JP4168471B2 - Anti-counterfeiting decoration medium - Google Patents

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JP4168471B2 JP04066098A JP4066098A JP4168471B2 JP 4168471 B2 JP4168471 B2 JP 4168471B2 JP 04066098 A JP04066098 A JP 04066098A JP 4066098 A JP4066098 A JP 4066098A JP 4168471 B2 JP4168471 B2 JP 4168471B2
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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、例えばクレジットカードや有価証券、証明書類等に転写される転写箔形態の偽造防止媒体や、物品に貼り付けるシール形態の偽造防止媒体、物品そのものに成型したような偽造防止媒体、又は包装紙、商業印刷物などの装飾効果の高い装飾媒体に関し、特にホログラムやグレーティングのようなOVD(Optical Variable Device)を有する偽造防止媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、偽造を防止する手段としては、媒体そのものを真似することが困難なもので、しかも偽造・改竄などの不正行為の形跡の発見が容易であって、本物と偽物を確実に識別できるような方法が取られている。例えば紙幣など有価証券のように、そのもの自体に微細な加工を施すか、真似しにくい色調の彩色を施したり、また素材を特殊なものとして、構造または印刷技術の不正行為、或いは複写機による不法な複写による偽造などを困難にすることで、偽造防止を図っている。さらに印刷複製技術の進歩、または複写機などデジタル技術の進歩により、上記したような微細な加工を施したり、色彩を真似しにくくしても容易に再現することが可能となり、このような技術に対応して、加工技術を高微細化し、より複製・偽造を困難とするような方向に進んでいる。
【0003】
また、複写機や印刷技術では複製・偽造の困難な、金属光沢を有する特殊な光学媒体を転写箔、シールの形態で物品に貼着・接着せしめて偽造防止を図る方法も行われている。例えばクレジットカードなどのように、OVD転写箔を熱転写によりカードに接着し、ホログラム画像もしくはグレーティング画像をカードに形成する方法がある。
【0004】
ホログラムやグレーティングは、見る角度に応じて固有のカラーシフト(反射光の色変化)を起こす干渉機能を有し、観察する位置により見える色が異なることから、その有無を確認すれば本物であるか否かを判定できると同時に、カラー複写機を用いた偽造に対しても、格別な偽造防止効果を有する偽造防止媒体である。
【0005】
一方、ホログラムやグレーティングは、その光学効果(キラキラ感)、3D立体表現などの効果を持つことから、装飾媒体としても非常に装飾効果に優れた媒体であるといえる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、これら従来技術の偽造を、より困難にするために考案されたものであり、その課題とするところは、媒体そのものを真似することが困難なもので、しかも偽造・改竄などの不正行為の形跡の発見が容易であって、本物と偽物を確実に識別できるような、新規な偽造防止媒体を提供することにある。
【0007】
また本発明は、これら従来のOVD(本明細書において、上記ホログラム画像やまたグレーティング画像等の光学的に画像を表現した技術を総称し、OVDと称し、以下OVDと記す)に新規な装飾効果を付加するために考案されたものであり、その課題とするところは、キラキラ感の有無により画像を表現する新規な装飾媒体を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明は、光学機能層の光学膜厚を部分的に変化させることで、光学機能層の視感反射率を部分的に変化させ、キラキラ感の有無(視感反射率の差)を生じせしめることで画像を表現した偽造防止装飾媒体を提供する。
【0009】
すなわち、請求項1の発明は、支持体上に、光学機能層を含む構成の偽造防止装飾媒体であって、前記光学機能層が、光学膜厚210nm以上300nm以下である低視感反射率エリアと光学膜厚100nm以上210nm以下である高視感反射率エリアを有し、かつ低視感反射率エリアと高視感反射率エリアを交互に配置してなることを特徴とする偽造防止装飾媒体である。
【0010】
また、請求項2の発明は、前記支持体と、OVD層、光学機能層が少なくとも積層された構成の偽造防止装飾媒体であって、前記光学機能層が、光学膜厚210nm以上300nm以下である低視感反射率エリアと光学膜厚100nm以上210nm以下である高視感反射率エリアを有し、かつ低視感反射率エリアと高視感反射率エリアを交互に配置してなることを特徴とする偽造防止装飾媒体である。
【0011】
さらに、請求項3の発明は、請求項1又は請求項2記載の偽造防止装飾媒体において、前記光学機能層の低視感反射率エリアの視感反射率を10.0以下とし、かつ高視感反射率エリアの視感反射率を15.0以上として、低視感反射率エリアと高視感反射率エリアのコントラストにより線画を表現したことを特徴とするものである。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明の偽造防止装飾媒体は、支持体上に、光学機能層を含む構成の偽造防止装飾媒体であって、前記光学機能層の光学膜厚を部分的に変化させることで、光学機能層の視感反射率を部分的に変化させ、視感反射率の差により画像を表現したことを特徴とするもので、前記光学機能層の低視感反射率エリアの視感反射率を10.0以下とし、かつ高視感反射率エリアの視感反射率を15.0以上として、低視感反射率エリアと高視感反射率エリアのコントラストにより線画を表現したものである。
【0013】
本発明の実施の形態を図に基づき詳細に説明する。
<実施例1>
以下、本実施例1では、転写箔形態の偽造防止装飾媒体を図面を用いて説明する。
図1は、本発明の一実施例における偽造防止装飾媒体を示す平面図であり、また図2は、上記偽造防止装飾媒体の一実施例における積層構成を示す断面図である。
【0014】
実施例1における偽造防止装飾媒体11は、図1及び図2に示すように、支持体としての基材21上に剥離保護層22、光学機能層24、接着層25が順次積層された構造となっている。
【0015】
基材21は、厚さ25μmの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムである。基材としては、他にポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等の合成樹脂、天然樹脂、紙、合成紙などから単独で選択されたもの、または上記より選択されて組み合わされた複合体が使用可能となっている。
【0016】
また、剥離保護層22は、光学機能層24を保護するために設けられたものであり、以下の配合比からなる組成物がグラビア印刷法により、乾燥温度110℃、厚さ0.8μmで形成されている。
【0017】
<剥離保護層の組成>
アクリル樹脂 …30部
ポリエステル樹脂 … 5部
トルエン …40部
メチルエチルケトン …40部
メチルイソブチルケトン …20部
【0018】
保護層22としては、他に熱可塑性アクリル樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、セルロース系樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂あるいはこれらにオイルシリコン、脂肪酸アミド、ステアリン酸亜鉛を添加したものが使用可能となっている。または、無機物を使用してもよい。
【0019】
また、光学機能層24は、光線を反射する層であって、その光学膜厚や構成に応じて各波長における反射率を変化させる干渉機能を有する層であり、画像を表現(形成)するための層である。本実施例1では、低視感反射率エリア14Lと高視感反射率エリア14Hの2種類のエリアを交互に配置した偽造防止装飾媒体11を使用しており、それぞれ以下の構成の光学機能層24が、真空蒸着法及びスパッタリング法により形成されている。
【0020】
<低視感反射率エリア14Lの光学機能層>
高屈折率セラミック膜…TiO2 (n=2.0) 130nm
【0021】
<高視感反射率エリア14Hの光学機能層>
高屈折率セラミック膜…TiO2 (n=2.0) 65nm
【0022】
さらに本実施例1では、光学機能層24に高屈折率セラミック膜を使用した構成としたが、ほかにも金属薄膜/高屈折率セラミック膜/金属膜、金属薄膜/低屈折率セラミック膜/金属膜、高屈折率セラミック膜/低屈折率セラミック膜/高屈折率セラミック膜、金属薄膜/高屈折率セラミック膜/低屈折率セラミック膜/高屈折率セラミック膜/金属膜などの積層構成が可能であり、干渉機能を有する層構成であれば、どのような構成でも使用することが可能である。
【0023】
また、光学機能層24の高屈折率セラミック膜に用いるセラミックとしては、他に、硫化亜鉛、二酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化タンタル、酸化セリウム、酸化亜鉛などが使用可能となっている。
【0024】
この高屈折率セラミック膜を形成する方法としては、膜厚の制御が可能であれば、いかなる成膜方法も用いることが可能である。なかでも薄膜の生成には乾式法が優れており、これには通常の真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法を用いることができる。
【0025】
なお、本実施例1では示さないが、光学機能層24に使用可能な金属薄膜および金属膜としては、アルミニウム、鉄、チタン、金、銀、銅などの金属材料が使用可能となっている。
また、この金属薄膜および金属膜を形成する方法としては、蒸着法、スパッタリングなどの薄膜形成手段を用いることができ、金属薄膜および金属膜を構成する材料に応じて任意に選択することができる。
【0026】
同様に、光学機能層24に使用可能な低屈折率セラミック膜としては、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウム、フッ化セリウム、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどが使用可能となっている。
また、この低屈折率セラミック膜を形成する方法としては、前記高屈折率セラミック膜を形成する方法と同様の方法を用いることができる。
【0027】
また接着層25は、以下の配合比からなる組成物がグラビア印刷法により、乾燥温度110℃、厚さ1.0μmで形成されている。
【0028】
<接着層の組成>
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 …30部
ポリエステル樹脂 …20部
メチルエチルケトン …50部
トルエン …50部
【0029】
なお、接着層25としては、他にも、光学機能層24を変質させたり冒すものでなければ通常用いられるものでよく、例えばアクリル系接着剤、ポリエステル系ポリアミドなどが使用可能であるが、これらに限定されるものではない。
【0030】
上記構成の2種類の光学機能層24(低視感反射率エリア14Lと高視感反射率エリア14H)は、その光学膜厚を変化させることで視感反射率を変えることができる。なお、下記に視感反射率と光学膜厚について説明する。
<視感反射率Yの定義>
本発明の実施例における視感反射率Yは、CIE1931に基づき測定した値で、観測視野2度に対応している。実際には視感反射率Yは、下記の式〔数1〕により求められる。また照明光は、標準照明Cを用いて測定した。
【0031】
【数1】

Figure 0004168471
【0032】
<光学膜厚の定義>
本発明の実施例における光学膜厚nd(nm)は、物体の屈折率nと物体の実際の膜厚d(nm)を乗じたもので、この値が変化することにより光の干渉で視感反射率Yが変化する。すなわち、本実施例では実際の膜厚dを変化させる方法についてしか記述していないが、屈折率nを変化させる方法によっても本発明は達成される。
【0033】
発明者等の実験の結果、本実施例1に用いた高屈折率セラミック膜であるTiO2 の光学膜厚と視感反射率の関係は、図3に示す通りで、更に、人間が明るい/暗いと感じる境界値として視感反射率13.0が見出された。
【0034】
上記実験結果より、低視感反射率エリア14Lは視感反射率13.0以下となるように高屈折率セラミック膜であるTiO2 の光学膜厚を210nm以上300nm以下とし、高視感反射率エリア14Hは視感反射率13.0以上となるように高屈折率セラミック膜であるTiO2 の光学膜厚を100nm以上210nm以下として光学機能層24を形成した。
【0035】
なお、光学機能層24における、キラキラ感の有無を生じせしめることで表示した画像に線画を用いる場合は、画像のコントラストを上げるために、低視感反射率エリア14Lの視感反射率は10.0以下、高視感反射率エリア14Hの視感反射率は15.0以上とすることが望ましい。
本実施例1では、低視感反射率エリア14Lの視感反射率が8.0となるように光学膜厚260nmで、高視感反射率エリア14Hの視感反射率が27.0となるように光学膜厚130nmで光学機能層24を形成した。
【0036】
また、低反射率エリア14Lと高反射率エリア14Hの2種類のエリアを交互に配置する方法としては、通常の真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法を行う際に、マスクを用いて部分的に蒸着する部分蒸着方法を用いて、偽造防止装飾媒体11の光学機能層24を作製した。
【0037】
具体的には、まず図4に示すような格子状のマスク41を用い光学膜厚が130nmとなるように蒸着を行う。これにより、マスク開口部42には光学膜厚130nmの高屈折率セラミック膜が形成され、マスク遮蔽部43には高屈折率セラミック膜は形成されない。
【0038】
次いで、マスク41を取り外し、光学膜厚が130nmとなるように再度重ねて蒸着を行う。これにより、マスク開口部42により形成された光学膜厚130nmの高屈折率セラミック膜に積層された部分は、光学膜厚260nmの低反射率エリア14Lとなり、マスク遮蔽部43により高屈折率セラミック膜が形成されていない部分に積層された部分は、光学膜厚130nmの高反射率エリア14Hとなる。
【0039】
上記方法により作製した偽造防止装飾媒体11は、従来の加熱転写法(ホットスタンプ、ロール転写、ラミネートなど)により、様々な媒体に転写して用いることができる。
【0040】
以上説明したように本発明の実施例1によれば、キラキラ感の有無(視感反射率の差)により、ストライプ状の画像を表現することができ、装飾効果の高い新規な装飾媒体を提供することができた。
またこれにより、媒体そのものを真似することが困難なもので、しかも偽造・改竄などの不正行為の形跡の発見が容易であって、本物と偽物を確実に識別できるような、新規な偽造防止媒体を提供することができた。
【0041】
<実施例2>
本発明の実施例2では、OVDラベルタイプの偽造防止装飾媒体について図面を用いて説明する。
図5は、本発明の他の実施例における偽造防止装飾媒体を示す平面図であり、図6は、上記偽造防止装飾媒体の一積層構成を示す断面図である。
【0042】
偽造防止装飾媒体51は、支持体としての基材61上にOVD層63が形成され、以下、光学機能層64、粘着層65が順次形成されている。
【0043】
基材61は、厚さ50μmの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムである。この基材としては、実施例1で記述したものが使用可能となっている。
【0044】
また、OVD層63には、基材61とは反対側の面にレリーフ型OVD63aが形成された構成となっている。
【0045】
このレリーフ型OVD63aは、レリーフ型OVDを構成する微細な凹凸パターンを形成したニッケル製のプレス版を、OVD層63上に加熱押圧するなどの周知の方法により形成可能である。
【0046】
このレリーフ型OVDによるOVD画像52は、従来のレリーフ型ホログラムであるレインボウ型のホログラム画像を用いた。
【0047】
OVD層63はエンボス成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られ、基材61及び光学機能層64との接着性が良好である樹脂であって、以下の配合比からなる組成物がグラビア印刷法により、乾燥温度110℃、厚さ0.5μmで形成されている。
【0048】
<OVD層の組成>
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 …25部
ウレタン樹脂 …10部
メチルエチルケトン …70部
トルエン …30部
【0049】
また、レリーフOVD形成面は、このような組成のOVD層63に対し、版面温度が165℃のプレス成型を行うことにより形成されている。
【0050】
このOVD層63としては、他にポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレートなどの熱硬化性樹脂あるいはこれらの混合物、さらにはラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性材料などが使用可能であり、また、上記以外のものでも、回折構造を形成可能な安定性を有する材料であれば使用可能である。
【0051】
また光学機能層64は、光線を反射する層であって、その光学膜厚や構成に応じて各波長における反射率を変化させる干渉機能を有する層であり、画像を表現するための層である。本実施例2では、視感反射率を周期的に変化させた偽造防止装飾媒体51を使用しており、それぞれ以下の膜厚の範囲で光学機能層64が、真空蒸着法及びスパッタリング法により形成されている。
【0052】
最低視感反射率部分の光学機能層64(最高膜厚)
高屈折率セラミック膜…TiO2 (n=2.0) 120nm
最高視感反射率部分の光学機能層64(最低膜厚)
高屈折率セラミック膜…TiO2 (n=2.0) 90nm
【0053】
視感反射率を周期的に変化させる方法としては、通常の真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法を行う際に、マスクを用いて部分的に蒸着密度を変える部分蒸着方法を用い、偽造防止装飾媒体51の光学機能層64を作製した。
【0054】
具体的には、まず図7に示すように、格子状のマスク41を蒸着源72と被蒸着フィルム73の中間に設け、光学膜厚が240nmとなるように蒸着を行う。これにより、マスク開口部42のエッジから蒸着物が回折し、開口部の直下には最大の光学膜厚240nmの高屈折率セラミック膜が形成され、マスク遮蔽部43の直下に近づくに従って光学膜厚が減少し、マスク遮蔽部43の直下には最小の光学膜厚180nmの高屈折率セラミック膜が形成される。
【0055】
また粘着層65は、以下の配合比からなる組成物がグラビア印刷法により、乾燥温度110℃、厚さ20μmで形成されている。
【0056】
<粘着層の組成>
アクリル系粘着剤 …30部
メチルエチルケトン …35部
トルエン …35部
【0057】
なお、粘着層65を形成する材料としては、例えば、ブチルゴム系、天然ゴム系、シリコン系、ポリイソブチル系等の粘着成分と、アルキルメタクリレート、ビニルエステル、アクリルニトリル、スチレン、ビニルモノマー等の凝集成分と、不飽和カルボン酸、ヒドロキシル基含有モノマー、アクリルニトリル等に代表される改質成分や重合開始剤、可塑剤、硬化剤、硬化促進剤、酸化防止剤等の添加剤を必要に応じて添加した粘着剤が適用できるが、これらに限定されるものでは無い。
【0058】
上記方法により作製した偽造防止装飾媒体11は、従来の加熱転写法(ホットスタンプ、ロール転写、ラミネートなど)により、様々な媒体に転写して用いることができる。
【0059】
【発明の効果】
以上の構成による本発明によれば、キラキラ感の有無(視感反射率の差)が周期的に変化する画像をOVD画像と重ねて表現することができ、装飾効果の高い新規なOVD装飾媒体を提供することができた。
またこれにより、媒体そのものを真似することが困難なもので、しかも偽造・改竄などの不正行為の形跡の発見が容易であって、本物と偽物を確実に識別できるような、新規なOVD偽造防止媒体を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における偽造防止装飾媒体を示す平面図である。
【図2】上記偽造防止装飾媒体の一実施例における積層構成を示す断面図である。
【図3】本発明の偽造防止装飾媒体に係るTiO2 の光学膜厚と視感反射率の関係を示す相関図いある。
【図4】本発明の偽造防止装飾媒体に係るマスクの一形態を示す平面図である。
【図5】本発明の他の実施例における偽造防止装飾媒体を示す平面図である。
【図6】上記偽造防止装飾媒体の一積層構成を示す断面図である。
【図7】本発明の偽造防止装飾媒体に係る光学機能層形成方法の一例を示す模式図であり、(A)は、側面からの図で、(B)は、底面の図である。
【符号の説明】
11,51…偽造防止装飾媒体
14L …低視感反射率エリア
14H …高視感反射率エリア
21,61…基材
22 …剥離保護層
24,64…光学機能層
25 …接着層
41 …マスク
42 …マスク開口部
43 …マスク遮蔽部
52 …OVD画像
63 …OVD層
65 …粘着層
71 …蒸着装置
72 …蒸着源
73 …被蒸着フィルム[0001]
[Industrial application fields]
The present invention is, for example, a forgery prevention medium in the form of a transfer foil transferred to a credit card, securities, certificates, etc., a forgery prevention medium in a seal form to be affixed to an article, an anti-counterfeit medium molded into the article itself, or More particularly, the present invention relates to a forgery prevention medium having an OVD (Optical Variable Device) such as a hologram or a grating.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a means of preventing forgery, it is difficult to imitate the medium itself, and it is easy to find evidence of fraudulent acts such as forgery and tampering, so that genuine and counterfeit can be reliably identified. The method is taken. For example, like securities such as banknotes, they themselves are finely processed or colored in a color that is difficult to imitate, or the material is made special, which is illegal in structure or printing technology, or illegal by copying machines Forgery is prevented by making it difficult to forge by copying. Furthermore, advances in printing and duplication technology or advances in digital technology such as copiers make it possible to easily reproduce even if the above-mentioned fine processing is performed or colors are difficult to imitate. Correspondingly, the technology has been advanced in the direction of making the processing technology finer and making replication / counterfeiting more difficult.
[0003]
Also, there is a method for preventing forgery by adhering and adhering a special optical medium having a metallic luster, which is difficult to be duplicated or forged by a copying machine or printing technology, to an article in the form of a transfer foil or a seal. For example, there is a method of forming a hologram image or a grating image on a card by bonding an OVD transfer foil to the card by thermal transfer, such as a credit card.
[0004]
Holograms and gratings have an interference function that causes a unique color shift (color change of reflected light) depending on the viewing angle, and the visible colors differ depending on the observation position. It is a forgery prevention medium that has a special anti-counterfeit effect against forgery using a color copying machine.
[0005]
On the other hand, holograms and gratings have effects such as optical effects (glittering) and 3D stereoscopic expression, and thus can be said to be very excellent as decoration media.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been devised in order to make forgery of these prior arts more difficult, and the problem is that it is difficult to imitate the medium itself, and fraud such as forgery and tampering It is an object of the present invention to provide a novel anti-counterfeit medium that makes it easy to find a trace of an action and that can reliably identify a genuine article and a counterfeit article.
[0007]
In addition, the present invention provides a novel decorative effect for these conventional OVDs (generically referring to the above-described optical image representation techniques such as hologram images and grating images, referred to as OVD, hereinafter referred to as OVD). The object of the present invention is to provide a novel decorative medium that expresses an image based on the presence or absence of glitter.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention partially changes the optical reflectance of the optical functional layer by partially changing the optical film thickness of the optical functional layer, so that the presence or absence of a glittering feeling (luminous reflection) The present invention provides a forgery-preventing decorative medium that expresses an image by causing a difference in rate).
[0009]
That is, the invention of claim 1 is a forgery-proof decorative medium having an optical functional layer on a support, wherein the optical functional layer has an optical film thickness of 210 nm to 300 nm. And a high luminous reflectance area having an optical film thickness of 100 nm or more and 210 nm or less, and a low luminous reflectance area and a high luminous reflectance area are alternately arranged. It is.
[0010]
The invention of claim 2 is an anti-counterfeit decorative medium having a structure in which the support, an OVD layer, and an optical functional layer are laminated at least, and the optical functional layer has an optical film thickness of 210 nm to 300 nm. It has a low luminous reflectance area and a high luminous reflectance area having an optical film thickness of 100 nm to 210 nm, and the low luminous reflectance area and the high luminous reflectance area are alternately arranged. It is a forgery prevention decorative medium.
[0011]
Further, the invention of claim 3 is the forgery-preventing decorative medium according to claim 1 or claim 2, wherein the luminous reflectance of the low luminous reflectance area of the optical functional layer is 10.0 or less, and high vision. The visual reflectance of the reflective area is set to 15.0 or more, and the line drawing is expressed by the contrast between the low luminous reflectance area and the high luminous reflectance area.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The anti-counterfeit decorative medium of the present invention is an anti-counterfeit decorative medium having a structure including an optical functional layer on a support, and the optical functional layer of the optical functional layer is partially changed by changing the optical film thickness of the optical functional layer. The visual reflectance is partially changed, and an image is expressed by a difference in the luminous reflectance. The luminous reflectance in the low luminous reflectance area of the optical function layer is 10.0. The line drawing is expressed by the contrast between the low luminous reflectance area and the high luminous reflectance area, with the luminous reflectance of the high luminous reflectance area being 15.0 or higher.
[0013]
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
<Example 1>
Hereinafter, in the first embodiment, a forgery prevention decorative medium in the form of a transfer foil will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view showing an anti-counterfeit decorative medium according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a laminated structure in the anti-counterfeit decorative medium according to an embodiment of the present invention.
[0014]
As shown in FIGS. 1 and 2, the anti-counterfeit decorative medium 11 in Example 1 has a structure in which a peeling protective layer 22, an optical functional layer 24, and an adhesive layer 25 are sequentially laminated on a base material 21 as a support. It has become.
[0015]
The base material 21 is a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm. Other base materials are selected from synthetic resins such as polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene, natural resins, paper, synthetic paper, etc., or selected from the above and combined. The complex can be used.
[0016]
The peeling protective layer 22 is provided to protect the optical functional layer 24, and a composition having the following blending ratio is formed by a gravure printing method at a drying temperature of 110 ° C. and a thickness of 0.8 μm. Has been.
[0017]
<Composition of peeling protective layer>
Acrylic resin ... 30 parts Polyester resin ... 5 parts Toluene ... 40 parts Methyl ethyl ketone ... 40 parts Methyl isobutyl ketone ... 20 parts
As the protective layer 22, a thermoplastic acrylic resin, a chlorinated rubber resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, a cellulose resin, a chlorinated polypropylene resin, or oil silicon, a fatty acid amide, and zinc stearate are added to these. Things are usable. Or you may use an inorganic substance.
[0019]
The optical functional layer 24 is a layer that reflects light rays and has an interference function that changes the reflectance at each wavelength in accordance with the optical film thickness and configuration, and expresses (forms) an image. Layer. In the first embodiment, the anti-counterfeit decoration medium 11 in which two types of areas of the low luminous reflectance area 14L and the high luminous reflectance area 14H are alternately arranged is used, and optical function layers having the following configurations are used. 24 is formed by a vacuum evaporation method and a sputtering method.
[0020]
<Optical functional layer of low luminous reflectance area 14L>
High refractive index ceramic film: TiO 2 (n = 2.0) 130 nm
[0021]
<Optical functional layer of high luminous reflectance area 14H>
High refractive index ceramic film: TiO 2 (n = 2.0) 65 nm
[0022]
Further, in Example 1, the optical function layer 24 is configured to use a high refractive index ceramic film, but in addition, a metal thin film / high refractive index ceramic film / metal film, metal thin film / low refractive index ceramic film / metal. Laminate structure of film, high refractive index ceramic film / low refractive index ceramic film / high refractive index ceramic film, metal thin film / high refractive index ceramic film / low refractive index ceramic film / high refractive index ceramic film / metal film, etc. is possible Any layer structure having an interference function can be used.
[0023]
In addition, zinc sulfide, zirconium dioxide, indium oxide, tin oxide, tantalum oxide, cerium oxide, zinc oxide, and the like can be used as the ceramic used for the high refractive index ceramic film of the optical function layer 24.
[0024]
As a method for forming this high refractive index ceramic film, any film forming method can be used as long as the film thickness can be controlled. In particular, the dry method is excellent for the formation of a thin film. For this, a normal vapor deposition method, a physical vapor deposition method such as sputtering, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method can be used.
[0025]
Although not shown in the first embodiment, metal materials such as aluminum, iron, titanium, gold, silver, and copper can be used as the metal thin film and metal film that can be used for the optical function layer 24.
Moreover, as a method for forming the metal thin film and the metal film, thin film forming means such as vapor deposition and sputtering can be used, and can be arbitrarily selected according to the material constituting the metal thin film and the metal film.
[0026]
Similarly, as the low refractive index ceramic film that can be used for the optical functional layer 24, magnesium fluoride, calcium fluoride, aluminum fluoride, cerium fluoride, silicon dioxide, aluminum oxide, magnesium oxide, and the like can be used. Yes.
Moreover, as a method of forming this low refractive index ceramic film, a method similar to the method of forming the high refractive index ceramic film can be used.
[0027]
The adhesive layer 25 is formed by a gravure printing method with a composition having the following blending ratio at a drying temperature of 110 ° C. and a thickness of 1.0 μm.
[0028]
<Composition of adhesive layer>
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 30 parts polyester resin 20 parts methyl ethyl ketone 50 parts toluene 50 parts
In addition, as the adhesive layer 25, other than the above, any one that is usually used as long as it does not alter or affect the optical functional layer 24 may be used. For example, acrylic adhesives, polyester polyamides, and the like can be used. It is not limited to.
[0030]
The two types of optical functional layers 24 (the low luminous reflectance area 14L and the high luminous reflectance area 14H) having the above configuration can change the luminous reflectance by changing the optical film thickness. The luminous reflectance and the optical film thickness will be described below.
<Definition of luminous reflectance Y>
The luminous reflectance Y in the embodiment of the present invention is a value measured based on CIE1931, and corresponds to an observation visual field of 2 degrees. Actually, the luminous reflectance Y is obtained by the following equation [Equation 1]. The illumination light was measured using standard illumination C.
[0031]
[Expression 1]
Figure 0004168471
[0032]
<Definition of optical film thickness>
The optical film thickness nd (nm) in the embodiment of the present invention is obtained by multiplying the refractive index n of the object and the actual film thickness d (nm) of the object. The reflectance Y changes. That is, although only the method for changing the actual film thickness d is described in this embodiment, the present invention can be achieved by a method for changing the refractive index n.
[0033]
As a result of experiments by the inventors, the relationship between the optical film thickness and luminous reflectance of TiO 2 , which is the high refractive index ceramic film used in Example 1, is as shown in FIG. A luminous reflectance of 13.0 was found as a boundary value that felt dark.
[0034]
From the above experimental results, the optical film thickness of TiO 2 , which is a high refractive index ceramic film, is 210 nm or more and 300 nm or less so that the low luminous reflectance area 14L has a luminous reflectance of 13.0 or less. In the area 14H, the optical functional layer 24 was formed by setting the optical film thickness of TiO 2 which is a high refractive index ceramic film to 100 nm or more and 210 nm or less so that the luminous reflectance is 13.0 or more.
[0035]
In the case where a line drawing is used for an image displayed by causing the optical function layer 24 to have the presence or absence of glitter, the low luminous reflectance area 14L has a luminous reflectance of 10 to increase the image contrast. It is desirable that the luminous reflectance of the high luminous reflectance area 14H is 15.0 or higher.
In Example 1, the optical film thickness is 260 nm so that the luminous reflectance of the low luminous reflectance area 14L is 8.0, and the luminous reflectance of the high luminous reflectance area 14H is 27.0. Thus, the optical functional layer 24 was formed with an optical film thickness of 130 nm.
[0036]
In addition, as a method of alternately arranging the two types of areas of the low reflectance area 14L and the high reflectance area 14H, a chemical vapor deposition method such as a normal vacuum deposition method, a sputtering method, or a chemical method such as a CVD method is used. When performing the vapor deposition method, the optical functional layer 24 of the anti-counterfeit decorative medium 11 was produced by using a partial vapor deposition method in which vapor deposition was partially performed using a mask.
[0037]
Specifically, first, vapor deposition is performed using a lattice-shaped mask 41 as shown in FIG. 4 so that the optical film thickness becomes 130 nm. As a result, a high refractive index ceramic film having an optical film thickness of 130 nm is formed in the mask opening portion 42, and no high refractive index ceramic film is formed in the mask shielding portion 43.
[0038]
Next, the mask 41 is removed, and vapor deposition is performed again so that the optical film thickness becomes 130 nm. As a result, the portion laminated on the high refractive index ceramic film with an optical film thickness of 130 nm formed by the mask opening 42 becomes the low reflectance area 14L with an optical film thickness of 260 nm, and the high shielding index ceramic film is formed by the mask shielding part 43. The portion laminated on the portion where no is formed becomes a high reflectance area 14H having an optical film thickness of 130 nm.
[0039]
The anti-counterfeit decorative medium 11 produced by the above method can be transferred to various media using a conventional heat transfer method (hot stamp, roll transfer, laminate, etc.).
[0040]
As described above, according to the first embodiment of the present invention, a stripe-like image can be expressed by the presence or absence of glitter (difference in luminous reflectance), and a novel decoration medium having a high decoration effect is provided. We were able to.
In addition, it is difficult to imitate the medium itself, and it is easy to find the evidence of fraudulent acts such as counterfeiting and tampering. Could be provided.
[0041]
<Example 2>
In Embodiment 2 of the present invention, an anti-counterfeit decorative medium of OVD label type will be described with reference to the drawings.
FIG. 5 is a plan view showing an anti-counterfeit decorative medium according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view showing a laminated structure of the anti-counterfeit decorative medium.
[0042]
In the forgery prevention decorative medium 51, an OVD layer 63 is formed on a substrate 61 as a support, and an optical functional layer 64 and an adhesive layer 65 are sequentially formed.
[0043]
The substrate 61 is a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm. As this base material, those described in Example 1 can be used.
[0044]
Further, the OVD layer 63 has a structure in which a relief type OVD 63 a is formed on the surface opposite to the base 61.
[0045]
The relief type OVD 63 a can be formed by a known method such as heating and pressing a nickel press plate on which a fine uneven pattern constituting the relief type OVD is formed on the OVD layer 63.
[0046]
As the OVD image 52 by the relief type OVD, a rainbow type hologram image which is a conventional relief type hologram is used.
[0047]
The OVD layer 63 is a resin having good embossing formability, hardly causing press unevenness, obtaining a bright reproduced image, and having good adhesion to the base material 61 and the optical function layer 64, and has the following blending ratio. The composition is formed by a gravure printing method at a drying temperature of 110 ° C. and a thickness of 0.5 μm.
[0048]
<Composition of OVD layer>
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 25 parts urethane resin 10 parts methyl ethyl ketone 70 parts toluene 30 parts
The relief OVD formation surface is formed by performing press molding with a plate surface temperature of 165 ° C. on the OVD layer 63 having such a composition.
[0050]
As this OVD layer 63, there are other thermoplastic resins such as polycarbonate resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, unsaturated polyester resin, melamine resin, epoxy resin, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy ( Thermosetting resins such as (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and triazine (meth) acrylate, or a mixture thereof, and thermoformable materials having radically polymerizable unsaturated groups can be used. In addition, materials other than those described above can be used as long as they are stable materials capable of forming a diffractive structure.
[0051]
The optical function layer 64 is a layer that reflects light and has an interference function of changing the reflectance at each wavelength according to the optical film thickness and configuration, and is a layer for expressing an image. . In Example 2, the anti-counterfeit decorative medium 51 in which the luminous reflectance is periodically changed is used, and the optical functional layer 64 is formed by a vacuum deposition method and a sputtering method in the following film thickness ranges, respectively. Has been.
[0052]
Optical functional layer 64 (maximum film thickness) of the lowest luminous reflectance part
High refractive index ceramic film TiO 2 (n = 2.0) 120 nm
Optical functional layer 64 (minimum film thickness) of the highest luminous reflectance part
High refractive index ceramic film: TiO 2 (n = 2.0) 90 nm
[0053]
As a method of periodically changing the luminous reflectance, a mask is used when performing a general vapor deposition method, a physical vapor deposition method such as sputtering, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method. The optical functional layer 64 of the anti-counterfeit decorative medium 51 was produced by using a partial vapor deposition method in which the vapor deposition density was partially changed.
[0054]
Specifically, as shown in FIG. 7, first, a lattice-like mask 41 is provided between the vapor deposition source 72 and the film to be vapor-deposited 73, and vapor deposition is performed so that the optical film thickness is 240 nm. As a result, the deposited material is diffracted from the edge of the mask opening 42, and a high refractive index ceramic film having a maximum optical film thickness of 240 nm is formed immediately below the opening, and the optical film thickness increases as it approaches directly below the mask shielding part 43. And a high refractive index ceramic film having a minimum optical film thickness of 180 nm is formed immediately below the mask shielding part 43.
[0055]
The adhesive layer 65 is formed by a gravure printing method with a composition having the following blending ratio at a drying temperature of 110 ° C. and a thickness of 20 μm.
[0056]
<Composition of adhesive layer>
Acrylic adhesive ... 30 parts methyl ethyl ketone ... 35 parts toluene ... 35 parts
Examples of the material for forming the adhesive layer 65 include adhesive components such as butyl rubber, natural rubber, silicon, and polyisobutyl, and aggregating components such as alkyl methacrylate, vinyl ester, acrylonitrile, styrene, and vinyl monomer. And additives such as unsaturated carboxylic acids, hydroxyl group-containing monomers, acrylonitrile, and other modifiers, polymerization initiators, plasticizers, curing agents, curing accelerators, and antioxidants are added as necessary. However, it is not limited to these.
[0058]
The anti-counterfeit decorative medium 11 produced by the above method can be transferred to various media using a conventional heat transfer method (hot stamp, roll transfer, laminate, etc.).
[0059]
【The invention's effect】
According to the present invention having the above-described configuration, a novel OVD decoration medium having a high decoration effect, in which an image in which the presence / absence of a glittering feeling (difference in luminous reflectance) is periodically changed can be overlaid with an OVD image. Could be provided.
In addition, it is difficult to imitate the medium itself, and it is easy to find the evidence of fraudulent acts such as counterfeiting and tampering, and new OVD forgery prevention that can reliably identify genuine and counterfeit The media could be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing an anti-counterfeit decorative medium according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a laminated structure in an example of the forgery prevention decorative medium.
FIG. 3 is a correlation diagram showing the relationship between the optical film thickness of TiO 2 and the luminous reflectance according to the anti-counterfeit decorative medium of the present invention.
FIG. 4 is a plan view showing one embodiment of a mask according to the anti-counterfeit decorative medium of the present invention.
FIG. 5 is a plan view showing an anti-counterfeit decorative medium according to another embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a laminated structure of the forgery prevention decorative medium.
7A and 7B are schematic views showing an example of an optical functional layer forming method according to the anti-counterfeit decorative medium of the present invention, in which FIG. 7A is a side view, and FIG. 7B is a bottom view.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11,51 ... Counterfeit prevention decoration medium 14L ... Low luminous reflectance area 14H ... High luminous reflectance area 21, 61 ... Base material 22 ... Peeling protective layer 24, 64 ... Optical functional layer 25 ... Adhesive layer 41 ... Mask 42 ... mask opening 43 ... mask shielding part 52 ... OVD image 63 ... OVD layer 65 ... adhesive layer 71 ... vapor deposition apparatus 72 ... vapor deposition source 73 ... film to be deposited

Claims (3)

支持体上に、光学機能層を含む構成の偽造防止装飾媒体であって、前記光学機能層が、光学膜厚210nm以上300nm以下である低視感反射率エリアと光学膜厚100nm以上210nm以下である高視感反射率エリアを有し、かつ低視感反射率エリアと高視感反射率エリアを交互に配置してなることを特徴とする偽造防止装飾媒体。An anti-counterfeit decorative medium having an optical functional layer on a support, wherein the optical functional layer has a low luminous reflectance area having an optical film thickness of 210 nm to 300 nm and an optical film thickness of 100 nm to 210 nm. An anti-counterfeit decoration medium having a certain high luminous reflectance area, wherein the low luminous reflectance area and the high luminous reflectance area are alternately arranged . 前記支持体と、OVD層、光学機能層が少なくとも積層された構成の偽造防止装飾媒体であって、前記光学機能層が、光学膜厚210nm以上300nm以下である低視感反射率エリアと光学膜厚100nm以上210nm以下である高視感反射率エリアを有し、かつ低視感反射率エリアと高視感反射率エリアを交互に配置してなることを特徴とする偽造防止装飾媒体。An anti-counterfeit decorative medium having a structure in which at least the support, an OVD layer, and an optical functional layer are laminated, wherein the optical functional layer has an optical film thickness of 210 nm to 300 nm and a low luminous reflectance area and an optical film A forgery-preventing decorative medium having a high luminous reflectance area having a thickness of 100 nm or more and 210 nm or less, and comprising alternately arranging a low luminous reflectance area and a high luminous reflectance area . 前記光学機能層の低視感反射率エリアの視感反射率を10.0以下とし、かつ高視感反射率エリアの視感反射率を15.0以上として、低視感反射率エリアと高視感反射率エリアのコントラストにより線画を表現したことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の偽造防止装飾媒体。  When the luminous reflectance of the low luminous reflectance area of the optical functional layer is 10.0 or less, and the luminous reflectance of the high luminous reflectance area is 15.0 or more, the low luminous reflectance area and the high luminous reflectance area are high. 3. The forgery-preventing decorative medium according to claim 1, wherein a line drawing is expressed by contrast of the luminous reflectance area.
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