JP4421395B2 - Manufacturing method for ceramic dental restoration - Google Patents

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Description

本発明は、新規なセラミックス製歯科用修復物の製造方法に関する。更に詳しくは、簡便な方法で高強度かつ適合性の良いフルセラミックス製のコーピングを作製できるフルセラミックス製歯科用修復物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a novel ceramic dental restoration. More particularly, the present invention relates to a method for producing a full ceramic dental restoration that can produce a full ceramic coping having high strength and good compatibility by a simple method.

齲蝕等により部分的に欠損した歯の修復に使用される材料としては、コンポジットレジンと呼ばれる無機物と有機物からなる複合材料、金属或いはセラミックスが用いられている。特に強度の要求されるブリッジ、即ち欠損歯を補う不可撤式補綴物等には金属やセラミックスが使用されている。近年患者の審美的な要求の高まりや金属アレルギー等の問題により口腔内に金属を用いない修復が望まれるようになってきている。   As a material used for restoration of a tooth partially lost due to caries or the like, a composite material composed of an inorganic substance and an organic substance called a composite resin, a metal, or ceramics is used. Metals and ceramics are used for bridges that require particularly high strength, i.e., irremovable prostheses that supplement missing teeth. In recent years, restoration without using metal in the oral cavity has been desired due to problems such as aesthetic demands of patients and metal allergy.

このような修復の際には、まず、修復物を装着する歯(支台歯)をエアタービン等により研削して、修復物の保持に必要な形状にする。ついで、該支台歯及びその周辺部を印象材により型取りし、該印象型から支台歯と同じ形状の石膏模型を作成する。その後、この石膏模型から作業用の支台歯模型を用いて修復物を成形する。このとき、いきなり完全な歯の形状を有する修復物を成形するのではなく、コーピングと呼ばれる(フレームやキャップとも呼ばれる)支台歯を被覆する薄いカバー状のものを製造し、このコーピングの上に、上部構造体としてコンポジットレジンと呼ばれる無機物と有機物からなる複合材料を築盛し硬化させる方法やポーセレン等のセラミックスを築盛、焼成等する方法が一般的である。   In such a restoration, first, the tooth (abutment tooth) on which the restoration is to be mounted is ground by an air turbine or the like to obtain a shape necessary for holding the restoration. Next, the abutment tooth and its peripheral part are molded with an impression material, and a gypsum model having the same shape as the abutment tooth is created from the impression mold. Thereafter, a restoration is formed from the gypsum model using a working abutment tooth model. At this time, instead of suddenly forming a restoration having a complete tooth shape, a thin cover-like material covering the abutment tooth (also called a frame or a cap) called a coping is manufactured, and this coping is placed on the coping. In general, a method of building up and curing a composite material composed of an inorganic material and an organic material called a composite resin as an upper structure and a method of building up and firing ceramics such as porcelain are generally used.

コーピングを作製する方法は金属鋳造冠と同様にロストワックス法を用いてガラスもしくはガラスセラミックスを遠心鋳造、または加熱加圧射出法により成形し、必要に応じてセラミングと呼ばれる結晶化を施す方法や、セラミックス粉末を焼結させる方法が取られている。特に強度を有する酸化物系のセラミックスは融点が高く遠心鋳造、加熱加圧射出法を用いることが困難であり、工業的にも粉末を焼結させる方法が一般になされる。   The method for producing the coping is a method in which glass or glass ceramics is formed by centrifugal casting using the lost wax method, as in the case of the metal casting crown, or by crystallization, which is called ceraming, if necessary. A method of sintering ceramic powder has been taken. Particularly, oxide-based ceramics having high strength have a high melting point, making it difficult to use centrifugal casting and heat-pressure injection methods, and industrially, a method of sintering powder is generally used.

歯科におけるこのようなセラミックス製コーピングの製造方法においては、従来、セラミックス粉末と溶媒からなるスラリーに支台歯模型を浸漬させる方法や、該スラリーを筆等で支台歯模型上に積層し焼結させる方法が一般に取られてきた。   In the manufacturing method of such ceramic coping in dentistry, conventionally, a method of immersing the abutment tooth model in a slurry made of ceramic powder and a solvent, or laminating the slurry on the abutment tooth model with a brush or the like and sintering. Methods have been taken generally.

近年では、電気泳動成形法を用いてオールセラミックス製の歯冠修復物を製造する方法がいくつか提案されている(例えば、特許文献1〜2参照)。   In recent years, several methods for manufacturing a crown restoration made of all ceramics using an electrophoretic molding method have been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

電気泳動成形法はセラミックス粒子を極性溶剤中に分散、帯電させ、溶剤に電流を流すことにより、帯電したセラミックス粒子を電気泳動により電極上に堆積させる手法である。この方法によれば、プレッシャーフリーでも比較的緻密な厚膜が作製可能であり、通常の加圧成形に匹敵する成形密度が得られること、バインダーを使用しなくても,大面積の厚膜成形が可能であること、堆積プロセスの途中で液体中の原料粉末種を制御することによって、積層、傾斜化などの微構造制御をすることができるなどの特徴を有している(例えば、非特許文献1参照)。   The electrophoretic molding method is a method in which ceramic particles are dispersed and charged in a polar solvent, and a current is passed through the solvent to deposit the charged ceramic particles on an electrode by electrophoresis. According to this method, it is possible to produce a relatively dense thick film even without pressure, and a molding density comparable to that of normal pressure molding can be obtained. And by controlling the raw material powder species in the liquid in the course of the deposition process, it is possible to control the microstructure such as lamination and tilting (for example, non-patent Reference 1).

したがって、支台模型上に導電層を形成し、これを一方の電極とし、上記電気泳動成形法を利用してセラミックスを堆積させ、焼成することにより、高強度のセラミックス製の修復物を得ることが可能である。   Therefore, a high-strength ceramic restoration is obtained by forming a conductive layer on the abutment model, using this as one electrode, depositing the ceramic using the electrophoretic molding method, and firing the ceramic. Is possible.

国際公開第99/50480号パンフレットWO99 / 50480 pamphlet 国際公開第02/30362号パンフレット、アブストラクトInternational Publication No. 02/30362 pamphlet, abstract 打越哲郎、「電気泳動法によるセラミックスの成形および積層化」、マテリアルインテグレーション、株式会社ティー・アイ・シー、2000年10月25日、13巻、11号、p.18−24Tetsuro Uchikoshi, “Molding and Laminating of Ceramics by Electrophoresis”, Material Integration, T.I.C., October 25, 2000, No. 13, No. 11, p. 18-24

上記のように、金属を用いないフルセラミックスの修復物においては、コーピングも金属製のものではなく、セラミックス製とする必要があるが、上記、セラミックス粉末と溶剤からなるスラリーを用いる従来のセラミックス製コーピングの製造方法には、以下のような問題点があった。即ち、このようなスラリーはある程度の塗布性が必要なため、セラミックス粒子の割合を多くすることが困難であり、よって焼結時に重合収縮が大きく形状に変化が起こりやすく、また得られる焼結体の密度も小さいため機械的強度に問題がある。さらには、術者の腕に依存して塗りむらや乾燥むらが生じやすく、得られるコーピングも厚さや密度が均一なものとはならない。そのため、焼成後に得られる焼結体もむらのあるものとなり、この点からも充分な機械的強度が得られない。また修復されるべき歯の周囲の状況等にもよるが、コーピングが厚すぎると、その上に積層されるセラミックス層を薄くせざるを得なくなり、周囲の歯の色調との適合性に問題が生じたり、あるいは該コーピングを用いて製造した歯冠修復物の支台歯への装着が困難になる場合もある。   As described above, in the restoration of full ceramics that does not use metal, the coping needs to be made of ceramics instead of metal, but the conventional ceramics that use the slurry composed of ceramic powder and solvent are used. The coping manufacturing method has the following problems. That is, since such a slurry requires a certain degree of applicability, it is difficult to increase the proportion of ceramic particles, and therefore, the polymerization shrinkage is large during sintering, and the shape tends to change. There is also a problem in mechanical strength because the density of is low. Furthermore, uneven coating and dry unevenness are likely to occur depending on the arm of the operator, and the resulting coping will not be uniform in thickness or density. For this reason, the sintered body obtained after firing becomes uneven, and sufficient mechanical strength cannot be obtained in this respect. Also, depending on the surrounding conditions of the tooth to be repaired, if the coping is too thick, the ceramic layer laminated on it must be thinned, and there is a problem with the compatibility with the color of the surrounding teeth. It may occur or it may be difficult to attach the crown restoration manufactured using the coping to the abutment tooth.

さらに、印象採取においては、印象材を口腔内から取り出すときなどに、その印象材が塑性変形を起こす場合があり、そのため完全に支台歯と同一形状の支台歯模型が得られる場合は少なく、そのため、支台歯模型と完全に形状を合わせたコーピングを製造すると、そのようなコーピングは支台歯と適合しない場合が多い。さらに、通常の歯冠修復物は、歯科用セメントなどの接着材を用いて支台歯と強固な接合性を持たせる必要性があるが、この接着材分のスペース(余裕)が修復物(コーピング)と支台歯の間に必要である。従って、支台歯模型上に上記のようなセラミックススラリーを塗布する前に、スペーサーとなる物質を塗布したり、支台歯模型を採取された印象より小さめに形成したり、あるいはこのようなコーピングを用いて製造した歯冠修復物を装着する前に、再度支台歯を研削する必要があった。スペーサーとなる物質を塗布する方法では、該スペーサー物質はセラミックスの焼結時に焼却除去される物質が採用される。スペーサー物質や術者の腕にもよるが、前記セラミックススラリーの塗布時に、筆等による機械的応力がかかり、該スペーサー物質とセラミックススラリーが交じり合ってしまうこともある。この場合、焼結時に、このスペーサー物質が混じっており、その後焼却除去された部分は空疎になってしまう。この点からも、得られるセラミックス製コーピングの強度に問題が生じる。   Furthermore, in impression collection, when the impression material is taken out from the oral cavity, the impression material may be plastically deformed. For this reason, an abutment tooth model having the same shape as the abutment tooth is rarely obtained. Therefore, when a coping that is perfectly matched to the abutment tooth model is manufactured, such a coping is often not compatible with the abutment tooth. In addition, normal crown restorations need to have strong abutment with the abutment tooth using an adhesive such as dental cement, but the space for these adhesives (the margin) is the restoration ( It is necessary between the coping) and the abutment tooth. Therefore, before applying the ceramic slurry as described above onto the abutment tooth model, apply a spacer material, or make the abutment tooth model smaller than the collected impression, or such a coping. It was necessary to grind the abutment tooth again before mounting the crown restoration made using In the method of applying a material to be a spacer, a material that is removed by incineration when the ceramic is sintered is adopted as the spacer material. Although depending on the spacer material and the arm of the surgeon, when the ceramic slurry is applied, mechanical stress by a brush or the like is applied, and the spacer material and the ceramic slurry may be mixed. In this case, at the time of sintering, this spacer substance is mixed, and the portion that is removed by incineration thereafter becomes empty. Also from this point, a problem arises in the strength of the ceramic coping obtained.

従って、再現性よく高い機械的強度、適度な厚みを有し、かつ該セラミックス製コーピングを用いた歯冠修復物が、支台歯との適合性のよいものとなる、簡便なセラミックス製コーピングの製造方法が求められていた。   Therefore, a simple ceramic coping that has a high mechanical strength with a good reproducibility, an appropriate thickness, and a crown restoration using the ceramic coping has good compatibility with the abutment tooth. There was a need for a manufacturing method.

一方、電気泳動形成法を用いた従来のセラミックス製歯科用修復物の製造方法では、修復物の変形が大きかったり、あるいは焼成後に支台歯模型からの取り外すことが困難であるなどの問題を有していた。   On the other hand, conventional methods for producing dental restorations made of ceramics using electrophoretic formation have problems such as large deformation of the restoration or difficulty in removal from the abutment tooth model after firing. Was.

本発明者等は上記問題点を解決すべく鋭意検討した結果、前記電気泳動成形法によるセラミックス成形法では、比較的複雑な形状のものでも、再現性よくセラミックス成形ができる点に着目し、他方、歯科用コーピングの製造においては除去可能なスペーサーが必要となる場合が多いことに着目し、さらに検討を進めた結果、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention pay attention to the fact that the ceramic forming method by the electrophoretic forming method can form a ceramic with good reproducibility even with a relatively complicated shape. Focusing on the fact that a removable spacer is often required in the manufacture of dental copings, the present invention was completed as a result of further investigation.

即ち本発明は、歯牙欠損部を修復するために用いるセラミックス製の修復物を、電気泳動成形法によりセラミックス及び/又はその前駆体粒子を堆積させて修復物前駆体を得、その後、該修復物前駆体を加熱することによってセラミックス及び/又はその前駆体粒子を焼結させて製造する方法において、(1)該電気泳動成形法によるセラミックス及び/又はその前駆体粒子の堆積の際の電極として、可燃性の導電性物質で形成した0.005〜0.5mmの厚さの導電層を有する支台歯模型を用い、かつ(2)修復物前駆体の加熱によるセラミックス及び/又はその前駆体粒子の焼結を、該修復物前駆体を支台歯模型から取り外さずに行うことを特徴とするセラミックス製歯科用修復物の製造方法である。   That is, the present invention provides a restoration material made of ceramics used for repairing a tooth defect part by depositing ceramics and / or its precursor particles by an electrophoretic molding method to obtain a restoration material precursor, and then the restoration material. In the method of sintering ceramics and / or precursor particles thereof by heating the precursor, (1) as an electrode when depositing ceramics and / or precursor particles thereof by the electrophoresis molding method, Using an abutment tooth model having a conductive layer with a thickness of 0.005 to 0.5 mm formed of a combustible conductive material, and (2) ceramics and / or precursor particles thereof by heating a restoration precursor Is a ceramic dental restoration, wherein the restoration precursor is not removed from the abutment tooth model.

上記本発明の製造方法を用いると支台歯模型に均一な厚みで且つ高密度で堆積され、焼成後の収縮も少なく機械的強度が高く、適合性に優れたセラミックス製の歯科用修復物を再現性良く得ることができる。また、支台歯模型からの取り外しも容易である。さらには電流および電圧、堆積時間等を変えることにより所望の厚みの修復物とすることが可能である。   Using the above manufacturing method of the present invention, a dental restoration made of ceramics having a uniform thickness and high density deposited on an abutment tooth model, less shrinkage after firing, high mechanical strength, and excellent compatibility. It can be obtained with good reproducibility. Moreover, the removal from an abutment tooth model is also easy. Furthermore, it is possible to obtain a restoration having a desired thickness by changing the current, voltage, deposition time, and the like.

本発明に用いる支台歯模型は、歯科技工において公知の方法で製造されたものでよく、その製造方法や材質等は特に制限されるものではない。一般的には、口腔内で採得した印象に石膏を流しこみ作製した石膏模型を再印象し、鋳型材を流し込み、歯列のレプリカを作製する。ここでいう支台歯模型に用いられる材料は耐火模型材と呼ばれる材料や燐酸塩系埋没材と呼ばれる材料が好適に用いられる。   The abutment tooth model used in the present invention may be manufactured by a publicly known method in a dental technician, and the manufacturing method, material, and the like are not particularly limited. Generally, a gypsum model made by pouring gypsum into an impression taken in the oral cavity is re-impressed, a casting mold material is poured into it, and a dentition replica is produced. The material used for the abutment tooth model here is preferably a material called a refractory model material or a material called a phosphate-based investment material.

特にブリッジを作製する場合には欠損歯部分にワックス等でハローポンティックの空洞部分を想定した部分を予め石膏模型上に設置した後複印象を採得し、複模型を作製する場合や、予め欠損歯部分にセラミックス粉末を堆積させる方法などによって達成される。   In particular, when making a bridge, if the missing tooth part is assumed to be a hollow pontic cavity part with wax etc. in advance on the gypsum model after taking a double impression and making a double model, This is achieved by a method of depositing ceramic powder on the missing tooth portion.

このようにして得られた支台歯模型は、必要に応じて補綴修復部位にあわせ適切な大きさにトリミングを行い、歯科用修復物を形成すべき所定の部分(歯質を再現する部位)を、導電性があり且つ可燃性の物質で被覆して導電層を形成する。なお、後述するように、このようにして得られた導電性層を有する支台歯模型には電流を流す必要があり、そのため外部電源との電気的な導通を確保する必要がある。この場合、該外部電源からの導通は、金属線等の接続によっても良いし、上記歯科用修復物を形成すべき部分と一体化して形成された導電層によってもよい。即ち、本発明の製造方法においては、必要に応じて支台歯模型上の歯科用修復物を形成すべき所定の部位以外にも導電層が形成されていても良い。   The abutment tooth model obtained in this way is trimmed to an appropriate size according to the prosthetic restoration part as necessary, and a predetermined part (part that reproduces the tooth quality) where a dental restoration is to be formed Is coated with a conductive and flammable substance to form a conductive layer. As will be described later, it is necessary to pass an electric current through the abutment tooth model having the conductive layer thus obtained, and therefore it is necessary to ensure electrical continuity with an external power source. In this case, the electrical connection from the external power source may be performed by connection of a metal wire or the like, or may be performed by a conductive layer formed integrally with a portion where the dental restoration is to be formed. That is, in the manufacturing method of the present invention, a conductive layer may be formed in addition to a predetermined portion where a dental restoration on the abutment tooth model is to be formed as necessary.

該導電層として、金属やセラミックスなどの可燃性ではない物質を用いた場合には、支台歯との適合性を良好なものとするために、支台歯模型の大きさの調製や、あるいは支台歯の再研削が必要となり、簡便な方法とはならない。さらに、金属等では焼成時にセラミックスへの混入等が起き、強度や色調が変化する場合もある。また、これら金属やセラミックスなどでは、粒子の焼結に際して歯科用修復物と一体化してしまい、支台歯模型から取り外すことができない場合もある。一方、非導電性物質では後述するセラミックス粒子の堆積が起きず、結局、歯科用修復物の作製ができない。   When using a nonflammable material such as metal or ceramics as the conductive layer, in order to improve the compatibility with the abutment tooth, the preparation of the abutment tooth model, or Re-grinding of the abutment tooth is necessary, and it is not a simple method. Further, in the case of metal or the like, mixing into ceramics may occur during firing, and the strength and color tone may change. In addition, these metals and ceramics may be integrated with the dental restoration when the particles are sintered and cannot be removed from the abutment tooth model. On the other hand, ceramic particles, which will be described later, do not accumulate in a non-conductive substance, and eventually a dental restoration cannot be produced.

当該導電性があり且つ可燃性の物質としては人造黒鉛、天然黒鉛、活性炭、グラッシーカーボン、フラーレン、カーボンナノチューブ等のカーボン類;ポリアニリン、クロロアニルをドープしたポリジメチルアミノスチレン、テトラシアノエチレンをドープしたポリビニルメシチレン、テトラシアノエチレンをドープしたポリビニルナフタレン、ハロゲンをドープした、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリビニルカルバゾール、テトラシアノエチレン、ポリビニルピジリン、テトラシアノエチレン、ドープしたポリジフェニルアミン、7,7,8,8−テトラシアノキノジメタンをドープしたポリビニルイミダゾール、ハロゲンをドープしたポリアセチレン、HClOをドープしたポリチオフェン等の電子導電性高分子類等が挙げられる。 The conductive and flammable substances include artificial graphite, natural graphite, activated carbon, glassy carbon, fullerene, carbon nanotubes and other carbons; polyaniline, polydimethylaminostyrene doped with chloroanil, and polyvinyl doped with tetracyanoethylene Mesitylene, polyvinyl naphthalene doped with tetracyanoethylene, halogen doped polyvinyl anthracene, polyvinyl pyrene, polyvinyl carbazole, tetracyanoethylene, polyvinyl pyridine, tetracyanoethylene, doped polydiphenylamine, 7,7,8,8- Electronically conductive polymers such as polyvinyl imidazole doped with tetracyanoquinodimethane, polyacetylene doped with halogen, polythiophene doped with HClO 4 , etc. Is mentioned.

これらのなかでも、好ましくない電気化学的反応の触媒となり難く、さらにそれ自体が電気化学的に安定であり、導電性に優れ、また支台歯模型上の所定の部位を被覆するのも容易な点で、カーボン類であることが好ましい。さらには塗布の際に均一なペーストとしやすい点で、黒鉛であることがより好ましく、金属等の不純物が混入し難い点で人造黒鉛であることが特に好ましい。   Among these, it is difficult to become a catalyst for an undesirable electrochemical reaction, and is itself electrochemically stable, excellent in conductivity, and easy to coat a predetermined portion on the abutment tooth model. In terms, carbon is preferable. Furthermore, graphite is more preferable because it is easy to form a uniform paste during coating, and artificial graphite is particularly preferable because impurities such as metals are difficult to mix.

当該カーボン類等の導電性物質の形状は、支台歯模型上の所定の部位を被覆し導電層を形成することが可能であれば特に限定されることはなく、球状、不定形状(破砕状)、鱗片状、繊維状いかなる形状でも良いが、入手が容易で、また以下に述べるペースト化しての塗布による導電層の形成が容易な点で、微小な不定形状又は繊維状のものであるのが特に好ましい。   The shape of the conductive substance such as carbon is not particularly limited as long as it can cover a predetermined part on the abutment tooth model and form a conductive layer. ), Any flaky shape or fibrous shape, but it is easy to obtain, and is easy to form a conductive layer by applying the paste as described below. Is particularly preferred.

このような可燃性かつ導電性物質により支台模型上に導電層を形成する方法は特に制限されるものではないが、操作が簡単で特別な装置も不要な点で、該導電性物質を溶剤と混合、ペースト化し、該ペーストを筆等により所定の位置に塗布、乾燥させる方法が好ましい。   The method for forming the conductive layer on the abutment model with such a flammable and conductive material is not particularly limited, but the conductive material is used as a solvent in that the operation is simple and no special equipment is required. A method of mixing and pasting and pasting the paste at a predetermined position with a brush or the like and drying is preferable.

当該ペーストを調整する方法も特に制限されるものではなく、公知の導電性ペーストの製造方法に順ずればよい。代表的には、前記したような微小な不定形状のカーボン類を、酢酸エチル等の揮発性有機溶剤、あるいはアクリル樹脂等の硬化性樹脂と混合して均一なペーストとすればよい。また、商業的に入手可能なカーボンペースト等の導電性ペーストを用いても構わない。   The method for adjusting the paste is not particularly limited, and may be in accordance with a known method for producing a conductive paste. Typically, the above-described minute amorphous carbon may be mixed with a volatile organic solvent such as ethyl acetate or a curable resin such as an acrylic resin to form a uniform paste. Moreover, you may use electrically conductive pastes, such as a commercially available carbon paste.

このようにして調製した導電性ペーストを、上記のように筆等を用いて支台歯模型上の所定の位置、即ち、コーピングを形成したい部位に塗布する。ついで乾燥又は硬化させることにより支台歯模型上に導電層が形成される。   The conductive paste thus prepared is applied to a predetermined position on the abutment tooth model, that is, a part where coping is to be formed, using a brush or the like as described above. Next, a conductive layer is formed on the abutment tooth model by drying or curing.

本発明においてはこの導電層の厚さを一定の範囲にする必要がある。即ち、導電層が厚すぎると、該導電層が後述する加熱によって除去された後に生じる空間が大きくなりすぎる。このためセラミックス及び/又はその前駆体粒子が焼結する際に生じる収縮量も大きくなり、よって、適合性に優れた歯科用修復物を得ることが困難になる。他方、導電層が薄すぎると、支台歯との適合性を良好なものとするために必要なマージンが確保できず、支台歯模型の大きさの調製や、あるいは支台歯の再研削が必要となり、簡便な方法とはならない。本発明においては、該導電層の厚さは0.005mm〜0.5mmである。なお、該導電層は上記範囲にある限り均一である必要はなく、かなりの塗りむら(厚さむら)が存在していても構わない。従って、同じくペースト塗布の工程が必要なセラミックスペーストを塗布する方法に比べて、遥かに塗布が容易となり、この点からも簡便な製造方法である。   In the present invention, the thickness of the conductive layer needs to be within a certain range. That is, if the conductive layer is too thick, the space generated after the conductive layer is removed by heating described later becomes too large. For this reason, the amount of shrinkage generated when the ceramics and / or precursor particles thereof are sintered increases, and it becomes difficult to obtain a dental restoration having excellent compatibility. On the other hand, if the conductive layer is too thin, it will not be possible to secure the margin necessary to ensure good compatibility with the abutment tooth, and the size of the abutment tooth model will be adjusted, or the abutment tooth will be reground. Therefore, it is not a simple method. In the present invention, the thickness of the conductive layer is 0.005 mm to 0.5 mm. Note that the conductive layer does not need to be uniform as long as it is in the above range, and there may be considerable coating unevenness (thickness unevenness). Therefore, compared to a method of applying a ceramic paste that similarly requires a paste application step, the application is much easier, and this is a simple manufacturing method.

また、導電層の形成は、必要に応じて蒸着等の方法によっても良いが、この場合には、所定の部位以外に導電層が形成されてしまわないように保護するか、あるいは、蒸着後に不要な導電層部分を除去する必要がある。   In addition, the conductive layer may be formed by a method such as vapor deposition as necessary. In this case, it is necessary to protect the conductive layer from being formed in areas other than a predetermined region, or unnecessary after the vapor deposition. It is necessary to remove the conductive layer portion.

このようにして得られた導電層を有する支台歯模型を電極とし、電気泳動形成法により該導電層上にセラミックス及び/又はその前駆体粒子を堆積させる。   The abutment tooth model having the conductive layer thus obtained is used as an electrode, and ceramics and / or precursor particles thereof are deposited on the conductive layer by electrophoretic formation.

当該電気泳動形成法は公知の方法に従って行えばよく、具体的には、上記導電層を有する支台歯模型を、粒子が分散したイオン導電性を有する溶剤中に浸漬し、これとやはり該溶剤中に浸漬させた対極とを用いて電流を流せばよい。   The electrophoretic formation method may be performed according to a known method. Specifically, the abutment tooth model having the conductive layer is immersed in a solvent having ionic conductivity in which particles are dispersed, and this solvent is also used. A current may be passed using a counter electrode immersed in the inside.

このセラミックス及び/又はその前駆体粒子は、支台歯模型の導電層上に堆積し、歯科用修復物を形成させる成分であり、目的とするコーピングの材質により適宜その材質も選択すればよい。このようなセラミックス粒子は一般には、金属酸化物が好適に用いられるが、ガラスおよびガラスセラミックス、あるいは金属酸化物ゾルのようなこれらの前駆体を用いても構わない。   The ceramics and / or precursor particles thereof are components that are deposited on the conductive layer of the abutment tooth model to form a dental restoration, and the material may be appropriately selected depending on the intended coping material. In general, metal oxides are suitably used for such ceramic particles, but glass and glass ceramics, or precursors thereof such as metal oxide sols may be used.

金属酸化物としてはジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、マグネシウム安定化ジルコニア、カルシア安定化ジルコニア、セリア安定化ジルコニア、アルミナ、スピネル等、およびこれらの2種以上からなる混合物および複合酸化物を含む。また金属酸化物以外のセラミックス粒子としては、窒化珪素等が挙げられる。   Examples of the metal oxide include zirconia, yttria-stabilized zirconia, magnesium-stabilized zirconia, calcia-stabilized zirconia, ceria-stabilized zirconia, alumina, spinel, and the like, and mixtures and composite oxides composed of two or more thereof. Moreover, silicon nitride etc. are mentioned as ceramic particles other than a metal oxide.

またセラミックスの前駆体粒子としては、上記のような金属の水酸化物、炭酸塩、アルコキサイドや、あるいは金属粉末等が例示される。   Examples of the ceramic precursor particles include metal hydroxides, carbonates, alkoxides, and metal powders as described above.

これらセラミックス及び/又はその前駆体粒子の形状は特に制限されるものではなく、球状、不定形等公知の如何なる形状でも良く、またその粒子径も特に制限されないが、溶剤中に分散させやすく、また焼結性が良いため得られるコーピングが機械的強度に優れたものとなるため、平均粒子径が10nm〜10μm程度のものであることが好ましく、10nm〜200nm程度であることがより好ましい。   The shape of the ceramic particles and / or precursor particles thereof is not particularly limited, and may be any known shape such as a spherical shape or an indeterminate shape, and the particle diameter is not particularly limited, but can be easily dispersed in a solvent, Since the coping obtained due to good sinterability becomes excellent in mechanical strength, the average particle diameter is preferably about 10 nm to 10 μm, more preferably about 10 nm to 200 nm.

本発明においては、必要に応じて上記セラミックス及び/又はその前駆体粒子として材質、形状、粒子径等の異なる複数のものを併用しても構わない。例えば、セラミックス粒子とセラミックスの前駆体粒子を併用することにより、焼結性を改善したり、厚みの確保を容易にしたりすることができる。より具体的にはアルミナ粒子と、金属アルミ粉末との混合物を用いることにより堆積厚が確保しやすくなる。   In the present invention, a plurality of ceramics and / or precursor particles thereof having different materials, shapes, particle diameters and the like may be used in combination as necessary. For example, by using ceramic particles and ceramic precursor particles in combination, it is possible to improve the sinterability and to easily ensure the thickness. More specifically, the deposition thickness can be easily secured by using a mixture of alumina particles and metal aluminum powder.

このようなセラミックス及び/又はその前駆体粒子は、溶剤に分散させることにより自然に帯電する。このような帯電したセラミックス粒子は、電極を用いて溶剤に電気を流すことにより、その有する電荷に応じて電極に引き付けられる。該帯電をより効率的に行うためには、硝酸、硫酸、および酢酸等の酸、あるいはテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、およびアンモニア等のアルカリを加えることによって溶剤のpHを調整することが好ましい。用いるセラミックス粒子の種類等にもよるが、一般的には、酸によりpHを3〜5程度にすることにより、効率よく正(+)に帯電させることが可能である。逆に塩基性にすることにより負(−)に帯電させることも可能である。   Such ceramics and / or precursor particles thereof are naturally charged by being dispersed in a solvent. Such charged ceramic particles are attracted to the electrode in accordance with the electric charge by passing electricity through the solvent using the electrode. In order to perform the charging more efficiently, it is preferable to adjust the pH of the solvent by adding an acid such as nitric acid, sulfuric acid and acetic acid, or an alkali such as tetramethylammonium hydroxide and ammonia. Although depending on the type of ceramic particles used, etc., it is generally possible to charge positively (+) efficiently by adjusting the pH to about 3 to 5 with an acid. Conversely, it can be negatively charged by making it basic.

セラミックス及び/又はその前駆体粒子を分散させる溶剤は、該粒子又は前記支台歯模型上に形成した導電層が完全に溶解してしまわない限り特に限定されるものではないが、セラミックス粒子の分散性、導電層の支台歯模型からの剥離のしにくさ、焼成時の除去されやすさ等を考慮すると揮発性の極性溶媒であることが好ましい。具体的には、水;エタノール、エチルセルソルブ、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、エトキシエタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類;オクチル酸、プロピオン酸等のカルボン酸類等が挙げられる。また、これらの2種以上の混合溶剤でもよい。これら溶剤に対するセラミックス及び/又はその前駆体粒子の分散量は特に限定されるものではないが、一般的には、セラミックス及び/又はその前駆体粒子の濃度が1〜30体積%となる程度である。   The solvent for dispersing the ceramic and / or its precursor particles is not particularly limited as long as the conductive layer formed on the particles or the abutment model is not completely dissolved. In view of the properties, difficulty of peeling the conductive layer from the abutment tooth model, ease of removal during firing, etc., a volatile polar solvent is preferable. Specific examples include water; alcohols such as ethanol, ethyl cellosolve, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, and ethoxyethanol; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl butyl ketone; and carboxylic acids such as octylic acid and propionic acid. Moreover, these 2 or more types of mixed solvents may be sufficient. The amount of the ceramic and / or its precursor particles dispersed in these solvents is not particularly limited, but in general, the concentration of the ceramic and / or its precursor particles is about 1 to 30% by volume. .

また、本発明で用いる溶剤としては、前記したようなpH調整のための酸又は塩基が配合されていてもよく、さらには、セラミックスの焼結時のクラックの発生防止や操作性を向上させるために解膠剤、結合剤等が添加されていても構わない。   In addition, as the solvent used in the present invention, an acid or base for pH adjustment as described above may be blended, and further, in order to improve the prevention of crack generation and operability during the sintering of ceramics. A peptizer, a binder or the like may be added.

解膠剤の例としては一般に苛性ソーダ、珪酸ソーダ、水ガラス、炭酸ソーダ、ソーダ灰、燐酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、蓚酸ソーダ、蓚酸アンモン、水酸化リチウム、炭酸リチウム、アルミン酸リチウム、クエン酸リチウム、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、モノアミルアミン、モノエチルアミン、モノ-iso-ブチルアミン、モノ-n-ブチルアミン、モノ-n-プロピルアミン、モノ-sec-ブチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、エチルアミン、水酸化四メチルアンモニウム、ポリビニールアミンを用いることができる。   Examples of peptizers are generally caustic soda, sodium silicate, water glass, sodium carbonate, soda ash, sodium phosphate, sodium aluminate, sodium oxalate, ammonium oxalate, lithium hydroxide, lithium carbonate, lithium aluminate, lithium citrate, Diethylamine, di-n-propylamine, monoamylamine, monoethylamine, mono-iso-butylamine, mono-n-butylamine, mono-n-propylamine, mono-sec-butylamine, triethylamine, pyridine, piperidine, ethylamine, water Tetramethylammonium oxide and polyvinylamine can be used.

また結合剤の例としては澱粉、可溶性澱粉、α化澱粉、デキストリン、アルギン酸、アルギン酸ソーダ、アラビアゴム、トラガカントゴム、ガッチゴム、カゼイン、カゼインソーダ、ブドウ糖、ゼラチン、膠(不純ゼラチン)、小麦粉、大豆蛋白、ペプトン、精蜜、Na-カルボキシルメチルセルロース、メチルセルロース、メチルエチルセルロース、酢酸セルロース、リグニンスルホン酸ソーダ、リグニンスルホン酸カルシウム、Na-カルボキシルメチル澱粉、ヒドロキシエチル澱粉、澱粉燐酸エステルソーダ、グリセリン、パルプ廃液、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸アミド、ポリアクリル酸ソーダ、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリエチレングリコール、ポリエチレン酸化物、ポリビニルピロリドン、ビニールピロリドン-酢ビ共重合物、タンニン酸、尿素、シェラック、ロジン乳濁液、動植物油(大豆油、魚油、牛脂など)、流動パラフィン、ワックスエマルジョン(カルナウバろう、カルボろう、地ろうなど)、セレシン、重油、機械油、スピンドル油、エチルセルロース、アセチルセルロース、エステルガム、ポリビニルアセテート、クロマン樹脂、石油樹脂、フェノール樹脂、エチレンシリケート等は、セラミックス粒子表面に吸着し粒子を効果的に分散させることができる。このような解膠剤、結合剤はセラミックス100重量部に対して0.2〜5重量部添加できる。なお、これら解膠剤、結合剤は、溶剤のpH調整剤としても作用するものもある。   Examples of binders include starch, soluble starch, pregelatinized starch, dextrin, alginic acid, sodium alginate, gum arabic, tragacanth gum, gucci gum, casein, casein soda, glucose, gelatin, glue (impure gelatin), wheat flour, soy protein, Peptone, honey, Na-carboxyl methyl cellulose, methyl cellulose, methyl ethyl cellulose, cellulose acetate, sodium lignin sulfonate, calcium lignin sulfonate, Na-carboxyl methyl starch, hydroxyethyl starch, starch phosphate soda, glycerin, pulp waste liquor, polyvinyl alcohol , Polyvinyl methyl ether, polyacrylic acid amide, polyacrylic acid soda, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, polyethylene glycol, polyethylene Lene oxide, polyvinylpyrrolidone, vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, tannic acid, urea, shellac, rosin emulsion, animal and vegetable oils (soybean oil, fish oil, beef tallow, etc.), liquid paraffin, wax emulsion (carnauba wax, carbo Wax, earth wax, etc.), ceresin, heavy oil, machine oil, spindle oil, ethyl cellulose, acetyl cellulose, ester gum, polyvinyl acetate, chroman resin, petroleum resin, phenol resin, ethylene silicate, etc. It can be dispersed effectively. Such peptizer and binder can be added in an amount of 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ceramic. Some of these peptizers and binders also act as solvent pH adjusters.

このようなセラミックス及び/又はその前駆体粒子が分散した溶剤に対し、前記導電層を形成した支台歯模型を浸漬するが、該支台歯模型を一方の電極として溶剤中に電流を流すために、該溶剤中には、支台歯模型における導電層と電気的に導通した対極も浸漬される。この対極は導電性のあるものであれば特に制限されず、各種金属や合金、あるいは炭素電極等を用いればよい。   The abutment tooth model in which the conductive layer is formed is immersed in such a solvent in which ceramics and / or precursor particles thereof are dispersed. In order to pass a current through the solvent using the abutment tooth model as one electrode. In addition, a counter electrode that is electrically connected to the conductive layer in the abutment tooth model is also immersed in the solvent. The counter electrode is not particularly limited as long as it has conductivity, and various metals, alloys, carbon electrodes, or the like may be used.

帯電したセラミックス及び/又はその前駆体粒子が分散されており、さらに必要に応じて酸或いは塩基、解膠剤、結合剤等が混合溶解させられた溶剤は、イオン導電性を示すものとなっているため、上記支台歯模型における導電層と対極とを電極として電流を流すことにより、溶剤中の各成分は、その有する電荷に応じていずれかの電極に引き付けられる。このときセラミックス及び/又はその前駆体粒子が支台歯模型の導電層側に引き付けられるように正負の極性を選択することにより、該導電層上にセラミックス粒子が堆積する。その堆積厚さは、製造を目的とする歯冠修復物の大きさや形状等を勘案して適宜決定すればよく、一般的には、0.2〜10mmであり、特に0.5〜1mm程度のものが必要とされる場合が多い。   A solvent in which charged ceramics and / or precursor particles thereof are dispersed and in which an acid or a base, a peptizer, a binder and the like are mixed and dissolved as necessary exhibits ionic conductivity. Therefore, by passing an electric current using the conductive layer and the counter electrode in the abutment tooth model as electrodes, each component in the solvent is attracted to one of the electrodes according to the charge that the solvent has. At this time, the ceramic particles are deposited on the conductive layer by selecting the positive and negative polarities so that the ceramic and / or its precursor particles are attracted to the conductive layer side of the abutment tooth model. The deposited thickness may be appropriately determined in consideration of the size, shape, etc. of the crown restoration intended for production, and is generally 0.2 to 10 mm, particularly about 0.5 to 1 mm. Are often needed.

この電気泳動の印加電圧、電流および印加時間は、所望の膜厚に従い調整可能であるが概ね1V〜300V、1〜300mA/cm、30秒〜6時間程度で十分均一で、且つ堆積密度の高い膜が得られる。なお、このときの印加電圧は、用いた溶剤等が電気分解してしまわない程度にしておくことが好ましい。逆に高速で堆積させたいなど、高い電圧を印加する必要がある場合には、該電圧で電気分解してしまうような成分の配合はできるだけ抑制することが好ましい。 The applied voltage, current, and application time of this electrophoresis can be adjusted according to the desired film thickness, but are approximately 1 V to 300 V, 1 to 300 mA / cm 2 , about 30 seconds to 6 hours, and are sufficiently uniform and have a deposition density. A high film is obtained. In addition, it is preferable that the applied voltage at this time is set to such an extent that the used solvent or the like is not electrolyzed. Conversely, when it is necessary to apply a high voltage, for example, when it is desired to deposit at a high speed, it is preferable to suppress the blending of components that cause electrolysis at the voltage as much as possible.

このようにしてセラミックス及び/又はその前駆体粒子が導電層上に堆積した支台歯模型は、その後、溶剤中から引き上げ、乾燥させることにより、修復物前駆体となる。なお、必要に応じ、場所により厚さを変えたい場合には、まずより厚いことを望む部分(例えば、ポンティック部分)に導電層を形成して堆積させ、その後、より薄くてもよい部分(例えば、支台部分)にさらに導電層を形成して、再度浸漬、通電する方法を採用することも可能である。さらに必要に応じて、用いるセラミックス及び/又はその前駆体粒子を変更して、異なるセラミックス及び/又はその前駆体粒子を積層させた多層構造の歯科用修復物を得ることも可能である。   The abutment tooth model in which ceramics and / or precursor particles thereof are thus deposited on the conductive layer is then pulled up from the solvent and dried to become a restoration precursor. In addition, if it is desired to change the thickness depending on the location, a conductive layer is first formed and deposited on a portion where the thickness is desired (for example, a pontic portion), and then a portion that may be thinner ( For example, it is also possible to employ a method in which a conductive layer is further formed on the abutment portion, and then immersed and energized again. Furthermore, if necessary, it is also possible to change a ceramic to be used and / or precursor particles thereof to obtain a dental restoration having a multilayer structure in which different ceramics and / or precursor particles thereof are laminated.

ついでこの修復物前駆体を加熱することにより、導電層上に堆積したセラミックス及び/又はその前駆体粒子を焼結させるが、本発明においては、この加熱に際して、修復物前駆体を支台歯模型上から取り外すことなく行う必要がある。修復物前駆体を支台歯模型上から取り外してから加熱してセラミックス及び/又はその前駆体粒子を焼結させた場合、この焼結により大きく収縮してしまい、適合性に優れた修復物を得ることが極めて困難となる。   Next, the restoration precursor is heated to sinter the ceramics and / or its precursor particles deposited on the conductive layer. In the present invention, the restoration precursor is used as the abutment tooth model in this heating. Must be done without removing from the top. When the restoration precursor is removed from the abutment tooth model and heated to sinter the ceramic and / or its precursor particles, the sintering will greatly shrink, resulting in a restoration with excellent compatibility. It becomes extremely difficult to obtain.

該加熱の温度は、用いたセラミックス及び/又はその前駆体粒子が焼結する温度以上であればよく、公知の条件を適宜採用すればよいが、概ねアルミニアおよびジルコニアでは1250℃〜1600℃の温度範囲で2時間〜8時間焼成することにより緻密化する。   The heating temperature may be equal to or higher than the temperature at which the used ceramic and / or precursor particles thereof are sintered, and known conditions may be adopted as appropriate. In general, the temperature of 1250 ° C. to 1600 ° C. is used for aluminia and zirconia. It densifies by baking for 2 to 8 hours in the range.

可燃性の導電性物質は、上記のようなセラミックス及び/又はその前駆体粒子が焼結する温度よりも遥かに低い温度で燃焼し焼失する。即ち、修復物前駆体の加熱により、まず比較的低温部で、可燃性物質からなる導電層が焼却・除去される。これにより支台歯模型から容易にとりはずすことが可能となり、また必要なマージン部が既に形成されたセラミックス製歯科用修復物とすることができる。この際の温度は、用いた可燃性物質にもよるが、300〜700℃程度である。また、次の工程のセラミックス及び/又はその前駆体粒子が完全に焼結前に充分に可燃性物質を焼却・除去されることが好ましく、一般的には、酸化性雰囲気下(空気中でよい)に上記温度で、30分〜2時間程度加熱すればよい。また解膠剤や結合剤を配合した場合にも、通常はこの300℃〜700℃の範囲での保持により焼却除去される。なお、このような300℃〜700℃の範囲での保持によっても、セラミックス及び/又はその前駆体粒子の焼結はある程度進行する。   The combustible conductive material burns and burns at a temperature much lower than the temperature at which the ceramics and / or precursor particles thereof are sintered. That is, by heating the restoration precursor, first, a conductive layer made of a combustible substance is incinerated and removed at a relatively low temperature portion. As a result, it can be easily removed from the abutment tooth model, and a ceramic dental restoration having a necessary margin portion already formed can be obtained. The temperature at this time is about 300 to 700 ° C. although it depends on the combustible material used. In addition, it is preferable that the combustible material is sufficiently incinerated and removed before the ceramics and / or precursor particles thereof in the next step are completely sintered, and generally, in an oxidizing atmosphere (in air) ) At the above temperature for about 30 minutes to 2 hours. Further, when a peptizer or a binder is blended, it is usually removed by incineration by holding in the range of 300 to 700 ° C. It should be noted that the sintering of the ceramic and / or its precursor particles proceeds to some extent even by such holding in the range of 300 ° C. to 700 ° C.

本発明の製造方法においては、主に導電層を形成するために用いた可燃性物質の除去するための加熱と、主にセラミックス及び/又はその前駆体粒子を焼結させて緻密化させるための加熱を別々に行っても良い(一旦冷却しても良い)が、通常は引き続いて昇温させる方法が好ましい。   In the production method of the present invention, heating for mainly removing the combustible material used for forming the conductive layer, and sintering and densification of the ceramic and / or its precursor particles are mainly used. Heating may be performed separately (it may be cooled once), but usually a method of successively raising the temperature is preferred.

またこの場合の加熱には主に電気炉が用いられるが、該電気炉としては1600℃程度の温度が得られるものであれば良い。   Moreover, although an electric furnace is mainly used for heating in this case, any electric furnace that can obtain a temperature of about 1600 ° C. may be used.

このようにして得られたセラミックス製歯科用修復物は、その後、他の方法で得られた歯科用修復物と同様の方法で使用すればよい。   The ceramic dental restoration thus obtained may then be used in the same manner as a dental restoration obtained by another method.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、本実施例及び比較例で用いた材料及び評価方法は次の通りである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples. The materials and the evaluation methods used in the examples and comparative examples are as follows.

支台歯模型の作製
ニッシン社製実習用顎模型530を口腔内の4本ブリッジを想定したモデルとした。欠損歯の小臼歯、大臼歯部に6mmΦと4mmΦ、高さ3mmの円筒状のワックスを設置し、これにGE東芝シリコーン社製シロプレンRTV−2Kを用い複印象を作製した。さらに上記複印象にジーセラコスモテック2ベスト(GC社製)を用いて複模型を作製した。これをトリミングし、支台歯模型とした。
Preparation of Abutment Tooth Model A training jaw model 530 manufactured by Nissin Co., Ltd. was assumed to be a model assuming four bridges in the oral cavity. Cylindrical RTV-2K manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd. was used to make a double impression on cylindrical teeth of 6 mmΦ and 4 mmΦ, and 3 mm in height. Further, a double model was prepared using the Giesa Cosmotech 2 vest (manufactured by GC) for the double impression. This was trimmed to obtain an abutment tooth model.

セラミックス焼結体密度の測定
重さを測定した試料をケロシン中に浸漬し、デシケーター中で2時間減圧下で保持した。この時点でケロシン中の試料から気泡が発生しなくなっていることを確認した。さらにこのケロシン浸漬を行った試料のケロシン中での重さ(w2)と、ケロシン中から試料を取り出して空気中での重さ(w1)を測定した。これらw1、w2と、浸漬前の試料の重さ(w)及びケロシンの密度ρとから、下記式に従って密度(ρ)を求めた。さらに、これより得られた密度を理論密度の百分率で表したものを相対密度とした。
ρ=wρ/(w1−w2)
w:浸漬前の試料の重さ:w
w1:ケロシン浸漬後の試料の重さ:w1
w2:ケロシン中で試料の重さ:w2
ρ:ケロシンの密度
曲げ強度
曲げ強度の測定試料はジーセラコスモテック2ベスト(GC社製)を用いて25mm×5mm×5mmの大きさのモールドを形成した。そのモールドの底部に導電層を形成してセラミックス粉末を電気泳動で堆積させるか、あるいはセラミックスペーストを塗布、乾燥させた。その後、所定の温度で焼成し試料とした。この焼成試料を、回転研磨機(マルトー社製、ダイヤラップ)を用いて、幅4mm、厚さ1.2mm、長さが20mmの長方形になるように研削・研磨し、表面を1μmのダイヤモンドスラリーにより鏡面に仕上げた。強度試験機(島津製作所社製、オートグラフ)によりクロスヘッド速度1mm/分、スパン距離15mmの条件で3点曲げ試験を行い曲げ強度を求めた。
Measurement of sintered ceramics density The weight-measured sample was immersed in kerosene and held in a desiccator under reduced pressure for 2 hours. At this point, it was confirmed that no bubbles were generated from the sample in kerosene. Furthermore, the weight (w2) in the kerosene of the sample which performed this kerosene immersion, the sample was taken out from kerosene, and the weight (w1) in the air was measured. From these w1 and w2, the weight (w) of the sample before immersion and the density ρ k of kerosene, the density (ρ) was determined according to the following formula. Further, the density obtained as a percentage of the theoretical density was taken as the relative density.
ρ = wρ k / (w1-w2)
w: Weight of sample before immersion: w
w1: Weight of sample after kerosene immersion: w1
w2: Weight of sample in kerosene: w2
ρ k : Kerosene density Bending strength A sample having a size of 25 mm × 5 mm × 5 mm was formed as a measurement sample of bending strength using Gyera Cosmotech 2 vest (manufactured by GC). A conductive layer was formed on the bottom of the mold and ceramic powder was deposited by electrophoresis, or a ceramic paste was applied and dried. Thereafter, it was fired at a predetermined temperature to obtain a sample. This fired sample is ground and polished into a rectangular shape having a width of 4 mm, a thickness of 1.2 mm, and a length of 20 mm by using a rotary polishing machine (Malto Co., Ltd., diamond wrap), and a diamond slurry having a surface of 1 μm. To finish the mirror surface. A bending strength was obtained by performing a three-point bending test with a strength tester (manufactured by Shimadzu Corporation, Autograph) under the conditions of a crosshead speed of 1 mm / min and a span distance of 15 mm.

実施例1
イットリア安定化ジルコニア(TZ-3YE、東ソー社製)30.25gをエタノール95mlに添加したのち、酢酸を用い、pHを4.5に調整し、その後2時間攪拌した。一方、ポリビニルブチラール1200(和光純薬社製)を1.2g計り取り、98.8gのエタノールに溶かし1.2wt%の溶液とした。この溶液5mlを上記スラリーに添加した。
Example 1
After adding 30.25 g of yttria-stabilized zirconia (TZ-3YE, manufactured by Tosoh Corp.) to 95 ml of ethanol, the pH was adjusted to 4.5 using acetic acid, and then stirred for 2 hours. Meanwhile, 1.2 g of polyvinyl butyral 1200 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was weighed and dissolved in 98.8 g of ethanol to obtain a 1.2 wt% solution. 5 ml of this solution was added to the slurry.

支台歯模型にカーボンペースト(ドータイトXC−12、藤倉化成社製)を0.5mm以下の暑さになるように所定の部位の全面に塗布し、銅製のリード線を該支台歯に銀ペースト(ドータイトD−550、藤倉化成社製)で接着し、電極とした。カーボンペースト乾燥後の厚さは平均値で約0.011mmであった。カーボンペーストを塗布し銅線を設置した支台歯模型とステンレス板をスラリー中に浸し、それぞれを負極、正極として100Vの直流電圧を15分間印加した。この時に堆積したイットリア安定化ジルコニアの厚みは2mmであった。このようにして作製したコーピング前駆体を支台歯模型ごと電気炉(SUPER BURN,モトヤマ社製)を用い、500℃で1時間、1350℃で3時間焼成しイットリア安定化ジルコニア製のコーピングを得た。該コーピングの相対密度は99%であった。   A carbon paste (Dotite XC-12, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) is applied to the abutment tooth model so that the heat is 0.5 mm or less, and a copper lead wire is silver on the abutment tooth. The electrode was adhered with a paste (Doutite D-550, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.). The average thickness after drying the carbon paste was about 0.011 mm. An abutment tooth model on which a carbon paste was applied and a copper wire was installed and a stainless steel plate were immersed in the slurry, and a DC voltage of 100 V was applied for 15 minutes as a negative electrode and a positive electrode, respectively. The yttria-stabilized zirconia deposited at this time had a thickness of 2 mm. The coping precursor thus prepared is baked together with an abutment tooth model using an electric furnace (SUPER BURN, manufactured by Motoyama) at 500 ° C. for 1 hour and 1350 ° C. for 3 hours to obtain a coping made of yttria stabilized zirconia. It was. The relative density of the coping was 99%.

支台歯模型の代わりに曲げ強度用のモールドを用いて、上記と同様の方法で曲げ強度試験用の試料を作成した。その結果、曲げ強度は1200MPaであった。なお、セラミックス粒子堆積のための電圧付与は60分間行った。   Using a bending strength mold instead of the abutment tooth model, a bending strength test sample was prepared in the same manner as described above. As a result, the bending strength was 1200 MPa. In addition, the voltage application for ceramic particle deposition was performed for 60 minutes.

実施例2
アルミナ(TM−DAR、大明化学工業)19.75gをエタノール95mlに添加し2時間攪拌した後、酢酸を用いpHを5に調整した。
Example 2
19.75 g of alumina (TM-DAR, Daimei Chemical Industries) was added to 95 ml of ethanol and stirred for 2 hours, and then the pH was adjusted to 5 using acetic acid.

炭素繊維0.1g(VGCF、昭和電工社製、平均繊維径0.15μm)を酢酸エチル12gを分散させペーストとした。上記ペーストを実施例1と同様に支台歯模型に塗布し、銅線を設置することにより電極とした。カーボンペースト乾燥後の厚さは平均値で約0.023mmであった。これを用いて100Vの直流電圧を15分間印加した。この時の堆積されたアルミナの厚みは1.7mmであった。このようにして作製したコーピング前駆体を支台歯模型ごと電気炉(SUPER BURN,モトヤマ社製)を用い、500℃で1時間、1350℃で3時間焼成しアルミアによるコーピングを得た。該コーピング密度の相対密度は97%であった。   0.1 g of carbon fiber (VGCF, Showa Denko KK, average fiber diameter of 0.15 μm) was dispersed in 12 g of ethyl acetate to obtain a paste. The said paste was apply | coated to the abutment tooth model similarly to Example 1, and it was set as the electrode by installing a copper wire. The average thickness after drying the carbon paste was about 0.023 mm. Using this, a DC voltage of 100 V was applied for 15 minutes. The thickness of the deposited alumina at this time was 1.7 mm. The coping precursor thus prepared was fired together with the abutment tooth model using an electric furnace (SUPER BURN, manufactured by Motoyama) at 500 ° C. for 1 hour and 1350 ° C. for 3 hours to obtain an aluminum coping. The relative density of the coping density was 97%.

支台歯模型の代わりに曲げ強度用のモールドを用いて、上記と同様の方法で曲げ強度試験用の試料を作成した。その結果、曲げ強度は700MPaであった。なお、セラミックス粒子堆積のための電圧付与は90分間行った。   Using a bending strength mold instead of the abutment tooth model, a bending strength test sample was prepared in the same manner as described above. As a result, the bending strength was 700 MPa. In addition, the voltage application for ceramic particle deposition was performed for 90 minutes.

実施例3
イットリア安定化ジルコニア(TZ−3YE、東ソー社製)22.0gとアルミナ(TM−DAR、大明化学工業)5.5gをエタノール95mlに添加し2時間攪拌した後酢酸を用いpHを5.5に調整した。
Example 3
22.0 g of yttria-stabilized zirconia (TZ-3YE, manufactured by Tosoh Corporation) and 5.5 g of alumina (TM-DAR, Daimei Chemical Co., Ltd.) were added to 95 ml of ethanol, stirred for 2 hours, and then adjusted to pH 5.5 using acetic acid. It was adjusted.

炭素繊維0.1g(VGCF、昭和電工社製、平均繊維径0.15μm)を酢酸エチル12gを分散させペーストとした。上記ペーストを実施例1と同様に支台歯模型に塗布し、銅線を設置することにより電極とした。カーボンペースト乾燥後の厚さは平均値で約0.24mmであった。これを用いて、100Vの直流電圧を15分間印加した。この時の堆積されたジルコニア‐アルミナの厚みは2.2mm。このようにして作製したコーピング前駆体を支台歯模型ごと電気炉(SUPER BURN,モトヤマ社製)を用い、500℃で1時間、1350℃で3時間焼成しジルコニア‐アルミナによるコーピングを得た。該コーピングの相対密度は95%であった。   0.1 g of carbon fiber (VGCF, manufactured by Showa Denko KK, average fiber diameter of 0.15 μm) was dispersed in 12 g of ethyl acetate to obtain a paste. The said paste was apply | coated to the abutment tooth model similarly to Example 1, and it was set as the electrode by installing a copper wire. The average thickness after drying the carbon paste was about 0.24 mm. Using this, a DC voltage of 100 V was applied for 15 minutes. At this time, the deposited zirconia-alumina had a thickness of 2.2 mm. The coping precursor thus prepared was calcined together with an abutment tooth model using an electric furnace (SUPER BURN, manufactured by Motoyama) at 500 ° C. for 1 hour and 1350 ° C. for 3 hours to obtain a zirconia-alumina coping. The relative density of the coping was 95%.

支台歯模型の代わりに曲げ強度用のモールドを用いて、上記と同様の方法で曲げ強度試験用の試料を作成した。その結果、曲げ強度は1500MPaであった。なお、セラミックス粒子を堆積のための電圧付与は70分間行った。   Using a bending strength mold instead of the abutment tooth model, a bending strength test sample was prepared in the same manner as described above. As a result, the bending strength was 1500 MPa. The voltage application for depositing the ceramic particles was performed for 70 minutes.

実施例4
アルミナ(TM−DAR、大明化学工業)9.99gとアルミニウム(和光純薬)6.66gをエタノール95mlに添加し2時間攪拌した後、酢酸を用いpHを4.0に調整した。カーボンペースト(ドータイトD−550、藤倉化成社製)を実施例1と同様に支台歯模型に塗布し、銅線を設置することにより電極とした。カーボンペースト乾燥後の厚さは平均値で約0.006mmであった。これを用いて、100Vの直流電圧を10分間印加した。この時の堆積されたアルミナの厚みは2.5mmであった。このようにして作製したコーピング前駆体を支台歯模型ごと電気炉(SUPER BURN,モトヤマ社製)を用い、500℃で1時間、1350℃で10時間焼成しアルミアによるコーピングを得た。該コーピングの相対密度は94%であった。
Example 4
After adding 9.99 g of alumina (TM-DAR, Daimei Chemical Industries) and 6.66 g of aluminum (Wako Pure Chemical Industries) to 95 ml of ethanol and stirring for 2 hours, the pH was adjusted to 4.0 using acetic acid. Carbon paste (Dotite D-550, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) was applied to the abutment tooth model in the same manner as in Example 1, and a copper wire was installed to obtain an electrode. The average thickness after drying the carbon paste was about 0.006 mm. Using this, a DC voltage of 100 V was applied for 10 minutes. The thickness of the deposited alumina at this time was 2.5 mm. The coping precursor thus produced was baked together with the abutment tooth model using an electric furnace (SUPER BURN, manufactured by Motoyama) at 500 ° C. for 1 hour and 1350 ° C. for 10 hours to obtain a coping by aluminum. The relative density of the coping was 94%.

支台歯模型の代わりに曲げ強度用のモールドを用いて、上記と同様の方法で曲げ強度試験用の試料を作成した。その結果、曲げ強度は650MPaであった。なお、セラミックス粒子を堆積のための電圧付与は40分間行った。   Using a bending strength mold instead of the abutment tooth model, a bending strength test sample was prepared in the same manner as described above. As a result, the bending strength was 650 MPa. Note that voltage application for depositing ceramic particles was performed for 40 minutes.

実施例5
アルミナ(TM−DAR、大明化学工業)19.75gをエタノール95mlに添加し2時間攪拌した後、アンモニア水溶液を用いpHを9に調整した。
Example 5
19.75 g of alumina (TM-DAR, Daimei Chemical Industries) was added to 95 ml of ethanol and stirred for 2 hours, and then the pH was adjusted to 9 using an aqueous ammonia solution.

実施例1と同様にカーボンペースト(ドータイトXC−12)を支台歯模型に塗布し、銅線を設置することにより電極とした。カーボンペースト乾燥後の厚さは平均値で約0.023mmであった。これを用いて、100Vの直流電圧を15分間印加した。この時の堆積されたアルミナの厚みは2.3mmであった。このようにして作製したコーピング前駆体を支台歯模型ごと電気炉(SUPER BURN,モトヤマ社製)を用いて、500℃で1時間、1350℃で3時間焼成しアルミアによるコーピングを得た。該コーピングの相対密度は96%であった。   Similarly to Example 1, carbon paste (Dotite XC-12) was applied to the abutment tooth model, and a copper wire was installed to obtain an electrode. The average thickness after drying the carbon paste was about 0.023 mm. Using this, a DC voltage of 100 V was applied for 15 minutes. At this time, the thickness of the deposited alumina was 2.3 mm. The coping precursor thus prepared together with the abutment tooth model was baked at 500 ° C. for 1 hour and 1350 ° C. for 3 hours using an electric furnace (SUPER BURN, manufactured by Motoyama) to obtain a coping by aluminum. The relative density of the coping was 96%.

支台歯模型の代わりに曲げ強度用のモールドを用いて、上記と同様の方法で曲げ強度試験用の試料を作成した。その結果、曲げ強度は660MPaであった。なお、セラミックス粒子を堆積のための電圧付与は60分間行った。   Using a bending strength mold instead of the abutment tooth model, a bending strength test sample was prepared in the same manner as described above. As a result, the bending strength was 660 MPa. Note that voltage application for depositing ceramic particles was performed for 60 minutes.

比較例1
イットリア安定化ジルコニア(TZ−3YE、東ソー社製)30.25gをエタノール95mlに添加し2時間攪拌したのち、酢酸を用い、pHを4.0に調整した。カーボンペーストの代わりに銀ペースト(ドータイトD−550、藤倉化成社製)を用い(乾燥後塗布厚さ0.046mm)、堆積時の電圧を80Vとした以外は、実施例1と同様にして導電層を形成してジルコニアを堆積させた。この時の堆積されたジルコニアの厚みは2.5mmであった。このようにして作製したコーピング前駆体を支台歯模型ごと電気炉(SUPER BURN,モトヤマ社製)を用い、500℃で1時間、1350℃で3時間焼成したが、支台歯模型から外れず、また得られたコーピングは灰色がかった色調であった。
Comparative Example 1
After adding 30.25 g of yttria-stabilized zirconia (TZ-3YE, manufactured by Tosoh Corporation) to 95 ml of ethanol and stirring for 2 hours, the pH was adjusted to 4.0 using acetic acid. Conductivity was the same as in Example 1 except that silver paste (Dotite D-550, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.) was used instead of the carbon paste (coating thickness after drying 0.046 mm), and the voltage during deposition was 80 V. A layer was formed to deposit zirconia. At this time, the deposited zirconia had a thickness of 2.5 mm. The coping precursor thus prepared was baked together with an abutment tooth model using an electric furnace (SUPER BURN, manufactured by Motoyama) at 500 ° C. for 1 hour and 1350 ° C. for 3 hours. Also, the coping obtained was greyish.

比較例2
実施例1と同様に作製したセラミックス粉末のスラリーを、厚さ約2mmとなるよう支台歯模型に筆で塗布した後、乾燥させた。ついで支台歯模型ごと電気炉(SUPER BURN、モトヤマ社製)を用い、500℃で1時間、1350℃で3時間焼成したところ、収縮により歯冠の形態は維持されなかった。
Comparative Example 2
A slurry of ceramic powder prepared in the same manner as in Example 1 was applied to an abutment tooth model with a brush so as to have a thickness of about 2 mm, and then dried. Subsequently, when the abutment tooth model was baked at 500 ° C. for 1 hour and 1350 ° C. for 3 hours using an electric furnace (SUPER BURN, manufactured by Motoyama), the shape of the crown was not maintained due to shrinkage.

比較例3
カーボンペーストの代わりにエチルセルロースを用いた以外は実施例1と同様に操作を行ったが、電圧を印加しても支台歯模型上にセラミックスは堆積しなかった。
Comparative Example 3
The operation was performed in the same manner as in Example 1 except that ethyl cellulose was used in place of the carbon paste, but no ceramic was deposited on the abutment tooth model even when a voltage was applied.

Claims (1)

歯牙欠損部を修復するために用いるセラミックス製の修復物を、電気泳動成形法によりセラミックス及び/又はその前駆体粒子を堆積させて修復物前駆体を得、その後、該修復物前駆体を加熱することによってセラミックス及び/又はその前駆体粒子を焼結させて製造する方法において、(1)該電気泳動成形法によるセラミックス及び/又はその前駆体粒子の堆積の際の電極として、可燃性の導電性物質で形成した0.005〜0.5mmの厚さの導電層を有する支台歯模型を用い、かつ(2)修復物前駆体の加熱によるセラミックス及び/又はその前駆体粒子の焼結を、該修復物前駆体を支台歯模型から取り外さずに行うことを特徴とするセラミックス製歯科用修復物の製造方法。
A ceramic restoration used to repair a tooth defect portion is obtained by depositing ceramics and / or its precursor particles by an electrophoretic molding method to obtain a restoration precursor, and then heating the restoration precursor. In the method for producing ceramics and / or precursor particles thereof by sintering, (1) combustible conductivity as an electrode when depositing ceramics and / or precursor particles thereof by the electrophoretic molding method Using an abutment tooth model having a conductive layer with a thickness of 0.005 to 0.5 mm formed of a substance, and (2) sintering ceramics and / or precursor particles thereof by heating a restoration precursor, A method for producing a dental restoration made of ceramics, which is performed without removing the restoration precursor from the abutment tooth model.
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