JP4528000B2 - π-Electron Conjugated Molecule-Containing Silicon Compound and Method for Producing the Same - Google Patents
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Description
本発明は、π電子共役系分子含有ケイ素化合物及びその製造方法に関し、更に詳しくは、電気材料として有用な、導電性又は半導電性の新規物質であるπ電子共役系分子含有ケイ素化合物及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a π-electron conjugated molecule-containing silicon compound and a method for producing the same, and more specifically, a π-electron conjugated molecule-containing silicon compound that is a novel conductive or semiconductive substance useful as an electrical material and the production thereof. Regarding the method.
近年、無機材料を用いた半導体に対し、製造が簡単で加工しやすく、デバイスの大型化にも対応でき、かつ量産によるコスト低下が見込め、無機材料よりも多様な機能を有した有機化合物を合成できることから、有機化合物を用いた半導体(有機半導体)の研究開発が行われ、その成果が報告されている。 In recent years, semiconductors using inorganic materials are easy to manufacture, easy to process, can respond to device enlargement, and can be expected to reduce costs due to mass production, and synthesize organic compounds with more functions than inorganic materials. Because of this, research and development of semiconductors (organic semiconductors) using organic compounds has been conducted, and the results have been reported.
なかでも、π電子共役系分子を含有する有機化合物を利用することにより、大きな移動度を有するTFTを作製することができることが知られている。この有機化合物としては、代表例としてペンタセンが報告されている(例えば、IEEE Electron Device Lett.,18,606−608(1997):非特許文献1)。ここでは、ペンタセンを用いて有機半導体層を作製し、この有機半導体層でTFTを形成すると、電界効果移動度が1.5cm2/Vsとなり、アモルファスシリコンよりも大きな移動度を有するTFTを構築することが可能であるとの報告がなされている。 In particular, it is known that a TFT having a large mobility can be produced by using an organic compound containing a π-electron conjugated molecule. As this organic compound, pentacene has been reported as a representative example (for example, IEEE Electron Device Lett., 18, 606-608 (1997): Non-Patent Document 1). Here, when an organic semiconductor layer is formed using pentacene and a TFT is formed using this organic semiconductor layer, a field effect mobility is 1.5 cm 2 / Vs, and a TFT having a mobility higher than that of amorphous silicon is constructed. It has been reported that this is possible.
しかし、上記に示すようなアモルファスシリコンよりも高い電界効果移動度を得るための有機半導体層を作製する場合、抵抗加熱蒸着法や分子線蒸着法などの真空プロセスを必要とするため、製造工程が煩雑となるとともに、ある特定の条件下でしか結晶性を有する膜が得られない。また、基板上への有機化合物膜の吸着が物理吸着であるため、膜の基板への吸着強度が低く、容易に剥がれるという問題がある。更に、膜中での有機化合物の分子の配向をある程度制御するために、通常、あらかじめ膜を形成する基板にラビング処理等による配向制御が行われているが、物理吸着による成膜では、物理吸着した有機化合物と基板との界面での化合物の分子の整合性や配向性を制御できるとの報告は未だなされていない。 However, when an organic semiconductor layer for obtaining a higher field effect mobility than amorphous silicon as described above is required, a vacuum process such as a resistance heating vapor deposition method or a molecular beam vapor deposition method is required. In addition to being complicated, a film having crystallinity can be obtained only under certain specific conditions. Further, since the adsorption of the organic compound film on the substrate is physical adsorption, there is a problem that the adsorption strength of the film to the substrate is low and the film is easily peeled off. Furthermore, in order to control the molecular orientation of the organic compound in the film to some extent, the orientation control by rubbing or the like is usually performed in advance on the substrate on which the film is formed. It has not yet been reported that the molecular alignment and orientation of the compound at the interface between the organic compound and the substrate can be controlled.
一方、このTFTの特性の代表的な指針となる電界効果移動度に大きな影響を及ぼす膜の規則性、結晶性については、近年、その製造が簡便なことから、有機化合物を用いた自己組織化膜が着目され、その膜を利用する研究がなされている。 On the other hand, with regard to the regularity and crystallinity of the film that has a great influence on the field-effect mobility, which is a representative guideline for the characteristics of this TFT, in recent years its production is simple, so that self-organization using organic compounds is possible. Membranes have attracted attention, and research on the use of these membranes has been made.
自己組織化膜とは、有機化合物の一部を、基板表面の官能基と結合させたものであり、きわめて欠陥が少なく、高い秩序性すなわち結晶性を有した膜である。この自己組織化膜は、製造方法がきわめて簡便であるため、基板への成膜を容易に行うことができる。通常、自己組織化膜として、金基板上に形成されたチオール膜や、親水化処理により表面に水酸基を突出可能な基板(例えば、シリコン基板)上に形成されたケイ素系化合物膜が知られている。なかでも、耐久性が高い点で、ケイ素系化合物膜が注目されている。ケイ素系化合物膜は、従来から撥水コーティングとして使用されており、撥水効果の高いアルキル基や、フッ化アルキル基を有機官能基として有するシランカップリング剤が用いて成膜されていた。 A self-assembled film is a film in which a part of an organic compound is bonded to a functional group on a substrate surface, has very few defects, and has high order, that is, crystallinity. Since this self-assembled film has a very simple manufacturing method, it can be easily formed on a substrate. Usually, as a self-assembled film, a thiol film formed on a gold substrate and a silicon-based compound film formed on a substrate (for example, a silicon substrate) capable of protruding a hydroxyl group on the surface by a hydrophilization treatment are known. Yes. Of these, silicon compound films are attracting attention because of their high durability. The silicon-based compound film has been conventionally used as a water-repellent coating, and has been formed using a silane coupling agent having an alkyl group having a high water-repellent effect or a fluorinated alkyl group as an organic functional group.
しかし、自己組織化膜の導電性は、膜に含まれるケイ素系化合物中の有機官能基によって決定されるが、市販のシランカップリング剤には、有機官能基にπ電子共役系分子が含まれる化合物はなく、そのため自己組織化膜に導電性を付与することが困難である。したがって、TFTのようなデバイスに適した、π電子共役系分子が有機官能基として含まれるケイ素系化合物が求められている。
このようなケイ素系化合物として、分子の末端に官能基としてチオフェン環を1つ有し、チオフェン環が直鎖炭化水素基を介してケイ素原子と結合した化合物が提案されている(例えば、特許第2889768号公報:特許文献1)。
However, the conductivity of the self-assembled film is determined by the organic functional group in the silicon-based compound contained in the film, but commercially available silane coupling agents contain π-electron conjugated molecules in the organic functional group. There are no compounds, so it is difficult to impart conductivity to the self-assembled film. Accordingly, there is a need for a silicon-based compound suitable for devices such as TFTs and containing a π-electron conjugated molecule as an organic functional group.
As such a silicon compound, a compound having one thiophene ring as a functional group at the end of a molecule and a thiophene ring bonded to a silicon atom via a linear hydrocarbon group has been proposed (for example, Patent No. 1). No. 2889768: Patent Document 1).
しかしながら、上記に提案されている化合物は、基板との化学吸着可能な自己組織化膜は作製可能であるが、TFTなどの電子デバイスに使用できる高い秩序性、結晶性、電気伝導特性を有する有機薄膜を必ずしも作製できなかった。 However, the compounds proposed above can produce a self-assembled film that can be chemically adsorbed to a substrate, but can be used for electronic devices such as TFTs. A thin film could not always be produced.
高い秩序性、すなわち、高い結晶性を得るためには、分子間に高い引力相互作用が働く必要がある。分子間力とは、引力項と反発項により構成されており、前者は分子間距離の6乗に、後者は分子間距離の12乗に反比例する。したがって、引力項と反発項を足し合わせた分子間力は図11に示す関係を有する。ここで、図11での極小点(図中の矢印部分)が、引力項と反発項との兼ね合いから最も分子間に高い引力が作用するときの分子間距離である。すなわち、より高い結晶性を得るためには、分子間距離を極小点にできる限り近づけることが重要である。したがって、本来、抵抗加熱蒸着法や分子線蒸着法等の真空プロセスにおいては、ある特定の条件下においてのみ、π電子共役系分子同士の分子間相互作用をうまく制御することで、高い秩序性、すなわち結晶性が得られている。このように分子間相互作用により構築される結晶性でのみ、高い電気伝導特性を発現することが可能となる。 In order to obtain high order, that is, high crystallinity, a high attractive interaction must be exerted between molecules. The intermolecular force is composed of an attractive term and a repulsion term, the former being inversely proportional to the sixth power of the intermolecular distance and the latter being inversely proportional to the twelfth power of the intermolecular distance. Therefore, the intermolecular force obtained by adding the attractive force term and the repulsive term has the relationship shown in FIG. Here, the minimum point (arrow part in the figure) in FIG. 11 is the intermolecular distance when the highest attractive force acts between the molecules due to the balance between the attractive term and the repulsive term. That is, in order to obtain higher crystallinity, it is important to make the intermolecular distance as close as possible to the minimum point. Therefore, originally, in vacuum processes such as resistance heating vapor deposition and molecular beam vapor deposition, high orderliness is achieved by controlling the intermolecular interaction between π-electron conjugated molecules only under certain conditions. That is, crystallinity is obtained. Thus, it becomes possible to express high electrical conduction characteristics only with the crystallinity constructed by the intermolecular interaction.
一方、上記化合物は、Si−O−Siの2次元ネットワークを形成することで基板と化学吸着し、かつ、特定の長鎖アルキル同士の分子間相互作用による秩序性が得られる可能性はあるが、官能基である1つのチオフェン分子がπ電子共役系に寄与するのみであるため、分子間の相互作用が弱く、また電気伝導性に不可欠なπ電子共役系の広がりが非常に小さいという問題があった。仮に、上記官能基であるチオフェン分子の分子数を増やすことができたとしても、膜の秩序性を形成する因子が、長鎖アルキル部とチオフェン部との間で、分子間相互作用を整合一致させることは困難である。
更に、電気伝導特性としては、官能基である1つのチオフェン分子では、HOMO−LUMOエネルギーギャップが大きく、有機半導体層としてTFT等に使用しても、十分なキャリア移動度が得られないという課題が存在していた。
On the other hand, the above compound may be chemically adsorbed to the substrate by forming a two-dimensional network of Si-O-Si, and there is a possibility that ordering due to intermolecular interaction between specific long-chain alkyls may be obtained. However, since one thiophene molecule as a functional group only contributes to the π-electron conjugated system, there is a problem that the interaction between molecules is weak and the spread of the π-electron conjugated system essential for electrical conductivity is very small. there were. Even if the number of thiophene molecules, which are the above functional groups, can be increased, the factor that forms the order of the film matches the intermolecular interaction between the long-chain alkyl part and the thiophene part. It is difficult to make it.
Furthermore, as an electrical conduction characteristic, a single thiophene molecule that is a functional group has a large HOMO-LUMO energy gap, and there is a problem that sufficient carrier mobility cannot be obtained even when used as an organic semiconductor layer in a TFT or the like. Existed.
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、簡便な製造方法により容易に結晶化させて有機薄膜を形成することができるとともに、得られた有機薄膜を基板表面に強固に吸着させて、物理的な剥がれを防止して、かつ、高い秩序性、結晶性、電気伝導特性を有する有機薄膜を作製するための化合物を提供することを目的とし、更に、TFTのような電子デバイスとして用いた場合に、十分なキャリア移動度を確保することができる新規なπ電子共役分子含有ケイ素化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and can be easily crystallized by a simple manufacturing method to form an organic thin film, and the obtained organic thin film is firmly adsorbed on the substrate surface, The purpose of the present invention is to provide a compound for producing an organic thin film having high orderability, crystallinity, and electrical conduction characteristics while preventing physical peeling, and further used as an electronic device such as a TFT. In this case, it is an object to provide a novel π-electron conjugated molecule-containing silicon compound that can ensure sufficient carrier mobility and a method for producing the same.
上記目的を達成するため、鋭意検討した結果、TFTのような電子デバイスに適応可能な有機薄膜を作製するには、Si−O−Siの2次元ネットワークを形成して、基板と強固に化学結合が可能であると同時に、その有機薄膜の秩序性(結晶性)はSi−O−Siの2次元ネットワーク上に形成した分子(ここではπ電子共役分子)の相互作用すなわち分子間力によって制御が可能であることを見いだし、新規なπ電子共役分子含有ケイ素化合物を発明するに至った。 As a result of diligent studies to achieve the above object, in order to produce an organic thin film that can be applied to an electronic device such as a TFT, a two-dimensional network of Si-O-Si is formed and chemically bonded to the substrate. At the same time, the order (crystallinity) of the organic thin film is controlled by the interaction of molecules (here, π-electron conjugated molecules) formed on the two-dimensional network of Si—O—Si, that is, intermolecular force. The inventors have found that this is possible and have invented a novel silicon compound containing a π-electron conjugated molecule.
すなわち、本発明によれば、式 R−SiX1X2X3 (I)
(式中、Rは、単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物に由来する基から選択されるユニットが5〜10個結合したπ電子共役系の有機残基でありかつ末端に官能基を有していてもよく、X1、X2及びX3は、同一又は異なって、加水分解により水酸基を与える基である。)
で表され、
前記ユニットは、ビニレン基を介して結合していてもよく、
前記官能基が、炭素数1〜30の直鎖アルキル基であり、
SiX 1 X 2 X 3 基が、前記ユニットに直接結合し、
前記単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物が、それぞれベンゼン及びチオフェンである
π電子共役系分子含有ケイ素化合物が提供される。
That is, according to the present invention, the formula R-SiX 1 X 2 X 3 (I)
(In the formula, R is an organic residue of a π-electron conjugated system in which 5 to 10 units selected from a group derived from a monocyclic aromatic hydrocarbon and a monocyclic heterocyclic compound are bonded to each other; (It may have a functional group, and X 1 , X 2 and X 3 are the same or different and are groups which give a hydroxyl group by hydrolysis.)
Represented by
The unit may be bonded via a vinylene group,
The functional group is a linear alkyl group having 1 to 30 carbon atoms;
The SiX 1 X 2 X 3 group is directly bonded to the unit;
There is provided a π-electron conjugated molecule-containing silicon compound in which the monocyclic aromatic hydrocarbon and the monocyclic heterocyclic compound are benzene and thiophene, respectively .
このように、π電子共役系を構成するユニットが結合してなる有機残基を有し、かつ、水分と反応しうる官能基である−SiX1X2X3を有した化合物は、例えば、化学吸着法により、Si−O−Siの2次元ネットワークを形成させることができるため、高度に秩序性(結晶性)を有した有機薄膜を形成できる利点がある。 Thus, a compound having an organic residue formed by bonding units constituting a π-electron conjugated system and having a functional group capable of reacting with moisture, -SiX 1 X 2 X 3 , is, for example, Since a two-dimensional network of Si—O—Si can be formed by the chemical adsorption method, there is an advantage that an organic thin film having a high degree of order (crystallinity) can be formed.
また、本発明によれば、式 R−Li (II)
(式中、Rは、単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物に由来する基から選択されるユニットが5〜10個結合したπ電子共役系の有機残基でありかつ末端に官能基を有していてもよい。)
で表される化合物と、
式 Y−SiX1X2X3 (III)
(式中、X1、X2及びX3は、同一又は異なって、加水分解により水酸基を与える基であり、Yは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基である。)
で表される化合物とを反応させて、
式 R−SiX1X2X3 (I)
(式中、R、X1、X2、X3は上記と同義である。)
で表されるπ電子共役系分子含有ケイ素化合物を得、
前記ユニットは、ビニレン基を介して結合していてもよく、
前記官能基が、炭素数1〜30の直鎖アルキル基であり、
SiX 1 X 2 X 3 基が、前記ユニットに直接結合し、
前記単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物が、それぞれベンゼン及びチオフェンである
ことを特徴とするπ電子共役系分子含有ケイ素化合物の製造方法が提供される。
Also according to the present invention, the formula R-Li (II)
(In the formula, R is an organic residue of a π-electron conjugated system in which 5 to 10 units selected from a group derived from a monocyclic aromatic hydrocarbon and a monocyclic heterocyclic compound are bonded to each other; (It may have a functional group.)
A compound represented by
Formula Y-SiX 1 X 2 X 3 (III)
(In the formula, X 1 , X 2 and X 3 are the same or different and are groups which give a hydroxyl group by hydrolysis, and Y is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkoxy group.)
Is reacted with a compound represented by
Formula R-SiX 1 X 2 X 3 (I)
(In the formula, R, X 1 , X 2 and X 3 are as defined above.)
In give π electron conjugate molecule-containing silicon compound represented by,
The unit may be bonded via a vinylene group,
The functional group is a linear alkyl group having 1 to 30 carbon atoms;
The SiX 1 X 2 X 3 group is directly bonded to the unit;
A method for producing a π-electron conjugated molecule-containing silicon compound is provided, wherein the monocyclic aromatic hydrocarbon and the monocyclic heterocyclic compound are benzene and thiophene, respectively .
更に、本発明によれば、式 R−MgX (IV)
(式中、Rは、単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物に由来する基から選択されるユニットが5〜10個結合したπ電子共役系の有機残基でありかつ末端に官能基を有していてもよい。)
で表される化合物と、
式 Y−SiX1X2X3 (III)
(式中、X1、X2及びX3は、同一又は異なって、加水分解により水酸基を与える基であり、Yは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基である。)
で表される化合物とを、グリニヤール反応に付して、
式 R−SiX1X2X3 (I)
(式中、R、X1、X2、X3は上記と同義である。)
で表されるπ電子共役系分子含有ケイ素化合物を得、
前記ユニットは、ビニレン基を介して結合していてもよく、
前記官能基が、炭素数1〜30の直鎖アルキル基であり、
SiX 1 X 2 X 3 基が、前記ユニットに直接結合し、
前記単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物が、それぞれベンゼン及びチオフェンである
ことを特徴とするπ電子共役系分子含有ケイ素化合物の製造方法が提供される。
Furthermore, according to the present invention, the formula R-MgX (IV)
(In the formula, R is an organic residue of a π-electron conjugated system in which 5 to 10 units selected from a group derived from a monocyclic aromatic hydrocarbon and a monocyclic heterocyclic compound are bonded to each other; (It may have a functional group.)
A compound represented by
Formula Y-SiX 1 X 2 X 3 (III)
(In the formula, X 1 , X 2 and X 3 are the same or different and are groups which give a hydroxyl group by hydrolysis, and Y is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkoxy group.)
To a Grignard reaction with a compound represented by
Formula R-SiX 1 X 2 X 3 (I)
(In the formula, R, X 1 , X 2 and X 3 are as defined above.)
In give π electron conjugate molecule-containing silicon compound represented by,
The unit may be bonded via a vinylene group,
The functional group is a linear alkyl group having 1 to 30 carbon atoms;
The SiX 1 X 2 X 3 group is directly bonded to the unit;
A method for producing a π-electron conjugated molecule-containing silicon compound is provided, wherein the monocyclic aromatic hydrocarbon and the monocyclic heterocyclic compound are benzene and thiophene, respectively .
本発明によれば、式(I)の化合物は、π電子共役系分子を有するケイ素化合物間で形成されるSi−O−Siの2次元ネットワーク化により、基板に化学吸着すると共に、膜の結晶化に必要な近距離力である、π電子共役系分子同士に作用する分子間相互作用が、効率的に働くため、非常に高い安定性を有し、且つ、高度に結晶化された有機薄膜を構成することができる。したがって、基板に物理吸着により作製した膜と比較して、得られた膜を基板表面に強固に吸着させて、物理的な剥がれを防止することができる。
しかも、上記のような化合物を簡便に製造することが可能になる。
According to the present invention, the compound of the formula (I) is chemically adsorbed to the substrate and formed into a crystal of the film by forming a two-dimensional network of Si—O—Si formed between silicon compounds having π-electron conjugated molecules. Because the intermolecular interaction acting between π-electron conjugated molecules, which is a short-range force necessary for crystallization, works efficiently, it has a very high stability and highly crystallized organic thin film Can be configured. Therefore, compared to a film produced by physical adsorption on the substrate, the obtained film can be strongly adsorbed on the surface of the substrate and physical peeling can be prevented.
Moreover, it becomes possible to easily produce the above compound.
また、有機薄膜を構成するケイ素化合物由来のネットワークと上部を構成する有機残基が直接結合しており、かつケイ素化合物由来のネットワークとπ共役系分子の分子間相互作用によって、高い秩序性(結晶性)を有する有機薄膜を形成することができる。これにより、分子平面と垂直な方向へのホッピング伝導により、キャリアの移動がスムーズに行われる。また、分子軸方向へも高い導電性が得られることで、導電性材料として、有機薄膜トランジスタ材料のみならず、太陽電池、燃料電池、センサー等に広く応用することが可能となる。 In addition, the silicon compound-derived network that forms the organic thin film and the organic residue that forms the upper part are directly bonded to each other, and due to the intermolecular interaction between the silicon-compound-derived network and the π-conjugated molecule, high ordering (crystal The organic thin film can be formed. Thereby, carriers are smoothly moved by hopping conduction in a direction perpendicular to the molecular plane. In addition, since high conductivity is obtained in the molecular axis direction, the conductive material can be widely applied not only to organic thin film transistor materials but also to solar cells, fuel cells, sensors, and the like.
本発明のπ電子共役系分子含有ケイ素化合物(以下、単にケイ素化合物と称する)は、式(I)、すなわちR−SiX1X2X3で表される。
式(I)中、Rは、単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物に由来する基から選択されるユニットが3〜10個結合したπ電子共役系の有機残基であり、末端に官能基を有していてもよい。
上記ユニットを構成する単環の芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、シメン、スチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。なかでも、ベンゼンが特に好ましい。
The silicon compound containing a π-electron conjugated molecule of the present invention (hereinafter simply referred to as a silicon compound) is represented by the formula (I), that is, R—SiX 1 X 2 X 3 .
In the formula (I), R is a π-electron conjugated organic residue in which 3 to 10 units selected from a group derived from a monocyclic aromatic hydrocarbon and a monocyclic heterocyclic compound are bonded, You may have a functional group at the terminal.
Examples of the monocyclic aromatic hydrocarbon constituting the unit include benzene, toluene, xylene, mesitylene, cumene, cymene, styrene, divinylbenzene and the like. Of these, benzene is particularly preferred.
単環の複素環化合物に含まれる複素原子としては、酸素、窒素及び硫黄が挙げられる。具体的な複素環化合物としては、フランのような酸素原子含有化合物、ピロール、ピリジン、ピリミジン、ピロリン、イミダゾリン、ピラゾリン等の窒素原子含有化合物、チオフェンのような硫黄原子含有化合物、オキサゾール、イソキサゾール等の窒素及び酸素原子含有化合物、チアゾール、イソチアゾール等の硫黄及び窒素原子含有化合物等が挙げられ、なかでも、チオフェンが特に好ましい。
上記ユニットは、3〜10個結合してπ電子共役系の有機残基となる。更に、上記ユニットは、収率、経済性、量産化を考慮すると、3〜8個結合していることがより好ましい。
Examples of the hetero atom contained in the monocyclic heterocyclic compound include oxygen, nitrogen, and sulfur. Specific heterocyclic compounds include oxygen atom-containing compounds such as furan, nitrogen atom-containing compounds such as pyrrole, pyridine, pyrimidine, pyrroline, imidazoline, and pyrazoline, sulfur atom-containing compounds such as thiophene, oxazole, isoxazole, and the like. Nitrogen and oxygen atom-containing compounds, sulfur and nitrogen atom-containing compounds such as thiazole and isothiazole, and the like, among which thiophene is particularly preferable.
3 to 10 of the above units are bonded to form a π-electron conjugated organic residue. Furthermore, it is more preferable that 3 to 8 units are combined in consideration of yield, economy, and mass production.
これらユニットは、複数個、分岐状に結合していてもよいが、直線状に結合していることが好ましい。また、有機残基は、同じユニットが結合していてもよいし、すべて異なるユニットが結合していてもよいし、複数種類のユニットが規則的に又はランダムな順序で結合していてもよい。また、結合の位置は、ユニットの構成分子が5員環の場合には、2,5−位、3,4−位、2,3−位、2,4−位等のいずれでもよいが、なかでも、2,5−位が好ましい。6員環の場合には、1,4−位、1,2−位、1,3−位等のいずれでもよいが、なかでも、1,4−位が好ましい。 A plurality of these units may be connected in a branched manner, but are preferably connected in a linear shape. Moreover, the same unit may couple | bond with the organic residue, all different units may couple | bond, and several types of units may couple | bond together in regular or random order. In addition, the position of the bond may be any of 2,5-position, 3,4-position, 2,3-position, 2,4-position, etc. when the constituent molecule of the unit is a 5-membered ring, Of these, the 2,5-position is preferred. In the case of a 6-membered ring, any of 1,4-position, 1,2-position, 1,3-position and the like may be used, but among them, 1,4-position is preferable.
例えば、Rの具体例としては、ビフェニル、ビチオフェニル、ターフェニル、ターチエニル、クォーターフェニル、クォーターチオフェン、クィンケフェニル、クィンケチオフェン、ヘキシフェニル、ヘキシチオフェン、チエニル−オリゴフェニレン(式(3)の化合物参照)、フェニル−オリゴオリゴチエニレン(式(4)の化合物参照)、ブロックオリゴマー(式(5)又は(6)の化合物参照)に由来の基が挙げられる。 For example, specific examples of R include biphenyl, bithiophenyl, terphenyl, terthienyl, quarterphenyl, quarterthiophene, quinkephenyl, quinkethiophene, hexylphenyl, hexthiophene, and thienyl-oligophenylene (see the compound of formula (3)) ), Phenyl-oligo-oligothienylene (see compound of formula (4)), group derived from block oligomer (see compound of formula (5) or (6)).
有機残基は、末端に官能基を有していてもよい。具体的な官能基としては、ヒドロキシル基、置換若しくは無置換のアミノ基、ニトロ基、シアノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基、置換若しくは無置換の芳香族複素環基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリールオキシ基、置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、又は、カルボキシル基、エステル基等が挙げられる。これらの官能基のなかでも、立体障害により有機薄膜の結晶化を阻害しない官能基が好ましく、したがって、上記官能基の中でも炭素数1−30の直鎖アルキル基が特に好ましい。 The organic residue may have a functional group at the terminal. Specific examples of the functional group include a hydroxyl group, a substituted or unsubstituted amino group, a nitro group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, Substituted or unsubstituted alkoxy group, substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted aryloxy group, substituted or unsubstituted Examples thereof include a substituted alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, and an ester group. Among these functional groups, a functional group that does not inhibit crystallization of the organic thin film due to steric hindrance is preferable. Therefore, among the above functional groups, a linear alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is particularly preferable.
更に、ユニット間には、ビニレン基が位置していてもよい。ビニレン基を与える炭化水素としては、アルケン、アルカジエン、アルカトリエン等が挙げられる。アルケンとしては、炭素数2〜4の化合物、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン等が挙げられる。なかでも、エチレンが好ましい。アルカジエンとしては、炭素数4〜6の化合物、ブタジエン、ペンタジエン、ヘキサジエン等が挙げられる。アルカトリエンとしては、炭素数6〜8の化合物、例えば、ヘキサトリエン、ヘプタトリエン、オクタトリエン等が挙げられる。 Furthermore, a vinylene group may be located between the units. Examples of hydrocarbons that give a vinylene group include alkenes, alkadienes, and alkatrienes. Alkenes include compounds having 2 to 4 carbon atoms, such as ethylene, propylene, butylene and the like. Of these, ethylene is preferable. Examples of the alkadiene include compounds having 4 to 6 carbon atoms, butadiene, pentadiene, hexadiene and the like. Examples of the alkatriene include compounds having 6 to 8 carbon atoms such as hexatriene, heptatriene, and octatriene.
X1、X2及びX3における加水分解により水酸基を与える基としては、特に限定されるものではなく、例えば、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、ヨウ素、臭素原子が挙げられる。低級アルコキシ基としては、炭素数1〜4のアルコキシ基が挙げられる。例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、2−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等が挙げられ、その一部が更に別の官能基(トリアルキルシリル基、他のアルコキシ基等)で置換されたものでもよい。X1、X2及びX3は、同一であってもよいが、必ずしも全てが同一でなくてもよく、その内の2つ又は全てが異なっていてもよい。なかでも、全てが同一であることが好ましい。 The group that gives a hydroxyl group by hydrolysis in X 1 , X 2, and X 3 is not particularly limited, and examples thereof include a halogen atom or a lower alkoxy group. Examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, iodine and bromine atoms. Examples of the lower alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. For example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, a 2-propoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, and the like, some of which are further functional groups (trialkylsilyl). Group, another alkoxy group, etc.). X 1 , X 2 and X 3 may be the same, but not all may be the same, and two or all of them may be different. Especially, it is preferable that all are the same.
本発明のケイ素化合物の具体例としては、例えば、以下に示すものが挙げられる。 Specific examples of the silicon compound of the present invention include those shown below.
(式中、nは2〜8、mは2〜5、a+bは3〜10である。)
以下に本発明のケイ素化合物の合成方法を説明する。
(In the formula, n is 2 to 8, m is 2 to 5, and a + b is 3 to 10.)
The method for synthesizing the silicon compound of the present invention will be described below.
本発明のケイ素化合物は、
・式 R−Li (II)で表される化合物と、 式 Y−SiX1X2X3 (III)(式中、X1、X2、X3及びYは上記と同義である。)で表される化合物とを反応させるか、又は、
・式 R−MgX (IV)(式中、R及びXは上記と同義である。)で表される化合物と、上記式(III)で表される化合物とをグリニヤール反応させることにより得ることができる。
The silicon compound of the present invention is
A compound represented by the formula R-Li (II) and a formula Y-SiX 1 X 2 X 3 (III) (wherein X 1 , X 2 , X 3 and Y are as defined above). Reacting with the compound represented, or
-It can be obtained by subjecting a compound represented by the formula R-MgX (IV) (wherein R and X are as defined above) and a compound represented by the formula (III) to Grignard reaction. it can.
式(II)又は(IV)の化合物は、例えば、RHで表される化合物を、アルキルリチウムと反応させて得るか、あるいはR−X(Xはハロゲン原子)で表される化合物をアルキルマグネシウムハライド又は金属マグネシウム等と反応させて得ることができる。
この反応で用いられるアルキルリチウムとしては、n−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム等の低級(炭素数1〜4程度)アルキルリチウムが挙げられる。その使用量は化合物R−X1モルに対して1〜5モルが好ましく、より好ましくは1〜2モルである。アルキルマグネシウムハライドとしてはエチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムクロリド等が挙げられる。その使用量は原料化合物RH1モルに対して1〜10モルが好ましく、より好ましくは1〜4モルである。
The compound of formula (II) or (IV) is obtained, for example, by reacting a compound represented by RH with alkyllithium, or a compound represented by R—X (X is a halogen atom). Alternatively, it can be obtained by reacting with metallic magnesium or the like.
Examples of the alkyl lithium used in this reaction include lower (about 1 to 4 carbon atoms) alkyl lithium such as n-butyl lithium, s-butyl lithium, and t-butyl lithium. The amount to be used is preferably 1 to 5 mol, more preferably 1 to 2 mol, relative to 1 mol of compound R-X. Examples of the alkyl magnesium halide include ethyl magnesium bromide and methyl magnesium chloride. The amount used is preferably 1 to 10 mol, more preferably 1 to 4 mol, relative to 1 mol of the raw material compound RH.
反応温度は、例えば、−100〜150℃が好ましく、より好ましくは−20〜100℃である。反応時間は、例えば、0.1〜48時間程度である。反応は、通常、反応に影響のない有機溶媒中で行われる。反応に悪影響のない有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、ペンタン、ベンゼン、トルエン等脂肪族又は芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル系溶媒等が挙げられ、これらは単独で又は混合液として用いることができる。なかでも、ジエチルエーテルとTHFが好適である。反応は、任意に触媒を用いてもよい。触媒としては、白金触媒、パラジウム触媒、ニッケル触媒等、触媒として公知のものを用いることができる。 For example, the reaction temperature is preferably −100 to 150 ° C., more preferably −20 to 100 ° C. The reaction time is, for example, about 0.1 to 48 hours. The reaction is usually carried out in an organic solvent that does not affect the reaction. Examples of the organic solvent that does not adversely influence the reaction include aliphatic or aromatic hydrocarbons such as hexane, pentane, benzene, and toluene, ether solvents such as diethyl ether, dipropyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran (THF). These can be used alone or as a mixture. Of these, diethyl ether and THF are preferable. The reaction may optionally use a catalyst. As the catalyst, a known catalyst such as a platinum catalyst, a palladium catalyst, or a nickel catalyst can be used.
本発明のケイ素化合物の合成方法をより具体的に以下に説明する。以下の合成方法における反応温度や反応時間は上記内容と同様であり、例えば−100〜150℃、0.1〜48時間である。
以下では、単環の芳香族炭化水素の例であるベンゼンに由来するユニットと、単環の複素環化合物の例であるチオフェンに由来するユニットから構成される有機残基の前駆体の合成例を示す。ただし、チオフェンのような窒素含有複素環化合物と同様の方法で、窒素原子、酸素原子を含む複素環化合物についても、前駆体を形成することができる。
The method for synthesizing the silicon compound of the present invention will be described more specifically below. The reaction temperature and reaction time in the following synthesis method are the same as those described above, for example, −100 to 150 ° C. and 0.1 to 48 hours.
In the following, a synthesis example of a precursor of an organic residue composed of a unit derived from benzene, which is an example of a monocyclic aromatic hydrocarbon, and a unit derived from thiophene, which is an example of a monocyclic heterocyclic compound. Show. However, a precursor can be formed also for a heterocyclic compound containing a nitrogen atom or an oxygen atom in the same manner as a nitrogen-containing heterocyclic compound such as thiophene.
ベンゼン又はチオフェンに由来するユニットから構成される前駆体の合成方法としては、まず、ベンゼン又はチオフェンの反応部位をハロゲン化させた後に、グリニヤール反応を利用する方法が有効である。この方法を使用すれば、ベンゼンあるいはチオフェンの数を制御した前駆体を合成することができる。また、グリニヤール試薬を適用する方法以外にも、適当な金属触媒(Cu、Al、Zn、Zr、Sn等)を利用したカップリングによっても合成することができる。
更に、チオフェンについては、グリニヤール試薬を利用する方法以外に、下記合成方法を利用することができる。
As a method for synthesizing a precursor composed of units derived from benzene or thiophene, a method using a Grignard reaction after first halogenating a reaction site of benzene or thiophene is effective. If this method is used, a precursor in which the number of benzene or thiophene is controlled can be synthesized. In addition to the method of applying the Grignard reagent, it can be synthesized by coupling using an appropriate metal catalyst (Cu, Al, Zn, Zr, Sn, etc.).
Furthermore, for thiophene, in addition to the method using a Grignard reagent, the following synthesis method can be used.
すなわち、まず、チオフェンの2’位あるいは5’位をハロゲン化(例えば、クロロ化)させる。ハロゲン化させる方法としては、例えば、1当量のN−クロロスクシンイミド(N−Chlorosuccinimide:NCS)処理や、オキシ塩化燐(phosphorus oxychloride:POCl3)処理が挙げられる。このときの溶媒としては、例えばクロロホルム・酢酸(AcOH)混合液やDMFが使用できる。また、ハロゲン化したチオフェン同士を、DMF溶媒中でトリス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(tris(triphenylphosphine)Nickel:(PPh3)3Ni)を触媒として反応させることによって、結果的にハロゲン化させた部分でチオフェン同士を直接結合できる。 That is, first, the 2′-position or 5′-position of thiophene is halogenated (eg, chlorinated). Examples of the halogenation method include treatment with 1 equivalent of N-chlorosuccinimide (NCS) and phosphorous oxychloride (POCl 3 ). As the solvent at this time, for example, a chloroform / acetic acid (AcOH) mixed solution or DMF can be used. In addition, by reacting halogenated thiophenes with a catalyst of tris (triphenylphosphine) nickel (tris (triphenylphosphine) nickel: (PPh 3 ) 3Ni) in a DMF solvent, the resulting halogenated portion Thiophenes can be bonded directly.
更に、ハロゲン化したチオフェンに対して、ジビニルスルホンを加え、カップリングさせることにより1,4−ジケトン体を形成させる。続いて、乾燥トルエン溶液中で、ローウェッソン剤(Lawesson Regent:LR)あるいはP4S10を加え、前者の場合一晩、後者の場合3時間程度還流させることによって、閉環反応を起こさせる。その結果、カップリングしたチオフェンの合計数よりもひとつチオフェンの数が多い前駆体を合成できる。
チオフェンの上記反応を利用して、チオフェン環の数を増加させることができる。
Furthermore, divinyl sulfone is added to the halogenated thiophene and coupled to form a 1,4-diketone body. Subsequently, in a dry toluene solution, Lawesson Reagent (LR) or P 4 S 10 is added, and the mixture is refluxed overnight in the former case and about 3 hours in the latter case, thereby causing a ring-closing reaction. As a result, a precursor having one thiophene greater than the total number of coupled thiophenes can be synthesized.
Using the above reaction of thiophene, the number of thiophene rings can be increased.
上記前駆体は、その合成に使用した原料と同じく、末端をハロゲン化させることができる。そのため、前駆体をハロゲン化させた後、例えばSiCl4と反応させることによって、末端にシリル基を有し、かつベンゼン又はチオフェンに由来するユニットのみからなる有機残基を備えたケイ素化合物(単純ベンゼン又は単純チオフェン化合物)を得ることができる。 The precursor can be halogenated at the terminal in the same manner as the raw material used for the synthesis. Therefore, after the precursor is halogenated, for example, by reacting with SiCl 4 , a silicon compound having a silyl group at the terminal and having an organic residue consisting only of units derived from benzene or thiophene (simple benzene) Or a simple thiophene compound) can be obtained.
一例として、ベンゼン又はチオフェンのみからなる有機残基の前駆体の合成方法と、前駆体のシリル化の方法の一例を以下の(A)〜(D)に示す。なお、下記チオフェンのみからなる前駆体の合成例では、チオフェンの3量体から6あるいは7量体への反応のみを示した。しかし、ユニット数の異なるチオフェンと反応させれば、前記6あるいは7量体以外の前駆体を形成できる。例えば、2−クロロチオフェンをカップリングした後にNCSによりクロロ化させた2−クロロビチオフェンに下記と同様の反応をさせることによって、チオフェン4あるいは5量体を形成できる。更に、チオフェン4量体をNCSによりクロロ化させれば更にチオフェン8あるいは9量体も形成することができる。 As an example, the following (A) to (D) show examples of a method for synthesizing a precursor of an organic residue composed only of benzene or thiophene and a method for silylation of the precursor. In addition, in the synthesis example of the precursor which consists only of the following thiophene, only the reaction from the trimer of thiophene to the hexamer or heptamer was shown. However, by reacting with thiophene having a different number of units, precursors other than the 6 or 7 mer can be formed. For example, thiophene tetramer or pentamer can be formed by coupling 2-chlorothiophene and then reacting 2-chlorobithiophene chlorinated with NCS in the same manner as described below. Furthermore, if thiophene tetramer is chlorinated with NCS, thiophene 8 or 9-mer can also be formed.
所定数のチオフェンとベンゼン由来のユニットがそれぞれ結合した単位を直接結合することにより、ブロック型の有機残基の前駆体を得る方法としては、例えば、グリニヤール反応を使用する方法がある。なお、前駆体をSiCl4やHSi(OEt)3と反応させれば、目的のケイ素化合物を得ることができる。また、上記化合物のうち、末端アルコキシ基のシリル基を有する化合物については、比較的反応性が低いため、あらかじめ原料に結合された状態で合成できる。この場合の合成例としては、以下の方法が適用できる。 As a method of obtaining a precursor of a block type organic residue by directly bonding a unit in which a predetermined number of units derived from thiophene and benzene are bonded, there is a method using a Grignard reaction, for example. If the precursor is reacted with SiCl 4 or HSi (OEt) 3 , the target silicon compound can be obtained. Of the above compounds, compounds having a silyl group as a terminal alkoxy group can be synthesized in a state of being bonded to a raw material in advance because of their relatively low reactivity. As a synthesis example in this case, the following method can be applied.
まず、単純ベンゼン又は単純チオフェン化合物のシリル基と逆末端をハロゲン化(例えば、ブロモ化)した後に、グリニヤール反応によって、シリル基と結合する官能基をハロゲンからアルコキシ基に変換させる。続いて、n−BuLi、B(O−iPr)3を付与することによって脱ブロモ化及びホウ素化できる。このときの溶媒は、エーテルが好ましい。また、ホウ素化させる場合の反応は、2段階であり、初期は反応を安定化させるために、1段階目は−78℃で行い、2段階目は−78℃から室温に徐々に温度を上昇させることが好ましい。一方で、両端にハロゲン基(例えば、ブロモ基)を有するベンゼンあるいはチオフェンを用いてグリニヤール反応からブロック型化合物の中間体を作製しておく。 First, after halogenating (for example, brominating) a silyl group and a reverse terminal of simple benzene or simple thiophene compound, a functional group bonded to the silyl group is converted from a halogen to an alkoxy group by a Grignard reaction. Subsequently, it can be debrominated and boronated by applying n-BuLi, B (O-iPr) 3 . The solvent at this time is preferably ether. In addition, the reaction in the case of boronation is a two-stage process. In order to stabilize the reaction, the first stage is performed at −78 ° C., and the second stage is gradually increased from −78 ° C. to room temperature. It is preferable to make it. On the other hand, an intermediate of a block type compound is prepared from a Grignard reaction using benzene or thiophene having a halogen group (for example, bromo group) at both ends.
この状態で、未反応のブロモ基と上記のホウ素化された化合物を、例えばトルエン溶媒中に展開させ、Pd(PPh3)4、Na2CO3の存在下、85℃の反応温度にて、反応を完全に進行させれば、カップリングを起こさせることが可能である。結果的に、ブロック型化合物の末端にシリル基を有するケイ素化合物を合成することができる。 In this state, the unreacted bromo group and the above boronated compound are developed in, for example, a toluene solvent, and in the presence of Pd (PPh 3 ) 4 and Na 2 CO 3 at a reaction temperature of 85 ° C. If the reaction is allowed to proceed completely, coupling can occur. As a result, a silicon compound having a silyl group at the terminal of the block type compound can be synthesized.
このような反応を用いたケイ素化合物(E)及び(F)の合成ルートの一例を以下に示す。なお、ベンゼンあるいはチオフェンに由来するユニットの両末端にそれぞれハロゲン基(例えば、ブロモ基)及びトリクロロシリル基を有する化合物は、p−フェニレンあるいは2,5−チオフェンジイルとハロゲン化剤(例えば、NBS)との反応により両末端をハロゲン化させたのち、SiCl4と反応させ、一方をトリクロロシリル化させることにより形成することができる。 An example of a synthetic route for silicon compounds (E) and (F) using such a reaction is shown below. A compound having a halogen group (for example, bromo group) and a trichlorosilyl group at both ends of a unit derived from benzene or thiophene is p-phenylene or 2,5-thiophenediyl and a halogenating agent (for example, NBS). It can be formed by halogenating both ends by the reaction with and then reacting with SiCl 4 and trichlorosilylating one of them.
ベンゼンあるいはチオフェンに由来するユニットとビニル基が交互に結合される前駆体の合成方法としては、例えば以下の方法が適用できる。すなわち、ベンゼンあるいはチオフェンの反応部位にメチル基を有する原料を準備した後に、その両端を2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)及びN−ブロモスクシンイミド(N―bromosuccinimide:NBS)を用いてブロモ化させる。この後、ブロモ体にPO(OEt)3を反応させ、中間体を形成させる。つづいて、末端にアルデヒド基を有する化合物と、中間体とを、例えばDMF溶媒中でNaHを用いて反応させることによって、上記の前駆体は形成できる。なお、得られた前駆体は、末端にメチル基を有するため、例えばこのメチル基を更にブロモ化させ、上記合成ルートを再度適用すれば、更にユニット数の多い前駆体を形成できる。 As a method for synthesizing a precursor in which units derived from benzene or thiophene and vinyl groups are alternately bonded, for example, the following method can be applied. That is, after preparing a raw material having a methyl group at the reaction site of benzene or thiophene, both ends thereof are used with 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN) and N-bromosuccinimide (NBS). Brominated. Thereafter, PO (OEt) 3 is reacted with the bromo compound to form an intermediate. Subsequently, the above precursor can be formed by reacting a compound having an aldehyde group at the terminal with an intermediate, for example, using NaH in a DMF solvent. In addition, since the obtained precursor has a methyl group at the terminal, for example, if the methyl group is further brominated and the above synthetic route is applied again, a precursor having a larger number of units can be formed.
得られた前駆体を、例えばNBSを用いてブロモ化すれば、その部分とSiCl4とを反応させることが可能となる。よって、末端にSiCl3を有するケイ素化合物を形成できる。このような反応を用いて長さの異なる前駆体(G)〜(I)とケイ素化合物(J)の合成ルートの一例を以下に示す。 If the obtained precursor is brominated using, for example, NBS, the portion can be reacted with SiCl 4 . Therefore, a silicon compound having SiCl 3 at the terminal can be formed. An example of a synthesis route for precursors (G) to (I) and silicon compound (J) having different lengths using such a reaction is shown below.
いずれの化合物についても、所定の位置に側鎖(例えばアルキル基)を有する原料を用いることもできる。すなわち、例えば、原料として2−オクタデシルターチオフェンを用いれば、上記の合成ルートにより前駆体(A)として2−オクタデシルセクシチオフェンを得ることができる。したがって、ケイ素化合物(C)として、2−オクタデシルセクシチオフェントリクロロシランを得ることができる。同様に、所定の位置にあらかじめ側鎖を有する原料を用いれば、上記(A)〜(J)のいずれの化合物でかつ、側鎖を有する化合物を得ることができる。
また、上記合成例で使用した原料は、汎用の試薬であり、試薬メーカーより入手、利用できる。以下に原料のCASナンバー、及び、試薬メーカーとして例えばキシダ化学より入手した場合の試薬の純度を示しておく。
For any compound, a raw material having a side chain (for example, an alkyl group) at a predetermined position can also be used. That is, for example, when 2-octadecyl terthiophene is used as a raw material, 2-octadecyl sexual thiophene can be obtained as a precursor (A) by the above synthesis route. Accordingly, 2-octadecylsecthiothiophene trichlorosilane can be obtained as the silicon compound (C). Similarly, if a raw material having a side chain in advance at a predetermined position is used, a compound having any of the compounds (A) to (J) and having a side chain can be obtained.
The raw materials used in the above synthesis examples are general-purpose reagents that can be obtained and used from reagent manufacturers. The CAS number of the raw material and the purity of the reagent when obtained from Kishida Chemical as a reagent manufacturer are shown below.
このようにして得られるケイ素化合物は、公知の手段、例えば転溶、濃縮、溶媒抽出、分留、結晶化、再結晶、クロマトグラフィー等により反応溶液から単離、精製することができる。このケイ素化合物は、例えば、以下のように膜とすることができる。
まず、ケイ素化合物をヘキサン、クロロホルム、四塩化炭素等の非水系有機溶媒に溶解する。得られた溶液中に、有機薄膜を形成しようとする基板(好ましくは、水酸基、カルボキシル基等の活性水素を有する基板)を浸漬して、引き上げる。あるいは、得られた溶液を基板表面に塗布してもよい。その後、非水系有機溶媒で洗浄し、水洗し、放置するか加熱することにより乾燥して、有機薄膜を定着させる。
The silicon compound thus obtained can be isolated and purified from the reaction solution by known means such as phase transfer, concentration, solvent extraction, fractional distillation, crystallization, recrystallization, chromatography and the like. This silicon compound can be formed into a film as follows, for example.
First, a silicon compound is dissolved in a non-aqueous organic solvent such as hexane, chloroform, or carbon tetrachloride. A substrate on which an organic thin film is to be formed (preferably a substrate having active hydrogen such as a hydroxyl group or a carboxyl group) is immersed in the obtained solution and pulled up. Alternatively, the obtained solution may be applied to the substrate surface. Thereafter, it is washed with a non-aqueous organic solvent, washed with water, left to stand or dried by heating to fix the organic thin film.
この有機薄膜は、直接電気材料として用いてもよいし、更に電解重合等の処理を施して用いてもよい。この材料を用いることで、Si−O−Siネットワーク化とともに、隣り合うπ電子共役系分子間距離が小さく、高度に秩序化(結晶化)した有機薄膜が得られる。また、ユニットが、直鎖に配置されている場合には、隣り合うユニット同士は結合せず、更に、隣り合うユニット間距離が小さく、高度に結晶化された有機薄膜を得ることができる。
以下に、本発明のケイ素化合物及びその製造方法を実施例により具体的に説明する。
This organic thin film may be used directly as an electric material, or may be used after further treatment such as electrolytic polymerization. By using this material, it is possible to obtain a highly ordered (crystallized) organic thin film with a Si—O—Si network and a small distance between adjacent π-electron conjugated molecules. Further, when the units are arranged in a straight chain, the adjacent units are not coupled to each other, and the distance between the adjacent units is small, so that a highly crystallized organic thin film can be obtained.
Hereinafter, the silicon compound of the present invention and the production method thereof will be specifically described with reference to examples.
実施例1:グリニヤール法によるターフェニルトリクロロシランの合成
攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに、ターフェニル1.5モルを四塩化炭素に溶解させた後、NBS、AIBNを加え、3時間攪拌した後に減圧濾過することによって、ブロモターフェニルを得た。続いて、攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに、金属マグネシウム0.5モル、THF(テトラヒドロフラン)300mlを仕込み、前記ブロモターフェニル0.5モルを50〜60℃にて滴下ロートから2時間かけて滴下し、滴下終了後65℃にて2時間成熟させ、グリニヤール試薬を調製した。
Example 1: Synthesis of terphenyltrichlorosilane by Grignard method In a 500 ml glass flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, and dropping funnel, 1.5 mol of terphenyl was dissolved in carbon tetrachloride, NBS, AIBN was added and stirred for 3 hours, followed by filtration under reduced pressure to obtain bromoterphenyl. Subsequently, in a 500 ml glass flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a thermometer, and a dropping funnel, 0.5 mol of metal magnesium and 300 ml of THF (tetrahydrofuran) were charged, and 0.5 mol of bromoterphenyl was added at 50 to 60 ° C. Was added dropwise from a dropping funnel over 2 hours, and after completion of dropping, the mixture was matured at 65 ° C. for 2 hours to prepare a Grignard reagent.
攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた1リットルガラスフラスコに、SiCl4(テトラクロロシラン)1.0モル、トルエン300mlを仕込み、氷冷し、内温20℃以下にて、グリニヤール試薬を2時間かけて加え、滴下終了後、30℃にて1時間成熟を行った(グリニヤール反応)。
次いで、反応液を減圧にてろ過し、塩化マグネシウムを除いた後、ろ液からトルエン及び未反応のテトラクロロシランをストリップし、この溶液を蒸留して、標題化合物を50%の収率で得た。
A 1 liter glass flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, and dropping funnel is charged with 1.0 mol of SiCl 4 (tetrachlorosilane) and 300 ml of toluene, cooled on ice, and at an internal temperature of 20 ° C. or less, a Grignard reagent Was added over 2 hours, and after completion of the dropwise addition, maturation was performed at 30 ° C. for 1 hour (Grignard reaction).
Then, the reaction solution was filtered under reduced pressure to remove magnesium chloride, and then toluene and unreacted tetrachlorosilane were stripped from the filtrate, and this solution was distilled to obtain the title compound in a yield of 50%. .
得られた化合物について、赤外吸収スペクトル測定を行ったところ、1080cm-1にSiC由来の吸収が観測され、化合物がSiC結合を有することが確認できた。
また、化合物を含む溶液の紫外−可視吸収スペクトル測定を行ったところ、波長280nmに吸収が観測された。この吸収は、分子に含まれるターフェニル分子のπ→π*遷移に起因しており、化合物がターフェニル分子を含むことが確認できた。
更に化合物の核磁気共鳴(NMR)測定を行った。得られた化合物を直接NMR測定することは、化合物の反応性が高いことより不可能であるため、化合物をエタノールと反応させ(塩化水素の発生を確認した)、末端の塩素をエトキシ基に変換した後、測定を行った。
7.95ppm〜7.35ppm(m) (13H 芳香族由来)
2.60ppm(m) (3H エトキシ基由来)
これらの結果から、得られた化合物が式(1)に示すターフェニルトリクロロシランであることを確認した。
When the infrared absorption spectrum measurement was performed for the obtained compound, absorption derived from SiC was observed at 1080 cm −1 , and it was confirmed that the compound had a SiC bond.
Moreover, when the ultraviolet-visible absorption spectrum measurement of the solution containing a compound was performed, absorption was observed by wavelength 280nm. This absorption was attributed to the π → π * transition of the terphenyl molecule contained in the molecule, and it was confirmed that the compound contained a terphenyl molecule.
Furthermore, the nuclear magnetic resonance (NMR) measurement of the compound was performed. Direct NMR measurement of the resulting compound is impossible due to the high reactivity of the compound, so the compound was reacted with ethanol (hydrogen chloride generation was confirmed), and the terminal chlorine was converted to an ethoxy group. Then, measurement was performed.
7.95 ppm to 7.35 ppm (m) (from 13H aromatics)
2.60 ppm (m) (derived from 3H ethoxy group)
From these results, it was confirmed that the obtained compound was terphenyltrichlorosilane represented by the formula (1).
実施例2:グリニヤール法によるターチオフェントリクロロシランの合成
攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに、ターチオフェン1.0モルを四塩化炭素に溶解させた後、NBS、AIBNを加え、2.5時間攪拌した後に減圧濾過することによって、ブロモターチオフェンを得た。続いて、
攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに、金属マグネシウム0.5モル、THF(テトラヒドロフラン)300mlを仕込み、前記ブロモターチオフェン0.5モルを50〜60℃にて滴下ロートから2時間かけて滴下し、滴下終了後65℃にて2時間成熟させ、グリニヤール試薬を調製した。
攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた1リットルガラスフラスコにSiCl4(テトラクロロシラン)1.5モル、トルエン300mlを仕込み、氷冷し、内温20℃以下にて、前記グリニヤール試薬を2時間かけて加え、滴下終了後30℃にて1時間成熟を行った(グリニヤール反応)。
Example 2: Synthesis of terthiophene trichlorosilane by Grignard method In a 500 ml glass flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, and dropping funnel, 1.0 mol of terthiophene was dissolved in carbon tetrachloride, NBS, AIBN was added and stirred for 2.5 hours, followed by filtration under reduced pressure to obtain bromoterthiophene. continue,
A 500 ml glass flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, and dropping funnel is charged with 0.5 mol of metal magnesium and 300 ml of THF (tetrahydrofuran), and 0.5 mol of bromoterthiophene is added dropwise at 50 to 60 ° C. It dropped over 2 hours from the funnel, and after completion of dropping, the mixture was matured at 65 ° C. for 2 hours to prepare a Grignard reagent.
A 1 liter glass flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, and dropping funnel was charged with 1.5 mol of SiCl 4 (tetrachlorosilane) and 300 ml of toluene, cooled on ice, and at an internal temperature of 20 ° C. or lower, the Grignard reagent Was added over 2 hours, and after completion of the dropwise addition, maturation was performed at 30 ° C. for 1 hour (Grignard reaction).
次いで、反応液を減圧にてろ過し、塩化マグネシウムを除いた後、ろ液よりトルエン及び未反応のテトラクロロシランをストリップし、この溶液を蒸留して、標題化合物を55%の収率で得た。
得られた化合物について、赤外吸収スペクトル測定を行ったところ、1060cm-1にSiC由来の吸収が観測され、化合物がSiC結合を有することが確認できた。
また、化合物を含む溶液の紫外−可視吸収スペクトル測定を行ったところ、波長360nmに吸収が観測された。この吸収は、分子に含まれるターチオフェン分子のπ→π*遷移に起因しており、化合物がターチオフェン分子を含むことが確認できた。
Then, the reaction solution was filtered under reduced pressure to remove magnesium chloride, and then toluene and unreacted tetrachlorosilane were stripped from the filtrate, and this solution was distilled to obtain the title compound in a yield of 55%. .
When the obtained compound was subjected to infrared absorption spectrum measurement, SiC-derived absorption was observed at 1060 cm −1 , confirming that the compound had a SiC bond.
Moreover, when the ultraviolet-visible absorption spectrum measurement of the solution containing a compound was performed, absorption was observed by wavelength 360nm. This absorption was attributed to the π → π * transition of the terthiophene molecule contained in the molecule, and it was confirmed that the compound contained the terthiophene molecule.
更に化合物の核磁気共鳴(NMR)測定を行った。この化合物は、直接NMR測定することが、化合物の反応性が高いことより不可能であるため、化合物をエタノールと反応させ(塩化水素の発生を確認した)、末端の塩素をエトキシ基に交換した後に測定を行った。
7.50ppm〜7.00ppm(m) (7H チオフェン環由来)
2.20ppm(m) (3H エトキシ基由来)
これらの結果から、この化合物が式(2)で示されるターチオフェントリクロロシランであることを確認した。
Furthermore, the nuclear magnetic resonance (NMR) measurement of the compound was performed. Since this compound cannot be directly measured by NMR due to the high reactivity of the compound, the compound was reacted with ethanol (hydrogen chloride generation was confirmed), and the terminal chlorine was replaced with an ethoxy group. Measurements were made later.
7.50 ppm to 7.00 ppm (m) (derived from 7H thiophene ring)
2.20 ppm (m) (derived from 3H ethoxy group)
From these results, it was confirmed that this compound was terthiophene trichlorosilane represented by the formula (2).
実施例3:Liを利用したターチオフェントリクロロシランの合成
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えた1リットルガラスフラスコに1.0モルのターチオフェンを含む300mlのテトラヒドロフラン溶液を仕込み、−78℃に冷却したのちに、1.0モルのn−ブチルリチウムをゆっくりと滴下し、その後、1時間攪拌することで、式(8)に示す構造を有したターチオフェンのリチウム塩を作製した。
Example 3: Synthesis of terthiophene trichlorosilane using Li A 300-liter tetrahydrofuran solution containing 1.0 mol of terthiophene was charged into a 1-liter glass flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel, and cooled to -78 ° C. Then, 1.0 mol of n-butyllithium was slowly added dropwise, and then stirred for 1 hour to prepare a lithium salt of terthiophene having a structure represented by formula (8).
次いで、テトラクロロシランのテトラヒドロフラン溶液を加え、一晩攪拌したのち、反応液中から塩化リチウム、トルエン及び未反応のテトラクロロシランを除去した。その後、この溶液を蒸留することで標題化合物を45%の収率で得た。
得られた化合物について、赤外吸収スペクトル及び核磁気共鳴を測定したところ、これらはいずれも実施例2で示した化合物と同じ位置に吸収が見られたため、この化合物が実施例2で作製した式(2)で示されるターチオフェントリクロロシランであることを確認した。
Next, a tetrahydrofuran solution of tetrachlorosilane was added and stirred overnight, and then lithium chloride, toluene and unreacted tetrachlorosilane were removed from the reaction solution. The solution was then distilled to give the title compound in 45% yield.
The obtained compound was measured for infrared absorption spectrum and nuclear magnetic resonance. As a result, absorption was observed at the same position as the compound shown in Example 2, so that the compound produced in Example 2 was used. It was confirmed that it was terthiophene trichlorosilane represented by (2).
実施例4:有機薄膜の作製及び半導体特性の測定
実施例2で得られたπ電子共役系分子含有ケイ素化合物を含むトルエン溶液を調製し、あらかじめ親水化処理により表面に水酸基を突出させたシリコン基板をトルエン溶液に浸漬することで、有機薄膜を成膜した。
紫外−可視吸収スペクトルにおいて、波長360nmにターチオフェン吸収が見られたことより、基板表面にケイ素化合物が吸着していることを確認できた。
Example 4: Preparation of organic thin film and measurement of semiconductor properties A silicon substrate prepared by preparing a toluene solution containing the π-electron conjugated molecule-containing silicon compound obtained in Example 2 and having a hydroxyl group protruding from the surface in advance by hydrophilization treatment Was immersed in a toluene solution to form an organic thin film.
In the ultraviolet-visible absorption spectrum, terthiophene absorption was observed at a wavelength of 360 nm, which confirmed that the silicon compound was adsorbed on the substrate surface.
また、X線回折において2θ=22.7°にピークが確認され、面間隔0.392nmの結晶性膜が形成されていることがわかった。このことは、本発明のターチオフェントリクロロシランが、ケイ素化合物間で形成されるSi−O−Siの2次元ネットワーク化により、基板に化学吸着すると共に、膜の結晶化に必要な近距離力である、π電子共役系分子同士に作用する分子間相互作用が、効率的に働くため、非常に高い安定性を有し、且つ、高度に結晶化された有機薄膜を構成していると予想できる。
この結果、本発明の化合物が結晶性の高い有機薄膜形成材料として利用可能であることが示された。
In addition, a peak was confirmed at 2θ = 22.7 ° in X-ray diffraction, and it was found that a crystalline film having a plane spacing of 0.392 nm was formed. This is because the terthiophene trichlorosilane of the present invention is chemisorbed on the substrate by the two-dimensional network of Si-O-Si formed between the silicon compounds, and at a short distance force necessary for crystallization of the film. It can be expected that an intermolecular interaction acting between π-electron conjugated molecules works efficiently, so that it has a very high stability and constitutes a highly crystallized organic thin film. .
As a result, it was shown that the compound of the present invention can be used as an organic thin film forming material with high crystallinity.
また、作製した有機薄膜が有する半導体特性を調べるため、図4に示すように、有機薄膜23の両側にブロッキング電極21と対極22を備えたものを作製した。この系において、電極21−電極22間に電圧を加えた状態で、矢印に示す方向からブロッキング電極に光パルスを加えると、電極21側でキャリアが生成され、順次電極22に移動する。これを検出器24により検出すれば、キャリアの移動時間や、キャリアの分布状態より移動度を評価することができる(過渡光電流測定法)。この測定法を用いてターチオフェントリクロロシラン有機薄膜の移動度を測定した結果、1×10-1cm2/Vsであった。
この結果から、本発明の化合物が半導体特性を有する材料として利用可能であることが示された。また、上述した(1)〜(7)の化合物についても、同様に移動度を測定したところ、同様の半導体特性を有することを確認した。
Moreover, in order to investigate the semiconductor characteristic which the produced organic thin film has, as shown in FIG. 4, what provided the blocking electrode 21 and the
From this result, it was shown that the compound of the present invention can be used as a material having semiconductor characteristics. Moreover, when the mobility of the compounds (1) to (7) described above was measured in the same manner, it was confirmed that they had similar semiconductor characteristics.
実施例5:ターチオフェントリクロロシランによる有機薄膜の電気伝導度測定(基板に対して垂直方向)
ハイドープすることにより導電性(0.1〜0.2Ω・cm)を付与したシリコン基板を、過酸化水素と濃硫酸の混合溶液(混合比3:7)中において1時間浸漬し、基板表面を親水化処理した。その後、不活性雰囲気下において、非水系溶媒(例えば、n−ヘキサデカン)に溶解させた溶液濃度10mMのターチオフェントリクロロシラン溶液に、得られた基板を5分間浸漬し、ゆっくりと引き上げた後、溶媒洗浄を行い、基板上に膜を形成した。
Example 5: Electrical conductivity measurement of organic thin film with terthiophene trichlorosilane (perpendicular to substrate)
A silicon substrate imparted with conductivity (0.1 to 0.2 Ω · cm) by high doping is immersed for 1 hour in a mixed solution of hydrogen peroxide and concentrated sulfuric acid (mixing ratio 3: 7), and the substrate surface is Hydrophilic treatment was performed. Thereafter, the substrate obtained was immersed in a terthiophene trichlorosilane solution having a concentration of 10 mM dissolved in a non-aqueous solvent (for example, n-hexadecane) in an inert atmosphere for 5 minutes, and then slowly lifted. Cleaning was performed to form a film on the substrate.
得られた有機薄膜について、SPM(走査型プローブ顕微鏡)を用いて、有機薄膜の膜厚方向(基板に対して垂直方向)の電気伝導度を測定した結果、10-4S/cm以上と高い値が得られた。
これにより、有機薄膜を構成する分子軸方向への導電性が得られるものと予測できる。
About the obtained organic thin film, as a result of measuring the electrical conductivity in the film thickness direction (perpendicular to the substrate) of the organic thin film using SPM (scanning probe microscope), it is as high as 10 −4 S / cm or higher. A value was obtained.
Thereby, it can be predicted that conductivity in the direction of the molecular axis constituting the organic thin film can be obtained.
実施例6:クオーターチオフェントリクロロシランによる有機薄膜の電気伝導度測定(基板に対して平行方向)
図1に示すように石英基板1上にAuの蒸着によって電極端子2a、2bを作製した。その後、両端子2a、2b間に所定の電圧を印加するための直流電源と、両端子2a、2b間の電流を検知するための電流計導電率測定手段4を設け、有機薄膜3の電気伝導度を測定した。
このように作製した電極端子での電気伝導度測定の結果、10-5〜10-7S/cmという値を示した。
Example 6: Electrical conductivity measurement of organic thin film with quarterthiophene trichlorosilane (parallel to substrate)
As shown in FIG. 1,
As a result of the electrical conductivity measurement with the electrode terminals thus produced, values of 10 −5 to 10 −7 S / cm were shown.
実施例4と同様の方法、すなわち過渡光電流測定法による移動度の測定の結果、クオーターチオフェントリクロロシラン有機薄膜の移動度は1×10-1cm2/Vsであった。
これらの結果より、この有機薄膜が基板に対して垂直方向に優れた導電性を有し、かつ、平面方向に優れた半導体特性を有する。つまり、垂直方向と平面方向で電気特性として異方性を有していることが明白となった。
As a result of measuring the mobility by the same method as in Example 4, ie, the transient photocurrent measurement method, the mobility of the quarterthiophenetrichlorosilane organic thin film was 1 × 10 −1 cm 2 / Vs.
From these results, the organic thin film has excellent conductivity in the direction perpendicular to the substrate and excellent semiconductor characteristics in the plane direction. That is, it became clear that the electric characteristics were anisotropic in the vertical direction and the planar direction.
実施例7:有機薄膜トランジスタの作製
図2に示す有機薄膜トランジスタを作製するために、まず、シリコン基板10上にクロムを蒸着し、ゲート電極15を形成した。
次に、プラズマCVD法によりチッ化シリコン膜による絶縁膜16を堆積した後、クロム、金の順に蒸着を行い、通常のリソグラフィー技術によりソース電極13及びドレイン電極14を形成した。
Example 7 Production of Organic Thin Film Transistor In order to produce the organic thin film transistor shown in FIG. 2, first, chromium was deposited on the
Next, after depositing an insulating
続いて、得られた基板を、過酸化水素と濃硫酸の混合溶液中に浸漬することにより表面親水化処理をした後、この基板を嫌気条件において20mMターチオフェントリクロロシラン溶液に浸漬させ、ゆっくりと引き上げ、溶媒洗浄を行って、有機半導体層12を形成した。 Subsequently, after the obtained substrate was subjected to surface hydrophilization treatment by immersing it in a mixed solution of hydrogen peroxide and concentrated sulfuric acid, this substrate was immersed in a 20 mM terthiophene trichlorosilane solution under anaerobic conditions. The organic semiconductor layer 12 was formed by lifting and solvent cleaning.
得られた有機半導体層12について、紫外−可視吸収スペクトルで、波長360nmにターチオフェン吸収が見られたことより、基板表面にケイ素化合物が吸着していることを確認できた。また、X線回折において2θ=22.7°にピークが確認され、面間隔0.392nmの結晶性膜を形成していることがわかった。したがって、この結晶性膜は、例えば、図3に示すように、隣接するターチオフェン分子が規則的に形成されていると言える。つまり、絶縁膜16の表面に、シロキサン結合を介してπ共役系分子が結合されているが、隣接した有機分子間においては、結合していない。すなわち、実施例4で示したように、隣接するターチオフェン分子が互いの分子間相互作用によって高い秩序性を有した結晶性膜を形成できたと推察するのが妥当である。
About the obtained organic-semiconductor layer 12, it has confirmed that the silicon compound was adsorb | sucking to the substrate surface from the ultraviolet-visible absorption spectrum having seen terthiophene absorption in wavelength 360nm. In addition, a peak was confirmed at 2θ = 22.7 ° in X-ray diffraction, and it was found that a crystalline film having a plane spacing of 0.392 nm was formed. Therefore, it can be said that this crystalline film has regularly formed adjacent terthiophene molecules as shown in FIG. That is, π-conjugated molecules are bonded to the surface of the insulating
これにより、作製した有機薄膜トランジスタにおいて、外部より電圧を印加したときにホッピング伝導が起こりやすくなるため、オン電流を大きくすることが可能となる。つまり、オン時には、誘起双極子間の相互作用により隣接分子間が小さいため、ホッピング伝導の起こりやすい環境になり、オン電流を高めることができる。
また、Si−O−Siの二次元ネットワークに含まれるSiと結合したπ電子共役系分子間(隣接する分子間)において、直接的に共有結合を持たないため、オフ時の漏れ電流を軽減することが可能である。
Thereby, in the produced organic thin film transistor, hopping conduction is likely to occur when a voltage is applied from the outside, so that the on-current can be increased. In other words, at the time of ON, since the distance between adjacent molecules is small due to the interaction between induced dipoles, an environment in which hopping conduction is likely to occur is generated and the ON current can be increased.
Moreover, since there is no direct covalent bond between π-electron conjugated molecules (adjacent molecules) bonded to Si included in the two-dimensional network of Si—O—Si, the leakage current at OFF is reduced. It is possible.
上記で得られた有機薄膜トランジスタは、電界効果移動度が1×10-1cm2/Vsで、オン/オフ比が約6桁であり、良好な性能が得られた。
以上のことから、本発明による新規物質によって、分子軸方向及び分子平面と垂直な方向に異方性のある導電性を有するとともに、且つ、高い結晶性を有した有機薄膜を提供することが可能になる。
The organic thin film transistor obtained above had a field effect mobility of 1 × 10 −1 cm 2 / Vs, an on / off ratio of about 6 digits, and good performance was obtained.
From the above, the novel substance according to the present invention can provide an organic thin film having conductivity that is anisotropic in the molecular axis direction and the direction perpendicular to the molecular plane and having high crystallinity. become.
実施例8:2−オクチル−キンクケチオフェントリエトキシシランを用いた有機薄膜トランジスタの作製
実施例7と同様に、準備した電極付き基板を、5mMの2−オクチル−キンククインケチオフェントリエトキシシランのトルエン及び塩酸混合溶液中に一定時間(例えば10分)浸漬することによって、2−オクチル−クインケチオフェントリエトキシシラン膜を形成させることにより、有機半導体層を形成させ、有機薄膜トランジスタを形成した。形成した有機薄膜トランジスタの特性を図5に示す。この結果より形成した有機薄膜トランジスタは、電界効果移動度が1.5×10-1cm2/Vsであり、オン/オフ比が約6桁であった。
Example 8: Preparation of Organic Thin Film Transistor Using 2-Octyl-Kinkkethiophene Triethoxysilane In the same manner as in Example 7, the prepared electrode-attached substrate was mixed with 5 mM 2-octyl-kink quinkethiophene triethoxysilane toluene and A 2-octyl-quinkethiophene triethoxysilane film was formed by immersing in a hydrochloric acid mixed solution for a certain time (for example, 10 minutes), thereby forming an organic semiconductor layer and an organic thin film transistor. The characteristics of the formed organic thin film transistor are shown in FIG. As a result, the organic thin film transistor formed had a field effect mobility of 1.5 × 10 −1 cm 2 / Vs and an on / off ratio of about 6 digits.
実施例9:2−ドデシル−セプチチオフェントリクロロシランを用いた有機薄膜トランジスタの作製
実施例7と同様に、準備した電極付き基板を、2mMの2−ドデシル−セプチチオフェントリエトキシシランのトルエン溶液中に一定時間(例えば5分)浸漬することによって、2−ドデシル−セプチチオフェントリクロロシラン膜を形成させ、有機半導体層を形成させることで、有機薄膜トランジスタを形成した。形成した有機薄膜トランジスタの特性を図6に示す。この結果より形成した有機薄膜トランジスタは、電界効果移動度が1.7×10-1cm2/Vsであり、オン/オフ比が約6桁であった。
Example 9: Preparation of organic thin-film transistor using 2-dodecyl-septithiophene trichlorosilane In the same manner as in Example 7, the prepared electrode-attached substrate was placed in a 2 mM 2-dodecyl-septithiophenetriethoxysilane solution in toluene. The organic thin film transistor was formed by forming a 2-dodecyl-septithiophene trichlorosilane film by immersing the film in a certain time (for example, 5 minutes) to form an organic semiconductor layer. The characteristics of the formed organic thin film transistor are shown in FIG. As a result, the organic thin film transistor formed had a field effect mobility of 1.7 × 10 −1 cm 2 / Vs and an on / off ratio of about 6 digits.
実施例10:2−ヘキサデシル−クオーターフェニルトリメトキシシランを用いた有機薄膜トランジスタの作製
実施例7と同様に、準備した電極付き基板を、3mMの2−ヘキサデシル−クオーターフェニルトリメトキシシランのトルエン溶液中に一定時間(例えば60分)浸漬することによって、2−ヘキサデシル−クオーターフェニルトリメトキシシラン膜を形成させることにより、有機半導体層を形成させ、有機薄膜トランジスタを形成した。形成した有機薄膜トランジスタの特性を図7に示す。この結果より形成した有機薄膜トランジスタは、電界効果移動度が1.3×10-1cm2/Vsであり、オン/オフ比が約6桁であった。
Example 10: Preparation of organic thin film transistor using 2-hexadecyl-quarterphenyltrimethoxysilane In the same manner as in Example 7, the prepared electrode-attached substrate was placed in a toluene solution of 3 mM 2-hexadecyl-quaterphenyltrimethoxysilane. By immersing for a certain time (for example, 60 minutes), a 2-hexadecyl-quarterphenyltrimethoxysilane film was formed, an organic semiconductor layer was formed, and an organic thin film transistor was formed. The characteristics of the formed organic thin film transistor are shown in FIG. As a result, the organic thin film transistor formed had a field effect mobility of 1.3 × 10 −1 cm 2 / Vs and an on / off ratio of about 6 digits.
実施例11:2−ヘキサデシル−オクチフェニルトリメトキシシランを用いた有機薄膜トランジスタの作製
実施例7と同様に、準備した電極付き基板を、3mMの2−ヘキサデシル−オクチフェニルトリメトキシシラントルエン溶液中に一定時間(例えば60分)浸漬することによって、2−ヘキサデシル−オクチフェニルトリメトキシシラン膜を形成させることにより、有機半導体層を形成させ、有機薄膜トランジスタを形成した。形成した有機薄膜トランジスタの特性を図8に示す。この結果より形成した有機薄膜トランジスタは、電界効果移動度が1.6×10-1cm2/Vsであり、オン/オフ比が約6桁であった。
Example 11: Preparation of organic thin-film transistor using 2-hexadecyl-octiphenyltrimethoxysilane In the same manner as in Example 7, the prepared electrode-attached substrate was fixed in a 3 mM 2-hexadecyl-octiphenyltrimethoxysilane toluene solution. By immersing for a time (for example, 60 minutes), a 2-hexadecyl-octylphenyltrimethoxysilane film was formed, an organic semiconductor layer was formed, and an organic thin film transistor was formed. The characteristics of the formed organic thin film transistor are shown in FIG. As a result, the organic thin film transistor formed had a field effect mobility of 1.6 × 10 −1 cm 2 / Vs and an on / off ratio of about 6 digits.
実施例12:有機ケイ素化合物(化E:但しn1=n3=2、n2=1)を用いた有機薄膜トランジスタの作製
実施例7と同様に、準備した電極付き基板を、1mMの濃度で(化E)にて表される有機ケイ素化合物のTHF溶液中に一定時間(例えば15分)浸漬することによって、前記化合物薄膜を形成させた。このようにして、有機半導体層を形成させ、有機薄膜トランジスタを形成した。形成した有機薄膜トランジスタの特性を図9に示す。この結果より形成した有機薄膜トランジスタは、電界効果移動度が1.1×10-1cm2/Vsであり、オン/オフ比が約6桁であった。
Example 12: Preparation of an organic thin film transistor using an organosilicon compound (Chemical E: where n 1 = n 3 = 2 and n 2 = 1) In the same manner as in Example 7, the prepared electrode-attached substrate was prepared at a concentration of 1 mM. The compound thin film was formed by immersing in a THF solution of the organosilicon compound represented by (Chemical Formula E) for a predetermined time (for example, 15 minutes). Thus, an organic semiconductor layer was formed, and an organic thin film transistor was formed. The characteristics of the formed organic thin film transistor are shown in FIG. As a result, the organic thin film transistor formed had a field effect mobility of 1.1 × 10 −1 cm 2 / Vs and an on / off ratio of about 6 digits.
実施例13:有機ケイ素化合物(化F:但しn4=n6=2、n5=3)を用いた有機薄膜トランジスタの作製
実施例7と同様に、準備した電極付き基板を、1mMの濃度で(化F)にて表される有機ケイ素化合物のキシレン溶液中に一定時間(例えば10分)浸漬することによって、前記化合物膜を形成させた。このようにして、有機半導体層を形成させ、有機薄膜トランジスタを形成した。形成した有機薄膜トランジスタの特性を図10に示す。この結果より形成した有機薄膜トランジスタは、電界効果移動度が2.2×10-1cm2/Vsであり、オン/オフ比が約6桁であった。
Example 13: Preparation of an organic thin film transistor using an organosilicon compound (Chemical Formula F: where n 4 = n 6 = 2 and n 5 = 3) In the same manner as in Example 7, the prepared electrode-attached substrate was prepared at a concentration of 1 mM. The compound film was formed by immersing in a xylene solution of an organosilicon compound represented by (Chemical Formula F) for a certain time (for example, 10 minutes). Thus, an organic semiconductor layer was formed, and an organic thin film transistor was formed. The characteristics of the formed organic thin film transistor are shown in FIG. As a result, the organic thin film transistor formed had a field effect mobility of 2.2 × 10 −1 cm 2 / Vs and an on / off ratio of about 6 digits.
実施例14 下記構造式の有機ケイ素化合物(化E;但しn1=n3=2、n2=3)の合成 Example 14 Synthesis of an organosilicon compound having the following structural formula (Chemical Formula E; where n 1 = n 3 = 2 and n 2 = 3)
前記化合物については、以下の手法により合成を行った。すなわち、ジブロモジフェニルから中間体1、中間体2を形成する。また、ターチオフェン及びグリニヤール試薬(下記内容参照)から中間体3を形成する。これらをカップリング反応させることにより、目的化合物を形成する。具体的には以下のとおりである。
About the said compound, it synthesize | combined with the following methods. That is,
中間体1の形成
まず、攪拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに1.5モルの金属マグネシウム及びトルエン200mlを仕込み、0.5モルのジブロモビフェニルのトルエン溶液を30分かけて加え、滴下終了後65℃にて、2時間成熟させることにより、1つのブロモ基が置換されたグリニヤール試薬を調製した。続いて、攪拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた1リットルガラスフラスコに、1.0モルのテトラクロロシラン及びトルエン200mlを仕込み、氷冷し、内温15℃にて、前記グリニヤール試薬を1時間かけて加え、滴下後、1時間成熟させた。つづいて、反応液を減圧濾過することによって未反応物を除去したのち、ジエチルエーテルに溶解させた後に、攪拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに仕込み、1.0モルのCH3−CH2−O−MgBrのエーテル溶液を1時間かけて滴下した後に、70℃にて12時間還流させ、中間体1を形成した(収率60%)。
Formation of
中間体2の形成
まず、攪拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに0.5モルのn−ブチルリチウムを仕込み、−78℃に冷却した後に中間体1を滴下ロートを用いて30分かけて加え、続いて、1.5モルのビス(ピナコラト)ジボロンを加えた後、12時間かけて、−78℃から室温まで容器の内温を上昇させることにより反応を進行させた。反応終了後、2M塩酸を加えることにより、中間体2を形成させた(収率60%)。
Formation of
中間体3の形成
まず、1.0モルのターチオフェンを四塩化炭素に溶解させた後、NBSを加え、重合開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を加え、6時間攪拌したのち、減圧濾過することでジブロモターチオフェンを得た。
また、1.0モルのビフェニルを四塩化炭素に溶解させた後、NBSを加えAIBN存在下で、2時間攪拌することにより、ブロモビフェニルを形成し、続いて、攪拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに1.5モルの金属マグネシウム及びトルエン200mlを仕込み、0.5モルのブロモジフェニルのトルエン溶液を30分かけて加え、滴下終了後65℃にて、2時間成熟させることにより、グリニヤール試薬を調製した。
Formation of
Further, 1.0 mol of biphenyl was dissolved in carbon tetrachloride, and then NBS was added and stirred in the presence of AIBN for 2 hours to form bromobiphenyl, followed by stirring, reflux condenser, temperature A 500 ml glass flask equipped with a total addition funnel was charged with 1.5 mol of magnesium metal and 200 ml of toluene, and 0.5 mol of a bromodiphenyl toluene solution was added over 30 minutes. Grignard reagents were prepared by time maturation.
続いて、ジブロモターチオフェンをジエチルエーテルに溶解させ、攪拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに仕込み、前記グリニヤール試薬を2時間かけて滴下し、その後18時間還流することで、反応を進行させた。その後、減圧濾過し、未反応物をストリップすることで中間体3を得た(収率50%)。
Subsequently, dibromoterthiophene is dissolved in diethyl ether, charged into a 500 ml glass flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer and dropping funnel, and the Grignard reagent is added dropwise over 2 hours, and then refluxed for 18 hours. This allowed the reaction to proceed. Then, it filtered under reduced pressure and the
目的化合物の形成
前記中間体2のトルエン溶液、3モル%Pd(PPh)3及び少量の炭酸ナトリウム水溶液を順次、攪拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに仕込み、続いて、前記中間体3のトルエン溶液を滴下ロートを用いて加えた後、85℃で12時間反応させることにより目的化合物を形成した(Suzukiカップリング)。
Formation of target compound Toluene solution of intermediate 2 above, 3 mol% Pd (PPh) 3 and a small amount of sodium carbonate aqueous solution were sequentially charged into a 500 ml glass flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer and dropping funnel. Subsequently, the toluene solution of
形成した目的化合物について、赤外吸収スペクトル測定を行ったところ、1065cm-1にSiC由来の吸収が確認され、化合物がSiC結合が含まれることが確認できた。更に、化合物の核磁気共鳴測定を行った。
7.5ppm〜7.2ppm(m) (17H フェニル骨格由来)
7.1ppm〜6.9ppm(m) (6H チオフェン骨格由来)
3.8ppm〜3.7ppm(m) (6H エトキシ基メチレン由来)
1.4ppm〜1.2ppm(m) (9H エトキシ基メチル基由来)
これらの結果からこの化合物が、上記構造式にて表される化合物であることが確認できた。
When the infrared absorption spectrum measurement was performed for the formed target compound, absorption derived from SiC was confirmed at 1065 cm −1 , and it was confirmed that the compound contained SiC bonds. Furthermore, the nuclear magnetic resonance measurement of the compound was performed.
7.5 ppm to 7.2 ppm (m) (derived from 17H phenyl skeleton)
7.1 ppm to 6.9 ppm (m) (derived from 6H thiophene skeleton)
3.8 ppm to 3.7 ppm (m) (derived from 6H ethoxy group methylene)
1.4 ppm to 1.2 ppm (m) (derived from 9H ethoxy group methyl group)
From these results, it was confirmed that this compound was a compound represented by the above structural formula.
実施例15
下記構造式の有機ケイ素化合物(化J;但しnγ=2)の化合物の合成
Example 15
Synthesis of a compound of an organosilicon compound having the following structural formula (Chemical formula J; where nγ = 2)
前記化合物については、以下の手法により合成を行った。
まず、200mlナスフラスコに、α―ブロモキシレン(50mM)とトリエチルホスファイト(60mM)を仕込み、攪拌しながら、140℃まで温度を上昇させることにより反応を進行させた。更に180℃まで温度を上げ、トリエチルホスファイトの残存物を破壊した後、冷却することによって4−(メチル−ベンジル)−フォスホン酸(4−(Methyl−benzy)−phosphonic acid)を形成した。続いて、攪拌器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに水酸化ナトリウム10mMをアルゴン雰囲気中で乾燥DMFに加え、溶液温度を0℃とした後に、前記4−(メチル−ベンジル)−フォスホン酸(4−(Methyl−benzy)−phosphonic acid)(8mM)とトランス−4−スチルベンカルボキシアルデヒド(trans−4−stilbenecarboxaldehyde)(7mM)のDMF溶液(50ml)をゆっくりと加え、24時間攪拌し、反応を進行させた。反応終了後、生成物をエタノールで抽出することにより、4−[(E)−2−[4−{(E)−2−フェニルビニル}−フェニル]−ビニル]−フェニルメタン(4−{(E)−2−[4−{(E)−2−phenylvinyl}−phenyl]−vinyl}−phenylmethane)(化合物G)を合成した。更に、前記化合物Gを四塩化炭素に溶解させた後、NBSを加え、AIBNを加え、2時間攪拌したのち、減圧濾過し、下記構造式にて示される中間体4を合成した。
About the said compound, it synthesize | combined with the following methods.
First, α-bromoxylene (50 mM) and triethyl phosphite (60 mM) were charged into a 200 ml eggplant flask, and the reaction was allowed to proceed by raising the temperature to 140 ° C. while stirring. The temperature was further raised to 180 ° C., the residue of triethyl phosphite was destroyed, and then cooled to form 4- (methyl-benzyl) -phosphonic acid (4- (Methyl-benzy) -phosphonic acid). Subsequently, to a 500 ml glass flask equipped with a stirrer, a thermometer and a dropping funnel, 10 mM sodium hydroxide was added to dry DMF in an argon atmosphere to bring the solution temperature to 0 ° C., and then the 4- (methyl-benzyl)- Slowly add a DMF solution (50 ml) of phosphonic acid (4- (Methyl-benzy) -phosphonic acid) (8 mM) and trans-4-stilbenecarboxaldehyde (7 mM) and stir for 24 hours. The reaction was allowed to proceed. After completion of the reaction, the product was extracted with ethanol to give 4-[(E) -2- [4-{(E) -2-phenylvinyl} -phenyl] -vinyl] -phenylmethane (4-{( E) -2- [4-{(E) -2-phenylvinyl} -phenyl] -vinyl} -phenylmethane) (compound G) was synthesized. Further, Compound G was dissolved in carbon tetrachloride, NBS was added, AIBN was added, and the mixture was stirred for 2 hours, followed by filtration under reduced pressure to synthesize Intermediate 4 represented by the following structural formula.
更に続いて、攪拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた500mlガラスフラスコに中間体4を仕込み、1.0モルのテトラクロロシラン及びトルエン200mlを仕込み、氷冷し、内温10℃にて、前記中間体4を1時間かけて加え、滴下後、1時間成熟させることより、上記構造式で示される化合物を合成した。 Subsequently, the intermediate 4 was charged into a 500 ml glass flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, and dropping funnel, 1.0 mol of tetrachlorosilane and 200 ml of toluene were charged, ice-cooled, and an internal temperature of 10 ° C. The intermediate 4 was added over 1 hour, and after the dropwise addition, the mixture was matured for 1 hour, thereby synthesizing the compound represented by the above structural formula.
形成した目的化合物について、赤外吸収スペクトル測定を行ったところ、1070cm-1にSiC由来の吸収が確認され、化合物がSiC結合が含まれることが確認できた。更に、化合物の核磁気共鳴測定を行った。この化合物は反応性が高く、直接NMR測定できないため、エタノールと反応させ、末端の塩素をエトキシ基に交換した後に測定を行った。
7.4ppm〜7.2ppm(m) (12H フェニル骨格由来)
7.1ppm〜7.0ppm(m) (4H ビニル基骨格由来)
3.8ppm〜3.7ppm(m) (6H エトキシ基メチレン由来)
2.5ppm〜2.4ppm(m) (3H メチル基由来)
1.4ppm〜1.2ppm(m) (9H エトキシ基メチル基由来)
これらの結果からこの化合物が、上記構造式にて表される化合物であることが確認できた。
When an infrared absorption spectrum measurement was performed on the formed target compound, absorption derived from SiC was confirmed at 1070 cm −1 , and it was confirmed that the compound contained SiC bonds. Furthermore, the nuclear magnetic resonance measurement of the compound was performed. Since this compound is highly reactive and cannot be directly measured by NMR, it was measured after reacting with ethanol and replacing the terminal chlorine with an ethoxy group.
7.4 ppm to 7.2 ppm (m) (derived from 12H phenyl skeleton)
7.1 ppm to 7.0 ppm (m) (derived from 4H vinyl group skeleton)
3.8 ppm to 3.7 ppm (m) (derived from 6H ethoxy group methylene)
2.5 ppm to 2.4 ppm (m) (derived from 3H methyl group)
1.4 ppm to 1.2 ppm (m) (derived from 9H ethoxy group methyl group)
From these results, it was confirmed that this compound was a compound represented by the above structural formula.
1 石英基板
2a、2b 電極端子
3 有機薄膜
4 電流計導電率測定手段
10 シリコン基板
12 有機半導体層
13 ソース電極
14 ドレイン電極
15 ゲート電極
16 絶縁膜
21 ブロッキング電極
22 対極
23 有機薄膜
24 検出器
DESCRIPTION OF
Claims (9)
(式中、Rは、単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物に由来する基から選択されるユニットが5〜10個結合したπ電子共役系の有機残基でありかつ末端に官能基を有していてもよく、X1、X2及びX3は、同一又は異なって、加水分解により水酸基を与える基である。)
で表され、
前記ユニットは、ビニレン基を介して結合していてもよく、
前記官能基が、炭素数1〜30の直鎖アルキル基であり、
SiX 1 X 2 X 3 基が、前記ユニットに直接結合し、
前記単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物が、それぞれベンゼン及びチオフェンである
π電子共役系分子含有ケイ素化合物。 Formula R-SiX 1 X 2 X 3 (I)
(In the formula, R is an organic residue of a π-electron conjugated system in which 5 to 10 units selected from a group derived from a monocyclic aromatic hydrocarbon and a monocyclic heterocyclic compound are bonded to each other; (It may have a functional group, and X 1 , X 2 and X 3 are the same or different and are groups which give a hydroxyl group by hydrolysis.)
Represented by
The unit may be bonded via a vinylene group,
The functional group is a linear alkyl group having 1 to 30 carbon atoms;
The SiX 1 X 2 X 3 group is directly bonded to the unit;
A π-electron conjugated molecule-containing silicon compound in which the monocyclic aromatic hydrocarbon and the monocyclic heterocyclic compound are benzene and thiophene, respectively .
(式中、Rは、単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物に由来する基から選択されるユニットが5〜10個結合したπ電子共役系の有機残基でありかつ末端に官能基を有していてもよい。)
で表される化合物と、
式 Y−SiX1X2X3 (III)
(式中、X1、X2及びX3は、同一又は異なって、加水分解により水酸基を与える基であり、Yは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基である。)
で表される化合物とを反応させて、
式 R−SiX1X2X3 (I)
(式中、R、X1、X2、X3は上記と同義である。)
で表されるπ電子共役系分子含有ケイ素化合物を得、
前記ユニットは、ビニレン基を介して結合していてもよく、
前記官能基が、炭素数1〜30の直鎖アルキル基であり、
SiX 1 X 2 X 3 基が、前記ユニットに直接結合し、
前記単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物が、それぞれベンゼン及びチオフェンである
ことを特徴とするπ電子共役系分子含有ケイ素化合物の製造方法。 Formula R-Li (II)
(In the formula, R is an organic residue of a π-electron conjugated system in which 5 to 10 units selected from a group derived from a monocyclic aromatic hydrocarbon and a monocyclic heterocyclic compound are bonded to each other; (It may have a functional group.)
A compound represented by
Formula Y-SiX 1 X 2 X 3 (III)
(In the formula, X 1 , X 2 and X 3 are the same or different and are groups which give a hydroxyl group by hydrolysis, and Y is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkoxy group.)
Is reacted with a compound represented by
Formula R-SiX 1 X 2 X 3 (I)
(In the formula, R, X 1 , X 2 and X 3 are as defined above.)
In give π electron conjugate molecule-containing silicon compound represented by,
The unit may be bonded via a vinylene group,
The functional group is a linear alkyl group having 1 to 30 carbon atoms;
The SiX 1 X 2 X 3 group is directly bonded to the unit;
The method for producing a π-electron conjugated molecule-containing silicon compound, wherein the monocyclic aromatic hydrocarbon and the monocyclic heterocyclic compound are benzene and thiophene, respectively .
(式中、Rは、単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物に由来する基から選択されるユニットが5〜10個結合したπ電子共役系の有機残基でありかつ末端に官能基を有していてもよい。)
で表される化合物と、
式 Y−SiX1X2X3 (III)
(式中、X1、X2及びX3は、同一又は異なって、加水分解により水酸基を与える基であり、Yは水素原子、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基である。)
で表される化合物とを、グリニヤール反応に付して、
式 R−SiX1X2X3 (I)
(式中、R、X1、X2、X3は上記と同義である。)
で表されるπ電子共役系分子含有ケイ素化合物を得、
前記ユニットは、ビニレン基を介して結合していてもよく、
前記官能基が、炭素数1〜30の直鎖アルキル基であり、
SiX 1 X 2 X 3 基が、前記ユニットに直接結合し、
前記単環の芳香族炭化水素及び単環の複素環化合物が、それぞれベンゼン及びチオフェンである
ことを特徴とするπ電子共役系分子含有ケイ素化合物の製造方法。 Formula R-MgX (IV)
(In the formula, R is an organic residue of a π-electron conjugated system in which 5 to 10 units selected from a group derived from a monocyclic aromatic hydrocarbon and a monocyclic heterocyclic compound are bonded to each other; (It may have a functional group.)
A compound represented by
Formula Y-SiX 1 X 2 X 3 (III)
(In the formula, X 1 , X 2 and X 3 are the same or different and are groups which give a hydroxyl group by hydrolysis, and Y is a hydrogen atom, a halogen atom or a lower alkoxy group.)
To a Grignard reaction with a compound represented by
Formula R-SiX 1 X 2 X 3 (I)
(In the formula, R, X 1 , X 2 and X 3 are as defined above.)
In give π electron conjugate molecule-containing silicon compound represented by,
The unit may be bonded via a vinylene group,
The functional group is a linear alkyl group having 1 to 30 carbon atoms;
The SiX 1 X 2 X 3 group is directly bonded to the unit;
The method for producing a π-electron conjugated molecule-containing silicon compound, wherein the monocyclic aromatic hydrocarbon and the monocyclic heterocyclic compound are benzene and thiophene, respectively .
在下で反応させて結合させる工程を1回以上繰り返すことにより、所定数のチオフェンを結合させて得られた化合物に由来する請求項4又は5に記載のπ電子共役系分子含有ケイ素化合物の製造方法。 A step in which a unit constituting the group R is derived from thiophene, the group R is halogenated at a predetermined bonding position of thiophene, and then the obtained halogenated thiophene is reacted in the presence of NCS or POCl 3 to bond them. The method for producing a π-electron conjugated molecule-containing silicon compound according to claim 4 or 5 derived from a compound obtained by bonding a predetermined number of thiophenes by repeating at least once.
1回以上繰り返すことにより、所定数のチオフェンを結合させて得られた化合物に由来する請求項4又は5に記載のπ電子共役系分子含有ケイ素化合物の製造方法。 The unit constituting the group R is derived from thiophene, the group R is halogenated at a predetermined bonding position of thiophene, and then the resulting halogenated thiophene and divinylsulfone are reacted to form thiophene on both sides of the succinyl group. A bonded 1,4-diketone is obtained, and then a step of ring-closing reaction of the 1,4-diketone in the presence of Low Wesson's agent or P 4 S 10 is repeated one or more times to bind a predetermined number of thiophenes. The manufacturing method of the pi-electron conjugated molecule containing silicon compound of Claim 4 or 5 derived from the compound obtained by making it do.
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