JP4408696B2 - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents

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Description

本発明は、読出し動作時にワード線電圧や読出し参照電圧の状態設定が必要である不揮発性半導体記憶装置に関するものである。   The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device that needs to set a state of a word line voltage or a read reference voltage during a read operation.

DRAMやFLASHなどのメモリにおいては、読出し動作時に高電圧のワード線電圧を発生させたり、センスアンプの差動増幅回路の比較用に読出し参照電圧を発生させる必要がある場合がある。これらのメモリで高性能や高信頼性を実現するために発生電圧が高精度であることを要求される場合には、製造ばらつきの影響を補正するために、レーザ溶断型や大電流溶断型のフューズ素子を不揮発性素子として設け、検査工程でフューズ素子のトリミング処理を行う。また、これらのフューズ素子は読出し動作のみならず書換えなどのメモリ動作の状態設定や品種展開がある場合の機能設定等に用いられることが多い。   In a memory such as a DRAM or FLASH, it may be necessary to generate a high word line voltage during a read operation or to generate a read reference voltage for comparison with a differential amplifier circuit of a sense amplifier. When the generated voltage is required to be highly accurate in order to achieve high performance and high reliability with these memories, in order to compensate for the effects of manufacturing variations, laser fusing type and large current fusing type A fuse element is provided as a non-volatile element, and trimming processing of the fuse element is performed in an inspection process. In addition, these fuse elements are often used not only for read operations but also for memory operation status settings such as rewriting and function settings when there are product types.

しかしながらフューズ素子は、LSIに搭載されるトランジスタの素子面積に比較すると大きい上に、トリミング工程増により製造コストを増加させることや、トリミング工程後のトリミングのやり直しができないというデメリットもあった。   However, the fuse element is larger than the element area of the transistor mounted on the LSI, and has a demerit that the manufacturing cost is increased by increasing the trimming process, and trimming after the trimming process cannot be performed again.

ところで、FLASHなどの書換え可能な不揮発性メモリを搭載したLSIにおいては、メモリに状態設定や機能設定などのトリミングパラメータを格納することによって、書換えによるトリミングのやり直しが可能になる。このことのメリットは大きい。フューズ素子の場合の面積増も抑制できる。しかし、フューズ素子のように静的に状態を確定することはできない。   By the way, in an LSI equipped with a rewritable nonvolatile memory such as FLASH, trimming parameters such as state setting and function setting can be stored in the memory, so that trimming by rewriting can be performed again. The benefits of this are great. An increase in area in the case of a fuse element can also be suppressed. However, the state cannot be determined statically like a fuse element.

メモリに格納した状態設定や機能設定などのトリミングパラメータを読出し動作時に必要とする場合には、正しく読み出すこと自体に課題が生じる。例えば、ワード線電圧レギュレータの製造ばらつきによってワード線電圧を+0.5V分だけトリミングにより補正する必要がある製品においては、“+0.5V“という情報を読み出す際に、0.5V分だけワード線電圧が不足した不完全な状態で読出し動作を行わなければならない。つまり、読出し速度を緩和したとしても、安定したトリミングができない製品については検査工程で不良判定するしかなかった。この場合には、メモリセルの書換え特性やトリミング対象の電圧レギュレータ自体などに不具合が無い製品でも、不良と誤判定されてしまうことになる。   When trimming parameters such as state settings and function settings stored in the memory are required during a read operation, there is a problem in reading them correctly. For example, in a product in which the word line voltage needs to be corrected by trimming by +0.5 V due to manufacturing variations of the word line voltage regulator, when reading the information “+0.5 V”, the word line voltage is increased by 0.5 V. The read operation must be performed in an incomplete state where there is a shortage. In other words, even if the reading speed is reduced, a product that cannot be stably trimmed can only be judged defective in the inspection process. In this case, even if the product has no defects in the rewrite characteristics of the memory cell or the voltage regulator itself to be trimmed, it is erroneously determined as defective.

図12は、従来の読出し動作時に高精度の高電圧のワード線電圧を発生させることが要求されるメモリ製品において、ワード線電圧のトリミング処理のためのトリミングパラメータをメモリ領域に格納する不揮発性半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。   FIG. 12 shows a nonvolatile semiconductor that stores trimming parameters for word line voltage trimming processing in a memory area in a memory product that is required to generate a high-accuracy high-voltage word line voltage during a conventional read operation. It is a block diagram which shows the whole structure of a memory | storage device.

図12において、1は複数のワード線と複数のビット線とそれらの結合点にマットリックス状に配置された電気的に書換え可能な不揮発性メモリセルで構成されるメモリセルアレイ、2はメモリセルアレイ1においてトリミングパラメータを格納するトリミングパラメータ領域、3はアドレスバッファ、4はロウデコーダ、5はトリミングパラメータ領域用ロウデコーダ、6はカラムデコーダ、7はセンスアンプ、8は入出力バッファ、9はトリミングパラメータ用のパラメータ保持回路、10はメモリセルアレイ1のワード線に印加する電圧を発生し、電圧調整パラメータ17によって電圧値を調整する機能をもつワード線電圧レギュレータ、11は制御回路、12はロウアドレス、13はトリミングパラメータ領域用ロウアドレス、14はカラムアドレス、15はパラメータ保持回路9に割り当てられたトリミングパラメータ用アドレス、16は双方向のデータバス、17はワード線電圧レギュレータ10用の電圧調整パラメータ、18はワード線電圧レギュレータ10で発生した電圧を供給するワード線電圧電源線、19は電源立ち上げ後やシステムリセット解除後に電源立ち上げ検知回路の検知信号やリセット信号に同期して入力される初期設定信号、20は初期設定信号19を受けてトリミング処理時に制御回路11で生成するトリミングパラメータ用アドレス、21はワード線電圧レギュレータ10を活性化させるワード線電圧レギュレータ活性化信号、22はセンスアンプ7を活性化させるセンスアンプ活性化信号、23はパラメータ保持回路9で読み出したトリミングパラメータをデータバス16から取り込むためのパラメータラッチ信号、24は入出力バッファ8と外部のデータとの入出力制御を行う入出力制御信号である。   In FIG. 12, reference numeral 1 denotes a memory cell array composed of a plurality of word lines, a plurality of bit lines, and electrically rewritable nonvolatile memory cells arranged in a matrix at their connection points, and 2 denotes a memory cell array 1. Trimming parameter area for storing trimming parameters, 3 is an address buffer, 4 is a row decoder, 5 is a row decoder for trimming parameter area, 6 is a column decoder, 7 is a sense amplifier, 8 is an input / output buffer, and 9 is for trimming parameters. The parameter holding circuit 10 generates a voltage to be applied to the word line of the memory cell array 1 and has a function of adjusting the voltage value by the voltage adjustment parameter 17, 11 a control circuit, 12 a row address, 13 Is the row address for the trimming parameter area, 14 Column address, 15 is a trimming parameter address assigned to the parameter holding circuit 9, 16 is a bidirectional data bus, 17 is a voltage adjustment parameter for the word line voltage regulator 10, and 18 is a voltage generated by the word line voltage regulator 10. Is a word line voltage power supply line, 19 is an initial setting signal input in synchronization with a detection signal or reset signal of a power-on detection circuit after the power is turned on or after a system reset is released, and 20 receives an initial setting signal 19 The trimming parameter address generated by the control circuit 11 during the trimming process, 21 is a word line voltage regulator activation signal for activating the word line voltage regulator 10, 22 is a sense amplifier activation signal for activating the sense amplifier 7, Is the trim read by the parameter holding circuit 9 Parameters latch signal for taking the grayed parameters from the data bus 16, 24 is an input-output control signal for performing output control of the output buffer 8 and external data.

アドレスバッファ3は、ロウアドレス12とトリミングパラメータ領域用ロウアドレス13とカラムアドレス14とトリミングパラメータ用アドレス15が出力されるように接続されている。センスアンプ7は、入出力バッファ8とパラメータ保持回路9にデータバス16で接続されている。パラメータ保持回路9で保持されたトリミングパラメータは電圧調整パラメータ17としてワード線電圧レギュレータ10に与えるように接続されている。ワード線電圧レギュレータ10で発生した電位を伝えるワード線電圧電源線18はロウデコーダ4とトリミングパラメータ領域用ロウデコーダ5を通じて読出し時にワード線に与えられるように接続されている。また、制御回路11は、メモリ動作用のクロック信号と読出しや書換えなどの各種モードを設定するモード信号と初期設定信号19が入力されている。   The address buffer 3 is connected such that a row address 12, a trimming parameter area row address 13, a column address 14, and a trimming parameter address 15 are output. The sense amplifier 7 is connected to the input / output buffer 8 and the parameter holding circuit 9 via a data bus 16. The trimming parameters held by the parameter holding circuit 9 are connected so as to be given to the word line voltage regulator 10 as voltage adjustment parameters 17. The word line voltage power supply line 18 for transmitting the potential generated by the word line voltage regulator 10 is connected to the word line through the row decoder 4 and the trimming parameter area row decoder 5 so as to be supplied to the word line. The control circuit 11 also receives a clock signal for memory operation, a mode signal for setting various modes such as reading and rewriting, and an initial setting signal 19.

以上のように構成された従来の不揮発性半導体記憶装置について、図12とトリミング処理時の内部フローを示す図13を用いて、以下にその動作を説明する。   The operation of the conventional nonvolatile semiconductor memory device configured as described above will be described below with reference to FIG. 12 and FIG. 13 showing the internal flow during the trimming process.

まず、電源立ち上げ後やシステムリセット解除後に初期設定信号19が活性化(図13のS1)して制御回路11に入力されると、パラメータ保持回路9内の全てのラッチ回路がクリアされ、ワード線電圧レギュレータ活性化信号21が活性化されてワード線電圧レギュレータ10が動作開始(図13のS2)する。約数マイクロ秒の安定待ち(図13のS3)の後、ワード線電圧電源線18からロウデコーダ4とトリミングパラメータ領域用ロウデコーダ5に安定した電圧が供給される状態に至り、トリミングパラメータ領域用ロウアドレス13とカラムアドレス14に従ってワード線とビット線が選択される。すなわち、トリミングパラメータ領域2のトリミングパラメータが格納されているメモリセルに対応するワード線とビット線が選択される。これでセンスアンプ活性化信号22が活性化することにより、トリミングパラメータがデータバス16に出力される(図13のS4)。そして、パラメータラッチ信号23に同期してトリミングパラメータ用アドレス15に従って、パラメータ保持回路9内の所定のラッチ回路にトリミングパラメータがラッチされる(図13のS5)。次いで、ラッチされたトリミングパラメータは電圧調整パラメータ17としてワード線電圧レギュレータ10に与えられて(図13のS6)、約数マイクロ秒の安定待ち(図13のS7)の後にトリミング処理完了に至る。   First, when the initial setting signal 19 is activated (S1 in FIG. 13) and input to the control circuit 11 after the power is turned on or after the system reset is released, all the latch circuits in the parameter holding circuit 9 are cleared and the word The line voltage regulator activation signal 21 is activated, and the word line voltage regulator 10 starts operating (S2 in FIG. 13). After the stabilization wait of about several microseconds (S3 in FIG. 13), a stable voltage is supplied from the word line voltage power supply line 18 to the row decoder 4 and the trimming parameter region row decoder 5 for the trimming parameter region. A word line and a bit line are selected according to the row address 13 and the column address 14. That is, the word line and the bit line corresponding to the memory cell storing the trimming parameter in the trimming parameter area 2 are selected. As a result, the sense amplifier activation signal 22 is activated, and the trimming parameters are output to the data bus 16 (S4 in FIG. 13). Then, the trimming parameters are latched in a predetermined latch circuit in the parameter holding circuit 9 according to the trimming parameter address 15 in synchronization with the parameter latch signal 23 (S5 in FIG. 13). Next, the latched trimming parameter is given to the word line voltage regulator 10 as the voltage adjustment parameter 17 (S6 in FIG. 13), and the trimming process is completed after waiting for stabilization of about several microseconds (S7 in FIG. 13).

次に図14を用いて、以下にその検査工程でのトリミング機能確認の検査フローの一例を説明する。なお、図14は従来のみならず本発明の不揮発性半導体記憶装置においても同様の検査フローを用いるとして良い。   Next, an example of an inspection flow for confirming the trimming function in the inspection process will be described below with reference to FIG. In FIG. 14, the same inspection flow may be used not only in the related art but also in the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention.

まず、前検査工程の試験を良品判定された製品は、メモリセルアレイ1にチェッカー等の検査パターンを格納され(図14のS10)、テスターからワード線電圧電源線18に所望のワード線電圧を外部印加され(図14のS11)、メモリセルアレイ1に格納された検査パターンを読み出す(図14のS12)。期待値の検査パターンと一致しない場合は不良判定され(図14のS13)、一致する場合はメモリセルアレイ1の読出し書換えの試験は良判定になり、次の試験に進む。   First, an inspection pattern such as a checker is stored in the memory cell array 1 (S10 in FIG. 14), and a desired word line voltage is externally supplied from the tester to the word line voltage power supply line 18 for a product that has been determined to be non-defective in the previous inspection process The inspection pattern stored in the memory cell array 1 is read out (S12 in FIG. 14). If the test pattern does not match the expected value, a failure is determined (S13 in FIG. 14). If the test pattern matches, the read / rewrite test of the memory cell array 1 is determined to be good, and the process proceeds to the next test.

次にリセットとリセット解除(図14のS14)が入り、初期設定信号19が活性化し、パラメータ保持回路9内の全てのラッチ回路がクリアされる。ワード線電圧レギュレータ10の電圧が発生されて安定した後に、ワード線電圧電源線18の電圧値をテスターでモニタ(図14のS15)する。これにより、トリミング無しのデフォルトの電圧値が測定される。ここでデフォルトの電圧値がトリミング可能範囲外であれば不良判定され(図14のS16)、トリミング可能範囲内であれば良判定される。次いで、外部のテスターで持っている電圧調整テーブルに従って製品毎に異なるトリミングパラメータが入出力バッファ8を介してパラメータ保持回路9に入力される(図14のS17)。そしてワード線電圧レギュレータ10の電圧が安定した後に、ワード線電圧電源線18の電圧値をテスターでモニタする(図14のS18)。モニタの結果、検査規格外であれば不良判定され(図14のS19)、検査規格内であればワード線電圧レギュレータ10とパラメータ保持回路9の機能確認試験は良判定されて、トリミングパラメータをトリミングパラメータ領域2に格納(図14のS20)し、その後に次の試験に進む。   Next, reset and reset release (S14 in FIG. 14) are entered, the initial setting signal 19 is activated, and all the latch circuits in the parameter holding circuit 9 are cleared. After the voltage of the word line voltage regulator 10 is generated and stabilized, the voltage value of the word line voltage power supply line 18 is monitored by a tester (S15 in FIG. 14). Thereby, a default voltage value without trimming is measured. Here, if the default voltage value is outside the trimming range, a failure is determined (S16 in FIG. 14), and if it is within the trimming range, a good determination is made. Next, different trimming parameters for each product are input to the parameter holding circuit 9 via the input / output buffer 8 in accordance with the voltage adjustment table held by the external tester (S17 in FIG. 14). After the voltage of the word line voltage regulator 10 is stabilized, the voltage value of the word line voltage power supply line 18 is monitored by a tester (S18 in FIG. 14). If the result of monitoring is outside the inspection standard, a failure is determined (S19 in FIG. 14), and if it is within the inspection standard, the function confirmation test of the word line voltage regulator 10 and the parameter holding circuit 9 is determined to be good and trimming parameters are trimmed. Store in the parameter area 2 (S20 in FIG. 14), and then proceed to the next test.

次にリセットとリセット解除(図14のS21)が入り、初期設定信号19が活性化し、パラメータ保持回路9内の全てのラッチ回路がクリアされる。そして、図12と図13を用いて内部動作を前述したメモリからのワード線電圧のトリミング(図14のS22)が行われ、ワード線電圧レギュレータ10の電圧が安定した後にワード線電圧電源線18の電圧値をテスターでモニタ(図14のS23)する。このとき検査規格外であれば不良判定され(図14のS24)、検査規格内であれば、全てのトリミング機能が良判定されて次の検査工程に進む。   Next, reset and reset release (S21 in FIG. 14) are entered, the initial setting signal 19 is activated, and all the latch circuits in the parameter holding circuit 9 are cleared. Then, the word line voltage trimming (S22 in FIG. 14) of the word line voltage from the memory whose internal operation has been described with reference to FIGS. 12 and 13 is performed, and the word line voltage power supply line 18 is stabilized after the voltage of the word line voltage regulator 10 is stabilized. Is monitored with a tester (S23 in FIG. 14). At this time, if it is outside the inspection standard, a failure is determined (S24 in FIG. 14), and if it is within the inspection standard, all the trimming functions are determined to be good, and the process proceeds to the next inspection step.

ここで課題になるのは、メモリセルアレイ1の読出し書換えの試験が良判定され、かつ、ワード線電圧レギュレータ10とパラメータ保持回路9の機能確認試験が良判定されているのにも関わらず、デフォルトのワード線電圧でトリミングパラメータを読み出すことによる読出し不良によって、トリミングによる不良(図14のS24)が発生することである。   The problem here is that the read / rewrite test of the memory cell array 1 is judged as good and the function check test of the word line voltage regulator 10 and the parameter holding circuit 9 is judged as good. The failure due to the trimming (S24 in FIG. 14) occurs due to the read failure caused by reading the trimming parameter with the word line voltage.

次に、メモリセルのしきい値の分布に対してワード線電圧のばらつきの影響を示す図15を用いて、トリミング前のデフォルトのワード線電圧でトリミングパラメータを読み出すことによる読出し不良が発生する理由を説明する。図15の(a)は、デフォルトのワード線電圧のばらつきが無く、良判定される場合である。図15の(b)は、ばらつきがあるが良判定される場合であり、図15の(c)は、ばらつきがあって不良判定される場合である。   Next, with reference to FIG. 15 showing the influence of the variation in the word line voltage on the threshold distribution of the memory cell, the reason why the reading failure occurs due to reading the trimming parameter with the default word line voltage before trimming. Will be explained. FIG. 15A shows a case where there is no variation in the default word line voltage and a good determination is made. FIG. 15B shows a case where there is a variation but a good determination is made, and FIG. 15C shows a case where there is a variation and a failure is judged.

まず、トリミングパラメータを格納するメモリセルの書換え後には、読出し参照電圧(Vref)30を中心にしてメモリセルのしきい値幅が“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32の間のΔVread以上に確保されることが正しく読み出すための条件になる。   First, after the memory cell storing the trimming parameter is rewritten, the threshold width of the memory cell with the read reference voltage (Vref) 30 as the center is the “1” side threshold value 31 and the “0” side threshold value. It is a condition for correct reading to be secured to ΔVread of 32 or more.

ここで“1”データのしきい値分布33、“0”データのしきい値分布34については、ワード線電圧が−ΔVwl分だけばらつくとそれぞれ、35,36のようにずれ、あるいは、ばらつき幅(−ΔVwl)が大きいと37,38のように大きくずれる。同様に+ΔVwl分だけばらつくとそれぞれ、39,40のようにずれ、あるいは、ばらつき幅(+ΔVwl)が大きいと41,42のように大きくずれる。   Here, regarding the threshold distribution 33 of the “1” data and the threshold distribution 34 of the “0” data, when the word line voltage varies by −ΔVwl, they are shifted as shown by 35 and 36, respectively, or the variation width. When (−ΔVwl) is large, it is greatly displaced like 37 and 38. Similarly, if it is varied by + ΔVwl, it will be shifted as 39 and 40, respectively, or if the variation width (+ ΔVwl) is large, it will be largely shifted as 41 and 42.

このときずれ幅が小さくて“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32の間に入ってきていない図15の(b)の製品は正しい読出しが可能であるが、ずれ幅が大きくて“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32の間に割り込んできている図15の(c)の製品では正しい読出しができないために不良となる。   At this time, the product of FIG. 15B in which the deviation width is small and does not fall between the “1” side threshold value 31 and the “0” side threshold value 32 can be read correctly. The product shown in FIG. 15C, which has a large shift width and interrupts between the “1” side threshold value 31 and the “0” side threshold value 32, is defective because correct reading cannot be performed.

さらに、センスアンプ7の差動増幅回路の比較用に高精度の読出し参照電圧を発生させる必要がありトリミング処理を行う場合でも、ここまで述べてきたのと同様の理由で不良が発生してしまう。メモリセルのしきい値の分布に対して読出し参照電圧のばらつきの影響を示す図16を用いて、トリミング前のデフォルトの読出し参照電圧でトリミングパラメータを読み出すことによる読出し不良が発生する理由を説明する。   Further, it is necessary to generate a high-precision read reference voltage for comparison of the differential amplifier circuit of the sense amplifier 7, and even when trimming is performed, a defect occurs for the same reason as described above. . The reason why a read failure occurs due to reading of the trimming parameter with the default read reference voltage before trimming will be described with reference to FIG. 16 showing the influence of the variation of the read reference voltage on the threshold distribution of the memory cells. .

図16の(a)は、デフォルトの読出し参照電圧のばらつきが無く良判定される場合、図16の(b)は、ばらつきがあるが良判定される場合、図16の(c)は、ばらつきがあって不良判定される場合である。   16A shows a case where the default read reference voltage does not vary and is determined to be good. FIG. 16B shows a case where there is a variation but good determination is made, and FIG. 16C shows a variation. This is a case where a defect is determined.

まず、図15の(a)と同様にトリミングパラメータを格納するメモリセルの書換え後には、読出し参照電圧(Vref)30を中心にしてメモリセルのしきい値幅が“1”側境界しきい値31、“0”側境界しきい値32の間のΔVread以上に確保されることが正しく読み出すための条件になる。   First, after rewriting the memory cell storing the trimming parameters as in FIG. 15A, the threshold width of the memory cell is set to the “1” side threshold value 31 with the read reference voltage (Vref) 30 as the center. In order to correctly read out, it is ensured that ΔVread or more between the “0” side boundary thresholds 32.

ここで読出し参照電圧(Vref)30と“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32について、読出し参照電圧が−ΔVref分だけばらつくと、それぞれ、43,44,45のようにずれ、あるいは、ばらつき幅(−ΔVref)が大きいと46,47,48のように大きくずれる。同様に+ΔVref分だけばらつくとそれぞれ、49,50,51のようにずれ、あるいは、ばらつき幅(+ΔVref)が大きいと52,53,54のように大きくずれる。   Here, regarding the read reference voltage (Vref) 30, the “1” side boundary threshold value 31 and the “0” side boundary threshold value 32, if the read reference voltage varies by −ΔVref, 43, 44 and 45 respectively. When the deviation or the variation width (−ΔVref) is large, the deviations are large like 46, 47, and 48. Similarly, if there is a variation of + ΔVref, they will shift as 49, 50, 51, respectively, or if the variation width (+ ΔVref) is large, they will deviate greatly as 52, 53, 54.

このときずれ幅が小さくて“1”データのしきい値分布33、“0”データのしきい値分布34の分布が“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32の間に割り込んできていない図16の(b)の製品は正しい読出しが可能であるが、ずれ幅が大きくて“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32の間に割り込んできている図16の(c)の製品では正しい読出しができないために不良となる。   At this time, the shift width is small, and the threshold distribution 33 of “1” data and the threshold distribution 34 of “0” data are “1” side threshold 31 and “0” side threshold 32. The product shown in FIG. 16 (b) that has not interrupted during the period can be read correctly, but the deviation is large, and the interval between the “1” side threshold value 31 and the “0” side threshold value 32 is large. The product shown in FIG. 16 (c) that has been interrupted is defective because correct reading cannot be performed.

あるいは前述の例以外で、従来の不揮発性メモリにトリミングパラメータを格納し初期設定時に安定したトリミングを行う技術として提案されているものでは、トリミングパラメータを同一ビット線上の複数のメモリセルに同一データを格納し、トリミングパラメータ読出し時にはワード線を多重選択してアナログ的に多数決判定して安定したトリミングを可能にしているもの(例えば、特許文献1参照。)や、トリミングパラメータのメモリセルへの書込み消去時にはしきい値電圧の差を他メモリセルよりも大きくし、安定してトリミングパラメータを読み出せるようにしているもの(例えば、特許文献2参照。)もある。
特開2002−150789号公報(第6−9頁、第1−3図) 特開2001−176290号公報(第9頁、第17−18図)
Alternatively, other than the above-described example, in a technique that stores trimming parameters in a conventional nonvolatile memory and performs stable trimming at the time of initial setting, the same data is stored in a plurality of memory cells on the same bit line. When storing and reading trimming parameters, multiple word lines are selected and analog majority decision is made to enable stable trimming (for example, refer to Patent Document 1), and writing / erasing of trimming parameters to memory cells In some cases, the threshold voltage difference is made larger than that of other memory cells so that the trimming parameters can be read stably (for example, see Patent Document 2).
Japanese Patent Laid-Open No. 2002-150789 (page 6-9, FIG. 1-3) Japanese Patent Laid-Open No. 2001-176290 (page 9, FIGS. 17-18)

しかしながら、従来提案されている技術では、トリミングパラメータを格納するメモリ領域とメモリセルアレイ本体の領域とで同様の構成のデコーダやセンスアンプや書換え制御回路を用いて同様の読出しや書換え制御をすることが困難であり、メモリセルの書換え特性やトリミング対象の電圧レギュレータ自体などに不具合が無い製品でも、不良と誤判定されてしまうことがあった。あるいは、トリミングパラメータを格納するメモリ領域専用のメモリセルアレイ周辺の回路が必要となって回路面積が増大するか、または特別な書換え制御が必要となって、信頼性上の配慮や検査コスト上のデメリットが発生することがあった。   However, in the conventionally proposed technology, the same read and rewrite control can be performed using the decoder, sense amplifier, and rewrite control circuit having the same configuration in the memory area for storing the trimming parameters and the memory cell array body area. Even if the product has no problems in the rewrite characteristics of the memory cell or the voltage regulator itself to be trimmed, it may be erroneously determined to be defective. Alternatively, a circuit around the memory cell array dedicated to the memory area for storing the trimming parameters is required, which increases the circuit area, or requires special rewrite control, which is disadvantageous in terms of reliability and inspection costs. May occur.

本発明は、これらの従来技術の課題を鑑みて、トリミングパラメータを格納するメモリ領域とメモリセルアレイ本体の領域とで同様の構成のデコーダやセンスアンプや書換え制御回路を用いて同様の読出しや書換え制御にした上で、メモリセルの書換え特性やトリミング対象の電圧レギュレータなどに不具合が無い製品では不良と誤判定されることの無い、製品コストを低減した不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。   In view of these problems of the prior art, the present invention provides similar read and rewrite control using a decoder, sense amplifier, and rewrite control circuit having the same configuration in the memory area for storing trimming parameters and the memory cell array body area. In addition, it is an object of the present invention to provide a non-volatile semiconductor memory device with reduced product cost that is not erroneously determined to be defective in a product in which the rewrite characteristics of the memory cell and the voltage regulator to be trimmed are not defective. To do.

また、電源電圧や周囲温度などの製品環境の変動に対して最適なトリミングを行い、トリミング後のメモリ特性の最適化が図れるようにする。   In addition, optimal trimming is performed against fluctuations in the product environment such as power supply voltage and ambient temperature so that memory characteristics after trimming can be optimized.

また、電源立ち上げ直後のトリミング処理中に起こり得る電源変動等の不安定要素に対して、さらに安定した確実なトリミングが行え、不安定要素に対しての耐性向上を図れるようにする。   Further, it is possible to perform more stable and reliable trimming against unstable elements such as power supply fluctuations that may occur during trimming processing immediately after the power is turned on, and to improve the resistance against the unstable elements.

また、電源電圧低下などの環境変化が原因となっているような読出しエラーの場合には、メモリを搭載したシステムの安定性向上を図れるようにする。   In addition, in the case of a read error caused by an environmental change such as a power supply voltage drop, the stability of a system equipped with a memory can be improved.

本発明は、上記の課題を解決するために次のような手段を講じる。以下、複数種類の構成要素手段が記述されるが、これら各手段については、ハードウエアで構成してもよいし、あるいはソフトウエアで構成してもよいし、あるいはハードウエアとソフトウエアとの組み合わせで構成してもよい。   The present invention takes the following means in order to solve the above problems. Hereinafter, a plurality of types of component means will be described. Each of these means may be constituted by hardware or software, or a combination of hardware and software. You may comprise.

第1の解決手段として、本発明による不揮発性半導体記憶装置は、複数の構成要素である不揮発性のメモリセルアレイ、判定手段、パラメータ変化手段、パラメータ保持手段、パラメータ選択手段、電圧レギュレータおよび制御手段を備えている。前記の電圧レギュレータは、メモリセルアレイのワード線に印加する電圧を発生するワード線電圧レギュレータでもよいし、あるいは、選択されたメモリセルの読出し参照電圧としてセンスアンプに与える電圧を発生する読出し参照電圧レギュレータであってもよい。   As a first solving means, a non-volatile semiconductor memory device according to the present invention includes a non-volatile memory cell array, determination means, parameter changing means, parameter holding means, parameter selecting means, voltage regulator and control means, which are a plurality of components. I have. The voltage regulator may be a word line voltage regulator that generates a voltage to be applied to a word line of a memory cell array, or a read reference voltage regulator that generates a voltage to be applied to a sense amplifier as a read reference voltage for a selected memory cell. It may be.

前記のメモリセルアレイは、トリミングパラメータと誤読出し確認用データを格納するトリミングパラメータ領域を含むものとして構成されている。前記の制御手段は、初期にはメモリセルアレイから誤読出し確認用データを読み出すように制御を行う。前記の判定手段は、メモリセルアレイから読み出される誤読出し確認用データを期待値と比較し、一致しているときは活性化された判定信号を出力するものとして構成されている。初期には判定信号は非活性である。前記のパラメータ変化手段は、判定手段の判定信号が非活性のときにパラメータを段階的に変化させるものとして構成されている。これがインクリメントパラメータである。前記のパラメータ選択手段は、判定手段の判定信号が非活性のときは、パラメータ変化手段によるインクリメントパラメータを選択した上で電圧調整パラメータとして出力し、判定信号が活性化すれば、パラメータ保持手段のパラメータを選択した上で電圧調整パラメータとして出力するものとして構成されている。したがって、初期においては、パラメータ変化手段によるインクリメントパラメータをパラメータ選択手段が選択し、電圧調整パラメータとして電圧レギュレータに与える。電圧レギュレータは受け取った電圧調整パラメータに基づいて電圧値を調整する。ワード線電圧レギュレータの場合はメモリセルアレイのワード線に対する印加電圧を調整する。読出し参照電圧レギュレータの場合はセンスアンプに印加する読出し参照電圧を調整する。その調整された電圧値のもとで制御手段はメモリセルアレイのトリミングパラメータ領域から誤読出し確認用データの読出しを制御し、判定手段はその読み出した誤読出し確認用データを期待値と比較する。比較の結果、不一致であり判定信号が非活性である限りは、パラメータ変化手段はパラメータを1段階分変化させ(インクリメント)、パラメータ選択手段は1段階分変化後のパラメータを選択して電圧レギュレータに与える。これにより、電圧レギュレータは次のレベルの電圧値を出力し、上記同様にメモリセルアレイのトリミングパラメータ領域から誤読出し確認用データを読み出す。このループ的制御は読み出した誤読出し確認用データが期待値と一致するまで繰り返す。以上の結果、判定手段による誤読出し確認用データと期待値との比較が一致するに至ると、判定手段は活性化された判定信号を出力する。判定信号が活性化されると、制御手段は誤読出し確認用データの読出しに代えて、メモリセルアレイのトリミングパラメータ領域からトリミングパラメータを読み出す。そして、前記のパラメータ保持手段は、メモリセルアレイから読み出されたトリミングパラメータを保持する。また、パラメータ選択手段は、判定信号の活性化に伴って、パラメータ保持手段に保持されているトリミングパラメータを選択し、電圧レギュレータに与える。電圧レギュレータは、誤読出し確認用データが期待値と一致した後に読み出されたトリミングパラメータのもとで電圧値を調整する。   The memory cell array includes a trimming parameter area for storing trimming parameters and erroneous read confirmation data. The control means controls to read erroneous read confirmation data from the memory cell array in the initial stage. The determination means is configured to compare erroneous read confirmation data read from the memory cell array with an expected value, and output an activated determination signal when they match. Initially, the determination signal is inactive. The parameter changing means is configured to change the parameter stepwise when the determination signal of the determining means is inactive. This is the increment parameter. When the determination signal of the determination unit is inactive, the parameter selection unit selects the increment parameter by the parameter changing unit and outputs it as a voltage adjustment parameter. When the determination signal is activated, the parameter selection unit Is selected and output as a voltage adjustment parameter. Therefore, in the initial stage, the parameter selection means selects the increment parameter by the parameter changing means and supplies it to the voltage regulator as the voltage adjustment parameter. The voltage regulator adjusts the voltage value based on the received voltage adjustment parameter. In the case of a word line voltage regulator, the voltage applied to the word line of the memory cell array is adjusted. In the case of a read reference voltage regulator, the read reference voltage applied to the sense amplifier is adjusted. Based on the adjusted voltage value, the control unit controls reading of erroneous read confirmation data from the trimming parameter area of the memory cell array, and the determination unit compares the read erroneous read confirmation data with an expected value. As a result of the comparison, as long as they are inconsistent and the determination signal is inactive, the parameter changing means changes the parameter by one step (increment), and the parameter selecting means selects the parameter after the changing by one step to the voltage regulator. give. As a result, the voltage regulator outputs a voltage value of the next level, and reads the erroneous read confirmation data from the trimming parameter area of the memory cell array as described above. This loop control is repeated until the read error reading confirmation data matches the expected value. As a result, when the comparison between the erroneous read confirmation data and the expected value by the determination unit coincides, the determination unit outputs an activated determination signal. When the determination signal is activated, the control means reads the trimming parameters from the trimming parameter area of the memory cell array instead of reading the erroneous read confirmation data. The parameter holding means holds the trimming parameters read from the memory cell array. The parameter selection means selects the trimming parameter held in the parameter holding means and gives it to the voltage regulator in accordance with the activation of the determination signal. The voltage regulator adjusts the voltage value based on the trimming parameters read after the erroneous read confirmation data matches the expected value.

以上を要するに、本発明の不揮発性半導体記憶装置は、
トリミングパラメータと誤読出し確認用データを格納するトリミングパラメータ領域を含む不揮発性のメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイから読み出される前記誤読出し確認用データを予めハードウエアとして組み込まれた期待値と比較して一致しているときは活性化された判定信号を出力する判定手段と、
前記判定手段の判定信号が非活性のときにパラメータを段階的に変化させるパラメータ変化手段と、
前記メモリセルアレイから読み出される前記トリミングパラメータを保持するパラメータ保持手段と、
前記判定手段の判定信号が非活性のときは前記パラメータ変化手段のパラメータを選択し前記判定信号が活性化されたときは前記パラメータ保持手段のパラメータを選択した上で電圧調整パラメータとして出力するパラメータ選択手段と、
前記パラメータ選択手段から受け取った前記電圧調整パラメータによって電圧値を調整する電圧レギュレータと、
初期設定信号の入力に基づいてメモリ動作を初期設定して前記メモリセルアレイから前記誤読出し確認用データを読み出し、前記判定手段が前記活性化された判定信号を出力した後は前記メモリセルアレイから前記トリミングパラメータの読出しに切り替え、前記パラメータ保持手段に読み出された前記トリミングパラメータを保持させる制御手段と
を備えた構成とされている。
In short, the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention is
A non-volatile memory cell array including a trimming parameter area for storing trimming parameters and erroneous read confirmation data;
A determination means for outputting an activated determination signal when the erroneous read confirmation data read from the memory cell array matches an expected value incorporated in advance as hardware ; and
Parameter changing means for stepwise changing the parameter when the determination signal of the determination means is inactive;
Parameter holding means for holding the trimming parameters read from the memory cell array;
When the determination signal of the determination means is inactive, the parameter of the parameter changing means is selected. When the determination signal is activated, the parameter of the parameter holding means is selected and output as a voltage adjustment parameter Means,
A voltage regulator that adjusts a voltage value according to the voltage adjustment parameter received from the parameter selection means;
The memory operation is initialized based on the input of the initial setting signal, the erroneous read confirmation data is read from the memory cell array, and after the determination means outputs the activated determination signal, the trimming is performed from the memory cell array. Control means for switching to parameter reading and for holding the trimming parameters read by the parameter holding means.

この構成によれば、電圧レギュレータでステップ的にレギュレート電圧を調整しながら、誤読出し確認用データを読み出し、それが期待値と一致する状態となった段階でトリミングパラメータを読み出し、さらに保持するようにしている。これで安定した確実なトリミングが行える。以上のようにして、メモリセルの書換え特性やトリミング対象のワード線電圧レギュレータや読出し参照電圧レギュレータ自体などに不具合が無い製品は、不良と誤判定されることが回避され、所期通りに正しく良判定されることになる。   According to this configuration, while the regulation voltage is adjusted step by step by the voltage regulator, the erroneous read confirmation data is read, and the trimming parameter is read and held when the data matches the expected value. I have to. This ensures stable and reliable trimming. As described above, a product that does not have a defect in the rewrite characteristics of the memory cell, the word line voltage regulator to be trimmed, the read reference voltage regulator itself, or the like can be prevented from being erroneously determined as defective, and can be correctly and correctly as expected. Will be judged.

第2の解決手段として、本発明による不揮発性半導体記憶装置は、上記第1の解決手段において、さらに、前記読み出されたトリミングパラメータを前記パラメータ変化手段によるインクリメントパラメータと比較し、その比較結果を前記制御手段に与える比較手段を備えている。また、前記メモリセルアレイにおける前記トリミングパラメータ領域は前記トリミングパラメータとして異なるトリミング電圧値のトリミングパラメータを複数格納するものに構成されている。そして、前記制御手段は、前記比較手段の比較結果が不一致である限りは前記トリミングパラメータ領域から次のトリミングパラメータの読出しを制御し、前記比較結果一致時の前記トリミングパラメータを前記パラメータ保持手段に保持させるように構成され、前記パラメータ選択手段は、前記パラメータ保持手段のパラメータを選択した上で電圧調整パラメータとして出力する状態に切り替えるのを、前記比較手段の比較結果の一致で行うように構成されている。   As a second solving means, the nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention is the above first solving means, further comparing the read trimming parameter with the increment parameter by the parameter changing means, and comparing the comparison result. Comparing means for supplying to the control means is provided. The trimming parameter area in the memory cell array is configured to store a plurality of trimming parameters having different trimming voltage values as the trimming parameters. The control unit controls reading of the next trimming parameter from the trimming parameter area as long as the comparison result of the comparison unit does not match, and holds the trimming parameter when the comparison result matches in the parameter holding unit. The parameter selection means is configured to select the parameter of the parameter holding means and switch to a state of outputting as a voltage adjustment parameter when the comparison result of the comparison means matches. Yes.

この構成による作用は次のとおりである。電源電圧や周囲温度などの製品環境が変化すると、誤読出し確認用データが期待値と一致した段階で読み出したトリミングパラメータでも、不適正なレギュレート電圧となる場合がある。この不都合に対応するために、トリミング電圧値に範囲をもたせて複数のトリミングパラメータを用意し、その複数のトリミングパラメータをトリミングパラメータ領域に格納している。そして、トリミングパラメータ領域から読み出したトリミングパラメータが読出し用に設定したパラメータ変化手段によるインクリメントパラメータと一致するまで(あるいは誤差が最小となるまで)、次の候補のトリミングパラメータを読み出す。これによれば、電源電圧や周囲温度などの製品環境に依存した最適なトリミングパラメータを選択することができ、トリミング後のメモリ特性の最適化を図ることができる。   The effect | action by this structure is as follows. When the product environment such as the power supply voltage or the ambient temperature changes, even the trimming parameter read when the erroneous read confirmation data matches the expected value may become an inappropriate regulated voltage. In order to cope with this inconvenience, a plurality of trimming parameters are prepared by giving a range to the trimming voltage value, and the plurality of trimming parameters are stored in the trimming parameter area. Then, the next candidate trimming parameter is read out until the trimming parameter read from the trimming parameter area matches the increment parameter by the parameter changing means set for reading (or until the error is minimized). According to this, it is possible to select the optimal trimming parameters depending on the product environment such as the power supply voltage and the ambient temperature, and it is possible to optimize the memory characteristics after trimming.

第3の解決手段として、本発明による不揮発性半導体記憶装置は、上記第1の解決手段において、さらに、前記判定手段による判定信号を複数段階にわたって保持する判定信号保持手段と、前記判定信号が連続して活性化された場合に、それら活性化されて前記判定信号保持手段に保持された複数の判定信号のもつ段階の中心に近い段階のトリミングパラメータを演算する演算手段とを備えている。そして、前記制御手段は、前記演算手段で演算された前記中心に近い段階のトリミングパラメータを前記パラメータ保持手段に保持させ、保持させた後に前記パラメータ選択手段を前記パラメータ保持手段のパラメータを選択するように制御するよう構成されている。   As a third solving means, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, in the first solving means, the determination signal holding means for holding the determination signal by the determination means over a plurality of stages, and the determination signal are continuous. And a calculation means for calculating trimming parameters at a stage close to the center of the stages of the plurality of determination signals that are activated and held in the determination signal holding means when activated. Then, the control means causes the parameter holding means to hold the trimming parameter at a stage close to the center calculated by the calculating means, and after holding the trimming parameter, selects the parameter of the parameter holding means. It is configured to control.

この構成による作用は次のとおりである。電源立ち上げ直後のトリミング処理中には、電源変動等の不安定要素が生じやすく、誤読出し確認用データと期待値との比較判定が正確性に欠ける場合がある。すなわち、判定手段による判定信号が一度活性化されても、そのときが必ずしも最適とは限らない。次のインクリメントパラメータの場合にも判定信号が活性化される可能性がある。つまり、判定信号が活性化されるインクリメントパラメータが複数存在する可能性があり、判定信号の信頼性が劣る。この不都合に対応するために、判定手段による判定信号が連続して活性化されるような場合には、それら活性化された複数の判定信号のもつ段階の中心に近い段階(平均値的なもの)のトリミングパラメータを求め、保持し、電圧調整パラメータとして電圧レギュレータに与える。これにより、より信頼性のあるインクリメントパラメータに対応したトリミングパラメータを得ることができ、安定した確実なトリミングが行える。したがって、電源立ち上げ直後のトリミング処理中に起こり得る電源変動等の不安定要素に対して耐性向上を図ることができる。   The effect | action by this structure is as follows. During the trimming process immediately after the power is turned on, unstable factors such as power fluctuations are likely to occur, and the comparison judgment between the erroneous read confirmation data and the expected value may be inaccurate. That is, even if the determination signal by the determination means is activated once, it is not always optimal. In the case of the next increment parameter, the determination signal may be activated. That is, there may be a plurality of increment parameters for activating the determination signal, and the reliability of the determination signal is poor. In order to cope with this inconvenience, when the determination signal by the determination means is activated continuously, a stage close to the center of the stages of the plurality of activated determination signals (average value) ) Is obtained, held, and given to the voltage regulator as a voltage adjustment parameter. Thereby, trimming parameters corresponding to more reliable increment parameters can be obtained, and stable and reliable trimming can be performed. Therefore, it is possible to improve the resistance against unstable elements such as power supply fluctuations that may occur during the trimming process immediately after the power is turned on.

第4の解決手段として、本発明による不揮発性半導体記憶装置は、上記第1〜第3の解決手段において、さらにセンスアンプ又は出力バッファは読出しデータを保持する機能を有し、外部より再読出し要求信号が入力された場合に判定信号が不活性化のときのみ初期設定信号が活性化してトリミングを実行し、判定信号が活性化のときには保持された読出しデータを出力するように構成されている。   As a fourth solving means, the nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention is the above first to third solving means, wherein the sense amplifier or the output buffer further has a function of holding read data, and a reread request is made from the outside. When the signal is input, the initial setting signal is activated and trimming is executed only when the determination signal is inactivated, and the held read data is output when the determination signal is activated.

この構成による作用は次のとおりである。電源電圧低下などの環境変化が生じると、読出しエラーを起こす可能性がある。この不都合に対応するために、メモリ内部と外部の両方で読出しエラーがパリティ確認等で判明された場合には、再読出し要求によって再トリミング処理に入ることが可能になり、再トリミング後に読み直すことで正しい読出しデータを得られる。したがって、電源電圧低下などの環境変化が原因となっているような読出しエラーの場合に、システムの安定性向上を図れる。   The effect | action by this structure is as follows. If an environmental change such as a drop in power supply voltage occurs, a read error may occur. In order to cope with this inconvenience, when a read error is found by parity check etc. both inside and outside the memory, it becomes possible to enter a re-trimming process by a re-read request, and reread after re-trimming. Correct read data can be obtained. Therefore, it is possible to improve the stability of the system in the case of a read error that is caused by an environmental change such as a power supply voltage drop.

本発明によれば、パラメータ変化手段によりパラメータをインクリメントしつつ誤読出し確認用データを期待値と比較する動作を繰り返し、判定信号が活性化された段階でトリミングパラメータを読み出してパラメータ保持手段に保持し最終のトリミングパラメータとして確定することにより、安定した確実なトリミングを行うことができる。したがって、メモリセルの書換え特性やトリミング対象のワード線電圧レギュレータや読出し参照電圧レギュレータ自体などに不具合が無い製品については、不良と誤判定されることが回避され、所期通りに正しく良判定されることになり、製品コストを低減できる優れた不揮発性半導体記憶装置を実現することができる。   According to the present invention, the operation of comparing the erroneous read confirmation data with the expected value is repeated while the parameter is incremented by the parameter changing means, and the trimming parameter is read and held in the parameter holding means when the determination signal is activated. By determining the final trimming parameter, stable and reliable trimming can be performed. Therefore, it is avoided that a product having no defect in the rewrite characteristics of the memory cell, the word line voltage regulator to be trimmed, the read reference voltage regulator itself, or the like is erroneously determined as defective, and is correctly determined as expected. As a result, an excellent nonvolatile semiconductor memory device capable of reducing the product cost can be realized.

また、トリミングパラメータとしてトリミング電圧値に範囲をもたせて複数用意し、判定信号が活性化された段階の電圧調整パラメータと一致するトリミングパラメータをパラメータ保持手段に保持することにより、電源電圧や周囲温度などの製品環境の変動に対して最適なトリミングパラメータを選択でき、トリミング後のメモリ特性を最適にすることができる。   In addition, a plurality of trimming voltage values with a range are prepared as trimming parameters, and the trimming parameters that match the voltage adjustment parameters at the stage where the determination signal is activated are held in the parameter holding means, so that the power supply voltage, the ambient temperature, etc. Therefore, it is possible to select an optimum trimming parameter with respect to the fluctuation of the product environment and to optimize the memory characteristics after trimming.

また、電源立ち上げ直後のトリミング処理中に電源変動等の不安定要素が生じた結果として判定信号が連続して活性化され、どの判定信号が最適か不明な場合において、活性化された複数の判定信号のもつ段階の中心に近い段階(平均値的なもの)のトリミングパラメータを求めるので、安定した確実なトリミングが行える。したがって、電源立ち上げ直後のトリミング処理中に起こり得る電源変動等の不安定要素に対しての耐性向上を図ることができる。   In addition, the determination signal is continuously activated as a result of an unstable factor such as power supply fluctuation during the trimming process immediately after the power is turned on. Since the trimming parameter at the stage (average value) near the center of the stage of the determination signal is obtained, stable and reliable trimming can be performed. Therefore, it is possible to improve resistance to unstable elements such as power supply fluctuation that may occur during the trimming process immediately after the power is turned on.

また、電源電圧低下などの環境変化が生じ読出しエラーを起こした場合には、再読出し要求によって再トリミング処理を行い、再トリミング後に読み直すことで正しい読出しデータを得られる。したがって、電源電圧低下などの環境変化が原因となっているような読出しエラーの場合に、システムの安定性向上を図ることができる。   Further, when a read error occurs due to an environmental change such as a power supply voltage drop, re-trimming processing is performed by a re-read request, and correct read data can be obtained by re-reading after re-trimming. Therefore, it is possible to improve the stability of the system in the case of a read error that is caused by an environmental change such as a power supply voltage drop.

以下、本発明にかかわる不揮発性半導体記憶装置の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。   Embodiments of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1における不揮発性半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 1 of the present invention.

図1において、1はメモリセルアレイ、2はトリミングパラメータ領域、3はアドレスバッファ、4はロウデコーダ、5はトリミングパラメータ領域用ロウデコーダ、6はカラムデコーダ、7はセンスアンプ、8は入出力バッファ、9はパラメータ保持回路、10はワード線電圧レギュレータ、11は制御回路、12はロウアドレス、13はトリミングパラメータ領域用ロウアドレス、14はカラムアドレス、15はトリミングパラメータ用アドレス、16はデータバス、17は電圧調整パラメータ、18はワード線電圧電源線、19は初期設定信号、20はトリミングパラメータ用アドレス、21はワード線電圧レギュレータ活性化信号、22はセンスアンプ活性化信号、23はパラメータラッチ信号、24は入出力制御信号で、これらは従来例の構成と同じである。   In FIG. 1, 1 is a memory cell array, 2 is a trimming parameter area, 3 is an address buffer, 4 is a row decoder, 5 is a row decoder for trimming parameter area, 6 is a column decoder, 7 is a sense amplifier, 8 is an input / output buffer, 9 is a parameter holding circuit, 10 is a word line voltage regulator, 11 is a control circuit, 12 is a row address, 13 is a trimming parameter area row address, 14 is a column address, 15 is a trimming parameter address, 16 is a data bus, 17 Is a voltage adjustment parameter, 18 is a word line voltage power line, 19 is an initial setting signal, 20 is a trimming parameter address, 21 is a word line voltage regulator activation signal, 22 is a sense amplifier activation signal, 23 is a parameter latch signal, 24 is an input / output control signal. Is the same as the configuration of the coming example.

アドレスバッファ3は、ロウアドレス12とトリミングパラメータ領域用ロウアドレス13とカラムアドレス14とトリミングパラメータ用アドレス15が出力されるように接続されており、センスアンプ7は、入出力バッファ8とパラメータ保持回路9にデータバス16で接続されており、ワード線電圧電源線18はロウデコーダ4とトリミングパラメータ領域用ロウデコーダ5を通じて読出し時にワード線に与えられるように接続されており、制御回路11は、メモリ動作用のクロック信号と読出しや書換えなどの各種モードを設定するモード信号と初期設定信号19が入力されており、これらの接続関係も従来例の構成と同じである。   The address buffer 3 is connected so that a row address 12, a trimming parameter area row address 13, a column address 14, and a trimming parameter address 15 are output. The sense amplifier 7 includes an input / output buffer 8 and a parameter holding circuit. 9, the word line voltage power supply line 18 is connected to the word line at the time of reading through the row decoder 4 and the trimming parameter region row decoder 5, and the control circuit 11 A clock signal for operation, a mode signal for setting various modes such as reading and rewriting, and an initial setting signal 19 are input, and their connection relation is the same as that of the conventional example.

新たな構成要素として、60はデータバス16に接続されて読出しデータを期待値と比較して一致不一致を判定する判定回路、61は判定回路60で一致の判定結果の場合に活性化する判定信号、62は電圧調整に用いるインクリメント用パラメータを段階的に変化させるパラメータ変化回路、63はパラメータ変化回路62で変化後に出力されるインクリメント用パラメータ、64はパラメータ保持回路9とパラメータ変化回路62に接続し判定信号61に従って選択的にどちらか一方のパラメータを電圧調整パラメータ17としてワード線電圧レギュレータ10に与えるパラメータ選択回路、65はパラメータ変化回路62がインクリメント用パラメータ63を段階的にインクリメントさせるインクリメント信号であり、これらは従来例には無い構成要素である。   As a new component, 60 is a determination circuit that is connected to the data bus 16 and compares the read data with the expected value to determine coincidence / non-coincidence, and 61 is a determination signal that is activated when the determination circuit 60 gives a coincidence determination result. , 62 is a parameter change circuit that changes the increment parameter used for voltage adjustment stepwise, 63 is an increment parameter that is output after the change by the parameter change circuit 62, and 64 is connected to the parameter holding circuit 9 and the parameter change circuit 62. A parameter selection circuit that selectively gives one of the parameters as the voltage adjustment parameter 17 to the word line voltage regulator 10 according to the determination signal 61, and 65 is an increment signal that causes the parameter change circuit 62 to increment the increment parameter 63 step by step. These are conventional examples It is a component no.

パラメータ選択回路64は、パラメータ保持回路9で保持されたトリミングパラメータ57とパラメータ変化回路62で生成されたインクリメント用パラメータ63とのいずれか一方を、判定回路60からの判定信号61に従って選択した上で、電圧調整パラメータ17としてワード線電圧レギュレータ10に与えるように構成されている。   The parameter selection circuit 64 selects one of the trimming parameter 57 held by the parameter holding circuit 9 and the increment parameter 63 generated by the parameter change circuit 62 according to the determination signal 61 from the determination circuit 60. The voltage adjustment parameter 17 is provided to the word line voltage regulator 10.

また、判定信号61はパラメータ変化回路62に入力されてインクリメント用パラメータ63の変化を制御するとともに、制御回路11に入力されてトリミングパラメータ用アドレス20を切替える制御を行うように接続されている。   Further, the determination signal 61 is input to the parameter changing circuit 62 to control the change of the increment parameter 63 and is connected to the control circuit 11 so as to perform control for switching the trimming parameter address 20.

トリミングパラメータ領域2には、従来例の場合と同様のトリミングパラメータのほか、本発明特有の誤読出し確認用データが格納されている。制御回路11は、初期にはトリミングパラメータ領域2から誤読出し確認用データを読み出すようにトリミングパラメータ用アドレス20を制御してアドレスバッファ3に与え、読み出した誤読出し確認用データが期待値と一致したのちはトリミングパラメータ領域2からトリミングパラメータを読み出すようにトリミングパラメータ用アドレス20を制御してアドレスバッファ3に与えるように構成されている。   In the trimming parameter area 2, in addition to the trimming parameters similar to those in the conventional example, erroneous read confirmation data unique to the present invention is stored. The control circuit 11 initially controls the trimming parameter address 20 so as to read the erroneous read confirmation data from the trimming parameter area 2 and gives it to the address buffer 3, and the read erroneous read confirmation data matches the expected value. After that, the trimming parameter address 20 is controlled so as to read the trimming parameter from the trimming parameter area 2 and applied to the address buffer 3.

以上のように構成された本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置について、以下、図1とトリミング処理時の制御フローを示す図2を用いて、その動作を説明する。   The operation of the nonvolatile semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above will be described below with reference to FIG. 1 and FIG. 2 showing the control flow during the trimming process.

まず、電源立ち上げ後やシステムリセット解除後に初期設定信号19が活性化(図2のS1)して制御回路11に入力されると、パラメータ保持回路9内の全てのラッチ回路がクリアされ、パラメータ変化回路62内のレジスタ回路がクリアされてデフォルト値にインクリメントパラメータ63が設定される。次いで、ワード線電圧レギュレータ活性化信号21が活性化されてワード線電圧レギュレータ10が動作開始(図2のS2)し、さらに図2のS10で示された本実施の形態の特徴である内部フローに進む。判定信号61が非活性であることにより、パラメータ選択回路64で電圧調整パラメータ17として選択された初期化済みのインクリメント用パラメータ63に従って(図2のS11)、ワード線電圧レギュレータ10がトリミングされる(図2のS12)。さらに約数マイクロ秒の安定待ち(図2のS13)の後にワード線電圧電源線18からロウデコーダ4とトリミングパラメータ領域用ロウデコーダ5に安定した電圧が供給される状態に至る。そして、トリミングパラメータ領域用ロウアドレス13とカラムアドレス14に従ってワード線とビット線が選択される。すなわち、トリミングパラメータ領域2の誤読出し確認用データが格納されているメモリセルに対応するワード線とビット線が選択される。これでセンスアンプ活性化信号22が活性化することにより誤読出し確認用データがデータバス16に出力される(図2のS14)。そして、判定回路60によって誤読出し確認用データと期待値が比較判定される(図2のS15)。ここで比較結果が一致しない場合は(図2のS16)、判定信号61は非活性のままであるので、パラメータ選択回路64はインクリメント用パラメータ63を電圧調整パラメータ17として選択し続け、判定信号61を受けた制御回路11はインクリメント信号65を活性化させ、パラメータ変化回路62はインクリメント用パラメータ63をインクリメント(図2のS17)し、ワード線電圧レギュレータ10をトリミングし直す(図2のS12)。   First, when the initial setting signal 19 is activated (S1 in FIG. 2) and input to the control circuit 11 after the power is turned on or after the system reset is released, all the latch circuits in the parameter holding circuit 9 are cleared, and the parameter The register circuit in the change circuit 62 is cleared and the increment parameter 63 is set to the default value. Next, the word line voltage regulator activation signal 21 is activated to start the operation of the word line voltage regulator 10 (S2 in FIG. 2), and the internal flow that is a feature of the present embodiment indicated by S10 in FIG. Proceed to Since the determination signal 61 is inactive, the word line voltage regulator 10 is trimmed according to the initialized increment parameter 63 selected as the voltage adjustment parameter 17 by the parameter selection circuit 64 (S11 in FIG. 2) ( S12 of FIG. Furthermore, after waiting for stabilization for about several microseconds (S13 in FIG. 2), a stable voltage is supplied from the word line voltage power supply line 18 to the row decoder 4 and the trimming parameter region row decoder 5. Then, a word line and a bit line are selected in accordance with the trimming parameter area row address 13 and the column address 14. That is, the word line and the bit line corresponding to the memory cell storing the erroneous read confirmation data in the trimming parameter area 2 are selected. As a result, when the sense amplifier activation signal 22 is activated, erroneous read confirmation data is output to the data bus 16 (S14 in FIG. 2). Then, the determination circuit 60 compares the erroneous read confirmation data with the expected value (S15 in FIG. 2). If the comparison results do not match (S16 in FIG. 2), the determination signal 61 remains inactive, so the parameter selection circuit 64 continues to select the increment parameter 63 as the voltage adjustment parameter 17, and the determination signal 61 In response, the control circuit 11 activates the increment signal 65, the parameter change circuit 62 increments the increment parameter 63 (S17 in FIG. 2), and trims the word line voltage regulator 10 again (S12 in FIG. 2).

また、比較結果が一致するようになった場合は(図2のS18)、トリミングパラメータ領域用ロウアドレス13とカラムアドレス14に従ってワード線とビット線が選択される。すなわち、トリミングパラメータ領域2のトリミングパラメータが格納されているメモリセルに対応するワード線とビット線が選択される。これでセンスアンプ活性化信号22が活性化することにより、トリミングパラメータがデータバス16に出力される(図2のS4)。そして、パラメータラッチ信号23に同期してトリミングパラメータ用アドレス15に従って、パラメータ保持回路9内の所定のラッチ回路にトリミングパラメータがラッチされる(図2のS5)。そしてパラメータ保持回路9にラッチされたトリミングパラメータ57は電圧調整パラメータ17としてワード線電圧レギュレータ10に与えられて(図2のS6)、約数マイクロ秒の安定待ち(図2のS7)の後にトリミング処理完了に至る。   If the comparison results match (S18 in FIG. 2), the word line and the bit line are selected according to the row address 13 and the column address 14 for the trimming parameter area. That is, the word line and the bit line corresponding to the memory cell storing the trimming parameter in the trimming parameter area 2 are selected. As a result, the sense amplifier activation signal 22 is activated, and the trimming parameters are output to the data bus 16 (S4 in FIG. 2). Then, the trimming parameters are latched in a predetermined latch circuit in the parameter holding circuit 9 in accordance with the trimming parameter address 15 in synchronization with the parameter latch signal 23 (S5 in FIG. 2). The trimming parameter 57 latched in the parameter holding circuit 9 is given to the word line voltage regulator 10 as the voltage adjustment parameter 17 (S6 in FIG. 2), and trimming is performed after waiting for stabilization of about several microseconds (S7 in FIG. 2). Processing is completed.

次に、本実施の形態によって安定した確実なトリミングが行える理由を図3を用いて説明する。図3はメモリセルのしきい値の分布に対して段階的にトリミングされたワード線電圧による効果を示す。   Next, the reason why stable and reliable trimming can be performed according to this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 illustrates the effect of stepped trimmed word line voltages on the threshold distribution of memory cells.

図3の(a)〜(f)は、図2のS17のループが実行された場合に段階的に変えられた電圧調整パラメータ17によってワード線電圧が段階的に上昇し、“1”データのしきい値分布と“0”データのしきい値分布がそれぞれ55の線と56の線のように、しきい値が段階的に高い側にシフトしていく状態を表す。各段階で期待値と比較判定され(図2のS15)、“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32の間のΔVreadが確保される図3の(d)の段階のみで正しく読み出すことが可能になり、誤読出し確認用データは期待値と一致する(図2のS18)。   3A to FIG. 3F, the word line voltage is increased stepwise by the voltage adjustment parameter 17 changed stepwise when the loop of S17 of FIG. 2 is executed. The threshold value distribution and the threshold value distribution of “0” data indicate a state in which the threshold value is gradually shifted to the higher side as indicated by lines 55 and 56, respectively. 3 is compared with the expected value at each stage (S15 in FIG. 2), and ΔVread between the “1” side threshold 31 and the “0” side threshold 32 is secured. Data can be read correctly only in stages, and erroneous read confirmation data matches the expected value (S18 in FIG. 2).

従って、書換え良品である限りは“1”データのしきい値分布と“0”データのしきい値分布の間はΔVreadが確保されているので、たとえワード線電圧が製造要因等によってばらついたとしても、ワード線電圧を段階的に変化させることで、製品毎には異なるが、正しく読み出すワード線電圧を得ることができる。その段階でトリミングパラメータを改めて読み出す(図2のS4)ことにより、正しいトリミングパラメータが得られる。   Therefore, as long as it is a rewritable product, ΔVread is secured between the threshold distribution of the “1” data and the threshold distribution of the “0” data, so even if the word line voltage varies due to manufacturing factors, etc. However, by changing the word line voltage stepwise, it is possible to obtain a word line voltage that is read correctly, although it varies from product to product. At that stage, the trimming parameters are read out again (S4 in FIG. 2), whereby the correct trimming parameters are obtained.

従ってメモリセルの書換え特性やトリミング対象のワード線電圧レギュレータ自体に不具合が無い製品は、不良と誤判定されることが回避され、所期通りに正しく良判定されることになり、製品コストを低減できる。   Therefore, products with no defects in the rewrite characteristics of the memory cells and the word line voltage regulator itself to be trimmed are avoided from being erroneously determined as defective, and are correctly determined as good as expected, reducing the product cost. it can.

(実施の形態2)
図4は本発明の実施の形態2における不揮発性半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。本実施の形態2は、実施の形態1のワード線電圧レギュレータの代わりに、高精度の電圧を発生させる必要のある読出し参照電圧レギュレータを設けた場合に相当する。
(Embodiment 2)
FIG. 4 is a block diagram showing the overall configuration of the nonvolatile semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. The second embodiment corresponds to a case where a read reference voltage regulator that needs to generate a highly accurate voltage is provided instead of the word line voltage regulator of the first embodiment.

図4において、66はセンスアンプ7に対して読出し参照電圧(Vref)30を与えるための読出し参照電圧レギュレータ、67は読出し参照電圧電源線、68は読出し参照電圧レギュレータ活性化信号である。読出し参照電圧レギュレータ66は、読出し参照電圧電源線67を介してセンスアンプ7の差動アンプ部の比較用入力端子に接続され、読出し時に制御回路11から読出し参照電圧レギュレータ活性化信号67が入力されると、生成した読出し参照電圧(Vref)30をセンスアンプ7に与えるように構成されている。センスアンプ7は、与えられた読出し参照電圧(Vref)30を設定するようになっている。   In FIG. 4, 66 is a read reference voltage regulator for applying a read reference voltage (Vref) 30 to the sense amplifier 7, 67 is a read reference voltage power line, and 68 is a read reference voltage regulator activation signal. The read reference voltage regulator 66 is connected to the comparison input terminal of the differential amplifier section of the sense amplifier 7 via the read reference voltage power line 67, and the read reference voltage regulator activation signal 67 is input from the control circuit 11 at the time of reading. Then, the generated read reference voltage (Vref) 30 is applied to the sense amplifier 7. The sense amplifier 7 sets a given read reference voltage (Vref) 30.

パラメータ選択回路64は、パラメータ保持回路9で保持されたトリミングパラメータ57とパラメータ変化回路62で生成されたインクリメント用パラメータ63とのいずれか一方を、判定回路60からの判定信号61に従って選択した上で、電圧調整パラメータ17として読出し参照電圧レギュレータ66に与えるように構成されている。   The parameter selection circuit 64 selects one of the trimming parameter 57 held by the parameter holding circuit 9 and the increment parameter 63 generated by the parameter change circuit 62 according to the determination signal 61 from the determination circuit 60. The read reference voltage regulator 66 is provided as the voltage adjustment parameter 17.

これら以外の構成及び接続関係は実施の形態1の構成と同じである。   Other configurations and connection relationships are the same as those of the first embodiment.

以上のように構成された本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置の動作は、実施の形態1で説明した動作において、ワード線電圧レギュレータを読出し参照電圧レギュレータに置換えた場合と同じである。   The operation of the nonvolatile semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above is the same as that in the case of replacing the word line voltage regulator with the read reference voltage regulator in the operation described in the first embodiment.

次に、本実施の形態によって安定した確実なトリミングが行える理由を図5を用いて説明する。図5はメモリセルのしきい値の分布に対して段階的にトリミングされた読出し参照電圧による効果を示す。   Next, the reason why stable and reliable trimming can be performed according to this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows the effect of a read reference voltage trimmed in stages on the threshold distribution of the memory cells.

図5の(a)〜(f)は、段階的に変えられた電圧調整パラメータ17によって読出し参照電圧(Vref)30が段階的に上昇し、“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32が段階的に高い側にシフトしていく状態を表す。各段階で期待値と比較判定され、“1”側境界しきい値31と“0”側境界しきい値32の間のΔVreadが確保される図5の(c)の段階のみで正しく読み出すことが可能になり、誤読出し確認用データは期待値と一致する。従って、書換え良品である限りは“1”データのしきい値分布と“0”データのしきい値分布の間はΔVreadが確保されているので、たとえ読出し参照電圧が製造要因等によってばらついたとしても、読出し参照電圧を段階的に変化させることで、製品毎には異なるが、正しく読み出す読出し参照電圧を得ることができる。その段階でトリミングパラメータを改めて読み出すことにより、正しいトリミングパラメータが得られる。   5A to 5F, the read reference voltage (Vref) 30 is increased stepwise by the voltage adjustment parameter 17 changed stepwise, and the “1” side boundary threshold value 31 and “0” are increased. This represents a state where the side boundary threshold value 32 is gradually shifted to the higher side. Correct reading is performed only at the stage of FIG. 5C in which ΔVread between the “1” side threshold value 31 and the “0” side threshold value 32 is ensured by comparison with the expected value at each stage. The erroneous read confirmation data matches the expected value. Therefore, as long as it is a rewritable product, ΔVread is secured between the threshold distribution of the “1” data and the threshold distribution of the “0” data, so even if the read reference voltage varies due to manufacturing factors, etc. However, by changing the read reference voltage stepwise, it is possible to obtain a read reference voltage that is read correctly, although it varies depending on the product. By reading out the trimming parameters anew at that stage, the correct trimming parameters can be obtained.

従ってメモリセルの書換え特性やトリミング対象の読出し参照電圧レギュレータ自体に不具合が無い製品は、不良と誤判定されることが回避され、所期通りに正しく良判定されることになり、製品コストを低減できる。   Therefore, products that have no defects in the rewrite characteristics of the memory cells and the read reference voltage regulator itself to be trimmed are avoided from being erroneously determined as defective, and are correctly determined as expected, thereby reducing product cost. it can.

(実施の形態3)
図6は本発明の実施の形態3における不揮発性半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。
(Embodiment 3)
FIG. 6 is a block diagram showing the overall configuration of the nonvolatile semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention.

トリミングパラメータ領域2にはトリミング電圧値に範囲をもたせたトリミングパラメータを複数個格納している。また、69は読出しデータとインクリメント用パラメータ63を比較し、一致している場合には活性化する一致信号70を出力する比較回路であり、パラメータ選択回路64は一致信号70に従って選択的にパラメータを電圧調整パラメータ17としてワード線電圧レギュレータ10に与えるよう接続されている。これら以外の構成及び接続関係は実施の形態1の構成と同じである。   The trimming parameter area 2 stores a plurality of trimming parameters in which the trimming voltage value has a range. Reference numeral 69 denotes a comparison circuit that compares the read data with the increment parameter 63 and outputs a match signal 70 that is activated if they match, and the parameter selection circuit 64 selectively selects parameters according to the match signal 70. The voltage adjustment parameter 17 is connected to the word line voltage regulator 10. Other configurations and connection relationships are the same as those of the first embodiment.

本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置について、以下、図6とトリミング処理時の内部フローを示す図7を用いて、その動作を説明する。   The operation of the nonvolatile semiconductor memory device of this embodiment will be described below with reference to FIG. 6 and FIG. 7 showing the internal flow at the time of trimming processing.

図7のS20で示された本実施の形態の特徴である内部フローのS18までは、実施の形態1の内部フロー図2と同様である。ここでは、図7のS18から説明する。   Up to S18 of the internal flow, which is a feature of the present embodiment shown in S20 of FIG. 7, is the same as the internal flow diagram 2 of the first embodiment. Here, it demonstrates from S18 of FIG.

誤読出し確認用データと期待値との比較結果が一致するようになった場合は(図7のS18)、トリミングパラメータ領域用ロウアドレス13とカラムアドレス14に従ってワード線とビット線が選択される。すなわち、トリミングパラメータ領域2の1番目のトリミングパラメータが格納されているメモリセルに対応するワード線とビット線が選択される。これでセンスアンプ活性化信号22が活性化することによりトリミングパラメータがデータバス16に出力され(図7のS21)、比較回路69でインクリメント用パラメータ63と読み出されたトリミングパラメータが比較される(図7のS22)。ここで比較結果が一致しない場合は(図7のS23)、制御回路11によってトリミングパラメータ領域用ロウアドレス13は2番目のトリミングパラメータ用のアドレスをデコードされ(図7のS24)、トリミングパラメータが読み出される(図7のS21)。また、比較結果が一致するようになった場合は(図7のS25)、一致信号70によってパラメータ保持回路9はラッチ可能になり、パラメータラッチ信号23に同期してトリミングパラメータ用アドレス15に従って、パラメータ保持回路9内の所定のラッチ回路にトリミングパラメータがラッチされる(図7のS5)。そしてラッチされたトリミングパラメータ57は電圧調整パラメータ17としてワード線電圧レギュレータ10に与えられて(図7のS6)、約数マイクロ秒の安定待ち(図7のS7)の後にトリミング処理完了に至る。従って、複数個のトリミング値の中から電源電圧や周囲温度などの製品環境に依存した最適なトリミングパラメータを選択できるので、トリミング後のメモリ特性を最適にできる。   When the comparison result between the erroneous read confirmation data and the expected value coincides (S18 in FIG. 7), the word line and the bit line are selected according to the trimming parameter area row address 13 and the column address 14. That is, the word line and the bit line corresponding to the memory cell storing the first trimming parameter in the trimming parameter area 2 are selected. As a result, the sense amplifier activation signal 22 is activated to output trimming parameters to the data bus 16 (S21 in FIG. 7), and the comparator 69 compares the read trimming parameters with the increment parameters 63 (see FIG. 7). S22 of FIG. 7). If the comparison results do not match (S23 in FIG. 7), the control circuit 11 decodes the trimming parameter area row address 13 for the second trimming parameter (S24 in FIG. 7), and the trimming parameter is read out. (S21 in FIG. 7). If the comparison results match (S25 in FIG. 7), the parameter holding circuit 9 can be latched by the match signal 70, and the parameter is synchronized with the parameter latch signal 23 according to the trimming parameter address 15. The trimming parameter is latched in a predetermined latch circuit in the holding circuit 9 (S5 in FIG. 7). Then, the latched trimming parameter 57 is given to the word line voltage regulator 10 as the voltage adjustment parameter 17 (S6 in FIG. 7), and the trimming process is completed after waiting for stabilization of about several microseconds (S7 in FIG. 7). Therefore, since the optimum trimming parameters depending on the product environment such as the power supply voltage and the ambient temperature can be selected from the plurality of trimming values, the memory characteristics after trimming can be optimized.

(実施の形態4)
図8は本発明の実施の形態4における不揮発性半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。
(Embodiment 4)
FIG. 8 is a block diagram showing the overall configuration of the nonvolatile semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention.

図8において、72は各段階毎の判定信号61を格納する判定信号保持回路、73は判定信号保持回路72で保持される複数の判定信号、74は複数の判定信号73を演算して、活性化した判定信号61が連続した場合にそれらの連続した段階の電圧調整パラメータの平均に近い段階の電圧調整パラメータを演算する演算回路、75は演算回路74で演算された電圧調整パラメータ、76はパラメータ変化回路62でインクリメント用パラメータが全ての段階変化した後にパラメータ選択回路27で選択する電圧調整パラメータを切替える信号である。これらの構成は実施の形態1には無い構成要素であるが、その他の構成及び接続関係は実施の形態1と同じである。   In FIG. 8, 72 is a determination signal holding circuit for storing the determination signal 61 for each stage, 73 is a plurality of determination signals held by the determination signal holding circuit 72, and 74 is a plurality of determination signals 73 that are calculated and activated. When the converted determination signal 61 is continuous, a calculation circuit for calculating a voltage adjustment parameter at a stage close to the average of the voltage adjustment parameters at the continuous stage, 75 is a voltage adjustment parameter calculated by the calculation circuit 74, and 76 is a parameter This is a signal for switching the voltage adjustment parameter selected by the parameter selection circuit 27 after the increment parameter is changed in all stages by the change circuit 62. These configurations are components that are not in the first embodiment, but other configurations and connection relationships are the same as those in the first embodiment.

演算回路74の一実施の形態を図9に示す。図9において、入力は判定信号保持回路72で保持された8段階の判定信号73、出力は演算後に活性化された判定信号が1段階のみに変換された電圧調整パラメータ75、さらに100から102は活性化された信号が3段階連続した場合は1段階に変換し、2段階連続した場合と1段階の場合は活性化された信号無しに変換する3入力ANDの配列、103は活性化された信号が2段階連続した場合は1段階に変換する2入力ANDの配列、104から107は8入力OR回路、108は7入力OR回路、112から117はトランスファーゲート、120から124はステップ毎の判定信号である。   One embodiment of the arithmetic circuit 74 is shown in FIG. In FIG. 9, the input is an eight-step decision signal 73 held by the decision signal holding circuit 72, the output is a voltage adjustment parameter 75 in which the decision signal activated after the operation is converted into only one step, and further 100 to 102 are An array of 3-input ANDs that converts the activated signal to one stage if it is continuous for three stages, and converts it to no stage if it is continuous for two stages or one stage, 103 is activated An array of 2-input ANDs that converts the signal into two stages if the signal is continuous in two stages, 104 to 107 are 8-input OR circuits, 108 are 7-input OR circuits, 112 to 117 are transfer gates, and 120 to 124 are step-by-step determinations Signal.

以上のように構成された本実施の形態の演算回路について、以下、図9を用いてその動作を説明する。   The operation of the arithmetic circuit according to this embodiment configured as described above will be described below with reference to FIG.

入力された8段階の判定信号73は、ANDの配列100〜103でステップ毎に変換され、変換後の判定信号のNORと変換前の判定信号のORとのANDをとることで、それぞれ対応するトランスファーゲート112〜117のいずれを導通するかを決める。つまり、いずれの変換段階の判定信号を転送するかを決める。すなわち、変換後の判定信号が全て非活性になっており、かつ、変換前の判定信号に少なくとも1つは活性化されている場合にのみ、変換前の判定信号が転送されるので、入力の判定信号73に複数の活性化された判定信号があった場合でも、出力の電圧調整パラメータ75においては必ずひとつに絞られる。そしてANDの配列100〜103のステップにおいて連続した活性化された判定信号の中で非活性の判定信号に隣接する判定信号のみが非活性化されて集約されるので、複数の活性化された段階の中心に近い段階の電圧調整パラメータを演算することができる。   The inputted eight-stage determination signal 73 is converted for each step in the AND array 100 to 103, and each AND is obtained by taking the AND of the NOR of the determination signal after conversion and the OR of the determination signal before conversion. Which of the transfer gates 112 to 117 is to be conducted is determined. That is, which conversion stage determination signal is to be transferred is determined. In other words, the determination signal before conversion is transferred only when all the determination signals after conversion are inactive and at least one of the determination signals before conversion is activated. Even when the determination signal 73 includes a plurality of activated determination signals, the output voltage adjustment parameter 75 is always limited to one. Since only the determination signals adjacent to the inactive determination signal among the continuous activated determination signals in the steps of the array 100 to 103 of the AND are inactivated and aggregated, a plurality of activated stages The voltage adjustment parameter at a stage close to the center of the can be calculated.

以上のように構成された本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置について、以下、図8とトリミング処理時の内部フローを示す図10を用いて、その動作を説明する。   The operation of the nonvolatile semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above will be described below with reference to FIG. 8 and FIG. 10 showing the internal flow at the time of trimming processing.

図10のS30で示された本実施の形態の特徴である内部フローにおいて、そのS14までは、実施の形態1の内部フロー図2と同様であり、図10のS31から説明する。   In the internal flow, which is a feature of the present embodiment shown in S30 of FIG. 10, up to S14 is the same as the internal flow diagram 2 of the first embodiment, and will be described from S31 of FIG.

誤読出し確認用データと期待値との比較結果が一致するしないに関わらず、判定回路60によって誤読出し確認用データと期待値が比較判定される(図10のS31)。ここであらかじめ設定された最大回数に至っていない場合は(図10のS32)、判定信号61を判定信号保持回路72に格納し(図10のS33)、パラメータ変化回路62でインクリメント用パラメータを変化させて(図10のS17)、ワード線電圧レギュレータ10を再度トリミングする(図10のS12)。やがて設定された最大回数に達すると(図10のS34)、最終の判定信号61を判定信号保持回路72に格納し(図10のS35)、演算回路74で電圧調整パラメータの平均に近い段階の電圧調整パラメータを演算する(図10のS36)。さらに、演算した電圧調整パラメータ75はパラメータラッチ信号23に同期してトリミングパラメータ用アドレス15に従って、パラメータ保持回路9内の所定のラッチ回路にラッチされ(図10のS37)、パラメータ選択回路27でパラメータ保持回路9の電圧調整パラメータを選択し、そしてラッチされたトリミングパラメータ57は電圧調整パラメータ17としてワード線電圧レギュレータ10に与えられて(図10のS6)、約数マイクロ秒の安定待ち(図10のS7)の後にトリミング処理完了に至る。つまり、確実に読み出せるワード線電圧値でトリミングパラメータを読み出せるので、安定した確実なトリミングが行え、電源立ち上げ直後のトリミング処理中に起こり得る電源変動等の不安定要素に対しての耐性向上を図ることができる。   Regardless of whether the comparison result between the erroneous read confirmation data and the expected value does not match, the determination circuit 60 compares and determines the erroneous read confirmation data and the expected value (S31 in FIG. 10). If the preset maximum number has not been reached (S32 in FIG. 10), the determination signal 61 is stored in the determination signal holding circuit 72 (S33 in FIG. 10), and the parameter change circuit 62 changes the increment parameter. (S17 in FIG. 10), the word line voltage regulator 10 is trimmed again (S12 in FIG. 10). When the set maximum number of times is reached (S34 in FIG. 10), the final determination signal 61 is stored in the determination signal holding circuit 72 (S35 in FIG. 10), and the arithmetic circuit 74 is in a stage close to the average of the voltage adjustment parameters. The voltage adjustment parameter is calculated (S36 in FIG. 10). Further, the calculated voltage adjustment parameter 75 is latched in a predetermined latch circuit in the parameter holding circuit 9 in accordance with the trimming parameter address 15 in synchronization with the parameter latch signal 23 (S37 in FIG. 10). The voltage adjustment parameter of the holding circuit 9 is selected, and the latched trimming parameter 57 is given to the word line voltage regulator 10 as the voltage adjustment parameter 17 (S6 in FIG. 10) and waits for stabilization of about several microseconds (FIG. 10). After S7), the trimming process is completed. In other words, since the trimming parameters can be read with a word line voltage value that can be read reliably, stable and reliable trimming can be performed, and resistance to unstable factors such as power supply fluctuations that can occur during the trimming process immediately after power on is improved. Can be achieved.

(実施の形態5)
図11は本発明の実施の形態5における不揮発性半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。
(Embodiment 5)
FIG. 11 is a block diagram showing the overall configuration of the nonvolatile semiconductor memory device according to the fifth embodiment of the present invention.

図11において、77と78は外部からの再読出し要求信号ERRが活性化し、判定信号61が非活性化した場合にのみ初期設定信号が活性化されるように構成された論理回路であり、79はメモリセルアレイにパリティビットを格納するパリティ領域であり、判定回路60はパリティ確認ができるものとする。これらの構成は実施の形態1には無い構成要素であるが、その他の構成及び接続関係は実施の形態1と同じである。また、センスアンプ7は読出しデータを保持する機能を有する。   In FIG. 11, 77 and 78 are logic circuits configured so that the initial setting signal is activated only when the external reread request signal ERR is activated and the determination signal 61 is deactivated. Is a parity area for storing parity bits in the memory cell array, and the decision circuit 60 can check the parity. These configurations are components that are not in the first embodiment, but other configurations and connection relationships are the same as those in the first embodiment. The sense amplifier 7 has a function of holding read data.

以上のように構成された本実施の形態の不揮発性半導体記憶装置について、以下、図11を用いて、その動作を説明する。   The operation of the nonvolatile semiconductor memory device of the present embodiment configured as described above will be described below with reference to FIG.

通常の読出し動作時にメモリシステムの安定性を図るためにパリティビットが設けられている場合には、サイクル毎に判定回路60によって都度判定されている。そして、メモリ内部と外部の両方で読出しエラーがパリティ確認等で判明された場合には、再読出し要求信号ERRが外部入力されることによって初期設定信号が活性化され、再読出し要求信号ERRが外部入力されても、判定信号61が非活性化されずに内部エラーを検知しない場合は外部出力データをそのまま保持し、外部からの再読出し要求時に出力する。   When a parity bit is provided in order to improve the stability of the memory system during a normal read operation, the determination circuit 60 makes a determination every cycle. If a read error is found both in the memory and outside by parity check or the like, the re-read request signal ERR is externally input to activate the initial setting signal, and the re-read request signal ERR is Even if it is input, if the determination signal 61 is not deactivated and an internal error is not detected, the external output data is held as it is and is output when a re-reading request is received from the outside.

従って、電源電圧低下などの環境変化が原因となっているような読出しエラーの場合にはトリミングをやり直すことが有効である。つまり、再トリミング後に読み直すことで正しい読出しデータを得られ、メモリを搭載したシステムの安定性向上を図れる。   Therefore, it is effective to perform trimming again in the case of a read error caused by an environmental change such as a power supply voltage drop. In other words, correct read data can be obtained by rereading after re-trimming, and stability of a system equipped with a memory can be improved.

なお、本実施の形態では、センスアンプ7が読出しデータの保持機能を有するとしたが、センスアンプ7の代わりに入出力バッファ8が読出しデータの保持機能を有してもよい。   In this embodiment, the sense amplifier 7 has a read data holding function. However, the input / output buffer 8 may have a read data holding function instead of the sense amplifier 7.

なお、上記の説明において読出し動作時に用いる電圧レギュレータとして、ワード線電圧レギュレータと読出し参照電圧レギュレータを例に挙げているが、トリミングパラメータを同一ワード線に格納すればワード線電圧レギュレータのトリミング時にはワード線ごとの電圧ばらつきの影響をよりよく抑制できるという効果が得られる。同様にトリミングパラメータを同一ビット線かセンスアンプ内の同一差動アンプにつながるメモリ領域に格納すれば、読出し参照電圧レギュレータのトリミング時にはセンスアンプ内の差動アンプごとに異なる読出し電圧のばらつきの影響をよりよく抑制できるという効果が得られる。   In the above description, the word line voltage regulator and the read reference voltage regulator are cited as examples of voltage regulators used during the read operation. However, if the trimming parameters are stored in the same word line, the word line voltage regulator is trimmed when the word line voltage regulator is trimmed. The effect that the influence of the voltage dispersion | variation for every can be suppressed more effectively is acquired. Similarly, if the trimming parameters are stored in the same bit line or in a memory area connected to the same differential amplifier in the sense amplifier, the read reference voltage regulator is trimmed, and the influence of variations in the read voltage that differ for each differential amplifier in the sense amplifier is affected. The effect that it can suppress more is acquired.

本発明による不揮発性半導体記憶装置は、FLASHやFeRAM等の不揮発性メモリを搭載したLSIに関し、トリミングによる製品コスト低減、性能向上や機能拡大等を目的とする用途に有用である。   The nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention relates to an LSI equipped with a nonvolatile memory such as FLASH or FeRAM, and is useful for applications such as product cost reduction, performance improvement and function expansion by trimming.

本発明の実施の形態1における不揮発性半導体記憶装置の全体構成図1 is an overall configuration diagram of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態1におけるトリミング処理時の制御フロー図Control flow diagram at the time of trimming processing in Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態1におけるメモリセルしきい値の分布図Distribution diagram of memory cell threshold value in the first embodiment of the present invention 本発明の実施の形態2における不揮発性半導体記憶装置の全体構成図Overall configuration diagram of nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 2 of the present invention 本発明の実施の形態2におけるメモリセルしきい値の分布図Memory cell threshold value distribution diagram in the second embodiment of the present invention 本発明の実施の形態3における不揮発性半導体記憶装置の全体構成図Overall configuration diagram of nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 3 of the present invention 本発明の実施の形態3におけるトリミング処理時の制御フロー図Control flow diagram at the time of trimming processing in Embodiment 3 of the present invention 本発明の実施の形態4における不揮発性半導体記憶装置の全体構成図Overall configuration diagram of nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 4 of the present invention 本発明の実施の形態4における演算回路の構成図Configuration diagram of arithmetic circuit in Embodiment 4 of the present invention 本発明の実施の形態4におけるトリミング処理時の制御フロー図Control flow diagram at the time of trimming processing in Embodiment 4 of the present invention 本発明の実施の形態5における不揮発性半導体記憶装置の全体構成図Overall configuration diagram of nonvolatile semiconductor memory device according to Embodiment 5 of the present invention 従来の技術における不揮発性半導体記憶装置の全体構成図Overall configuration diagram of a nonvolatile semiconductor memory device in the prior art 従来の技術におけるトリミング処理時の制御フロー図Control flow diagram during trimming process in the prior art 従来の技術におけるトリミング機能確認の検査フロー図Inspection flow chart for confirmation of trimming function in conventional technology 従来の技術において、メモリセルのしきい値の分布に対してワード線電圧のばらつきの影響を示す図The figure which shows the influence of the dispersion | variation in word line voltage with respect to threshold value distribution of a memory cell in a prior art 従来の技術において、メモリセルのしきい値の分布に対して読出し参照電圧のばらつきの影響を示す図The figure which shows the influence of the dispersion | variation in a read reference voltage with respect to threshold value distribution of a memory cell in a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

1 メモリセルアレイ
2 トリミングパラメータ領域
3 アドレスバッファ
4 ロウデコーダ
5 トリミングパラメータ領域用ロウデコーダ
6 カラムデコーダ
7 センスアンプ
8 入出力バッファ
9 パラメータ保持回路
10 ワード線電圧レギュレータ
11 制御回路
12 ロウアドレス
13 トリミングパラメータ領域用ロウアドレス
14 カラムアドレス
15 トリミングパラメータ用アドレス
16 データバス
17 電圧調整パラメータ
18 ワード線電圧電源線
19 初期設定信号
20 トリミングパラメータ用アドレス
21 ワード線電圧レギュレータ活性化信号
22 センスアンプ活性化信号
23 パラメータラッチ信号
24 入出力制御信号
27 パラメータ選択回路
30 読出し参照電圧(Vref)
31 “1”側境界しきい値
32 “0”側境界しきい値
33 “1”データのしきい値分布
34 “0”データのしきい値分布
60 判定回路
61 判定信号
62 パラメータ変化回路
63 インクリメント用パラメータ
64 パラメータ選択回路
65 インクリメント信号
66 読出し参照電圧レギュレータ
67 読出し参照電圧電源線
68 読出し参照電圧レギュレータ活性化信号
69 比較回路
70 一致信号
72 判定信号保持回路
73 複数の判定信号
74 演算回路
75 電圧調整パラメータ
76 電圧調整パラメータ切替え信号
77,78 論理回路
79 パリティ用領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Memory cell array 2 Trimming parameter area 3 Address buffer 4 Row decoder 5 Trimming parameter area row decoder 6 Column decoder 7 Sense amplifier 8 Input / output buffer 9 Parameter holding circuit 10 Word line voltage regulator 11 Control circuit 12 Row address 13 Trimming parameter area Row address 14 Column address 15 Trimming parameter address 16 Data bus 17 Voltage adjustment parameter 18 Word line voltage power supply line 19 Initial setting signal 20 Trimming parameter address 21 Word line voltage regulator activation signal 22 Sense amplifier activation signal 23 Parameter latch signal 24 I / O control signal 27 Parameter selection circuit 30 Read reference voltage (Vref)
31 “1” Boundary Threshold 32 “0” Boundary Threshold 33 “1” Data Threshold Distribution 34 “0” Data Threshold Distribution 60 Determination Circuit 61 Determination Signal 62 Parameter Change Circuit 63 Increment Parameters 64 Parameter selection circuit 65 Increment signal 66 Read reference voltage regulator 67 Read reference voltage power supply line 68 Read reference voltage regulator activation signal 69 Comparison circuit 70 Match signal 72 Judgment signal holding circuit 73 Multiple decision signals 74 Arithmetic circuit 75 Voltage adjustment Parameter 76 Voltage adjustment parameter switching signal 77, 78 Logic circuit 79 Parity area

Claims (10)

トリミングパラメータと誤読出し確認用データを格納するトリミングパラメータ領域を含む不揮発性のメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイから読み出される前記誤読出し確認用データを予めハードウエアとして組み込まれた期待値と比較して一致しているときは活性化された判定信号を出力する判定手段と、
前記判定手段の判定信号が非活性のときにパラメータを段階的に変化させるパラメータ変化手段と、
前記メモリセルアレイから読み出される前記トリミングパラメータを保持するパラメータ保持手段と、
前記判定手段の判定信号が非活性のときは前記パラメータ変化手段のパラメータを選択し前記判定信号が活性化されたときは前記パラメータ保持手段のパラメータを選択した上で電圧調整パラメータとして出力するパラメータ選択手段と、
前記パラメータ選択手段から受け取った前記電圧調整パラメータによって電圧値を調整する電圧レギュレータと、
初期設定信号の入力に基づいてメモリ動作を初期設定して前記メモリセルアレイから前記誤読出し確認用データを読み出し、前記判定手段が前記活性化された判定信号を出力した後は前記メモリセルアレイから前記トリミングパラメータの読出しに切り替え、前記パラメータ保持手段に読み出された前記トリミングパラメータを保持させる制御手段と
を備えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
A non-volatile memory cell array including a trimming parameter area for storing trimming parameters and erroneous read confirmation data;
A determination means for outputting an activated determination signal when the erroneous read confirmation data read from the memory cell array matches an expected value incorporated in advance as hardware ; and
Parameter changing means for stepwise changing the parameter when the determination signal of the determination means is inactive;
Parameter holding means for holding the trimming parameters read from the memory cell array;
When the determination signal of the determination means is inactive, the parameter of the parameter changing means is selected. When the determination signal is activated, the parameter of the parameter holding means is selected and output as a voltage adjustment parameter Means,
A voltage regulator that adjusts a voltage value according to the voltage adjustment parameter received from the parameter selection means;
The memory operation is initialized based on the input of the initial setting signal, the erroneous read confirmation data is read from the memory cell array, and after the determination means outputs the activated determination signal, the trimming is performed from the memory cell array. A non-volatile semiconductor memory device comprising: control means for switching to parameter reading and for holding the trimming parameter read by the parameter holding means.
さらに、前記読み出されたトリミングパラメータを前記パラメータ変化手段のパラメータと比較し、その比較結果を前記制御手段に与える比較手段を備え、
前記メモリセルアレイにおける前記トリミングパラメータ領域は前記トリミングパラメータとして異なるトリミング電圧値のトリミングパラメータを複数格納するものに構成され、
前記制御手段は、前記比較手段の比較結果が不一致である限りは前記トリミングパラメータ領域から次のトリミングパラメータの読出しを制御し、前記比較結果一致時の前記トリミングパラメータを前記パラメータ保持手段に保持させるように構成され、
前記パラメータ選択手段は、前記パラメータ保持手段のパラメータを選択した上で電圧調整パラメータとして出力する状態に切り替えるのを、前記比較手段の比較結果の一致で行うように構成されている請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
Further, a comparison unit that compares the read trimming parameter with a parameter of the parameter changing unit and gives the comparison result to the control unit,
The trimming parameter area in the memory cell array is configured to store a plurality of trimming parameters having different trimming voltage values as the trimming parameters,
The control unit controls reading of the next trimming parameter from the trimming parameter area as long as the comparison result of the comparison unit does not match, and causes the parameter holding unit to hold the trimming parameter when the comparison result matches. Composed of
The said parameter selection means is comprised so that it may switch to the state which outputs as a voltage adjustment parameter after selecting the parameter of the said parameter holding means according to the comparison result of the said comparison means. Nonvolatile semiconductor memory device.
さらに、前記判定手段による判定信号を複数段階にわたって保持する判定信号保持手段と、
前記判定信号が連続して活性化された場合に、それら活性化されて前記判定信号保持手段に保持された複数の判定信号のもつ段階の中心に近い段階のトリミングパラメータを演算する演算手段とを備え、
前記制御手段は、前記演算手段で演算された前記中心に近い段階のトリミングパラメータを前記パラメータ保持手段に保持させ、保持させた後に前記パラメータ選択手段を前記パラメータ保持手段のパラメータを選択するように制御するよう構成されている請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
Furthermore, determination signal holding means for holding the determination signal by the determination means over a plurality of stages;
Calculating means for calculating a trimming parameter at a stage close to the center of the stages of the plurality of determination signals that are activated and held in the determination signal holding means when the determination signals are continuously activated; Prepared,
The control unit controls the parameter holding unit to hold the trimming parameter at a stage close to the center calculated by the calculation unit, and then controls the parameter selection unit to select the parameter of the parameter holding unit. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, configured to
前記初期設定信号は、前記制御手段に外部より再読出し要求信号が入力された場合に前記判定信号が不活性化のときのみ活性化されるように構成されている請求項1から請求項3までのいずれかに記載の不揮発性半導体記憶装置。 The initial setting signal is configured to be activated only when the determination signal is inactivated when a reread request signal is input from the outside to the control means. The nonvolatile semiconductor memory device according to any one of the above. 前記センスアンプは、読出しデータを保持する機能を有し、前記制御手段に外部より再読出し要求信号が入力された場合に前記判定信号が活性化のときのみ当該センスアンプで保持された前記読出しデータが出力されるように構成されている請求項4に記載の不揮発性半導体記憶装置。 The sense amplifier has a function of holding read data, and when the re-read request signal is input from the outside to the control means, the read data held by the sense amplifier only when the determination signal is activated The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 4, wherein the nonvolatile semiconductor memory device is configured so as to be output. 前記センスアンプの次段の出力バッファは、読出しデータを外部出力し保持する機能を有し、前記制御手段に外部より再読出し要求信号が入力された場合に前記判定信号が活性化のときのみ当該出力バッファで保持された前記読出しデータが出力されるように構成されている請求項4に記載の不揮発性半導体記憶装置。 The output buffer at the next stage of the sense amplifier has a function of outputting and holding read data externally, and only when the determination signal is activated when a reread request signal is input from the outside to the control means The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 4, configured to output the read data held in an output buffer. 前記電圧レギュレータは、前記メモリセルアレイのワード線に印加する電圧を発生するワード線電圧レギュレータである請求項1から請求項6までのいずれかに記載の不揮発性半導体記憶装置。 7. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein the voltage regulator is a word line voltage regulator that generates a voltage to be applied to a word line of the memory cell array. 前記電圧レギュレータは、選択されたメモリセルの読出し参照電圧として前記センスアンプに与える電圧を発生する読出し参照電圧レギュレータである請求項1から請求項6までのいずれかに記載の不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein the voltage regulator is a read reference voltage regulator that generates a voltage to be applied to the sense amplifier as a read reference voltage of a selected memory cell. 前記誤読出し確認用データまたは前記トリミングパラメータは、前記トリミングパラメータ領域内の同一ワード線で選択されるメモリ領域に格納されるように構成されている請求項7に記載の不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 7, wherein the erroneous read confirmation data or the trimming parameter is configured to be stored in a memory area selected by the same word line in the trimming parameter area. 前記誤読出し確認用データまたは前記トリミングパラメータは、前記センスアンプ内の同一差動アンプで読み出されるメモリ領域に格納されるように構成されている請求項8に記載の不揮発性半導体記憶装置。 The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 8, wherein the erroneous read confirmation data or the trimming parameter is configured to be stored in a memory area read by the same differential amplifier in the sense amplifier.
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