JP4180587B2 - Cutting method of stick-shaped wafer - Google Patents

Cutting method of stick-shaped wafer Download PDF

Info

Publication number
JP4180587B2
JP4180587B2 JP2005207586A JP2005207586A JP4180587B2 JP 4180587 B2 JP4180587 B2 JP 4180587B2 JP 2005207586 A JP2005207586 A JP 2005207586A JP 2005207586 A JP2005207586 A JP 2005207586A JP 4180587 B2 JP4180587 B2 JP 4180587B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stick
shaped wafer
slider
cutting
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005207586A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005346920A (en
Inventor
亮介 古石
誠二 米岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2005207586A priority Critical patent/JP4180587B2/en
Publication of JP2005346920A publication Critical patent/JP2005346920A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4180587B2 publication Critical patent/JP4180587B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Description

本発明は、磁気ディスク装置に用いられる浮上型磁気ヘッドスライダを製造するためのスティック状ウエハの切断方法に関する。   The present invention relates to a stick-shaped wafer cutting method for manufacturing a floating magnetic head slider used in a magnetic disk device.

近年の磁気ディスク装置の磁気ヘッドスライダにおいては、磁気ディスク媒体の記録密度の増加のために低浮上量化が進められている。また、アクセスの高速化のため、アクセス方向に大きな加速度がかけられるので、浮上安定性に優れたスライダが求められている。   In recent magnetic head sliders of magnetic disk devices, the flying height has been reduced to increase the recording density of the magnetic disk medium. Further, since a large acceleration is applied in the access direction for speeding up access, a slider having excellent flying stability is required.

更に、磁気ディスク装置の小型化、機構の単純化のために、近年の磁気ディスク装置においては回転型ポジショナが広く用いられ、ヨー角変化による浮上量変動の少ない負圧スライダが要望されている。   Further, in order to reduce the size of the magnetic disk device and simplify the mechanism, a rotary positioner has been widely used in recent magnetic disk devices, and a negative pressure slider with a small flying height fluctuation due to a change in yaw angle is desired.

浮上安定性に優れた負圧磁気ヘッドスライダとして、空気流入端から空気流出端に向かってレール幅が減少する一対のレールを形成し、一対のレールの間に溝を画成し、この溝部で負圧を発生させるスライダが提案されている(特開平4−228157号)。   As a negative-pressure magnetic head slider with excellent flying stability, a pair of rails whose rail width decreases from the air inflow end to the air outflow end is formed, and a groove is defined between the pair of rails. A slider for generating a negative pressure has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 4-228157).

図1(A)は上記公開公報に開示された従来の負圧磁気ヘッドスライダの平面図であり、図1(B)はその斜視図である。スライダ2は直方体形状をしており、空気流入端2aと、空気流出端2bを有している。   FIG. 1A is a plan view of a conventional negative pressure magnetic head slider disclosed in the above publication, and FIG. 1B is a perspective view thereof. The slider 2 has a rectangular parallelepiped shape, and has an air inflow end 2a and an air outflow end 2b.

スライダ2のディスク対向面には正圧を発生させるための一対のレール4,6が形成されている。各レール4,6はそれぞれディスク回転時の浮上力を発生するための平坦な空気ベアリング表面(レール表面)4a,6aを有している。   A pair of rails 4 and 6 for generating a positive pressure are formed on the disk-facing surface of the slider 2. Each of the rails 4 and 6 has flat air bearing surfaces (rail surfaces) 4a and 6a for generating a flying force when the disk rotates.

各レール4,6の空気流入端側にはテーパ面4b,6bがそれぞれ形成されている。一対のレール4,6の間には一旦圧縮された空気を膨張させて負圧を発生させる溝8が画成されている。   Tapered surfaces 4b and 6b are formed on the air inflow end sides of the rails 4 and 6, respectively. A groove 8 is defined between the pair of rails 4 and 6 for generating negative pressure by expanding the compressed air once.

レール4が位置するスライダ2の空気流出端には電磁トランスデューサ10が形成されている。一対のレール4,6の空気流入端側にはセンターレール11が形成されている。   An electromagnetic transducer 10 is formed at the air outflow end of the slider 2 where the rail 4 is located. A center rail 11 is formed on the air inflow end side of the pair of rails 4 and 6.

各レール4,6の幅を流入端及び流出端側で広く、中間部分で細く形成することにより、ヨー角変化による浮上変動を抑えている。また、流入端にテーパ面4b,6bを形成することによって、塵埃付着時の浮上変動を抑制することができる。   By making the width of each rail 4 and 6 wide at the inflow end and outflow end side and narrow at the middle portion, floating fluctuation due to yaw angle change is suppressed. Further, by forming the tapered surfaces 4b and 6b at the inflow end, it is possible to suppress the floating fluctuation at the time of dust adhesion.

図1(B)はレール面側から見たスライダ2の斜視図であり、点線矢印がスライダ2にかかる正圧を、実線矢印がスライダ2にかかる負圧を示している。レール面4a,6aで正圧が発生し、溝8の部分で負圧が発生する。   FIG. 1B is a perspective view of the slider 2 as viewed from the rail surface side. A dotted arrow indicates a positive pressure applied to the slider 2 and a solid arrow indicates a negative pressure applied to the slider 2. A positive pressure is generated at the rail surfaces 4a and 6a, and a negative pressure is generated at the groove 8 portion.

スライダの浮上量が0.05μm以下となると、スライダ表面形状が浮上状態に与える影響が大きくなる。   When the flying height of the slider is 0.05 μm or less, the influence of the slider surface shape on the flying state increases.

上述した従来のスライダでは、スライダが長方形状をしており、概略平行に形成された一対のレールの各々が流入端側と流出端側に2個の幅広部を有するため、スライダ浮上時における圧力分布のピークが4点で発生し、スライダが4点支持となる。   In the conventional slider described above, the slider has a rectangular shape, and each of a pair of rails formed substantially in parallel has two wide portions on the inflow end side and the outflow end side. Distribution peaks occur at 4 points, and the slider is supported at 4 points.

このようにスライダが4点で支持されて浮上すると、スライダの表面形状が浮上状態に与える影響が大きくなる。即ち、製造誤差によりスライダのクラウン、キャンバ、ツイスト等が変動すると、スライダの浮上状態が大きく変動してしまうという問題がある。   When the slider is supported at four points and floats in this way, the effect of the slider surface shape on the flying state increases. That is, when the slider crown, camber, twist, etc. fluctuate due to manufacturing errors, there is a problem that the flying state of the slider fluctuates greatly.

よって本発明の目的は、スライダ加工時に生じるレール面平面性公差による浮上変動、テーパ長の加工公差による浮上変動を抑制することができ、良好な浮上特性を有するヘッドスライダを提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a head slider that can suppress flying fluctuation due to rail surface flatness tolerance generated during slider machining and flying fluctuation due to taper length machining tolerance and has good flying characteristics.

本発明の他の目的は、ヘッドスライダを製造するためのスティック状ウエハの切断方法を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a stick-shaped wafer cutting method for manufacturing a head slider.

本発明によると、複数のスライダが横方向に並んで形成されている所定幅のスティック状ウエハを切断して台形スライダを得るスティック状ウエハの切断方法であって、前記台形スライダの傾斜側面の角度と等しい傾斜角の切断刃を有する回転カッターを設け、個々のスライダの空気流入端が上側となるように前記スティック状ウエハを立てながら、前記カッターに対して該スティック状ウエハを概略水平方向に搬送して切断することを特徴とするスティック状ウエハの切断方法が提供される。   According to the present invention, there is provided a stick-shaped wafer cutting method for obtaining a trapezoidal slider by cutting a stick-shaped wafer having a predetermined width, in which a plurality of sliders are formed side by side, and an angle of an inclined side surface of the trapezoidal slider. A rotary cutter having a cutting blade with an inclination angle equal to the above is provided, and the stick-shaped wafer is conveyed in a substantially horizontal direction with respect to the cutter while the stick-shaped wafer is set up so that the air inflow end of each slider is on the upper side Thus, a method for cutting a stick-shaped wafer is provided.

代替案として、切断箇所がカッターの中心を通る鉛直線に実質上一致するように、スティック状ウエハをカッターに対して鉛直方向に移動して切断するようにしてもよい。   As an alternative, the stick-shaped wafer may be moved and cut in the vertical direction with respect to the cutter so that the cutting location substantially coincides with a vertical line passing through the center of the cutter.

本発明によると、スティック状ウエハから個々の台形スライダを分離するのに適したスティック状ウエハの切断方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a stick-shaped wafer cutting method suitable for separating individual trapezoidal sliders from a stick-shaped wafer.

図2を参照すると、本発明の磁気ヘッドスライダを搭載した磁気ディスク装置の斜視図が示されている。符号12はベース14とカバー16とから構成されるハウジング(ディスクエンクロージャー)である。   Referring to FIG. 2, there is shown a perspective view of a magnetic disk apparatus equipped with the magnetic head slider of the present invention. Reference numeral 12 denotes a housing (disk enclosure) composed of a base 14 and a cover 16.

ベース14上にはインナーハブモータによって回転駆動される図示しないスピンドルハブが設けられている。スピンドルハブには磁気ディスク20と図示しないスペーサーが交互に挿入され、ディスククランプ18をスピンドルハブにネジ締結することにより、複数枚の磁気ディスク20が所定間隔離間してスピンドルハブに取り付けられる。   On the base 14, a spindle hub (not shown) that is rotationally driven by an inner hub motor is provided. Magnetic disks 20 and spacers (not shown) are alternately inserted into the spindle hub, and a plurality of magnetic disks 20 are attached to the spindle hub at a predetermined interval by screwing the disk clamp 18 to the spindle hub.

符号22はアクチュエータアームアセンブリ26と磁気回路28とから構成されるロータリーアクチュエータを示している。アクチュエータアームアセンブリ26は、ベース14に固定されたシャフト24回りに回転可能に取り付けられている。   Reference numeral 22 denotes a rotary actuator including an actuator arm assembly 26 and a magnetic circuit 28. The actuator arm assembly 26 is rotatably mounted around a shaft 24 fixed to the base 14.

アクチュエータアームアセンブリ26は、回転中心から一方向に伸長した複数のアクチュエータアーム30と、アクチュエータアーム30と反対方向に伸長したコイル支持部材36を含んでいる。   The actuator arm assembly 26 includes a plurality of actuator arms 30 extending in one direction from the center of rotation, and a coil support member 36 extending in the opposite direction to the actuator arm 30.

各アクチュエータアーム30の先端部には、先端部で磁気ヘッドスライダ32を支持するサスペンション34の基端部が固定されている。   A proximal end portion of a suspension 34 that supports the magnetic head slider 32 at the distal end portion is fixed to the distal end portion of each actuator arm 30.

コイル支持部材36によりコイル38が支持されている。磁気回路28と、磁気回路28のギャップ中に挿入されるコイル38とでボイスコイルモータ(VCM)40が構成される。   A coil 38 is supported by the coil support member 36. A voice coil motor (VCM) 40 is configured by the magnetic circuit 28 and the coil 38 inserted into the gap of the magnetic circuit 28.

符号42はヘッドスライダ32に搭載された電磁トランスデューサからの信号を取り出すフレキシブルプリント配線板(FPC)を示しており、固定部材44でその一端が固定され、更に図示しないコネクタに電気的に接続されている。   Reference numeral 42 denotes a flexible printed circuit board (FPC) that takes out a signal from an electromagnetic transducer mounted on the head slider 32. One end of the flexible printed circuit board (FPC) is fixed by a fixing member 44 and is electrically connected to a connector (not shown). Yes.

ベース14上に環状パッキンアセンブリ46が搭載されており、パッキンアセンブリ46を間に挟んでカバー16をベース14にネジ締結することにより、ハウジング12内が密封される。   An annular packing assembly 46 is mounted on the base 14, and the inside of the housing 12 is sealed by screwing the cover 16 to the base 14 with the packing assembly 46 interposed therebetween.

図3は本発明第1実施形態の磁気ヘッドスライダ50Aの平面図を示しており、図4は浮上状態のその斜視図を示している。本実施形態及び引き続く数多くの実施形態において、実質的に同一構成部分については同一符号を付して説明する。   FIG. 3 shows a plan view of the magnetic head slider 50A according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 shows a perspective view thereof in a floating state. In the present embodiment and a number of subsequent embodiments, substantially the same components will be described with the same reference numerals.

磁気ヘッドスライダ50Aは空気流入端52aと、空気流出端52bを有しており、空気流入端側が狭く空気流出端側が広い台形形状をしている。磁気ヘッドスライダ50Aは図2に示したサスペンション34により支持される。   The magnetic head slider 50A has an air inflow end 52a and an air outflow end 52b, and has a trapezoidal shape in which the air inflow end side is narrow and the air outflow end side is wide. The magnetic head slider 50A is supported by the suspension 34 shown in FIG.

磁気ヘッドスライダ50Aのディスク対向面には、平坦なレール面(空気ベアリング表面)54a,56aを有する一対のレール54,56が形成されている。   A pair of rails 54 and 56 having flat rail surfaces (air bearing surfaces) 54a and 56a are formed on the disk facing surface of the magnetic head slider 50A.

各レール54,56の空気流入側端部にはそれぞれテーパ面54b,56bが形成されている。スライダ50Aが台形形状をしているため、一対のレール54,56は空気流入端側で互いに近付くように配置されており、その間にスリット58が画成されている。   Tapered surfaces 54b and 56b are formed at the air inflow side ends of the rails 54 and 56, respectively. Since the slider 50A has a trapezoidal shape, the pair of rails 54 and 56 are arranged so as to approach each other on the air inflow end side, and a slit 58 is defined therebetween.

更に、一対のレール54,56の間には負圧発生用の溝60が画成されている。レール54が位置するスライダ50Aの空気流出端52bには電磁トランスデューサ62が形成されている。   Further, a negative pressure generating groove 60 is defined between the pair of rails 54 and 56. An electromagnetic transducer 62 is formed at the air outflow end 52b of the slider 50A where the rail 54 is located.

スライダ50AはAl2 O3 −TiCから形成されており、ウエハに複数個の電磁トランスデューサ62を形成した後ウエハをバー形状に切断し、側面を加工してレール54,56を形成した後、個々のスライダ50Aに切断する。   The slider 50A is made of Al2 O3-TiC. After a plurality of electromagnetic transducers 62 are formed on the wafer, the wafer is cut into a bar shape, the side surfaces are processed to form rails 54 and 56, and then the individual sliders are formed. Cut to 50A.

スライダサイズは1.25mm×0.25−0.75mm(空気流入端)×1mm(空気流出端)であり、厚さは0.3mmである。レール54,56の幅は最も細い部分で100μm以下となるため、レール54,56はフォトリソグラフィ技術により形成する。   The slider size is 1.25 mm × 0.25-0.75 mm (air inflow end) × 1 mm (air outflow end), and the thickness is 0.3 mm. Since the width of the rails 54 and 56 is 100 μm or less at the narrowest portion, the rails 54 and 56 are formed by a photolithography technique.

即ち、形成すべき所望のレールパターンにレジストを塗布した後、イオンミリングによりウエハを削り取ってスリット58と、溝60を形成する。テーパ面54b,56bはレール54,56を形成する前、或いは後に機械加工によって形成する。   That is, after applying a resist to a desired rail pattern to be formed, the wafer is scraped by ion milling to form slits 58 and grooves 60. The tapered surfaces 54b and 56b are formed by machining before or after the rails 54 and 56 are formed.

テーパの角度は0.5°〜4.0°、テーパの長さはレール長さの1/10〜1/20が望ましい。テーパ面54b,56bで発生した正圧により、各レール54,56の先端側面への汚れの付着を防止する。   The taper angle is preferably 0.5 ° to 4.0 °, and the taper length is preferably 1/10 to 1/20 of the rail length. The positive pressure generated at the tapered surfaces 54b and 56b prevents the dirt from adhering to the end side surfaces of the rails 54 and 56.

図4のスライダ50Aの浮上状態斜視図から明らかなように、点線矢印で示されるようにレール面(空気ベアリング表面)54a,56aで正圧が発生し、溝60部分で実線矢印で示すように負圧吸引力が発生する。即ち、スリット58部分で一旦圧縮された空気が溝60部分で膨張することにより負圧が発生する。   As is apparent from the floating perspective view of the slider 50A in FIG. 4, positive pressure is generated at the rail surfaces (air bearing surfaces) 54a and 56a as indicated by dotted arrows, and as indicated by solid arrows at the groove 60 portion. Negative pressure suction force is generated. That is, negative pressure is generated by the air once compressed in the slit 58 portion being expanded in the groove 60 portion.

図5に示した圧力分布から明らかなように、本実施形態のスライダ50Aは台形形状であるため、3つの圧力のピークを有しており、浮上状態のスライダ50Aは3点支持となる。   As apparent from the pressure distribution shown in FIG. 5, the slider 50A of the present embodiment has a trapezoidal shape, and thus has three pressure peaks, and the flying slider 50A is supported at three points.

スライダ50Aが3点支持となるため、加工誤差によりスライダのクラウン、キャンバ、ツイスト等が変動しても、スライダの浮上変動率は小さくなる。また、スライダ形状が台形形状であるため、同じ厚さを有するスライダで質量が従来のスライダの1/2〜3/4程度となる。   Since the slider 50A is supported at three points, even if the crown, camber, twist, etc. of the slider fluctuate due to a processing error, the floating variation rate of the slider becomes small. Further, since the slider shape is a trapezoidal shape, a slider having the same thickness has a mass of about 1/2 to 3/4 of a conventional slider.

例えば、従来のスライダは1.757mgであり、第1実施形態のスライダ50Aは0.984〜1.378mgである。このため、1.161mgのサスペンションにスライダ50Aを取り付けた場合、共振周波数を3.8〜13%増加させることができる。   For example, the conventional slider is 1.757 mg, and the slider 50A of the first embodiment is 0.984 to 1.378 mg. For this reason, when the slider 50A is attached to the suspension of 1.161 mg, the resonance frequency can be increased by 3.8 to 13%.

図6は本発明第2実施形態のスライダ50Bの平面図を示している。本実施形態のスライダ50Bは空気流出端52b側に形成された互いに平行な一対の側面64a,64bと、これらの側面64a,64bと空気流入端52aを接続する一対の傾斜側面66a,66bを有している。   FIG. 6 shows a plan view of a slider 50B according to the second embodiment of the present invention. The slider 50B of the present embodiment has a pair of parallel side surfaces 64a and 64b formed on the air outflow end 52b side, and a pair of inclined side surfaces 66a and 66b that connect the side surfaces 64a and 64b to the air inflow end 52a. is doing.

本実施形態のスライダ50Bは空気流出端部側に一対の平行な側面64a,64bを有しているため、スライダ加工の際横方向の押し付けによる位置合わせが容易になる。また、空気流出端部側のコーナー部の角度が鋭角でなくなるため、衝突時のスライダコーナー部による打痕傷の程度が軽くなる。   Since the slider 50B of this embodiment has a pair of parallel side surfaces 64a and 64b on the air outflow end portion side, alignment by pressing in the lateral direction is facilitated during slider processing. Further, since the angle of the corner portion on the air outflow end portion side is not an acute angle, the degree of dent scratches by the slider corner portion at the time of collision is reduced.

図7は本発明第3実施形態のスライダ50Cの平面図を示している。スライダ50Cは一対のレール68,70を有しており、一対のレール68,70の間にはスリット72と、一旦圧縮された空気を膨張させて負圧を発生させる溝74が画成されている。   FIG. 7 shows a plan view of a slider 50C according to the third embodiment of the present invention. The slider 50C has a pair of rails 68 and 70. Between the pair of rails 68 and 70, a slit 72 and a groove 74 for inflating compressed air and generating a negative pressure are defined. Yes.

レール68は空気流入端部68aと、空気流出端部68bと、中間部分68cとを含んでおり、空気流出端部68bの中心が、空気流入端部68aの中心と中間部分68cの中心を結んだ直線69の外側に位置付けされている。   The rail 68 includes an air inflow end portion 68a, an air outflow end portion 68b, and an intermediate portion 68c. The center of the air outflow end portion 68b connects the center of the air inflow end portion 68a and the center of the intermediate portion 68c. It is positioned outside the straight line 69.

同様に、レール70は空気流入端部70aと、空気流出端部70bと、中間部分70cとを含んでおり、空気流出端部70bの中心が、空気流入端部70aの中心と中間部分70cの中心を結んだ直線71の外側に位置付けされている。   Similarly, the rail 70 includes an air inflow end portion 70a, an air outflow end portion 70b, and an intermediate portion 70c. The center of the air outflow end portion 70b is located between the center of the air inflow end portion 70a and the intermediate portion 70c. It is positioned outside the straight line 71 connecting the centers.

レール68,70が上述したような形状を有しているため、空気流入端52aからの気流が遮断されやすくなり、安定浮上に必要なレール幅を保ったまま浮上量を低下させることができる。   Since the rails 68 and 70 have the shapes described above, the airflow from the air inflow end 52a is easily blocked, and the flying height can be reduced while maintaining the rail width necessary for stable flying.

図8は本発明第4実施形態のスライダ50Dの平面図である。テーパ面68d,70dを有するレール部分の幅が、空気流入端から空気流出端に向かって減少しているため、テーパ加工公差によりテーパ長が変動しても、スライダ50Dの浮上量変化を小さくすることができる。   FIG. 8 is a plan view of a slider 50D according to the fourth embodiment of the present invention. Since the width of the rail portion having the tapered surfaces 68d and 70d decreases from the air inflow end toward the air outflow end, even if the taper length varies due to the taper processing tolerance, the flying height change of the slider 50D is reduced. be able to.

即ち、テーパ長が長くなると浮上量を増加させるが、テーパ部分のレール幅を空気流入端から空気流出端に向かって減少させることにより、浮上量を下げ、テーパ長が長くなったことによる浮上量の増加を相殺している。   In other words, the flying height increases as the taper length increases, but the flying height decreases by decreasing the rail width of the taper portion from the air inflow end toward the air outflow end, and the flying height due to the taper length becoming longer. Offsetting the increase.

図9は本発明第5実施形態のスライダ50Eの平面図である。本実施形態では、センターレール76が一対のレール68,70の間に設けられている。その他の構成は図8に示した第4実施形態と同様である。   FIG. 9 is a plan view of a slider 50E according to a fifth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the center rail 76 is provided between the pair of rails 68 and 70. Other configurations are the same as those of the fourth embodiment shown in FIG.

図10は本発明第6実施形態のスライダ50Fの平面図を示している。本実施形態では、スリット72を画成するレール68,70の内側エッジ68f,70fがスライダ50Fの長手方向中心線に平行に形成されている。   FIG. 10 is a plan view of a slider 50F according to the sixth embodiment of the present invention. In this embodiment, the inner edges 68f and 70f of the rails 68 and 70 that define the slit 72 are formed in parallel to the longitudinal center line of the slider 50F.

更に、テーパ面68e,70eを有するレール部分の幅が、空気流入端から空気流出端に向かって減少している。これにより、第4及び第5実施形態と同様に、テーパ加工公差によりテーパ長が変動しても、スライダ50Fの浮上量変化を小さくすることができる。   Further, the width of the rail portion having the tapered surfaces 68e and 70e decreases from the air inflow end toward the air outflow end. Thereby, similarly to the fourth and fifth embodiments, even if the taper length varies due to the taper processing tolerance, the flying height change of the slider 50F can be reduced.

図11は本発明第7実施形態のスライダ50Gの平面図を示している。本実施形態のスライダ50Gでは、一対のレール78,80は空気流入端側の連結レール部82で互いに連結されている。   FIG. 11 is a plan view of a slider 50G according to the seventh embodiment of the present invention. In the slider 50G of this embodiment, the pair of rails 78 and 80 are connected to each other by a connecting rail portion 82 on the air inflow end side.

即ち、レール形状が逆V型であり、空気流入端が閉じているため、空気が空気流入端で大きく圧縮され、圧縮された空気が溝84で膨張するため、負圧の発生が容易である。連結レール部82は空気流入端部52aにテーパ面82aを有している。   That is, since the rail shape is an inverted V shape and the air inflow end is closed, air is greatly compressed at the air inflow end, and the compressed air expands in the groove 84, so that negative pressure is easily generated. . The connecting rail portion 82 has a tapered surface 82a at the air inflow end portion 52a.

従来型方形スライダで逆V型又は逆U型レールを採用すると、テーパ長が長くなるため、正圧が発生しすぎ、スライダの低浮上量を実現することが困難であった。   When an inverted V-shaped or inverted U-shaped rail is employed in a conventional rectangular slider, the taper length becomes longer, so that a positive pressure is excessively generated and it is difficult to realize a low flying height of the slider.

この問題を改善するためには、テーパ部のレール幅を狭くする必要があるが、そうすると、空気流入端の両サイドにレールのない部分が広がってしまい、スライダが前のめりにつんのめった場合、スライダの角が磁気ディスクに接触してしまうという問題がある。   In order to improve this problem, it is necessary to narrow the rail width of the taper part. There is a problem that the corner contacts the magnetic disk.

本実施形態のスライダ50Gでは、スライダの外形が台形形状をしているため、空気流入端の幅は従来の通常タイプのスライダよりも短くなる。その結果、正圧を抑制するためにテーパ部のレール幅を短くする必要がなく、スライダ50Gのつんのめりによるスライダの角と磁気ディスクとの接触を回避できる。   In the slider 50G of the present embodiment, since the outer shape of the slider is trapezoidal, the width of the air inflow end is shorter than that of a conventional normal type slider. As a result, it is not necessary to shorten the rail width of the tapered portion in order to suppress the positive pressure, and the contact between the slider corner and the magnetic disk due to the tightening of the slider 50G can be avoided.

図12は本発明第8実施形態のスライダ50Hの平面図を示している。本実施形態のスライダ50Hでは、レール78,80を連結する連結レール部86のレール幅が、テーパ面86aの部分において、空気流入端から空気流出端に向かって減少している。その結果、テーパ加工公差によりテーパ長が変動しても、スライダ50Hの浮上量変化を小さく抑えることができる。   FIG. 12 shows a plan view of a slider 50H according to an eighth embodiment of the present invention. In the slider 50H of the present embodiment, the rail width of the connecting rail portion 86 that connects the rails 78 and 80 decreases from the air inflow end to the air outflow end in the tapered surface 86a. As a result, even if the taper length varies due to the taper processing tolerance, the flying height change of the slider 50H can be suppressed small.

図13は本発明第9実施形態のスライダ50Iの平面図を示している。連結レール部86に空気流出端側からテーパ面86aの一部に伸長するスリット88が入っているため、空気流入端部における正圧を抑制することができ、スライダ50Iの低浮上化を達成しやすくなる。   FIG. 13 shows a plan view of a slider 50I according to the ninth embodiment of the present invention. Since the connecting rail portion 86 includes a slit 88 extending from the air outflow end side to a part of the tapered surface 86a, positive pressure at the air inflow end portion can be suppressed, and the flying height of the slider 50I can be reduced. It becomes easy.

図14は本発明第10実施形態のスライダ50Jの平面図を示している。連結レール部86に形成された空気流出端側からテーパ面86aの一部に伸長するスリット90が、空気流出端側から空気流入端側に向けてその幅が狭くなっている。   FIG. 14 is a plan view of a slider 50J according to the tenth embodiment of the present invention. A slit 90 extending from the air outflow end side formed in the connecting rail portion 86 to a part of the tapered surface 86a is narrowed from the air outflow end side toward the air inflow end side.

その結果、連結レール部86に空気流入端側から流出端に向けて幅が狭くなる一対のレールを形成しやすくなり、テーパ加工公差によるテーパ長の変動が発生しても、スライダ50Jの浮上量変化を小さく抑えることができる。   As a result, it becomes easy to form a pair of rails whose width is narrowed from the air inflow end side to the outflow end in the connecting rail portion 86, and the flying height of the slider 50J even if the taper length varies due to the taper processing tolerance. Change can be kept small.

図15(A)は本発明第11実施形態のスライダ50Kの平面図を示しており、図15(B)は図15(A)のB−B線に沿う断面図である。   FIG. 15A shows a plan view of a slider 50K according to an eleventh embodiment of the present invention, and FIG. 15B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 15A.

連結レール部86に形成されているスリット92が溝84の深さより浅いため、容易に負圧を発生させることができ、且つ圧縮された気流が溝84で急激に膨張しないため、溝84に汚れが付着することもない。   Since the slit 92 formed in the connecting rail portion 86 is shallower than the depth of the groove 84, a negative pressure can be easily generated, and the compressed air current does not rapidly expand in the groove 84, so that the groove 84 becomes dirty. Will not adhere.

図16は本発明第12実施形態のスライダ50Lの平面図を示している。連結レール部86のテーパ面86aのレール幅が、空気流入端から空気流出端に向かって減少しているため、テーパ加工公差によるテーパ長の変動が発生しても、スライダ50Lの浮上量変化を小さく抑えることができる。   FIG. 16 is a plan view of a slider 50L according to a twelfth embodiment of the present invention. Since the rail width of the taper surface 86a of the connecting rail portion 86 decreases from the air inflow end toward the air outflow end, the flying height change of the slider 50L is changed even if the taper length varies due to the taper processing tolerance. It can be kept small.

図17は本発明第13実施形態のスライダ50Mの平面図を示している。本実施形態のスライダ50Mにおいては、連結レール部86に形成されたスリット94の深さが溝84の深さより浅く、且つスリット94の幅が空気流入端52aから空気流出端に向けて徐々に広くなるように形成されている。   FIG. 17 shows a plan view of a slider 50M according to a thirteenth embodiment of the present invention. In the slider 50M of this embodiment, the depth of the slit 94 formed in the connecting rail portion 86 is shallower than the depth of the groove 84, and the width of the slit 94 gradually increases from the air inflow end 52a toward the air outflow end. It is formed to become.

更に、テーパ面86aにおけるレール幅が空気流入端から空気流出端に向かって減少しているため、テーパ加工公差によりテーパ長の変動が発生しても、スライダ50Mの浮上量変化を小さく抑えることができる。   Furthermore, since the rail width of the taper surface 86a decreases from the air inflow end to the air outflow end, even if the taper length varies due to the taper processing tolerance, the flying height change of the slider 50M can be kept small. it can.

図18は本発明第14実施形態のスライダ50Nの平面図を示している。連結レール部86の空気流出端側からテーパ面86aの一部に伸長するスリット96が入っており、スリット96の深さが溝84の深さよりも浅くなっている。本実施形態のスライダ50Nは、負圧を発生させやすく、容易に低浮上を実現することができる。   FIG. 18 is a plan view of a slider 50N according to a fourteenth embodiment of the present invention. A slit 96 extending from the air outflow end side of the connecting rail portion 86 to a part of the tapered surface 86 a is included, and the depth of the slit 96 is shallower than the depth of the groove 84. The slider 50N of this embodiment can easily generate a negative pressure, and can easily achieve low flying height.

図19(A)は本発明第15実施形態のスライダ50Pの平面図を示しており、図19(B)は図19(A)のB−B線に沿う断面図である。   FIG. 19A shows a plan view of a slider 50P according to a fifteenth embodiment of the present invention, and FIG. 19B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 19A.

上述した各実施形態では、空気流入端で正圧を発生させるため、レール面にテーパを設けていたが、本実施形態では溝74の深さの1/2〜1/4程度(溝深さが2〜4μmの場合、0.5〜2μm)のステップ98,100をレール68,70の空気流入端部に形成する。更に、スリット72の空気流入端部にステップ102を形成する。   In each of the embodiments described above, the rail surface is tapered in order to generate a positive pressure at the air inflow end. However, in this embodiment, the depth of the groove 74 is about ½ to ¼ (groove depth). Steps 98 and 100 of 0.5 to 2 μm are formed at the air inflow ends of the rails 68 and 70. Further, step 102 is formed at the air inflow end of the slit 72.

レール68,70の空気流入端部に設けたステップ98,100で正圧を発生させる。従来型方形スライダの場合と比較すると、ステップ98,100,102を形成した空気流入端部の幅が狭くなるため、汚れの付着量が少なくなり、スライダ50Pの浮上量の変動を小さく抑えることができる。   A positive pressure is generated at steps 98 and 100 provided at the air inflow ends of the rails 68 and 70. Compared to the case of the conventional rectangular slider, the width of the air inflow end portion where the steps 98, 100, and 102 are formed becomes narrow, so that the amount of dirt attached is reduced, and the variation in the flying height of the slider 50P can be kept small. it can.

図20は本発明第16実施形態のスライダ50Qの平面図を示している。本実施形態のスライダ50Qは平均レール幅が異なる一対のレール104,106を有している。   FIG. 20 is a plan view of a slider 50Q according to the sixteenth embodiment of the present invention. The slider 50Q of the present embodiment has a pair of rails 104 and 106 having different average rail widths.

即ち、電磁トランスデューサ62が位置するレール106の平均レール幅を、他方のレール104の平均レール幅よりも狭く形成し、必ず電磁トランスデューサ62側のレール106の浮上量を低くする。   That is, the average rail width of the rail 106 on which the electromagnetic transducer 62 is located is formed to be narrower than the average rail width of the other rail 104, and the flying height of the rail 106 on the electromagnetic transducer 62 side is surely reduced.

これにより、低浮上時において、スライダ50Qが磁気ディスクに接触する確率を低下させることができる。レール104,106の間には溝108が画成されている。   This can reduce the probability that the slider 50Q contacts the magnetic disk during low flying. A groove 108 is defined between the rails 104 and 106.

図21は第16実施形態のスライダ50Qの空気流入端及び空気流出端の浮上量を示す図である。縦軸がスライダ浮上量を、横軸が磁気ディスクの中心から半径方向距離を示している。   FIG. 21 is a diagram illustrating the flying height of the air inflow end and the air outflow end of the slider 50Q according to the sixteenth embodiment. The vertical axis represents the slider flying height, and the horizontal axis represents the radial distance from the center of the magnetic disk.

実線が電磁トランスデューサ搭載レールであり、点線が電磁トランスデューサを搭載していないレールの浮上量をそれぞれ示している。空気流入端及び空気流出端の何れにおいても、電磁トランスデューサ搭載レールの浮上量が他のレールより低くなっていることがわかる。   The solid line indicates the electromagnetic transducer mounting rail, and the dotted line indicates the flying height of the rail not mounting the electromagnetic transducer. It can be seen that the flying height of the electromagnetic transducer mounting rail is lower than the other rails at both the air inflow end and the air outflow end.

次に、図22(A)及び図22(B)を参照して、スライダの製造方法について概略的に説明する。図22(A)に示すように、まずウエハ110上に複数の電磁トランスデューサ62を形成する。ウエハ110からAl2 O3 −TiC基板112をバー形状に切り出し、これを本明細書においてスティック状ウエハと称することにする。   Next, with reference to FIGS. 22A and 22B, a slider manufacturing method will be schematically described. As shown in FIG. 22A, first, a plurality of electromagnetic transducers 62 are formed on the wafer 110. The Al 2 O 3 —TiC substrate 112 is cut out from the wafer 110 into a bar shape, which is referred to as a stick-shaped wafer in this specification.

次いで、スティック状ウエハ112上にフォトレジストのマスクパターンを形成し、イオンミリングでエッチングして図22(B)に示すようにスティック状ウエハ112上に複数のレール54,56を形成する。   Next, a photoresist mask pattern is formed on the stick-shaped wafer 112 and etched by ion milling to form a plurality of rails 54 and 56 on the stick-shaped wafer 112 as shown in FIG.

図23を参照すると、スティック状ウエハ112の第1の切断方法が示されている。即ち、本発明のスライダは台形形状をしているため、スティック状ウエハ112から個々のスライダを分離するのに特別な切断方法が必要である。   Referring to FIG. 23, a first cutting method of the stick-shaped wafer 112 is shown. That is, since the slider of the present invention has a trapezoidal shape, a special cutting method is required to separate individual sliders from the stick-shaped wafer 112.

回転カッター114はその外周面に切断刃116を有している。切断刃116は図24に示すような特別な断面形状をしている。即ち、切断刃116は台形スライダ50Aの傾斜側面と角度と等しい傾斜角を有している。更に、切断刃116は台形スライダ50Aの長さよりも大きな半径方向長さLを有している。   The rotary cutter 114 has a cutting blade 116 on its outer peripheral surface. The cutting blade 116 has a special cross-sectional shape as shown in FIG. That is, the cutting blade 116 has an inclination angle equal to the angle of the inclined side surface of the trapezoidal slider 50A. Further, the cutting blade 116 has a radial length L that is larger than the length of the trapezoidal slider 50A.

このような切断刃116を有する複数の回転カッター114を図23に示すように等間隔で並設し、個々のスライダ50Aの空気流入端52aが上側となるようにスティック状ウエハ112を立てながら、カッター114に対してスティック状ウエハ112を矢印118で示す水平方向に搬送してスティック状ウエハ112を個々のスライダ50Aに切断する。   A plurality of rotary cutters 114 having such cutting blades 116 are arranged side by side at regular intervals as shown in FIG. 23, and the stick-shaped wafer 112 is erected so that the air inflow end 52a of each slider 50A is on the upper side. The stick-shaped wafer 112 is conveyed to the cutter 114 in the horizontal direction indicated by the arrow 118, and the stick-shaped wafer 112 is cut into individual sliders 50A.

ここで注意すべきは、スティック状ウエハ112を搬送するときのカッター114の切断刃116に対する高さの関係が重要であり、カッター114の真下において図24に示すような高さ関係となるようにスティック状ウエハ112を搬送する。スティック状ウエハ112がカッター114の真下を通過すると、スティック状ウエハ112は複数の台形スライダ50Aに分離される。   It should be noted here that the height relationship between the cutter 114 and the cutting blade 116 when the stick-shaped wafer 112 is conveyed is important, and the height relationship shown in FIG. The stick-shaped wafer 112 is transferred. When the stick-shaped wafer 112 passes just below the cutter 114, the stick-shaped wafer 112 is separated into a plurality of trapezoidal sliders 50A.

スティック状ウエハ112の切断を自動化するためには、図25に示すようなステージ120が使用される。ステージ120はスティック状ウエハ112が丁度収容される複数の溝122を有している。更に、これらの溝122と直角方向に複数のスリット124が形成されている。これらのスリット124中を切断刃116が通過する。   In order to automate the cutting of the stick-shaped wafer 112, a stage 120 as shown in FIG. 25 is used. The stage 120 has a plurality of grooves 122 in which the stick-shaped wafer 112 is just accommodated. Further, a plurality of slits 124 are formed in a direction perpendicular to these grooves 122. The cutting blade 116 passes through these slits 124.

図26(A)は図25の26A−26A線断面図を示しており、図26(B)は図25の26B−26B線断面図をそれぞれ示している。   26A shows a cross-sectional view taken along line 26A-26A in FIG. 25, and FIG. 26B shows a cross-sectional view taken along line 26B-26B in FIG.

このステージ120を使用してスティック状ウエハ112を切断するには、個々のスライダの空気流入端が上側となるようにスティック状ウエハ112をステージ120の溝122中に挿入する。   In order to cut the stick-shaped wafer 112 using the stage 120, the stick-shaped wafer 112 is inserted into the groove 122 of the stage 120 so that the air inflow end of each slider is on the upper side.

そして、ステージ120をキャリアにより水平方向に搬送しながら、スティック状ウエハ112を個々のスライダに切断する。切断時には、回転カッター114の切断刃116はステージ120のスリット124を通過する。   Then, the stick-shaped wafer 112 is cut into individual sliders while the stage 120 is conveyed in the horizontal direction by the carrier. At the time of cutting, the cutting blade 116 of the rotary cutter 114 passes through the slit 124 of the stage 120.

図27を参照すると、スティック状ウエハの第2の切断方法が示されている。この切断方法によると、個々のスライダの空気流入端が上側となるようにスティック状ウエハ112を立ててウエハを回転カッター114の真下に位置付けする。   Referring to FIG. 27, a second method for cutting a stick-shaped wafer is shown. According to this cutting method, the stick-shaped wafer 112 is erected so that the air inflow end of each slider is on the upper side, and the wafer is positioned directly below the rotary cutter 114.

そして、切断箇所がカッター114の中心を通る鉛直線に実質上一致するように、スティック状ウエハ112をカッター114に対して鉛直方向上方に移動して、スティック状ウエハ112を個々のスライダに切断する。カッター114の切断刃116は図24に示した切断刃と同様な形状をしている。   Then, the stick-shaped wafer 112 is moved vertically upward with respect to the cutter 114 so that the cutting point substantially coincides with a vertical line passing through the center of the cutter 114, and the stick-shaped wafer 112 is cut into individual sliders. . The cutting blade 116 of the cutter 114 has the same shape as the cutting blade shown in FIG.

図28を参照すると、切断の位置決めに適したスティック状ウエハ112′が示されている。このスティック状ウエハ112′は隣接するスライダとスライダの間にスティック状ウエハ112′の幅方向全長に渡る突起128を有している。これらの突起128はイオンミリングによりレール54,56を加工するのと同時に加工される。   Referring to FIG. 28, a stick-shaped wafer 112 'suitable for cutting positioning is shown. This stick-shaped wafer 112 ′ has a protrusion 128 extending over the entire length in the width direction of the stick-shaped wafer 112 ′ between adjacent sliders. These protrusions 128 are processed simultaneously with the processing of the rails 54 and 56 by ion milling.

このように、スティック状ウエハ112′は複数の突起128を有しているため、これらの突起128をカッター114の切断刃116を位置決めするためのガイドとして利用できる。これらの突起128をガイドとしてスティック状ウエハ112′を切断することにより、スティック状ウエハ112′を個々のスライダに容易に分離できる。   Thus, since the stick-shaped wafer 112 ′ has a plurality of protrusions 128, these protrusions 128 can be used as a guide for positioning the cutting blade 116 of the cutter 114. By cutting the stick-shaped wafer 112 ′ using these protrusions 128 as a guide, the stick-shaped wafer 112 ′ can be easily separated into individual sliders.

図1(A)は従来の磁気ヘッドスライダの平面図であり、図1(B)は浮上状態におけるその斜視図である。FIG. 1A is a plan view of a conventional magnetic head slider, and FIG. 1B is a perspective view thereof in a floating state. 磁気ディスク装置の斜視図である。1 is a perspective view of a magnetic disk device. 本発明第1実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 1st Embodiment of this invention. 第1実施形態のスライダの浮上状態の斜視図である。It is a perspective view of the floating state of the slider of 1st Embodiment. 第1実施形態のスライダの圧力分布を示す図である。It is a figure which shows the pressure distribution of the slider of 1st Embodiment. 第2実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 2nd Embodiment. 第3実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 3rd Embodiment. 第4実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 4th Embodiment. 第5実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 5th Embodiment. 第6実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 6th Embodiment. 第7実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 7th Embodiment. 第8実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 8th Embodiment. 第9実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 9th Embodiment. 第10実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 10th Embodiment. 図15(A)は第11実施形態のスライダの平面図であり、図15(B)は図15(A)のB−B線に沿った断面図である。FIG. 15A is a plan view of the slider of the eleventh embodiment, and FIG. 15B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 15A. 第12実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 12th Embodiment. 第13実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 13th Embodiment. 第14実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 14th Embodiment. 図19(A)は第15実施形態のスライダの平面図であり、図19(B)は図19(A)のB−B線に沿った断面図である。FIG. 19A is a plan view of the slider of the fifteenth embodiment, and FIG. 19B is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 19A. 第16実施形態のスライダの平面図である。It is a top view of the slider of 16th Embodiment. 第16実施形態のスライダの浮上量を示す図である。It is a figure which shows the flying height of the slider of 16th Embodiment. 図22(A)はウエハの斜視図であり、図22(B)は図22(A)に示すウエハから切り出したスティック状ウエハの斜視図である。22A is a perspective view of the wafer, and FIG. 22B is a perspective view of a stick-shaped wafer cut out from the wafer shown in FIG. 22A. 第1の切断方法を示す図である。It is a figure which shows the 1st cutting method. 切断刃の断面形状を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional shape of a cutting blade. ステージの斜視図である。It is a perspective view of a stage. 図26(A)は図25の26A−26A線断面図であり、図26(B)は図25の26B−26B線断面図である。26A is a cross-sectional view taken along line 26A-26A in FIG. 25, and FIG. 26B is a cross-sectional view taken along line 26B-26B in FIG. 第2の切断方法を示す図である。It is a figure which shows the 2nd cutting method. 切断の位置決めに適したスティック状ウエハを示す図である。It is a figure which shows the stick-shaped wafer suitable for positioning of a cutting | disconnection.

符号の説明Explanation of symbols

50A〜50Q 磁気ヘッドスライダ
52a 空気流入端
52b 空気流出端
54,56 レール
54a,56a レール面(空気ベアリング表面)
54b,56b テーパ面
58 スリット
60 溝
62 電磁トランスデューサ
50A-50Q Magnetic head slider 52a Air inflow end 52b Air outflow end 54, 56 Rail 54a, 56a Rail surface (air bearing surface)
54b, 56b Tapered surface 58 Slit 60 Groove 62 Electromagnetic transducer

Claims (7)

複数のスライダが横方向に並んで形成されている所定幅のスティック状ウエハを切断して台形スライダを得るスティック状ウエハの切断方法であって、
前記台形スライダの傾斜側面の角度と等しい傾斜角の切断刃を有する回転カッターを設け;
個々のスライダの空気流入端が上側となるように前記スティック状ウエハを立てながら、前記カッターに対して該スティック状ウエハを概略水平方向に搬送して切断する;
ことを特徴とするスティック状ウエハの切断方法。
A stick-shaped wafer cutting method for obtaining a trapezoidal slider by cutting a stick-shaped wafer having a predetermined width in which a plurality of sliders are formed side by side,
Providing a rotary cutter having a cutting blade having an inclination angle equal to the angle of the inclined side surface of the trapezoidal slider;
While standing the stick-shaped wafer so that the air inflow ends of the individual sliders are on the upper side, the stick-shaped wafer is transported in a substantially horizontal direction with respect to the cutter and cut.
A method for cutting a stick-shaped wafer.
前記切断刃の半径方向長さは前記スティック状ウエハの幅以上である請求項1記載のスティック状ウエハの切断方法。 The stick-shaped wafer cutting method according to claim 1, wherein a radial length of the cutting blade is equal to or greater than a width of the stick-shaped wafer. 前記スティック状ウエハは隣接するスライダの中間部分に空気流入端に達する切断位置決め用の突起を有している請求項1記載のスティック状ウエハの切断方法。 2. The stick-shaped wafer cutting method according to claim 1, wherein the stick-shaped wafer has a cutting positioning protrusion reaching an air inflow end at an intermediate portion between adjacent sliders. 複数のスライダが横方向に並んで形成されている所定幅のスティック状ウエハを切断して台形スライダを得るスティック状ウエハの切断方法であって、
前記台形スライダの傾斜側面の角度と等しい傾斜角の切断刃を有する回転カッターを設け;
個々のスライダの空気流入端が上側となるように前記スティック状ウエハを立てて該ウエハを前記カッターの真下に位置付けし;
切断箇所が前記カッターの中心を通る鉛直線に実質上一致するように、前記スティック状ウエハを前記カッターに対して鉛直方向に移動して切断する;
ことを特徴とするスティック状ウエハの切断方法。
A stick-shaped wafer cutting method for obtaining a trapezoidal slider by cutting a stick-shaped wafer having a predetermined width in which a plurality of sliders are formed side by side,
Providing a rotary cutter having a cutting blade having an inclination angle equal to the angle of the inclined side surface of the trapezoidal slider;
The stick-shaped wafer is erected so that the air inflow end of each slider is on the upper side, and the wafer is positioned directly below the cutter;
Moving the stick-shaped wafer in a vertical direction with respect to the cutter and cutting so that a cutting point substantially coincides with a vertical line passing through the center of the cutter;
A method for cutting a stick-shaped wafer.
前記切断刃の半径方向長さは前記スティック状ウエハの幅以上である請求項4記載のスティック状ウエハの切断方法。 The stick-shaped wafer cutting method according to claim 4, wherein a length in a radial direction of the cutting blade is equal to or greater than a width of the stick-shaped wafer. 前記スティック状ウエハは隣接するスライダの中間部分に空気流入端に達する切断位置決め用の突起を有している請求項4記載のスティック状ウエハの切断方法。 5. The method for cutting a stick-shaped wafer according to claim 4, wherein the stick-shaped wafer has a protrusion for cutting positioning reaching an air inflow end at an intermediate portion between adjacent sliders. 複数のスライダが横方向に並んで形成されている所定幅のスティック状ウエハを切断して複数の台形スライダを得るスティック状ウエハの切断方法であって、
前記台形スライダの傾斜側面の角度と等しい傾斜角の切断刃を有する複数の回転カッターを所定間隔離間して設け;
前記スティック状ウエハが挿入される溝と、該溝に対して直角方向に前記所定間隔で形成された複数のスリットとを有するステージを設け;
個々のスライダの空気流入端が上側となるように前記スティック状ウエハを前記ステージの溝中に挿入し;
前記ステージを前記カッターに対して概略水平方向に搬送して前記スティック状ウエハを切断する;
ことを特徴とするスティック状ウエハの切断方法。
A stick-shaped wafer cutting method for obtaining a plurality of trapezoidal sliders by cutting a stick-shaped wafer having a predetermined width in which a plurality of sliders are formed side by side,
A plurality of rotary cutters having cutting blades having an inclination angle equal to the angle of the inclined side surface of the trapezoidal slider are provided at predetermined intervals;
Providing a stage having a groove into which the stick-shaped wafer is inserted and a plurality of slits formed at a predetermined interval in a direction perpendicular to the groove;
Inserting the stick-shaped wafer into the groove of the stage so that the air inflow end of each slider is on the upper side;
Transporting the stage substantially horizontally with respect to the cutter to cut the stick-shaped wafer;
A method for cutting a stick-shaped wafer.
JP2005207586A 1997-03-17 2005-07-15 Cutting method of stick-shaped wafer Expired - Fee Related JP4180587B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005207586A JP4180587B2 (en) 1997-03-17 2005-07-15 Cutting method of stick-shaped wafer

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6343897 1997-03-17
JP2005207586A JP4180587B2 (en) 1997-03-17 2005-07-15 Cutting method of stick-shaped wafer

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21051497A Division JP3765907B2 (en) 1997-03-17 1997-08-05 Head slider and disk device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005346920A JP2005346920A (en) 2005-12-15
JP4180587B2 true JP4180587B2 (en) 2008-11-12

Family

ID=35499120

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005207586A Expired - Fee Related JP4180587B2 (en) 1997-03-17 2005-07-15 Cutting method of stick-shaped wafer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4180587B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005346920A (en) 2005-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5519552A (en) Rotary disk storage unit and head suspension therefor
KR100288869B1 (en) Design of a double etch step pad type air bearing with three etch depths
US20030007292A1 (en) Reduced stiffness printed circuit head interconnect
KR100740157B1 (en) Head slider
JPS59132416A (en) Magnetic head slider assembly
JP3765907B2 (en) Head slider and disk device
CN1851809A (en) Head, head suspension assembly, and disk device provided with same
US20070121251A1 (en) Method of manufacturing head, head, and disk driving device
CN107305775B (en) The method for having the promotion fin of the suspended rack assembly for promoting fin, disk drive and manufacture suspended rack assembly
US6556380B2 (en) Silicon sliders with trapezoidal shape and drie process for fabrication
JPH07201150A (en) Air bearing-type magnetic head slider
JP2002279606A5 (en)
US5640755A (en) Method for manufacturing a magnetic head
JP4180587B2 (en) Cutting method of stick-shaped wafer
US20060215327A1 (en) Magnetic head with a slider and a gimbal suspension structured flexure having outriggers
US5726830A (en) Air-bearing electromagnetic head slider having negative pressure generating means
JP3923140B2 (en) Head slider and disk device
JPH0249281A (en) Manufacture of magnetic head
JP2002074634A (en) Magnetic head and its manufacturing method
JP3774333B2 (en) Magnetic head, method for manufacturing the same, and apparatus for manufacturing the magnetic head
JP3955941B2 (en) Disk drive device
JPH07161162A (en) Magnetic head slider
JP3924715B2 (en) Magnetic head slider
KR20050008457A (en) Head slider and magnetic disk device including the same
JPH0845047A (en) Magnetic head slider assembly

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080826

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080827

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees