JP4153442B2 - Manufacturing method of optical module - Google Patents

Manufacturing method of optical module Download PDF

Info

Publication number
JP4153442B2
JP4153442B2 JP2004025934A JP2004025934A JP4153442B2 JP 4153442 B2 JP4153442 B2 JP 4153442B2 JP 2004025934 A JP2004025934 A JP 2004025934A JP 2004025934 A JP2004025934 A JP 2004025934A JP 4153442 B2 JP4153442 B2 JP 4153442B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive layer
recess
transparent substrate
optical module
microlens array
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004025934A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005215644A (en
Inventor
昇 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2004025934A priority Critical patent/JP4153442B2/en
Publication of JP2005215644A publication Critical patent/JP2005215644A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4153442B2 publication Critical patent/JP4153442B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は、光モジュールの製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing an optical module.

半導体レーザ、面発光レーザなどの発光素子から出射される光と、光ファイバなどの光伝達媒体との光接続に用いるデバイスとして、光モジュールが知られている(たとえば、特許文献1参照)。   An optical module is known as a device used for optical connection between light emitted from a light emitting element such as a semiconductor laser or a surface emitting laser and an optical transmission medium such as an optical fiber (for example, see Patent Document 1).

図13は、典型的な光モジュール1の構成を例示する図である。光モジュール1は、レンズアレイ基板2の一方の面2aに複数のマイクロレンズ3aが配列されたマイクロレンズアレイ3が形成され、マイクロレンズアレイ3が形成された面に対向する反対側の面である他方の面2b側に光ファイバ4を挿入し固定する凹所5が形成され、該凹所5に光ファイバ4が固定されたものである。不図示の光源から出射された光6は、マイクロレンズアレイ3の各マイクロレンズ3aで集光され、凹所5に固定された光ファイバ4に入射する。または、光ファイバ4から出射された光は、マイクロレンズ3aでコリメートされた光6としてレンズアレイ基板2から出射する。   FIG. 13 is a diagram illustrating a configuration of a typical optical module 1. The optical module 1 has a microlens array 3 in which a plurality of microlenses 3a are arranged on one surface 2a of a lens array substrate 2, and is an opposite surface opposite to the surface on which the microlens array 3 is formed. A recess 5 for inserting and fixing the optical fiber 4 is formed on the other surface 2 b side, and the optical fiber 4 is fixed to the recess 5. Light 6 emitted from a light source (not shown) is collected by each microlens 3 a of the microlens array 3 and enters the optical fiber 4 fixed in the recess 5. Alternatively, the light emitted from the optical fiber 4 is emitted from the lens array substrate 2 as light 6 collimated by the microlens 3a.

図14は、従来の光モジュールの製造方法を説明する図である。図14を参照して典型的な光モジュール1の従来の製造方法を説明する。図14(a)に示す工程では、一方の面2aにマイクロレンズアレイ3が形成されたレンズアレイ基板2の他方の面2b上に、ゾルゲル材料を塗布してゾルゲル層7を形成する。図14(b)に示す工程では、光ファイバを挿入し固定する凹所5の反転パターンが形成された成形型8をゾルゲル層7に押付け、ゾルゲル層7に凹所5の反転パターンを転写する。図14(c)に示す工程では、成形型8をゾルゲル層7から剥離させ、凹所5が形成されたゾルゲル層7を有するレンズアレイ基板2を焼成し、ゾルゲル層7を硬化させて、光ファイバ4を挿入し固定する凹所5が形成された光モジュール1が製造される。   FIG. 14 is a diagram for explaining a conventional method of manufacturing an optical module. A conventional method for manufacturing a typical optical module 1 will be described with reference to FIG. 14A, a sol-gel layer 7 is formed by applying a sol-gel material on the other surface 2b of the lens array substrate 2 on which the microlens array 3 is formed on one surface 2a. In the step shown in FIG. 14B, the mold 8 on which the inverted pattern of the recess 5 for inserting and fixing the optical fiber is pressed against the sol-gel layer 7, and the inverted pattern of the recess 5 is transferred to the sol-gel layer 7. . In the step shown in FIG. 14C, the mold 8 is peeled from the sol-gel layer 7, the lens array substrate 2 having the sol-gel layer 7 in which the recess 5 is formed is baked, the sol-gel layer 7 is cured, and the light The optical module 1 in which the recess 5 for inserting and fixing the fiber 4 is formed is manufactured.

しかしながら、特許文献1に開示される光モジュール1の製造方法では以下の問題がある。光ファイバ4は、コアとコアの周囲を覆うクラッド層とで形成され、光がコア中を伝達する。光モジュール1では、発光素子から出射される光をコア部に集光して入射させる必要があるけれども、コア部の直径は数μmと小さいので、マイクロレンズアレイ3と光ファイバ4とには高精度な位置決め(以後、アライメントと呼ぶ)が要求される。   However, the manufacturing method of the optical module 1 disclosed in Patent Document 1 has the following problems. The optical fiber 4 is formed of a core and a cladding layer covering the periphery of the core, and light is transmitted through the core. In the optical module 1, it is necessary to collect the light emitted from the light emitting element and make it incident on the core portion. However, since the diameter of the core portion is as small as several μm, the microlens array 3 and the optical fiber 4 have a high height. Accurate positioning (hereinafter referred to as alignment) is required.

特許文献1に開示される製造方法においては、成形型8を使用したゾルゲル層7の成形によって光ファイバ4を固定する凹所5を形成するけれども、マイクロレンズアレイ3と成形型8とのアライメント方法については何ら開示されていない。したがって、特許文献1に開示される製造方法に基づいて単純に成形した場合、マイクロレンズアレイ3と凹所5とに位置ずれが生じることとなり、光伝達効率の低下を招くという問題がある。   In the manufacturing method disclosed in Patent Document 1, the recess 5 for fixing the optical fiber 4 is formed by molding the sol-gel layer 7 using the molding die 8, but the method for aligning the microlens array 3 and the molding die 8. There is no disclosure about. Therefore, when it shape | molds simply based on the manufacturing method disclosed by patent document 1, a position shift will arise in the microlens array 3 and the recessed part 5, and there exists a problem of causing the fall of light transmission efficiency.

また特許文献1では、凹所5を形成する部材としてゾルゲル材料に代えて紫外線硬化樹脂を用いることも開示される。ゾルゲル材料に代えて紫外線硬化樹脂を用いる場合、成形型8によって紫外線硬化樹脂に凹所5の反転パターンを転写し、紫外線硬化樹脂を硬化させた後、レンズアレイ基板2から成形型8を剥離する工程が存在する。近年、光モジュールは、小型化が希求されており、小型化を実現する手段として、光ファイバの小径化、光モジュールを構成するマイクロレンズの小径化および短焦点化、レンズアレイ基板の薄型化が試みられている。   Patent Document 1 also discloses that an ultraviolet curable resin is used instead of the sol-gel material as a member for forming the recess 5. When an ultraviolet curable resin is used instead of the sol-gel material, the reversal pattern of the recess 5 is transferred to the ultraviolet curable resin by the mold 8 and the ultraviolet curable resin is cured, and then the mold 8 is peeled from the lens array substrate 2. There is a process. In recent years, there has been a demand for miniaturization of optical modules, and as means for realizing miniaturization, the diameter of the optical fiber, the diameter and shortening of the microlens constituting the optical module, and the thinning of the lens array substrate are reduced. Has been tried.

しかしながら、特許文献1に開示される製造方法においては、紫外線硬化樹脂を硬化させた後、レンズアレイ基板2から成形型8を剥離する工程が存在し、この剥離工程では、レンズアレイ基板2に応力が加わるので、レンズアレイ基板2を薄くすると、レンズアレイ基板2が応力に耐えられず破損するという問題があり、レンズアレイ基板2の薄型化が阻害される。   However, in the manufacturing method disclosed in Patent Document 1, there is a step of peeling the mold 8 from the lens array substrate 2 after curing the ultraviolet curable resin, and in this peeling step, stress is applied to the lens array substrate 2. Therefore, when the lens array substrate 2 is thinned, there is a problem that the lens array substrate 2 cannot withstand the stress and is damaged, and the thinning of the lens array substrate 2 is hindered.

また、レンズアレイ基板2にマイクロレンズアレイ3を形成する工程と、ゾルゲル層7または紫外線硬化樹脂層に凹所を形成する工程とを、別工程で行うので、製造に多数の工程を要し、生産効率を低下させるという問題もある。   Moreover, since the process of forming the microlens array 3 on the lens array substrate 2 and the process of forming the recess in the sol-gel layer 7 or the ultraviolet curable resin layer are performed in separate processes, many processes are required for production. There is also the problem of reducing production efficiency.

特開2002−350674号公報JP 2002-350674 A

本発明は上記課題を鑑みて成されたものであり、その目的は、マイクロレンズアレイと光ファイバを挿入し固定する凹所とのアライメント精度に優れた光モジュールを少ない製造工程で製造することのできる製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to manufacture an optical module excellent in alignment accuracy between a microlens array and a recess into which an optical fiber is inserted and fixed in a small number of manufacturing steps. It is to provide a manufacturing method that can be used.

本発明は、透明基板の一方の面側にマイクロレンズアレイが形成され、透明基板の一方の面に対向する反対側の面である他方の面側に、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズに対応するように光ファイバを挿入する凹所が形成された光モジュールの製造方法において、
透明基板の一方の面上にネガ型感光層を形成する工程と、
透明基板の他方の面上にポジ型感光層を形成する工程と、
ネガ型感光層またはポジ型感光層のいずれか1つの感光層の側に、感光層から離間して遮光マスクを配置する工程と、
遮光マスクの光通過開口部を通してネガ型感光層またはポジ型感光層に光を照射して露光した光を透明基板を透過させてポジ型感光層またはネガ型感光層に照射して露光する工程と、
ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程と、
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程とを含むことを特徴とする光モジュールの製造方法である。
The present invention corresponds to a microlens that forms a microlens array on the other surface side, which is the opposite surface opposite to one surface of the transparent substrate, with the microlens array formed on one surface side of the transparent substrate. In the method of manufacturing an optical module in which a recess for inserting an optical fiber is formed,
Forming a negative photosensitive layer on one surface of the transparent substrate;
Forming a positive photosensitive layer on the other surface of the transparent substrate;
A step of disposing a light-shielding mask on the side of any one of the negative photosensitive layer and the positive photosensitive layer and spaced from the photosensitive layer;
A process of exposing the positive photosensitive layer or the negative photosensitive layer by irradiating the negative photosensitive layer or the positive photosensitive layer with light through the transparent substrate through the light passage opening of the light shielding mask. When,
Developing a negative photosensitive layer to form a microlens array;
And a step of developing a positive photosensitive layer to form a recess.

また本発明は、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、
凹所が形成されたポジ型感光層を加熱処理する工程を含むことを特徴とする。
In the present invention, after the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess,
The method includes a step of heat-treating the positive photosensitive layer in which the recess is formed.

また本発明は、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、
凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程を含むことを特徴とする。
In the present invention, after the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess,
The method includes a step of etching the other surface of the transparent substrate including the positive photosensitive layer in which the recess is formed to form the recess in the transparent substrate.

また本発明は、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、
マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程を含むことを特徴とする。
The present invention also includes a step of developing a negative photosensitive layer to form a microlens array,
The method includes a step of forming a microlens array on a transparent substrate by etching one surface of a transparent substrate having a negative photosensitive layer on which a microlens array is formed.

また本発明は、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程と、
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程とを含むことを特徴とする。
In the present invention, after the step of developing the negative photosensitive layer to form the microlens array, one side of the transparent substrate having the negative photosensitive layer on which the microlens array is formed is etched to form a microlens array on the transparent substrate. Forming a lens array;
After the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess, etching the other surface of the transparent substrate having the positive photosensitive layer with the recess formed to form the recess in the transparent substrate. It is characterized by including.

また本発明は、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程と、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程とにおいて用いられる現像液が、アルカリ性現像液であることを特徴とする。   In the present invention, the developer used in the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess and the step of developing the negative photosensitive layer to form the microlens array is an alkaline developer. It is characterized by.

本発明によれば、透明基板の一方の面側にネガ型感光層を形成し、透明基板の他方の面側にポジ型感光層を形成し、いずれか一方の感光層側に遮光マスクを離間して配置し、遮光マスクを通してネガ型感光層とポジ型感光層とに対して同時に光を照射して露光し、その後ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成し、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する。このように、マイクロレンズアレイおよび光ファイバを挿入し固定するための凹所の形成を、1つの遮光マスクを用いて同時に露光して行うことができるので、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズと凹所とを高精度にアライメントして形成することが可能である。また省工程を実現することができる。さらに、マイクロレンズアレイと凹所との形成工程およびその後の工程において、部材を透明基板から剥離するなどの透明基板に応力を加えることがないので、透明基板を薄くし、光モジュールを薄型化することが可能になる。   According to the present invention, a negative photosensitive layer is formed on one surface side of a transparent substrate, a positive photosensitive layer is formed on the other surface side of the transparent substrate, and a light-shielding mask is separated on one of the photosensitive layer sides. The negative photosensitive layer and the positive photosensitive layer are simultaneously irradiated with light through a light-shielding mask for exposure, and then the negative photosensitive layer is developed to form a microlens array. To develop a recess. As described above, since the recess for inserting and fixing the microlens array and the optical fiber can be simultaneously exposed using one light-shielding mask, the microlens and the recesses constituting the microlens array can be formed. Can be formed with high precision alignment. Moreover, a process saving can be realized. Further, in the step of forming the microlens array and the recess and the subsequent steps, stress is not applied to the transparent substrate such as peeling the member from the transparent substrate, so the transparent substrate is thinned and the optical module is thinned. It becomes possible.

また本発明によれば、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、凹所が形成されたポジ型感光層を加熱処理する工程が含まれる。この加熱処理によって、凹所を形成する部材の凹所に臨む部分のコーナが、曲率を有するように形成されるので、間口の広がった凹所が形成され、光ファイバの凹所に対する挿入を容易に行うことが可能になり、製造のタクトタイムが短縮される。   According to the invention, the step of developing the positive photosensitive layer and forming the recess includes the step of heat-treating the positive photosensitive layer in which the recess is formed. By this heat treatment, the corner of the member that forms the recess is formed to have a curvature, so that a recess having a wide opening is formed, and insertion into the recess of the optical fiber is easy. The tact time of manufacturing can be shortened.

また本発明によれば、ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程が含まれる。このことによって、透明基板の一方の面側に形成されたマイクロレンズアレイに対して、高精度にアライメントされた凹所を透明基板の他方の面に形成することができるので、凹所の強度を向上し、光ファイバが挿入固定される部分の健全性を一層向上することが可能になる。   According to the invention, after the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess, the other surface of the transparent substrate including the positive photosensitive layer having the recess is etched to form a recess in the transparent substrate. Forming a point. As a result, it is possible to form a recess that is aligned with high precision on the other surface of the transparent substrate with respect to the microlens array formed on the one surface side of the transparent substrate. This improves the soundness of the portion where the optical fiber is inserted and fixed.

また本発明によれば、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程が含まれる。このことによって、透明基板の一方の面にマイクロレンズアレイを形成することができるので、環境温度変化に伴うマイクロレンズアレイの位置ずれを少なくすることができる。   According to the invention, after the step of developing the negative photosensitive layer to form the microlens array, one surface of the transparent substrate including the negative photosensitive layer on which the microlens array is formed is etched to form the transparent substrate. Includes a step of forming a microlens array. As a result, the microlens array can be formed on one surface of the transparent substrate, so that the displacement of the microlens array due to environmental temperature changes can be reduced.

また本発明によれば、透明基板にエッチングして一方の面にマイクロレンズアレイを形成し、他方の面に凹所を形成する両方の工程が含まれるので、凹所の強度を向上して光ファイバが挿入固定される部分の健全性を一層向上するとともに、環境温度変化に伴うマイクロレンズアレイの位置ずれを少なくすることができる。   In addition, according to the present invention, both steps of forming a microlens array on one surface by etching on a transparent substrate and forming a recess on the other surface are included. The soundness of the portion where the fiber is inserted and fixed can be further improved, and the positional deviation of the microlens array due to the environmental temperature change can be reduced.

また本発明によれば、ポジ型感光層とネガ型感光層とは、ともにアルカリ性現像液で現像される。このことによって、ポジ型感光層およびネガ型感光層の現像を、同じ現像液を用いて同工程で行うことが可能になるので、製造工程を少なくし、現像液コストを低減することができる。   According to the invention, both the positive photosensitive layer and the negative photosensitive layer are developed with an alkaline developer. As a result, the positive photosensitive layer and the negative photosensitive layer can be developed in the same process using the same developer, so that the manufacturing process can be reduced and the developer cost can be reduced.

図1は本発明の光モジュールの製造方法に関する感光層の露光方法を説明する図であり、図2は図1に示す方法で露光された感光層を現像した後の感光層のプロファイルを示す図である。透明基板10の一方の面10a上に感光性材料である紫外線硬化樹脂を塗布して第1紫外線硬化樹脂層11を形成し、透明基板10の一方の面10aに対向する他方の面10b上に紫外線硬化樹脂を塗布して第2紫外線硬化樹脂層12を形成し、第1紫外線硬化樹脂層11から離間して配置された遮光マスク13の開口部14を通して紫外線15を照射して露光した場合、現像後の第1および第2紫外線硬化樹脂層11,12のプロファイルが、図2中のライン16のような曲面に形成される現象を、本発明者らは見出した。本発明は、以上の知見に基づくものである。   FIG. 1 is a diagram for explaining a photosensitive layer exposure method relating to the method for producing an optical module of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a profile of the photosensitive layer after developing the photosensitive layer exposed by the method shown in FIG. It is. An ultraviolet curable resin, which is a photosensitive material, is applied on one surface 10 a of the transparent substrate 10 to form a first ultraviolet curable resin layer 11. On the other surface 10 b facing the one surface 10 a of the transparent substrate 10. When the ultraviolet curable resin is applied to form the second ultraviolet curable resin layer 12 and exposed by irradiating the ultraviolet rays 15 through the openings 14 of the light shielding mask 13 disposed away from the first ultraviolet curable resin layer 11, The present inventors have found a phenomenon that the profiles of the first and second ultraviolet curable resin layers 11 and 12 after development are formed into curved surfaces such as the line 16 in FIG. The present invention is based on the above findings.

図3は、本発明の実施の一形態である光モジュール20および光モジュール20の製造方法を説明する図である。図3を参照して、本発明の光モジュール20および光モジュール20を製造する方法について説明する。図3(a)の工程では、透明基板21の一方の面21a上にネガ型感光層22を形成し、透明基板21の一方の面21aに対向する反対側の面である他方の面21b上にポジ型感光層23を形成する。透明基板21のそれぞれの面に対するネガ型感光層22およびポジ型感光層23の形成には、たとえば塗布法など公知の成膜法が用いられる。また塗布法が用いられる場合、スピンコート法またはディッピング法などが適宜選択される。 FIG. 3 is a diagram for explaining an optical module 20 and a method for manufacturing the optical module 20 according to an embodiment of the present invention. With reference to FIG. 3, the optical module 20 of this invention and the method of manufacturing the optical module 20 are demonstrated. 3A, the negative photosensitive layer 22 is formed on one surface 21a of the transparent substrate 21, and the other surface 21b that is the opposite surface facing the one surface 21a of the transparent substrate 21 is formed. Then, the positive photosensitive layer 23 is formed. For forming the negative photosensitive layer 22 and the positive photosensitive layer 23 on each surface of the transparent substrate 21, a known film forming method such as a coating method is used. When a coating method is used, a spin coating method or a dipping method is appropriately selected.

透明基板21に用いられる素材としては、たとえば石英または硼珪酸などガラス材が挙げられる。ポジ型感光層23を構成するポジ型感光材料としては、たとえばポジレジスト(クラリアントジャパン(株)製:AZシリーズ)などが挙げられる。ネガ型感光層22を構成するネガ型感光材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂のいずれをも用いることができ、露光時の光透過率が高い物を用いることが望ましく、たとえば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどのアクリル系モノマー、エポキシ系モノマーに光開始剤を混合した混合組成物などが挙げられる。   Examples of the material used for the transparent substrate 21 include a glass material such as quartz or borosilicate. Examples of the positive photosensitive material constituting the positive photosensitive layer 23 include a positive resist (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd .: AZ series). As the negative photosensitive material constituting the negative photosensitive layer 22, either an ultraviolet curable resin or a visible light curable resin can be used, and it is desirable to use a material having a high light transmittance upon exposure. For example, urethane Examples thereof include acrylic monomers such as acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, and polyether acrylate, and mixed compositions obtained by mixing a photoinitiator with an epoxy monomer.

なお、本実施の形態では、ネガ型感光材料として、紫外線硬化樹脂を使用しているので、ネガ型感光層22を、以後紫外線硬化樹脂層22と呼ぶ。   In this embodiment, since the ultraviolet curable resin is used as the negative photosensitive material, the negative photosensitive layer 22 is hereinafter referred to as the ultraviolet curable resin layer 22.

図3(b)の工程では、紫外線硬化樹脂層22側に、紫外線硬化樹脂層22から離間して遮光マスク24を配置し、遮光マスク24に関して、紫外線硬化樹脂層22およびポジ型感光層23を有する透明基板21の反対側に光源25が配置される。遮光マスク24には、マイクロレンズアレイおよび光ファイバが挿入し固定されるべき凹所の配列に対応し、光源25から出射される光が通過できるように光通過開口部26が、予め形成される。なお、本実施の形態では、ネガ型感光層が紫外線硬化樹脂層22であるので、光源25には紫外線を放射することのできる物が選択される。   In the step of FIG. 3B, a light shielding mask 24 is disposed on the ultraviolet curable resin layer 22 side so as to be separated from the ultraviolet curable resin layer 22, and the ultraviolet curable resin layer 22 and the positive photosensitive layer 23 are disposed with respect to the light shielding mask 24. A light source 25 is disposed on the opposite side of the transparent substrate 21 having the light source. In the light shielding mask 24, a light passage opening 26 is formed in advance so as to allow the light emitted from the light source 25 to pass through, corresponding to the arrangement of the recesses into which the microlens array and the optical fiber are to be inserted and fixed. . In the present embodiment, since the negative photosensitive layer is the ultraviolet curable resin layer 22, a material that can emit ultraviolet rays is selected as the light source 25.

図3(c)の工程では、光源25から放射された光を、遮光マスク24の光通過開口部26を通して紫外線硬化樹脂層22およびポジ型感光層23に対して照射し露光する。このとき、光源25から放射された光は、紫外線硬化樹脂層22と透明基板21とを透過してポジ型感光層23に対しても照射される。このことによって、遮光マスク24の光通過開口部26に対応する部分の紫外線硬化樹脂層22とポジ型感光層23とが同時に露光される。   3C, the light emitted from the light source 25 is irradiated and exposed to the ultraviolet curable resin layer 22 and the positive photosensitive layer 23 through the light passage opening 26 of the light shielding mask 24. At this time, the light emitted from the light source 25 passes through the ultraviolet curable resin layer 22 and the transparent substrate 21 and is also irradiated to the positive photosensitive layer 23. As a result, the ultraviolet curable resin layer 22 and the positive photosensitive layer 23 corresponding to the light passage opening 26 of the light shielding mask 24 are exposed simultaneously.

図3(d)の工程では、紫外線硬化樹脂層22を現像して未露光部を除去することによってマイクロレンズアレイ27を形成し、ポジ型感光層23を現像して露光部を除去することによって凹所28を形成する。   In the step of FIG. 3D, a microlens array 27 is formed by developing the ultraviolet curable resin layer 22 and removing the unexposed portion, and developing the positive photosensitive layer 23 and removing the exposed portion. A recess 28 is formed.

紫外線硬化樹脂を含むネガ型感光材料は、アルカリ性現像液で現像可能であることが望ましい。アルカリ性現像液で現像可能な材料を使用することによって、ポジ型感光層23とネガ型感光層22との現像を、同一の現像液を用いて同一の工程で行うことができるので、製造工程を少なくすることができるとともに、現像液コストを低減することが可能になる。アルカリ性現像液としては、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)系の有機アルカリ現像液、KOH・NaOH・NaCOなどの無機アルカリ現像液などが挙げられる。 The negative photosensitive material containing the ultraviolet curable resin is desirably developable with an alkaline developer. By using a material that can be developed with an alkaline developer, the positive photosensitive layer 23 and the negative photosensitive layer 22 can be developed in the same process using the same developer. It is possible to reduce the amount and the developer cost can be reduced. Examples of the alkaline developer include tetramethylammonium hydroxide (TMAH) -based organic alkali developer and inorganic alkali developer such as KOH / NaOH / Na 2 CO 3 .

以上のようにして、透明基板21の一方の面21a側にマイクロレンズアレイ27が形成され、透明基板21の他方の面21b側に、マイクロレンズアレイ27を構成するマイクロレンズ27aに対応するように光ファイバを挿入する凹所28が形成された光モジュール20が製造される。   As described above, the microlens array 27 is formed on the one surface 21a side of the transparent substrate 21, and the other surface 21b side of the transparent substrate 21 corresponds to the microlens 27a constituting the microlens array 27. The optical module 20 in which the recess 28 for inserting the optical fiber is formed is manufactured.

このように、光モジュール20は、マイクロレンズアレイ27および光ファイバを挿入し固定するための凹所28の形成が、1つの遮光マスク24を用いて同時に露光することによって行われるので、マイクロレンズアレイ27を構成するマイクロレンズ27aと凹所28とが、高精度にアライメントして形成される。   As described above, in the optical module 20, the micro lens array 27 and the recess 28 for inserting and fixing the optical fiber are formed by simultaneously exposing using the single light shielding mask 24. The microlens 27a and the recess 28 constituting the member 27 are formed with high precision alignment.

図4は、光モジュール20の凹所28に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。光モジュール20のポジ型感光層23の凹所28に臨む部分に、たとえば紫外線硬化樹脂などの接着剤を塗布し、凹所28へ光ファイバ29が挿入し固定される。光モジュール20における透明基板21の厚みは、凹所28へ挿入固定される光ファイバ29の端面30が、マイクロレンズアレイ27を構成する各マイクロレンズ27aの焦点位置に合致するように設定される。なお、ここでは、光モジュール20の凹所28に光ファイバ29が挿入固定されて構成されるデバイスをも含めて、広義の意味で光モジュールに含める。   FIG. 4 is a diagram illustrating a state in which the optical fiber 29 is inserted and fixed in the recess 28 of the optical module 20. An adhesive such as an ultraviolet curable resin is applied to the portion of the optical module 20 that faces the recess 28 of the positive photosensitive layer 23, and an optical fiber 29 is inserted into the recess 28 and fixed. The thickness of the transparent substrate 21 in the optical module 20 is set so that the end face 30 of the optical fiber 29 inserted and fixed in the recess 28 matches the focal position of each microlens 27 a constituting the microlens array 27. Here, the optical module 29 is included in the optical module in a broad sense, including a device configured by inserting and fixing the optical fiber 29 in the recess 28 of the optical module 20.

以上のように製造された光モジュール20では、マイクロレンズアレイ27と凹所28とが高精度にアライメントされているので、光ファイバ29のコアに対して正確に光31を集光することができ、光伝達効率を高くすることが可能になる。   In the optical module 20 manufactured as described above, since the microlens array 27 and the recess 28 are aligned with high accuracy, the light 31 can be accurately collected with respect to the core of the optical fiber 29. It becomes possible to increase the light transmission efficiency.

またマイクロレンズアレイ27および光ファイバ29を挿入し固定するための凹所28の形成が、1つの遮光マスク24を用いて同時に露光することによって行われるので、省工程を実現することができる。さらに、マイクロレンズアレイ27と凹所28との形成工程およびその後の工程において、部材を透明基板21から剥離するなどの透明基板21に応力を加えることがないので、透明基板21を薄くし、光モジュール20を薄型化することに寄与できる。   Moreover, since the formation of the recess 28 for inserting and fixing the microlens array 27 and the optical fiber 29 is performed by simultaneous exposure using one light shielding mask 24, it is possible to realize a process saving. Further, in the step of forming the microlens array 27 and the recess 28 and the subsequent steps, no stress is applied to the transparent substrate 21 such as peeling the member from the transparent substrate 21. This can contribute to making the module 20 thinner.

図5は本発明の実施の第2形態である光モジュール40の構成を示す図であり、図6は図5に示す光モジュール40に光ファイバ29を挿入固定した状態を示す図である。本実施の形態の光モジュール40は、実施の第1形態の光モジュール20に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。   FIG. 5 is a diagram showing a configuration of an optical module 40 according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a diagram showing a state in which an optical fiber 29 is inserted and fixed in the optical module 40 shown in FIG. The optical module 40 of this embodiment is similar to the optical module 20 of the first embodiment, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

光モジュール40において注目すべきは、凹所41が形成されるポジ型感光層42は、凹所41に臨む部分のコーナ43が曲率を有するように形成されることである。このような凹所41に臨む部分のコーナ43が曲率を有するようなポジ型感光層42は、ポジ型感光層42を現像して凹所41を形成する工程の後に、凹所41が形成されたポジ型感光層42を加熱処理する工程を採ることによって実現される。凹所41が形成されたポジ型感光層42を加熱処理することによって、凹所41に臨む部分のコーナ43が、軟化していわゆるダレを生じて曲率を有するように形成される。   It should be noted in the optical module 40 that the positive photosensitive layer 42 in which the recess 41 is formed is formed so that the corner 43 of the portion facing the recess 41 has a curvature. The positive photosensitive layer 42 in which the corner 43 facing the recess 41 has a curvature is formed after the step of developing the positive photosensitive layer 42 to form the recess 41. This is realized by adopting a process of heat-treating the positive photosensitive layer 42. By heating the positive photosensitive layer 42 in which the recess 41 is formed, a portion of the corner 43 facing the recess 41 is softened to form a so-called sagging and have a curvature.

このような、間口の広がった凹所41が形成される光モジュール40は、凹所41に対する光ファイバ29の挿入を容易に行うことが可能になるので、製造のタクトタイムが短縮される。   In such an optical module 40 in which the recess 41 having the wide opening is formed, the optical fiber 29 can be easily inserted into the recess 41, so that the manufacturing tact time is shortened.

図7は本発明の実施の第3形態である光モジュール50および光モジュール50の製造方法を説明する図であり、図8は図7に示す方法によって製造された光モジュール50の凹所51に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。本実施の形態の光モジュール50およびその製造方法は、実施の第1形態の光モジュール20およびその製造方法に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。 FIG. 7 is a view for explaining an optical module 50 and a method for manufacturing the optical module 50 according to the third embodiment of the present invention. FIG. 8 shows a recess 51 of the optical module 50 manufactured by the method shown in FIG. It is a figure which shows the state in which the optical fiber 29 was inserted and fixed. The optical module 50 and the manufacturing method thereof according to the present embodiment are similar to the optical module 20 and the manufacturing method thereof according to the first embodiment, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図7を参照して光モジュール50の製造方法について説明する。図7(a)の工程では、まず実施の第1形態と同様にして、透明基板21のそれぞれの面に紫外線硬化樹脂層22とポジ型感光層23とを形成し、遮光マスクを介して同時に露光後、アルカリ性現像液で現像し、マイクロレンズアレイ27と凹所28とを形成する。次に、ポジ型感光層23に凹所28が形成された側からエッチングを行う。このエッチングは、たとえば反応性イオンエッチング(Reactive Ion Etching:略称RIE)または誘導結合プラズマ(
Inductively Coupled Plasma:略称ICP)などのドライエッチング法で実現できる。
A method for manufacturing the optical module 50 will be described with reference to FIG. In the process of FIG. 7A, first, as in the first embodiment, an ultraviolet curable resin layer 22 and a positive photosensitive layer 23 are formed on each surface of the transparent substrate 21, and simultaneously through a light shielding mask. After the exposure, the microlens array 27 and the recess 28 are formed by developing with an alkaline developer. Next, etching is performed from the side where the recess 28 is formed in the positive photosensitive layer 23. This etching is performed by, for example, reactive ion etching (abbreviated as RIE) or inductively coupled plasma (
It can be realized by a dry etching method such as Inductively Coupled Plasma (abbreviation ICP).

図7(b)の工程では、ポジ型感光層23に凹所28が形成された側からエッチングを継続する。このことによって、ポジ型感光層23と、凹所28の底部を構成する透明基板21とが、ほぼ等速度でエッチングされるので、ポジ型感光層23に形成された凹所28の形状なりに減肉されて透明基板21に凹所51が形成され始める。   In the step of FIG. 7B, etching is continued from the side where the recess 28 is formed in the positive photosensitive layer 23. As a result, the positive photosensitive layer 23 and the transparent substrate 21 constituting the bottom of the recess 28 are etched at substantially the same speed, so that the shape of the recess 28 formed in the positive photosensitive layer 23 is obtained. As the thickness is reduced, a recess 51 starts to be formed in the transparent substrate 21.

図7(c)の工程では、ポジ型感光層23がエッチングされて無くなった時点で、エッチングを終了する。このようにして、ポジ型感光層23に形成された凹所28と同一の形状を有する凹所51が、透明基板21に形成された光モジュール50が製造される。   In the step of FIG. 7C, the etching is terminated when the positive photosensitive layer 23 is removed by etching. In this manner, the optical module 50 in which the recess 51 having the same shape as the recess 28 formed in the positive photosensitive layer 23 is formed in the transparent substrate 21 is manufactured.

透明基板21に凹所51を形成することによって、凹所51の形成される部分が透明基板21自体で構成されるので、その強度を向上させることができる。したがって、光ファイバ29が挿入固定される部分の健全性を一層向上することが可能になる。   By forming the recess 51 in the transparent substrate 21, the portion where the recess 51 is formed is constituted by the transparent substrate 21 itself, so that the strength can be improved. Therefore, the soundness of the portion where the optical fiber 29 is inserted and fixed can be further improved.

なお、透明基板21の他方の面側のポジ型感光層23に凹所28を形成した後であって、エッチングを開始する前に、ポジ型感光層23に加熱処理を施して、凹所28に臨む部分のコーナが曲率を有するようにしても良い。このことによって、その後のエッチングで透明基板21に形成される凹所51も、凹所51に臨む部分のコーナが曲率を有するように形成することができるので、実施の第2形態の光モジュール40と同様の効果を奏することができる。   Note that, after the recess 28 is formed in the positive photosensitive layer 23 on the other surface side of the transparent substrate 21 and before the etching is started, the positive photosensitive layer 23 is subjected to a heat treatment to form the recess 28. You may make it the corner of the part which faces to have a curvature. Accordingly, the recess 51 formed in the transparent substrate 21 by the subsequent etching can also be formed so that the corner of the portion facing the recess 51 has a curvature. Therefore, the optical module 40 according to the second embodiment. The same effect can be achieved.

図9は本発明の実施の第4形態である光モジュール55および光モジュール55の製造方法を説明する図であり、図10は図9に示す方法によって製造された光モジュール55の凹所28に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。本実施の形態の光モジュール55およびその製造方法は、実施の第1形態の光モジュール20およびその製造方法に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。 FIG. 9 is a diagram for explaining an optical module 55 and a method for manufacturing the optical module 55 according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 10 shows a recess 28 of the optical module 55 manufactured by the method shown in FIG. It is a figure which shows the state in which the optical fiber 29 was inserted and fixed. The optical module 55 and the manufacturing method thereof according to the present embodiment are similar to the optical module 20 and the manufacturing method thereof according to the first embodiment, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図9を参照して光モジュール55の製造方法について説明する。図9(a)の工程では、まず実施の第1形態と同様にして、透明基板21のそれぞれの面に紫外線硬化樹脂層22とポジ型感光層23とを形成し、遮光マスクを介して同時に露光後、アルカリ性現像液で現像し、マイクロレンズアレイ27と凹所28とを形成する。次に、紫外線硬化樹脂層22にマイクロレンズアレイ27が形成された側からエッチングを行う。   A method for manufacturing the optical module 55 will be described with reference to FIG. In the step of FIG. 9A, first, similarly to the first embodiment, the ultraviolet curable resin layer 22 and the positive photosensitive layer 23 are formed on the respective surfaces of the transparent substrate 21, and simultaneously through a light shielding mask. After the exposure, the microlens array 27 and the recess 28 are formed by developing with an alkaline developer. Next, etching is performed from the side where the microlens array 27 is formed on the ultraviolet curable resin layer 22.

図9(b)の工程では、紫外線硬化樹脂層22にマイクロレンズアレイ27が形成された側からエッチングを継続する。このことによって、紫外線硬化樹脂からなるマイクロレンズアレイ27と、マイクロレンズアレイ27の基底部周辺の透明基板21とが、ほぼ等速度でエッチングされるので、マイクロレンズアレイ27を構成するマイクロレンズ27aの形状なりに減肉して透明基板21にマイクロレンズ56aすなわちマイクロレンズアレイ56が形成され始める。   In the step of FIG. 9B, etching is continued from the side where the microlens array 27 is formed on the ultraviolet curable resin layer 22. As a result, the microlens array 27 made of an ultraviolet curable resin and the transparent substrate 21 around the base of the microlens array 27 are etched at substantially the same speed, so that the microlens 27a constituting the microlens array 27 is formed. As the shape is reduced, the microlens 56a, that is, the microlens array 56 starts to be formed on the transparent substrate 21.

図9(c)の工程では、紫外線硬化樹脂からなるマイクロレンズアレイ27がエッチングされて無くなった時点で、エッチングを終了する。このようにして、紫外線硬化樹脂からなるマイクロレンズアレイ27と同一の形状を有するマイクロレンズアレイ56が、透明基板21に形成された光モジュール55が製造される。   In the step of FIG. 9C, the etching is finished when the microlens array 27 made of the ultraviolet curable resin is etched away. In this manner, the optical module 55 in which the microlens array 56 having the same shape as the microlens array 27 made of ultraviolet curable resin is formed on the transparent substrate 21 is manufactured.

透明基板21にマイクロレンズアレイ56を形成することによって、透明基板21とマイクロレンズアレイ56とが同材質からなり線膨張係数が同一になるので、環境温度変化に伴うマイクロレンズアレイの位置ずれを少なくすることが可能になる。   By forming the microlens array 56 on the transparent substrate 21, since the transparent substrate 21 and the microlens array 56 are made of the same material and have the same linear expansion coefficient, the displacement of the microlens array due to environmental temperature changes is reduced. It becomes possible to do.

図11は本発明の実施の第5形態である光モジュール60の構成を示す図であり、図12は図11に示す光モジュール60の凹所51に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。本実施の形態の光モジュール60は、実施の第3および第4形態の光モジュール50,55に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。   FIG. 11 is a diagram showing a configuration of an optical module 60 according to a fifth embodiment of the present invention. FIG. 12 shows a state in which the optical fiber 29 is inserted and fixed in the recess 51 of the optical module 60 shown in FIG. FIG. The optical module 60 of the present embodiment is similar to the optical modules 50 and 55 of the third and fourth embodiments, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

光モジュール60は、エッチングによって、透明基板21の他方の面に凹所51を形成する製造方法と、透明基板21の一方の面にマイクロレンズアレイ56を形成する製造方法とを併用して製造されるものであり、透明基板21にマイクロレンズアレイ56と凹所51とが形成されていることを特徴とする。このような光モジュール60では、実施の第3および第4形態の光モジュール40,50がそれぞれ発現する効果の両方を奏することができる。   The optical module 60 is manufactured by using both a manufacturing method for forming the recess 51 on the other surface of the transparent substrate 21 and a manufacturing method for forming the microlens array 56 on one surface of the transparent substrate 21 by etching. The microlens array 56 and the recess 51 are formed in the transparent substrate 21. In such an optical module 60, both of the effects that the optical modules 40 and 50 according to the third and fourth embodiments respectively express.

図8、図10および図12に示すように、透明基板21にマイクロレンズアレイ56および/または凹所51が形成される場合においても、透明基板21の厚みは、マイクロレンズ56aまたはマイクロレンズ27aの焦点位置に光ファイバ29の端面30が配置されるように設定される。このような設定は、次のようにして実現できる。透明基板21の初期厚みをマイクロレンズ56aまたはマイクロレンズ27aの焦点距離よりも、エッチングによる減肉分だけ予め大きく設定し、エッチング終了後に、マイクロレンズ56aまたはマイクロレンズ27aの焦点位置に光ファイバ29の端面30が合致するように設定すればよい。   As shown in FIGS. 8, 10 and 12, even when the microlens array 56 and / or the recess 51 are formed on the transparent substrate 21, the thickness of the transparent substrate 21 is the same as that of the microlens 56a or the microlens 27a. It is set so that the end face 30 of the optical fiber 29 is disposed at the focal position. Such a setting can be realized as follows. The initial thickness of the transparent substrate 21 is set in advance larger than the focal length of the microlens 56a or the microlens 27a by the thinning due to the etching, and after the etching, the optical fiber 29 is placed at the focal position of the microlens 56a or the microlens 27a. What is necessary is just to set so that the end surface 30 may correspond.

以上に述べたように、本発明の実施の形態では、遮光マスク24は、透明基板21のネガ型感光層22が塗布された面の上方に離間して配置されて露光が行われるけれども、これに限定されることなく、ポジ型感光層23側の上方に離間して配置し露光が行われても良い。   As described above, in the embodiment of the present invention, the light-shielding mask 24 is spaced apart and disposed above the surface of the transparent substrate 21 on which the negative photosensitive layer 22 is applied. Without being limited thereto, the exposure may be carried out by being spaced apart above the positive photosensitive layer 23 side.

本発明の光モジュールの製造方法に関する感光層の露光方法を説明する図である。It is a figure explaining the exposure method of the photosensitive layer regarding the manufacturing method of the optical module of this invention. 図1に示す方法で露光された感光層を現像した後の感光層のプロファイルを示す図である。It is a figure which shows the profile of the photosensitive layer after developing the photosensitive layer exposed by the method shown in FIG. 本発明の実施の一形態である光モジュール20および光モジュール20の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the optical module 20 and the optical module 20 which are one Embodiment of this invention. 光モジュール20の凹所28に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a state in which an optical fiber 29 is inserted and fixed in a recess 28 of the optical module 20. 本発明の実施の第2形態である光モジュール40の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the optical module 40 which is the 2nd Embodiment of this invention. 図5に示す光モジュール40に光ファイバ29を挿入固定した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which inserted and fixed the optical fiber 29 to the optical module 40 shown in FIG. 本発明の実施の第3形態である光モジュール50および光モジュール50の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the optical module 50 and the optical module 50 which are 3rd Embodiment of this invention. 図7に示す方法によって製造された光モジュール50の凹所51に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。It is a figure which shows the state by which the optical fiber 29 was inserted and fixed to the recess 51 of the optical module 50 manufactured by the method shown in FIG. 本発明の実施の第4形態である光モジュール55および光モジュール55の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the optical module 55 and the optical module 55 which are the 4th Embodiment of this invention. 図9に示す方法によって製造された光モジュール55の凹所28に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。It is a figure which shows the state by which the optical fiber 29 was inserted and fixed to the recess 28 of the optical module 55 manufactured by the method shown in FIG. 本発明の実施の第5形態である光モジュール60の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the optical module 60 which is 5th Embodiment of this invention. 図11に示す光モジュール60の凹所51に光ファイバ29が挿入され固定された状態を示す図である。It is a figure which shows the state by which the optical fiber 29 was inserted and fixed to the recess 51 of the optical module 60 shown in FIG. 典型的な光モジュール1の構成を例示する図である。1 is a diagram illustrating a configuration of a typical optical module 1. FIG. 従来の光モジュールの製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the conventional optical module.

符号の説明Explanation of symbols

20,40,50,55,60 光モジュール
21 透明基板
22 ネガ型感光層
23,42 ポジ型感光層
24 遮光マスク
25 光源
27,56 マイクロレンズアレイ
28,41,51 凹所
29 光ファイバ
20, 40, 50, 55, 60 Optical module 21 Transparent substrate 22 Negative photosensitive layer 23, 42 Positive photosensitive layer 24 Light shielding mask 25 Light source 27, 56 Micro lens array 28, 41, 51 Recess 29 Optical fiber

Claims (6)

透明基板の一方の面側にマイクロレンズアレイが形成され、透明基板の一方の面に対向する反対側の面である他方の面側に、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズに対応するように光ファイバを挿入する凹所が形成された光モジュールの製造方法において、
透明基板の一方の面上にネガ型感光層を形成する工程と、
透明基板の他方の面上にポジ型感光層を形成する工程と、
ネガ型感光層またはポジ型感光層のいずれか1つの感光層の側に、感光層から離間して遮光マスクを配置する工程と、
遮光マスクの光通過開口部を通して、ネガ型感光層またはポジ型感光層に光を照射して露光した光を透明基板を透過させてポジ型感光層またはネガ型感光層に照射して露光する工程と、
ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程と、
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程とを含むことを特徴とする光モジュールの製造方法。
A microlens array is formed on one surface side of the transparent substrate, and light is applied to the other surface side, which is the opposite surface opposite to one surface of the transparent substrate, so as to correspond to the microlenses constituting the microlens array. In the method of manufacturing an optical module in which a recess for inserting a fiber is formed,
Forming a negative photosensitive layer on one surface of the transparent substrate;
Forming a positive photosensitive layer on the other surface of the transparent substrate;
A step of disposing a light-shielding mask on the side of any one of the negative photosensitive layer and the positive photosensitive layer and spaced from the photosensitive layer;
A process of exposing the positive photosensitive layer or the negative photosensitive layer by irradiating the negative photosensitive layer or the positive photosensitive layer with light through the transparent substrate through the light passage opening of the light shielding mask. When,
Developing a negative photosensitive layer to form a microlens array;
And a step of developing a positive photosensitive layer to form a recess.
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、
凹所が形成されたポジ型感光層を加熱処理する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光モジュールの製造方法。
After the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess,
2. The method of manufacturing an optical module according to claim 1, further comprising a step of heat-treating the positive photosensitive layer in which the recess is formed.
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、
凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光モジュールの製造方法。
After the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess,
2. The method of manufacturing an optical module according to claim 1, further comprising a step of forming a recess in the transparent substrate by etching the other surface of the transparent substrate including the positive photosensitive layer in which the recess is formed.
ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、
マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光モジュールの製造方法。
After the step of developing the negative photosensitive layer to form the microlens array,
2. The method of manufacturing an optical module according to claim 1, comprising a step of etching one surface of a transparent substrate having a negative photosensitive layer on which a microlens array is formed to form a microlens array on the transparent substrate. .
ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程の後に、マイクロレンズアレイが形成されたネガ型感光層を備える透明基板の一方の面をエッチングして透明基板にマイクロレンズアレイを形成する工程と、
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程の後に、凹所が形成されたポジ型感光層を備える透明基板の他方の面をエッチングして透明基板に凹所を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項1記載の光モジュールの製造方法。
After the step of developing the negative photosensitive layer to form the microlens array, one surface of the transparent substrate having the negative photosensitive layer on which the microlens array is formed is etched to form the microlens array on the transparent substrate. Process,
After the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess, etching the other surface of the transparent substrate having the positive photosensitive layer with the recess formed to form the recess in the transparent substrate. The method of manufacturing an optical module according to claim 1, comprising:
ポジ型感光層を現像して凹所を形成する工程と、ネガ型感光層を現像してマイクロレンズアレイを形成する工程とにおいて用いられる現像液が、アルカリ性現像液であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の光モジュールの製造方法。   The developer used in the step of developing the positive photosensitive layer to form the recess and the step of developing the negative photosensitive layer to form the microlens array is an alkaline developer. Item 6. The method for manufacturing an optical module according to any one of Items 1 to 5.
JP2004025934A 2004-02-02 2004-02-02 Manufacturing method of optical module Expired - Fee Related JP4153442B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004025934A JP4153442B2 (en) 2004-02-02 2004-02-02 Manufacturing method of optical module

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004025934A JP4153442B2 (en) 2004-02-02 2004-02-02 Manufacturing method of optical module

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005215644A JP2005215644A (en) 2005-08-11
JP4153442B2 true JP4153442B2 (en) 2008-09-24

Family

ID=34908162

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004025934A Expired - Fee Related JP4153442B2 (en) 2004-02-02 2004-02-02 Manufacturing method of optical module

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4153442B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109923454A (en) * 2016-11-08 2019-06-21 莫列斯有限公司 Multi fiber lock pin with lens element

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3140838B1 (en) 2014-05-05 2021-08-25 3D Glass Solutions, Inc. Inductive device in a photo-definable glass structure
KR102479144B1 (en) 2016-02-25 2022-12-20 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 3d capacitor and capacitor array fabricating photoactive substrates
US11161773B2 (en) * 2016-04-08 2021-11-02 3D Glass Solutions, Inc. Methods of fabricating photosensitive substrates suitable for optical coupler
KR102524712B1 (en) 2017-04-28 2023-04-25 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 Rf circulator
CA3067812C (en) 2017-07-07 2023-03-14 3D Glass Solutions, Inc. 2d and 3d rf lumped element devices for rf system in a package photoactive glass substrates
WO2019118761A1 (en) 2017-12-15 2019-06-20 3D Glass Solutions, Inc. Coupled transmission line resonate rf filter
WO2019136024A1 (en) 2018-01-04 2019-07-11 3D Glass Solutions, Inc. Impedance matching conductive structure for high efficiency rf circuits
KR102626372B1 (en) 2018-04-10 2024-01-16 3디 글래스 솔루션즈 인코포레이티드 Rf integrated power condition capacitor
WO2020060824A1 (en) 2018-09-17 2020-03-26 3D Glass Solutions, Inc. High efficiency compact slotted antenna with a ground plane
WO2020139955A1 (en) 2018-12-28 2020-07-02 3D Glass Solutions, Inc. Annular capacitor rf, microwave and mm wave systems
CA3135975C (en) 2019-04-05 2022-11-22 3D Glass Solutions, Inc. Glass based empty substrate integrated waveguide devices
WO2020214788A1 (en) 2019-04-18 2020-10-22 3D Glass Solutions, Inc. High efficiency die dicing and release
JP2023516817A (en) 2020-04-17 2023-04-20 スリーディー グラス ソリューションズ,インク broadband induction

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109923454A (en) * 2016-11-08 2019-06-21 莫列斯有限公司 Multi fiber lock pin with lens element
CN109923454B (en) * 2016-11-08 2021-10-01 莫列斯有限公司 Multi-fiber ferrule with lens element

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005215644A (en) 2005-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4153442B2 (en) Manufacturing method of optical module
JP4732356B2 (en) Planar waveguide having patterned clad and manufacturing method thereof
US8432625B2 (en) Lens and method for manufacturing same
JPWO2007043383A1 (en) MICROSTRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
JP2005043897A (en) Method of manufacturing microlens
US20130062799A1 (en) Method for manufacturing a two-dimensional polymer optical waveguide
JP2005041125A (en) Method for producing micro lens array
US20060012880A1 (en) Optical device with refractive and diffractive properties
JP3081284B2 (en) Manufacturing method of micro lens
JP4281512B2 (en) Optical element manufacturing method
JP5351096B2 (en) Optical waveguide manufacturing method
WO2020060485A2 (en) Optical light guides and methods of manufacturing the same
US8778452B2 (en) Method of manufacturing optical waveguide
JP4306212B2 (en) Optical waveguide core manufacturing method
TWI398670B (en) Method for making lens array
JP2005099514A (en) Method for manufacturing optical waveguide
JP2000304904A (en) Stuck planar micro lens array and method of manufacturing it
JP2007133026A (en) Method of manufacturing optical waveguide with v-groove
US8778451B2 (en) Method of manufacturing optical waveguide
JP2005205804A (en) Shape transfer mold, light transmission way array, method for producing light transmission array, and image enlargement display element
CN112987145A (en) Microlens structure, display device and method for processing microlens structure
JP2005088154A (en) Method for manufacturing die for optical element, and method for manufacturing optical element
JPH0943834A (en) Self-patterning method
JP2008250354A (en) Microlens array and its manufacturing method
JP2006139119A (en) Manufacturing method of optical waveguide

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060125

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071120

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080408

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080609

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080701

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080703

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees