, the distance 38 between the fixed ends on both ends is X, and the width 39 of the film between the fixed ends on both ends is Y because the characteristics desirable for the present invention (for example, tear propagation resistance value ratio and dimensional change rate) are easily exhibited. It is preferable that X and Y are fixed so as to satisfy the following formula.
20.0 ≧ (Y−X) / Y × 100> 0.00 (formula 9)
If (Y−X) / Y × 100 (this may be referred to as TD shrinkage for convenience) is made larger than the above range, it becomes difficult to stably control the slackness of the film, and the slackness is less than the traveling direction. May change. In some cases, the film may fall off from the end gripping device due to the slack of the film, and a stable film may not be manufactured. More preferably, 15.0 ≧ (Y−X) / Y × 100> 0.00. Most preferably, 10.0 ≧ (Y−X) / Y × 100> 0.00.

本発明においては、(D)工程における加熱炉の入り口において、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定されていることが、フィルム全幅において最も望ましい引裂き伝播抵抗値比に制御して、本発明に望ましい特性を発現するポリイミドフィルムを製造できる点から好ましい。加熱炉の入り口において、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送するには、前述の(C)工程の、ゲルフィルムの端部を固定する際に、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定し、そのまま(D)工程に送る方法(第一の方法)の他に、(C)工程の後、一旦両端部固定端の距離を縮める操作(図4記載の方式)を行って、(D)工程に送る方法(第二の方法)が挙げられる。第一の方法は、ゲルフィルムの両端を固定する際に、(式9)を満たすように固定する方法が好ましく、第二の方法は、(式9)を満たすように固定端の距離を縮めることが好ましい。   In the present invention, at the entrance of the heating furnace in the step (D), the tension in the TD direction is fixed so as to be substantially no tension, so that the most desirable tear propagation resistance ratio in the entire film width is controlled. In view of the ability to produce a polyimide film exhibiting desirable properties in the present invention. In order to fix and transport the tension in the TD direction so as to be substantially no tension at the entrance of the heating furnace, when fixing the end of the gel film in the step (C) described above, In addition to the method of fixing the tension so that it is substantially tensionless and sending it directly to the step (D) (first method), after the step (C), the operation of once reducing the distance between the fixed ends of both ends ( A method (second method) in which the method shown in FIG. The first method is preferably a method of fixing both ends of the gel film so as to satisfy (Equation 9), and the second method is to reduce the distance between the fixed ends so as to satisfy (Equation 9). It is preferable.

第一の方法もしくは、第二の方法を行った後に、さらに、(D)工程の加熱炉に入った後、両端部固定端の距離を縮める操作を行ってもよい(第三の方法)。第三の方法では、両端部固定端の距離を縮める操作は300℃以下、さらには250℃以下、特には200℃以下の温度範囲で行うことが好ましい。300℃より高い温度領域において第三の操作を行った場合には、フィルム中央と端部の物性値(例えば、引裂き伝播抵抗値比や寸法変化率)を均一にすることが難しい。   After performing the 1st method or the 2nd method, after entering into the heating furnace of a (D) process, you may perform operation which shortens the distance of both ends fixed end (the 3rd method). In the third method, the operation of reducing the distance between the fixed ends of both ends is preferably performed in a temperature range of 300 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or lower, particularly 200 ° C. or lower. When the third operation is performed in a temperature range higher than 300 ° C., it is difficult to make the physical property values (for example, the tear propagation resistance value ratio and the dimensional change rate) uniform between the center and the end of the film.

以上本発明では、ゲルフィルムに温度がかかる直前にTD方向の張力が実質的に無張力である状態を経由することが重要である。   As described above, in the present invention, it is important to pass through a state in which the tension in the TD direction is substantially tensionless immediately before the temperature is applied to the gel film.

(D)工程では、フィルムが乾燥し、さらにイミド化反応が進むためフィルムはある程度収縮する。従って、加熱炉の入り口で、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定して搬送すると、その後、加熱によるフィルムの収縮によって、フィルム幅が小さくなるので、両端部固定端距離と両端部固定端間のフィルムの幅は同じとなり、しわのないフィルムが製造できるのである。   In step (D), the film dries and further the imidization reaction proceeds, so the film shrinks to some extent. Therefore, if the film is fixed at the entrance of the heating furnace so that the tension in the TD direction is substantially no tension, and then the film width is reduced due to the shrinkage of the film by heating, The width of the film between the fixed ends at both ends is the same, and a wrinkle-free film can be produced.

本発明においては、(D)工程において、(D−2)工程であるフィルムをTD方向に引き延ばす工程を含んでいてもよい。この(D−2)工程をさらに含むことで、フィルムの引裂き伝播抵抗値比を制御することが可能となる。   In the present invention, the step (D) may include a step of stretching the film, which is the step (D-2), in the TD direction. By further including this (D-2) process, it becomes possible to control the tear propagation resistance value ratio of the film.

具体的には、全幅においてフィルムの引裂き伝播抵抗値比を安定化したものとし、かつ、引裂き伝播抵抗値比そのものの値が小さいポリイミドフィルムを得たい時には、(D−2)工程を含む製造方法とすればよい。   Specifically, when it is desired to stabilize the tear propagation resistance value ratio of the film over the entire width and to obtain a polyimide film having a small value of the tear propagation resistance value ratio itself, a production method including the step (D-2) And it is sufficient.

本発明における、(D−2)工程であるフィルムをTD方向に引き延ばす工程は、(D−1)工程を経た後、加熱炉の中で、フィルムをTD方向に引き延ばす工程である。(D−1)工程で、フィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送するが、加熱炉内でフィルムが加熱されると、フィルムはある程度収縮する。収縮してフィルムの弛みがなくなった後、フィルムをTD方向に引き延ばすのである。引き延ばす量(これを便宜上TD膨張率ということがある)は、引き延ばす前のTD方向の両端部固定端の幅をZ(例えば図4の41)、フィルムが炉内でTD方向に引き延ばされた際の両端部固定端の幅をW(例えば図4の42)としたとき、下記式を満たすことが好ましい。
40.0≧(W−Z)/Z×100>0.00・・・・(10)
(W−Z)/Z×100(これを便宜上TD膨張率という場合がある)を上記範囲以上に大きくすると、フィルムの引裂き伝播抵抗値比を小さく、しかも、全幅において均一に制御することが難しくなる場合がある。さらに好ましくは
30.0≧(W−Z)/Z×100>0.00である。特に好ましくは
20.0≧(W−Z)/Z×100>0.00である。
(D−2)工程は、フィルムの把持幅を徐々に広げながらTD方向にフィルムを引き延ばせばよい。さらに、必要に応じて(D−2)工程以降に再度収縮を行ってもよく、さらに、フィルム幅を広げることも可能であり、TD収縮率、TD膨張率に関しては適宜選定することが好ましい。
In the present invention, the step (D-2) of stretching the film in the TD direction is a step of stretching the film in the TD direction in the heating furnace after the step (D-1). In the step (D-1), the film is fixed and transported so that the tension in the film width direction (TD direction) is substantially no tension, but when the film is heated in the heating furnace, the film contracts to some extent. . After shrinking and the film is no longer slack, the film is stretched in the TD direction. The amount of stretching (sometimes referred to as the TD expansion coefficient for convenience) is Z (for example, 41 in FIG. 4) at both ends of the TD direction before stretching, and the film is stretched in the TD direction in the furnace. When the width of the fixed ends at both ends is W (for example, 42 in FIG. 4), it is preferable that the following formula is satisfied.
40.0 ≧ (W−Z) / Z × 100> 0.00 (10)
If (W−Z) / Z × 100 (this may be referred to as the TD expansion coefficient for convenience) is made larger than the above range, the tear propagation resistance value ratio of the film is small, and it is difficult to uniformly control the entire width. There is a case. More preferably, 30.0 ≧ (W−Z) / Z × 100> 0.00. Particularly preferably, 20.0 ≧ (W−Z) / Z × 100> 0.00.
In the step (D-2), the film may be stretched in the TD direction while gradually widening the grip width of the film. Further, the shrinkage may be performed again after the step (D-2) as necessary, and the film width may be increased. It is preferable to appropriately select the TD shrinkage and the TD expansion.

尚、フィルムの引裂き伝播抵抗値の比を望ましい範囲に制御するには、TD収縮率とTD膨張率の関係が、下記式を満たすことが好ましい。
10.0≧ TD収縮率―TD膨張率 ≧ −10.0 ・・・・(11)
さらに好ましくは、8.0≧ TD収縮率―TD膨張率 ≧ −8.0である。特に好ましくは、5.0≧ TD収縮率―TD膨張率 ≧ −5.0である、
(D−2)工程を行う温度は、300℃以上500℃以下、特に好ましくは350℃以上480℃以下がポリイミドフィルムの弾性率が低下してフィルムを引き延ばしやすくなるので好ましい。尚、上記温度では、フィルムが軟化して伸びきってしまう場合がある。その場合には、上記範囲以外の温度を適宜設定することが好ましい。
In order to control the ratio of the tear propagation resistance value of the film to a desirable range, the relationship between the TD shrinkage rate and the TD expansion rate preferably satisfies the following formula.
10.0 ≧ TD contraction rate−TD expansion rate ≧ −10.0 (11)
More preferably, 8.0 ≧ TD contraction rate−TD expansion rate ≧ −8.0. Particularly preferably, 5.0 ≧ TD shrinkage ratio−TD expansion ratio ≧ −5.0,
The temperature at which the step (D-2) is performed is preferably 300 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, particularly preferably 350 ° C. or higher and 480 ° C. or lower because the elastic modulus of the polyimide film is lowered and the film is easily stretched. In addition, at the said temperature, a film may soften and may extend completely. In that case, it is preferable to set the temperature outside the above range as appropriate.

さらに、(D−2)工程においては、TD膨張率を調整することによってフィルムの引裂き伝播抵抗値比を小さく制御することができる。つまり、(D−2)工程においてフィルムを引き延ばすことによりフィルムの引裂き伝播抵抗値比を自在に制御することができる。   Further, in the step (D-2), the tear propagation resistance value ratio of the film can be controlled to be small by adjusting the TD expansion coefficient. That is, the tear propagation resistance value ratio of the film can be freely controlled by stretching the film in the step (D-2).

本発明においては、(D−1)工程での収縮及び、(D−2)工程での引き延ばし、更には、搬送する際のMD方向のフィルム張力、ゲルフィルムの残存成分割合、加熱温度を適宜調節して、望ましい引裂き伝播抵抗値比のポリイミドフィルムを製造すればよい。また、化学イミド化を行うか、熱イミド化を行うかにより、フィルムの加熱温度、加熱時間が全く異なるが、熱イミド化の場合であっても、本発明の方法内での制御を行えば、目的とするフィルムを得ることができる。   In the present invention, the shrinkage in the step (D-1), the stretching in the step (D-2), and the film tension in the MD direction, the ratio of the remaining components of the gel film, and the heating temperature are appropriately determined. The polyimide film having a desirable tear propagation resistance value ratio may be manufactured by adjusting. Moreover, although the heating temperature and heating time of the film are completely different depending on whether chemical imidization or thermal imidization is performed, even in the case of thermal imidization, if control is performed within the method of the present invention, The target film can be obtained.

本発明に好適に用いられる加熱炉は、フィルム上面もしくは下面、或いは、両面から60℃以上の熱風をフィルム全体に噴射して加熱する方式の熱風炉、もしくは、遠赤外線を照射してフィルムを焼成する遠赤外線発生装置を備えた遠赤外線炉が用いられる。加熱工程においては、段階的に温度を上げて焼成することが好ましく、その為に、熱風炉、もしくは、遠赤外線炉、もしくは、熱風炉と遠赤外線炉を混在させながら数台連結して焼成する段階式の加熱炉を用いることが好ましい。   The heating furnace suitably used in the present invention is a hot air furnace of a system in which hot air of 60 ° C. or more is sprayed on the entire film from the upper surface or lower surface of the film, or both surfaces, or a film is fired by irradiating far infrared rays. A far-infrared furnace equipped with a far-infrared generator is used. In the heating process, it is preferable to raise the temperature step by step, and for this purpose, several units are connected and baked while mixing a hot blast furnace, a far infrared furnace, or a hot blast furnace and a far infrared furnace. It is preferable to use a staged heating furnace.

上記焼成過程において本発明では、ポリイミドフィルムの製造工程においては、ゲルフィルムを把持し、炉内に搬送した際の最初に与えられる加熱温度は、300℃以下が好ましく、さらに60℃以上250℃以下であることが好ましく、特に好ましくは100℃以上200℃以下であることが、フィルムの全巾において引裂き伝播抵抗値比の最大値と最小値の差を小さく制御する上で好ましい。具体的には、2以上の複数の加熱炉内を搬送させ、第一の加熱炉(図4の32)の温度を300℃以下とすることが好ましい。また、ポリイミドフィルムの種類及び溶剤の揮発温度を考慮して第一の加熱炉の温度を決定することが好ましい。特に、ゲルフィルム中に含まれる溶剤の沸点を調査し、該溶剤の沸点よりも100℃高い温度以下の温度で管理することが望ましい。   In the present invention in the above baking process, in the production process of the polyimide film, the heating temperature given at the beginning when the gel film is gripped and transported into the furnace is preferably 300 ° C. or lower, more preferably 60 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. It is preferable that the temperature is 100 ° C. or more and 200 ° C. or less, particularly preferably for controlling the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio in the entire width of the film. Specifically, it is preferable that two or more heating furnaces are conveyed and the temperature of the first heating furnace (32 in FIG. 4) is 300 ° C. or lower. Moreover, it is preferable to determine the temperature of a 1st heating furnace in consideration of the kind of polyimide film and the volatilization temperature of a solvent. In particular, it is desirable to investigate the boiling point of the solvent contained in the gel film and manage it at a temperature not higher than 100 ° C. higher than the boiling point of the solvent.

ポリイミドフィルムの製造において、炉内に搬送した際の最初に与えられる加熱温度が300℃より高い場合には、ボーイング現象(フィルムの収縮の影響で中央部がフィルムの端部よりも早く加熱炉内部に搬送されるため、端部に強い分子配向状態が発生する現象)が発生しフィルムの端部の配向角が制御しにくくなり、更には、引裂き伝播抵抗値比の最大値と最小値の差を小さく制御することが困難となる場合がある。ポリイミドフィルムの焼成の際には、2番目の炉図4の33の温度は1番目の炉図4の32の温度プラス50℃以上、1番目の炉の温度プラス300℃以下に設定することが好ましい。特に好ましくは、1番目の炉の温度プラス60℃以上、1番目の炉の温度プラス250℃以下に設定することがポリイミドフィルムの分子配向角を制御する上で好ましい。それ以降の炉の温度は、通常のポリイミドフィルムの製造に用いられる温度にて、焼成することが好ましい。但し、1番目の炉(図4の32)の温度が60℃以下の場合には、次ぎの炉(図4の33)の温度を100℃以上、250℃以下の温度に設定することが好ましい。1番目の炉(図4の32)の温度が60℃以下の場合には、2炉の温度を上記温度に設定することが、フィルムの全巾において引裂き伝播抵抗値比の最大値と最小値の差を小さく制御する上で好ましい。また、初期温度及び次炉の温度は上記のように設定することが好ましいが、それ以外の温度は通常のポリイミドフィルムの製造に用いられる焼成温度にて焼成することが好ましい。例えば、その一例として、ポリイミドフィルムの焼成には最高600℃までの温度に段階的に焼成し、室温まで徐々に冷却する方法等を用いることができる。最高焼成温度が低い場合には、イミド化率が完全でない場合があり充分に焼成することが必要となる。   In the production of polyimide film, when the heating temperature given at the beginning when it is transported into the furnace is higher than 300 ° C, the bowing phenomenon (the central part is earlier than the edge part of the film due to the shrinkage of the film) Is a phenomenon in which a strong molecular orientation state occurs at the edge), making it difficult to control the orientation angle at the edge of the film, and the difference between the maximum and minimum tear propagation resistance ratios. In some cases, it may be difficult to control the size to be small. When firing the polyimide film, the temperature of the second furnace 33 in FIG. 4 may be set to the temperature of the first furnace 32 plus 50 ° C. or more and the temperature of the first furnace plus 300 ° C. or less. preferable. It is particularly preferable to set the temperature of the first furnace plus 60 ° C. or more and the temperature of the first furnace plus 250 ° C. or less in terms of controlling the molecular orientation angle of the polyimide film. The subsequent furnace temperature is preferably baked at the temperature used for the production of ordinary polyimide films. However, when the temperature of the first furnace (32 in FIG. 4) is 60 ° C. or lower, the temperature of the next furnace (33 in FIG. 4) is preferably set to a temperature of 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. . When the temperature of the first furnace (32 in FIG. 4) is 60 ° C. or less, setting the temperature of the two furnaces to the above temperature is the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio over the entire width of the film. It is preferable in controlling the difference between the two. In addition, the initial temperature and the temperature of the next furnace are preferably set as described above, but the other temperatures are preferably fired at the firing temperature used for the production of a normal polyimide film. For example, for example, a polyimide film can be baked stepwise to a temperature up to 600 ° C. and gradually cooled to room temperature. When the maximum firing temperature is low, the imidization rate may not be complete, and it is necessary to perform firing sufficiently.

炉内に搬送される際のゲルフィルムに与えるMD方向に与えられる張力はフィルム1mあたりにかけられる張力(荷重)を算出することで、1〜20kg/mであることが好ましく、更に好ましくは1〜15kg/m、特に好ましくは1〜10kg/mであることが好ましい。張力が1kg/m以下の場合にはフィルムを安定して搬送することが難しく、フィルムを把持して安定したフィルムが製造しにくくなる傾向にある。また、フィルムにかける張力が20kg/m以上の場合には、特に、フィルムの端部の配向角を制御しにくく、しかも、フィルム端部の引裂き伝播抵抗値比が中央部位よりも大きくなり、全幅均一な引裂き伝播抵抗値比に制御することが難しくなる傾向にある。炉内に搬送されるゲルフィルムに与える張力発生装置としては、ゲルフィルムに荷重をかける荷重ロール、ロールの回転速度を調整して荷重を変化させるロール、ゲルフィルムを2つのロールで挟み込み張力の制御を行うニップロールを用いる方式等の種々の方法を用いてゲルフィルへの張力を調整することができる。   The tension applied in the MD direction applied to the gel film when transported into the furnace is preferably 1 to 20 kg / m, more preferably 1 to 20 kg / m by calculating the tension (load) applied per 1 m of the film. It is preferably 15 kg / m, particularly preferably 1 to 10 kg / m. When the tension is 1 kg / m or less, it is difficult to stably transport the film, and it is difficult to produce a stable film by gripping the film. In addition, when the tension applied to the film is 20 kg / m or more, it is difficult to control the orientation angle at the end of the film, and the tear propagation resistance value ratio at the end of the film is larger than that at the central portion, and the entire width It tends to be difficult to control to a uniform tear propagation resistance value ratio. The tension generator applied to the gel film transported into the furnace includes a load roll that applies a load to the gel film, a roll that adjusts the rotation speed of the roll to change the load, and the gel film is sandwiched between two rolls to control the tension. The tension to the gel fill can be adjusted using various methods such as a method using a nip roll for performing the above.

尚、フィルムに与える張力はポリイミドフィルムの厚みにより上記範囲内で適宜調整することが好ましい。フィルム厚みとしては、1〜200μmの厚みが好ましく、特に好ましくは1〜100μmであることがポリイミドフィルムを成形する上で好ましい。フィルムの厚みが200μm以上の場合にはフィルムに発生する収縮応力が大きくなり、ポリイミドフィルムの引裂き伝播抵抗値比、更には、配向角を制御できない場合がある。   In addition, it is preferable to adjust suitably the tension given to a film within the said range with the thickness of a polyimide film. The thickness of the film is preferably 1 to 200 μm, and particularly preferably 1 to 100 μm, for forming a polyimide film. When the thickness of the film is 200 μm or more, the shrinkage stress generated in the film becomes large, and the tear propagation resistance value ratio of the polyimide film and further the orientation angle may not be controlled.

本発明の製造方法により得られるポリイミドフィルムは、必要に応じて、熱処理、成形、表面処理、ラミネート、コーティング、印刷、エンボス加工、エッチングなどの任意の加工を行ってもよい。   The polyimide film obtained by the production method of the present invention may be subjected to any processing such as heat treatment, molding, surface treatment, laminating, coating, printing, embossing, etching and the like as necessary.

(III)本発明の利用
上記製造方法により得られる、本発明にかかるポリイミドフィルムは、どのような用途にも用いることができるが、FPC用、TAB用テープ用、高密度記録媒体用ベースフィルム等の電気・電子機器基板用途、太陽電池基板用途、磁気記録媒体用途、電気絶縁用途等を挙げることができる。特に好ましい用途の一つとしては、FPCのベースフィルムを挙げることができる。(I)の項で述べたように、本発明にかかるポリイミドフィルムは、FPCの製造過程におけるエッチング処理前後において、特に全幅における寸法変化率を小さいものとし、全幅における寸法安定性を良好なものとすることができる。その結果、高密度実装を可能とするFPCのベースフィルムとして好適に用いることができる。
(III) Use of the present invention The polyimide film according to the present invention obtained by the above production method can be used for any application, such as a base film for FPC, a tape for TAB, a high density recording medium, etc. For electric / electronic equipment substrate, solar cell substrate, magnetic recording medium, electrical insulation, and the like. One particularly preferred application is an FPC base film. As described in the section (I), the polyimide film according to the present invention has a small dimensional change rate in the entire width before and after the etching process in the manufacturing process of the FPC, and has a good dimensional stability in the entire width. can do. As a result, it can be suitably used as an FPC base film that enables high-density mounting.

ここで、本発明にかかるポリイミドフィルムは、当該ポリイミドフィルムのみからなる単層フィルムであればよいが、他の層を積層した積層体となっていてもよい。具体的には、例えば、ポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に、他の高分子層を塗布したり積層したりしてもよい。このとき積層される他の樹脂層としては、特に限定されるものではないが、熱可塑性ポリイミド、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ塩化ビニリデン、アクリル系高分子、フッ素系高分子等を挙げることができる。これら高分子層は直接積層してもよいし、接着剤層を介して積層してもよい。   Here, although the polyimide film concerning this invention should just be a single layer film which consists only of the said polyimide film, it may be the laminated body which laminated | stacked the other layer. Specifically, for example, another polymer layer may be applied or laminated on at least one surface of the polyimide film. The other resin layer laminated at this time is not particularly limited, and examples thereof include thermoplastic polyimide, polyester, polyolefin, polyamide, polyvinylidene chloride, acrylic polymer, and fluorine polymer. . These polymer layers may be laminated directly or via an adhesive layer.

例えば、上記積層体の製造方法としては、ゲルフィルムを成形した後に、(1)当該ゲルフィルムを、他の樹脂を溶解した溶液(他の樹脂溶液と称する)に浸漬した後、テンター炉内で加熱乾燥させて積層フィルムを製造する方法、(2)当該ゲルフィルム表面に、コーターを用いて他の樹脂溶液を塗布して加熱乾燥させて積層フィルムを製造する方法、(3)当該ゲルフィルムに対して、噴霧装置にて他の樹脂溶液を噴霧塗布して加熱乾燥させて積層フィルムを製造する方法等が好適に用いられる。さらには、成形されたポリイミドフィルムの表面に、他の樹脂溶液を再度塗布して加熱乾燥させて積層フィルムを製造してもよい。この場合、塗布方式としては、上記(1)〜(3)の積層方式を用いることが好ましい。なお。本発明でいう積層体(または積層フィルム)とは、上記他の樹脂が1層以上積層されているものであればよい。   For example, as a manufacturing method of the laminate, after forming a gel film, (1) after immersing the gel film in a solution in which another resin is dissolved (referred to as another resin solution), A method for producing a laminated film by heating and drying, (2) A method for producing a laminated film by applying another resin solution to the surface of the gel film using a coater and drying by heating, (3) A method for producing the gel film On the other hand, a method of producing a laminated film by spray-coating other resin solutions with a spraying device and drying by heating is suitably used. Furthermore, another resin solution may be applied again on the surface of the molded polyimide film and dried by heating to produce a laminated film. In this case, as the coating method, it is preferable to use the above-described lamination methods (1) to (3). Note that. The laminated body (or laminated film) referred to in the present invention may be any one in which one or more other resins are laminated.

さらに、当該ポリイミドフィルムを用いて金属を積層した金属積層板(積層体)を製造する方法としては、(1)ポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に接着剤層を積層し、当該接着剤層に対して金属を熱圧着(例えば、プレス法、ダブルベルト法、熱ロール法等が好適に用いられる)する方法、(2)当該ポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に、金属を直接真空装置内部で積層する(真空積層する)方法、(3)上記(2)の真空積層により製造した金属積層板に対して、金属めっきや無電解めっきにより金属層を厚く積層する方法、(4)無電解めっき法で金属を薄く積層する方法、(5)上記(4)の無電解めっきにより薄く積層した金属層に対して、金属めっきや無電解めっきにより金属層を厚く積層する方法等が好適に用いられる。   Furthermore, as a method of manufacturing a metal laminate (laminated body) in which metal is laminated using the polyimide film, (1) an adhesive layer is laminated on at least one surface of the polyimide film, and the adhesive layer is (2) Laminate the metal directly on the surface of at least one of the polyimide films inside the vacuum apparatus. (Vacuum lamination) method, (3) A method of laminating a metal layer thickly by metal plating or electroless plating on the metal laminate produced by vacuum lamination of (2) above, (4) By electroless plating method A method of laminating a metal thinly, (5) a method of laminating a metal layer thickly by metal plating or electroless plating, etc. is preferable to a metal layer thinly laminated by electroless plating of (4) above. Used to.

このようにして製造された金属積層板は、金属層の配線形成処理(例えばエッチングマスクを表面に形成した後に金属層をエッチング処理する方法)を行うことで、金属配線を少なくともポリイミドフィルムを含むベースフィルム上に形成することが可能となる。   The metal laminate produced in this way is a base that contains at least a polyimide film by performing a metal layer wiring formation process (for example, a method of etching a metal layer after forming an etching mask on the surface). It can be formed on a film.

なお、本発明に好適に用いることができる上記(1)〜(5)の製造方法のうち、(1)の製造方法で用いる接着剤としては、特に限定されるものではないが、熱可塑性ポリイミド樹脂系接着剤(少なくともポリイミド樹脂を含む接着剤を指す)、アクリル系接着剤(少なくともアクリル樹脂を含む接着剤を指す)、エポキシ系接着剤(少なくともエポキシ樹脂を含む接着剤を指す)が好適に用いられる。また、上記(1)の製造方法における金属とは、少なくとも0.1μm以上の厚みを持つ銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、クロムまたはこれらの合金からなっている金属箔が用いられる。さらに、上記(1)の製造方法で製造された接着剤層を積層した積層体の場合には接着剤層を保護するための保護材料を積層してもよい。   Of the production methods (1) to (5) that can be suitably used in the present invention, the adhesive used in the production method (1) is not particularly limited, but is a thermoplastic polyimide. A resin-based adhesive (refers to an adhesive containing at least a polyimide resin), an acrylic adhesive (refers to an adhesive including at least an acrylic resin), and an epoxy-based adhesive (refers to an adhesive including at least an epoxy resin) are suitable. Used. Moreover, the metal in the manufacturing method of said (1) uses the metal foil which consists of copper, aluminum, gold | metal | money, silver, nickel, chromium, or these alloys with a thickness of at least 0.1 micrometer or more. Furthermore, in the case of the laminated body which laminated | stacked the adhesive bond layer manufactured with the manufacturing method of said (1), you may laminate | stack the protective material for protecting an adhesive bond layer.

また、上記(2)の製造方法における真空装置内部での積層方法としては、金属を加熱炉中で加熱蒸発させて積層する加熱蒸着法、電子ビームにより金属を加熱し蒸発させて積層する電子ビーム法、プラズマにより金属を蒸散させて積層するスパッタリング法等が好適に用いられる。このとき用いられる金属は特に限定されるものではないが、例えば、銅、金、銀、マンガン、ニッケル、クロム、チタン、錫、コバルト、インジウム、モリブデン等が好適に用いられる。これら金属は単独で用いてもよいが、複数種類を同時に蒸発させながらポリイミドフィルム表面で金属合金を製造する方法を用いてもよい。例えば、ニッケルおよびクロムを同時に積層してニッケル/クロム合金を形成する方法、インジウムおよび錫を酸素存在下で同時に蒸着してITO(Indium Tin Oxide)膜を形成する方法等を挙げることができる。   Also, in the manufacturing method of (2) above, as a method of laminating inside the vacuum apparatus, a heat vapor deposition method in which a metal is heated and evaporated in a heating furnace to laminate, an electron beam in which a metal is heated and evaporated by an electron beam and laminated. For example, a sputtering method in which a metal is evaporated and laminated by plasma is preferably used. Although the metal used at this time is not specifically limited, For example, copper, gold | metal | money, silver, manganese, nickel, chromium, titanium, tin, cobalt, indium, molybdenum etc. are used suitably. These metals may be used alone, or a method of producing a metal alloy on the polyimide film surface while simultaneously evaporating a plurality of types may be used. For example, a method in which nickel and chromium are simultaneously laminated to form a nickel / chromium alloy, and a method in which indium and tin are simultaneously deposited in the presence of oxygen to form an ITO (Indium Tin Oxide) film can be exemplified.

さらに、上記(4)の製造方法における無電解めっき法とは、無電解めっき用の触媒金属をポリイミドフィルム表面に積層した後に、無電解めっき用の金属浴中に浸漬して金属を積層させる方法を挙げることができる。もちろん、無電解めっき法は上記方法に限定されるものではなく、公知公用の無電解めっき技術により金属を積層する方法を好適に用いることができる。   Furthermore, the electroless plating method in the production method of (4) is a method in which a metal for electroless plating is laminated on the polyimide film surface and then immersed in a metal bath for electroless plating to laminate the metal. Can be mentioned. Of course, the electroless plating method is not limited to the above method, and a method of laminating metals by a publicly known electroless plating technique can be suitably used.

また、上記(3)・(5)の製造方法で用いられる電解めっき法とは、例えば、上記(2)または(4)の製造方法で得られる金属積層ポリイミドフィルムを、めっきを施したい金属が溶解している溶液中に浸漬し、電気めっきを施したい金属を対極として電気を通電し、めっきする方法を用いることができる。もちろん、電解めっき法は上記方法に限定されるものではなく、公知公用の電解めっき技術により金属を積層する方法を好適に用いることができる。   In addition, the electrolytic plating method used in the production methods (3) and (5) is, for example, a metal laminated polyimide film obtained by the production method (2) or (4) described above. A method of plating by immersing in a dissolved solution, energizing electricity with a metal to be electroplated as a counter electrode, and plating can be used. Of course, the electrolytic plating method is not limited to the above method, and a method of laminating metals by a publicly known electrolytic plating technique can be suitably used.

さらに、無電解めっき法にて金属をさらに厚く積層する方法とは、例えば、目的とする金属を溶解した無電解めっき浴中に、上記(2)・(4)の製造方法で得られる金属積層ポリイミドフィルム表面に無電解めっき用触媒を塗布したフィルムを浸漬して、金属を積層する方法を挙げることができる。もちろん、無電解めっき法は上記方法に限定されるものではなく、公知公用の無電解めっき技術により金属を積層する方法を好適に用いることができる。   Furthermore, the method of laminating a metal by an electroless plating method is, for example, a metal lamination obtained by the production methods (2) and (4) above in an electroless plating bath in which a target metal is dissolved. A method of laminating a metal by immersing a film in which a catalyst for electroless plating is applied on the surface of a polyimide film can be mentioned. Of course, the electroless plating method is not limited to the above method, and a method of laminating metals by a publicly known electroless plating technique can be suitably used.

なお、上記(1)〜(5)の製造方法により得られる金属積層ポリイミドフィルムには、金属層を保護するための保護材料を積層してもよい。   In addition, you may laminate | stack the protective material for protecting a metal layer on the metal lamination polyimide film obtained by the manufacturing method of said (1)-(5).

このように、本発明にかかる積層体は、本発明にかかるポリイミドフィルムを含む構成であれば特に限定されるものではない。さらに、上記では、金属積層体の製造方法について代表的な方法を詳細に記載したが、もちろん本発明はこれに限定されるものではない。したがって、上記ポリイミドフィルムをベースフィルムとして製造される金属積層体(例えば、FPC、TAB、高密度記録媒体、磁気記録媒体、電気・電子機器用金属積層板等)の製造方法や上記フレキシブル金属積層板も含まれる。このとき、FPCやフレキシブル金属積層板の製造方法は、上述した方法だけでなく、公知公用で当業者であれば採用し得る種々の方法で金属層を積層してもよい。   Thus, the laminated body concerning this invention will not be specifically limited if it is the structure containing the polyimide film concerning this invention. Furthermore, in the above, although the representative method was described in detail about the manufacturing method of a metal laminated body, of course, this invention is not limited to this. Accordingly, a method for producing a metal laminate (for example, FPC, TAB, high-density recording medium, magnetic recording medium, metal laminate for electric / electronic equipment, etc.) produced using the polyimide film as a base film, and the flexible metal laminate Is also included. At this time, the manufacturing method of the FPC and the flexible metal laminate is not limited to the method described above, and the metal layer may be laminated by various methods that are publicly known and can be adopted by those skilled in the art.

本発明について、実施例に基づいてより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。当業者は本発明の範囲を逸脱することなく、種々の変更、修正、および改変を行うことができる。なお、本発明にかかるポリイミドフィルムにおける分子配向角、弾性率、およびフレキシブル金属積層板の寸法変化率は、以下のように測定し評価した。   The present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to this. Those skilled in the art can make various changes, modifications, and alterations without departing from the scope of the present invention. In addition, the molecular orientation angle | corner in the polyimide film concerning this invention, an elasticity modulus, and the dimensional change rate of a flexible metal laminated board were measured and evaluated as follows.

〔分子配向角〕
上記ポリイミドフィルムの両端および中央部位の分子配向角を、分子配向計(王子計測機器株式会社製、商品名:MOA2012)にて測定した。具体的には、図3に示すように、MD方向(図3の14、ポリイミドフィルムの搬送方向 )とMD方向に垂直な方向(図3の15、TD方向 )とを設定したときに、分子配向角が、図3の10で示すMD方向を基準(0°)として、±20°以内に入っているかを確認した。また、算出された分子配向角の最大値と最小値との差分から分子配向角差を算出した。
[Molecular orientation angle]
The molecular orientation angles at both ends and the central part of the polyimide film were measured with a molecular orientation meter (trade name: MOA2012, manufactured by Oji Scientific Instruments). Specifically, as shown in FIG. 3, when the MD direction (14 in FIG. 3, polyimide film transport direction) and the direction perpendicular to the MD direction (15 in FIG. 3, TD direction) are set, It was confirmed whether the orientation angle was within ± 20 ° with the MD direction indicated by 10 in FIG. 3 as a reference (0 °). Further, the molecular orientation angle difference was calculated from the difference between the calculated maximum and minimum molecular orientation angles.

[引裂き伝播抵抗値及び引裂き伝播抵抗値比の測定]
上述の分子配向角を測定するためのサンプルから、図2に記載するように、分子配向軸方向及び分子配向軸方向に垂直な方向の試験片(10mm×20mm)の切り出しを行った。このサンプルをASTM D1938に準拠して測定を行った。ポリイミドフィルムの両端部の引裂き伝播抵抗値比と中央部の引裂き伝播抵抗値比の中で最も大きな値と最も小さな値の差を下記算出式(2)より算出した。
引裂き伝播抵抗値比の最大値と最小値の差=引裂き伝播抵抗値比の最大値−引裂き伝播抵抗値比の最小値・・・(2)
〔寸法変化率〕
図6に示すように、巻き取った状態にあるフレキシブル金属積層板50について、当該フレキシブル金属積層板50を引き出し、幅方向に沿って、その両端部および中央部からそれぞれ必要な大きさの測定サンプル51・52・53を採取した。これら測定サンプル51〜53について、図7に示すように、(1)図中両端矢印DMDで示す、MD方向(図中矢印D1 )に沿った測定方向、(2)図中両端矢印DTDで示す、TD方向(MD方向と垂直な方向)に沿った方向、(3)図中両端矢印DR で示す、MD方向から右に45°傾斜した方向(R方向)、並びに(4)図中両端矢印DL で示す、MD方向から左に45°(右側傾斜を+とすると−45°)傾斜した方向(L方向)における寸法変化率を測定した。
[Measurement of tear propagation resistance and tear propagation resistance ratio]
As shown in FIG. 2, a test piece (10 mm × 20 mm) in a direction perpendicular to the molecular orientation axis direction and the molecular orientation axis direction was cut out from the sample for measuring the molecular orientation angle. This sample was measured according to ASTM D1938. The difference between the largest value and the smallest value of the tear propagation resistance value ratio at both ends of the polyimide film and the tear propagation resistance value ratio at the center part was calculated from the following calculation formula (2).
Difference between maximum value and minimum value of tear propagation resistance value ratio = maximum value of tear propagation resistance value ratio−minimum value of tear propagation resistance value ratio (2)
[Dimensional change rate]
As shown in FIG. 6, with respect to the flexible metal laminate 50 in a wound state, the flexible metal laminate 50 is pulled out, and measurement samples having necessary sizes are obtained from both ends and the center along the width direction. 51, 52 and 53 were collected. For these measurement samples 51 to 53, as shown in FIG. 7, (1) the measurement direction along the MD direction (arrow D 1 in the figure) indicated by the double-ended arrow D MD in the figure, and (2) the double-ended arrow D in the figure. indicated by TD, the direction along the TD direction (MD direction perpendicular to the direction), (3) in the figure shown by the double arrow D R, a direction inclined by 45 ° from the MD direction to the right (R direction), and (4) shown in the drawing double-ended arrow D L, the dimensional change was measured at 45 ° from the MD direction to the left (when the right inclined + -45 °) direction inclined by (L direction).

寸法変化率の測定方法は、JIS C6481にしたがった。具体的には、まず、測定サンプル51〜53の4隅それぞれに測定用の穴60(図7参照)を形成し、各穴30間の距離、すなわち上記DMD、DTD、DR 、DL の各方向の寸法を測定した。次に、エッチングを実施して測定サンプル51〜53から金属箔を除去した後に、20℃、60%R.H.の恒温室に24時間放置した。 The measuring method of the dimensional change rate was in accordance with JIS C6481. Specifically, first, measurement holes 60 (see FIG. 7) are formed in the four corners of the measurement samples 51 to 53, and the distances between the holes 30, that is, the above D MD , D TD , D R , D The dimension of each direction of L was measured. Next, etching was performed to remove the metal foil from the measurement samples 51 to 53, and then 20 ° C., 60% R.D. H. Left in a constant temperature room for 24 hours.

その後、エッチング前と同様に、上記各穴60間の距離を測定した。金属箔除去前における各穴60間の距離の測定値をM1 とし、金属箔除去後における各穴60間の距離の測定値をM2 として、次に示す式(14)によりエッチング前後の寸法変化率を求めた。 Thereafter, the distance between the holes 60 was measured as before the etching. The measured value of the distance between the holes 60 before removing the metal foil is M 1, and the measured value of the distance between the holes 60 after removing the metal foil is M 2. The rate of change was determined.

寸法変化率(%)={(M2 −M1 )/M1 }×100 ・・・(14)
〔弾性率の測定〕
図1の5の部位をMD方向及びTD方向に試験片(15mm×200mm)の切り出しを行った。このサンプルを島津製作所製引張り試験機(オートグラフ S−100−C)を使用し、ASTM−D882に準じで測定した。
Dimensional change rate (%) = {(M 2 −M 1 ) / M 1 } × 100 (14)
(Measurement of elastic modulus)
A test piece (15 mm × 200 mm) was cut out at 5 in FIG. 1 in the MD direction and the TD direction. This sample was measured according to ASTM-D882 using a Shimadzu tensile tester (Autograph S-100-C).

〔実施例1〕
<ポリイミドフィルムの製造>
重合用の有機溶媒であるN,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)に対して、4,4−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)50モル%、パラフェニレンジアミン(p−PDA)50モル%、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMHQ)50モル%、およびピロメリット酸二無水物(PMDA)50モル%をこれら比率で添加して攪拌、重合することによりポリアミド酸溶液を合成した。このとき、得られるポリアミド酸溶液の固形分濃度は15重量%となるように合成を行った。
[Example 1]
<Manufacture of polyimide film>
4,4-diaminodiphenyl ether (ODA) 50 mol%, paraphenylenediamine (p-PDA) 50 mol%, p-phenylene bis with respect to N, N-dimethylformamide (DMF) which is an organic solvent for polymerization (Trimellitic acid monoester anhydride) (TMHQ) 50 mol% and pyromellitic dianhydride (PMDA) 50 mol% were added at these ratios, and the mixture was stirred and polymerized to synthesize a polyamic acid solution. At this time, synthesis was performed so that the solid content concentration of the obtained polyamic acid solution was 15% by weight.

このポリアミド酸溶液に、アミド酸当量に対して2.0倍当量の無水酢酸と1.0倍当量のイソキノリンを添加し、20μmの厚さとなるように、1100mm幅でエンドレスベルト上にキャストした。その後、100〜150℃の範囲内で2分間熱風乾燥し、自己指示性を有するゲルフィルム(ポリイミド前駆体フィルム)を得た。当該ゲルフィルムの残存成分割合は54重量%であった。このゲルフィルムを、エンドレスベルト上から引き剥がし、連続的にフィルムを搬送するピンシートに幅方向両端をピン幅1000mmでたるみ無く固定した。   To this polyamic acid solution, 2.0 times equivalent acetic anhydride and 1.0 times equivalent isoquinoline were added to the equivalent of amic acid, and cast on an endless belt with a width of 1100 mm so as to have a thickness of 20 μm. Then, it dried with hot air within the range of 100-150 degreeC for 2 minutes, and obtained the gel film (polyimide precursor film) which has self-indicating property. The residual component ratio of the gel film was 54% by weight. The gel film was peeled off from the endless belt, and both ends in the width direction were fixed to a pin sheet that continuously transports the film with a pin width of 1000 mm without sagging.

このゲルフィルムを、第一の加熱炉(177℃)、第二の加熱炉(300℃)、第三の加熱炉(450℃)、第四の加熱炉(515℃)と段階的に焼成してイミド化を進め、ポリイミドフィルムを得た。このとき、テンター炉までおよびテンター炉内でのゲルフィルムの搬送時には、TD収縮率を4.40、TD膨張率を2.20となるように当該ゲルフィルムをTD方向に収縮・膨張させた。TD方向に実質的に無張力となるように固定されるように両端固定端距離を縮める工程は、炉内にフィルムが挿入される前に終了させ、両端固定端距離を拡張する工程は第三加熱炉にて行った。   This gel film is baked stepwise with a first heating furnace (177 ° C.), a second heating furnace (300 ° C.), a third heating furnace (450 ° C.), and a fourth heating furnace (515 ° C.). Then, imidization was advanced to obtain a polyimide film. At this time, the gel film was contracted and expanded in the TD direction so that the TD shrinkage rate was 4.40 and the TD expansion rate was 2.20 when the gel film was transported to and in the tenter furnace. The step of reducing both ends fixed end distance so as to be fixed so as to be substantially tensionless in the TD direction is terminated before the film is inserted into the furnace, and the step of extending both ends fixed end distance is the third step. Performed in a heating furnace.

なお、ポリイミドフィルム製造時の各条件を表1に示す。   In addition, each condition at the time of polyimide film manufacture is shown in Table 1.

得られたポリイミドフィルムについて、分子配向角、分子配向角差、引裂き伝搬抵抗値、引裂き伝搬抵抗値比、引裂き伝播抵抗値比の最大値と最小値の差を測定した。その結果を表2および表3に示す。なお、表2では、実施例(または比較例)ごとに、測定サンプル21・22・23の結果を示す段として、端部・中央・端部の段を設けている。表2および表3の結果から明らかなように、フィルム全幅において引裂き伝搬抵抗値比が1.01以上1.02以下、引裂き伝搬抵抗値比の最大値と最小値の差が0.10以下、分子配向軸の角度が0±20°に制御されたポリイミドフィルムが得られた。
上記ポリイミドフィルムの弾性率は6.1GPaであった。
With respect to the obtained polyimide film, the molecular orientation angle, the molecular orientation angle difference, the tear propagation resistance value, the tear propagation resistance value ratio, and the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio were measured. The results are shown in Tables 2 and 3. In Table 2, for each example (or comparative example), end, center, and end steps are provided as steps indicating the results of the measurement samples 21, 22, and 23. As is clear from the results of Tables 2 and 3, the tear propagation resistance value ratio is 1.01 or more and 1.02 or less in the entire film width, and the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio is 0.10 or less, A polyimide film in which the angle of the molecular orientation axis was controlled to 0 ± 20 ° was obtained.
The elastic modulus of the polyimide film was 6.1 GPa.

<接着層として用いる熱可塑性ポリイミド前駆体の合成>
重合用の有機溶媒であるDMFに対して、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン(BAPS)100モル%、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)90モル%、3,3’,4,4’−エチレングリコールベンゾエートテトラカルボン酸二無水物(TMEG)10モル%をこれらの比率で添加して攪拌重合することにより、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液を合成した。このとき、得られるポリアミド酸溶液の固形分濃度は20重量%となるように合成を行った。
<Synthesis of thermoplastic polyimide precursor used as adhesive layer>
100 mol% bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone (BAPS), 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (based on DMF, which is an organic solvent for polymerization) BPDA) 90 mol%, 3,3 ′, 4,4′-ethylene glycol benzoate tetracarboxylic dianhydride (TMEG) 10 mol% was added at these ratios, and polymerized with stirring to obtain a precursor of thermoplastic polyimide. The body polyamic acid solution was synthesized. At this time, synthesis was performed so that the solid content concentration of the obtained polyamic acid solution was 20% by weight.

<フレキシブル金属積層板の製造>
得られたポリイミドフィルムの前処理としてポリイミドフィルム表面に、Ar:He:N2=8:2:0.2(体積比率)の割合で混合したガス気流中で出力280W/m2の割合でプラズマ放電を行い表面プラズマの処理を行った。上記熱可塑性ポリイミド前駆体を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、上記ポリイミドフィルムの両面に全幅に渡って最終片面厚みが4μmとなるように塗布し、140℃で1分間加熱した。続いて、雰囲気温度390℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱することによりイミド化を行い、熱可塑性ポリイミド前駆体からなる接着層を形成した。これによりポリイミドフィルムの両面に接着層を積層した3層積層体を得た。
<Manufacture of flexible metal laminates>
As a pretreatment of the obtained polyimide film, plasma discharge was performed at a rate of 280 W / m 2 in a gas stream mixed with Ar: He: N 2 = 8: 2: 0.2 (volume ratio) on the polyimide film surface. The surface plasma was processed. After the thermoplastic polyimide precursor is diluted with DMF until the solid content concentration becomes 10% by weight, it is applied to both sides of the polyimide film so as to have a final single-side thickness of 4 μm and heated at 140 ° C. for 1 minute. did. Subsequently, imidization was performed by heating in a far infrared heater furnace having an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to form an adhesive layer made of a thermoplastic polyimide precursor. This obtained the 3 layer laminated body which laminated | stacked the adhesive layer on both surfaces of the polyimide film.

得られた3層積層体の両側に18μm圧延銅箔(ジャパンエナジー社製、商品名:BHY−22B−T)を重ね、さらに銅箔の両側に保護材料(株式会社カネカ製、商品名:アピカル125NPI)を配して熱ラミネート処理を行った。このときの条件は、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分とした。また、熱ラミネート処理は連続的に行い、フレキシブル金属積層板を製造した。   18 μm rolled copper foil (trade name: BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) is stacked on both sides of the obtained three-layer laminate, and a protective material (manufactured by Kaneka Corporation, product name: Apical) is further formed on both sides of the copper foil. 125 NPI) was applied for thermal lamination. The conditions at this time were a polyimide film tension of 0.4 N / cm, a laminating temperature of 380 ° C., a laminating pressure of 196 N / cm (20 kgf / cm), and a laminating speed of 1.5 m / min. Moreover, the thermal lamination process was performed continuously and the flexible metal laminated board was manufactured.

なお、積層後、保護材料を得られたフレキシブル金属積層板から剥離した。フレキシブル金属積層板から上記寸法変化率の測定用サンプルを採取し、当該測定用サンプルのエッチング前後での寸法変化率を上記方法にて測定した。なお、エッチングは、播磨化学工業(株)製塩化第2鉄の塩酸溶液(濃度30%以上)の溶液を30℃となるようにヒーターで加熱し、当該加熱溶液を上下から噴霧してフィルム表面に曝露させる装置を用いて行った。塩化鉄溶液と金属積層板とが接触している時間は10分以内に設定し、エッチング速度との兼ね合いで時間を変更してエッチング処理を行った。エッチング後のフィルムは水洗後液滴を吹き飛ばして風乾し、銅層を除去したフィルムを作製した。   In addition, after lamination | stacking, it peeled from the flexible metal laminated board from which the protective material was obtained. A sample for measuring the dimensional change rate was taken from the flexible metal laminate, and the dimensional change rate before and after etching of the measurement sample was measured by the above method. Etching is performed by heating a solution of ferric chloride solution (concentration of 30% or more) manufactured by Harima Chemical Industry Co., Ltd. with a heater so that the temperature is 30 ° C., and spraying the heated solution from above and below. Was carried out using a device exposed to. The time during which the iron chloride solution and the metal laminate were in contact with each other was set within 10 minutes, and the etching process was performed while changing the time in consideration of the etching rate. The etched film was washed with water, then blown off the droplets and air-dried to produce a film from which the copper layer was removed.

エッチング処理前後におけるポリイミドフィルムの寸法変化率を測定した。その結果を表4に示す。なお、表3では、表2と同じく、実施例(または比較例)ごとに、測定サンプル51・52・53の結果を示す段として、端部・中央・端部の段を設けている。   The rate of dimensional change of the polyimide film before and after the etching treatment was measured. The results are shown in Table 4. In Table 3, as in Table 2, for each of the examples (or comparative examples), the steps of the end portion, the center, and the end portion are provided as steps indicating the results of the measurement samples 51, 52, and 53.

この結果から明らかなように、本発明にかかるポリイミドフィルムは、寸法変化率が小さくベースフィルムとして好適なポリイミドフィルムであった。   As is clear from this result, the polyimide film according to the present invention was a polyimide film having a small dimensional change rate and suitable as a base film.

〔実施例2〕
表1に示すようにTD収縮率を4.40、TD膨張率を4.40とした以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。また、得られたポリイミドフィルムを用いて、実施例1と同様にしてフレキシブル金属積層板を製造した。
[Example 2]
As shown in Table 1, a polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the TD shrinkage was 4.40 and the TD expansion was 4.40. Moreover, the flexible metal laminated board was manufactured like Example 1 using the obtained polyimide film.

これらポリイミドフィルムおよびフレキシブル金属積層板について、実施例1と同様の方法で物性値評価を行った。その結果を表2〜表3に示す。この結果から明らかなように、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いると、エッチング処理後の寸法変化率が小さくなり、寸法変化率も全幅にわたって安定したものであった。
上記ポリイミドフィルムの弾性率は5.9GPaであった。
About these polyimide films and flexible metal laminated boards, the physical-property value evaluation was performed by the method similar to Example 1. FIG. The results are shown in Tables 2 to 3. As is clear from this result, when the polyimide film according to the present invention was used, the dimensional change rate after the etching treatment was small, and the dimensional change rate was stable over the entire width.
The elastic modulus of the polyimide film was 5.9 GPa.

〔実施例3〕
表1に示すように、TD収縮率を3.90、TD膨張率を0.00とするとともに、テンター炉内の初期温度を130℃として、その後250℃、350℃、450℃、515℃と段階的に焼成してイミド化を進めた以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。また、得られたポリイミドフィルムを用いて、実施例1と同様にしてフレキシブル金属積層板を製造した。
Example 3
As shown in Table 1, the TD shrinkage rate is 3.90, the TD expansion rate is 0.00, the initial temperature in the tenter furnace is 130 ° C, and then 250 ° C, 350 ° C, 450 ° C, and 515 ° C. A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the imidization was advanced by firing stepwise. Moreover, the flexible metal laminated board was manufactured like Example 1 using the obtained polyimide film.

これらポリイミドフィルムおよびフレキシブル金属積層板について、実施例1と同様の方法で物性値評価を行った。その結果を表2および表3に示す。この結果から明らかなように、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いると、エッチング処理後の寸法変化率が小さくなり、寸法変化率も全幅にわたって安定したものであった。
上記ポリイミドフィルムの弾性率は6.1GPaであった。
About these polyimide films and flexible metal laminated boards, the physical-property value evaluation was performed by the method similar to Example 1. FIG. The results are shown in Tables 2 and 3. As is clear from this result, when the polyimide film according to the present invention was used, the dimensional change rate after the etching treatment was small, and the dimensional change rate was stable over the entire width.
The elastic modulus of the polyimide film was 6.1 GPa.

〔実施例4〕
表1に示すように、TD収縮率を2.00、TD膨張率を0.00とするとともに、テンター炉内の初期温度を130℃として、その後250℃、350℃、450℃、515℃と段階的に焼成してイミド化を進めた以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。また、得られたポリイミドフィルムを用いて、実施例1と同様にしてフレキシブル金属積層板を製造した。
Example 4
As shown in Table 1, the TD shrinkage is 2.00, the TD expansion is 0.00, the initial temperature in the tenter furnace is 130 ° C, and then 250 ° C, 350 ° C, 450 ° C, and 515 ° C. A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the imidization was advanced by firing stepwise. Moreover, the flexible metal laminated board was manufactured like Example 1 using the obtained polyimide film.

これらポリイミドフィルムおよびフレキシブル金属積層板について、実施例1と同様の方法で物性値評価を行った。その結果を表2および表3に示す。この結果から明らかなように、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いると、エッチング処理後の寸法変化率が小さくなり、寸法変化率も全幅にわたって安定したものであった。
上記ポリイミドフィルムの弾性率は5.8GPaであった。
About these polyimide films and flexible metal laminated boards, the physical-property value evaluation was performed by the method similar to Example 1. FIG. The results are shown in Tables 2 and 3. As is clear from this result, when the polyimide film according to the present invention was used, the dimensional change rate after the etching treatment was small, and the dimensional change rate was stable over the entire width.
The elastic modulus of the polyimide film was 5.8 GPa.

〔実施例5〕
表1に示すように、TD収縮率を4.00、TD膨張率を0.00とするとともに、テンター炉内の初期温度を160℃として、その後300℃、450℃、515℃と段階的に焼成してイミド化を進めた以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。また、得られたポリイミドフィルムを用いて、実施例1と同様にしてフレキシブル金属積層板を製造した。
Example 5
As shown in Table 1, the TD shrinkage rate is 4.00, the TD expansion rate is 0.00, the initial temperature in the tenter furnace is 160 ° C, and then 300 ° C, 450 ° C, and 515 ° C in stages. A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the imidization was advanced by firing. Moreover, the flexible metal laminated board was manufactured like Example 1 using the obtained polyimide film.

これらポリイミドフィルムおよびフレキシブル金属積層板について、実施例1と同様の方法で物性値評価を行った。その結果を表2〜表3に示す。この結果から明らかなように、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いると、エッチング処理後の寸法変化率が小さくなり、寸法変化率も全幅にわたって安定したものであった。
上記ポリイミドフィルムの弾性率は6.0GPaであった。
About these polyimide films and flexible metal laminated boards, the physical-property value evaluation was performed by the method similar to Example 1. FIG. The results are shown in Tables 2 to 3. As is clear from this result, when the polyimide film according to the present invention was used, the dimensional change rate after the etching treatment was small, and the dimensional change rate was stable over the entire width.
The elastic modulus of the polyimide film was 6.0 GPa.

〔実施例6〕
表1に示すように、TD収縮率を3.00、TD膨張率を0.00とするとともに、テンター炉内の初期温度を170℃として、その後300℃、450℃、515℃と段階的に焼成してイミド化を進めた以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。また、得られたポリイミドフィルムを用いて、実施例1と同様にしてフレキシブル金属積層板を製造した。
Example 6
As shown in Table 1, the TD shrinkage rate is set to 3.00, the TD expansion rate is set to 0.00, the initial temperature in the tenter furnace is set to 170 ° C, and thereafter, 300 ° C, 450 ° C, and 515 ° C in stages. A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the imidization was advanced by firing. Moreover, the flexible metal laminated board was manufactured like Example 1 using the obtained polyimide film.

これらポリイミドフィルムおよびフレキシブル金属積層板について、実施例1と同様の方法で物性値評価を行った。その結果を表2および表3に示す。この結果から明らかなように、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いると、エッチング処理後の寸法変化率が小さくなり、寸法変化率も全幅にわたって安定したものであった。
上記ポリイミドフィルムの弾性率は6.0GPaであった。
About these polyimide films and flexible metal laminated boards, the physical-property value evaluation was performed by the method similar to Example 1. FIG. The results are shown in Tables 2 and 3. As is clear from this result, when the polyimide film according to the present invention was used, the dimensional change rate after the etching treatment was small, and the dimensional change rate was stable over the entire width.
The elastic modulus of the polyimide film was 6.0 GPa.

〔実施例7〕
表1に示すように、TD収縮率を5.00、TD膨張率を0.00とするとともに、テンター炉内の初期温度を165℃として、その後300℃、450℃、515℃と段階的に焼成してイミド化を進めた以外は、実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを得た。また、得られたポリイミドフィルムを用いて、実施例1と同様にしてフレキシブル金属積層板を製造した。
Example 7
As shown in Table 1, the TD shrinkage rate is set to 5.00, the TD expansion rate is set to 0.00, the initial temperature in the tenter furnace is set to 165 ° C., and then 300 ° C., 450 ° C., and 515 ° C. in stages. A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the imidization was advanced by firing. Moreover, the flexible metal laminated board was manufactured like Example 1 using the obtained polyimide film.

これらポリイミドフィルムおよびフレキシブル金属積層板について、実施例1と同様の方法で物性値評価を行った。その結果を表2〜表3に示す。この結果から明らかなように、本発明にかかるポリイミドフィルムを用いると、エッチング処理後の寸法変化率が小さくなり、寸法変化率も全幅にわたって安定したものであった。
上記ポリイミドフィルムの弾性率は6.1GPaであった。
About these polyimide films and flexible metal laminated boards, the physical-property value evaluation was performed by the method similar to Example 1. FIG. The results are shown in Tables 2 to 3. As is clear from this result, when the polyimide film according to the present invention was used, the dimensional change rate after the etching treatment was small, and the dimensional change rate was stable over the entire width.
The elastic modulus of the polyimide film was 6.1 GPa.

〔比較例1〕
表1に示すように、TD収縮率を0.00、TD膨張率を0.00とした以外は、実施例1と同様にして比較ポリイミドフィルムを得た(表1中では「比1」)。また、得られた比較ポリイミドフィルムを用いて、実施例1と同様にして比較フレキシブル金属積層板を製造した。
[Comparative Example 1]
As shown in Table 1, a comparative polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the TD shrinkage was 0.00 and the TD expansion was 0.00 (“Ratio 1” in Table 1). . Moreover, the comparative flexible metal laminated board was manufactured like Example 1 using the obtained comparative polyimide film.

これら比較ポリイミドフィルムおよび比較フレキシブル金属積層板について、実施例1と同様の方法で物性値評価を行った。その結果を表2〜表3に示す(表2・3・4中では「比1」)。この結果から明らかなように、比較ポリイミドフィルムを用いると、エッチング後の寸法変化率が大きく、特にDR およびDL 方向における寸法変化量が大きくなり、全幅にわたって寸法変化率の安定したフレキシブル金属積層板が得られないことが明らかになった。 About these comparative polyimide films and a comparative flexible metal laminated board, the physical-property value evaluation was performed by the method similar to Example 1. FIG. The results are shown in Tables 2 to 3 ("Ratio 1" in Tables 2, 3 and 4). As is apparent from this result, when a comparison polyimide film, large dimensional change after etching, particularly D dimensional change becomes large in R and D L direction, the dimensional change rate across the width stable flexible metal laminate It became clear that the board could not be obtained.

上記ポリイミドフィルムの弾性率は6.1GPaであった。   The elastic modulus of the polyimide film was 6.1 GPa.

Figure 0004597737
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Figure 0004597737
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Figure 0004597737
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分子配向角、分子配向軸のサンプルのサンプリング方法Sampling method of sample of molecular orientation angle and molecular orientation axis 引裂き伝播抵抗値の測定の際のフィルムサンプリング方法Film sampling method for measurement of tear propagation resistance フィルムの分子配向軸および分子配向角の説明図Illustration of molecular orientation axis and molecular orientation angle of film フィルムの製造方式及び搬送方式の模式図Schematic diagram of film production system and transport system フィルムの把持状態の模式図Schematic diagram of the gripping state of the film FPCからのサンプル採取部位の模式図Schematic diagram of sample collection site from FPC 寸法変化率の測定用サンプルの寸法変化測定部位を説明する為の模式図Schematic diagram for explaining the dimensional change measurement part of the sample for measuring the dimensional change rate

符号の説明Explanation of symbols

1 40mm
5 弾性率測定用サンプルのサンプリング部位
10 MD方向(フィルムの機械送り方向)
11 正(プラス)の分子配向角
12 負(マイナス)の分子配向角
13 TD方向(フィルムの機械送り方向に垂直な方向)
14 MD方向
15 TD方向
20 分子配向軸
21 サンプルフィルム(分子配向軸方向)
22 サンプルフィルム(分子配向軸に垂直方向)
23 分子配向軸に垂直な方向
24 10mm
25 10mm
26 20mm
31 フィルム搬送装置
32 第一の加熱炉
33 第二の加熱炉
34 第三の加熱炉
35 第四の加熱炉
36 第五の加熱炉
37 フィルム把持開始部位
38 フィルムの把持装置間の幅、X
39 把持装置間に把持したゲルフィルムのTD方向のフィルム幅、Y
40 フィルム搬送方向
41 引き延ばす前のTD方向の両端部固定端の幅、Z
42 フィルムが炉内でTD方向に引き延ばされた際の両端部固定端の幅、W
43 有機溶剤溶液を流延・塗布する装置(ダイス)
44 有機溶剤溶液の塗布用基材
45 ゲルフィルムに張力をかける装置
46 ゲルフィルムの剥離部位
47 巻き取り装置に巻き取る工程(ポリイミドフィルムの巻き取り装置)
50 フレキシブル金属積層板
51 測定サンプル(一方の端部)
52 測定サンプル(中央部)
53 測定サンプル(他方の端部)
60 測定用の穴
1 40mm
5 Sampling part of elastic modulus measurement sample 10 MD direction (machine feed direction of film)
11 Positive (plus) molecular orientation angle 12 Negative (minus) molecular orientation angle 13 TD direction (direction perpendicular to the machine feed direction of the film)
14 MD direction 15 TD direction 20 Molecular orientation axis 21 Sample film (molecular orientation axis direction)
22 Sample film (perpendicular to molecular orientation axis)
23 Direction perpendicular to the molecular orientation axis 24 10 mm
25 10mm
26 20mm
31 Film conveying device 32 First heating furnace 33 Second heating furnace 34 Third heating furnace 35 Fourth heating furnace 36 Fifth heating furnace 37 Film grip start portion 38 Width between film gripping devices, X
39 Film width in the TD direction of the gel film held between the holding devices, Y
40 Film transport direction 41 Width of both ends fixed end in TD direction before stretching, Z
42 Width of the fixed ends at both ends when the film is stretched in the TD direction in the furnace, W
43 Equipment for casting and applying organic solvent solutions (dies)
44 Substrate for coating organic solvent solution 45 Device for applying tension to gel film 46 Peeling part of gel film 47 Step of winding on winding device (polyimide film winding device)
50 Flexible metal laminate 51 Measurement sample (one end)
52 Measurement sample (center)
53 Measurement sample (the other end)
60 hole for measurement

Claims (6)

連続的に生産されるポリイミドフィルムであって、その全幅において、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dとを測定したときに、引裂き伝播抵抗値比d/cが1.01以上1.25以下となっており、かつ、引裂き伝播抵抗値比d/cの最大値と最小値の差が0.10以下となっているとともに、全幅において、ポリイミドフィルムの分子配向角が、連続的に製造されるときの搬送方向(MD方向)を0°としたときに、0±20°以内となっていることを特徴とするポリイミドフィルム。 A polyimide film produced continuously, and when the tear propagation resistance value c in the direction of the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis are measured over the entire width, the tear propagation resistance The value ratio d / c is 1.01 or more and 1.25 or less, and the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio d / c is 0.10 or less . The polyimide film is characterized in that the molecular orientation angle of the polyimide film is within 0 ± 20 ° when the transport direction (MD direction) when continuously produced is 0 ° . 請求項1記載のポリイミドフィルムを含む積層体 Laminate comprising a polyimide film according to claim 1. さらに、少なくとも金属層を含むことを特徴とする請求項2記載の積層体The laminate according to claim 2 , further comprising at least a metal layer . 請求項に記載のポリイミドフィルムをベースフィルムとして用いてなるフレキシブルプリント配線板The flexible printed wiring board which uses the polyimide film of Claim 1 as a base film . 請求項1に記載のポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に、他の高分子層または金属を積層することを特徴とする積層体の製造方法。The manufacturing method of the laminated body characterized by laminating | stacking another polymer layer or a metal on the at least one surface of the polyimide film of Claim 1. 連続的に生産されるポリイミドフィルムの製造方法であって、その全幅において、分子配向軸方向の引裂き伝播抵抗値cと分子配向軸に垂直な方向の引裂き伝播抵抗値dとを測定したときに、引裂き伝播抵抗値比d/cが1.01以上1.25以下となっており、かつ、引裂き伝播抵抗値比d/cの最大値と最小値の差が0.10以下となっているとともに、全幅において、ポリイミドフィルムの分子配向角が、連続的に製造されるときの搬送方向(MD方向)を0°としたときに、0±20°以内となっているように制御することを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。A method for producing a continuously produced polyimide film, and when the tear propagation resistance value c in the direction of the molecular orientation axis and the tear propagation resistance value d in the direction perpendicular to the molecular orientation axis are measured over the entire width, The tear propagation resistance value ratio d / c is 1.01 or more and 1.25 or less, and the difference between the maximum value and the minimum value of the tear propagation resistance value ratio d / c is 0.10 or less. In the entire width, the molecular orientation angle of the polyimide film is controlled to be within 0 ± 20 ° when the transport direction (MD direction) when continuously produced is 0 °. A method for producing a polyimide film.
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