JP4562370B2 - Method for producing rearranged unsaturated compound - Google Patents
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Description
本発明は、不飽和結合を有する化合物の分子内転位による転位化合物の製造方法や、これに用いる触媒に関し、より詳しくは、触媒としてレニウム化合物と共にホウ素化合物を用い、効率よく分子内転位又は骨格転位による転位化合物を製造する方法や、これに用いる触媒に関する。 The present invention relates to a method for producing a rearrangement compound by intramolecular rearrangement of a compound having an unsaturated bond, and a catalyst used therefor, and more specifically, a boron compound is used together with a rhenium compound as a catalyst, and intramolecular rearrangement or skeletal rearrangement is efficiently performed. The present invention relates to a method for producing a rearrangement compound by the above, and a catalyst used therefor.
従来から、ベックマン転位反応についてレニウム化合物を触媒として用いる方法が知られている。例えば、過酸化レニウム化合物及び含硫黄化合物を含む溶媒の存在下、液相でオキシム化合物を転位させてアミド化合物を得る方法(例えば、特許文献1参照)や、過酸化レニウム化合物及び溶媒の存在下、液相でオキシム化合物を転位させてアミド化合物を得る方法において、液相中の水分量が100ppm以下であるアミド類の製造方法(例えば、特許文献2参照)や、特定の過酸化レニウム化合物の存在下でオキシム化合物を転位させるアミド化合物の製造方法(例えば、特許文献3、4参照)や、特定の過酸化レニウム化合物の存在下、含窒素複素環化合物の共存下で、オキシム化合物を転位させるアミド化合物の製造方法(例えば、特許文献5参照)や、特定の過酸化レニウム化合物と14族化合物の存在下にオキシム化合物を転位させるアミド化合物の製造方法(例えば、特許文献6参照)や、過レニウム酸塩と強酸又はその誘導体の存在下で、オキシムの転位によるアミドを製造する方法(例えば、特許文献7、非特許文献1、2参照)等が報告されている。 Conventionally, a method using a rhenium compound as a catalyst for the Beckmann rearrangement reaction is known. For example, a method of rearranging an oxime compound in a liquid phase in the presence of a solvent containing a rhenium peroxide compound and a sulfur-containing compound to obtain an amide compound (for example, see Patent Document 1), or in the presence of a rhenium peroxide compound and a solvent. In the method of rearranging an oxime compound in a liquid phase to obtain an amide compound, a method for producing an amide having a water content in the liquid phase of 100 ppm or less (see, for example, Patent Document 2) or a specific rhenium peroxide compound A method for producing an amide compound that rearranges an oxime compound in the presence (see, for example, Patent Documents 3 and 4), or a rearrangement of an oxime compound in the presence of a nitrogen-containing heterocyclic compound in the presence of a specific rhenium peroxide compound. A method for producing an amide compound (see, for example, Patent Document 5), or conversion of an oxime compound in the presence of a specific rhenium peroxide compound and a group 14 compound. A method for producing an amide compound (for example, see Patent Document 6), and a method for producing an amide by rearrangement of an oxime in the presence of a perrhenate and a strong acid or a derivative thereof (for example, Patent Document 7, Non-Patent Document 1). 2)) have been reported.
その他、過レニウム酸塩とアリールスルホン酸の存在下で行なう第一級または第二級アリルアルコールのアリル転位方法(例えば、特許文献8、非特許文献3、4)や、アルキルシリル基を有する特定の鎖状のペンタノンを環化脱シリル化させ特定のシクロペンタノンを得る方法(例えば、特許文献9参照)や、ベックマンフラグメンテーション反応(例えば、非特許文献5)や、特定のプロパルギルアルコール化合物を転位させ特定のα,β−不飽和カルボニル化合物を得る方法(例えば、特許文献10参照)や、特定のフェニル基を有するオキシムを過レニウム酸テトラアルキルアンモニウム及びトリフルオロメタンスルホン酸の存在下で反応させ分子内転位により、キノリン類(例えば、特許文献11参照)や、環状ケトンを製造する方法(例えば、特許文献12参照)、また、トリメチルシリル過酸化レニウムや、アルキルシロキシ過酸化レニウムを用いたアリルアルコール等の転位反応(例えば、非特許文献6、7参照)等が報告されている。
本発明の課題は、ベックマン転位反応、α,β−不飽和アルコールの転位反応等のレニウム化合物を触媒として用いる反応により得られる、種々の化合物の合成に用いることができる利用価値の高い転位化合物を、より簡単に効率よく製造することができる転位化合物の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a highly useful rearrangement compound that can be used for the synthesis of various compounds obtained by a reaction using a rhenium compound as a catalyst, such as a Beckmann rearrangement reaction or a rearrangement reaction of an α, β-unsaturated alcohol. Another object of the present invention is to provide a process for producing a rearrangement compound that can be more easily and efficiently produced.
本発明者らは、アセトフェノンオキシムをアセトニトリル中で4時間加熱還流するという条件で、ベックマン転位反応について、各種触媒の活性を比較検討した結果、過酸化レニウムやトリメチルシロキシ過酸化レニウムを単独で用いるよりもそれ自身ほとんど活性のない3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を共存させることにより化学収率が飛躍的に向上するとの知見を得た。かかる知見に基づき、レニウム化合物と共にホウ素化合物の存在下で不飽和結合を有する化合物を反応させると、予測を超えた収率で分子内転位又は骨格転位による転位化合物を製造することができ、ホウ素化合物がレニウム化合物の触媒活性を著しく向上させることができることを確認し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have compared the activity of various catalysts for the Beckmann rearrangement reaction under the condition that acetophenone oxime is heated to reflux in acetonitrile for 4 hours. As a result, rhenium peroxide and trimethylsiloxyrhenium peroxide are used alone. In addition, the present inventors have found that the chemical yield is drastically improved by the coexistence of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid, which itself has little activity. Based on such knowledge, when a compound having an unsaturated bond is reacted with a rhenium compound in the presence of a boron compound, a rearranged compound by intramolecular rearrangement or skeletal rearrangement can be produced in a yield exceeding prediction. Confirmed that the catalytic activity of the rhenium compound can be remarkably improved, and the present invention has been completed.
すなわち本発明は、(1)過酸化レニウム、無水過酸化レニウムまたはトリアルキルシロキシ過酸化レニウムであるレニウム化合物及びアリールボロン酸であるホウ素化合物の存在下で、一般式(I)
[式中、R 1 及びR 2 は、独立して、置換基を有していてもよい鎖状若しくは環状アルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R 1 とR 2 は一体となって環を形成していてもよい。]で表される不飽和結合を有するオキシム化合物を分子内転位又は骨格転位させ、一般式(II)
[式中、R 1 及びR 2 は、一般式(I)におけるR 1 及びR 2 とそれぞれ同じ基を示す。]で表されるアミド化合物を、
又は、一般式(III)
[式中、R 3 〜R 8 は、一般式(III)におけるR 3 〜R 8 とそれぞれ同じ基を示す。]で表されるα,β−不飽和アルコールを、
得ることを特徴とする転位化合物の製造方法に関する。
That is, the present invention provides (1) a compound represented by the general formula (I) in the presence of a rhenium compound that is rhenium peroxide, anhydrous rhenium peroxide, or trialkylsiloxy rhenium peroxide and a boron compound that is an arylboronic acid.
[Wherein, R 1 and R 2 independently represent a chain or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and R 1 and R 2 2 may be united to form a ring. An oxime compound having an unsaturated bond represented by the general formula (II)
[Wherein, R 1 and R 2 each represent the same group as R 1 and R 2 in formula (I) . An amide compound represented by
Or general formula (III)
Wherein, R 3 to R 8 represents the same group respectively R 3 to R 8 in the general formula (III). An α, β-unsaturated alcohol represented by
The present invention relates to a process for producing a rearrangement compound.
また、本発明は、(2)一般式(III)中、R 8 が、置換基を有していてもよいシリル基を示すことを特徴とする上記(1)記載の転位化合物の製造方法や、(3)レニウム化合物が、過酸化レニウム化合物又は無水過酸化レニウム化合物であることを特徴とする上記(1)又は(2)のいずれか記載の転位化合物の製造方法や、(4)レニウム化合物が、トリアルキルシロキシ過酸化レニウム化合物であることを特徴とする上記(1)又は(2)のいずれか記載の転位化合物の製造方法や、(5)トリアルキルシロキシ過酸化レニウム化合物が、トリメチルシロキシ過酸化レニウムであることを特徴とする上記(4)記載の転位化合物の製造方法や、(6)アリールボロン酸が、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸または4−フルオロフェニルボロン酸であることを特徴とする上記(1)〜(5)のいずれか記載の転位化合物の製造方法や、(7)ホウ素化合物の存在量が、レニウム化合物に対して1〜5倍モル量であることを特徴とする上記(1)〜(6)のいずれか記載の転位化合物の製造方法や、(8)溶媒として、ニトリル系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、ハロアルカン系溶媒を用いることを特徴とする上記(1)〜(7)のいずれか記載の転位化合物の製造方法や、(9)分子内転位反応又は骨格転位反応中、共沸脱水することを特徴とする上記(1)〜(8)のいずれか記載の転位化合物の製造方法に関する。
The present invention also relates to (2) the method for producing a rearranged compound according to the above (1), wherein in general formula (III), R 8 represents a silyl group which may have a substituent. (3) The method for producing a rearrangement compound according to any one of (1) or (2) above, wherein the rhenium compound is a rhenium peroxide compound or an anhydrous rhenium peroxide compound, and (4) a rhenium compound Is a trialkylsiloxy rhenium peroxide compound, the method for producing a rearrangement compound according to any one of the above (1) or (2), or (5) a trialkylsiloxy rhenium peroxide compound is trimethylsiloxy The method for producing a rearrangement compound according to the above (4), which is rhenium peroxide, or (6) the arylboronic acid is 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid or The method for producing a rearrangement compound according to any one of the above (1) to (5), which is fluorofluoroboronic acid, and (7) the boron compound is present in an amount of 1 to 5 with respect to the rhenium compound. The method for producing a rearrangement compound according to any one of (1) to (6) above, wherein (8) the solvent is a nitrile solvent, an aromatic hydrocarbon solvent, an ether solvent And (9) azeotropic dehydration during intramolecular rearrangement reaction or skeletal rearrangement reaction, wherein the rearrangement compound according to any one of (1) to (7) above is used, It is related with the manufacturing method of the rearrangement compound in any one of said (1)-(8) characterized .
さらに、本発明は、(10)過酸化レニウム、無水過酸化レニウムまたはトリアルキルシロキシ過酸化レニウムであるレニウム化合物及びアリールボロン酸であるホウ素化合物を含有することを特徴とする上記(1)〜(9)のいずれか記載の不飽和結合を有する化合物の分子内転位又は骨格転位反応用触媒に関する。Furthermore, the present invention includes (10) a rhenium compound which is rhenium peroxide, anhydrous rhenium peroxide or trialkylsiloxy rhenium peroxide, and a boron compound which is an aryl boronic acid. It relates to a catalyst for intramolecular rearrangement or skeletal rearrangement reaction of the compound having an unsaturated bond as described in 9).
本発明の不飽和化合物の製造方法は、不飽和結合を有する化合物を、レニウム化合物及びホウ素化合物の存在下で反応させ、分子内転位又は骨格転位による転位化合物を予測を超えた収率で得ることができる。本発明の転位化合物の製造方法における不飽和化合物の分子内転位や骨格転位としては、α,β−不飽和アルコールのヒドロキシ基の転位や、非環状のみならず環状オキシムのベックマン転位を挙げることができ、利用価値の高い物質の合成に有用な不飽和化合物を簡単に高収率で得ることができる。 In the method for producing an unsaturated compound of the present invention, a compound having an unsaturated bond is reacted in the presence of a rhenium compound and a boron compound, and a rearranged compound by intramolecular rearrangement or skeletal rearrangement is obtained in an unexpected yield. Can do. Examples of the intramolecular rearrangement and skeletal rearrangement of the unsaturated compound in the method for producing the rearranged compound of the present invention include rearrangement of the hydroxy group of α, β-unsaturated alcohol, and Beckmann rearrangement of not only acyclic but also cyclic oxime. And unsaturated compounds useful for the synthesis of highly useful substances can be easily obtained in high yield.
本発明の転位化合物の製造方法は、レニウム化合物及びホウ素化合物の存在下で、不飽和結合を有する化合物を分子内転位又は骨格転位させる転位化合物の製造方法であれば、特に制限されるものではない。ここで、分子内転位とは、水酸基等の脱離によるカチオンの発生に伴い、脱離した水酸基等が他のカチオン性炭素に転位することをいい、骨格転位とは、水酸基等の脱離によるカチオンの発生に伴い、炭素−炭素結合が切断し、分子内の窒素等の他の原子に1,2−転位を起こすと共に、脱離した水酸基等は炭素−炭素結合の切断によって新たに生じるカチオンと反応し転位化合物を生成することをいう。 The method for producing a rearranged compound of the present invention is not particularly limited as long as it is a method for producing a rearranged compound in which a compound having an unsaturated bond undergoes intramolecular rearrangement or skeletal rearrangement in the presence of a rhenium compound and a boron compound. . Here, intramolecular rearrangement refers to rearrangement of a detached hydroxyl group or the like to other cationic carbon accompanying generation of a cation due to elimination of a hydroxyl group or the like, and skeletal rearrangement refers to elimination of a hydroxyl group or the like. As the cation is generated, the carbon-carbon bond is cleaved, causing a 1,2-rearrangement to other atoms such as nitrogen in the molecule, and the detached hydroxyl group is newly generated by cleaving the carbon-carbon bond. To produce a rearranged compound.
かかる本発明の不飽和化合物の製造方法としては、下記式に示すように、 As a method for producing the unsaturated compound of the present invention, as shown in the following formula,
上記一般式(I)で表されるオキシムにおいて、式中、R1及びR2は、独立して置換基を有していてもよい鎖状若しくは環状アルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。R1及びR2が示すアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基等のC1〜C20の鎖状アルキル基や、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のC3〜C20の環状アルキル基を挙げることができ、R1及びR2が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等を挙げることができる。かかる鎖状若しくは環状アルキル基やアリール基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基や、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等のアリール基等を挙げることができ、鎖状若しくは環状アルキル基、アリール基において、これらの置換基の1又は2以上を同時に有していてもよい。更に、R1とR2は一体となって環を形成していてもよく、かかる環としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、シクロウンデカン、シクロドデカン等を挙げることができ、かかる環における置換基としては、上記R1及びR2が示すアルキル基、アリール基における置換基と同様の置換基を挙げることができる。 In the oxime represented by the general formula (I), in the formula, R 1 and R 2 independently have a linear or cyclic alkyl group which may have a substituent, or a substituent. Or a good aryl group. Examples of the alkyl group represented by R 1 and R 2 include C1-C20 chain groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, and an n-heptyl group. Examples of the alkyl group include C3-C20 cyclic alkyl groups such as a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group. Examples of the aryl group represented by R 1 and R 2 include a phenyl group and a benzyl group. Phenethyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, and the like. Examples of the substituent in the chain or cyclic alkyl group or aryl group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, and propyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, 1-naphthyl group, and 2-naphthyl group. An aryl group etc. can be mentioned, In the linear or cyclic alkyl group and the aryl group, you may have 1 or 2 or more of these substituents simultaneously. Further, R 1 and R 2 may be combined to form a ring. Examples of such a ring include cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclononane, cyclodecane, cycloundecane, and cyclododecane. Examples of the substituent in the ring include the same substituents as the substituents in the alkyl group and aryl group represented by R 1 and R 2 .
このような一般式(I)で表されるオキシムとしては、具体的にアセトンオキシム、エチルメチルケトンオキシム、メチルプロピルケトンオキシム、イソプロピルメチルケトンオキシム、ブチルメチルケトンオキシム、イソブチルメチルケトンオキシム、ジエチルケトンオキシム、ジイソプロピルケトンオキシム、シクロブタノンオキシム、シクロペンタノンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、4−メチルシクロヘキサノンオキシム、3,5−ジメチルシクロヘキサノンオキシム、4−フェニルシクロヘキサノンオキシム、シクロヘプタノンオキシム、4−メチルシクロヘプタノンオキシム、3,6−ジメチルシクロヘプタノンオキシム、4−フェニルシクロヘプタノンオキシム、シクロオクタノンオキシム、5−メチルシクロオクタノンオキシム、4,6−ジメチルシクロオクタノンオキシム、5−フェニルシクロオクタノンオキシム、アセトフェノンオキシム、プロピルフェノンオキシム、ブチルフェノンオキシム、バレルフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム、ジベンジルケトンオキシム、2−アセトナフトンオキシム等を挙げることができる。 Specific examples of the oxime represented by the general formula (I) include acetone oxime, ethyl methyl ketone oxime, methyl propyl ketone oxime, isopropyl methyl ketone oxime, butyl methyl ketone oxime, isobutyl methyl ketone oxime, and diethyl ketone oxime. , Diisopropyl ketone oxime, cyclobutanone oxime, cyclopentanone oxime, cyclohexanone oxime, 4-methylcyclohexanone oxime, 3,5-dimethylcyclohexanone oxime, 4-phenylcyclohexanone oxime, cycloheptanone oxime, 4-methylcycloheptanone oxime, 3 , 6-Dimethylcycloheptanone oxime, 4-phenylcycloheptanone oxime, cyclooctanone oxime, 5-methylcyclooctano Oxime, 4,6-dimethylcyclooctanone oxime, 5-phenylcyclooctanone oxime, acetophenone oxime, propylphenone oxime, butylphenone oxime, barrel phenone oxime, benzophenone oxime, dibenzyl ketone oxime, 2-acetonaphthone oxime, etc. Can be mentioned.
上記一般式(I)で表されるオキシムの骨格転位により生成される一般式(II)で表されるアミド化合物において、式中、R1及びR2は、一般式(I)におけるR1及びR2とそれぞれ同じ基を示し、かかる一般式(II)で表される転位化合物のアミド化合物としては、具体的には、N−メチルアセトアミド、N−エチルアセトアミド、N−メチルプロピオンアミド、N−プロピルアセトアミド、N−メチルブチルアミド、N−イソプロピルアセトアミド、N−メチルイソブチルアミド、N−ブチルアセトアミド、N−メチルバレルアミド、N−イソブチルアセトアミド、N−t−ブチルアセトアミド、N−エチルプロピオンアミド、N−イソプロピルイソブチルアミド、ピロリジン−2−オン、ピペリジン−2−オン、
ペルヒドロアゼピン−2−オン、5−メチルペルヒドロアゼピン−2−オン、4,6−ジメチルペルヒドロアゼピン−2−オン、5−フェニルペルヒドロアゼピン−2−オン、ペルヒドロアゾシン−2−オン、5−メチルペルヒドロアゾシン−2−オン、4,7−ジメチルペルヒドロアゾシン−2−オン、5−フェニルペルヒドロアゾシン−2−オン、ペルヒドロアゾニン−2−オン、6−メチルペルヒドロアゾニン−2−オン、5,7−ジメチルペルヒドロアゾニン−2−オン、6−フェニルペルヒドロアゾニン−2−オン、N−フェニルアセトアミド、N−フェニルプロピオンアミド、N−フェニルブチルアミド、N−フェニルバレルアミド、N−ベンジルベンゾイルアミド、N−ナフトン−2−イルアセトアミド等を挙げることができる。
In the amide compound represented by the general formula (II) produced by oxime skeletal rearrangement represented by the above general formula (I), wherein, R 1 and R 2, R 1 and in the general formula (I) Specific examples of the amide compound of the rearrangement compound represented by the general formula (II), which each represent the same group as R 2 , include N-methylacetamide, N-ethylacetamide, N-methylpropionamide, N- Propylacetamide, N-methylbutyramide, N-isopropylacetamide, N-methylisobutyramide, N-butylacetamide, N-methylvaleramide, N-isobutylacetamide, Nt-butylacetamide, N-ethylpropionamide, N -Isopropylisobutyramide, pyrrolidin-2-one, piperidin-2-one,
Perhydroazepin-2-one, 5-methylperhydroazepin-2-one, 4,6-dimethylperhydroazepin-2-one, 5-phenylperhydroazepin-2-one, perhydroazocin-2-one ON, 5-methylperhydroazocin-2-one, 4,7-dimethylperhydroazocin-2-one, 5-phenylperhydroazocin-2-one, perhydroazonin-2-one, 6 -Methylperhydroazonin-2-one, 5,7-dimethylperhydroazonin-2-one, 6-phenylperhydroazonin-2-one, N-phenylacetamide, N-phenylpropionamide, N- And phenylbutyramide, N-phenylvaleramide, N-benzylbenzoylamide, N-naphthon-2-ylacetamide, etc. .
上記一般式(I)で表されるオキシムの骨格転位により一般式(II)で表されるアミド化合物を製造する方法において使用されるレニウム化合物としては過酸化レニウム化合物が好ましく、かかる過酸化レニウム化合物としては、過酸化レニウム((HO)ReO3)やその無水物(Re2O7)、トリメチルシロキシ過酸化レニウム、トリエチルシロキシ過酸化レニウム、トリブチルシロキシ過酸化レニウム、トリプロピルシロキシ過酸化レニウム等のトリアルキルシロキシ過酸化レニウム化合物であってもよい。過酸化レニウム化合物の使用量としては、一般式(I)で表されるオキシム量に対して1〜20モル%等であり、好ましくは1〜10モル%である。 As the rhenium compound used in the method for producing the amide compound represented by the general formula (II) by the skeletal rearrangement of the oxime represented by the general formula (I), a rhenium peroxide compound is preferable, and the rhenium peroxide compound is used. As rhenium peroxide ((HO) ReO 3 ) and its anhydride (Re 2 O 7 ), trimethylsiloxy rhenium peroxide, triethylsiloxy rhenium peroxide, tributylsiloxy rhenium peroxide, tripropylsiloxy rhenium peroxide, etc. It may be a trialkylsiloxy rhenium peroxide compound. The amount of the rhenium peroxide compound used is 1 to 20 mol%, preferably 1 to 10 mol%, based on the oxime amount represented by the general formula (I).
上記一般式(I)で表されるオキシムの骨格転位により一般式(II)で表されるアミド化合物を製造する方法において使用されるホウ素化合物としては、アリールボロン酸やその誘導体を好ましい具体例として例示することができる。アリールボロン酸の誘導体としては、ハロゲン化アルキル基等の電子吸引性置換基を有するものが好ましく、具体的には、4−トリフルオロメチルフェニルボロン酸、4−トリクロロメチルフェニルボロン酸、4−トリブロモメチルフェニルボロン酸、4−(パーフルオロエチル)フェニルボロン酸、4−(パークロロエチル)フェニルボロン酸、4−(パーブロモエチル)フェニルボロン酸、4−(パーフルオロプロピル)フェニルボロン酸、4−(パークロロプロピル)フェニルボロン酸、4−(パーブロモプロピル)フェニルボロン酸、4−(パーフルオロブチル)フェニルボロン酸、4−(パークロロブチル)フェニルボロン酸、4−(パーブロモブチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(トリクロロメチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(トリブロモメチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パーフルオロエチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パークロロエチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パーブロモエチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パーフルオロプロピル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パークロロプロピル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パーブロモプロピル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パーフルオロブチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パークロロブチル)フェニルボロン酸、3,5−ビス(パーブロモブチル)フェニルボロン酸、3−フルオロフェニルボロン酸、3−クロロフェニルボロン酸、3−ブロモフェニルボロン酸、4−フルオロフェニルボロン酸、4−クロロフェニルボロン酸、4−ブロモフェニルボロン酸、3,4,5−トリフルオロフェニルボロン酸、3−ニトロフェニルボロン酸等を例示することができ、これらのうち特に、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸と4−フルオロフェニルボロン酸が好ましい。 As a boron compound used in the method for producing the amide compound represented by the general formula (II) by the skeletal rearrangement of the oxime represented by the above general formula (I), aryl boronic acid and its derivatives are preferred specific examples. It can be illustrated. As the derivatives of aryl boronic acids, those having an electron-withdrawing substituent such as a halogenated alkyl group are preferable. Specifically, 4-trifluoromethylphenylboronic acid, 4-trichloromethylphenylboronic acid, 4-trichloromethyl Bromomethylphenylboronic acid, 4- (perfluoroethyl) phenylboronic acid, 4- (perchloroethyl) phenylboronic acid, 4- (perbromoethyl) phenylboronic acid, 4- (perfluoropropyl) phenylboronic acid, 4- (perchloropropyl) phenylboronic acid, 4- (perbromopropyl) phenylboronic acid, 4- (perfluorobutyl) phenylboronic acid, 4- (perchlorobutyl) phenylboronic acid, 4- (perbromobutyl) ) Phenylboronic acid, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid 3,5-bis (trichloromethyl) phenylboronic acid, 3,5-bis (tribromomethyl) phenylboronic acid, 3,5-bis (perfluoroethyl) phenylboronic acid, 3,5-bis (perchloroethyl) ) Phenylboronic acid, 3,5-bis (perbromoethyl) phenylboronic acid, 3,5-bis (perfluoropropyl) phenylboronic acid, 3,5-bis (perchloropropyl) phenylboronic acid, 3,5 -Bis (perbromopropyl) phenylboronic acid, 3,5-bis (perfluorobutyl) phenylboronic acid, 3,5-bis (perchlorobutyl) phenylboronic acid, 3,5-bis (perbromobutyl) phenyl Boronic acid, 3-fluorophenylboronic acid, 3-chlorophenylboronic acid, 3-bromophenylboronic acid, 4-fluorophenyl Examples include ruboronic acid, 4-chlorophenylboronic acid, 4-bromophenylboronic acid, 3,4,5-trifluorophenylboronic acid, 3-nitrophenylboronic acid, and among these, in particular, 3,5 -Bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid and 4-fluorophenylboronic acid are preferred.
かかるアリールボロン酸やその誘導体の使用量は、特に制限されるものではないが、上記過酸化レニウム化合物に含まれるレニウム(VII)の量に対して5倍モル量が、生成物質の収率が高く好ましい。 The amount of the arylboronic acid or its derivative is not particularly limited, but the molar amount of the product is 5 times the amount of rhenium (VII) contained in the rhenium peroxide compound. Highly preferred.
上記一般式(I)で表されるオキシムの骨格転位により一般式(II)で表されるアミド化合物を製造する方法において、使用可能な溶媒としては、トルエン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロエタン、ジクロロメタン、ジメトキシエタン、クロロホルム等のハロアルカン系溶媒、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒や、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒等を挙げることができ、これらの溶媒の1種又は2種以上を混合して用いることができ、これらのうち、ニトリル系溶媒、ニトロアルカン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒等、高沸点の高極性非プロトン性溶媒が還流時の温度を高く設定できるため好ましい。かかるオキシムの分子内転位を伴う反応は、溶媒の沸点温度で1〜24時間、好ましくは100〜160℃の温度で1〜5時間等、共沸脱水をしながら反応系を常時、無水状態にして行なうことが好ましい。しかし、場合によっては、反応温度よりも高い沸点の溶媒を用いて還流せずに加熱してもよい。 In the method for producing the amide compound represented by the general formula (II) by the skeletal rearrangement of the oxime represented by the general formula (I), usable solvents include toluene, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, benzoate. Nitrile solvents such as nitriles, haloalkane solvents such as dichloroethane, dichloromethane, dimethoxyethane, chloroform, aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, ether solvents, ester solvents, amide solvents, etc. One or more of these solvents can be used in combination, and among these, nitrile solvents, nitroalkane solvents, ether solvents, ester solvents, amide solvents, etc., high polarities with high boiling points An aprotic solvent is preferable because the temperature at reflux can be set high. The reaction involving intramolecular rearrangement of the oxime is carried out by constantly bringing the reaction system to an anhydrous state while performing azeotropic dehydration, such as 1 to 24 hours at the boiling point of the solvent, preferably 1 to 5 hours at a temperature of 100 to 160 ° C. Is preferable. However, in some cases, the solvent may be heated without reflux using a solvent having a boiling point higher than the reaction temperature.
本発明の不飽和化合物の製造方法としては、下記式に示すように、 As a production method of the unsaturated compound of the present invention, as shown in the following formula,
かかる一般式(III)で表されるα,β−不飽和アルコールにおいて、式中、R3〜R7は、独立して、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状若しくは環状のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R3〜R7の幾つかは一体となって環を形成していてもよく、R8は、水素原子又はシリル基を示す。但し、R3〜R7が同時に水素原子を示す場合は除かれる。R3〜R7が示すアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基等の鎖状アルキル基や、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の環状アルキル基を挙げることができ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等を挙げることができる。また、R6及びR7が一体となって形成する環としては、2−シクロペンテン、2−シクロヘキセン、2−シクロヘプテン、2−シクロオクテン、2−シクロノネン、2−シクロデセン等の環状アルケンを挙げることができる。かかる鎖状若しくは環状アルキル基、アリール基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基や、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等のアリール基等を挙げることができ、鎖状若しくは環状アルキル基やアリール基において、これらの置換基の1又は2以上を同時に有していてもよい。 In the α, β-unsaturated alcohol represented by the general formula (III), in the formula, R 3 to R 7 are independently a hydrogen atom or a chain or cyclic which may have a substituent. An alkyl group or an aryl group which may have a substituent, some of R 3 to R 7 may be combined to form a ring, and R 8 is a hydrogen atom or a silyl group; Show. However, it excludes when R < 3 > -R < 7 > shows a hydrogen atom simultaneously. Examples of the alkyl group represented by R 3 to R 7 include chain alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, and an n-heptyl group, Examples thereof include cyclic alkyl groups such as a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a benzyl group, a phenethyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group. Can be mentioned. Examples of the ring formed by R 6 and R 7 together include cyclic alkenes such as 2-cyclopentene, 2-cyclohexene, 2-cycloheptene, 2-cyclooctene, 2-cyclononene, and 2-cyclodecene. it can. Examples of the substituent in the chain or cyclic alkyl group and aryl group include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, and propyl group, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, 1-naphthyl group, and 2-naphthyl group. An aryl group etc. can be mentioned, In the chain or cyclic alkyl group or aryl group, you may have 1 or 2 or more of these substituents simultaneously.
このような一般式(III)で表されるα,β−不飽和アルコールとしては、具体的に、2−ブテン−1−オ−ル、2−ペンテン−1−オール、2−ヘキセン−1−オール、2−ヘプテン−1−オール、2−オクテン−1−オール、2−ノネン−1−オール、2−デセン−1−オール、3−フェニル−2−プロペン−1−オール、4−フェニル−2−ブテン−1−オール、5−フェニル−2−ペンテン−1−オール、6−フェニル−2−ヘキセン−1−オール、7−フェニル−2−ヘプテン−1−オール、8−フェニル−2−オクテン−1−オール、9−フェニル−2−ノネン−1−オール、10−フェニル−2−デセン−1−オール、2−メチル−2−ブテン−1−オール、2−メチル−2−ペンテン−1−オール、2−メチル−2−ヘキセン−1−オール、2−メチル−2−ヘプテン−1−オール、2−メチル−2−オクテン−1−オール、2−メチル−2−ノネン−1−オール、2−メチル−2−デセン−1−オール、6−ベンジル−2−シクロヘキセン−1−オール、4−フェニル−1−ビニル−シクロヘキサン−1−オール等を挙げることができる。 Specific examples of the α, β-unsaturated alcohol represented by the general formula (III) include 2-buten-1-ol, 2-penten-1-ol, and 2-hexene-1- All, 2-hepten-1-ol, 2-octen-1-ol, 2-nonen-1-ol, 2-decene-1-ol, 3-phenyl-2-propen-1-ol, 4-phenyl- 2-buten-1-ol, 5-phenyl-2-penten-1-ol, 6-phenyl-2-hexen-1-ol, 7-phenyl-2-hepten-1-ol, 8-phenyl-2- Octen-1-ol, 9-phenyl-2-nonen-1-ol, 10-phenyl-2-decen-1-ol, 2-methyl-2-buten-1-ol, 2-methyl-2-pentene- 1-ol, 2-methyl-2-hexene- 1-ol, 2-methyl-2-hepten-1-ol, 2-methyl-2-octen-1-ol, 2-methyl-2-nonen-1-ol, 2-methyl-2-decene-1- Ol, 6-benzyl-2-cyclohexen-1-ol, 4-phenyl-1-vinyl-cyclohexane-1-ol, and the like.
上記一般式(III)で表されるα,β−不飽和アルコールの分子内転位により生成される一般式(IV)で表されるα,β−不飽和アルコールにおいて、式中、R3〜R8は、一般式(III)におけるR3〜R8とそれぞれ同じ基を示し、かかる一般式(IV)で表される転位化合物のα,β−不飽和アルコールとしては、具体的には、1−ブテン−3−オール、1−ペンテン−3−オール、1−ヘキセン−3−オール、1−ヘプテン−3−オール、1−オクテン−3−オール、1−ノネン−3−オール、1−デセン−3−オール、3−フェニル−1−プロペン−3−オール、4−フェニル−1−ブテン−3−オール、5−フェニル−1−ペンテン−3−オール、6−フェニル−1−ヘキセン−3−オール、7−フェニル−1−ヘプテン−3−オール、8−フェニル−1−オクテン−3−オール、9−フェニル−1−ノネン−3−オール、10−フェニル−1−デセン−3−オール、2−メチル−1−ブテン−3−オール、2−メチル−1−ペンテン−3−オール、2−メチル−1−ヘキセン−3−オール、2−メチル−1−ヘプテン−3−オール、2−メチル−1−オクテン−3−オール、2−メチル−1−ノネン−3−オール、2−メチル−1−デセン−3−オール等を挙げることができる。 In the α, β-unsaturated alcohol represented by the general formula (IV) generated by intramolecular rearrangement of the α, β-unsaturated alcohol represented by the general formula (III), R 3 to R 8 represents the same group as R 3 to R 8 in the general formula (III), respectively. As the α, β-unsaturated alcohol of the rearranged compound represented by the general formula (IV), specifically, 1 -Buten-3-ol, 1-penten-3-ol, 1-hexen-3-ol, 1-hepten-3-ol, 1-octen-3-ol, 1-nonen-3-ol, 1-decene -3-ol, 3-phenyl-1-propen-3-ol, 4-phenyl-1-buten-3-ol, 5-phenyl-1-penten-3-ol, 6-phenyl-1-hexene-3 -Ol, 7-phenyl-1-hepten-3-ol, 8- Enyl-1-octen-3-ol, 9-phenyl-1-nonen-3-ol, 10-phenyl-1-decen-3-ol, 2-methyl-1-buten-3-ol, 2-methyl- 1-penten-3-ol, 2-methyl-1-hexen-3-ol, 2-methyl-1-hepten-3-ol, 2-methyl-1-octen-3-ol, 2-methyl-1- Nonen-3-ol, 2-methyl-1-decen-3-ol, etc. can be mentioned.
また、本発明の転位化合物の製造方法として、上記一般式(III)で表されるα,β−不飽和アルコールが、式中、R8が、置換基を有していてもよいシリル基を示すシリル化合物であって、かかるシリル化合物の分子内転位により一般式(IV)(式中、R8は一般式(III)におけるR8と同じ基を示す。)で表される転位化合物の製造方法も挙げることができる。一般式(III)中、R8における置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基を挙げることができ、R8が示すシリル基として、具体的にトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等を例示することができる。R8がシリル基を示す場合の一般式(III)が示すシリル化合物としては、1−トリメチルシロキシ−2−ブテン、1−トリメチルシロキシ−2−ペンテン、1−トリメチルシロキシ−2−ヘキセン、1−トリメチルシロキキシ−2−ヘプテン、1−トリエチルシロキシ−2−オクテン、1−トリエチルシロキキシ−2−ノネン、1−トリエチルシロキシ−2−デセン等を挙げることができる。 Further, as a method for producing the rearrangement compound of the present invention, the α, β-unsaturated alcohol represented by the general formula (III) is a compound in which R 8 is a silyl group which may have a substituent. preparation of a silyl compound of the general formula (IV) (wherein, R 8 represents the same group as R 8 in the general formula (III).) by intramolecular rearrangement of such silyl compounds rearrangement compound represented by showing A method can also be mentioned. In general formula (III), examples of the substituent in R 8 include alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group. Specific examples of the silyl group represented by R 8 include a trimethylsilyl group and a triethylsilyl group. can do. Examples of the silyl compound represented by the general formula (III) when R 8 represents a silyl group include 1-trimethylsiloxy-2-butene, 1-trimethylsiloxy-2-pentene, 1-trimethylsiloxy-2-hexene, Examples thereof include trimethylsiloxy-2-heptene, 1-triethylsiloxy-2-octene, 1-triethylsiloxy-2-nonene, 1-triethylsiloxy-2-decene and the like.
かかる上記一般式(III)で表されるシリル化合物の分子内転位により生成される転位化合物としては、具体的には、3−トリメチルシロキシ−1−ブテン、3−トリメチルシロキシ−1−ペンテン、3−トリメチルシロキシ−1−ヘキセン、3−トリメチルシロキキシ−1−ヘプテン、3−トリエチルシロキシ−1−オクテン、3−トリエチルシロキキシ−1−ノネン、3−トリエチルシロキシ−1−デセンや、表1に示すシリル化合物等を例示することができる。 Specific examples of the rearranged compound produced by intramolecular rearrangement of the silyl compound represented by the general formula (III) include 3-trimethylsiloxy-1-butene, 3-trimethylsiloxy-1-pentene, 3 -Trimethylsiloxy-1-hexene, 3-trimethylsiloxy-1-heptene, 3-triethylsiloxy-1-octene, 3-triethylsiloxy-1-nonene, 3-triethylsiloxy-1-decene, The silyl compound shown can be exemplified.
以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、この発明の範囲はこれらの実施例の範囲に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to the scope of these examples.
ベックマン転位反応
[実施例1−1]
Beckmann rearrangement reaction [Example 1-1]
[実施例1−2]
過酸化レニウムに替えてトリメチルシロキシ過酸化レニウムを用いた他は[実施例1−1]と同様に行なった。アセトアニリドを99%以上の化学収率で得た。
[比較例1−1]
過酸化レニウムを無添加にした他は[実施例1−1]と同様に行なった。アセトアニリドの化学収率は13%であった。
[比較例1−2]
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を無添加にした他は[実施例1−1]と同様に行なった。アセトアニリドの化学収率は43%であった。
[比較例1−3]
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を無添加にした他は[実施例1−1]と同様に行なった。アセトアニリドの化学収率は54%であった。
[Example 1-2]
The same procedure as in Example 1-1 was performed except that trimethylsiloxy rhenium peroxide was used instead of rhenium peroxide. Acetanilide was obtained with a chemical yield of 99% or more.
[Comparative Example 1-1]
The same procedure as in [Example 1-1] was conducted except that rhenium peroxide was not added. The chemical yield of acetanilide was 13%.
[Comparative Example 1-2]
The same procedure as in [Example 1-1] except that 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid was not added. The chemical yield of acetanilide was 43%.
[Comparative Example 1-3]
The same procedure as in [Example 1-1] except that 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid was not added. The chemical yield of acetanilide was 54%.
結果からも、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を、過酸化レニウム又はトリメチルシロキシ過酸化レニウムと共に存在させることにより、ベックマン転位が速やかに進行し、高収率で転位化合物が得られることが明かになった。 The results also indicate that by allowing 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid to be present together with rhenium peroxide or trimethylsiloxy rhenium peroxide, the Beckmann rearrangement proceeds rapidly and a rearranged compound is obtained in high yield. It became clear that
ベックマン転位反応
[実施例2−1]
Beckmann rearrangement reaction [Example 2-1]
[比較例2−1]
過酸化レニウムを無添加にした他は[実施例2−1]と同様に行なった。ドデシルラクタムの化学収率は5%であった。
[比較例2−2]
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を無添加にした他は[実施例2−1]と同様に行なった。ドデシルラクタムの化学収率は63%であった。
[Comparative Example 2-1]
The same procedure as in [Example 2-1] was performed except that rhenium peroxide was not added. The chemical yield of dodecyl lactam was 5%.
[Comparative Example 2-2]
The same procedure as in [Example 2-1] except that 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid was not added. The chemical yield of dodecyl lactam was 63%.
結果からも、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を、過酸化レニウムと共に存在させることにより、ベックマン転位が速やかに進行し、高収率で転位化合物が得られることが明かになった。 The results also show that the presence of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid together with rhenium peroxide allows the Beckmann rearrangement to proceed rapidly and a rearranged compound to be obtained in high yield. It was.
ベックマン転位反応
[実施例3−1]
Beckmann rearrangement reaction [Example 3-1]
[実施例3−2]
シクロヘキサノンオキシム2mmolと、過酸化レニウムの65−70wt%水溶液(過酸化レニウムとして8mol%)と、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸100mol%と、ベンゾニトリル4mlを反応容器に加え、オイルバスの温度140℃で1時間加熱した。反応容器の上部に冷却器を付けた。反応終了後、そのまま減圧蒸留(0.1torr,100°C)によって精製し、ε−カプロラクタムを>95%の化学収率で得た。
[実施例3−3]
シクロヘキサノンオキシム2mmolと、無水過酸化レニウム(2mol%)と、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸20mol%と、ベンゾニトリル4mlを反応容器に加え、オイルバスの温度140℃で1時間加熱した。反応容器の上部に冷却器を付けた。反応終了後、得られた溶液を1H NMRによってスペクトル分析したところ、ε−カプロラクタムが63%、シクロヘキサノンが16%生成していることがわかった。
[実施例3−4]
シクロヘキサノンオキシム2mmolと、無水過酸化レニウム(2mol%)と、4−フルオロフェニルボロン酸20mol%と、ベンゾニトリル4mlを反応容器に加え、オイルバスの温度140℃で1時間加熱した。反応容器の上部に冷却器を付けた。反応終了後、得られた溶液を1H NMRによってスペクトル分析したところ、ε−カプロラクタムが75%、シクロヘキサノンが6%生成していることがわかった。
[実施例3−5]
シクロヘキサノンオキシム2mmolと、無水過酸化レニウム(2mol%)と、4−フルオロフェニルボロン酸10mol%と、ベンゾニトリル4mlを反応容器に加え、オイルバスの温度140℃で3時間加熱した。反応容器の上部に冷却器を付けた。反応終了後、得られた溶液を1H NMRによってスペクトル分析したところ、ε−カプロラクタムが88%、シクロヘキサノンが9%生成していることがわかった。
[実施例3−6]
シクロヘキサノンオキシム2mmolと、無水過酸化レニウム(4mol%)と、4−フルオロフェニルボロン酸40mol%と、ベンゾニトリル4mlを反応容器に加え、オイルバスの温度140℃で1時間加熱した。反応容器の上部に冷却器を付けた。反応終了後、得られた溶液を1H NMRによってスペクトル分析したところ、ε−カプロラクタムが96%、シクロヘキサノンが3%生成していることがわかった。
[比較例3−1]
過酸化レニウムを無添加にした他は[実施例3−1]と同様に行なった。ε−カプロラクタムの化学収率は5%以下であった。
[比較例3−2]
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を無添加にした他は[実施例3−1]と同様に行なった。ε−カプロラクタムの化学収率は31%であった。
[比較例3−3]
無水過酸化レニウムを無添加にした他は[実施例3−5]と同様に行なった。ε−カプロラクタムの化学収率は5%、シクロヘキサノンの化学収率は10%であった。
[比較例3−4]
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を無添加にした他は[実施例3−3]と同様に行なった。ε−カプロラクタムの化学収率は46%、シクロヘキサノンの化学収率は5%であった。
[Example 3-2]
Add 2 mmol of cyclohexanone oxime, 65-70 wt% aqueous solution of rhenium peroxide (8 mol% as rhenium peroxide), 100 mol% of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid, and 4 ml of benzonitrile to the reaction vessel, Heated at an oil bath temperature of 140 ° C. for 1 hour. A condenser was attached to the top of the reaction vessel. After completion of the reaction, it was directly purified by distillation under reduced pressure (0.1 torr, 100 ° C.) to obtain ε-caprolactam with a chemical yield of> 95%.
[Example 3-3]
2 mmol of cyclohexanone oxime, anhydrous rhenium peroxide (2 mol%), 20 mol% of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid, and 4 ml of benzonitrile were added to the reaction vessel, and the temperature of the oil bath was 140 ° C. for 1 hour. Heated. A condenser was attached to the top of the reaction vessel. After completion of the reaction, the obtained solution was subjected to spectrum analysis by 1 H NMR. As a result, it was found that 63% of ε-caprolactam and 16% of cyclohexanone were produced.
[Example 3-4]
Cyclohexanone oxime 2 mmol, anhydrous rhenium peroxide (2 mol%), 4-fluorophenylboronic acid 20 mol% and benzonitrile 4 ml were added to the reaction vessel and heated at an oil bath temperature of 140 ° C for 1 hour. A condenser was attached to the top of the reaction vessel. After completion of the reaction, the obtained solution was subjected to spectrum analysis by 1 H NMR. As a result, it was found that 75% of ε-caprolactam and 6% of cyclohexanone were produced.
[Example 3-5]
Cyclohexanone oxime 2 mmol, anhydrous rhenium peroxide (2 mol%), 4-fluorophenylboronic acid 10 mol%, and benzonitrile 4 ml were added to the reaction vessel and heated at an oil bath temperature of 140 ° C. for 3 hours. A condenser was attached to the top of the reaction vessel. After completion of the reaction, the obtained solution was subjected to spectrum analysis by 1 H NMR. As a result, it was found that 88% of ε-caprolactam and 9% of cyclohexanone were produced.
[Example 3-6]
2 mmol of cyclohexanone oxime, anhydrous rhenium peroxide (4 mol%), 40 mol% of 4-fluorophenylboronic acid, and 4 ml of benzonitrile were added to the reaction vessel, and heated at an oil bath temperature of 140 ° C. for 1 hour. A condenser was attached to the top of the reaction vessel. After completion of the reaction, the obtained solution was subjected to spectrum analysis by 1 H NMR. As a result, it was found that 96% of ε-caprolactam and 3% of cyclohexanone were produced.
[Comparative Example 3-1]
The same procedure as in [Example 3-1] was performed except that rhenium peroxide was not added. The chemical yield of ε-caprolactam was 5% or less.
[Comparative Example 3-2]
The same procedure as in [Example 3-1] except that 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid was not added. The chemical yield of ε-caprolactam was 31%.
[Comparative Example 3-3]
The same procedure as in [Example 3-5] was conducted except that anhydrous rhenium peroxide was not added. The chemical yield of ε-caprolactam was 5%, and the chemical yield of cyclohexanone was 10%.
[Comparative Example 3-4]
The same procedure as in [Example 3-3] except that 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid was not added. The chemical yield of ε-caprolactam was 46%, and the chemical yield of cyclohexanone was 5%.
結果からも、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸や4−フルオロフェニルボロン酸を、過酸化レニウムや無水過酸化レニウムと共に存在させることにより、ベックマン転位が速やかに進行し、高収率で転位化合物が得られることが明らかになった。特に、4−フルオロフェニルボロン酸を無水過酸化レニウムと共に存在させることにより、副生成物であるシクロアルカノンの生成を抑え、高収率で転位化合物が得られることが明らかになった。 From the results, the presence of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid and 4-fluorophenylboronic acid together with rhenium peroxide and anhydrous rhenium peroxide allows the Beckmann rearrangement to proceed rapidly, resulting in high yield. It was revealed that rearranged compounds can be obtained at a high rate. In particular, it has been clarified that the presence of 4-fluorophenylboronic acid together with anhydrous rhenium peroxide suppresses the generation of a by-product cycloalkanone and provides a rearranged compound in a high yield.
α,β−不飽和アルコールの転位反応
[実施例4−1]
Rearrangement reaction of α, β-unsaturated alcohol [Example 4-1]
[比較例4−1]
過酸化レニウムを無添加にした他は[実施例4−1]と同様に行なった。2−オクテン−1−オールと1−オクテン−3−オールを100:0の混合物として得た。
[比較例4−2]
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を無添加にした他は[実施例4−1]と同様に行なった。2−オクテン−1−オールと1−オクテン−3−オールを63:37の混合物として得た。
[比較例4−3]
3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を無添加にし、過酸化レニウムの添加量を10mol%にした他は[実施例4−1]と同様に行なった。2−オクテン−1−オールと1−オクテン−3−オールを56:44の混合物として得た。
[Comparative Example 4-1]
The same procedure as in [Example 4-1] was carried out except that rhenium peroxide was not added. 2-Octen-1-ol and 1-octen-3-ol were obtained as a 100: 0 mixture.
[Comparative Example 4-2]
The same procedure as in [Example 4-1] was performed except that 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid was not added. 2-Octen-1-ol and 1-octen-3-ol were obtained as a 63:37 mixture.
[Comparative Example 4-3]
The same procedure as in [Example 4-1] was conducted except that 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid was not added and the amount of rhenium peroxide added was 10 mol%. 2-Octen-1-ol and 1-octen-3-ol were obtained as a 56:44 mixture.
結果からも、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸を、過酸化レニウムと共に存在させることにより、分子内転位が速やかに進行し、高収率で転位α,β−不飽和アルコールが得られることが明かになった。 From the results, the presence of 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid together with rhenium peroxide allows the intramolecular rearrangement to proceed rapidly, and the rearranged α, β-unsaturated alcohol is produced in a high yield. It became clear that it was obtained.
以上の結果から、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルボロン酸は過酸化レニウムを触媒とする種々の有機反応の促進剤として極めて有効であることがわかった。
From the above results, it was found that 3,5-bis (trifluoromethyl) phenylboronic acid is extremely effective as a promoter for various organic reactions using rhenium peroxide as a catalyst.
Claims (10)
[式中、R1及びR2は、独立して、置換基を有していてもよい鎖状若しくは環状アルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R1とR2は一体となって環を形成していてもよい。]で表される不飽和結合を有するオキシム化合物を骨格転位させ、一般式(II)
[式中、R1及びR2は、一般式(I)におけるR1及びR2とそれぞれ同じ基を示す。]で表されるアミド化合物を、
又は、一般式(III)
[式中、R3〜R7は、独立して、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状若しくは環状のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、R3〜R7の幾つかは一体となって環を形成していてもよく、R8は、水素原子又は置換基を有していてもよいシリル基を示す(但し、R3〜R7が同時に水素原子を示す場合は除く。)。]で表される不飽和結合を有するα,β−不飽和アルコールを分子内転位させ、一般式(IV)
[式中、R3〜R8は、一般式(III)におけるR3〜R8とそれぞれ同じ基を示す。]で表されるα,β−不飽和アルコールを、
得ることを特徴とする転位化合物の製造方法。 In the presence of a rhenium compound which is rhenium peroxide, anhydrous rhenium peroxide or trialkylsiloxy rhenium peroxide and a boron compound which is an arylboronic acid, the compound of the general formula (I)
[Wherein, R 1 and R 2 independently represent a chain or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and R 1 and R 2 2 may be united to form a ring. The oxime compound having an unsaturated bond represented by] is dislocation skeletal general formula (II)
[Wherein, R 1 and R 2 each represent the same group as R 1 and R 2 in formula (I). An amide compound represented by
Or general formula (III)
[Wherein, R 3 to R 7 independently represent a hydrogen atom, a chain or cyclic alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, Some of R 3 to R 7 may be combined to form a ring, and R 8 represents a hydrogen atom or a silyl group which may have a substituent (provided that R 3 to R 7). Except when is simultaneously hydrogen.) An α, β-unsaturated alcohol having an unsaturated bond represented by the general formula (IV)
Wherein, R 3 to R 8 represents the same group respectively R 3 to R 8 in the general formula (III). An α, β-unsaturated alcohol represented by
A process for producing a rearrangement compound, characterized in that it is obtained.
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