JP4386147B2 - Film-like circuit connection material, circuit member connection structure and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、フィルム状回路接続材料、回路部材の接続構造及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a film-like circuit connection material, a circuit member connection structure, and a method for manufacturing the same.

液晶表示用ガラスパネルには、COG(Chip-On-Glass)実装又はCOF(Chip-On-Flex)実装等によって液晶駆動用ICが実装される。COG実装では、導電粒子を含む回路接続材料を用いて液晶駆動用ICを直接ガラスパネル上に接合する。COF実装では、金属配線を有するフレキシブルテープに液晶駆動用ICを接合し、導電粒子を含む回路接続材料を用いてそれらをガラスパネルに接合する。   A liquid crystal driving IC is mounted on the glass panel for liquid crystal display by COG (Chip-On-Glass) mounting or COF (Chip-On-Flex) mounting. In COG mounting, a liquid crystal driving IC is directly bonded onto a glass panel using a circuit connecting material containing conductive particles. In COF mounting, a liquid crystal driving IC is bonded to a flexible tape having metal wiring, and these are bonded to a glass panel using a circuit connecting material containing conductive particles.

ところが、近年の液晶表示の高精細化に伴い、液晶駆動用ICの回路電極である金バンプは狭ピッチ化、狭面積化しており、そのため、回路接続材料中の導電粒子が隣り合う回路電極間に流出して、ショートを発生させるといった問題がある。また、隣り合う回路電極間に導電粒子が流出すると、金バンプとガラスパネルとの間に捕捉される回路接続材料中の導電粒子数が減少し、対向する回路電極間の接続抵抗が上昇し接続不良を起こすといった問題がある。   However, with the recent high definition of liquid crystal displays, the gold bumps, which are the circuit electrodes of liquid crystal driving ICs, have been narrowed in pitch and area, so that the conductive particles in the circuit connecting material are between adjacent circuit electrodes. There is a problem that a short circuit occurs. In addition, if conductive particles flow out between adjacent circuit electrodes, the number of conductive particles in the circuit connection material captured between the gold bumps and the glass panel decreases, and the connection resistance between the opposing circuit electrodes increases. There is a problem of causing defects.

そこで、これらの問題を解決する方法として、回路接続材料の少なくとも片面に絶縁性の接着層を形成することで、COG実装又はCOF実装における接合品質の低下を防ぐ方法(例えば、特許文献1参照)や、導電粒子の全表面を絶縁性の皮膜で被覆する方法(例えば、特許文献2参照)が開発されている。   Therefore, as a method for solving these problems, a method of preventing deterioration in bonding quality in COG mounting or COF mounting by forming an insulating adhesive layer on at least one surface of the circuit connection material (see, for example, Patent Document 1). In addition, a method of covering the entire surface of the conductive particles with an insulating film (for example, see Patent Document 2) has been developed.

特開平8−279371号公報JP-A-8-279371 特許第2794009号公報(図2)Japanese Patent No. 2794209 (FIG. 2)

しかしながら、回路接続部材の片面に絶縁性の接着層を形成する方法では、バンプ面積が3000μm未満であって、安定した接続抵抗を得るために導電粒子数を増やす場合には、隣り合う回路電極間の絶縁性について未だ改良の余地がある。また、導電粒子の全表面を絶縁性の皮膜で被覆する方法では、対向する回路電極間の接続抵抗が上昇し、安定した電気抵抗が得られないという問題がある。 However, in the method of forming an insulating adhesive layer on one side of the circuit connection member, when the bump area is less than 3000 μm 2 and the number of conductive particles is increased in order to obtain a stable connection resistance, adjacent circuit electrodes There is still room for improvement in the insulation between them. Further, in the method of covering the entire surface of the conductive particles with an insulating film, there is a problem that the connection resistance between the circuit electrodes facing each other increases and a stable electric resistance cannot be obtained.

そこで、本発明は、対向する回路電極間の接続抵抗を十分に低減でき、且つ、隣り合う回路電極間で絶縁性を十分に向上できるフィルム状回路接続材料、回路部材の接続構造及びその製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides a film-like circuit connection material, a circuit member connection structure, and a manufacturing method thereof that can sufficiently reduce the connection resistance between opposing circuit electrodes and can sufficiently improve the insulation between adjacent circuit electrodes. The purpose is to provide.

上述の課題を解決するため、本発明のフィルム状回路接続材料は、第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、を第一及び第二の回路電極が対向するように接続するためのフィルム状回路接続材料であって、接着剤組成物及び、導電粒子の表面の一部が絶縁性微粒子により被覆された被覆粒子を含有する第一の層と、第一の層の片面に設けられ、被覆粒子を含有せず、接着剤組成物からなる第二の層と、を備え、被覆粒子の比重は、導電粒子の比重の97/100〜99/100である。別の発明の回路接続材料は、第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、を第一及び第二の回路電極が対向するように接続するための回路接続材料であって、接着剤組成物及び、導電粒子の表面の一部が絶縁性微粒子により被覆された被覆粒子を含有しており、被覆粒子の比重は、導電粒子の比重の97/100〜99/100である。   In order to solve the above-described problems, the film-like circuit connecting material of the present invention includes a first circuit member in which a plurality of first circuit electrodes are formed on a main surface of a first circuit board, and a second circuit. A film-like circuit connection material for connecting a second circuit member having a plurality of second circuit electrodes formed on a main surface of a substrate so that the first and second circuit electrodes face each other. The adhesive composition and the first layer containing coated particles in which a part of the surface of the conductive particles is coated with insulating fine particles, and provided on one side of the first layer, without containing the coated particles, And a specific gravity of the coated particles is 97/100 to 99/100 of the specific gravity of the conductive particles. According to another aspect of the invention, there is provided a circuit connection material comprising: a first circuit member having a plurality of first circuit electrodes formed on a main surface of a first circuit board; and a plurality of first circuits on a main surface of a second circuit board. A circuit connection material for connecting a second circuit member formed with two circuit electrodes so that the first and second circuit electrodes face each other, the adhesive composition and the surface of the conductive particles Part of which is coated with insulating fine particles, and the specific gravity of the coated particles is 97/100 to 99/100 of the specific gravity of the conductive particles.

この回路接続材料を、第一及び第二の回路部材の間に介在させ、第一及び第二の回路部材を介して加熱及び加圧し、硬化処理して、回路部材の接続構造を得ると、得られる回路部材の接続構造において、対向する回路電極間の接続抵抗が十分に低減されると共に、隣り合う回路電極間の絶縁性が十分に向上する。   When this circuit connection material is interposed between the first and second circuit members, heated and pressurized through the first and second circuit members, and cured to obtain a circuit member connection structure, In the obtained circuit member connection structure, the connection resistance between the facing circuit electrodes is sufficiently reduced, and the insulation between the adjacent circuit electrodes is sufficiently improved.

ここで、被覆粒子の比重が導電粒子の比重の97/100未満であると、絶縁性微粒子が過剰に導電粒子を被覆することとなる。このため、導電粒子が、対向する回路電極同士を接続しても、回路基板の厚み方向における接続抵抗が増大してしまう。一方、被覆粒子の比重が導電粒子の比重の99/100を超えると、導電粒子が絶縁性微粒子によって十分に被覆されなくなる。このため、隣り合う回路電極間の絶縁性、すなわち回路基板の面方向における絶縁性が不十分となってしまう。   Here, if the specific gravity of the coated particles is less than 97/100 of the specific gravity of the conductive particles, the insulating fine particles will cover the conductive particles excessively. For this reason, even if the conductive particles connect the opposing circuit electrodes, the connection resistance in the thickness direction of the circuit board increases. On the other hand, when the specific gravity of the coated particles exceeds 99/100 of the specific gravity of the conductive particles, the conductive particles are not sufficiently covered with the insulating fine particles. For this reason, insulation between adjacent circuit electrodes, that is, insulation in the surface direction of the circuit board becomes insufficient.

また、被覆粒子において、導電粒子の表面の5〜60%が絶縁性微粒子により被覆されていると好ましい。   In the coated particles, it is preferable that 5 to 60% of the surface of the conductive particles is covered with insulating fine particles.

導電粒子の表面が5%未満覆われていると、導電粒子が絶縁性微粒子によって十分に被覆されなくなるので、表面が5%以上覆われている場合に比べて、隣り合う回路電極間の絶縁性、すなわち回路基板の面方向における絶縁性が不十分となる。一方、導電粒子の表面が60%を超えて覆われていると、絶縁性微粒子が過剰に導電粒子を被覆するので、導電粒子が、対向する回路電極間を接続しても、表面が60%以下覆われている場合に比べて、回路基板の厚み方向における接続抵抗が増大する。   When the surface of the conductive particles is covered by less than 5%, the conductive particles are not sufficiently covered by the insulating fine particles, so that the insulating property between adjacent circuit electrodes is larger than when the surface is covered by 5% or more. That is, the insulation in the surface direction of the circuit board is insufficient. On the other hand, if the surface of the conductive particles is covered by more than 60%, the insulating fine particles cover the conductive particles excessively, so that even if the conductive particles connect the opposing circuit electrodes, the surface is 60%. The connection resistance in the thickness direction of the circuit board is increased as compared with the case where it is covered below.

また、絶縁性微粒子の平均粒径は、導電粒子の平均粒径の1/40〜1/10であると好ましい。   The average particle diameter of the insulating fine particles is preferably 1/40 to 1/10 of the average particle diameter of the conductive particles.

絶縁性微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径が当該範囲を外れた場合に比べて、導電粒子の表面が多数の絶縁性微粒子により覆われ易くなり、このような回路接続材料を用いて回路部材の接続構造を製造すると、隣り合う回路電極間の絶縁性、すなわち回路基板の面方向における絶縁性を更に向上できる。   If the average particle size of the insulating fine particles is within the above range, the surface of the conductive particles is more easily covered with a large number of insulating fine particles compared to the case where the average particle size is outside the above range. When the circuit member connection structure is manufactured using the material, the insulation between adjacent circuit electrodes, that is, the insulation in the surface direction of the circuit board can be further improved.

また、絶縁性微粒子は、ラジカル重合性物質の重合物からなると好ましい。この場合、絶縁性微粒子が導電粒子の表面に付着しやすくなるので、このような回路接続材料を用いて回路部材の接続構造を製造すると、隣り合う回路電極間の絶縁性、すなわち回路基板の面方向における絶縁性を更に向上できる。   The insulating fine particles are preferably made of a polymer of a radical polymerizable substance. In this case, since the insulating fine particles are likely to adhere to the surface of the conductive particles, when a circuit member connection structure is manufactured using such a circuit connection material, the insulation between adjacent circuit electrodes, that is, the surface of the circuit board. The insulation in the direction can be further improved.

また、接着剤組成物は、ラジカル重合性物質と、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤と、を含有すると好ましい。このような接着剤組成物を含む回路接続材料によって、第一及び第二の回路部材は加熱時に容易に接続される。   The adhesive composition preferably contains a radical polymerizable substance and a curing agent that generates free radicals upon heating. With the circuit connecting material containing such an adhesive composition, the first and second circuit members are easily connected during heating.

また、上記回路接続材料は、フェノキシ樹脂からなるフィルム形成材を更に含有すると好ましい。これにより、回路接続材料をフィルム状に加工することが可能となる。   The circuit connecting material preferably further contains a film forming material made of phenoxy resin. Thereby, it becomes possible to process the circuit connection material into a film.

また、フェノキシ樹脂は、分子内に多環芳香族化合物に起因する分子構造を含有すると好ましい。これにより、接着性、相溶性、耐熱性、機械強度等に優れた回路接続材料が得られる。   Moreover, it is preferable that a phenoxy resin contains the molecular structure resulting from a polycyclic aromatic compound in a molecule | numerator. Thereby, the circuit connection material excellent in adhesiveness, compatibility, heat resistance, mechanical strength, etc. is obtained.

また、多環芳香族化合物は、フルオレンであると好ましい。   The polycyclic aromatic compound is preferably fluorene.

また、本発明のフィルム状回路接続材料は、本発明の回路接続材料をフィルム状に形成してなることを特徴とする。これにより、回路接続材料が裂ける、割れる、或いはべたつく等の問題が生じにくく、回路接続材料の取扱いが容易になる。   Moreover, the film-like circuit connecting material of the present invention is formed by forming the circuit connecting material of the present invention into a film shape. As a result, problems such as tearing, cracking, and stickiness of the circuit connection material hardly occur, and the circuit connection material can be easily handled.

また、本発明の回路部材の接続構造は、第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、第一の回路基板の主面と第二の回路基板の主面との間に設けられ、第一及び第二の回路電極が対向するように第一及び第二の回路部材同士を接続する回路接続部材と、を備えた回路部材の接続構造であって、回路接続部材は、本発明のフィルム状回路接続材料の硬化物からなり、第一の回路電極と第二の回路電極とが、被覆粒子を介して電気的に接続されている。別の発明の回路部材の接続構造は、第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、第一の回路基板の主面と第二の回路基板の主面との間に設けられ、第一及び第二の回路電極が対向するように第一及び第二の回路部材同士を接続する回路接続部材と、を備えた回路部材の接続構造であって、回路接続部材は、本発明の回路接続材料の硬化物からなり、第一の回路電極と第二の回路電極とが、被覆粒子を介して電気的に接続されている。   The circuit member connection structure according to the present invention includes a first circuit member in which a plurality of first circuit electrodes are formed on the main surface of the first circuit board, and a main surface of the second circuit board. The first and second circuit electrodes are provided between the second circuit member on which the plurality of second circuit electrodes are formed, and the main surface of the first circuit board and the main surface of the second circuit board. A circuit connecting member for connecting the first and second circuit members so that the two are opposed to each other, wherein the circuit connecting member is a cured product of the film-like circuit connecting material of the present invention. The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected via the coated particles. According to another aspect of the invention, there is provided a circuit member connection structure including a first circuit member having a plurality of first circuit electrodes formed on a main surface of a first circuit board and a plurality of circuit members on a main surface of a second circuit board. The second circuit member formed with the second circuit electrode is provided between the main surface of the first circuit board and the main surface of the second circuit board, and the first and second circuit electrodes are provided A circuit member connection structure comprising a circuit connection member for connecting the first and second circuit members to face each other, the circuit connection member is made of a cured product of the circuit connection material of the present invention, The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected via the coated particles.

このような回路部材の接続構造では、対向する回路電極間の接続抵抗を十分に低減できると共に、隣り合う回路電極間の絶縁性が十分に向上する。   In such a circuit member connection structure, the connection resistance between the opposing circuit electrodes can be sufficiently reduced, and the insulation between adjacent circuit electrodes is sufficiently improved.

また、隣り合う回路電極間に50Vの直流電圧を印加した場合に、隣り合う回路電極間の抵抗値が10Ω以上であると好ましい。 Further, when a DC voltage of 50 V is applied between adjacent circuit electrodes, the resistance value between adjacent circuit electrodes is preferably 10 9 Ω or more.

このような回路部材の接続構造によれば、その動作時において隣り合う回路電極間の絶縁性、すなわち回路基板の面方向における絶縁性が極めて高くなり、隣り合う回路電極間のショートを十分に防止することが可能となる。   According to such a circuit member connection structure, the insulation between adjacent circuit electrodes during the operation, that is, the insulation in the surface direction of the circuit board becomes extremely high, and a short circuit between adjacent circuit electrodes can be sufficiently prevented. It becomes possible to do.

また、第一及び第二の回路部材のうち少なくとも一方がICチップであると好ましい。   Further, it is preferable that at least one of the first and second circuit members is an IC chip.

また、第一の回路電極と第二の回路電極との間の接続抵抗が1Ω以下であると好ましい。このような回路部材の接続構造では、対向する回路電極間の接続抵抗、すなわち回路基板の厚み方向における接続抵抗が十分に低減される。   Moreover, it is preferable that the connection resistance between the first circuit electrode and the second circuit electrode is 1Ω or less. In such a circuit member connection structure, the connection resistance between the circuit electrodes facing each other, that is, the connection resistance in the thickness direction of the circuit board is sufficiently reduced.

また、上記回路部材の接続構造は、第一及び第二の回路電極のうち少なくとも一方が、金、銀、錫、白金族の金属及びインジウム錫酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種で構成される電極表面層を有すると好ましい。   In addition, the circuit member connection structure is configured such that at least one of the first and second circuit electrodes is at least one selected from the group consisting of gold, silver, tin, a platinum group metal, and indium tin oxide. It is preferable to have an electrode surface layer.

また、上記回路部材の接続構造は、第一及び第二の回路部材のうち少なくとも一方が、窒化シリコン、シリコーン化合物及びポリイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種で構成される基板表面層を有すると好ましい。これにより、基板表面層が上記材料で構成されていない場合に比べて、回路部材と回路接続部材との接着強度が更に向上する。   In the circuit member connection structure, at least one of the first and second circuit members has a substrate surface layer composed of at least one selected from the group consisting of silicon nitride, a silicone compound, and a polyimide resin. preferable. Thereby, the adhesive strength between the circuit member and the circuit connection member is further improved as compared with the case where the substrate surface layer is not composed of the above material.

また、本発明の回路部材の接続構造の製造方法は、第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に、第一の回路電極と第二の回路電極とが対向した状態で、本発明のフィルム状回路接続材料を介在させる工程と、フィルム状回路接続材料を加熱及び加圧により硬化させる工程と、を備える。別の発明の回路部材の接続構造の製造方法は、第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に、第一の回路電極と第二の回路電極とが対向した状態で、本発明の回路接続材料を介在させる工程と、回路接続材料を加熱及び加圧により硬化させる工程と、を備える。   The circuit member connection structure manufacturing method according to the present invention includes a first circuit member having a plurality of first circuit electrodes formed on a main surface of the first circuit board, and a main circuit board of the second circuit board. The film-like circuit connecting material of the present invention with the first circuit electrode and the second circuit electrode facing each other between the second circuit member having a plurality of second circuit electrodes formed on the surface And a step of curing the film-like circuit connecting material by heating and pressing. According to another aspect of the present invention, there is provided a circuit member connection structure manufacturing method comprising: a first circuit member having a plurality of first circuit electrodes formed on a main surface of a first circuit board; and a main surface of a second circuit board. The circuit connection material of the present invention is interposed between the second circuit member on which the plurality of second circuit electrodes are formed, with the first circuit electrode and the second circuit electrode facing each other. And a step of curing the circuit connecting material by heating and pressing.

この製造方法を用いれば、対向する回路電極間の接続抵抗が十分に低減され、且つ、隣り合う回路電極間の絶縁性が向上した回路部材の接続構造を得ることができる。   By using this manufacturing method, it is possible to obtain a circuit member connection structure in which the connection resistance between facing circuit electrodes is sufficiently reduced and the insulation between adjacent circuit electrodes is improved.

本発明によれば、COG実装又はCOF実装において、対向する回路電極間で低抵抗の電気接続が得られ、且つ、隣り合う回路電極間でショート発生率を抑制できるフィルム状回路接続材料、回路部材の接続構造及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, in COG mounting or COF mounting, a film-like circuit connection material and a circuit member that can obtain a low resistance electrical connection between opposing circuit electrodes and can suppress a short-circuit occurrence rate between adjacent circuit electrodes. The connection structure and the manufacturing method thereof can be provided.

また、隣り合う回路電極間、すなわちバンプ間距離の狭い駆動用ICに対しても、接続信頼性の高いフィルム状回路接続材料、回路部材の接続構造及びその製造方法を提供することができる。   Further, it is possible to provide a film-like circuit connection material with high connection reliability, a circuit member connection structure, and a method for manufacturing the same for a driving IC having a short distance between adjacent circuit electrodes, that is, between bumps.

本発明の回路部材の接続構造の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the connection structure of the circuit member of this invention. 本発明のフィルム状回路接続材料に用いられる被覆粒子の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the coating particle used for the film-form circuit connection material of this invention. 本発明のフィルム状回路接続材料の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the film-form circuit connection material of this invention. 本発明の回路部材の接続構造の製造方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the manufacturing method of the connection structure of the circuit member of this invention.

以下、本発明のフィルム状回路接続材料、回路部材の接続構造及びその製造方法の実施形態について説明する。なお、全図面中、同一要素には同一符号を用い、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the film-like circuit connecting material, the circuit member connecting structure, and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described. In all the drawings, the same reference numerals are used for the same elements, and duplicate descriptions are omitted.

(回路部材の接続構造)
図1は、本発明の回路部材の接続構造(以下、「接続構造」という)の一実施形態を示す断面図である。本実施形態の接続構造10は、相互に対向する回路部材20(第一の回路部材)と回路部材30(第二の回路部材)とを備えており、回路部材20と回路部材30との間には、これらを接続する回路接続部材60が設けられている。
(Circuit member connection structure)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a circuit member connection structure (hereinafter referred to as “connection structure”) according to the present invention. The connection structure 10 of the present embodiment includes a circuit member 20 (first circuit member) and a circuit member 30 (second circuit member) facing each other. Is provided with a circuit connecting member 60 for connecting them.

回路部材20は、回路基板21(第一の回路基板)と、回路基板21の主面21a上に形成された複数の回路電極22(第一の回路電極)とを備える。複数の回路電極22は、例えばストライプ状に配置される。一方、回路部材30は、回路基板31(第二の回路基板)と、回路基板31の主面31a上に形成された複数の回路電極32(第二の回路電極)とを備える。複数の回路電極32も、例えばストライプ状に配置される。   The circuit member 20 includes a circuit board 21 (first circuit board) and a plurality of circuit electrodes 22 (first circuit electrodes) formed on the main surface 21 a of the circuit board 21. The plurality of circuit electrodes 22 are arranged in a stripe shape, for example. On the other hand, the circuit member 30 includes a circuit board 31 (second circuit board) and a plurality of circuit electrodes 32 (second circuit electrodes) formed on the main surface 31 a of the circuit board 31. The plurality of circuit electrodes 32 are also arranged in a stripe shape, for example.

回路部材20,30の具体例としては、半導体チップ、抵抗体チップ若しくはコンデンサチップ等のチップ部品又はプリント基板等の基板が挙げられる。接続構造10の接続形態としては、ICチップとチップ搭載基板との接続、電気回路相互の接続、COG実装又はCOF実装におけるICチップとガラス基板又はフレキシブルテープとの接続等もある。   Specific examples of the circuit members 20 and 30 include a chip component such as a semiconductor chip, a resistor chip or a capacitor chip, or a substrate such as a printed circuit board. Examples of the connection form of the connection structure 10 include connection between an IC chip and a chip mounting substrate, connection between electric circuits, connection between an IC chip and a glass substrate or a flexible tape in COG mounting or COF mounting.

特に、回路部材20,30のうち少なくとも一方がICチップであると好ましい。   In particular, it is preferable that at least one of the circuit members 20 and 30 is an IC chip.

回路電極22,32は、金、銀、錫、白金族の金属若しくはインジウム錫酸化物(ITO)又はこれらの二種以上の組み合わせで構成される電極表面層24,34を電極部23,33上にそれぞれ有すると好ましい。   The circuit electrodes 22 and 32 are formed by forming electrode surface layers 24 and 34 made of gold, silver, tin, platinum group metal, indium tin oxide (ITO), or a combination of two or more thereof on the electrode portions 23 and 33. It is preferable to have each.

回路部材30は、窒化シリコン、シリコーン化合物若しくはポリイミド樹脂又はこれらの二種以上の組み合わせで構成される基板表面層35を有すると好ましい。基板表面層35は、回路基板31をコーティングするか、又は回路基板31に付着している。この基板表面層35により、回路部材30と回路接続部材60との接着強度が向上する。   The circuit member 30 preferably has a substrate surface layer 35 composed of silicon nitride, silicone compound, polyimide resin, or a combination of two or more thereof. The substrate surface layer 35 is coated on or attached to the circuit board 31. The substrate surface layer 35 improves the adhesive strength between the circuit member 30 and the circuit connection member 60.

特に、回路基板31がフレキシブルテープの場合、基板表面層35はポリイミド樹脂等の有機絶縁物質から構成されると好ましい。また、回路基板31がガラス基板の場合、基板表面層35は窒化シリコン、シリコーン化合物、ポリイミド樹脂若しくはシリコーン樹脂又はこれらの二種以上の組み合わせで構成されると好ましい。   In particular, when the circuit board 31 is a flexible tape, the board surface layer 35 is preferably made of an organic insulating material such as polyimide resin. Moreover, when the circuit board 31 is a glass substrate, it is preferable that the board | substrate surface layer 35 is comprised by a silicon nitride, a silicone compound, a polyimide resin, a silicone resin, or these 2 or more types of combinations.

回路接続部材60は、回路基板21の主面21aと回路基板31の主面31aとの間に設けられており、回路電極22,32が対向するように回路部材20,30同士を接続している。また、回路接続部材60は、絶縁部材40と、導電粒子51の表面51aの一部が絶縁性微粒子52により被覆された被覆粒子50とを備える。被覆粒子50の比重は、導電粒子51の比重の97/100〜99/100である。この被覆粒子50を介して、回路電極22と回路電極32とが電気的に接続されている。   The circuit connection member 60 is provided between the main surface 21a of the circuit board 21 and the main surface 31a of the circuit board 31, and connects the circuit members 20 and 30 so that the circuit electrodes 22 and 32 face each other. Yes. The circuit connection member 60 includes an insulating member 40 and coated particles 50 in which a part of the surface 51 a of the conductive particles 51 is covered with insulating fine particles 52. The specific gravity of the coated particles 50 is 97/100 to 99/100 of the specific gravity of the conductive particles 51. The circuit electrode 22 and the circuit electrode 32 are electrically connected through the coated particle 50.

ここで、回路接続部材60は、後述する回路接続材料の硬化物からなるので、接続構造10では、対向する回路電極22,32間の接続抵抗を十分に低減できると共に、隣り合う回路電極22,32間の絶縁性も十分に向上する。   Here, since the circuit connection member 60 is made of a cured product of a circuit connection material, which will be described later, in the connection structure 10, the connection resistance between the circuit electrodes 22 and 32 facing each other can be sufficiently reduced, and the adjacent circuit electrodes 22, The insulation between 32 is also sufficiently improved.

隣り合う回路電極22,32間の絶縁性に着目すると、接続構造10においては、隣り合う回路電極22,32間に50Vの直流電圧を印加した場合に、隣り合う回路電極22,32間の抵抗値が10Ω以上となることが好ましい。このような接続構造10では、その動作時において隣り合う回路電極22,32間の絶縁性、すなわち回路基板21,31の面方向における絶縁性が極めて高くなり、隣り合う回路電極22,32間のショートを十分に防止することが可能となる。 When attention is paid to the insulation between the adjacent circuit electrodes 22 and 32, in the connection structure 10, when a DC voltage of 50 V is applied between the adjacent circuit electrodes 22 and 32, the resistance between the adjacent circuit electrodes 22 and 32. The value is preferably 10 9 Ω or more. In such a connection structure 10, the insulation between the adjacent circuit electrodes 22 and 32, that is, the insulation in the surface direction of the circuit boards 21 and 31 is extremely high during the operation, and the adjacent circuit electrodes 22 and 32 are separated from each other. It is possible to sufficiently prevent a short circuit.

対向する回路電極22,32間の接続抵抗に着目すると、接続構造10においては、回路電極22と回路電極32との間の接続抵抗が1Ω以下となることが好ましい。このような接続構造10では、対向する回路電極22,32間の接続抵抗、すなわち回路基板21,31の厚み方向における接続抵抗が十分に低減される。   Focusing on the connection resistance between the circuit electrodes 22 and 32 facing each other, in the connection structure 10, the connection resistance between the circuit electrode 22 and the circuit electrode 32 is preferably 1Ω or less. In such a connection structure 10, the connection resistance between the opposing circuit electrodes 22 and 32, that is, the connection resistance in the thickness direction of the circuit boards 21 and 31 is sufficiently reduced.

(回路接続材料)
本実施形態に係る回路接続材料は、接着剤組成物及び被覆粒子50を含有している。この回路接続材料を、回路部材20,30の間に介在させ、回路部材20,30を介して加熱及び加圧し、硬化処理して、接続構造10を得ると、得られる接続構造10において、対向する回路電極22,32間の接続抵抗が十分に低減されると共に、隣り合う回路電極22,32間の絶縁性が十分に向上する。
(Circuit connection material)
The circuit connection material according to the present embodiment contains the adhesive composition and the coated particles 50. When this circuit connection material is interposed between the circuit members 20 and 30, heated and pressurized through the circuit members 20 and 30, and cured to obtain the connection structure 10, The connection resistance between the circuit electrodes 22 and 32 is sufficiently reduced, and the insulation between the adjacent circuit electrodes 22 and 32 is sufficiently improved.

<接着剤組成物>
接着剤組成物は、ラジカル重合性物質と、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤と、を含有すると好ましい。このような接着剤組成物を含む回路接続材料によって、回路部材20,30は加熱時に容易に接続される。
<Adhesive composition>
The adhesive composition preferably contains a radical polymerizable substance and a curing agent that generates free radicals upon heating. With the circuit connecting material containing such an adhesive composition, the circuit members 20 and 30 are easily connected during heating.

ラジカル重合性物質は、ラジカルにより重合する官能基を有する物質であり、このようなラジカル重合性物質としては、アクリレート(対応するメタクリレートも含む。以下同じ)化合物、マレイミド化合物等が挙げられる。ラジカル重合性物質はモノマー又はオリゴマーの状態で用いてもよく、また、モノマーとオリゴマーを併用することも可能である。   The radically polymerizable substance is a substance having a functional group that is polymerized by radicals. Examples of such a radically polymerizable substance include acrylate (including corresponding methacrylates, the same applies hereinafter) compounds, maleimide compounds, and the like. The radically polymerizable substance may be used in the state of a monomer or an oligomer, and the monomer and the oligomer can be used in combination.

アクリレート化合物の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリス(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を混合して用いることができる。また、必要によりハドロキノン、メチルエーテルハイドロキノン類等の重合禁止剤を用いてもよい。また、耐熱性を向上させる点からは、アクリレート化合物がジシクロペンテニル基、トリシクロデカニル基及びトリアジン環からなる群より選ばれる少なくとも1つの置換基を有することが好ましい。   Specific examples of the acrylate compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, 2-hydroxy-1,3-dia Acryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, Examples include tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, urethane acrylate and the like. These can be used alone or in admixture of two or more. Moreover, you may use polymerization inhibitors, such as a hydroquinone and methyl ether hydroquinone, as needed. From the viewpoint of improving heat resistance, the acrylate compound preferably has at least one substituent selected from the group consisting of a dicyclopentenyl group, a tricyclodecanyl group, and a triazine ring.

マレイミド化合物は、分子中にマレイミド基を少なくとも2個以上含有するものであり、このようなマレイミド化合物としては、例えば、1−メチル−2,4−ビスマレイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−p−フェニレンビスマレイミド、N,N’−m−トルイレンビスマレイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチルビフェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N’−3,3’−ジフェニルスルホンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s−ブチル−4,8−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、1,1−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス(1−(4−マレイミドフェノキシ)−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン等を挙げることができる。これらは単独で又は2種以上を混合して使用できる。   The maleimide compound contains at least two maleimide groups in the molecule, and examples of such a maleimide compound include 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N, N′-m-phenylene. Bismaleimide, N, N′-p-phenylenebismaleimide, N, N′-m-toluylene bismaleimide, N, N′-4,4-biphenylenebismaleimide, N, N′-4,4- (3 , 3′-dimethylbiphenylene) bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-diethyldiphenylmethane) bis Maleimide, N, N′-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N′-4,4-diphenylpropane bismaleimide, N, N′-3,3′-di Enylsulfone bismaleimide, N, N′-4,4-diphenyl ether bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-4, 8- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) decane, 4,4′-cyclohexylidene-bis (1- (4-maleimidophenoxy)- Examples include 2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, etc. These can be used alone or in admixture of two or more.

加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤は、加熱により分解して遊離ラジカルを発生する硬化剤であり、このような硬化剤としては、過酸化化合物、アゾ系化合物等が挙げられる。このような硬化剤は、目的とする接続温度、接続時間、ポットライフ(可使時間)等により適宜選定される。これらの中でも、反応性を高め、ポットライフを向上させることが可能となることから、半減期10時間の温度が40℃以上で、かつ、半減期1分の温度が180℃以下の有機過酸化物が好ましく、半減期10時間の温度が60℃以上で、かつ、半減期1分の温度が170℃以下の有機過酸化物がより好ましい。   The curing agent that generates free radicals upon heating is a curing agent that decomposes upon heating to generate free radicals, and examples of such curing agents include peroxide compounds and azo compounds. Such a curing agent is appropriately selected depending on the intended connection temperature, connection time, pot life (pot life), and the like. Among these, since it is possible to increase the reactivity and improve the pot life, the organic peroxidation has a half-life of 10 hours at a temperature of 40 ° C. or more and a half-life of 1 minute at a temperature of 180 ° C. or less. Organic peroxides having a half-life of 10 hours at a temperature of 60 ° C. or higher and a half-life of 1 minute at a temperature of 170 ° C. or lower are more preferable.

硬化剤の配合量は、接続時間を10秒以下とする場合、十分な反応率を得るために、ラジカル重合性物質と必要により配合されるフィルム形成材との和100重量部に対して、0.1〜30重量部であることが好ましく、1〜20重量部であることがより好ましい。   When the connection time is 10 seconds or less, the compounding amount of the curing agent is 0 with respect to 100 parts by weight of the sum of the radical polymerizable substance and the film-forming material blended as necessary in order to obtain a sufficient reaction rate. It is preferably 1 to 30 parts by weight, and more preferably 1 to 20 parts by weight.

硬化剤の配合量が0.1重量部未満では、十分な反応率を得ることができず、良好な接着強度又は小さな接続抵抗が得られにくくなる傾向にある。硬化剤の配合量が30重量部を超えると、接着剤組成物の流動性が低下したり、接続抵抗が上昇したり、接着剤組成物のポットライフが短くなる傾向にある。   When the blending amount of the curing agent is less than 0.1 parts by weight, a sufficient reaction rate cannot be obtained, and good adhesive strength or small connection resistance tends to be hardly obtained. When the compounding amount of the curing agent exceeds 30 parts by weight, the fluidity of the adhesive composition decreases, the connection resistance increases, or the pot life of the adhesive composition tends to be shortened.

より具体的には、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤として、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイド等が挙げられる。また、回路電極22,32の腐食を抑えるという観点からは、硬化剤は、硬化剤中に含有される塩素イオンや有機酸の濃度が5000ppm以下であることが好ましく、さらに、加熱分解後に発生する有機酸が少ないものがより好ましい。このような硬化剤は、具体的には、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドから選定され、高反応性が得られるパーオキシエステルから選定されることがより好ましい。上記硬化剤は、適宜混合して用いることができる。   More specifically, examples of the curing agent that generates free radicals upon heating include diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, silyl peroxide, and the like. Further, from the viewpoint of suppressing the corrosion of the circuit electrodes 22 and 32, the curing agent preferably has a concentration of chlorine ions or organic acid contained in the curing agent of 5000 ppm or less, and is generated after thermal decomposition. A thing with little organic acid is more preferable. Specifically, such a curing agent is selected from peroxyesters, dialkyl peroxides, hydroperoxides, and silyl peroxides, and more preferably selected from peroxyesters that provide high reactivity. The said hardening | curing agent can be mixed suitably and used.

ジアシルパーオキサイドとしては、イソブチルパーオキサイド、2,4―ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。   Diacyl peroxides include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl Examples include peroxytoluene and benzoyl peroxide.

パーオキシジカーボネートとしては、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙げられる。   As peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate, di ( 2-ethylhexylperoxy) dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-3methoxybutylperoxy) dicarbonate and the like.

パーオキシエステルとしては、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノデート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシアセテート等が挙げられる。   Peroxyesters include cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxynoedecanoate, and t-hexyl. Peroxyneodecanodate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate Nate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, -Hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanonate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoyl par Oxy) hexane, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate and the like.

パーオキシケタールとしては、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1―(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。   Peroxyketals include 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t- Butyl peroxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylperoxy) decane and the like.

ジアルキルパーオキサイドとしては、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる。   Dialkyl peroxides include α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, and t-butyl. Cumyl peroxide and the like.

ハイドロパーオキサイドとしては、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of the hydroperoxide include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

シリルパーオキサイドとしては、t−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジメチルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリビニルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジビニルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)ビニルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリアリルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジアリルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)アリルシリルパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of silyl peroxides include t-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (t-butyl) divinylsilyl peroxide, and tris (t-butyl). Examples thereof include vinylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, and tris (t-butyl) allylsilyl peroxide.

これらの硬化剤は、単独で又は2種以上を混合して使用することができ、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。また、これらの硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子物質等で被覆してマイクロカプセル化したものは、ポットライフが延長されるために好ましい。   These curing agents can be used alone or in admixture of two or more, and may be used by mixing a decomposition accelerator, an inhibitor and the like. In addition, those encapsulating these curing agents with a polyurethane-based or polyester-based polymer substance and making them into microcapsules are preferable because the pot life is extended.

<被覆粒子>
被覆粒子50は、導電粒子51の表面51aの一部が絶縁性微粒子52により被覆されたものである。被覆粒子50の比重は、導電粒子51の比重の97/100〜99/100である。
<Coated particles>
The coated particles 50 are those in which a part of the surface 51 a of the conductive particles 51 is coated with insulating fine particles 52. The specific gravity of the coated particles 50 is 97/100 to 99/100 of the specific gravity of the conductive particles 51.

被覆粒子50の比重が導電粒子51の比重の97/100未満であると、絶縁性微粒子52が過剰に導電粒子51を被覆することとなる。このため、導電粒子51が、対向する回路電極22,32同士を接続しても、回路基板21,31の厚み方向における接続抵抗が増大してしまう。一方、被覆粒子50の比重が導電粒子51の比重の99/100を超えると、導電粒子51が絶縁性微粒子52によって十分に被覆されなくなる。このため、隣り合う回路電極22,32間の絶縁性、すなわち回路基板21,31の面方向における絶縁性が不十分となってしまう。   If the specific gravity of the covering particles 50 is less than 97/100 of the specific gravity of the conductive particles 51, the insulating fine particles 52 will cover the conductive particles 51 excessively. For this reason, even if the conductive particles 51 connect the circuit electrodes 22 and 32 facing each other, the connection resistance in the thickness direction of the circuit boards 21 and 31 increases. On the other hand, when the specific gravity of the coated particles 50 exceeds 99/100 of the specific gravity of the conductive particles 51, the conductive particles 51 are not sufficiently covered with the insulating fine particles 52. For this reason, the insulation between the adjacent circuit electrodes 22 and 32, that is, the insulation in the surface direction of the circuit boards 21 and 31 becomes insufficient.

また、被覆粒子50において、導電粒子51の表面51aの5〜60%が絶縁性微粒子52により被覆されていると好ましい。   In the coated particle 50, it is preferable that 5 to 60% of the surface 51 a of the conductive particle 51 is covered with the insulating fine particles 52.

導電粒子51の表面51aが5%未満覆われていると、導電粒子51が絶縁性微粒子52によって十分に被覆されなくなるので、表面51aが5%以上被覆されている場合に比べて、隣り合う回路電極22,32間の絶縁性、すなわち回路基板21,31の面方向における絶縁性が不十分となる。一方、導電粒子51の表面51aが60%を超えて覆われていると、絶縁性微粒子52が過剰に導電粒子51を被覆するので、導電粒子51が、対向する回路電極22,32間を接続しても、表面51aが60%以下被覆されている場合に比べて、回路基板21,31の厚み方向における接続抵抗が増大する。   If the surface 51a of the conductive particles 51 is covered by less than 5%, the conductive particles 51 are not sufficiently covered by the insulating fine particles 52, so that the adjacent circuit is compared with the case where the surface 51a is covered by 5% or more. The insulation between the electrodes 22 and 32, that is, the insulation in the surface direction of the circuit boards 21 and 31 is insufficient. On the other hand, if the surface 51a of the conductive particles 51 is covered by more than 60%, the insulating particles 52 cover the conductive particles 51 excessively, so that the conductive particles 51 connect between the circuit electrodes 22 and 32 facing each other. Even so, the connection resistance in the thickness direction of the circuit boards 21 and 31 is increased as compared with the case where the surface 51a is covered by 60% or less.

また、絶縁性微粒子52の平均粒径dは、導電粒子51の平均粒径dの1/40〜1/10であると好ましい。 The average particle diameter d i of the insulating fine particles 52 is preferably 1/40 to 1/10 of the average particle diameter d c of the conductive particles 51.

絶縁性微粒子52の平均粒径dが上記範囲内にあれば、平均粒径dが当該範囲を外れた場合に比べて、導電粒子51の表面51aが多数の絶縁性微粒子52により覆われ易くなり、このような回路接続材料を用いて接続構造10を製造すると、隣り合う回路電極22,32間の絶縁性、すなわち回路基板21,31の面方向における絶縁性を更に向上できる。 If the average particle size d i of the insulating fine particles 52 is within the above range, as compared with the case where the average particle size d i is outside the range, the surface 51a of the conductive particles 51 is covered by a number of insulating fine particles 52 When the connection structure 10 is manufactured using such a circuit connection material, the insulation between the adjacent circuit electrodes 22 and 32, that is, the insulation in the surface direction of the circuit boards 21 and 31 can be further improved.

導電粒子51としては、Au、Ag、Ni、Cu、はんだ等からなる金属粒子又はカーボン等からなる粒子等が挙げられる。導電粒子51は、熱溶融金属粒子であると好ましい。この場合、回路電極22,32同士を接続する際の加熱及び加圧により導電粒子51が変形し易いので、導電粒子51と回路電極22,32との接触面積が増加し、接続信頼性が向上する。   Examples of the conductive particles 51 include metal particles made of Au, Ag, Ni, Cu, solder, etc., or particles made of carbon or the like. The conductive particles 51 are preferably hot-melt metal particles. In this case, since the conductive particles 51 are easily deformed by heating and pressurization when the circuit electrodes 22 and 32 are connected to each other, the contact area between the conductive particles 51 and the circuit electrodes 22 and 32 is increased, and the connection reliability is improved. To do.

また、図2に示すように、導電粒子51は、核体51xと、核体51xの表面を被覆するように形成された外層51yとを備えるものであってもよい。なお、図2は、本発明の回路接続材料に用いられる被覆粒子の一例を示す断面図である。   As shown in FIG. 2, the conductive particles 51 may include a core 51x and an outer layer 51y formed so as to cover the surface of the core 51x. In addition, FIG. 2 is sectional drawing which shows an example of the covering particle | grains used for the circuit connection material of this invention.

十分なポットライフを得るためには、外層51yがNi、Cu等の遷移金属類からなるのではなく、Au、Ag、白金族等の貴金属類からなると好ましく、Auからなるとより好ましい。また、導電粒子51は、Ni等の遷移金属類からなる核体51xをAu等の貴金属類からなる外層51yで被覆したものでもよい。   In order to obtain a sufficient pot life, the outer layer 51y is preferably made of a noble metal such as Au, Ag or a platinum group, and more preferably made of Au, rather than a transition metal such as Ni or Cu. Further, the conductive particles 51 may be obtained by coating a core 51x made of a transition metal such as Ni with an outer layer 51y made of a noble metal such as Au.

また、導電粒子51は、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等からなる核体51x表面上に貴金属類からなる外層51yを形成したものであると好ましい。この場合、回路電極22,32同士を接続する際の加熱及び加圧により導電粒子51が変形し易いので、導電粒子51と回路電極22,32との接触面積が増加し、接続信頼性が向上する。   The conductive particles 51 are preferably formed by forming an outer layer 51y made of a noble metal on the surface of a core 51x made of non-conductive glass, ceramic, plastic, or the like. In this case, since the conductive particles 51 are easily deformed by heating and pressurization when the circuit electrodes 22 and 32 are connected to each other, the contact area between the conductive particles 51 and the circuit electrodes 22 and 32 is increased, and the connection reliability is improved. To do.

貴金属類の外層51yの厚みは、100オングストローム以上であると好ましい。この場合、回路電極22,32間で良好な接続抵抗を得ることができる。また、Ni等の遷移金属からなる核体51x表面に貴金属類の外層51yを形成する場合、貴金属類の外層51yの厚みは、300オングストローム以上であると好ましい。貴金属類の外層51yの厚みが300オングストローム未満であると、例えば導電粒子51を混合分散する際に外層51yに欠損等が生じる。この欠陥等が生じた場所に、酸化還元作用による遊離ラジカルが発生し、回路接続材料の保存性を低下させてしまうおそれがある。そして、外層51yの厚みが厚くなると外層51yの効果が飽和してくるので、外層51yの厚みは1マイクロメートル以下であると好ましい。   The thickness of the noble metal outer layer 51y is preferably 100 angstroms or more. In this case, a good connection resistance can be obtained between the circuit electrodes 22 and 32. Further, when the outer layer 51y made of a noble metal is formed on the surface of the core 51x made of a transition metal such as Ni, the thickness of the outer layer 51y made of a noble metal is preferably 300 angstroms or more. If the thickness of the outer layer 51y of the noble metal is less than 300 angstroms, for example, when the conductive particles 51 are mixed and dispersed, defects or the like occur in the outer layer 51y. There is a possibility that free radicals due to the oxidation-reduction action are generated at the place where the defect or the like occurs, and the storage stability of the circuit connecting material is lowered. And since the effect of the outer layer 51y will be saturated if the thickness of the outer layer 51y becomes thick, it is preferable that the thickness of the outer layer 51y is 1 micrometer or less.

また、導電粒子51は、接着剤組成物100体積部に対して0.1〜30体積部添加することが好ましく、その添加量は用途により使い分ける。なお、過剰な導電粒子51による隣接回路電極の短絡等を防止するためには、0.1〜10体積部添加することがより好ましい。   The conductive particles 51 are preferably added in an amount of 0.1 to 30 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the adhesive composition. In addition, in order to prevent the adjacent circuit electrode from being short-circuited by the excessive conductive particles 51, it is more preferable to add 0.1 to 10 parts by volume.

絶縁性微粒子52は、ラジカル重合性物質の重合物からなると好ましい。この場合、絶縁性微粒子52が導電粒子51の表面51aに付着しやすくなるので、このような回路接続材料を用いて接続構造10を製造すると、隣り合う回路電極22,32間の絶縁性、すなわち回路基板21,31の面方向における絶縁性を更に向上できる。   The insulating fine particles 52 are preferably made of a polymer of a radical polymerizable substance. In this case, since the insulating fine particles 52 are likely to adhere to the surface 51a of the conductive particles 51, when the connection structure 10 is manufactured using such a circuit connection material, the insulation between the adjacent circuit electrodes 22, 32, that is, The insulation in the surface direction of the circuit boards 21 and 31 can be further improved.

ラジカル重合性物質としては、接着剤組成物に含まれるラジカル重合性物質と同様のものが例示できる。   Examples of the radical polymerizable substance include those similar to the radical polymerizable substance contained in the adhesive composition.

また、上記回路接続材料は、フェノキシ樹脂からなるフィルム形成材を更に含有すると好ましい。これにより、回路接続材料をフィルム状に加工してフィルム状回路接続材料を得ることができる。   The circuit connecting material preferably further contains a film forming material made of phenoxy resin. Thereby, a circuit connection material can be processed into a film shape, and a film-form circuit connection material can be obtained.

図3は、本発明のフィルム状回路接続材料の一実施形態を示す断面図である。本実施形態のフィルム状回路接続材料61は、上記接着剤組成物からなるフィルム状絶縁部材41と、被覆粒子50とを備える。このフィルム状回路接続材料61は、上記回路接続材料をフィルム状に形成してなる。これにより、回路接続材料が裂ける、割れる、或いはべたつく等の問題が生じにくく、通常の状態(常温常圧)で回路接続材料の取扱いが容易になる。さらに、フィルム状回路接続材料61が、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤を含有する層と被覆粒子50を含有する層の2層以上に分割されていると、ポットライフが向上する。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the film-like circuit connecting material of the present invention. The film-like circuit connecting material 61 of this embodiment includes a film-like insulating member 41 made of the above adhesive composition and coated particles 50. The film-like circuit connecting material 61 is formed by forming the circuit connecting material into a film shape. As a result, problems such as tearing, cracking, and stickiness of the circuit connecting material are unlikely to occur, and handling of the circuit connecting material is facilitated in a normal state (normal temperature and normal pressure). Furthermore, when the film-like circuit connecting material 61 is divided into two or more layers including a layer containing a curing agent that generates free radicals upon heating and a layer containing the coated particles 50, the pot life is improved.

<フィルム形成材>
フィルム形成材とは、液状物を固形化し構成組成物をフィルム形状とした場合に、そのフィルムの取扱いを容易とし、容易に裂けたり、割れたり、べたついたりしない機械的特性等を付与するものであり、通常の状態(常温常圧)でフィルムとしての取扱いができるものである。フィルム形成材としては、フェノキシ樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、キシレン樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、接着性、相溶性、耐熱性、機械的強度に優れることからフェノキシ樹脂が好ましい。
<Film forming material>
The film-forming material is a material that solidifies a liquid material and forms a composition composition into a film shape, which facilitates handling of the film and imparts mechanical properties that do not easily tear, crack, or stick. Yes, it can be handled as a film in a normal state (normal temperature and pressure). Examples of the film forming material include phenoxy resin, polyvinyl formal resin, polystyrene resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, polyamide resin, xylene resin, polyurethane resin and the like. Among these, a phenoxy resin is preferable because of excellent adhesiveness, compatibility, heat resistance, and mechanical strength.

フェノキシ樹脂は、2官能フェノール類とエピハロヒドリンを高分子量まで反応させるか、又は2官能エポキシ樹脂と2官能フェノール類を重付加させることにより得られる樹脂である。フェノキシ樹脂は、例えば2官能フェノール類1モルとエピハロヒドリン0.985〜1.015モルとをアルカリ金属水酸化物等の触媒の存在下、非反応性溶媒中40〜120℃の温度で反応させることにより得ることができる。また、フェノキシ樹脂としては、樹脂の機械的特性や熱的特性の点からは、特に2官能性エポキシ樹脂と2官能性フェノール類の配合当量比をエポキシ基/フェノール水酸基=1/0.9〜1/1.1とし、アルカリ金属化合物、有機リン系化合物、環状アミン系化合物等の触媒存在下、沸点が120℃以上のアミド系、エーテル系、ケトン系、ラクトン系、アルコール系等の有機溶剤中で、反応固形分が50重量部以下の条件で50〜200℃に加熱して重付加反応させて得たものが好ましい。   The phenoxy resin is a resin obtained by reacting a bifunctional phenol and epihalohydrin to a high molecular weight or by polyaddition of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol. The phenoxy resin is obtained by reacting, for example, 1 mol of a bifunctional phenol and 0.985 to 1.015 mol of epihalohydrin in a non-reactive solvent at a temperature of 40 to 120 ° C. in the presence of a catalyst such as an alkali metal hydroxide. Can be obtained. Moreover, as a phenoxy resin, especially from the point of the mechanical characteristic and thermal characteristic of resin, the mixing | blending equivalent ratio of bifunctional epoxy resin and bifunctional phenols is epoxy group / phenol hydroxyl group = 1 / 0.9- An organic solvent such as an amide, ether, ketone, lactone, or alcohol having a boiling point of 120 ° C. or higher in the presence of a catalyst such as an alkali metal compound, an organic phosphorus compound, or a cyclic amine compound. Among them, those obtained by heating to 50 to 200 ° C. under a condition where the reaction solid content is 50 parts by weight or less and performing a polyaddition reaction are preferable.

2官能エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等が挙げられる。2官能フェノール類は、2個のフェノール性水酸基を持つものであり、このような2官能フェノール類としては、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS等のビスフェノール類等が挙げられる。   Examples of the bifunctional epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin. Bifunctional phenols have two phenolic hydroxyl groups, and examples of such bifunctional phenols include bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, and bisphenol S.

また、フェノキシ樹脂は、その分子内に多環芳香族化合物に起因する分子構造を含有すると好ましい。これにより、接着性、相溶性、耐熱性、機械強度等に優れた回路接続材料が得られる。   Further, the phenoxy resin preferably contains a molecular structure derived from a polycyclic aromatic compound in the molecule. Thereby, the circuit connection material excellent in adhesiveness, compatibility, heat resistance, mechanical strength, etc. is obtained.

多環芳香族化合物としては、例えばナフタレン、ビフェニル、アセナフテン、フルオレン、ジベンゾフラン、アントラセン、フェナンスレン等のジヒドロキシ化合物等が挙げられる。ここで、多環芳香族化合物はフルオレンであると好ましい。さらに、多環芳香族化合物は、9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンであると特に好ましい。   Examples of the polycyclic aromatic compound include dihydroxy compounds such as naphthalene, biphenyl, acenaphthene, fluorene, dibenzofuran, anthracene, and phenanthrene. Here, the polycyclic aromatic compound is preferably fluorene. Furthermore, the polycyclic aromatic compound is particularly preferably 9,9'-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene.

なお、フェノキシ樹脂は、ラジカル重合性の官能基により変性されていてもよい。また、フェノキシ樹脂は、単独で用いても、2種類以上を混合して用いてもよい。   The phenoxy resin may be modified with a radical polymerizable functional group. Moreover, a phenoxy resin may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.

<その他の含有成分>
本実施形態の回路接続材料は、更に、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル及びアクリロニトリルからなる群より選ばれる少なくとも一種をモノマー成分とした重合体又は共重合体を含んでもよい。ここで、応力緩和に優れることから、グリシジルエーテル基を含有するグリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートを含む共重合体系アクリルゴムを併用することが好ましい。これらアクリルゴムの分子量(重量平均分子量)は、接着剤の凝集力を高める点から20万以上が好ましい。
<Other components>
The circuit connection material of the present embodiment may further include a polymer or copolymer having at least one selected from the group consisting of acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid ester and acrylonitrile as a monomer component. Here, since it is excellent in stress relaxation, it is preferable to use together the copolymer type acrylic rubber containing glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate containing a glycidyl ether group. The molecular weight (weight average molecular weight) of these acrylic rubbers is preferably 200,000 or more from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the adhesive.

また、本実施形態の回路接続材料には、更に、充填剤、軟化剤、促進剤、老化防止剤、難燃化剤、色素、チキソトロピック剤、カップリング剤、フェノール樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート類等を含有することもできる。   In addition, the circuit connection material of the present embodiment further includes a filler, a softener, an accelerator, an anti-aging agent, a flame retardant, a dye, a thixotropic agent, a coupling agent, a phenol resin, a melamine resin, and isocyanates. Etc. can also be contained.

回路接続材料に充填剤を含有させる場合、接続信頼性等が向上するので好ましい。充填剤は、その最大径が導電粒子51の平均粒径未満であれば使用できる。充填剤の配合量は、接着剤組成物100体積部に対して5〜60体積部であることが好ましい。配合量が60体積部を超えると、接続信頼性向上効果が飽和する傾向があり、他方、5体積部未満では充填剤添加の効果が不充分となる傾向がある。   It is preferable to include a filler in the circuit connection material because connection reliability and the like are improved. The filler can be used if its maximum diameter is less than the average particle diameter of the conductive particles 51. It is preferable that the compounding quantity of a filler is 5-60 volume parts with respect to 100 volume parts of adhesive compositions. If the blending amount exceeds 60 parts by volume, the effect of improving the connection reliability tends to be saturated, and if it is less than 5 parts by volume, the effect of adding the filler tends to be insufficient.

カップリング剤としては、ケチミン、ビニル基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基又はイソシアネート基を含有する化合物が、接着性が向上するので好ましい。   As the coupling agent, a compound containing a ketimine, vinyl group, acrylic group, amino group, epoxy group or isocyanate group is preferable because the adhesiveness is improved.

具体的には、アミノ基を有するシランカップリング剤として、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。ケチミンを有するシランカップリング剤として、上記のアミノ基を有するシランカップリング剤に、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物を反応させて得られたものが挙げられる。   Specifically, as the silane coupling agent having an amino group, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane. Examples include ethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the silane coupling agent having ketimine include those obtained by reacting the above silane coupling agent having an amino group with a ketone compound such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

次に、図4及び図1を参照して、本発明の回路部材の接続構造の製造方法の一実施形態について説明する。本実施形態では、上記接続構造10の製造方法について説明する。   Next, with reference to FIG.4 and FIG.1, one Embodiment of the manufacturing method of the connection structure of the circuit member of this invention is described. In the present embodiment, a method for manufacturing the connection structure 10 will be described.

(回路部材の接続構造の製造方法)
図4は、接続構造10の製造方法の一工程を示す断面図である。まず、回路部材20,30を準備する。一方、フィルム状に成形してなるフィルム状回路接続材料61を準備する。次に、回路部材20と回路部材30との間に、回路電極22と回路電極32とが対向した状態で、フィルム状回路接続材料61を介在させる。具体的には、例えば回路部材30上にフィルム状回路接続材料61を載せ、続いてフィルム状回路接続材料61上に回路部材20を載せる。ここで、フィルム状回路接続材料61はフィルム状であるため取扱いが容易である。このため、このフィルム状回路接続材料61によれば、回路部材20,30を接続する際に、これらの間に回路接続材料を容易に介在させることができ、回路部材20,30の接続作業を容易に行うことができる。
(Method for manufacturing circuit member connection structure)
FIG. 4 is a cross-sectional view showing one step of the method for manufacturing the connection structure 10. First, the circuit members 20 and 30 are prepared. On the other hand, a film-like circuit connection material 61 formed into a film is prepared. Next, the film-like circuit connecting material 61 is interposed between the circuit member 20 and the circuit member 30 with the circuit electrode 22 and the circuit electrode 32 facing each other. Specifically, for example, the film-like circuit connection material 61 is placed on the circuit member 30, and then the circuit member 20 is placed on the film-like circuit connection material 61. Here, since the film-like circuit connecting material 61 is a film, it is easy to handle. For this reason, according to this film-like circuit connection material 61, when connecting the circuit members 20, 30, the circuit connection material can be easily interposed between them, and the connection work of the circuit members 20, 30 can be performed. It can be done easily.

次に、回路部材20,30を介してフィルム状回路接続材料61を加熱しながら図4の矢印A及びB方向に加熱及び加圧して硬化処理を施し(図4参照)、回路部材20,30の間に回路接続部材60を形成する(図1参照)。加熱及び加圧の際に、回路部材20,30のいずれか一方の側から光を照射して、回路電極22,23の位置合わせを行ってもよい。なお、硬化処理は、一般的な方法により行うことが可能であり、その方法は接着剤組成物により適宜選択される。   Next, the film-like circuit connecting material 61 is heated through the circuit members 20 and 30 and heated and pressed in the directions of arrows A and B in FIG. 4 to perform a curing process (see FIG. 4). A circuit connection member 60 is formed between them (see FIG. 1). During the heating and pressurization, the circuit electrodes 22 and 23 may be aligned by irradiating light from one of the circuit members 20 and 30. The curing treatment can be performed by a general method, and the method is appropriately selected depending on the adhesive composition.

この製造方法を用いれば、対向する回路電極22,32間の接続抵抗が十分に低減され、且つ、隣り合う回路電極22,32間の絶縁性が十分に向上された接続構造10を得ることができる。   By using this manufacturing method, it is possible to obtain the connection structure 10 in which the connection resistance between the opposing circuit electrodes 22 and 32 is sufficiently reduced and the insulation between the adjacent circuit electrodes 22 and 32 is sufficiently improved. it can.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said embodiment.

例えば、上記実施形態では、回路電極22,32がいずれも電極表面層24,34を有するとしたが、回路電極22,32のうち少なくとも一方が電極表面層を有するとしてもよい。   For example, in the above embodiment, the circuit electrodes 22 and 32 both have the electrode surface layers 24 and 34, but at least one of the circuit electrodes 22 and 32 may have the electrode surface layer.

また、上記実施形態では、回路部材30が基板表面層35を有するとしたが、回路部材20,30のうち少なくとも一方が基板表面層を有するとしてもよい。   In the above embodiment, the circuit member 30 has the substrate surface layer 35. However, at least one of the circuit members 20 and 30 may have the substrate surface layer.

また、上記実施形態では、フィルム状回路接続材料61を用いて接続構造10を製造しているが、フィルム状回路接続材料61に限られずフィルム形成材を含まない回路接続材料を用いてもよい。この場合でも、回路接続材料を溶媒に溶解させ、その溶液を回路部材20,30のいずれかに塗布して乾燥させれば、回路部材20,30間に回路接続材料を介在させることができる。   Moreover, in the said embodiment, although the connection structure 10 is manufactured using the film-form circuit connection material 61, it is not restricted to the film-form circuit connection material 61, You may use the circuit connection material which does not contain a film formation material. Even in this case, the circuit connection material can be interposed between the circuit members 20 and 30 if the circuit connection material is dissolved in a solvent, and the solution is applied to any of the circuit members 20 and 30 and dried.

また、上記実施形態では、回路接続材料が導電粒子51を含有するとしたが、導電粒子51を含有していなくてもよい。この場合であっても、対向する回路電極22,32が各々直接接触することにより電気的な接続が得られる。なお、導電粒子51を含有する場合には、導電粒子51を含有しない場合に比べて、より安定な電気的接続が得られる。   Moreover, in the said embodiment, although the circuit connection material contained the electrically-conductive particle 51, it does not need to contain the electrically-conductive particle 51. FIG. Even in this case, electrical connection is obtained by the circuit electrodes 22 and 32 facing each other being in direct contact with each other. In addition, when the conductive particles 51 are contained, a more stable electrical connection can be obtained as compared with the case where the conductive particles 51 are not contained.

以下、本発明の内容を、実施例を用いて更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the content of the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
まず、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールAとからガラス転移温度が80℃のフェノキシ樹脂を合成した。このフェノキシ樹脂50gを、重量比でトルエン(沸点110.6℃、SP値8.90)/酢酸エチル(沸点77.1℃、SP値9.10)=50/50の混合溶剤に溶解して、固形分40重量%の溶液とした。そして、固形分重量比でフェノキシ樹脂60g、ジシクロペンテニルジアルコールジアクリレート39g、リン酸エステル型アクリレート1g、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート5gとなるように溶液を調整した。
Example 1
First, a phenoxy resin having a glass transition temperature of 80 ° C. was synthesized from bisphenol A type epoxy resin and bisphenol A. 50 g of this phenoxy resin was dissolved in a mixed solvent of toluene (boiling point 110.6 ° C., SP value 8.90) / ethyl acetate (boiling point 77.1 ° C., SP value 9.10) = 50/50 by weight ratio. A solution having a solid content of 40% by weight was obtained. And the solution was adjusted so that it might become 60 g of phenoxy resin, 39 g of dicyclopentenyl dialcohol diacrylate, 1 g of phosphate ester type acrylate, and 5 g of t-hexylperoxy-2-ethylhexanate in solid content weight ratio.

一方、ラジカル重合性物質(アクリレートモノマー)の重合物からなる絶縁性微粒子を用いて、被覆後の比重が被覆前の比重に対して98/100となるように導電粒子の表面の20%を被覆し、被覆粒子を得た。なお、導電粒子は、ポリスチレンからなる核体の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を有し、このニッケル層の外側に厚み0.04μmの金層を有するものである。また、導電粒子としては、平均粒径が5μmの導電粒子を使用した。   On the other hand, insulating fine particles made of a polymer of a radical polymerizable substance (acrylate monomer) are used to cover 20% of the surface of the conductive particles so that the specific gravity after coating is 98/100 with respect to the specific gravity before coating. Thus, coated particles were obtained. The conductive particles have a nickel layer having a thickness of 0.2 μm on the surface of a core made of polystyrene, and a gold layer having a thickness of 0.04 μm outside the nickel layer. As the conductive particles, conductive particles having an average particle diameter of 5 μm were used.

この被覆粒子を、上記溶液に5体積%配合分散させて、溶液を調整した。そして、この溶液を、片面を表面処理した厚み80μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃で10分の熱風乾燥により、PETフィルム上に厚みが10μmの第1フィルム状材料を得た。   The coated particles were mixed and dispersed in the above solution at 5% by volume to prepare a solution. Then, this solution was applied to a PET (polyethylene terephthalate) film having a thickness of 80 μm, which was surface-treated on one side, and dried with hot air at 70 ° C. for 10 minutes to form a first 10 μm-thickness on the PET film. A film-like material was obtained.

また、固形分重量比でフェノキシ樹脂60g、ジシクロペンテニルジアルコールジアクリレート39g、リン酸エステル型アクリレート1g、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート5gとなるように別の溶液を調整した。この溶液を、片面を表面処理した厚み80μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃で10分の熱風乾燥により、PETフィルム上に厚みが10μmで接着剤組成物からなる第2フィルム状材料を得た。   In addition, another solution was prepared so as to be 60 g of phenoxy resin, 39 g of dicyclopentenyl dialcohol diacrylate, 1 g of phosphate ester acrylate, and 5 g of t-hexylperoxy-2-ethylhexanate in solid content weight ratio. . This solution was applied to a PET (polyethylene terephthalate) film having a thickness of 80 μm on one side using a coating apparatus, and dried with hot air at 70 ° C. for 10 minutes to form an adhesive composition having a thickness of 10 μm on the PET film. A second film-like material consisting of

上記第1フィルム状材料及び上記第2フィルム状材料をラミネーターにて貼り合わせ、二層構成のフィルム状回路接続材料を得た。   The first film-like material and the second film-like material were bonded together with a laminator to obtain a film-like circuit connection material having a two-layer structure.

(実施例2)
まず、ビスフェノールA型エポキシ樹脂と9、9‘−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンとからガラス転移温度が80℃のフェノキシ樹脂を合成した。このフェノキシ樹脂50gを、重量比でトルエン(沸点110.6℃、SP値8.90)/酢酸エチル(沸点77.1℃、SP値9.10)=50/50の混合溶剤に溶解して、固形分40重量%の溶液とした。そして、固形分重量比でフェノキシ樹脂60g、ジシクロペンテニルジアルコールジアクリレート39g、リン酸エステル型アクリレート1g、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート5gとなるように溶液を調整した。
(Example 2)
First, a phenoxy resin having a glass transition temperature of 80 ° C. was synthesized from bisphenol A type epoxy resin and 9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene. 50 g of this phenoxy resin was dissolved in a mixed solvent of toluene (boiling point 110.6 ° C., SP value 8.90) / ethyl acetate (boiling point 77.1 ° C., SP value 9.10) = 50/50 by weight ratio. A solution having a solid content of 40% by weight was obtained. And the solution was adjusted so that it might become 60 g of phenoxy resin, 39 g of dicyclopentenyl dialcohol diacrylate, 1 g of phosphate ester type acrylate, and 5 g of t-hexylperoxy-2-ethylhexanate in solid content weight ratio.

一方、ラジカル重合性物質(アクリレートモノマー)の重合物からなる絶縁性微粒子を用いて、被覆後の比重が被覆前の比重に対して97/100となるように導電粒子の表面の40%を被覆し、被覆粒子を得た。なお、導電粒子は、ポリスチレンからなる核体の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を有し、このニッケル層の外側に厚み0.04μmの金層を有するものである。また、導電粒子としては、平均粒径が5μmの導電粒子を使用した。   On the other hand, 40% of the surface of the conductive particles is coated with insulating fine particles made of a polymer of a radical polymerizable substance (acrylate monomer) so that the specific gravity after coating is 97/100 with respect to the specific gravity before coating. Thus, coated particles were obtained. The conductive particles have a nickel layer having a thickness of 0.2 μm on the surface of a core made of polystyrene, and a gold layer having a thickness of 0.04 μm outside the nickel layer. As the conductive particles, conductive particles having an average particle diameter of 5 μm were used.

この被覆粒子を、上記溶液に5体積%配合分散させて、溶液を調整した。そして、この溶液を、片面を表面処理した厚み80μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃で10分の熱風乾燥により、PETフィルム上に厚みが10μmの第1フィルム状材料を得た。   The coated particles were mixed and dispersed in the above solution at 5% by volume to prepare a solution. Then, this solution was applied to a PET (polyethylene terephthalate) film having a thickness of 80 μm, which was surface-treated on one side, and dried with hot air at 70 ° C. for 10 minutes to form a first 10 μm-thickness on the PET film. A film-like material was obtained.

また、固形分重量比でフェノキシ樹脂60g、ジシクロペンテニルジアルコールジアクリレート39g、リン酸エステル型アクリレート1g、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート5gとなるように別の溶液を調整した。この溶液を、片面を表面処理した厚み80μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃で10分の熱風乾燥により、PETフィルム上に厚みが10μmで接着剤組成物からなる第2フィルム状材料を得た。   In addition, another solution was prepared so as to be 60 g of phenoxy resin, 39 g of dicyclopentenyl dialcohol diacrylate, 1 g of phosphate ester acrylate, and 5 g of t-hexylperoxy-2-ethylhexanate in solid content weight ratio. . This solution was applied to a PET (polyethylene terephthalate) film having a thickness of 80 μm on one side using a coating apparatus, and dried with hot air at 70 ° C. for 10 minutes to form an adhesive composition having a thickness of 10 μm on the PET film. A second film-like material consisting of

上記第1フィルム状材料及び上記第2フィルム状材料をラミネーターにて貼り合わせ、二層構成のフィルム状回路接続材料を得た。   The first film-like material and the second film-like material were bonded together with a laminator to obtain a film-like circuit connection material having a two-layer structure.

(比較例1)
実施例1における被覆粒子の代わりに、絶縁性微粒子で被覆されていない導電粒子を用いた他は、実施例1と同様にして二層構成のフィルム状回路接続材料を得た。すなわち、導電粒子の被覆率は0%である。
(Comparative Example 1)
A film-like circuit connecting material having a two-layer structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that conductive particles not coated with insulating fine particles were used instead of the coated particles in Example 1. That is, the coverage of the conductive particles is 0%.

(比較例2)
実施例1における被覆粒子の代わりに、以下の被覆粒子を用いた他は、実施例1と同様にして二層構成のフィルム状回路接続材料を得た。
(Comparative Example 2)
A film-like circuit connecting material having a two-layer structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coated particles were used instead of the coated particles in Example 1.

ラジカル重合性物質(アクリレートモノマー)の重合物からなる絶縁性微粒子を用いて、被覆後の比重が被覆前の比重に対して95/100となるように導電粒子の表面の70%を被覆し、被覆粒子を得た。なお、導電粒子は、ポリスチレンからなる核体の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を有し、このニッケル層の外側に厚み0.04μmの金層を有するものである。また、導電粒子としては、平均粒径が5μmの導電粒子を使用した。   Using insulating fine particles made of a polymer of a radical polymerizable substance (acrylate monomer), 70% of the surface of the conductive particles is coated so that the specific gravity after coating is 95/100 with respect to the specific gravity before coating, Coated particles were obtained. The conductive particles have a nickel layer having a thickness of 0.2 μm on the surface of a core made of polystyrene, and a gold layer having a thickness of 0.04 μm outside the nickel layer. As the conductive particles, conductive particles having an average particle diameter of 5 μm were used.

(回路部材の接続構造の作製)
まず、第一の回路部材として、バンプ面積50μm×50μm、ピッチ100μm、高さ20μmの金バンプを配置したICチップを準備した。次に、第二の回路部材として、厚み1.1mmのガラス基板上にインジウム錫酸化物(ITO)の回路を蒸着により形成したITO基板(表面抵抗<20Ω/□)を準備した。
(Production of circuit member connection structure)
First, as a first circuit member, an IC chip was prepared in which gold bumps having a bump area of 50 μm × 50 μm, a pitch of 100 μm, and a height of 20 μm were arranged. Next, as a second circuit member, an ITO substrate (surface resistance <20Ω / □) in which a circuit of indium tin oxide (ITO) was formed by vapor deposition on a glass substrate having a thickness of 1.1 mm was prepared.

そして、ICチップとITO基板との間に実施例1,2及び比較例1,2のフィルム状回路接続材料を介在させ、ICチップ、フィルム状回路接続材料及びITO基板を石英ガラスと加圧ヘッドとで挟み、200℃、100MPaで10秒間加熱及び加圧した。このようにして、フィルム状回路接続材料を介してICチップとITO基板とを接続した。このとき、ITO基板上にあらかじめフィルム状回路接続材料の一方の接着面を70℃、0.5MPaで5秒間加熱及び加圧して貼り付けた。その後、PETフィルムを剥離して、フィルム状回路接続材料の他方の接着面をICチップと接続した。   Then, the film-like circuit connecting materials of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 are interposed between the IC chip and the ITO substrate, and the IC chip, the film-like circuit connecting material and the ITO substrate are made of quartz glass and a pressure head. And heated and pressurized at 200 ° C. and 100 MPa for 10 seconds. In this way, the IC chip and the ITO substrate were connected via the film-like circuit connecting material. At this time, one adhesive surface of the film-like circuit connecting material was previously applied to the ITO substrate by heating and pressing at 70 ° C. and 0.5 MPa for 5 seconds. Thereafter, the PET film was peeled off, and the other adhesive surface of the film-like circuit connecting material was connected to the IC chip.

以上のようにして、回路部材の接続構造A〜Dを作製した。なお、回路部材の接続構造A〜Dは、それぞれ実施例1,2及び比較例1,2のフィルム状回路接続材料を用いて作製したものである。   As described above, circuit member connection structures A to D were produced. The circuit member connection structures A to D were produced using the film-like circuit connection materials of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, respectively.

(比重の測定)
実施例1,2及び比較例1,2のフィルム状回路接続材料各々について、被覆前の導電粒子及び被覆後の被覆粒子、それぞれ3.5ccをサンプリングし、室温、ヘリウム雰囲気中で比重計(島津製作所株式会社製、アキュピック1330−01)を用いて比重を測定し、被覆前の導電粒子の比重に対する被覆後の被覆粒子の比重(比重比)を求めた。結果を表1に示す。
(Measurement of specific gravity)
For each of the film-like circuit connecting materials of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, 3.5 cc of each of the conductive particles before coating and the coated particles after coating were sampled, and a hydrometer (Shimadzu) was obtained at room temperature in a helium atmosphere. The specific gravity was measured using Seiko Seisakusho Co., Ltd., Accupic 1330-01), and the specific gravity (specific gravity ratio) of the coated particles after coating to the specific gravity of the conductive particles before coating was determined. The results are shown in Table 1.

(対向する回路電極間の接続抵抗の測定)
回路部材の接続構造A〜Dについて、初期(接続直後)の接続抵抗と、−40℃で30分及び100℃で30分の温度サイクル槽中に500サイクル保持した後の接続抵抗を、2端子測定法を用いマルチメータで測定した。結果を表2に示す。ここで、接続抵抗とは対向する回路電極間の抵抗を意味する。
(Measurement of connection resistance between circuit electrodes facing each other)
For the circuit member connection structures A to D, the connection resistance after initial (right after connection) and the connection resistance after holding 500 cycles in a temperature cycle bath at −40 ° C. for 30 minutes and at 100 ° C. for 30 minutes is 2 terminals. It measured with the multimeter using the measuring method. The results are shown in Table 2. Here, the connection resistance means a resistance between circuit electrodes facing each other.

(隣り合う回路電極間の絶縁抵抗の測定)
回路部材の接続構造A〜Dについて、直流(DC)50Vの電圧を1分間印加した後の絶縁抵抗を、2端子測定法を用いマルチメータで測定した。結果を表2に示す。ここで、絶縁抵抗とは隣り合う回路電極間の抵抗を意味する。
(Measurement of insulation resistance between adjacent circuit electrodes)
For circuit member connection structures A to D, the insulation resistance after applying a direct current (DC) voltage of 50 V for 1 minute was measured with a multimeter using a two-terminal measurement method. The results are shown in Table 2. Here, the insulation resistance means a resistance between adjacent circuit electrodes.

Figure 0004386147
Figure 0004386147

Figure 0004386147
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実施例1,2のフィルム状回路接続材料を用いて得られた回路部材の接続構造A,Bでは、初期、温度サイクル後のいずれにおいても接続抵抗は十分低く抑えられており、絶縁抵抗も十分高くなっていた。   In the circuit member connection structures A and B obtained by using the film-like circuit connection materials of Examples 1 and 2, the connection resistance is sufficiently low both in the initial stage and after the temperature cycle, and the insulation resistance is also sufficient. It was high.

これに対し、比較例1のフィルム状回路接続材料を用いて得られた回路部材の接続構造Cでは、接続構造A,Bに比べて絶縁抵抗が低くなっていた。また、比較例2のフィルム状回路接続材料を用いて得られた回路部材の接続構造Dでは、初期、温度サイクル後のいずれにおいても、接続構造A,Bに比べて接続抵抗が高くなっていた。   In contrast, the circuit member connection structure C obtained using the film-like circuit connection material of Comparative Example 1 had a lower insulation resistance than the connection structures A and B. Moreover, in the connection structure D of the circuit member obtained using the film-form circuit connection material of the comparative example 2, the connection resistance was higher than the connection structures A and B both in the initial stage and after the temperature cycle. .

以上より、本発明の回路接続材料を用いて回路部材の接続構造を製造した場合には、得られる回路部材の接続構造において対向する回路電極間の接続抵抗を十分に低減でき、且つ、隣り合う回路電極間の絶縁性を十分に向上できることが確認された。   As described above, when a circuit member connection structure is manufactured using the circuit connection material of the present invention, the connection resistance between the circuit electrodes facing each other in the obtained circuit member connection structure can be sufficiently reduced and adjacent to each other. It was confirmed that the insulation between the circuit electrodes can be sufficiently improved.

10…回路部材の接続構造、20…回路部材(第一の回路部材)、21…回路基板(第一の回路基板)、21a…主面、22…回路電極(第一の回路電極)、24,34…電極表面層、30…回路部材(第二の回路部材)、31…回路基板(第二の回路基板)、31a…主面、32…回路電極(第二の回路電極)、35…基板表面層、50…被覆粒子、51…導電粒子、51a…表面、52…絶縁性微粒子、60…回路接続部材、61…フィルム状回路接続材料。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Connection structure of a circuit member, 20 ... Circuit member (1st circuit member), 21 ... Circuit board (1st circuit board), 21a ... Main surface, 22 ... Circuit electrode (1st circuit electrode), 24 , 34 ... electrode surface layer, 30 ... circuit member (second circuit member), 31 ... circuit board (second circuit board), 31a ... main surface, 32 ... circuit electrode (second circuit electrode), 35 ... Substrate surface layer, 50 ... coated particles, 51 ... conductive particles, 51a ... surface, 52 ... insulating fine particles, 60 ... circuit connecting member, 61 ... film-like circuit connecting material.

Claims (15)

第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、
第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、
を前記第一及び第二の回路電極が対向するように接続するためのフィルム状回路接続材料であって、
接着剤組成物及び、導電粒子の表面の一部が絶縁性微粒子により被覆された被覆粒子を含有する第一の層と、
前記第一の層の片面に設けられ、前記被覆粒子を含有せず、接着剤組成物からなる第二の層と、
を備え、
前記被覆粒子の比重は、前記導電粒子の比重の97/100〜99/100であるフィルム状回路接続材料。
A first circuit member having a plurality of first circuit electrodes formed on the main surface of the first circuit board;
A second circuit member having a plurality of second circuit electrodes formed on the main surface of the second circuit board;
A film-like circuit connecting material for connecting the first and second circuit electrodes to face each other,
An adhesive composition, and a first layer containing coated particles in which a part of the surface of the conductive particles is coated with insulating fine particles;
A second layer that is provided on one side of the first layer, does not contain the coated particles, and is made of an adhesive composition;
With
The film-like circuit connecting material, wherein the specific gravity of the coated particles is 97/100 to 99/100 of the specific gravity of the conductive particles.
前記接着剤組成物は、ラジカル重合性物質と、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤と、を含有することを特徴とする請求項1に記載のフィルム状回路接続材料。   The said adhesive composition contains a radically polymerizable substance and the hardening | curing agent which generate | occur | produces a free radical by heating, The film-form circuit connection material of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記第一の層に含まれる接着剤組成物は、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤を含有しないものであり、前記第二の層をなす接着剤組成物は、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤を含有するものである、請求項1又は2に記載のフィルム状回路接続材料。   The adhesive composition contained in the first layer does not contain a curing agent that generates free radicals upon heating, and the adhesive composition that forms the second layer generates free radicals upon heating. The film-form circuit connection material of Claim 1 or 2 which contains a hardening | curing agent. 前記絶縁性微粒子の平均粒径は、前記導電粒子の平均粒径の1/40〜1/10であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のフィルム状回路接続材料。   4. The film-like circuit connection material according to claim 1, wherein an average particle size of the insulating fine particles is 1/40 to 1/10 of an average particle size of the conductive particles. . 前記絶縁性微粒子は、ラジカル重合性物質の重合物からなる請求項1〜4のいずれか一項に記載のフィルム状回路接続材料。   The film-like circuit connecting material according to claim 1, wherein the insulating fine particles are made of a polymer of a radical polymerizable substance. フェノキシ樹脂からなるフィルム形成材を更に含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のフィルム状回路接続材料。 The film-form circuit connecting material according to any one of claims 1 to 5, further comprising a film forming material made of a phenoxy resin. 前記フェノキシ樹脂は、分子内に多環芳香族化合物に起因する分子構造を含有することを特徴とする請求項6に記載のフィルム状回路接続材料。   The said phenoxy resin contains the molecular structure resulting from a polycyclic aromatic compound in a molecule | numerator, The film-form circuit connection material of Claim 6 characterized by the above-mentioned. 前記多環芳香族化合物は、フルオレンであることを特徴とする請求項7に記載のフィルム状回路接続材料。   The film-like circuit connecting material according to claim 7, wherein the polycyclic aromatic compound is fluorene. 第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、
第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、
前記第一の回路基板の前記主面と前記第二の回路基板の前記主面との間に設けられ、前記第一及び第二の回路電極が対向するように前記第一及び第二の回路部材同士を接続する回路接続部材と、
を備えた回路部材の接続構造であって、
前記回路接続部材は、請求項1〜8のいずれか一項に記載のフィルム状回路接続材料の硬化物からなり、
前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが、前記被覆粒子を介して電気的に接続されている回路部材の接続構造。
A first circuit member having a plurality of first circuit electrodes formed on the main surface of the first circuit board;
A second circuit member having a plurality of second circuit electrodes formed on the main surface of the second circuit board;
The first and second circuits are provided between the main surface of the first circuit board and the main surface of the second circuit board so that the first and second circuit electrodes face each other. A circuit connecting member for connecting members;
A circuit member connection structure comprising:
The circuit connection member comprises a cured product of the film-like circuit connection material according to any one of claims 1 to 8,
A circuit member connection structure in which the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected via the coated particles.
隣り合う前記回路電極間に50Vの直流電圧を印加した場合に、隣り合う前記回路電極間の抵抗値が10Ω以上であることを特徴とする請求項9に記載の回路部材の接続構造。 10. The circuit member connection structure according to claim 9, wherein a resistance value between the adjacent circuit electrodes is 10 9 Ω or more when a DC voltage of 50 V is applied between the adjacent circuit electrodes. 11. 前記第一及び第二の回路部材のうち少なくとも一方がICチップであることを特徴とする請求項9又は10に記載の回路部材の接続構造。   The circuit member connection structure according to claim 9 or 10, wherein at least one of the first and second circuit members is an IC chip. 前記第一の回路電極と前記第二の回路電極との間の接続抵抗が1Ω以下であることを特徴とする請求項9〜11のいずれか一項に記載の回路部材の接続構造。   12. The circuit member connection structure according to claim 9, wherein a connection resistance between the first circuit electrode and the second circuit electrode is 1Ω or less. 前記第一及び第二の回路電極のうち少なくとも一方が、金、銀、錫、白金族の金属及びインジウム錫酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種で構成される電極表面層を有することを特徴とする請求項9〜12のいずれか一項に記載の回路部材の接続構造。   At least one of the first and second circuit electrodes has an electrode surface layer composed of at least one selected from the group consisting of gold, silver, tin, a platinum group metal, and indium tin oxide. The circuit member connection structure according to any one of claims 9 to 12. 前記第一及び第二の回路部材のうち少なくとも一方が、窒化シリコン、シリコーン化合物及びポリイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種で構成される基板表面層を有することを特徴とする請求項9〜13のいずれか一項に記載の回路部材の接続構造。   14. At least one of the first and second circuit members has a substrate surface layer composed of at least one selected from the group consisting of silicon nitride, silicone compound, and polyimide resin. The connection structure for a circuit member according to any one of the above. 第一の回路基板の主面上に複数の第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に複数の第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが対向した状態で、請求項1〜8のいずれか一項に記載のフィルム状回路接続材料を介在させる工程と、
前記フィルム状回路接続材料を加熱及び加圧により硬化させる工程と、
を備えた回路部材の接続構造の製造方法。
A first circuit member having a plurality of first circuit electrodes formed on a main surface of the first circuit board; and a second circuit member having a plurality of second circuit electrodes formed on a main surface of the second circuit board. The film-like circuit connecting material according to any one of claims 1 to 8 is interposed between the second circuit member and the first circuit electrode and the second circuit electrode facing each other. Process,
Curing the film-like circuit connecting material by heating and pressing; and
The manufacturing method of the connection structure of the circuit member provided with this.
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