JP4457211B2 - Naphthoquinone derivative compounds or pharmacologically acceptable salts thereof, and Cdc25 phosphatase inhibitors and antitumor agents containing them as active ingredients - Google Patents
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Description
本発明は、ナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩、並びに、それらを有効成分として含有するCdc25ホスファターゼ阻害剤及び抗腫瘍剤に関する。 The present invention relates to a naphthoquinone derivative compound or a pharmacologically acceptable salt thereof, and a Cdc25 phosphatase inhibitor and an antitumor agent containing them as active ingredients.
様々な腫瘍において発現するCdc25AやCdc25BなどのCdc25ホスファターゼに対する阻害剤は、抗腫瘍剤として有用であるとされている。従来、Cdc25Aに対する阻害剤として、いくつかのナフトキノンアナログが知られている(例えば、非特許文献1及び2参照)。
しかしながら、これまで知られているナフトキノンアナログは阻害活性が低いため、より阻害活性が高いナフトキノン誘導体化合物の開発が求められていた。
そこで、本発明は、Cdc25ホスファターゼに対する阻害活性が高いナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩、並びに、それらを有効成分として含有するCdc25ホスファターゼ阻害剤及び抗腫瘍剤を提供することを目的とする。
However, since naphthoquinone analogs known so far have low inhibitory activity, development of naphthoquinone derivative compounds having higher inhibitory activity has been demanded.
Therefore, an object of the present invention is to provide a naphthoquinone derivative compound having high inhibitory activity against Cdc25 phosphatase or a pharmacologically acceptable salt thereof, and a Cdc25 phosphatase inhibitor and an antitumor agent containing them as active ingredients. And
本発明者らは、上記課題を解決すべく、一般式(II)
(式中、R1及びR2は水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基であり、R3は水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、又はハロゲン原子である。)で表されるナフトキノン誘導体化合物の一例として、式(A)
に示される化合物を用いてCdc25Aの酵素活性に与える影響を調べた。その結果、式(A)に示される化合物はCdc25ホスファターゼの活性を高度に阻害することを見出した。 The effects of Cdc25A on the enzyme activity were investigated using the compounds shown in (1). As a result, it was found that the compound represented by the formula (A) highly inhibits the activity of Cdc25 phosphatase.
また、上記と同様に一般式(III)
(式中、R1及びR2は水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基であり、R3は水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、又はハロゲン原子である。)で表されるナフトキノン誘導体化合物の一例として、式(B)
に示される化合物を用いてCdc25Aの酵素活性に与える影響を調べたところ、式(B)に示される化合物も式(A)に示される化合物と同様にCdc25ホスファターゼの活性を高度に阻害することが明らかとなった。 As a result of investigating the effect of Cdc25A on the enzyme activity using the compound shown in (2), the compound shown in formula (B) is highly inhibited in the activity of Cdc25 phosphatase as in the compound shown in formula (A). It became clear.
また、同様に一般式(IV)
(式中、R1及びR2は水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基である。)で表されるナフトキノン誘導体化合物の例として、式(C)
及び式(D)
に示される化合物をそれぞれ用いてCdc25Aの酵素活性に与える影響を調べたところ、式(C)に示される化合物はCdc25ホスファターゼの活性を高度に阻害し、式(D)に示される化合物は基質特異的にCdc25ホスファターゼの活性を高度に阻害することを見出した。 Each of the compounds shown in Table 2 was used to examine the effect on the enzyme activity of Cdc25A. The compound shown in Formula (C) highly inhibited the activity of Cdc25 phosphatase, and the compound shown in Formula (D) was substrate-specific. It was found that the activity of Cdc25 phosphatase was highly inhibited.
また、同様に一般式(VI)
(式中、R2は水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基であり、R5及びR6は水素原子又はアルキル基である。)で表されるナフトキノン誘導体化合物の一例として、式(E)
に示される化合物を用いてCdc25Aの酵素活性に与える影響を調べた。その結果、式(E)に示される化合物は基質特異的にCdc25ホスファターゼの活性を高度に阻害することを見出した。 The effects of Cdc25A on the enzyme activity were investigated using the compounds shown in (1). As a result, it was found that the compound represented by the formula (E) highly inhibits the activity of Cdc25 phosphatase in a substrate-specific manner.
また、同様に一般式(VII)
(式中、R1及びR2は水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基であり、R7は水素原子、又はアルキル基である。)で表されるナフトキノン誘導体化合物の一例として、式(F)
に示される化合物をそれぞれ用いてCdc25Aの酵素活性に与える影響を調べたところ、式(F)に示される化合物は基質特異的にCdc25ホスファターゼの活性を高度に阻害することを見出した。このようにして、本発明者らは本発明を完成するに至った。 As a result of investigating the effect on the enzyme activity of Cdc25A using each of the compounds shown in the above, it was found that the compound shown in Formula (F) highly inhibits the activity of Cdc25 phosphatase in a substrate-specific manner. Thus, the present inventors have completed the present invention.
すなわち、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、下記の一般式(I)で表されることを特徴とする。
式中、R1は、例えば、水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基などであり、R2は、例えば、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、又はアルコキシル基などであり、R3は、例えば、水素原子、ヒドロキシアルキル基、又はハロゲン原子であり、R4は、例えば、アシル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルケニル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、フェノキシアルキル基、フェノキシアルケニル基、カルボキシアルケニル基、アルコキシカルボニルアルケニル基、アシルオキシアルケニル基、ヒドロキシアルキルオキシランアルキル基、アルコキシアルキルオキシランアルキル基、ジヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、オキシラン基、又は2−ジメタン−1,3−ジオキサン−4−アルキル基などである。なお、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、R3とR4とで環状を構成しないことが好ましい。 In the formula, R 1 is, for example, a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxyl group, or a hydroxyalkyl group; R 2 is, for example, a hydroxyl group, an acyloxy group, or an alkoxyl group; and R 3 Is, for example, a hydrogen atom, a hydroxyalkyl group, or a halogen atom, and R 4 is, for example, an acyl group, a hydroxyalkyl group, a hydroxyalkenyl group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxyalkyl group, an alkoxyalkenyl group, a phenoxy Alkyl group, phenoxyalkenyl group, carboxyalkenyl group, alkoxycarbonylalkenyl group, acyloxyalkenyl group, hydroxyalkyloxirane alkyl group, alkoxyalkyloxiranealkyl group, dihydroxyalkyl group, hydroxy An alkoxyalkyl group, an oxirane group, or a 2-dimethane-1,3-dioxane-4-alkyl group. In addition, it is preferable that the naphthoquinone derivative compound or pharmacologically acceptable salt thereof according to the present invention does not form a ring with R 3 and R 4 .
また、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、下記の一般式(II)で表されることを特徴とする。
式中、R1は、例えば、水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基などであり、R2は、例えば、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、又はアルコキシル基などであり、R3は、例えば、水素原子、ヒドロキシアルキル基、又はハロゲン原子などである。なお、前記ナフトキノン誘導体化合物が下式(A)であることを特徴としてもよい。
さらに、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、下記の一般式(III)で表されることを特徴とする。
式中、R1は、例えば、水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基などであり、R2は、例えば、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、又はアルコキシル基などであり、R3は、例えば、水素原子、ヒドロキシアルキル基、又はハロゲン原子などである。なお、前記ナフトキノン誘導体化合物が下式(B)であることを特徴としてもよい。
また、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、下記の一般式(IV)で表されることを特徴とする。
式中、R1は、例えば、水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基などであり、R2は、例えば、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、又はアルコキシル基などである。なお、前記ナフトキノン誘導体化合物が下式(C)又は下式(D)であることを特徴としてもよい。
さらに、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、下記の一般式(V)で表されることを特徴とする。
式中、R2は、例えば、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、又はアルコキシル基などであり、R3は、例えば、水素原子、ヒドロキシアルキル基、又はハロゲン原子などであり、R4は、例えば、アシル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルケニル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、フェノキシアルキル基、フェノキシアルケニル基、カルボキシアルケニル基、アルコキシカルボニルアルケニル基、アシルオキシアルケニル基、ヒドロキシアルキルオキシランアルキル基、アルコキシアルキルオキシランアルキル基、ジヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、オキシラン基、又は2−ジメタン−1,3−ジオキサン−4−アルキル基などであり、R5及びR6は、例えば、水素原子又はアルキル基などである。なお、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、R3とR4とで環状を構成しないことが好ましい。 In the formula, R 2 is, for example, a hydroxyl group, an acyloxy group, or an alkoxyl group, R 3 is, for example, a hydrogen atom, a hydroxyalkyl group, or a halogen atom, and R 4 is, for example, an acyl group. , Hydroxyalkyl group, hydroxyalkenyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, alkoxyalkyl group, alkoxyalkenyl group, phenoxyalkyl group, phenoxyalkenyl group, carboxyalkenyl group, alkoxycarbonylalkenyl group, acyloxyalkenyl group, hydroxyalkyloxirane alkyl group An alkoxyalkyloxirane alkyl group, a dihydroxyalkyl group, a hydroxyalkoxyalkyl group, an oxirane group, or a 2-dimethane-1,3-dioxane-4-alkyl group, R 5 and R 6 are, for example, a hydrogen atom or an alkyl group. In addition, it is preferable that the naphthoquinone derivative compound or pharmacologically acceptable salt thereof according to the present invention does not form a ring with R 3 and R 4 .
また、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、下記の一般式(VI)で表されることを特徴とする。
式中、R2は、例えば、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、又はアルコキシル基などであり、R5及びR6は、例えば、水素原子又はアルキル基などである。なお、前記ナフトキノン誘導体化合物が下式(E)であることを特徴としてもよい。
さらに、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、下記の一般式(VII)で表されることを特徴とする。
式中、R1は、例えば、水素原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、又はヒドロキシアルキル基などであり、R2は、例えば、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、又はアルコキシル基などであり、R7は、例えば、水素原子又はアルキル基などである。なお、前記ナフトキノン誘導体化合物が下式(F)であることを特徴としてもよい。
また、本発明に係るCdc25ホスファターゼ阻害剤は、上述のナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有することを特徴とする。 The Cdc25 phosphatase inhibitor according to the present invention is characterized by containing the above-mentioned naphthoquinone derivative compound or a pharmacologically acceptable salt thereof as an active ingredient.
さらに、本発明に係る抗腫瘍剤は、上述のナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有することを特徴とする。 Furthermore, the antitumor agent according to the present invention contains the above-mentioned naphthoquinone derivative compound or a pharmacologically acceptable salt thereof as an active ingredient.
本発明によれば、Cdc25ホスファターゼに対する阻害活性が高いナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩、並びに、それらを有効成分として含有するCdc25ホスファターゼ阻害剤及び抗腫瘍剤を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a naphthoquinone derivative compound having high inhibitory activity against Cdc25 phosphatase or a pharmacologically acceptable salt thereof, and a Cdc25 phosphatase inhibitor and an antitumor agent containing these as active ingredients. .
以下、上記知見に基づき完成した本発明の実施の形態を、実施例を挙げながら詳細に説明する。実施の形態及び実施例に特に説明がない場合には、J. Sambrook, E. F. Fritsch & T. Maniatis (Ed.), Molecular cloning, a laboratory manual (3rd edition), Cold Spring Harbor Press, Cold Spring Harbor, New York (2001); F. M. Ausubel, R. Brent, R. E. Kingston, D. D. Moore, J.G. Seidman, J. A. Smith, K. Struhl (Ed.), Current Protocols in Molecular Biology, John Wiley & Sons Ltd.などの標準的なプロトコール集に記載の方法、あるいはそれを修飾したり、改変した方法を用いる。また、市販の試薬キットや測定装置を用いている場合には、特に説明が無い場合、それらに添付のプロトコールを用いる。 Hereinafter, embodiments of the present invention completed based on the above knowledge will be described in detail with reference to examples. Unless otherwise stated in the embodiments and examples, J. Sambrook, EF Fritsch & T. Maniatis (Ed.), Molecular cloning, a laboratory manual (3rd edition), Cold Spring Harbor Press, Cold Spring Harbor, New York (2001); FM Ausubel, R. Brent, RE Kingston, DD Moore, JG Seidman, JA Smith, K. Struhl (Ed.), Standard Protocols in Molecular Biology, John Wiley & Sons Ltd. The method described in the protocol collection, or a modified or modified method thereof is used. In addition, when using commercially available reagent kits and measuring devices, unless otherwise explained, protocols attached to them are used.
なお、本発明の目的、特徴、利点、及びそのアイデアは、本明細書の記載により、当業者には明らかであり、本明細書の記載から、当業者であれば、容易に本発明を再現できる。以下に記載された発明の実施の形態及び具体的に実施例などは、本発明の好ましい実施態様を示すものであり、例示又は説明のために示されているのであって、本発明をそれらに限定するものではない。本明細書で開示されている本発明の意図並びに範囲内で、本明細書の記載に基づき、様々な改変並びに修飾ができることは、当業者にとって明らかである。 The objects, features, advantages, and ideas of the present invention will be apparent to those skilled in the art from the description of the present specification, and those skilled in the art can easily reproduce the present invention from the description of the present specification. it can. The embodiments and specific examples of the invention described below show preferred embodiments of the present invention, and are shown for illustration or explanation. It is not limited. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made based on the description of the present specification within the spirit and scope of the present invention disclosed herein.
===本発明に係るナフトキノン誘導体化合物の薬理作用===
上述のように、Cdc25ホスファターゼ阻害活性を有する物質は抗腫瘍剤として有用であるとされている。そこで、本発明者らは、下記の式(A)〜式(F)に示される化合物がCdc25Aの酵素活性を阻害するかどうかを調べた。
As described above, substances having Cdc25 phosphatase inhibitory activity are considered to be useful as antitumor agents. Therefore, the present inventors investigated whether compounds represented by the following formulas (A) to (F) inhibit the enzyme activity of Cdc25A.
その結果、式(A)、式(B)、及び式(C)に示される化合物は、Cdc25Aホスファターゼに対して優れた阻害活性(IC50=10μg/ml以下)を有することが明らかになった。さらに、式(E)に示される化合物は、OMFP(3-O-メチルフルオレセインホスフェート(Cdc25の基質):3-O-methylfluorescein phosphate)に対するCdc25Aの酵素活性を阻害することが明らかになり、式(D)及び式(F)に示される化合物は、pNPP(p−ニトロフェニルホスフェート(Cdc25の基質):p-nitrophenyl phosphate)に対するCdc25Aの酵素活性を阻害することが明らかになった。 As a result, it was revealed that the compounds represented by formula (A), formula (B), and formula (C) have excellent inhibitory activity (IC 50 = 10 μg / ml or less) against Cdc25A phosphatase. . Furthermore, the compound represented by the formula (E) was found to inhibit the enzyme activity of Cdc25A against OMFP (3-O-methylfluorescein phosphate (Cdc25 substrate): 3-O-methylfluorescein phosphate). The compounds represented by D) and Formula (F) were found to inhibit the enzyme activity of Cdc25A against pNPP (p-nitrophenyl phosphate (substrate of Cdc25): p-nitrophenyl phosphate).
以上のことから、式(A)、式(B)、式(C)、及び式(D)に示される化合物と類似の構造を有する一般式(I)で表されるナフトキノン誘導体化合物、特に一般式(II)、一般式(III)、及び一般式(IV)で表されるナフトキノン誘導体化合物は、Cdc25ホスファターゼ阻害活性を有していると考えられる。 From the above, the naphthoquinone derivative compound represented by the general formula (I) having a structure similar to the compounds represented by the formula (A), the formula (B), the formula (C), and the formula (D), The naphthoquinone derivative compounds represented by formula (II), general formula (III), and general formula (IV) are considered to have Cdc25 phosphatase inhibitory activity.
また、式(E)に示される化合物と類似の構造を有する一般式(V)で表されるナフトキノン誘導体化合物、特に一般式(VI)で表されるナフトキノン誘導体化合物も、同様にCdc25ホスファターゼ阻害活性を有していると考えられる。
さらに、式(F)に示される化合物と類似の構造を有する一般式(VII)で表されるナフトキノン誘導体化合物も、同様にCdc25ホスファターゼ阻害活性を有していると考えられる。
Similarly, the naphthoquinone derivative compound represented by the general formula (V) having a structure similar to that of the compound represented by the formula (E), particularly the naphthoquinone derivative compound represented by the general formula (VI), also has Cdc25 phosphatase inhibitory activity. It is thought that it has.
Furthermore, the naphthoquinone derivative compound represented by the general formula (VII) having a structure similar to that of the compound represented by the formula (F) is also considered to have Cdc25 phosphatase inhibitory activity.
従って、一般式(I)、一般式(V)、及び一般式(VII)で表されるナフトキノン誘導体化合物はCdc25ホスファターゼ阻害活性を有していることから、一般式(I)、一般式(V)、及び一般式(VII)で表されるナフトキノン誘導体化合物の薬理学的に許容される塩もCdc25ホスファターゼ阻害活性を有しているということができ、また、これらのナフトキノン誘導体化合物やその薬理学的に許容される塩は、抗腫瘍剤として有用であると考えられる。 Therefore, since the naphthoquinone derivative compounds represented by the general formula (I), the general formula (V), and the general formula (VII) have Cdc25 phosphatase inhibitory activity, the general formula (I), the general formula (V ) And pharmacologically acceptable salts of naphthoquinone derivative compounds represented by the general formula (VII) can also be said to have Cdc25 phosphatase inhibitory activity, and these naphthoquinone derivative compounds and their pharmacology Pharmaceutically acceptable salts are considered useful as antitumor agents.
===本発明に係るナフトキノン誘導体化合物の製造方法===
本発明に係るナフトキノン誘導体化合物の製造方法の一例を下記の5つの反応工程式([化25]〜[化29])に基づいて説明する。
An example of the method for producing a naphthoquinone derivative compound according to the present invention will be described based on the following five reaction process formulas ([Chemical Formula 25] to [Chemical Formula 29]).
<工程1a:化合物3の製造>
化合物2を無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷下水素化ナトリウムを加える。室温にて撹拌した後、氷冷下無水テトラヒドロフランに溶解させた化合物1を加え、さらに室温にて撹拌する。氷浴下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる残渣をエーテルに溶解し、氷冷下水及びトリフルオロ酢酸を順次加える。4.5時間後、溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物3を得ることができる。
<Step 1a: Production of Compound 3>
<工程2a:化合物4の製造>
化合物3を無水酢酸に溶解し、室温にて酢酸カリウムを加えた後、加熱還流する。その後、溶媒をトルエン共沸により減圧留去して得られる残留物を酢酸エチルで希釈し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和食塩水にて洗浄する。さらに水層を酢酸エチルで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物4を得ることができる。
<Step 2a: Production of Compound 4>
Compound 3 is dissolved in acetic anhydride, potassium acetate is added at room temperature, and the mixture is heated to reflux. Thereafter, the solvent is distilled off under reduced pressure by azeotropic distillation with toluene, and the resulting residue is diluted with ethyl acetate and washed with water, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and saturated brine. Further, the aqueous layer is washed with ethyl acetate, and then the organic layers are combined and dehydrated with anhydrous sodium sulfate. Compound 4 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程3a:化合物5の製造>
化合物4をエタノールに溶解し、0℃にて炭酸カリウムを加えた。室温にて撹拌後、溶媒を減圧留去して得られる残留物を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物5を得ることができる。
<Step 3a: Production of
Compound 4 was dissolved in ethanol, and potassium carbonate was added at 0 ° C. After stirring at room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was diluted with ethyl acetate and washed with saturated brine.
<工程4a:化合物6の製造>
化合物5を無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷下水素化リチウムアルミニウムを加える。室温で撹拌後、氷冷下飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、混合液を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物6を得ることができる。
<Step 4a: Production of Compound 6>
<工程5a:化合物7の製造>
化合物6をジメチルホルムアミドに溶解し、0℃において水素化ナトリウムおよびヨウ化メチルを加える。撹拌後、氷冷下飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、反応液を酢酸エチルで希釈した。これを飽和食塩水にて洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物7を得ることができる。
<Step 5a: Production of compound 7>
Compound 6 is dissolved in dimethylformamide and sodium hydride and methyl iodide are added at 0 ° C. After stirring, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added under ice cooling, and the reaction mixture was diluted with ethyl acetate. After washing this with saturated saline, the organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure is purified by chromatography to give compound 7.
<工程6a:化合物8の製造>
化合物7をジクロロメタンに溶解し、0℃にて水、t-ブチルアルコール、DDQ(2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-1,4-ベンゾキノンを順次加える。撹拌後、反応液をクロロホルムで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加える。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、さらに水層をクロロホルムで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物8(式(A)に示される化合物)を得ることができる。
Compound 7 is dissolved in dichloromethane, and water, t-butyl alcohol and DDQ (2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone are sequentially added at 0 ° C. After stirring, the reaction solution is diluted with chloroform. The organic layer was washed with saturated brine, the aqueous layer was further washed with chloroform, and the organic layers were combined and dehydrated with anhydrous sodium sulfate. The crude product obtained in this manner can be purified by chromatography to give compound 8 (compound represented by formula (A)).
<工程7a:化合物9の製造>
化合物6をジメチルホルムアミドに溶解し、0℃において炭酸カリウムおよびヨウ化メチルを加える。撹拌後、反応液を酢酸エチルで希釈する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、さらに水層を酢酸エチルで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物9を得ることができる。
<Step 7a: Production of Compound 9>
Compound 6 is dissolved in dimethylformamide and potassium carbonate and methyl iodide are added at 0 ° C. After stirring, the reaction solution is diluted with ethyl acetate. The organic layer is washed with saturated brine, and the aqueous layer is further washed with ethyl acetate. The organic layers are combined and dried over anhydrous sodium sulfate. Compound 9 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程8a:化合物10の製造>
化合物9をトルエンに溶解し、室温にてジメチルスルホキシド、トリエチルアミン、三酸化硫黄ピリジン錯体(SO3・Pyr)を順次加える。その後、反応液を酢酸エチルで希釈し、氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加える。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、さらに水層を酢酸エチルで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物10を得ることができる。
<Step 8a: Production of Compound 10>
Compound 9 is dissolved in toluene, and dimethyl sulfoxide, triethylamine, and sulfur trioxide pyridine complex (SO 3 .Pyr) are sequentially added at room temperature. Thereafter, the reaction solution is diluted with ethyl acetate, and a saturated aqueous ammonium chloride solution is added under ice cooling. The organic layer is washed with saturated brine, and the aqueous layer is further washed with ethyl acetate. The organic layers are combined and dehydrated with anhydrous sodium sulfate. Compound 10 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程9a:化合物11の製造>
水素化ナトリウムにジメチルスルホキシドを加え、室温で撹拌した後、反応液を無水テトラヒドロフランで希釈する。そして、0℃にてジメチルスルホキシドに溶解させたヨウ化トリメチルスルホニウムを加え、その後さらに、無水テトラヒドロフランに溶解させた化合物10を加えて撹拌する。反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物11を得ることができる。
<Step 9a: Production of Compound 11>
After adding dimethyl sulfoxide to sodium hydride and stirring at room temperature, the reaction solution is diluted with anhydrous tetrahydrofuran. Then, trimethylsulfonium iodide dissolved in dimethyl sulfoxide is added at 0 ° C., and then compound 10 dissolved in anhydrous tetrahydrofuran is further added and stirred. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate and washed with saturated aqueous ammonium chloride. Compound 11 can be obtained by dehydrating the organic layer with anhydrous sodium sulfate and purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程10a:化合物12の製造>
ベンゼン中において臭化亜鉛を加熱還流し、この混合物にベンゼンに溶解させた化合物11を加える。反応後、反応液を室温に戻し、酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去してアルデヒドの粗生成物を得る。
<Step 10a: Production of Compound 12>
Zinc bromide is heated to reflux in benzene, and compound 11 dissolved in benzene is added to the mixture. After the reaction, the reaction solution is returned to room temperature, diluted with ethyl acetate, and washed with water and saturated brine. The organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a crude product of aldehyde.
ジエチルホスホノ酢酸エチルを無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷下水素化ナトリウムを加え、室温にて撹拌する。その後、無水テトラヒドロフランに溶解させたアルデヒドを−78℃にて加え、撹拌する。反応後、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、さらに水層を酢酸エチルで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物12を得ることができる。 Dissolve ethyl diethylphosphonoacetate in anhydrous tetrahydrofuran, add sodium hydride under ice cooling, and stir at room temperature. Thereafter, aldehyde dissolved in anhydrous tetrahydrofuran is added at −78 ° C. and stirred. After the reaction, a saturated aqueous solution of ammonium chloride is added to the reaction solution and diluted with ethyl acetate. The organic layer is washed with saturated brine, and the aqueous layer is further washed with ethyl acetate. The organic layers are combined and dried over anhydrous sodium sulfate. Compound 12 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程11a:化合物13の製造>
化合物12を無水テトラヒドロフランに溶解し、−78℃にて水素化ジイソブチルアルミニウムを滴下する。滴下終了後撹拌し、4M 塩酸を加えて0℃に戻す。反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物13を得ることができる。
<Step 11a: Production of Compound 13>
Compound 12 is dissolved in anhydrous tetrahydrofuran, and diisobutylaluminum hydride is added dropwise at -78 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture is stirred, and 4M hydrochloric acid is added to return to 0 ° C. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate, and washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. Compound 13 can be obtained by dehydrating the organic layer with anhydrous sodium sulfate and purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程12a:化合物14の製造>
モレキュラーシーブス4Aにジクロロメタンおよびオルトチタン酸テトライソプロピルを加えて撹拌した後、−25℃にてジクロロメタンに溶解させたL-(+)-酒石酸ジイソプロピルを滴下する。さらに、−20℃にてジクロロメタンに溶解させた化合物13を加える。−20℃にて撹拌した後、同温度にてt−ブチルヒドロペルオキシドを滴下する。さらに−20℃にて撹拌した後、氷冷下10% L-(+)-酒石酸水溶液を加えて撹拌する。反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる残渣をジエチルエーテルに溶解し、氷浴中1M 水酸化ナトリウム水溶液を加える。室温にて撹拌した後、反応液をジエチルエーテルで希釈する。有機層を飽和食塩水にて洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物14を得ることができる。
<Step 12a: Production of Compound 14>
After adding dichloromethane and tetraisopropyl orthotitanate to Molecular Sieves 4A and stirring, L-(+)-diisopropyl tartrate dissolved in dichloromethane is added dropwise at -25 ° C. Further, compound 13 dissolved in dichloromethane at −20 ° C. is added. After stirring at −20 ° C., t-butyl hydroperoxide is added dropwise at the same temperature. After further stirring at −20 ° C., 10% L-(+)-tartaric acid aqueous solution is added and stirred under ice cooling. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate and washed with saturated brine. The organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, the solvent is distilled off under reduced pressure, the residue obtained is dissolved in diethyl ether, and 1M aqueous sodium hydroxide solution is added in an ice bath. After stirring at room temperature, the reaction is diluted with diethyl ether. The organic layer is washed with saturated brine, dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure to purify a crude product obtained by chromatography, whereby compound 14 can be obtained.
<工程13a:化合物15の製造>
化合物14を無水テトラヒドロフランに溶解し、−78℃にてRed-Al(65 wt%、トルエン溶液)を滴下する。滴下終了後撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて0℃に戻す。反応液を酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物15を得ることができる。
<Step 13a: Production of Compound 15>
Compound 14 is dissolved in anhydrous tetrahydrofuran, and Red-Al (65 wt%, toluene solution) is added dropwise at -78 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture is stirred, and saturated aqueous ammonium chloride solution is added to return to 0 ° C. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate and washed with water and saturated brine. Compound 15 can be obtained by dehydrating the organic layer with anhydrous sodium sulfate and purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程14a:化合物16の製造>
化合物15に2,2-ジメトキシプロパンおよび(±)-カンファー-10-スルホン酸を加え、室温にて撹拌する。反応液を酢酸エチルにて希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物16を得ることができる。
<Step 14a: Production of Compound 16>
To compound 15, 2,2-dimethoxypropane and (±) -camphor-10-sulfonic acid are added and stirred at room temperature. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate, washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and the organic layers are combined and dried over anhydrous sodium sulfate. Compound 16 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程15a:化合物17の製造>
化合物16を1,4−ジオキサンに溶解し、氷浴中、水、DDQを加える。室温にて撹拌した後、反応液を酢酸エチルにて希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物17(式(B)に示される化合物)を得ることができる。
Compound 16 is dissolved in 1,4-dioxane, and water and DDQ are added in an ice bath. After stirring at room temperature, the reaction mixture is diluted with ethyl acetate and washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, water and saturated brine. The organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure is purified by chromatography, whereby compound 17 (compound represented by formula (B)) can be obtained.
<工程16a:化合物18の製造>
化合物6を無水テトラヒドロフランに溶解し、0℃において臭化水素酸ペルブロミドピリジン錯体(Pyr・HBr3)を加える。撹拌後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、反応液を酢酸エチルで希釈する。これを飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物18を得ることができる。
<Step 16a: Production of Compound 18>
Compound 6 is dissolved in anhydrous tetrahydrofuran and hydrobromic acid perbromide pyridine complex (Pyr · HBr 3 ) is added at 0 ° C. After stirring, a saturated aqueous sodium thiosulfate solution is added, and the reaction solution is diluted with ethyl acetate. This is washed with saturated saline. Compound 18 can be obtained by dehydrating the organic layer with anhydrous sodium sulfate and purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程17a:化合物19の製造>
化合物18をジクロロメタンに溶解し、室温にてジメチルスルホキシド、トリエチルアミン、三酸化硫黄ピリジン錯体(SO3・Pyr)を順次加える。そして、反応液をクロロホルムで希釈し、氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加える。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、さらに水層をクロロホルムで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物19を得ることができる。
<Step 17a: Production of Compound 19>
Compound 18 is dissolved in dichloromethane, and dimethyl sulfoxide, triethylamine, and sulfur trioxide pyridine complex (SO 3 .Pyr) are sequentially added at room temperature. The reaction solution is diluted with chloroform, and a saturated aqueous ammonium chloride solution is added under ice cooling. The organic layer is washed with saturated brine, and the aqueous layer is further washed with chloroform. The organic layers are combined and dehydrated with anhydrous sodium sulfate. Compound 19 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程18a:化合物20の製造>
化合物19をジメチルホルムアミドに溶解し、0℃にて炭酸カリウムおよびヨウ化メチルを加える。室温にて撹拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、さらに水層を酢酸エチルで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物20を得ることができる。
<Step 18a: Production of Compound 20>
Compound 19 is dissolved in dimethylformamide and potassium carbonate and methyl iodide are added at 0 ° C. After stirring at room temperature, the reaction is diluted with ethyl acetate. The organic layer is washed with saturated brine, and the aqueous layer is further washed with ethyl acetate. The organic layers are combined and dried over anhydrous sodium sulfate. Compound 20 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程19a:化合物21の製造>
水素化ナトリウムにジメチルスルホキシドを加え、室温で撹拌した後、反応液を無水テトラヒドロフランで希釈する。その後、0℃にてジメチルスルホキシドに溶解させたヨウ化トリメチルスルホニウムを加え、その後さらに、ジメチルスルホキシドに溶解させた化合物20を加えて撹拌する。反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物21を得ることができる。
<Step 19a: Production of Compound 21>
After adding dimethyl sulfoxide to sodium hydride and stirring at room temperature, the reaction solution is diluted with anhydrous tetrahydrofuran. Thereafter, trimethylsulfonium iodide dissolved in dimethyl sulfoxide is added at 0 ° C., and then compound 20 dissolved in dimethyl sulfoxide is further added and stirred. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate and washed with saturated aqueous ammonium chloride. Compound 21 can be obtained by dehydrating the organic layer with anhydrous sodium sulfate and purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程20a:化合物22の製造>
ベンゼン中において、臭化亜鉛を加熱還流し、この混合物にベンゼンに溶解させた化合物21を加える。反応液を室温に戻し、酢酸エチルで希釈した後、水、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去してアルデヒドの粗生成物を得る。
<Step 20a: Production of Compound 22>
In benzene, zinc bromide is heated to reflux, and compound 21 dissolved in benzene is added to the mixture. The reaction solution is returned to room temperature, diluted with ethyl acetate, and washed with water and saturated brine. The organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure to obtain a crude product of aldehyde.
ジエチルホスホノ酢酸エチルを無水テトラヒドロフランに溶解し、氷冷下、水素化ナトリウムを加え、室温にて撹拌する。その後、無水テトラヒドロフランに溶解させたアルデヒドを−78℃にて加え、撹拌する。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで希釈する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、さらに水層を酢酸エチルで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物22を得ることができる。 Dissolve ethyl diethylphosphonoacetate in anhydrous tetrahydrofuran, add sodium hydride under ice cooling, and stir at room temperature. Thereafter, aldehyde dissolved in anhydrous tetrahydrofuran is added at −78 ° C. and stirred. Saturated aqueous ammonium chloride solution is added to the reaction solution and diluted with ethyl acetate. The organic layer is washed with saturated brine, and the aqueous layer is further washed with ethyl acetate. The organic layers are combined and dried over anhydrous sodium sulfate. Compound 22 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程21a:化合物23の製造>
化合物22を無水テトラヒドロフランに溶解し、−78℃にて水素化ジイソブチルアルミニウムを滴下する。滴下終了後撹拌し、4M 塩酸を加えて0℃に戻す。反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物23を得ることができる。
<Step 21a: Production of Compound 23>
Compound 22 is dissolved in anhydrous tetrahydrofuran, and diisobutylaluminum hydride is added dropwise at -78 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture is stirred, and 4M hydrochloric acid is added to return to 0 ° C. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate, and washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine. Compound 23 can be obtained by dehydrating the organic layer with anhydrous sodium sulfate and purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程22a:化合物24の製造>
化合物23をジメチルホルムアミドに溶解し、0℃にてイミダゾール、塩化t−ブチルジメチルシリルを順次加え、撹拌する。反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物24を得ることができる。
<Step 22a: Production of Compound 24>
Compound 23 is dissolved in dimethylformamide, imidazole and t-butyldimethylsilyl chloride are sequentially added at 0 ° C. and stirred. The reaction mixture is diluted with ethyl acetate, washed with saturated brine, and the organic layer is dried over anhydrous sodium sulfate. Compound 24 can be obtained by purifying the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程23a:化合物25の製造>
化合物24を無水テトラヒドロフランに溶解し、−78℃にてn−ブチルリチウム(1.57M、ヘキサン溶液)を滴下する。さらにn−バレルアルデヒドを加え、撹拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え0℃に戻し、酢酸エチルで希釈した後飽和食塩水で洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧濃縮して二級アルコールの粗生成物を得る。
<Step 23a: Production of compound 25>
Compound 24 is dissolved in anhydrous tetrahydrofuran, and n-butyllithium (1.57 M, hexane solution) is added dropwise at -78 ° C. Add more n-valeraldehyde and stir. Saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added to the reaction mixture, the temperature is returned to 0 ° C., diluted with ethyl acetate and washed with saturated brine. The organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent is concentrated under reduced pressure to obtain a crude secondary alcohol product.
二級アルコールを無水テトラヒドロフランに溶解し、0℃にてフッ化テトラn−ブチルアンモニウムを加える。室温で撹拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈する。水、飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物25を得ることができる。 The secondary alcohol is dissolved in anhydrous tetrahydrofuran and tetra-n-butylammonium fluoride is added at 0 ° C. After stirring at room temperature, the reaction is diluted with ethyl acetate. After washing with water and saturated brine, the organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure to purify the crude product by chromatography, whereby compound 25 can be obtained.
<工程24a:化合物26の製造>
化合物25をジクロロメタンに溶解し、0℃にて水、t−ブチルアルコール、DDQを順次加える。撹拌後、反応液をクロロホルムで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加える。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、さらに水層をクロロホルムで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物26(式(C)に示される化合物)を得ることができる。
Compound 25 is dissolved in dichloromethane, and water, t-butyl alcohol, and DDQ are sequentially added at 0 ° C. After stirring, the reaction solution is diluted with chloroform, and a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added. The organic layer is washed with saturated brine, and the aqueous layer is further washed with chloroform. The organic layers are combined and dehydrated with anhydrous sodium sulfate. Compound 26 (compound represented by formula (C)) can be obtained by purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程25a:化合物27の製造>
化合物25をジクロロメタンに溶解し、氷浴中、ピリジンおよび無水酢酸を加える。室温で撹拌した後、溶媒をトルエン共沸により減圧留去して得られる残留物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物27を得ることができる。
<Step 25a: Production of compound 27>
Compound 25 is dissolved in dichloromethane and pyridine and acetic anhydride are added in an ice bath. After stirring at room temperature, Compound 27 can be obtained by purifying the residue obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by toluene azeotropy by chromatography.
<工程26a:化合物28の製造>
化合物27をジクロロメタンに溶解し、0℃にて水、t−ブチルアルコール、DDQを順次加える。撹拌後、反応液をクロロホルムで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加える。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、さらに水層をクロロホルムで洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物28を得ることができる。
<Step 26a: Production of Compound 28>
Compound 27 is dissolved in dichloromethane, and water, t-butyl alcohol, and DDQ are sequentially added at 0 ° C. After stirring, the reaction solution is diluted with chloroform, and a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added. The organic layer is washed with saturated brine, and the aqueous layer is further washed with chloroform. The organic layers are combined and dehydrated with anhydrous sodium sulfate. Compound 28 can be obtained by purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程27a:化合物29の製造>
三臭化ホウ素(1M、ジクロロメタン溶液)をジクロロメタンに溶解し、−78℃にてジクロロメタンに溶解させた化合物28を加えて撹拌する。反応液をクロロホルムで希釈した後、水、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物29を得ることができる。
<Step 27a: Production of compound 29>
Boron tribromide (1M, dichloromethane solution) is dissolved in dichloromethane, and compound 28 dissolved in dichloromethane is added at −78 ° C. and stirred. The reaction mixture is diluted with chloroform, washed with water and saturated brine, and the organic layer is dried over anhydrous sodium sulfate. Compound 29 can be obtained by purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程28a:化合物30の製造>
化合物29を無水テトラヒドロフランに溶解し、氷浴中、メチルアミン(40 wt%、メタノール溶液)を加える。同温度で撹拌した後、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物30を得ることができる。
<Step 28a: Production of compound 30>
Compound 29 is dissolved in anhydrous tetrahydrofuran and methylamine (40 wt%, methanol solution) is added in an ice bath. After stirring at the same temperature, compound 30 can be obtained by purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
<工程29a:化合物31の製造>
化合物30をメタノールに溶解し、氷浴中、炭酸カリウムを加える。室温にて撹拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物31(式(E)に示される化合物)を得ることができる。
<Step 29a: Production of compound 31>
Compound 30 is dissolved in methanol and potassium carbonate is added in an ice bath. After stirring at room temperature, the reaction mixture is diluted with ethyl acetate and washed with water and saturated brine. The organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure is purified by chromatography, whereby compound 31 (compound represented by formula (E)) can be obtained.
<工程30a:化合物32の製造>
化合物29をメタノールに溶解し、氷浴中、炭酸カリウムを加える。室温にて撹拌した後、反応液を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水にて洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物32(式(D)に示される化合物)を得ることができる。
Compound 29 is dissolved in methanol and potassium carbonate is added in an ice bath. After stirring at room temperature, the reaction mixture is diluted with ethyl acetate and washed with water and saturated brine. The organic layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure is purified by chromatography, whereby compound 32 (compound represented by formula (D)) can be obtained.
<工程31a:化合物33の製造>
化合物26bをジクロロメタンに溶解し、二酸化マンガンを加えて撹拌した後、マンガンの残留物をセライトろ過して分離し、クロロホルムとメタノールでセライトを洗浄する。洗浄したろ液を減圧留去することによりアルデヒドの粗生成物を得ることができる。
<Step 31a: Production of Compound 33>
上記アルデヒドをメタノールに溶解し、トリメチルシリルジアゾメタン(ヘキサン溶液)を室温にて加える。撹拌後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物33を得ることができる。 The aldehyde is dissolved in methanol and trimethylsilyldiazomethane (hexane solution) is added at room temperature. After stirring, the solvent can be distilled off under reduced pressure, and the resulting residue can be purified by chromatography to give compound 33.
<工程32a:化合物34の製造>
化合物33をジクロロメタンに溶解し、−78℃にて三臭化ホウ素(ジクロロメタン溶液)を加えて撹拌する。反応液をクロロホルムで希釈した後、水及び飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水する。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をクロマトグラフィーにて精製することにより化合物34(式(F)に示される化合物)を得ることができる。
<Step 32a: Production of Compound 34>
Compound 33 is dissolved in dichloromethane, and boron tribromide (dichloromethane solution) is added thereto at −78 ° C., followed by stirring. The reaction mixture is diluted with chloroform, washed with water and saturated brine, and the organic layer is dried over anhydrous sodium sulfate. Compound 34 (compound represented by formula (F)) can be obtained by purifying the crude product obtained by distilling off the solvent under reduced pressure by chromatography.
なお、上述においては、本発明に係るいくつかのナフトキノン誘導体化合物の製造方法について述べることとしたが、上述の1a〜32aの工程を適宜組み合わせたり、使用する物質を適宜変更したりすることにより、他のナフトキノン誘導体化合物を製造することができる。また、本発明に係るナフトキノン誘導体化合物の薬理学的に許容される塩、例えば、第4級アンモニウム塩などの有機塩、あるいはアルカリ金属などの金属塩は、常法により製造することができる。 In addition, in the above-mentioned, it was decided to describe the production method of some naphthoquinone derivative compounds according to the present invention, but by appropriately combining the above-mentioned steps 1a to 32a or appropriately changing the substance to be used, Other naphthoquinone derivative compounds can be produced. In addition, a pharmacologically acceptable salt of the naphthoquinone derivative compound according to the present invention, for example, an organic salt such as a quaternary ammonium salt, or a metal salt such as an alkali metal can be produced by a conventional method.
以下、実施例を用いてより詳細に説明する。なお、実施例において、核磁気共鳴スペクトル(1H-NMRおよび13C-NMR)はJNM GX-400とEX-270(日本電子製)を用いて測定した。また、赤外吸収スペクトルはModel A-202(日本分光製)を用いて測定した。 Hereinafter, it demonstrates in detail using an Example. In Examples, nuclear magnetic resonance spectra ( 1 H-NMR and 13 C-NMR) were measured using JNM GX-400 and EX-270 (manufactured by JEOL). The infrared absorption spectrum was measured using Model A-202 (manufactured by JASCO).
シリカゲル薄層クロマトグラフィーはkieselgel 60F254シリカゲル(Merck製)を使用し、リンモリブデン硫酸で呈色した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーはシリカゲル60N(関東化学製)を用いた。なお、各反応は特に記載のない限り、アルゴン中で反応を行った。 Silica gel thin layer chromatography used kieselgel 60F254 silica gel (Merck) and colored with phosphomolybdenum sulfate. Silica gel column chromatography used silica gel 60N (manufactured by Kanto Chemical). Each reaction was performed in argon unless otherwise specified.
<(3E)-4-(5-ベンジルオキシ-2,3-ジメトキシフェニル)-3-エトキシカルボニルブタ-3-エン酸の製造>
文献(Iinuma, M.; Tanaka, T.; Matsuura, S. Chem. Pharm. Bull. 1984, 32, 2296-2300)の方法に従い、アルドリッチ製5-ブロモベラトルアルデヒドに対してBaeyer-Villiger酸化、ベンジル化、ニトリル導入および還元を行い、(5-ベンジルオキシ-2,3-ジメトキシ-フェニル)ホルムアルデヒド(図1中の化合物1b)を得た。さらに、ジエチルホスホノ酢酸エチルを原料として、文献(Owton, W. M.; Gallagher, P. T.; Juan-Montesinos, A. Synth. Commun. 1993, 23, 2119-2125.)の方法に従い2-ジエトキシホスホノ-t-ブチルエチルこはく酸塩(図1中の化合物2b)を得た。
<Production of (3E) -4- (5-benzyloxy-2,3-dimethoxyphenyl) -3-ethoxycarbonylbut-3-enoic acid>
According to literature (Iinuma, M .; Tanaka, T .; Matsuura, S. Chem. Pharm. Bull. 1984, 32, 2296-2300), Baeyer-Villiger oxidation on Aldrich 5-bromoverataldehyde, Benzylation, nitrile introduction and reduction were carried out to obtain (5-benzyloxy-2,3-dimethoxy-phenyl) formaldehyde (Compound 1b in FIG. 1). Furthermore, using ethyl diethylphosphonoacetate as a raw material, according to the method of literature (Owton, WM; Gallagher, PT; Juan-Montesinos, A. Synth. Commun. 1993, 23, 2119-2125.), 2-diethoxyphosphono- t-Butylethyl succinate (compound 2b in FIG. 1) was obtained.
上記化合物2b(20.3 g)を無水テトラヒドロフラン(70 mL)に溶解し、氷冷下水素化ナトリウム(1.53 g)を加えた。室温にて2時間撹拌した後、氷冷下無水テトラヒドロフラン(25 mL)に溶解させた上記化合物1b(8.19 g)を加え、さらに室温にて3時間撹拌した。氷浴下、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた後、反応液を酢酸エチル(200 mL)で希釈し、飽和食塩水(50 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる残渣をエーテル(20 mL)に溶解し、氷冷下水(20 mL)及びトリフルオロ酢酸(60 mL)を順次加えた。4.5時間後、溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製し、(3E)-4-(5-ベンジルオキシ-2,3-ジメトキシフェニル)-3-エトキシカルボニルブタ-3-エン酸(図1中の化合物3b)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 1.35 (t, 3H, J= 7.2 Hz), 3.46 (s, 2H), 3.72 (s, 3H), 3.84 (s, 3H), 4.31 (q, 2H, J= 7.2 Hz), 5.04 (s, 2H), 6.51 (s, 1H), 6.62 (s, 1H), 7.32-7.43 (complex, 5H), 7.97 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 14.2, 34.1, 55.8, 61.3, 61.4, 70.3, 72.3, 102.2, 104.7, 126.6, 127.2, 127.9, 128.5, 128.7, 136.5, 138.4, 141.5, 153.4, 154.8, 167.1, 176.6.
IR (film) 1710, 1591, 1485 cm-1.
Compound 2b (20.3 g) was dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (70 mL), and sodium hydride (1.53 g) was added under ice cooling. After stirring at room temperature for 2 hours, the above compound 1b (8.19 g) dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (25 mL) was added under ice cooling, and the mixture was further stirred at room temperature for 3 hours. After adding a saturated aqueous ammonium chloride solution in an ice bath, the reaction mixture was diluted with ethyl acetate (200 mL) and washed with saturated brine (50 mL). The organic layer was dehydrated with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was dissolved in ether (20 mL), and water (20 mL) and trifluoroacetic acid (60 mL) were successively added under ice-cooling. After 4.5 hours, the solvent was concentrated under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give (3E) -4- (5-benzyloxy-2 , 3-Dimethoxyphenyl) -3-ethoxycarbonylbut-3-enoic acid (
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 1.35 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 3.46 (s, 2H), 3.72 (s, 3H), 3.84 (s, 3H), 4.31 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 5.04 (s, 2H), 6.51 (s, 1H), 6.62 (s, 1H), 7.32-7.43 (complex, 5H), 7.97 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 14.2, 34.1, 55.8, 61.3, 61.4, 70.3, 72.3, 102.2, 104.7, 126.6, 127.2, 127.9, 128.5, 128.7, 136.5, 138.4, 141.5, 153.4, 154.8, 167.1, 176.6.
IR (film) 1710, 1591, 1485 cm -1 .
<エチル4-アセトキシ-5-ベンジルオキシ-7,8-ジメトキシナフタレン-2-カルボキシレートの製造>
実施例1により得られた化合物3b(10.0 g)を無水酢酸(190 mL)に溶解し、室温にて酢酸カリウム(2.50 g)を加えた後、加熱還流させた。30分後、溶媒をトルエン共沸により減圧留去して得られる残留物を酢酸エチル(300 mL)で希釈し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、および飽和食塩水(各々50 mL)にて洗浄した。さらに水層を酢酸エチル(100 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、無色板状結晶としてエチル4-アセトキシ-5-ベンジルオキシ-7,8-ジメトキシナフタレン-2-カルボキシレート(図1中の化合物4b;9.81 g、92%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 1.42 (t, 3H, J= 7.2 Hz), 1.66 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 3.97 (s, 3H), 4.42 (q, 2H, J= 7.2 Hz), 5.10 (s, 2H), 6.85 (s, 1H), 7.39-7.51 (complex, 6H), 8.73 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 14.4, 20.3, 57.0, 61.2, 61.5, 71.7, 100.2, 116.6, 116.8, 122.5, 128.3, 128.5, 128.7, 128.8, 131.0, 135.7, 137.8, 146.7, 148.7, 151.1, 165.7, 170.0.
IR (disk) 1757, 1714, 1604 cm-1.
m.p. 156-157℃ (hexane-EtOAc)
<Production of ethyl 4-acetoxy-5-benzyloxy-7,8-dimethoxynaphthalene-2-carboxylate>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 1.42 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.66 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 3.97 (s, 3H), 4.42 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 5.10 (s, 2H), 6.85 (s, 1H), 7.39-7.51 (complex, 6H), 8.73 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 14.4, 20.3, 57.0, 61.2, 61.5, 71.7, 100.2, 116.6, 116.8, 122.5, 128.3, 128.5, 128.7, 128.8, 131.0, 135.7, 137.8, 146.7, 148.7, 151.1, 165.7, 170.0.
IR (disk) 1757, 1714, 1604 cm -1 .
mp 156-157 ° C (hexane-EtOAc)
<エチル5-ベンジルオキシ-4-ヒドロキシ-7,8-ジメトキシナフタレン-2-カルボキシレートの製造>
実施例2により得られた化合物4b(3.76 g)をエタノール(80 mL)に溶解し、0℃にて炭酸カリウム(12.7 g)を加えた。室温にて18時間撹拌後、溶媒を減圧留去して得られる残留物を酢酸エチル(100 mL)で希釈し、飽和食塩水(30 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、エチル5-ベンジルオキシ-4-ヒドロキシ-7,8-ジメトキシナフタレン-2-カルボキシレート(図1中の化合物5b;2.92 g、86%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 1.42 (t, 3H, J= 7.3 Hz), 3.94 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 4.41 (q, 2H, J= 7.3 Hz), 5.26 (s, 2H), 6.78 (s, 1H), 7.27 (s, 1H), 7.43-7.50 (complex, 5H), 8.30 (s, 1H), 9.29 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 14.4, 57.2, 61.1, 61.3, 72.3, 98.7, 107.9, 112.9, 115.0, 127.9, 128.9, 129.0, 129.8, 130.9, 134.6, 138.1, 138.6, 143.0, 148.2, 151.6, 154.6, 166.5, 183.6.
IR (disk) 3395, 2977, 2945, 2848, 1698, 1613 cm-1.
m.p. 115-116℃ (hexane-EtOAc)
<Production of ethyl 5-benzyloxy-4-hydroxy-7,8-dimethoxynaphthalene-2-carboxylate>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 1.42 (t, 3H, J = 7.3 Hz), 3.94 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 4.41 (q, 2H, J = 7.3 Hz), 5.26 ( s, 2H), 6.78 (s, 1H), 7.27 (s, 1H), 7.43-7.50 (complex, 5H), 8.30 (s, 1H), 9.29 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 14.4, 57.2, 61.1, 61.3, 72.3, 98.7, 107.9, 112.9, 115.0, 127.9, 128.9, 129.0, 129.8, 130.9, 134.6, 138.1, 138.6, 143.0, 148.2, 151.6, 154.6, 166.5, 183.6.
IR (disk) 3395, 2977, 2945, 2848, 1698, 1613 cm -1 .
mp 115-116 ° C (hexane-EtOAc)
<8-ベンジルオキシ-3-ヒドロキシメチル-5,6-ジメトキシナフトールの製造>
実施例3により得られた化合物5b(295 mg)を無水テトラヒドロフラン(3mL)に溶解し、氷冷下水素化リチウムアルミニウム(44.2 mg)を加えた。室温で1時間撹拌後、氷冷下飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、混合液を酢酸エチル(50mL)で希釈し、飽和食塩水(10mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製し、8-ベンジルオキシ-3-ヒドロキシメチル-5,6-ジメトキシナフトール(図1中の化合物6b;162 mg、61%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 3.89 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.74 (s, 2H), 5.24 (s, 2H), 6.66 (s, 1H), 6.72 (s, 1H), 7.39-7.50 (complex, 6H), 9.25 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 57.1, 61.0, 65.5, 72.1, 72.3, 96.5, 107.4, 109.6, 110.6, 127.9, 128.8, 129.0, 131.5, 134.9, 137.6, 137.7, 141.1, 148.0, 151.8, 154.7.
IR (disk) 3386, 2941, 2844, 1635, 1616 cm-1.
m.p. 131-132℃ (hexane-EtOAc)
<Production of 8-benzyloxy-3-hydroxymethyl-5,6-dimethoxynaphthol>
Compound 5b (295 mg) obtained in Example 3 was dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (3 mL), and lithium aluminum hydride (44.2 mg) was added under ice cooling. After stirring at room temperature for 1 hour, saturated aqueous ammonium chloride solution was added under ice-cooling, and the mixture was diluted with ethyl acetate (50 mL) and washed with saturated brine (10 mL). The organic layer was dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give 8-benzyloxy-3-hydroxymethyl. -5,6-dimethoxynaphthol (
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 3.89 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.74 (s, 2H), 5.24 (s, 2H), 6.66 (s, 1H), 6.72 (s, 1H ), 7.39-7.50 (complex, 6H), 9.25 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 57.1, 61.0, 65.5, 72.1, 72.3, 96.5, 107.4, 109.6, 110.6, 127.9, 128.8, 129.0, 131.5, 134.9, 137.6, 137.7, 141.1, 148.0, 151.8, 154.7.
IR (disk) 3386, 2941, 2844, 1635, 1616 cm -1 .
mp 131-132 ° C (hexane-EtOAc)
<4-ベンジルオキシ-1,2,5-トリメトキシ-7-メトキシメチルナフタレンの製造>
実施例4により得られた化合物6b(159 mg)をジメチルホルムアミド(3 mL)に溶解し、0℃において水素化ナトリウム(121 mg)およびヨウ化メチル(0.18 mL)を加えた。1.5時間撹拌した後、氷冷下飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、反応液を酢酸エチル(20 mL)で希釈した。これを飽和食塩水(5 mL)にて洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=5:1〜1:1)にて精製し、無色針状晶として4-ベンジルオキシ-1,2,5-トリメトキシ-7-メトキシメチルナフタレン(図1中の化合物7b;111 mg、65%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 3.45 (s, 3H), 3.94 (s, 6H), 3.97 (s, 3H), 4.60 (s, 2H), 5.17 (s, 2H), 6.75 (s, 1H), 6.78 (s, 1H), 7.35 (d, 1H, J= 7.6 Hz), 7.40 (t, 2H, J= 7.6 Hz), 7.59 (d, 2H, J= 7.6 Hz), 7.65 (s, 1H).
<Production of 4-benzyloxy-1,2,5-trimethoxy-7-methoxymethylnaphthalene>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 3.45 (s, 3H), 3.94 (s, 6H), 3.97 (s, 3H), 4.60 (s, 2H), 5.17 (s, 2H), 6.75 (s, 1H ), 6.78 (s, 1H), 7.35 (d, 1H, J = 7.6 Hz), 7.40 (t, 2H, J = 7.6 Hz), 7.59 (d, 2H, J = 7.6 Hz), 7.65 (s, 1H ).
<2,5-ジメトキシ-7-メトキシメチルナフタレン-1,4-ジオンの製造>
実施例5により得られた化合物7b(78.4 mg)をジクロロメタン(2 mL)に溶解し、0℃にて水(1 mL)、t-ブチルアルコール(1 mL)、DDQ(135 mg)を順次加えた。2時間撹拌した後、反応液をクロロホルム(20 mL)で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(15 mL)を加えた。有機層を飽和食塩水(10 mL)にて洗浄し、さらに水層をクロロホルム(10 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:酢酸エチル=1:1)にて精製し、2,5-ジメトキシ-7-メトキシメチルナフタレン-1,4-ジオン(図1中の化合物8b(化合物A);47.1 mg、84%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 3.46 (s, 3H), 3.86 (s, 3H), 4.01 (s, 3H), 4.54 (s, 2H), 6.07 (s, 1H), 7.34 (s, 1H), 7.69 (s, 1H).
<Production of 2,5-dimethoxy-7-methoxymethylnaphthalene-1,4-dione>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 3.46 (s, 3H), 3.86 (s, 3H), 4.01 (s, 3H), 4.54 (s, 2H), 6.07 (s, 1H), 7.34 (s, 1H ), 7.69 (s, 1H).
<(5-ベンジルオキシ-4,7,8-トリメトキシ-2-ナフチル)-メタン-1-オ−ルの製造>
実施例4により得られた化合物6b(120 mg)をジメチルホルムアミド(3 mL)に溶解し、0℃において炭酸カリウム(383 mg)およびヨウ化メチル(0.2 mL)を加えた。10時間撹拌した後、反応液を酢酸エチル(25 mL)で希釈した。有機層を飽和食塩水(10 mL)で洗浄し、さらに水層を酢酸エチル(10 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、(5-ベンジルオキシ-4,7,8-トリメトキシ-2-ナフチル)-メタン-1-オ−ル(図2中の化合物9b;53.4 mg、43%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 3.90 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 4.77 (s, 2H), 5.13 (s, 2H), 6.70 (s, 1H), 6.72 (s, 1H), 7.34 (d, 1H, J= 7.0 Hz), 7.41 (t, 2H, J= 7.0 Hz), 7.56 (s, 1H), 7.60 (complex, 2H).
<Production of (5-benzyloxy-4,7,8-trimethoxy-2-naphthyl) -methane-1-ol>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 3.90 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 4.77 (s, 2H), 5.13 (s, 2H), 6.70 (s, 1H ), 6.72 (s, 1H), 7.34 (d, 1H, J = 7.0 Hz), 7.41 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 7.56 (s, 1H), 7.60 (complex, 2H).
<5-ベンジルオキシ-4,7,8-トリメトキシナフタレン-2-カルバルデヒドの製造>
実施例7により得られた化合物9b(147 mg)をトルエン(2 mL)に溶解し、室温にてジメチルスルホキシド(0.6 mL)、トリエチルアミン(0.3 mL)、三酸化硫黄ピリジン錯体(SO3・Pyr) (133 mg)を順次加えた。1.5時間後、反応液を酢酸エチル(50 mL)で希釈し、氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液(30 mL)を加えた。有機層を飽和食塩水(10 mL)にて洗浄し、さらに水層を酢酸エチル(20 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、5-ベンジルオキシ-4,7,8-トリメトキシナフタレン-2-カルバルデヒド(図2中の化合物10b;146 mg、100%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.97 (s, 3H), 3.98 (s, 3H), 3.99 (s, 3H), 5.17 (s, 2H), 6.90 (s, 1H), 7.14 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.57 (d, 2H, J= 7.2 Hz), 8.21 (s, 1H), 10.08 (s, 1H).
<Production of 5-benzyloxy-4,7,8-trimethoxynaphthalene-2-carbaldehyde>
Compound 9b (147 mg) obtained in Example 7 was dissolved in toluene (2 mL) and dimethyl sulfoxide (0.6 mL), triethylamine (0.3 mL), sulfur trioxide pyridine complex (SO 3 · Pyr) was dissolved at room temperature. (133 mg) was added sequentially. After 1.5 hours, the reaction mixture was diluted with ethyl acetate (50 mL), and saturated aqueous ammonium chloride solution (30 mL) was added under ice-cooling. The organic layer was washed with saturated brine (10 mL), and the aqueous layer was further washed with ethyl acetate (20 mL). The organic layers were combined and dried over anhydrous sodium sulfate. The crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 3: 1) to give 5-benzyloxy-4,7,8-trimethoxynaphthalene-2-carbaldehyde. (Compound 10b in FIG. 2; 146 mg, 100%) was obtained.
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 3.97 (s, 3H), 3.98 (s, 3H), 3.99 (s, 3H), 5.17 (s, 2H), 6.90 (s, 1H), 7.14 (s, 1H ), 7.36 (d, 1H, J = 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.57 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 8.21 (s, 1H), 10.08 (s, 1H ).
<4-ベンジルオキシ-1,2,5-トリメトキシ-7-オキシラン-2-イルナフタレンの製造>
水素化ナトリウム(124 mg)にジメチルスルホキシド(3 mL)を加え、室温で4時間撹拌した後、反応液を無水テトラヒドロフラン(7 mL)で希釈した。その後、0℃にてジメチルスルホキシド(4 mL)に溶解させたヨウ化トリメチルスルホニウム(728 mg)を加え、さらに35分後、無水テトラヒドロフラン(9 mL)に溶解させた化合物10b(253 mg)を加えて20分撹拌した。反応液を酢酸エチル(30 mL)で希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液(30 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製し、4-ベンジルオキシ-1,2,5-トリメトキシ-7-オキシラン-2-イルナフタレン(図2中の化合物11b;266 mg)を定量的に得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 2.92 (dd, 1H, J= 2.4, 5.4 Hz), 3.21 (dd, 1H, J= 4.0, 5.4 Hz), 3.91 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 4.02 (dd, 1H, J= 2.4, 4.0 Hz), 5.15 (s, 2H), 6.52 (s, 1H), 6.73 (s, 1H), 7.34 (d, 1H, J= 7.0 Hz), 7.41 (t, 2H, J= 7.0 Hz), 7.57 (d, 2H, J= 7.0 Hz), 7.69 (s, 1H).
<Production of 4-benzyloxy-1,2,5-trimethoxy-7-oxiran-2-ylnaphthalene>
Dimethyl sulfoxide (3 mL) was added to sodium hydride (124 mg) and stirred at room temperature for 4 hours, and then the reaction mixture was diluted with anhydrous tetrahydrofuran (7 mL). Thereafter, trimethylsulfonium iodide (728 mg) dissolved in dimethylsulfoxide (4 mL) was added at 0 ° C., and further 35 minutes later, compound 10b (253 mg) dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (9 mL) was added. And stirred for 20 minutes. The reaction solution was diluted with ethyl acetate (30 mL), and then washed with a saturated aqueous ammonium chloride solution (30 mL). The organic layer was dehydrated with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give 4-benzyloxy-1,2 , 5-trimethoxy-7-oxirane-2-ylnaphthalene (compound 11b in FIG. 2; 266 mg) was quantitatively obtained.
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 2.92 (dd, 1H, J = 2.4, 5.4 Hz), 3.21 (dd, 1H, J = 4.0, 5.4 Hz), 3.91 (s, 3H), 3.94 (s, 3H ), 3.95 (s, 3H), 4.02 (dd, 1H, J = 2.4, 4.0 Hz), 5.15 (s, 2H), 6.52 (s, 1H), 6.73 (s, 1H), 7.34 (d, 1H, J = 7.0 Hz), 7.41 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 7.57 (d, 2H, J = 7.0 Hz), 7.69 (s, 1H).
<エチル(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル)]ブタ-2-エノアートの製造>
ベンゼン(2 mL)中、臭化亜鉛(135 mg)を10分間加熱還流し、この混合物にベンゼン(4 mL)に溶解させた化合物11b(148 mg)を加えた。25分後反応液を室温に戻し、酢酸エチル(20 mL)で希釈した後、水、飽和食塩水(各々15 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去してアルデヒドの粗生成物を得た。
ジエチルホスホノ酢酸エチル(0.2 mL)を無水テトラヒドロフラン(1 mL)に溶解し、氷冷下水素化ナトリウム(41.3 mg)を加え、室温にて1.5時間撹拌した。その後、無水テトラヒドロフラン(3 mL)に溶解させたアルデヒドを−78℃にて加え、20分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(10 mL)を加え、酢酸エチル(20 mL)で希釈した。有機層を飽和食塩水(10 mL)で洗浄し、さらに水層を酢酸エチル(10 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、エチル(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル)]ブタ-2-エノアート(図2中の化合物12b;101 mg、57%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.27 (t, 3H, J= 7.2 Hz), 3.64 (d, 2H, J= 6.4 Hz), 3.90 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.18 (q, 2H, J= 7.2 Hz), 5.15 (s, 2H), 5.87 (d, 1H, J= 15 Hz), 6.52 (s, 1H), 6.71 (s, 1H), 7.18 (dt, 1H, J= 6.4, 15 Hz), 7.34 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.49 (s, 1H), 7.57 (d, 2H, J= 7.2 Hz).
<Production of ethyl (2E) -4- [5-benzyloxy-4,7,8-trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-enoate>
Zinc bromide (135 mg) in benzene (2 mL) was heated to reflux for 10 minutes, and compound 11b (148 mg) dissolved in benzene (4 mL) was added to the mixture. After 25 minutes, the reaction solution was returned to room temperature, diluted with ethyl acetate (20 mL), and washed with water and saturated brine (15 mL each). The organic layer was dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product of aldehyde.
Ethyl diethylphosphonoacetate (0.2 mL) was dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (1 mL), sodium hydride (41.3 mg) was added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hr. Thereafter, aldehyde dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (3 mL) was added at −78 ° C., and the mixture was stirred for 20 minutes. Saturated aqueous ammonium chloride solution (10 mL) was added to the reaction mixture, and the mixture was diluted with ethyl acetate (20 mL). The organic layer was washed with saturated brine (10 mL), and the aqueous layer was further washed with ethyl acetate (10 mL). The organic layers were combined and dried over anhydrous sodium sulfate. The crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 3: 1), and ethyl (2E) -4- [5-benzyloxy-4,7,8- Trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-enoate (compound 12b in FIG. 2; 101 mg, 57%) was obtained.
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 1.27 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 3.64 (d, 2H, J = 6.4 Hz), 3.90 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 3.94 ( s, 3H), 4.18 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 5.15 (s, 2H), 5.87 (d, 1H, J = 15 Hz), 6.52 (s, 1H), 6.71 (s, 1H), 7.18 (dt, 1H, J = 6.4, 15 Hz), 7.34 (d, 1H, J = 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.49 (s, 1H), 7.57 (d, 2H , J = 7.2 Hz).
<7-((2E)-4-オキシブタ-2-エニル)-4-ベンジルオキシ-1,2,5-トリメトキシナフタレンの製造>
実施例10により得られた化合物12b(36.0 mg)を無水テトラヒドロフラン(1 mL)に溶解し、−78℃にて水素化ジイソブチルアルミニウム(1.01 M、トルエン溶液、0.4 mL)を滴下した。滴下終了後20分間撹拌し、4M 塩酸(10mL)を加えて0℃に戻した。反応液を酢酸エチル(20 mL)で希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(10 mL)、飽和食塩水(5 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、7-((2E)-4-オキシブタ-2-エニル)-4-ベンジルオキシ-1,2,5-トリメトキシナフタレン(図2中の化合物13b;28.7 mg、88%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 3.51 (d, 2H, J= 6.5 Hz), 3.90 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.16 (complex, 2H), 5.15 (s, 2H), 5.78 (dt, 1H, J= 5.7, 15 Hz), 5.94 (dt, 1H, J= 6.5, 15 Hz), 6.57 (s, 1H), 6.69 (s, 1H), 7.34 (d, 1H, J= 6.8 Hz), 7.41 (t, 2H, J= 6.8 Hz), 7.48 (s, 1H), 7.57 (d, 2H, J= 6.8 Hz).
<Production of 7-((2E) -4-oxybut-2-enyl) -4-benzyloxy-1,2,5-trimethoxynaphthalene>
Compound 12b (36.0 mg) obtained in Example 10 was dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (1 mL), and diisobutylaluminum hydride (1.01 M, toluene solution, 0.4 mL) was added dropwise at -78 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 20 minutes, and 4M hydrochloric acid (10 mL) was added to return to 0 ° C. The reaction mixture was diluted with ethyl acetate (20 mL), and washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (10 mL) and saturated brine (5 mL). The organic layer was dehydrated with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel thin layer chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to give 7-((2E)- 4-Oxybut-2-enyl) -4-benzyloxy-1,2,5-trimethoxynaphthalene (
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 3.51 (d, 2H, J = 6.5 Hz), 3.90 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.16 (complex, 2H), 5.15 (s, 2H), 5.78 (dt, 1H, J = 5.7, 15 Hz), 5.94 (dt, 1H, J = 6.5, 15 Hz), 6.57 (s, 1H), 6.69 (s, 1H), 7.34 (d, 1H, J = 6.8 Hz), 7.41 (t, 2H, J = 6.8 Hz), 7.48 (s, 1H), 7.57 (d, 2H, J = 6.8 Hz).
<7-{[(3S,2R)-3-(オキシメチル)オキシラン-2-イル]メチル}-4-ベンジルオキシ-1,2,5-トリメトキシナフタレンの製造>
モレキュラーシーブス4A(粉末、102 mg)にジクロロメタン(1 mL)およびオルトチタン酸テトライソプロピル(215μL)を加えて10分間撹拌した後、−25℃にてジクロロメタン(1 mL)に溶解させたL-(+)-酒石酸ジイソプロピル(0.25 mL)を滴下した。さらに10分後、−20℃にてジクロロメタン(3 mL)に溶解させた化合物13b(28.7 mg)を加えた。−20℃にて15分間撹拌した後、同温度にてt-ブチルヒドロペルオキシド(0.7 mL)を滴下した。さらに−20℃にて1時間撹拌した後、氷冷下10% L-(+)-酒石酸水溶液(3 mL)を加えて1.5時間撹拌した。反応液を酢酸エチル(20 mL)で希釈した後、飽和食塩水(5 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる残渣をジエチルエーテル(2 mL)に溶解し、氷浴中1M 水酸化ナトリウム水溶液(4 mL)を加えた。室温にて2時間撹拌した後、反応液をジエチルエーテル(10 mL)で希釈した。有機層を飽和食塩水(5 mL)にて洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)にて精製し、7-{[(3S,2R)-3-(オキシメチル)オキシラン-2-イル]メチル}-4-ベンジルオキシ-1,2,5-トリメトキシナフタレン(図2中の化合物14b;25.3 mg、85%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 3.02 (d, 2H, J= 5.7 Hz), 3.08 (m, 1H), 3.29 (m. 1H), 3.66 (m, 1H), 3.91 (m, 1H), 3.91 (s, 3H), 3.94 (s, 6H), 5.15 (s, 2H), 6.63 (s, 1H), 6.71 (s, 1H), 7.34 (d, 1H, J= 7.0 Hz), 7.41 (t, 2H, J= 7.0 Hz), 7.52 (s, 1H), 7.57 (d, 2H, J= 7.0 Hz).
<7-{[(3S, 2R) -3- (oxymethyl) oxiran-2-yl] methyl} -4-benzyloxy-1,2,5-trimethoxynaphthalene>
To molecular sieves 4A (powder, 102 mg), dichloromethane (1 mL) and tetraisopropyl orthotitanate (215 μL) were added, stirred for 10 minutes, and then dissolved in dichloromethane (1 mL) at −25 ° C. +)-Diisopropyl tartrate (0.25 mL) was added dropwise. After further 10 minutes,
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 3.02 (d, 2H, J = 5.7 Hz), 3.08 (m, 1H), 3.29 (m. 1H), 3.66 (m, 1H), 3.91 (m, 1H), 3.91 (s, 3H), 3.94 (s, 6H), 5.15 (s, 2H), 6.63 (s, 1H), 6.71 (s, 1H), 7.34 (d, 1H, J = 7.0 Hz), 7.41 (t , 2H, J = 7.0 Hz), 7.52 (s, 1H), 7.57 (d, 2H, J = 7.0 Hz).
<(3R)-4-(5-ヒドロキシ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル))ブタン-1,3-ジオールの製造>
実施例12により得られた化合物14b(14.0 mg)を無水テトラヒドロフラン(3 mL)に溶解し、−78℃にてRed-Al(65 wt%、トルエン溶液、0.2 mL)を滴下した。滴下終了後4時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液(15 mL)を加えて0℃に戻した。反応液を酢酸エチル(20 mL)で希釈した後、水(10 mL)、飽和食塩水(5 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製し、(3R)-4-(5-ヒドロキシ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル))ブタン-1,3-ジオール(図2中の化合物15b(8.1 mg、74%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 1.82 (copmplex, 2H), 2.89 (complex, 2H), 3.88 (s, 3H), 3.90 (complex, 2H), 3.93 (s, 3H), 4.04 (s, 3H), 4.18 (m, 1H), 6.52 (s, 1H), 6.64 (s, 1H), 7.47 (s, 1H), 9.15 (s, 1H).
<Production of (3R) -4- (5-hydroxy-4,7,8-trimethoxy (2-naphthyl)) butane-1,3-diol>
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 1.82 (copmplex, 2H), 2.89 (complex, 2H), 3.88 (s, 3H), 3.90 (complex, 2H), 3.93 (s, 3H), 4.04 (s, 3H ), 4.18 (m, 1H), 6.52 (s, 1H), 6.64 (s, 1H), 7.47 (s, 1H), 9.15 (s, 1H).
<6-[((4R)-2,2-ジメチル(1,3-ジオキサン-4-イル))メチル]3,4,8-トリメトキシナフトールの製造>
実施例13により得られた化合物15b(8.1 mg)に2,2-ジメトキシプロパン(1 mL)および(±)-カンファー-10-スルホン酸(10 mg)を加え、室温にて10分間撹拌した。反応液を酢酸エチル(10 mL)にて希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(10 mL)、飽和食塩水(5 mL)にて洗浄後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、6-[((4R)-2,2-ジメチル(1,3-ジオキサン-4-イル))メチル]3,4,8-トリメトキシナフトール(図2中の化合物16b;8.7 mg、96%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 1.43 (s, 3H), 1.47 (s, 3H), 1.70 (copmplex, 2H), 2.76 (dd, 1H, J= 6.2, 14 Hz), 2.98 (dd, 1H, J= 6.2, 14 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.90 (complex, 2H), 3.93 (s, 3H), 4.04 (s, 3H), 4.16 (m, 1H), 6.58 (s, 1H), 6.63 (s, 1H), 7.46 (s, 1H), 9.17 (s, 1H).
<Production of 6-[((4R) -2,2-dimethyl (1,3-dioxan-4-yl)) methyl] 3,4,8-trimethoxynaphthol>
2,2-Dimethoxypropane (1 mL) and (±) -camphor-10-sulfonic acid (10 mg) were added to
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 1.43 (s, 3H), 1.47 (s, 3H), 1.70 (copmplex, 2H), 2.76 (dd, 1H, J = 6.2, 14 Hz), 2.98 (dd, 1H , J = 6.2, 14 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.90 (complex, 2H), 3.93 (s, 3H), 4.04 (s, 3H), 4.16 (m, 1H), 6.58 (s, 1H) , 6.63 (s, 1H), 7.46 (s, 1H), 9.17 (s, 1H).
<7-[((4R)-2,2-ジメチル(1,3-ジオキサン-4-イル))メチル]-2,5-ジメトキシナフタレン-1,4-ジオンの製造>
実施例14により得られた化合物16b(8.7 mg)を1,4-ジオキサン(0.8 mL)に溶解し、氷浴中、水(0.2 mL)、DDQ(27.5 mg)を加えた。室温にて15分間撹拌した後、反応液を酢酸エチル(10 mL)にて希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水(各々5 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(クロロホルム:酢酸エチル=1/2)にて精製し、7-[((4R)-2,2-ジメチル(1,3-ジオキサン-4-イル))メチル]-2,5-ジメトキシナフタレン-1,4-ジオン(図2中の化合物17b(化合物B);7.4 mg、89%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 1.38 (s, 3H), 1.42 (s, 3H), 1.64 (copmplex, 2H), 2.79 (dd, 1H, J= 6.0, 14 Hz), 2.91 (dd, 1H, J= 6.0, 14 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.90 (complex, 2H), 3.99 (s, 3H), 4.13 (m, 1H), 6.07 (s, 1H), 7.23 (s, 1H), 7.64 (s, 1H).
<Production of 7-[((4R) -2,2-dimethyl (1,3-dioxane-4-yl)) methyl] -2,5-dimethoxynaphthalene-1,4-dione>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 1.38 (s, 3H), 1.42 (s, 3H), 1.64 (copmplex, 2H), 2.79 (dd, 1H, J = 6.0, 14 Hz), 2.91 (dd, 1H , J = 6.0, 14 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.90 (complex, 2H), 3.99 (s, 3H), 4.13 (m, 1H), 6.07 (s, 1H), 7.23 (s, 1H) , 7.64 (s, 1H).
<8-ベンジルオキシ-2-ブロモ-3-ヒドロキシメチル-5,6-ジメトキシナフトールの製造>
実施例4により得られた化合物6b(2.42 g)を無水テトラヒドロフラン(50 mL)に溶解し、0℃において臭化水素酸ペルブロミドピリジン錯体(Pyr・HBr3)(2.52 g)を加えた。1時間撹拌した後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液(30 mL)を加え、反応液を酢酸エチル(100 mL)で希釈した。これを飽和食塩水(20 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、黄褐色針状晶として8-ベンジルオキシ-2-ブロモ-3-ヒドロキシメチル-5,6-ジメトキシナフトール(図3中の化合物18b;2.60 g、87%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 2.25 (br, 1H), 3.90 (s, 3H), 3.97 (s, 3H), 4.85 (s, 2H), 5.26 (s, 2H), 6.74 (s, 1H), 7.44-7.47 (complex, 5H), 7.65 (s, 1H), 9.99 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, DMSO-d6) δ 56.7, 56.9, 60.4, 63.1, 63.8, 71.4, 97.7, 99.6, 101.4, 109.5, 128.3, 128.5, 128.7, 128.9, 135.5, 136.0, 140.1, 148.2, 149.7, 150.1.
IR (disk) 3504, 3354, 3056, 2972, 2940, 2881, 2360, 1612 cm-1.
m.p. 165℃ dec. (hexane-EtOAc)
<Production of 8-benzyloxy-2-bromo-3-hydroxymethyl-5,6-dimethoxynaphthol>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 2.25 (br, 1H), 3.90 (s, 3H), 3.97 (s, 3H), 4.85 (s, 2H), 5.26 (s, 2H), 6.74 (s, 1H ), 7.44-7.47 (complex, 5H), 7.65 (s, 1H), 9.99 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, DMSO-d 6 ) δ 56.7, 56.9, 60.4, 63.1, 63.8, 71.4, 97.7, 99.6, 101.4, 109.5, 128.3, 128.5, 128.7, 128.9, 135.5, 136.0, 140.1, 148.2, 149.7, 150.1.
IR (disk) 3504, 3354, 3056, 2972, 2940, 2881, 2360, 1612 cm -1 .
mp 165 ° C dec. (hexane-EtOAc)
<5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4-ヒドロキシ-7,8-ジメトキシナフタレン-2-カルバルデヒドの製造>
実施例16により得られた化合物18b(1.35 g)をジクロロメタン(10 mL)に溶解し、室温にてジメチルスルホキシド(9 mL)、トリエチルアミン(2.7 mL)、三酸化硫黄ピリジン錯体(SO3・Pyr)(1.51 g)を順次加えた。20分後、反応液をクロロホルム(200 mL)で希釈し、氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液(50 mL)を加えた。有機層を飽和食塩水(30 mL)にて洗浄し、さらに水層をクロロホルム(100 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)にて精製し、黄色針状晶として5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4-ヒドロキシ-7,8-ジメトキシナフタレン-2-カルバルデヒド(図3中の化合物19b;1.24 g、93%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 3.92 (s, 3H), 3.97 (s, 3H), 5.27 (s, 2H), 6.85 (s, 1H), 7.44-7.47 (complex, 5H), 8.17 (s, 1H), 10.09 (s, 1H), 10.48 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 57.1, 61.5, 72.6, 99.6, 99.8, 103.1, 116.2, 116.3, 128.2, 129.1, 129.2, 131.9, 134.0, 134.3, 148.7, 150.6, 151.6, 151.7, 192.3.
IR (disk) 3303, 2950, 1703, 1606 cm-1.
m.p. 174℃ dec. (hexane-EtOAc)
<Production of 5-benzyloxy-3-bromo-4-hydroxy-7,8-dimethoxynaphthalene-2-carbaldehyde>
Compound 18b (1.35 g) obtained in Example 16 was dissolved in dichloromethane (10 mL), and dimethyl sulfoxide (9 mL), triethylamine (2.7 mL), sulfur trioxide pyridine complex (SO 3 · Pyr) was dissolved at room temperature. (1.51 g) was added sequentially. After 20 minutes, the reaction mixture was diluted with chloroform (200 mL), and saturated aqueous ammonium chloride solution (50 mL) was added under ice cooling. The organic layer was washed with saturated brine (30 mL), and the aqueous layer was further washed with chloroform (100 mL). The organic layers were combined and dried over anhydrous sodium sulfate. The crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (chloroform) to give 5-benzyloxy-3-bromo-4-hydroxy-7,8-dimethoxynaphthalene-2 as yellow needles. Carbaldehyde (
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 3.92 (s, 3H), 3.97 (s, 3H), 5.27 (s, 2H), 6.85 (s, 1H), 7.44-7.47 (complex, 5H), 8.17 (s , 1H), 10.09 (s, 1H), 10.48 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 57.1, 61.5, 72.6, 99.6, 99.8, 103.1, 116.2, 116.3, 128.2, 129.1, 129.2, 131.9, 134.0, 134.3, 148.7, 150.6, 151.6, 151.7, 192.3.
IR (disk) 3303, 2950, 1703, 1606 cm -1 .
mp 174 ℃ dec. (hexane-EtOAc)
<5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4,7,8-トリメトキシナフタレン-2-カルバデヒドの製造>
実施例17により得られた化合物19b(449 mg)をジメチルホルムアミド(10 mL)に溶解し、0℃にて炭酸カリウム(463 mg)およびヨウ化メチル(0.3 mL)を加えた。室温にて1時間撹拌した後、反応液を酢酸エチル(50 mL)で希釈した。有機層を飽和食塩水(10 mL)で洗浄し、さらに水層を酢酸エチル(30 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、黄色板状晶として5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4,7,8-トリメトキシナフタレン-2-カルバデヒド(図3中の化合物20b;437 mg、94%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 3.80 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 3.96 (s, 3H), 5.20 (s, 2H), 6.91 (s, 1H), 7.38 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.43 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J= 7.2 Hz), 8.50 (s, 1H), 10.50 (s, 1H).
13CNMR (100.40 MHz, CDCl3) δ 56.9, 61.5, 61.9, 62.0, 62.1, 72.8, 100.5, 103.3, 113.8, 119.6, 121.4, 127.7, 128.1, 128.6, 129.9, 131.5, 136.3, 138.9, 149.0, 151.0, 154.1, 192.2.
IR (disk) 2943, 2848, 1687, 1612, 1577 cm-1.
m.p. 129-130℃ (hexane-EtOAc)
<Production of 5-benzyloxy-3-bromo-4,7,8-trimethoxynaphthalene-2-carbaldehyde>
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 3.80 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 3.96 (s, 3H), 5.20 (s, 2H), 6.91 (s, 1H), 7.38 (d, 1H , J = 7.2 Hz), 7.43 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 8.50 (s, 1H), 10.50 (s, 1H).
13 CNMR (100.40 MHz, CDCl 3 ) δ 56.9, 61.5, 61.9, 62.0, 62.1, 72.8, 100.5, 103.3, 113.8, 119.6, 121.4, 127.7, 128.1, 128.6, 129.9, 131.5, 136.3, 138.9, 149.0, 151.0, 154.1, 192.2.
IR (disk) 2943, 2848, 1687, 1612, 1577 cm -1 .
mp 129-130 ° C (hexane-EtOAc)
<8-ベンジルオキシ-2-ブロモ-1,5,6-トリメトキシ-3-オキシラン-2-イルナフタレンの製造>
水素化ナトリウム(517 mg)にジメチルスルホキシド(5 mL)を加え、室温で2時間撹拌した後、反応液を無水テトラヒドロフラン(50 mL)で希釈した。その後、0℃にてジメチルスルホキシド(10 mL)に溶解させたヨウ化トリメチルスルホニウム(2.75 g)を加え、さらに40分後、ジメチルスルホキシド(25 mL)に溶解させた化合物20(1.89 g)を加えて45分撹拌した。反応液を酢酸エチル(50 mL)で希釈した後、飽和塩化アンモニウム水溶液(30 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製し、淡黄色針状晶として8-ベンジルオキシ-2-ブロモ-1,5,6-トリメトキシ-3-オキシラン-2-イルナフタレン(図3中の化合物21b;1.77 g、92%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.72 (dd, 1H, J= 2.8, 6.0 Hz), 3.25 (dd, 1H, J= 4.0, 6.0 Hz), 3.78 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 4.26 (dd, 1H, J= 2.8, 4.0 Hz), 5.18 (s, 2H), 6.78 (s, 1H), 7.37 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.43 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J= 7.2 Hz), 7.79 (s, 1H).
13CNMR (100.40 MHz, CDCl3) δ 51.1, 52.9, 56.9, 61.2, 61.9, 72.6, 100.4, 100.5, 113.5, 114.4, 116.7, 127.7, 128.0, 128.5, 130.8, 136.1, 136.6, 137.3, 143.9, 148.6, 151.1, 153.2.
IR (disk) 2931, 2858, 1612, 1593, 1574 cm-1.
m.p. 133-134℃ (hexane-EtOAc)
<Production of 8-benzyloxy-2-bromo-1,5,6-trimethoxy-3-oxirane-2-ylnaphthalene>
Dimethyl sulfoxide (5 mL) was added to sodium hydride (517 mg), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hr. The reaction mixture was diluted with anhydrous tetrahydrofuran (50 mL). Thereafter, trimethylsulfonium iodide (2.75 g) dissolved in dimethyl sulfoxide (10 mL) was added at 0 ° C., and further 40 minutes later, Compound 20 (1.89 g) dissolved in dimethyl sulfoxide (25 mL) was added. And stirred for 45 minutes. The reaction solution was diluted with ethyl acetate (50 mL) and then washed with a saturated aqueous ammonium chloride solution (30 mL). The organic layer was dehydrated with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting crude product was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give 8- Benzyloxy-2-bromo-1,5,6-trimethoxy-3-oxiran-2-ylnaphthalene (
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 2.72 (dd, 1H, J = 2.8, 6.0 Hz), 3.25 (dd, 1H, J = 4.0, 6.0 Hz), 3.78 (s, 3H), 3.89 (s, 3H ), 3.95 (s, 3H), 4.26 (dd, 1H, J = 2.8, 4.0 Hz), 5.18 (s, 2H), 6.78 (s, 1H), 7.37 (d, 1H, J = 7.2 Hz), 7.43 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 7.79 (s, 1H).
13 CNMR (100.40 MHz, CDCl 3 ) δ 51.1, 52.9, 56.9, 61.2, 61.9, 72.6, 100.4, 100.5, 113.5, 114.4, 116.7, 127.7, 128.0, 128.5, 130.8, 136.1, 136.6, 137.3, 143.9, 148.6, 151.1, 153.2.
IR (disk) 2931, 2858, 1612, 1593, 1574 cm -1 .
mp 133-134 ° C (hexane-EtOAc)
<エチル(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル)]ブタ-2-エノアートの製造>
ベンゼン(17 mL)中、臭化亜鉛(708 mg)を40分間加熱還流し、この混合物にベンゼン(10 mL)に溶解させた化合物21b(468 mg)を加えた。20分後反応液を室温に戻し、酢酸エチル(30 mL)で希釈した後、水、飽和食塩水(各々20 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去してアルデヒドの粗生成物を得た。
ジエチルホスホノ酢酸エチル(1.1 mL)を無水テトラヒドロフラン(10 mL)に溶解し、氷冷下、水素化ナトリウム(216 mg)を加え、室温にて1.5時間撹拌した。その後、無水テトラヒドロフラン(10 mL)に溶解させたアルデヒドを−78℃にて加え、25分間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(20 mL)を加え、酢酸エチル(30 mL)で希釈した。有機層を飽和食塩水(10 mL)で洗浄し、さらに水層を酢酸エチル(20 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、エチル(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル)]ブタ-2-エノアート(図3中の化合物22b;462 mg、85%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 1.27 (t, 3H, J= 7.0 Hz), 3.77 (s, 3H), 3.82 (d, 2H, J= 6.2 Hz), 3.90 (s, 3H), 3.95 (s, 3H), 4.18 (q, 2H, J= 7.0 Hz), 5.18 (s, 2H), 5.81 (d, 1H, J= 16 Hz), 7.18 (dt, 1H, J= 6.2, 16 Hz), 7.36 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J= 7.2 Hz), 7.74 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 14.3, 39.5, 56.8, 60.2, 61.1, 61.8, 72.5, 100.1, 116.1, 116.3, 118.4, 122.7, 127.6, 127.9, 128.4, 130.3, 130.5, 136.4, 136.5, 136.7, 140.1, 145.7, 148.4, 151.0, 153.7, 166.2.
IR (film) 2937, 2846, 1716, 1614, 1591, 1573 cm-1.
<Production of ethyl (2E) -4- [5-benzyloxy-3-bromo-4,7,8-trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-enoate>
Zinc bromide (708 mg) in benzene (17 mL) was heated to reflux for 40 minutes, and
Ethyl diethylphosphonoacetate (1.1 mL) was dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (10 mL), sodium hydride (216 mg) was added under ice cooling, and the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hr. Thereafter, an aldehyde dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (10 mL) was added at −78 ° C., and the mixture was stirred for 25 minutes. Saturated aqueous ammonium chloride solution (20 mL) was added to the reaction mixture, and the mixture was diluted with ethyl acetate (30 mL). The organic layer was washed with saturated brine (10 mL), and the aqueous layer was further washed with ethyl acetate (20 mL). The organic layers were combined and dried over anhydrous sodium sulfate. The crude product obtained by concentrating the solvent under reduced pressure was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 3: 1) to give ethyl (2E) -4- [5-benzyloxy-3-bromo-4, 7,8-trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-enoate (
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 1.27 (t, 3H, J = 7.0 Hz), 3.77 (s, 3H), 3.82 (d, 2H, J = 6.2 Hz), 3.90 (s, 3H), 3.95 ( s, 3H), 4.18 (q, 2H, J = 7.0 Hz), 5.18 (s, 2H), 5.81 (d, 1H, J = 16 Hz), 7.18 (dt, 1H, J = 6.2, 16 Hz), 7.36 (d, 1H, J = 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 7.74 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 14.3, 39.5, 56.8, 60.2, 61.1, 61.8, 72.5, 100.1, 116.1, 116.3, 118.4, 122.7, 127.6, 127.9, 128.4, 130.3, 130.5, 136.4, 136.5, 136.7, 140.1, 145.7, 148.4, 151.0, 153.7, 166.2.
IR (film) 2937, 2846, 1716, 1614, 1591, 1573 cm -1 .
<(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル)]ブタ-2-エン-1-オールの製造>
実施例20により得られた化合物22b(147 mg)を無水テトラヒドロフラン(3 mL)に溶解し、−78℃にて水素化ジイソブチルアルミニウム(1.01 M、トルエン溶液、1.5 mL)を滴下した。滴下終了後35分間撹拌し、4M 塩酸(10 mL)を加えて0℃に戻した。反応液を酢酸エチル(20 mL)で希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(10 mL)、飽和食塩水(5 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、淡黄色板状晶として(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル)]ブタ-2-エン-1-オール(図3中の化合物23b;125 mg、93%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 1.82 (br, 1H), 3.66 (d, 2H, J= 6.2 Hz), 3.77 (s, 3H), 3.90 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.13 (q, 2H, J= 5.4 Hz), 5.17 (s, 2H), 5.75 (dt, 1H, J= 5.4, 16 Hz), 5.95 (dt, 1H, J= 6.2, 16 Hz), 6.74 (s, 1H), 7.37 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J= 7.2 Hz), 7.73 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 39.6, 56.8, 61.1, 61.7, 63.4, 63.5, 72.5, 99.8, 115.8, 116.6, 117.7, 127.6, 127.8, 128.3, 129.5, 129.6, 130.5, 131.0, 131.1, 136.7, 138.5, 148.2, 151.0, 153.3.
IR (disk) 3521, 2902, 2860, 1614, 1589, 1574 cm-1.
m.p. 104-105℃ (hexane-EtOAc)
<Production of (2E) -4- [5-benzyloxy-3-bromo-4,7,8-trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-en-1-ol>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 1.82 (br, 1H), 3.66 (d, 2H, J = 6.2 Hz), 3.77 (s, 3H), 3.90 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.13 (q, 2H, J = 5.4 Hz), 5.17 (s, 2H), 5.75 (dt, 1H, J = 5.4, 16 Hz), 5.95 (dt, 1H, J = 6.2, 16 Hz), 6.74 (s , 1H), 7.37 (d, 1H, J = 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 7.73 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 39.6, 56.8, 61.1, 61.7, 63.4, 63.5, 72.5, 99.8, 115.8, 116.6, 117.7, 127.6, 127.8, 128.3, 129.5, 129.6, 130.5, 131.0, 131.1, 136.7, 138.5, 148.2, 151.0, 153.3.
IR (disk) 3521, 2902, 2860, 1614, 1589, 1574 cm -1 .
mp 104-105 ° C (hexane-EtOAc)
<1-{(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル) ]ブタ-2-エニルオキシ}-1,1,2,2-テトラメチル-1-シラプロパンの製造>
実施例21により得られた化合物23b(125 mg)をジメチルホルムアミド(3 mL)に溶解し、0℃にてイミダゾール(180 mg)、塩化t-ブチルジメチルシリル(215 mg)を順次加え、15分間撹拌した。反応液を酢酸エチル(15 mL)で希釈した後、飽和食塩水(10 mL)で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧濃縮して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、1-{(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ブロモ-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル) ]ブタ-2-エニルオキシ}-1,1,2,2-テトラメチル-1-シラプロパン(図3中の化合物24b;149 mg、96%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.07 (s, 6H), 0.90 (s, 9H), 3.65 (d, 2H, J= 6.8 Hz), 3.76 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.19 (q, 2H, J= 5.2 Hz), 5.18 (s, 2H), 5.67 (dt, 1H, J= 5.2, 15 Hz), 5.93 (dt, 1H, J= 6.8, 15 Hz), 6.74 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J= 7.2 Hz), 7.73 (s, 1H).
13CNMR (100.40 MHz, CDCl3) δ -5.0, 18.5, 25.7, 26.0, 39.6, 56.9, 61.3, 61.7, 63.7, 72.6, 99.9, 115.9, 116.8, 117.7, 127.6, 127.7, 127.9, 128.5, 130.6, 131.6, 135.3, 136.8, 137.0, 139.0, 148.2, 151.1.
IR (film) 2931, 2894, 2854, 1614, 1591, 1576 cm-1.
<1-{(2E) -4- [5-Benzyloxy-3-bromo-4,7,8-trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-enyloxy} -1,1,2,2-tetramethyl -1-Production of Silapropane>
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.07 (s, 6H), 0.90 (s, 9H), 3.65 (d, 2H, J = 6.8 Hz), 3.76 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.19 (q, 2H, J = 5.2 Hz), 5.18 (s, 2H), 5.67 (dt, 1H, J = 5.2, 15 Hz), 5.93 (dt, 1H, J = 6.8, 15 Hz), 6.74 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J = 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 7.73 (s , 1H).
13 CNMR (100.40 MHz, CDCl 3 ) δ -5.0, 18.5, 25.7, 26.0, 39.6, 56.9, 61.3, 61.7, 63.7, 72.6, 99.9, 115.9, 116.8, 117.7, 127.6, 127.7, 127.9, 128.5, 130.6, 131.6 , 135.3, 136.8, 137.0, 139.0, 148.2, 151.1.
IR (film) 2931, 2894, 2854, 1614, 1591, 1576 cm -1 .
<(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ヒドロキシペンチル-4,7,8-トリメトキシ (2-ナフチル)]ブタ-2-エン-1-オールの製造>
実施例22により得られた化合物24b(1.06 g)を無水テトラヒドロフラン(30 mL)に溶解し、−78℃にてn-ブチルリチウム(1.57 M、ヘキサン溶液、3.4 mL)を滴下した。さらにn-バレルアルデヒド(1.0 mL)を加え、10分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(15 mL)を加え0℃に戻し、酢酸エチル(30 mL)で希釈した後飽和食塩水(10 mL)で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧濃縮して二級アルコールの粗生成物を得た。
二級アルコールを無水テトラヒドロフラン(20 mL)に溶解し、0℃にてフッ化テトラn-ブチルアンモニウム(1.0 M、テトラヒドロフラン溶液、9.0 mL)を加えた。室温で1.5時間撹拌した後、反応液を酢酸エチル(30 mL)で希釈した。水(10 mL)、飽和食塩水(5 mL)で洗浄した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ヒドロキシペンチル-4,7,8-トリメトキシ (2-ナフチル)]ブタ-2-エン-1-オール(図3中の化合物25b;693 mg、80%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 0.92 (t, 3H, J= 6.2 Hz), 1.37-1.39 (complex, 2H), 1.63-1.80 (complex, 2H), 1.92-2.04 (complex, 2H), 3.57 (d, 2H, J= 5.4 Hz), 3.80 (s, 3H), 3.90 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 4.09 (d, 2H, J= 5.6 Hz), 4.99 (m, 1H), 5.15 (d, 2H, J= 12 Hz), 5.64 (dt, 1H, J= 5.6, 15 Hz), 5.91 (dt, 1H, J= 5.4, 15 Hz), 6.73 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.41 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.53 (d, 2H, J= 7.2 Hz), 7.65 (s, 1H).
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 14.2, 22.8, 29.2, 36.6, 39.0, 50.3, 56.9, 61.1, 63.4, 64.0, 71.1, 72.9, 100.3, 113.7, 115.1, 118.2, 127.4, 127.8, 128.4, 130.7, 131.0, 131.2, 136.8, 136.9, 137.0, 147.9, 151.1, 154.8, 163.6.
IR (film) 3408, 2933, 2858, 1620, 1574 cm-1.
<Production of (2E) -4- [5-benzyloxy-3-hydroxypentyl-4,7,8-trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-en-1-ol>
The secondary alcohol was dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (20 mL), and tetra n-butylammonium fluoride (1.0 M, tetrahydrofuran solution, 9.0 mL) was added at 0 ° C. After stirring at room temperature for 1.5 hours, the reaction mixture was diluted with ethyl acetate (30 mL). After washing with water (10 mL) and saturated brine (5 mL), the organic layer was dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting crude product was subjected to silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate). = 3: 1) and purified by (2E) -4- [5-benzyloxy-3-hydroxypentyl-4,7,8-trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-en-1-ol (
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 0.92 (t, 3H, J = 6.2 Hz), 1.37-1.39 (complex, 2H), 1.63-1.80 (complex, 2H), 1.92-2.04 (complex, 2H), 3.57 (d, 2H, J = 5.4 Hz), 3.80 (s, 3H), 3.90 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 4.09 (d, 2H, J = 5.6 Hz), 4.99 (m, 1H) , 5.15 (d, 2H, J = 12 Hz), 5.64 (dt, 1H, J = 5.6, 15 Hz), 5.91 (dt, 1H, J = 5.4, 15 Hz), 6.73 (s, 1H), 7.36 ( d, 1H, J = 7.2 Hz), 7.41 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.53 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 7.65 (s, 1H).
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 14.2, 22.8, 29.2, 36.6, 39.0, 50.3, 56.9, 61.1, 63.4, 64.0, 71.1, 72.9, 100.3, 113.7, 115.1, 118.2, 127.4, 127.8, 128.4, 130.7, 131.0, 131.2, 136.8, 136.9, 137.0, 147.9, 151.1, 154.8, 163.6.
IR (film) 3408, 2933, 2858, 1620, 1574 cm -1 .
<7-((2E)-4-ヒドロキシブタ-2-エニル)-6-ヒドロキシペンチル-2,5-ジメトキシナフタレン-1,4-ジオンの製造>
実施例23により得られた化合物25b(28.7 mg)をジクロロメタン(2 mL)に溶解し、0℃にて水(1 mL)、t-ブチルアルコール(1 mL)、DDQ (43.4 mg)を順次加えた。45分撹拌した後、反応液をクロロホルム(20 mL)で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(10 mL)を加えた。有機層を飽和食塩水(10 mL)にて洗浄し、さらに水層をクロロホルム(20 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製し、7-((2E)-4-ヒドロキシブタ-2-エニル)-6-ヒドロキシペンチル-2,5-ジメトキシナフタレン-1,4-ジオン(図3中の化合物26b(化合物C);17.2 mg、77%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.89 (t, 3H, J= 7.2 Hz), 1.24-1.40 (complex, 2H), 1.57-1.72 (complex, 2H), 1.88-1.97 (complex, 2H), 3.52 (d, 2H, J= 6.0 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.92 (s, 3H), 4.09 (d, 2H, J= 5.4 Hz), 4.95 (m, 1H), 5.63 (dt, 1H, J= 5.6, 15 Hz), 5.81 (dt, 1H, J= 6.0, 15 Hz), 6.06 (s, 1H), 7.74 (s, 1H).
13CNMR (100.40 MHz, CDCl3) δ 14.1, 22.6, 28.8, 36.4, 37.7, 56.3, 63.1, 63.4, 70.6, 111.7, 121.7, 125.2, 128.7, 131.7, 131.9, 144.2, 144.6, 158.7, 159.1, 179.7, 183.8.
IR (film) 3434, 2933, 1644, 1620, 1581 cm-1.
<Production of 7-((2E) -4-hydroxybut-2-enyl) -6-hydroxypentyl-2,5-dimethoxynaphthalene-1,4-dione>
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.89 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.24-1.40 (complex, 2H), 1.57-1.72 (complex, 2H), 1.88-1.97 (complex, 2H), 3.52 (d, 2H, J = 6.0 Hz), 3.86 (s, 3H), 3.92 (s, 3H), 4.09 (d, 2H, J = 5.4 Hz), 4.95 (m, 1H), 5.63 (dt, 1H, J = 5.6, 15 Hz), 5.81 (dt, 1H, J = 6.0, 15 Hz), 6.06 (s, 1H), 7.74 (s, 1H).
13 CNMR (100.40 MHz, CDCl 3 ) δ 14.1, 22.6, 28.8, 36.4, 37.7, 56.3, 63.1, 63.4, 70.6, 111.7, 121.7, 125.2, 128.7, 131.7, 131.9, 144.2, 144.6, 158.7, 159.1, 179.7, 183.8.
IR (film) 3434, 2933, 1644, 1620, 1581 cm -1 .
<(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ヒドロキシペンチル-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル) ]ブタ-2-エニルアセテートの製造>
実施例23により得られた化合物25b(111 mg)をジクロロメタン(5 mL)に溶解し、氷浴中、ピリジン(36 μL)および無水酢酸(15μL)を加えた。室温で2日撹拌した後、溶媒をトルエン共沸により減圧留去して得られる残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製し、(2E)-4-[5-ベンジルオキシ-3-ヒドロキシペンチル-4,7,8-トリメトキシ(2-ナフチル) ]ブタ-2-エニルアセテート(図4中の化合物27b;70.5 mg、58%)、および未反応の化合物25b(38.2 mg、34%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.93 (t, 3H, J= 6.8 Hz), 1.34-1.44, (complex, 4H), 1.63-1.83 (complex, 2H), 2.04 (s, 3H), 3.62 (d, 2H, J= 6.4 Hz), 3.80 (s, 3H), 3.90 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.55 (d, 2H, J= 6.4 Hz), 5.01 (m, 1H), 5.12 (d, 1H, J= 11 Hz), 5.19 (d, 1H, J= 11 Hz), 5.61 (dt, 1H, J= 6.4, 15 Hz), 6.01 (dt, 1H, J= 6.0, 15 Hz), 6.74 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J= 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J= 7.2 Hz), 7.53 (d, 2H, J= 7.2 Hz), 7.66 (s, 1H)
13CNMR (100.40 MHz, CDCl3) δ 14.2, 21.0, 22.7, 29.2, 36.4, 38.9, 56.9, 61.0, 63.9, 64.8, 70.9, 72.8, 100.2, 115.0, 118.3, 125.4, 127.4, 127.8, 128.2, 128.4, 130.9, 131.2, 134.2, 136.6, 136.8, 137.0, 147.9, 151.1, 154.8, 170.6.
IR (film) 3480, 2933, 2857, 1739, 1620, 1573 cm-1
<Production of (2E) -4- [5-benzyloxy-3-hydroxypentyl-4,7,8-trimethoxy (2-naphthyl)] but-2-enyl acetate>
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.93 (t, 3H, J = 6.8 Hz), 1.34-1.44, (complex, 4H), 1.63-1.83 (complex, 2H), 2.04 (s, 3H), 3.62 ( d, 2H, J = 6.4 Hz), 3.80 (s, 3H), 3.90 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 4.55 (d, 2H, J = 6.4 Hz), 5.01 (m, 1H), 5.12 (d, 1H, J = 11 Hz), 5.19 (d, 1H, J = 11 Hz), 5.61 (dt, 1H, J = 6.4, 15 Hz), 6.01 (dt, 1H, J = 6.0, 15 Hz ), 6.74 (s, 1H), 7.36 (d, 1H, J = 7.2 Hz), 7.42 (t, 2H, J = 7.2 Hz), 7.53 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 7.66 (s, 1H )
13 CNMR (100.40 MHz, CDCl 3 ) δ 14.2, 21.0, 22.7, 29.2, 36.4, 38.9, 56.9, 61.0, 63.9, 64.8, 70.9, 72.8, 100.2, 115.0, 118.3, 125.4, 127.4, 127.8, 128.2, 128.4, 130.9, 131.2, 134.2, 136.6, 136.8, 137.0, 147.9, 151.1, 154.8, 170.6.
IR (film) 3480, 2933, 2857, 1739, 1620, 1573 cm -1
<(2E)-4-[3-ヒドロキシペンチル-4,7-ジメトキシ-5,8-ジオキソ(2-ナフチル)]ブタ-2-エニルアセテートの製造>
実施例25により得られた化合物27b(60.4 mg)をジクロロメタン(4 mL)に溶解し、0℃にて水(2 mL)、t-ブチルアルコール(2 mL)、DDQ(83.4 mg)を順次加えた。20分間撹拌した後、反応液をクロロホルム(20 mL)で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(15 mL)を加えた。有機層を飽和食塩水(10 mL)にて洗浄し、さらに水層をクロロホルム(10 mL)で洗浄した後、有機層を合し無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製し、(2E)-4-[3-ヒドロキシペンチル-4,7-ジメトキシ-5,8-ジオキソ(2-ナフチル)]ブタ-2-エニルアセテート(図4中の化合物28b;37.4 mg、78%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.90 (t, 3H, J= 7.2 Hz), 1.28-1.37, (complex, 4H), 1.57-1.68 (complex, 2H), 2.03 (s, 3H), 3.56 (d, 2H, J= 6.4 Hz), 3.85 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 4.51 (d, 2H, J= 6.0 Hz), 4.94 (m, 1H), 5.58 (dt, 1H, J= 6.4, 15 Hz), 5.88 (dt, 1H, J= 6.0, 15 Hz), 6.06 (s, 1H), 7.74 (s, 1H)
13CNMR (100.40 MHz, CDCl3) δ 14.1, 20.9, 22.6, 28.8, 36.3, 37.7, 56.3, 63.4, 64.4, 70.5, 111.7, 125.1, 126.6, 126.8, 127.4, 128.4, 131.7, 132.1, 144.3, 158.7, 170.6. 179.6, 183.7.
IR (film) 3502, 2935, 1737, 1683, 1648, 1619 cm-1
<Production of (2E) -4- [3-hydroxypentyl-4,7-dimethoxy-5,8-dioxo (2-naphthyl)] but-2-enyl acetate>
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.90 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.28-1.37, (complex, 4H), 1.57-1.68 (complex, 2H), 2.03 (s, 3H), 3.56 ( d, 2H, J = 6.4 Hz), 3.85 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 4.51 (d, 2H, J = 6.0 Hz), 4.94 (m, 1H), 5.58 (dt, 1H, J = 6.4, 15 Hz), 5.88 (dt, 1H, J = 6.0, 15 Hz), 6.06 (s, 1H), 7.74 (s, 1H)
13 CNMR (100.40 MHz, CDCl 3 ) δ 14.1, 20.9, 22.6, 28.8, 36.3, 37.7, 56.3, 63.4, 64.4, 70.5, 111.7, 125.1, 126.6, 126.8, 127.4, 128.4, 131.7, 132.1, 144.3, 158.7, 170.6. 179.6, 183.7.
IR (film) 3502, 2935, 1737, 1683, 1648, 1619 cm -1
<(2E)-4-[4-ヒドロキシ-3-ヒドロキシペンチル-7-メトキシ-5,8-ジオキソ(2-ナフチル)]ブタ-2-エニルアセテートの製造>
三臭化ホウ素(1M、ジクロロメタン溶液、0.22 mL)をジクロロメタン(5 mL)に溶解し、−78℃にてジクロロメタン(3.5 mL)に溶解させた化合物28b(83.2 mg)を加えて25分間撹拌した。反応液をクロロホルム(15 mL)で希釈した後、水、飽和食塩水(各々10 mL)で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)にて精製し、(2E)-4-[4-ヒドロキシ-3-ヒドロキシペンチル-7-メトキシ-5,8-ジオキソ(2-ナフチル)]ブタ-2-エニルアセテート(図4中の化合物29b;23.7 mg、29%)および未反応の化合物28b(11.2 mg、13%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 0.90 (t, 3H, J= 6.8 Hz), 1.33-1.42 (complex, 4H), 1.50-1.76 (complex, 2H), 2.05 (s, 3H), 3.50 (d, 2H, J= 5.8 Hz), 3.92 (s, 3H), 4.52 (d, 2H, J= 6.2 Hz), 4.86 (m, 1H), 5.59 (dt, 1H, J= 5.8, 15 Hz), 5.87 (dt, 1H, J= 6.2, 15 Hz), 6.07 (s, 1H), 7.48 (s, 1H), 13.11 (s, 1H)
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 14.1, 21.0, 22.7, 28.6, 36.3, 36.4, 49.2, 49.3, 56.7, 64.4, 70.6, 109.3, 121.7, 126.8, 129.0, 131.6, 138.4, 144.4, 159.5, 161.0, 190.7, 206.5.
IR (film) 3534, 2956, 1739, 1683, 1625 cm-1
<Production of (2E) -4- [4-hydroxy-3-hydroxypentyl-7-methoxy-5,8-dioxo (2-naphthyl)] but-2-enyl acetate>
Boron tribromide (1M, dichloromethane solution, 0.22 mL) was dissolved in dichloromethane (5 mL),
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 0.90 (t, 3H, J = 6.8 Hz), 1.33-1.42 (complex, 4H), 1.50-1.76 (complex, 2H), 2.05 (s, 3H), 3.50 (d , 2H, J = 5.8 Hz), 3.92 (s, 3H), 4.52 (d, 2H, J = 6.2 Hz), 4.86 (m, 1H), 5.59 (dt, 1H, J = 5.8, 15 Hz), 5.87 (dt, 1H, J = 6.2, 15 Hz), 6.07 (s, 1H), 7.48 (s, 1H), 13.11 (s, 1H)
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 14.1, 21.0, 22.7, 28.6, 36.3, 36.4, 49.2, 49.3, 56.7, 64.4, 70.6, 109.3, 121.7, 126.8, 129.0, 131.6, 138.4, 144.4, 159.5, 161.0, 190.7, 206.5.
IR (film) 3534, 2956, 1739, 1683, 1625 cm -1
<(2E)-4-[4-ヒドロキシ-3-ヒドロキシペンチル-7-メチルアミノ-5,8-ジオキソ(2-ナフチル)]ブタ-2-エニルアセテートの製造>
実施例27により得られた化合物29b(23.7 mg)を無水テトラヒドロフラン(2 mL)に溶解し、氷浴中、メチルアミン(40wt%、メタノール溶液、20 μL)を加えた。同温度で45分間撹拌した後、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)にて精製し、(2E)-4-[4-ヒドロキシ-3-ヒドロキシペンチル-7-メチルアミノ-5,8-ジオキソ(2-ナフチル)]ブタ-2-エニルアセテート(図4中の化合物30b;19.1 mg、81%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 0.90 (t, 3H, J= 6.8 Hz), 1.25-1.43 (complex, 4H), 1.54-1.76 (complex, 2H), 2.05 (s, 3H), 2.94 (d, 3H, J= 5.4 Hz), 3.46 (d, 2H, J= 6.2 Hz), 4.53 (d, 2H, J= 5.9 Hz), 4.82 (m, 1H), 5.58-5.64 (m, 2H), 5.87 (dt, 1H, J= 6.2, 15 Hz), 6.17 (m, 1H), 7.39 (s, 1H), 14.09 (s, 1H)
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 14.2, 21.0, 22.7, 28.6, 29.3, 36.2, 36.3, 49.2, 64.5, 70.9, 99.2, 121.0, 126.5, 128.4, 131.9, 139.1, 142.3, 149.6, 159.7, 170.6, 180.4, 188.8.
IR (film) 3357, 2956, 1737, 1616 cm-1
<Production of (2E) -4- [4-hydroxy-3-hydroxypentyl-7-methylamino-5,8-dioxo (2-naphthyl)] but-2-enyl acetate>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 0.90 (t, 3H, J = 6.8 Hz), 1.25-1.43 (complex, 4H), 1.54-1.76 (complex, 2H), 2.05 (s, 3H), 2.94 (d , 3H, J = 5.4 Hz), 3.46 (d, 2H, J = 6.2 Hz), 4.53 (d, 2H, J = 5.9 Hz), 4.82 (m, 1H), 5.58-5.64 (m, 2H), 5.87 (dt, 1H, J = 6.2, 15 Hz), 6.17 (m, 1H), 7.39 (s, 1H), 14.09 (s, 1H)
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 14.2, 21.0, 22.7, 28.6, 29.3, 36.2, 36.3, 49.2, 64.5, 70.9, 99.2, 121.0, 126.5, 128.4, 131.9, 139.1, 142.3, 149.6, 159.7, 170.6, 180.4, 188.8.
IR (film) 3357, 2956, 1737, 1616 cm -1
<7-((2E)-4-ヒドロキシブタ-2-エニル)-5-ヒドロキシ-6-ヒドロキシペンチル-2-メチルアミノナフタレン-1,4-ジオンの製造>
実施例28により得られた化合物30b(19.1 mg)をメタノール(3 mL)に溶解し、氷浴中、炭酸カリウム(35.2 mg)を加えた。室温にて40分間撹拌した後、反応液を酢酸エチル(20 mL)で希釈し、水、飽和食塩水(各々10 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製し、7-((2E)-4-ヒドロキシブタ-2-エニル)-5-ヒドロキシ-6-ヒドロキシペンチル-2-メチルアミノナフタレン-1,4-ジオン(図4中の化合物31b(化合物E);18.0 mg)を定量的に得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 0.90 (t, 3H, J= 6.8 Hz), 1.25-1.39 (complex, 4H), 1.49-1.78 (complex, 2H), 2.94 (d, 3H, J= 5.4 Hz), 3.43 (complex, 2H), 4.11 (d, 2H, J= 5.2 Hz), 4.84 (m, 1H), 5.57 (s, 1H), 5.65 (dt, 1H, J= 5.2, 15 Hz), 5.81 (dt, 1H, J= 5.9, 15 Hz), 6.17 (s, 1H), 7.38 (s, 1H), 14.07 (s, 1H)
13CNMR (67.80 MHz, CDCl3) δ 14.2, 21.5, 22.7, 28.6, 29.3, 36.2, 36.3, 49.3, 49.4, 63.2, 70.9, 99.2, 121.0, 128.6, 131.8, 139.0, 149.6, 159.7, 188.8, 208.0.
IR (film) 3357, 2929, 1614 cm-1
<Production of 7-((2E) -4-hydroxybut-2-enyl) -5-hydroxy-6-hydroxypentyl-2-methylaminonaphthalene-1,4-dione>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 0.90 (t, 3H, J = 6.8 Hz), 1.25-1.39 (complex, 4H), 1.49-1.78 (complex, 2H), 2.94 (d, 3H, J = 5.4 Hz ), 3.43 (complex, 2H), 4.11 (d, 2H, J = 5.2 Hz), 4.84 (m, 1H), 5.57 (s, 1H), 5.65 (dt, 1H, J = 5.2, 15 Hz), 5.81 (dt, 1H, J = 5.9, 15 Hz), 6.17 (s, 1H), 7.38 (s, 1H), 14.07 (s, 1H)
13 CNMR (67.80 MHz, CDCl 3 ) δ 14.2, 21.5, 22.7, 28.6, 29.3, 36.2, 36.3, 49.3, 49.4, 63.2, 70.9, 99.2, 121.0, 128.6, 131.8, 139.0, 149.6, 159.7, 188.8, 208.0.
IR (film) 3357, 2929, 1614 cm -1
<7-((2E)-4-ヒドロキシブタ-2-エニル)-5-ヒドロキシ-6-ヒドロキシペンチル-2-メトキシナフタレン-1,4-ジオンの製造>
実施例27により得られた化合物29b(3.2 mg)をメタノール(0.5 mL)に溶解し、氷浴中、炭酸カリウム(14.1 mg)を加えた。室温にて1時間撹拌した後、反応液を酢酸エチル(10 mL)で希釈し、水、飽和食塩水(各々5 mL)にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製し、7-((2E)-4-ヒドロキシブタ-2-エニル)-5-ヒドロキシ-6-ヒドロキシペンチル-2-メトキシナフタレン-1,4-ジオン(図4中の化合物32b(化合物D);2.0 mg、69%)を得た。
1HNMR (270 MHz, CDCl3) δ 0.91 (t, 3H, J= 7.2 Hz), 1.40 (complex, 4H), 1.70 (m, 1H), 2.08 (m, 1H), 3.49 (d, 2H, J= 5.1 Hz), 3.92 (s, 3H), 4.12 (complex, 2H), 4.89 (m, 1H), 5.66 (dt, 1H, J= 4.0, 15 Hz), 5.83 (dt, 1H, J= 6.8, 15 Hz), 6.08 (s, 1H), 7.50 (s, 1H), 13.12 (s, 1H).
<Production of 7-((2E) -4-hydroxybut-2-enyl) -5-hydroxy-6-hydroxypentyl-2-methoxynaphthalene-1,4-dione>
1 HNMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ 0.91 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.40 (complex, 4H), 1.70 (m, 1H), 2.08 (m, 1H), 3.49 (d, 2H, J = 5.1 Hz), 3.92 (s, 3H), 4.12 (complex, 2H), 4.89 (m, 1H), 5.66 (dt, 1H, J = 4.0, 15 Hz), 5.83 (dt, 1H, J = 6.8, 15 Hz), 6.08 (s, 1H), 7.50 (s, 1H), 13.12 (s, 1H).
<メチル2-((1R,3R)-1-ブチル-7,10-ジメトキシ-6,9-ジオキソベンゾ[2,1-g]イソクロマン-3-イル)アセテートの製造>
実施例24により得られた化合物26b(84.0 mg)をジクロロメタン(5 mL)に溶解し、二酸化マンガン(872 mg)を加えて40℃で3.5時間撹拌した後、マンガンの残留物をセライトろ過して分離し、クロロホルムとメタノールでセライトを洗浄した。ろ液を減圧留去してアルデヒドの粗生成物を得た。
上記アルデヒドをメタノール(3 mL)に溶解し、トリメチルシリルジアゾメタン(2.0 M、ヘキサン溶液、0.8 mL)を室温にて加えた。2時間撹拌後、溶媒を減圧留去して得られる残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、メチル2-((1R,3R)-1-ブチル-7,10-ジメトキシ-6,9-ジオキソベンゾ[2,1-g]イソクロマン-3-イル)アセテート(図5中の化合物33b;30.7 mg、34%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.82 (t, 3H, J= 6.8 Hz), 1.13-1.52 (complex, 4H), 1.67-1.84 (m, 1H), 2.02-2.08 (m, 1H), 2.56-2.81 (complex, 4H), 3.71 (s, 3H), 3.85 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 3.91-3.97 (m, 1H), 4.37 (m, 1H), 4.82 (m, 1H), 6.05 (s, 1H), 7.68 (s, 1H)
13CNMR (100.40 MHz, CDCl3) δ 14.1, 22.6, 27.2, 32.4, 35.7, 40,5, 51.8, 56.2, 61.7, 63.1, 69.4, 74.7, 111.7, 123.6, 140.8, 142.4, 156.3, 157.3, 158.7, 171.2, 179.9, 183.9.
IR (film) 2954, 2859, 1739, 1683, 1648, 1619, 1589 cm-1.
<Production of methyl 2-((1R, 3R) -1-butyl-7,10-dimethoxy-6,9-dioxobenzo [2,1-g] isochroman-3-yl) acetate>
The aldehyde was dissolved in methanol (3 mL), and trimethylsilyldiazomethane (2.0 M, hexane solution, 0.8 mL) was added at room temperature. After stirring for 2 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel thin layer chromatography (hexane: ethyl acetate = 1: 1) to give methyl 2-((1R, 3R) -1-butyl- 7,10-dimethoxy-6,9-dioxobenzo [2,1-g] isochroman-3-yl) acetate (
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.82 (t, 3H, J = 6.8 Hz), 1.13-1.52 (complex, 4H), 1.67-1.84 (m, 1H), 2.02-2.08 (m, 1H), 2.56 -2.81 (complex, 4H), 3.71 (s, 3H), 3.85 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 3.91-3.97 (m, 1H), 4.37 (m, 1H), 4.82 (m, 1H ), 6.05 (s, 1H), 7.68 (s, 1H)
13 CNMR (100.40 MHz, CDCl 3 ) δ 14.1, 22.6, 27.2, 32.4, 35.7, 40,5, 51.8, 56.2, 61.7, 63.1, 69.4, 74.7, 111.7, 123.6, 140.8, 142.4, 156.3, 157.3, 158.7, 171.2, 179.9, 183.9.
IR (film) 2954, 2859, 1739, 1683, 1648, 1619, 1589 cm -1 .
<メチル2-((1R,3R)-1-ブチル-10-ヒドロキシ-7-メトキシ-6,9-ジオキソベンゾ[2,1-g]イソクロマン-3-イル)アセテートの製造>
実施例31により得られた化合物33b(4.7 mg)をジクロロメタン(1 mL)に溶解し、−78℃にて三臭化ホウ素(1M、ジクロロメタン溶液、0.1 mL)を加えて20分間撹拌した。反応液をクロロホルム(10 mL)で希釈した後、水及び飽和食塩水(各々5 mL)で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水した。溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、メチル2-((1R,3R)-1-ブチル-10-ヒドロキシ-7-メトキシ-6,9-ジオキソベンゾ[2,1-g]イソクロマン-3-イル)アセテート(図5中の化合物34b(化合物F);1.9 mg、41%)を得た。
1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.92 (t, 3H, J= 6.8 Hz), 1.25-1.58 (complex, 4H), 1.74-1.76 (m, 1H), 1.92-1.98 (m, 1H), 2.58-2.78 (complex, 4H), 3.74 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 3.91-3.97 (m, 1H), 4.38 (m, 1H), 6.06 (s, 1H), 7.41 (s, 1H), 12.6 (s, 1H).
<Production of methyl 2-((1R, 3R) -1-butyl-10-hydroxy-7-methoxy-6,9-dioxobenzo [2,1-g] isochroman-3-yl) acetate>
1 HNMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.92 (t, 3H, J = 6.8 Hz), 1.25-1.58 (complex, 4H), 1.74-1.76 (m, 1H), 1.92-1.98 (m, 1H), 2.58 -2.78 (complex, 4H), 3.74 (s, 3H), 3.91 (s, 3H), 3.91-3.97 (m, 1H), 4.38 (m, 1H), 6.06 (s, 1H), 7.41 (s, 1H ), 12.6 (s, 1H).
<GST-cdc25Aの調製>
GST融合タンパク質発現ベクターであるpGEX-2T(Amersham Biosciences社)にヒトcdc25A(hcdc25A)のcDNAを組み込みpGEX-2T-hcdc25Aを作製した。このプラスミドで形質転換した大腸菌BL21株を37℃にてOD600=0.6〜0.8になるまで培養し、0.1mMのイソプロピル-1-チオ-β-D-チオガラクトピラノシド(IPTG) (Stratagene社)を添加することによりGST-Cdc25Aタンパク質の発現を誘導した。さらに37℃にて4時間培養後、菌体を回収し可溶化溶液(MT-PBS(150mM NaCl, 20mM Na2HPO4, 4mM NaH2PO4)、0.1% トリトンX-100、10μg/mL ロイペプチン、1mM フェニルメチルスルホニルフルオライド(PMSF))に懸濁した。懸濁した大腸菌を超音波破砕器により破砕後、遠心操作により可溶画分を得た。この可溶画分に、MT-PBSにより平衡化済みのグルタチオンアガロース (SIGMA社)を加え、4℃にて1時間GST-Cdc25Aを吸着させた。遠心操作によりグルタチオンアガロースを回収し、MT-PBSで4回洗浄後、溶出液(50mM Tris-HCl (pH8.0)、20mM 還元型グルタチオン)で4℃にて1時間攪拌することによりGST-Cdc25Aを溶出した。その後、遠心操作により上清を回収し、これを酵素(Cdc25A)として以下の実施例に用いた。
<Preparation of GST-cdc25A>
PGEX-2T-hcdc25A was prepared by incorporating the cDNA of human cdc25A (hcdc25A) into pGEX-2T (Amersham Biosciences), a GST fusion protein expression vector. Escherichia coli BL21 strain transformed with this plasmid was cultured at 37 ° C. until OD 600 = 0.6 to 0.8, and 0.1 mM isopropyl-1-thio-β-D-thiogalactopyranoside (IPTG) (Stratagene) ) Was added to induce GST-Cdc25A protein expression. After further incubation at 37 ° C. for 4 hours, the cells were collected and solubilized solution (MT-PBS (150 mM NaCl, 20 mM Na 2 HPO 4 , 4 mM NaH 2 PO 4 ), 0.1% Triton X-100, 10 μg / mL leupeptin And suspended in 1 mM phenylmethylsulfonyl fluoride (PMSF). The suspended Escherichia coli was disrupted with an ultrasonic crusher, and then a soluble fraction was obtained by centrifugation. Glutathione agarose (SIGMA) equilibrated with MT-PBS was added to this soluble fraction, and GST-Cdc25A was adsorbed at 4 ° C. for 1 hour. Glutathione agarose was collected by centrifugation, washed 4 times with MT-PBS, and then stirred with eluate (50 mM Tris-HCl (pH 8.0), 20 mM reduced glutathione) at 4 ° C. for 1 hour to give GST-Cdc25A. Was eluted. Thereafter, the supernatant was collected by centrifugation and used as an enzyme (Cdc25A) in the following examples.
<Cdc25Aホスファターゼアッセイ>
実施例6、実施例15、実施例24、実施例29、実施例30、及び実施例32により得られた化合物(化合物A、B、C、D、E、及びF)のCdc25Aの酵素活性に対する阻害効果を調べた。なお、本実施例ではCdc25Aの基質として、3-O-メチルフルオレセインホスフェート(3-O-methylfluorescein phosphate;OMFP(SIGMA製))と4-ニトロフェニルホスフェート(4-nitrophenyl phosphate;pNPP(SIGMA製))とを用いた。
<Cdc25A phosphatase assay>
Example 6, Example 15, Example 24, Example 29, Example 30, and Compound 32 (Compounds A, B, C, D, E, and F) obtained with respect to the enzymatic activity of Cdc25A The inhibitory effect was examined. In this example, as the substrate for Cdc25A, 3-O-methylfluorescein phosphate (OMFP (manufactured by SIGMA)) and 4-nitrophenyl phosphate (4-nitrophenyl phosphate; pNPP (manufactured by SIGMA)) And were used.
<OMFPを用いた場合>
酵素(Cdc25A) 30μl (15μg)と各濃度の化合物(化合物A、B、C、D、E、F、及びNa3VO4(ホスファターゼ阻害剤のポジティブコントロールとして使用))1μlをassay buffer(50mM Tris-HCl (pH7.5)) 60μl中に懸濁し、室温にて15分間プレインキュベートした。そこに基質(最終濃度で25μM OMFP) 10μlを加え、室温にて30分間反応させた。その後、Fluoroskan Ascent(Labsystem製)を用いて3-O-メチルフルオレセインの生成量(励起波長355nm、吸収波長538nm)を測定し、化合物の酵素(Cdc25A)に対する阻害活性を評価した。なお、阻害活性の評価は阻害率(%)を算出することにより行った。
<When using an OMFP>
30 μl (15 μg) of enzyme (Cdc25A) and 1 μl of compound at each concentration (compounds A, B, C, D, E, F, and Na 3 VO 4 (used as a phosphatase inhibitor positive control)) assay buffer (50 mM Tris Suspended in 60 μl of HCl (pH 7.5) and preincubated for 15 minutes at room temperature. Thereto was added 10 μl of a substrate (final concentration: 25 μM OMFP) and reacted at room temperature for 30 minutes. Thereafter, the amount of 3-O-methylfluorescein produced (excitation wavelength: 355 nm, absorption wavelength: 538 nm) was measured using Fluoroskan Ascent (Labsystem), and the inhibitory activity of the compound on the enzyme (Cdc25A) was evaluated. The inhibition activity was evaluated by calculating the inhibition rate (%).
<pNPPを用いた場合>
酵素(Cdc25A) 30μl (30μg)と各濃度の化合物(化合物A、B、C、D、E、F、及びNa3VO4)1μlをassay buffer(50mM Tris-HCl (pH7.5)) 60μl中に懸濁し、室温にて15分間プレインキュベートした。そこに基質(5mM pNPP) 10μlを加え37℃にて60分間反応させた。その後、MICRO PLATE READER(TOSOH製)を用いて波長405nmでの吸光度を測定し、化合物の酵素(Cdc25A)に対する阻害活性を評価した。なお、阻害活性の評価は阻害率(%)を算出することにより行った。
<When pNPP is used>
30 μl (30 μg) of enzyme (Cdc25A) and 1 μl of each concentration of compound (compounds A, B, C, D, E, F, and Na 3 VO 4 ) in 60 μl of assay buffer (50 mM Tris-HCl (pH 7.5)) And preincubated for 15 minutes at room temperature. Thereto was added 10 μl of substrate (5 mM pNPP) and reacted at 37 ° C. for 60 minutes. Thereafter, the absorbance at a wavelength of 405 nm was measured using MICRO PLATE READER (manufactured by TOSOH) to evaluate the inhibitory activity of the compound on the enzyme (Cdc25A). The inhibition activity was evaluated by calculating the inhibition rate (%).
以上の結果を表1に示す。表1に示すように、化合物A、B、及びCは各基質を用いた時に酵素(Cdc25A)に対する阻害活性を示し、化合物A及びBは特に優れた阻害活性を有することがわかった。また、化合物D、E、及びFは特定の基質(OMFP又はpNPP)を用いた時にCdc25に対する阻害活性を示すことがわかった。
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JP2008201687A (en) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Keio Gijuku | Naphthoquinone derivative compound |
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JP2005220037A (en) | 2005-08-18 |
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