JP4302343B2 - 配線パターン露光装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被露光媒体に配線パターンを露光するための配線パターン露光装置に関し、特に、電子回路の印刷配線板、いわゆるプリント基板、を製作するために配線パターンを被露光媒体に露光するための配線パターン露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特開昭６２−４４７１８号公報には、液晶パネルに配線パターンを表示させて、フォトレジストを露光するためのパターン露光装置が記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、液晶パネルは、不連続的に並べられた多数の液晶画素により構成されている。したがって、液晶パネルが表示する配線パターンは、互いに分断されながら並べられた複数の画素から形成されている。フォトレジストが、かかる配線パターンで露光されると、不連続的に硬化し、その結果、断線が生じた配線パターンが形成されてしまう。
【０００４】
そこで本発明は、断線されていない配線パターンを形成することができる配線パターン露光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、複数の画素が所定のピッチＰにて配列されて構成された画素構造を有し、所望の配線パターンに基づいて該複数の画素が選択的に駆動されることにより、入射した第１の読み出し光を空間的に変調し、該所望の配線パターンを担持した第１のパターン光を生成する電気アドレス型空間光変調器と、該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り、該第１のパターン光から該画素構造を示す信号成分を除去しつつ、該所望の配線パターンを伝達する画素構造除去手段とを備え、該画素構造除去手段は、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する光学的ローパスフィルタからなることを特徴とする配線パターン露光装置を提供している。
【０００６】
本発明によれば、電気アドレス型空間光変調器は、複数の画素が所定のピッチＰにて配列されて構成された画素構造を有している。電気アドレス型空間光変調器は、所望の配線パターンに基づいて該複数の画素が選択的に駆動されることで、入射した第１の読み出し光を空間的に変調し、該所望の配線パターンを担持した第１のパターン光を生成する。画素構造除去手段が、該第１のパターン光から該画素構造を示す信号成分を除去しつつ、該所望の配線パターンを伝達する。ここで、電気アドレス型空間光変調器の画素構造が所定のピッチＰにて配列された複数の画素からなるため、かかる画素構造を有する空間光変調器は、配線パターンを１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分にて表示する。画素構造除去手段は、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する光学的ローパスフィルタからなる。光学的ローパスフィルタが１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去することにより、第１のパターンから画素構造に起因する信号成分を除去しつつ、配線パターンを伝達することができる。
【０００７】
ここで、画素構造除去手段により画素構造が除去された第１のパターン光を、被露光媒体に伝達することが好ましい。画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達することにより、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【０００８】
もしくは、画素構造除去手段により画素構造が除去された第１のパターン光を、後段に配置された光アドレス型空間光変調器に伝達しても良い。
【０００９】
すなわち、本発明の配線パターン露光装置は、書き込み部と読みだし部とを有する光アドレス型空間光変調器を更に備えていても良い。光アドレス型空間光変調器の書き込み部は、光学的ローパスフィルタから、１／Ｐ以上の空間周波数成分が除去された第１のパターン光を受け取り、光アドレス型空間光変調器の読みだし部は、第２の読みだし光を受け取り、書き込み部に入射した第１のパターン光に応じて第２の読みだし光を空間的に変調することにより、第２のパターン光を生成する。
【００１０】
光アドレス型空間光変調器は、前記画素構造が除去された第１のパターン光により光アドレスされているので、第２の読みだし光を変調して、該画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。このように該画素構造が除去された第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００１１】
光学的ローパスフィルタは、例えば、該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り、該第１のパターン光を空間的にフーリエ変換してそのフーリエ面において該第１のパターン光を空間周波数成分に展開する第１のレンズと、該第１のレンズの該フーリエ面に設けられたアパーチャ板とを備え、該アパーチャ板には、該第１のレンズの光軸を中心に形成されたアパーチャが形成されており、該光学的ローパスフィルタは、該アパーチャ板の該アパーチャを通過した該第１のパターン光を伝達する第２のレンズを更に備え、該アパーチャは、１／（２Ｐ）以下の空間周波数を透過し１／Ｐ以上の空間周波数をカットするサイズを有していることが好ましい。
【００１２】
アパーチャのサイズを、１／Ｐ以上の空間周波数をカットしつつ、１／（２Ｐ）以下の空間周波数は透過するように設定しているので、光学的ローパスフィルタは、第１のパターン光から１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去し、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分を伝達することができる。したがって、この光学的ローパスフィルタにより、第１のパターン光から画素構造を除去することができる。
【００１３】
このように画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。また、画素構造が除去された第１のパターン光を光アドレス型空間光変調器に伝達すれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に対し、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００１４】
アパーチャは、３／（４Ｐ）以下の空間周波数を透過するサイズを有していることがより好ましい。第１のパターン光から画素構造を除去することができる。
【００１５】
もしくは、光学的ローパスフィルタは、該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り該第１のパターン光を結像面に結像する結像レンズからなり、該結像レンズは、該電気アドレス型空間光変調器側の開口数ＮＡ Ｌ を有し、該開口数ＮＡ Ｌ は、前記第１のパターン光の波長λに対して、ＮＡ Ｌ ／λ＜１／Ｐの条件を満足するのでも良い。結像レンズが伝達できる最大空間周波数ＮＡ Ｌ ／λが１／Ｐより低いため、当該結像レンズは、第１のパターン光から１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する。したがって、この結像レンズにより、第１のパターン光から画素構造を除去することができる。
【００１６】
開口数ＮＡ Ｌ は、前記第１の読み出し光の波長λに対して、１／（２Ｐ）＜ＮＡ Ｌ ／λ＜１／Ｐの条件を満足することが、より好ましい。
【００１７】
結像レンズが伝達できる最大空間周波数ＮＡ Ｌ ／λが１／（２Ｐ）より高く１／Ｐより低いため、当該結像レンズは、第１のパターン光から１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去し、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分を伝達する。したがって、結像レンズは、第１のパターン光を、画素構造を除去しつつ、配線パターンを劣化させることなく、伝達することができる。
【００１８】
この場合、被露光媒体が前記結像レンズの前記結像面に配置されることが好ましい。
【００１９】
このように画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００２０】
もしくは、本発明の配線パターン露光装置は、書き込み部と読みだし部とを有する光アドレス型空間光変調器を更に備え、該光アドレス型空間光変調器は、該書き込み部が前記結像レンズの前記結像面に位置するように配置され、該書き込み部が記結像レンズから前記第１のパターン光を受け取り、該光アドレス型空間光変調器の該読みだし部は、第２の読みだし光を受け取り、該書き込み部に入射した該第１のパターン光に応じて該第２の読みだし光を空間的に変調することにより、第２のパターン光を生成するように構成しても良い。
【００２１】
画素構造が除去された第１のパターン光を光アドレス型空間光変調器に伝達すれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に対し、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００２２】
また、該電気アドレス型空間光変調器が該画素構造により生成された該第１のパターン光を伝達する光伝達部を備え、該光伝達部が該第１のパターン光の波長に対する屈折率ｎ Ｇ と厚さｄとを有する場合には、前記光学的ローパスフィルタは、該電気アドレス型空間光変調器の該光伝達部に接続された該第１のパターン光を伝達するためのファイバー光学プレートからなり、該ファイバー光学プレートの開口数ＮＡ ＦＯＰ は、前記ピッチＰと該屈折率ｎ Ｇ と該厚さｄとに対して、ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄ＜ＮＡ ＦＯＰ の条件を満足することが好ましい。ファイバー光学プレートが伝達できる最大空間周波数ｎ Ｇ ／（ｄ・ＮＡ ＦＯＰ ）が１／Ｐより低くなるため、ファイバー光学プレートは、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する。
【００２３】
該ファイバー光学プレートの開口数ＮＡ ＦＯＰ は、前記ピッチＰと該屈折率ｎ Ｇ と該厚さｄとに対して、ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄ＜ＮＡ ＦＯＰ ＜２ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄの条件を満足することが、より好ましい。ファイバー光学プレートが伝達できる最大空間周波数ｎ Ｇ ／（ｄ・ＮＡ ＦＯＰ ）が１／（２Ｐ）より高く１／Ｐより低くなるため、ファイバー光学プレートは、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去しつつ、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分を伝達する。したがって、ファイバー光学プレートは、第１のパターン光を、配線パターンを劣化させることなく伝達することができる。
【００２４】
例えば、光学的ローパスフィルタの後段に光アドレス型空間光変調器を設ける場合、光学的ローパスフィルタを、電気アドレス型空間光変調器と光アドレス型空間光変調器とに直接接続されたファイバー光学プレートから構成することができる。電気アドレス型空間光変調器が、所定のピッチＰにて配列された複数の画素からなる画素構造を有しており、しかも、該画素構造により生成された第１のパターン光を一様な屈折率ｎ Ｇ と厚さｄとを有する光伝達部を介して伝達する場合において、該ファイバー光学プレートを該光伝達部に直接接続する場合には、該ファイバー光学プレートの開口数ＮＡ ＦＯＰ は、ピッチＰと屈折率ｎ Ｇ と厚さｄとに対して、ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄ＜ＮＡ ＦＯＰ ＜２ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄの条件を満足することが好ましい。
【００２５】
ファイバー光学プレートが伝達できる最大空間周波数ｎ Ｇ ／（ｄ・ＮＡ ＦＯＰ ）が１／（２Ｐ）より高く１／Ｐより低くなるため、ファイバー光学プレートは、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去しつつ、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分を伝達する。したがって、ファイバー光学プレートの後段に配置された光アドレス型空間光変調器には、第１のパターン光が、画素構造の信号成分が除去された状態で伝達される。したがって、光アドレス型空間光変調器は、画素構造の信号成分が除去された第２のパターン光を生成する。かかる第２のパターン光を被露光媒体に露光すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００２６】
また、光学的ローパスフィルタは、位相板からなるのでも良い。位相板は、第１のパターン光を構成する各画素からの光を受け取り、０次回折光を生成すると共に、その両側に一対の１次回折光を生成する。これら一対の１次回折光が当該画素の両側の隙間を埋めることにより、画素構造を除去する。
【００２７】
このように画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に露光すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。また、画素構造が除去された第１のパターン光を光アドレス型空間光変調器に伝達すれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に対し、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００２８】
もしくは、光学的ローパスフィルタは、複屈折板、たとえば、水晶板でもよい。複屈折板により、第１のパターン光を構成する各画素からの光を拡散し、当該画素の周りの隙間を埋めることで、画素構造を除去することができる。
【００２９】
このように画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に露光すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。また、画素構造が除去された第１のパターン光を光アドレス型空間光変調器に伝達すれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に対し、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００３０】
特に、光アドレス型空間光変調器は、平行配向液晶空間光変調器（以下、ＰＡＬ−ＳＬＭ（Parallel-aligned nematic liquid crystal spatial light modulator）という）からなることが好ましい。
【００３１】
ここで、画素構造除去手段が画素構造を完全には除去できず、第１のパターン光のうち画素からの部分と画素と画素との間の隙間からの部分とでその光強度にわずかに差が残ってしまうことが考えられる。しかしながら、ＰＡＬ−ＳＬＭは、光アドレスされる光強度に対しｌｏｇ特性を有しているため、第１のパターン光におけるこのわずかな光強度差を除去して第２の読みだし光を変調することができる。したがって、画素からの部分と画素と画素との間の隙間からの部分とでその光強度の差を略完全に除去した、すなわち、画素構造が略完全に除去された第２のパターン光を生成することができる。かかる第２のパターン光を被露光媒体に露光すれば、配線パターンを、略完全に断線していない状態で、露光することができる。
【００３２】
また、本発明は、複数の画素が配列されて構成された画素構造を有し、所望の配線パターンに基づいて該複数の画素が選択的に駆動されることにより、入射した第１の読み出し光を空間的に変調し、該所望の配線パターンを担持した第１のパターン光を生成する電気アドレス型空間光変調器と、該第１のパターン光から該画素構造を示す信号成分を除去しつつ、該所望の配線パターンを伝達する画素構造除去手段と、所定の配線パターンのデータを保持するデータ保持手段と、該所定の配線パターンのデータに対し所望の割合にて拡大・縮小演算を施すことで前記所望の配線パターンを生成する拡大・縮小演算手段と、該拡大・縮小演算手段にて生成した該所望の配線パターンに基づいて前記電気アドレス型空間光変調器の複数の画素を選択的に駆動するための画像信号を生成する制御手段とを備え、前記データ保持手段は、積層回路基板を構成する複数の回路基板を作成するための複数の所定の配線パターンのデータを保持しており、更に、既に作成された第ｉ（ここで、ｉは１以上の自然数）層目の回路基板の歪み状態の計測結果を入力する入力手段を備え、前記拡大・縮小演算手段は、当該入力された計測結果に基づいて、第（ｉ＋１）層目の回路基板用の配線パターンを拡大または縮小するための拡大・縮小率を決定し、該決定した拡大・縮小率にて、第（ｉ＋１）層目の回路基板用の配線パターンのデータに対し拡大・縮小演算を施し、第（ｉ＋１）層目用の所望の配線パターンを生成することを特徴とする配線パターン露光装置を提供している。かかる構成によれば、たとえ、第ｉ層目の回路基板に歪みが生じていたとしても、第（ｉ＋１）層目用の回路基板作成用基板上に、第（ｉ＋１）層目の配線パターンを第ｉ層目の回路基板の配線パターンと適合した状態で、露光することができる。したがって、積層回路基板を、その連続する上下の層の間で配線パターンにずれが生じないように、作成することができる。
【００３３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態による配線パターン露光装置について図に基づき説明する。
【００３４】
（第１の実施の形態）
まず、本発明の第１の実施の形態による配線パターン露光装置１について図１〜図１０に基づき説明する。
【００３５】
本実施の形態の配線パターン露光装置１は、図１に示すように、回路基板作成用基板Ｂに対し所望の配線パターンを露光するための装置である。ここで、回路基板作成用基板Ｂは、プラスチック基板Ｐと、プラスチック基板Ｐ上に形成された銅箔Ｃと、銅箔Ｃ上に形成された感光材Ｓ（例えば、フォトレジスト）とからなる。
【００３６】
配線パターン露光装置１は、図１に示すように、書き込み光源１０と、コリメートレンズ２０と、液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤという）３０と、結像レンズ４０と、制御装置５０とからなる。
【００３７】
書き込み光源１０は、一様な強度分布を有する書き込み光（第１の読み出し光）を生成するためのものである。書き込み光源１０は、例えば、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザ（第２高調波発生モジュールを備えたＹＡＧレーザ）で構成されている。
【００３８】
コリメートレンズ２０は、書き込み光源１０からの書き込み光をコリメートして平行光を生成するためのものである。
【００３９】
ＬＣＤ３０は、所望のパターンにて電気アドレス駆動されることにより、コリメートレンズ２０からの書き込み光を強度変調して、当該所望のパターンの強度分布を有する強度変調光（第１のパターン光）を生成するためのものである。ＬＣＤ３０は、透過型の電気アドレス型強度変調型空間光変調器であり、光入射層３０ａ、光伝達層３０ｂ、及び、光入射層３０ａと光伝達層３０ｂとの間に設けられた光変調層３０ｃとから構成されている。
【００４０】
結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０で生成された強度変調光を感光材Ｓ上に結像するためのものである。すなわち、回路基板作成用基板Ｂが、感光材Ｓが結像レンズ４０の結像面に位置するように、配置されている。
【００４１】
制御装置５０は、パーソナルコンピュータからなり、所望の配線パターンのデータに基づいて、ＬＣＤ３０を駆動することにより、読みだし光に該所望の配線パターンを担持させるためのものである。
【００４２】
以下、図２を参照して、ＬＣＤ３０の構造の具体例を説明する。
【００４３】
光入射層３０ａは、偏光板３１と透明ガラス基板３２とから構成されている。光伝達層３０ｂも、他の透明ガラス基板３８と偏光板３９とから構成されている。光変調層３０ｃは、透明ガラス基板３２上に形成されたシリコン単結晶フィルム３３と、シリコン単結晶フィルム３３上に形成された画素構造３４と、透明ガラス基板３８上に形成された対向電極３７と、対向電極３７と画素構造３４との間に形成されたツイストネマチック液晶層３６とから構成されている。
【００４４】
画素構造３４は、シリコン単結晶フィルム３３上に配列された複数の透明画素電極３５ａから形成されている。これら複数の透明画素電極３５ａは、所定のピッチＰにて２次元マトリックス状に配列されている。隣り合う透明画素電極３５ａの間には、薄膜トランジスタＴＦＴからなるスイッチング素子３５ｂが設けられており、遮光マスクにより覆われている。各透明画素電極３５ａが書き込み光に対する開口部として機能し、各スイッチング素子３５ｂが書き込み光を遮蔽する光遮蔽部として機能する。こうして、開口部３５ａが所定のピッチＰで配列した画素構造３４が形成されている。
【００４５】
かかる構成を有するＬＣＤ３０は、図１に示すように、光入射層３０ａがコリメートレンズ２０に対向し、光伝達層３０ｂが結像レンズ４０に対向するように配置されている。光変調層３０ｃの透明画素電極３５ａが、制御装置５０の後述する制御部５０ｄに接続されており、所望の配線パターンにて電気アドレス駆動される。より詳しくは、制御部５０ｄは、所望の配線パターンを示す画像信号により所望のスイッチング素子３５ｂを駆動することにより、対応する画素電極３５ａを選択的に駆動する。液晶層３６では、液晶分子の配向状態が、選択駆動された画素電極３５ａと対向電極４７との間の領域にて変化する。コリメートレンズ２０からの書き込み光が偏光板３１を介して液晶層３６に入射すると、その偏光状態が変化し、偏光板３９を介して出射することで、所望の配線パターンの強度分布を担持した強度変調光を生成する。このように、ＬＣＤ３０は、所望の配線パターンの強度分布を有する強度変調光を生成する。
【００４６】
ここで、透明画素電極３５ａは所定のピッチＰにて配列されているため、ＬＣＤ３０によって生成可能な信号画像の最大空間周波数（ＬＣＤ３０の解像度）、すなわち、隣り合う透明画素電極３５ａに交互に白黒を表示した場合の空間周波数は、１／（２Ｐ）である。一方、透明画素電極３５ａ自体に起因する信号成分の空間周波数は１／Ｐであり、上記信号画像最大空間周波数（１／（２Ｐ））の２倍の大きさである。
【００４７】
結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０から出力された強度変調光を感光材Ｓに結像する。ここで、ＬＣＤ３０は、配線パターンを、選択された複数の透明画素電極３５ａによって、図３の例に示すように表示する。なお、図３は、ＬＣＤ３０の表示画像をＣＣＤ撮像装置にて撮像した撮像図である。ここで、透明画素電極３５ａは遮光層で覆われたスイッチ素子３５ｂにて互いに離隔して配置されている。このため、ＬＣＤ３０は、互いに分断されながら並べられた複数の画素によって、配線パターンを表示している。このため、表示された配線パターンは、不連続にサンプリングされた画像として形成されている。したがって、結像レンズ４０がこの配線パターンをこのまま感光材Ｓに結像したのでは、配線パターンは細切れに断線された状態で感光材Ｓに露光されてしまう。
【００４８】
ここで、平行光が結像レンズ４０に入射した場合に結像レンズ４０が伝達できる最大空間周波数は、結像レンズの開口数と光の波長とにより決定される。すなわち、結像レンズ４０が伝達できる最大空間周波数はＮＡＬ／λで表される。ここで、ＮＡＬは、結像レンズ４０のＬＣＤ３０側の開口数ＮＡＬであり、λは書き込み光源１０からの書き込み光の波長である。したがって、最大空間周波数ＮＡＬ／λを、ＬＣＤ３０の画素ピッチＰに対して、ＮＡＬ／λ＜１／Ｐの関係を有するように選択すれば、結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する空間周波数１／Ｐの信号成分を、結像面である感光材Ｓに伝達せずに消去する光学的ローパスフィルタとして機能する。
【００４９】
特に、開口数ＮＡＬを、１／（２Ｐ）＜ＮＡＬ／λ＜１／Ｐの関係を満足するように設定すれば、結像レンズ４０は、画素構造を除去しつつ、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンの空間周波数成分の全範囲（すなわち、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分）について劣化を生じることなく、感光材Ｓに伝達することができる。したがって、結像面である感光材Ｓ上には、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターン情報が伝達され、しかも、画素構造３４に起因する情報が除去されている像を得ることができる。
【００５０】
本実施の形態では、結像レンズ４０として、その開口数が１／（２Ｐ）＜ＮＡＬ／λ＜１／Ｐの関係を満足しているものを配置している。したがって、結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０に表示されている図３に示す配線パターンから画素構造３４に起因した信号成分を除去し、配線パターンを感光材Ｓに対し図４に示すように結像する。したがって、感光材Ｓには、配線パターンが断線されていない状態で露光される。なお、図４は、図１の配線パターン露光装置において、回路基板作成用基板Ｂの位置に、回路基板作成用基板Ｂの代わりにＣＣＤ撮像装置を配置して撮像した撮像図である。
【００５１】
制御装置５０は、図１に示すように、メモリ部５０ａと、入力部５０ｂと、拡大・縮小演算部５０ｃと、制御部５０ｄとからなる。
【００５２】
メモリ部５０ａは、所定の配線パターンのデータを予め格納している。
【００５３】
入力部５０ｂは、キーボードやマウス等からなり、ユーザが必要な指示やデータを入力するためのものである。
【００５４】
拡大・縮小演算部５０ｃは、所定の配線パターンのデータをメモリ部５０ａから読み出し、当該所定の配線パターンを所望の拡大・縮小率にて拡大または縮小する演算処理を行うためのものである。拡大・縮小演算部５０ｃは、こうして生成した所望サイズの配線パターンデータを、制御部５０ｄに出力する。
【００５５】
ここで、所望の拡大・縮小率の値は、メモリ部５０ａに予め設定されていてもよく、ユーザが入力部５０ｂに入力しても良く、もしくは、拡大・縮小演算部５０ｃが演算により求めても良い。なお、所望の拡大・縮小率の値が１である場合には、拡大・縮小演算部５０ｃは、拡大・縮小演算を行うことなく、メモリ部５０ａから読み出した配線パターンのデータをそのまま制御部５０ｄに出力する。
【００５６】
制御部５０ｄは、拡大・縮小演算部５０ｃから受け取った配線パターンデータに基づいて画像信号を生成し、当該画像信号に基づいてＬＣＤ３０のスイッチング素子３５ｂ（図２参照）を選択的に駆動するためのものである。こうして、ＬＣＤ３０に対し、所望のサイズの配線パターンを担持した強度変調パターン光を生成させる。
【００５７】
以下、上記構成を有する配線パターン露光装置１の動作について説明する。
【００５８】
ユーザは、書き込み光源１０をオンし、入力部５０ａに対し露光動作の開始を指示する。かかる指示に従い、拡大・縮小演算部５０ｃは、所定の配線パターンのデータをメモリ部５０ａから読み出し、当該配線パターンを所望の拡大・縮小率にて拡大・縮小する演算処理を行い、演算結果の配線パターンデータを制御部５０ｄに出力する。制御部５０ｄは、拡大・縮小演算部５０ｃから受け取った配線パターンデータに基づいて画像信号を生成し、当該画像信号に基づいてＬＣＤ３０のスイッチング素子３５ｂを選択的に駆動する。この結果、ＬＣＤ３０は、図３に示すように、所定の配線パターンを、所望のサイズにて表示する。
【００５９】
結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンから画素構造３４に起因した信号成分を除去し、配線パターンを、図４に示すように、感光材Ｓに結像する。したがって、感光材Ｓには、所定の配線パターンが所望のサイズにて、しかも、断線されていない状態で露光される。こうして、配線パターンが、図５の（Ａ）に示すように、感光材Ｓに照射される。感光材Ｓは、当該配線パターンの位置で硬化する。
【００６０】
露光後の回路基板作成用基板Ｂは以下のように処理され、回路基板Ｍが作成される。
【００６１】
まず、図５の（Ｂ）に示すように、感光材Ｓのうち硬化していない部分が所定の溶剤にて溶かされ除去される。この結果、硬化していない感光材Ｓの部分の下の銅箔Ｃが露出する。次に、露出した銅箔Ｃが、所定の溶剤により溶かされ除去される。最後に、硬化して残った感光材Ｓが、所定の溶剤で除去される。この結果、図５の（Ｃ）に示すように、配線パターンを有する銅箔Ｃのみがプラスチック基板Ｐ上に残された回路基板Ｍが完成する。こうして作成された回路基板Ｍには、所定の配線パターンＣが、所望のサイズにて、かつ、断線されていない状態で形成されている。
【００６２】
本実施の形態の配線パターン露光装置１は、更に、複数枚の回路基板Ｍが積層された積層回路基板Ｎを作成するのにも使用することができる。ただし、この場合には、メモリ部５０ａには、積層基板Ｎを構成する複数の回路基板Ｍ用の複数の配線パターンのデータが予め格納されている。
【００６３】
なお、以下の説明では、２枚の回路基板Ｍが積層された２層構造の積層回路基板Ｎを作成する場合について、説明する。したがって、メモリ部５０ａには、第１層目用の所定の配線パターンのデータと第２層目用の所定の配線パターンのデータとが、予め格納されている。
【００６４】
まず、積層回路基板Ｎを作成する方法の基本原理を、図５を参照して、説明する。
【００６５】
まず、配線パターン露光装置１に、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂを、図１に示すように配置する。第１層目用の配線パターンを、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂに露光する（図５（Ａ））。露光された第１層目用の回路基板作成用基板Ｂから不要な感光材Ｓと銅箔Ｃとを除去して、第１層目の回路基板Ｍを作成する（図５（Ｂ）、（Ｃ））。次に、図５（Ｄ）に示すように、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂを第１層目の回路基板Ｍの上に積層し、再び、配線パターン露光装置１に配置する。なお、図５（Ｄ）の積層基板は、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂの感光材Ｓが結像レンズ４０の結像面に位置するように、配置される。そして、第２層目用の配線パターンを、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂに露光する。その後、図５（Ｅ）に示すように、不要な感光材Ｓと銅箔Ｃとを第２層目用の回路基板作成用基板Ｂから除去し、第２層目の回路基板Ｍを作成する。この結果、２枚の回路基板Ｍが積層された積層回路基板Ｎが完成する。
【００６６】
しかし、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂが第１層目用の配線パターンにて露光される際（図５（Ａ））、プラスチック基板Ｐが、レーザ光の熱等の影響により、膨張または収縮する可能性がある。そのため、本実施の形態では、図６に示すように、積層回路基板Ｎを作成するようにしている。
【００６７】
以下、本実施の形態による積層基板作成処理について、図６を参照して、説明する。
【００６８】
ここで、第１層目用の配線パターンは、第２層目用の配線パターンと電気的に接続されるための導通点を備えている。同様に、第２層目用の配線パターンも、第１層目用の配線パターンと電気的に接続されるための導通点を備えている。また、第１及び第２層目用の配線パターンは、互いに同一の拡大・縮小率（この場合、１であり、以下、「所定倍率」という）ｋにて拡大・縮小されて露光されると、その導通点が互いに同一の所定の位置に露光されるように作成されている。このため、メモリ部５０ａには、第１，第２層目用の所望の拡大・縮小率として、該所定倍率ｋ（この場合、１）が、予め設定されている。
【００６９】
まず、配線パターン露光装置１に、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂが、図１に示すように配置される（ステップＳ１０）。
【００７０】
次に、拡大・縮小演算部５０ｃは、第１層目用の配線パターンをメモリ部５０ａから読み出し、これに、所定倍率ｋ（この場合、１）による拡大・縮小演算を施すことで、第１層目用の配線パターンを拡大・縮小し、得られた配線パターンを制御部５０ｄに出力する（ステップＳ２０）。なお、この例では、所定倍率ｋは１であるため、拡大・縮小演算部５０ｃは、読み出した第１層目用の配線パターンをそのまま制御部５０ｄに出力する。
【００７１】
次に、制御部５０ｄは、受け取った配線パターンに基づいて画像信号を生成し、ＬＣＤ３０を駆動して、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂに対し露光動作を行う（ステップＳ３０、図５（Ａ））。この結果、第１層目の回路基板作成用基板Ｂに、所定倍率ｋ（＝１）にて拡大・縮小された第１層目用の配線パターンが露光される。露光された第１層目用の回路基板作成用基板Ｂから不要な感光材Ｓと銅箔Ｃとが除去されて、第１層目の回路基板Ｍが作成される（図５（Ｂ）、（Ｃ））。
【００７２】
ここで、ステップＳ３０の工程中、第１層目の回路基板Ｍが、図７の（Ａ）に示すように、膨張も収縮もしなかった場合には、第１層目用の配線パターンは所望のサイズを維持し、そのため、導通点も所定の位置に維持される。したがって、第２層目用の配線パターンを、所定倍率ｋ（この場合、１）にて拡大・縮小して第２層目用の回路基板作成用基板Ｂ上に露光すれば、図５（Ｄ）及び図７（Ａ）に示すように、第１層目の導通点の位置と第２層目の導通点の位置とが正確に合致することがわかる。
【００７３】
一方、第１層目の回路基板Ｍが、例えば図７の（Ｂ）に示すように、全体的に収縮してしまった場合には、導通点が、所定の位置からずれてしまう。かかる場合に、第２層目用の配線パターンを、単に、所定倍率ｋ（この場合、１）にて拡大・縮小して露光したのでは、第１層目の導通点の位置と第２層目の導通点の位置とが、ずれてしまう。
【００７４】
そこで、第１層目の回路基板Ｍが作成されると、ユーザは、第１層目の回路基板Ｍの歪みの状態を計測し、その計測結果を入力部５０ｂに入力する（Ｓ４０）。
【００７５】
より詳しくは、予め、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂのプラスチック基板Ｐに、複数の基準点（例えば、４隅の点）をマーキングしておく。ここで、これら基準点は、プラスチック基板Ｐが膨張や収縮していない元の状態では、所定の基準位置に位置している。なお、当該所定の基準位置を示す基準データを、メモリ部５０ａに予め格納しておく。ユーザは、第１層目の回路基板Ｍ作成後、当該回路基板Ｍ上の基準点の位置を計測し、その計測結果を入力部５０ｂに入力する。
【００７６】
ユーザは、その後、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂを、図５（Ｄ）のように第１層目の回路基板Ｍ上に積層し、その状態で、配線パターン露光装置１に配置する（ステップＳ５０）。
【００７７】
次に、拡大・縮小演算部５０ｃは、入力された計測結果に基づいて、第１層目の回路基板Ｍの膨張・収縮率α１を求める（Ｓ６０）。より詳しくは、拡大・縮小演算部５０ｃは、各基準点の計測位置を、メモリ部５０ａに格納されている基準データと比較する。すなわち、いずれかの基準点の計測位置が所定の基準位置よりずれているか否かを判断する。いずれかの基準点の計測位置がある割合でずれていれば、第１層目の回路基板Ｍが、対応する割合で膨張または収縮していることがわかる。そこで、拡大・縮小演算部５０ｃは、この割合を、膨張・収縮割合α１として決定する。
【００７８】
拡大・縮小演算部５０ｃは、求めた膨張・収縮率α１を所定倍率ｋ（この例では１）に掛け算して、第２層目の拡大・縮小率β２（＝α１ｘｋ）を演算する（Ｓ７０）。
【００７９】
なお、全基準点の計測位置が所定の基準位置に合致している場合には、第１層目の回路基板Ｍは膨張も収縮もしていないので、膨張・収縮割合α１が１と決定される。したがって、膨張・収縮割合α１（この場合、１）が所定倍率ｋ（この場合、１）に掛け算され、第２層目用の配線パターンの拡大・縮小率β２（＝α１ｘｋ＝１）が求められる。
【００８０】
次に、拡大・縮小演算部５０ｃは、第２層目用の配線パターンに、求めた拡大・縮小率β２による拡大・縮小演算を施して、得られた配線パターンを制御部５０ｄに出力する（Ｓ８０）。制御部５０ｄは、受け取った配線パターンに基づいて画像信号を生成し、ＬＣＤ３０を駆動して第２層目用の回路基板作成用基板Ｂに対し露光を行う（Ｓ９０、図５（Ｄ））。この結果、第２層目の回路基板作成用基板Ｂには、第１層目の回路基板Ｍの膨張・収縮割合α１に対応した割合β２（＝α１ｘｋ）にて拡大・縮小された配線パターンが露光される。したがって、第２層目の回路基板作成用基板Ｂに露光される導通点の位置は、第１層目の回路基板Ｍ上の導通点の位置に正確に合致する。
【００８１】
その後、不要な感光材Ｓと銅箔Ｃとが第２層目用の回路基板作成用基板Ｂから除去され（図５（Ｅ））、第２層目の回路基板Ｍが作成され、積層回路基板Ｎが完成する。こうして、積層基板作成処理が終了する。
【００８２】
例えば、第１層目の回路基板Ｍが、その露光工程（Ｓ３０，図５（Ａ））の結果、図７の（Ａ）に示すように、例えば、３／４倍収縮したとする。その場合には、拡大・縮小演算部５０ｃは、入力された計測結果と基準データとの比較結果に基づき、第１層目の収縮割合α１を３／４と決定する。拡大・縮小演算部５０ｃは、所定倍率ｋ（＝１）に当該収縮割合α１（＝３／４）を掛け算して、得られた値α１ｘｋ（＝３／４）を、第２層目用の配線パターン用の縮小率β２として設定する。拡大・縮小演算部５０ｃは、第２層目用の配線パターンを、設定した縮小率β２（＝３／４）にて縮小した後、制御部５０ｄに出力する。この結果、第２層目の回路基板作成用基板Ｂには、第１層目の回路基板Ｍの収縮割合α１（＝３／４）に等しい割合β２（＝３／４）にて縮小された配線パターンが露光される。したがって、第２層目の回路基板作成用基板Ｂに露光される導通点の位置が、第１層目の回路基板Ｍ上の導通点の位置に合致することになる。
【００８３】
なお、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂが露光される（図５（Ｄ））際にも、第２層目用のプラスチック基板Ｐが膨張または収縮する可能性がある。しかしながら、かかる露光の際には、第２層目用のプラスチック基板Ｐと第１層目のプラスチック基板Ｐとが同一の割合で膨張または収縮すると考えられる。したがって、第１層目の膨張・収縮割合を第２層目の露光を行う前に計測し、その割合と同一の拡大・縮小割合で第２層目の配線パターンを拡大・縮小して第２層目の露光を行えばよい。たとえ、第１，２層目のプラスチック基板Ｐが膨張または収縮しても、両者は、同一の割合で、すなわち、その導通点の位置を合致させた状態を維持したまま膨張または収縮することになるからである。
【００８４】
また、プラスチック基板Ｐは、一般には、全体が一定の割合で膨張・収縮するのではなく、位置によって膨張・収縮のしかたが異なる。そこで、第１層目の回路基板Ｍを複数の領域に分割して考え、各領域の膨張・収縮の具合を計測して第１層目の回路基板Ｍの歪み具合を把握するようにすれば、第２層目の導通点を第１層目の導通点に対しより精度良く合致させることができる。
【００８５】
具体的には、第１層目のプラスチック基板Ｐの複数の領域のそれぞれに対し、複数の基準点（例えば、４隅の点）をマーキングしておく。各領域は、膨張・収縮していない場合、対応する基準点が所定の基準位置に位置するようになっている。この所定の基準位置を示す基準データをメモリ部５０ａに予め格納しておく。また、第２層目用の配線パターンを、対応する領域毎に複数の配線パターンに分割し、各配線パターンのデータをメモリ部５０ａに予め格納しておく。ユーザは、第１層目の回路基板Ｍ作成後、各領域の基準点の位置を計測し、その計測結果を入力部５０ｂに入力する（Ｓ４０）。拡大・縮小演算部５０ｃは、Ｓ６０にて、各領域について、メモリ部５０ａに格納されている基準データと入力結果とを比較して、当該領域の膨張・縮小割合を求める。拡大・縮小演算部５０ｃは、当該膨張・縮小割合を所定倍率に掛け算して、第２層目用の対応する領域のパターンの拡大・縮小率を決定する（Ｓ７０）。ただし、Ｓ７０において各領域のパターンに対する拡大・縮小率を決定するにあたっては、隣り合う領域のパターンが、拡大・縮小後も、互いに正しく導通し回路として動作するような値に決定する。こうして決定された拡大・縮小率に基づき、各領域用のパターンを拡大・縮小する（Ｓ８０）。そして、拡大・縮小された各領域用のパターンを、隣りの領域用のパターンと導通するように位置決めしながら、順番に、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂに露光する（Ｓ９０）。
【００８６】
更に、本実施の形態の配線パターン露光装置１によれば、３枚以上の任意の枚数の回路基板Ｍを積層して積層回路基板Ｎを作成することもできる。なお、各層用の配線パターンは、上下に隣あう層の配線パターンと導通する導通点を備えている。また、各層用の配線パターンは、同一の所定倍率ｋ（例えば、１）にて拡大・縮小されると、その導通点が、隣り合う層の導通点の位置と合致するように、作成され、メモリ部５０ａに格納されている。
【００８７】
この場合には、２層目までを、図６に示す方法で作成する。第３層目以降の各層（以下、第（ｉ＋１）（ここで、ｉは２以上の自然数）層目という）については、図６のＳ４０〜Ｓ９０の第２層目に対する処理を第（ｉ＋１）層目に対して行えば良い。
【００８８】
より詳しくは、ユーザは、第ｉ層目の回路基板Ｍを作成すると、該第ｉ層目の回路基板Ｍの歪みの状態を計測し、その計測結果を入力部５０ｂに入力する（Ｓ４０）。そして、第（ｉ＋１）層目用の回路基板作成用基板Ｂを第ｉ層目の回路基板Ｍ上に積層し、配線パターン露光装置１に設置する（Ｓ５０）。拡大・縮小演算部５０ｃは、第ｉ層目の回路基板の膨張・収縮割合αｉを求める（Ｓ６０）。なお、Ｓ７０では、拡大・縮小演算部５０ｃは、この膨張・収縮割合αｉを、第１〜第（ｉ−１）層目の回路基板Ｍの膨張・収縮割合α１〜αｉ−１と共に、所定倍率ｋに掛け算することで、第（ｉ＋１）層目用の拡大・縮小率βｉ＋１を決定する。すなわち、数式βｉ＋１＝α１ｘα２ｘ・・・ｘαｉ−１ｘαｉｘｋを演算する。拡大・縮小演算部５０ｃは、第（ｉ＋１）層目用の配線パターンを、決定した拡大・縮小率βｉ＋１にて拡大または縮小する（Ｓ８０）。
【００８９】
具体的には、まず、第１層目用の配線パターンを所定倍率ｋにて拡大・縮小して第１層目用の回路基板作成用基板Ｂに露光し第１層目の回路基板Ｍを作成する。ここで、第１層目の回路基板Ｍが膨張・収縮割合α１にて膨張・収縮していたとする。この場合には、第２層目用の配線パターンを、拡大・縮小率β２（＝膨張・収縮割合α１ｘ所定倍率ｋ）にて拡大・縮小して、第２層目用の回路基板作成基板Ｂに露光する。さらに、第２層目の回路基板Ｍが、その露光工程中、膨張・収縮割合α２にて膨張・収縮したとする。その場合には、第３層目用の配線パターンを、拡大・縮小率β３（＝第１層目の膨張・収縮割合α１ｘ第２層目の膨張・収縮率α２ｘ所定倍率ｋ）にて拡大または縮小する。さらに、第３層目の回路基板Ｍが、その露光工程中、膨張・収縮割合α３にて膨張・収縮したとする。その場合には、第４層目用の配線パターンを、拡大・縮小率β４（＝第１層目の膨張・収縮割合α１ｘ第２層目の膨張・収縮割合α２ｘ第３層目の膨張・収縮割合α３ｘ所定倍率ｋ）にて拡大または縮小する。このように、拡大・縮小演算部５０ｃは、第３層目以上の各層（第（ｉ＋１）層（ｉは２以上の自然数））に対する露光を行うにあたり、それまでに形成された層の膨張・収縮割合α１〜αｉの積と所定倍率ｋとの積に基づいて拡大・縮小倍率βｉ＋１を決定し、当該第（ｉ＋１）層用のパターンを整形することにより、連続する上下の層の間で配線パターンにずれが生じることを防止する。
【００９０】
なお、上記説明では、各層用の配線パターンは、互いに等しい所定倍率ｋ（例えば、１）にて拡大・縮小されて露光されるとその導通点が合致するように作成されていた。しかしながら、互いに異なる所定倍率にて拡大・縮小されて露光されるとその導通点が合致するように作成されていても良い。この場合、第（ｉ＋１）層目用の所定倍率をｋｉ＋１とすると、第（ｉ＋１）層目用の拡大・縮小率βｉ＋１は、第１〜ｉ層目の回路基板の膨張・収縮割合α１〜αｉの積と、第（ｉ＋１）層目用の所定倍率ｋｉ＋１とを掛け算して求めれば良い。すなわち、数式βｉ＋１＝α１ｘα２ｘ・・・ｘαｉｘｋｉ＋１を演算すれば良い。かかる拡大・縮小率βｉ＋１にて第（ｉ＋１）層目用のパターンを拡大・縮小すれば、第（ｉ＋１）層目用の配線パターン上の導通点の位置を、第ｉ層目の回路基板上の配線パターン上の導通点の位置に合致させることができる。
【００９１】
以下、本実施の形態の変更例について説明する。
【００９２】
（第１の変更例）
本変更例では、結像レンズ４０の代わりに、図８に示すような光学的ローパスフィルタ６０を配置する。
【００９３】
光学的ローパスフィルタ６０は、例えば、第１のレンズ６２と、第２のレンズ６４と、第１のレンズ６２のフーリエ面Ｆに設けられたアパーチャ板６６とからなる。アパーチャ板６６には、第１のレンズ６２の光軸を中心に形成された所定のサイズのアパーチャ６６ａが形成されている。
【００９４】
かかる構成の光学的ローパスフィルタ６０によれば、コリメートレンズ２０からの平行光がＬＣＤ３０を透過することにより生成された強度変調光は、第１のレンズ６２にて空間的にフーリエ変換される。その結果、強度変調光は、フーリエ面Ｆにおいて、空間周波成分に展開される。すなわち、フーリエ面Ｆ上では、強度変調光の空間周波数成分が、図９に示すように分布している。なお、図９は、フーリエ面での様子を１次元的に示したものである。ここで、ＬＣＤ３０上に表示されるパターンの空間周波数成分のうち、画素構造３４の空間周波数１／Ｐが最も高い成分である。したがって、フーリエ面Ｆには、画素構造３４による回折光が、中心（光軸）から最も離れたところに輝点として現れる。そこで、本変更例では、アパーチャ板６６のアパーチャ６６ａのサイズを、当該回折光をカットしつつ、ＬＣＤ３０が表示するパターンの最大空間周波数１／（２Ｐ）以下を透過させるように設定する。具体的には、図９に示すように、アパーチャ６６ａのサイズを、例えば空間周波数３／（４Ｐ）以下を透過するように設定する。したがって、フーリエ面Ｆ上に配置されたアパーチャ板６６は、空間周波数１／Ｐ以上をカットしつつ、空間周波数１／（２Ｐ）以下を透過するフィルタとして機能する。このため、光学的ローパスフィルタ６０の出力面である感光材Ｓには、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターン情報は伝達され、しかも、画素構造３４に起因した情報が除去された像が得られる。したがって、感光材Ｓには、配線パターンが断線していない状態で露光される。
【００９５】
（第２の変更例）
本変更例では、結像レンズ４０の開口数ＮＡＬを調整する代わりに、図１０に示すように、ＬＣＤ３０と結像レンズ４０との間に位相回折格子（位相板）７０を配置する。
【００９６】
ここで、位相回折格子７０には、１／Ｐより低い空間周波数成分のみを通過させるような回折格子パターンが形成されており、光学的ローパスフィルタとして機能する。具体的には、位相回折格子７０の回折格子パターンは、ＬＣＤ３０の各画素３５ａから出射した光を受け取り、そのままの出射方向に０次回折光を生成すると共に、その両側の所定の回折方向に、＋１次回折光及び−１次回折光を生成する。その結果、出力面である感光材Ｓ上には、図１０に示すように、これら＋１次及び−１次回折光が、対応する画素３５ａの両側の隙間３５ｂを埋めるような位置に到達する。したがって、ＬＣＤ３０上で不連続にサンプリングされていた画像が、感光材Ｓ上では、隙間が補間された状態で再現されることになる。このため、配線パターンが、断線していない状態で、感光材Ｓに露光される。
【００９７】
なお、位相回折格子７０の代わりに、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去するよう、厚みやカット軸が選択された水晶板等の複屈折板を設けてもよい。かかる複屈折板も、光学的ローパスフィルタとして機能することで、画素構造を除去することができる。
【００９８】
（第３の変更例）
上記第１の実施の形態及びその第１、第２の変更例では、物体側の開口数ＮＡＬが所定の条件を満足する結像レンズ４０や光学的ローパスフィルタ６０や位相回折格子７０等に、画素構造３４による回折光をカットするローパスフィルタとして機能させることで、画素構造３４に起因した信号成分を除去させた。
【００９９】
一方、本変更例では、図１の構成において、回路基板作成用基板Ｂの感光材Ｓの位置を、わざと、結像レンズ４０の結像面からずれた位置に配置する。したがって、ＬＣＤ３０上に表示されている配線パターンをぼけさせながら感光材Ｓに露光させることができる。感光材Ｓ上で画素構造が目立たなくなるため、画素と画素との間の隙間が埋められ、断線のない配線パターンを露光することができる。
【０１００】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態による配線パターン露光装置について図１１〜図２３に基づき説明する。
【０１０１】
本実施の形態の配線パターン露光装置２では、ＬＣＤ３０を単体で使用する代わりに、空間光変調モジュール１００を使用している。
【０１０２】
すなわち、本実施形態の配線パターン露光装置２は、制御装置５０と、空間光変調モジュール１００と、読みだし光源１６０と、コリメートレンズ１７０と、偏光ビームスプリッタ（以下、ＰＢＳという）１８０と、結像レンズ１９０とからなる。
【０１０３】
読みだし光源１６０は、一様な強度分布を有する読み出し光（第２の読み出し光）を生成するためのものである。本実施形態では、読みだし光源１６０は、例えば、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザである。なお、読み出し光源１６０からの読み出し光は、略一様な位相分布を有し、かつ、所定の偏光面を有する直線偏光である。本実施の形態では、読みだし光源１６０は、その偏光面が図１１の紙面に対して直交するような向きに配置されている。
【０１０４】
コリメートレンズ１７０は、読みだし光源１６０からの読み出し光をコリメートして平行光とするためのものである。
【０１０５】
ＰＢＳ１８０は、偏光方向が図１１の紙面に対して直交するｓ偏光成分の光を略１００％反射し、偏光方向が紙面に対して平行なｐ偏光成分の光を略１００％透過するためのものである。ここで、本実施の形態の場合、読みだし光源１６０から出射した直線偏光は図１１の紙面に対して直交する向きに偏光面を有しているため、コリメートレンズ１７０を透過後、ｓ偏光としてＰＢＳに入射する。このため、ＰＢＳ１８０は、コリメートレンズ１７０を透過した読みだし光を空間光変調モジュール１００に導く。ＰＢＳ１８０は、また、空間光変調モジュール１００で偏光面の回転を受けた読みだし光のうちｐ偏光成分を透過させることによって、強度変調光を生成する機能をも有する。
【０１０６】
結像レンズ１９０は、ＰＢＳ１８０を透過した強度変調光を回路基板作成用基板Ｂの感光材Ｓ上に結像するためのものである。すなわち、回路基板作成用基板Ｂが、感光材Ｓが結像レンズ１９０の結像面に位置するように配置されている。なお、回路基板作成用基板Ｂは、第１層目の回路基板作成用のものでもよく、もしくは、第２層目の回路基板作成用のもので、その下に、図示されていない第１層目の回路基板Ｍが設けられていても良い。
【０１０７】
制御装置５０は、第１の実施の形態の制御装置５０と同一の構成を有している。すなわち、図１１では図示していないが、制御装置５０は、図１に示す第１の実施の形態と同様、メモリ部５０ａと、入力部５０ｂと、拡大・縮小演算部５０ｃと、制御部５０ｄとを備えている。但し、本実施の形態では、制御部５０ｄは、空間光変調モジュール１００内のＬＣＤ３０を駆動する。
【０１０８】
次に、図１２を参照して、空間光変調モジュール１００について説明する。
【０１０９】
空間光変調モジュール１００は、書き込み光源１０と、コリメートレンズ２０と、ＬＣＤ３０と、結像レンズ４０と、平行配向型ネマチック液晶空間光変調器（以下、ＰＡＬ−ＳＬＭ（Parallel-Aligned nematic-Liquid-crystal Spatial Light Modulator）という）１５０とから構成されている。
【０１１０】
書き込み光源１０、コリメートレンズ２０、ＬＣＤ３０、及び、結像レンズ４０は、それぞれ、第１の実施の形態の書き込み光源１０、コリメートレンズ２０、ＬＣＤ３０、及び、結像レンズ４０（図１，２）と同一の構成を有し、第１の実施の形態の場合と同一の位置関係で配置され同一の機能を有する。但し、本実施の形態では、結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０から出力された強度変調光（第１のパターン光）を、回路基板作成用基板Ｂにではなく、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に伝達する。
【０１１１】
ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、書き込み部１５０ａと読み出し部１５０ｂとを有する反射型の光アドレス型位相変調型空間光変調器である。書き込み部１５０ａは、結像レンズ４０にて伝達された強度変調光によって光アドレスされるためのものである。読みだし部１５０ｂは、ＰＢＳ１８０から入射されてきたｓ偏光の読み出し光の波面を、書き込み部１５０ｂに入射した強度変調光のパターンに応じて回転することにより、変調光（第２のパターン光）を生成する。
【０１１２】
図１３は、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の具体例を示している。図１３に示すように、書き込み部１５０ａは、アモルファスシリコン製の光導電層１５１と、透明電極１５４ａと、透明基板１５５ａと、反射防止コート１５６ａとから構成されている。読み出し部１５０ｂは、ネマティック液晶層１５２と、透明電極１５４ｂと、透明基板１５５ｂと、反射防止コート１５６ｂとから構成されている。液晶層１５２の液晶分子は、配向層１５２ａによって、透明電極１５４ａ及び１５４ｂに対して平行に捻れなく一様に配向された水平配向状態となっている。透明電極１５４ａ及び１５４ｂは交流電源１５７に接続されている。ミラー層１５３が、書き込み部１５０ａと読み出し部１５０ｂとの間に設けられている。
【０１１３】
かかる構成のＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、図１２に示されるように、書き込み部１５０ａが結像レンズ４０に対向し、読み出し部１５０ｂがＰＢＳ１８０に対向するように、配置されている。ここで、書き込み部１５０ａ（光導電層１５１）は、結像レンズ４０の結像面上に配置されている。さらに、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、液晶層１５２内の液晶分子の配向方向が、ＰＢＳ１８０から入射されてくるｓ偏光読み出し光の偏光面（図１２の紙面に直交する偏光成分）に対して４５度傾いているような向きに配置されている。したがって、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、強度変調モードで動作する。すなわち、ＬＣＤ３０から出射した強度変調光が結像レンズ４０を介して光導電層１５１に入射・結像すると、光導電層１５１を構成するアモルファスシリコンの結晶構造が変化して、液晶層１５２の液晶分子に与えられる電圧が変化し液晶の屈折率が変化する。このため、ＰＢＳ１８０で反射された読み出し光は、液晶層１５２を伝搬する際、その偏光面が屈折率の変化に応じた量だけ回転する。読み出し光は、ミラー層１５３にて反射し、液晶層１５２中を再び伝搬して偏光面がさらに回転した後、変調光として出射する。かかる変調光のうちｐ偏光成分（図１２の紙面に対して平行な偏光成分）のみがＰＢＳ１８０を透過して、結像レンズ１９０に到達する。したがって、ＰＢＳ１８０を透過した変調光は、結像レンズ４０からの強度変調光の強度分布に対応した強度分布を有する強度変調光となる。こうして生成された強度変調光が、結像レンズ１９０により感光材Ｓ上に結像される。
【０１１４】
ここで、ＬＣＤ３０は、第１の実施の形態と同様、図３の例に示す配線パターンを表示する。そこで、本実施の形態でも、結像レンズ４０のＬＣＤ３０側の開口数ＮＡＬを、ＬＣＤ３０の画素ピッチＰと書き込み光源１０からの書き込み光の波長λに対して、１／（２Ｐ）＜ＮＡＬ／λ＜１／Ｐの関係を有するように選択している。このため、結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する空間周波数１／Ｐの信号成分をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に伝達せず、しかも、ＬＣＤ３０に表示された情報の全空間周波数成分（１／（２Ｐ）以上の空間周波数成分）を劣化することなく伝達する。
【０１１５】
ここで、ＬＣＤ３０では、図１４の（Ａ）に示すように、隙間３５ｂにより互いに分断されながら並べられた複数の画素３５ａが、不連続にサンプリングされた画像を表示している。結像レンズ４０が、この画像を受け取り、当該表示画像を構成している画素と画素との間の隙間を埋めた状態で、その結像面に伝達する。しかしながら、結像レンズ４０が画素構造３４の空間周波数１／Ｐの信号成分を完全には除去できない可能性がある。その場合には、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０には、配線パターンが、図１４の（Ｂ）に示すように、画素３５ａからの強度と隙間３５ｂからの強度との間に強度変化が残った状態で、伝達されてしまう。しかしながら、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、図１５に示すようなｌｏｇ特性を有している。したがって、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、結像レンズ４０の出力におけるこのわずかな強度変化の影響を読みだし光に対して与えない変調動作を行うことができる。したがって、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、図１４の（Ｃ）に示すように、配線パターン光を、画素３５ａと隙間３５ｂとの間の光強度差を略完全に除去した状態で生成することができる。具体的には、ＬＣＤ３０が図３のパターンを表示した場合、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、図１６に示すような配線パターンを出力することができる。なお、図１６は、図１１の配線パターン露光装置２において、回路基板作成用基板Ｂの位置に、回路基板作成用基板Ｂの代わりにＣＣＤ撮像装置を配置して撮像した撮像図である。
【０１１６】
このように、本実施の形態によれば、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０からは、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンから画素構造成分が略完全に除去された配線パターンを担持した変調光が出力される。当該変調光がＰＢＳ１８０により強度変調光に変換され、結像レンズ１９０により感光材Ｓ上に結像されることにより、配線パターン光が、断線されていない状態で、感光材Ｓ上に露光される。したがって、断線されていない配線パターンを有する回路基板Ｍを作成することができる。
【０１１７】
上記構成を有する配線パターン露光装置２は、第１の実施の形態と同様に、配線パターン露光動作を行う。すなわち、第１の実施の形態の構成（図１）と同一の構成を有する制御装置５０が、以下のように、露光動作を制御する。
【０１１８】
ユーザは、書き込み光源１０と読みだし光源１６０と交流電源１５７とをオンし、制御装置５０の入力部５０ａに対し露光動作の開始を指示する。かかる指示に従い、拡大・縮小演算部５０ｃは、所定の配線パターンのデータをメモリ部５０ａから読み出し、当該配線パターンを所望の拡大・縮小率にて拡大・縮小する演算処理を行い、演算結果の配線パターンデータを制御部５０ｄに出力する。制御部５０ｄは、拡大・縮小演算部５０ｃから受け取った配線パターンデータに基づいて画像信号を生成し、当該画像信号に基づいて、空間光変調モジュール１００内のＬＣＤ３０のスイッチング素子３５ｂを選択的に駆動する。この結果、ＬＣＤ３０は、図３に示すように、所定の配線パターンを、所望のサイズにて表示する。結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンから画素構造３４に起因した信号成分を除去し、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像する。ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は読み出し光を変調し、変調光を出力する。ＰＢＳ１８０が、この変調光を強度変調光に変換する。こうして生成された強度変調光が、結像レンズ１９０により感光材Ｓ上に結像される。したがって、感光材Ｓには、所定の配線パターンが所望のサイズにて、しかも、断線されていない状態（図１６）で露光される。また、本実施の形態の配線パターン露光装置２は、第１の実施の形態と同様、図６に示す方法により積層回路基板を作成することもできる。
【０１１９】
以下、本実施の形態の変更例について説明する。
【０１２０】
（第１の変更例）
第１の実施形態に対する第１の変更例同様、結像レンズ４０（図１２）の代わりに、図８に示す光学的ローパスフィルタ６０を設けてもよい。この場合には、光学的ローパスフィルタ６０は、その出力面（図８）にＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａが位置するように、配置される。
【０１２１】
本変更例によれば、光学的ローパスフィルタ６０により画素構造に起因した空間周波数１／Ｐの信号成分をカットし、しかも、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０がそのｌｏｇ特性により変調動作を行うので、空間光変調モジュール１００からは、配線パターンから画素構造成分が略完全に除去されたパターンが出力される。したがって、感光材Ｓには、配線パターンが、断線のない状態で露光される。
【０１２２】
また、第１の実施形態に対する第２の変更例と同様、図１２におけるＬＣＤ３０と結像レンズ４０との間に、図１０に示すように、位相回折格子７０を設けても良い。この場合にも、位相回折格子７０は、その出力面（図１０）にＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａが位置するように、配置される。なお、位相回折格子７０の代わりに、水晶板などの複屈折板を設けてもよい。
【０１２３】
もしくは、第１の実施形態に対する第３の変更例同様、図１２の構成において、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａの位置を結像レンズ４０の結像面からわざとずらし、配線パターンを適度にぼけた状態でＰＡＬ−ＳＬＭ５０に伝達し、画素と画素との間の隙間を目立たなくさせるようにしてもよい。
【０１２４】
（第２の変更例）
本変更例では、ＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とを、結像レンズ４０を介して光接続する代わりに、図１７に示すように、ファイバー光学プレート１４５を介して直接接続する。
【０１２５】
具体的には、本変更例では、図１８に示すように、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０より反射防止コート１５６ａと透明基板１５５ａ（図１３参照）とを除去し、透明電極１５４ａをファイバー光学プレート１４５を介して、ＬＣＤ３０の偏光板３９（図２参照）に直接接続する。
【０１２６】
この場合には、ファイバー光学プレート１４５の開口数ＮＡＦＯＰが、ＬＣＤ３０の画素ピッチＰと、光伝達層３０ｂ（偏光板３９と透明ガラス基板３８）の厚さｄと、書き込み光源１０の波長λに対する光伝達層３０ｂ（偏光板３９と透明ガラス基板３８）の屈折率ｎＧに対して、ｎＧ・Ｐ／ｄ＜ＮＡＦＯＰという条件を満足するように構成すれば、ファイバー光学プレート１４５は、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する信号成分をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に伝達せずに消去することができる。したがって、配線パターンを断線していない状態で感光材Ｓに露光することができる。さらに、ＮＡＦＯＰ＜２ｎＧ・Ｐ／ｄという条件を満足するように構成すれば、ＬＣＤ３０に表示された配線パターンを劣化させることなく伝達することができる。
【０１２７】
（第３の変更例）
本変更例では、図１９に示すように、ＬＣＤ３０は、その光入射層３０ａ上にマイクロレンズアレイ２００を備えている。
【０１２８】
ここで、マイクロレンズアレイ２００は、図２０に示すように、ＬＣＤ３０の偏光板３１上に固定されている。マイクロレンズアレイ２００は、複数の透明画素電極３５ａに１対１に対応して設けられた複数のマイクロレンズ２１０から構成されている。各マイクロレンズ２１０は、偏光板３１上において、対応する透明画素電極３５ａが形成されている位置に設けられている。
【０１２９】
かかる構成によれば、図２１に示すように、コリメートレンズ２０により平行光とされた書き込み光は、各マイクロレンズ２１０に入射すると、対応する透明画素電極３５ａを通過して、マイクロレンズ２１０の後焦点面ｆ上に一旦集光された後、再び拡がっていく。書き込み光は、同時に、対応する透明画素電極３５ａの駆動状態に応じた変調を受ける。
【０１３０】
ここで、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度は、個々の製品の特性によって異なる。ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度が良好で、図２２に破線で示すように、ＬＣＤ３０の画素構造３４の空間周波数である１／Ｐを含みそれ以下の全空間周波数を含む広範囲の空間周波数領域に対して高いＭＴＦ（Modulation Transfer Function）値を有する場合には、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、ＬＣＤ３０の信号画像（空間周波数１／（２Ｐ）以下）のみならず画素構造３４に起因する信号成分（空間周波数１／Ｐ）をも伝達してしまう。一方、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度が悪く、図２２に一点鎖線で示すように、ＬＣＤ３０の信号画像の最大空間周波数である１／（２Ｐ）より低い周波数成分に対してしか高いＭＴＦ値を有しない場合には、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する信号成分のみならず、ＬＣＤ３０の信号画像のうちの高周波数成分（１／（２Ｐ）近辺）をも伝達できない。
【０１３１】
そこで、本変更例では、かかるＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度を考慮し、図１９に示すように、レンズ位置調整機構３００を設け、当該解像度に応じて結像レンズ４０の位置を調整することにしている。かかる位置調整により、空間光変調モジュール１００全体としてのＭＴＦを、図２２の実線で示すように、ＬＣＤ３０の解像度（信号画像の最大空間周波数）１／（２Ｐ）を含みそれ以下の空間周波数に対しては高く、しかも、画素構造３４の空間周波数１／Ｐ以上の空間周波数に対しては低くなるように調整する。したがって、ＬＣＤ３０による信号画像を良好に伝達しつつ、画素構造３４に起因する信号成分をほとんど伝達しない。
【０１３２】
ここで、レンズ位置調整機構３００は、図１９に示すように、結像レンズ４０の位置を光軸方向に調整することで、結像レンズ４０とＬＣＤ３０との距離、及び、結像レンズ４０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０との距離を調整する。レンズ位置調整機構３００は、たとえば、結像レンズ４０を保持する図示しない保持手段と、この保持手段を結像レンズ４０の光軸方向にスライドする図示しないスライド手段とからなる。
【０１３３】
具体的には、結像レンズ４０が、例えば、図２１に実線で示すように、マイクロレンズアレイ２００の後焦点面ｆ上の像をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａ（光導電層１５１）に結像する位置に配置されている場合には、ＬＣＤ３０の各画素をぼけていない状態で、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像する。一方、結像レンズ４０が、図２１に破線で示すように、マイクロレンズアレイ２００の後焦点面ｆからずれた位置の像をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａ（光導電層１５１）に結像する位置に配置されている場合には、ＬＣＤ３０の各画素をぼけている状態で、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像する。
【０１３４】
かかる構成のもと、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度が図２２の一点鎖線で示すように悪い場合には、レンズ位置調整機構３００により、結像レンズ４０を、図２１の実線で示す位置に配置する。この結果、マイクロレンズアレイ２００の後焦点面ｆ上の像を、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の光導電層１５１に結像させることができる。したがって、ＬＣＤ３０の各画素をぼけのない状態でＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像させ、空間光変調モジュール１００全体としてのＭＴＦ値を、図２２の実線で示すように、ＬＣＤ３０の解像度（信号画像の最大空間周波数）１／（２Ｐ）を含みそれ以下の空間周波数に対しては高く、しかも、画素構造３４の空間周波数１／Ｐ以上の空間周波数に対しては低くなるような最適なＭＴＦ特性に調整する。
【０１３５】
また、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度が図２２の破線で示すように良好な場合には、レンズ位置調整機構３００により、結像レンズ４０を、図２１に破線で示すように、マイクロレンズアレイ２００の後焦点面ｆからずれた位置の像をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の光導電層１５１に結像する位置に配置する。この結果、ＬＣＤ３０の各画素を適度にぼけた状態でＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像させることができる。したがって、空間光変調モジュール１００全体としてのＭＴＦ値を、やはり、図２１に実線で示すように、ＬＣＤ３０の解像度（信号画像の最大空間周波数）１／（２Ｐ）を含みそれ以下の空間周波数に対しては高く、しかも、ＬＣＤ３０の画素構造３４の空間周波数１／Ｐ以上の空間周波数に対しては低くなるような最適なＭＴＦ特性に調整する。
【０１３６】
このため、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度に関わらず、常に、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンから画素構造を除去しつつ、配線パターンの全空間周波数（１／（２Ｐ）以下）を劣化させずに伝達できる適度なＭＴＦ特性を得ることができる。しかも、かかる調整にも関わらず、結像レンズ４０が画素構造３４を完全に除去できずにＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に伝達してしまっても、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、そのｌｏｇ特性（図１５参照）により、画素構造３４を略完全に除去したパターンを出力することができる。したがって、断線がない配線パターンを確実に感光材Ｓに露光することができる。
【０１３７】
この点について図２３を参照してより詳しく説明する。
【０１３８】
ＬＣＤ３０の各画素３５ａからの強度パターン（図２３の（Ａ））を、結像レンズ４０の位置調整によりぼかしながらＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像させると、当該各画素３５ａからの光は、それぞれ、中心部は明るく周辺部にいくにしたがってだんだん暗くなるような強度パターンとして、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像される（図２３の（Ｂ））。ここで、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、そのｌｏｇ特性により２値化に近い変換を行う。したがって、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０からの出力（図２３の（Ｃ））は、結像レンズ４０によるぼかされた状態（図２３の（Ｂ））より、ぼけが少なくなり、より鮮明となる。そこで、レンズ位置調整機構３００により結像レンズ４０の位置を調整し、画素構造がちょうどなくなるくらいにぼかす量を調整すれば、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、画素構造が除去され、しかも、ＬＣＤ３０の解像度が維持された配線パターンを出力することができる。したがって、配線パターンを、断線がなく、しかも、ＬＣＤ３０の解像度を維持した状態で、感光材Ｓに露光することができる。
【０１３９】
なお、上記説明では、ＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とを固定し、結像レンズ４０を位置調整可能としたが、逆に、結像レンズ４０を固定し、ＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とに、それぞれ、液晶素子位置調整機構とＰＡＬ−ＳＬＭ位置調整機構とを設けて、これらＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とを、結像レンズ４０に対して光軸方向に位置調整可能としても良い。
【０１４０】
また、上記説明では、複数のマイクロレンズ２１０は、複数の画素電極３５ａに対し１対１に対応して設けられていたが、そのように設けなくてもよい。たとえば、１個の画素電極３５ａに対し複数のマイクロレンズ２１０を設けてもよく、逆に、複数の画素電極３５ａに対し１個のマイクロレンズ２１０を設けてもよい。複数のマイクロレンズ２１０により書き込み光を集光させ、かかる集光された光を複数の画素電極３５ａにおいて変調させれば良い。
【０１４１】
また、コリメートレンズ２０にて平行とさせず、所定の収束光または拡散光をマイクロレンズアレイ２００に照射するのでも良い。
【０１４２】
本発明による配線パターン露光装置は上述した実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変形や改良が可能である。
【０１４３】
例えば、上記実施の形態の配線パターン露光装置を、積層回路基板ではなく単一の層からなる回路基板を作成するためにのみ使用するようにしても良い。この場合、所定の配線パターンのデータを予め所望のサイズにて作成してメモリ部５０ａに格納しておけば、拡大・縮小演算部５０ｃや入力部５０ｂを省略することができる。制御部５０ｄは、メモリ部５０ａから所定の配線パターンデータを読み出し、拡大・縮小処理することなく、画像信号をそのまま作成すれば良い。
【０１４４】
上記実施の形態では、被露光媒体の備える感光材Ｓは、露光すると硬化するタイプのフォトレジストであった。しかしながら、被露光媒体の備える感光材Ｓとしては、露光すると軟化するタイプのフォトレジスト等、他の任意の感光材を使用することができる。
【０１４５】
第１の実施の形態においても、第２の実施の形態の第２の変更例同様、ＬＣＤ３０と感光材Ｓとを、結像レンズ４０ではなく、ファイバー光学プレートを介して直接接続しても良い。この場合にも、ｎＧ・Ｐ／ｄ＜ＮＡＦＯＰ＜２ｎＧ・Ｐ／ｄという条件を満足するように構成すれば、ファイバー光学プレートは、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する信号成分を感光材Ｓに伝達せず、しかも、ＬＣＤ３０に表示された配線パターンを劣化させることなく伝達することができる。
【０１４６】
また、第１の実施の形態においても、第２の実施の形態の第３の変更例同様、ＬＣＤ３０として、図２０に示すマイクロレンズアレイ付きのものを採用しても良い。この場合には、図１９の場合と同様、結像レンズ４０の位置をＬＣＤ３０と感光材Ｓとに対して調整するレンズ位置調整機構３００を、図１の構成に対して追加すれば良い。かかる構成によれば、第１の実施の形態における第３の変更例同様、配線パターンを適度にぼけた状態で感光材Ｓに露光することができるため、画素と画素との間の隙間を目立たなくすることができる。したがって、配線パターンを断線のない状態で感光材Ｓに露光することができる。
【０１４７】
なお、第１の実施の形態の第３の変更例において、マイクロレンズアレイが設けられていない図２のＬＣＤ３０を採用している場合においても、結像レンズ４０の位置をＬＣＤ３０と感光材Ｓとに対して調整するレンズ位置調整機構３００を追加しても良い。配線パターンを適度にぼけた状態で感光材Ｓに露光することができるため、画素と画素との間の隙間を目立たなくすることができる。したがって、配線パターンを断線のない状態で感光材Ｓに露光することができる。
【０１４８】
同様に、第２の実施の形態の第１の変更例でＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａの位置を結像レンズ４０の結像面からわざとずらす場合にも、第２の実施の形態の第３の変更例（図１９）同様、結像レンズ４０の位置をＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とに対して調整するレンズ位置調整機構３００を、図１２の構成に追加しても良い。かかる構成によれば、配線パターンを適度にぼけた状態で感光材Ｓに露光することができるため、画素と画素との間の隙間を目立たなくすることができる。したがって、配線パターンを断線のない状態で感光材Ｓに露光することができる。
【０１４９】
ＬＣＤ３０の構成は、上記のものに限られない。ＬＣＤ３０としては、任意の構成の液晶ディスプレイを使用することができる。例えば、図２、図２０の構造では、液晶層３６にツイストネマチック液晶を用いたため、偏光板３１，３９が必要となったが、液晶層にゲストホスト型液晶やポリマー分散型液晶を用いる場合には、偏光板を必要としない。この場合において、第２の実施の形態の第３の変更例の場合には、マイクロレンズアレイ２００は、ガラス基板３２上に直接設けられることになる。
【０１５０】
また、ＬＣＤ３０の代わりに、他の任意の構成の電気アドレス型強度変調型空間光変調器を使用することもできる。また、こうして使用する空間光変調器は、透過型でも反射型でもよい。
【０１５１】
同様に、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の構成も、上記のものに限られない。また、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の代わりに、他の任意の構成の光アドレス型位相変調型空間光変調器を使用することができる。こうして使用する空間光変調器も、透過型でも反射型でもよい。
【０１５２】
書き込み光源１０はＹＡＧ−ＳＨＧレーザでなくてもよく、他のレーザ光源でも良い。レーザ光源以外の光源でも良い。
【０１５３】
読み出し光源１６０もＹＡＧ−ＳＨＧレーザでなく、他のレーザ光源でも良い。レーザ光源以外の光源でも良い。
【０１５４】
【発明の効果】
請求項１記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光が電気アドレス型空間光変調器により生成され、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が画素構造除去手段により除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１５５】
請求項２記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１５６】
請求項３記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１５７】
請求項４記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１５８】
請求項５記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光を配線パターンを劣化させることなく伝達することができるため、第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが劣化していない状態で露光することができる。
【０１５９】
請求項６記載の配線パターン露光装置によれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第１のパターン光に基づいて第２のパターン光を生成する。したがって、第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で、露光することができる。
【０１６０】
請求項７記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１６１】
請求項８記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光を配線パターンを劣化させることなく伝達することができるため、第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが劣化していない状態で露光することができる。
【０１６２】
請求項９記載の配線パターン露光装置によれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１６３】
請求項１０記載の配線パターン露光装置によれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第１のパターン光に基づいて第２のパターン光を生成する。したがって、第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で、露光することができる。
【０１６４】
請求項１１記載の配線パターン露光装置によれば、積層回路基板を、その連続する上下の層の間で配線パターンにずれが生じず、しかも各層の配線パターンに断線が生じないように、作成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施の形態による配線パターン露光装置の構成を示す構成図。
【図２】 図１の配線パターン露光装置におけるＬＣＤの拡大構成図。
【図３】 図１の配線パターン露光装置において、ＬＣＤの表示画像をＣＣＤ撮像装置にて撮像した撮像図。
【図４】 図１の配線パターン露光装置において、回路基板作成用基板Ｂの位置に、回路基板作成用基板Ｂの代わりにＣＣＤ撮像装置を配置して撮像した撮像図。
【図５】 図１の配線パターン露光装置を用いて、回路基板作成用基板を露光して回路基板を作成し、更に、次の層を作成するための回路基板作成用基板を積層し露光して、積層回路基板を作成する方法を説明する説明図。（Ａ）は、回路基板作成用基板Ｂに配線パターンを露光する工程を示す図。（Ｂ）は、露光後の回路基板作成用基板Ｂから硬化していない感光材を除去する工程を示す図。（Ｃ）は、露光後の回路基板作成用基板Ｂから不要な銅箔と感光材とを除去し、回路基板Ｍを作成する工程を示す図。（Ｄ）は、回路基板Ｍの上に次の層用の回路基板作成用基板Ｂを積層し、当該次の層用の配線パターンを露光する工程を示す図。（Ｅ）は、露光後の当該次の層用の回路基板作成用基板Ｂから不要な銅箔と感光材とを除去し、積層回路基板を作成する工程を示す図。
【図６】 積層回路基板作成処理のフローチャート。
【図７】 第１層目の歪み状態を考慮せずに第２層目に配線パターンを露光する場合に導通点の位置が合致するか否かを示す説明図。（Ａ）は、第１層目が歪んでいない場合に、導通点の位置が互いに合致することを示す説明図。（Ｂ）は、第１層目が歪んでいる場合に、導通点の位置が互いにずれてしまうことを示す説明図。
【図８】 第１の実施の形態において、光学的ローパスフィルタを配置した第１の変更例の構成を示す構成図。
【図９】 図８の光学的ローパスフィルタにおいて、アパーチャの大きさとフーリエ面での空間周波数分布との関係を１次元的に示す説明図。
【図１０】 第１の実施の形態において、結像レンズの前に位相回折格子を配置した第２の変更例の構成を示す構成図。
【図１１】 本発明の第２の実施の形態による配線パターン露光装置の構成を示す構成図。
【図１２】 図１１の配線パターン露光装置に設けられた空間光変調モジュールの構成を示す構成図。
【図１３】 図１２の空間光変調モジュールに設けられたＰＡＬ−ＳＬＭの具体例の拡大構成図。
【図１４】 図１２の空間光変調モジュールにおいて、結像レンズとＰＡＬ−ＳＬＭとが、ＬＣＤ表示画像における画素と画素間隙間との強度差を除去していくことを示す説明図。（Ａ）は、ＬＣＤ表示画像における画素と画素間隙間との強度差を示す図。（Ｂ）は、結像レンズが、ＬＣＤ表示画像における画素と画素間隙間との強度差を除去することを示す図。（Ｃ）は、ＰＡＬ−ＳＬＭが、残った強度差を略完全に除去することを示す図。
【図１５】 ＰＡＬ−ＳＬＭの書き込み光パワーに対する出力光強度特性を示す図。
【図１６】 図１１の配線パターン露光装置において、回路基板作成用基板Ｂの位置に、回路基板作成用基板Ｂの代わりにＣＣＤ撮像装置を配置して撮像した撮像図。
【図１７】 第２の実施の形態の第２の変更例における空間光変調モジュールの構成を示す構成図。
【図１８】 図１７の空間光変調モジュールにおいて、ＬＣＤとＰＡＬ−ＳＬＭとがファイバー光学プレートにて一体化されていることを示す拡大構成図。
【図１９】 第２の実施の形態の第３の変更例における空間光変調モジュールの構成を示す構成図。
【図２０】 図１９の空間光変調モジュールに設けられたマイクロレンズアレイ付きＬＣＤの具体例の拡大構成図。
【図２１】 図１９の空間光変調モジュールにおいて、コリメートレンズからの平行光が、１つのマイクロレンズにより集光され、結像レンズによりＰＡＬ−ＳＬＭに伝達される状態を示す説明図。
【図２２】 図１９の空間光変調モジュールにおいて、ＭＴＦ特性が調整される状態を示す図。
【図２３】 図１９の空間光変調モジュールにおいて、ＬＣＤの強度パターンをぼかしてＰＡＬ−ＳＬＭに結像させＰＡＬ−ＳＬＭが変調光を出力する状態について説明する図。（Ａ）はＬＣＤ上の画素パターンを示す図。（Ｂ）は（Ａ）の画素パターンがＰＡＬ−ＳＬＭに結像される際の強度パターンを示す図。（Ｃ）はＰＡＬ−ＳＬＭが（Ｂ）のパターンの入力に基づき出力するパターンを示す図。
【符号の説明】
１ 配線パターン露光装置
２ 配線パターン露光装置
１０ 書き込み光源
２０ コリメートレンズ
３０ ＬＣＤ
３４ 画素構造
３５ａ 透明画素電極
３５ｂ スイッチング素子
４０ 結像レンズ
５０ 制御装置
５０ａ メモリ部
５０ｂ 入力部
５０ｃ 拡大・縮小演算部
５０ｄ 制御部
Ｂ 回路基板作成用基板
Ｐ プラスチック基板
Ｃ 銅箔
Ｍ 回路基板
Ｎ 積層回路基板
６０ 光学的ローパスフィルタ
７０ 位相回折格子
１００ 空間光変調モジュール
１４５ ファイバー光学プレート
１５０ ＰＡＬ−ＳＬＭ
１６０ 読み出し光源
１７０ コリメートレンズ
１８０ ＰＢＳ
１９０ 結像レンズ
２００ マイクロレンズアレイ
２１０ マイクロレンズ
３００ レンズ位置調整機構
【発明の属する技術分野】
本発明は、被露光媒体に配線パターンを露光するための配線パターン露光装置に関し、特に、電子回路の印刷配線板、いわゆるプリント基板、を製作するために配線パターンを被露光媒体に露光するための配線パターン露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特開昭６２−４４７１８号公報には、液晶パネルに配線パターンを表示させて、フォトレジストを露光するためのパターン露光装置が記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、液晶パネルは、不連続的に並べられた多数の液晶画素により構成されている。したがって、液晶パネルが表示する配線パターンは、互いに分断されながら並べられた複数の画素から形成されている。フォトレジストが、かかる配線パターンで露光されると、不連続的に硬化し、その結果、断線が生じた配線パターンが形成されてしまう。
【０００４】
そこで本発明は、断線されていない配線パターンを形成することができる配線パターン露光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、複数の画素が所定のピッチＰにて配列されて構成された画素構造を有し、所望の配線パターンに基づいて該複数の画素が選択的に駆動されることにより、入射した第１の読み出し光を空間的に変調し、該所望の配線パターンを担持した第１のパターン光を生成する電気アドレス型空間光変調器と、該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り、該第１のパターン光から該画素構造を示す信号成分を除去しつつ、該所望の配線パターンを伝達する画素構造除去手段とを備え、該画素構造除去手段は、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する光学的ローパスフィルタからなることを特徴とする配線パターン露光装置を提供している。
【０００６】
本発明によれば、電気アドレス型空間光変調器は、複数の画素が所定のピッチＰにて配列されて構成された画素構造を有している。電気アドレス型空間光変調器は、所望の配線パターンに基づいて該複数の画素が選択的に駆動されることで、入射した第１の読み出し光を空間的に変調し、該所望の配線パターンを担持した第１のパターン光を生成する。画素構造除去手段が、該第１のパターン光から該画素構造を示す信号成分を除去しつつ、該所望の配線パターンを伝達する。ここで、電気アドレス型空間光変調器の画素構造が所定のピッチＰにて配列された複数の画素からなるため、かかる画素構造を有する空間光変調器は、配線パターンを１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分にて表示する。画素構造除去手段は、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する光学的ローパスフィルタからなる。光学的ローパスフィルタが１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去することにより、第１のパターンから画素構造に起因する信号成分を除去しつつ、配線パターンを伝達することができる。
【０００７】
ここで、画素構造除去手段により画素構造が除去された第１のパターン光を、被露光媒体に伝達することが好ましい。画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達することにより、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【０００８】
もしくは、画素構造除去手段により画素構造が除去された第１のパターン光を、後段に配置された光アドレス型空間光変調器に伝達しても良い。
【０００９】
すなわち、本発明の配線パターン露光装置は、書き込み部と読みだし部とを有する光アドレス型空間光変調器を更に備えていても良い。光アドレス型空間光変調器の書き込み部は、光学的ローパスフィルタから、１／Ｐ以上の空間周波数成分が除去された第１のパターン光を受け取り、光アドレス型空間光変調器の読みだし部は、第２の読みだし光を受け取り、書き込み部に入射した第１のパターン光に応じて第２の読みだし光を空間的に変調することにより、第２のパターン光を生成する。
【００１０】
光アドレス型空間光変調器は、前記画素構造が除去された第１のパターン光により光アドレスされているので、第２の読みだし光を変調して、該画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。このように該画素構造が除去された第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００１１】
光学的ローパスフィルタは、例えば、該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り、該第１のパターン光を空間的にフーリエ変換してそのフーリエ面において該第１のパターン光を空間周波数成分に展開する第１のレンズと、該第１のレンズの該フーリエ面に設けられたアパーチャ板とを備え、該アパーチャ板には、該第１のレンズの光軸を中心に形成されたアパーチャが形成されており、該光学的ローパスフィルタは、該アパーチャ板の該アパーチャを通過した該第１のパターン光を伝達する第２のレンズを更に備え、該アパーチャは、１／（２Ｐ）以下の空間周波数を透過し１／Ｐ以上の空間周波数をカットするサイズを有していることが好ましい。
【００１２】
アパーチャのサイズを、１／Ｐ以上の空間周波数をカットしつつ、１／（２Ｐ）以下の空間周波数は透過するように設定しているので、光学的ローパスフィルタは、第１のパターン光から１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去し、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分を伝達することができる。したがって、この光学的ローパスフィルタにより、第１のパターン光から画素構造を除去することができる。
【００１３】
このように画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。また、画素構造が除去された第１のパターン光を光アドレス型空間光変調器に伝達すれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に対し、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００１４】
アパーチャは、３／（４Ｐ）以下の空間周波数を透過するサイズを有していることがより好ましい。第１のパターン光から画素構造を除去することができる。
【００１５】
もしくは、光学的ローパスフィルタは、該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り該第１のパターン光を結像面に結像する結像レンズからなり、該結像レンズは、該電気アドレス型空間光変調器側の開口数ＮＡ Ｌ を有し、該開口数ＮＡ Ｌ は、前記第１のパターン光の波長λに対して、ＮＡ Ｌ ／λ＜１／Ｐの条件を満足するのでも良い。結像レンズが伝達できる最大空間周波数ＮＡ Ｌ ／λが１／Ｐより低いため、当該結像レンズは、第１のパターン光から１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する。したがって、この結像レンズにより、第１のパターン光から画素構造を除去することができる。
【００１６】
開口数ＮＡ Ｌ は、前記第１の読み出し光の波長λに対して、１／（２Ｐ）＜ＮＡ Ｌ ／λ＜１／Ｐの条件を満足することが、より好ましい。
【００１７】
結像レンズが伝達できる最大空間周波数ＮＡ Ｌ ／λが１／（２Ｐ）より高く１／Ｐより低いため、当該結像レンズは、第１のパターン光から１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去し、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分を伝達する。したがって、結像レンズは、第１のパターン光を、画素構造を除去しつつ、配線パターンを劣化させることなく、伝達することができる。
【００１８】
この場合、被露光媒体が前記結像レンズの前記結像面に配置されることが好ましい。
【００１９】
このように画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００２０】
もしくは、本発明の配線パターン露光装置は、書き込み部と読みだし部とを有する光アドレス型空間光変調器を更に備え、該光アドレス型空間光変調器は、該書き込み部が前記結像レンズの前記結像面に位置するように配置され、該書き込み部が記結像レンズから前記第１のパターン光を受け取り、該光アドレス型空間光変調器の該読みだし部は、第２の読みだし光を受け取り、該書き込み部に入射した該第１のパターン光に応じて該第２の読みだし光を空間的に変調することにより、第２のパターン光を生成するように構成しても良い。
【００２１】
画素構造が除去された第１のパターン光を光アドレス型空間光変調器に伝達すれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に対し、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００２２】
また、該電気アドレス型空間光変調器が該画素構造により生成された該第１のパターン光を伝達する光伝達部を備え、該光伝達部が該第１のパターン光の波長に対する屈折率ｎ Ｇ と厚さｄとを有する場合には、前記光学的ローパスフィルタは、該電気アドレス型空間光変調器の該光伝達部に接続された該第１のパターン光を伝達するためのファイバー光学プレートからなり、該ファイバー光学プレートの開口数ＮＡ ＦＯＰ は、前記ピッチＰと該屈折率ｎ Ｇ と該厚さｄとに対して、ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄ＜ＮＡ ＦＯＰ の条件を満足することが好ましい。ファイバー光学プレートが伝達できる最大空間周波数ｎ Ｇ ／（ｄ・ＮＡ ＦＯＰ ）が１／Ｐより低くなるため、ファイバー光学プレートは、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する。
【００２３】
該ファイバー光学プレートの開口数ＮＡ ＦＯＰ は、前記ピッチＰと該屈折率ｎ Ｇ と該厚さｄとに対して、ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄ＜ＮＡ ＦＯＰ ＜２ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄの条件を満足することが、より好ましい。ファイバー光学プレートが伝達できる最大空間周波数ｎ Ｇ ／（ｄ・ＮＡ ＦＯＰ ）が１／（２Ｐ）より高く１／Ｐより低くなるため、ファイバー光学プレートは、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去しつつ、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分を伝達する。したがって、ファイバー光学プレートは、第１のパターン光を、配線パターンを劣化させることなく伝達することができる。
【００２４】
例えば、光学的ローパスフィルタの後段に光アドレス型空間光変調器を設ける場合、光学的ローパスフィルタを、電気アドレス型空間光変調器と光アドレス型空間光変調器とに直接接続されたファイバー光学プレートから構成することができる。電気アドレス型空間光変調器が、所定のピッチＰにて配列された複数の画素からなる画素構造を有しており、しかも、該画素構造により生成された第１のパターン光を一様な屈折率ｎ Ｇ と厚さｄとを有する光伝達部を介して伝達する場合において、該ファイバー光学プレートを該光伝達部に直接接続する場合には、該ファイバー光学プレートの開口数ＮＡ ＦＯＰ は、ピッチＰと屈折率ｎ Ｇ と厚さｄとに対して、ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄ＜ＮＡ ＦＯＰ ＜２ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄの条件を満足することが好ましい。
【００２５】
ファイバー光学プレートが伝達できる最大空間周波数ｎ Ｇ ／（ｄ・ＮＡ ＦＯＰ ）が１／（２Ｐ）より高く１／Ｐより低くなるため、ファイバー光学プレートは、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去しつつ、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分を伝達する。したがって、ファイバー光学プレートの後段に配置された光アドレス型空間光変調器には、第１のパターン光が、画素構造の信号成分が除去された状態で伝達される。したがって、光アドレス型空間光変調器は、画素構造の信号成分が除去された第２のパターン光を生成する。かかる第２のパターン光を被露光媒体に露光すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００２６】
また、光学的ローパスフィルタは、位相板からなるのでも良い。位相板は、第１のパターン光を構成する各画素からの光を受け取り、０次回折光を生成すると共に、その両側に一対の１次回折光を生成する。これら一対の１次回折光が当該画素の両側の隙間を埋めることにより、画素構造を除去する。
【００２７】
このように画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に露光すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。また、画素構造が除去された第１のパターン光を光アドレス型空間光変調器に伝達すれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に対し、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００２８】
もしくは、光学的ローパスフィルタは、複屈折板、たとえば、水晶板でもよい。複屈折板により、第１のパターン光を構成する各画素からの光を拡散し、当該画素の周りの隙間を埋めることで、画素構造を除去することができる。
【００２９】
このように画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に露光すれば、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。また、画素構造が除去された第１のパターン光を光アドレス型空間光変調器に伝達すれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第２のパターン光を生成する。第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体に対し、配線パターンを、断線していない状態で、露光することができる。
【００３０】
特に、光アドレス型空間光変調器は、平行配向液晶空間光変調器（以下、ＰＡＬ−ＳＬＭ（Parallel-aligned nematic liquid crystal spatial light modulator）という）からなることが好ましい。
【００３１】
ここで、画素構造除去手段が画素構造を完全には除去できず、第１のパターン光のうち画素からの部分と画素と画素との間の隙間からの部分とでその光強度にわずかに差が残ってしまうことが考えられる。しかしながら、ＰＡＬ−ＳＬＭは、光アドレスされる光強度に対しｌｏｇ特性を有しているため、第１のパターン光におけるこのわずかな光強度差を除去して第２の読みだし光を変調することができる。したがって、画素からの部分と画素と画素との間の隙間からの部分とでその光強度の差を略完全に除去した、すなわち、画素構造が略完全に除去された第２のパターン光を生成することができる。かかる第２のパターン光を被露光媒体に露光すれば、配線パターンを、略完全に断線していない状態で、露光することができる。
【００３２】
また、本発明は、複数の画素が配列されて構成された画素構造を有し、所望の配線パターンに基づいて該複数の画素が選択的に駆動されることにより、入射した第１の読み出し光を空間的に変調し、該所望の配線パターンを担持した第１のパターン光を生成する電気アドレス型空間光変調器と、該第１のパターン光から該画素構造を示す信号成分を除去しつつ、該所望の配線パターンを伝達する画素構造除去手段と、所定の配線パターンのデータを保持するデータ保持手段と、該所定の配線パターンのデータに対し所望の割合にて拡大・縮小演算を施すことで前記所望の配線パターンを生成する拡大・縮小演算手段と、該拡大・縮小演算手段にて生成した該所望の配線パターンに基づいて前記電気アドレス型空間光変調器の複数の画素を選択的に駆動するための画像信号を生成する制御手段とを備え、前記データ保持手段は、積層回路基板を構成する複数の回路基板を作成するための複数の所定の配線パターンのデータを保持しており、更に、既に作成された第ｉ（ここで、ｉは１以上の自然数）層目の回路基板の歪み状態の計測結果を入力する入力手段を備え、前記拡大・縮小演算手段は、当該入力された計測結果に基づいて、第（ｉ＋１）層目の回路基板用の配線パターンを拡大または縮小するための拡大・縮小率を決定し、該決定した拡大・縮小率にて、第（ｉ＋１）層目の回路基板用の配線パターンのデータに対し拡大・縮小演算を施し、第（ｉ＋１）層目用の所望の配線パターンを生成することを特徴とする配線パターン露光装置を提供している。かかる構成によれば、たとえ、第ｉ層目の回路基板に歪みが生じていたとしても、第（ｉ＋１）層目用の回路基板作成用基板上に、第（ｉ＋１）層目の配線パターンを第ｉ層目の回路基板の配線パターンと適合した状態で、露光することができる。したがって、積層回路基板を、その連続する上下の層の間で配線パターンにずれが生じないように、作成することができる。
【００３３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態による配線パターン露光装置について図に基づき説明する。
【００３４】
（第１の実施の形態）
まず、本発明の第１の実施の形態による配線パターン露光装置１について図１〜図１０に基づき説明する。
【００３５】
本実施の形態の配線パターン露光装置１は、図１に示すように、回路基板作成用基板Ｂに対し所望の配線パターンを露光するための装置である。ここで、回路基板作成用基板Ｂは、プラスチック基板Ｐと、プラスチック基板Ｐ上に形成された銅箔Ｃと、銅箔Ｃ上に形成された感光材Ｓ（例えば、フォトレジスト）とからなる。
【００３６】
配線パターン露光装置１は、図１に示すように、書き込み光源１０と、コリメートレンズ２０と、液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤという）３０と、結像レンズ４０と、制御装置５０とからなる。
【００３７】
書き込み光源１０は、一様な強度分布を有する書き込み光（第１の読み出し光）を生成するためのものである。書き込み光源１０は、例えば、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザ（第２高調波発生モジュールを備えたＹＡＧレーザ）で構成されている。
【００３８】
コリメートレンズ２０は、書き込み光源１０からの書き込み光をコリメートして平行光を生成するためのものである。
【００３９】
ＬＣＤ３０は、所望のパターンにて電気アドレス駆動されることにより、コリメートレンズ２０からの書き込み光を強度変調して、当該所望のパターンの強度分布を有する強度変調光（第１のパターン光）を生成するためのものである。ＬＣＤ３０は、透過型の電気アドレス型強度変調型空間光変調器であり、光入射層３０ａ、光伝達層３０ｂ、及び、光入射層３０ａと光伝達層３０ｂとの間に設けられた光変調層３０ｃとから構成されている。
【００４０】
結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０で生成された強度変調光を感光材Ｓ上に結像するためのものである。すなわち、回路基板作成用基板Ｂが、感光材Ｓが結像レンズ４０の結像面に位置するように、配置されている。
【００４１】
制御装置５０は、パーソナルコンピュータからなり、所望の配線パターンのデータに基づいて、ＬＣＤ３０を駆動することにより、読みだし光に該所望の配線パターンを担持させるためのものである。
【００４２】
以下、図２を参照して、ＬＣＤ３０の構造の具体例を説明する。
【００４３】
光入射層３０ａは、偏光板３１と透明ガラス基板３２とから構成されている。光伝達層３０ｂも、他の透明ガラス基板３８と偏光板３９とから構成されている。光変調層３０ｃは、透明ガラス基板３２上に形成されたシリコン単結晶フィルム３３と、シリコン単結晶フィルム３３上に形成された画素構造３４と、透明ガラス基板３８上に形成された対向電極３７と、対向電極３７と画素構造３４との間に形成されたツイストネマチック液晶層３６とから構成されている。
【００４４】
画素構造３４は、シリコン単結晶フィルム３３上に配列された複数の透明画素電極３５ａから形成されている。これら複数の透明画素電極３５ａは、所定のピッチＰにて２次元マトリックス状に配列されている。隣り合う透明画素電極３５ａの間には、薄膜トランジスタＴＦＴからなるスイッチング素子３５ｂが設けられており、遮光マスクにより覆われている。各透明画素電極３５ａが書き込み光に対する開口部として機能し、各スイッチング素子３５ｂが書き込み光を遮蔽する光遮蔽部として機能する。こうして、開口部３５ａが所定のピッチＰで配列した画素構造３４が形成されている。
【００４５】
かかる構成を有するＬＣＤ３０は、図１に示すように、光入射層３０ａがコリメートレンズ２０に対向し、光伝達層３０ｂが結像レンズ４０に対向するように配置されている。光変調層３０ｃの透明画素電極３５ａが、制御装置５０の後述する制御部５０ｄに接続されており、所望の配線パターンにて電気アドレス駆動される。より詳しくは、制御部５０ｄは、所望の配線パターンを示す画像信号により所望のスイッチング素子３５ｂを駆動することにより、対応する画素電極３５ａを選択的に駆動する。液晶層３６では、液晶分子の配向状態が、選択駆動された画素電極３５ａと対向電極４７との間の領域にて変化する。コリメートレンズ２０からの書き込み光が偏光板３１を介して液晶層３６に入射すると、その偏光状態が変化し、偏光板３９を介して出射することで、所望の配線パターンの強度分布を担持した強度変調光を生成する。このように、ＬＣＤ３０は、所望の配線パターンの強度分布を有する強度変調光を生成する。
【００４６】
ここで、透明画素電極３５ａは所定のピッチＰにて配列されているため、ＬＣＤ３０によって生成可能な信号画像の最大空間周波数（ＬＣＤ３０の解像度）、すなわち、隣り合う透明画素電極３５ａに交互に白黒を表示した場合の空間周波数は、１／（２Ｐ）である。一方、透明画素電極３５ａ自体に起因する信号成分の空間周波数は１／Ｐであり、上記信号画像最大空間周波数（１／（２Ｐ））の２倍の大きさである。
【００４７】
結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０から出力された強度変調光を感光材Ｓに結像する。ここで、ＬＣＤ３０は、配線パターンを、選択された複数の透明画素電極３５ａによって、図３の例に示すように表示する。なお、図３は、ＬＣＤ３０の表示画像をＣＣＤ撮像装置にて撮像した撮像図である。ここで、透明画素電極３５ａは遮光層で覆われたスイッチ素子３５ｂにて互いに離隔して配置されている。このため、ＬＣＤ３０は、互いに分断されながら並べられた複数の画素によって、配線パターンを表示している。このため、表示された配線パターンは、不連続にサンプリングされた画像として形成されている。したがって、結像レンズ４０がこの配線パターンをこのまま感光材Ｓに結像したのでは、配線パターンは細切れに断線された状態で感光材Ｓに露光されてしまう。
【００４８】
ここで、平行光が結像レンズ４０に入射した場合に結像レンズ４０が伝達できる最大空間周波数は、結像レンズの開口数と光の波長とにより決定される。すなわち、結像レンズ４０が伝達できる最大空間周波数はＮＡＬ／λで表される。ここで、ＮＡＬは、結像レンズ４０のＬＣＤ３０側の開口数ＮＡＬであり、λは書き込み光源１０からの書き込み光の波長である。したがって、最大空間周波数ＮＡＬ／λを、ＬＣＤ３０の画素ピッチＰに対して、ＮＡＬ／λ＜１／Ｐの関係を有するように選択すれば、結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する空間周波数１／Ｐの信号成分を、結像面である感光材Ｓに伝達せずに消去する光学的ローパスフィルタとして機能する。
【００４９】
特に、開口数ＮＡＬを、１／（２Ｐ）＜ＮＡＬ／λ＜１／Ｐの関係を満足するように設定すれば、結像レンズ４０は、画素構造を除去しつつ、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンの空間周波数成分の全範囲（すなわち、１／（２Ｐ）以下の空間周波数成分）について劣化を生じることなく、感光材Ｓに伝達することができる。したがって、結像面である感光材Ｓ上には、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターン情報が伝達され、しかも、画素構造３４に起因する情報が除去されている像を得ることができる。
【００５０】
本実施の形態では、結像レンズ４０として、その開口数が１／（２Ｐ）＜ＮＡＬ／λ＜１／Ｐの関係を満足しているものを配置している。したがって、結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０に表示されている図３に示す配線パターンから画素構造３４に起因した信号成分を除去し、配線パターンを感光材Ｓに対し図４に示すように結像する。したがって、感光材Ｓには、配線パターンが断線されていない状態で露光される。なお、図４は、図１の配線パターン露光装置において、回路基板作成用基板Ｂの位置に、回路基板作成用基板Ｂの代わりにＣＣＤ撮像装置を配置して撮像した撮像図である。
【００５１】
制御装置５０は、図１に示すように、メモリ部５０ａと、入力部５０ｂと、拡大・縮小演算部５０ｃと、制御部５０ｄとからなる。
【００５２】
メモリ部５０ａは、所定の配線パターンのデータを予め格納している。
【００５３】
入力部５０ｂは、キーボードやマウス等からなり、ユーザが必要な指示やデータを入力するためのものである。
【００５４】
拡大・縮小演算部５０ｃは、所定の配線パターンのデータをメモリ部５０ａから読み出し、当該所定の配線パターンを所望の拡大・縮小率にて拡大または縮小する演算処理を行うためのものである。拡大・縮小演算部５０ｃは、こうして生成した所望サイズの配線パターンデータを、制御部５０ｄに出力する。
【００５５】
ここで、所望の拡大・縮小率の値は、メモリ部５０ａに予め設定されていてもよく、ユーザが入力部５０ｂに入力しても良く、もしくは、拡大・縮小演算部５０ｃが演算により求めても良い。なお、所望の拡大・縮小率の値が１である場合には、拡大・縮小演算部５０ｃは、拡大・縮小演算を行うことなく、メモリ部５０ａから読み出した配線パターンのデータをそのまま制御部５０ｄに出力する。
【００５６】
制御部５０ｄは、拡大・縮小演算部５０ｃから受け取った配線パターンデータに基づいて画像信号を生成し、当該画像信号に基づいてＬＣＤ３０のスイッチング素子３５ｂ（図２参照）を選択的に駆動するためのものである。こうして、ＬＣＤ３０に対し、所望のサイズの配線パターンを担持した強度変調パターン光を生成させる。
【００５７】
以下、上記構成を有する配線パターン露光装置１の動作について説明する。
【００５８】
ユーザは、書き込み光源１０をオンし、入力部５０ａに対し露光動作の開始を指示する。かかる指示に従い、拡大・縮小演算部５０ｃは、所定の配線パターンのデータをメモリ部５０ａから読み出し、当該配線パターンを所望の拡大・縮小率にて拡大・縮小する演算処理を行い、演算結果の配線パターンデータを制御部５０ｄに出力する。制御部５０ｄは、拡大・縮小演算部５０ｃから受け取った配線パターンデータに基づいて画像信号を生成し、当該画像信号に基づいてＬＣＤ３０のスイッチング素子３５ｂを選択的に駆動する。この結果、ＬＣＤ３０は、図３に示すように、所定の配線パターンを、所望のサイズにて表示する。
【００５９】
結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンから画素構造３４に起因した信号成分を除去し、配線パターンを、図４に示すように、感光材Ｓに結像する。したがって、感光材Ｓには、所定の配線パターンが所望のサイズにて、しかも、断線されていない状態で露光される。こうして、配線パターンが、図５の（Ａ）に示すように、感光材Ｓに照射される。感光材Ｓは、当該配線パターンの位置で硬化する。
【００６０】
露光後の回路基板作成用基板Ｂは以下のように処理され、回路基板Ｍが作成される。
【００６１】
まず、図５の（Ｂ）に示すように、感光材Ｓのうち硬化していない部分が所定の溶剤にて溶かされ除去される。この結果、硬化していない感光材Ｓの部分の下の銅箔Ｃが露出する。次に、露出した銅箔Ｃが、所定の溶剤により溶かされ除去される。最後に、硬化して残った感光材Ｓが、所定の溶剤で除去される。この結果、図５の（Ｃ）に示すように、配線パターンを有する銅箔Ｃのみがプラスチック基板Ｐ上に残された回路基板Ｍが完成する。こうして作成された回路基板Ｍには、所定の配線パターンＣが、所望のサイズにて、かつ、断線されていない状態で形成されている。
【００６２】
本実施の形態の配線パターン露光装置１は、更に、複数枚の回路基板Ｍが積層された積層回路基板Ｎを作成するのにも使用することができる。ただし、この場合には、メモリ部５０ａには、積層基板Ｎを構成する複数の回路基板Ｍ用の複数の配線パターンのデータが予め格納されている。
【００６３】
なお、以下の説明では、２枚の回路基板Ｍが積層された２層構造の積層回路基板Ｎを作成する場合について、説明する。したがって、メモリ部５０ａには、第１層目用の所定の配線パターンのデータと第２層目用の所定の配線パターンのデータとが、予め格納されている。
【００６４】
まず、積層回路基板Ｎを作成する方法の基本原理を、図５を参照して、説明する。
【００６５】
まず、配線パターン露光装置１に、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂを、図１に示すように配置する。第１層目用の配線パターンを、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂに露光する（図５（Ａ））。露光された第１層目用の回路基板作成用基板Ｂから不要な感光材Ｓと銅箔Ｃとを除去して、第１層目の回路基板Ｍを作成する（図５（Ｂ）、（Ｃ））。次に、図５（Ｄ）に示すように、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂを第１層目の回路基板Ｍの上に積層し、再び、配線パターン露光装置１に配置する。なお、図５（Ｄ）の積層基板は、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂの感光材Ｓが結像レンズ４０の結像面に位置するように、配置される。そして、第２層目用の配線パターンを、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂに露光する。その後、図５（Ｅ）に示すように、不要な感光材Ｓと銅箔Ｃとを第２層目用の回路基板作成用基板Ｂから除去し、第２層目の回路基板Ｍを作成する。この結果、２枚の回路基板Ｍが積層された積層回路基板Ｎが完成する。
【００６６】
しかし、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂが第１層目用の配線パターンにて露光される際（図５（Ａ））、プラスチック基板Ｐが、レーザ光の熱等の影響により、膨張または収縮する可能性がある。そのため、本実施の形態では、図６に示すように、積層回路基板Ｎを作成するようにしている。
【００６７】
以下、本実施の形態による積層基板作成処理について、図６を参照して、説明する。
【００６８】
ここで、第１層目用の配線パターンは、第２層目用の配線パターンと電気的に接続されるための導通点を備えている。同様に、第２層目用の配線パターンも、第１層目用の配線パターンと電気的に接続されるための導通点を備えている。また、第１及び第２層目用の配線パターンは、互いに同一の拡大・縮小率（この場合、１であり、以下、「所定倍率」という）ｋにて拡大・縮小されて露光されると、その導通点が互いに同一の所定の位置に露光されるように作成されている。このため、メモリ部５０ａには、第１，第２層目用の所望の拡大・縮小率として、該所定倍率ｋ（この場合、１）が、予め設定されている。
【００６９】
まず、配線パターン露光装置１に、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂが、図１に示すように配置される（ステップＳ１０）。
【００７０】
次に、拡大・縮小演算部５０ｃは、第１層目用の配線パターンをメモリ部５０ａから読み出し、これに、所定倍率ｋ（この場合、１）による拡大・縮小演算を施すことで、第１層目用の配線パターンを拡大・縮小し、得られた配線パターンを制御部５０ｄに出力する（ステップＳ２０）。なお、この例では、所定倍率ｋは１であるため、拡大・縮小演算部５０ｃは、読み出した第１層目用の配線パターンをそのまま制御部５０ｄに出力する。
【００７１】
次に、制御部５０ｄは、受け取った配線パターンに基づいて画像信号を生成し、ＬＣＤ３０を駆動して、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂに対し露光動作を行う（ステップＳ３０、図５（Ａ））。この結果、第１層目の回路基板作成用基板Ｂに、所定倍率ｋ（＝１）にて拡大・縮小された第１層目用の配線パターンが露光される。露光された第１層目用の回路基板作成用基板Ｂから不要な感光材Ｓと銅箔Ｃとが除去されて、第１層目の回路基板Ｍが作成される（図５（Ｂ）、（Ｃ））。
【００７２】
ここで、ステップＳ３０の工程中、第１層目の回路基板Ｍが、図７の（Ａ）に示すように、膨張も収縮もしなかった場合には、第１層目用の配線パターンは所望のサイズを維持し、そのため、導通点も所定の位置に維持される。したがって、第２層目用の配線パターンを、所定倍率ｋ（この場合、１）にて拡大・縮小して第２層目用の回路基板作成用基板Ｂ上に露光すれば、図５（Ｄ）及び図７（Ａ）に示すように、第１層目の導通点の位置と第２層目の導通点の位置とが正確に合致することがわかる。
【００７３】
一方、第１層目の回路基板Ｍが、例えば図７の（Ｂ）に示すように、全体的に収縮してしまった場合には、導通点が、所定の位置からずれてしまう。かかる場合に、第２層目用の配線パターンを、単に、所定倍率ｋ（この場合、１）にて拡大・縮小して露光したのでは、第１層目の導通点の位置と第２層目の導通点の位置とが、ずれてしまう。
【００７４】
そこで、第１層目の回路基板Ｍが作成されると、ユーザは、第１層目の回路基板Ｍの歪みの状態を計測し、その計測結果を入力部５０ｂに入力する（Ｓ４０）。
【００７５】
より詳しくは、予め、第１層目用の回路基板作成用基板Ｂのプラスチック基板Ｐに、複数の基準点（例えば、４隅の点）をマーキングしておく。ここで、これら基準点は、プラスチック基板Ｐが膨張や収縮していない元の状態では、所定の基準位置に位置している。なお、当該所定の基準位置を示す基準データを、メモリ部５０ａに予め格納しておく。ユーザは、第１層目の回路基板Ｍ作成後、当該回路基板Ｍ上の基準点の位置を計測し、その計測結果を入力部５０ｂに入力する。
【００７６】
ユーザは、その後、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂを、図５（Ｄ）のように第１層目の回路基板Ｍ上に積層し、その状態で、配線パターン露光装置１に配置する（ステップＳ５０）。
【００７７】
次に、拡大・縮小演算部５０ｃは、入力された計測結果に基づいて、第１層目の回路基板Ｍの膨張・収縮率α１を求める（Ｓ６０）。より詳しくは、拡大・縮小演算部５０ｃは、各基準点の計測位置を、メモリ部５０ａに格納されている基準データと比較する。すなわち、いずれかの基準点の計測位置が所定の基準位置よりずれているか否かを判断する。いずれかの基準点の計測位置がある割合でずれていれば、第１層目の回路基板Ｍが、対応する割合で膨張または収縮していることがわかる。そこで、拡大・縮小演算部５０ｃは、この割合を、膨張・収縮割合α１として決定する。
【００７８】
拡大・縮小演算部５０ｃは、求めた膨張・収縮率α１を所定倍率ｋ（この例では１）に掛け算して、第２層目の拡大・縮小率β２（＝α１ｘｋ）を演算する（Ｓ７０）。
【００７９】
なお、全基準点の計測位置が所定の基準位置に合致している場合には、第１層目の回路基板Ｍは膨張も収縮もしていないので、膨張・収縮割合α１が１と決定される。したがって、膨張・収縮割合α１（この場合、１）が所定倍率ｋ（この場合、１）に掛け算され、第２層目用の配線パターンの拡大・縮小率β２（＝α１ｘｋ＝１）が求められる。
【００８０】
次に、拡大・縮小演算部５０ｃは、第２層目用の配線パターンに、求めた拡大・縮小率β２による拡大・縮小演算を施して、得られた配線パターンを制御部５０ｄに出力する（Ｓ８０）。制御部５０ｄは、受け取った配線パターンに基づいて画像信号を生成し、ＬＣＤ３０を駆動して第２層目用の回路基板作成用基板Ｂに対し露光を行う（Ｓ９０、図５（Ｄ））。この結果、第２層目の回路基板作成用基板Ｂには、第１層目の回路基板Ｍの膨張・収縮割合α１に対応した割合β２（＝α１ｘｋ）にて拡大・縮小された配線パターンが露光される。したがって、第２層目の回路基板作成用基板Ｂに露光される導通点の位置は、第１層目の回路基板Ｍ上の導通点の位置に正確に合致する。
【００８１】
その後、不要な感光材Ｓと銅箔Ｃとが第２層目用の回路基板作成用基板Ｂから除去され（図５（Ｅ））、第２層目の回路基板Ｍが作成され、積層回路基板Ｎが完成する。こうして、積層基板作成処理が終了する。
【００８２】
例えば、第１層目の回路基板Ｍが、その露光工程（Ｓ３０，図５（Ａ））の結果、図７の（Ａ）に示すように、例えば、３／４倍収縮したとする。その場合には、拡大・縮小演算部５０ｃは、入力された計測結果と基準データとの比較結果に基づき、第１層目の収縮割合α１を３／４と決定する。拡大・縮小演算部５０ｃは、所定倍率ｋ（＝１）に当該収縮割合α１（＝３／４）を掛け算して、得られた値α１ｘｋ（＝３／４）を、第２層目用の配線パターン用の縮小率β２として設定する。拡大・縮小演算部５０ｃは、第２層目用の配線パターンを、設定した縮小率β２（＝３／４）にて縮小した後、制御部５０ｄに出力する。この結果、第２層目の回路基板作成用基板Ｂには、第１層目の回路基板Ｍの収縮割合α１（＝３／４）に等しい割合β２（＝３／４）にて縮小された配線パターンが露光される。したがって、第２層目の回路基板作成用基板Ｂに露光される導通点の位置が、第１層目の回路基板Ｍ上の導通点の位置に合致することになる。
【００８３】
なお、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂが露光される（図５（Ｄ））際にも、第２層目用のプラスチック基板Ｐが膨張または収縮する可能性がある。しかしながら、かかる露光の際には、第２層目用のプラスチック基板Ｐと第１層目のプラスチック基板Ｐとが同一の割合で膨張または収縮すると考えられる。したがって、第１層目の膨張・収縮割合を第２層目の露光を行う前に計測し、その割合と同一の拡大・縮小割合で第２層目の配線パターンを拡大・縮小して第２層目の露光を行えばよい。たとえ、第１，２層目のプラスチック基板Ｐが膨張または収縮しても、両者は、同一の割合で、すなわち、その導通点の位置を合致させた状態を維持したまま膨張または収縮することになるからである。
【００８４】
また、プラスチック基板Ｐは、一般には、全体が一定の割合で膨張・収縮するのではなく、位置によって膨張・収縮のしかたが異なる。そこで、第１層目の回路基板Ｍを複数の領域に分割して考え、各領域の膨張・収縮の具合を計測して第１層目の回路基板Ｍの歪み具合を把握するようにすれば、第２層目の導通点を第１層目の導通点に対しより精度良く合致させることができる。
【００８５】
具体的には、第１層目のプラスチック基板Ｐの複数の領域のそれぞれに対し、複数の基準点（例えば、４隅の点）をマーキングしておく。各領域は、膨張・収縮していない場合、対応する基準点が所定の基準位置に位置するようになっている。この所定の基準位置を示す基準データをメモリ部５０ａに予め格納しておく。また、第２層目用の配線パターンを、対応する領域毎に複数の配線パターンに分割し、各配線パターンのデータをメモリ部５０ａに予め格納しておく。ユーザは、第１層目の回路基板Ｍ作成後、各領域の基準点の位置を計測し、その計測結果を入力部５０ｂに入力する（Ｓ４０）。拡大・縮小演算部５０ｃは、Ｓ６０にて、各領域について、メモリ部５０ａに格納されている基準データと入力結果とを比較して、当該領域の膨張・縮小割合を求める。拡大・縮小演算部５０ｃは、当該膨張・縮小割合を所定倍率に掛け算して、第２層目用の対応する領域のパターンの拡大・縮小率を決定する（Ｓ７０）。ただし、Ｓ７０において各領域のパターンに対する拡大・縮小率を決定するにあたっては、隣り合う領域のパターンが、拡大・縮小後も、互いに正しく導通し回路として動作するような値に決定する。こうして決定された拡大・縮小率に基づき、各領域用のパターンを拡大・縮小する（Ｓ８０）。そして、拡大・縮小された各領域用のパターンを、隣りの領域用のパターンと導通するように位置決めしながら、順番に、第２層目用の回路基板作成用基板Ｂに露光する（Ｓ９０）。
【００８６】
更に、本実施の形態の配線パターン露光装置１によれば、３枚以上の任意の枚数の回路基板Ｍを積層して積層回路基板Ｎを作成することもできる。なお、各層用の配線パターンは、上下に隣あう層の配線パターンと導通する導通点を備えている。また、各層用の配線パターンは、同一の所定倍率ｋ（例えば、１）にて拡大・縮小されると、その導通点が、隣り合う層の導通点の位置と合致するように、作成され、メモリ部５０ａに格納されている。
【００８７】
この場合には、２層目までを、図６に示す方法で作成する。第３層目以降の各層（以下、第（ｉ＋１）（ここで、ｉは２以上の自然数）層目という）については、図６のＳ４０〜Ｓ９０の第２層目に対する処理を第（ｉ＋１）層目に対して行えば良い。
【００８８】
より詳しくは、ユーザは、第ｉ層目の回路基板Ｍを作成すると、該第ｉ層目の回路基板Ｍの歪みの状態を計測し、その計測結果を入力部５０ｂに入力する（Ｓ４０）。そして、第（ｉ＋１）層目用の回路基板作成用基板Ｂを第ｉ層目の回路基板Ｍ上に積層し、配線パターン露光装置１に設置する（Ｓ５０）。拡大・縮小演算部５０ｃは、第ｉ層目の回路基板の膨張・収縮割合αｉを求める（Ｓ６０）。なお、Ｓ７０では、拡大・縮小演算部５０ｃは、この膨張・収縮割合αｉを、第１〜第（ｉ−１）層目の回路基板Ｍの膨張・収縮割合α１〜αｉ−１と共に、所定倍率ｋに掛け算することで、第（ｉ＋１）層目用の拡大・縮小率βｉ＋１を決定する。すなわち、数式βｉ＋１＝α１ｘα２ｘ・・・ｘαｉ−１ｘαｉｘｋを演算する。拡大・縮小演算部５０ｃは、第（ｉ＋１）層目用の配線パターンを、決定した拡大・縮小率βｉ＋１にて拡大または縮小する（Ｓ８０）。
【００８９】
具体的には、まず、第１層目用の配線パターンを所定倍率ｋにて拡大・縮小して第１層目用の回路基板作成用基板Ｂに露光し第１層目の回路基板Ｍを作成する。ここで、第１層目の回路基板Ｍが膨張・収縮割合α１にて膨張・収縮していたとする。この場合には、第２層目用の配線パターンを、拡大・縮小率β２（＝膨張・収縮割合α１ｘ所定倍率ｋ）にて拡大・縮小して、第２層目用の回路基板作成基板Ｂに露光する。さらに、第２層目の回路基板Ｍが、その露光工程中、膨張・収縮割合α２にて膨張・収縮したとする。その場合には、第３層目用の配線パターンを、拡大・縮小率β３（＝第１層目の膨張・収縮割合α１ｘ第２層目の膨張・収縮率α２ｘ所定倍率ｋ）にて拡大または縮小する。さらに、第３層目の回路基板Ｍが、その露光工程中、膨張・収縮割合α３にて膨張・収縮したとする。その場合には、第４層目用の配線パターンを、拡大・縮小率β４（＝第１層目の膨張・収縮割合α１ｘ第２層目の膨張・収縮割合α２ｘ第３層目の膨張・収縮割合α３ｘ所定倍率ｋ）にて拡大または縮小する。このように、拡大・縮小演算部５０ｃは、第３層目以上の各層（第（ｉ＋１）層（ｉは２以上の自然数））に対する露光を行うにあたり、それまでに形成された層の膨張・収縮割合α１〜αｉの積と所定倍率ｋとの積に基づいて拡大・縮小倍率βｉ＋１を決定し、当該第（ｉ＋１）層用のパターンを整形することにより、連続する上下の層の間で配線パターンにずれが生じることを防止する。
【００９０】
なお、上記説明では、各層用の配線パターンは、互いに等しい所定倍率ｋ（例えば、１）にて拡大・縮小されて露光されるとその導通点が合致するように作成されていた。しかしながら、互いに異なる所定倍率にて拡大・縮小されて露光されるとその導通点が合致するように作成されていても良い。この場合、第（ｉ＋１）層目用の所定倍率をｋｉ＋１とすると、第（ｉ＋１）層目用の拡大・縮小率βｉ＋１は、第１〜ｉ層目の回路基板の膨張・収縮割合α１〜αｉの積と、第（ｉ＋１）層目用の所定倍率ｋｉ＋１とを掛け算して求めれば良い。すなわち、数式βｉ＋１＝α１ｘα２ｘ・・・ｘαｉｘｋｉ＋１を演算すれば良い。かかる拡大・縮小率βｉ＋１にて第（ｉ＋１）層目用のパターンを拡大・縮小すれば、第（ｉ＋１）層目用の配線パターン上の導通点の位置を、第ｉ層目の回路基板上の配線パターン上の導通点の位置に合致させることができる。
【００９１】
以下、本実施の形態の変更例について説明する。
【００９２】
（第１の変更例）
本変更例では、結像レンズ４０の代わりに、図８に示すような光学的ローパスフィルタ６０を配置する。
【００９３】
光学的ローパスフィルタ６０は、例えば、第１のレンズ６２と、第２のレンズ６４と、第１のレンズ６２のフーリエ面Ｆに設けられたアパーチャ板６６とからなる。アパーチャ板６６には、第１のレンズ６２の光軸を中心に形成された所定のサイズのアパーチャ６６ａが形成されている。
【００９４】
かかる構成の光学的ローパスフィルタ６０によれば、コリメートレンズ２０からの平行光がＬＣＤ３０を透過することにより生成された強度変調光は、第１のレンズ６２にて空間的にフーリエ変換される。その結果、強度変調光は、フーリエ面Ｆにおいて、空間周波成分に展開される。すなわち、フーリエ面Ｆ上では、強度変調光の空間周波数成分が、図９に示すように分布している。なお、図９は、フーリエ面での様子を１次元的に示したものである。ここで、ＬＣＤ３０上に表示されるパターンの空間周波数成分のうち、画素構造３４の空間周波数１／Ｐが最も高い成分である。したがって、フーリエ面Ｆには、画素構造３４による回折光が、中心（光軸）から最も離れたところに輝点として現れる。そこで、本変更例では、アパーチャ板６６のアパーチャ６６ａのサイズを、当該回折光をカットしつつ、ＬＣＤ３０が表示するパターンの最大空間周波数１／（２Ｐ）以下を透過させるように設定する。具体的には、図９に示すように、アパーチャ６６ａのサイズを、例えば空間周波数３／（４Ｐ）以下を透過するように設定する。したがって、フーリエ面Ｆ上に配置されたアパーチャ板６６は、空間周波数１／Ｐ以上をカットしつつ、空間周波数１／（２Ｐ）以下を透過するフィルタとして機能する。このため、光学的ローパスフィルタ６０の出力面である感光材Ｓには、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターン情報は伝達され、しかも、画素構造３４に起因した情報が除去された像が得られる。したがって、感光材Ｓには、配線パターンが断線していない状態で露光される。
【００９５】
（第２の変更例）
本変更例では、結像レンズ４０の開口数ＮＡＬを調整する代わりに、図１０に示すように、ＬＣＤ３０と結像レンズ４０との間に位相回折格子（位相板）７０を配置する。
【００９６】
ここで、位相回折格子７０には、１／Ｐより低い空間周波数成分のみを通過させるような回折格子パターンが形成されており、光学的ローパスフィルタとして機能する。具体的には、位相回折格子７０の回折格子パターンは、ＬＣＤ３０の各画素３５ａから出射した光を受け取り、そのままの出射方向に０次回折光を生成すると共に、その両側の所定の回折方向に、＋１次回折光及び−１次回折光を生成する。その結果、出力面である感光材Ｓ上には、図１０に示すように、これら＋１次及び−１次回折光が、対応する画素３５ａの両側の隙間３５ｂを埋めるような位置に到達する。したがって、ＬＣＤ３０上で不連続にサンプリングされていた画像が、感光材Ｓ上では、隙間が補間された状態で再現されることになる。このため、配線パターンが、断線していない状態で、感光材Ｓに露光される。
【００９７】
なお、位相回折格子７０の代わりに、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去するよう、厚みやカット軸が選択された水晶板等の複屈折板を設けてもよい。かかる複屈折板も、光学的ローパスフィルタとして機能することで、画素構造を除去することができる。
【００９８】
（第３の変更例）
上記第１の実施の形態及びその第１、第２の変更例では、物体側の開口数ＮＡＬが所定の条件を満足する結像レンズ４０や光学的ローパスフィルタ６０や位相回折格子７０等に、画素構造３４による回折光をカットするローパスフィルタとして機能させることで、画素構造３４に起因した信号成分を除去させた。
【００９９】
一方、本変更例では、図１の構成において、回路基板作成用基板Ｂの感光材Ｓの位置を、わざと、結像レンズ４０の結像面からずれた位置に配置する。したがって、ＬＣＤ３０上に表示されている配線パターンをぼけさせながら感光材Ｓに露光させることができる。感光材Ｓ上で画素構造が目立たなくなるため、画素と画素との間の隙間が埋められ、断線のない配線パターンを露光することができる。
【０１００】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態による配線パターン露光装置について図１１〜図２３に基づき説明する。
【０１０１】
本実施の形態の配線パターン露光装置２では、ＬＣＤ３０を単体で使用する代わりに、空間光変調モジュール１００を使用している。
【０１０２】
すなわち、本実施形態の配線パターン露光装置２は、制御装置５０と、空間光変調モジュール１００と、読みだし光源１６０と、コリメートレンズ１７０と、偏光ビームスプリッタ（以下、ＰＢＳという）１８０と、結像レンズ１９０とからなる。
【０１０３】
読みだし光源１６０は、一様な強度分布を有する読み出し光（第２の読み出し光）を生成するためのものである。本実施形態では、読みだし光源１６０は、例えば、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザである。なお、読み出し光源１６０からの読み出し光は、略一様な位相分布を有し、かつ、所定の偏光面を有する直線偏光である。本実施の形態では、読みだし光源１６０は、その偏光面が図１１の紙面に対して直交するような向きに配置されている。
【０１０４】
コリメートレンズ１７０は、読みだし光源１６０からの読み出し光をコリメートして平行光とするためのものである。
【０１０５】
ＰＢＳ１８０は、偏光方向が図１１の紙面に対して直交するｓ偏光成分の光を略１００％反射し、偏光方向が紙面に対して平行なｐ偏光成分の光を略１００％透過するためのものである。ここで、本実施の形態の場合、読みだし光源１６０から出射した直線偏光は図１１の紙面に対して直交する向きに偏光面を有しているため、コリメートレンズ１７０を透過後、ｓ偏光としてＰＢＳに入射する。このため、ＰＢＳ１８０は、コリメートレンズ１７０を透過した読みだし光を空間光変調モジュール１００に導く。ＰＢＳ１８０は、また、空間光変調モジュール１００で偏光面の回転を受けた読みだし光のうちｐ偏光成分を透過させることによって、強度変調光を生成する機能をも有する。
【０１０６】
結像レンズ１９０は、ＰＢＳ１８０を透過した強度変調光を回路基板作成用基板Ｂの感光材Ｓ上に結像するためのものである。すなわち、回路基板作成用基板Ｂが、感光材Ｓが結像レンズ１９０の結像面に位置するように配置されている。なお、回路基板作成用基板Ｂは、第１層目の回路基板作成用のものでもよく、もしくは、第２層目の回路基板作成用のもので、その下に、図示されていない第１層目の回路基板Ｍが設けられていても良い。
【０１０７】
制御装置５０は、第１の実施の形態の制御装置５０と同一の構成を有している。すなわち、図１１では図示していないが、制御装置５０は、図１に示す第１の実施の形態と同様、メモリ部５０ａと、入力部５０ｂと、拡大・縮小演算部５０ｃと、制御部５０ｄとを備えている。但し、本実施の形態では、制御部５０ｄは、空間光変調モジュール１００内のＬＣＤ３０を駆動する。
【０１０８】
次に、図１２を参照して、空間光変調モジュール１００について説明する。
【０１０９】
空間光変調モジュール１００は、書き込み光源１０と、コリメートレンズ２０と、ＬＣＤ３０と、結像レンズ４０と、平行配向型ネマチック液晶空間光変調器（以下、ＰＡＬ−ＳＬＭ（Parallel-Aligned nematic-Liquid-crystal Spatial Light Modulator）という）１５０とから構成されている。
【０１１０】
書き込み光源１０、コリメートレンズ２０、ＬＣＤ３０、及び、結像レンズ４０は、それぞれ、第１の実施の形態の書き込み光源１０、コリメートレンズ２０、ＬＣＤ３０、及び、結像レンズ４０（図１，２）と同一の構成を有し、第１の実施の形態の場合と同一の位置関係で配置され同一の機能を有する。但し、本実施の形態では、結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０から出力された強度変調光（第１のパターン光）を、回路基板作成用基板Ｂにではなく、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に伝達する。
【０１１１】
ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、書き込み部１５０ａと読み出し部１５０ｂとを有する反射型の光アドレス型位相変調型空間光変調器である。書き込み部１５０ａは、結像レンズ４０にて伝達された強度変調光によって光アドレスされるためのものである。読みだし部１５０ｂは、ＰＢＳ１８０から入射されてきたｓ偏光の読み出し光の波面を、書き込み部１５０ｂに入射した強度変調光のパターンに応じて回転することにより、変調光（第２のパターン光）を生成する。
【０１１２】
図１３は、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の具体例を示している。図１３に示すように、書き込み部１５０ａは、アモルファスシリコン製の光導電層１５１と、透明電極１５４ａと、透明基板１５５ａと、反射防止コート１５６ａとから構成されている。読み出し部１５０ｂは、ネマティック液晶層１５２と、透明電極１５４ｂと、透明基板１５５ｂと、反射防止コート１５６ｂとから構成されている。液晶層１５２の液晶分子は、配向層１５２ａによって、透明電極１５４ａ及び１５４ｂに対して平行に捻れなく一様に配向された水平配向状態となっている。透明電極１５４ａ及び１５４ｂは交流電源１５７に接続されている。ミラー層１５３が、書き込み部１５０ａと読み出し部１５０ｂとの間に設けられている。
【０１１３】
かかる構成のＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、図１２に示されるように、書き込み部１５０ａが結像レンズ４０に対向し、読み出し部１５０ｂがＰＢＳ１８０に対向するように、配置されている。ここで、書き込み部１５０ａ（光導電層１５１）は、結像レンズ４０の結像面上に配置されている。さらに、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、液晶層１５２内の液晶分子の配向方向が、ＰＢＳ１８０から入射されてくるｓ偏光読み出し光の偏光面（図１２の紙面に直交する偏光成分）に対して４５度傾いているような向きに配置されている。したがって、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、強度変調モードで動作する。すなわち、ＬＣＤ３０から出射した強度変調光が結像レンズ４０を介して光導電層１５１に入射・結像すると、光導電層１５１を構成するアモルファスシリコンの結晶構造が変化して、液晶層１５２の液晶分子に与えられる電圧が変化し液晶の屈折率が変化する。このため、ＰＢＳ１８０で反射された読み出し光は、液晶層１５２を伝搬する際、その偏光面が屈折率の変化に応じた量だけ回転する。読み出し光は、ミラー層１５３にて反射し、液晶層１５２中を再び伝搬して偏光面がさらに回転した後、変調光として出射する。かかる変調光のうちｐ偏光成分（図１２の紙面に対して平行な偏光成分）のみがＰＢＳ１８０を透過して、結像レンズ１９０に到達する。したがって、ＰＢＳ１８０を透過した変調光は、結像レンズ４０からの強度変調光の強度分布に対応した強度分布を有する強度変調光となる。こうして生成された強度変調光が、結像レンズ１９０により感光材Ｓ上に結像される。
【０１１４】
ここで、ＬＣＤ３０は、第１の実施の形態と同様、図３の例に示す配線パターンを表示する。そこで、本実施の形態でも、結像レンズ４０のＬＣＤ３０側の開口数ＮＡＬを、ＬＣＤ３０の画素ピッチＰと書き込み光源１０からの書き込み光の波長λに対して、１／（２Ｐ）＜ＮＡＬ／λ＜１／Ｐの関係を有するように選択している。このため、結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する空間周波数１／Ｐの信号成分をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に伝達せず、しかも、ＬＣＤ３０に表示された情報の全空間周波数成分（１／（２Ｐ）以上の空間周波数成分）を劣化することなく伝達する。
【０１１５】
ここで、ＬＣＤ３０では、図１４の（Ａ）に示すように、隙間３５ｂにより互いに分断されながら並べられた複数の画素３５ａが、不連続にサンプリングされた画像を表示している。結像レンズ４０が、この画像を受け取り、当該表示画像を構成している画素と画素との間の隙間を埋めた状態で、その結像面に伝達する。しかしながら、結像レンズ４０が画素構造３４の空間周波数１／Ｐの信号成分を完全には除去できない可能性がある。その場合には、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０には、配線パターンが、図１４の（Ｂ）に示すように、画素３５ａからの強度と隙間３５ｂからの強度との間に強度変化が残った状態で、伝達されてしまう。しかしながら、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、図１５に示すようなｌｏｇ特性を有している。したがって、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、結像レンズ４０の出力におけるこのわずかな強度変化の影響を読みだし光に対して与えない変調動作を行うことができる。したがって、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、図１４の（Ｃ）に示すように、配線パターン光を、画素３５ａと隙間３５ｂとの間の光強度差を略完全に除去した状態で生成することができる。具体的には、ＬＣＤ３０が図３のパターンを表示した場合、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、図１６に示すような配線パターンを出力することができる。なお、図１６は、図１１の配線パターン露光装置２において、回路基板作成用基板Ｂの位置に、回路基板作成用基板Ｂの代わりにＣＣＤ撮像装置を配置して撮像した撮像図である。
【０１１６】
このように、本実施の形態によれば、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０からは、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンから画素構造成分が略完全に除去された配線パターンを担持した変調光が出力される。当該変調光がＰＢＳ１８０により強度変調光に変換され、結像レンズ１９０により感光材Ｓ上に結像されることにより、配線パターン光が、断線されていない状態で、感光材Ｓ上に露光される。したがって、断線されていない配線パターンを有する回路基板Ｍを作成することができる。
【０１１７】
上記構成を有する配線パターン露光装置２は、第１の実施の形態と同様に、配線パターン露光動作を行う。すなわち、第１の実施の形態の構成（図１）と同一の構成を有する制御装置５０が、以下のように、露光動作を制御する。
【０１１８】
ユーザは、書き込み光源１０と読みだし光源１６０と交流電源１５７とをオンし、制御装置５０の入力部５０ａに対し露光動作の開始を指示する。かかる指示に従い、拡大・縮小演算部５０ｃは、所定の配線パターンのデータをメモリ部５０ａから読み出し、当該配線パターンを所望の拡大・縮小率にて拡大・縮小する演算処理を行い、演算結果の配線パターンデータを制御部５０ｄに出力する。制御部５０ｄは、拡大・縮小演算部５０ｃから受け取った配線パターンデータに基づいて画像信号を生成し、当該画像信号に基づいて、空間光変調モジュール１００内のＬＣＤ３０のスイッチング素子３５ｂを選択的に駆動する。この結果、ＬＣＤ３０は、図３に示すように、所定の配線パターンを、所望のサイズにて表示する。結像レンズ４０は、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンから画素構造３４に起因した信号成分を除去し、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像する。ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は読み出し光を変調し、変調光を出力する。ＰＢＳ１８０が、この変調光を強度変調光に変換する。こうして生成された強度変調光が、結像レンズ１９０により感光材Ｓ上に結像される。したがって、感光材Ｓには、所定の配線パターンが所望のサイズにて、しかも、断線されていない状態（図１６）で露光される。また、本実施の形態の配線パターン露光装置２は、第１の実施の形態と同様、図６に示す方法により積層回路基板を作成することもできる。
【０１１９】
以下、本実施の形態の変更例について説明する。
【０１２０】
（第１の変更例）
第１の実施形態に対する第１の変更例同様、結像レンズ４０（図１２）の代わりに、図８に示す光学的ローパスフィルタ６０を設けてもよい。この場合には、光学的ローパスフィルタ６０は、その出力面（図８）にＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａが位置するように、配置される。
【０１２１】
本変更例によれば、光学的ローパスフィルタ６０により画素構造に起因した空間周波数１／Ｐの信号成分をカットし、しかも、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０がそのｌｏｇ特性により変調動作を行うので、空間光変調モジュール１００からは、配線パターンから画素構造成分が略完全に除去されたパターンが出力される。したがって、感光材Ｓには、配線パターンが、断線のない状態で露光される。
【０１２２】
また、第１の実施形態に対する第２の変更例と同様、図１２におけるＬＣＤ３０と結像レンズ４０との間に、図１０に示すように、位相回折格子７０を設けても良い。この場合にも、位相回折格子７０は、その出力面（図１０）にＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａが位置するように、配置される。なお、位相回折格子７０の代わりに、水晶板などの複屈折板を設けてもよい。
【０１２３】
もしくは、第１の実施形態に対する第３の変更例同様、図１２の構成において、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａの位置を結像レンズ４０の結像面からわざとずらし、配線パターンを適度にぼけた状態でＰＡＬ−ＳＬＭ５０に伝達し、画素と画素との間の隙間を目立たなくさせるようにしてもよい。
【０１２４】
（第２の変更例）
本変更例では、ＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とを、結像レンズ４０を介して光接続する代わりに、図１７に示すように、ファイバー光学プレート１４５を介して直接接続する。
【０１２５】
具体的には、本変更例では、図１８に示すように、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０より反射防止コート１５６ａと透明基板１５５ａ（図１３参照）とを除去し、透明電極１５４ａをファイバー光学プレート１４５を介して、ＬＣＤ３０の偏光板３９（図２参照）に直接接続する。
【０１２６】
この場合には、ファイバー光学プレート１４５の開口数ＮＡＦＯＰが、ＬＣＤ３０の画素ピッチＰと、光伝達層３０ｂ（偏光板３９と透明ガラス基板３８）の厚さｄと、書き込み光源１０の波長λに対する光伝達層３０ｂ（偏光板３９と透明ガラス基板３８）の屈折率ｎＧに対して、ｎＧ・Ｐ／ｄ＜ＮＡＦＯＰという条件を満足するように構成すれば、ファイバー光学プレート１４５は、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する信号成分をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に伝達せずに消去することができる。したがって、配線パターンを断線していない状態で感光材Ｓに露光することができる。さらに、ＮＡＦＯＰ＜２ｎＧ・Ｐ／ｄという条件を満足するように構成すれば、ＬＣＤ３０に表示された配線パターンを劣化させることなく伝達することができる。
【０１２７】
（第３の変更例）
本変更例では、図１９に示すように、ＬＣＤ３０は、その光入射層３０ａ上にマイクロレンズアレイ２００を備えている。
【０１２８】
ここで、マイクロレンズアレイ２００は、図２０に示すように、ＬＣＤ３０の偏光板３１上に固定されている。マイクロレンズアレイ２００は、複数の透明画素電極３５ａに１対１に対応して設けられた複数のマイクロレンズ２１０から構成されている。各マイクロレンズ２１０は、偏光板３１上において、対応する透明画素電極３５ａが形成されている位置に設けられている。
【０１２９】
かかる構成によれば、図２１に示すように、コリメートレンズ２０により平行光とされた書き込み光は、各マイクロレンズ２１０に入射すると、対応する透明画素電極３５ａを通過して、マイクロレンズ２１０の後焦点面ｆ上に一旦集光された後、再び拡がっていく。書き込み光は、同時に、対応する透明画素電極３５ａの駆動状態に応じた変調を受ける。
【０１３０】
ここで、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度は、個々の製品の特性によって異なる。ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度が良好で、図２２に破線で示すように、ＬＣＤ３０の画素構造３４の空間周波数である１／Ｐを含みそれ以下の全空間周波数を含む広範囲の空間周波数領域に対して高いＭＴＦ（Modulation Transfer Function）値を有する場合には、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、ＬＣＤ３０の信号画像（空間周波数１／（２Ｐ）以下）のみならず画素構造３４に起因する信号成分（空間周波数１／Ｐ）をも伝達してしまう。一方、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度が悪く、図２２に一点鎖線で示すように、ＬＣＤ３０の信号画像の最大空間周波数である１／（２Ｐ）より低い周波数成分に対してしか高いＭＴＦ値を有しない場合には、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する信号成分のみならず、ＬＣＤ３０の信号画像のうちの高周波数成分（１／（２Ｐ）近辺）をも伝達できない。
【０１３１】
そこで、本変更例では、かかるＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度を考慮し、図１９に示すように、レンズ位置調整機構３００を設け、当該解像度に応じて結像レンズ４０の位置を調整することにしている。かかる位置調整により、空間光変調モジュール１００全体としてのＭＴＦを、図２２の実線で示すように、ＬＣＤ３０の解像度（信号画像の最大空間周波数）１／（２Ｐ）を含みそれ以下の空間周波数に対しては高く、しかも、画素構造３４の空間周波数１／Ｐ以上の空間周波数に対しては低くなるように調整する。したがって、ＬＣＤ３０による信号画像を良好に伝達しつつ、画素構造３４に起因する信号成分をほとんど伝達しない。
【０１３２】
ここで、レンズ位置調整機構３００は、図１９に示すように、結像レンズ４０の位置を光軸方向に調整することで、結像レンズ４０とＬＣＤ３０との距離、及び、結像レンズ４０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０との距離を調整する。レンズ位置調整機構３００は、たとえば、結像レンズ４０を保持する図示しない保持手段と、この保持手段を結像レンズ４０の光軸方向にスライドする図示しないスライド手段とからなる。
【０１３３】
具体的には、結像レンズ４０が、例えば、図２１に実線で示すように、マイクロレンズアレイ２００の後焦点面ｆ上の像をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａ（光導電層１５１）に結像する位置に配置されている場合には、ＬＣＤ３０の各画素をぼけていない状態で、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像する。一方、結像レンズ４０が、図２１に破線で示すように、マイクロレンズアレイ２００の後焦点面ｆからずれた位置の像をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａ（光導電層１５１）に結像する位置に配置されている場合には、ＬＣＤ３０の各画素をぼけている状態で、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像する。
【０１３４】
かかる構成のもと、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度が図２２の一点鎖線で示すように悪い場合には、レンズ位置調整機構３００により、結像レンズ４０を、図２１の実線で示す位置に配置する。この結果、マイクロレンズアレイ２００の後焦点面ｆ上の像を、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の光導電層１５１に結像させることができる。したがって、ＬＣＤ３０の各画素をぼけのない状態でＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像させ、空間光変調モジュール１００全体としてのＭＴＦ値を、図２２の実線で示すように、ＬＣＤ３０の解像度（信号画像の最大空間周波数）１／（２Ｐ）を含みそれ以下の空間周波数に対しては高く、しかも、画素構造３４の空間周波数１／Ｐ以上の空間周波数に対しては低くなるような最適なＭＴＦ特性に調整する。
【０１３５】
また、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度が図２２の破線で示すように良好な場合には、レンズ位置調整機構３００により、結像レンズ４０を、図２１に破線で示すように、マイクロレンズアレイ２００の後焦点面ｆからずれた位置の像をＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の光導電層１５１に結像する位置に配置する。この結果、ＬＣＤ３０の各画素を適度にぼけた状態でＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像させることができる。したがって、空間光変調モジュール１００全体としてのＭＴＦ値を、やはり、図２１に実線で示すように、ＬＣＤ３０の解像度（信号画像の最大空間周波数）１／（２Ｐ）を含みそれ以下の空間周波数に対しては高く、しかも、ＬＣＤ３０の画素構造３４の空間周波数１／Ｐ以上の空間周波数に対しては低くなるような最適なＭＴＦ特性に調整する。
【０１３６】
このため、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の解像度に関わらず、常に、ＬＣＤ３０に表示されている配線パターンから画素構造を除去しつつ、配線パターンの全空間周波数（１／（２Ｐ）以下）を劣化させずに伝達できる適度なＭＴＦ特性を得ることができる。しかも、かかる調整にも関わらず、結像レンズ４０が画素構造３４を完全に除去できずにＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に伝達してしまっても、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、そのｌｏｇ特性（図１５参照）により、画素構造３４を略完全に除去したパターンを出力することができる。したがって、断線がない配線パターンを確実に感光材Ｓに露光することができる。
【０１３７】
この点について図２３を参照してより詳しく説明する。
【０１３８】
ＬＣＤ３０の各画素３５ａからの強度パターン（図２３の（Ａ））を、結像レンズ４０の位置調整によりぼかしながらＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像させると、当該各画素３５ａからの光は、それぞれ、中心部は明るく周辺部にいくにしたがってだんだん暗くなるような強度パターンとして、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０に結像される（図２３の（Ｂ））。ここで、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、そのｌｏｇ特性により２値化に近い変換を行う。したがって、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０からの出力（図２３の（Ｃ））は、結像レンズ４０によるぼかされた状態（図２３の（Ｂ））より、ぼけが少なくなり、より鮮明となる。そこで、レンズ位置調整機構３００により結像レンズ４０の位置を調整し、画素構造がちょうどなくなるくらいにぼかす量を調整すれば、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０は、画素構造が除去され、しかも、ＬＣＤ３０の解像度が維持された配線パターンを出力することができる。したがって、配線パターンを、断線がなく、しかも、ＬＣＤ３０の解像度を維持した状態で、感光材Ｓに露光することができる。
【０１３９】
なお、上記説明では、ＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とを固定し、結像レンズ４０を位置調整可能としたが、逆に、結像レンズ４０を固定し、ＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とに、それぞれ、液晶素子位置調整機構とＰＡＬ−ＳＬＭ位置調整機構とを設けて、これらＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とを、結像レンズ４０に対して光軸方向に位置調整可能としても良い。
【０１４０】
また、上記説明では、複数のマイクロレンズ２１０は、複数の画素電極３５ａに対し１対１に対応して設けられていたが、そのように設けなくてもよい。たとえば、１個の画素電極３５ａに対し複数のマイクロレンズ２１０を設けてもよく、逆に、複数の画素電極３５ａに対し１個のマイクロレンズ２１０を設けてもよい。複数のマイクロレンズ２１０により書き込み光を集光させ、かかる集光された光を複数の画素電極３５ａにおいて変調させれば良い。
【０１４１】
また、コリメートレンズ２０にて平行とさせず、所定の収束光または拡散光をマイクロレンズアレイ２００に照射するのでも良い。
【０１４２】
本発明による配線パターン露光装置は上述した実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変形や改良が可能である。
【０１４３】
例えば、上記実施の形態の配線パターン露光装置を、積層回路基板ではなく単一の層からなる回路基板を作成するためにのみ使用するようにしても良い。この場合、所定の配線パターンのデータを予め所望のサイズにて作成してメモリ部５０ａに格納しておけば、拡大・縮小演算部５０ｃや入力部５０ｂを省略することができる。制御部５０ｄは、メモリ部５０ａから所定の配線パターンデータを読み出し、拡大・縮小処理することなく、画像信号をそのまま作成すれば良い。
【０１４４】
上記実施の形態では、被露光媒体の備える感光材Ｓは、露光すると硬化するタイプのフォトレジストであった。しかしながら、被露光媒体の備える感光材Ｓとしては、露光すると軟化するタイプのフォトレジスト等、他の任意の感光材を使用することができる。
【０１４５】
第１の実施の形態においても、第２の実施の形態の第２の変更例同様、ＬＣＤ３０と感光材Ｓとを、結像レンズ４０ではなく、ファイバー光学プレートを介して直接接続しても良い。この場合にも、ｎＧ・Ｐ／ｄ＜ＮＡＦＯＰ＜２ｎＧ・Ｐ／ｄという条件を満足するように構成すれば、ファイバー光学プレートは、ＬＣＤ３０の画素構造３４に起因する信号成分を感光材Ｓに伝達せず、しかも、ＬＣＤ３０に表示された配線パターンを劣化させることなく伝達することができる。
【０１４６】
また、第１の実施の形態においても、第２の実施の形態の第３の変更例同様、ＬＣＤ３０として、図２０に示すマイクロレンズアレイ付きのものを採用しても良い。この場合には、図１９の場合と同様、結像レンズ４０の位置をＬＣＤ３０と感光材Ｓとに対して調整するレンズ位置調整機構３００を、図１の構成に対して追加すれば良い。かかる構成によれば、第１の実施の形態における第３の変更例同様、配線パターンを適度にぼけた状態で感光材Ｓに露光することができるため、画素と画素との間の隙間を目立たなくすることができる。したがって、配線パターンを断線のない状態で感光材Ｓに露光することができる。
【０１４７】
なお、第１の実施の形態の第３の変更例において、マイクロレンズアレイが設けられていない図２のＬＣＤ３０を採用している場合においても、結像レンズ４０の位置をＬＣＤ３０と感光材Ｓとに対して調整するレンズ位置調整機構３００を追加しても良い。配線パターンを適度にぼけた状態で感光材Ｓに露光することができるため、画素と画素との間の隙間を目立たなくすることができる。したがって、配線パターンを断線のない状態で感光材Ｓに露光することができる。
【０１４８】
同様に、第２の実施の形態の第１の変更例でＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の書き込み部１５０ａの位置を結像レンズ４０の結像面からわざとずらす場合にも、第２の実施の形態の第３の変更例（図１９）同様、結像レンズ４０の位置をＬＣＤ３０とＰＡＬ−ＳＬＭ１５０とに対して調整するレンズ位置調整機構３００を、図１２の構成に追加しても良い。かかる構成によれば、配線パターンを適度にぼけた状態で感光材Ｓに露光することができるため、画素と画素との間の隙間を目立たなくすることができる。したがって、配線パターンを断線のない状態で感光材Ｓに露光することができる。
【０１４９】
ＬＣＤ３０の構成は、上記のものに限られない。ＬＣＤ３０としては、任意の構成の液晶ディスプレイを使用することができる。例えば、図２、図２０の構造では、液晶層３６にツイストネマチック液晶を用いたため、偏光板３１，３９が必要となったが、液晶層にゲストホスト型液晶やポリマー分散型液晶を用いる場合には、偏光板を必要としない。この場合において、第２の実施の形態の第３の変更例の場合には、マイクロレンズアレイ２００は、ガラス基板３２上に直接設けられることになる。
【０１５０】
また、ＬＣＤ３０の代わりに、他の任意の構成の電気アドレス型強度変調型空間光変調器を使用することもできる。また、こうして使用する空間光変調器は、透過型でも反射型でもよい。
【０１５１】
同様に、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の構成も、上記のものに限られない。また、ＰＡＬ−ＳＬＭ１５０の代わりに、他の任意の構成の光アドレス型位相変調型空間光変調器を使用することができる。こうして使用する空間光変調器も、透過型でも反射型でもよい。
【０１５２】
書き込み光源１０はＹＡＧ−ＳＨＧレーザでなくてもよく、他のレーザ光源でも良い。レーザ光源以外の光源でも良い。
【０１５３】
読み出し光源１６０もＹＡＧ−ＳＨＧレーザでなく、他のレーザ光源でも良い。レーザ光源以外の光源でも良い。
【０１５４】
【発明の効果】
請求項１記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光が電気アドレス型空間光変調器により生成され、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が画素構造除去手段により除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１５５】
請求項２記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１５６】
請求項３記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１５７】
請求項４記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１５８】
請求項５記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光を配線パターンを劣化させることなく伝達することができるため、第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが劣化していない状態で露光することができる。
【０１５９】
請求項６記載の配線パターン露光装置によれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第１のパターン光に基づいて第２のパターン光を生成する。したがって、第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で、露光することができる。
【０１６０】
請求項７記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光から画素構造を示す信号成分が除去されるので、画素構造が除去された第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１６１】
請求項８記載の配線パターン露光装置によれば、第１のパターン光を配線パターンを劣化させることなく伝達することができるため、第１のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが劣化していない状態で露光することができる。
【０１６２】
請求項９記載の配線パターン露光装置によれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で露光することができる。
【０１６３】
請求項１０記載の配線パターン露光装置によれば、光アドレス型空間光変調器は、画素構造が除去された第１のパターン光に基づいて第２のパターン光を生成する。したがって、第２のパターン光を被露光媒体に伝達すれば、被露光媒体を、配線パターンが断線していない状態で、露光することができる。
【０１６４】
請求項１１記載の配線パターン露光装置によれば、積層回路基板を、その連続する上下の層の間で配線パターンにずれが生じず、しかも各層の配線パターンに断線が生じないように、作成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施の形態による配線パターン露光装置の構成を示す構成図。
【図２】 図１の配線パターン露光装置におけるＬＣＤの拡大構成図。
【図３】 図１の配線パターン露光装置において、ＬＣＤの表示画像をＣＣＤ撮像装置にて撮像した撮像図。
【図４】 図１の配線パターン露光装置において、回路基板作成用基板Ｂの位置に、回路基板作成用基板Ｂの代わりにＣＣＤ撮像装置を配置して撮像した撮像図。
【図５】 図１の配線パターン露光装置を用いて、回路基板作成用基板を露光して回路基板を作成し、更に、次の層を作成するための回路基板作成用基板を積層し露光して、積層回路基板を作成する方法を説明する説明図。（Ａ）は、回路基板作成用基板Ｂに配線パターンを露光する工程を示す図。（Ｂ）は、露光後の回路基板作成用基板Ｂから硬化していない感光材を除去する工程を示す図。（Ｃ）は、露光後の回路基板作成用基板Ｂから不要な銅箔と感光材とを除去し、回路基板Ｍを作成する工程を示す図。（Ｄ）は、回路基板Ｍの上に次の層用の回路基板作成用基板Ｂを積層し、当該次の層用の配線パターンを露光する工程を示す図。（Ｅ）は、露光後の当該次の層用の回路基板作成用基板Ｂから不要な銅箔と感光材とを除去し、積層回路基板を作成する工程を示す図。
【図６】 積層回路基板作成処理のフローチャート。
【図７】 第１層目の歪み状態を考慮せずに第２層目に配線パターンを露光する場合に導通点の位置が合致するか否かを示す説明図。（Ａ）は、第１層目が歪んでいない場合に、導通点の位置が互いに合致することを示す説明図。（Ｂ）は、第１層目が歪んでいる場合に、導通点の位置が互いにずれてしまうことを示す説明図。
【図８】 第１の実施の形態において、光学的ローパスフィルタを配置した第１の変更例の構成を示す構成図。
【図９】 図８の光学的ローパスフィルタにおいて、アパーチャの大きさとフーリエ面での空間周波数分布との関係を１次元的に示す説明図。
【図１０】 第１の実施の形態において、結像レンズの前に位相回折格子を配置した第２の変更例の構成を示す構成図。
【図１１】 本発明の第２の実施の形態による配線パターン露光装置の構成を示す構成図。
【図１２】 図１１の配線パターン露光装置に設けられた空間光変調モジュールの構成を示す構成図。
【図１３】 図１２の空間光変調モジュールに設けられたＰＡＬ−ＳＬＭの具体例の拡大構成図。
【図１４】 図１２の空間光変調モジュールにおいて、結像レンズとＰＡＬ−ＳＬＭとが、ＬＣＤ表示画像における画素と画素間隙間との強度差を除去していくことを示す説明図。（Ａ）は、ＬＣＤ表示画像における画素と画素間隙間との強度差を示す図。（Ｂ）は、結像レンズが、ＬＣＤ表示画像における画素と画素間隙間との強度差を除去することを示す図。（Ｃ）は、ＰＡＬ−ＳＬＭが、残った強度差を略完全に除去することを示す図。
【図１５】 ＰＡＬ−ＳＬＭの書き込み光パワーに対する出力光強度特性を示す図。
【図１６】 図１１の配線パターン露光装置において、回路基板作成用基板Ｂの位置に、回路基板作成用基板Ｂの代わりにＣＣＤ撮像装置を配置して撮像した撮像図。
【図１７】 第２の実施の形態の第２の変更例における空間光変調モジュールの構成を示す構成図。
【図１８】 図１７の空間光変調モジュールにおいて、ＬＣＤとＰＡＬ−ＳＬＭとがファイバー光学プレートにて一体化されていることを示す拡大構成図。
【図１９】 第２の実施の形態の第３の変更例における空間光変調モジュールの構成を示す構成図。
【図２０】 図１９の空間光変調モジュールに設けられたマイクロレンズアレイ付きＬＣＤの具体例の拡大構成図。
【図２１】 図１９の空間光変調モジュールにおいて、コリメートレンズからの平行光が、１つのマイクロレンズにより集光され、結像レンズによりＰＡＬ−ＳＬＭに伝達される状態を示す説明図。
【図２２】 図１９の空間光変調モジュールにおいて、ＭＴＦ特性が調整される状態を示す図。
【図２３】 図１９の空間光変調モジュールにおいて、ＬＣＤの強度パターンをぼかしてＰＡＬ−ＳＬＭに結像させＰＡＬ−ＳＬＭが変調光を出力する状態について説明する図。（Ａ）はＬＣＤ上の画素パターンを示す図。（Ｂ）は（Ａ）の画素パターンがＰＡＬ−ＳＬＭに結像される際の強度パターンを示す図。（Ｃ）はＰＡＬ−ＳＬＭが（Ｂ）のパターンの入力に基づき出力するパターンを示す図。
【符号の説明】
１ 配線パターン露光装置
２ 配線パターン露光装置
１０ 書き込み光源
２０ コリメートレンズ
３０ ＬＣＤ
３４ 画素構造
３５ａ 透明画素電極
３５ｂ スイッチング素子
４０ 結像レンズ
５０ 制御装置
５０ａ メモリ部
５０ｂ 入力部
５０ｃ 拡大・縮小演算部
５０ｄ 制御部
Ｂ 回路基板作成用基板
Ｐ プラスチック基板
Ｃ 銅箔
Ｍ 回路基板
Ｎ 積層回路基板
６０ 光学的ローパスフィルタ
７０ 位相回折格子
１００ 空間光変調モジュール
１４５ ファイバー光学プレート
１５０ ＰＡＬ−ＳＬＭ
１６０ 読み出し光源
１７０ コリメートレンズ
１８０ ＰＢＳ
１９０ 結像レンズ
２００ マイクロレンズアレイ
２１０ マイクロレンズ
３００ レンズ位置調整機構
Claims (11)
- 複数の画素が所定のピッチＰにて配列されて構成された画素構造を有し、所望の配線パターンに基づいて該複数の画素が選択的に駆動されることにより、入射した第１の読み出し光を空間的に変調し、該所望の配線パターンを担持した第１のパターン光を生成する電気アドレス型空間光変調器と、
該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り、該第１のパターン光から該画素構造を示す信号成分を除去しつつ、該所望の配線パターンを伝達する画素構造除去手段とを備え、
該画素構造除去手段は、１／Ｐ以上の空間周波数成分を除去する光学的ローパスフィルタからなることを特徴とする配線パターン露光装置。 - 前記光学的ローパスフィルタは、
該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り、該第１のパターン光を空間的にフーリエ変換してそのフーリエ面において該第１のパターン光を空間周波数成分に展開する第１のレンズと、
該第１のレンズの該フーリエ面に設けられたアパーチャ板とを備え、
該アパーチャ板には、該第１のレンズの光軸を中心に形成されたアパーチャが形成されており、
該光学的ローパスフィルタは、該アパーチャ板の該アパーチャを通過した該第１のパターン光を伝達する第２のレンズを更に備え、
該アパーチャは、１／（２Ｐ）以下の空間周波数を透過し１／Ｐ以上の空間周波数をカットするサイズを有していることを特徴とする請求項１記載の配線パターン露光装置。 - 該アパーチャは、３／（４Ｐ）以下の空間周波数を透過するサイズを有していることを特徴とする請求項２記載の配線パターン露光装置。
- 該電気アドレス型空間光変調器は、該画素構造により生成された該第１のパターン光を伝達する光伝達部を備え、該光伝達部は、該第１のパターン光の波長に対する屈折率ｎ Ｇ と厚さｄとを有し、
前記光学的ローパスフィルタは、該電気アドレス型空間光変調器の該光伝達部に接続された該第１のパターン光を伝達するためのファイバー光学プレートからなり、
該ファイバー光学プレートの開口数ＮＡ ＦＯＰ は、前記ピッチＰと該屈折率ｎ Ｇ と該厚さｄとに対して、ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄ＜ＮＡ ＦＯＰ の条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の配線パターン露光装置。 - 該ファイバー光学プレートの開口数ＮＡ ＦＯＰ は、前記ピッチＰと該屈折率ｎ Ｇ と該厚さｄとに対して、ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄ＜ＮＡ ＦＯＰ ＜２ｎ Ｇ ・Ｐ／ｄの条件を満足することを特徴とする請求項２記載の配線パターン露光装置。
- 書き込み部と読みだし部とを有する光アドレス型空間光変調器を更に備え、
該光アドレス型空間光変調器の該書き込み部は、前記光学的ローパスフィルタから、該１／Ｐ以上の空間周波数成分が除去された第１のパターン光を受け取り、
該光アドレス型空間光変調器の該読みだし部は、第２の読みだし光を受け取り、該書き込み部に入射した該第１のパターン光に応じて該第２の読みだし光を空間的に変調することにより、第２のパターン光を生成することを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の配線パターン露光装置。 - 前記光学的ローパスフィルタは、該電気アドレス型空間光変調器から該第１のパターン光を受け取り該第１のパターン光を結像面に結像する結像レンズからなり、
該結像レンズは、該電気アドレス型空間光変調器側の開口数ＮＡ Ｌ を有し、
該開口数ＮＡ Ｌ は、前記第１のパターン光の波長λに対して、ＮＡ Ｌ ／λ＜１／Ｐの条件を満足することを特徴とする請求項１記載の配線パターン露光装置。 - 前記開口数ＮＡ Ｌ は、前記第１の読み出し光の波長λに対して、１／（２Ｐ）＜ＮＡ Ｌ ／λ＜１／Ｐの条件を満足することを特徴とする、請求項７記載の配線パターン露光装置。
- 被露光媒体が前記結像レンズの前記結像面に配置されることを特徴とする、請求項７もしくは８記載の配線パターン露光装置。
- 書き込み部と読みだし部とを有する光アドレス型空間光変調器を更に備え、
該光アドレス型空間光変調器は、該書き込み部が前記結像レンズの前記結像面に位置するように配置され、該書き込み部が記結像レンズから前記第１のパターン光を受け取り、
該光アドレス型空間光変調器の該読みだし部は、第２の読みだし光を受け取り、該書き込み部に入射した該第１のパターン光に応じて該第２の読みだし光を空間的に変調することにより、第２のパターン光を生成することを特徴とする請求項７もしくは８に記載の配線パターン露光装置。 - 複数の画素が配列されて構成された画素構造を有し、所望の配線パターンに基づいて該複数の画素が選択的に駆動されることにより、入射した第１の読み出し光を空間的に変調し、該所望の配線パターンを担持した第１のパターン光を生成する電気アドレス型空間光変調器と、
該第１のパターン光から該画素構造を示す信号成分を除去しつつ、該所望の配線パターンを伝達する画素構造除去手段と、
所定の配線パターンのデータを保持するデータ保持手段と、
該所定の配線パターンのデータに対し所望の割合にて拡大・縮小演算を施すことで前記所望の配線パターンを生成する拡大・縮小演算手段と、
該拡大・縮小演算手段にて生成した該所望の配線パターンに基づいて前記電気アドレス型空間光変調器の複数の画素を選択的に駆動するための画像信号を生成する制御手段とを備え、
前記データ保持手段は、積層回路基板を構成する複数の回路基板を作成するための複数の所定の配線パターンのデータを保持しており、
更に、既に作成された第ｉ（ここで、ｉは１以上の自然数）層目の回路基板の歪み状態の計測結果を入力する入力手段を備え、
前記拡大・縮小演算手段は、当該入力された計測結果に基づいて、第（ｉ＋１）層目の回路基板用の配線パターンを拡大または縮小するための拡大・縮小率を決定し、該決定した拡大・縮小率にて、第（ｉ＋１）層目の回路基板用の配線パターンのデータに対し拡大・縮小演算を施し、第（ｉ＋１）層目用の所望の配線パターンを生成することを特徴とする配線パターン露光装置。
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