JP4578256B2 - Electron beam sterilizer and electron beam irradiation method of electron beam sterilizer - Google Patents

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Description

本発明は、電子線殺菌装置、及び、電子線殺菌装置の電子線照射方法に関し、特に、搬送路面が固定されている電子線殺菌装置、及び、電子線殺菌装置の電子線照射方法に関する。   The present invention relates to an electron beam sterilization apparatus and an electron beam irradiation method for an electron beam sterilization apparatus, and more particularly to an electron beam sterilization apparatus having a transport path surface fixed and an electron beam irradiation method for an electron beam sterilization apparatus.

PETボトルのように飲料液体を封入する容器は、大量に用いられている。その殺菌工程の容器の流れは、極端に高速化されている。殺菌剤、消毒剤を含む洗浄水による洗浄は、流れ速度の高速化の障壁であるとともに、環境問題の解決を困難にしている。高速化と環境問題の解決のために知られている技術は、電子線照射殺菌である。   Containers that enclose beverage liquids, such as PET bottles, are used in large quantities. The container flow in the sterilization process is extremely accelerated. Cleaning with cleaning water containing a disinfectant and disinfectant is a barrier to increasing the flow rate and makes it difficult to solve environmental problems. A known technique for speeding up and solving environmental problems is electron beam irradiation sterilization.

電子線照射殺菌の問題点の1つとして、容器の内外面に均一に電子線を照射することが困難である課題が知られている(参照:特許文献1)。その困難の原因は、電子線吸収線量の不均一性と拡散性とである。PETボトルは、中エネルギー電子線照射装置の直下に配置される。電子線は、大気とPETボトルを透過する際に、拡散的に減衰する。その減衰量は、透過距離に依存して増大する。このような電子線の物性に起因して、下記の問題点がある。
(1)首下外側面の線量
PETボトルには、首部位がある。首部位の厚みは、構造的に厚く設計されている。特に、最も厚く設計されているネックフューチャの影になる首下外側面まで届く電子線の線量は極端に少なくなる。
(2)底部位の線量
底部位は電子線照射装置から遠く離れ、且つ、ボトル上方部分の影に入る。底部位に届く電子線の線量は極端に少なくなる。特に、ボトル底部分の影になる底部外側面に届く占領は、底部内側面よりもさらに少なくなる。
(3)PETボトルを搬送する搬送機器部分、特に、ボトル容器表面に直接に接触する部位(例示:把持用フィンガー)は電子線を遮断する。そのような接触部位の影に入る領域の電子線の線量は極端に少なくなる。
(4)電子線照射領域は、真空化されていない。電子線は大気に衝突して拡散する。拡散は、ボトルに照射される電子線の線量を極端に少なくする。
As one of the problems of electron beam irradiation sterilization, a problem is known that it is difficult to uniformly irradiate the inner and outer surfaces of the container with an electron beam (see Patent Document 1). The cause of the difficulty is non-uniformity and diffusivity of the electron beam absorbed dose. The PET bottle is disposed directly below the medium energy electron beam irradiation apparatus. The electron beam is diffusely attenuated when passing through the atmosphere and the PET bottle. The amount of attenuation increases depending on the transmission distance. Due to the physical properties of such electron beams, there are the following problems.
(1) Dose on the outer side of the lower neck The PET bottle has a neck region. The thickness of the neck portion is designed to be structurally thick. In particular, the dose of the electron beam reaching the outer side of the neck that is the shadow of the thickest neck feature is extremely reduced.
(2) Dose of the bottom part The bottom part is far away from the electron beam irradiation device and enters the shadow of the upper part of the bottle. The electron beam dose reaching the bottom is extremely low. In particular, the occupation reaching the bottom outer surface, which is a shadow of the bottle bottom portion, is even less than the bottom inner surface.
(3) A transport device part that transports the PET bottle, in particular, a part that directly contacts the surface of the bottle container (example: gripping finger) blocks the electron beam. The dose of the electron beam in the area that falls into the shadow of such a contact site is extremely reduced.
(4) The electron beam irradiation area is not evacuated. Electron beams collide with the atmosphere and diffuse. Diffusion extremely reduces the dose of electron beam that irradiates the bottle.

このような問題点の原因である電子線の減衰と拡散に対向して電子線のエネルギー(電子1個当たりのエネルギー)を増大し、又は、電子線の量(アンペア)を増大することは、電子線発生源、冷却機器のような装置のコストを極端に増大させる。   Increasing the energy of the electron beam (energy per one electron) in opposition to the attenuation and diffusion of the electron beam that is the cause of such a problem, or increasing the amount of the electron beam (ampere) The cost of devices such as electron beam generation sources and cooling equipment is extremely increased.

特開2004−67233号JP 2004-67233 A

本発明の課題は、拡散電子線の有効利用による電子線の均一照射により装置コストの増大を抑制する電子線殺菌装置、及び、電子線殺菌装置の電子線照射方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electron beam sterilization apparatus that suppresses an increase in apparatus cost by uniform irradiation of an electron beam by effectively using a diffusion electron beam, and an electron beam irradiation method of the electron beam sterilization apparatus.

本発明による電子線殺菌装置は、搬送路面に対して電子線が照射される。搬送路面に載置される容器は搬送路面に対して推進力を与えられる。反射板(11又は11’)は、電子線を反射させるために設けられている。電子線のうち中心面領域の中心面領域電子線(7)と搬送路面とが交叉する交叉領域(5)と搬送路面の搬送中心線(1)とは適正角度(θ)で交叉している。この交叉は、容器に対して電子線照射を均一化する。反射板と搬送路面上の容器との間には、搬送方向(A)に直交する搬送方向直交方向に隙間(8’)が与えられ、中心面領域電子線(7)は隙間(8’)に通される。容器を搬送方向に駆動する駆動機器(2)は、容器に対して反射板(11)と搬送方向直交に反対側に配置されている。   In the electron beam sterilization apparatus according to the present invention, an electron beam is applied to the conveyance path surface. A container placed on the conveyance path surface is given a propulsive force to the conveyance path surface. The reflector (11 or 11 ') is provided to reflect the electron beam. Among the electron beams, the center plane region electron beam (7) of the center plane region and the crossing region (5) where the transport road surface intersects and the transport center line (1) of the transport road surface intersect at an appropriate angle (θ). . This crossing makes the electron beam irradiation uniform to the container. A gap (8 ′) is provided between the reflector and the container on the conveyance path surface in the direction perpendicular to the conveyance direction orthogonal to the conveyance direction (A), and the center plane region electron beam (7) has a gap (8 ′). Passed through. The drive device (2) that drives the container in the transport direction is disposed on the opposite side of the container perpendicular to the transport direction with respect to the reflector (11).

搬送機器は、容器に陰影を形成する。搬送機器が存在しない側に配置される反射板で反射される電子線は、容器の片側の概半分に対して陰影なく照射される。陰影を少なくするために、駆動機器は、容器に接触して押し力を与える螺旋パイプとして提供されることが好ましい。1本(1軸)の螺旋パイプは、原則的に2点で容器に接触するので、陰影造形効果が薄い。そのような螺旋パイプは、第1螺旋パイプ(図5参照)と第2螺旋パイプとで構成される。第1螺旋パイプと第2螺旋パイプは鉛直方向に互いに離隔している。容器は、鉛直方向に離隔する少なくとも2点で押し力を受けるので、搬送路面に摺動する容器に対して転倒方向の回転モーメントを与えない。   The conveying device forms a shadow on the container. The electron beam reflected by the reflecting plate disposed on the side where the conveying device does not exist is irradiated without shadow on an approximately half of one side of the container. In order to reduce shading, the drive device is preferably provided as a helical pipe that contacts the container and provides a pushing force. Since one (one-axis) spiral pipe basically contacts the container at two points, the shadow shaping effect is thin. Such a spiral pipe is composed of a first spiral pipe (see FIG. 5) and a second spiral pipe. The first spiral pipe and the second spiral pipe are separated from each other in the vertical direction. Since the container receives a pressing force at at least two points that are separated in the vertical direction, a rotational moment in the falling direction is not applied to the container that slides on the conveyance path surface.

反射板は、容器の首部に対して電子線のうち散乱的に拡散している拡散電子線を反射させる第1部位(12)と、容器の胴部及び底部内面に対して拡散電子線を反射させる第2部位(13)と容器の底部外面に対して拡散電子線を反射させる第3部位(14)とを備えることが電子線均一照射の点で特に効果的である。   The reflector reflects the diffused electron beam to the first part (12) that reflects the scattered electron beam scattered among the electron beams to the neck of the container and the inner surface of the body and the bottom of the container. It is particularly effective in terms of uniform electron beam irradiation to include the second part (13) to be applied and the third part (14) to reflect the diffused electron beam to the outer surface of the bottom of the container.

より具体的には、下記の幾何学的配置構造が好ましい。駆動機器は、搬送方向に前方に位置する第1駆動機器(3)と、搬送方向に後方に位置する第2駆動機器(2)とで形成され、反射板は、搬送方向に後方に位置する第1反射板(11)と、搬送方向に前方に位置する第2反射板(11’)とで形成され、第2反射板(11’)は搬送路面の一方側で第2駆動器(2)より前方に位置し、第1反射板(11)は搬送路面の他方側で第1駆動器(3)より後方に位置し、第1反射板(11)と容器の間の隙間(8’)は既述の他方側に配置され、第2反射板(11’)と容器の間の隙間(8)は既述の一方側に配置されている。このような点対称配置は、容器の全体に対して電子線照射の均一性を保証する。   More specifically, the following geometric arrangement structure is preferable. The drive device is formed by a first drive device (3) positioned forward in the transport direction and a second drive device (2) positioned rearward in the transport direction, and the reflection plate is positioned rearward in the transport direction. The first reflector (11) and a second reflector (11 ′) positioned forward in the transport direction are formed, and the second reflector (11 ′) is a second driver (2) on one side of the transport path. ), The first reflector (11) is located behind the first driver (3) on the other side of the conveyance path surface, and the gap (8 ′) between the first reflector (11) and the container. ) Is disposed on the other side described above, and the gap (8) between the second reflector (11 ′) and the container is disposed on the one side described above. Such a point-symmetric arrangement ensures the uniformity of electron beam irradiation over the entire container.

電子線照射の均一効果を更に増大させるためには、中心面領域電子線(7)の電流と、その生成に使用される加速電圧の少なくとも一方が可変に制御されることが好適である。   In order to further increase the uniform effect of electron beam irradiation, it is preferable that at least one of the current of the center plane region electron beam (7) and the acceleration voltage used for generation thereof is variably controlled.

本発明による電子線殺菌装置の電子線照射方法は、電子線を搬送路面上で搬送される容器の側方に照射すること、側方に配置される反射板に電子線の中央領域から搬送方向直交方向に拡散される拡散電子線を反射させて容器に照射することの複数のステップで形成されている。   The electron beam irradiating method of the electron beam sterilization apparatus according to the present invention irradiates the electron beam to the side of the container transported on the transport path surface, the transport direction from the central region of the electron beam to the reflector disposed on the side It is formed by a plurality of steps of reflecting the diffused electron beam diffused in the orthogonal direction and irradiating the container.

本発明による電子線殺菌装置、及び、電子線殺菌装置の電子線照射方法は、拡散電子線の有効利用による電子線の均一照射により装置コストの増大を抑制することができる。   The electron beam sterilization apparatus and the electron beam irradiation method of the electron beam sterilization apparatus according to the present invention can suppress an increase in apparatus cost by uniform irradiation of an electron beam by effective use of a diffusion electron beam.

本発明による電子線殺菌装置の実施の最良の形態は、図に対応して、詳細に記述される。搬送路の搬送中心線1は、図1に示されるように、左右両側の搬送機器により、規定されている。その搬送機器は、第1パイプスクリュー2と第2パイプスクリュー3とで形成されている。第1パイプスクリュー2と第2パイプスクリュー3はそれぞれに、螺旋に巻かれるパイプ4で製作されている。殺菌対象のペットボトルPは、搬送方向に隣り合うパイプ部分の間に挟まれて同一の搬送方向Aに搬送される。そのパイプ部分とペットボトルPは、点接触又は点領域接触し、より具体的には2点又は4点で接触する。   The best mode for carrying out the electron beam sterilization apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The conveyance center line 1 of the conveyance path is defined by conveyance devices on the left and right sides as shown in FIG. The conveying device is formed of a first pipe screw 2 and a second pipe screw 3. The first pipe screw 2 and the second pipe screw 3 are each made of a pipe 4 wound in a spiral. The PET bottle P to be sterilized is transported in the same transport direction A while being sandwiched between adjacent pipe portions in the transport direction. The pipe portion and the plastic bottle P are in point contact or point area contact, and more specifically in contact at two or four points.

電子線(ビーム)は、扇状に照射される。電子線は、扇状面に直交する方向に適正である有効幅を有している。以下、電子線は、鉛直面領域で扇状に分布することとして記述される。そのような扇状面と搬送路の搬送面(例示:搬送水平面)を含む基準面Sとが交叉する交叉線5は、搬送中心線1に対して適正交叉角度θを有している。搬送中心線1と交叉線5とは、交叉点6で交叉している。搬送中心線1と第1パイプスクリュー2と第2パイプスクリュー3は、交叉点6に関して点対称に構造化されて配置されている。交叉線5に照射される電子線の分布は、交差点6に関して点対称に制御されている。電子線は、そのような分布範囲で一定方向に走査されている。   The electron beam (beam) is irradiated in a fan shape. The electron beam has an effective width that is appropriate in a direction orthogonal to the fan-shaped surface. Hereinafter, the electron beam is described as being fan-shaped in the vertical plane region. A cross line 5 where such a fan-shaped surface and a reference plane S including a transport surface (eg, transport horizontal surface) of the transport path intersect has an appropriate crossing angle θ with respect to the transport center line 1. The conveyance center line 1 and the intersection line 5 intersect at the intersection point 6. The transport center line 1, the first pipe screw 2, and the second pipe screw 3 are arranged in a point-symmetric manner with respect to the intersection point 6. The distribution of the electron beam applied to the crossing line 5 is controlled point-symmetrically with respect to the intersection 6. The electron beam is scanned in a certain direction in such a distribution range.

第1パイプスクリュー2は、搬送方向に後方に位置し、搬送中心線1の一方の片側に配置されている。第2パイプスクリュー3は、搬送方向に前方に位置し、搬送中心線1の他方の片側に配置されている。図1に例示される3体のペットボトルPのうち交叉点6より搬送方向Aに後方に位置するペットボトルPは、図2に示されるように、電子線分布領域(電子線中央領域)7より片側(例示:搬送方向に見て左側)に存在する。電子線分布領域7は、電子線発生源と電子線偏向器の組である電子線走査装置9により生成されている。   The first pipe screw 2 is located rearward in the transport direction and is disposed on one side of the transport center line 1. The second pipe screw 3 is positioned forward in the transport direction and is disposed on the other side of the transport center line 1. Among the three plastic bottles P illustrated in FIG. 1, the plastic bottle P located rearward in the transport direction A from the crossing point 6 has an electron beam distribution region (electron beam central region) 7 as shown in FIG. It exists on one side (example: left side when viewed in the transport direction). The electron beam distribution region 7 is generated by an electron beam scanning device 9 that is a set of an electron beam generation source and an electron beam deflector.

反射板と搬送路面上のペットボトルPとの間には、搬送方向Aに直交する搬送方向直交方向に隙間8が与えられ、電子線走査装置9から投射される電子線は、隙間8に通される。詳細には、ペットボトルPに接触せずペットボトルPの片側(例示:右側)に、第1電子線反射板11が固定されて配置されている。第1電子線反射板11は、第1上側斜板12と、第1鉛直方向延伸板13と、第1下側斜板14と、第1水平板15の組合せとして提供されている。第1鉛直方向延伸板13は第1上側斜板12の下端部位で第1上側斜板12に接続し、第1下側斜板14は第1鉛直方向延伸板13の下端部位で第1鉛直方向延伸板13に接続し、第1水平板15は第1下側斜板14の下端部位で第1下側斜板14に接続している。第1上側斜板12のより上側部位は、第1上側斜板12のより下側部位より電子線分布領域7に対してより遠くに離隔している。下側に向いて延びる第1下側斜板14の下側部位は、第1下側斜板14の上側部位に対して第1パイプスクリュー2の側に延びている。第1水平板15は、水平方向に第1パイプスクリュー2の側に延びている。第1鉛直方向延伸板13は、ペットボトルPを囲むように円筒形、楕円形、放物面形に曲げられることは有効である。   A gap 8 is provided between the reflecting plate and the plastic bottle P on the conveyance path surface in a direction orthogonal to the conveyance direction A, and an electron beam projected from the electron beam scanning device 9 passes through the gap 8. Is done. In detail, the 1st electron beam reflector 11 is fixed and arrange | positioned at one side (example: right side) of the PET bottle P, without contacting the PET bottle P. As shown in FIG. The first electron beam reflector 11 is provided as a combination of a first upper swash plate 12, a first vertically extending plate 13, a first lower swash plate 14, and a first horizontal plate 15. The first vertical swash plate 13 is connected to the first upper swash plate 12 at the lower end portion of the first upper swash plate 12, and the first lower swash plate 14 is the first vertical at the lower end portion of the first vertical swash plate 13. The first horizontal plate 15 is connected to the first lower swash plate 14 at the lower end portion of the first lower swash plate 14. The upper part of the first upper swash plate 12 is more distant from the electron beam distribution region 7 than the lower part of the first upper swash plate 12. The lower part of the first lower swash plate 14 extending downward is extended to the first pipe screw 2 side with respect to the upper part of the first lower swash plate 14. The first horizontal plate 15 extends toward the first pipe screw 2 in the horizontal direction. It is effective that the first vertically extending plate 13 is bent into a cylindrical shape, an elliptical shape, or a parabolic shape so as to surround the plastic bottle P.

電子線走査装置9から投射される電子線の電子線分布領域7は、空気(大気)に衝突して散乱的に拡散し、搬送方向Aに直交する散乱直交方向又は交叉線5に直交する散乱直交方向に拡散する。このような拡散は、照射密度の均一性に間接的に寄与する。拡散して第1上側斜板12に向かう電子線は、第1上側斜板12で反射して、ペットボトルPの首部分に向かう。首部分は、厚く成形され、又は、ねじが切られていて影部分が生じているが、第1上側斜板12で反射する反射線16は斜め下からその首部分の概右半分に照射される。第1鉛直方向延伸板13で反射する反射線17は、ペットボトルPの側壁に照射されて内部に進入し、内部に進入する電子線の一部分は、反対側の側壁又はペットボトルPの底部内面に照射される。電子線分布領域7の上で鉛直下方に進む電子線は、隙間8を通過して第1下側斜板14で反射し、その反射線18はペットボトルPの底部面に照射され、内部に進入して底部の内側外面に照射される。ペットボトルPを透過してペットボトルPから外側に出る電子線は第1水平板15で反射して、更にペットボトルPに照射される。   The electron beam distribution region 7 of the electron beam projected from the electron beam scanning device 9 collides with air (atmosphere) and diffuses and diffuses, and the scattering orthogonal direction orthogonal to the transport direction A or the scattering orthogonal to the cross line 5 is scattered. Spread in the orthogonal direction. Such diffusion indirectly contributes to the uniformity of irradiation density. The electron beam that diffuses and travels toward the first upper swash plate 12 is reflected by the first upper swash plate 12 and travels toward the neck portion of the plastic bottle P. The neck portion is thickly formed, or the shadow portion is formed by being threaded, but the reflection line 16 reflected by the first upper swash plate 12 is irradiated from the diagonally lower side to the almost right half of the neck portion. The The reflection line 17 reflected by the first vertically extending plate 13 is irradiated on the side wall of the plastic bottle P and enters the inside, and a part of the electron beam entering the inside is a side wall on the opposite side or the bottom inner surface of the plastic bottle P. Is irradiated. The electron beam traveling vertically downward on the electron beam distribution region 7 passes through the gap 8 and is reflected by the first lower swash plate 14, and the reflection line 18 is irradiated to the bottom surface of the plastic bottle P, and enters the inside. It enters and irradiates the inner outer surface of the bottom. The electron beam that passes through the plastic bottle P and exits from the plastic bottle P is reflected by the first horizontal plate 15 and further irradiated to the plastic bottle P.

図1に例示される3体のペットボトルPのうち交叉点6より搬送方向Aに前方に位置するペットボトルPは、図3に示されるように、電子線分布領域7より他の片側(例示:搬送方向に見て右側)に存在する。   Of the three plastic bottles P illustrated in FIG. 1, the plastic bottle P positioned in the transport direction A from the crossing point 6 is on the other side of the electron beam distribution region 7 (illustrated), as shown in FIG. 3. : Present on the right side when viewed in the transport direction.

ペットボトルPに接触せずペットボトルPの片側(例示:左側)に、図3に示されるように、第2電子線反射板11’が固定されて配置されている。第2電子線反射板11’は、第2上側斜板12’と、第2鉛直方向延伸板13’と、第2下側斜板14’と、第2水平板15’の組合せとして提供されている。第2鉛直方向延伸板13’は第2上側斜板12’の下端部位で第2上側斜板12’に接続し、第2下側斜板14’は第2鉛直方向延伸板13’の下端部位で第2鉛直方向延伸板13’に接続し、第2水平板15’は第2下側斜板14’の下端部位で第2下側斜板14’に接続している。第2上側斜板12’のより上側部位は、第2上側斜板12’のより下側部位より電子線分布領域7に対してより遠くに離隔している。下側に向いて延びる第2下側斜板14’の下側部位は、第2下側斜板14’の上側部位に対して第2パイプスクリュー3の側に延びている。第2水平板15’は、水平方向に第2パイプスクリュー3の側に延びている。第2電子線反射板11’に関する電子線照射機能は、第1電子線反射板11の既述のそれの機能に点対称的に同等である。   As shown in FIG. 3, the second electron beam reflector 11 ′ is fixed and arranged on one side (example: left side) of the PET bottle P without contacting the PET bottle P. The second electron beam reflecting plate 11 ′ is provided as a combination of a second upper swash plate 12 ′, a second vertically extending plate 13 ′, a second lower swash plate 14 ′, and a second horizontal plate 15 ′. ing. The second vertically extending plate 13 'is connected to the second upper swash plate 12' at the lower end portion of the second upper swash plate 12 ', and the second lower swash plate 14' is the lower end of the second vertically extending plate 13 '. The second horizontal plate 15 ′ is connected to the second lower swash plate 14 ′ at the lower end portion of the second lower swash plate 14 ′. The upper part of the second upper swash plate 12 ′ is farther away from the electron beam distribution region 7 than the lower part of the second upper swash plate 12 ′. The lower part of the second lower swash plate 14 ′ extending toward the lower side extends toward the second pipe screw 3 with respect to the upper part of the second lower swash plate 14 ′. The second horizontal plate 15 ′ extends to the second pipe screw 3 side in the horizontal direction. The electron beam irradiation function relating to the second electron beam reflector 11 ′ is point-symmetrically equivalent to that of the first electron beam reflector 11 described above.

図4は、第1パイプスクリュー2の前方部位と第2パイプスクリュー3の後方部位とが搬送方向Aに直交する方向に重複する重複区間の配置形態を示している。交叉点6の近傍領域では、電子線はペットボトルPに同時に点対称に照射される。   FIG. 4 shows an arrangement form of overlapping sections in which the front part of the first pipe screw 2 and the rear part of the second pipe screw 3 overlap in a direction orthogonal to the transport direction A. In the region near the intersection point 6, the electron beam is applied to the plastic bottle P at the same time in point symmetry.

図2と図3に示されるように、第1電子線反射板11と第2電子線反射板11’は、第1パイプスクリュー2と第2パイプスクリュー3との比較でそれぞれに、交叉線5に対してより近い側に配置され、且つ、第1パイプスクリュー2と第2パイプスクリュー3は、第1電子線反射板11と第2電子線反射板11’との比較でそれぞれに、交叉線5に対してより遠い側に配置されている。このような配置は、第1パイプスクリュー2と第2パイプスクリュー3が存在しない側に存在する第1電子線反射板11と第2電子線反射板11’の反射効果がそれぞれに大きい。但し、スペースがあれば反射板を両側に配置することは禁止されない。このような意味では、両側に配置される反射板は、搬送中心線1に対して非対称に配置される。   As shown in FIGS. 2 and 3, the first electron beam reflector 11 and the second electron beam reflector 11 ′ have crossing lines 5, respectively, in comparison with the first pipe screw 2 and the second pipe screw 3. And the first pipe screw 2 and the second pipe screw 3 are respectively crossed lines in comparison with the first electron beam reflector 11 and the second electron beam reflector 11 ′. It is arranged on the farther side than 5. In such an arrangement, the reflection effects of the first electron beam reflecting plate 11 and the second electron beam reflecting plate 11 'existing on the side where the first pipe screw 2 and the second pipe screw 3 do not exist are large. However, if there is a space, it is not prohibited to arrange the reflectors on both sides. In this sense, the reflectors disposed on both sides are disposed asymmetrically with respect to the transport center line 1.

反射板は、反射率の高い原子番号が大きい元素の材料で製作されている。反射率の向上のためには、反射板の反射面は鏡面研磨で仕上げられていることが好ましい。毒性はあるが安価で反射率が大きい基体に、高価であるが毒性がなく反射率が大きい元素の膜を形成することは、反射率向上とコスト、安全性を更に調和させる。図5は、そのような膜形成を例示している。第2電子線反射板11’は、曲折する支持構造部位19と既述の第2上側斜板12’と第2鉛直方向延伸板13’と既述のその他の反射板とから形成されている。図5は、支持構造部位19に支持されている第2上側斜板12’と第2鉛直方向延伸板13’を示している。第2上側斜板12’と第2鉛直方向延伸板13’とには、それぞれに全面に毒性発現防止コーティング膜21がコーティングされている。第2上側斜板12’と第2鉛直方向延伸板13’は、毒性があるが安価で原子番号が最適正に大きい原子(例示:鉛)で製作されている。毒性発現防止コーティング膜21は、毒性がなく、その反射率が大きい原子(例示:金)で作成され、薄く形成されている。   The reflector is made of an element material having a high reflectivity and a large atomic number. In order to improve the reflectance, the reflecting surface of the reflecting plate is preferably finished by mirror polishing. Forming a film of an element that is toxic but inexpensive and has a high reflectance on an element that is expensive but not toxic and has a high reflectance further harmonizes the improvement in reflectance with cost and safety. FIG. 5 illustrates such film formation. The second electron beam reflecting plate 11 ′ is formed of a bent support structure portion 19, the above-described second upper swash plate 12 ′, the second vertically extending plate 13 ′, and the other reflecting plates described above. . FIG. 5 shows the second upper swash plate 12 ′ and the second vertically extending plate 13 ′ supported by the support structure part 19. The second upper swash plate 12 ′ and the second vertically extending plate 13 ′ are respectively coated with a toxic expression preventing coating film 21 on the entire surface. The second upper swash plate 12 'and the second vertically extending plate 13' are made of atoms that are toxic but inexpensive and have an optimally large atomic number (eg, lead). The toxic expression-preventing coating film 21 is made of an atom (eg, gold) that is non-toxic and has a high reflectance, and is formed thin.

実施のその他の形態:
ペットボトルPにおける電子線の照射量を一層に均一にするためには、電子線の電流及び/又は電子線の発生に使用される加速電圧が、電子線の走査位置に応じて制御されることが好ましい。具体的には、電子線の線量が少なくなりがちな部位(例示:首下外側面、底部外面)への照射効率が高くなるような走査位置では、電子線の電流、及び/又は電子線の発生に使用される加速電圧が増大されることが好ましい。
Other forms of implementation:
In order to make the irradiation amount of the electron beam in the PET bottle P more uniform, the electron beam current and / or the acceleration voltage used to generate the electron beam are controlled according to the scanning position of the electron beam. Is preferred. Specifically, at a scanning position where the irradiation efficiency to a part where the dose of the electron beam tends to decrease (eg, the outer surface below the neck, the outer surface of the bottom) is high, the current of the electron beam and / or the electron beam The acceleration voltage used for generation is preferably increased.

このような制御を実現するためには、例えば、図6(a)に示されているように、電子線源22の出力に対応する電子銃パルス電流が、主走査偏向器23の偏向走査に同期され、且つ、走査開始時期Tと走査終了時期Tの電流とが走査中間期Tの電流より多く設定されるような波形を有するように制御されることが好ましい;電子銃パルス電流と主走査偏向器23の偏向走査との同期は、主走査偏向器23の走査磁石に供給される電流と、電子銃パルス電流とを同期させることによって行われる。 In order to realize such control, for example, as shown in FIG. 6A, the electron gun pulse current corresponding to the output of the electron beam source 22 is used for the deflection scanning of the main scanning deflector 23. It is preferably controlled so as to have a waveform such that the current at the scan start timing T 1 and the scan end timing T 3 is set larger than the current at the scan intermediate period T 2 ; Is synchronized with the deflection scanning of the main scanning deflector 23 by synchronizing the current supplied to the scanning magnet of the main scanning deflector 23 with the electron gun pulse current.

走査開始時期Tでは、図2に示されているように、電子線の走査位置は、ペットボトルPの首下外側面及び底面外側面に電子線が照射されるような位置にある。しかし、これらの部位への電子線の照射効率は低い。この走査開始時期Tでは、図6(a)に示されているように、電子銃パルス電流が増大される。走査開始時期Tに電子銃パルス電流を増大させることは、ペットボトルPの首下外側面及び底面外側面に、充分な線量の電子線を照射することを可能にする。 In the scanning start time T 1, as shown in FIG. 2, the scanning position of the electron beam is in the neck under the outer surface and the bottom outer surface of the plastic bottle P in a position such that the electron beam is irradiated. However, the electron beam irradiation efficiency to these parts is low. In the scanning start time T 1, as shown in FIG. 6 (a), an electron gun pulse current is increased. Increasing the electron gun pulse current at the scanning start timing T 1 makes it possible to irradiate a sufficient amount of electron beam on the lower neck outer surface and the bottom outer surface of the PET bottle P.

走査終了時期Tについても同様である。走査終了時期Tでは、図3に示されているように、電子線がペットボトルPの首下外側面及び底面外側面に電子線が照射されるような走査位置にある。この走査終了時期Tでは、図6(a)に示されているように、電子銃パルス電流が増大される。走査終了時期Tに電子銃パルス電流を増大させることは、ペットボトルPの首下外側面及び底面外側面に、充分な線量の電子線を照射することを可能にする。 The same applies to the scanning end timing T 3. In the scanning end timing T 3, as shown in FIG. 3, in the scanning position such that the electron beam is an electron beam in the neck under the outer surface and the bottom outer surface of the plastic bottle P is irradiated. In the scanning end timing T 3, as shown in FIG. 6 (a), an electron gun pulse current is increased. Increasing the electron gun pulse current to the scanning end timing T 3 is fired under the outer surface and the bottom outer surface of the plastic bottle P, and allows the electron beam irradiation of sufficient dose.

一方、図4に示されているように、走査中間期Tでは、電子線の走査位置は、電子線がペットボトルPの底部内面に照射されるような位置にある。ペットボトルPの底部内面への照射効率は高い。このような走査位置については電子銃パルス電流が相対的に減少され、これにより、電子線照射の均一性が向上される。 On the other hand, as shown in FIG. 4, in the scanning intermediate period T < b > 2 , the scanning position of the electron beam is at a position where the electron beam is irradiated on the bottom inner surface of the plastic bottle P. The irradiation efficiency to the inner surface of the bottom of the PET bottle P is high. For such scanning positions, the electron gun pulse current is relatively reduced, thereby improving the uniformity of electron beam irradiation.

電子銃パルス電流の制御の代わりに、又は電子銃パルス電流の制御に加えて、加速電圧が制御されることも可能である。走査開始時期T、及び走査開始時期Tにおける加速電圧が、走査中間期Tにおける加速電圧よりも相対的に増大されることは、殺菌能力の均一化を達成するために好適である。 Instead of controlling the electron gun pulse current or in addition to controlling the electron gun pulse current, the acceleration voltage can also be controlled. It is preferable that the acceleration voltage at the scan start timing T 1 and the scan start timing T 3 is relatively increased as compared with the acceleration voltage at the scan intermediate period T 2 in order to achieve uniform sterilization capability.

図1は、本発明による電子線殺菌装置の実施の好ましい形態を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a preferred embodiment of an electron beam sterilizer according to the present invention. 図2は、図1の左端位置の側面図である。FIG. 2 is a side view of the left end position of FIG. 図3は、図1の中央位置より前方位置の側面断面から見る側面図である。FIG. 3 is a side view seen from a side cross-section at a front position from the center position in FIG. 1. 図4は、図1の中央位置から見る側面図である。FIG. 4 is a side view seen from the center position of FIG. 図5は、図1に一部の側面断面図である。FIG. 5 is a side sectional view of a part of FIG. 図6(a)は、電子銃パルス電流の波形を示すタイミングチャートであり、図6(b)は、走査磁石電流の波形を示すタイミングチャートである。FIG. 6A is a timing chart showing the waveform of the electron gun pulse current, and FIG. 6B is a timing chart showing the waveform of the scanning magnet current.

符号の説明Explanation of symbols

1…搬送中心線
2…駆動器(第2駆動機器)
3…第1駆動機器
5…交叉領域
7…中心面領域電子線
8’…隙間
11,11’…反射板
12…第1部位
13…第2部位
14…第3部位
θ…適正角度
θ’”…走査角度
A…搬送方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conveyance center line 2 ... Driver (2nd drive device)
3 ... 1st drive device 5 ... Crossing area | region 7 ... Center plane area | region electron beam 8 '... Crevice 11, 11' ... Reflector plate 12 ... 1st site | part 13 ... 2nd site | part 14 ... 3rd site | part θ ... Appropriate angle θ '" ... Scanning angle A ... Conveying direction

Claims (6)

容器が載置される搬送路面と、
記容器に進力を与え、前記容器を前記搬送路面上で搬送方向に搬送する駆動機器と、
前記搬送路面に対して扇状の電子線を照射する電子線照射器と、
前記電子線を反射する反射板とを具え、
前記電子線の扇状面と前記搬送路面の搬送中心線とは適正角度θで交叉し、
前記反射板と前記搬送路面上の容器との間には前記搬送方向に直交する搬送方向直交方向に隙間が与えられ、
前記子線の一部は前記隙間に通され、
前記駆動機器は前記容器に対して前記反射板と前記搬送方向直交に反対側に配置され
前記反射板は、
前記容器の首部に対して前記電子線のうちの一部分を反射させる第1部位と、
前記容器の胴部に対して前記電子線のうちの一部分を反射させる第2部位と、
前記容器の底部に対して前記電子線のうち前記隙間を通過した一部分を反射させる第3部位
とを備える
電子線殺菌装置。
A conveyance road surface on which the container is placed ;
Before SL vessel giving promote force, a drive device for transporting the transport direction of the containers on the transport road,
An electron beam irradiator that irradiates a fan-shaped electron beam with respect to the conveyance path surface;
A reflector for reflecting the electron beam;
The fan-shaped surface of the electron beam and the transport center line of the transport road surface intersect at an appropriate angle θ,
Given gap in the transport direction orthogonal direction orthogonal to the transport direction between the container on the conveyor road and the reflective plate,
Some of the electron beam is passed through the gap,
The drive device is disposed on the opposite side of the reflector perpendicular to the transport direction with respect to the container ,
The reflector is
A first portion that reflects a portion of the electron beam to the neck of the container;
A second part that reflects a portion of the electron beam to the body of the container;
A third part that reflects a part of the electron beam that has passed through the gap to the bottom of the container.
And an electron beam sterilizer.
前記駆動機器は、前記容器に接触して押し力を与える螺旋パイプとして提供されている
請求項1の電子線殺菌装置。
The electron beam sterilizer according to claim 1, wherein the driving device is provided as a spiral pipe that contacts the container and applies a pressing force.
前記螺旋パイプは、
第1螺旋パイプと、
第2螺旋パイプを具え、
前記第1螺旋パイプと前記第2螺旋パイプは鉛直方向に互いに離隔している
請求項2の電子線殺菌装置。
The spiral pipe is
A first spiral pipe;
With a second spiral pipe,
The electron beam sterilizer according to claim 2, wherein the first spiral pipe and the second spiral pipe are separated from each other in the vertical direction.
前記駆動機器は、
前記搬送方向に前方に位置する第1駆動機器と、
前記搬送方向に後方に位置する第2駆動機器とを備え、
前記反射板は、
前記搬送方向に後方に位置する第1反射板と、
前記搬送方向に前方に位置する第2反射板とを備え、
前記第2反射板は前記搬送路面の一方側で前記第2駆動器より前方に位置し、
前記第1反射板は前記搬送路面の他方側で前記第1駆動器より後方に位置し、
前記第1反射板と前記容器の間の前記隙間は前記他方側に配置され、
前記第2反射板と前記容器の間の前記隙間は前記一方側に配置される
請求項1の電子線殺菌装置。
The drive device is
A first drive device located forward in the transport direction;
A second drive device located rearward in the transport direction,
The reflector is
A first reflector located rearward in the transport direction;
A second reflector located forward in the transport direction,
The second reflector is positioned forward of the second driver on one side of the transport path;
The first reflector is located behind the first driver on the other side of the conveyance path surface,
The gap between the first reflector and the container is disposed on the other side;
The electron beam sterilizer according to claim 1, wherein the gap between the second reflector and the container is disposed on the one side.
前記電子線の電流と、前記電子線の生成に使用される加速電圧との少なくとも一方が、可変に制御される
請求項の電子線殺菌装置。
And current of the electron beam, at least one of an electron beam sterilizer according to claim 1 which is variably controlled between the acceleration voltage used to generate the electron beam.
容器を搬送路面上で搬送方向に搬送すること、
扇状の電子線を前記搬送路面に対して照射すること、
前記電子線の一部を反射板によって反射させて前記容器に照射すること
とを備え、
前記電子線の扇状面前記搬送路面の搬送中心線とは適正角度θで交叉し
前記反射板と前記搬送路面上の容器との間には前記搬送方向に直交する搬送方向直交方向に隙間が与えられ、
前記電子線の一部は前記隙間に通され、
前記反射板は、
前記容器の首部に対して前記電子線のうちの一部分を反射させる第1部位と、
前記容器の胴部に対して前記電子線のうちの一部分を反射させる第2部位と、
前記容器の底部に対して前記電子線の前記隙間を通過した一部分を反射させる第3部位
とを備える
電子線殺菌装置の電子線照射方法。
Transport the container in the transport direction on the transport road surface,
Irradiating a fan-shaped electron beam to the transporting road surface;
Irradiating the container with a part of the electron beam reflected by a reflector,
The fan-shaped surface of the electron beam and the transport center line of the transport road surface intersect at an appropriate angle θ ,
A gap is provided between the reflecting plate and the container on the conveyance path surface in a direction perpendicular to the conveyance direction perpendicular to the conveyance direction,
A part of the electron beam is passed through the gap,
The reflector is
A first portion that reflects a portion of the electron beam to the neck of the container;
A second part that reflects a portion of the electron beam to the body of the container;
An electron beam irradiating method for an electron beam sterilizer, comprising: a third portion that reflects a part of the electron beam that has passed through the gap with respect to a bottom of the container.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4721129B2 (en) * 2005-11-04 2011-07-13 三菱重工食品包装機械株式会社 Electron beam sterilizer
JP4925302B2 (en) * 2007-02-14 2012-04-25 三菱重工食品包装機械株式会社 Sterilizer
JP5125452B2 (en) * 2007-11-28 2013-01-23 澁谷工業株式会社 Gripper
CN114246960B (en) * 2021-12-27 2024-01-26 常熟荣瑞灭菌技术有限公司 Electron beam type baffling dead-angle-free normal-temperature sterilization device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11100009A (en) * 1997-09-25 1999-04-13 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Carrying method and device for sterilizing treatment
JPH11248894A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Electron beam irradiation method and its device
JP2000203534A (en) * 1999-01-07 2000-07-25 Asahi Soft Drinks Co Ltd Process and device for sterilizing container by electron beam
JP2003231510A (en) * 2002-02-06 2003-08-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Sterilizing device and method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11100009A (en) * 1997-09-25 1999-04-13 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Carrying method and device for sterilizing treatment
JPH11248894A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Electron beam irradiation method and its device
JP2000203534A (en) * 1999-01-07 2000-07-25 Asahi Soft Drinks Co Ltd Process and device for sterilizing container by electron beam
JP2003231510A (en) * 2002-02-06 2003-08-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Sterilizing device and method

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