JP4401909B2 - Optical recording medium and method for manufacturing optical recording medium - Google Patents

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Description

本発明は、光記録媒体に係り、特に記録媒体におけるトラックピッチの近接化および記録マーク長の短縮化を図ることにより高密度記録を可能とする光記録媒体に関する。   The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to an optical recording medium that enables high-density recording by making a track pitch close to the recording medium and shortening a recording mark length.

光記録媒体としては、CDやDVDに代表されるようにディスク状光記録媒体がよく知られているが、マルチメディア、ネットワークなど情報技術の進歩に伴って情報量が飛躍的増加し、光記録媒体に対する高密度化および大容量化への要求は高まっている。
高密度化の方法として、同じ情報量を記録する面積を小さくする方法、つまり記録ピットを小さくする方法がある。記録ピットを小さくするには、光をより小さく絞り、光のスポット径を小さくする必要がある。光のスポット径は、波長をλ、レンズの開口率をNAとすると、λ/NA に比例する。この関係から、波長を小さくするか、あるいは開口率を大きくしてスポット径を小さくすることが行われている。最近では、波長0.65μmの光を利用したDVDが実用化を迎え、さらに波長0.4μm程度の光を用いて高密度化を目指す開発が盛んに行われている。
As optical recording media, disk-shaped optical recording media such as CDs and DVDs are well known. However, with the progress of information technology such as multimedia and networking, the amount of information increases dramatically, and optical recording There is an increasing demand for higher density and higher capacity for media.
As a method for increasing the density, there is a method for reducing the area for recording the same amount of information, that is, a method for reducing the recording pits. In order to reduce the recording pit, it is necessary to reduce the light beam diameter and reduce the light spot diameter. The light spot diameter is proportional to λ / NA, where λ is the wavelength and NA is the aperture ratio of the lens. From this relationship, the spot diameter is reduced by decreasing the wavelength or increasing the aperture ratio. Recently, DVDs using light having a wavelength of 0.65 μm have been put into practical use, and development aiming at higher density using light having a wavelength of about 0.4 μm is being actively carried out.

また、高密度化を目指すには、記録ピットを小さくするとともにピットの間隔を小さくし、線記録密度やトラック密度をさらに大きくすることを同時に行う必要がある。トラック密度を大きくするにはトラックピッチを小さくすることが避けられないが、この場合にはクロストーク、クロスライトあるいはクロスイレースが問題となる。
すなわち、トラックピッチを小さくした場合、再生時において、隣接トラックに記録された信号を誤って読み取ってしまうクロストークの問題や、信号の記録・消去時において、隣接トラックに誤って信号を記録してしまうクロスライト、あるいは隣接トラックの記録信号を誤って消去してしまうクロスイレースなどの問題が起る。
さらに、記録マーク長を短くして高密度化した場合、記録マークの位置ずれによるエラーレートへの影響が大きくなるという問題がある。つまり、記録マークの位置ずれが相対的に大きくなり、信号のジッタ増加が顕著になる問題が生ずる。
In order to increase the density, it is necessary to simultaneously reduce the recording pits and the pit intervals to further increase the linear recording density and the track density. In order to increase the track density, it is inevitable to decrease the track pitch, but in this case, crosstalk, cross light, or cross erase becomes a problem.
In other words, when the track pitch is reduced, there is a problem of crosstalk that erroneously reads the signal recorded in the adjacent track during playback, and when the signal is recorded / erased, the signal is erroneously recorded in the adjacent track. This causes a problem such as cross-write, or cross-erase that erroneously erases the recording signal of the adjacent track.
Furthermore, when the recording mark length is shortened and the recording density is increased, there is a problem that the influence on the error rate due to the displacement of the recording mark is increased. That is, there arises a problem that the positional deviation of the recording mark becomes relatively large and the signal jitter increases remarkably.

このような問題を解決する方法として、例えば、ディスク基板上に形成する記録領域をトラックごとに分断し、トラック間に記録領域を構成する記録材料よりも熱伝導率の小さい材料を介在させた構成とすることによって、信号の記録、消去時に照射される光ビームのビームスポット部における温度上昇が隣接トラックまで伝達されにくいようにして、トラックピッチが狭くてもクロスライトやクロスイレースの発生を抑える方法や、トラック内において、記録マークごとに記録領域を分断し、信号再生時のジッタを軽減する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかし、この方法により記録媒体を製作するにはフォトリソグラフィなどの特殊な手法や手段を用いる必要があるほか、加工プロセスが複雑なため、製造コストが高騰する問題がある。また、このディスクは、光ビームの直接の刺激によって記録層に記録が行われるため、照射スポット内の記録層のクロスライトやクロスイレースを防止することは難しい。
As a method for solving such a problem, for example, a structure in which a recording area formed on a disk substrate is divided for each track, and a material having a lower thermal conductivity than a recording material constituting the recording area is interposed between the tracks. This prevents the rise in temperature at the beam spot of the light beam irradiated during signal recording and erasing from being transmitted to the adjacent tracks, and suppresses the occurrence of cross light and cross erase even when the track pitch is narrow. In addition, a method has been proposed in which a recording area is divided for each recording mark in a track to reduce jitter during signal reproduction (see, for example, Patent Document 1).
However, in order to manufacture a recording medium by this method, it is necessary to use a special technique and means such as photolithography, and there is a problem that the manufacturing cost increases because the processing process is complicated. In addition, since this disk is recorded on the recording layer by direct stimulation of the light beam, it is difficult to prevent cross-writing and cross-erasing of the recording layer in the irradiation spot.

特開2000−276770号公報JP 2000-276770 A

本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであり、トラックピッチの近接化において隣接トラック間のクロストーク、クロスライトあるいはクロスイレースを抑制するとともに、記録マーク長の短縮化において記録マークの位置ずれを低減し、エラーレートへの影響を小さく(信号のジッタ減少)することにより、高密度記録を可能とする光記録媒体とその簡便な製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above prior art, and suppresses crosstalk, cross-write or cross-erase between adjacent tracks when the track pitch is close, and also reduces the position of the recording mark when shortening the recording mark length. It is an object of the present invention to provide an optical recording medium capable of high-density recording and a simple manufacturing method thereof by reducing the deviation and reducing the influence on the error rate (reducing signal jitter).

本発明者らは鋭意検討した結果、光記録媒体の熱制御領域を吸収部と断熱部により構成し、これらをそれぞれ交互に記録層に接するように配置することによって、上記課題が解決されることを見出し本発明に至った。以下、本発明について具体的に説明する。   As a result of intensive studies, the inventors of the present invention can solve the above problem by configuring the thermal control region of the optical recording medium by the absorbing portion and the heat insulating portion, and arranging them alternately in contact with the recording layer. And found the present invention. Hereinafter, the present invention will be specifically described.

すなわち、本発明は、基板上に、熱制御領域と、熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有する光記録媒体において、
前記熱制御領域は、照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、該光吸収部と断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成されていることを特徴とする光記録媒体である。
That is, the present invention relates to an optical recording medium having a thermal control region on a substrate and a recording layer in which optical properties are altered and / or deformed by heat.
The thermal control region includes a light absorbing part that absorbs irradiation light and easily generates heat and a heat insulating part that does not easily generate heat, and the light absorption of the heat insulating part at the wavelength of the irradiated light is that of the light absorbing part. It is smaller than the light absorption , the light absorption part and the heat insulation part are alternately arranged so as to contact the recording layer , and the light absorption part and the heat insulation part are respectively configured in an annular shape or a spiral shape in the radial direction. An optical recording medium characterized by the above.

また、前記記録層が酸化ビスマスであることが好ましい。さらに、前記光吸収部がSbおよび/またはTeを含む化合物からなることが好ましい。   The recording layer is preferably bismuth oxide. Furthermore, it is preferable that the light absorption part is made of a compound containing Sb and / or Te.

そして、前記断熱部がZnSを含む化合物からなることが好ましく、Ag、AlまたはCuから選ばれるいずれかの金属からなることも好ましい。   And it is preferable that the said heat insulation part consists of a compound containing ZnS, and it is also preferable that it consists of any metal chosen from Ag, Al, or Cu.

さらに、断熱部がAg、AlまたはCuから選ばれるいずれかの金属である場合を除く前記いずれかの光記録媒体において、前記熱制御領域の光吸収部と断熱部が交互に記録層に接するように配置される構成の該断熱部が光吸収部の一面上に凸形状に形成されたことを特徴とする。   Further, in any one of the optical recording media except for the case where the heat insulating portion is any metal selected from Ag, Al, or Cu, the light absorbing portion and the heat insulating portion in the heat control region are alternately in contact with the recording layer. The heat insulating part having a configuration arranged in (1) is formed in a convex shape on one surface of the light absorbing part.

また、断熱部がAg、AlまたはCuから選ばれるいずれかの金属である場合を含む前記いずれかの光記録媒体において、前記熱制御領域の光吸収部と断熱部が交互に記録層に接するように配置される構成の該光吸収部が断熱部の一面上に凸形状に形成されたことを特徴とする。   Further, in any one of the optical recording media including the case where the heat insulating portion is any metal selected from Ag, Al, or Cu, the light absorbing portion and the heat insulating portion in the thermal control region are alternately in contact with the recording layer. The light-absorbing part having a configuration arranged in (1) is formed in a convex shape on one surface of the heat-insulating part.

さらにまた、断熱部がAg、AlまたはCuから選ばれるいずれかの金属である場合を除く前記いずれかの光記録媒体において、前記熱制御領域の光吸収部と断熱部が交互に記録層に接するように配置される構成の該光吸収部と断熱部が同一平面内に形成されたことを特徴とする。   Furthermore, in any one of the optical recording media except for the case where the heat insulating portion is any metal selected from Ag, Al, or Cu, the light absorbing portion and the heat insulating portion in the thermal control region are alternately in contact with the recording layer. The light absorbing portion and the heat insulating portion having the configuration arranged as described above are formed in the same plane.

さらに、本発明は、基板上に、熱制御領域と、光照射に基づく熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有し、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記断熱部が前記光吸収部の一面上に凸形状に形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成された光記録媒体の製造方法であって、
前記基板上に光吸収部用の光吸収層と、その一面上に断熱部を形成するための薄膜を順次積層する工程と、
該薄膜側から光を照射して所定の凸形状となるように薄膜を改質する工程と、
該光照射よって改質されない不要部分をエッチングにより除去し凸形状とする工程と、
該エッチング形成された構造体上面に記録層を形成する工程と、
を少なくとも含む光記録媒体の製造方法に係るものである。
Furthermore, the present invention has a thermal control region on a substrate and a recording layer whose optical properties change due to alteration and / or deformation due to heat based on light irradiation, and the thermal control region absorbs irradiation light. and a heat insulating portion which does not easily generate heat and the light absorbing portion to easily exothermic, the light absorption of the heat insulating portions in the wavelength of the irradiated light being smaller than the light absorption of the light absorbing portion, the heat insulating portion is the light wherein said light absorbing portion is formed in a convex shape on one side of the absorbent portion heat insulating portion is arranged so as to be in contact with the recording layer alternately, and the heat insulating portion and the light absorbing portion annular or in the radial direction, respectively A method of manufacturing an optical recording medium configured in a spiral shape ,
A step of sequentially laminating a light absorbing layer for a light absorbing portion on the substrate and a thin film for forming a heat insulating portion on one surface thereof;
Irradiating light from the thin film side to modify the thin film to have a predetermined convex shape;
Removing unnecessary portions that are not modified by the light irradiation by etching and forming a convex shape;
Forming a recording layer on the top surface of the etched structure;
The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium including at least

さらにまた、本発明は、基板上に、熱制御領域と、光照射に基づく熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有し、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記光吸収部が前記断熱部の一面上に凸形状に形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成された光記録媒体の製造方法であって、
前記基板上に断熱部用の断熱層と、その一面上に光吸収部を形成するための薄膜を順次積層する工程と、
該薄膜側から光を照射して所定の凸形状となるように薄膜を改質する工程と、
該光照射よって改質されない不要部分をエッチングにより除去し凸形状とする工程と、
該エッチング形成された構造体上面に記録層を形成する工程と、
を少なくとも含む光記録媒体の製造方法に係るものである。
Furthermore, the present invention has a thermal control region on a substrate and a recording layer whose optical properties change due to alteration and / or deformation due to heat based on light irradiation, and the thermal control region absorbs irradiation light. A light absorbing part that easily generates heat and a heat insulating part that does not easily generate heat, and the light absorption of the heat insulating part is smaller than the light absorption of the light absorbing part at the wavelength of the irradiated light. the heat insulating portion and the light absorbing portion is formed in a convex shape on one surface of the insulating part is arranged so as to be in contact with the recording layer alternately, and the annular heat insulating portion and the light absorbing portion in the radial direction, respectively Or a method of manufacturing an optical recording medium configured in a spiral shape ,
A step of sequentially laminating a heat insulating layer for the heat insulating portion on the substrate and a thin film for forming a light absorbing portion on one surface thereof;
Irradiating light from the thin film side to modify the thin film to have a predetermined convex shape;
Removing unnecessary portions that are not modified by the light irradiation by etching and forming a convex shape;
Forming a recording layer on the top surface of the etched structure;
The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium including at least

そしてさらに、本発明は、基板上に、熱制御領域と、光照射に基づく熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有し、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記光吸収部と前記断熱部が同一平面内に形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成された光記録媒体の製造方法であって、
前記基板上に断熱部を形成するための薄膜と、光吸収薄膜を順次積層する工程と、
該断熱部を形成するための薄膜と光吸収薄膜に光を照射して所定の形状となるように薄膜を改質する工程と、
該光照射よって改質されない部分の薄膜をフッ化水素酸でエッチングして除去する工程と、
該形成された断熱部上の光吸収薄膜を結晶化させ、この薄膜をアルカリ溶液で除去する工程と、
該断熱部が形成された構造体上面に光吸収部を形成するための薄膜を積層する工程と、
該光吸収部を形成するための薄膜の残したい部分を光照射により非晶質化させ、結晶化状態にある薄膜をアルカリ溶液で除去する工程と、
該形成された構造体上面に記録層を形成する工程と、
を少なくとも含む光記録媒体の製造方法に係るものである。
In addition, the present invention further includes a thermal control region and a recording layer on which optical characteristics change due to alteration and / or deformation due to heat based on light irradiation on the substrate, and the thermal control region absorbs irradiation light. A light absorbing portion that easily generates heat and a heat insulating portion that does not easily generate heat, and the light absorption of the heat insulating portion is smaller than the light absorption of the light absorbing portion at the wavelength of the irradiated light, the heat insulating portion and the light absorbing portion together with the heat insulating portion is formed in the same plane are arranged in contact with the recording layer alternately, and the heat insulating portion and the light absorbing portion annular or spiral in the radial direction, respectively A method of manufacturing an optical recording medium configured in a shape ,
A step of sequentially laminating a thin film for forming a heat insulating part on the substrate and a light absorbing thin film;
Irradiating light to the thin film for forming the heat insulating part and the light absorbing thin film to modify the thin film so as to have a predetermined shape;
Etching the portion of the thin film that is not modified by the light irradiation with hydrofluoric acid to remove it;
Crystallizing the light-absorbing thin film on the formed heat insulating portion and removing the thin film with an alkaline solution;
Laminating a thin film for forming a light absorbing portion on the upper surface of the structure on which the heat insulating portion is formed;
A step of amorphizing the portion of the thin film for forming the light absorbing portion to be left amorphous by light irradiation, and removing the thin film in a crystallized state with an alkaline solution;
Forming a recording layer on the upper surface of the formed structure;
The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium including at least

本発明の光記録媒体の構成によれば、照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とが交互に記録層に接するように配置されるため、光照射に伴う昇温領域の熱制御が可能となり、トラックピッチの近接化と記録マーク長の短縮化が実現できる。これによって、隣接トラック間のクロスライトやクロスイレース、あるいはクロストークを抑制することができるとともに、記録マークの位置ずれを低減することができ、高密度記録を可能とする光記録媒体を提供することができる。
また、本発明の製造方法によれば、フォトリソグラフィなどの特殊な手法や手段を用いることなく、しかも簡便な加工プロセスで製造コストを引上げることなく光記録媒体を製造することができる。
According to the configuration of the optical recording medium of the present invention, the light absorbing portion that absorbs irradiation light and easily generates heat and the heat insulating portion that does not easily generate heat are arranged so as to contact the recording layer alternately. Accordingly, it is possible to perform thermal control in the temperature rising region, and it is possible to realize a close track pitch and a short recording mark length. Accordingly, it is possible to provide an optical recording medium that can suppress cross write, cross erase, or cross talk between adjacent tracks, reduce recording mark positional deviation, and enable high density recording. Can do.
Further, according to the manufacturing method of the present invention, an optical recording medium can be manufactured without using a special technique or means such as photolithography, and without increasing the manufacturing cost by a simple processing process.

前述のように本発明の光記録媒体は、基板上に、照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、かつ該光吸収部と断熱部が交互に前記記録層に接するように配置された熱制御領域と、熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有するものである。   As described above, the optical recording medium of the present invention includes on the substrate a light absorbing part that absorbs irradiation light and easily generates heat and a heat insulating part that does not easily generate heat, and the light absorbing part and the heat insulating part are alternately arranged. And a thermal control region disposed so as to be in contact with the recording layer, and a recording layer in which optical properties change due to alteration and / or deformation by heat.

通常、光記録媒体の記録は円周方向に形成されたトラックに沿って行われるが、高密度化を行うためにトラックピッチを狭め、すなわち近接化すると、相対的にトラックの幅よりも照射光のスポット径が大きくなり、所定トラック以外の隣接トラックにも光が照射されることになる。このような状態では、隣接トラックの光が照射されている部分も温度上昇し、その結果、隣接トラックにも記録されたり(クロスライト)、隣接トラックの情報が消去されたり(クロスイレース)、あるいは隣接トラックに記録された信号を誤って読み取ったり(クロストーク)する問題が生じるが、本発明の光吸収部と断熱部からなる熱制御領域を設けた構成とすることによって所定トラック以外の温度上昇が抑制され上記問題が回避される。以下、本発明の光記録媒体について図を参照して詳細に説明する。   Normally, recording on an optical recording medium is performed along a track formed in the circumferential direction. However, when the track pitch is narrowed, that is, close to it in order to increase the density, the irradiation light is relatively larger than the track width. As a result, the spot diameter increases, and light is irradiated to adjacent tracks other than the predetermined track. In such a state, the temperature of the portion of the adjacent track irradiated with light also rises, and as a result, the information is recorded on the adjacent track (cross write), the information on the adjacent track is erased (cross erase), or Although there is a problem of erroneously reading (crosstalk) the signal recorded on the adjacent track, the temperature rise of the track other than the predetermined track is achieved by providing the thermal control region including the light absorbing portion and the heat insulating portion of the present invention. Is suppressed and the above problem is avoided. The optical recording medium of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

本発明の光記録媒体を説明するための構成例を図1の概略断面図に示す。図1はトラックに直交した断面図であり、横方向が光記録媒体の半径方向を示し、紙面に垂直な方向がトラック方向である。
光記録媒体には、基板101上に断熱部103が光吸収部102の一面上に凸形状に形成された熱制御領域100が設けられ、光吸収部102と断熱部103がそれぞれ交互に記録層104に接するように配置されている。
A configuration example for explaining the optical recording medium of the present invention is shown in a schematic sectional view of FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view orthogonal to the track, in which the horizontal direction indicates the radial direction of the optical recording medium, and the direction perpendicular to the paper surface is the track direction.
The optical recording medium is provided with a heat control region 100 in which a heat insulating portion 103 is formed on a surface of a light absorbing portion 102 on a substrate 101 in a convex shape, and the light absorbing portion 102 and the heat insulating portion 103 are alternately arranged in a recording layer. 104 so as to be in contact with 104.

図1のような構成とした光記録媒体に光りを照射した場合、図2の模式図に示すように、断熱部103が形成された部分では、光吸収部102で生じた熱が記録層104に伝わらない。このため、断熱部103と接触した部分の記録層104には記録マークが形成されず、断熱部103に挟まれた光吸収部102と接触した部分の記録層104にのみ記録マークが形成される。これによって、所定トラックの狭い領域への記録、消去、再生が可能となり、隣接トラックへのクロスライトやクロスイレース、あるいはクロストークが抑制できる。また、記録マークの位置ずれを低減することができる。   When the optical recording medium configured as shown in FIG. 1 is irradiated with light, as shown in the schematic diagram of FIG. 2, in the portion where the heat insulating portion 103 is formed, the heat generated in the light absorbing portion 102 is generated by the recording layer 104. Not communicated to. For this reason, a recording mark is not formed on the recording layer 104 in a portion in contact with the heat insulating portion 103, and a recording mark is formed only in a portion of the recording layer 104 in contact with the light absorbing portion 102 sandwiched between the heat insulating portions 103. . As a result, recording, erasing, and reproduction can be performed in a narrow area of a predetermined track, and cross-write, cross-erase, or cross-talk to adjacent tracks can be suppressed. In addition, the displacement of the recording mark can be reduced.

なお、図3に、図1における断熱部のない構成とした光記録媒体に光りを照射して記録マークを形成する場合の模式図を示す。この構成の場合には、集光された光105が照射されると光吸収部102が光を吸収し、集光された光105の大きさに相当する広い領域の温度が上昇し、これに対応する記録層104に記録マーク106が形成される。すなわち、隣接トラックへのクロスライトやクロスイレース、あるいはクロストークが抑制できない。   FIG. 3 is a schematic diagram in the case where a recording mark is formed by irradiating light onto an optical recording medium having a configuration without a heat insulating portion in FIG. In the case of this configuration, when the collected light 105 is irradiated, the light absorption unit 102 absorbs light, and a temperature in a wide area corresponding to the size of the collected light 105 rises. A recording mark 106 is formed on the corresponding recording layer 104. That is, it is not possible to suppress cross light, cross erase, or cross talk to adjacent tracks.

前記本発明の光記録媒体の熱制御領域を構成する、いわゆる照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と、容易に発熱しない断熱部のそれぞれの光吸収は、照射される光の波長において断熱部の方が光吸収部よりも小さいことが好適である。
前記のように光吸収部で光を吸収し、温度が上昇することにより光吸収部と接した領域の記録層に記録マークが形成されるので、所定の狭い領域に限って記録マークを形成するためには、断熱部では温度が極力上昇しないことが望ましい。このためには、断熱部での光の吸収を小さく抑え、温度が上昇しない構成にすることが効果的である。このようにすれば、記録の領域を限定することができる。
The respective light absorptions of the light absorbing part that constitutes the thermal control region of the optical recording medium of the present invention and absorbs irradiation light and generates heat easily and the heat insulating part that does not generate heat easily are the wavelength of the irradiated light. It is preferable that the heat insulating part is smaller than the light absorbing part.
As described above, the recording mark is formed in the recording layer in the region in contact with the light absorbing portion by absorbing the light in the light absorbing portion and the temperature rises. Therefore, the recording mark is formed only in a predetermined narrow region. Therefore, it is desirable that the temperature does not increase as much as possible in the heat insulating portion. For this purpose, it is effective to suppress the light absorption in the heat insulating portion and to prevent the temperature from rising. In this way, the recording area can be limited.

次に、本発明の光記録媒体の各構成層に用いられる材料について説明する。
本発明の基板に用いられる材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタアクリレート樹脂などのプラスチック、またはガラスやセラミック、あるいは金属などを用いることができる。なお、基板の表面にトラッキングを制御するための溝、ピットを備えていてもよい。
Next, materials used for each constituent layer of the optical recording medium of the present invention will be described.
As a material used for the substrate of the present invention, for example, a plastic such as polycarbonate resin or polymethyl methacrylate resin, glass, ceramic, metal, or the like can be used. Note that grooves and pits for controlling tracking may be provided on the surface of the substrate.

本発明の光記録媒体の記録層としては、熱により変質および/または変形して光学特性が変化する材料を用いることができる。このような記録層用の材料として、Bi、Te、Sb、Seなどの酸化物や色素材料などが用いられる。特に、酸化ビスマスは好ましく用いられる。   For the recording layer of the optical recording medium of the present invention, a material whose optical properties change due to alteration and / or deformation by heat can be used. As such a material for the recording layer, an oxide such as Bi, Te, Sb, or Se, or a dye material is used. In particular, bismuth oxide is preferably used.

すなわち、酸化ビスマスを記録層に用いた場合、熱によって記録層を変質、または変形させて記録マークの形成を行うことができるとともに、酸化ビスマスは光の吸収が比較的小さいため、照射光の吸収によるそれ自体の温度上昇は小さくて記録マークが形成されるに至らない。記録マークの形成は、光吸収部が光を吸収して温度上昇し、その熱が酸化ビスマスからなる記録層に伝達されることによって行うことができる。これによって、所定領域に記録マークを形成することができ、隣接トラックへのクロスライト、クロスイレース、、クロストークの抑制、あるいは記録マークの位置ずれを低減することが可能となる。   That is, when bismuth oxide is used for the recording layer, the recording layer can be altered or deformed by heat to form a recording mark, and bismuth oxide absorbs irradiated light because it absorbs light relatively little. The temperature rise by itself is so small that no recording mark is formed. The recording mark can be formed by absorbing the light and increasing the temperature, and transferring the heat to the recording layer made of bismuth oxide. As a result, a recording mark can be formed in a predetermined area, and it is possible to suppress cross-write, cross-erase, cross-talk to adjacent tracks, or to reduce the position deviation of the recording mark.

また、本発明の光記録媒体の熱制御領域を構成する光吸収部としては、照射光を吸収して容易に発熱する材料を用いることができる。このような材料としては、効率よく光を吸収して温度上昇するものが良く、例えば、低融点金属材料を含有する化合物が好適に用いられるが、特にSbおよび/またはTeを含む化合物からなる材料が好ましい。   In addition, as the light absorbing portion constituting the heat control region of the optical recording medium of the present invention, a material that easily generates heat by absorbing irradiation light can be used. As such a material, a material that efficiently absorbs light and rises in temperature is good. For example, a compound containing a low-melting-point metal material is preferably used, and in particular, a material made of a compound containing Sb and / or Te. Is preferred.

Sbおよび/またはTeを含む化合物としては、SbTe、InTe、BiTe、GaSbなどの2元系材料や、GeSbTe、InSbTe、BiSbTe、GaSbTeなどの3元系材料、AgInSbTeなどの4元系材料を用いることができる。これら材料は比較的低パワーのレーザー光照射によって発熱するため、半導体レーザーにおいて可能な出力範囲で記録を行うことができる。また、比較的低いパワーの光で記録を行うことができるため、光吸収部以外に熱が広がったり、損傷を与えたりすることがなく、良好な記録を行うことができる。   As a compound containing Sb and / or Te, a binary material such as SbTe, InTe, BiTe, or GaSb, a ternary material such as GeSbTe, InSbTe, BiSbTe, or GaSbTe, or a quaternary material such as AgInSbTe should be used. Can do. Since these materials generate heat when irradiated with laser light having a relatively low power, recording can be performed in an output range that is possible with a semiconductor laser. Further, since recording can be performed with light having a relatively low power, heat can be spread and damaged other than the light absorbing portion, and good recording can be performed.

本発明の光記録媒体の熱制御領域を構成する断熱部としては、照射光を吸収しても容易に発熱せず、しかも光吸収部で発生した熱が所定領域以外の記録層に伝わらないようにする材料、または熱が隣接に広がらないようにする材料を用いることができる。このような材料としては、ZnSを含む化合物が好ましく、例えば、ZnSとSiO2からなる複合化合物、ZnSとZnOからなる複合化合物、ZnSとSiO2とZnOからなる複合化合物など、あるいはZnSと透明な誘電体材料との複合化合物などが例示される。 As the heat insulating part constituting the heat control area of the optical recording medium of the present invention, heat is not easily generated even when the irradiation light is absorbed, and heat generated in the light absorbing part is not transmitted to the recording layer other than the predetermined area. Or a material that prevents heat from spreading adjacently. As such a material, a compound containing ZnS is preferable. For example, a composite compound composed of ZnS and SiO 2 , a composite compound composed of ZnS and ZnO, a composite compound composed of ZnS, SiO 2 and ZnO, or a material transparent to ZnS Examples include composite compounds with dielectric materials.

すなわち、ZnS(硫化亜鉛)は熱伝導率が上記Sbおよび/またはTeを含む化合物に比べて低く、また断熱効果が高い。そのため、断熱部から記録層への熱の伝達を小さくするので、断熱部に対応する記録層の変質、変形を防ぐことができる。つまり、所定の狭い領域に記録を可能とし、隣接トラックへのクロスライト、クロスイレース、クロストークの抑制、あるいは記録マークの位置ずれを低減することができる。   That is, ZnS (zinc sulfide) has a lower thermal conductivity than the compound containing Sb and / or Te and has a high heat insulation effect. For this reason, since the heat transfer from the heat insulating portion to the recording layer is reduced, the recording layer corresponding to the heat insulating portion can be prevented from being altered or deformed. In other words, recording can be performed in a predetermined narrow area, cross-write, cross-erase and cross-talk to adjacent tracks can be suppressed, or recording mark position deviation can be reduced.

さらに、本発明の光記録媒体の熱制御領域を構成する断熱部としては、当該熱制御領域の構成(例えば、後述の図4)によっては、Ag、AlまたはCuから選ばれるいずれかの金属を用いることが好ましい。
すなわち、Ag、Al、Cuは熱伝導率が大きく、断熱部における熱はすぐに放熱されてしまい温度が上昇しない。このため、記録層の所定領域にのみ記録マークを形成することができ、隣接トラックへのクロスライト、クロスイレース、クロストークの抑制、あるいは記録マークの位置ずれを低減することができる。
Furthermore, as a heat insulation part which comprises the heat control area | region of the optical recording medium of this invention, depending on the structure (for example, below-mentioned FIG. 4) of the said heat control area | region, either metal chosen from Ag, Al, or Cu is used. It is preferable to use it.
That is, Ag, Al, and Cu have a high thermal conductivity, and the heat in the heat insulating portion is immediately radiated and the temperature does not rise. For this reason, a recording mark can be formed only in a predetermined area of the recording layer, and it is possible to suppress cross write, cross erase, cross talk to adjacent tracks, or to reduce the position deviation of the recording mark.

本発明の光記録媒体は、基板、記録層、熱制御領域としての光吸収部と断熱部を主体として構成されるが必要により、例えば、熱の影響によって基板が変形するのを防ぐためのバッファー層、あるいは摺動性能を向上するための摺動層や潤滑性を向上するための潤滑層などを設けることができる。バッファー層としては誘電体材料(例えば、ZnS・SiO2など)を用いることができる。また、摺動層としては、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)などが用いられ、潤滑層としては、フォンブリンなどが用いられる。 The optical recording medium of the present invention is mainly composed of a substrate, a recording layer, a light absorbing portion as a heat control region, and a heat insulating portion. For example, a buffer for preventing the substrate from being deformed by the influence of heat. A layer, a sliding layer for improving sliding performance, a lubricating layer for improving lubricity, and the like can be provided. As the buffer layer, a dielectric material (for example, ZnS · SiO 2 or the like) can be used. Further, diamond-like carbon (DLC) or the like is used as the sliding layer, and fomblin or the like is used as the lubricating layer.

図4の概略断面図に本発明における光記録媒体の別の構成例を示す。図4はトラックに直交した断面図であり、横方向が光記録媒体の半径方向を示し、紙面に垂直な方向がトラック方向である。
光記録媒体には、基板101上に光吸収部102が断熱部103の一面上に凸形状に形成された熱制御領域100が設けられ、光吸収部102と断熱部103がそれぞれ交互に記録層104に接するように配置されている。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another configuration example of the optical recording medium in the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view orthogonal to the track. The horizontal direction indicates the radial direction of the optical recording medium, and the direction perpendicular to the paper surface is the track direction.
The optical recording medium is provided with a heat control region 100 in which a light absorbing portion 102 is formed on a surface of a heat insulating portion 103 on a substrate 101 in a convex shape, and the light absorbing portion 102 and the heat insulating portion 103 are alternately arranged in a recording layer. 104 so as to be in contact with 104.

図4の構成とすることによって、図1と同様に、断熱部103が形成された部分では、光吸収部102で生じた熱が記録層104に伝わらない。これによって、光吸収部102と接触した部分の記録層104にのみ記録マークが形成され、所定トラックの狭い領域への記録、消去、再生が可能となり、隣接トラックへのクロスライト、クロスイレース、クロストークが抑制できる。あるいは記録マークの位置ずれを低減することができる。
なお、前述のようにこの構成の場合、Ag、AlまたはCuから選ばれるいずれかの金属を用いて断熱部を形成するのが好ましい。
With the configuration of FIG. 4, similarly to FIG. 1, the heat generated in the light absorbing portion 102 is not transmitted to the recording layer 104 in the portion where the heat insulating portion 103 is formed. As a result, a recording mark is formed only on the recording layer 104 in a portion in contact with the light absorbing portion 102, and recording, erasing, and reproduction can be performed in a narrow area of a predetermined track, and cross writing, cross erasing, and crossing to an adjacent track are possible. Talk can be suppressed. Alternatively, the displacement of the recording mark can be reduced.
As described above, in the case of this configuration, it is preferable to form the heat insulating portion using any metal selected from Ag, Al, or Cu.

図5の概略断面図に本発明における光記録媒体のさらに別の構成例を示す。図5はトラックに直交した断面図であり、横方向が光記録媒体の半径方向を示し、紙面に垂直な方向がトラック方向である。
光記録媒体には、基板101上に光吸収部102と断熱部103が同一平面内に形成された熱制御領域100が設けられ、光吸収部102と断熱部103がそれぞれ交互に記録層104に接するように配置されている。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing still another configuration example of the optical recording medium in the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view orthogonal to the track. The horizontal direction indicates the radial direction of the optical recording medium, and the direction perpendicular to the paper surface is the track direction.
The optical recording medium is provided with a thermal control region 100 in which the light absorbing portion 102 and the heat insulating portion 103 are formed on the same plane on the substrate 101, and the light absorbing portion 102 and the heat insulating portion 103 are alternately formed on the recording layer 104. It is arranged to touch.

このような構成とすることにより、断熱部103が形成された部分では、光吸収部102で生じた熱が記録層104に伝わらない。このため、前記図1、図4と同様に断熱部103に挟まれた光吸収部102と接触した部分の記録層104にのみ記録マークが形成される。従って、所定トラックの狭い領域への記録、消去、再生が可能となり、隣接トラックへのクロスライト、クロスイレース、クロストークが抑制でき、記録マークの位置ずれを低減することができる。   With such a configuration, heat generated in the light absorbing portion 102 is not transmitted to the recording layer 104 in the portion where the heat insulating portion 103 is formed. For this reason, the recording mark is formed only on the recording layer 104 in the portion in contact with the light absorbing portion 102 sandwiched between the heat insulating portions 103 as in FIGS. Accordingly, recording, erasing, and reproducing can be performed in a narrow area of a predetermined track, cross writing, cross erasing, and cross talk to an adjacent track can be suppressed, and a recording mark position shift can be reduced.

本発明においては、前記記録媒体の記録層に接するように配置された光吸収部と断熱部それぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成されている。
図6の平面図は、基板上に光吸収部と断熱部がそれぞれ半径方向において環状に形成された状態を模式的に示したものである。すなわち、光吸収部102と断熱部103が環状に交互に備えられている状態を示す。図6では模式的に数周期の円周のみ示したが、実際の光記録媒体では内周から外周までこのような構造が形成される。また、図中には記録層を示さなかったが、記録層はこれらの構造上に層状に形成される。
このような構造を利用してトラッキングを行うことも可能であり、その場合にはトラッキング用の溝がない基板上を用いることもできる。図6では円周状の構造を示したが、内周から外周まで渦巻状とした構造も同様に用いることができる。
In the present invention, the light absorbing portion and the heat insulating portion disposed so as to be in contact with the recording layer of the recording medium are each configured in an annular shape or a spiral shape in the radial direction .
The plan view of FIG. 6 schematically shows a state in which the light absorbing portion and the heat insulating portion are formed annularly in the radial direction on the substrate. That is, it shows a state in which the light absorbing portions 102 and the heat insulating portions 103 are alternately provided in a ring shape. In FIG. 6, only the circumference of several cycles is schematically shown, but such a structure is formed from the inner periphery to the outer periphery in an actual optical recording medium. Further, although the recording layer is not shown in the drawing, the recording layer is formed in layers on these structures.
Tracking can also be performed using such a structure. In that case, a substrate without a tracking groove can be used. Although FIG. 6 shows a circumferential structure, a spiral structure from the inner periphery to the outer periphery can be used as well.

本発明においては、前記記録媒体の記録層に接するように配置された光吸収部を円周方向において島状に構成することができる。光吸収部が互いに隣り合った位置に規則性を持って島状に配置されている。
図7の模式図に、本発明の光記録媒体における光吸収部を円周方向において島状に構成した場合の断面(7a)と、配置(7b)を示す。図7(a)は光記録媒体の断面を示す。紙面に平行な方向が媒体の半径方向であり、紙面に垂直方向がトラックに沿った方向である。
In the present invention, the light absorbing portion disposed so as to be in contact with the recording layer of the recording medium can be configured in an island shape in the circumferential direction. The light absorbing portions are arranged in an island shape with regularity at positions adjacent to each other.
The schematic diagram of FIG. 7 shows a cross section (7a) and an arrangement (7b) when the light absorbing portion in the optical recording medium of the present invention is configured in an island shape in the circumferential direction. FIG. 7A shows a cross section of the optical recording medium. The direction parallel to the paper surface is the radial direction of the medium, and the direction perpendicular to the paper surface is the direction along the track.

この構成では、基板101上に誘電体層107を設けた。この誘電体層107は、熱で基板が変形するなどの影響を防ぐためのものである。断熱部103の上に光吸収部102を島状(図中の丸い部分)に配置されている。光吸収部102は図7(b)のように規則的にトラックに沿って並ぶように配置されている。配置は、図7(b)のように隣接トラック上の光吸収部102からなる島状の構造が互い違いになる構造でもよいが、図8の模式図のように隣接トラックの島状構造が互いに隣り合って配置される構成でもよい。   In this configuration, the dielectric layer 107 is provided on the substrate 101. The dielectric layer 107 is for preventing the influence of deformation of the substrate due to heat. On the heat insulation part 103, the light absorption part 102 is arranged in an island shape (round part in the figure). The light absorbers 102 are regularly arranged along the track as shown in FIG. 7B. As shown in FIG. 7B, the arrangement may be such that the island-like structures of the light absorbing portions 102 on the adjacent tracks are staggered, but the island-like structures of the adjacent tracks are mutually connected as shown in the schematic diagram of FIG. The structure arrange | positioned adjacently may be sufficient.

例えば、記録のための光が201のスポット位置に照射されると、光吸収部102の上面に形成されている記録層104の領域に記録マークが形成される。光スポット中の光強度はガウシアン分布をしているため、光スポットの中心付近は高温(図中の斜線部)になるが、光スポットの端部に近い部分の強度を記録が行われない程度に調整することで記録層の部分のみに記録を行うことが可能となる。すなわち、光スポットの中心付近にある光吸収部上の記録層の領域のみに記録が行われる。これにより、隣接トラックへの影響を防ぐとともに、トラックに沿った方向への記録マークの位置ずれを低減することが可能となる。また、光吸収部102と断熱層103の配置を反対にした構造においても同様の効果が得られる。   For example, when light for recording is irradiated to the spot position 201, a recording mark is formed in the region of the recording layer 104 formed on the upper surface of the light absorbing portion 102. Since the light intensity in the light spot has a Gaussian distribution, the temperature near the center of the light spot is high (the shaded area in the figure), but the intensity of the portion near the edge of the light spot is not recorded. By adjusting to, recording can be performed only on the recording layer portion. That is, recording is performed only on the region of the recording layer on the light absorbing portion near the center of the light spot. As a result, it is possible to prevent the influence on the adjacent track and to reduce the displacement of the recording mark in the direction along the track. The same effect can be obtained even in a structure in which the arrangement of the light absorbing portion 102 and the heat insulating layer 103 is reversed.

次に本発明における、光記録媒体の製造方法について説明する。
前記図1に示した構成、すなわち、基板上に設けられる断熱部が光吸収部の一面上に凸形状に形成される構造の場合には、次のように行われる。図9の概略工程図により説明するが、図中において基板1101と光吸収部用の光吸収層1103との間に、バッファー層1102が形成されたものを例とする。なお、1104は凸形状の断熱部を形成するための薄膜を示す。
Next, a method for manufacturing an optical recording medium in the present invention will be described.
In the case of the structure shown in FIG. 1, that is, the structure in which the heat insulating portion provided on the substrate is formed in a convex shape on one surface of the light absorbing portion, the following is performed. Although described with reference to the schematic process diagram of FIG. 9, an example in which a buffer layer 1102 is formed between the substrate 1101 and the light absorbing layer 1103 for the light absorbing portion in the drawing is taken as an example. Reference numeral 1104 denotes a thin film for forming a convex heat insulating portion.

すなわち、光記録媒体の製造方法は、基板1101上に光吸収部用の光吸収層1103と、その一面上に断熱部を形成するための薄膜1104を順次積層する工程と、該薄膜1104側から光を照射して所定の凸形状となるように薄膜を改質する工程と、該光照射よって改質されない不要部分をエッチングにより除去し凸形状とする工程と、該エッチング形成された構造体上面に記録層を形成する工程と、を少なくとも含む光記録媒体の製造方法である。図9において、記録層の形成工程は省略している。   That is, the optical recording medium manufacturing method includes a step of sequentially laminating a light absorbing layer 1103 for a light absorbing portion on a substrate 1101 and a thin film 1104 for forming a heat insulating portion on one surface thereof, and from the thin film 1104 side. A step of modifying the thin film so as to have a predetermined convex shape by irradiating light, a step of removing unnecessary portions not modified by the light irradiation by etching to form a convex shape, and an upper surface of the structure formed by etching Forming a recording layer on the optical recording medium. In FIG. 9, the recording layer forming step is omitted.

図9において、(110)は、基板上に光吸収部用の光吸収層1103と、その一面上に断熱部を形成するための薄膜1104を積層する工程を示す。また、(111)は、薄膜側から光(レーザー光)を照射して所定の凸形状となるように薄膜を改質する工程を示す。(112)は、該光照射よって改質されない不要部分をエッチングにより除去し凸形状とする工程を示す。   In FIG. 9, (110) shows the process of laminating | stacking the light absorption layer 1103 for light absorption parts on a board | substrate, and the thin film 1104 for forming a heat insulation part on the one surface. (111) indicates a step of modifying the thin film so as to have a predetermined convex shape by irradiating light (laser light) from the thin film side. (112) shows a step of removing an unnecessary portion that is not modified by the light irradiation by etching to form a convex shape.

(111)の工程において、(1111)は、レーザー光の照射方向を示す。レーザー光は、凸形状とするための薄膜1104側から照射する。1112は、レーザー光照射による改質部分を示す。光吸収層の発熱により、薄膜の材料密度、結晶状態、組成などが変化し、改質する。1113は、レーザー光の照射方法を示す。P1およびP2は、レーザーパワーレベルを示す。パワーレベルは2水準で変える。レーザーパワーレベルをP1>P2の関係に設定し、P1レベルに保持する周期Sや期間T1を作製したい形状に応じて変える。 In the step (111), (1111) indicates the irradiation direction of the laser beam. Laser light is irradiated from the thin film 1104 side for forming a convex shape. Reference numeral 1112 denotes a modified portion by laser light irradiation. Due to the heat generation of the light absorption layer, the material density, crystal state, composition, etc. of the thin film are changed and modified. Reference numeral 1113 denotes a laser beam irradiation method. P1 and P2 indicate laser power levels. The power level is changed by 2 levels. The laser power level is set to a relationship of P1> P2, and the period S and the period T1 held at the P1 level are changed according to the shape to be manufactured.

(111)の工程において、1121は、凸形状とされた断熱部を示している。このような形態への加工は、溶液エッチングにより行うことができる。この場合、エッチング溶液としては、フッカ水素酸(フッ酸)を含有する水溶液を用いることができる。
(111)の工程で改質された薄膜をフッ酸溶液に浸漬し、該光照射よって改質されない不要部分、いわゆる未記録部分を除去する。このような溶液を使ったエッチングによれば、光照射によって改質された部分と未照射で改質されない部分における薄膜の材料密度、結晶状態、組成などが異なるため、各部分間でのエッチングレート比、すなわち選択比が大きくなり、必要な凸形状部分が残る。図9中省略しているが、エッチング形成された構造体上面に、熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層(例えば、酸化ビスマス)を形成する。
In the step (111), reference numeral 1121 denotes a heat insulating portion having a convex shape. Processing into such a form can be performed by solution etching. In this case, as the etching solution, an aqueous solution containing hydrofluoric acid (hydrofluoric acid) can be used.
The thin film modified in the step (111) is immersed in a hydrofluoric acid solution, and unnecessary portions that are not modified by the light irradiation, so-called unrecorded portions are removed. Etching using such a solution differs in the material density, crystal state, composition, etc. of the thin film between the part modified by light irradiation and the part not modified by non-irradiation. The ratio, that is, the selection ratio increases, and the necessary convex portion remains. Although omitted in FIG. 9, a recording layer (for example, bismuth oxide) whose optical properties change due to heat alteration and / or deformation is formed on the upper surface of the etched structure.

また、下地となる光吸収部用光吸収層と凸形状とする断熱部を形成するための薄膜の材質が異なることから、下地との選択比も大きくできる。したがって、光記録媒体のような大面積デバイスにおいて、面内均一性が良く、凸形状の形態とされた構造体を作成することができる。このことから、フォトリソグラフィーを使わないマスクレスプロセスで、微細な凸状の形態とされた構造体が大面積に形成できる。
上記製造方法によって、クロスライト、クロスイレースを抑制した光記録媒体を作製することが可能となる。
Further, since the material of the thin film for forming the heat-insulating portion having a convex shape is different from the light-absorbing layer for the light-absorbing portion serving as the base, the selection ratio with the base can be increased. Therefore, in a large-area device such as an optical recording medium, a structure having good in-plane uniformity and a convex shape can be created. Therefore, a fine convex structure can be formed in a large area by a maskless process that does not use photolithography.
By the above manufacturing method, an optical recording medium in which cross light and cross erase are suppressed can be manufactured.

また、前記図4に示した構成、すなわち、基板上に設けられる光吸収部102が断熱部103の一面上に凸状に形成される構造の場合には、図10に示す工程に準拠して行われる。
すなわち、この場合の光記録媒体の製造方法は、前記基板上に断熱部用の断熱層と、その一面上に光吸収部を形成するための薄膜を順次積層する工程と、該薄膜側から光を照射して所定の凸形状となるように薄膜を改質する工程と、該光照射よって改質されない不要部分をエッチングにより除去し凸形状とする工程と、該エッチング形成された構造体上面に記録層を形成する工程とを少なくとも含む光記録媒体の製造方法である。図10において、記録層の形成工程は省略している。
Further, in the case of the structure shown in FIG. 4, that is, the structure in which the light absorbing portion 102 provided on the substrate is formed in a convex shape on one surface of the heat insulating portion 103, the process shown in FIG. Done.
That is, the optical recording medium manufacturing method in this case includes a step of sequentially laminating a heat insulating layer for a heat insulating portion on the substrate and a thin film for forming a light absorbing portion on one surface thereof, and a light from the thin film side. To modify the thin film so as to have a predetermined convex shape, to remove unnecessary portions that are not modified by the light irradiation by etching, and to form a convex shape, and to the upper surface of the structure formed by etching A method of manufacturing an optical recording medium including at least a step of forming a recording layer. In FIG. 10, the recording layer forming step is omitted.

初めの工程で、基板3101上に断熱部用の断熱層3103と、その一面上に光吸収部を形成するための薄膜3102を積層し、次の工程で、薄膜側から光(レーザー光)を照射して所定の凸形状となるように薄膜を改質する。その後の工程で、光照射よって改質されない不要部分、いわゆる未記録部分をエッチングにより改質部分のみを残した構造を形成する。エッチング液としては、硫酸、硝酸などの酸、アルカリ系の溶液などを用いることができる。
このような溶液を使ったエッチングによれば、光照射によって改質された部分と未照射で改質されない部分における薄膜の材料密度、結晶状態、組成などが異なるため、各部分間でのエッチングレート比、すなわち選択比が大きくなり、必要な凸形状部分が残る。図10には示していないが、エッチング形成された構造体上面に、熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層(例えば、酸化ビスマス)を形成する。
In the first step, a heat insulating layer 3103 for the heat insulating portion is laminated on the substrate 3101 and a thin film 3102 for forming a light absorbing portion on one surface thereof, and in the next step, light (laser light) is emitted from the thin film side. Irradiation modifies the thin film to have a predetermined convex shape. In a subsequent process, an unnecessary portion that is not modified by light irradiation, that is, a so-called unrecorded portion, is etched to form a structure that leaves only the modified portion. As an etchant, an acid such as sulfuric acid or nitric acid, an alkaline solution, or the like can be used.
Etching using such a solution differs in the material density, crystal state, composition, etc. of the thin film between the part modified by light irradiation and the part not modified by non-irradiation. The ratio, that is, the selection ratio increases, and the necessary convex portion remains. Although not shown in FIG. 10, a recording layer (for example, bismuth oxide) whose optical properties are changed by heat alteration and / or deformation is formed on the upper surface of the etched structure.

レーザー光の照射条件も考え方として図9における場合と同様である。すなわち、P1およびP2は、レーザーパワーレベルを示す。パワーレベルは2水準で変える。レーザーパワーレベルをP1>P2の関係に設定し、P1レベルに保持する周期Sや期間T1を作製したい形状に応じて変える。   The laser light irradiation conditions are the same as in FIG. That is, P1 and P2 indicate laser power levels. The power level is changed by 2 levels. The laser power level is set to a relationship of P1> P2, and the period S and the period T1 held at the P1 level are changed according to the shape to be manufactured.

また、前述の図9におけると同様に、下地となる断熱部用の断熱層と凸形状とされる光吸収部を形成するための薄膜の材質が異なることから、下地との選択比も大きくできる。したがって、光記録媒体のような大面積デバイスにおいて、面内均一性が良く、凸形状とされた構造体を作成することができる。このことから、フォトリソグラフィーを使わないマスクレスプロセスで、微細な凸状の形態とされた構造体が大面積に形成できる。
上記製造方法によって、クロスライト、クロスイレースを抑制した光記録媒体を作製することが可能となる。
Similarly to FIG. 9 described above, since the material of the thin film for forming the heat-insulating layer for the heat-insulating part serving as the base and the light-absorbing part having the convex shape is different, the selectivity with the base can be increased. . Therefore, in a large-area device such as an optical recording medium, a structure with good in-plane uniformity and a convex shape can be produced. Therefore, a fine convex structure can be formed in a large area by a maskless process that does not use photolithography.
By the above manufacturing method, an optical recording medium in which cross light and cross erase are suppressed can be manufactured.

また、前記図5に示した構成、すなわち、光吸収部102と断熱部103が同一平面内に交互に形成される構造の場合には、図11に示す工程に準拠して行われる。   Further, in the case of the structure shown in FIG. 5, that is, the structure in which the light absorption parts 102 and the heat insulation parts 103 are alternately formed in the same plane, the process is performed in accordance with the process shown in FIG.

すなわち、光記録媒体の製造方法は、基板4101上に断熱部を形成するための薄膜(断熱部と略す)4103と、光吸収薄膜(光吸収層と略す)4102を順次積層する工程(1)と、該断熱部を形成するための薄膜と光吸収薄膜に光を照射して所定の形状となるように薄膜を改質する工程(2)と、該光照射よって改質されない部分の薄膜をフッ化水素酸でエッチングして除去する工程(3)と、該形成された断熱部上の光吸収薄膜を結晶化させ、この薄膜をアルカリ溶液で除去する工程(4)と、該断熱部が形成された構造体上面に光吸収部を形成するための薄膜を積層する工程(5)と、該光吸収部を形成するための薄膜の残したい部分を光照射により非晶質化させ、結晶化状態にある薄膜をアルカリ溶液で除去する工程(6)と、該形成された構造体上面に記録層を形成する工程(7)とを少なくとも含む製造方法である。   That is, in the method of manufacturing an optical recording medium, a thin film (abbreviated as a heat insulating part) 4103 for forming a heat insulating part and a light absorbing thin film (abbreviated as a light absorbing layer) 4102 are sequentially laminated on a substrate 4101 (1). And a step (2) of irradiating the thin film for forming the heat insulating portion and the light absorbing thin film with light to modify the thin film so as to have a predetermined shape, and a portion of the thin film not modified by the light irradiation. A step (3) of removing by etching with hydrofluoric acid, a step (4) of crystallizing the light-absorbing thin film on the formed heat insulating portion and removing the thin film with an alkaline solution, and the heat insulating portion A step (5) of laminating a thin film for forming a light absorbing portion on the upper surface of the formed structure, and a portion to be left of the thin film for forming the light absorbing portion is made amorphous by light irradiation to form a crystal A step (6) of removing the thin film in an activated state with an alkaline solution; Forming a recording layer on the structures formed top and (7) including at least manufacturing method.

上記薄膜を改質する工程では、密度の変化、結晶構造の変化などにより、断熱部を形成するための薄膜を改質する。また、改質されない部分の薄膜をフッ化水素酸でエッチングして除去する工程では、断熱部がエッチング溶液に溶けるため、リフトオフで光吸収層も除去される。さらに、断熱部上の結晶化状態にある薄膜は、アルカリ溶液で除去することができるものである。
前記と同様に、この製造方法によって、クロスライト、クロスイレースを抑制した光記録媒体を作製することが可能となる。
In the step of modifying the thin film, the thin film for forming the heat insulating portion is modified by changing the density, changing the crystal structure, or the like. Further, in the step of removing the unmodified portion of the thin film by etching with hydrofluoric acid, since the heat insulating portion is dissolved in the etching solution, the light absorption layer is also removed by lift-off. Furthermore, the thin film in the crystallized state on the heat insulating part can be removed with an alkaline solution.
Similarly to the above, this manufacturing method makes it possible to produce an optical recording medium in which cross light and cross erase are suppressed.

以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその趣旨を逸脱しない限り下記実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples without departing from the gist thereof.

(実施例1)
図12に示す構成の本発明の光記録媒体を作製した。
図12において、基板101はポリカーボネートであり、厚みは0.6mmである。バッファー層108として誘電体を用いた。誘電体はZnS・SiO2(ZnS:SiO2=8:2)の複合化合物であり、膜厚は50nmである。光吸収部102はAgInSbTeであり、膜厚は20nmである。断熱部103はZnSとSiO2を含有する複合化合物であり、光吸収部上面からの高さは50nmである。凸形状断熱部のトラック方向周期109は200nmである。その上面に記録層104として酸化ビスマスの層を膜厚10nmで設け、光記録媒体とした。
Example 1
An optical recording medium of the present invention having the configuration shown in FIG. 12 was produced.
In FIG. 12, the substrate 101 is made of polycarbonate and has a thickness of 0.6 mm. A dielectric was used as the buffer layer 108. The dielectric is a composite compound of ZnS · SiO 2 (ZnS: SiO 2 = 8: 2), and the film thickness is 50 nm. The light absorbing portion 102 is AgInSbTe, and the film thickness is 20 nm. The heat insulating part 103 is a composite compound containing ZnS and SiO 2 , and the height from the upper surface of the light absorbing part is 50 nm. The track direction period 109 of the convex heat insulating portion is 200 nm. A bismuth oxide layer having a thickness of 10 nm was provided as a recording layer 104 on the upper surface to obtain an optical recording medium.

上記光記録媒体を用いて、レーザー光により記録を行った。記録に用いたレーザー光は、波長405nm、対物レンズの開口数は0.85である。記録パワーは4mWで50nsecのパルス幅の光を照射し、記録を行った。   Recording was performed with a laser beam using the optical recording medium. The laser beam used for recording has a wavelength of 405 nm and the numerical aperture of the objective lens is 0.85. Recording was performed by irradiating light with a pulse width of 50 nsec at a recording power of 4 mW.

記録マークを走査電子顕微鏡で観察したところ、光吸収部と記録層が接しているところに記録マークが形成された。その模式図を図13に示した。光記録媒体の一部を上から観察した外観模式図である。301は断熱部が記録層の下にある領域である。302は記録マークである。光のスポットは400nm程度であり、トラック方向の周期よりもかなり大きいにもかかわらず狭い領域への記録が可能であった。   When the recording mark was observed with a scanning electron microscope, the recording mark was formed where the light absorbing portion and the recording layer were in contact. A schematic diagram thereof is shown in FIG. It is the external appearance schematic diagram which observed a part of optical recording medium from the top. Reference numeral 301 denotes an area where the heat insulating portion is below the recording layer. Reference numeral 302 denotes a recording mark. The spot of light was about 400 nm, and recording in a narrow area was possible although it was considerably larger than the period in the track direction.

(実施例2)
前記図7に示す構成の本発明の光記録媒体を作製した。
基板101はポリカーボネートであり、厚みは0.6mmである。また、誘電体層107はSiNであり、膜厚は50nmである。断熱部103にZnS・SiO2(ZnS:SiO2=8:2)の複合化合物を用い、膜厚を45nmとした。その上に光吸収部102として島状に膜厚20nmのSbTeの層を形成した。ここでトラックピッチ、つまり島状の光吸収部のピッチは137nmである。その上に記録層として酸化ビスマスを15nmの膜厚で製膜した。
(Example 2)
The optical recording medium of the present invention having the structure shown in FIG. 7 was produced.
The substrate 101 is made of polycarbonate and has a thickness of 0.6 mm. The dielectric layer 107 is SiN and has a thickness of 50 nm. A composite compound of ZnS · SiO 2 (ZnS: SiO 2 = 8: 2) was used for the heat insulating portion 103, and the film thickness was set to 45 nm. An SbTe layer having a thickness of 20 nm was formed in an island shape on the light absorbing portion 102 thereon. Here, the track pitch, that is, the pitch of the island-shaped light absorbing portions is 137 nm. A bismuth oxide film having a thickness of 15 nm was formed thereon as a recording layer.

上記光記録媒体を用いて、レーザー光により記録を行った。記録に用いたレーザー光は、波長405nm、対物レンズの開口数は0.85である。記録パワーは4mWで島状光吸収部のトラックに沿った方向のピッチに合わせてパルス状の光照射を行って記録を行った。
光のスポット中には島状の領域が複数個入るが、光スポットの中心付近のみ記録を行うことができるので島状の構造に倣うように記録マークが形成された。
Recording was performed with a laser beam using the optical recording medium. The laser beam used for recording has a wavelength of 405 nm and the numerical aperture of the objective lens is 0.85. The recording power was 4 mW, and recording was performed by irradiating pulsed light in accordance with the pitch in the direction along the track of the island-shaped light absorber.
A plurality of island-like regions are included in the light spot, but since recording can be performed only near the center of the light spot, a recording mark was formed so as to follow the island-like structure.

(実施例3)
前記図7に示す構成の本発明の光記録媒体を作製した。
すなわち、断熱層として厚さ50nmのAgを用いたこと以外は実施例2と同様に各構成層を形成した。
上記光記録媒体を用いて、レーザー光により記録を行った。記録に用いたレーザー光は、波長405nm、対物レンズの開口数は0.85である。記録パワーは4mWで島状光吸収部のトラックに沿った方向のピッチに合わせてパルス状の光照射を行って記録を行った。
Agに接した部分の記録層は記録マークが形成されず、凸形状に形成されている光吸収部であるSbTeの形状に対応する記録層に記録マークが形成された。
(Example 3)
The optical recording medium of the present invention having the structure shown in FIG. 7 was produced.
That is, each constituent layer was formed in the same manner as in Example 2 except that 50 nm thick Ag was used as the heat insulating layer.
Recording was performed with a laser beam using the optical recording medium. The laser beam used for recording has a wavelength of 405 nm and the numerical aperture of the objective lens is 0.85. The recording power was 4 mW, and recording was performed by irradiating pulsed light in accordance with the pitch in the direction along the track of the island-shaped light absorber.
A recording mark was formed on the recording layer corresponding to the shape of SbTe, which is a light-absorbing portion formed in a convex shape, in the recording layer in the portion in contact with Ag.

(実施例4)
前記図9に示す構成の本発明における光記録媒体の製造方法により光記録媒体を製造した。
すなわち、図9の基板1101の材質はポリカーボネートである。バッファー層1102の材料はZnS・SiO2(ZnS:SiO2=8:2)の複合化合物であり、膜厚は50nmである。光吸収層1103の材質はAgInSbTeであり、膜厚は20nmである。また、凸形状の断熱部を形成する薄膜1104の材質はZnS・SiO2(ZnS:SiO2=8:2)である。この断熱部の膜厚は100nmであり、λ/4(405nm/4≒100nm)に設定した。各層はスパッタリング法によって成膜した。成膜は室温、Ar雰囲気で行った。
光記録媒体は前述の工程によって製造した。工程(111)と工程(112)は次のようである。
Example 4
An optical recording medium was manufactured by the method for manufacturing an optical recording medium according to the present invention having the configuration shown in FIG.
That is, the material of the substrate 1101 in FIG. 9 is polycarbonate. The material of the buffer layer 1102 is a composite compound of ZnS · SiO 2 (ZnS: SiO 2 = 8: 2), and the film thickness is 50 nm. The material of the light absorption layer 1103 is AgInSbTe, and the film thickness is 20 nm. The material of the thin film 1104 forming the convex heat insulating portion is ZnS · SiO 2 (ZnS: SiO 2 = 8: 2). The film thickness of this heat insulating part was 100 nm and was set to λ / 4 (405 nm / 4≈100 nm). Each layer was formed by sputtering. Film formation was performed at room temperature in an Ar atmosphere.
The optical recording medium was manufactured by the process described above. Step (111) and step (112) are as follows.

図9における工程(111):
レーザー光1111を凸形状の断熱部を形成するための薄膜1104側から照射し、作製したい構造の形状を決定した。用いたレーザー光の波長は405nm、対物レンズの開口数は0.85である。改質部分1112は凸形状の断熱部として残す部分であり、ZnS・SiO2(ZnS:SiO2=8:2)である。ここで、凸形状の断熱部として残す部分は結晶相に変質させられる部分であり、除去される不必要な部分は非晶質相である。
Step (111) in FIG. 9:
Laser light 1111 was irradiated from the thin film 1104 side for forming a convex heat insulating portion, and the shape of the structure to be manufactured was determined. The wavelength of the used laser light is 405 nm, and the numerical aperture of the objective lens is 0.85. The modified portion 1112 is a portion left as a convex heat insulating portion, and is ZnS · SiO 2 (ZnS: SiO 2 = 8: 2). Here, the part to be left as the convex heat insulating part is a part that is transformed into a crystalline phase, and the unnecessary part to be removed is an amorphous phase.

上記工程(111)における凸形状とするための加工方法は、1113に示すレーザー光のパワーレベル変調方法に準拠して行った。パワーレベルは、P1=5mW、P2=0.7mWの2水準で変調した。T1はP1レベルに保持する期間、つまり、パルス幅を示す。Sはパルス照射のタイミング、すなわち記録周期を示す。T1=15nsec、S=57nsecである。これらの条件で周期200nmの単周期光を照射した。   The processing method for forming the convex shape in the step (111) was performed in accordance with the laser light power level modulation method shown in 1113. The power level was modulated at two levels of P1 = 5 mW and P2 = 0.7 mW. T1 indicates a period during which the P1 level is maintained, that is, a pulse width. S indicates the pulse irradiation timing, that is, the recording cycle. T1 = 15 nsec and S = 57 nsec. Under these conditions, single-period light with a period of 200 nm was irradiated.

図9における工程(112):
図9(112)はエッチング工程を示す。光照射後に凸形状の断熱部を形成するための薄膜(ZnS−SiO2)の不必要な部分を除去し、凸形状に加工した。1121は凸形状の構造体を示す。不必要な部分の除去は、溶液エッチングで行った。エッチング溶液には、フッ酸(HF)と水(H2O)の混合液を用いた。フッ酸としては50%希釈溶液を用いた。溶液比は、HF:H2O=1:2である。該溶液に記録媒体を10sec浸漬した。エッチング後、直ぐに水で洗浄し、乾燥窒素等により乾燥させた。得られた凸形状の断熱部を有する構造体の上面に記録層を製膜した。
以上の方法で凸形状の断熱部有する記録媒体を作製した。本方法によって、マスクレスで大面積において微細な凸形状の断熱部有する構造体からなる光記録媒体が形成できる。
Step (112) in FIG. 9:
FIG. 9 (112) shows an etching process. Unnecessary portions of the thin film (ZnS—SiO 2 ) for forming a convex heat insulating portion after light irradiation were removed and processed into a convex shape. Reference numeral 1121 denotes a convex structure. Unnecessary portions were removed by solution etching. As the etching solution, a mixed liquid of hydrofluoric acid (HF) and water (H 2 O) was used. A 50% diluted solution was used as hydrofluoric acid. The solution ratio is HF: H 2 O = 1: 2. The recording medium was immersed in the solution for 10 seconds. After etching, it was immediately washed with water and dried with dry nitrogen or the like. A recording layer was formed on the upper surface of the resulting structure having a convex heat insulating portion.
A recording medium having a convex heat insulating part was produced by the above method. By this method, it is possible to form an optical recording medium composed of a structure having a fine convex heat insulating portion in a large area without a mask.

(実施例5)
前記図10に示す構成の本発明における光記録媒体の製造方法により光記録媒体を製造した。
すなわち、図10の基板3101の材質はポリカーボネートである。光吸収層3102の材料はSb75Te25であり、膜厚は20nmである。また、断熱部3103の材質はZnSSiO2であり、膜厚は50nmである。各層はスパッタリング法で成膜した。成膜は室温、Ar雰囲気で行った。
光記録媒体は前述の工程によって製造した。工程(311)と工程(312)は次のようである。
(Example 5)
An optical recording medium was manufactured by the method for manufacturing an optical recording medium according to the present invention having the configuration shown in FIG.
That is, the material of the substrate 3101 in FIG. 10 is polycarbonate. The material of the light absorption layer 3102 is Sb 75 Te 25 and the film thickness is 20 nm. The material of the heat insulating part 3103 is ZnSSiO 2 and the film thickness is 50 nm. Each layer was formed by sputtering. Film formation was performed at room temperature in an Ar atmosphere.
The optical recording medium was manufactured by the process described above. Step (311) and step (312) are as follows.

図10における工程(311):
レーザー光3111を凸形状の光吸収部を形成するための薄膜3102側から照射し、作製したい構造の形状を決定した。用いたレーザー光の波長は405nm、対物レンズの開口数は0.85である。改質部分3112は凸形状の光吸収部として残す部分であり、SbTeである。ここで、凸形状の光吸収部として残す部分は非晶質相、不必要な部分は結晶相である。全体を予め結晶相にしておく。
Step (311) in FIG. 10:
Laser light 3111 was irradiated from the thin film 3102 side for forming a convex light absorption portion, and the shape of the structure to be manufactured was determined. The wavelength of the used laser light is 405 nm, and the numerical aperture of the objective lens is 0.85. The modified portion 3112 is a portion that remains as a convex light absorbing portion, and is SbTe. Here, the portion to be left as the convex light absorbing portion is an amorphous phase, and the unnecessary portion is a crystalline phase. The whole is made into a crystalline phase in advance.

上記工程(311)における凸形状とするための加工方法は、3113に示すレーザー光のパワーレベル変調方法に準拠して行った。パワーレベルは、P1=4mW、P2=1.2mWの2水準で変調した。T1はP1レベルに保持する期間、つまり、パルス幅を示す。Sはパルス照射のタイミング、すなわち記録周期を示す。T1=15nsec、S=57nsecである。これらの条件で周期200nmの単周期光を照射した。   The processing method for forming a convex shape in the step (311) was performed in accordance with the laser light power level modulation method shown in 3113. The power level was modulated at two levels of P1 = 4 mW and P2 = 1.2 mW. T1 indicates a period during which the P1 level is maintained, that is, a pulse width. S indicates the pulse irradiation timing, that is, the recording cycle. T1 = 15 nsec and S = 57 nsec. Under these conditions, single-period light with a period of 200 nm was irradiated.

図10(312)はエッチング工程を示す。光照射後に凸形状の光吸収部を形成するための薄膜、すなわちSb75Te25の不必要な部分を除去し、凸形状に加工した。不必要な部分の除去は、溶液エッチングで行った。エッチング溶液には、アルカリ溶液を用いた。該溶液に記録媒体を10sec浸漬した。エッチング後、直ぐに水で洗浄し、乾燥窒素等により乾燥させた。得られた凸形状の光吸収部を有する構造体の上面に記録層を製膜した。
以上の方法で凸形状の光吸収部を有する記録媒体を作製した。本方法によって、マスクレスで大面積において微細な凸形状の光吸収部を有する構造体からなる光記録媒体が形成できる。
FIG. 10 (312) shows an etching process. A thin film for forming a convex light absorbing portion after light irradiation, that is, an unnecessary portion of Sb 75 Te 25 was removed and processed into a convex shape. Unnecessary portions were removed by solution etching. An alkaline solution was used as the etching solution. The recording medium was immersed in the solution for 10 seconds. After etching, it was immediately washed with water and dried with dry nitrogen or the like. A recording layer was formed on the upper surface of the obtained structure having a convex light absorbing portion.
A recording medium having a convex light absorbing portion was produced by the above method. By this method, it is possible to form an optical recording medium comprising a structure having a light-absorbing portion having a fine convex shape in a large area without a mask.

(実施例6)
前記図11に示す構成の本発明における光記録媒体の製造方法により光記録媒体を製造した。
すなわち、図11の基板4101の材質はポリカーボネートである。光吸収層4102の材料はAg3In11Sb75Te11であり、膜厚は20nmである。また、断熱部4103の材質はZnSSiO2であり、膜厚は50nmである。各層はスパッタリング法で成膜した。成膜は室温、Ar雰囲気で行った。光記録媒体は前述の工程(1)〜(7)に従って製造した。製造の概略は以下のようである。
(Example 6)
An optical recording medium was manufactured by the method for manufacturing an optical recording medium according to the present invention having the configuration shown in FIG.
That is, the material of the substrate 4101 in FIG. 11 is polycarbonate. The material of the light absorption layer 4102 is Ag 3 In 11 Sb 75 Te 11 and the film thickness is 20 nm. The material of the heat insulating part 4103 is ZnSSiO 2 and the film thickness is 50 nm. Each layer was formed by sputtering. Film formation was performed at room temperature in an Ar atmosphere. The optical recording medium was manufactured according to the above-mentioned steps (1) to (7). The outline of the production is as follows.

工程(1)で基板上に断熱部を形成するための薄膜(断熱部4103)と光吸収薄膜(光吸収層4102)が積層され、工程(2)でレーザー光を、図に示すような凸状構造体を形成する薄膜側から照射し、作製したい構造の形状を決定した。用いたレーザー光の波長は405nm、対物レンズの開口数は0.85である。   In step (1), a thin film (heat insulating part 4103) and a light absorbing thin film (light absorbing layer 4102) for forming a heat insulating part on the substrate are laminated, and in step (2) laser light is projected as shown in the figure. The shape of the structure to be produced was determined by irradiating from the thin film side forming the shaped structure. The wavelength of the used laser light is 405 nm, and the numerical aperture of the objective lens is 0.85.

この場合、光吸収層4102の材料はAg3In11Sb75Te11の構造として残す部分を示す。構造として残す部分は非晶質相、不必要な部分は結晶相である。すなわち、全体を予め結晶相にしておき、光照射によって構造として残す部分を非晶質相とする。
上記工程で凸状構造体とするための加工方法は、前述の実施例4と同様であり、すなわち、レーザー光のパワーレベル変調方法に準拠して行った。パワーレベルは、P1=5mW、P2=0.7mWの2水準で変調した。T1はP1レベルに保持する期間、つまり、パルス幅を示す。Sはパルス照射のタイミング(記録周期)を示す。T1=15nsec、S=57nsecである。これらの条件で周期200nmの単周期光を照射した。
In this case, the material of the light absorption layer 4102 indicates a portion left as a structure of Ag 3 In 11 Sb 75 Te 11 . The portion that remains as a structure is an amorphous phase, and the unnecessary portion is a crystalline phase. That is, the whole is made into a crystalline phase in advance, and the portion left as a structure by light irradiation is made an amorphous phase.
The processing method for forming a convex structure in the above process was the same as in Example 4 described above, that is, performed according to the laser light power level modulation method. The power level was modulated at two levels of P1 = 5 mW and P2 = 0.7 mW. T1 indicates a period during which the P1 level is maintained, that is, a pulse width. S indicates the pulse irradiation timing (recording cycle). T1 = 15 nsec and S = 57 nsec. Under these conditions, single-period light with a period of 200 nm was irradiated.

工程(3)〜(7)の概略は次のように行った。すなわち、光照射よって改質されない部分の薄膜の不必要な部分を除去し、凸状構造体を形成する薄膜(Ag3In11Sb75Te11に加工した。断熱部上に形成された光吸収薄膜の不必要な部分の除去は、光照射により結晶化させた後、溶液エッチングで行った。エッチング溶液には、アルカリ溶液を用いた。該溶液に記録媒体を10sec浸漬した。ここで、二回目の光照射条件は、上記第一回目におけるP1およびP2を、それぞれ、P1=4mW、P2=1.2mWに変えた以外は同じとした。
エッチング後、直ぐに水で洗浄し、乾燥窒素等により乾燥させた。得られた光吸収部と断熱部が交互に配置された構造体の上面に記録層を製膜した。
本方法によって、マスクレスで大面積において微細な光吸収部を有する構造体からなる光記録媒体が形成できる。
The outline of the steps (3) to (7) was performed as follows. That is, unnecessary portions of the thin film that were not modified by light irradiation were removed and processed into a thin film (Ag 3 In 11 Sb 75 Te 11 that forms a convex structure. Light absorption formed on the heat insulating portion Unnecessary portions of the thin film were removed by crystallization by light irradiation, followed by solution etching, using an alkaline solution as the etching solution, and immersing the recording medium in the solution for 10 seconds. The light irradiation conditions for the first time were the same except that P1 and P2 in the first time were changed to P1 = 4 mW and P2 = 1.2 mW, respectively.
After etching, it was immediately washed with water and dried with dry nitrogen or the like. A recording layer was formed on the upper surface of the structure in which the obtained light absorbing portions and heat insulating portions were alternately arranged.
By this method, it is possible to form an optical recording medium composed of a structure having a fine light absorbing portion in a large area without a mask.

本発明の光記録媒体を説明するための構成例を示すトラックに直交した概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view orthogonal to a track showing a configuration example for explaining an optical recording medium of the present invention. 本発明における光吸収部と断熱部を備えた光記録媒体に光照射した場合に形成される記録マークを説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the recording mark formed when light is irradiated to the optical recording medium provided with the light absorption part and heat insulation part in this invention. 断熱部が無く光吸収部のみを備えた光記録媒体に光照射した場合に形成される記録マークを説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the recording mark formed when light is irradiated to the optical recording medium without a heat insulation part and having only a light absorption part. 本発明の光記録媒体を説明するための別の構成例を示すトラックに直交した概略断面図である。It is a schematic sectional drawing orthogonal to the track | truck which shows another structural example for demonstrating the optical recording medium of this invention. 本発明の光記録媒体を説明するためのさらに別の構成例を示すトラックに直交した概略断面図である。It is a schematic sectional drawing orthogonal to the track | truck which shows another structural example for demonstrating the optical recording medium of this invention. 本発明の光記録媒体における光吸収部と断熱部がそれぞれ半径方向において環状に形成された状態を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the state in which the light absorption part and heat insulation part in the optical recording medium of this invention were each cyclically | annularly formed in the radial direction. 本発明の光記録媒体における光吸収部を円周方向において島状に構成した場合の断面(7a)と、配置(7b)を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross section (7a) at the time of comprising the light absorption part in the optical recording medium of this invention in island shape in the circumferential direction, and arrangement | positioning (7b). 本発明の光記録媒体における隣接トラックの島状構造が互いに隣り合って配置された状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state by which the island-like structure of the adjacent track | truck is arrange | positioned adjacent to each other in the optical recording medium of this invention. 本発明における光記録媒体の製造方法を説明するための概略工程図である。FIG. 5 is a schematic process diagram for explaining a method of manufacturing an optical recording medium in the present invention. 本発明における光記録媒体の別の製造方法を説明するための概略工程図である。It is a schematic process drawing for demonstrating another manufacturing method of the optical recording medium in this invention. 本発明における光記録媒体のさらに別の製造方法を説明するための概略工程図である。It is a schematic process drawing for demonstrating another manufacturing method of the optical recording medium in this invention. 実施例1における光記録媒体の構成を示すトラックに直交した概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view orthogonal to the track, showing the configuration of the optical recording medium in Example 1. 実施例1における光記録媒体の記録マークを走査電子顕微鏡で観察した外観模式図である。FIG. 2 is a schematic external view of a recording mark of an optical recording medium in Example 1 observed with a scanning electron microscope.

符号の説明Explanation of symbols

100 熱制御領域
101 基板
102 光吸収部
103 断熱部
104 記録層

DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Thermal control area 101 Substrate 102 Light absorption part 103 Heat insulation part 104 Recording layer

Claims (10)

基板上に、熱制御領域と、熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有する光記録媒体において、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記断熱部が前記光吸収部の一面上に凸形状に形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成されていることを特徴とする光記録媒体。 In an optical recording medium having a thermal control region on a substrate and a recording layer whose optical characteristics change due to alteration and / or deformation due to heat, the thermal control region absorbs irradiation light and easily generates heat. easily generates heat without a heat insulating portion, wherein the light absorption of the heat insulating portions in the wavelength of the irradiated light being smaller than the light absorption of the light absorbing portion, the heat insulating portion is convex on one surface of the light absorbing portion and wherein said light absorbing portion is formed in a shape heat insulating portion is arranged so as to be in contact with the recording layer alternately, and the heat insulating portion and the light absorbing portion is formed in an annular or spiral-shaped in the radial direction, respectively An optical recording medium characterized by the above . 基板上に、熱制御領域と、熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有する光記録媒体において、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記光吸収部が前記断熱部の一面上に凸形状に形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成されていることを特徴とする光記録媒体。 In an optical recording medium having a thermal control region on a substrate and a recording layer whose optical characteristics change due to alteration and / or deformation due to heat, the thermal control region absorbs irradiation light and easily generates heat. easily generates heat without a heat insulating portion, wherein the light absorption of the heat insulating portions in the wavelength of the irradiated light being smaller than the light absorption of the light absorbing portion, the light absorbing portion is convex on one surface of the insulating part and wherein said light absorbing portion is formed in a shape heat insulating portion is arranged so as to be in contact with the recording layer alternately, and the heat insulating portion and the light absorbing portion is formed in an annular or spiral-shaped in the radial direction, respectively An optical recording medium characterized by the above . 基板上に、熱制御領域と、熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有する光記録媒体において、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記光吸収部と前記断熱部が同一平面内に形成される形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成されていることを特徴とする光記録媒体。 In an optical recording medium having a thermal control region on a substrate and a recording layer whose optical characteristics change due to alteration and / or deformation due to heat, the thermal control region absorbs irradiation light and easily generates heat. And a heat insulating part that does not easily generate heat, and the light absorption of the heat insulating part is smaller than the light absorption of the light absorbing part at the wavelength of the irradiated light, and the light absorbing part and the heat insulating part are in the same plane. wherein said light absorbing portion while being formed are formed insulating part is arranged so as to be in contact with the recording layer alternately, and the heat insulating portion and the light absorbing portion is configured in an annular or spiral-shaped in the radial direction, respectively An optical recording medium. 前記記録層が酸化ビスマスであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光記録媒体。 The optical recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is bismuth oxide. 前記光吸収部がSbおよび/またはTeを含む化合物からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光記録媒体。 The optical recording medium according to claim 1, wherein the light absorbing portion is made of a compound containing Sb and / or Te. 前記断熱部がZnSを含む化合物からなることを特徴とする請求項1または3に記載の光記録媒体。 The optical recording medium according to claim 1 or 3 wherein the heat insulating portion is characterized by comprising a compound containing ZnS. 前記断熱部がAg、AlまたはCuから選ばれるいずれかの金属からなることを特徴とする請求項に記載の光記録媒体。 The optical recording medium according to claim 2 , wherein the heat insulating portion is made of any metal selected from Ag, Al, and Cu. 基板上に、熱制御領域と、光照射に基づく熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有し、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記断熱部が前記光吸収部の一面上に凸形状に形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成された光記録媒体の製造方法であって、
前記基板上に光吸収部用の光吸収層と、その一面上に断熱部を形成するための薄膜を順次積層する工程と、
該薄膜側から光を照射して所定の凸形状となるように薄膜を改質する工程と、
該光照射よって改質されない不要部分をエッチングにより除去し凸形状とする工程と、
該エッチング形成された構造体上面に記録層を形成する工程と、
を少なくとも含む光記録媒体の製造方法。
On the substrate, there is a heat control region and a recording layer whose optical properties change due to alteration and / or deformation due to heat based on light irradiation, and the heat control region absorbs light and absorbs light easily. and a parts and easily generates heat without the heat insulating portion, wherein the light absorption of the heat insulating portions in the wavelength of the irradiated light being smaller than the light absorption of the light absorbing portion, the heat insulating portion on a surface of the light absorbing portion wherein said light absorbing portion is formed in a convex heat-insulating portions are arranged so as to be in contact with the recording layer alternately, and the heat insulating portion and the light absorbing portion is configured in an annular or spiral-shaped in the radial direction, respectively An optical recording medium manufacturing method comprising:
A step of sequentially laminating a light absorbing layer for a light absorbing portion on the substrate and a thin film for forming a heat insulating portion on one surface thereof;
Irradiating light from the thin film side to modify the thin film to have a predetermined convex shape;
Removing unnecessary portions that are not modified by the light irradiation by etching and forming a convex shape;
Forming a recording layer on the top surface of the etched structure;
A method for producing an optical recording medium comprising at least
基板上に、熱制御領域と、光照射に基づく熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有し、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記光吸収部が前記断熱部の一面上に凸形状に形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成された光記録媒体の製造方法であって、
前記基板上に断熱部用の断熱層と、その一面上に光吸収部を形成するための薄膜を順次積層する工程と、
該薄膜側から光を照射して所定の凸形状となるように薄膜を改質する工程と、
該光照射よって改質されない不要部分をエッチングにより除去し凸形状とする工程と、
該エッチング形成された構造体上面に記録層を形成する工程と、
を少なくとも含む光記録媒体の製造方法。
On the substrate, there is a heat control region and a recording layer whose optical properties change due to alteration and / or deformation due to heat based on light irradiation, and the heat control region absorbs light and absorbs light easily. and a parts and easily generates heat without the heat insulating portion, wherein the light absorption of the heat insulating portions in the wavelength of the irradiated light being smaller than the light absorption of the light absorbing portion, on one surface of the light absorbing portion heat insulating portion wherein said light absorbing portion is formed in a convex heat-insulating portions are arranged so as to be in contact with the recording layer alternately, and the heat insulating portion and the light absorbing portion is configured in an annular or spiral-shaped in the radial direction, respectively An optical recording medium manufacturing method comprising:
A step of sequentially laminating a heat insulating layer for the heat insulating portion on the substrate and a thin film for forming a light absorbing portion on one surface thereof;
Irradiating light from the thin film side to modify the thin film to have a predetermined convex shape;
Removing unnecessary portions that are not modified by the light irradiation by etching and forming a convex shape;
Forming a recording layer on the top surface of the etched structure;
A method for producing an optical recording medium comprising at least
基板上に、熱制御領域と、光照射に基づく熱により変質および/または変形して光学特性が変化する記録層を有し、前記熱制御領域は照射光を吸収して容易に発熱する光吸収部と容易に発熱しない断熱部とを備え、前記照射される光の波長において前記断熱部の光吸収は前記光吸収部の光吸収よりも小さく、前記光吸収部と前記断熱部が同一平面内に形成されるとともに前記光吸収部と前記断熱部が交互に前記記録層に接するように配置され、かつ前記光吸収部と前記断熱部がそれぞれ半径方向において環状または渦巻状に構成された光記録媒体の製造方法であって、
前記基板上に断熱部を形成するための薄膜と、光吸収薄膜を順次積層する工程と、
該断熱部を形成するための薄膜と光吸収薄膜に光を照射して所定の形状となるように薄膜を改質する工程と、
該光照射よって改質されない部分の薄膜をフッ化水素酸でエッチングして除去する工程と、
該形成された断熱部上の光吸収薄膜を結晶化させ、この薄膜をアルカリ溶液で除去する工程と、
該断熱部が形成された構造体上面に光吸収部を形成するための薄膜を積層する工程と、
該光吸収部を形成するための薄膜の残したい部分を光照射により非晶質化させ、結晶化状態にある薄膜をアルカリ溶液で除去する工程と、
該形成された構造体上面に記録層を形成する工程と、
を少なくとも含む光記録媒体の製造方法。
On the substrate, there is a heat control region and a recording layer whose optical properties change due to alteration and / or deformation due to heat based on light irradiation, and the heat control region absorbs light and absorbs light easily. and a parts and easily generates heat without the heat insulating portion, wherein the light absorption of the heat insulating portions in the wavelength of the irradiated light being smaller than the light absorption of the light absorbing portion, the heat insulating portion and the light absorbing portion in the same plane wherein said light absorbing portion is formed in a heat insulating portion is arranged so as to be in contact with the recording layer alternately, and an optical recording constructed heat insulating portion and the light absorbing portion in the annular or spiral-shaped in the radial direction, respectively A method for producing a medium, comprising:
A step of sequentially laminating a thin film for forming a heat insulating part on the substrate and a light absorbing thin film;
Irradiating light to the thin film for forming the heat insulating part and the light absorbing thin film to modify the thin film so as to have a predetermined shape;
Etching the portion of the thin film that is not modified by the light irradiation with hydrofluoric acid to remove it;
Crystallizing the light-absorbing thin film on the formed heat insulating portion and removing the thin film with an alkaline solution;
Laminating a thin film for forming a light absorbing portion on the upper surface of the structure on which the heat insulating portion is formed;
A step of amorphizing the portion of the thin film for forming the light absorbing portion to be left amorphous by light irradiation, and removing the thin film in a crystallized state with an alkaline solution;
Forming a recording layer on the upper surface of the formed structure;
A method for producing an optical recording medium comprising at least
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