JP4238600B2 - Demultiplexer and wavelength division multiplexing optical transmission module - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバを用いて送信された波長多重光信号を波長ごとに分離する光学デバイスに関し、特に、波長分離に用いる回折格子、回折格子を用いて波長を分離するデマルチプレクサ及び波長多重光伝送モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】
特許文献1には、温度上昇により生じる選択中心波長のシフトを相殺するように回折格子に配置された温度補償機構部を用いて回折格子を回転することによって、周囲温度変動によるフィルタ自体の選択中心波長シフトを抑制する光フィルタ及び光フィルタに用いる回折格子が開示されている。
【0003】
【特許文献1】
特開平6−331850号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の光フィルタは、例えばアルミニウムの支柱を用いた温度補償機構部により例えばガラス基板製の回折格子を回転しており、回折格子と温度補償機構とは熱容量・熱伝導率等が異なっているために、急激な温度変化に対して回折格子の特性変化の速度と温度補償機構部による特性変化の補償の速度が一致せず、特性変動が起こるという問題点があった。
【0005】
また、従来の光フィルタのように回折格子を回転することによって周囲温度変動によるフィルタ自体の選択中心波長シフトを抑制する場合には、回折格子外周部において出射用光ファイバとの距離が変動する。そのために回折格子に集光特性を有するチャープ型回折格子を用いる場合には、回折格子により集光されたスポットの位置が移動し、特性変化をもたらすという問題点もあった。
【0006】
本発明はかかる問題点を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、急激な温度変化に対しても特性変化が追従し補償する回折格子及びこの回折格子を用いたデマルチプレクサを提供することである。
【0007】
さらに、本発明の別の目的は、チャープ型回折格子を用いた場合でも、温度変化に対しても特性変化が追従し補償する回折格子及びこの回折格子を用いたデマルチプレクサを提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、光入射部と回折格子と光入射部から回折格子へ波長多重された光ビームを伝送する光路と光検出器を有し、前記回折格子に前記光ビームを照射して光信号を分離するデマルチプレクサにおいて、前記回折格子と光検出器の間の光路に、前記回折格子及び前記光検出器と分離したプリズムを有し、前記回折格子の温度変化による特性変化を前記プリズムの屈折率変化によって補償することを特徴とするデマルチプレクサを提供する。
【0020】
プリズムは、入射した光線の幅よりも、出射した光線の幅が広くなるように、プリズムを配することが望ましい。プリズムの屈折率変化を用いて回折格子の温度変化による特性変化を補償することができる。
【0023】
またさらに本発明のデマルチプレクサを用いて、波長多重受信光モジュール、波長多重光伝送モジュールを提供する。
【0024】
【発明の実施の形態】
はじめに、本発明の第1の実施形態を図1から図4を用いて説明する。
【0025】
図1は、本実施形態に係わる実施例を示す上面図である。波長多重化されて伝送してきた光信号は、光ファイバ10より出射される。光ファイバ10より拡がって出射された入射光線70は、シリンドリカルレンズ12aにより紙面に対して垂直方向(チャープ型回折格子16の刻線方向)について拡がりが低減されてほぼ平行光となり、回折格子ブロック14のプリズム部22に入射する。プリズム部22に入射した光線は、回折格子ブロック14のチャープ型回折格子16により波長毎に異なる角度に回折され分離される。チャープ型回折格子16は集光作用を有するように格子間隔を変化させており、チャープ型回折格子16で回折された光線は紙面内において波長ごとに異なる位置に集光される。チャープ型回折格子16により回折し集光された光線は、シリンドリカルレンズ12bにより紙面に垂直方向について受光用光導波路28に入射するように入射端面に集光される。受光用光導波路28は、入射部側にスラブ導波路部30、その後段にテーパ導波路部32を有している。スラブ導波路部30に入射した光線は、紙面に垂直な方向はスラブ導波路に閉じ込められて伝搬し、紙面内についてはチャープ型回折格子16の集光作用により、波長ごとに設けられたテーパ導波路32の入射端に集光される。分離集光された光線は、それぞれの波長に対応するテーパ導波路部32に入射し、波長毎に受光部を有する光検出器アレイ36により検出される。回折格子ブロック14、シリンドリカルレンズ12、受光用光導波路28は、ベース38上に固定されている。
【0026】
本実施例では、チャープ型回折格子16を有する回折格子ブロック14を、透明ポリマーを用いて大量生産に適した射出成形で作製した。そのため、環境温度の変化に伴って熱伸縮し、チャープ型回折格子16の格子定数(ピッチ)が変化する。そこで本実施例においては、チャープ型回折格子16の熱伸縮による波長分離特性変動をプリズム部22の屈折率変化により補償する構成とした。
【0027】
図2に回折格子ブロック14の実施例を示す。プリズム部22にチャープ型回折格子16が一体で形成されている。さらに、プリズム部22の光入出射面には、サブ波長格子20を用いた反射防止構造が形成されている。本実施例の回折格子ブロック14は、透明ポリマー材料を用いて射出成型により作成し、射出成形の際にチャープ型回折格子16、サブ波長格子20を同時に一体成形した。成形後、チャープ型回折格子16の格子面には、金、銀、アルミ等の金属膜を蒸着して反射膜18とした。金属の反射膜18に替えて誘電体多層膜を用いてもよく、またはチャープ型回折格子16と金属膜との間に誘電体膜を形成して反射率を向上してもよい。
【0028】
図3に回折格子ブロック14に設けたサブ波長格子20の斜視図を示す。サブ波長格子20は波長以下の構造を持ち、反射防止の効果を有する。本実施例では、二次元に配置した四角錐21のピラミッド配列構造をしている。入射する偏光によらず高い反射防止効果を得るには、ピラミッドのピッチp、ピラミッドの高さhについてアスペクト比h/p≧2とすることが望ましい。また、ピッチpは使用する波長の中で最小波長をλとすると、p<λ/2となるようにする。
【0029】
本実施例では微少な構造を用いて反射を防止しているために、回折格子の形成と同時にサブ波長格子20による反射防止構造も形成することができる。そのため、プリズム形成後に真空プロセスを用いて入出射面に誘電体膜による反射防止膜を付ける必要がなく、回折格子ブロック14の作成が容易となる。成型用材料としては、透明ポリマー以外にもガラスを用いてもよいが、透明ポリマーを用いたほうがサブ波長格子20、チャープ型回折格子16の転写性が良く望ましい。また、サブ波長格子20は正確に周期的に配置する必要はなくサブ波長の構造とすればよい。またさらに、形状もアスペクト比が所望の値であれば良く、例えば円錐形としてもよい。このように反射防止構造を設けることにより、デマルチプレクサの損失を低減できると共に、反射光によるクロストークを防止できる。
【0030】
本実施例では、反射防止構造を一体形成したが、別に作成したサブ波長格子20を有するフィルムを貼り付けてもよい。或いは、サブ波長格子を用いず誘電体膜による反射防止膜を設けてもよい。
【0031】
図4を用いて回折格子ブロック14の温度補償機能を説明する。図4に示したように、チャープ型回折格子16面を基準面として角度を定めることとし、プリズム部22の入射面の角度をγ、プリズム部22に入射する光線の角度をψ、チャープ型回折格子16への入射角度をi、回折角度をθとすると、
【数9】
【0032】
によって、チャープ型回折格子16子で回折した光線がプリズム部22から出射する角度ξを求めることができる。なお、n0は外界の屈折率(本実施例では空気であるためn0=1)、nはプリズム部22の屈折率である。(1)式より、回折格子ブロック14が温度変化しても出射角度ξが変化しない条件を求めることができ、
【数10】
【0033】
と表される。αはプリズム部22の線膨張係数である。なおこの式は、プリズム部22への入出射角度φ、ξには依存していないことが分かる。特に、プリズム部22の入射面に対して光線の入射角度と出射角度を等しくなるように、
【数11】
【0034】
とする、つまり、
【数12】
【0035】
の場合には、(2)式は、
【数13】
【0036】
と表される。さらに、ζ≒0となるリトロー配置においては、
【数14】
【0037】
となるようにすれば良いことが分かる。
【0038】
一般に、物質の屈折率nと密度ρとの間には、
【数15】
【0039】
の関係があることが知られている。但し、βは局所場補正係数を示し、物質に依存する。一般には、βは0から1/3の間の値を取る。この式を用いると、屈折率の温度変化と線膨張率αとの間には、
【数16】
【0040】
の関係があることが示される。従って、(2)式より、
【数17】
【0041】
を満たすように回折格子ブロック14のn、β及びγを選べば、出射角度ξは温度に依存しなくなる。特に分光器等に一般に用いられているリトロー配置においては、(6)式より、
【数18】
【0042】
つまり、
【数19】
【0043】
を満たすn及びβを選べばよい。
通常βは0から1/3の範囲の値をとるため、(10)式よりリトロー配置においては屈折率nを1.414から1.732の範囲に選ぶことが望ましい。また、ポリマー材料については、βとして1/3に近い値を取ることが多くこの場合は屈折率1.414付近の値をとることが望ましいといえる。この値に近い屈折率を持つポリマー材料としては、ポリメタクリル酸トリフルオロエチレン(屈折率1.42)、シリコーンポリマー(屈折率1.43)、シクロヘキサン系のフッ素化エポキシ(屈折率1.405)、フッ素化エポキシアクリレート(屈折率1.413)、フッ素化エポキシアクリレート(屈折率1.417)グリコール系のフッ素化エポキシ(屈折率1.385)、フッ素化エポキシアクリレート(屈折率1.416)、フッ素化エポキシアクリレート(屈折率1.418)、トリフルオロエチルメタクリレート樹脂(屈折率1.40)等のフッ素化アクリル樹脂があり、これらの材料を用いて回折格子ブロック14を形成すれば、リトロー配置において波長分波特性の温度依存性を低減することができる。このように、1.385〜1.43の屈折率材料を用いることができる。1.3μm帯や1.55μm帯の光通信波長を用いる場合は、赤外波長においてより損失の少ないフッ素系の材料を用いることが望ましい。
(8)式においては、γ、i、θを適当に選ぶことにより、右辺の分母を1より大きく、或いは小さく設定できる。本実施例に示したように、入射角度ψが出射角度ξよりも大きな場合には、この値は1より小さくなるため、1.414よりも屈折率の大きな材料を用いても(8)式を満たすことができる。この場合には、ポリメチルメタクリレート(PMMA、屈折率1.49)や、ポリカーボネート(PC、屈折率1.59)、フッ素化ポリミド(屈折率1.55)等のフッ素系のプラスチック、重水素化したプラスチック材料なども用いることができ、成形に適した材料を選ぶことができる。
【0044】
また逆に、入射角度ψが出射角度ξよりも小さい場合には、低屈折率材料を用いることが望ましく、6フッ化プロピレン/4フッ化エチレン/2フッ化ビニリデン共重合体(屈折率1.36)、テフロンAF(デュポン社製、屈折率1.29)、サイトップ(旭硝子社製、屈折率1.34)を用いると赤外光でも損失を少なくすることができる。この場合のように出射角度を大きくすると回折格子の波長分散を大きくできるため、デマルチプレクサを小さくできるという効果がある。したがって、現実的なポリマーの屈性率として1.29以上1.414以下の材料を用いると、デマルチプレクサの小型化の点で望ましいと言える。
【0045】
以上説明したように、実施例においてはプリズム部22を用いることにより、チャープ型回折格子18の熱伸縮による波長分離特性変化をプリズム部22の屈折率変化による波長分離特性変化により補償することができる。したがって、温度変化に伴う波長分離特性変化を抑制することができ、いわゆるアサーマル化を実現することができる。
【0046】
なお、プリズム部22のない平行平板を用いた回折格子の場合、つまりβ=0の場合は、
【数20】
【0047】
となり、出射角度ξはプリズム部の屈折率nに依存しなくなる。したがって、回折格子の熱伸縮による特性変化を補償する効果はない。つまり、回折格子ブロック22の入出射面は、チャープ型回折格子16面に対して角度を成す必要があるものである。回折格子ブロック22の入出射面に対して大きな角度を持って光線が入出射すると表面反射が大きくなり好ましくない。したがって、回折格子ブロック22の入出射面の角度γは、回折格子ブロック22の入出射面への入射角度と出射角度の間にあることが望ましい。つまり、入射角度と出射角度の大小により、
【数21】
【0048】
または、
【数22】
【0049】
を満たすことが望ましい。
【0050】
ここまで、ベースの熱膨張率が小さく、回折格子の熱伸縮による特性変動が支配的な場合についての温度補償を説明してきたが、ベースの熱膨張率が大きく温度変化に伴って光学部品間の相対位置が変動する場合には、回折格子に加えてベースの熱伸縮も考慮し、デマルチプレクサ全体として温度依存性をなくすようにパラメータを設定すればよい。本実施例の配置においては、ベースの熱伸縮と回折格子の熱伸縮とは互いに補償する方向に動くため、ベースに熱膨張率の大きな材料を用いることによって、屈折率が1.414よりも大きな材料を用いた場合でもプリズム部22により温度依存性を低減できる。したがって、ベース38にポリマー材料等の熱膨張率の大きな材料を用いた場合にも温度補償できる。
【0051】
また、回折格子の熱伸縮に伴う集光位置の変動がある程度許容される場合には、(8)式を十分に満たしていなくてもよく、実用的な温度補償の効果を達成できる範囲内でパラメータを選べばよい。
【0052】
本実施例では、チャープ型回折格子16として格子溝の断面形状が直角三角形をしたいわゆるエシュレット型を用いた。回折格子の作成には、まずルーリングエンジンを用いてチャープ型回折格子16を成形するためのマスターを加工した。このマスターを用いて金型を作成し、金型を用いて回折格子ブロック14を射出成形した。チャープ型回折格子16の格子定数は、所望の集光性能を有するように格子の場所の関数としてチャープさせた。回折効率を大きくするためには、ブレーズ角を各格子位置での入射角度に合わせて変化させることが望ましい。そこで本実施例では、回折格子を複数の領域に分割し、領域内では一定のブレーズ角度で加工し、領域ごとにブレーズ角を変えることによって回折効率の向上を図った。ブレーズ角度は、領域ごとにTE偏光(電場方向が格子の刻線方向の偏光)とTM偏光(電場方向が刻線に垂直な偏光)の回折効率の差が小さくなるように定めた。そのために、領域の中心部において、入射光線70がブレーズ面で正反射する方向と出射光線72の回折方向とを一致させた正反射条件におけるブレーズ角よりも大きくした。本実施例においては、領域の中心での正反射条件から決まるブレーズ角より2〜10°ブレーズ角を大きくした。この差は、格子定数が小さい程大きくすることが望ましい。
【0053】
エシュレット型回折格子では、波長λ、格子定数dとしたとき、λ/dが0.6から1.0、ブレーズ角度を25°から35°の範囲に選ぶと、偏光依存性が小さく回折効率を大きくすることができる。この場合、
【数23】
【0054】
とする必要がある。したがって、(4)式に従い、プリズム入射面の角度γは、17°以上30°以下が望ましい。
さらに、格子定数が小さくなるとTE偏光とTM偏光との回折効率の差が大きくなるため、この差が小さく、且つ回折効率が高くなるように回折次数を選んだ。本実施例においては、格子定数の大きな領域では−1次の回折光を用い、格子定数の小さな領域では−2次の回折光を用いるように途中より不連続に格子定数を2倍にした。このように、格子定数が小さい場合には高次の回折光を用いることが望ましく、おおよそ入射波長程度以下の格子定数で2次以上の回折光を用いることが望ましい。この次数の切替えは、ブレーズ角度の切替え位置で行うことにより、回折格子の分割数を増やすことなく、格子定数を切り替えることができる。本実施例では、領域の分割数は6分割とした。分割数は多くするほど理想的なブレーズ角度分布に近い角度分布とすることができる。領域分割数と損失の関係を検討し、分割数を4以上とすると損失が低下し、9以上ではほぼ損失は一定となることが分かった。したがって、分割数を大きくしても、ある一定の分割数を超えると損失の低下は顕著ではなくなる。しかも、領域を余り多くすると、ブレーズ角を変更する回数も増え、加工精度が落ちて損失が低下する可能性がある。したがって、分割数は4〜9、特に6〜9が望ましい。本実施例では、回折格子溝を平面上に加工しているため、回折格子溝の加工において領域のつなぎ部での平面方向及び垂直方向の位置ずれが生じにくい。
【0055】
このようにTE偏光とTM偏光の回折効率をほぼ等しくすることにより、入射光線の偏光状態が変化しても検出光量の変動を小さくできる。光ファイバ10から特定の偏光が入射する場合には、この偏光の回折効率が最大となるようにブレーズ角を定めればよい。或いは、偏光変換素子を用いて光ファイバからの出射光の偏光方向をそろえてもよい。偏光変換素子は、一般に知られているように偏光ビームスプリッタとλ/2板を組み合わせることに構成することができる。この場合、回折効率の高い偏光方向となるように偏光変換素子の向きを定めればよい。特に、TM偏光は、格子ピッチがおおよそ波長よりも小さな領域で回折効率を高くできるため、格子定数を波長よりも小さくしTM偏光に変換して入射することが望ましい。この場合、回折効率は格子溝の形状にほとんどよらなくなるために、エシュレット格子に限らず、波型形状や、矩形のバイナリ回折格子を用いても、高い回折効率を実現できる。
【0056】
格子パターンの加工は、本実施例に用いたルーリングエンジンの他にも、例えば感光体に入射位置と出射位置からレーザビームを照射して干渉パターンを露光し、ホログラムを形成して作成してもよい。ホログラム回折格子を用いることにより、収差が少なく出射位置に十分に絞って集光することができる。或いは、3次元NC加工機を用いても加工してもよく、またさらに、フォトリソグラフィの手法を用いて、Si等の基板に連続的にブレーズ化したチャープ回折格子を作成することもできる。
【0057】
チャープ型回折格子16及びサブ波長格子20の加工については、ホットプレスを用いてもよい。
【0058】
なお、本実施例のように回折格子の位置により入射角度が変化する場合には、光強度の一番強い主光線について温度補償条件を満たすように設定すればよい。また回折格子については、本実施例に用いた平面状のチャープ型回折格子に限らず、格子定数が一定な等間隔平面回折格子や凹面回折格子についても同様に適用できるものである。凹面型回折格子を用いる場合には、光ファイバ10の入射点及びスラブ導波路32の入射点を凹面型の回折格子15のいわゆるローランド円上に配置することにより、各波長の集光点距離の変化を小さくできる。その場合には、スラブ導波路部30は必要ない。
【0059】
また、プリズム部22を光線が透過することにより収差が発生するが、収差を補正するように、回折格子の格子ピッチを補正すればよい。光線追跡計算を用いた自動設計により格子の配置を設計することができる。或いは、非球面非対称なシリンドリカルレンズを用いて補正してもよい。
本実施例では、シリンドリカルレンズ12として円柱状のものを用いた。リトロー配置に近く配置する場合には、1個のシリンドリカルレンズで入射と出射の光線の集光を兼用しても良い。
【0060】
本実施例においては、多重化されて伝送されてきた中心波長1275.7、1300.2、1324.7、1349.2nmの4波長を分離する構成とした。この中心波長に対して、光源の製造・温度・スペクトル分布による波長ばらつきにより、最大±5.7nm変動するものとした。したがって、隣り合うチャネル間の波長スペースは、13.1nmであり、おおよそ伝送波長の1%に設定した。この波長ばらつきは、光源の作成・特性により決まるものであり、特に厳しい光源の選別を必要としない範囲として必要なものである。本実施例では、この使用波長範囲で十分な特性変動の低減を実現できた。
【0061】
受光用光導波路28は、上記のようにスラブ導波路部30とテーパ導波路部32で構成される。光検出器に信号光が効率よく結合するように光導波路の厚さは65μmとした。テーパ導波路部32は、紙面内において光入射側から出射側にかけてコアの幅が減少するテーパ形状とし、光検出器アレイに光を絞り込む構造としている。効率よく光検出器アレイまでビームを伝搬するためには、スラブ導波路の開口数NAは大きいほうが望ましく、特にNA0.5以上とすることが望ましい。さらに、薄層のクラッドの外側に金属膜を形成すると、仮に光線がクラッドを透過しても金属膜で反射して光検出器に到るため、検出効率を向上できる。本実施例においては、テーパ導波路部32の幅は、スラブ導波路30と接合される側で光検出器アレイのピッチと同じくし、光検出器アレイ60側で光検出器に効率良く結合できる幅となるようにした。このように、波長分離したビームを光検出器に絞り込むことにより、応答速度の速い受光面積の小さな光検出器を用いることができ、高速な光通信に適用することができるようになる。光検出器アレイは、テーパ導波路部32からのビームが光検出器に効率よく結合するように位置を調整し、テーパ導波路部32に接着固定した。
【0062】
本実施例においては、光ファイバ10として、コア径62.5μm、開口数0.275のグレーテッドインデックス(GI)型マルチモード光ファイバ(62.5MMF)を用いた。但し、光ファイバを限定するものではなく、シングルモード光ファイバ(SMF)やコア径50μmのマルチモード光ファイバ(50MMF)、さらにコア径の大きなマルチモード光ファイバを用いることもできる。
【0063】
本発明の第2の実施形態を図5を用いて説明する。図5は、本実施形態に係わる回折格子ブロックの実施例を示す上面図である。本実施例の回折格子ブロックの機能は、第一の実施形態に示した回折格子ブロック14と同じであり、ここでは異なる点について示す。まず、チャープ型回折格子16を有する回折格子基板24をポリマー材料を用いて射出成形する。チャープ型回折格子16上に金属膜を成膜し反射膜18を形成する。別に、サブ波長格子20を有するプリズム部22も成形する。この回折格子基板24とプリズム部22とを光学接着材19を用いて接着し、回折格子ブロック14を形成する。プリズム部22と回折格子基板24に同じ材料または、同じ線膨張係数を持つ材料を用いることにより、チャープ型回折格子16の線膨張係数をプリズム部22と等しくすることできる。
【0064】
或いは、プリズム部22と回折格子基板24に線膨張係数の異なる材料を用いることにより、チャープ型回折格子16の線膨張係数を調整し、(2)式を満たすようにすることもできる。
【0065】
本実施例では、チャープ型回折格子16を平板状の回折格子基板24上に形成するため、射出成形を用いて容易に精度良く成形することできる。射出成形以外にも、いわゆる2P法を用いて、平板の基板上に紫外線硬化樹脂を塗布し、型を押し付けながら紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させてチャープ型回折格子16を形成してもよい。透明な回折格子基板24を用いることにより基板側から紫外線を照射して硬化させることもできる。2P法を用いた場合も紫外線硬化樹脂の層を薄くすることにより、回折格子の線膨張係数をプリズム部22と等しくでき、チャープ型回折格子16の熱伸縮による特性変化をプリズム部22の屈折率変化で補償することができる。
【0066】
本実施例の回折格子ブロック14を、第一の実施形態に示したようにベース38に固定する場合は、ベース38もポリマーを用い、プリズム部22をベース38と一体で形成してもよく、ベース38と一体成形したプリズム部22に回折格子基板24を張り合わせてもよい。プリズム部22をベース38と一体とすることで、デマルチプレクサの組み立てが容易となるとともに、回折格子ブロック14の位置ずれが起きず信頼性が向上する。
【0067】
本発明の第3の実施形態を図6を用いて説明する。図6は、本実施形態に係わるデマルチプレクサの実施例を示す上面図である。光ファイバ10より拡がって出射された波長多重光信号は、回折格子ブロック14と一体となったシリンドリカルレンズ13aにより紙面の垂直方向についてほぼ平行光となり、回折格子ブロック14に入射する。回折格子ブロック14に入射した光線は、回折格子ブロック14に形成されたチャープ型回折格子16により波長毎に異なる角度に回折され、集光される。チャープ型回折格子16により回折された光線は、シリンドリカルレンズ13bにより集光されて受光用光導波路28に入射する。受光用光導波路28のスラブ導波路部30に入射した光線は、波長ごとにテーパ導波路部32の入射端に集光され、波長毎に受光部を有する光検出器アレイ36により検出される。
【0068】
本実施例では、回折格子ブロック14とシリンドリカルレンズ13a、13bを一体とし、透明ポリマーを用いて形成した。光ファイバ10からの入射光線70の主光線がシリンドリカルレンズ13aに略垂直に、チャープ型回折格子16で回折した出射光線72の主光線がシリンドリカルレンズ13bに対して略垂直になるようにしている。したがって、チャープ型回折格子16の線膨張係数αと回折格子ブロック14の屈折率の温度変化が(6)式を満たすようにすれば、温度変化に対して波長分離特性が変化しないようにできるものである。したがって、(10)式よりポリマー材料としては、屈折率1.414付近のものを用いることが望ましい。
【0069】
本実施例のように、プリズム部22を通してチャープ型回折格子16に光線を入射することにより、光ファイバからのビーム拡がり角は空気中に比べてプリズム部の屈折率分低減する。つまり、屈折率1.4の材料を用いた場合には、ビーム拡がり角は71%程度に小さくなる。したがって、プリズム部22を通してビームを照射することは、チャープ型回折格子16に入射するビームの拡がり角を低減する効果を有している。そのため、回折格子の幅が小さくなり、デマルチプレクサ全体を小型化できる効果がある。
【0070】
本発明の第4の実施形態を図7を用いて説明する。図7は、本実施形態に係わるデマルチプレクサの実施例を示す上面図である。波長多重化され光ファイバ10を伝送してきた光信号は、シングルモードの光ファイバ10より光閉じ込め方向についてシングルモードのスラブ導波路40に入射し、凹面型の回折格子15に入射する。回折格子15により波長毎に異なる角度に回折され分離され、波長ごとに集光される。分離集光された光線は、テーパ導波路部32に入射し、光検出器アレイ60により検出される。
【0071】
スラブ導波路40のコアには透明ポリマーを用いており、端部に回折格子15を形成した。回折格子16面には金、銀等の金属膜を形成し、反射面とした。
本実施形態では、光線はスラブ導波路40中を伝搬するため、スラブ導波路40コアの屈折率の温度変化とクラッドに用いた基板の線膨張係数αが(6)式を満たすようにすることで温度依存性を無くすことができる。したがって、第一の実施形態で示したように、コアに低屈折率材料を用いることが望ましく、また、クラッド部の線膨張係数αがコア材と近いことが望ましい。
【0072】
本実施例のように凹面型の回折格子15を用いた場合には、光ファイバ10の入射点及びスラブ導波路32の入射点を凹面型の回折格子15のいわゆるローランド円上に配置することにより、各波長の集光点距離の変化を小さくできる。
【0073】
本発明の第5の実施形態を図8を用いて説明する。図8は、本実施形態の係わるデマルチプレクサの上面図である。光ファイバ10から拡がって出射された波長多重光信号は、レンズ50aで略平行光となり、回折格子ブロック14のプリズム部22に入射する。回折格子ブロック14に入射した光線は、平面型の回折格子15に入射し、波長ごとに異なった回折角度を持って回折される。回折格子15で回折されたビームは、レンズ50bで集光され、波長ごとにテーパ導波路35に入射し、光検出器アレイ24で検出される。
【0074】
本実施例では、回折格子15として平行な直線格子溝を持つ等間隔回折格子を用いた。この回折格子15に略平行な光線が入射するために、回折格子15の全範囲で(8)式を満たすことができ、回折格子15全範囲で温度依存性をなくすことができる。また、本実施例においては、集光点が出射光線72に対してほぼ垂直に並ぶため、受光用光導波路28にスラブ導波路部は必要ない。レンズ50には、屈折率分布を持ったロッドレンズを用いてもよい。その場合は、光ファイバ10をロッドレンズに固定することもできる。また、リトローに近い配置とし、レンズ50を1個としてもよい。
【0075】
本発明の第6の実施形態を図9及び図10を用いて説明する。図9は、本実施形態の係わるデマルチプレクサの実施例を示す上面図である。光ファイバ10より拡がって出射された波長多重信号は、シリンドリカルレンズ12aにより紙面の垂直方向についてほほ平行光となり、固定枠52に固定されたチャープ型回折格子16に入射する。チャープ型回折格子16により回折し集光された光線は、シリンドリカルレンズ12bにより紙面に垂直方向について集光され、受光用光導波路28に入射する。スラブ導波路部30に入射した光線は、チャープ型回折格子16の集光作用により波長ごとに設けられたテーパ導波路の入射端に集光される。波長ごとに分離集光された光線は、それぞれの波長に対応するテーパ導波路部32に入射し、波長毎に受光部を有する光検出器アレイ36により検出される。
【0076】
図10を用いて固定枠52及び回折格子基板24についてさらに詳細に説明する。チャープ型回折格子16を有する回折格子基板24には、くさび状の溝部57a、57bが、固定枠52側には突起部56a、56bが形成されており、突起部56aと溝部57a、突起部56bと溝部57bをかみ合わせるようにし、押さえ54で押さえつけて回折格子基板24を固定枠52に固定している。溝部57a、57bと突起部56a、56bにより、チャープ型回折格子16は固定枠52に対して正確に位置が定まる。回折格子基板24を固定した固定枠52は、ベース38に設けられた固定溝39に固定される。突起部56が固定溝39の基準点37上に来るようにすることで、回折格子基板24は基準点37を中心として両側に熱伸縮するようにできる。溝部57の位置を回折格子の中心(光ファイバからの主光線が当たる位置)からずらしておき、温度変化によるスポット移動方向とは逆方向に回折格子基板24が移動するようにすることによって、回折格子基板24の熱伸縮による集光位置の変化を回折格子基板24の中心位置移動を利用して補償することができる。
【0077】
回折格子基板24の熱伸縮による移動により、回折格子基板24の熱伸縮によるx方向についての集光スポット移動を補償するためには、x方向の集光スポット移動率について、
【数24】
【0078】
となるように、チャープ型回折格子16の中心と溝部57との距離Lを定めればよい。本実施例では、回折格子基板24に線膨張率α=6×10−5/Kのポリカーボネートを用い、回折格子基板24の熱伸縮によるスポット移動率が1μm/Kであったため、L=8.3mmとした。
【0079】
このように、チャープ型回折格子16の中心と熱伸縮の中心とをずらすことにより、回折格子の熱伸縮による集光点の位置変化を、チャープ型回折格子16の熱伸縮に伴う中心位置の移動により補償することができる。この場合、平面型の回折格子は、格子面に略平行に移動して温度変化に伴う特性変化を補償する。回折格子自身の熱伸縮を利用して温度補償を行うため、温度変化への追従性が良く、急激な温度変化に対しても補償することができる。
【0080】
射出成形を用いて回折格子基板24を形成することにより、回折格子基板24成形時に溝部57も形成することができ、溝部57の位置を精度良く形成することができる。
【0081】
本実施例においては、回折格子基板24の伸縮に伴い、z方向にもスポット位置が移動する。しかし、z方向については、スポット移動に伴う特性変動が小さいためこの移動による特性変化は問題とならなかった。
【0082】
本実施形態においては、第一の実施形態のようにプリズムを用い、プリズムの屈折率変化による温度補償と組み合わせても良い。
【0083】
本発明の第7の実施形態を図11を用いて説明する。図11は、本実施形態の係わるデマルチプレクサの実施例を示す上面図である。光ファイバ10より拡がって出射された波長多重信号は、シリンドリカルレンズ12aにより紙面の垂直方向についてほほ平行光となり、チャープ型回折格子16に入射する。チャープ型回折格子16で回折された光線は紙面内において波長ごとに異なる位置に集光される。チャープ型回折格子16により回折し集光された光線は、シリンドリカルレンズ12bにより紙面に垂直方向について受光用光導波路28の入射端面に集光され、受光用光導波路28に入射する。受光用光導波路28のスラブ導波路部30に入射した光線は、紙面に垂直な方向はスラブ導波路に閉じ込められて伝搬し、紙面内についてはチャープ型回折格子16の集光作用により、波長ごとに設けられたテーパ導波路の入射端に集光される。波長ごとに分離集光された光線は、それぞれの波長に対応するテーパ導波路部32に入射し、波長毎に受光部を有する光検出器アレイ36により検出される。
【0084】
本実施例では、固定部62a、62b、62cに一端が固定された駆動部60a、60b、60cの熱伸縮を用いて、回折格子基板24を移動し、回折格子基板24の熱伸縮による温度特性変動を補償する。本実施例では、駆動部60aにより回折格子基板24を格子面に平行に移動するとともに、駆動部60b、60cにより回折格子基板24を格子面に垂直に平行移動することによって、温度補償を行っている。そのために、z方向のスポット移動も補償することができる。本実施例のように回折格子を2次元的に平行に移動することによりより精度良く温度補償することができる。
【0085】
本発明の第8の実施形態を図12及び図13を用いて説明する。図12は、本実施形態の係わるデマルチプレクサの上面図である。光ファイバ10より拡がって出射された波長多重信号は、シリンドリカルレンズ12aにより紙面に対して垂直方向についてほほ平行光となり、チャープ型回折格子16に入射する。チャープ型回折格子16で回折された光線は紙面内において波長ごとに異なる位置に集光される。チャープ型回折格子16により回折し集光された光線は、温度変化補償用のプリズム58を透過し、シリンドリカルレンズ12bにより紙面に垂直方向について受光用光導波路28の入射端面に集光され、受光用光導波路28に入射する。受光用光導波路28のスラブ導波路部30に入射した光線は、紙面に垂直な方向はスラブ導波路に閉じ込められて伝搬し、紙面内についてはチャープ型回折格子16の集光作用により、波長ごとに設けられたテーパ導波路の入射端に集光される。波長ごとに分離集光された光線は、それぞれの波長に対応するテーパ導波路部32に入射し、波長毎に受光部を有する光検出器アレイ36により検出される。
【0086】
図13を用いてプリズム58による温度補償について説明する。本実施形態においては、チャープ型回折格子16の熱伸縮による特性変化をプリズム58の屈折率変化で補償することを特徴としている。プリズム58の屈折率をNとし、チャープ型回折格子16への入出射角度及びプリズム58への入出射角度を図13に示したように表すと、回折格子基板24の伸縮に伴って光ファイバ10からの主光線が受ける回折角度の変化を、プリズム58の屈折率の温度変化で補償するための条件は、
【数25】
【0087】
の場合には、
【数26】
【0088】
とすればよい。(13)式は、プリズム58からの主光線の出射角度ψが、回折格子基板24の伸縮に対してが変動しない条件を示している。回折格子基板24の線膨張係数αに対して、(12)式又は(13)式を満たすように、プリズム58の材料及び角度γ、さらに回折格子への入射角度iを選ぶことにより、温度依存性をなくすことができる。回折格子基板24とプリズム58を同じ材質を用いる場合には、(7)式より、
【数27】
【0089】
を満たすように、プリズム58の角度γ、回折格子への入射角度iを決めればよい。
【0090】
プリズム58を用いると、光ファイバからの主光線の出射方向と受光の主光線の方向とを略平行とすることもでき、部品の配置が容易となるという効果も得られる。特に、
【数28】
【0091】
となるように、γを選ぶと光ファイバからの出射方向と受光の方向とを略平行にすることができ、望ましい。本実施例においては、N=1.49、i=35°、θ=18°としたため、γ=28.7°とした。
【0092】
またさらに、本実施例のように出射ビームの幅が入射側よりも広がるようにプリズム58の入射面を主光線に対して斜めにすることにより、プリズム58は各波長の受光スポット間の距離を広げる効果もある。そのため、プリズムを用いない場合よりも波長分散の小さい回折格子を用いて波長分離ができ、例えばチャープ型回折格子16に格子ピッチの広い回折格子を用いても十分に波長を分離することができるようになる。したがって、回折格子の作製が容易となり、また回折効率を高くすることもできる。
【0093】
またさらに、本実施例のようにプリズム58を用いた場合には、受光部の波長ピッチをプリズム58を回転して微調整することもできる。
【0094】
ここまで、本発明の波長多重分離光デバイスを波長分離する場合について説明したが、本発明の波長多重分離光デバイスは光検出器を配している側に光源アレイを設ければ光合波デバイスとしても用いることができる。マルチプレクサに用いる場合は、温度補償しているため、光源には温度安定性に優れたものが望ましく、DFBレーザを用いることが望ましい。また、光ファイバ10の前に光を絞り込むように形成されたテーパを設けることが望ましい。
【0095】
また本発明は、波長間隔の狭いいわゆるDWDMにおけるデマルチプレクサにも用いることができる。温度依存性を小さくしたことにより、デマルチプレクサの温度をコントロールしなくても特性が安定しており、信頼性の高い波長分離が出来る。DWDMにおいては波長間隔が狭く特に温度に対する高い特性安定性が求められるため、ガラス基板のように熱膨張係数がポリマーよりも小さな材料を用いた回折格子についても、本発明の効果は大きいものである。
【0096】
本発明の第9の実施形態を図14を用いて説明する。
【0097】
図14は、本実施形態に係わる波長多重伝送モジュールの実施例を示す構成図である。伝送用光ファイバ74a、74bは、コネクタ96により光伝送モジュール80に接続され、それぞれ光ファイバ10、シングルモード光ファイバ11と突き合わせられる。受信用の伝送用光ファイバ74aを伝送してきた波長多重信号は、伝送用光ファイバ74aに突合せられたマルチモードの光ファイバ10に入射し、本発明のデマルチプレクサ82で波長ごとに分離されて光検出器アレイ36で検出される。検出された信号は、受信回路86により増幅され、波形整形される。さらに、パラレルーシリアル変換回路90により、波長多重化されて伝送されてきた信号をシリアル信号に変換して出力する。送信する場合には、入力された信号をシリアルーパラレル変換回路92で信号を分離し、送信回路88で信号ごとにレーザダイオードアレイ94の各光源を駆動し、波長の異なる光信号とする。各光信号は、シングルモードの光カプラにより構成される波長合波デバイス84で多重化し、シングルモード光ファイバ11に出力する。シングルモード光ファイバ11を通して、送信用の伝送用光ファイバ74bに結合され、送信される。シングルモード光ファイバ11及びマルチモードの光ファイバ10を用いて伝送用光ファイバ74a、74bと結合しているため、伝送用光ファイバ74a、74bにはマルチモードファイバ、シングルモードファイバのどちらでも用いることができる。本実施例では、光ファイバ10にコア径62.5μmのGI型マルチモードファイバを用いているため、伝送用光ファイバ74a、74bとして、シングルモード光ファイバ、コア50μm及び62.5μmのマルチモード光ファイバ等、光ファイバ10と等しいか、又は小さなコア径及び開口数を持つ光ファイバを用いることができる。
【0098】
光ファイバ10は伝送用のファイバとしてもよく、その場合には光ファイバ10が着脱できるようにし、着脱によっても光ファイバ10が所定の位置に突き合わされるようにしてもよい。
【0099】
本実施例では、第一の実施形態に示したデマルチプレクサ82を用いた場合についてしめしたが、本発明のデマルチプレクサを用いることにより、温度変化による特性変動を低減した光伝送モジュールを実現することができるものである。
【0100】
本実施例では、送信と受信の両方の機能を有する波長多重伝送モジュールについて示したが、受信部のみを有する波長多重受信光モジュールとしても本発明の効果を得られるものである。
【0101】
【発明の効果】
上記のごとく、本発明のデマルチプレクサにより、回折格子を有する回折格子ブロック又は、光学部材の温度変化に伴う屈折率変化を用いて回折格子の熱伸縮による特性変動を補償することができるようになり、温度追従性の優れたデマルチプレクサすることができるようになった。
【0102】
また、本発明のデマルチプレクサにより、回折格子を平行移動することで回折格子の熱伸縮による特性変動を補償することができるようになり、チャープ型回折格子を用いた場合でも温度変化に追従して補償するデマルチプレクサをできるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係わるデマルチプレクサの上面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態に係わる回折格子ブロックの側面図である。
【図3】本発明の第1の実施形態に係わる回折格子ブロックに設けたサブ波長格子の斜視図である。
【図4】本発明の第1の実施形態に係わる回折格子ブロックの温度補償機能を説明する図である。
【図5】本発明の第2の実施形態に係わる回折格子ブロックの上面図である。
【図6】本発明の第3の実施形態に係わるデマルチプレクサの上面図である。
【図7】本発明の第4の実施形態に係わるデマルチプレクサの上面図である。
【図8】本発明の第5の実施形態に係わるデマルチプレクサの上面図である。
【図9】本発明の第6の実施形態に係わるデマルチプレクサの上面図である。
【図10】本発明の第6の実施形態に係わる固定枠及び回折格子基板の斜視図である。
【図11】本発明の第7の実施形態に係わるデマルチプレクサの上面図である。
【図12】本発明の第8の実施形態に係わるデマルチプレクサの上面図である。
【図13】本発明の第8の実施形態に係わる温度補償を説明する図である。
【図14】本発明の第9の実施形態に係わる波長多重伝送モジュールの構成図である。
【符号の説明】
10 光ファイバ
11 シングルモード光ファイバ
12a、12b シリンドリカルレンズ
14 回折格子ブロック
15 回折格子
16 チャープ型回折格子
18 反射膜
19 光学接着剤
20 サブ波長格子
21 四角錐
22 プリズム部
24 回折格子基板
26 光学ブロック
28 受光用光導波路
30 スラブ導波路部
32 テーパ導波路部
36 光検出器アレイ
37 基準点
38 ベース
39 固定溝
40 スラブ導波路
42 下部基板
44 上部基板
46 コア
48 クラッド
50a、50b レンズ
52 固定枠
54 押さえ
56a、56b 突起部
57a、57b 溝部
58 プリズム
60a、60b、60c 駆動部
62a、62b、62c 固定部
70 入射光線
72 出射光線
74a、74b 伝送用光ファイバ
80 光伝送装置
82 波長多重分離デバイス
84 波長合波デバイス
86 受信回路
88 送信回路
90 パラレルーシリアル変換回路
92 シリアルーパラレル変換回路
94 レーザダイオードアレイ
96 光コネクタ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an optical device that separates wavelength-multiplexed optical signals transmitted using an optical fiber for each wavelength, and in particular, a diffraction grating used for wavelength separation, a demultiplexer that separates wavelengths using a diffraction grating, and wavelength-multiplexed light. It relates to a transmission module.
[0002]
[Prior art]
In Patent Document 1, the selected center of the filter itself due to the ambient temperature variation is obtained by rotating the diffraction grating using a temperature compensation mechanism unit arranged in the diffraction grating so as to cancel the shift of the selected center wavelength caused by the temperature rise. An optical filter for suppressing wavelength shift and a diffraction grating used for the optical filter are disclosed.
[0003]
[Patent Document 1]
JP-A-6-331850
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional optical filter, for example, a diffraction grating made of a glass substrate is rotated by a temperature compensation mechanism unit using, for example, an aluminum support. The diffraction grating and the temperature compensation mechanism are different in heat capacity, thermal conductivity, and the like. For this reason, there has been a problem that the speed of the characteristic change of the diffraction grating and the speed of compensation of the characteristic change by the temperature compensation mechanism do not coincide with a sudden temperature change, resulting in characteristic fluctuations.
[0005]
In addition, when the diffraction grating is rotated as in the conventional optical filter to suppress the shift of the selected center wavelength of the filter itself due to the ambient temperature fluctuation, the distance from the outgoing optical fiber varies at the outer periphery of the diffraction grating. Therefore, when a chirped diffraction grating having a condensing characteristic is used as the diffraction grating, there is a problem that the position of the spot condensed by the diffraction grating moves and changes the characteristic.
[0006]
The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a diffraction grating in which a characteristic change follows and compensates for a sudden temperature change, and a demultiplexer using the diffraction grating. Is to provide.
[0007]
Furthermore, another object of the present invention is to provide a diffraction grating in which a characteristic change follows and compensates for a temperature change even when a chirped diffraction grating is used, and a demultiplexer using the diffraction grating. .
[0008]
[Means for Solving the Problems]
To achieve the above object, the present invention comprises a light incident part, a diffraction grating, and an optical path for transmitting a wavelength-multiplexed light beam from the light incident part to the diffraction grating. Photodetector In the demultiplexer for separating the optical signal by irradiating the diffraction beam with the light beam, the diffraction grating And a prism separated from the light detector and in the optical path between the light detector and the optical detector, the characteristic change due to the temperature change of the diffraction grating is compensated by the refractive index change of the prism A demultiplexer characterized by the above is provided.
[0020]
It is desirable to arrange the prism so that the width of the emitted light beam is wider than the width of the incident light beam. A change in characteristics due to a change in temperature of the diffraction grating can be compensated by using a change in the refractive index of the prism.
[0023]
Furthermore, a wavelength division multiplexing optical module and a wavelength division multiplexing optical transmission module are provided using the demultiplexer of the present invention.
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
[0025]
FIG. 1 is a top view showing an example according to the present embodiment. The optical signal transmitted after being wavelength-multiplexed is emitted from the
[0026]
In this example, the
[0027]
FIG. 2 shows an embodiment of the
[0028]
FIG. 3 is a perspective view of the sub-wavelength grating 20 provided in the
[0029]
In this embodiment, since the reflection is prevented by using a minute structure, an antireflection structure by the
[0030]
In this embodiment, the antireflection structure is integrally formed, but a film having a
[0031]
The temperature compensation function of the
[Equation 9]
[0032]
Thus, the angle ξ at which the light beam diffracted by the chirped
[Expression 10]
[0033]
It is expressed. α is a linear expansion coefficient of the
[Expression 11]
[0034]
That is,
[Expression 12]
[0035]
In the case of (2),
[Formula 13]
[0036]
It is expressed. Furthermore, in the Littrow arrangement where ζ≈0,
[Expression 14]
[0037]
It can be seen that
[0038]
In general, between the refractive index n and density ρ of a substance,
[Expression 15]
[0039]
It is known that there is a relationship. However, (beta) shows a local field correction coefficient and is dependent on a substance. In general, β takes a value between 0 and 1/3. Using this equation, between the refractive index temperature change and the linear expansion coefficient α,
[Expression 16]
[0040]
It is shown that there is a relationship. Therefore, from equation (2)
[Expression 17]
[0041]
If n, β, and γ of the diffraction grating block 14 are selected so as to satisfy the above, the emission angle ξ does not depend on the temperature. Especially in the Littrow arrangement generally used for spectroscopes and the like, from the equation (6),
[Formula 18]
[0042]
That means
[Equation 19]
[0043]
What is necessary is just to select n and β that satisfy.
Since β normally takes a value in the range of 0 to 1/3, it is desirable to select the refractive index n in the range of 1.414 to 1.732 in the Littrow arrangement from the equation (10). For polymer materials, β often takes a value close to 1/3. In this case, it can be said that it is desirable to take a value in the vicinity of a refractive index of 1.414. Polymer materials having a refractive index close to this value include polytrifluoroethylene methacrylate (refractive index 1.42), silicone polymer (refractive index 1.43), cyclohexane-based fluorinated epoxy (refractive index 1.405). Fluorinated epoxy acrylate (refractive index 1.413), fluorinated epoxy acrylate (refractive index 1.417) glycol-based fluorinated epoxy (refractive index 1.385), fluorinated epoxy acrylate (refractive index 1.416), There are fluorinated acrylic resins such as fluorinated epoxy acrylate (refractive index 1.418) and trifluoroethyl methacrylate resin (refractive index 1.40). If these materials are used to form the
In equation (8), the right side denominator can be set larger or smaller than 1 by appropriately selecting γ, i, and θ. As shown in the present embodiment, when the incident angle ψ is larger than the outgoing angle ξ, this value is smaller than 1. Therefore, even if a material having a refractive index larger than 1.414 is used, equation (8) Can be met. In this case, fluorinated plastics such as polymethyl methacrylate (PMMA, refractive index 1.49), polycarbonate (PC, refractive index 1.59), fluorinated polyimide (refractive index 1.55), deuterated The plastic material etc. which were made can also be used and the material suitable for shaping | molding can be selected.
[0044]
On the other hand, when the incident angle ψ is smaller than the outgoing angle ξ, it is desirable to use a low refractive index material, which is a propylene hexafluoride / 4 ethylene fluoride / 2 vinylidene fluoride copolymer (refractive index 1.. 36), Teflon AF (manufactured by DuPont, refractive index 1.29) and Cytop (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., refractive index 1.34) can reduce loss even with infrared light. If the output angle is increased as in this case, the wavelength dispersion of the diffraction grating can be increased, so that the demultiplexer can be reduced. Therefore, it can be said that it is desirable to use a material having a refractive index of 1.29 or more and 1.414 or less as a realistic polymer in terms of miniaturization of the demultiplexer.
[0045]
As described above, in the embodiment, by using the
[0046]
In the case of a diffraction grating using a parallel plate without the
[Expression 20]
[0047]
Thus, the emission angle ξ does not depend on the refractive index n of the prism portion. Therefore, there is no effect of compensating for the characteristic change due to thermal expansion and contraction of the diffraction grating. That is, the incident / exit surface of the diffraction grating block 22 needs to form an angle with respect to the chirped
[Expression 21]
[0048]
Or
[Expression 22]
[0049]
It is desirable to satisfy.
[0050]
Up to this point, we have explained temperature compensation for cases where the coefficient of thermal expansion of the base is small and the characteristic variation due to thermal expansion and contraction of the diffraction grating is dominant. When the relative position fluctuates, in addition to the diffraction grating, the thermal expansion and contraction of the base is taken into consideration, and the parameters may be set so as to eliminate the temperature dependence of the entire demultiplexer. In the arrangement of this embodiment, the thermal expansion and contraction of the base and the thermal expansion and contraction of the diffraction grating move in a direction to compensate each other. Therefore, by using a material having a high thermal expansion coefficient for the base, the refractive index is larger than 1.414. Even when a material is used, the temperature dependence can be reduced by the
[0051]
Further, in the case where fluctuation of the condensing position due to thermal expansion and contraction of the diffraction grating is allowed to some extent, the expression (8) may not be sufficiently satisfied, and within a range in which a practical temperature compensation effect can be achieved. Select a parameter.
[0052]
In the present embodiment, a so-called Eschlet type in which the cross-sectional shape of the grating grooves is a right triangle is used as the
[0053]
In the Eschlett type diffraction grating, when the wavelength λ and the grating constant d are selected, if the λ / d is selected from 0.6 to 1.0 and the blaze angle is selected from the range of 25 ° to 35 °, the polarization dependence is small and the diffraction efficiency is reduced. Can be bigger. in this case,
[Expression 23]
[0054]
It is necessary to. Therefore, according to the equation (4), the angle γ of the prism incident surface is desirably 17 ° or more and 30 ° or less.
Furthermore, since the difference in diffraction efficiency between TE-polarized light and TM-polarized light increases as the lattice constant decreases, the diffraction order is selected so that this difference is small and the diffraction efficiency is high. In this example, the lattice constant was doubled discontinuously from the middle so that -1st order diffracted light was used in a region having a large lattice constant, and -2nd order diffracted light was used in a region having a small lattice constant. Thus, when the lattice constant is small, it is desirable to use higher-order diffracted light, and it is desirable to use second-order or higher-order diffracted light with a lattice constant that is approximately equal to or less than the incident wavelength. By switching the order at the blaze angle switching position, the grating constant can be switched without increasing the number of divisions of the diffraction grating. In this embodiment, the number of area divisions is six. The greater the number of divisions, the closer to the ideal blaze angle distribution. The relationship between the number of area divisions and the loss was examined, and it was found that when the number of divisions was 4 or more, the loss decreased, and when 9 or more, the loss was almost constant. Therefore, even if the number of divisions is increased, the loss is not significantly reduced beyond a certain number of divisions. Moreover, if the area is increased too much, the number of times of changing the blaze angle increases, which may reduce the processing accuracy and reduce the loss. Therefore, the number of divisions is preferably 4-9, particularly 6-9. In the present embodiment, since the diffraction grating grooves are processed on a plane, positional deviations in the plane direction and the vertical direction at the connecting portions of the regions hardly occur in the processing of the diffraction grating grooves.
[0055]
Thus, by making the diffraction efficiencies of TE polarized light and TM polarized light substantially equal, even if the polarization state of incident light changes, fluctuations in the detected light quantity can be reduced. When specific polarized light enters from the
[0056]
In addition to the ruling engine used in the present embodiment, the grating pattern can be processed by, for example, irradiating the photosensitive member with a laser beam from the incident position and the emitting position to expose the interference pattern and forming a hologram. Good. By using the hologram diffraction grating, the light can be condensed while being sufficiently narrowed at the emission position with little aberration. Alternatively, it may be processed by using a three-dimensional NC processing machine, and further, a chirped diffraction grating continuously blazed on a substrate of Si or the like can be created by using a photolithography technique.
[0057]
For the processing of the chirped
[0058]
In the case where the incident angle changes depending on the position of the diffraction grating as in this embodiment, the principal ray having the strongest light intensity may be set so as to satisfy the temperature compensation condition. The diffraction grating is not limited to the planar chirped diffraction grating used in the present embodiment, but can be similarly applied to an equidistant planar diffraction grating or a concave diffraction grating having a constant lattice constant. When the concave diffraction grating is used, the incident point of the
[0059]
In addition, aberration occurs when light rays pass through the
In this embodiment, a cylindrical lens 12 is used as the cylindrical lens 12. In the case of the arrangement close to the Littrow arrangement, a single cylindrical lens may be used for condensing incident and outgoing rays.
[0060]
In the present embodiment, the four wavelengths of the center wavelengths 1275.7, 1300.2, 1324.7, and 1349.2 nm that have been transmitted after being multiplexed are separated. With respect to this central wavelength, the maximum fluctuation of ± 5.7 nm was assumed due to wavelength variations due to the manufacture of the light source, temperature, and spectral distribution. Therefore, the wavelength space between adjacent channels is 13.1 nm, and is set to approximately 1% of the transmission wavelength. This wavelength variation is determined by the creation and characteristics of the light source, and is necessary as a range that does not require strict selection of the light source. In this example, it was possible to realize a sufficient reduction in characteristic fluctuation in this wavelength range.
[0061]
The light receiving
[0062]
In this example, a graded index (GI) multimode optical fiber (62.5 MMF) having a core diameter of 62.5 μm and a numerical aperture of 0.275 was used as the
[0063]
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a top view showing an example of the diffraction grating block according to the present embodiment. The function of the diffraction grating block of this example is the same as that of the diffraction grating block 14 shown in the first embodiment, and different points will be described here. First, the
[0064]
Alternatively, by using materials having different linear expansion coefficients for the
[0065]
In this embodiment, since the chirped
[0066]
When the diffraction grating block 14 of this example is fixed to the base 38 as shown in the first embodiment, the
[0067]
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a top view showing an example of the demultiplexer according to the present embodiment. The wavelength-division multiplexed optical signal that has been emitted from the
[0068]
In this embodiment, the
[0069]
As in this embodiment, the light beam is incident on the chirped
[0070]
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a top view showing an example of the demultiplexer according to this embodiment. The optical signal that has been wavelength-multiplexed and transmitted through the
[0071]
A transparent polymer is used for the core of the
In this embodiment, since light rays propagate through the
[0072]
When the
[0073]
A fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a top view of the demultiplexer according to the present embodiment. The wavelength multiplexed optical signal that is emitted from the
[0074]
In the present embodiment, an equally spaced diffraction grating having parallel linear grating grooves is used as the
[0075]
A sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a top view showing an example of the demultiplexer according to the present embodiment. The wavelength multiplexed signal emitted from the
[0076]
The fixed
[0077]
In order to compensate the movement of the focused spot in the x direction due to the thermal expansion / contraction of the
[Expression 24]
[0078]
The distance L between the center of the chirped
[0079]
In this way, by shifting the center of the chirped
[0080]
By forming the
[0081]
In the present embodiment, as the
[0082]
In the present embodiment, a prism may be used as in the first embodiment, and may be combined with temperature compensation by changing the refractive index of the prism.
[0083]
A seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a top view showing an example of the demultiplexer according to the present embodiment. The wavelength multiplexed signal that has been emitted from the
[0084]
In the present embodiment, the
[0085]
An eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a top view of the demultiplexer according to the present embodiment. The wavelength-division multiplexed signal emitted from the
[0086]
The temperature compensation by the
[Expression 25]
[0087]
In Case of,
[Equation 26]
[0088]
And it is sufficient. Expression (13) indicates a condition in which the emission angle ψ of the principal ray from the
[Expression 27]
[0089]
The angle γ of the
[0090]
When the
[Expression 28]
[0091]
Thus, when γ is selected, the emission direction from the optical fiber and the light reception direction can be made substantially parallel, which is desirable. In this example, N = 1.49, i = 35 °, and θ = 18 °, so that γ = 28.7 °.
[0092]
Furthermore, as in this embodiment, the width of the outgoing beam is smaller than the incident side. Also By making the incident surface of the
[0093]
Furthermore, when the
[0094]
Up to this point, the wavelength demultiplexing optical device according to the present invention has been described as being wavelength-separated. However, the wavelength demultiplexing optical device according to the present invention can be used as an optical multiplexing device by providing a light source array on the side where the photodetector is disposed. Can also be used. When used in a multiplexer, since temperature compensation is performed, a light source having excellent temperature stability is desirable, and a DFB laser is desirably used. Further, it is desirable to provide a taper formed so as to narrow the light before the
[0095]
The present invention can also be used for a demultiplexer in so-called DWDM with a narrow wavelength interval. By reducing the temperature dependence, the characteristics are stable without controlling the temperature of the demultiplexer, and highly reliable wavelength separation can be achieved. Since DWDM has a narrow wavelength interval and particularly requires high characteristic stability with respect to temperature, the effect of the present invention is great even for a diffraction grating using a material having a thermal expansion coefficient smaller than that of a polymer, such as a glass substrate. .
[0096]
A ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
[0097]
FIG. 14 is a configuration diagram illustrating an example of a wavelength division multiplexing module according to the present embodiment. The transmission
[0098]
The
[0099]
In the present example, the case where the
[0100]
In the present embodiment, the wavelength multiplexing transmission module having both transmission and reception functions has been described. However, the effect of the present invention can also be obtained as a wavelength multiplexing reception optical module having only a receiving section.
[0101]
【The invention's effect】
As described above, the demultiplexer of the present invention makes it possible to compensate for fluctuations in characteristics due to thermal expansion and contraction of a diffraction grating using a diffraction grating block having a diffraction grating or a refractive index change accompanying a temperature change of an optical member. The demultiplexer has excellent temperature followability.
[0102]
In addition, the demultiplexer according to the present invention makes it possible to compensate for fluctuations in characteristics due to thermal expansion and contraction of the diffraction grating by moving the diffraction grating in parallel. Even when a chirped diffraction grating is used, it can follow the temperature change. Added demultiplexer to compensate.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a top view of a demultiplexer according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a side view of the diffraction grating block according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a perspective view of a sub-wavelength grating provided in the diffraction grating block according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a diagram illustrating a temperature compensation function of the diffraction grating block according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a top view of a diffraction grating block according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a top view of a demultiplexer according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a top view of a demultiplexer according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a top view of a demultiplexer according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a top view of a demultiplexer according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a perspective view of a fixed frame and a diffraction grating substrate according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a top view of a demultiplexer according to a seventh embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a top view of a demultiplexer according to an eighth embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a diagram for explaining temperature compensation according to an eighth embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a configuration diagram of a wavelength division multiplexing transmission module according to a ninth embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
10 Optical fiber
11 Single mode optical fiber
12a, 12b Cylindrical lens
14 Diffraction grating block
15 Diffraction grating
16 Chirped diffraction grating
18 Reflective film
19 Optical adhesive
20 subwavelength gratings
21 square pyramid
22 Prism section
24 Diffraction grating substrate
26 Optical block
28 Optical waveguide for light reception
30 Slab waveguide section
32 Tapered waveguide section
36 Photodetector array
37 Reference point
38 base
39 Fixed groove
40 Slab waveguide
42 Lower substrate
44 Upper substrate
46 core
48 clad
50a, 50b lens
52 Fixed frame
54 Presser
56a, 56b Projection
57a, 57b Groove
58 prism
60a, 60b, 60c drive unit
62a, 62b, 62c fixed part
70 Incident rays
72 Emission light
74a, 74b Transmission optical fiber
80 Optical transmission equipment
82 Wavelength demultiplexing device
84 Wavelength multiplexing device
86 Receiver circuit
88 Transmitter circuit
90 Parallel-serial conversion circuit
92 Serial-parallel conversion circuit
94 Laser diode array
96 Optical connector
Claims (4)
前記回折格子に前記光ビームを照射して光信号を分離するデマルチプレクサにおいて、
前記回折格子と光検出器の間の光路に、前記回折格子及び前記光検出器と分離したプリズムを有し、
前記回折格子の温度変化による特性変化を前記プリズムの屈折率変化によって補償することを特徴とするデマルチプレクサ。A light incident part, a diffraction grating, an optical path for transmitting a wavelength-multiplexed light beam from the light incident part to the diffraction grating, and a photodetector;
In a demultiplexer that irradiates the light beam to the diffraction grating and separates an optical signal,
The optical path between the diffraction grating and the photodetector has a prism that is separated from the diffraction grating and the photodetector,
A demultiplexer characterized in that a characteristic change due to a temperature change of the diffraction grating is compensated by a refractive index change of the prism .
前記プリズムに入射した光線の幅よりも、前記プリズムより出射した光線の幅が広くなるように、前記プリズムにより光線を屈折することを特徴とするデマルチプレクサ。The demultiplexer according to claim 1 , wherein
A demultiplexer characterized in that a light beam is refracted by the prism so that a light beam emitted from the prism is wider than a light beam incident on the prism.
波形整形する受信回路とを有する波長多重受信光モジュールにおいて、
前記デマルチプレクサが請求項1又は2記載のデマルチプレクサであり、
前記接合部と前記デマルチプレクサとをマルチモード光ファイバで接続することを特徴とする波長多重受信光モジュール。A junction with an optical fiber for signal transmission, a demultiplexer that separates wavelength-multiplexed optical signals, a photodetector array, and amplifies signals from the photodetector array;
In a wavelength multiplex receiving optical module having a receiving circuit for waveform shaping,
The demultiplexer according to claim 1 or 2, wherein the demultiplexer is
A wavelength division multiplexing optical module, wherein the junction and the demultiplexer are connected by a multimode optical fiber.
波形整形する受信回路と光源アレイと前記光源アレイを駆動する送信回路と前記光源アレイからの光信号を合波する波長合波デバイスとを有する波長多重光伝送モジュールにおいて、
前記デマルチプレクサが請求項1又は2記載のデマルチプレクサであり、
前記接合部と前記デマルチプレクサとをマルチモード光ファイバで接続し、
前記接合部と前記波長合波デバイスとをシングルモード光ファイバで接続することを特徴とする波長多重光伝送モジュール。A junction with an optical fiber for signal transmission, a demultiplexer that separates wavelength-multiplexed optical signals, a photodetector array, and amplifies signals from the photodetector array;
In a wavelength division multiplexing optical transmission module having a receiving circuit that shapes a waveform, a light source array, a transmission circuit that drives the light source array, and a wavelength multiplexing device that combines optical signals from the light source array,
The demultiplexer according to claim 1 or 2, wherein the demultiplexer is
The junction and the demultiplexer are connected by a multimode optical fiber,
A wavelength division multiplexing optical transmission module, wherein the junction and the wavelength multiplexing device are connected by a single mode optical fiber.
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