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JP4188987B2
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一八男 竹本
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Description

本発明は表示装置に係り、特に、その基板面に表示駆動回路が形成されたアクティブ・マトリクス型の表示装置に関する。   The present invention relates to a display device, and more particularly to an active matrix type display device in which a display drive circuit is formed on a substrate surface thereof.

例えば、アクティブ・マトリクス型の液晶表示装置は、液晶を介して対向配置される基板のうち一方の基板の液晶側の面に、x方向に延在しy方向に並設されるゲート信号線とy方向に延在しx方向に並設されるドレイン信号線とで囲まれた領域を画素領域としている。   For example, an active matrix type liquid crystal display device includes a gate signal line extending in the x direction and arranged in parallel in the y direction on the liquid crystal side surface of one of the substrates opposed to each other through the liquid crystal. A region surrounded by drain signal lines extending in the y direction and arranged in parallel in the x direction is defined as a pixel region.

そして、この画素領域には一方のゲート信号線からの走査信号の供給によって作動する薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介して一方のドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電極とを備えている。   The pixel region includes a thin film transistor that operates when a scanning signal is supplied from one gate signal line, and a pixel electrode that receives a video signal from one drain signal line via the thin film transistor.

この画素電極はたとえば他方の基板側に形成された対向電極との間に電界を生じせしめ、この電界によってこれら電極の間の液晶の光透過率を制御するようになっている。   For example, an electric field is generated between the pixel electrode and the counter electrode formed on the other substrate side, and the light transmittance of the liquid crystal between these electrodes is controlled by this electric field.

そして、このような液晶表示装置において、各ゲート信号線のそれぞれに走査信号を供給する走査信号駆動回路、および各ドレイン信号線のそれぞれに映像信号を供給する映像信号駆動回路が備えられている。   Such a liquid crystal display device includes a scanning signal driving circuit that supplies a scanning signal to each of the gate signal lines and a video signal driving circuit that supplies a video signal to each of the drain signal lines.

このような走査信号駆動回路および映像信号線駆動回路は、画素領域内に形成される薄膜トランジスタと同様の構成からなる多数のMISトランジスタからなることに鑑み、これら各トランジスタの半導体層を多結晶のシリコン(p−Si)で形成するとともに、走査信号駆動回路および映像信号線駆動回路を前記一方の基板面に前記画素の形成と並行して前記一方の基板面に形成したものが知られている。   In view of the fact that such a scanning signal driving circuit and video signal line driving circuit are composed of a large number of MIS transistors having the same configuration as the thin film transistor formed in the pixel region, the semiconductor layer of each of these transistors is formed of polycrystalline silicon. It is known that the scanning signal driving circuit and the video signal line driving circuit are formed on the one substrate surface in parallel with the formation of the pixels, while being formed of (p-Si).

そして、前記走査信号駆動回路はシフトレジスタを主とする回路であり、また、映像信号線駆動回路においてもその一部にシフトレジスタを用いている。   The scanning signal driving circuit is a circuit mainly including a shift register, and the video signal line driving circuit also uses a shift register as a part thereof.

なお、本願発明に関連する先行技術文献としては以下のものがある。
特公昭62−45638号公報
As prior art documents related to the invention of the present application, there are the following.
Japanese Examined Patent Publication No. 62-45638

しかし、そのシフトレジスタにおいて、近年、より低電圧、低電力で高速動作ができ、しかも貫通電流のないものが要望されるに到り、たとえばダイナミックレシオシフトレジスタと称されるシフトレジスタを用いることが考察された。   However, in recent years, there has been a demand for a shift register that can operate at a higher speed with lower voltage and lower power and that does not have a through current. For example, a shift register called a dynamic ratio shift register is used. It was considered.

このダイナミックレシオシフトレジスタは、例えば、前述の特許文献1に開示されているように、図9(a)のような構成となっている。   This dynamic ratio shift register has a configuration as shown in FIG. 9A as disclosed in, for example, Patent Document 1 described above.

また、図9(b)は、図9(a)に示す回路のタイミングチャートであり、入力パルスφIN、同期パルスφ1、φ2に対してノードN1ないしN6におけるそれぞれの出力VN1ないしVN6を示している。   FIG. 9B is a timing chart of the circuit shown in FIG. 9A, and shows respective outputs VN1 to VN6 at nodes N1 to N6 with respect to the input pulse φIN and the synchronization pulses φ1 and φ2. .

まず、時間t1で、φ1がLowレベル(以下'L'と表す)からHighレベル(以下'H'と表す)に変わる際、φINが'H'になっているので、NMT1を通して、ノードN1の電位VN1は'L'から'H'になる。   First, at time t1, when φ1 changes from a low level (hereinafter referred to as “L”) to a high level (hereinafter referred to as “H”), φIN is set to “H”. The potential VN1 changes from “L” to “H”.

入力パルスφINおよび互いに逆相の同期パルスφ1、φ2の'L'を接地レベル(GND)、'H'をVφ<NMT1のしきい値をVthとすると、この時のVN1の電位は概ね次式(1)に示すようになる。   When the input pulse φIN and the synchronization pulses φ1 and φ2 having opposite phases are set to the ground level (GND) and 'H' is set to the threshold VTH <NMT1, the potential of VN1 at this time is approximately As shown in (1).

[数1]
VN1=Vφ−Vth ・・・・・ (1)
時間t2で、φ1が'H'から'L'に立ち下がってもφINがHのままなので、VN1は上式(1)の電圧を保持する(厳密には、φ1の立ち下がり時、NMT1のゲートとノードN1との容量結合等で電位が上式(1)の電圧より低くなるが、動作説明上本質的でないので無視する)。そして、NMT1はOFFレベルになるのでN1はフローティングノードとなる。
[Equation 1]
VN1 = Vφ−Vth (1)
Even when φ1 falls from 'H' to 'L' at time t2, since φIN remains H, VN1 holds the voltage of the above equation (1) (strictly speaking, when φ1 falls, NMT1 The potential becomes lower than the voltage of the above formula (1) due to the capacitive coupling between the gate and the node N1, but is ignored because it is not essential for the explanation of the operation. And since NMT1 becomes OFF level, N1 becomes a floating node.

次に、時間t2でφ2が'L'から'H'に変化するとき、次式(2)が満たされているならば、
[数2]
Vφ−Vth≧Vφ ・・・・・ (2)
NMT2はON状態になり、パルスφ2がノードN2に入っていく。
Next, when φ2 changes from 'L' to 'H' at time t2, if the following equation (2) is satisfied,
[Equation 2]
Vφ−Vth ≧ Vφ (2)
NMT2 is turned on, and pulse φ2 enters node N2.

この時、N1とN2の間に設けられたブートストラップ容量と称される結合容量Cb1により、N2の点圧上昇がフローティングになっているN1に伝えられN2の電位も上昇する。   At this time, due to the coupling capacitor Cb1 called a bootstrap capacitor provided between N1 and N2, the increase of the point pressure of N2 is transmitted to the floating N1, and the potential of N2 also rises.

N2の上昇電位をΔVN2とすると、VN1は次式(3)で与えられる。
[数3]
VN1=(Vφ−Vth)+ΔVN2(Cb/Cb(Cb+Cs))
・・・・・ (3)
Assuming that the rising potential of N2 is ΔVN2, VN1 is given by the following equation (3).
[Equation 3]
VN1 = (Vφ−Vth) + ΔVN2 (Cb / Cb (Cb + Cs))
(3)

ここで、Cbは先のCb1のように回路図に示される容量のほかに、NMT2のゲートとドレイン、ソース、あるいはゲート下にできる反転層(チャネル)が作る容量、さらにはφ2の配線とN1の直接の接続容量といったものも含めた、φ2とN1のすべての結合容量を含む。また、CsはN1のすべての容量から上記のブートストラップ容量Cbをひいたもので、いわゆる寄生容量と称されるものである。   Here, in addition to the capacitance shown in the circuit diagram as in the previous Cb1, Cb is a capacitance formed by the gate and drain of NMT2, or an inversion layer (channel) formed under the gate, and the φ2 wiring and N1 Including all the coupling capacitances of φ2 and N1, including the direct connection capacitance. Cs is obtained by subtracting the bootstrap capacitor Cb from all the capacitors of N1, and is called a so-called parasitic capacitor.

ここで、ΔVN2⇒Vφの際に、次式(4)が満たされるならば、
[数4]
(Vφ−Vth)+Vφ(Cb/Cb(Cb+Cs))>Vφ+Vth
・・・・・ (4)
Here, if ΔVN2⇒Vφ, the following equation (4) is satisfied:
[Equation 4]
(Vφ−Vth) + Vφ (Cb / Cb (Cb + Cs))> Vφ + Vth
(4)

NMT2のゲート電圧すなわちVN1はVφ+Vthより高くなることを意味し、したがってVN2はVφの電位になる。   This means that the gate voltage of NMT2, that is, VN1, becomes higher than Vφ + Vth, and therefore VN2 becomes the potential of Vφ.

設計要素であるCb1を適当に選ぶことにより、上式(4)を満たすことは容易であり、VN2をVφの電位にすることができる。   By appropriately selecting the design element Cb1, it is easy to satisfy the above formula (4), and VN2 can be set to the potential of Vφ.

この際、同時に、ダイオード接続されたNMT3を通じてノードN3の電位が次式(5)に示す値となる。
[数5]
VN3=Vφ−Vth ・・・・ (5)
NMT3はダイオード接続されているので、時間t3でφ2がHからLに変化しても、上式(5)の状態は保持される。
At the same time, the potential of the node N3 becomes a value represented by the following equation (5) through the diode-connected NMT3.
[Equation 5]
VN3 = Vφ−Vth (5)
Since NMT3 is diode-connected, even if φ2 changes from H to L at time t3, the state of the above equation (5) is maintained.

時間t3で、φ1がLからHに変化すると、上式(3)と同様な動作がN3およびNMT5で起こり、VN3、VN4は図1(b)で模式的に示される電位変化を起こす。   When φ1 changes from L to H at time t3, an operation similar to the above equation (3) occurs in N3 and NMT5, and VN3 and VN4 cause a potential change schematically shown in FIG.

ここで、N2、N4、N6を出力ノードとして使用すると、同期パルスの'H'と同じ電位のシフトパルス(VN2、VN4、VN6)が得られ、且つ上記動作で明らかとなるように貫通電流をともなわないダイナミック動作となっている。   Here, when N2, N4, and N6 are used as output nodes, a shift pulse (VN2, VN4, VN6) having the same potential as that of the synchronization pulse 'H' is obtained, and a through current is applied as apparent from the above operation. Dynamic operation is not accompanied.

しかしながら、このような構成のダイナミックレシオレジスタを、そのまま、液晶を介して対向配置される基板(ガラス基板)の表面に半導体層が多結晶シリコン(p−Si)からなるMISトランジスタによって形成すると、極めて不安定に動作することが確認され、その対策が必要となった。   However, when a dynamic ratio register having such a configuration is formed as it is by a MIS transistor having a semiconductor layer made of polycrystalline silicon (p-Si) on the surface of a substrate (glass substrate) opposed to the liquid crystal, it is extremely difficult. It was confirmed that it was operating unstablely, and countermeasures were required.

すなわち、上述したN1、N3といったフローティングノードが'L'の際の容量が極めて小さく、図9(a)のCdg1、Cdg2に示した、同期パルスとN1、N3のドレイン−ゲート間結合容量に対し、Cdg1、Cdg2等を含めたN1、N2のその他の容量が非常に小さく、選択されないトランジスタもON状態となる可能性が高く、この回路のままであると、OFF維持のために設計及び使用電圧がかなり制約されてしまうようになる。   That is, the capacitance when the floating nodes such as N1 and N3 are “L” is extremely small, and the synchronous pulse and the drain-gate coupling capacitance of N1 and N3 shown in Cdg1 and Cdg2 of FIG. , Cdg1, Cdg2, etc., and other capacitances of N1, N2 are very small, and there is a high possibility that an unselected transistor will be in the ON state. Will be quite constrained.

単結晶の半導体に対し、ガラス基板上に形成する薄膜トランジスタからなるダイナミックレシオレスシフトレジスタでそのフローティングノードが'L'の際に容量が非常に小さくなる主な原因は以下の通りである。   The main causes for the capacitance becoming very small when the floating node is 'L' in a dynamic ratioless shift register comprising a thin film transistor formed on a glass substrate with respect to a single crystal semiconductor are as follows.

図10(a)は、単結晶の半導体上に形成したn型のMOSトランジスタの断面模式図である。半導体としての基板を有する半導体集積回路は素子分離のため等で、バイアス(接地も含む)されて使用されるのが一般的である。   FIG. 10A is a schematic cross-sectional view of an n-type MOS transistor formed on a single crystal semiconductor. A semiconductor integrated circuit having a substrate as a semiconductor is generally used after being biased (including ground) for element isolation or the like.

このため、図10(a)に示すように、ソース(拡散層)とウエル(または基板)の間の逆バイアスによる空乏層容量Csw、ドレイン−ウエル間空乏層容量Cdw、及びゲート−ウエル間容量Cgwの容量で、ウエルと容量結合している。また、配線も厚い絶縁膜を介してではあるが、直下の基板またはウエルとCLwで容量結合している。これらは通常寄生容量と称されるたぐいのものである。   For this reason, as shown in FIG. 10A, the depletion layer capacitance Csw, the drain-well depletion layer capacitance Cdw, and the gate-well capacitance due to the reverse bias between the source (diffusion layer) and the well (or substrate). It is capacitively coupled to the well with a capacity of Cgw. The wiring is also capacitively coupled to the substrate or well immediately below by a CLw though a thick insulating film. These are usually called parasitic capacitances.

したがって、たとえば図9(a)に示すノードN3の部分において、NMT3のCsw(Csw3)、NMT6のCgw(Cgw6)、Cdw(Cdw6)、NMT7のCsw(Csw7)およびこのノードを形成する配線のClw(Clw3)によって、ウエルとの大きな結合容量を持つようになる。   Therefore, for example, in the portion of the node N3 shown in FIG. 9A, Csw (Csw3) of NMT3, Cgw (Cgw6), Cdw (Cdw6) of NMT6, Csw (Csw7) of NMT7, and Clw of the wiring forming this node (Clw3) has a large coupling capacity with the well.

さらに、ブートストラップ容量を図10(b)、(c)に示すようにエンハンストなMOS容量構成としておくと、図10(b)に示すON時には別のノードとなる空乏層から延びた反転層と容量結合し、効率のよいブートストラップ効果(昇圧効果)が得られる一方で、OFF時は図10(b)に示すようにウエルとの結合容量Cb1(w)となる。   Further, if the bootstrap capacitor has an enhanced MOS capacitor configuration as shown in FIGS. 10B and 10C, an inversion layer extending from a depletion layer serving as another node at the time of ON shown in FIG. Capacitive coupling and an efficient bootstrap effect (boost effect) are obtained. On the other hand, when OFF, the coupling capacitance Cb1 (w) with the well is obtained as shown in FIG.

したがって、N3が'L'の際、図9(a)の回路上フローティングの場合も上記の結合容量を介して、ウエルのバイアスとの間に大きな容量をもつことになる。これらの容量に対して、NMT3のCdw(CdW1)およびφ1の配線とN3の間の空間容量Clφ1の和は充分に小さいので、φ1が'L'から'H'に変化したときのN3の電位変化ΔVN3は概略、次式(6)で表され、
[数6]
ΔVN3=Vφ×(Cdw+Clφ1)/(Cdw1+Clφ2+Csw3+Cgw6+Cdw6+Csw7+Cb1(w))
・・・・・ (6)
Therefore, when N3 is “L”, even when the circuit is floating on the circuit of FIG. 9A, a large capacitance is provided between the well and the well via the coupling capacitance. Since the sum of the Cdw (CdW1) of NMT3 and the space capacitance Clφ1 between the wiring of φ1 and N3 is sufficiently small with respect to these capacitances, the potential of N3 when φ1 changes from “L” to “H” The change ΔVN3 is roughly expressed by the following equation (6),
[Equation 6]
ΔVN3 = Vφ × (Cdw + Clφ1) / (Cdw1 + Clφ2 + Csw3 + Cgw6 + Cdw6 + Csw7 + Cb1 (w))
(6)

かつ、上記説明のように、次式(7)の関係があることから、
[数7]
Cdw1+Clφ2≪Csw3+Cgw6+Cdw6+Csw7+Cb1(w)
・・・・・ (7)
And as described above, since there is a relationship of the following equation (7),
[Equation 7]
Cdw1 + Clφ2 << Csw3 + Cgw6 + Cdw6 + Csw7 + Cb1 (w)
(7)

次式(8)を満たすのは容易となる。
[数8]
ΔVN3<Vth ・・・・ (8)
しかし、ガラス基板上に多結晶の薄膜トランジスタからなる同様の回路を構成する場合には、上述したようには動作しなくなる。
It is easy to satisfy the following formula (8).
[Equation 8]
ΔVN3 <Vth (8)
However, when a similar circuit composed of a polycrystalline thin film transistor is formed on a glass substrate, it does not operate as described above.

すなわち、図10(d)はガラス基板上に形成された多結晶の薄膜トランジスタの断面模式図であるが、基板が絶縁体であると、ソース、ドレインまたはゲート下のp層はひとたびフローティングになると、結合できる容量はソースまたはドレインとゲート下のp層間の空乏層容量Cdp、Cspあるいは、はるかかなたの配線との小さな空間容量Csl、Cpl、Cdlのみになる。   10D is a schematic cross-sectional view of a polycrystalline thin film transistor formed on a glass substrate. If the substrate is an insulator, the p layer under the source, drain, or gate is once floating. Capacitances that can be coupled are only depletion layer capacitances Cdp, Csp between the source or drain and the p-layer below the gate, or small space capacitances Csl, Cpl, Cdl with far wires.

上述した場合と同様に図9(a)に示した回路のノードN3の部分を例にとると、NMT3のソースCsp3を介してN2と容量結合するが、N2もフローティングなので、Cb1を介してN1と容量結合する経路と、NMT2のSP2を介してφ2に容量結合する経路に分かれる。N1もまたフローティングなので、NMT1のCsp1を介してφINに容量結合する経路と、NMT1のCsg1を介してφ1に容量結合する経路NMT4のCsp4を介してVssに容量結合する経路に分かれる。   As in the case described above, taking the part of the node N3 of the circuit shown in FIG. 9A as an example, it is capacitively coupled to N2 via the source Csp3 of NMT3. However, since N2 is also floating, N1 is connected via Cb1. And a path for capacitive coupling to φ2 through SP2 of NMT2. Since N1 is also floating, it is divided into a path that is capacitively coupled to φIN via Csp1 of NMT1, and a path that is capacitively coupled to Vss via Csp4 of NMT4 and Csp4 of NMT1.

すなわち、いずれの容量も非常に小さくなり、かつφ1との結合はφ1が'L'⇒'H'時にはVN3を上昇させる方向に働く。   That is, both capacities become very small, and the coupling with φ1 works to increase VN3 when φ1 is “L” → “H”.

NMT7のソースはCsp7を介してVSSと容量結合しているが、これも大きなものではない。また、N3はCb2を介してN4と容量結合しているが、N4もまたフローティングである。N3のノードを形成する配線も直下の容量はなく、空間容量を介して、いずれかの配線と弱い容量結合があるだけである。   The source of NMT7 is capacitively coupled to VSS via Csp7, but this is not significant. N3 is capacitively coupled to N4 via Cb2, but N4 is also floating. The wiring forming the node of N3 does not have a capacitance immediately below, and has only a weak capacitive coupling with any wiring through the space capacitance.

N3はNMT5のCdg5を介してφ1容量結合している。これは外部との直接容量結合であり比較的大きい。この容量が不安定の原因となる。   N3 is φ1 capacitively coupled through Cdg5 of NMT5. This is a direct capacitive coupling with the outside and is relatively large. This capacity causes instability.

Cdg5を除くN3の上記の他の2次的な結合容量の総和をCN3とすると、φ1が'L'⇒'H'に変化するときのN3の電位変化ΔVN3は概ね次式(9)で与えられ、上述のようにCN3はさほど大きくないので、VφやCdg5(NMT5のW寸法設計やφ1の配線レイアウト)の値によっては、次式(10)に示す条件が容易におこる。   If the total of the other secondary coupling capacities of N3 excluding Cdg5 is CN3, the potential change ΔVN3 of N3 when φ1 changes from “L” to “H” is approximately given by the following equation (9). As described above, since CN3 is not so large, depending on the values of Vφ and Cdg5 (W dimension design of NMT5 and φ1 wiring layout), the condition shown in the following equation (10) easily occurs.

[数9]
ΔVN3=Vφ×(Cdg5/(Cdg5+CN3)) ・・・・・ (9)
[数10]
ΔVN3≧Vth ・・・・・ (10)
[Equation 9]
ΔVN3 = Vφ × (Cdg5 / (Cdg5 + CN3)) (9)
[Equation 10]
ΔVN3 ≧ Vth (10)

ひとたび、上式(10)に示す条件が満たされると、NMT5のCgp(反転層との容量)やブートストラップ容量Cb2は、逆にN3とφ1との結合容量に変化し、ブートストラップ効果で、NMT3を完全にON状態にする可能性が極めて大きくなる。   Once the condition shown in the above equation (10) is satisfied, the Cgp (capacitance with the inversion layer) and the bootstrap capacitance Cb2 of NMT5 are changed to the coupling capacitance between N3 and φ1, conversely, The possibility that the NMT 3 is completely turned on becomes extremely large.

すなわち、制御しているノードとは無関係なノードが'H'になり、出力が発生する、あるいはその部分から、走査が始まるといった、不安定動作が発生することになる。   That is, a node that is not related to the controlling node becomes “H”, and an unstable operation occurs such that an output is generated or scanning starts from that portion.

本発明は、このような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、安定に動作し、また設計自由度を拡大できるダイナミックレシオレスシフトレジスタを備えた表示装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかにする。
The present invention has been made based on such circumstances, and an object of the present invention is to provide a display device including a dynamic ratioless shift register that can operate stably and can increase design flexibility.
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
手段1.
本発明による表示装置は、たとえば、その基板面にシフトレジスタを含む駆動回路を備え、前記シフトレジスタは多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成され、第1のMISTFTの第1の端子は入力パルスに接続され、第1のMISTFTのゲート端子は第1の同期パルスに接続されて、入力部を形成し、第1のMISTFTの第2の端子は、第2のMISTFTのゲート端子及び第4のMISTFTの第1の端子に接続し、かつ第1の容量素子の第1の端子と接続し、第1の容量の第2の端子は固定電圧に接続しており、第2のMISTFTの第1の端子は第1の同期パルスと逆相をなす第2の同期パルスに接続し、第2のMISTFTの第2の端子は、第3のMISTFTの第1の端子及びゲート端子に接続しており、かつ第2の容量の第1の端子と接続し、第2の容量の第2の端子は、第1のMISTFTの第2の端子、第2のMISFETのゲート端子及び第4のMISTFTの第1の端子に接続しており、第3のMISTFTの第2の端子は、第5のMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTの第1の端子に接続し、かつ第3の容量素子の第1の端子と接続するとともに第1の出力端子を形成し、第3の容量の第2の端子は固定電圧に接続しており、第5のMISTFTの第1の端子は第1の同期パルスに接続し、第5のMISTFTの第2の端子は、第6のMISTFTの第1の端子及びゲート端子及び第4のMISTFTのゲート端子に接続しており、かつ第4の容量の第1の端子と接続するとともに第2の出力端子を形成し、第4の容量の第2の端子は第3のMISTFTの第2の端子、第5のMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTの第1の端子に接続しており、第4のMISTFTの第2の端子及び第7のMISTFTの第2の端子は第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第7のMOSTFTのゲート端子には前記第4のMISTFTのゲート端子に入力されるパルスに相当するパルスで一クロック分シフトされるパルスが入力されることを特徴とするものである。
Of the inventions disclosed in this application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.
Means 1.
The display device according to the present invention includes, for example, a drive circuit including a shift register on a substrate surface thereof, and the shift register includes a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer, and a first terminal of the first MISFT is an input. Connected to the pulse, the gate terminal of the first MISTFT is connected to the first synchronization pulse to form an input, and the second terminal of the first MISTFT is connected to the gate terminal of the second MISTFT and the fourth terminal The first terminal of the first capacitor and the second terminal of the first capacitor are connected to a fixed voltage, and the second terminal of the second MISFT is connected to the first terminal of the first capacitor. The first terminal is connected to a second synchronizing pulse having a phase opposite to that of the first synchronizing pulse, and the second terminal of the second MISTFT is connected to the first terminal and the gate terminal of the third MISTFT. And The second terminal of the second capacitor is connected to the first terminal of the second capacitor, the second terminal of the first MISFT, the gate terminal of the second MISFET, and the first terminal of the fourth MISFT. The second terminal of the third MISTFT is connected to the gate terminal of the fifth MISTFT and the first terminal of the seventh MISTFT, and the first terminal of the third capacitor element. And a first output terminal, the second terminal of the third capacitor is connected to a fixed voltage, and the first terminal of the fifth MISTFT is connected to the first synchronization pulse. The second terminal of the fifth MISFT is connected to the first terminal and gate terminal of the sixth MISFT and the gate terminal of the fourth MISFT, and is connected to the first terminal of the fourth capacitor. And forming a second output terminal and a fourth capacitor The second terminal is connected to the second terminal of the third MISTFT, the gate terminal of the fifth MISTFT, and the first terminal of the seventh MISTFT, and the second terminal of the fourth MISTFT and the seventh terminal. The second terminal of the MISFT is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT among the voltages of the first and second synchronization pulses, or at least equal to or higher than the threshold value of the fourth MISFT. It is connected to a fixed power source or ground potential that is not different from the voltage that becomes the source voltage of the pulse, and the gate terminal of the seventh MOSTFT is a pulse corresponding to the pulse input to the gate terminal of the fourth MISTFT. A pulse shifted by one clock is input.

このように構成された表示装置は、フローティングとなりうるノードに負荷容量の一端側を接続させ、他端側を固定電位等に接続させた構成とすることによって、前述した不安定要素を回避した状態での設計裕度が広がり、多結晶シリコンからなる薄膜トランジスタからなる安定したダイナミックレシオレスシフトレジスタを実現できるようになる。   The display device configured as described above has a configuration in which one end side of a load capacitor is connected to a node that can be in a floating state, and the other end side is connected to a fixed potential or the like, thereby avoiding the unstable elements described above. The design margin in the field of view increases, and a stable dynamic ratioless shift register made of a thin film transistor made of polycrystalline silicon can be realized.

手段2.
本発明による表示装置は、たとえば、手段1の構成を前提に、第2から第7までのMISTFTと第1から第4までの容量から構成される基本回路がn個多段に接続され、第i番目の基本回路の第2のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子には、第(i−1)番目の基本回路の第6のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子に接続され、第i番目の基本回路の第7のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子には、第(i+1)番目の第2のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子に接続され、第n番目の基本回路の第7のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子には次段の基本回路の第4のMISTFTのゲート端子に入力されるパルスに相当するパルスで一クロック分シフトされるパルスが入力されることを特徴とするものである。
Mean 2.
In the display device according to the present invention, for example, on the premise of the configuration of the means 1, n basic circuits composed of second to seventh MISTFTs and first to fourth capacitors are connected in multiple stages, i. The gate terminal of the MISFT corresponding to the second MISTFT of the th basic circuit is connected to the second terminal of the MISFT corresponding to the sixth MISTFT of the (i−1) th basic circuit, and the i th The gate terminal of the MISTFT corresponding to the seventh MISTFT of the basic circuit is connected to the second terminal of the MISTFT corresponding to the (i + 1) th second MISTFT, and the seventh terminal of the nth basic circuit. The gate terminal of the MISFT corresponding to this MISFT is shifted by one clock with a pulse corresponding to the pulse inputted to the gate terminal of the fourth MISFT of the next basic circuit. It is characterized in that the pulse is inputted.

手段3.
本発明による表示装置は、たとえば、手段2の構成を前提に、第1番目の基本回路に第2のMISTFTが、第2番目以降に各基本回路に第1のMISTFTおよび第二のMISTFTが組み込まれ、第1のMISTFTは、そのゲート端子が入力パルスの入力端子に接続され、第1の端子が第2のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、第2の端子が第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続され、第2のMISTFTは、そのゲート端子が入力パルスの入力端子に接続され、第1の端子が第5のMISTFTあるいはこの第5のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、第2の端子が第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続されていることを特徴とするものである。
Means 3.
In the display device according to the present invention, for example, on the premise of the configuration of the means 2, the second MISTFT is incorporated in the first basic circuit, and the first MISTFT and the second MISTFT are incorporated in the second and subsequent basic circuits. The first MISFT has its gate terminal connected to the input terminal of the input pulse, the first terminal connected to the gate terminal of the MISFT corresponding to the second MISFT, and the second terminal connected to the first and first terminals. Of the two sync pulse voltages, it is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT, or is at least equal to or higher than the threshold voltage of the fourth MISFT and the voltage that becomes the source voltage of the first and second sync pulses. Not connected to a fixed power supply or ground potential, the second MISTFT has its gate terminal connected to the input terminal of the input pulse, and the first terminal connected to the fifth MISTF Alternatively, the second terminal is connected to the gate terminal of the MISFT corresponding to the fifth MISTFT, and the second terminal is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISTFT among the voltages of the first and second synchronization pulses, or at least the fourth It is characterized in that it is connected to a fixed power supply or ground potential that is not different from the voltage that becomes the source voltage of the first and second synchronizing pulses above the threshold voltage of the MISFT.

手段4.
本発明による表示装置は、たとえば、基板面にシフトレジスタを含む駆動回路を備え、前記シフトレジスタは多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成され、第1のMISTFTの第1の端子及びゲート端子は入力パルスに接続されて、入力部を形成し、第1のMISTFTの第2の端子は、第2のMISTFTのゲート端子及び第4のMISTFTの第1の端子に接続し、かつ第1の容量素子の第1の端子と接続し、第1の容量の第2の端子は固定電圧に接続しており、第2のMISTFTの第1の端子は第1の同期パルスと逆相をなす第2の同期パルスに接続し、第2のMISTFTの第2の端子は、第3のMISTFTの第1の端子及びゲート端子に接続しており、かつ第2の容量の第1の端子と接続し、第2の容量の第2の端子は、第1のMISTFTの第2の端子、第2のMISFETのゲート端子及び第4のMISTFTの第1の端子に接続しており、第3のMISTFTの第2の端子は、第5のMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTの第1の端子に接続し、かつ第3の容量素子の第1の端子と接続するとともに第1の出力端子を形成し、第3の容量の第2の端子は固定電圧に接続しており、第5のMISTFTの第1の端子は第1の同期パルスに接続し、第5のMISTFTの第2の端子は、第6のMISTFTの第1の端子及びゲート端子及び第4のMISTFTのゲート端子に接続しており、かつ第4の容量の第1の端子と接続するとともに第2の出力端子を形成し、第4の容量の第2の端子は第3のMISTFTの第2の端子、第5のMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTの第1の端子に接続しており、第4のMISTFTの第2の端子及び第7のMISTFTの第2の端子は第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第7のMISTFTのゲート端子には前記第4のMISTFTのゲート端子に入力されるパルスに相当するパルスで一クロック分シフトされるパルスが入力されることを特徴とするものである。
Means 4.
The display device according to the present invention includes, for example, a drive circuit including a shift register on a substrate surface, and the shift register includes a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer, and the first terminal and the gate terminal of the first MISFT. Is connected to the input pulse to form an input portion, the second terminal of the first MISTFT is connected to the gate terminal of the second MISTFT and the first terminal of the fourth MISTFT, and the first The first terminal of the capacitive element is connected, the second terminal of the first capacitor is connected to a fixed voltage, and the first terminal of the second MISTFT is in a phase opposite to that of the first synchronization pulse. The second terminal of the second MISFT is connected to the first terminal and the gate terminal of the third MISFT, and is connected to the first terminal of the second capacitor. , Second capacity second Are connected to the second terminal of the first MISFT, the gate terminal of the second MISFET, and the first terminal of the fourth MISFT, and the second terminal of the third MISFT is connected to the fifth terminal. Connected to the gate terminal of the first MISFT and the first terminal of the seventh MISFT, connected to the first terminal of the third capacitor element, and formed the first output terminal, and the second capacitor Are connected to a fixed voltage, the first terminal of the fifth MISFT is connected to the first synchronization pulse, and the second terminal of the fifth MISFT is the first terminal of the sixth MISFT. And the gate terminal and the gate terminal of the fourth MISFT, and is connected to the first terminal of the fourth capacitor and forms a second output terminal, and the second terminal of the fourth capacitor is Second terminal of third MISFT, fifth The gate terminal of the MISFT and the first terminal of the seventh MISFT are connected, and the second terminal of the fourth MISFT and the second terminal of the seventh MISFT are voltages of the first and second synchronization pulses. Of the fixed power source or the ground potential equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT, or at least equal to the voltage that becomes the source voltage of the first and second synchronization pulses at least the threshold value of the fourth MISFT. The gate terminal of the seventh MISTFT is connected with a pulse shifted by one clock with a pulse corresponding to the pulse input to the gate terminal of the fourth MISTFT. is there.

手段5.
本発明による表示装置は、たとえば、手段4の構成を前提に、第2から第7までのMISTFTと第1から第4までの容量から構成される基本回路がn個多段に接続され、第i番目の基本回路の第2のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子には、第(i−1)番目の基本回路の第6のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子に接続され、第i番目の基本回路の第7のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子には、第(i+1)番目の第2のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子に接続され、第n番目の基本回路の第7のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子には次段の基本回路の第4のMISTFTのゲート端子に入力されるパルスに相当するパルスで一クロック分シフトされるパルスが入力されることを特徴とするものである。
Means 5.
In the display device according to the present invention, for example, on the premise of the configuration of the means 4, n basic circuits composed of second to seventh MISTFTs and first to fourth capacitors are connected in multiple stages, i. The gate terminal of the MISFT corresponding to the second MISTFT of the th basic circuit is connected to the second terminal of the MISFT corresponding to the sixth MISTFT of the (i−1) th basic circuit, and the i th The gate terminal of the MISTFT corresponding to the seventh MISTFT of the basic circuit is connected to the second terminal of the MISTFT corresponding to the (i + 1) th second MISTFT, and the seventh terminal of the nth basic circuit. The gate terminal of the MISFT corresponding to this MISFT is shifted by one clock with a pulse corresponding to the pulse inputted to the gate terminal of the fourth MISFT of the next basic circuit. It is characterized in that the pulse is inputted.

手段6.
本発明による表示装置は、たとえば、手段5の構成を前提に、第1番目の基本回路に第2のMISTFTが、第2番目以降に各基本回路に第一のMISTFTおよび第2のMISTFTが組み込まれ、第1のMISTFTは、そのゲート端子が入力パルスの入力端子に接続され、第1の端子が第2のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、第2の端子が第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続され、第2のMISTFTは、そのゲート端子が入力パルスの入力端子に接続され、第1の端子が第5のMISTFTあるいはこの第5のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、第2の端子が第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続されていることを特徴とするものである。
Means 6.
In the display device according to the present invention, for example, on the premise of the configuration of the means 5, the second MISTFT is incorporated in the first basic circuit, and the first MISTFT and the second MISTFT are incorporated in the second and subsequent basic circuits. The first MISFT has its gate terminal connected to the input terminal of the input pulse, the first terminal connected to the gate terminal of the MISFT corresponding to the second MISFT, and the second terminal connected to the first and first terminals. Of the two sync pulse voltages, it is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT, or is at least equal to or higher than the threshold voltage of the fourth MISFT and the voltage that becomes the source voltage of the first and second sync pulses. Not connected to a fixed power supply or ground potential, the second MISTFT has its gate terminal connected to the input terminal of the input pulse, and the first terminal connected to the fifth MISTF Alternatively, the second terminal is connected to the gate terminal of the MISFT corresponding to the fifth MISTFT, and the second terminal is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISTFT among the voltages of the first and second synchronization pulses, or at least the fourth It is characterized in that it is connected to a fixed power supply or ground potential that is not different from the voltage that becomes the source voltage of the first and second synchronizing pulses above the threshold voltage of the MISFT.

手段7.
本発明による表示装置は、たとえば、基板面にシフトレジスタを含む駆動回路を備え、前記シフトレジスタは多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成され、第1のMISTFTの第1の端子及びゲート端子は入力パルスに接続されて、入力部を形成し、第1のMISTFTの第2の端子は、第2のMISTFTのゲート端子及び第4のMISTFTの第1の端子に接続し、かつ第1の容量を介して、固定電圧に接続しており、第2のMISTFTの第1の端子は、第1の同期パルスと逆相をなす第2の同期パルスに接続し、第2のMISTFTの第2の端子は、第3のMISTFTの第1の端子及びゲート端子に接続しており、かつ第2の容量を介して、第1のMISTFTの第2の端子、第2のMISTFTのゲート端子及び第4のMISTFTの第1の端子に接続しており、第3のMISTFTの第2の端子は、第5のMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTの第1の端子に接続し、かつ第3の容量素子を介して、固定電圧に接続しており、第5のMISTFTの第1の端子は第1の同期パルスに接続し、第5のMISTFTの第1の端子は、第6のMISTFTの第1の端子及びゲート端子及び第4のMISTFTのゲート端子に接続しており、かつ第4の容量を介して、第3のMISTFTの第2の端子、第5のMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTの第1の端子に接続しており、第4のMISTFTの第2の端子は第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第7のMISTFTのゲート端子には前記第14のMISTFTのゲート端子に入力されるパルスに相当するパルスで一クロック分シフトされるパルスが入力されることを特徴とするものである。
Mean 7
The display device according to the present invention includes, for example, a drive circuit including a shift register on a substrate surface, and the shift register includes a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer, and the first terminal and the gate terminal of the first MISFT. Is connected to the input pulse to form an input portion, the second terminal of the first MISTFT is connected to the gate terminal of the second MISTFT and the first terminal of the fourth MISTFT, and the first The capacitor is connected to a fixed voltage, and the first terminal of the second MISFT is connected to a second synchronization pulse having a phase opposite to that of the first synchronization pulse. Are connected to the first terminal and the gate terminal of the third MISTFT, and the second terminal of the first MISTFT, the gate terminal of the second MISTFT and the gate terminal of the second MISTFT through the second capacitor. The third terminal of the third MISTFT is connected to the first terminal of the fourth MISTFT, the second terminal of the third MISTFT is connected to the gate terminal of the fifth MISTFT, the first terminal of the seventh MISTFT, and the third terminal. Are connected to a fixed voltage, the first terminal of the fifth MISTFT is connected to the first synchronization pulse, and the first terminal of the fifth MISTFT is connected to the sixth MISTFT. The second terminal of the third MISFT, the gate terminal of the fifth MISFT, and the seventh terminal are connected to the first terminal, the gate terminal, and the gate terminal of the fourth MISFT, and through the fourth capacitor. The second terminal of the fourth MISFT is equal to or equal to at least the voltage that becomes the source voltage of the MISFT among the voltages of the first and second synchronization pulses. M It is connected to a fixed power source or a ground potential that is not different from the source voltage of the first and second synchronization pulses above the STFT threshold, and the gate terminal of the seventh MISFT is connected to the 14th A pulse shifted by one clock with a pulse corresponding to the pulse input to the gate terminal of the MISFT is input.

手段8.
本発明による表示装置は、たとえば、手段7の構成を前提に、第2から第11までのMISTFTと第1、第2の容量から構成される基本回路がn個多段に接続され、第i番目の基本回路の第2のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子には、第(i−1)番目基本回路の第10のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子に接続され、第i番目の基本回路の第8のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTに対応するMISTFTの第1の端子に、第(i+1)番目の基本回路の第6のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子に接続され、第n番目の基本回路の第8のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTに対応するMISTFTの第1の端子には、前記第14のMISTFTのゲート端子に入力されるパルスに相当するパルスで一クロック分シフトされるパルスが入力されることを特徴とするものである。
Means 8.
In the display device according to the present invention, for example, on the premise of the configuration of the means 7, n basic circuits composed of second to eleventh MISTFTs and first and second capacitors are connected in multiple stages, and the ith The gate terminal of the MISFT corresponding to the second MISTFT of the basic circuit is connected to the second terminal of the MISFT corresponding to the tenth MISTFT of the (i-1) th basic circuit, and the i-th basic The second terminal of the MISFT corresponding to the sixth MISFT of the (i + 1) th basic circuit is connected to the gate terminal of the MISFT corresponding to the eighth MISFT of the circuit and the first terminal of the MISFT corresponding to the seventh MISFT. Connected to the terminal, the gate terminal of the MISFT corresponding to the eighth MISFT of the nth basic circuit and the first of the MISFT corresponding to the seventh MISFT. The terminal is characterized in that the pulses are the first 14 one clock shift corresponding pulse to the pulse inputted to the gate terminal of MISTFT of is inputted.

手段9.
本発明による表示装置は、たとえば、基板面にシフトレジスタを含む駆動回路を備え、前記シフトレジスタは多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成され、第1のMISTFTの第1の端子は入力パルスに接続され、第1のMISTFTのゲート端子は、第1の同期パルスに接続されて、入力部を形成し、第1のMISTFTの第2の端子は、第4のMISTFTのゲート端子及び第3のMISTFTの第1の端子に接続し、かつ第1の容量の第1の端子に接続し、第1の容量の第2の端子は第4のMISTFTの第2の端子、第5のMISTFTの第1の端子及びゲート端子及び第6のMISTFTの第1の端子及びゲート端子と接続し、かつ第7のMISTFTのゲート端子と接続しており、第2のMISTFTのゲート端子は入力パルスに接続され、第2のMISTFTの第1の端子は、第11のMISTFTの第2の端子及び第3のMISTFTのゲート端子に接続し、第2のMISTFTの第2の端子および第7のMISTFTの第2の端子は、第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第3のMISTFTの第2の端子は、第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第4のMISTFTの第1の端子は、第2の同期パルスに接続し、第5のMISTFTの第2の端子は第9のMISTFTのゲート端子及び第8のMISTFTの第1の端子に接続し、第2の容量の第2の端子は、第9のMISTFTの第2の端子及び第10のMISTFTの第1の端子及びゲート端子及び第11のMISTFTの第1の端子及びゲート端子に接続とともに第2の容量素子の第1の端子に接続するとともに第1の出力端子を形成し、第7のMISTFTの第1の端子は第8のMISTFTのゲート端子に接続し、第8のMISTFTの第2の端子は、第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第9のMISTFTの第1の端子は第1の同期パルスに接続し、第8のMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTの第1の端子には前記4のMISTFTのゲート端子に入力されるパルスに相当するパルスで一クロック分シフトされるパルスが入力されることを特徴とするものである。
Means 9.
The display device according to the present invention includes, for example, a drive circuit including a shift register on a substrate surface, and the shift register includes a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer, and a first terminal of the first MISFT is an input pulse. And the gate terminal of the first MISFT is connected to the first synchronization pulse to form an input section, and the second terminal of the first MISFT is the gate terminal of the fourth MISFT and the third Connected to the first terminal of the first capacitor and to the first terminal of the first capacitor, the second terminal of the first capacitor is the second terminal of the fourth MISFT, the second terminal of the fifth MISFT The first terminal, the gate terminal, the first terminal and the gate terminal of the sixth MISFT, and the gate terminal of the second MISFT connected to the gate terminal of the seventh MISFT. The child is connected to the input pulse, the first terminal of the second MISFT is connected to the second terminal of the eleventh MISFT and the gate terminal of the third MISFT, the second terminal of the second MISFT, and The second terminal of the seventh MISFT is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT among the voltages of the first and second synchronization pulses, or at least equal to or higher than the threshold voltage of the fourth MISFT. It is connected to a fixed power supply or ground potential that is not different from the voltage that becomes the source voltage of the second synchronization pulse, and the second terminal of the third MISFT is the voltage of the first and second synchronization pulses. It is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT, or at least different from the voltage that becomes the source voltage of the first and second synchronization pulses at least the threshold voltage of the fourth MISFT. The first terminal of the fourth MISFT is connected to the second synchronization pulse, the second terminal of the fifth MISFT is connected to the gate terminal of the ninth MISFT and The second terminal of the second capacitor is connected to the first terminal of the eighth MISFT, the second terminal of the ninth MISFT, the first terminal and the gate terminal of the tenth MISFT, and the eleventh terminal. The first terminal and the gate terminal of the MISFT and the first terminal of the second capacitor element are connected to the first terminal and the gate terminal of the MISFT, and the first output terminal is formed. The second terminal of the eighth MISTFT is connected to the gate terminal, and the second terminal of the eighth MISTFT is equal to or at least equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISTFT among the voltages of the first and second synchronization pulses. Is connected to a fixed power source or a ground potential that is not different from the voltage that becomes the source voltage of the first and second synchronization pulses above the threshold voltage, and the first terminal of the ninth MISTFT is connected to the first terminal A pulse that is connected to the synchronization pulse and shifted by one clock with a pulse corresponding to the pulse input to the gate terminal of the fourth MISFT is applied to the gate terminal of the eighth MISFT and the first terminal of the seventh MISFT. It is characterized by being input.

手段10.
本発明による表示装置は、たとえば、手段9の構成を前提として、第2、3、4、5、7、8、9、10の各MISTFTと、第1および第2の容量から構成される基本回路がn個多段に接続され、第i番目の基本回路の第10のMISTFに対応するMISTFTの第2の端子が第(i−1)番目の基本回路の第4のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、第i番目の基本回路の第7のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子、第3のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子が第(i+1)番目の基本回路の第1の容量に対応する容量に第6のMISTFTを介して接続され、該第6のMISTFTの第2の端子はMISTFTの第2の端子、第3のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、第1の端子及びゲート端子は前記容量に接続されていることを特徴とするものである。
Means 10.
The display device according to the present invention, for example, is based on the configuration of the means 9 and is basically composed of second, third, fourth, fifth, seventh, eighth, ninth and tenth MISTFTs and first and second capacitors. N circuits are connected in multiple stages, and the second terminal of the MISFT corresponding to the tenth MISTF of the i-th basic circuit is the second terminal of the MISFT corresponding to the fourth MISFT of the (i−1) -th basic circuit. The second terminal of the MISTFT corresponding to the seventh MISTFT of the i-th basic circuit connected to the gate terminal and the gate terminal of the MISTFT corresponding to the third MISTFT are the first of the (i + 1) th basic circuit. The second terminal of the sixth MISTFT is connected to the capacitor corresponding to the second capacitor, the second terminal of the MISFT, and the MISFT gate corresponding to the third MISFT. Is connected to the bets terminal, the first terminal and the gate terminal is characterized in that it is connected to the capacitor.

手段11.
本発明による表示装置は、たとえば、第2番目からの各基本回路において、第1の端子及びゲート端子が入力パルスに接続された第1のMISTFTの第2の端子が第11のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子に接続され、第3番目からの各基本回路において、第1の端子及びゲート端子が入力パルスに接続された第2のMISTFTの第2の端子が、該基本回路の前段の基本回路の第8のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、かつ、第1の容量に対応する容量の第2の端子にMISTFTを介して接続され、該MISTFTの第2の端子は第2のMISTFTの第2の端子に接続され、第1の端子及びゲート端子は前記容量に接続されていることを特徴とするものである。
Means 11.
In the display device according to the present invention, for example, in each of the second basic circuits, the second terminal of the first MISTFT in which the first terminal and the gate terminal are connected to the input pulse corresponds to the eleventh MISTFT. The second terminal of the second MISTFT whose first terminal and gate terminal are connected to the input pulse in each of the third basic circuits connected to the second terminal of the MISTFT Connected to the gate terminal of the MISFT corresponding to the eighth MISFT of the basic circuit, and to the second terminal of the capacitor corresponding to the first capacitor via the MISFT, and the second terminal of the MISFT is The second MISFT is connected to the second terminal, and the first terminal and the gate terminal are connected to the capacitor.

手段12.
本発明による表示装置は、たとえば、基板面にシフトレジスタを含む駆動回路を備え、前記シフトレジスタは多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成され、第1のMISTFTの第1の端子及びゲート端子は入力パルスに接続されて、入力部を形成し、第1のMISTFTの第2の端子は、第4のMISTFTのゲート端子及び第3のMISTFTの第1の端子に接続し、かつ第1の容量の第1の端子に接続し、第1の容量の第2の端子は第4のMISTFTの第2の端子、第5のMISTFTの第1の端子及びゲート端子及び第6のMISTFTの第1の端子及びゲート端子と接続し、かつ第7のMISTFTのゲート端子と接続しており、第2のMISTFTのゲート端子は入力パルスに接続され、第2のMISTFTの第1の端子は、第11のMISTFTの第2の端子及び第3のMISTFTのゲート端子に接続し、第2のMISTFTの第2の端子および第7のMISTFTの第2の端子は、第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第3のMISTFTの第2の端子は、第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第4のMISTFTの第1の端子は、第2の同期パルスに接続し、第5のMISTFTの第2の端子は第9のMISTFTのゲート端子及び第8のMISTFTの第1の端子に接続し、第2の容量の第2の端子は、第9のMISTFTの第2の端子及び第10のMISTFTの第1の端子及びゲート端子及び第11のMISTFTの第1の端子及びゲート端子に接続とともに第2の容量素子の第1の端子に接続するとともに第1の出力端子を形成し、第7のMISTFTの第1の端子は第8のMISTFTのゲート端子に接続し、第8のMISTFTの第2の端子は、第1、第2の同期パルスの電圧のうちMISTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくとも第4のMISTFTのしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源または接地電位に接続しており、第9のMISTFTの第1の端子は第1の同期パルスに接続し、第8のMISTFTのゲート端子及び第7のMISTFTの第1の端子には前記4のMISTFTのゲート端子に入力されるパルスに相当するパルスで一クロック分シフトされるパルスが入力されることを特徴とするものである。
Means 12.
The display device according to the present invention includes, for example, a drive circuit including a shift register on a substrate surface, and the shift register includes a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer, and the first terminal and the gate terminal of the first MISFT. Is connected to the input pulse to form an input portion, the second terminal of the first MISTFT is connected to the gate terminal of the fourth MISTFT and the first terminal of the third MISTFT, and the first The second terminal of the first capacitor is connected to the second terminal of the fourth MISTFT, the first terminal and the gate terminal of the fifth MISTFT, and the first terminal of the sixth MISTFT. And the gate terminal of the seventh MISFT, the gate terminal of the second MISFT is connected to the input pulse, and the second MISFT is connected to the gate terminal of the seventh MISFT. The first terminal is connected to the second terminal of the eleventh MISTFT and the gate terminal of the third MISTFT. The second terminal of the second MISTFT and the second terminal of the seventh MISTFT are the first, The voltage of the second sync pulse is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT, or is different from the voltage that becomes the source voltage of the first and second sync pulses at least above the threshold voltage of the fourth MISFT. The second terminal of the third MISTFT is equal to or at least equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT among the voltages of the first and second synchronization pulses. 4 is connected to a fixed power source or a ground potential that is not different from a voltage that becomes a source voltage of the first and second synchronization pulses above the threshold voltage of the fourth MISFT. The first terminal of the MISFT is connected to the second synchronization pulse, the second terminal of the fifth MISFT is connected to the gate terminal of the ninth MISFT and the first terminal of the eighth MISFT, and the second The second terminal of the capacitor is connected to the second terminal of the ninth MISFT, the first terminal and gate terminal of the tenth MISFT, the first terminal and gate terminal of the eleventh MISFT, and the second terminal. The first terminal of the seventh MISTFT is connected to the gate terminal of the eighth MISTFT, and the second terminal of the eighth MISTFT is connected to the first terminal of the capacitor and forms the first output terminal. Is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MISFT among the voltages of the first and second synchronization pulses, or is at least equal to or higher than the threshold voltage of the fourth MISFT. The first terminal of the ninth MISTFT is connected to the first synchronization pulse, the gate terminal of the eighth MISTFT and the seventh A pulse shifted by one clock with a pulse corresponding to a pulse input to the gate terminal of the fourth MISFT is input to the first terminal of the MISFT.

手段13.
本発明による表示装置は、たとえば、手段12の構成を前提として、第2、3、4、5、7、8、9、10の各MISTFTと、第1および第2の容量から構成される基本回路がn個多段に接続され、第i番目の基本回路の第10のMISTFに対応するMISTFTの第2の端子が第(i−1)番目の基本回路の第4のMISTFに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、第i番目の基本回路の第7のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子、第3のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子が第(i+1)番目の基本回路の第1の容量に対応する容量に第6のMISTFTを介して接続され、該第6のMISTFTの第2の端子はMISTFTの第2の端子、第3のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、第1の端子及びゲート端子は前記容量に接続されていることを特徴とするものである。
Means 13.
The display device according to the present invention, for example, on the premise of the configuration of the means 12, is basically composed of second, third, fourth, fifth, seventh, eighth, ninth and tenth MISTFTs and first and second capacitors. N circuits are connected in multiple stages, and the second terminal of the MISFT corresponding to the tenth MISTF of the ith basic circuit is the second terminal of the MISFT corresponding to the fourth MISTF of the (i−1) th basic circuit. The second terminal of the MISTFT corresponding to the seventh MISTFT of the i-th basic circuit connected to the gate terminal and the gate terminal of the MISTFT corresponding to the third MISTFT are the first of the (i + 1) th basic circuit. The second terminal of the sixth MISTFT is connected to the capacitor corresponding to the second capacitor, the second terminal of the MISFT, and the MISFT gate corresponding to the third MISFT. Is connected to the bets terminal, the first terminal and the gate terminal is characterized in that it is connected to the capacitor.

手段14.
本発明による表示装置は、手段13の構成を前提として、第2番目からの各基本回路において、第1の端子及びゲート端子が入力パルスに接続された第1のMISTFTの第2の端子が第11のMISTFTに対応するMISTFTの第2の端子に接続され、第3番目からの各基本回路において、第1の端子及びゲート端子が入力パルスに接続された第2のMISTFTの第2の端子が、該基本回路の前段の基本回路の第8のMISTFTに対応するMISTFTのゲート端子に接続され、かつ、第1の容量に対応する容量の第2の端子にMISTFTを介して接続され、該MISTFTの第2の端子は第2のMISTFTの第2の端子に接続され、第1の端子及びゲート端子は前記容量に接続されていることを特徴とするものである。
Means 14.
In the display device according to the present invention, on the premise of the configuration of the means 13, in each of the second basic circuits, the second terminal of the first MISTFT in which the first terminal and the gate terminal are connected to the input pulse is the second. The second terminal of the second MISFT whose first terminal and gate terminal are connected to the input pulse in each of the third basic circuits is connected to the second terminal of the MISFT corresponding to the eleven MISFT. , Connected to the gate terminal of the MISFT corresponding to the eighth MISFT of the basic circuit in the previous stage of the basic circuit, and connected to the second terminal of the capacitor corresponding to the first capacitor via the MISFT. The second terminal is connected to the second terminal of the second MISTFT, and the first terminal and the gate terminal are connected to the capacitor.

手段15.
本発明による表示装置は、たとえば、基板面に多段のインバータからなるレシオレス形ダイナミック・シフトレジスタを含む表示駆動回路を備え、前記レシオレス形ダイナミック・シフトレジスタは、多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成されているとともに、各段のそれぞれの出力のグランドレベルと接続されるMISTFTにそれとは別個のMISTFTを並列接続させ、前記別個のMISTFTは、そのMISTFTで構成される段の前段におけるインバータの入力信号においてHighレベルの信号が送出されている以外の期間に各出力をグランドレベルに落とすように構成されていることを特徴とするものである。
Means 15.
The display device according to the present invention includes, for example, a display driving circuit including a ratioless type dynamic shift register including a multistage inverter on a substrate surface, and the ratioless type dynamic shift register is formed from a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer. A separate MISTFT is connected in parallel to the MISTFT connected to the ground level of each output of each stage, and the separate MISTFT is the input of the inverter in the previous stage of the stage constituted by the MISFT. In the signal, each output is dropped to the ground level during a period other than when a high level signal is transmitted.

手段16.
本発明による表示装置は、手段15の構成を前提として、前記別個のMISTFは次段の出力を入力とすることにより作動させ、そのMISTFTで構成される段の前段におけるインバータの入力信号においてHighレベルの信号が送出されている以外の期間に各出力をグランドレベルに落とすように構成されていることを特徴とするものである。
Means 16.
In the display device according to the present invention, on the premise of the configuration of the means 15, the separate MISTF is operated by using the output of the next stage as an input, and the input signal of the inverter at the front stage of the stage constituted by the MISFT is at a high level. Each output is dropped to the ground level during a period other than when the above signal is transmitted.

手段17.
本発明による表示装置は、たとえば、手段15の構成を前提として、前記別個のMISTFはクロックパルスを入力とすることにより作動させ、そのMISTFTで構成される段の前段におけるインバータの入力信号においてHighレベルの信号が送出されている以外の期間に各出力をグランドレベルに落とすように構成されていることを特徴とするものである。
Means 17.
In the display device according to the present invention, for example, on the premise of the configuration of the means 15, the separate MISTF is operated by inputting a clock pulse, and a high level is applied to the input signal of the inverter in the preceding stage constituted by the MISFT. Each output is dropped to the ground level during a period other than when the above signal is transmitted.

手段18.
本発明による表示装置は、たとえば、基板面に多段のインバータからなるレシオレス形ダイナミック・シフトレジスタを含む表示駆動回路を備え、前記レシオレス形ダイナミック・シフトレジスタは、多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成されているとともに、各段のそれぞれの出力のグランドレベルと接続されるMISTFTとして互いに並列接続された第1のMISTFTおよび第2のMISTFTを備え、前記第1のMISTFTおよび第2のMISTFTのうちの一方は、そのMISTFTで構成される段の前段におけるインバータの入力信号においてHighレベルの信号が送出されている以外の期間に各出力をグランドレベルに落とすように構成されているとともに、前記第1のMISTFTおよび第2のMISTFTのうちの前記一方のゲートとダイオードを介してクロックが供給されるノードとの間にて該ゲートにチャージされた電荷が前記ノードの電位がグランドレベルより下がることにより前記ダイオードの逆電流として前記ノードに漏れるのを回避する第3のMISTFTからなるダイオードが備えられていることを特徴とするものである。
Means 18.
The display device according to the present invention includes, for example, a display driving circuit including a ratioless type dynamic shift register including a multistage inverter on a substrate surface, and the ratioless type dynamic shift register is formed from a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer. A first MISTFT and a second MISTFT connected in parallel to each other as MISTFTs connected to the ground level of each output of each stage, of the first MISTFT and the second MISTFT Is configured to drop each output to the ground level during a period other than when a high level signal is transmitted in the input signal of the inverter in the previous stage of the stage constituted by the MISFT. MISTFT and second MI The charge charged to the gate between the one gate of the TFT and the node to which the clock is supplied via the diode causes the potential of the node to fall below the ground level, thereby causing the reverse current of the diode as the reverse current. A diode including a third MISTFT that prevents leakage to the node is provided.

手段19.
本発明による表示装置は、たとえば、基板面に多段のインバータからなるレシオレス形ダイナミック・シフトレジスタを含む表示駆動回路を備え、前記レシオレス形ダイナミック・シフトレジスタは、多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成されているとともに、各段の出力のそれぞれが第1クロックおよび第2クロックのオン状態でグランドレベルに落とす第1のMISTFTおよび第2のMISTFTと、該出力がHighレベルのときオン状態となって前記第1のMISTFTおよび第2のMISTFTをオフさせる第3のMISTFTおよび第4のMISTFTを備えていることを特徴とするものである。
Means 19.
The display device according to the present invention includes, for example, a display driving circuit including a ratioless type dynamic shift register including a multistage inverter on a substrate surface, and the ratioless type dynamic shift register is formed from a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer. The first MISTFT and the second MISTFT, which are each configured to drop to the ground level when the first clock and the second clock are turned on, and turned on when the output is at the high level. And a third MISTFT and a fourth MISTFT for turning off the first MISTFT and the second MISTFT.

手段20.
本発明による表示装置は、たとえば、手段19の構成を前提として、第1のMISTFTのゲートに第1クロックが第1容量素子を介して入力され、第2のMISTFTのゲートに第2クロックが第2容量素子を介して入力され、前記第1のMISTFTのゲートとグランドレベルとの間に、および前記第2のMISTFTのゲートとグランドレベルとの間に、それぞれダイオード接続された第5のMISTFTおよび第6のMISTFTを備えていることを特徴とするものである。
Means 20.
In the display device according to the present invention, for example, on the premise of the configuration of the means 19, the first clock is input to the gate of the first MISFT via the first capacitive element, and the second clock is input to the gate of the second MISFT. A fifth MISTFT that is input via a two-capacitance element and is diode-connected between the gate of the first MISTFT and the ground level, and between the gate of the second MISTFT and the ground level, and A sixth MISTFT is provided.

手段21.
本発明による表示装置は、たとえば、基板面に多段のインバータからなるレシオレス形ダイナミック・シフトレジスタを含む表示駆動回路を備え、前記レシオレス形ダイナミック・シフトレジスタは、多結晶シリコンを半導体層とするMISTFTから構成されているとともに、各段のそれぞれの出力のグランドレベルと接続される第1のMISTFTと、前段の出力で動作し一端がグランドレベルに他端が第1容量素子を介してクロックに接続され、前記他端が第1のMISTFTのゲートに接続される第2のMISTFTとを備え、前記第2のMISTFTの他端とグランドレベルの間に第2容量素子を備えることを特徴とするものである。
Means 21.
The display device according to the present invention includes, for example, a display driving circuit including a ratioless type dynamic shift register including a multistage inverter on a substrate surface, and the ratioless type dynamic shift register is formed from a MISFT having polycrystalline silicon as a semiconductor layer. The first MISTFT connected to the ground level of each output of each stage and the output of the previous stage, one end being connected to the ground level and the other end being connected to the clock via the first capacitive element. The second end is connected to the gate of the first MISTFT, and a second capacitive element is provided between the other end of the second MISTFT and the ground level. is there.

手段22.
本発明による表示装置は、たとえば、手段21の構成を前提として、第2容量素子は第2のMISTFTのゲート−ドレイン間容量よりも大きな容量を有することを特徴とするものである。
Means 22.
The display device according to the present invention is characterized in that, for example, on the premise of the configuration of the means 21, the second capacitor element has a capacitance larger than the gate-drain capacitance of the second MISTFT.

本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである。
本発明の表示装置によれば、安定に動作し、また設計自由度を拡大できるダイナミックレシオレスシフトレジスタを備えたものを得ることができる。
The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
According to the display device of the present invention, it is possible to obtain a display device including a dynamic ratioless shift register that operates stably and can increase design flexibility.

以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
[実施例1]
《全体構成》
図2は本発明による液晶表示装置の全体を示す概略構成図である。同図は実際の幾何学的配置に対応させて描いた平面図となっている。
同図において、液晶を介して互いに対向配置される一対の透明基板のうち一方のたとえばガラス基板からなる透明基板SUB1がある。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In all the drawings for explaining the embodiments, parts having the same functions are given the same reference numerals, and repeated explanation thereof is omitted.
[Example 1]
"overall structure"
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the entire liquid crystal display device according to the present invention. This figure is a plan view corresponding to the actual geometric arrangement.
In the figure, there is a transparent substrate SUB1 made of, for example, a glass substrate among a pair of transparent substrates disposed to face each other via a liquid crystal.

そして、この透明基板SUB1の液晶側の面の周辺を除く中央部(表示部AR)には、図中x方向に延在しy方向に並設されるゲート信号線GLおよびy方向に延在しx方向に並設されるドレイン信号線DLが形成されている。   In the central portion (display portion AR) excluding the periphery of the liquid crystal side surface of the transparent substrate SUB1, gate signal lines GL extending in the x direction and juxtaposed in the y direction are extended in the y direction. Then, drain signal lines DL arranged in parallel in the x direction are formed.

隣接されるゲート信号線GLおよび隣接されるドレイン信号線DLとで囲まれる各領域は画素領域を構成し、この画素領域には一方の側のゲート信号線GLからの走査信号の供給によって作動する薄膜トランジスタTFTと、この薄膜トランジスタTFTを介して一方の側のドレイン信号線DLからの映像信号が供給される画素電極PXとを備えている。   Each region surrounded by the adjacent gate signal line GL and the adjacent drain signal line DL constitutes a pixel region, and this pixel region is operated by supplying a scanning signal from the gate signal line GL on one side. A thin film transistor TFT and a pixel electrode PX to which a video signal is supplied from the drain signal line DL on one side through the thin film transistor TFT are provided.

すなわち、各ゲート信号線GLにはたとえば図中上から下に順次走査信号(電圧)が供給され、この走査信号によって薄膜トラジスタTFTがONするようになっている。そして、このタイミングにあわせて各ドレイン信号線DLから映像信号(電圧)が供給され、ON状態の前記薄膜トランジスタTFTを介して画素電極PXに印加されるようになっている。   That is, for example, a scanning signal (voltage) is sequentially supplied to each gate signal line GL from the top to the bottom in the figure, and the thin film transistor TFT is turned on by this scanning signal. In accordance with this timing, a video signal (voltage) is supplied from each drain signal line DL and applied to the pixel electrode PX via the thin film transistor TFT in the ON state.

なお、これら各画素電極PXはたとえば透明基板SUB1に対向配置される他の透明基板の液晶側の面において各画素領域に共通に形成された対向電極(図示せず)との間に電界を発生せしめ、この電界が液晶の光透過率を制御するようになっている。   Each of the pixel electrodes PX generates an electric field between, for example, a counter electrode (not shown) formed in common in each pixel region on the liquid crystal side surface of another transparent substrate disposed opposite to the transparent substrate SUB1. This electric field controls the light transmittance of the liquid crystal.

各ゲート信号線GLはその一端側(図中左側)において画素駆動用シフトレジスタ1に接続され、この画素駆動用シフトレジスタ1によって前記各ゲート信号線GLに順次走査信号を供給されるようになっている。   Each gate signal line GL is connected to the pixel driving shift register 1 on one end side (left side in the figure), and the pixel driving shift register 1 sequentially supplies scanning signals to the gate signal lines GL. ing.

各ドレイン信号線DLはその一端側(図中上側)において、その一端側から順次に、D−A変換回路2、メモリ3、入力データ取り込み回路(INPut)4、H側アドレスデコーダ5が接続され、前記メモリにはV側アドレスデコーダ6、メモリ駆動用シフトレジスタ7が接続されている。   Each drain signal line DL is connected to a D-A conversion circuit 2, a memory 3, an input data capturing circuit (INPut) 4, and an H-side address decoder 5 in this order from one end side (upper side in the figure). The memory is connected to a V-side address decoder 6 and a memory driving shift register 7.

そして、このように構成された液晶表示装置には、スタートパルスクロック信号(CLK)、画素データ(Data)、画素アドレス(H-add)、画素アドレス(V-add)を含む情報が入力されるようになっている。   The liquid crystal display device thus configured receives information including a start pulse clock signal (CLK), pixel data (Data), a pixel address (H-add), and a pixel address (V-add). It is like that.

スタートパルスクロック信号はメモリ駆動用シフトレジスタ7および画素駆動用シフトレジスタ1に、画素アドレス(H)はH側アドレスデコーダ5に、画素データは入力データ取込み回路4に、画素アドレス(V)はV側アドレスデコーダ6に、それぞれ入力されるようになっている。   The start pulse clock signal is sent to the memory drive shift register 7 and the pixel drive shift register 1, the pixel address (H) is sent to the H-side address decoder 5, the pixel data is sent to the input data fetch circuit 4, and the pixel address (V) is sent to V. Each is input to the side address decoder 6.

ここで、透明基板SUB1の表面に形成される表示部ARおよびその周辺の各回路は、フォトリソグラフィ技術による選択エッチングで所定のパターンに形成された導電層、半導体層、および絶縁層等が積層されて薄膜トランジスタ(MISTFT)、画素電極、信号線等が形成されている。
そして、この場合の半導体層はたとえば多結晶のシリコン(p−SI)で形成されている。
Here, the display area AR formed on the surface of the transparent substrate SUB1 and its peripheral circuits are laminated with a conductive layer, a semiconductor layer, an insulating layer, and the like formed in a predetermined pattern by selective etching using a photolithography technique. Thin film transistors (MISTFT), pixel electrodes, signal lines and the like are formed.
In this case, the semiconductor layer is made of, for example, polycrystalline silicon (p-SI).

《画素駆動用シフトレジスタ》
図1(a)は、前記画素駆動用シフトレジスタの一実施例を示す回路図である。また、図1(b)は図1(a)に示す回路のタイミングチャートを示し、入力パルスφIN、同期パルスφ1、φ2に対してノードN1ないしN6におけるそれぞれの出力VN1ないしVN6を示している。
《Pixel drive shift register》
FIG. 1A is a circuit diagram showing an embodiment of the pixel driving shift register. FIG. 1B shows a timing chart of the circuit shown in FIG. 1A and shows respective outputs VN1 to VN6 at nodes N1 to N6 with respect to the input pulse φIN and the synchronization pulses φ1 and φ2.

図1において、まず、n型のMOSトランジスタNMT1があり、ソース・ドレイン端子のうち一方の端子は入力パルスφINの入力端φINに接続され、ゲート端子は同期パルスφ1の入力端に接続されている。このMOSトランジスタNMT1は入力部を構成している。   In FIG. 1, there is an n-type MOS transistor NMT1. One of the source / drain terminals is connected to the input terminal φIN of the input pulse φIN, and the gate terminal is connected to the input terminal of the synchronization pulse φ1. . The MOS transistor NMT1 forms an input unit.

MOSトランジスタNMT1の他方の端子は、n型のMOSトランジスタNMT2のゲート端子、n型のMOSトランジスタNMT4の一方の端子、さらに容量CS1の一方の端子に接続されている。   The other terminal of the MOS transistor NMT1 is connected to the gate terminal of the n-type MOS transistor NMT2, one terminal of the n-type MOS transistor NMT4, and one terminal of the capacitor CS1.

容量CS1の他方の端子は固定電圧VBIASに接続され、MOSトランジスタNMT2の一方の端子は前記同期パルスφ1と逆相をなす同期パルスφ2の入力端子に接続されている。   The other terminal of the capacitor CS1 is connected to the fixed voltage VBIAS, and one terminal of the MOS transistor NMT2 is connected to the input terminal of the synchronization pulse φ2 having a phase opposite to that of the synchronization pulse φ1.

MOSトランジスタNMT2の他方の端子はn型のMOSトランジスタNMT3の一方の端子およびゲート端子に接続され、かつ、容量Cb1の一方の端子に接続されている。   The other terminal of the MOS transistor NMT2 is connected to one terminal and a gate terminal of the n-type MOS transistor NMT3, and is connected to one terminal of the capacitor Cb1.

容量Cb1の他方の端子は、MOSトランジスタNMT1の他方の端子、MOSトランジスタNMT2のゲート端子、n型のMOSトランジスタNMT4の一方の端子に接続されている。   The other terminal of the capacitor Cb1 is connected to the other terminal of the MOS transistor NMT1, the gate terminal of the MOS transistor NMT2, and one terminal of the n-type MOS transistor NMT4.

MOSトランジスタNMT3の他方の端子は、n型のMOSトランジスタNMT5のゲート端子、MOSトランジスタNMT7の一方の端子に接続され、かつ、容量CS2の一方の端子に接続されているとともに、第1の出力端子を構成するようになっている。   The other terminal of the MOS transistor NMT3 is connected to the gate terminal of the n-type MOS transistor NMT5, one terminal of the MOS transistor NMT7, and is connected to one terminal of the capacitor CS2, and the first output terminal. Is configured.

容量CS2の他方の端子は固定電圧VBIASに接続され、MOSトランジスタNMT5の他方の端子は同期パルスφ1の入力端子に接続されている。   The other terminal of the capacitor CS2 is connected to the fixed voltage VBIAS, and the other terminal of the MOS transistor NMT5 is connected to the input terminal of the synchronization pulse φ1.

MOSトランジスタNMT5の他の端子は、n型のMOSトランジスタNMT6の一方の端子およびゲート端子、MOSトランジスタNMT4のゲート端子に接続され、かつ容量Cb2の一方の端子と接続されているとともに、第2の出力端子を構成するようになっている。   The other terminal of the MOS transistor NMT5 is connected to one terminal and gate terminal of the n-type MOS transistor NMT6, to the gate terminal of the MOS transistor NMT4, and to one terminal of the capacitor Cb2, and the second terminal An output terminal is configured.

容量Cb2の他の端子は、MOSトランジスタNMT3の他の入力端子、MOSトランジスタNMT5のゲート端子、n型のMOSトランジスタNMT7の一方の端子に接続されている。   The other terminal of the capacitor Cb2 is connected to the other input terminal of the MOS transistor NMT3, the gate terminal of the MOS transistor NMT5, and one terminal of the n-type MOS transistor NMT7.

MOSトランジスタNMT4の他方の端子およびMOSトランジスタNMT7の他方の端子は、前記同期パルスφ1、φ2の電圧のうちMOSトランジスタのソース電圧となる電圧(n型なら最低電圧、p型なら最高電圧)に等しいか、または少なくともMOSトランジスタNMT4のしきい値電圧以上に前記同期パルスφ1、φ2のソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源あるいは接地電位(VSS/VDD)に接続されている。   The other terminal of the MOS transistor NMT4 and the other terminal of the MOS transistor NMT7 are equal to the voltage that is the source voltage of the MOS transistor among the voltages of the synchronization pulses φ1 and φ2 (the lowest voltage for n-type and the highest voltage for p-type). Alternatively, it is connected to a fixed power supply or a ground potential (VSS / VDD) that is at least equal to or higher than the threshold voltage of the MOS transistor NMT4 and does not differ from the voltage that becomes the source voltage of the synchronization pulses φ1, φ2.

このような接続は次の段およびさらに次の段においても同様になっており、MOSトランジスタNMT7のゲート端子は次段のMOSトランジスタNMT4に対応するMOSトランジスタNMT9のゲート端子に接続されている。   Such connection is the same in the next stage and further in the next stage, and the gate terminal of the MOS transistor NMT7 is connected to the gate terminal of the MOS transistor NMT9 corresponding to the MOS transistor NMT4 in the next stage.

このような構成からなるシフトレジスタは、図9(a)に示す構成において、フローティングとなりうるノードN1、N3、N5、...に負荷容量CS1、CS2、CS3、...の一端側を接続させ、これら各CS1、CS2、CS3、...の他端側を固定電位VBIASに接続させたものとなっている。   In the shift register having such a configuration, in the configuration shown in FIG. 9A, one ends of the load capacitors CS1, CS2, CS3,... Are connected to the nodes N1, N3, N5,. .., And the other end of each of CS1, CS2, CS3,... Is connected to a fixed potential VBIAS.

このようにすることによって、前記式(9)は次式(11)に書き換えられるようになる。   By doing in this way, said Formula (9) can be rewritten to following Formula (11).

[数11]
VN3=Vφ×(Cdg5/(Cdg5+CN3+CS2))
・・・・・ (11)
ここで、CS2は設計パラメータであるとともに、直接的な平行平板容量で形成することができる。
[Equation 11]
VN3 = Vφ × (Cdg5 / (Cdg5 + CN3 + CS2))
(11)
Here, CS2 is a design parameter and can be formed with a direct parallel plate capacitance.

CN3を無視しても、VN3は次式(12)となる。
[数12]
VN3=Vφ×(Cdg5/(Cdg5+CS2))<Vth
・・・・・ (12)
Even if CN3 is ignored, VN3 is expressed by the following equation (12).
[Equation 12]
VN3 = Vφ × (Cdg5 / (Cdg5 + CS2)) <Vth
(12)

かつ前記式(4)にCS(ノードN3からCS2)を加えた次式(13)を満たすようになる。
[数13]
VN1=(Vφ−Vth)+Vφ(Cb/(Cb+CS+cs))>Vφ+Vth
・・・・・ (13)
Further, the following equation (13) obtained by adding CS (nodes N3 to CS2) to the equation (4) is satisfied.
[Equation 13]
VN1 = (Vφ−Vth) + Vφ (Cb / (Cb + CS + cs))> Vφ + Vth
(13)

このことから、前述した不安定要素を回避した状態での設計裕度が広がり、多結晶シリコンからなる薄膜トランジスタからなる安定したダイナミックレシオレスシフトレジスタを実現できるようになる。   As a result, the design margin in a state where the above-described unstable elements are avoided is widened, and a stable dynamic ratioless shift register made of a thin film transistor made of polycrystalline silicon can be realized.

図3(a)は、上述したダイナミックレシオレスシフトレジスタを透明基板SUB1に形成した場合の、その回路を構成する薄膜トランジスタの断面図を示している。   FIG. 3A shows a cross-sectional view of the thin film transistor constituting the circuit when the above-described dynamic ratioless shift register is formed on the transparent substrate SUB1.

この薄膜トランジスタにおいて負荷容量CSを形成する場合の候補として、ポリシリコン薄膜と配線材料の容量Csl、ゲート形成用薄膜と配線材料の容量Cgl、ゲート形成用薄膜と画素電極の容量Ctg、配線材料と画素電極の容量Ctl等が具体的に挙げられる。   As candidates for forming the load capacitor CS in this thin film transistor, the polysilicon thin film and the wiring material capacity Csl, the gate forming thin film and the wiring material capacity Cgl, the gate forming thin film and the pixel electrode capacity Ctg, the wiring material and the pixel Specific examples include electrode capacitance Ctl.

上述した構成で、追加する負荷容量CSは回路の安定動作という観点からは重要な役割を果たし、かつ設計自由度を向上させることができる。しかしながら、ブートストラップ効率という観点からはまったくの寄生容量となる。   With the above-described configuration, the added load capacitance CS plays an important role from the viewpoint of stable operation of the circuit, and can improve the degree of design freedom. However, from the standpoint of bootstrap efficiency, this is a completely parasitic capacitance.

このため、負荷容量CSとして図3(b)、(c)に示すようにMOS容量を形成し、これによりブートストラップ効率を向上させることができる。   Therefore, a MOS capacitor is formed as the load capacitor CS as shown in FIGS. 3B and 3C, thereby improving bootstrap efficiency.

すなわち、次式(14)に示すようにVBIASを設定し、
[数14]
Vth<VBIAS<Vφ−2Vth ・・・・・ (14)
That is, VBIAS is set as shown in the following formula (14),
[Formula 14]
Vth <VBIAS <Vφ-2Vth (14)

ソース側をフローティングノード、ゲート側をバイアスに接続すると、フローティングノード(N3、N5、......)が'L'の際は、反転層ができ容量が大きく(CSL)、'H'の際には反転層がなくなり容量が小さく(CSS)なる可変容量とすることができる。   When the source side is connected to the floating node and the gate side is connected to the bias, when the floating node (N3, N5,...) Is 'L', an inversion layer is formed and the capacitance is large (CSL), 'H' In this case, a variable capacitor can be obtained in which the inversion layer is eliminated and the capacitance is small (CSS).

すなわち、次式(15)に示す関係を有するようになる。
[数15]
CSL≫CSS ・・・・・ (15)
これにより、上式(12)、(13)はそれぞれ、次式(16)、(17)
[数16]
VN3=Vφ×(Cdg5/(Cdg5+CSL))<Vth ・・・・・(16)
That is, the relationship shown in the following formula (15) is obtained.
[Equation 15]
CSL >> CSS (15)
As a result, the above equations (12) and (13) are changed to the following equations (16) and (17), respectively.
[Equation 16]
VN3 = Vφ × (Cdg5 / (Cdg5 + CSL)) <Vth (16)

[数17]
VN1=(Vφ−Vth)+(Cb/(Cb+CSS+Cs))>Vφ+Vth
・・・・・(17)
となり、安定化容量は重く、ブートストラップ効率は向上する。
[Equation 17]
VN1 = (Vφ−Vth) + (Cb / (Cb + CSS + Cs))> Vφ + Vth
(17)
Thus, the stabilization capacity is heavy and the bootstrap efficiency is improved.

図4は、図1の回路をさらに改良した他の実施例を示している。
同図は、入力部の次段の第1の出力を形成する回路とさらに次段の第2の出力を形成する回路を基本回路とした場合、第1段の基本回路に、NMTr2が組み込まれ、次の各段の基本回路にNMTr1およびNMTr2が組み込まれて形成されている。
FIG. 4 shows another embodiment in which the circuit of FIG. 1 is further improved.
In the figure, when the circuit that forms the first output of the next stage of the input unit and the circuit that forms the second output of the next stage are used as basic circuits, NMTr2 is incorporated in the basic circuit of the first stage. NMTr1 and NMTr2 are formed in the basic circuit of each subsequent stage.

各基本回路において、NMTr2は、その第1の端子が第7のMOSトランジスタNMT4あるいはそれに対応するMOSトランジスタの第1の端子に接続され、そのゲート端子は入力パルスφINの入力端子に接続されている。   In each basic circuit, the NMTr2 has a first terminal connected to the seventh MOS transistor NMT4 or the first terminal of the corresponding MOS transistor, and a gate terminal connected to the input terminal of the input pulse φIN. .

そして、NMTr2の第2の端子は、各同期パルスφ1、φ2の電圧のうちMOSトランジスタのソース電圧となる電圧(n型なら最低電圧、p型なら最高電圧)に等しいか、または少なくとも第4のMOSトランジスタのしきい値電圧以上に各同期パルスφ1、φ2のソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源あるいは接地電位に接続されている。   The second terminal of the NMTr2 is equal to the voltage that is the source voltage of the MOS transistor (the lowest voltage for the n-type and the highest voltage for the p-type) among the voltages of the synchronization pulses φ1 and φ2, or at least the fourth It is connected to a fixed power supply or ground potential that is not different from the voltage that becomes the source voltage of each synchronization pulse φ1, φ2 above the threshold voltage of the MOS transistor.

また、NMTr1は、その第1の端子が第4のMOSトランジスタNMT4あるいはそれに対応するMOSトランジスタの第1の端子に接続され、そのゲート端子は入力パルスφINの入力端子に接続されている。   The NMTr1 has a first terminal connected to the fourth MOS transistor NMT4 or the first terminal of the corresponding MOS transistor, and a gate terminal connected to the input terminal of the input pulse φIN.

そして、NMTr2の第2の端子は、各同期パルスφ1、φ2の電圧のうちMOSトランジスタのソース電圧となる電圧(n型なら最低電圧、p型なら最高電圧)に等しいか、または少なくとも第4のMOSトランジスタのしきい値電圧以上に各同期パルスφ1、φ2のソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源あるいは接地電位に接続されている。   The second terminal of the NMTr2 is equal to the voltage that is the source voltage of the MOS transistor (the lowest voltage for the n-type and the highest voltage for the p-type) among the voltages of the synchronization pulses φ1 and φ2, or at least the fourth It is connected to a fixed power supply or ground potential that is not different from the voltage that becomes the source voltage of each synchronization pulse φ1, φ2 above the threshold voltage of the MOS transistor.

このように構成されたダイナミックレシオレスシフトレジスタは、電源投入時等の各ノードが不安定な状況の際に状況を揃えるリセットの効果を奏するようになる。   The dynamic ratioless shift register configured as described above has an effect of resetting the situation when each node is unstable such as when the power is turned on.

なお、上述した各回路において、その入力部は図1(a)に示したものに限定されることはなく、図5に示すように、MOSトランジスタNMT1の一方の端子とゲート端子に入力パルスφINの入力端子に接続させた構成としてもよい。同様の効果が得られるからである。   In each circuit described above, the input section is not limited to that shown in FIG. 1A. As shown in FIG. 5, the input pulse φIN is applied to one terminal and the gate terminal of the MOS transistor NMT1. It is good also as a structure connected to the input terminal. This is because the same effect can be obtained.

[実施例2]
図6(a)は、本発明による液晶表示装置に形成されるシフトレジスタの他の実施例を示す回路図である。
[Example 2]
FIG. 6A is a circuit diagram showing another embodiment of the shift register formed in the liquid crystal display device according to the present invention.

本実施例は、実施例1のように負荷容量を付加することによりOFFレベルを維持させる構成のものとは異なり、選択されないシフトレジスタの入力ゲートを'L'にする回路を付加させた構成となっている。   Unlike the configuration in which the load level is added to maintain the OFF level as in the first embodiment, the present embodiment has a configuration in which a circuit for setting the input gate of an unselected shift register to 'L' is added. It has become.

すなわち、図6(a)に示すように、まず、MOSトランジスタNMT1は、その第1の端子およびゲート端子は入力パルスφINの入力端子に接続されて、入力部を形成している。   That is, as shown in FIG. 6A, first, the MOS transistor NMT1 has its first terminal and gate terminal connected to the input terminal of the input pulse φIN to form an input section.

MOSトランジスタNMT1の第2の端子は、MOSトランジスタNMT4のゲート端子と、MOSトランジスタNMT2の第1の端子に接続され、かつ容量CB1の第1の端子に接続され、容量CB1の第2の端子はMOSトランジスタNMT4の第2の端子、MOSトランジスタNMT5の第1の端子及びゲート端子に接続されている。   The second terminal of the MOS transistor NMT1 is connected to the gate terminal of the MOS transistor NMT4, the first terminal of the MOS transistor NMT2, and is connected to the first terminal of the capacitor CB1, and the second terminal of the capacitor CB1 is The second terminal of the MOS transistor NMT4, the first terminal of the MOS transistor NMT5, and the gate terminal are connected.

MOSトランジスタNMT2の第1の端子はMOSトランジスタNMT7のゲート端子に接続され、MOSトランジスタNMT2のゲート端子およびMOSトランジスタNMT3の第2の端子はMOSトランジスタNMT10の第2の端子に接続されている。   The first terminal of the MOS transistor NMT2 is connected to the gate terminal of the MOS transistor NMT7, and the gate terminal of the MOS transistor NMT2 and the second terminal of the MOS transistor NMT3 are connected to the second terminal of the MOS transistor NMT10.

MOSトランジスタNMT2の第2の端子は、同期パルスφ1、φ2の電圧のうちMOSTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくともMOSトランジスタNMT4のしきい値電圧以上に同期パルスφ1、φ2のソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源VSSまたは接地電位(VDD)に接続され、
MOSトランジスタNMT3の第2の端子は、同期パルスφ1、φ2の電圧のうちMOSTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくともMOSトランジスタNMT4のしきい値電圧以上に第1、第2の同期パルスのソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源VSSまたは接地電位(VDD)に接続されている。
The second terminal of the MOS transistor NMT2 is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MOSTFT among the voltages of the synchronization pulses φ1 and φ2, or at least the threshold voltage of the MOS transistor NMT4 and the source voltage of the synchronization pulses φ1 and φ2 Connected to a fixed power supply VSS or ground potential (VDD) that is not different from the voltage to be
The second terminal of the MOS transistor NMT3 is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MOSTFT among the voltages of the synchronization pulses φ1 and φ2, or at least equal to or higher than the threshold voltage of the MOS transistor NMT4. Is connected to a fixed power supply VSS or a ground potential (VDD) which is not different from a voltage that becomes a source voltage of the power source.

MOSトランジスタNMT4の第1の端子は同期パルスφ2の入力端子に接続され、
MOSトランジスタNMT5の第2の端子はMOSトランジスタNMT6のゲート端子に接続するとともに容量CB2の第1の端子に接続されている。
The first terminal of the MOS transistor NMT4 is connected to the input terminal of the synchronization pulse φ2,
The second terminal of the MOS transistor NMT5 is connected to the gate terminal of the MOS transistor NMT6 and to the first terminal of the capacitor CB2.

容量CB2の第2の端子は、MOSトランジスタNMT8の第2の端子と、MOSトランジスタNMT9の第1の端子及びゲート端子と、MOSトランジスタNMT10の第1の端子及びゲート端子に接続されているとともに、第2の出力端子を形成している。   The second terminal of the capacitor CB2 is connected to the second terminal of the MOS transistor NMT8, the first terminal and gate terminal of the MOS transistor NMT9, and the first terminal and gate terminal of the MOS transistor NMT10. A second output terminal is formed.

MOSトランジスタNMT6の第1の端子はMOSトラジスタNMT11のゲート端子に接続される。MOSトランジスタNMT11の第2の端子は、同期パルスφ1、φ2の電圧のうちMOSTFTのソース電圧となる電圧に等しいか、または少なくともMOSトランジスタNMT4のしきい値電圧以上に同期パルスφ1、φ2のソース電圧となる電圧と異なることのない固定電源VSSまたは接地電位(VDD)に接続されている。   The first terminal of the MOS transistor NMT6 is connected to the gate terminal of the MOS transistor NMT11. The second terminal of the MOS transistor NMT11 is equal to the voltage that becomes the source voltage of the MOSTFT among the voltages of the synchronization pulses φ1 and φ2, or at least the threshold voltage of the MOS transistor NMT4 and the source voltage of the synchronization pulses φ1 and φ2 Is connected to a fixed power supply VSS or a ground potential (VDD) which is not different from the voltage to be.

MOSトランジスタNMT8の第1の端子は同期パルスφ1の入力端子に接続され、第9のMOSトランジスタNMT9の第2の端子は第2の出力端子を形成している。   The first terminal of the MOS transistor NMT8 is connected to the input terminal of the synchronization pulse φ1, and the second terminal of the ninth MOS transistor NMT9 forms a second output terminal.

そして、MOSトランジスタNMT6のゲート端子及びMOSトランジスタNMT7の第1の端子には、上述した回路と同様の構成をとる次段の回路の前記NOSトランジスタNMT10に対応する他のMOSトランジスタの第2の端子に接続されている。   The gate terminal of the MOS transistor NMT6 and the first terminal of the MOS transistor NMT7 are the second terminals of the other MOS transistors corresponding to the NOS transistor NMT10 of the next stage circuit having the same configuration as the circuit described above. It is connected to the.

このように構成されたシフトレジスタの動作を図6(b)のタイミングチャートを用いて以下説明をする。   The operation of the shift register configured as described above will be described below with reference to the timing chart of FIG.

時間t0で、φINが'L'⇒'H'に変化すると、NMT3がONになりN5とVSS(=GND)が接続し、VN5=VSSとなり、N5をゲートとするNMT2がOFF状態となり、N1がフローティング状態となる。   When φIN changes from “L” to “H” at time t0, NMT3 is turned ON, N5 and VSS (= GND) are connected, VN5 = VSS, NMT2 having N5 as a gate is turned OFF, and N1 Enters a floating state.

この時同時に、NMT1のダイオード接続によりN1の電圧VN1はVN1=Vφ−Vthになる。Vφ−Vth>Vthとなるように設定されていると、VN1=Vφ−Vthにより、NMT7もON状態になりN8とVSS(=VSS)が接続し、VN8=VSSとなり、N8をゲートとするNMT6がOFF状態となり、N3がフローティング状態になる。   At the same time, the voltage VN1 of N1 becomes VN1 = Vφ−Vth due to the diode connection of NMT1. When Vφ−Vth> Vth is set, NMT7 is also turned on by VN1 = Vφ−Vth, N8 and VSS (= VSS) are connected, VN8 = VSS, and NMT6 having N8 as a gate Becomes OFF and N3 becomes floating.

この時点で、ドレインが同期パルスφ1、φ2に接続されるNMTのうちNMT4とNMT8のゲートのみがフローティング状態になる。   At this time, only the gates of NMT4 and NMT8 among the NMTs whose drains are connected to the synchronization pulses φ1 and φ2 are in a floating state.

時間t1で、φ2が'L'⇒'H'に変化すると、NMT4がON状態なので、N2の電位が上昇し、前述の説明と同様にブートストラップ容量CB1によりVN2=Vφとなる。   When φ2 changes from “L” to “H” at time t1, since NMT4 is in the ON state, the potential of N2 rises and VN2 = Vφ is satisfied by the bootstrap capacitor CB1 as described above.

この時、N1は昇圧により、電圧がVN1=(Vφ−Vth)+Vφ(Cb/(Cb+Cs))まで上昇するが、φINは'H'で、NMT2のゲートがVSS(=GND)になっているので、強制OFFを維持する。   At this time, N1 is boosted to increase the voltage to VN1 = (Vφ−Vth) + Vφ (Cb / (Cb + Cs)), but φIN is “H”, and the gate of NMT2 is VSS (= GND). Therefore, forced OFF is maintained.

そして、ダイオード接続されたNMT5により、VN3=Vφ−Vthになる。これにより、N3をゲートとするNMT11がON状態になり、N11が'H'⇒'L'に変化し、NMT15がOFF状態になり、N6がフローティング状態になる。   Then, due to the diode-connected NMT5, VN3 = Vφ−Vth. As a result, NMT11 having N3 as a gate is turned on, N11 is changed from “H” to “L”, NMT15 is turned off, and N6 is brought into a floating state.

時間t2でφ1がL⇒H、φ2が'H'⇒'L'に変化する。
φ2が'H'⇒'L'により、VN2はH⇒Lになるが、VN3は'H'が維持される。φ1が'L'⇒'H'に変化することにより、ON状態にあるNMT8を通じて、N4の電圧はVN4=Vφになる。
At time t2, φ1 changes from L → H and φ2 changes from “H” to “L”.
Since φ2 changes from “H” to “L”, VN2 changes from H to L, but VN3 maintains “H”. When φ1 changes from “L” to “H”, the voltage of N4 becomes VN4 = Vφ through the NMT 8 in the ON state.

これにより、N6をゲートとするNMT16がON状態になり、N14が'H'⇒'L'に変化し、NMT20がOFF状態になり、N9がフローティング状態になる。   As a result, NMT16 having N6 as a gate is turned on, N14 is changed from “H” to “L”, NMT20 is turned off, and N9 is brought into a floating state.

同時に、ダイオード接続されたNMT10によりVN5=Vφ−Vthになる。これにより、N5をゲートとするNMT2がON状態になりN1とVSSが接続し、NMT4はそのゲートがVSSに接続された強制OFF状態になる。NMT10はダイオード接続されているので、以降VN4=LとなってもVN5が'H'の状態を維持する(前述のαの要素は簡単のため省略)。   At the same time, VN5 = Vφ−Vth is obtained by the diode-connected NMT10. As a result, NMT2 having N5 as a gate is turned on, N1 and VSS are connected, and NMT4 is forcedly turned off with its gate connected to VSS. Since the NMT 10 is diode-connected, the VN5 remains in the “H” state even when VN4 = L (the element α is omitted for simplicity).

すなわち、再度φINが'H'になるまで、NMT4のゲートがVSSに接続された強制OFF状態が維持される。   That is, the forced OFF state in which the gate of NMT4 is connected to VSS is maintained until φIN becomes “H” again.

時間T3で、φ2が'L'⇒'H'、φ1が'H'⇒'L'に変化する。
φ1が'H'⇒'L'により、VN4は'H'⇒'L'になるが、VN6は'H'が維持される。φ2が'L'⇒'H'に変化することにより、ON状態にあるNMT12を通じて、N7の電圧はVN7=Vφになる。
At time T3, φ2 changes from “L” to “H”, and φ1 changes from “H” to “L”.
When φ1 changes from “H” to “L”, VN4 changes from “H” to “L”, but VN6 maintains “H”. When φ2 changes from “L” to “H”, the voltage of N7 becomes VN7 = Vφ through the NMT 12 in the ON state.

ダイオード接続されたNMT13により、VN9=Vφ−Vthになる。これにより、N9をゲートとするNMT21がON状態になり、N14が'H'⇒'L'に変化し、NMT25がOFF状態になり、N12がフローティング状態になる。   Due to the diode-connected NMT 13, VN9 = Vφ−Vth. As a result, NMT21 having N9 as a gate is turned on, N14 is changed from “H” to “L”, NMT25 is turned off, and N12 is brought into a floating state.

同時に、ダイオード接続されたNMT14によりVN8=Vφ−Vthになる。これにより、N8をゲートとするNMT6がON状態になりN3とVSSが接続し、NMT8はそのゲートがVSSに接続された強制OFF状態になる。NMT14はダイオード接続されているので、以降VN7=LとなってもVN8が'H'の状態を維持する(前述のαの要素は簡単のため省略)。   At the same time, VN8 = Vφ−Vth is obtained by the diode-connected NMT 14. As a result, NMT6 having N8 as a gate is turned on, N3 and VSS are connected, and NMT8 is forcedly turned off with its gate connected to VSS. Since the NMT 14 is diode-connected, the VN 8 remains in the “H” state even when VN 7 = L (the element α is omitted for simplicity).

すなわち、再度VINがHになるまで、NMT4のゲートがVSSに接続された強制OFF状態が維持される。
以降、上記の動作が順次繰り返されてシフトレジスタが動作していく。
That is, the forced OFF state in which the gate of NMT4 is connected to VSS is maintained until VIN becomes H again.
Thereafter, the above operation is sequentially repeated to operate the shift register.

このように構成されたシフトレジスタは、同期パルスφ1、φ2に接続されるMOSトランジスタのうち不必要なゲートが全てVSSに接続された構成となっている。このため、該MOSトランジスタは強制OFF状態とすることができるので、動作の不安定の発生を回避することができる。   The shift register configured as described above has a configuration in which all unnecessary gates of MOS transistors connected to the synchronization pulses φ1 and φ2 are connected to VSS. For this reason, since the MOS transistor can be forcedly turned off, the occurrence of unstable operation can be avoided.

なお、上述した実施例では、その入力部は図6(a)に示したものに限定されることはなく、図8に示すように、MOSトランジスタNMT1の第1の端子を入力パルスφINの入力端子に接続させ、ゲート端子に同期パルスφの入力端子に接続させた構成としてもよい。同様の効果が得られるからである。   In the above-described embodiment, the input unit is not limited to that shown in FIG. 6A, and the first terminal of the MOS transistor NMT1 is input to the input pulse φIN as shown in FIG. Alternatively, the gate terminal may be connected to the input terminal of the synchronization pulse φ. This is because the same effect can be obtained.

[実施例3]
図7(a)は、本発明による液晶表示装置に形成されるシフトレジスタの他の実施例を示す回路図である。
[Example 3]
FIG. 7A is a circuit diagram showing another embodiment of the shift register formed in the liquid crystal display device according to the present invention.

同図は前記実施例2に示した回路に、そのノードN11、N14、N17、......をそれぞれソースとし、入力パルス信号φINをドレインおよびゲートとする、ダイオード接続された薄膜トランジスタNMTR1、NMTR2、NMTR3、......を接続した構成となっている。   This figure shows the circuit shown in the second embodiment in which a diode-connected thin film transistor NMTR1, whose nodes N11, N14, N17,... Are the sources and the input pulse signal φIN is the drain and the gate, NMTR2, NMTR3,... Are connected.

これら各薄膜トランジスタNMTR1、NMTR2、NMTR3、......は、入力パルス信号φINが'H'になった際に、フローティング状態の各ノードの'H'を再補強し、非選択の入力ゲートの強制OFFをより確実なものとすることができる。   Each of these thin film transistors NMTR1, NMTR2, NMTR3,... Reinforces the “H” of each node in the floating state when the input pulse signal φIN becomes “H”, and the non-selected input gate. Can be made more reliable.

また、電源投入時の直後の走査開始等において、通常動作状態と同じ初期化ができる効果も奏する。
上述した各実施例では、シフトレジスタを構成する薄膜トランジスタとしてn型のものを説明したが、p型であってもよいことはもちろんである。
In addition, there is an effect that the same initialization as the normal operation state can be performed at the start of scanning immediately after the power is turned on.
In each of the above-described embodiments, an n-type thin film transistor has been described as a shift register. However, a p-type may be used as a matter of course.

各信号の'H'、'L'の絶対電位を逆転させて用いることにより、本発明の効果が同様に得られるからである。
また、上述した各実施例では、薄膜トラジスタをそのゲート絶縁膜がたとえばSiOからなるMOSトランジスタとして示したものであるが、該ゲート絶縁膜がたとえばSiNからなるものであってもよいことはいうまでもない。
This is because the effects of the present invention can be obtained in the same manner by reversing the absolute potentials of “H” and “L” of each signal.
In each of the above-described embodiments, the thin film transistor is shown as a MOS transistor whose gate insulating film is made of, for example, SiO 2 , but the gate insulating film may be made of, for example, SiN. Not too long.

[実施例4]
図11は本発明による表示装置に用いられるレシオレス形のダイナミック・シフトレジスタの他の実施例を示す回路図である。すなわち、上述した各実施例に示したダイナミック・シフトレジスタのさらなる改良として示したものである。また、図12は、図11に示す回路の入力パルスタイミングチャートを示している。
[Example 4]
FIG. 11 is a circuit diagram showing another embodiment of the ratioless type dynamic shift register used in the display device according to the present invention. That is, it is shown as a further improvement of the dynamic shift register shown in each of the embodiments described above. FIG. 12 shows an input pulse timing chart of the circuit shown in FIG.

ここで、本発明による表示装置に用いられるレシオレス形のダイナミック・シフトレジスタの特徴部を明確にするため、その比較の対象となる回路図を図13に示す。また、図14は、図13に示す回路の入力パルスタイミングチャートを示している。   Here, in order to clarify the characteristic part of the ratioless type dynamic shift register used in the display device according to the present invention, a circuit diagram to be compared is shown in FIG. FIG. 14 shows an input pulse timing chart of the circuit shown in FIG.

このような回路は図13におけるノード3のVSS(GND)レベルにH1クロックの飛び込みが見られる。図15(a)はこの現象を図示したもので、入力信号Hinの後におけるH1クロックがノード3のVSS(GND)レベル(同図の下側)に顕れている。   In such a circuit, an H1 clock jump is observed at the VSS (GND) level of the node 3 in FIG. FIG. 15A illustrates this phenomenon, and the H1 clock after the input signal Hin appears at the VSS (GND) level of the node 3 (lower side in the figure).

図13のノード4からダイオードを通りノード5に入るパルスによりMISトランジスタMtr1がオン状態になり、その状態が次のフレーム時間だけ続けば(ノード5がリークしなければ)問題は生じないが、実際には、図15(d)に示すように、ノード5の信号にリークが生じる。
このため、前記Mtr1はオフ状態になってしまい、ノード1がフローティング状態となり不安定になり、同様のことがノード2でも起こるからである。
このことから、本実施例に示す本発明による表示装置に用いられるレシオレス形のダイナミック・シフトレジスタは、その各段のそれぞれの出力のグランドレベルと接続されるMISトランジスタMtr2にそれとは別個のMISトランジスタMtr3を並列接続させている。
If the MIS transistor Mtr1 is turned on by a pulse that enters the node 5 from the node 4 in FIG. 13 and enters the node 5, there is no problem if the state continues for the next frame time (if the node 5 does not leak). As shown in FIG. 15D, the signal at the node 5 leaks.
For this reason, the Mtr1 is turned off, the node 1 is in a floating state and becomes unstable, and the same thing occurs in the node 2.
Therefore, the ratioless type dynamic shift register used in the display device according to the present invention shown in the present embodiment has a MIS transistor that is separate from the MIS transistor Mtr2 connected to the ground level of each output of each stage. Mtr3 is connected in parallel.

すなわち、ノード2をVSS(GND)に落とす図13に示すMISトランジスタMtr1を、まず、互いに並列接続されたMISトランジスタMtr2とMISトランジスタMtr3とで構成している。   That is, the MIS transistor Mtr1 shown in FIG. 13 in which the node 2 is dropped to VSS (GND) is composed of the MIS transistor Mtr2 and the MIS transistor Mtr3 connected in parallel with each other.

このうち、MISトランジスタMtr3は図13に示したMISトランジスタMtr1と同様の機能を有するようになっており、MISトランジスタMtr2は図11中に示すノード1にHigh信号が来ているとき以外は常にVSSレベルに落とす機能を有するようになっている。   Among them, the MIS transistor Mtr3 has a function similar to that of the MIS transistor Mtr1 shown in FIG. 13, and the MIS transistor Mtr2 is always at VSS except when the High signal is received at the node 1 shown in FIG. Has the ability to drop to level.

具体的には、MISトランジスタMtr2のゲートはH2クロックによりチャージされた電位で常にHigh状態となるようになっている。   Specifically, the gate of the MIS transistor Mtr2 is always in the high state at the potential charged by the H2 clock.

なお、ノード7にチャージされた電荷が、ノード6の電位がVSSより下がることによりダイオード逆流電流としてノード6に漏れるのを回避させるためにMISトランジスタMtr9を設けている。   Note that a MIS transistor Mtr9 is provided in order to prevent the charge charged in the node 7 from leaking to the node 6 as a diode backflow current when the potential of the node 6 falls below VSS.

このように構成されたレシオレス形のダイナミック・シフトレジスタにおいて、ノード7に電荷がチャージされる過程について説明をする。
まず、ノード6はフローティングノード(電源に接続されていないノード)であるため、クロックH2のタイミングで振れるようになる(図12のノード6の波形図参照)。
ノード7は、ノード1がHighになっている間、VSSレベルに落とされ、その電位のままフローティングになる。
The process of charging the node 7 in the ratioless type dynamic shift register configured as described above will be described.
First, since the node 6 is a floating node (a node not connected to the power source), the node 6 can swing at the timing of the clock H2 (see the waveform diagram of the node 6 in FIG. 12).
The node 7 is dropped to the VSS level while the node 1 is high, and becomes floating at the potential.

その後始めてノード6がクロックH2によって持ち上げられたとき、ダイオードを通して電流が流れ、ノード6の電位が下がってもダイオード逆方向接続によって電荷は保持される(図12のノード7の波形図参照)。   After that, when the node 6 is lifted by the clock H2 for the first time, a current flows through the diode, and even if the potential of the node 6 drops, the charge is retained by the reverse connection of the diode (see the waveform diagram of the node 7 in FIG. 12).

仮に、ノード7の電荷が何らかのリーク電流により失われても、ノード6はクロックH2のタイミングで振れておりすぐにまたチャージがなされる。このために、Mtr9によって(VSS−(Mtr8のVth))より下がらないように設定されている。   Even if the charge of the node 7 is lost due to some leakage current, the node 6 is swung at the timing of the clock H2 and is immediately charged again. For this reason, it is set so that it does not fall below (VSS− (Vth of Mtr8)) by Mtr9.

ノード7に保持される電位は、ノード6の電位がVSSとすると{(ノード6の振幅のHigh)−(ダイオードのVth)}である。また、ノード6の振幅はC1とその他の浮遊容量C0で決まり、{(クロックH2のHigh)×C1/(C1+C0)}で示される。   The potential held at the node 7 is {(Amplitude High of the node 6) − (Vth of the diode)} when the potential of the node 6 is VSS. The amplitude of the node 6 is determined by C1 and other stray capacitance C0, and is represented by {(High of clock H2) × C1 / (C1 + C0)}.

また、図11に示すレシオレス形のダイナミック・シフトレジスタは、その各段の出力においてHighレベルの信号以外のグランドレベルにおいて、確実に該グランドレベルに落ちさせる手段が、図中MISトランジスタMtr4、Mtr5、Mtr6、Mtr7、Mtr8によって構成されている。   Further, in the ratioless type dynamic shift register shown in FIG. 11, the means for surely dropping the ground level to the ground level other than the high level signal at the output of each stage is MIS transistors Mtr4, Mtr5, It is composed of Mtr6, Mtr7, and Mtr8.

まず、Mtr4、Mtr5について説明する。ノード4、ノード5の波形はそれぞれクロックH1、H2により、図12のタイミングチャートに示すようになる。
クロックH1、H2がHighのときオン状態となりゲート信号線へのノードをVSSレベルに落とし安定させる役割を果たす。
First, Mtr4 and Mtr5 will be described. The waveforms of the nodes 4 and 5 are as shown in the timing chart of FIG. 12 by the clocks H1 and H2, respectively.
When the clocks H1 and H2 are High, they are turned on and play the role of dropping the node to the gate signal line to the VSS level.

この場合、ノード2がHighレベルのとき(ゲート信号線へHighレベル信号を出力するとき)はMtr6、Mtr7がオン状態となり、ノード4、ノード5がVSSレベルに落ちるため、Mtr4、Mtr5はオフとなる。   In this case, when the node 2 is at a high level (when a high level signal is output to the gate signal line), Mtr6 and Mtr7 are turned on, and the nodes 4 and 5 are lowered to the VSS level, so that Mtr4 and Mtr5 are turned off. Become.

MTr8は、ノード4の電位が(VSS−(MTr8のVth))より小さくならないために接続されている。このノードの電位がVSSより大きく下がってしまった場合、クロックH1、H2の振幅の大きさがMtr4、Mtr5のVth(Mtr4、Mtr5をオンさせるためにはVSS+Vth以上の電位が必要)に満たなくなり意味をなさなくなるからである。   MTr8 is connected so that the potential of node 4 does not become smaller than (VSS− (Vth of MTr8)). When the potential of this node is greatly lower than VSS, the amplitudes of the clocks H1 and H2 satisfy the Vth of Mtr4 and Mtr5 (the potential of VSS + Vth or more is required to turn on Mtr4 and Mtr5). This is because it is lost and meaningless.

また、この実施例では、図11に示すように、各段のそれぞれの出力のグランドレベルと接続されるMISトランジスタMtr2と、前段の出力で動作し一端がグランドレベルに他端が容量素子C1を介してH2クロックに接続され、前記他端がMISトランジスタMtr2のゲートに接続されるMISトランジスタとを備え、前記MISトランジスタMtr2の他端とグランドレベルの間に容量素子C2が設けられている。   Further, in this embodiment, as shown in FIG. 11, the MIS transistor Mtr2 connected to the ground level of each output of each stage, the one operating at the output of the previous stage, one end having the ground level, and the other end having the capacitive element C1. And the other end of the MIS transistor Mtr2 is connected to the gate of the MIS transistor Mtr2. A capacitive element C2 is provided between the other end of the MIS transistor Mtr2 and the ground level.

ノード3によりノード1がVSSレベルに落ちてノード7がVSSレベルに接続されていないフローティングノードになると同時に、ノード2はH1クロックにより持ち上げられる。   At the same time as node 3 falls to VSS level and node 7 becomes a floating node not connected to VSS level, node 2 is raised by the H1 clock.

このとき、MISトランジスタMtr2のゲート−ドレイン間容量CGによりゲート(ノード7)も持ち上げられる可能性がありノード2がVSSと導通してしまう。これを防止するために容量C2を設けている。
これにより、ノード7の電位上昇分は、CG/(CG+C2+他の浮遊容量)倍となりC2をCGに比べて大きくとれば無視できうる値となる。
At this time, the gate (node 7) may also be lifted by the gate-drain capacitance CG of the MIS transistor Mtr2, and the node 2 becomes conductive with VSS. In order to prevent this, a capacitor C2 is provided.
As a result, the potential increase of the node 7 becomes CG / (CG + C2 + other stray capacitance) times, and becomes a negligible value when C2 is larger than CG.

上述した各実施例では、たとえば液晶表示装置に備えられるダイナミックレシオレスシフトレジスタについて示したものであるが、これに限定されることなく、たとえばEL表示装置に備えられるダイナミックレシオレスシフトレジスタにも適用できることはいうまでもない。
以上、本発明者によってなされた発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは勿論である。
In each of the embodiments described above, for example, a dynamic ratioless shift register provided in a liquid crystal display device is shown. However, the present invention is not limited to this, and the present invention is also applicable to, for example, a dynamic ratioless shift register provided in an EL display device. Needless to say, it can be done.
As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the above embodiments. However, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Of course.

本発明による表示装置の基板上に形成されるシフトレジスタの一実施例を示す回路図とそのタイミングチャートを示す図である。It is a figure which shows the circuit diagram which shows one Example of the shift register formed on the board | substrate of the display apparatus by this invention, and its timing chart. 本発明による表示装置の全体の一実施例を示す構成図である。It is a block diagram which shows one Example of the whole display apparatus by this invention. 本発明による表示装置の基板上に形成されるシフトレジスタを構成する薄膜トランジスタの生じる容量等を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the capacity | capacitance etc. which the thin-film transistor which comprises the shift register formed on the board | substrate of the display apparatus by this invention produces. 本発明による表示装置の基板上に形成されるシフトレジスタの他の実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the other Example of the shift register formed on the board | substrate of the display apparatus by this invention. 本発明による表示装置の基板上に形成されるシフトレジスタの他の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other Example of the shift register formed on the board | substrate of the display apparatus by this invention. 本発明による表示装置の基板上に形成されるシフトレジスタの他の実施例を示す回路図とそのタイミングチャートを示す図である。It is the figure which shows the circuit diagram which shows the other Example of the shift register formed on the board | substrate of the display apparatus by this invention, and its timing chart. 本発明による表示装置の基板上に形成されるシフトレジスタの他の実施例を示す回路図とそのタイミングチャートを示す図である。It is the figure which shows the circuit diagram which shows the other Example of the shift register formed on the board | substrate of the display apparatus by this invention, and its timing chart. 本発明による表示装置の基板上に形成されるシフトレジスタの他の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other Example of the shift register formed on the board | substrate of the display apparatus by this invention. 単結晶の半導体層上に形成されるダイナミックレシオレスシフトレジスタの一例を示す回路図とそのタイミングチャートを示す図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a dynamic ratioless shift register formed on a single crystal semiconductor layer and a timing chart thereof. ガラス基板にダイナミックレシオレスシフトレジスタを形成した場合を単結晶の半導体層上にダイナミックレシオレスシフトレジスタと比較してその違いを示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the difference compared with a dynamic ratioless shift register on the case of forming a dynamic ratioless shift register on a glass substrate on a single crystal semiconductor layer. 本発明による表示装置に用いられるダイナミックレシオレスシフトレジスタの他の実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the other Example of the dynamic ratioless shift register used for the display apparatus by this invention. 図11に示す回路の入力パルスタイミングチャートである。12 is an input pulse timing chart of the circuit shown in FIG. 図11に示した回路の特徴部を明らかにするために比較される回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram that is compared to clarify the features of the circuit shown in FIG. 11. 図13に示す回路の入力パルスタイミングチャートである。It is an input pulse timing chart of the circuit shown in FIG. 図13に示した回路、および図11に示した回路の説明にあたって、その不都合な点を説明するための波形図である。FIG. 14 is a waveform diagram for explaining disadvantages in the description of the circuit shown in FIG. 13 and the circuit shown in FIG. 11.

符号の説明Explanation of symbols

1 画素駆動用シフトレジスタ
7 メモリ駆動用シフトレジスタ
GL ゲート信号線
DL ドレイン信号線
TFT 薄膜トランジスタ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pixel drive shift register 7 Memory drive shift register GL Gate signal line DL Drain signal line TFT Thin film transistor.

Claims (9)

基板面にシフトレジスタを含む表示駆動回路を備え、
前記シフトレジスタは、半導体層を有するトランジスタから構成されており
前記トランジスタは、ゲート端子と第1の端子と第2の端子前記ゲート端子と前記第1の端子との間に設けられたブートストラップ容量とを有し、
前記第1の端子には同期パルスが入力され、
前記ゲート端子と定電圧電源線との間に第1のスイッチング素子が設けられ、前記第1のスイッチング素子がオフ状態で前記ゲート端子はフローティング状態となり、
前記ゲート端子の電圧は、ブートストラップ効果により前記ゲート端子がフローティング状態の場合に、前記同期パルスがロウレベルからハイレベルに変化することに従い上昇し、
前記第1のスイッチング素子の制御端子と前記定電圧電源線との間に第2のスイッチング素子が設けられ、
前記第2のスイッチング素子がオン状態となることで、前記第1のスイッチング素子の制御端子に前記定電圧電源線の電圧が印加されて前記第1のスイッチング素子はオフ状態となり、
前記トランジスタをオン状態とする信号の入力により、前記第2のスイッチング素子がオン状態となり、前記第1のスイッチング素子をオフ状態とすることで、前記ゲート端子はフローティング状態となり、前記ゲート端子のブートストラップ効率を向上させることを特徴とする表示装置。
Provided with a display drive circuit including a shift register on the substrate surface,
The shift register is composed of a transistor having a semiconductor layer,
The transistor includes a gate terminal, a first terminal, a second terminal, and a bootstrap capacitor provided between the gate terminal and the first terminal ,
A synchronization pulse is input to the first terminal,
A first switching element is provided between the gate terminal and the constant voltage power line, and the gate terminal is in a floating state when the first switching element is in an off state,
When the gate terminal is in a floating state due to a bootstrap effect, the voltage of the gate terminal rises as the synchronization pulse changes from a low level to a high level,
A second switching element is provided between the control terminal of the first switching element and the constant voltage power line;
When the second switching element is turned on, the voltage of the constant voltage power supply line is applied to the control terminal of the first switching element, and the first switching element is turned off.
By inputting a signal for turning on the transistor, the second switching element is turned on, and the first switching element is turned off, so that the gate terminal is in a floating state, and the gate terminal is booted. A display device characterized by improving strap efficiency.
前記トランジスタは、ガラス基板上に形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the transistor is formed on a glass substrate. 前記トランジスタは、ガラス基板上に形成された薄膜トランジスタであることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the transistor is a thin film transistor formed on a glass substrate. 基板面にシフトレジスタを含む表示駆動回路を備え、
前記シフトレジスタは、半導体層を有するトランジスタから構成されており
前記トランジスタは、ゲート端子と第1の端子と第2の端子と、前記ゲート端子と前記第1の端子との間に設けられたブートストラップ容量とを有し、
前記第1の端子には同期パルスが入力され、
前記ゲート端子と定電圧電源線との間に第1のスイッチング素子が設けられ、前記第1のスイッチング素子がオフ状態で前記ゲート端子はフローティング状態となり、
前記ゲート端子の電圧は、ブートストラップ容量により前記ゲート端子がフローティング状態の場合に、前記同期パルスがロウレベルからハイレベルに変化することに従い上昇し、
前記第1のスイッチング素子の制御端子と前記定電圧電源線との間に第2のスイッチング素子が設けられ、
前記第2のスイッチング素子がオン状態となることで、前記第1のスイッチング素子の制御端子に前記定電圧電源線の電圧が印加されて前記第1のスイッチング素子はオフ状態となり、
前記トランジスタをオン状態とする信号の入力により、前記第2のスイッチング素子がオン状態となり、前記第1のスイッチング素子をオフ状態とすることで、前記ゲート端子はフローティング状態となり、前記ゲート端子に接続されたブートストラップ容量が増加することを特徴とする表示装置。
Provided with a display drive circuit including a shift register on the substrate surface,
The shift register is composed of a transistor having a semiconductor layer,
The transistor includes a gate terminal, a first terminal, a second terminal, and a bootstrap capacitor provided between the gate terminal and the first terminal ,
A synchronization pulse is input to the first terminal,
A first switching element is provided between the gate terminal and the constant voltage power line, and the gate terminal is in a floating state when the first switching element is in an off state,
When the gate terminal is in a floating state due to bootstrap capacitance, the voltage of the gate terminal rises as the synchronization pulse changes from low level to high level,
A second switching element is provided between the control terminal of the first switching element and the constant voltage power line;
When the second switching element is turned on, the voltage of the constant voltage power supply line is applied to the control terminal of the first switching element, and the first switching element is turned off.
When the signal for turning on the transistor is input, the second switching element is turned on, and the first switching element is turned off, so that the gate terminal is in a floating state and is connected to the gate terminal . Display device characterized in that the bootstrap capacity increased .
前記トランジスタは、ガラス基板上に形成されたものであることを特徴とする請求項4に記載の表示装置。   The display device according to claim 4, wherein the transistor is formed on a glass substrate. 前配トランジスタは、ガラス基板上に形成された薄膜トランジスタであることを特徴とする請求項4に記載の表示装置。   The display device according to claim 4, wherein the pre-transistor is a thin film transistor formed on a glass substrate. 基板面にシフトレジスタを含む表示駆動回路を備え、
前記シフトレジスタは、半導体層を有する第1のトランジスタと第2のトランジスタと第3のトランジスタとから構成されており
前記第1のトランジスタは、ゲート端子と第1の端子と第2の端子と、前記ゲート端子と前記第1の端子との間に設けられたブートストラップ容量とを有し、
前記第1のトランジスタの第1の端子には同期パルスが入力され、
前記第1のトランジスタのゲート端子と電圧線との間に前記第2のトランジスタが設けられ、前記第2のトランジスタがオフ状態で前記第1のトランジスタのゲート端子はフローティング状態となり、
前記第1のトランジスタのゲート端子の電圧は、前記ゲート端子がフローティング状態の場合に、前記同期パルスがロウレベルからハイレベルに変化することに従い上昇し、
前記第2のトランジスタはオン状態で前記第1のトランジスタのゲート端子と電圧線とを接続し、
前記第3のトランジスタがオン状態となることで、前記第2のトランジスタのゲート端子に前記電圧線の電圧が印加されて前記第2のトランジスタはオフ状態となり、
前記第1のトランジスタをオン状態とする信号の入力により、前記第3のトランジスタがオン状態となり、前記第2のトランジスタはオフ状態となることを特徴とする表示装置。
Provided with a display drive circuit including a shift register on the substrate surface,
The shift register includes a first transistor having a semiconductor layer, a second transistor, and a third transistor ,
The first transistor has a gate terminal, a first terminal, a second terminal, and a bootstrap capacitor provided between the gate terminal and the first terminal ;
A synchronization pulse is input to the first terminal of the first transistor,
The second transistor is provided between a gate terminal of the first transistor and a voltage line; the second transistor is in an off state; and the gate terminal of the first transistor is in a floating state;
When the gate terminal is in a floating state, the voltage of the gate terminal of the first transistor rises as the synchronization pulse changes from a low level to a high level,
The second transistor is in an on state to connect the gate terminal of the first transistor and a voltage line;
When the third transistor is turned on, the voltage of the voltage line is applied to the gate terminal of the second transistor, and the second transistor is turned off.
The display device is characterized in that the third transistor is turned on and the second transistor is turned off by the input of a signal for turning on the first transistor.
前記トランジスタは、ガラス基板上に形成されたものであることを特徴とする請求項7に記載の表示装置。   The display device according to claim 7, wherein the transistor is formed on a glass substrate. 前記トランジスタは、ガラス基板上に形成された薄膜トランジスタであることを特徴とする請求項7に記載の表示装置。   The display device according to claim 7, wherein the transistor is a thin film transistor formed on a glass substrate.
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