JP4130922B2 - Vortex barrel polishing machine - Google Patents

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Description

本発明は、渦流バレル研磨機の改良に関するものである。 The present invention relates to an improvement in a vortex barrel polishing machine.

渦流バレル研磨機は、筒状固定槽とその下部に配された回転盤とでバレル槽を構成する。回転盤を回転すると、バレル槽内に投入したワークと研磨石(以下必要に応じてマスという)が渦巻状に流動してワークに所望のバレル研磨を行う(例えば特許文献1)。ここで回転盤は静止した固定槽に対して回転できるように、両者間には一定幅の間隙が形成されていた。このため渦流バレル研磨機では、この間隙に入り込むような微小ワークや微小研磨石の使用が制限された。したがって渦流バレル研磨機は処理能率の高さにおいては非常に優れるものの、使用上の制限があって全てのワークや研磨石に対応できるわけではなかった。 The vortex barrel polishing machine constitutes a barrel tank with a cylindrical fixed tank and a rotating disk disposed in the lower part thereof. When the turntable is rotated, the workpiece and polishing stone (hereinafter referred to as mass as necessary) flowed in a spiral shape to perform desired barrel polishing on the workpiece (for example, Patent Document 1). Here, a gap of a certain width was formed between the two so that the rotating disk can rotate with respect to the stationary fixed tank. For this reason, in the vortex barrel polishing machine, the use of fine workpieces and fine grinding stones that enter this gap has been restricted. Therefore, although the vortex barrel polishing machine is very good in terms of processing efficiency, it has limitations in use and cannot cope with all workpieces and polishing stones.

上記問題点に鑑み、本出願人は図1に示すように、固定槽2内壁に形成したウレタンライニング3をその下端から突出させ、このウレタン製突状部4に対向する回転盤5の上面にセラミックリング6を取り付けて両者を接触摺動させながら研磨する装置を開発した(例えば非特許文献1)。この装置は、固定槽2の外周縁フランジ2aの複数の孔部7にボルト8を挿通してアンダープレート9にねじ込み固定し、このボルト8の周りに押えバネ10を取り付けてボルト頭部8aに掛止するようにし、固定槽2を下方に付勢するようにしたものである。つまり固定槽2の自重と複数の押えバネ10の付勢力により、固定槽2をそこから突出した突状部4を介してセラミックリング6に押え付けるようにしていた。 In view of the above problems, the applicant, as shown in FIG. 1, causes the urethane lining 3 formed on the inner wall of the fixed tank 2 to protrude from the lower end, and on the upper surface of the turntable 5 facing the urethane protrusion 4. An apparatus was developed that attaches a ceramic ring 6 and polishes the both while contacting and sliding them (for example, Non-Patent Document 1). In this apparatus, bolts 8 are inserted into a plurality of holes 7 of the outer peripheral flange 2a of the fixing tank 2 and screwed into an under plate 9, and a presser spring 10 is attached around the bolt 8 to a bolt head 8a. The fixed tank 2 is urged downward by hanging. That is, the fixed tank 2 is pressed against the ceramic ring 6 through the protruding portion 4 protruding therefrom by the weight of the fixed tank 2 and the urging force of the plurality of holding springs 10.

そしてアンダープレート9内に給水孔11より一定圧の水やコンパウンド溶液を供給して、突状部4とセラミックリング6との摺動部Sを介してバレル槽1内に液体を供給するようにしていた。つまり摺動部Sは、突状部4に対してセラミックリング6が回転摺動するシールを形成するが、このシールの発熱を押えるために液体を供給してシールの冷却と潤滑を行なっていた。 Then, water or a compound solution having a constant pressure is supplied into the under plate 9 from the water supply hole 11, and liquid is supplied into the barrel tank 1 through the sliding portion S between the projecting portion 4 and the ceramic ring 6. It was. In other words, the sliding portion S forms a seal on which the ceramic ring 6 rotates and slides with respect to the projecting portion 4, but in order to suppress the heat generated by the seal, liquid is supplied to cool and lubricate the seal. .

上記構成により、固定槽2と回転盤5との摺動部Sは実質上「ゼロ隙間」となり、微小ワークや微小研磨石の使用も可能となった。またバレル研磨終了後、マスを排出するときは、バレル槽1を90度〜180度の間で反転して行なう。この時、固定槽2は逆さまになるので、自身の自重で摺動部Sが開こうとする。摺動部Sが開いてしまうと、ここから微小研磨石や微小ワークがアンダープレート9内に入り込んで摺動部Sを傷つけたり、回転盤5を駆動する回転軸12を損傷することがある。しかしながら押えバネ10の力で固定槽2は回転盤5側に常時押さえ付けられているので摺動部Sが開くことがない。 With the above configuration, the sliding portion S between the fixed tank 2 and the rotating disk 5 is substantially “zero gap”, and it is possible to use a minute work or a fine grinding stone. In addition, when the mass is discharged after the barrel polishing, the barrel tank 1 is inverted between 90 degrees and 180 degrees. At this time, since the fixed tank 2 is turned upside down, the sliding portion S tries to open by its own weight. If the sliding part S opens, a fine grinding stone or a fine workpiece may enter the under plate 9 from here and damage the sliding part S or damage the rotary shaft 12 that drives the rotating disk 5. However, since the fixed tub 2 is always pressed against the rotating disk 5 by the force of the presser spring 10, the sliding portion S does not open.

しかしながらこの渦流バレル研磨機は、バレル槽1が小型のうちはこの装置構成で問題なかったが、バレル槽1が大型になると、突状部4のセラミックリング6への押え付け荷重が大きくなりすぎて回転盤5の回転に負荷がかかり過ぎ、ひいては回転軸12やその軸受の損傷につながるおそれがあった。
特許第3062800号公報 標題:[EFF−15詳細]、媒体のタイプ:[online]、掲載年月:[2002年10月]、掲載者:[株式会社チップトン]、検索日:[2005年11月24日]、インターネットアドレス:[http://www.tipton.co.jp/ eff15shousai.pdf]
However, this vortex barrel polishing machine has no problem with this apparatus configuration when the barrel tank 1 is small. However, when the barrel tank 1 is large, the pressing load on the ceramic ring 6 of the protrusion 4 becomes too large. As a result, the rotation of the rotating disk 5 is excessively loaded, which may result in damage to the rotary shaft 12 and its bearings.
Japanese Patent No. 3062800 Title: [Details of EFF-15], Media Type: [online], Publication Date: [October 2002], Publisher: [Chipton Corporation], Search Date: [November 24, 2005], Internet Address: [http://www.tipton.co.jp/eff15shousai.pdf]

以上より本発明が解決しようとする課題は、バレル槽1が大型でも固定槽2と回転盤5との摺動部Sが円滑に摺動でき、回転軸12やその軸受の損傷しない渦流バレル研磨機を提供することを目的とする。 As described above, the problem to be solved by the present invention is that even if the barrel tank 1 is large, the sliding portion S between the fixed tank 2 and the rotating disk 5 can smoothly slide, and the rotating shaft 12 and its bearings are not damaged. The purpose is to provide a machine.

上記課題を解決するために請求項1の発明は、筒状固定槽とその下部に回転可能に配置した回転盤とからなるバレル槽を備えた渦流バレル研磨機において、前記固定槽の内壁面には樹脂ライニングが形成される一方で、前記回転盤にはセラミック部材が取り付けられ、バレル研磨時は固定槽の位置決め手段を前記固定槽から退避して前記樹脂ライニングが前記セラミック部材に接触した状態で前記回転盤が回転することによって前記バレル槽内のマスを流動してバレル研磨し、バレル研磨終了後、前記バレル槽を反転してマスを排出する時は前記固定槽の位置決め手段により前記固定槽を位置決めして、前記樹脂ライニングと前記セラミック部材の接触状態を維持したことを特徴としたものである。 In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 1 is directed to an eddy current barrel polishing machine comprising a barrel tank composed of a cylindrical fixed tank and a rotating disk rotatably disposed below the cylindrical fixed tank. While the resin lining is formed, a ceramic member is attached to the rotating disk. During barrel polishing, the positioning means of the fixed tank is retracted from the fixed tank and the resin lining is in contact with the ceramic member. When the turntable rotates, the mass in the barrel tank is flown and barrel-polished, and after barrel polishing, when the barrel tank is reversed and the mass is discharged, the fixed tank is positioned by the fixing tank positioning means. And the contact state between the resin lining and the ceramic member is maintained.

次に請求項2の発明は、請求項1の発明において、バレル研磨時の前記樹脂ライニングの前記セラミック部材への接触は、前記固定槽の自重のみにより接触させることを特徴としたものである。 Next, the invention of claim 2 is characterized in that, in the invention of claim 1, the resin lining contacts the ceramic member during barrel polishing only by its own weight of the fixed tank.

請求項1の発明によれば、バレル研磨時は、固定槽の位置決めを固定槽から退避し、樹脂ライニングがセラミック部材に接触した状態で回転盤を回転するから、微小研磨石や微小ワークが摺動部に入り込むことがなく、摺動部が円滑に摺動できる。また、バレル研磨終了後、バレル槽を反転してマスを排出する時は、固定槽の位置決め手段により摺動部が開かないように固定槽を位置決めするので、バレル槽を反転しても摺動部の接触状態が維持できるから、微小研磨石や微小ワークが摺動部に入り込むこともない。 According to the first aspect of the present invention, during barrel polishing, the positioning of the fixed tank is retracted from the fixed tank, and the rotating disk is rotated while the resin lining is in contact with the ceramic member. The sliding part can slide smoothly without entering the moving part. Also, after barrel polishing, when the barrel tank is inverted and the mass is discharged, the fixed tank is positioned by the fixing tank positioning means so that the sliding part does not open. Since the contact state of the part can be maintained, the fine grinding stone and the fine work do not enter the sliding part.

請求項2の発明によれば、バレル研磨時は、固定槽自重のみがセラミック部材にかかるようにしたので、摺動部が円滑に摺動でき、回転軸やその軸受に余分な負荷が掛からないので損傷もしない。また装置構成も簡素になる。 According to the second aspect of the present invention, only the own weight of the fixed tank is applied to the ceramic member at the time of barrel polishing, so that the sliding portion can slide smoothly and no extra load is applied to the rotating shaft and its bearing. So it will not be damaged. Also, the apparatus configuration is simplified.

本発明に用いる渦流バレル研磨機の構造を図2、3に沿って説明する。図2は、本発明の渦流バレル研磨機のバレル槽20を主に示したもので、バレル槽20は筒状固定槽21と回転盤22とからなる。筒状固定槽21は金属製で、その内面にはウレタンライニング23(本発明の樹脂ライニング)が形成され、その下方部は固定槽21と共に内側に向かって傾斜し、下端の突状部24(本発明の樹脂ライニングの一部)が固定槽21から突出形成され、後述のセラミックリング27と接触するようになっている。 The structure of the vortex barrel polishing machine used in the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 mainly shows the barrel tank 20 of the eddy current barrel polishing machine of the present invention, and the barrel tank 20 is composed of a cylindrical fixed tank 21 and a rotating disk 22. The cylindrical fixed tank 21 is made of metal, and an inner surface thereof is formed with a urethane lining 23 (resin lining of the present invention). A lower portion thereof is inclined inward together with the fixed tank 21, and a projecting portion 24 at the lower end ( A part of the resin lining of the present invention is protruded from the fixed tank 21 and comes into contact with a ceramic ring 27 described later.

回転盤22も金属製でその形状は椀形に形成され、上面にウレタンライニング25が形成されている。ウレタンライニング25の椀曲面には、バレル研磨時のマスの流動を強化する目的で、ウレタン製のフィン26が90度間隔で形成されている。また回転盤22の上部であってウレタンライニング25の外周にはセラミックリング27(本発明のセラミック部材)が接着され、固定槽21の突状部24に対して接触摺動するようになっている。一方、回転盤22の下部には回転軸28が接続され、回転盤22の中心に穿設された排水孔22aと回転軸28の中心に穿設された排水孔28aが同軸状に配置され、バレル槽20内の液体を排水可能としている。 The turntable 22 is also made of metal and has a bowl shape, and a urethane lining 25 is formed on the upper surface. On the curved surface of the urethane lining 25, urethane fins 26 are formed at intervals of 90 degrees for the purpose of enhancing mass flow during barrel polishing. Further, a ceramic ring 27 (a ceramic member of the present invention) is bonded to the outer periphery of the urethane lining 25 at the upper part of the rotating plate 22 so as to slide in contact with the protruding portion 24 of the fixed tank 21. . On the other hand, a rotating shaft 28 is connected to the lower part of the rotating disk 22, and a drain hole 22a drilled in the center of the rotating disk 22 and a drain hole 28a drilled in the center of the rotating shaft 28 are arranged coaxially. The liquid in the barrel tank 20 can be drained.

前記回転軸28は、軸受29を介して支持体30で回転可能に支持されている。支持体30の上部にはボルトなどで有底筒状のアンダープレート31が固定されている。アンダープレート31と回転軸28の間には、アンダープレート31内の水やコンパウンド溶液が軸受29側に入り込まないようにオイルシール32が取り付けられている。またアンダープレート31の側面の1箇所には、アンダープレート31内に水やコンパウンド溶液を送り込むための給水孔33が設けられ、不図示の給水パイプが接続されるようになっている。アンダープレート31の上方内側には段差部31aが形成され、ここに筒状固定槽21が嵌合するようになっている。アンダープレート31と固定槽21の接触面には、アンダープレート内の水やコンパウンド溶液が漏れ出ないように固定槽側に環状パッキン34が取り付けられている。またアンダープレート31の上方外周にはフランジ31bが形成され、その周縁の3箇所にボルト35が取り付けられ、このボルト35は筒状固定槽21のフランジ21aに形成された半円状の切欠部21bを貫通するようになっている。 The rotary shaft 28 is rotatably supported by a support 30 via a bearing 29. A bottomed cylindrical under plate 31 is fixed to the upper portion of the support 30 with bolts or the like. An oil seal 32 is attached between the under plate 31 and the rotary shaft 28 so that water and the compound solution in the under plate 31 do not enter the bearing 29 side. Further, a water supply hole 33 for feeding water or a compound solution into the underplate 31 is provided at one place on the side surface of the underplate 31, and a water supply pipe (not shown) is connected thereto. A stepped portion 31 a is formed on the upper inner side of the under plate 31, and the cylindrical fixed tank 21 is fitted therein. An annular packing 34 is attached to the contact surface between the under plate 31 and the fixed tank 21 on the fixed tank side so that water and compound solution in the under plate do not leak. Further, a flange 31b is formed on the upper outer periphery of the under plate 31, and bolts 35 are attached to three positions on the periphery thereof. The bolts 35 are semicircular cutout portions 21b formed on the flange 21a of the cylindrical fixed tank 21. It has come to penetrate.

前記ボルト35には周り止めナット36が取り付けられ、その上部には筒状固定槽21を支持可能なサポートリング37が螺合されている。つまりサポートリング37を上方に螺送すれば、固定槽フランジ21aが持ち上がるので、メンテナンス時に固定槽21を離脱できるようになる。反対に、離脱した固定槽21を装着するには、まず周り止めナット36に突き当たるまでサポートリング37を下に螺送する。次に固定槽21の突状部24が回転盤22のセラミックリング27に当接する位置まで固定槽21を上から押し嵌める。なおこの時、固定槽フランジ21aとサポートリング37は当接しない。 A locking nut 36 is attached to the bolt 35, and a support ring 37 capable of supporting the cylindrical fixed tank 21 is screwed onto the bolt 35. That is, if the support ring 37 is screwed upward, the fixed tank flange 21a is lifted, so that the fixed tank 21 can be detached during maintenance. On the contrary, in order to mount the fixed tank 21 that has been detached, first, the support ring 37 is screwed down until it comes into contact with the locking nut 36. Next, the fixed tub 21 is pressed and fitted from above to a position where the protruding portion 24 of the fixed tub 21 contacts the ceramic ring 27 of the turntable 22. At this time, the fixed tank flange 21a and the support ring 37 do not contact each other.

また前記ボルト35の上部にはバレル槽20を90度〜180度の間で反転したときに、固定槽21が脱落しないようにストッパーリング38(本発明の固定槽の位置決め手段)が取り付けられている。つまりバレル研磨後、バレル槽20を反転してマスを排出するには、バレル研磨時の固定槽20の上下方向の位置を維持するために、ストッパーリング38を下降して固定槽フランジ21aに当接する。こうすることでバレル槽20を反転しても、固定槽21の突状部24と回転盤22のセラミックリング27の摺動部Sに隙間が生じることがなく、微小研磨石や微小ワークのすり抜けを防止することができる。 A stopper ring 38 (fixing tank positioning means of the present invention) is attached to the upper portion of the bolt 35 so that the fixing tank 21 does not fall off when the barrel tank 20 is inverted between 90 degrees and 180 degrees. Yes. In other words, after barrel polishing, in order to reverse the barrel tank 20 and discharge the mass, the stopper ring 38 is lowered to contact the fixed tank flange 21a in order to maintain the vertical position of the fixed tank 20 during barrel polishing. Touch. In this way, even if the barrel tank 20 is inverted, there is no gap between the projecting portion 24 of the fixed tank 21 and the sliding portion S of the ceramic ring 27 of the rotating plate 22, and a fine grinding stone or a minute work slips through. Can be prevented.

前記回転盤22の中心付近には、ウレタンライニング25の形成されていない段部22bがあり、ここに長孔39aを穿設した金属製の筒状体39が取り付けられ、さらにその外周には金属ネット40が巻き付けられている。この金属ネット40は、網目状になっており、網目より小さい研磨カスや排液を通すようになっている。そして金属ネット40と筒状体39を上から取り囲むように樹脂製のキャップ41が被せられ、このキャップ41に挿通された長軸ボルト42を回転盤22にねじ込むことによって、金属ネット40付き筒状体39が回転盤22に固定されるようになっている。 Near the center of the turntable 22, there is a step portion 22b in which the urethane lining 25 is not formed. A metal cylindrical body 39 having a long hole 39a is attached to the step portion 22b. A net 40 is wound. The metal net 40 has a mesh shape, and allows polishing sludge and drainage smaller than the mesh to pass through. Then, a resin cap 41 is placed so as to surround the metal net 40 and the cylindrical body 39 from above, and a long shaft bolt 42 inserted through the cap 41 is screwed into the turntable 22 to thereby form a cylindrical shape with the metal net 40. The body 39 is fixed to the turntable 22.

前記キャップ41の中心部には円孔41aが穿設され、ここにセンターポール43の突出部43aが押し嵌められるようになっている。さらにセンターポール43の中心部には孔43bが穿設され、ここに上部に樹脂製の把持部44aと下部に樹脂製の弁部44bを備えた弁シャフト44が差込可能となっている。つまり弁シャフト44の把持部44aを手で持ってセンターポール43上方より差し込むと、先端の弁部44bが回転盤22の排水孔22aを塞いでバレル槽20内の液体を保持するようになっている。図3において実線で示したのは、支持体30を支持するベース45と、ベース45上に設けた回転軸28を駆動するためのモータ46である。 A circular hole 41a is formed in the center portion of the cap 41, and a protruding portion 43a of the center pole 43 is fitted into the circular hole 41a. Further, a hole 43b is formed in the center of the center pole 43, and a valve shaft 44 provided with a resin grip 44a at the top and a resin valve 44b at the bottom can be inserted. That is, when the grip 44a of the valve shaft 44 is held by hand and inserted from above the center pole 43, the valve portion 44b at the tip closes the drain hole 22a of the rotating plate 22 and holds the liquid in the barrel tank 20. Yes. A solid line in FIG. 3 indicates a base 45 that supports the support 30 and a motor 46 that drives the rotary shaft 28 provided on the base 45.

次に本発明の渦流バレル研磨機の動作説明をする。バレル研磨に際して、サポートリング37は下方に螺送され、周り止めナット36に突き当たった状態となっている。ストッパーリング38は固定槽フランジ21aを抑え付けないように上方に退避しておく。これにて筒状固定槽21は、その突状部24が回転盤22のセラミックリング27にその自重で当接した状態となる。つまり回転盤22のセラミックリング27は、固定槽21の突状部24を介して、固定槽21の全荷重を受けた状態となっている。続いて弁シャフト44をセンターポール43より差込み、回転盤22の排水孔22aを閉じる。 Next, the operation of the vortex barrel polishing machine of the present invention will be described. At the time of barrel polishing, the support ring 37 is screwed downward and is in contact with the rotation stop nut 36. The stopper ring 38 is retracted upward so as not to hold down the fixed tank flange 21a. Thus, the cylindrical fixed tank 21 is in a state in which the protruding portion 24 is in contact with the ceramic ring 27 of the turntable 22 by its own weight. That is, the ceramic ring 27 of the turntable 22 is in a state of receiving the full load of the fixed tank 21 via the protruding portion 24 of the fixed tank 21. Subsequently, the valve shaft 44 is inserted from the center pole 43, and the drain hole 22a of the turntable 22 is closed.

次にバレル槽20内に所定量のマスを投入する。コンパウンドを含んだ溶液は、バレル槽20上方より所定量を直接投入しても良いし、給水孔33よりアンダープレート31、摺動部Sを介してバレル槽20内に供給しても良い。いずれにしてもコンパウンド溶液は、バレル槽20内に所定水位となるように満たし、且つアンダープレート31内にも給水孔33より一定圧がかかるように満たしておく。所定量のコンパウンド溶液が入ったら、モータ46を始動して回転盤22を回転し、バレル研磨に入る。バレル研磨中は、回転盤22の回転により、セラミックリング27が固定槽21の突状部24と常時接触しながら摺動回転する。このため摺動部Sは発熱する傾向にあるが、アンダープレート31内には一定圧のコンパウンド溶液が常時給水孔33より供給され、摺動部Sを介してバレル槽20内に供給されるので、摺動部Sの発熱が抑えられ、円滑に摺動する。またバレル研磨中は、回転盤22の排水孔22aが弁シャフト44で閉じられているので、バレル槽20内のコンパウンド溶液は徐々に増水するが、バレル槽20内へのコンパウンド溶液の供給量は微量なので、通常の1〜2時間程度の短時間研磨には影響しない。また場合によっては、排水孔22aを開いたままにし、余剰のコンパウンド溶液を排水するようにしてもよい。 Next, a predetermined amount of mass is put into the barrel tank 20. A predetermined amount of the solution containing the compound may be charged directly from above the barrel tank 20 or may be supplied into the barrel tank 20 through the water supply hole 33 via the under plate 31 and the sliding portion S. In any case, the compound solution is filled in the barrel tank 20 so as to reach a predetermined water level, and the underplate 31 is filled so that a constant pressure is applied from the water supply hole 33. When a predetermined amount of the compound solution is contained, the motor 46 is started to rotate the rotating plate 22, and barrel polishing is started. During the barrel polishing, the rotation of the rotating plate 22 causes the ceramic ring 27 to slide and rotate while always in contact with the protruding portion 24 of the fixed tank 21. For this reason, although the sliding part S tends to generate heat, a constant pressure compound solution is always supplied into the under plate 31 from the water supply hole 33 and is supplied into the barrel tank 20 through the sliding part S. Heat generation of the sliding part S is suppressed, and the sliding is performed smoothly. During barrel polishing, the drain hole 22a of the turntable 22 is closed by the valve shaft 44, so that the compound solution in the barrel tank 20 gradually increases, but the supply amount of the compound solution into the barrel tank 20 is as follows. Since it is a very small amount, it does not affect normal polishing for about 1 to 2 hours. In some cases, the drain hole 22a may be left open to drain the excess compound solution.

バレル研磨が終了したら、回転盤22の回転を止め、コンパウンド溶液の供給も遮断する。次に弁シャフト44の把持部44aを手で持って引き上げ、回転盤22の排水孔22aを開いて、バレル研磨で生じた汚水を排出する。この時、汚水と共に金属ネット40を通過した研磨石の磨耗紛やワークの削れカスといった研磨カスもいっしょに排出される。この他、必要に応じてバレル槽20上方よりシャワリングしてマスの洗浄を行なう。 When the barrel polishing is completed, the rotation of the turntable 22 is stopped and the supply of the compound solution is also shut off. Next, the grasping portion 44a of the valve shaft 44 is lifted by hand, and the drain hole 22a of the turntable 22 is opened to discharge sewage generated by barrel polishing. At this time, the polishing waste such as the abrasion powder of the polishing stone and the scrap of the workpiece passing through the metal net 40 together with the dirty water is discharged together. In addition, the mass is washed by showering from above the barrel tank 20 as necessary.

次に、マスを排出するが、まずストッパーリング38を下方に螺送して固定槽フランジ21aに当接させる。これにて固定槽21の突状部24と回転盤22のセラミックリング27の摺動部Sはロックされた状態となる。次に不図示のバレル槽反転機構によって、バレル槽20を約110度反転(図3の2点鎖線の状態)し、バレル槽20下に置いた不図示のバケット内にマスを排出する。この反転状態でも、ストッパーリング38で固定槽フランジ21aを押さえつけているので、摺動部Sに隙間が生じることがなく、微小研磨石や微小ワークが摺動部Sをすり抜けてアンダープレート31内に入ることがない。 Next, the mass is discharged. First, the stopper ring 38 is screwed downward to contact the fixed tank flange 21a. Thus, the protruding portion 24 of the fixed tank 21 and the sliding portion S of the ceramic ring 27 of the rotating disk 22 are locked. Next, the barrel tank reversing mechanism (not shown) reverses the barrel tank 20 by about 110 degrees (in the state of the two-dot chain line in FIG. 3), and the mass is discharged into a bucket (not shown) placed under the barrel tank 20. Even in this inverted state, since the fixed tank flange 21a is pressed by the stopper ring 38, there is no gap in the sliding portion S, and a fine grinding stone or a minute work passes through the sliding portion S and enters the under plate 31. Never enter.

<他の実施の形態>
上記実施形態では回転盤のセラミック部材を一体成型したリングとしたが、小片状に分割したものを環状に並べても良い。固定槽の位置決め手段は、アンダープレート31より立設したボルト35にストッパーリング38を取り付けたものとしたが、バレル研磨機外より固定槽21を押さえつけるようにしても良い。要するに、バレル槽反転時に、固定槽21が脱落しないようにその上下位置をロックできるものであれば何でも良い。突状部24はウレタンライニング23と一体成形したが、突状部24を別体とし、ウレタンライニング23に接着するようにしても良い。こうすれば、摺動部Sにより突状部24が磨耗しても、突状部24のみを交換すれば良い。樹脂ライニングはウレタンライニング23、25に限ったものではなく、要するにバレル槽内壁の磨耗を抑える材質であれば何でも良い。
<Other embodiments>
In the above embodiment, the ring is formed by integrally molding the ceramic members of the rotating disk. However, the rings divided into small pieces may be arranged in an annular shape. The fixing tank positioning means is such that the stopper ring 38 is attached to the bolt 35 erected from the under plate 31, but the fixing tank 21 may be pressed from outside the barrel polishing machine. In short, anything can be used as long as the upper and lower positions can be locked so that the fixed tank 21 does not fall off when the barrel tank is reversed. Although the protruding portion 24 is integrally formed with the urethane lining 23, the protruding portion 24 may be separated and bonded to the urethane lining 23. In this way, even if the protruding portion 24 is worn by the sliding portion S, only the protruding portion 24 needs to be replaced. The resin lining is not limited to the urethane linings 23 and 25, and may be any material that suppresses the wear of the inner wall of the barrel tank.

従来の渦流バレル研磨機の正面断面図Front sectional view of a conventional vortex barrel polishing machine 本発明の渦流バレル研磨機の正面断面図Front sectional view of the vortex barrel polishing machine of the present invention 本発明の渦流バレル研磨機の側面を模式的に示した図The figure which showed typically the side of the eddy current barrel polisher of this invention

符号の説明Explanation of symbols

20 バレル槽
21 筒状固定槽
22 回転盤
23 樹脂ライニング(ウレタンライニング)
24 樹脂ライニング(突状部)
27 セラミック部材(セラミックリング)
38 固定槽の位置決め手段(ストッパーリング)
20 barrel tank 21 cylindrical fixed tank 22 turntable 23 resin lining (urethane lining)
24 Resin lining (projection)
27 Ceramic parts (ceramic rings)
38 Fixing tank positioning means (stopper ring)

Claims (2)

筒状固定槽とその下部に回転可能に配置した回転盤とからなるバレル槽を備えた渦流バレル研磨機において、前記固定槽の内壁面には樹脂ライニングが形成される一方で、前記回転盤にはセラミック部材が取り付けられ、バレル研磨時は固定槽の位置決め手段を前記固定槽から退避して前記樹脂ライニングが前記セラミック部材に接触した状態で前記回転盤が回転することによって前記バレル槽内のマスを流動してバレル研磨し、バレル研磨終了後、前記バレル槽を反転してマスを排出する時は前記固定槽の位置決め手段により前記固定槽を位置決めして、前記樹脂ライニングと前記セラミック部材の接触状態を維持したことを特徴とした渦流バレル研磨機。 In the vortex barrel polishing machine provided with a barrel tank composed of a cylindrical fixed tank and a rotating disk rotatably disposed in the lower part thereof, a resin lining is formed on the inner wall surface of the fixed tank, A ceramic member is attached. During barrel polishing, the positioning means of the fixed tank is retracted from the fixed tank, and the rotating plate rotates while the resin lining is in contact with the ceramic member. When the barrel tank is inverted and the mass is discharged after the barrel polishing is completed, the fixed tank is positioned by the fixing tank positioning means, and the resin lining and the ceramic member are in contact with each other. A vortex barrel polishing machine characterized by maintaining the condition. バレル研磨時の前記樹脂ライニングの前記セラミック部材への接触は、前記固定槽の自重のみにより接触させることを特徴とした請求項1記載の渦流バレル研磨機。 2. The vortex barrel polishing machine according to claim 1, wherein the resin lining is brought into contact with the ceramic member during barrel polishing only by its own weight of the fixed tank.
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