JP4237798B2 - Method and system for automated design of light guide plate pattern - Google Patents

Method and system for automated design of light guide plate pattern Download PDF

Info

Publication number
JP4237798B2
JP4237798B2 JP2006545249A JP2006545249A JP4237798B2 JP 4237798 B2 JP4237798 B2 JP 4237798B2 JP 2006545249 A JP2006545249 A JP 2006545249A JP 2006545249 A JP2006545249 A JP 2006545249A JP 4237798 B2 JP4237798 B2 JP 4237798B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
guide plate
light guide
dot
dot density
plate pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006545249A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007507815A (en
Inventor
ソング・ジュン・アン
ヨン・ウ・キム
Original Assignee
アイエス・ハイテック・インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アイエス・ハイテック・インコーポレーテッド filed Critical アイエス・ハイテック・インコーポレーテッド
Publication of JP2007507815A publication Critical patent/JP2007507815A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4237798B2 publication Critical patent/JP4237798B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0033Means for improving the coupling-out of light from the light guide
    • G02B6/0058Means for improving the coupling-out of light from the light guide varying in density, size, shape or depth along the light guide
    • G02B6/0061Means for improving the coupling-out of light from the light guide varying in density, size, shape or depth along the light guide to provide homogeneous light output intensity
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0065Manufacturing aspects; Material aspects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
  • Planar Illumination Modules (AREA)

Description

本発明は、導光板パターン設計方法およびそのシステムに係り、さらに詳しくは、導光板の表面のドットパターンを自動的に設計する方法およびそのシステムに関する。   The present invention relates to a light guide plate pattern design method and system, and more particularly, to a method and system for automatically designing a dot pattern on the surface of a light guide plate.

周知の如く、導光板とは、LCDのように自ら発光しないディスプレイ装置の背面に位置し、側面の光源から発生した光をディスプレイの前面に向かわせる、PMMAまたはその他これと類似の材質で作られた板状モジュールを意味する。   As is well known, a light guide plate is made of PMMA or other similar material that is located on the back of a display device that does not emit light, such as an LCD, and directs light generated from a light source on the side to the front of the display. Means a plate-like module.

このように導光板が側面光源からの光を屈折させて前面に向かわせるが、これは光源から発生した光が導光板の内部に入射した後、導光板の背面に形成された屈折ドットから反射または散乱されてその経路が変更されるためである。このようなドットは、通常、インクなどで印刷された形をし、あるいは機械的に形成されたノッチ(notch)、ピット(pit)またはディンプル(dimple)などの形をする。   In this way, the light guide plate refracts the light from the side light source and directs it to the front, which is reflected from the refracting dots formed on the back of the light guide plate after the light generated from the light source enters the inside of the light guide plate. Alternatively, the path is changed due to scattering. Such dots are usually printed with ink or the like, or are mechanically formed notches, pits or dimples.

前述したドットの導光板の表面における配置形態をドットパターンと称するが、このようなドットパターンが持つべき最も重要な特性の一つは、この導光板を使用した際に光がなるべく広く均一に分散して導光板の全面にわたって均一な輝度が得られるようにしなければならないことである。   The arrangement of the dots on the surface of the light guide plate described above is called a dot pattern. One of the most important characteristics of such a dot pattern is that light is dispersed as widely and uniformly as possible when this light guide plate is used. Thus, uniform brightness must be obtained over the entire surface of the light guide plate.

一般に、光源に近いところが遠いところより輝度が高く、且つドット密度の高い地点がドット密度の相対的に小さい地点より輝度が高いので、導光板の輝度均質性を左右する大きい変数は、光源の位置およびドットの密度分布であると言える。その中でも、光源の位置は、前もって定められるものなので、輝度均質性のためにはドットパターンの設計が非常に重要であると言える。このような導光板パターンは、電子製品によってその設計を異にしなければならない。その理由は、たとえばLCDを使う電子装置が携帯電話やコンピュータモニター、壁掛けテレビなど様々な形をしているので、これらに要求される導光板の広さおよび模様が異なり、各製品に合わせてその模様および広さ、光源の特性による固有な導光板パターンの設計が行わなければならないためである。   In general, since a point closer to the light source has a higher luminance than a point far away and a point with a high dot density has a higher luminance than a point with a relatively small dot density, the large variable that affects the luminance uniformity of the light guide plate is the position of the light source. And the density distribution of dots. Among them, since the position of the light source is determined in advance, it can be said that the design of the dot pattern is very important for luminance uniformity. Such a light guide plate pattern must be designed differently depending on the electronic product. The reason is that, for example, electronic devices using LCDs have various shapes such as mobile phones, computer monitors, and wall-mounted televisions. This is because a unique light guide plate pattern must be designed according to the pattern, width, and characteristics of the light source.

現在まで使用されてきた導光板パターンの設計方式は、非常に原始的で且つ非効率的な方法である。その中でも、最も基本的に使用している方式は、新たな導光板パターンを設計する際、類似の大きさと面積をもった従前の導光板パターンをそのまま模して新しい導光板に適用したプロトタイプ(proto type)を試験的に製作した後、そのパターンで均一な輝度が得られるかを肉眼で確認し、確認結果、均一でない部分が発見されると、この部分に配置されたドットの密度を他の部分に比べて相対的に加減した2次プロトタイプの導光板をさらに製作して同一の過程を経て最適の設計を得る方式であった。   The design method of the light guide plate pattern used up to now is a very primitive and inefficient method. Among them, the most basic method is a prototype that applies a new light guide plate by imitating the previous light guide plate pattern with similar size and area when designing a new light guide plate pattern ( (proto type) is manufactured on a trial basis, and it is confirmed with the naked eye whether uniform brightness can be obtained with the pattern.If a non-uniform part is found as a result of the confirmation, the density of the dots arranged in this part is changed. In this method, a secondary prototype light guide plate, which is relatively adjusted in comparison with the above part, is further manufactured to obtain an optimal design through the same process.

すなわち、毎度導光板を直接製作してこれを肉眼で観察し、経験値を用いてこれを補正する原始的な方法を使用してきた。   That is, a primitive method has been used in which a light guide plate is directly manufactured and observed with the naked eye each time and corrected using experience values.

このように新しい導光板の形態ごとに新しい型を製作して新しい導光板プロトタイプを実際製作しなければならない従前の方式は、費用および時間的な面からみて、非常に非効率的な設計方式である。   In this way, the conventional method of actually producing a new light guide plate prototype by creating a new mold for each new light guide plate form is a very inefficient design method from the viewpoint of cost and time. is there.

これは特に最近急浮上した産業である携帯電話製造業においてさらに深刻であるが、各携帯電話メーカーによって毎年数十個以上のモデルが新登場する昨今の状況で、このようなあまりにも多くの人力、費用および時間がかかる原始的な設計方式は、ややともすれば当該携帯電話メーカーを市場先占の競争で淘汰させることもできる程度に古い方法であるといえる。   This is especially acute in the mobile phone manufacturing industry, which has recently emerged rapidly, but in the current situation where dozens of models are newly introduced by each mobile phone manufacturer every year, such too much human power The costly and time-consuming primitive design method is, to some extent, an old method that can make the mobile phone manufacturer reluctant due to market competition.

したがって、このような原始的な方法から脱皮し、新しくて効率化された導光板設計方法が要求されている実情である。   Accordingly, there is a demand for a new and efficient light guide plate design method that has been developed from such a primitive method.

本発明は、かかる問題点を解決しようとするもので、実際導光板を製作しなくても、コンピュータシミュレーションを用いて設計された導光板の輝度パターンを求め、これを自動的にフィードバックさせることにより、最適化された導光板パターンを容易に求める方法およびそのシステムを提供することを目的とする。   The present invention is intended to solve such a problem, by obtaining the luminance pattern of the light guide plate designed by using computer simulation without actually manufacturing the light guide plate, and automatically feeding back this. An object of the present invention is to provide a method and a system for easily obtaining an optimized light guide plate pattern.

よって、このような本発明の特徴を利用すると、何よりも、新しい導光板の製作の際にかかる費用および時間を画期的に減らすことができる。   Therefore, by utilizing such a feature of the present invention, the cost and time required for manufacturing a new light guide plate can be significantly reduced.

また、本発明は、上記の方式で作動するようにコンピュータを駆動させるソフトウェアの構造およびその作動方法を提供することを他の目的とする。   Another object of the present invention is to provide a software structure for driving a computer to operate in the above-described manner and a method for operating the software.

また、本発明は、上記の方法で作動する導光板自動設計システムの構造およびその作動方法を提供することを別の目的とする。   Another object of the present invention is to provide a structure of an automatic light guide plate design system that operates by the above method and a method for operating the structure.

前記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、入力手段、出力手段、格納手段、中央処理装置、ドット位置生成手段、シミュレータ、輝度計算手段およびドット密度補正手段を含む導光板パターン設計システムを用いた導光板パターン設計方法において、前記中央処理装置が、(a)前記入力手段を用いて、所定のドット密度を有する導光板パターンの入力を受ける段階と、(b)前記入力手段を用いて前記ドットの形態変数および導光板変数の入力を受ける段階と、(c)前段階で入力されたドット密度に基づいて前記ドット位置生成手段を用いて各ドットに対する座標変数を生成する段階と、(d)前記シミュレータに前記ドットの座標変数、形態変数および導光板変数を入力する段階と、(e)前記シミュレータを用いて、前段階で入力された導光板パターンが示す導光板輝度分布をシミュレーションする段階と、(f)前記輝度計算手段を用いて、前記シミュレーションされた導光板の全体平均輝度値を求める段階と、(g)前記輝度計算手段を用いて、前記導光板を分割した各分析セクター別に個別輝度値を求める段階と、(h)前記ドット密度補正手段を用いて、前記平均輝度値および前記個別輝度値に基づいて各分析セクターのドット密度を加減して新しい導光板パターンのドット密度を生成する段階とを含む導光板パターン設計方法を行うことを特徴とする、導光板パターン設計方法を提供する。   In order to solve the above problems, according to an aspect of the present invention, a light guide plate pattern including an input unit, an output unit, a storage unit, a central processing unit, a dot position generation unit, a simulator, a luminance calculation unit, and a dot density correction unit. In the light guide plate pattern design method using a design system, the central processing unit (a) receives an input of a light guide plate pattern having a predetermined dot density using the input means, and (b) the input means. Receiving the input of the dot form variables and the light guide plate variables using (a), and (c) generating coordinate variables for each dot using the dot position generation means based on the dot density input in the previous step And (d) inputting coordinate variables, form variables, and light guide plate variables of the dots into the simulator, and (e) using the simulator, (G) simulating a light guide plate luminance distribution indicated by the light guide plate pattern inputted in the step; (f) obtaining an overall average luminance value of the simulated light guide plate using the luminance calculation means; Obtaining an individual luminance value for each analysis sector obtained by dividing the light guide plate using the luminance calculating means; and (h) based on the average luminance value and the individual luminance value using the dot density correcting means. A method of designing a light guide plate pattern comprising performing a method of designing a light guide plate pattern including adjusting a dot density of each analysis sector to generate a dot density of a new light guide plate pattern.

また、本発明の他の観点によれば、入力手段、出力手段、格納手段、中央処理装置を有するコンピュータを駆動させるコンピュータプログラムを格納した記録媒体において、前記コンピュータプログラムが、ドット位置生成手段、シミュレータ、輝度計算手段およびドット密度補正手段を含み、前記コンピュータプログラムが、(a)前記入力手段を用いて、所定のドット密度を有する導光板パターンの入力を受ける段階と、(b)前記入力手段を用いて前記ドットの形態変数および導光板変数の入力を受ける段階と、(c)前段階で入力されたドット密度に基づいて前記ドット位置生成手段を用いて各ドットに対する座標変数を生成する段階と、(d)前記シミュレータに前記ドットの座標変数、形態変数および導光板変数を入力する段階と、(e)前記シミュレータを用いて、前段階で入力された導光板パターンが示す導光板輝度分布をシミュレーションする段階と、(f)前記輝度計算手段を用いて、前記シミュレーションされた導光板の全体平均輝度値を求める段階と、(g)前記輝度計算手段を用いて、前記導光板を分割した各分析セクター別に個別輝度値を求める段階と、(h)前記ドット密度補正手段を用いて、前記平均輝度値および前記個別輝度値に基づいて各分析セクターのドット密度を加減して新しい導光板パターンのドット密度を生成する段階とを含む導光板パターン設計方法を行うことを特徴とする、コンピュータプログラムを記録した記録媒体を提供する。   According to another aspect of the present invention, in a recording medium storing a computer program for driving a computer having an input unit, an output unit, a storage unit, and a central processing unit, the computer program includes a dot position generation unit, a simulator Brightness calculating means and dot density correcting means, wherein the computer program (a) receives an input of a light guide plate pattern having a predetermined dot density using the input means, and (b) the input means Using the dot shape variable and the light guide plate variable, and (c) generating a coordinate variable for each dot using the dot position generation means based on the dot density input in the previous step. , (D) inputting the coordinate variable, form variable, and light guide plate variable of the dot into the simulator (E) simulating the light guide plate luminance distribution indicated by the light guide plate pattern inputted in the previous step using the simulator; and (f) the entire simulated light guide plate using the luminance calculation means. Obtaining an average luminance value; (g) obtaining an individual luminance value for each analysis sector obtained by dividing the light guide plate using the luminance calculating means; and (h) using the dot density correcting means. Performing a light guide plate pattern design method including a step of generating a dot density of a new light guide plate pattern by adjusting the dot density of each analysis sector based on the average luminance value and the individual luminance value. A recording medium on which is recorded.

また、本発明の別の観点によれば、入力手段、出力手段、格納手段、中央処理装置、ドット位置生成手段、シミュレータ、輝度計算手段およびドット密度補正手段を含み、(a)前記入力手段を用いて、所定のドット密度を有する導光板パターンの入力を受ける段階と、(b)前記入力手段を用いて前記ドットの形態変数および導光板変数の入力を受ける段階と、(c)前段階で入力されたドット密度に基づいて前記ドット位置生成手段を用いて各ドットに対する座標変数を生成する段階と、(d)前記シミュレータに前記ドットの座標変数、形態変数および導光板変数を入力する段階と、(e)前記シミュレータを用いて、前段階で入力された導光板パターンが示す導光板輝度分布をシミュレーションする段階と、(f)前記輝度計算手段を用いて、前記シミュレーションされた導光板の全体平均輝度値を求める段階と、(g)前記輝度計算手段を用いて、前記導光板を分割した各分析セクター別に個別輝度値を求める段階と、(h)前記ドット密度補正手段を用いて、前記平均輝度値および前記個別輝度値に基づいて各分析セクターのドット密度を加減して新しい導光板パターンのドット密度を生成する段階とを含む導光板パターン設計方法を行うことを特徴とする、導光板パターン設計装置を提供する。   According to another aspect of the present invention, an input unit, an output unit, a storage unit, a central processing unit, a dot position generation unit, a simulator, a luminance calculation unit, and a dot density correction unit are included, and (a) the input unit includes A step of receiving an input of a light guide plate pattern having a predetermined dot density, (b) a step of receiving input of the dot form variables and the light guide plate variables using the input means, and (c) in a previous step Generating coordinate variables for each dot using the dot position generation means based on the input dot density; and (d) inputting the coordinate variables, form variables, and light guide plate variables of the dots to the simulator; (E) simulating the light guide plate luminance distribution indicated by the light guide plate pattern inputted in the previous step using the simulator; and (f) the luminance calculating means. A step of obtaining an overall average luminance value of the simulated light guide plate, and (g) obtaining an individual luminance value for each analysis sector obtained by dividing the light guide plate using the luminance calculation means, and (h) And a step of generating a dot density of a new light guide plate pattern by adjusting the dot density of each analysis sector based on the average brightness value and the individual brightness value using the dot density correction means. An apparatus for designing a light guide plate pattern is provided.

前述した導光板は、その側面に配置されるLEDなどの点光源またはCCFLなどの直線型光源のいずれか一つと共に使用できる。   The light guide plate described above can be used with either a point light source such as an LED or a linear light source such as CCFL disposed on the side surface thereof.

本発明の駆動方式において最も注目すべき点は、実際導光板を作る前の段階が全てコンピュータシミュレーションで動くことと、製作者の肉眼で輝度を判断し手作業でドット密度を補正してその次のパターンを設計する方式ではなく、シミュレータとドット密度補正手段との間で交換されるデジタルデータ値によってこの段階が自動的に行われることである。   The most notable point in the drive system of the present invention is that all steps before actually making the light guide plate are moved by computer simulation, the brightness is judged with the naked eye of the producer, and the dot density is corrected manually, followed by This step is automatically performed by the digital data value exchanged between the simulator and the dot density correcting means, not the method of designing the pattern.

したがって、使用者は、シミュレータ結果値を肉眼で確認した後、新しいドット密度パターンを作るかだけを決定すればよいので、既存の方式とは比較できないほど短時間内に正確なパターンを得ることができる。   Therefore, the user only has to determine whether or not to create a new dot density pattern after checking the simulator result value with the naked eye, so that an accurate pattern can be obtained in a short time that cannot be compared with the existing method. it can.

結果的に、このような本発明を用いて新しいディスプレイ機器に使用される新しい形態の導光板パターンを設計する場合、従来の方式に比べて著しく速くかつ迅速に最適のパターンを見つけることができ、何よりも実際金型を複数個作らなくてもよいので、その設計費用が著しく減少する。   As a result, when designing a new type of light guide plate pattern to be used for a new display device using the present invention, the optimum pattern can be found significantly faster and faster than the conventional method. Above all, since it is not necessary to actually make a plurality of molds, the design cost is significantly reduced.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施例について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は本発明に係る導光板パターン設計システムの構成図である。図1のシステムは、コンピュータを駆動させるもので、データを入力する入力手段、データを格納する格納手段、データを計算するCPU、データを出力するモニターのような出力手段などのハードウェア装置を含む。さらに、導光板の各区域別にその密度が設定されたドットの座標を設定するドット位置生成手段と、生成されたドットの座標およびその他の光学データの提供を受けて光学的な状況をシミュレーションするシミュレータと、前記シミュレータから出力された結果に対してその輝度を分析する輝度計算手段と、計算された輝度から各区域別にドットの密度を再設定するドット密度補正手段とを含んでなる。   FIG. 1 is a configuration diagram of a light guide plate pattern design system according to the present invention. The system of FIG. 1 drives a computer, and includes hardware devices such as input means for inputting data, storage means for storing data, a CPU for calculating data, and output means such as a monitor for outputting data. . Furthermore, a dot position generating means for setting the coordinates of the dots whose density is set for each area of the light guide plate, and a simulator for simulating an optical situation by receiving the generated coordinates of the dots and other optical data Brightness calculating means for analyzing the brightness of the result output from the simulator, and dot density correcting means for resetting the dot density for each area from the calculated brightness.

ハードウェアまたはソフトウェアのいずれか一つで実現される前記各手段は、一つのコンピュータ内に全て実現できる(スタンドアロン型)が、有無線で連結され、一部はサーバとして、一部はクライアントとして作動するネットワークコンピュータにおいても有機的に実現されて作動できる(ネットワーク型)。   Each of the means realized by either hardware or software can be realized in a single computer (stand-alone type), but they are connected via wired and wireless, partly acting as a server and partly acting as a client. The network computer can be realized and operated organically (network type).

本発明の導光板パターン設計システムにおいて、最も先に行われる段階は、導光板を設計しようとする使用者が前記入力手段を用いてT01パターンを生成することである。   In the light guide plate pattern design system of the present invention, the first step is to generate a T01 pattern using the input means by a user who wants to design a light guide plate.

本発明において、T01パターンとは、設計対象である導光板の各領域別に使用者が自ら設定したドット密度をいう。これは最も原始的かつ基礎的な導光板パターンであるが、これを設定する具体的な方式は、前記入力手段を用いて全体導光板の大きさを入力し、各領域別にドットの密度を設定し、あるいはある特定の地点、たとえば光源に最も近接している地点のドット密度を入力した後、前もって設定された指数関数またはその他の関数を用いて自動的に領域別にドットの密度が計算されて設定されるようにする方式である。   In the present invention, the T01 pattern refers to the dot density set by the user for each region of the light guide plate that is the design target. This is the most primitive and basic light guide plate pattern, but the specific method for setting this is to input the size of the entire light guide plate using the input means and set the dot density for each region. Alternatively, after entering the dot density at a specific point, for example, the point closest to the light source, the dot density is automatically calculated by region using a preset exponential function or other function. This is a method for setting.

図2には使用者によって任意に設定された前記T01のドット密度に対する一実施例が光源からの距離別に示されており、この実施例の模式的な導光板の形状が図3に示されている。この実施例は、横軸の長さが50mm、縦軸の長さが60mmである導光板のいずれかの一側面に隣接している光源のY軸座標値を0にしたとき、Y軸方向に距離が増加するにつれてドットの密度が増加するように設定された任意の導光板のドット密度パターンである。   FIG. 2 shows an embodiment for the dot density of T01 arbitrarily set by the user according to the distance from the light source, and the schematic shape of the light guide plate of this embodiment is shown in FIG. Yes. In this embodiment, when the Y-axis coordinate value of a light source adjacent to one side surface of a light guide plate having a horizontal axis length of 50 mm and a vertical axis length of 60 mm is set to 0, the Y-axis direction This is a dot density pattern of an arbitrary light guide plate set so that the dot density increases as the distance increases.

ここで、ドット密度がY値に応じて増加するように設定したことは、光源からの距離が遠くなるほど輝度が小さくなるので、これを相殺して全体的に均一な輝度を得させるためのことで、導光板においてドットが多くなるほど輝度が大きくなるという自然法則を利用したものである。   Here, the fact that the dot density is set to increase according to the Y value means that the luminance decreases as the distance from the light source increases, and this is offset to obtain a uniform luminance as a whole. Thus, the natural law is used that the luminance increases as the number of dots increases in the light guide plate.

前記Y軸の距離による増加分は、前述した指数関数、線形比例の他に使用者の経験による任意値が入力できるが、このようにT01でドットの密度を任意に設定することが可能な理由は、後述する繰り返し過程で最適化に接近することができるためである。   As the increment due to the distance of the Y-axis, an arbitrary value based on the user's experience can be input in addition to the exponential function and linear proportionality described above. In this way, the dot density can be arbitrarily set at T01. This is because optimization can be approached in an iterative process described later.

図3のパターンは図2の入力によって同一のY距離に位置した全ての地点、すなわち図面からみて同じ高さは全て同じドット密度を有する単純パターンなので、本発明のシミュレータを駆動させるための初期値以上の意味しかない。したがって、前記T01のドットパターンが実際実現された導光板を点光源LEDと共に使用する場合、光源に近い部分はあまりにも明るく、その側面には暗い領域が作られ、導光板全体の輝度も不均一である。   The pattern of FIG. 3 is a simple pattern having the same dot density at all points located at the same Y distance by the input of FIG. 2, that is, the same height as seen from the drawing, so that the initial value for driving the simulator of the present invention It only has the above meaning. Therefore, when the light guide plate in which the dot pattern of T01 is actually realized is used together with the point light source LED, a portion near the light source is too bright, a dark area is formed on the side surface, and the luminance of the entire light guide plate is also uneven. It is.

本発明は、このT01に基づいてシミュレータを駆動させ、それから毎度抽出される新しいパターンをT11、T21などに設定しながらこれを繰り返し行い、最適化された導光板パターンの設計を自動的に見出す。   The present invention drives the simulator based on this T01 and repeats this while setting new patterns extracted each time to T11, T21, etc., and automatically finds the optimized light guide plate pattern design.

前記T01のドット密度パターンを設定すると、その次の段階は、これを用いて光学シミュレータでシミュレーションした輝度がどの程度なのかを確認する段階である。   When the dot density pattern of T01 is set, the next step is a step of checking how much brightness is simulated by the optical simulator using this pattern.

本発明で使用するシミュレータは、ドットが有する必要な変数を入力すると、それから導光板の明るさ分布を導光板の全領域にわたって計算することが可能なものであれば十分であり、このようなシミュレータの一例としては、フランスoptis社のSPEOSが使用できる。   The simulator used in the present invention is sufficient as long as it can calculate the brightness distribution of the light guide plate over the entire area of the light guide plate after inputting the necessary variables of the dots. As an example, SPEOS of France optis can be used.

シミュレータは、光学的な状況を演出するものなので、個別的なドットに関する情報を全て知らなければならない。よって、シミュレータを駆動させるには、前記T01で設定されたドット密度を具体的なシミュレータの入力データに変換させなければならない。   Since the simulator produces an optical situation, all information about individual dots must be known. Therefore, in order to drive the simulator, the dot density set in T01 must be converted into specific simulator input data.

一応、シミュレータに入力するための重要変数の一つは、ドットの位置情報、すなわちX、Y、Z座標であり、これらの座標は、本発明の一構成要素であるドット位置生成手段が、前段階で設けられたドット密度に基づいて生成する。   One of the important variables to be input to the simulator is the dot position information, that is, the X, Y, and Z coordinates. These coordinates are determined by the dot position generation means, which is one component of the present invention. It is generated based on the dot density provided in the stage.

その生成方式について詳細に説明すると、まず、図1のドット位置生成手段に、前記入力手段で入力されたドットの密度情報が提供される。この際、ドットの密度は、各位置情報と共に連動して入力手段から格納手段を介してドット位置生成手段に伝達できる。   The generation method will be described in detail. First, the dot position generation unit in FIG. 1 is provided with the density information of the dots input by the input unit. At this time, the dot density can be transmitted from the input unit to the dot position generation unit via the storage unit in conjunction with each position information.

ドット位置生成手段は、提供された前記密度分布、すなわちT01に基づいてドットのX、Y、Z座標を作るが、当該地点内で当該ドットを周期的に(periodically)配置する方法と、乱数的に(randomly)配置する方法のいずれか一方を用いて各ドットの座標を生成することができる。   The dot position generation means creates the X, Y, Z coordinates of the dot based on the provided density distribution, that is, T01, and a method of periodically arranging the dot within the point, The coordinates of each dot can be generated using any one of the random placement methods.

周期的に配置する場合、例えば全体面積にわたって5mm×5mm内に250個のドットを位置させると、各ドットは0.01mm間隔を置いて均一に配置されるので、そのX、Y、Z座標も最もコーナーに配置された点の座標(0,0,0)からX、Y軸に対して0.01mmだけ増加するように設定すればよい。2次元的な導光板に対するものなので、Z座標は全て0である。図2のT01では、Y軸区分別にドット密度が設定されているので、周期的な配置は、この密度に応じてX軸長さとY軸長さが形成する四角形の面積をドットの数で割って座標を設定することにより行われる。   In the case of periodic arrangement, for example, if 250 dots are positioned within 5 mm × 5 mm over the entire area, each dot is uniformly arranged with an interval of 0.01 mm, so the X, Y, and Z coordinates are also What is necessary is just to set so that it may increase only 0.01 mm with respect to the X-axis and the Y-axis from the coordinate (0, 0, 0) of the point arrange | positioned most at a corner. Since it is for a two-dimensional light guide plate, all Z coordinates are zero. In T01 of FIG. 2, since the dot density is set for each Y-axis section, the periodic arrangement is obtained by dividing the square area formed by the X-axis length and the Y-axis length by the number of dots according to this density. This is done by setting the coordinates.

ドットの位置を設定する別の方式である乱数的配置方式は、ドット位置生成手段の一構成要素である乱数生成器(図示せず)を用いて単位面積内でドットの座標を任意に設定する方式である。すなわち、当該面積の密度条件を満足させながらドットの座標を乱数的に生成する方式である。   A random arrangement method, which is another method for setting dot positions, arbitrarily sets dot coordinates within a unit area using a random number generator (not shown) which is one component of dot position generation means. It is a method. In other words, this is a method of generating dot coordinates randomly while satisfying the density condition of the area.

2つの方法のいずれかを用いても構わないが、実際工程で発生する工程偏差などを考慮に入れると、乱数生成器を用いる後者の方式がより現実的なシミュレーションを可能にする方法であるといえる。   Either of the two methods may be used, but if the process deviation generated in the actual process is taken into consideration, the latter method using the random number generator is a method that enables more realistic simulation. I can say that.

前述した2つの方法のいずれか一方を用いて、前記T01に配置される各ドットのX、Y、Z座標を設定した一例が、マイクロソフト社のエクセルファイル(excel file)の形で図4に示されている。このファイルは、後で、シミュレータに入力されるスクリプトファイル(script file)として使用される。   An example in which the X, Y, and Z coordinates of each dot arranged in T01 are set using either one of the two methods described above is shown in FIG. 4 in the form of a Microsoft Excel file. Has been. This file is used later as a script file that is input to the simulator.

図4の例では、楕円形のドットを想定し、各数字行は一つのドットに対するデータである。数字について具体的に説明すると、最初の3つの数字は各ドットのX、Y、Z座標値であり、その次にくる6つの数字は各3つずつ2グループに分けられ、この2グループは楕円の長軸と短軸の方向を示す2つのベクターを示すものである。また、その次にくる3つの数字は、楕円形ドットのX、Y、Z軸方向への長さを示す。   In the example of FIG. 4, an elliptical dot is assumed, and each number row is data for one dot. Specifically, the first three numbers are the X, Y, and Z coordinate values of each dot, and the next six numbers are divided into two groups of three, each of which is an ellipse. 2 shows two vectors indicating the directions of the major axis and the minor axis. The next three numbers indicate the lengths of the elliptical dots in the X, Y, and Z axis directions.

本発明において、ドットの形態変数とは、前記数字行の前半部に位置した座標変数を除いた、シミュレータを駆動させるために必要なドットの残り情報を全て含む概念であって、例えばドットが楕円形であれば、長軸情報、短軸情報および各軸方向への大きさ情報を示す。また、もしドットが球形であれば、球の直径のみが、もしドットがシリンダであれば、シリンダの直径およびその高さに対する方向と大きさがドットの形態変数に含まれるであろう。その他の別の形状のドットに対しても、その形状を定義することが可能な変数をドットの形態変数と称し、これはドット位置生成手段が作った座標変数と共にシミュレータに入力される。   In the present invention, the dot shape variable is a concept including all the remaining dot information necessary for driving the simulator, excluding the coordinate variable located in the first half of the number row. If it is a shape, long axis information, short axis information, and size information in each axial direction are indicated. Also, if the dot is spherical, only the diameter of the sphere will be included in the dot shape variable, and if the dot is a cylinder, the diameter of the cylinder and its direction and size relative to its height will be included. For other shapes of dots, a variable that can define the shape is referred to as a dot form variable, which is input to the simulator together with the coordinate variable created by the dot position generation means.

このような座標値の生成が完了すると、これをシミュレータに全て入力する。入力は、前記ドット位置生成手段が作ったドットの座標ファイルおよび形態ファイル、例えば図4の形態のスクリプトファイルをシミュレータが格納装置から自動的に読み込む方式で行われる。また、この段階を前後して光源の位置および明るさ、導光板の屈折率、導光板の厚さ、工程誤差などシミュレーションのために必要な光学変数(以下、「導光板変数」という)を入力手段を介して入力してシミュレータに提供する。また、このような変数に加えて、前記X、Y、Z座標値の正確度、すなわち少数点以下何桁まで入力されるかと、後からの分析で導光板全体を何セクターに分けて分析するかもこの段階で入力できる。この分析セクターについては詳細に後述する。   When the generation of such coordinate values is completed, this is all input to the simulator. The input is performed by a method in which the simulator automatically reads a dot coordinate file and a form file created by the dot position generation means, for example, a script file in the form of FIG. 4 from the storage device. Before and after this stage, input optical variables (hereinafter referred to as “light guide plate variables”) necessary for simulation, such as the position and brightness of the light source, the refractive index of the light guide plate, the thickness of the light guide plate, and process errors. Input through the means and provide to the simulator. In addition to such variables, the accuracy of the X, Y, and Z coordinate values, that is, how many digits are input after the decimal point, and how many sectors the entire light guide plate is divided in later analysis are analyzed. Moreover, it can be entered at this stage. This analysis sector will be described in detail later.

シミュレータの駆動に必要なこのような光学的な変数を全て設定して入力した後、シミュレータを駆動させる。この駆動の目的は、前述したように、前記T01のパターンが導光板で全体的にどんな輝度分布で発現されるかをシミュレーションすることである。   After setting and inputting all such optical variables necessary for driving the simulator, the simulator is driven. As described above, the purpose of this drive is to simulate what luminance distribution the T01 pattern is expressed on the light guide plate as a whole.

図5は前記T01に対してシミュレータの駆動を経て得られた輝度分布T02の一例を前記出力手段の一例であるモニターに示した状況である。各境界線は、輝度が区分される境界を表示したものであり、その内部の数字は、全体的に最も明るい部分の輝度を100にしたときの相対的な輝度を数字で表示したものである。   FIG. 5 shows a situation where an example of the luminance distribution T02 obtained by driving the simulator with respect to T01 is shown on a monitor which is an example of the output means. Each boundary line indicates a boundary where the luminance is divided, and the numbers inside the boundary line indicate the relative luminance when the luminance of the brightest part is 100 as a whole. .

シミュレータの駆動の前に既に予測された通り、前記T02では、光源に近い部分が全般的に光源から遠い部分より明るい形をしており、また、光源の直ぐ前の部分は導光板全体の輝度に鑑みるとき、あまり明るい領域(Too Bright Region)が形成され、その側面にはあまり暗い暗領域(Dark Region)が形成される。   As already predicted before driving the simulator, at T02, the portion near the light source is generally brighter than the portion far from the light source, and the portion immediately before the light source is the brightness of the entire light guide plate. In view of the above, a very bright region (Too Bright Region) is formed, and a very dark region (Dark Region) is formed on the side surface.

その次の段階では、シミュレータの駆動後に現われた前記のような不均一な輝度を持ったT02を補正する段階を経る。補正段階で使用する基本的な自然法則は、前述したように、導光板のドット密度と輝度は比例するということである。すなわち、輝度が相対的に低い区域ではドット密度を高め、逆に輝度が相対的に高い区域ではドット密度を低める方式で、前記T02を補正する。   In the next stage, a process of correcting T02 having non-uniform brightness as described above after driving the simulator is performed. The basic natural law used in the correction stage is that the dot density and the luminance of the light guide plate are proportional as described above. That is, T02 is corrected by a method in which the dot density is increased in a relatively low brightness area, and conversely, the dot density is decreased in a relatively high brightness area.

本発明の導光板パターン設計システムは、このような補正段階を経るために、まず導光板の各領域を、同一の面積を持った四角形の面積で割って微細に分割した後、各四角形に対して個別的な分析を行う。このような四角形を以下では分析セクターと称するが、各分析セクターの座標は、その中心点の座標として設定することができ、前記分析セクターは、個別的にそれぞれの輝度値を持つ。これは、各分析セクターがどれほどの明暗をもつかを示す当該区域での平均輝度値であって、以下「個別輝度値」という。   In order to go through such a correction step, the light guide plate pattern design system of the present invention first divides each region of the light guide plate by a square area having the same area and then finely divides each area. Individual analysis. Such a square is hereinafter referred to as an analysis sector, but the coordinates of each analysis sector can be set as the coordinates of the center point, and each analysis sector has its own luminance value. This is an average luminance value in the area indicating how much light and dark each analysis sector has, and is hereinafter referred to as “individual luminance value”.

図6には前記分析セクターに分けられた一形態を模式的に示しているが、特に右側には分析セクターの一例である任意の分析セクターAを拡大し、この分析セクターの座標値およびこの個別輝度値が示されている。このように本発明の導光板パターン設計システムは、その内部の輝度計算手段を用いて、前記シミュレータを経た結果T02について各分析セクターの個別輝度値を計算した後、その座標と連動させてデジタルデータの形態で格納手段に格納する。   FIG. 6 schematically shows one form divided into the analysis sectors. In particular, on the right side, an arbitrary analysis sector A, which is an example of the analysis sector, is enlarged, and the coordinate values of the analysis sector and the individual analysis sectors are expanded. Luminance values are shown. As described above, the light guide plate pattern design system according to the present invention calculates the individual luminance value of each analysis sector for the result T02 passed through the simulator using the luminance calculation means inside the digital data, and then links the digital data in conjunction with the coordinates. In the storage means.

このような各分析セクター別輝度計算が行われた後、輝度計算手段は、導光板全体の平均輝度値(以下「平均輝度値」という)を求める。すなわち、前記T02輝度分布に対して、個別輝度値にその輝度が現われる分析セクターの面積値を掛け、このような過程を全ての分析セクターに対して繰り返し行って各結果値を全て加えた後、これを導光板の全体面積で割って全体的な平均輝度値を求める。この全体平均輝度値は、この導光板の各部分が到達すべき目標値であって、この目標値に各部分が到達すると、導光板全体は同一の輝度を示す。前記T02でこれを行うと、この導光板の全体平均輝度値は例えば67と求められる。   After such luminance calculation for each analysis sector is performed, the luminance calculation means obtains an average luminance value (hereinafter referred to as “average luminance value”) of the entire light guide plate. That is, after the T02 luminance distribution is multiplied by the individual luminance value and the area value of the analysis sector in which the luminance appears, the above process is repeated for all the analytical sectors and all the result values are added. This is divided by the total area of the light guide plate to obtain the overall average luminance value. The overall average luminance value is a target value that each part of the light guide plate should reach. When each part reaches the target value, the entire light guide plate shows the same brightness. When this is performed at T02, the overall average luminance value of the light guide plate is obtained as 67, for example.

また、図示した例では、分析セクターの個数が多くなくて個別分析セクターの占有面積が広いが、これは説明のための例示した図示に過ぎず、実際本発明者が行った実験では約4万個の分析セクターを用いた。このような分析セクターは、その個数が多いほど、向後の分析における正確度または解像度が向上するが、あまり多ければ計算に負担になる可能性があるので、その適正範囲を提示するとすれば、携帯電話導光板の場合、約1000余個〜約40000個の間が適切であるといろいろの実験を経て判断された。ところが、この範囲に本発明が局限されるものではない。   In the illustrated example, the number of analysis sectors is not large and the area occupied by each individual analysis sector is large. However, this is only an illustrative example for explanation, and in actual experiments conducted by the present inventor, about 40,000. One analytical sector was used. As the number of such analysis sectors increases, the accuracy or resolution in future analysis increases. However, if there are too many such analysis sectors, there is a possibility that the calculation will be burdened. In the case of a telephone light guide plate, it has been determined through various experiments that a value of about 1,000 to about 40,000 is appropriate. However, the present invention is not limited to this range.

前記分析セクター別の個別輝度値および導光板全体の平均輝度値が輝度計算手段によって行われてデジタルファイルとして格納されると、このデータはドット密度補正手段に伝達される。ドット密度補正手段は、前記各分析セクターおよびそれに対応する個別輝度値を平均輝度値と比較して、各分析セクターが前記全体平均輝度値に到達するようにする新しいドット密度を分析セクター別に設定する。すなわち、全体平均輝度値より高い個別輝度値を示すセクターに対しては現在よりドット密度を低め、平均輝度値より低い輝度を示す分析セクターに対してはT01の時よりドット密度を向上させる。   When the individual luminance value for each analysis sector and the average luminance value of the entire light guide plate are performed by the luminance calculating means and stored as a digital file, this data is transmitted to the dot density correcting means. The dot density correction unit compares each analysis sector and the corresponding individual luminance value with an average luminance value, and sets a new dot density for each analysis sector so that each analysis sector reaches the overall average luminance value. . That is, the dot density is lowered from the current level for the sector that shows an individual brightness value higher than the overall average brightness value, and the dot density is improved from the time T01 for the analysis sector that shows a brightness lower than the average brightness value.

このようなドット密度の補正は、前もって格納されたいろいろのロジックの中のいずれか一つに従うことができる。以下では、このようなドット密度補正ロジックについて説明する。   Such dot density correction can follow any one of a variety of previously stored logic. Hereinafter, such dot density correction logic will be described.

前記ドット密度を調節する補正ロジックの一つである第1補正ロジックは、前記全体平均輝度値と各個別輝度値との差異を求めた後、その差異値の大きさが何%に該当するかを求めて、その百分率だけ当該セクターのドット密度を向上または減少させる。   The first correction logic, which is one of the correction logics for adjusting the dot density, calculates the difference between the overall average luminance value and each individual luminance value, and what percentage the difference value corresponds to. To increase or decrease the dot density of the sector by that percentage.

これをより詳しく説明するために、例えば個別輝度値50、ドット密度40の任意の分析セクターは、前記平均輝度値67に対比するとき、17だけ輝度が小さく得られる比較的暗いセクターである。これに対してドット密度を補正するために、前記輝度差を百分率で換算すると、34%(17/50×100)だけ輝度が小さい。したがって、この百分率だけドット密度を向上させる。すなわち、このセクターが持つべき新しいドット密度は、54(40×1.34)個になる。このような方式で個別セクターごとにドット密度を補正して新しいパターンを生成する。   In order to explain this in more detail, for example, an arbitrary analysis sector having an individual luminance value of 50 and a dot density of 40 is a relatively dark sector in which the luminance is reduced by 17 when compared with the average luminance value 67. On the other hand, in order to correct the dot density, when the luminance difference is converted as a percentage, the luminance is small by 34% (17/50 × 100). Therefore, the dot density is improved by this percentage. That is, the new dot density that this sector should have is 54 (40 × 1.34). In this way, a new pattern is generated by correcting the dot density for each individual sector.

ドット密度と輝度が必ずしも前記のように線形的な比例関係にあるのではない。すなわち、前述した方式以外にも、各セクターのY座標値に応じて加重値を与えるか、あるいは指数関数またはその他にこれと類似の関数で2つを比例するように設定することもできる。多数回にわたってシミュレーションを行い、これから最適の設計に到達するので、前記ドット密度と輝度値が比例状態であることだけ維持されると、どんな関数を用いてドット密度を補正しても、あまり大きく影響を及ぼさないためである。したがって、本発明は、前記線形的な比例関係でのみドット密度と輝度を計算する実施例に局限されるものではないことを明かしておく。   The dot density and brightness are not necessarily in a linear proportional relationship as described above. That is, in addition to the above-described method, a weight value can be given according to the Y coordinate value of each sector, or an exponential function or other similar functions can be set so that the two are proportional. Since the simulation is performed many times and the optimum design is reached from now on, if only the dot density and the luminance value are maintained in a proportional state, no matter which function is used to correct the dot density, the dot density is greatly affected. It is because it does not exert. Therefore, it is clear that the present invention is not limited to the embodiment in which the dot density and the brightness are calculated only with the linear proportional relationship.

ドット密度を調節する第2補正ロジックは、各分析セクターのドット密度を一括的に所定の個数だけ増加させるか、あるいは所定の個数だけ減少させる。例えば、前述したセクターの個別輝度値は、全体平均輝度値より小さいので、12個のドット密度を増大させて総52個のドット密度を持つようにし、個別輝度値が82であって全体平均輝度値より大きくてドット密度が43個である別のセクターに対しては12個のドットを減少させて総31個のドット密度となるように調節する方式で各分析セクターのドット密度を調節してT11を生成するのである。   The second correction logic for adjusting the dot density increases or decreases the dot density of each analysis sector by a predetermined number at a time. For example, since the individual brightness value of the sector is smaller than the overall average brightness value, the density of 12 dots is increased to have a total density of 52 dots, and the individual brightness value is 82 and the overall average brightness is 82. For another sector with a dot density greater than 43 and a dot density of 43, adjust the dot density of each analysis sector by adjusting 12 dots to a total of 31 dot densities. T11 is generated.

ここで、所定の個数のドットを増加または減少させることは、パターン生成モジュールが総4万個の分析セクターに対する計算を行わなければならないので、計算負担を減らすためである。また、前記加減数値12個は、前もって設定された任意の数字であり、追ってのT21、T31、T41などを求める継続的な近似過程(iteration)でその加減されるドット密度を前記12個から5個、3個のようにその大きさを減らしていくと、結局目標の全体平均輝度値に近接するドット密度が個別分析セクター別に求められる。また、ここで、例として挙げる前記数字は、全て説明のための例示に過ぎないことは当業者であれば理解できるであろう。   Here, the increase or decrease of the predetermined number of dots is to reduce the calculation burden because the pattern generation module needs to perform calculations for a total of 40,000 analysis sectors. Further, the 12 adjustment values are arbitrary numbers set in advance, and the dot density to be added or subtracted from the 12 to 5 in the continuous approximation process for obtaining T21, T31, T41, etc. later. If the size is reduced to 3 or 3, the dot density close to the target overall average luminance value is finally obtained for each individual analysis sector. It will be understood by those skilled in the art that all the numbers given as examples here are merely illustrative examples.

このような方法のいずれか一つを用いてドット密度を各セクター別に調節しながら、ドット密度補正手段は、最終的に新しいパターンT11に該当するドット密度を求める。   While adjusting the dot density for each sector using any one of these methods, the dot density correction means finally obtains the dot density corresponding to the new pattern T11.

前記ドット密度補正において、ドット密度が実際加工できない程度に高過ぎる場合には、全体的に同一の程度だけドット密度を減らして実際加工可能な個数に変換することができる。例えば、T11のいずれか一つの分析セクターが、1mm×1mm内に10000個以上のドットが配置されるドット密度を持つべきと導出される場合、いくら精密なレーザ加工を行うとしても、その程度の密度は加工自体が不可能でありあるいは加工にあまり多くの費用と時間がかかるので、これを例えばその1%である100個に減らそうとするのである。この際、当該セクターのみを減ずることはあり得ないので、残りの個別セクターに対しても全て計算された密度の1%に減ずる補正を行わなければならない。   In the dot density correction, if the dot density is too high to be practically processed, the dot density can be reduced by the same degree as a whole and converted into a number that can be actually processed. For example, if it is derived that any one analysis sector of T11 should have a dot density in which 10,000 or more dots are arranged within 1 mm × 1 mm, no matter how precise laser processing is performed, that degree The density is impossible to process itself, or it takes too much cost and time to process, so we try to reduce it to 100, which is 1% of the density. At this time, since it is impossible to reduce only the sector concerned, all the remaining individual sectors must be corrected to reduce to 1% of the calculated density.

前記T11はそれ自体で均一な輝度を示すことが可能な最終パターンであることもあるが、一般的に、この段階で得られるパターンは、完全に均一な輝度を示すことができない、最終パターンを得るための中間段階の形態が得られる。   The T11 may be a final pattern capable of exhibiting uniform brightness by itself, but generally, a pattern obtained at this stage is a final pattern that cannot exhibit completely uniform brightness. An intermediate stage form to obtain is obtained.

このような状況を判断するために、本発明の導光板パターン設計システムは、前記T11の変数をもう1回前記シミュレータに入力してシミュレータを駆動させる。既にT11で各セクター別に新しいドット密度が求められているので、このドット密度に合うよう、前述したドット位置生成手段を用いて各ドットのX、Y座標を設定することは難しくなく、その他に導光板の大きさや材質、光源などに関する事項は、残りの変数はT01の時と同一である。   In order to judge such a situation, the light guide plate pattern design system of the present invention inputs the T11 variable once more into the simulator and drives the simulator. Since a new dot density has already been obtained for each sector at T11, it is not difficult to set the X and Y coordinates of each dot using the dot position generation means described above so as to match this dot density. The remaining variables are the same as those for T01 with respect to the size, material, and light source of the light plate.

T11に対してシミュレータを駆動させ、図7に示したシミュレーション結果値T12を得ることができる。T12では、前段階T02に比べて多くの輝度境界線がなくなり、かつ光源の直ぐ前の部分とその側部間の輝度差も多く解消されたことが分かる。すなわち、全体的に個別セクターの輝度が、目標とする全体平均輝度値に近接するのである。   The simulator is driven with respect to T11, and the simulation result value T12 shown in FIG. 7 can be obtained. At T12, it can be seen that there are no more luminance boundary lines than at the previous stage T02, and many luminance differences between the portion immediately before the light source and its side portions have been eliminated. That is, the brightness of the individual sector as a whole is close to the target overall average brightness value.

このT12に対してもう1回前記と同様の過程を繰り返し行う。すなわち。もう1回各分析セクターの個別輝度値を求めた後、これを全体平均輝度値に対比させ、対応するドット密度を加減させる。加減ロジックは、前述したT11を求めるときと同一のロジックを使用する。   The same process is repeated once more for this T12. That is. After obtaining the individual luminance value of each analysis sector once more, this is compared with the overall average luminance value, and the corresponding dot density is adjusted. The adjustment logic uses the same logic as that for obtaining T11 described above.

このような過程を経て新しいドット密度が個別セクター別に設定されたT12を求めることができる。   Through this process, T12 in which a new dot density is set for each individual sector can be obtained.

このT21をさらに前記シミュレータで駆動させて得た結果T22が図8に模式的に示されているが、現在は全体的にほぼ均一な輝度を示すことが分かる。   A result T22 obtained by further driving the T21 with the simulator is schematically shown in FIG. 8, but it can be seen that the overall brightness is almost uniform at present.

このような方式で前記TN1を得る過程をさらに多数回経ると、段々全体輝度は均一になり、最終的には、実際導光板を製作してもよいほどの輝度均一度をもったパターンを得ることができる。このような状況は、TN1パターンを得る度にシミュレータを駆動させ、それによる結果値をモニター上から肉眼で観察して分かることができる。   If the process of obtaining the TN1 is repeated many times in this manner, the overall luminance becomes uniform step by step, and finally, a pattern having a luminance uniformity enough to manufacture an actual light guide plate is obtained. be able to. Such a situation can be understood by driving the simulator every time the TN1 pattern is obtained and observing the resulting value with the naked eye from the monitor.

満足すべき均一な輝度を持ったTN1が導出されたと判断されると、それから必要なデータを抽出して実際導光板を製作する。実際導光板の製作に必要なデータは、各ドットの位置情報と形態情報などになり、これは格納手段から数値制御プログラム付きドット加工マージンに提供した後、プロトタイプの導光板を実際製作する。   When it is determined that TN1 having a uniform luminance that is satisfactory is derived, necessary data is extracted from the TN1 and an actual light guide plate is manufactured. The data necessary for the actual manufacture of the light guide plate is the positional information and form information of each dot, which is provided from the storage means to the dot processing margin with a numerical control program, and then the prototype light guide plate is actually manufactured.

前記実際製作された導光板がシミュレータでのように均一な輝度を示すかを知るためには、このプロトタイプに光源を装着した後、実験を行って輝度分布を肉眼などで確認しなければならない。そして、その結果値が満足すべきではない場合、その原因を見出して前記本発明の段階のいずれか一つにこれをフィードバックすると、本発明は追ってさらに満足すべき結果を導出することができる。   In order to know whether the actually manufactured light guide plate shows uniform brightness as in a simulator, after mounting a light source on this prototype, an experiment must be performed to confirm the brightness distribution with the naked eye. If the result value is not to be satisfied, the cause can be found and fed back to any one of the steps of the present invention, so that the present invention can derive a more satisfactory result later.

このようにシミュレーションと実際とが異なる場合は、例えばドット密度補正方式が前述した単純比例ではないか、あるいは予想もしなかった別の変数が登場したことに起因するが、このようなことは新しい補正値または新しい変数であって、前記過程にフィードバックすれば済むことであり、本発明の作動方式を根本的に変更させることではないことを、当業者であれば容易に理解できるであろう。   If the simulation and the actual result are different from each other, the dot density correction method is not based on the simple proportionality described above, or another variable that was not anticipated appears, but this is a new correction. Those skilled in the art will readily understand that the values or new variables need only be fed back into the process, and not fundamentally changing the mode of operation of the present invention.

図9は前述した本発明の導光板パターン設計システムの作動方法を順次示すフローチャートである。   FIG. 9 is a flowchart sequentially illustrating the operation method of the light guide plate pattern design system of the present invention described above.

まず、多数回にわたって繰り返し行うので、各段階を区分するための変数Nを0に設定する。   First, since it is repeated many times, a variable N for dividing each stage is set to zero.

その後、TN1、すなわちN=0のこの段階では、T01のドット密度を図2に示すように使用者が任意に設定して入力すると、この入力値からドット位置生成手段が各ドットの座標値を生成してシミュレータに入力する。また、前記段階を前後してシミュレーションに必要な形態変数および導光板変数も共に入力する。   Thereafter, at this stage where TN1, that is, N = 0, when the user arbitrarily sets and inputs the dot density of T01 as shown in FIG. 2, the dot position generation means calculates the coordinate value of each dot from this input value. Generate and input to the simulator. In addition, before and after the above steps, both form variables and light guide plate variables necessary for the simulation are input.

前記入力の後、シミュレータを駆動すれば、その結果値T02が生成される。   If the simulator is driven after the input, the result value T02 is generated.

前記T02を視覚的に出力手段に出力した後、使用者が判断するに、その輝度が均一なのかを検証し、均一であれば、実際導光板製作のためにそのデータを格納手段に完全に格納しあるいは数値制御加工装置に伝達した後、全ての段階を終了する。しかし、その結果が満足すべきではないと判断されると、以下の繰り返し遂行段階を経る。   After visually outputting T02 to the output means, the user determines whether the luminance is uniform for judgment, and if it is uniform, the data is completely stored in the storage means for the actual manufacture of the light guide plate. After storing or transmitting to the numerically controlled machining device, all steps are finished. However, if it is determined that the result is not satisfactory, the following repeated execution steps are performed.

まず、分析セクターを設定し、輝度計算手段が全体平均輝度値と個別輝度値を求める。もし前段階で既に設定された分析セクターがあってこれをそのまま利用する場合には、この段階は行わなくてもよい。   First, an analysis sector is set, and the luminance calculation means obtains an overall average luminance value and an individual luminance value. If there is an analysis sector already set up in the previous stage and it is used as it is, this stage may not be performed.

その後、平均輝度値と個別輝度値を用いて、ドット密度補正手段が新しいドット密度分布を持ったT11を求める。この段階では、前記N値を一つ上昇させて前のT01と区分する。   Thereafter, using the average luminance value and the individual luminance value, the dot density correction means obtains T11 having a new dot density distribution. At this stage, the N value is increased by one to be distinguished from the previous T01.

次いで、前記T11を入力して前述したドット位置生成手段がさらにそれぞれのドット座標を求め、さらにシミュレーションを行うことなどは、前述したとおりである。   Next, the T11 is input, the dot position generation means described above obtains the respective dot coordinates, and a simulation is performed as described above.

満足すべき輝度分布を示すまで、このような段階を繰り返し行う。   These steps are repeated until a satisfactory luminance distribution is shown.

本発明の前記実施例は様々な変形例を持つことができる。   The embodiments of the present invention can have various modifications.

例えば、前記シミュレーションされたドットは、スクリーン印刷によって印刷されたインクドットであり、または機械的で導光板に作られたドットを全て含む概念であり、その形態においても、前述した楕円形の他にレンズ型、球型、角柱型、角錐型およびその他の導光板のパターンで使用可能であり、その変数を設定することが可能な全ての形態がこれに該当する。   For example, the simulated dot is an ink dot printed by screen printing, or a concept that includes all the dots mechanically made on the light guide plate. The lens type, spherical type, prismatic type, pyramid type, and other light guide plate patterns that can be used, and all the forms in which the variables can be set, correspond to this.

また、本発明全体のドット密度についての説明では、その一例として、単位面積当たりのドットの個数を意味するものと述べた。ところが、単位面積当たりのドットの総面積もドット密度として使用できるのは当たり前のことである。したがって、本発明において、ドット密度と言われるものは、単位面積当たりのドット個数だけでなく、単位面積当たりのドット占有総面積まで全て含む概念である。   In the description of the dot density of the entire present invention, as an example, the number of dots per unit area has been described. However, it is natural that the total area of dots per unit area can also be used as the dot density. Therefore, in the present invention, what is called dot density is a concept that includes not only the number of dots per unit area but also the total area occupied by dots per unit area.

また、各TN1を経るほど前述した分析セクターの個数を増加または減少させて分析の解像度または効率性を増大させることもできる。   Further, the resolution or efficiency of the analysis can be increased by increasing or decreasing the number of analysis sectors as the TN1 passes.

また、各分析セクターが示す輝度値のうち、正規分布の両端の所定の範囲内に位置する異常データ(abnormal data)は、シミュレータが判断し間違った輝度と認めて後続の計算に影響を及ぼさないように除去することもできる。   In addition, out of the luminance values indicated by each analysis sector, abnormal data located within a predetermined range at both ends of the normal distribution does not affect subsequent calculations because the simulator determines that it is incorrect luminance. It can also be removed.

これをより詳しく説明すると、前記個別輝度値を正規分布に配置する場合、その平均値は、前記全体平均輝度値と一致する。したがって、これを中心として前記個別輝度値は鐘型(bell-type)分布を示すが、この正規分布の両端に位置して前記平均輝度値と所定値以上、例えば±70%以上の差異を示す値は、シミュレータが計算し間違った値と認める余地があるので、これらを除去して計算の正確性を向上させることもできる。   This will be described in more detail. When the individual luminance values are arranged in a normal distribution, the average value matches the overall average luminance value. Therefore, the individual luminance values centered on this have a bell-type distribution, but are located at both ends of the normal distribution and show a difference of not less than a predetermined value, for example, ± 70% or more from the average luminance value. Since there is room for the values to be recognized by the simulator as incorrect values, these values can be removed to improve the accuracy of the calculation.

本発明は、図示のLEDなどを光源として用いた場合以外に、CCFLを光源として用いた場合にも適用することができる。この場合、分析セクターは、前述した碁盤状の他にも、CCFLと平行な多数の長方形で構成できる。   The present invention can be applied to a case where CCFL is used as a light source in addition to the case where the illustrated LED or the like is used as a light source. In this case, the analysis sector can be configured by a number of rectangles parallel to the CCFL, in addition to the above-described grid shape.

図10〜図13は、CCFLのような直線型側面光源を使用する場合において、導光板パターン設計方法を示す図である。   10 to 13 are diagrams showing a light guide plate pattern design method when a linear side light source such as CCFL is used.

まず、図10は現在使用されているCCFLおよびそれによる導光板を模式的に示したもので、光源CCFLが導光板の側面に配置される側面光源の形であり、グルーブパターンを使用した場合の状況である。   First, FIG. 10 schematically shows a CCFL currently used and a light guide plate using the CCFL. The light source CCFL is a side light source arranged on the side surface of the light guide plate, and a groove pattern is used. Is the situation.

図11は図10のパターン、すなわちグルーブが一定の間隔で配置された状況であるT01に対して本発明のシミュレータを経た結果を示す輝度分布である。各線は輝度の境界値を示したもので、全体的に不均一な輝度を示すことがみられる。   FIG. 11 is a luminance distribution showing the result of passing through the simulator of the present invention with respect to T01 which is the pattern of FIG. 10, that is, the situation where the grooves are arranged at regular intervals. Each line represents a boundary value of luminance, and it can be seen that the luminance is not uniform as a whole.

また、CCFLのような直線型光源を用いる場合、導光板全体の輝度分布において光源から同一の距離だけ離隔した地点は全て同様の輝度を示すことが分かる。したがって、LEDなどの点光源を用いる前述した実施例とは異なり、直線型光源に対する導光板パターンを設計する場合には、X軸方向へのいずれか一つの直線、例えばX1にわたっての導光板パターン密度のみを設計してこれをY軸方向に同一に拡張するだけで、十分に導光板全体に対するパターン設計が完成される。   In addition, when a linear light source such as CCFL is used, it can be seen that all points separated by the same distance from the light source in the luminance distribution of the entire light guide plate exhibit the same luminance. Therefore, unlike the above-described embodiment using a point light source such as an LED, when designing a light guide plate pattern for a linear light source, the density of the light guide plate pattern over any one straight line in the X-axis direction, for example, X1 The pattern design for the entire light guide plate is sufficiently completed by designing only the same and extending the same in the Y-axis direction.

図12は図10および図11を総合的に再び表現したもので、導光板の下部のグルーブパターンが一定の間隔で配置されているT01パターンとそれによるシミュレーションされた輝度分布、すなわち図11のX1線に沿ってシミュレーションされる輝度分布状況が光源としてのCCFLからの距離に応じて表現されている。   FIG. 12 is a comprehensive representation of FIGS. 10 and 11 again. The T01 pattern in which the groove patterns at the lower part of the light guide plate are arranged at regular intervals and the simulated luminance distribution by the T01 pattern, that is, X1 in FIG. The luminance distribution situation simulated along the line is expressed according to the distance from the CCFL as the light source.

このような輝度分布を示すT01パターンは、前述した実施例と同様に、目標とする導光板全体の平均輝度値を求め、X軸方向に導光板を等間隔(w)で分割した分析セクターを設定する。その後、各分析セクター別に下部のグルーブまたはパターンの密度調整段階を経る。図13は最初T01のパターン分布を調節して個別輝度値が平均輝度値にさらに近接するようにしたT11のパターンを模式的に示したものである。このようにパターンまたはグルーブ密度を調節するロジックは、前述した点光源の場合と同一の方法を使用する。   Similar to the above-described embodiment, the T01 pattern indicating the luminance distribution is obtained by calculating an average luminance value of the entire target light guide plate, and analyzing sectors obtained by dividing the light guide plate at equal intervals (w) in the X-axis direction. Set. Thereafter, a density adjustment step of the lower groove or pattern is performed for each analysis sector. FIG. 13 schematically shows a pattern of T11 in which the individual luminance value is adjusted closer to the average luminance value by adjusting the pattern distribution of T01 first. The logic for adjusting the pattern or groove density in this way uses the same method as that of the point light source described above.

以上で、本発明の好適な実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらも当然本発明の技術的範囲に属する。   As mentioned above, although the suitable Example of this invention was described, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these Examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention.

本発明のパターン設計システムの構成図である。It is a block diagram of the pattern design system of this invention. T01パターンのドット密度の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the dot density of T01 pattern. 図2のドット密度による導光板の形状を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the shape of the light-guide plate by the dot density of FIG. 楕円形ドットのデータを示す図である。It is a figure which shows the data of an elliptical dot. シミュレータの結果値T02の輝度分布模式図である。It is a luminance distribution schematic diagram of the result value T02 of the simulator. 分析セクターを前記T02に設定する図である。It is a figure which sets the analysis sector to the said T02. T11に対するシミュレーション結果を示す輝度分布模式図である。It is a luminance distribution schematic diagram which shows the simulation result with respect to T11. T21に対するシミュレーション結果を示す輝度分布模式図である。It is a luminance distribution schematic diagram which shows the simulation result with respect to T21. 本発明のパターン設計方法を示す順序図である。It is a flowchart showing the pattern design method of the present invention. 直線型側面光源を使用する導光板のパターン設計方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the pattern design method of the light-guide plate which uses a linear type side light source. 直線型側面光源を使用する導光板のパターン設計方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the pattern design method of the light-guide plate which uses a linear type side light source. 直線型側面光源を使用する導光板のパターン設計方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the pattern design method of the light-guide plate which uses a linear type side light source. 直線型側面光源を使用する導光板のパターン設計方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the pattern design method of the light-guide plate which uses a linear type side light source.

Claims (18)

入力手段、出力手段、格納手段、中央処理装置、ドット位置生成手段、シミュレータ、輝度計算手段およびドット密度補正手段を含む導光板パターン設計システムを用いた導光板パターン設計方法において、
前記中央処理装置が、
(a)前記入力手段を用いて、所定のドット密度を有する導光板パターンの入力を受ける段階と、
(b)前記入力手段を用いて前記ドットの形態変数および導光板変数の入力を受ける段階と、
(c)前段階で入力されたドット密度に基づいて前記ドット位置生成手段を用いて各ドットに対する座標変数を生成する段階と、
(d)前記シミュレータに前記ドットの座標変数、形態変数および導光板変数を入力する段階と、
(e)前記シミュレータを用いて、前段階で入力された導光板パターンが示す導光板輝度分布をシミュレーションする段階と、
(f)前記輝度計算手段を用いて、前記シミュレーションされた導光板の全体平均輝度値を求める段階と、
(g)前記輝度計算手段を用いて、前記導光板を分割した各分析セクター別に個別輝度値を求める段階と、
(h)前記ドット密度補正手段を用いて、前記平均輝度値および前記個別輝度値に基づいて各分析セクターのドット密度を加減して新しい導光板パターンのドット密度を生成する段階とを含む導光板パターン設計方法を行うことを特徴とする、導光板パターン設計方法。
In the light guide plate pattern design method using the light guide plate pattern design system including input means, output means, storage means, central processing unit, dot position generation means, simulator, luminance calculation means and dot density correction means,
The central processing unit is
(A) receiving an input of a light guide plate pattern having a predetermined dot density using the input means;
(B) receiving input of the dot shape variable and the light guide plate variable using the input means;
(C) generating a coordinate variable for each dot using the dot position generation means based on the dot density input in the previous step;
(D) inputting coordinate variables, form variables, and light guide plate variables of the dots into the simulator;
(E) using the simulator, simulating the light guide plate luminance distribution indicated by the light guide plate pattern input in the previous step;
(F) obtaining an overall average luminance value of the simulated light guide plate using the luminance calculation means;
(G) using the luminance calculation means to obtain an individual luminance value for each analysis sector obtained by dividing the light guide plate;
And (h) using the dot density correcting means to generate a dot density of a new light guide plate pattern by adjusting the dot density of each analysis sector based on the average luminance value and the individual luminance value. A light guide plate pattern design method, comprising performing a pattern design method.
前記段階(e)の後、前記出力装置を用いて、前記シミュレーションされた輝度分布を視覚的に表現する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  The light guide plate pattern design method according to claim 1, further comprising: visually expressing the simulated luminance distribution using the output device after the step (e). 前記段階(h)で得られた新しい導光板パターンの設計密度に基づいて段階(c)〜段階(h)を繰り返し行うことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の導光板パターン設計方法。  The light guide plate pattern according to claim 1 or 2, wherein steps (c) to (h) are repeatedly performed based on a design density of the new light guide plate pattern obtained in step (h). Design method. 前記段階(c)では、前記ドットを導光板上で規則的に配列するようにその座標値を生成することを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  The light guide plate pattern design method according to claim 1, wherein in the step (c), coordinate values are generated so that the dots are regularly arranged on the light guide plate. 前記段階(c)では、前記ドットを乱数的に配列するようにその座標値を生成することを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  The light guide plate pattern design method according to claim 1, wherein in the step (c), the coordinate values are generated so that the dots are arranged in a random manner. 前記段階(g)の個別輝度値のうち前記平均輝度値と所定値以上の差を示す値を除去した後、前記段階(h)を行うことを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  2. The light guide plate according to claim 1, wherein the step (h) is performed after removing a value indicating a difference greater than a predetermined value from the average luminance value among the individual luminance values in the step (g). Pattern design method. 前記ドット密度を加減する段階は、前記全体平均輝度値と前記個別平均輝度値間の差異値に線形比例するように前記ドット密度を加減することを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  The light guide plate according to claim 1, wherein the step of adjusting the dot density adjusts the dot density so as to be linearly proportional to a difference value between the overall average luminance value and the individual average luminance value. Pattern design method. 前記段階(h)のドット密度を加減することは、前記平均輝度値と前記個別輝度値間の差異値に比例するように、単位面積当たりのドット個数および単位面積当たりのドット占有総面積の中の少なくともいずれか一つ以上を加減することを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  The adjustment of the dot density in the step (h) is based on the number of dots per unit area and the total area occupied by dots per unit area so as to be proportional to the difference value between the average luminance value and the individual luminance value. The light guide plate pattern design method according to claim 1, wherein at least one of the above is adjusted. 前記段階(f)〜(g)で求められた輝度値は、デジタルデータ形態であることを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  The light guide plate pattern designing method according to claim 1, wherein the luminance values obtained in the steps (f) to (g) are in a digital data form. 前記ドットは、前記導光板に作られるインクドットおよび機械的ドットのいずれか一つをシミュレーションしたことを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  2. The light guide plate pattern design method according to claim 1, wherein the dot simulates one of an ink dot and a mechanical dot formed on the light guide plate. 3. 前記ドットは、レンズ型、球型、角柱型および角錐型のいずれか一つをシミュレーションしたことを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  2. The light guide plate pattern design method according to claim 1, wherein the dot simulates any one of a lens shape, a spherical shape, a prism shape, and a pyramid shape. 前記導光板は、その側面に配置される点光源および直線型光源のいずれか一つと共に使用されることを特徴とする、請求項1に記載の導光板パターン設計方法。  The light guide plate pattern design method according to claim 1, wherein the light guide plate is used together with any one of a point light source and a linear light source arranged on a side surface thereof. 入力手段、出力手段、格納手段、中央処理装置を有するコンピュータを駆動させるコンピュータプログラムを格納した記録媒体において、
前記コンピュータプログラムが、ドット位置生成手段、シミュレータ、輝度計算手段およびドット密度補正手段を含み、
前記コンピュータプログラムが、
(a)前記入力手段を用いて、所定のドット密度を有する導光板パターンの入力を受ける段階と、
(b)前記入力手段を用いて前記ドットの形態変数および導光板変数の入力を受ける段階と、
(c)前段階で入力されたドット密度に基づいて前記ドット位置生成手段を用いて各ドットに対する座標変数を生成する段階と、
(d)前記シミュレータに前記ドットの座標変数、形態変数および導光板変数を入力する段階と、
(e)前記シミュレータを用いて、前段階で入力された導光板パターンが示す導光板輝度分布をシミュレーションする段階と、
(f)前記輝度計算手段を用いて、前記シミュレーションされた導光板の全体平均輝度値を求める段階と、
(g)前記輝度計算手段を用いて、前記導光板を分割した各分析セクター別に個別輝度値を求める段階と、
(h)前記ドット密度補正手段を用いて、前記平均輝度値および前記個別輝度値に基づいて各分析セクターのドット密度を加減して新しい導光板パターンのドット密度を生成する段階とを含む導光板パターン設計方法を行うことを特徴とする、コンピュータプログラムを記録した記録媒体。
In a recording medium storing a computer program for driving a computer having input means, output means, storage means, and a central processing unit,
The computer program includes dot position generation means, a simulator, luminance calculation means, and dot density correction means,
The computer program is
(A) receiving an input of a light guide plate pattern having a predetermined dot density using the input means;
(B) receiving input of the dot shape variable and the light guide plate variable using the input means;
(C) generating a coordinate variable for each dot using the dot position generation means based on the dot density input in the previous step;
(D) inputting coordinate variables, form variables, and light guide plate variables of the dots into the simulator;
(E) using the simulator, simulating the light guide plate luminance distribution indicated by the light guide plate pattern input in the previous step;
(F) obtaining an overall average luminance value of the simulated light guide plate using the luminance calculation means;
(G) using the luminance calculation means to obtain an individual luminance value for each analysis sector obtained by dividing the light guide plate;
And (h) using the dot density correcting means to generate a dot density of a new light guide plate pattern by adjusting the dot density of each analysis sector based on the average luminance value and the individual luminance value. A recording medium on which a computer program is recorded, wherein a pattern design method is performed.
前記段階(f)〜(g)で求められた輝度値は、デジタルデータ形態であることを特徴とする、請求項13に記載のコンピュータプログラムを記録した記録媒体。  14. The recording medium having a computer program recorded thereon according to claim 13, wherein the luminance values obtained in steps (f) to (g) are in the form of digital data. 前記導光板は、その側面に配置される点光源および直線型光源のいずれか一つと共に使用されることを特徴とする、請求項13に記載のコンピュータプログラムを記録した記録媒体。  The recording medium according to claim 13, wherein the light guide plate is used together with any one of a point light source and a linear light source disposed on a side surface of the light guide plate. 入力手段、出力手段、格納手段、中央処理装置、ドット位置生成手段、シミュレータ、輝度計算手段およびドット密度補正手段を含む導光板パターン設計装置において、
前記導光板パターン設計装置が、
(a)前記入力手段を用いて、所定のドット密度を有する導光板パターンの入力を受ける段階と、
(b)前記入力手段を用いて前記ドットの形態変数および導光板変数の入力を受ける段階と、
(c)前段階で入力されたドット密度に基づいて前記ドット位置生成手段を用いて各ドットに対する座標変数を生成する段階と、
(d)前記シミュレータに前記ドットの座標変数、形態変数および導光板変数を入力する段階と、
(e)前記シミュレータを用いて、前段階で入力された導光板パターンが示す導光板輝度分布をシミュレーションする段階と、
(f)前記輝度計算手段を用いて、前記シミュレーションされた導光板の全体平均輝度値を求める段階と、
(g)前記輝度計算手段を用いて、前記導光板を分割した各分析セクター別に個別輝度値を求める段階と、
(h)前記ドット密度補正手段を用いて、前記平均輝度値および前記個別輝度値に基づいて各分析セクターのドット密度を加減して新しい導光板パターンのドット密度を生成する段階とを含む導光板パターン設計方法を行うことを特徴とする、導光板パターン設計装置。
In the light guide plate pattern design apparatus including input means, output means, storage means, central processing unit, dot position generation means, simulator, luminance calculation means and dot density correction means,
The light guide plate pattern design apparatus comprises:
(A) receiving an input of a light guide plate pattern having a predetermined dot density using the input means;
(B) receiving input of the dot shape variable and the light guide plate variable using the input means;
(C) generating a coordinate variable for each dot using the dot position generation means based on the dot density input in the previous step;
(D) inputting coordinate variables, form variables, and light guide plate variables of the dots into the simulator;
(E) using the simulator, simulating the light guide plate luminance distribution indicated by the light guide plate pattern input in the previous step;
(F) obtaining an overall average luminance value of the simulated light guide plate using the luminance calculation means;
(G) using the luminance calculation means to obtain an individual luminance value for each analysis sector obtained by dividing the light guide plate;
And (h) using the dot density correcting means to generate a dot density of a new light guide plate pattern by adjusting the dot density of each analysis sector based on the average luminance value and the individual luminance value. A light guide plate pattern design apparatus, characterized by performing a pattern design method.
前記導光板は、その側面に配置される点光源および直線型光源のいずれか一つと共に使用されることを特徴とする、請求項16に記載の導光板パターン設計装置。  The light guide plate pattern design apparatus according to claim 16, wherein the light guide plate is used together with any one of a point light source and a linear light source arranged on a side surface thereof. 前記段階(f)〜(g)で求められた輝度値は、デジタルデータ形態であることを特徴とする、請求項16に記載の導光板パターン設計装置。  [17] The light guide plate pattern design apparatus according to claim 16, wherein the luminance values obtained in the steps (f) to (g) are in the form of digital data.
JP2006545249A 2004-11-15 2005-08-17 Method and system for automated design of light guide plate pattern Expired - Fee Related JP4237798B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040093010A KR100493141B1 (en) 2004-11-15 2004-11-15 A method for automatic designing patterns of light guide plate and systems thereof
PCT/KR2005/002701 WO2006052059A1 (en) 2004-11-15 2005-08-17 A method for automatic designing patterns of light guide plate and systems thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007507815A JP2007507815A (en) 2007-03-29
JP4237798B2 true JP4237798B2 (en) 2009-03-11

Family

ID=36336705

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006545249A Expired - Fee Related JP4237798B2 (en) 2004-11-15 2005-08-17 Method and system for automated design of light guide plate pattern

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4237798B2 (en)
KR (1) KR100493141B1 (en)
WO (1) WO2006052059A1 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4892939B2 (en) * 2005-11-24 2012-03-07 凸版印刷株式会社 Backlight light guide plate for liquid crystal display device and manufacturing method thereof
WO2012057088A1 (en) * 2010-10-25 2012-05-03 住友化学株式会社 Manufacturing method for light-guide plate
KR101251382B1 (en) 2011-12-02 2013-04-05 (주)코아시스템즈 Pattern formating system of light guide plate and controlling method therefore
KR101796497B1 (en) * 2016-09-12 2017-11-14 (주)코텍 Apparatus and method for designing light guiding plate pattern
CN107272108B (en) * 2017-05-11 2023-10-03 广东工业大学 Design method of one-dimensional microstructure of lower surface of light guide plate
WO2020162559A1 (en) 2019-02-07 2020-08-13 本田技研工業株式会社 Calculation device and method, and program

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001273805A (en) * 2000-03-24 2001-10-05 Sharp Corp Light guide plate and surface light source apparatus
JP2001297616A (en) * 2000-04-05 2001-10-26 Zuigi Koden Kofun Yugenkoshi Total reflection pattern light guiding plate applied to front light source or backlight source
KR20020010266A (en) * 2000-07-28 2002-02-04 최태현 Non-Dot Linear Light Guide Plate And Method For Manufacturing It
KR100413541B1 (en) * 2001-06-08 2003-12-31 강신원 Simulator for Design of Scattering Light Pipe in LCD Backlight
JP2004170698A (en) * 2002-11-20 2004-06-17 Toyota Industries Corp Optical member, back light unit, and method for manufacturing optical member
JP2004202731A (en) * 2002-12-24 2004-07-22 Sumitomo Chem Co Ltd Method for manufacturing large-sized light guide plate
JP4238977B2 (en) * 2003-03-27 2009-03-18 Toto株式会社 Surface emitting device

Also Published As

Publication number Publication date
KR100493141B1 (en) 2005-06-02
JP2007507815A (en) 2007-03-29
WO2006052059A1 (en) 2006-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4237798B2 (en) Method and system for automated design of light guide plate pattern
US11931825B2 (en) System and methods for fabricating a component with laser array
US20180193955A1 (en) System and methods for fabricating a component with laser array
CN107430219A (en) Diffuser plate
US7934175B2 (en) Parameter adjustment method, semiconductor device manufacturing method, and recording medium
JP2023123419A (en) Tool for designing and producing knitted fabric component
CN103900919A (en) Hardness tester and method for hardness test
CN108664686A (en) Method for designing die face
CN106716185A (en) Diffusing plate and diffusing-plate design method
JP4852420B2 (en) Tool and process design in molding technology
CN113352618A (en) Gray level setting method and device of 3D printer and 3D printer
CN108803209A (en) A kind of Laser-control projector system and control method, the information processing terminal
CN114692483A (en) Intelligent design method and system for light guide plate
CN107026385A (en) Programmable waveform simulator
KR100606854B1 (en) Optimized Design Method for Light Reflection Pattern of Light Guiding Panel
JP3852070B2 (en) Optical path simulation CAD apparatus and method
JP7215096B2 (en) 3D shape data generation device, 3D modeling device, and 3D shape data generation program
JP5321483B2 (en) Dot formation order determination method
CN116105974B (en) Configuration method of optical device driving parameters
CN118068463A (en) Method for generating microlens array, light uniformity regulating optical device and device, processor and medium
CN118629366B (en) Dynamic scanning driving method for liquid crystal display screen
KR100642583B1 (en) Pattern design method of backlight unit
TWI534487B (en) Method for designing patterns of light guide plate and light guide plate treating system for increasing overall illuminating uniformity
CN118455778A (en) Laser processing regulation and control optimization method based on data analysis and light beam combination device
KR20230001292A (en) Apparatus for design and manufacturing support of microstructural device and method the same

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081118

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081218

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111226

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees