JP4108177B2 - Film-like workpiece processing equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フィルム状プローブユニット用のフィルム状基板のようなフィルム状被加工体を加工する装置に関する。。
【0002】
【従来の技術】
半導体集積回路、液晶表示パネル等の平板状被検査体の通電試験に用いられているプローブカードの1つとして、弾性変形可能のフィルム状プローブユニットを用いるものがある(例えば、特開平4−363671号公報、米国特許第5,221,897号明細書)。
【0003】
このプローブユニットは、ばね性を有する金属層と電気絶縁性を有する樹脂層とを積層したフィルム状基板に配線パターンをいわゆる印刷配線技術により形成してフィルム状基板を製作し、フィルム状基板を適宜な形状に切断してプローブユニットをフィルム状基板から切り離すスリットをフィルム状基板に形成するとともに、配線パターンの1以上の配線部を含む領域をフィンガー状に分離する複数のスリットをフィルム状基板に形成し、それにより各配線部の一部をプローブ要素としている。
【0004】
この種のフィルム状プローブユニットを用いるプローブカードは、通常、複数のプローブユニットを備える。プローブユニットは、これをプローブ取付体に接着剤により接着した後、プローブ取付体を適宜な取付具により板状配線基板に取り付けることにより、プローブカードとして組み立てられ、また各プローブ要素の先端に設けられた突起を平板状被検査体の平坦な電極部に押圧した状態で使用される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記のフィルム状プローブユニットにおいて、金属層を切断可能のレーザ光線によりスリットを形成すると、金属層及び樹脂層の両者を除去することはできるが、樹脂層が大きなダメージを受け、その結果プローブ要素がプローブとして機能しない。
【0006】
また、樹脂にダメージを与えないレーザ光線によりスリットを形成しようとすると、レーザ光線のエネルギーが弱すぎるから、金属層にスリットが形成されない。ダイサのような切削加工機によりスリットを形成すると、樹脂層が金属層から剥がれてしまう。
【0007】
フィルム状プローブユニットにおいては、硬質層及び軟質層の両者を美麗にかつ正確に切断する切断することは重要である。
【0008】
【解決手段、作用及び効果】
本発明の加工装置は、波長及び強さが異なる第1及び第2のレーザ光線を出力するレーザ発振器と、フィルム状被加工体を受ける加工ステージであって第1及び第2の加工領域に選択的に移動可能の加工ステージと、第1のレーザ光線を第1の加工領域に指向させる第1の光学手段と、第2のレーザ光線を第2の加工領域に指向させる第2の光学手段とを含む。
【0009】
加工ステージは、金属層のような硬質層にスリットを形成するときは、第1の加工領域へ移動され、樹脂層のような軟質層にスリットを形成するときは、第2の加工領域へ移動される。被加工体は、例えば、第1の加工領域において強い第1のレーザ光線を照射されることにより硬質層にスリットを形成され、第2の加工領域において弱い第2のレーザ光線を照射されることにより軟質層にスリットを形成される。
【0010】
スリットは、樹脂層及び金属層のいずれか一方に先に形成された後、そのスリットを利用して樹脂層及び金属層の他方に形成される。しかし、スリットを先に硬質層に形成し、その後、そのスリットを介して第2のレーザ光線を軟質層に照射することにより軟質層にスリットを形成すれば、硬質層にスリットを形成するときに、強い第1のレーザ光線が軟質層のスリットに照射されないから、軟質層のスリットの形が損傷されるおそれがなく、また、硬質層のスリットが弱い第2のレーザ光線により損傷されるおそれもない。
【0011】
本発明によれば、フィルム状被加工体を受ける加工ステージを第1及び第2の加工領域に選択的に移動させ、波長及び強さが異なる第1及び第2のレーザ光線をそれぞれ第1及び第2の加工領域へ指向させるようにしたから、硬質層及び軟質層を有するフィルム状プローブユニットのような被加工体の硬質層及び軟質層の両者にスリットを美麗にかつ正確に形成することができる。
【0012】
さらに、本発明は、被加工体に形成されたアライメントマークを被加工体の裏側(ビーム照射側と反対の側)から撮影すべく第1及び第2の加工領域と異なるアライメント位置に配置されたアライメントカメラを含む。これにより、被加工体へのレーザ光線の照射の妨げになることなく、及び、アライメントカメラが被加工体から飛散する塵埃による汚染を受けることなく、アライメントマークを撮影することができる。
【0013】
加工ステージは、アライメントカメラによるアライメントマークの撮影を許す通し穴を備えることができる。これにより、アライメントカメラが通し穴を介してアライメントマークを直接撮影することができるから、位置決めの精度が向上する。
【0014】
加工ステージは、被加工体を受けるテーブルと、該テーブルを被加工体への照射ビームの軸線方向と直角の面内で2次元的に移動させるXYステージとを備えることができる。
【0015】
テーブルは、被加工体へのビーム照射側に開放する凹所を有しかつXYステージに支持された主ベースと、被加工体を受けるべくレーザ光線の軸線方向へ移動可能に主ベースの凹所に配置された中間ベースと、主ベースの被加工体へのビーム照射側に脱着可能に装着される蓋であって中央に開口を有する蓋と、前記主ベースと中間ベースとの間に配置されて中間ベースを蓋に向けて押圧する1以上の弾性体とを備えることができる。これにより、被加工体が中間ベースと蓋とに挟まれるから、被加工体の厚さ寸法が異なっても、レーザ光線の軸線方向における被加工体の表面(ビーム照射面)の位置が一定になり、加工精度がより安定化するとともに向上する。
【0016】
さらに、第1及び第2の加工領域における被加工体の加工位置をそれぞれ撮影する第1及び第2のテレビカメラを含むことができる。
【0017】
第1の光学手段は、第1のレーザ光線を第1の加工領域に指向させる第1のミラーと、該第1のミラーを経たビームを第1の加工領域に移動された加工ステージ上の被加工体に収束させるべく第1のミラーと第1の加工領域との間に配置された第1の集光レンズとを含み、第2の光学手段は、第2のレーザ光線を第2の加工領域に移動された加工ステージ上の被加工体に収束させるべく第2のミラーと第2の加工領域との間に配置された第2の集光レンズとを含むことができる。
【0018】
第1及び第2の集光レンズは、それぞれ、被加工体上におけるビームスポット径を調整すべく第1及び第2の自動フォーカス機構に支持させることができる。これにより、より美麗なスリットを硬質層及び軟質層の両者により正確に形成することができる
【0019】
【発明の実施の形態】
先ず、図5及び図6を参照して、被加工体10の一実施例について説明する。以下、被加工体10と平行の面内で直交する2方向をX方向及びY方向といい、被加工体10に垂直の方向(被加工体10に照射するレーザ光線の軸線の方向)をZ方向という。
【0020】
被加工体10は、図示の例では、フィルム状のプローブユニット12に仕上げるためのフィルム状基板であり、円形の形状を有する。
【0021】
フィルム状基板すなわち被加工体10は、ポリイミド樹脂のような電気絶縁材料により可撓性を有するフィルム状に形成された樹脂層14と、樹脂層14の一方の面(表面)に配置されたフィルム状の金属層16と、樹脂層14の他方の面(裏面)に形成された複数の配線部18を有する配線パターンとを含む。
【0022】
樹脂層14、金属層16及び配線部18は、被加工体10を破線で示すように切断線20に沿って切断し、破線で示す細長い切欠部22を被加工体10に形成し、破線で示す溝24を金属層16に形成することにより、プローブユニット12を形成する部材として作用する。切断及び溝の形成は、後に説明するように、波長及び強さが異なる2種類のレーザ光線を用いてスリットを被加工体10に形成することにより実行される。
【0023】
樹脂層14は、電気絶縁性の樹脂材料をシート状の金属層16の一方の面にコーティングのような適宜な手法により積層することにより、可撓性を有するシート状に形成されて、金属層16に固着されている。しかし、可撓性を有する電気絶縁性のシート状の樹脂層14と金属層16とを、接着、溶着等の適宜な手法により、積層してもよい。
【0024】
金属層16は、ステンレス、銅、黄銅、ベリリウム等、導電性のフィルム状ばね材により形成されており、また樹脂層14に重ねられている。金属層16は、図示の例では、樹脂層14の一方の面全体に配置されている。しかし、金属層16は、少なくとも配線部18の一端部に対応する樹脂層14の部位に積層されていればよい。
【0025】
配線パターンは、いわゆる印刷配線技術により電気絶縁部材すなわち樹脂層14の他方の面に形成されている。各配線部18は、隣り合うプローブ領域20の間を樹脂層14の一端縁から直線状に伸びている。各配線部18は、その先端部にニッケルメッキのような適宜な手法により形成された突起26を有する。
【0026】
図示の例では、各突起26は、ニッケルメッキにより形成された半球状の突出部すなわちバンプである。しかし、予め所定の形状に製作された突起を導電性接着剤により配線部18に固定してもよい。各配線部18とこれに設けられた突起26との対は、プローブ要素として作用する。
【0027】
被加工体10は、また、1以上のアライメントマーク28を樹脂層14の裏面に有する。アライメントマーク28は、樹脂層14の上にじゃ緯線部18とともに予め形成された十字状のマークであるが、L字状のような他のマークであってもよい。また、そのようなアライメントマークを形成する代わりに、少なくとも1つの配線部18の角部をアライメントマークとして用いてもよい。
【0028】
次に、図1から図4を参照して、被加工体10にスリットを形成するためのレーザ加工装置30の一実施例について説明する。
【0029】
レーザ加工装置30は、波長及び強さが異なる2種類のレーザ光線32a及び32bをレーザ発振器34から選択的に発生させ、レーザ光線32a及び32bをそれぞれ第1及び第2の光路を経て第1及び第2の加工領域に指向させる。図示の例では、レーザ光線32a及び32bは、それぞれ、出力口36a及び36bから出力される。
【0030】
レーザ発振器34として、YAGレーザを備えた発振器を用いることができる。レーザ発振器34は、被加工体10を第1の加工領域において加工するときはレーザ光線32aを出力し、第2の加工領域において加工するときはレーザ光線32bを出力するように、出力するレーザ光線を切り換えることができる。
【0031】
レーザ光線32aの波長及び平均出力は、それぞれ、355nm及び0.6Wとすることができる。これに対し、レーザ光線32bの波長及び平均出力は、それぞれ、266nm及び0.3Wとすることができる。
【0032】
レーザ光線32aの光路には、一対のフィルターミラー40a,42aと、コリメータ44aと、絞り46aと、ハーフミラー48aと、集光レンズ50aとがその順に配置されている。これに対し、レーザ光線32bの光路には、一対のフィルターミラー40b,42bと、コリメータ44bと、絞り46bと、ハーフミラー48bと、集光レンズ50bとがその順に配置されている。
【0033】
レーザ発振器34から出力されるレーザ光線32a及び32bは、それぞれ、フィルターミラー40a,42a及び40b、42bによりコリメータ44a及び44bに指向され、コリメータ44a及び44bおいてビームスポット径を拡大され、絞り46a,46bにおいて円形のビームスポットに修正された後、ハーフミラー48a及び48bにより集光レンズ50a及び50bに向けられる。
【0034】
集光レンズ50a及び50bは、それぞれ、レーザ光線32a及び32bを第1及び第2の加工領域の被加工体上に集光させるように、被加工体上におけるレーザ光線32a及び32bの焦点位置を自動的に調整するための自動フォーカス機構52a及び52bに支持されている。
【0035】
レーザ加工装置30は、また、第1及び第2の加工領域における被加工体の加工状態をそれぞれ撮影するためのテレビカメラ54a及び54bを備える。テレビカメラ54a及び54bは、それぞれ、第1及び第2の加工領域における被加工体の加工箇所を、集光レンズ56a及び56b、光路変更ミラー58a及び58b、ハーフミラー48a及び48b、並びに、集光レンズ50a及び50bを介して撮影する。集光レンズ56a及び56bも、自動フォーカス機構60a及び60bに支持されている。
【0036】
レーザ加工装置30は、さらに、被加工体10を受けた状態で、第1及び第2の加工領域並びにアライメント位置へ選択的に移動される加工ステージ62と、被加工体10の裏面に形成されたアライメントマーク28を被加工体10の裏側から撮影するようにアライメント位置に配置されたアライメントカメラ64を含む。図示の例では、第1及び第2の加工領域並びにアライメント位置は、X方向に隣り合っている。
【0037】
加工ステージ62は、被加工体10をテーブル66にほぼ水平の状態に受けた状態で、複数のリニアモータを用いたXYステージ68によりテーブル66を被加工体10に照射されるレーザ光線32a又は32bの軸線方向(Z方向)と直角の面内でX方向及びY方向へ2次元的に移動させる。
【0038】
テーブル66は、XYステージ68に支持された円板状の主ベース70と、該主ベースの上に配置された円板状の中間ベース72と、被加工体10を受けるように中間ベース72の上に配置された円形の透明ガラス板74と、主ベース70に被加工体へのレーザ光線の照射側(図示の例では、上方)から脱着可能に装着される蓋76と、主ベース70と中間ベース72との間に配置された複数の弾性体78とを備える。
【0039】
主ベース70は、上方に開放する平面円形の凹所を有しており、この凹所に中間ベース72を上下動可能に及びZ軸線の周りに回転不能に受け入れている。中間ベース72も、上方に開放する平面円形の凹所を有しており、この凹所にガラス板74を上下動可能に受け入れている。
【0040】
ガラス板74の直径寸法は、被加工体10の直径寸法とほぼ同じである。蓋76は、浅いカップの形をしており、また、主ベース70の外側に螺合されている。蓋76は、ガラス板74よりやや小さい円形の開口80を中央に有する。レーザ光線は、開口80を介して被加工体10に照射される。弾性体76は、図示の例では圧縮コイルばねであり、中間ベース72を常時蓋74に向けて押圧している。
【0041】
XYステージ68は、第1及び第2の加工領域並びにアライメント位置を経るX方向へ伸びるX軸ベース82の上にY方向へ間隔をおいてX方向へ平行に伸びるX軸ガイドレール83とX軸リニアレール84とを取り付け、X軸ガイドレール83及びX軸リニアレール84にX軸リニアステージすなわちX軸スライダ86をX方向へ移動可能に支持させ、このX軸スライダ86にX方向へ間隔をおいてY方向へ平行に伸びるY軸ガイドレール85とY軸リニアレール87とを取り付け、Y軸ガイドレール85及びY軸リニアレール87にY軸リニアステージすなわちY軸スライダ88をY軸方向へ移動可能に支持させ、このY軸スライダ88に支柱90を取り付けている。テーブル66は、主ベース70において支柱90の上端部に取り付けられている。
【0042】
X軸ベース82、X軸リニアレール84及びX軸スライダ86は、Y軸スライダ88及びテーブル66を、X方向へ微細に移動させるX軸ステージと、第1及び第2の加工領域並びにアライメント位置に移動させる移動機構とを兼ねている。Y軸スライダ88は、テーブル66を、Y方向へ微細に移動させるY軸ステージとして作用する。XYステージ68は、テーブル66をZ方向へ移動させるZステージをさらに備えたXYZステージであってもよい。
【0043】
XYステージ68、主ベース70及び中間ベース72は、それぞれ、穴92,94及び96を有する。穴92,94及び96は、テーブル66がアライメント位置に移動されているとき、整列する。従って、穴92,94及び96は、共同して通し穴として作用する。アライメントカメラ64は、テーブル66がアライメント位置に移動されているとき、通し穴92,94,96を介してライメントマークを撮影するように、通し穴92,94,96の下方に配置されている。
【0044】
加工時、先ず、テーブル66の蓋76が外された状態において、被加工体10が金属層16が上側(表側)となり、配線部18が下側(裏側)となり、アライメントマーク28が通し穴92,94,96と対向する状態に、ガラス板74に載置される。
【0045】
次いで、蓋76が主ベース70に装着される。これにより、被加工体10がガラス板74とともに、弾性体78のばね力により中間ベース72と蓋76とに挟まれる。このため、被加工体10の厚さ寸法が異なっても、Z方向における被加工体10の表面(ビーム照射面)の位置が一定に維持される。
【0046】
次いで、テーブル66がアライメント位置に移動され、被加工体10のアライメントマーク28がアライメントカメラ64により撮影される。アライメントカメラ64の出力信号は、図示しない信号処理回路において、加工のためにXYステージ68を移動させる制御信号の座標軸の原点位置を補正する情報として用いられる。これにより、レーザ加工装置30に対する被加工体10の位置決めが行われる。
【0047】
アライメントカメラ64は、通し穴92,94,96を介してアライメントマーク28を撮影する。このため、ミラー等を介してアライメントマーク20を撮影する場合に比べ、アライメントマーク28の撮影精度及び被加工体10の位置決め精度が著しく向上する。
【0048】
次いで、テーブル66が第1の加工領域に移動されて、この第1の加工領域において金属層16が比較的大出力の(強い)レーザ光線32aにより加工される。金属層16の加工が終了すると、テーブル66が第2の加工領域に移動されて、この第2の加工領域において樹脂層14が比較的小出力の(弱い)レーザ光線32bにより加工される。
【0049】
被加工体10へのビーム照射位置(加工箇所)の移動は、テーブル66がXYステージ68によりXY方向へ2次元的に微細に移動されることにより、行われる。加工の間、被加工体10の被加工箇所は、テレビカメラ54a,54bにより撮影され、図示しないモニタに映し出される。
【0050】
上記のように、被加工体10は、レーザ光線32a,32bを金属層16の加工箇所へ間欠的に照射しつつ、加工箇所への照射位置を加工箇所に沿って繰り返し移動させることにより、金属層16及び樹脂層14の所定の箇所に順次スリットを形成される。これにより、被加工体10は、切断線20で示す形状に切り取られ、切欠部22を樹脂層14及び金属層16に形成され、溝24を金属層16に形成される。
【0051】
上記の結果、美麗なスリットが被加工体10の金属層16及び樹脂層14に正確に形成されて、フィルム状プローブユニット12が製作される。製作されたフィルム状プローブユニット12は、樹脂層14、金属層16、配線部18、切欠部22、溝24及び突起26を有する。フィルム状プローブユニット12は、従来のフィルム状プローブユニットと同様に、集積回路、液晶表示パネル等、平板状被検査体の通電試験に用いるプローブカードに組み立てられる。
【0052】
上記のように、レーザ光線を被加工体10に金属層16の側から照射することにより、金属層16にスリットを形成した後、樹脂層14にスリットを形成するならば、強いレーザ光線32aが樹脂層14のスリットに照射されないから、樹脂層14のスリットの形が損傷されるおそれがない。さらに、樹脂層14にスリットを形成するとき、弱いレーザ光線32bは金属層16に形成されたスリットを介して樹脂層14に照射されるが、そのようなレーザ光線32bが金属層16に照射されても、金属層16が切削されないから、金属層16のスリットがレーザ光線32bにより損傷されるおそれはない。それらの結果、幅寸法の小さく深さ寸法の大きいスリットを美麗に形成することができる。
【0053】
なお、レーザ光線は樹脂層14の側から照射してもよい。この場合、被加工体10は、第2の加工領域においてレーザ光線32bにより加工された後、第1の加工領域においてレーザ光線32aにより加工される。
【0054】
加工面上におけるレーザ光線のスポット径と、レーザ光線のパルス間隔と、被加工箇所上におけるビームスポットの変位速度とは、間欠的なレーザ光線のスポットが加工面上で重なる値に設定される。レーザ光線の焦点は、集光レンズ50a及び50bが形成されたスリットの深さに応じてそれぞれ自動フォーカス機構52a及び52bによりZ方向へ移動されることにより、繰り返し移動の都度に新たな加工面にあわせられる。このように、繰り返しの都度にレーザ光線の焦点を新たな加工面に合わせるならば、幅寸法が小さく深さ寸法が大きいスリットを形成することができる。
【0055】
被加工体10の切断、切欠部22の形成、及び、溝24の形成は、別々に行うことができる。被加工体10の切断は、たとえば、切断すべき箇所を直線部毎に分け、分けた直線部毎に行うことができる。切欠部22及び溝24は、切欠部22毎及び溝24毎に行うことができる。
【0056】
被加工体10の被加工箇所は、その素材がパルス的なレーザ光線の繰り返し照射を受けて漸次繰り返し破壊されて剥がされることにより、微細加工をされる。その結果、フィルム状プローブユニット12が製作される。素材の破壊物は、加工箇所から除去される。
【0057】
上記のように加工箇所の素材を破壊することにより除去すると、従来のレーザ加工のように加工箇所の素材を熱溶融により除去する場合に比べ、加工箇所近傍への影響が著しく小さくなるから、樹脂層14がダメージを受けず、樹脂層14と金属層16とに微細なスリットが美麗に形成される。
【0058】
また、第1及び第2の加工領域とアライメント位置とを異なる位置とすれば、加工時に被加工体10から飛散する破壊物は、アライメントカメラ64に達するおそれがなく、従ってアライメントカメラ64が被加工体10から飛散する破壊物による汚染を受けることなく、アライメントマーク28を撮影することができ、また、アライメントカメラ64が被加工体10へのレーザ光線の照射の妨げにならない。
【0059】
本発明は、上記実施例に限定されない。たとえば、被加工体は、金属層の上に樹脂層と配線パターンとを複数層形成したプローブユニット用のフィルム状基板であってもよいし、配線部が樹脂層から剥がれることを防止する保護膜を設けたプローブユニット用のフィルム状基板であってもよく、さらにはプローブユニット用のフィルム状基板以外のシート状被加工体であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るレーザ加工装置の一実施例を示す図である。
【図2】図1に示すレーザ加工装置で用いる加工ステージの一実施例を示す正面図である。
【図3】図2に示す加工ステージの平面図である。
【図4】図1に示す加工ステージのテーブル部分の拡大図である。
【図5】被加工体の一実施例を示す先端部の平面図である。
【図6】図5に示す被加工体の正面図である。
【符号の説明】
10 被加工体
32a,32b レーザ光線
36 レーザ発振器
36a、36b 出力口
40a,40b,42a,42b フィルターミラー
44a,44b コリメータ
46a,46b 絞り
48a,48b ミラー
50a,50b 集光レンズ
52a,52b オートフォーカス機構
54a,54b テレビカメラ
56a,56b 集光レンズ
58a,58b ハーフミラー
60a,60b オートフォーカス機構
62 加工ステージ
64 アライメントカメラ
66 テーブル
68 XYステージ
70 主ベース
72 中間ベース
74 ガラス板
76 蓋
78 弾性体
80 蓋の開口
82 X軸ベース
83 X軸ガイドレール
84 X軸リニアレール
85 Y軸ガイドレール
86 X軸スライダ(X軸リニアステージ)
87 Y軸リニアレール
88 Y軸スライダ(Y軸リニアステージ)
90 支柱
92,94,96 通し穴[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an apparatus for processing a film workpiece such as a film substrate for a film probe unit. .
[0002]
[Prior art]
One probe card used in a current-carrying test for a flat inspection object such as a semiconductor integrated circuit or a liquid crystal display panel uses an elastically deformable film-like probe unit (for example, JP-A-4-363671). No. 5,221,897).
[0003]
In this probe unit, a film-like substrate is manufactured by forming a wiring pattern on a film-like substrate in which a metal layer having spring properties and a resin layer having electrical insulation properties are laminated by a so-called printed wiring technique. A slit is formed on the film substrate to cut the probe unit from the film substrate, and a plurality of slits are formed on the film substrate to separate the region including one or more wiring portions of the wiring pattern into a finger shape. Thus, a part of each wiring portion is used as a probe element.
[0004]
A probe card using this type of film-like probe unit usually includes a plurality of probe units. The probe unit is assembled as a probe card by adhering the probe unit to the probe attachment body with an adhesive, and then attaching the probe attachment body to the plate-like wiring board with an appropriate attachment, and provided at the tip of each probe element. The protrusion is used in a state where it is pressed against the flat electrode portion of the flat plate-shaped object to be inspected.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above film-like probe unit, when the slit is formed by the laser beam capable of cutting the metal layer, both the metal layer and the resin layer can be removed, but the resin layer is greatly damaged, and as a result, the probe The element does not function as a probe.
[0006]
In addition, if an attempt is made to form a slit with a laser beam that does not damage the resin, the slit is not formed in the metal layer because the energy of the laser beam is too weak. When the slit is formed by a cutting machine such as a dicer, the resin layer is peeled off from the metal layer.
[0007]
In a film-like probe unit, it is important to cut both the hard layer and the soft layer beautifully and accurately.
[0008]
[Solution, action and effect]
The processing device of the present invention is a laser oscillator that outputs first and second laser beams having different wavelengths and intensities, and a processing stage that receives a film-like workpiece, and is selected as the first and second processing regions. Movable stage, first optical means for directing the first laser beam to the first processing area, and second optical means for directing the second laser beam to the second processing area, including.
[0009]
The processing stage is moved to the first processing area when a slit is formed in a hard layer such as a metal layer, and is moved to the second processing area when a slit is formed in a soft layer such as a resin layer. Is done. For example, the workpiece is irradiated with a strong first laser beam in the first processing region to form a slit in the hard layer, and is irradiated with a weak second laser beam in the second processing region. Thus, a slit is formed in the soft layer.
[0010]
The slit is formed in one of the resin layer and the metal layer, and then formed in the other of the resin layer and the metal layer using the slit. However, if the slit is formed in the hard layer first, and then the soft layer is irradiated with the second laser beam through the slit, the slit is formed in the hard layer. Since the strong first laser beam is not applied to the slit of the soft layer, the shape of the slit of the soft layer is not damaged, and the slit of the hard layer may be damaged by the weak second laser beam. Absent.
[0011]
According to the present invention, the processing stage that receives the film-like workpiece is selectively moved to the first and second processing regions, and the first and second laser beams having different wavelengths and intensities are respectively transmitted to the first and second laser beams. Since it is directed to the second processing region, it is possible to form beautifully and accurately slits in both the hard layer and the soft layer of the workpiece such as a film-like probe unit having a hard layer and a soft layer. it can.
[0012]
Further, in the present invention, the alignment mark formed on the workpiece is arranged at an alignment position different from the first and second machining areas so as to photograph the alignment mark from the back side (the side opposite to the beam irradiation side) of the workpiece. Includes an alignment camera . Thus, the alignment mark can be photographed without hindering the irradiation of the laser beam to the workpiece and without the alignment camera being contaminated with dust scattered from the workpiece.
[0013]
The processing stage may be provided with a through hole that allows the alignment mark to be taken by the alignment camera. Thereby, since the alignment camera can image | photograph an alignment mark directly through a through-hole, the precision of positioning improves.
[0014]
The processing stage can include a table that receives the workpiece, and an XY stage that moves the table in a two-dimensional manner within a plane perpendicular to the axial direction of the irradiation beam to the workpiece.
[0015]
The table has a recess that opens to the beam irradiation side of the workpiece and is supported by the XY stage, and a recess in the main base that can move in the axial direction of the laser beam to receive the workpiece. An intermediate base disposed between the main base and the intermediate base, and a lid that is detachably attached to the beam irradiation side of the main base to the workpiece and has an opening in the center. And one or more elastic bodies that press the intermediate base toward the lid. As a result, since the workpiece is sandwiched between the intermediate base and the lid, the position of the surface of the workpiece (beam irradiation surface) in the axial direction of the laser beam is constant even if the thickness dimension of the workpiece is different. Thus, the machining accuracy is further stabilized and improved.
[0016]
Furthermore, the 1st and 2nd television camera which image | photographs the process position of the to-be-processed object in a 1st and 2nd process area | region, respectively can be included.
[0017]
The first optical means includes a first mirror that directs the first laser beam to the first processing region, and a beam on the processing stage that has moved the beam that has passed through the first mirror to the first processing region. A first condenser lens disposed between the first mirror and the first processing region for focusing on the processing body, and the second optical means applies the second laser beam to the second processing light. A second condensing lens disposed between the second mirror and the second processing region may be included to converge on the workpiece on the processing stage moved to the region.
[0018]
The first and second condenser lenses can be supported by the first and second autofocus mechanisms to adjust the beam spot diameter on the workpiece, respectively. Accordingly, a more beautiful slit can be accurately formed by both the hard layer and the soft layer.
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
First, an example of the
[0020]
In the illustrated example, the
[0021]
The film-like substrate, that is, the
[0022]
The
[0023]
The
[0024]
The
[0025]
The wiring pattern is formed on the other surface of the electrically insulating member, that is, the
[0026]
In the illustrated example, each
[0027]
The
[0028]
Next, an embodiment of a
[0029]
The
[0030]
As the laser oscillator 34, an oscillator including a YAG laser can be used. The laser oscillator 34 outputs a
[0031]
The wavelength and average output of the
[0032]
In the optical path of the
[0033]
The
[0034]
The condensing
[0035]
The
[0036]
The
[0037]
In the
[0038]
The table 66 includes a disk-shaped
[0039]
The
[0040]
The diameter dimension of the
[0041]
The
[0042]
The
[0043]
The
[0044]
At the time of processing, first, in a state where the
[0045]
Next, the
[0046]
Next, the table 66 is moved to the alignment position, and the alignment mark 28 of the
[0047]
The
[0048]
Next, the table 66 is moved to the first processing region, and the
[0049]
The beam irradiation position (working location) on the
[0050]
As described above, the
[0051]
As a result, a beautiful slit is accurately formed in the
[0052]
As described above, if the slit is formed in the
[0053]
The laser beam may be irradiated from the
[0054]
The spot diameter of the laser beam on the processing surface, the pulse interval of the laser beam, and the displacement speed of the beam spot on the processing site are set to values at which intermittent laser beam spots overlap on the processing surface. The focal point of the laser beam is moved in the Z direction by the automatic focusing
[0055]
Cutting the
[0056]
The part to be processed of the
[0057]
If the material at the processing location is removed by destroying it as described above, the effect on the vicinity of the processing location will be significantly less than when the material at the processing location is removed by thermal melting as in conventional laser processing. The
[0058]
Further, if the first and second processing regions and the alignment position are different from each other, the debris scattered from the
[0059]
The present invention is not limited to the above embodiments. For example, the workpiece may be a film unit substrate for a probe unit in which a plurality of resin layers and wiring patterns are formed on a metal layer, or a protective film that prevents the wiring part from being peeled off from the resin layer. It may be a film-like substrate for a probe unit provided with a sheet-like workpiece other than the film-like substrate for a probe unit.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a laser processing apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a front view showing one embodiment of a processing stage used in the laser processing apparatus shown in FIG.
3 is a plan view of the processing stage shown in FIG. 2. FIG.
4 is an enlarged view of a table portion of the processing stage shown in FIG.
FIG. 5 is a plan view of a tip portion showing an embodiment of a workpiece.
6 is a front view of the workpiece shown in FIG. 5. FIG.
[Explanation of symbols]
10
87 Y-axis linear rail 88 Y-axis slider (Y-axis linear stage)
90
Claims (5)
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JP08956598A JP4108177B2 (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Film-like workpiece processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08956598A JP4108177B2 (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Film-like workpiece processing equipment |
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