JP4108278B2 - Automatic defect detection and correction apparatus for solid-state image sensor and imaging apparatus using the same - Google Patents

Automatic defect detection and correction apparatus for solid-state image sensor and imaging apparatus using the same Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、固体撮像素子内に存在する欠陥画素の検出して、その欠陥画素の補正を行う固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体基板上に形成されたCMOSイメージセンサーおよびCCD(Charge Coupled Device)等の固体撮像素子において、半導体基板上の局所的な結晶欠陥等により欠陥画素が発生することがある。このような欠陥画素は、その欠陥画素から出力される信号出力レベルの大きさが、入射される光の量に依存しない特異な信号出力レベルを示すために、欠陥画素から出力される信号により、撮像して得られた画像の画質が劣化するという問題がある。
【0003】
従来のビデオカメラおよびデジタルカメラの撮像装置では、固体撮像素子内に存在する欠陥画素を検出し、その欠陥画素に関するアドレスデータ等を不揮発性メモリー等の記憶装置に記憶させ、撮影時に、この不揮発性メモリーに記憶されている欠陥画素のアドレスデータ等に基づいて、欠陥画素から出力される信号を補正している。
【0004】
例えば、CMOSイメージセンサーを搭載した撮像装置の場合、製造段階において撮像装置のレンズを遮光し、CMOSイメージセンサーに光が入射されない状態で、CMOSイメージセンサーの各画素から出力される信号と被検査画素の周辺画素から出力される信号とを比較し、それらの信号出力レベルの値の差が所定の閾値を越えると、この特異な信号出力レベルを出力した画素を欠陥画素として検出する。そして、この欠陥画素のアドレスデータが不揮発性メモリーに記憶される。欠陥画素の検出が終了すると、CMOSイメージセンサーと欠陥画素のアドレステータが記憶された不揮発性メモリーとが一対となり撮像装置に内蔵されて出荷される。そして、ユーザーがこの撮像装置を用いて撮像する場合には、不揮発性メモリーに記憶されているCMOSイメージセンサーの欠陥画素のアドレスデータに基づいて、CMOSイメージセンサーから出力される映像信号における欠陥画素に対応する信号が欠陥画素の近傍の画素の信号によって補正される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前述のように、固体撮像素子の欠陥画素の補正では、製造段階において撮像装置のレンズを遮光して、CMOSイメージセンサー等に光が入射しない状態で欠陥画素の検出を行い、欠陥画素のアドレスデータ等をメモリーに記憶しなければならない。このため、製造段階での工数が増加するという問題がある。また、工場からCMOSイメージセンサーを搭載した撮像装置の製品の出荷後に、静電破壊等によって生じるCMOSイメージセンサーの欠陥画素については補正が出来ないという問題もある。
【0006】
このような、問題に対して特開平6−6685号公報では、撮像装置の電源投入時に、撮像装置に搭載されているレンズの絞りを閉じて遮光状態とし、固体撮像素子の撮像出力信号によって欠陥画素の検出を行い、この欠陥画素からの検出信号に基づいて欠陥データを記録し保持して、撮影時にこの最新の欠陥データを用いて欠陥画素の補正を行う欠陥補正装置が開示されている。
【0007】
しかしながら、特開平6−6685号公報に開示されている欠陥補正装置では欠陥画素のアドレスデータ等をメモリーに記憶するため、撮像装置に欠陥画素のアドレスデータを記憶するためのメモリー等の記憶装置を搭載する必要がある。また、補正できる欠陥画素の数は、欠陥画素のアドレスデータの記憶を行う不揮発性メモリー等の記憶装置の記憶容量に依存するという問題もある。
【0008】
本発明は、このような課題を解決するものであり、その目的は、生産時において工数を増やすことなく、また、出荷後に生じた欠陥画素についても、欠陥画素のアドレスデータ等を記憶するメモリー等の記憶装置を搭載することなく検出して、補正を行うことができる固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置は、固体撮像素子内の欠陥画素を検出し、検出された欠陥画素を補正する固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置であって、所定の画素と該所定の画素の周囲の複数の画素との信号出力レベルの差を、欠陥画素検出値として算出し、算出された該欠陥画素検出値が、予め設定された高レベルの第1の欠陥検出閾値より大きければ該所定の画素を欠陥画素と判定するとともに、算出された該欠陥画素検出値が、第1の欠陥検出閾値よりも小さく予め設定された中レベルの第2の欠陥検出閾値より大きければ該所定の画素を欠陥画素と判定する欠陥検出手段と、該欠陥検出手段により検出された欠陥画素からの信号出力レベルを補正する欠陥補正手段と、を具備することを特徴とする。
【0010】
前記欠陥画素検出値は、所定の画素の信号出力レベルと周囲の複数の画素の信号出力レベルの最大値との差である。
【0011】
前記第2の欠陥検出閾値は、周囲の複数の画素の信号出力レベルの最大値と最小値との差である周辺画素指数に所定の値を乗じた値である。
【0012】
前記欠陥補正手段は、欠陥画素からの信号出力レベルを、該欠陥画素の近傍の画素からの信号出力レベルの平均値に置換する。
【0013】
本発明の撮像装置は、請求項1〜4のいずれかに記載の固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置を有する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。
【0015】
図1は、本発明の実施形態を示す固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置が搭載された撮像装置の概略ブロック図である。図1に示すの撮像装置は、被写体を結像させるレンズ1および固体撮像素子であるCMOSイメージセンサー2を有し、CMOSイメージセンサー2の出力が自動欠陥検出補正装置12に入力されている。自動欠陥検出補正装置12は、CMOSイメージセンサー2の出力が直接入力される欠陥検出回路4を有しており、この欠陥検出回路4には、CMOSイメージセンサー2の出力が水平走査期間の走査を遅延させる2Hライン遅延器3を介して入力されている。欠陥画素を検出する欠陥検出回路4の出力は、欠陥画素を補正する欠陥補正回路5に与えられており、欠陥補正回路5の出力がディジタル信号処理回路6に与えられている。ディジタル信号処理回路6は、入力された信号に種々の信号処理を行い、YUVディジタル信号として出力する。
【0016】
被写体から得られた入射光は、レンズ1を介して、CMOSイメージセンサー2に入力される。この入射光は、CMOSイメージセンサー2において光電変換されて電気信号となり、その電気信号は、相関2重サンプリング処理(CDS:Correlated Double Sampling)、オートゲインコントロール(AGC:自動利得制御)、A/D変換等の処理が行われる回路(図示せず)を経てディジタル信号として出力される。このディジタル信号には、CMOSイメージセンサー2に欠陥画素が存在する場合に、その欠陥画素からの信号も含まれている。欠陥画素が存在するラインをAとすると、この信号Aは、ディジタル処理を施された状態で欠陥検出回路4に与えられるとともに、2Hライン遅延器3を経て欠陥画素が存在するラインから2水平期間遅延された信号Bとされて、欠陥検出回路4に与えられている。
【0017】
欠陥検出回路4では、欠陥画素から出力される信号レベルと周囲の画素から出力される信号レベルとの差を求めることによって、欠陥画素を検出し、検出された欠陥画素から出力される信号は、欠陥補正回路5に入力されて、欠陥画素に近接する画素から出力される信号に基づいて補正が行われて、ディジタル信号処理回路6を経てYUVディジタル信号として出力される。
【0018】
図2は、本発明の実施形態の自動欠陥検出補正装置にて使用するCMOSイメージセンサー2の色フィルターの構成図である。Rは、赤色透過のフィルター7、Bは、青色透過のフィルター8、Gは、緑色透過のフィルター9を示し、赤色透過のフィルター7と緑色透過のフィルター9とを水平方向(x方向)に交互に繰り返す第1フィルター列10と、緑色透過のフィルター9と青色透過のフィルター8とを水平方向に交互に繰り返す第2フィルター列11とが垂直方向(y方向)にも交互に繰り返し配置されている。第1フィルター列10のGと第2フィルター列11のGとは、垂直方向に重ならないように配置されている。このフィルター配列は、一般にベイヤー配列として用いられている。
【0019】
図2において、第1フィルター列10の中央部に配置されている赤色透過のフィルター7に対応した画素に注目し、注目画素をXおよび信号出力レベルをPとする。注目画素Xを含む第1フィルター列10において、画素の両側に位置する色透過のフィルター7の部分を画素2および画素3、それぞれの信号出力レベルをそれぞれP2およびP3、さらに、それらの画素2および画素3の両側に位置する赤色透過フィルター7部分の画素を画素1および画素4、それぞれの信号出力レベルをそれぞれP1およびP4とする。また、注目画素Xを有する第1フィルター列10の上方に第2フィルター列11を挟んで配置された第1フィルター列10において注目画素Xの上方に配置されている赤色透過のフィルター7の画素を画素5、その信号出力レベルをP5とする。
【0020】
ここで、図2を参照して、画素遅延について説明する。CMOSイメージセンサー2から出力され、欠陥画素として検出を行う画素を含んでいる信号Aは、画素1、画素2、画素3、画素4および画素Xを含む第1フィルター列10であるL1ラインの信号であり、L1ラインの信号である欠陥画素が存在する信号Aから2水平期間遅延された信号Bが2Hライン遅延器3から出力される。信号Bは、画素5を有する水平方向のフィルター列であるL2のラインの信号である。
【0021】
欠陥画素の検出は、欠陥検出回路5において行われる。図3は、欠陥検出処理の手順を示すフローチャートである。図3を参照して、図2に示されたCMOSイメージセンサー2の色フィルターの配置図の中に存在する注目画素Xについて欠陥の検出処理を行う場合について説明する。
【0022】
まず、ステップS1において、注目している画素Xと周辺の画素1〜5との信号出力レベルの大きさを比較し、画素Xの信号出力レベルPが周辺の画素1〜5のいずれか1つの信号出力レベル(P1〜P5)よりも小さい場合は、画素Xは正常画素であると判断され検出処理が終了する。
【0023】
一方、画素Xの信号出力レベルPが、周辺の画素1〜5の全ての信号出力レベル(P1〜P5)よりも大きければ、ステップS2において、画素1〜5の各信号出力レベル(P1〜P5)の最大値と最小値との差である周辺画素指数FLATと、画素Xの信号出力レベルPと周辺の画素1〜5の信号出力レベル(P1〜P5)の最大値との差である欠陥画素検出値DIFFを算出する。
【0024】
そして、ステップS3において、注目画素Xが欠陥画素であるかの検出を行う。この場合、注目画素Xとその周辺の画素1〜5との信号出力レベルが図4(a)〜(c)に示す関係があるとする。図4(a)は、画素Xの位置に対して水平方向(x方向)に配置されている画素1〜4と画素Xとの信号出力レベルの比較を示すグラフであり、図4(b)は、画素Xの位置に対して垂直方向(y方向)に配置されている画素5と画素Xとの信号出力レベルの比較を示すグラフである。図4(a)および(b)より、画素1〜5の信号出力レベル(P1〜P5)の最大値が画素3のP3であり、欠陥画素検出値DIFFは、画素Xと画素3との信号出力レベルの差(P−P3)で表される。図4(c)は、各画素1〜5のそれぞれの信号出力レベルを示すグラフであり、このグラフより、画素1〜5の各信号出力レベル(P1〜P5)の最大値と最小値は、最大値が画素3のP3、最小値が画素2のP2となり、周辺画素指数FLATは、画素3と画素2との信号出力レベルの差(P3−P2)で表される。
【0025】
次に、注目画素Xからの信号出力レベルが高レベルである場合の第1の欠陥検出処理について説明する。注目している画素Xの信号出力レベルPと周辺の画素1〜5の信号出力レベル(P1〜P5)の最大値との差である欠陥画素検出値DIFF(P−P3:図4(a)参照)がユーザーの要求に応じて決定される第1の欠陥検出閾値USER_THRより大きい場合には、注目している画素Xを欠陥画素であると判定する。第1の欠陥検出閾値USER_THRの値を所定値以上に設定することによって、信号出力レベルが高レベルである欠陥画素を確実に検出できる。
【0026】
しかし、注目している画素Xの周辺の画素の信号出力レベルが凹凸のない均一な場合では、欠陥画素検出値DIFFが第1の欠陥検出閾値USER_THRよりも小さい値でも、目視において非常に目立つ欠陥画素が存在する。このような欠陥画素を検出するためには、第1の欠陥検出閾値USER_THRをさらに小さくすればよい。ところが第1の欠陥検出閾値USER_THRを小さい値に設定すると、画素からの信号出力レベルが凹凸のある複雑なパターンを持った被写体においては、正常な画素の信号出力レベルと周辺の画素の信号出力レベルの最大値との差である欠陥画素検出値DIFFが、第1の欠陥検出閾値USER_THRよりも大きくなる可能性が生じ、正常な画素までも欠陥画素と誤判定することになる。
【0027】
このような、注目画素Xからの信号出力レベルが中レベルである場合の欠陥画素の検出が第2の検出処理として行われる。第2の検出処理では、欠陥画素を検出するために第2の欠陥検出閾値THRを用いる。第2の欠陥検出閾値THRは、(1)式で与えられる。
【0028】
THR=FLAT×REF_USR・・・(1)
ここで、FLATは、前述した周辺画素指数、REF_USRは、ユーザーの要求により任意に設定できる係数である。注目画素Xの信号出力レベルと周辺の画素の信号出力レベルの最大値との差である欠陥画素検出値DIFFが、第2の欠陥検出閾値THRより大きい場合では、注目画素Xを欠陥画素として検出する。周辺画素指数FLATの値が0(ゼロ)の場合は、注目画素Xの周辺の画素の画像は、被写体表面が信号出力レベルの凹凸のない均一な画像であると考えられる。また、周辺画素指数FLATが0から大きくなるにつれて、注目画素Xの周辺は、被写体表面が信号出力レベルの凹凸のある複雑なパターンをもつ映像であると推定できる。注目している画素Xの周辺が、凹凸のない均一な画像の場合は、より多くの欠陥画素の検出を行うためには、第2の欠陥検出閾値THRをより小さい値にすれば良く、注目画素Xの周辺が信号出力レベルの凹凸のある複雑なパターンの場合は、欠陥画素の誤判定を防ぐためには第2の欠陥検出閾値THRをより大きい値にすれば良い。
【0029】
このため、ステップS4では、欠陥画素の検出量である(1)式に示す第2の欠陥検出閾値THRにおいてユーザーの要求により任意に設定できる係数REF_USRの値を設定し、第2の欠陥検出値閾値THRの値を算出する。そして、ステップS5において、欠陥画素検出値DIFFが第2の欠陥検出閾値THRより小さい場合には、画素Xは、正常画素であると判断され欠陥検出処理を終了する。
【0030】
一方、欠陥画素検出値DIFFが第2の欠陥検出閾値THRより大きい場合には、ステップS6にて、注目している画素Xが点光源のような被写体の中心でないかを判定する。被写体が点光源のようなものである場合には、画素Xと周辺の画素1〜4との信号出力レベルは、図5に示すように、画素Xからの信号出力レベルが最も大きくなり、画素Xから離れるにつれて信号出力レベルは、小さくなると考えられる。これより、周辺の画素1および画素2の信号出力レベルは、P1<P2の不等式を満足し、周辺の画素3および画素4の信号出力レベルは、P4<P3の不等式を満足する。したがって、Pl>P2またはP3<P4の条件を満足しない場合は、画素Xは、点光源のような被写体の中心であり正常画素であると判断され、検出処理が終了する。
【0031】
次に、P1>P2またはP3<P4のいずれかを満足する場合には、ステップS7において、画素2と画素1との信号出力レベルの差(P1−P2)、または、画素3と画素4との信号出力レベルの差(P4−P3)が、ユーザーの要求に対応して決定される第3の欠陥検出閾値LIGHTよりも小さい場合は、画素Xの周辺が信号出力レベルの凹凸のない均一なパターンであるにも関わらず、画素Xの信号出力レベルが周囲の画素1〜4の信号出力レベルより突出していると考えられるので、画素Xが欠陥画素であると判断される。そして、画素2と画素1との信号出力レベルの差(P1−P2)、または、画素3と画素4との信号出力レベルの差(P4−P3)が第3の欠陥検出閾値LIGHTよりも大きい場合は、画素Xは、正常画素であると判断され欠陥検出処理を終了する。
【0032】
この後、欠陥補正回路6では、欠陥検出回路5において注目画素Xが欠陥画素と判定された場合、リアルタイムで注目している画素Xの周辺にある同色フィルターの画素2と画素3の信号出力レベルの平均値Poaveが(2)式のより得られる。
【0033】
Poave=(P2十P3)/2・・・・(2)
そして、欠陥画素から出力される信号出力レベルPを、(2)式により得られた平均値の信号出力レベルPoaveに置き換えることによって、欠陥画素の補正が実施される。そして、CMOSイメージセンサー2の有効画素のすべてについて、第1の検出処理、第2の検出処理の2つの検出処理を実施することにより、高レベルの信号出力レベルを持つ欠陥画素、中レベルの信号出力レベルを持つ欠陥画素を、自動的に精度良く検出でき、しかも欠陥画素の補正を行うことができる。
【0034】
したがって、本発明の固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置では、欠陥画素のアドレスデータ等を記憶するための記憶装置を用いずに、欠陥検出回路によって欠陥画素の検出し、その後、連続して欠陥補正回路によって欠陥画素の信号出力レベルを補正することが簡便に精度良く実施できる。
【0035】
また、本発明の固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置を搭載した撮像装置では、メモリー等の記憶装置が搭載されていないために、記憶容量による補正できる欠陥画素数の制約が無く、さらに、製造出荷後の経時変化によって生じる欠陥画素についても補正が可能となり、利便性が向上する。
【0036】
【発明の効果】
本発明の固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置は、所定の画素と所定の画素の周囲の複数の画素との信号出力レベルの差を、欠陥画素検出値として算出し、算出された欠陥画素検出値が、予め設定された高レベルの第1の欠陥検出閾値より大きければ所定の画素を欠陥画素と判定するとともに、算出された欠陥画素検出値が、第1の欠陥検出閾値よりも小さく予め設定された中レベルの第2の欠陥検出閾値より大きければ所定の画素を欠陥画素と判定する欠陥検出手段と、欠陥検出手段により検出された欠陥画素からの信号出力レベルを補正する欠陥補正手段と、を具備することによって、メモリー等の記憶装置を搭載することなく、製造出荷後に生じた欠陥画素についても、その欠陥画素を検出し、その後、連続して欠陥画素の補正を行うことができる。
【0037】
また、本発明の撮像装置は、記憶容量による補正できる欠陥画素の数の制約が無くなり、製造出荷後の経時変化によって生じる欠陥画素についても補正が可能となり利便性の向上する。
【0038】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態である固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置の概略ブロック図である。
【図2】その自動欠陥検出補正装置に使用するCMOSイメージセンサーの色フィルターの配置図である。
【図3】本発明の欠陥画素の欠陥検出処理手順の説明するフローチャートである。
【図4】(a)、(b)は、画素Xと画素Xの周囲の画素1〜5との信号出力レベルの比較を示すグラフである。(c)は、画素1〜5の信号出力レベルの比較を示すグラフである。
【図5】被写体が点光源の場合の画素Xと画素1〜4との信号出力レベルの比較を示すグラフである。
【符号の説明】
1 レンズ
2 CMOSイメージセンサー
3 2Hライン遅延器
4 欠陥画素検出回路
5 欠陥画素補正回路
6 ディジタル信号処理回路
7 赤色透過フィルター
8 青色透過フィルター
9 緑色透過フィルター
10 第1のフィルター列
11 第2のフィルター列
12 自動欠陥検出補正装置
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an automatic defect detection and correction apparatus for a solid-state image sensor that detects a defective pixel present in a solid-state image sensor and corrects the defective pixel.
[0002]
[Prior art]
In a solid-state imaging device such as a CMOS image sensor and a CCD (Charge Coupled Device) formed on a semiconductor substrate, defective pixels may occur due to local crystal defects on the semiconductor substrate. Such a defective pixel has a signal output level that is output from the defective pixel so that the signal output level does not depend on the amount of incident light. There is a problem that the image quality of the image obtained by imaging deteriorates.
[0003]
In conventional video camera and digital camera imaging devices, a defective pixel existing in a solid-state imaging device is detected, address data related to the defective pixel is stored in a storage device such as a nonvolatile memory, and this nonvolatile The signal output from the defective pixel is corrected based on the address data of the defective pixel stored in the memory.
[0004]
For example, in the case of an image pickup apparatus equipped with a CMOS image sensor, a signal output from each pixel of the CMOS image sensor and a pixel to be inspected while the lens of the image pickup apparatus is shielded in the manufacturing stage and no light is incident on the CMOS image sensor. When the difference between the signal output levels exceeds a predetermined threshold, the pixel that outputs this specific signal output level is detected as a defective pixel. Then, the address data of the defective pixel is stored in the nonvolatile memory. When the detection of the defective pixel is completed, the CMOS image sensor and the nonvolatile memory storing the address data of the defective pixel are paired and shipped in the imaging apparatus. When a user takes an image using this imaging device, the defective pixel in the video signal output from the CMOS image sensor is determined based on the address data of the defective pixel of the CMOS image sensor stored in the nonvolatile memory. The corresponding signal is corrected by the signal of the pixel near the defective pixel.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, as described above, in the defective pixel correction of the solid-state imaging device, the defective pixel is detected in a state where the lens of the imaging device is shielded in the manufacturing stage and no light is incident on the CMOS image sensor or the like. Address data etc. must be stored in memory. For this reason, there exists a problem that the man-hour in a manufacture stage increases. Another problem is that defective pixels of the CMOS image sensor that are caused by electrostatic breakdown or the like cannot be corrected after the product of the image pickup apparatus equipped with the CMOS image sensor is shipped from the factory.
[0006]
In order to solve such a problem, in Japanese Patent Laid-Open No. 6-6665, when the power of the image pickup apparatus is turned on, the aperture of the lens mounted on the image pickup apparatus is closed to be in a light shielding state, and a defect is detected by the image pickup output signal of the solid-state image pickup device. There has been disclosed a defect correction apparatus that detects pixels, records and holds defect data based on detection signals from the defective pixels, and corrects the defective pixels using the latest defect data at the time of photographing.
[0007]
However, since the defect correction apparatus disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-6585 stores defective pixel address data and the like in a memory, a storage device such as a memory for storing defective pixel address data in the imaging apparatus is provided. It is necessary to install. Another problem is that the number of defective pixels that can be corrected depends on the storage capacity of a storage device such as a nonvolatile memory that stores address data of the defective pixels.
[0008]
The present invention solves such problems, and its purpose is to increase the number of man-hours during production, and to store defective pixel address data and the like for defective pixels generated after shipment. It is an object of the present invention to provide an automatic defect detection / correction device for a solid-state imaging device that can detect and correct without mounting the storage device.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
An automatic defect detection and correction apparatus for a solid-state image sensor according to the present invention is an automatic defect detection and correction apparatus for a solid-state image sensor that detects defective pixels in a solid-state image sensor and corrects the detected defective pixels. A difference in signal output level with a plurality of pixels around the predetermined pixel is calculated as a defective pixel detection value, and the calculated defective pixel detection value is a preset high-level first defect detection threshold value. If it is larger, the predetermined pixel is determined to be a defective pixel, and if the calculated defective pixel detection value is smaller than the first defect detection threshold and greater than a preset second defect detection threshold at a medium level. Defect detecting means for determining the predetermined pixel as a defective pixel, and defect correcting means for correcting a signal output level from the defective pixel detected by the defect detecting means.
[0010]
The defective pixel detection value is a difference between a signal output level of a predetermined pixel and a maximum value of signal output levels of a plurality of surrounding pixels.
[0011]
The second defect detection threshold is a value obtained by multiplying a peripheral pixel index, which is a difference between the maximum value and the minimum value of the signal output levels of a plurality of surrounding pixels, by a predetermined value.
[0012]
The defect correcting means replaces the signal output level from the defective pixel with an average value of the signal output levels from pixels near the defective pixel.
[0013]
The imaging device of the present invention has the automatic defect detection and correction device for a solid-state imaging device according to any one of claims 1 to 4.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0015]
FIG. 1 is a schematic block diagram of an imaging apparatus equipped with an automatic defect detection / correction apparatus for a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention. The image pickup apparatus shown in FIG. 1 includes a lens 1 that forms an image of a subject and a CMOS image sensor 2 that is a solid-state image pickup device, and an output of the CMOS image sensor 2 is input to an automatic defect detection and correction device 12. The automatic defect detection / correction device 12 has a defect detection circuit 4 to which the output of the CMOS image sensor 2 is directly input, and the output of the CMOS image sensor 2 performs scanning in the horizontal scanning period. It is input via a 2H line delay device 3 for delaying. The output of the defect detection circuit 4 for detecting defective pixels is given to a defect correction circuit 5 for correcting defective pixels, and the output of the defect correction circuit 5 is given to a digital signal processing circuit 6. The digital signal processing circuit 6 performs various signal processing on the input signal and outputs it as a YUV digital signal.
[0016]
Incident light obtained from the subject is input to the CMOS image sensor 2 via the lens 1. This incident light is photoelectrically converted into an electrical signal in the CMOS image sensor 2, and the electrical signal is subjected to correlated double sampling processing (CDS: Correlated Double Sampling), auto gain control (AGC: automatic gain control), A / D. It is output as a digital signal through a circuit (not shown) in which processing such as conversion is performed. This digital signal includes a signal from the defective pixel when the CMOS image sensor 2 has a defective pixel. Assuming that the line where the defective pixel exists is A, this signal A is given to the defect detection circuit 4 in a state where it has been subjected to digital processing, and from the line where the defective pixel exists via the 2H line delay unit 3 for two horizontal periods. The delayed signal B is given to the defect detection circuit 4.
[0017]
The defect detection circuit 4 detects a defective pixel by obtaining a difference between a signal level output from the defective pixel and a signal level output from surrounding pixels, and a signal output from the detected defective pixel is: Correction is performed based on a signal input to the defect correction circuit 5 and output from a pixel adjacent to the defective pixel, and is output as a YUV digital signal through the digital signal processing circuit 6.
[0018]
FIG. 2 is a configuration diagram of a color filter of the CMOS image sensor 2 used in the automatic defect detection / correction apparatus according to the embodiment of the present invention. R is a red transmitting filter 7, B is a blue transmitting filter 8, G is a green transmitting filter 9, and the red transmitting filter 7 and the green transmitting filter 9 are alternately arranged in the horizontal direction (x direction). The first filter row 10 that repeats the above and the second filter row 11 that alternately repeats the green transmission filter 9 and the blue transmission filter 8 in the horizontal direction are alternately arranged in the vertical direction (y direction). . G of the first filter row 10 and G of the second filter row 11 are arranged so as not to overlap in the vertical direction. This filter array is generally used as a Bayer array.
[0019]
In FIG. 2, attention is paid to a pixel corresponding to the red transmitting filter 7 disposed in the center of the first filter row 10, and the pixel of interest is X and the signal output level is P. In the first filter row 10 including the pixel of interest X, the portions of the color transmitting filter 7 located on both sides of the pixel are the pixels 2 and 3, the respective signal output levels are P2 and P3, respectively, The pixels of the red transmission filter 7 located on both sides of the pixel 3 are assumed to be pixels 1 and 4, and the respective signal output levels are P1 and P4, respectively. In addition, the pixel of the red transmission filter 7 disposed above the target pixel X in the first filter column 10 disposed with the second filter column 11 sandwiched above the first filter column 10 having the target pixel X. Let the pixel 5 and its signal output level be P5.
[0020]
Here, the pixel delay will be described with reference to FIG. A signal A that is output from the CMOS image sensor 2 and includes a pixel that is detected as a defective pixel is a signal of the L1 line that is the first filter row 10 including the pixel 1, the pixel 2, the pixel 3, the pixel 4, and the pixel X. The 2H line delay unit 3 outputs a signal B that is delayed for two horizontal periods from the signal A in which defective pixels, which are signals of the L1 line, are present. The signal B is a signal of a line L2 that is a horizontal filter row having the pixels 5.
[0021]
The defect detection circuit 5 detects the defective pixel. FIG. 3 is a flowchart showing a procedure of defect detection processing. With reference to FIG. 3, a case where a defect detection process is performed on the target pixel X existing in the color filter layout diagram of the CMOS image sensor 2 shown in FIG. 2 will be described.
[0022]
First, in step S1, the signal output levels of the pixel X of interest and the surrounding pixels 1 to 5 are compared, and the signal output level P of the pixel X is any one of the surrounding pixels 1 to 5. If it is smaller than the signal output level (P1 to P5), it is determined that the pixel X is a normal pixel, and the detection process ends.
[0023]
On the other hand, if the signal output level P of the pixel X is higher than all the signal output levels (P1 to P5) of the surrounding pixels 1 to 5, in step S2, the signal output levels (P1 to P5) of the pixels 1 to 5 are set. ) Is a difference between the peripheral pixel index FLAT, which is the difference between the maximum value and the minimum value, and the difference between the signal output level P of the pixel X and the maximum value of the signal output levels (P1 to P5) of the peripheral pixels 1 to 5. A pixel detection value DIFF is calculated.
[0024]
In step S3, it is detected whether the target pixel X is a defective pixel. In this case, it is assumed that the signal output levels of the target pixel X and the surrounding pixels 1 to 5 have the relationships shown in FIGS. FIG. 4A is a graph showing a comparison of signal output levels between the pixels 1 to 4 arranged in the horizontal direction (x direction) with respect to the position of the pixel X and the pixel X, and FIG. These are graphs showing a comparison of signal output levels between the pixel 5 and the pixel X arranged in the vertical direction (y direction) with respect to the position of the pixel X. 4A and 4B, the maximum value of the signal output levels (P1 to P5) of the pixels 1 to 5 is P3 of the pixel 3, and the defective pixel detection value DIFF is a signal between the pixel X and the pixel 3. It is represented by the difference in output level (P-P3). FIG.4 (c) is a graph which shows each signal output level of each pixel 1-5, From this graph, the maximum value and minimum value of each signal output level (P1-P5) of pixels 1-5 are as follows. The maximum value is P3 of the pixel 3, the minimum value is P2 of the pixel 2, and the peripheral pixel index FLAT is represented by a difference in signal output level between the pixel 3 and the pixel 2 (P3-P2).
[0025]
Next, the first defect detection process when the signal output level from the target pixel X is high will be described. Defective pixel detection value DIFF (P-P3: FIG. 4A), which is the difference between the signal output level P of the pixel X of interest and the maximum value of the signal output levels (P1 to P5) of the surrounding pixels 1 to 5. Is larger than the first defect detection threshold USER_THR determined according to the user's request, it is determined that the pixel X of interest is a defective pixel. By setting the value of the first defect detection threshold USER_THR to a predetermined value or more, it is possible to reliably detect defective pixels having a high signal output level.
[0026]
However, in the case where the signal output levels of the pixels around the pixel X of interest are uniform without unevenness, even if the defective pixel detection value DIFF is smaller than the first defect detection threshold USER_THR, the defect is very noticeable visually. Pixel exists. In order to detect such defective pixels, the first defect detection threshold USER_THR may be further reduced. However, if the first defect detection threshold USER_THR is set to a small value, the signal output level of the pixel and the signal output level of the peripheral pixels are normal in a subject having a complex pattern with unevenness. There is a possibility that the defective pixel detection value DIFF, which is a difference from the maximum value, becomes larger than the first defect detection threshold USER_THR, and even a normal pixel is erroneously determined as a defective pixel.
[0027]
Detection of a defective pixel when the signal output level from the target pixel X is a medium level is performed as the second detection process. In the second detection process, the second defect detection threshold THR is used to detect defective pixels. The second defect detection threshold value THR is given by equation (1).
[0028]
THR = FLAT × REF_USR (1)
Here, FLAT is a peripheral pixel index described above, and REF_USR is a coefficient that can be arbitrarily set according to a user's request. When the defective pixel detection value DIFF, which is the difference between the signal output level of the pixel of interest X and the maximum signal output level of surrounding pixels, is greater than the second defect detection threshold THR, the pixel of interest X is detected as a defective pixel. To do. When the value of the peripheral pixel index FLAT is 0 (zero), it is considered that the image of the pixels around the pixel of interest X is a uniform image on the subject surface with no signal output level unevenness. Further, as the peripheral pixel index FLAT increases from 0, it can be estimated that the periphery of the target pixel X is an image having a complicated pattern with unevenness of the signal output level on the subject surface. When the periphery of the pixel of interest X is a uniform image without unevenness, the second defect detection threshold value THR may be set to a smaller value in order to detect more defective pixels. In the case where the periphery of the pixel X is a complex pattern with unevenness of the signal output level, the second defect detection threshold value THR may be set to a larger value in order to prevent erroneous determination of the defective pixel.
[0029]
For this reason, in step S4, the value of the coefficient REF_USR that can be arbitrarily set according to the user's request is set in the second defect detection threshold value THR shown in the equation (1), which is the detection amount of the defective pixel, and the second defect detection value is set. The value of the threshold value THR is calculated. In step S5, when the defective pixel detection value DIFF is smaller than the second defect detection threshold value THR, the pixel X is determined to be a normal pixel, and the defect detection process ends.
[0030]
On the other hand, if the defective pixel detection value DIFF is greater than the second defect detection threshold value THR, it is determined in step S6 whether the pixel of interest X is not the center of a subject such as a point light source. When the subject is like a point light source, the signal output level of the pixel X and the surrounding pixels 1 to 4 is the highest in the signal output level from the pixel X as shown in FIG. The signal output level is considered to decrease as the distance from X increases. Accordingly, the signal output levels of the peripheral pixels 1 and 2 satisfy the inequality P1 <P2, and the signal output levels of the peripheral pixels 3 and 4 satisfy the inequality P4 <P3. Therefore, when the condition of Pl> P2 or P3 <P4 is not satisfied, it is determined that the pixel X is the center of the subject such as a point light source and is a normal pixel, and the detection process ends.
[0031]
Next, when either P1> P2 or P3 <P4 is satisfied, in step S7, the difference in signal output level between the pixel 2 and the pixel 1 (P1−P2), or the pixel 3 and the pixel 4 Signal output level difference (P4-P3) is smaller than the third defect detection threshold LIGHT determined in response to the user's request, the periphery of the pixel X is uniform with no irregularities in the signal output level. Although it is a pattern, it is considered that the signal output level of the pixel X protrudes from the signal output levels of the surrounding pixels 1 to 4, so that the pixel X is determined to be a defective pixel. The difference in signal output level between the pixel 2 and the pixel 1 (P1-P2) or the difference in signal output level between the pixel 3 and the pixel 4 (P4-P3) is larger than the third defect detection threshold LIGHT. In this case, it is determined that the pixel X is a normal pixel, and the defect detection process ends.
[0032]
Thereafter, in the defect correction circuit 6, when the target pixel X is determined to be a defective pixel in the defect detection circuit 5, the signal output levels of the pixels 2 and 3 of the same color filter around the target pixel X in real time. The average value Poave is obtained from the equation (2).
[0033]
Poave = (P2 + P3) / 2 (2)
Then, the defective pixel is corrected by replacing the signal output level P output from the defective pixel with the average signal output level Poave obtained by the equation (2). Then, by performing two detection processes of the first detection process and the second detection process for all the effective pixels of the CMOS image sensor 2, a defective pixel having a high level signal output level and a medium level signal are detected. A defective pixel having an output level can be automatically detected with high accuracy, and the defective pixel can be corrected.
[0034]
Therefore, in the automatic defect detection / correction device for a solid-state imaging device according to the present invention, a defect detection circuit detects a defective pixel without using a storage device for storing defective pixel address data and the like, and then continuously detects the defect. Correction of the signal output level of the defective pixel by the correction circuit can be easily and accurately performed.
[0035]
In addition, in the imaging apparatus equipped with the automatic defect detection and correction apparatus for the solid-state imaging device of the present invention, since there is no storage device such as a memory, there is no restriction on the number of defective pixels that can be corrected by the storage capacity. It is possible to correct a defective pixel caused by a change with time after shipment, and convenience is improved.
[0036]
【The invention's effect】
The automatic defect detection and correction apparatus for a solid-state imaging device according to the present invention calculates a difference in signal output level between a predetermined pixel and a plurality of pixels around the predetermined pixel as a defective pixel detection value, and calculates the calculated defective pixel If the value is larger than a preset high-level first defect detection threshold, the predetermined pixel is determined as a defective pixel, and the calculated defective pixel detection value is preset smaller than the first defect detection threshold. Defect detection means for determining a predetermined pixel as a defective pixel if it is greater than the medium level second defect detection threshold, defect correction means for correcting a signal output level from the defective pixel detected by the defect detection means, By detecting the defective pixel generated after manufacture and shipment without mounting a storage device such as a memory, the defective pixel is continuously corrected after that. Door can be.
[0037]
In addition, the imaging apparatus according to the present invention eliminates the restriction on the number of defective pixels that can be corrected by the storage capacity, and can correct defective pixels caused by a change with time after manufacture and shipment, thereby improving convenience.
[0038]
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic block diagram of an automatic defect detection and correction apparatus for a solid-state imaging device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a layout diagram of color filters of a CMOS image sensor used in the automatic defect detection and correction apparatus.
FIG. 3 is a flowchart illustrating a defect pixel detection process procedure according to the present invention.
4A and 4B are graphs showing a comparison of signal output levels between a pixel X and pixels 1 to 5 around the pixel X. FIG. (C) is a graph which shows the comparison of the signal output level of the pixels 1-5.
FIG. 5 is a graph showing a comparison of signal output levels of the pixel X and the pixels 1 to 4 when the subject is a point light source.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lens 2 CMOS image sensor 3 2H line delay device 4 Defective pixel detection circuit 5 Defective pixel correction circuit 6 Digital signal processing circuit 7 Red transmission filter 8 Blue transmission filter 9 Green transmission filter 10 First filter row 11 Second filter row 12 Automatic defect detection and correction device

Claims (4)

複数種類の色透過フィルターが所定の配置でマトリクス状に設けられたカラーフィルターと、該カラーフィルターにおける前記各色透過フィルターにそれぞれ対応するように水平方向および垂直方向に沿って配置された画素とが設けられた固体撮像素子を有する撮像装置に設けられ、前記固定撮像装置の欠陥画素を検出し、検出された欠陥画素を補正する固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置であって、
前記固体撮像素子から1水平走査期間に出力される水平方向に沿った第1ラインの全ての画素の出力信号と、前記1水平走査期間から少なくとも1水平走査期間遅れて前記固体撮像素子から出力される水平方向に沿った第2ラインの全ての画素の出力信号とがそれぞれ入力されて、前記第1ラインに含まれる注目画素の出力信号と、該第1ラインにおいて、前記注目画素に対応する色透過フィルターと同色の色透過フィルターに対応する画素から、該注目画素の両側で該注目画素に最も近接する一対の第1および第2画素と、該一対の第1および第2画素の両側で該第1および第2画素に最も近接する一対の第3および第4画素と、前記第2ラインにおいて前記注目画素と同じ水平方向位置であって該注目画素に対応する色透過フィルターと同色の色透過フィルターに対応する第5画素とをそれぞれ選択して、前記第1〜第5画素のそれぞれの出力信号である第1〜第5周辺画素信号に基づいて、前記注目画素が欠陥画素であるかを判定する欠陥検出手段と、
該欠陥検出手段により欠陥画素と判定された前記注目画素の出力信号レベルを補正する欠陥補正手段とを具備し、
前記欠陥検出手段は、前記注目画素の出力信号のレベルが、前記第1〜第5周辺画素信号の全てのレベルよりも大きい場合に、前記注目画素の出力信号と、前記第1〜第5周辺画素信号の最大値との差を欠陥画素検出値として算出し、算出された該欠陥画素検出値が、予め設定された第1の欠陥検出閾値より大きければ前記注目画素を欠陥画素と判定し、前記欠陥画素検出値が、前記第1の欠陥検出閾値よりも小さい場合に、前記第1〜第5周辺画素信号の最大値と最小値との差である周辺画素指数に所定の値を乗じて設定された第2の欠陥検出閾値よりも大きいと、前記注目画素を欠陥画素と判定することを特徴とする固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置。
A color filter in which a plurality of types of color transmission filters are provided in a matrix with a predetermined arrangement, and pixels arranged in the horizontal and vertical directions so as to correspond to the color transmission filters in the color filter, respectively, are provided. An automatic defect detection and correction device for a solid-state imaging device that is provided in an imaging device having a solid-state imaging device and detects a defective pixel of the fixed imaging device and corrects the detected defective pixel,
An output signal of all pixels in the first line along the horizontal direction that is output from the solid-state imaging device in one horizontal scanning period, and is output from the solid-state imaging element with a delay of at least one horizontal scanning period from the one horizontal scanning period. Output signals of all the pixels on the second line along the horizontal direction, and the output signal of the target pixel included in the first line and the color corresponding to the target pixel on the first line. From a pixel corresponding to the same color transmission filter as the transmission filter, a pair of first and second pixels closest to the target pixel on both sides of the target pixel, and a pair of first and second pixels on both sides A pair of third and fourth pixels closest to the first and second pixels, and a color transmission filter corresponding to the target pixel at the same horizontal position as the target pixel in the second line; A fifth pixel corresponding to a color transmission filter of a color is selected, and the target pixel is a defective pixel based on first to fifth peripheral pixel signals that are output signals of the first to fifth pixels, respectively. A defect detection means for determining whether or not
A defect correction unit that corrects an output signal level of the target pixel determined as a defective pixel by the defect detection unit ;
When the level of the output signal of the target pixel is higher than all the levels of the first to fifth peripheral pixel signals, the defect detection means and the first to fifth peripherals A difference from the maximum value of the pixel signal is calculated as a defective pixel detection value, and if the calculated defective pixel detection value is larger than a preset first defect detection threshold, the target pixel is determined as a defective pixel, When the defective pixel detection value is smaller than the first defect detection threshold, the peripheral pixel index, which is the difference between the maximum value and the minimum value of the first to fifth peripheral pixel signals, is multiplied by a predetermined value. An automatic defect detection / correction device for a solid-state imaging device , wherein the target pixel is determined to be a defective pixel if it is larger than a set second defect detection threshold .
前記欠陥検出手段は、前記第1画素と第3画素とが前記注目画素に対して同じ側に位置して、前記第1周辺画素信号のレベルが前記第3周辺画素信号のレベルよりも小さい条件を満足しない場合、または、前記第2画素と第4画素とが前記注目画素に対して同じ側に位置して、前記第2周辺画素信号のレベルが前記第4周辺画素信号のレベルよりも小さい条件を満足しない場合には、前記注目画素を欠陥画素と判定しない、請求項1に記載の固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置。The defect detection unit is configured such that the first pixel and the third pixel are located on the same side with respect to the target pixel, and the level of the first peripheral pixel signal is smaller than the level of the third peripheral pixel signal. Or the second pixel and the fourth pixel are located on the same side of the target pixel, and the level of the second peripheral pixel signal is smaller than the level of the fourth peripheral pixel signal The automatic defect detection and correction apparatus for a solid-state imaging device according to claim 1 , wherein if the condition is not satisfied, the target pixel is not determined as a defective pixel. 前記欠陥検出手段は、前記第1画素と第3画素とが前記注目画素に対して同じ側に位置し、前記第1周辺画素信号のレベルが前記第3周辺画素信号のレベルよりも小さい条件を満足する場合、または、前記第2画素と第4画素とが前記注目画素に対して同じ側に位置し、前記第2周辺画素信号のレベルが前記第4周辺画素信号のレベルよりも小さい条件を満足する場合には、前記第3周辺画素信号のレベルと前記第1周辺画素信号のレベルとの差、または、前記第4周辺画素信号のレベルと前記第2周辺画素信号のレベルとの差が、予め設定された第3欠陥検出閾値よりも小さい場合に、前記注目画素を欠陥画素と判定し、
前記欠陥補正手段は、前記注目画素が欠陥画素と判定された場合に、前記注目画素の出力信号レベルが前記第1および第2周辺画素信号レベルの平均値になるように補正する、請求項2に記載の自動欠陥検出補正装置。
The defect detection means has a condition that the first pixel and the third pixel are located on the same side with respect to the target pixel, and the level of the first peripheral pixel signal is smaller than the level of the third peripheral pixel signal. When satisfied, the second pixel and the fourth pixel are located on the same side with respect to the target pixel, and the level of the second peripheral pixel signal is smaller than the level of the fourth peripheral pixel signal. If satisfied, the difference between the level of the third peripheral pixel signal and the level of the first peripheral pixel signal or the difference between the level of the fourth peripheral pixel signal and the level of the second peripheral pixel signal is Determining that the pixel of interest is a defective pixel if it is smaller than a preset third defect detection threshold,
Said defect correcting means, when the pixel of interest is determined as a defective pixel is corrected so that the output signal level of the pixel of interest becomes the average value of the first and second peripheral pixel signal level, claim 2 The automatic defect detection and correction apparatus described in 1.
請求項1〜のいずれかに記載の固体撮像素子の自動欠陥検出補正装置を有する撮像装置。The imaging device which has the automatic defect detection correction apparatus of the solid-state image sensor in any one of Claims 1-3 .
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