JP4419948B2 - 光記録再生方法 - Google Patents
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Description
近年、このような光記録媒体において、益々大容量化、高記録密度化が望まれていることから、より小さい記録マークを光記録媒体に形成し、それを高い解像度をもって読み出す技術が検討されている。
NAobj=nA×sinθ
である。ここで、nAはレンズと光記録媒体との間に介在する媒質、すなわち空気の屈折率、θは対物レンズの周辺光線の入射角度である。媒質が空気である以上NAobjは1を超えることができず、解像度に限界がある。このため、光記録再生装置では、その光源、例えば半導体レーザの短波長化や、集光レンズの開口数の増大化が図られている。
光記録媒体に近接場光を照射して記録再生を行う手法として、対物用の光学レンズとソリッドイマージョンレンズ(SIL:Solid Immersion Lens、固浸レンズ)とを組み合わせて近接場光学系を構成し、これによりニアフィールド光記録再生を行う方法が提案されている(例えば特許文献1参照。)。
NA=nSIL 2NA0 ・・・(1)
と表される。ここで、nSILはSILを構成する材料の屈折率、NA0はSILと組み合わせる光源側に配置する光学レンズの開口数である。
上記式(1)より、SILを構成する材料(対物レンズと光記録媒体との間の媒質とみなされる)の屈折率を上げることにより、開口数NAを高くすることができることが分かる。
n≧NA ・・・・(2)
となることが、解像度を確実に高めるために必要であることを見出した(例えば特許文献2参照。)。
上記式(2)の条件を満たさない場合は、開口数NAで得られるスポット内の一部しかされず、観察スポットの外縁部が全反射により白くなってしまい、上記式(2)の条件を満たす場合は、開口数NAで得られるスポット内全体が観察される。これにより、確実に解像度を高め、良好な記録再生特性をもって微小な記録マークの再生が可能となる。
これに対して、光記録媒体の最表面を構成する材料として、上記特許文献2において示される上記式(2)の条件を満たすものが必要となる。通常の光記録媒体の保護膜等として用いられる誘電体材料として、高い屈折率の材料が用いられることによって、解像度を確実に高めることが可能となる。
このため、光記録媒体の最表面を構成する材料としては、屈折率が極めて高いものであると同時に、SILとの間隔が微小なことを考慮して、また記録層等を確実に保護するために、ある程度の硬度を有するものであることが望ましい。
しかしながら現状では高屈折率で高硬度の光透過性材料が見当たらず、例えば2.0を超える高い開口数をもって近接場光による記録再生を行う場合に、確実に高い解像度を実現できる光記録媒体は報告されていない。
n≧NA ・・・・(2)
である条件を満たすものとし、一方、再生側の最表面を高硬度の第2の光透過性誘電体層を設けることによって、良好に近接場光による記録再生を行うことが可能となる。
特に本発明の光記録再生方法に用いる光記録媒体において、第2の光透過性誘電体層の膜厚を10nm以下として構成することにより、第2の光透過性誘電体層の屈折率にかかわらず、第1の光透過性誘電体層の材料を高い屈折率とすることによって、確実に高い解像度をもって近接場光による記録再生を行うことができる。
更に、本発明の光記録再生方法に用いる光記録媒体において、第2の光透過性誘電体層を、ビッカース硬度が1000[kg/mm2]以上の材料より構成することによって、光記録媒体の表面の破損やSIL等の対物レンズの汚損を回避ないし抑制し、良好な記録再生を行うことが可能となる。
図1は、本発明による光記録媒体の一実施形態例の要部の概略断面構成図である。図1に示すように、本発明の光記録媒体1は、基板10上に、反射層62と記録部63が設けられ、更にその上の再生側表面に、高い屈折率の第1の光透過性誘電体層64と、その上に高硬度の第2の光透過性誘電体層65とが積層形成された構造とする。図1において、1Aは光記録媒体1の再生側表面を示す。
なお、第2の光透過性誘電体層65の厚さtは、後述するように10nm以下程度とすることが望ましい。
また、近接場光照射手段2、例えばSILと光記録媒体1との間隔、いわゆるギャップdは、記録及び/又は再生用の光の波長の10分の1以下程度とすることが望ましい。
図2に示すように、この光学ピックアップ50においては、光源10から出射された光は、コリメートレンズ11により平行光とされて、偏光ビームスプリッタ13を通過して1/4波長板14を介してビームエキスパンダー15によってビーム幅を調整されて、例えばダイクロイックプリズム45により反射されてアクチュエータ17に搭載された近接場光学系4、すなわち光学レンズ3及び近接場光照射手段2、例えばSILに入射され、光記録媒体1に近接場光として照射される。
光記録媒体1の記録面から反射された光は、近接場光照射手段2、光学レンズ3を介してダイクロイックプリズム45により反射され、ビームエキスパンダー15、1/4波長板14を介して偏光ビームスプリッタ13により一部反射されてレンズ18により記録再生用の信号として受光部19に集光される。
光記録媒体1からのギャップ検出用光の戻り光は、ダイクロイックプリズム45通過し、1/4波長板44を通過して、偏光ビームスプリッタ43により殆ど反射されるが、この偏光ビームスプリッタ45から漏れた光をビームスプリッタ42で反射してレンズ20を介して受光部21で検出し、これにより図1に示すギャップdの制御を行うことができる。
なお、ギャップの検出方法としては、その他例えば静電容量の変化を検出する方法など、種々の方法を採ることができる。
以下の例においては、光記録媒体に近接場光を照射する近接場光照射手段として、SILを用いた。
このSILを構成する材料は、上述したように、高開口数を達成するためには、屈折率の高い材料を用いることが望ましい。本出願人は、KTaO3(屈折率約2.397)より成るSILを作製した。この場合のSILの概略斜視構成図、側面図及び平面図を図3A〜Cに示す。図3B及びCに示すように、このSILすなわち近接場光照射手段2においては、光記録媒体1と対向する部分を円錐形状とし、対物面9を平面円形状として作製した。
このKTaO3より成るSILをNA0=0.42の非球面レンズと組み合わせ、SILへの入射角度を適切に選定して、近接場光学系の実効的な開口数をNA=2.21として構成した。
このような構成の2群対物レンズを図2に示す近接場光学系4として組み込んで、以下に示す光記録媒体の記録再生を行った。
n<NA
となってしまい、前述の式(2)、すなわちn≧NAの条件を満足しないことから、十分なエバネッセント結合が行われず、その光学的特性は劣化することが予想される。
そこで、第2の比較例による光記録媒体として、図5に示すように、光記録媒体の最表面層としてTiO2層76を設ける構成とした。図5において、図4と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。この場合、各層62及び71〜73の厚さを上述の図4に示す第1の比較例と同様の厚さとし、ZnS−SiO2層74の厚さを20nmとして、またTiO2層76の厚さを50nmとして成膜した。
この例においては、ZnS−SiO2層74の厚さを20nmとし、その上に第1の誘電体層76としてTiO2層を厚さ50nmとして成膜し、さらにその表面に第2の光透過性誘電体層65としてSi3N4層を厚さ5nmとして成膜した。その他の層62及び71〜73の厚さは上述の第1及び第2の比較例と同様として構成した。
尚、これら第1及び第2の光透過性誘電体層64及び65をはじめ、各層の材料とその膜厚は検討用の一時的なものであり、本発明の光記録媒体はこれらの材料及び膜厚に限定されるものではない。
先ず開口数NAが1.0以上の近接場光に対し、光記録媒体と有効に結合し、近接場光が光記録媒体に進入できているかどうかを確認するために、SILの先端からの瞳パターンの確認を行った。通常、SIL等の対物レンズをオープンな状態とし、レンズ端が屈折率1.0の空気層とのみ隣接している場合、すなわちSILと光記録媒体の表面とが十分近接していない場合には、図7に示すように、NA>1.0以上の領域がリングのように白く光っていることが分かる。この状態では、白く光っている部分がレンズ端面にて全反射されていることを示す。
すなわちこの場合には、光記録媒体の内部には高NA成分の光が進入できていないこととなり、高NA化が実現できていないことを示すものである。
これは、図11に示すように、TiO2のビッカース硬度が879[kg/mm2]と比較的低いために、SILが光記録媒体の表面に接触した場合、もしくは光記録媒体の表面に存在する突起物(この突起物も同じくTiO2から成る)にSILが触れた瞬間に、TiO2がはぎ取られてその破片がSIL先端面に塵として付着したものと考えられる。
この実施形態例による光記録媒体に対して信号の記録再生を行ってその再生特性を測定したところ、図12に示すように、安定した再生波形を得ることができることを確認した。
また、光記録媒体の構成は、相変化型の他、凹凸ピットパターンによる記録マークを設けるいわゆる再生専用型、色素記録型、光磁気記録型など、各種の記録再生方式による光記録媒体に対し本発明を適用するができ、本発明構成とすることにより、高い解像度をもって、実用的に安定した近接場光による記録再生を行うことが可能となる。
Claims (3)
- 開口数が2.0以上の近接場光学系を用いて光記録媒体の記録又は再生の少なくともいずれかを行う光記録再生方法であって、
前記光記録媒体として、基板上に、前記基板上に形成される記録層と、前記記録層上に形成されて屈折率が前記近接場光学系の開口数以上の材料より成る第1の光透過性誘電体層と、前記第1の光透過性誘電体層に接してこの上に形成され、屈折率が前記開口数未満で且つビッカース硬度が1000[kg/mm2]以上の材料より成り、膜厚が10nm以下とされる第2の光透過性誘電体層と、を有する光記録媒体を用いて、
前記第2の光透過性誘電体層上から記録又は再生用の光を照射して記録又は再生の少なくともいずれかを行う
光記録再生方法。 - 前記近接場光学系としてSIL(固浸レンズ)を用いる請求項1に記載の光記録再生方法。
- 前記SILと前記光記録媒体の前記第2の光透過性誘電体層との間隔を、記録又は再生用の光の波長の10分の1以下程度とする請求項2に記載の光記録再生方法。
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