JP4077857B2 - Method for forming optical diffraction structure - Google Patents

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Description

本発明は、光回折構造の形成方法に関する。   The present invention relates to a method for forming a light diffraction structure.

従来より、クレジットカードやキャッシュカード等のカード類、各種金券類、及び各種装飾品等の多くには、これらのものに装飾性を付与する等の目的でホログラムや回折格子といった光回折構造が設けられている。   Conventionally, many of cards such as credit cards and cash cards, various types of cash vouchers, and various decorative items have been provided with light diffraction structures such as holograms and diffraction gratings for the purpose of imparting decorativeness to these items. It has been.

また、光回折構造を設けるための具体的な手段としては、例えば、特許文献１等に提案されているような基材シート上に剥離層、光回折構造が形成された樹脂層、及び接着剤層を順次積層してなる構成の転写シートを用い、ホットスタンプによって上記転写シートから光回折構造を加熱転写するというものが一般的である。   Further, as specific means for providing the light diffractive structure, for example, a release layer, a resin layer in which the light diffractive structure is formed, and an adhesive as proposed in Patent Document 1 and the like In general, a transfer sheet having a structure in which layers are sequentially laminated is used, and the light diffraction structure is heated and transferred from the transfer sheet by hot stamping.

特開平４−２８１４８９号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-281589

しかしながら、このような手段によって光回折構造を設けた場合、ホットスタンプによる転写はその転写パターンが一定のものに限られてしまい、光回折構造の転写パターンを変えるにはその都度ホットスタンプの金型を交換したりしなければならず、また、得られる意匠は予め転写シート上に形成しておいた光回折構造によるので、前述の如き従来からの手段では光回折構造そのものが有する優れた装飾性を被転写体に付与することができるものの、光回折構造を転写することで得られる意匠は用意された転写シートやホットスタンプの転写パターンによって制限されていた。   However, when the optical diffraction structure is provided by such means, the transfer by the hot stamp is limited to a fixed transfer pattern, and each time the transfer pattern of the optical diffraction structure is changed, the hot stamp mold is changed. In addition, since the design obtained is based on the light diffraction structure formed on the transfer sheet in advance, the conventional means as described above has excellent decorativeness that the light diffraction structure itself has. However, the design obtained by transferring the light diffraction structure is limited by the prepared transfer sheet or the transfer pattern of the hot stamp.

本発明は上記の点に鑑みてなされた発明であって、光回折構造を設けることによって得られる意匠の多種多様化を図ることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to diversify the designs obtained by providing an optical diffraction structure.

即ち本発明は、
（１）網点状に分布する複数の光回折構造単位から構成され、且つ、異なる回折像を現出する２以上の光回折構造単位が組み合わされて構成される光回折構造を、剥離性を有する基材シートの一方の面に光回折構造形成層が設けられており、他方の面には背面滑性層が設けられている転写シートであり、且つ、転写後の光回折構造形成層を保護する表面保護層が基材シートと光回折構造形成層との間に設けられるとともに前記光回折構造形成層と前記表面保護層に微粉末が１０％以下の量で添加されてなる転写シートを用いて、加熱部位を任意に変えることができる加熱媒体によって支持体上に光回折構造形成層を網点状に転写することにより形成する、ことを特徴とする光回折構造の形成方法、
（２）光回折構造が、Ｒ(赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青紫）に対応する３種類の光回折構造単位の組み合わせで形成される、上記（１）記載の光回折構造の形成方法、
（３）光回折構造が、大きさの異なる複数の光回折構造単位により形成される、上記（１）又は（２）記載の光回折構造の形成方法、
を要旨とするものである。


That is, the present invention
(1) An optical diffractive structure composed of a plurality of light diffractive structural units distributed in a dot pattern and composed of a combination of two or more light diffractive structural units that express different diffraction images , A transfer sheet in which a light diffraction structure forming layer is provided on one surface of the substrate sheet and a back slip layer is provided on the other surface , and a light diffraction structure forming layer after transfer is provided. A transfer sheet in which a surface protective layer to be protected is provided between a substrate sheet and a light diffraction structure forming layer, and fine powder is added to the light diffraction structure formation layer and the surface protective layer in an amount of 10% or less. A method of forming a light diffraction structure, comprising: forming a light diffraction structure formation layer on a support by transfer to a support with a heating medium capable of arbitrarily changing a heating site,
(2) Formation of the light diffraction structure according to (1) above, wherein the light diffraction structure is formed by a combination of three types of light diffraction structure units corresponding to R (red), G (green), and B (blue purple). Method,
(3) The method for forming a light diffraction structure according to (1) or (2) above, wherein the light diffraction structure is formed by a plurality of light diffraction structure units having different sizes.
Is a summary.


本発明の光回折構造の形成方法によれば、網点状に分布する複数の光回折構造単位からなる光回折構造が支持体上に形成されるので、当該光回折構造を構成する光回折構造単位を適宜選択することによって多種多様の意匠を付与することができ、意匠性に優れたものとなる。   According to the method for forming a light diffraction structure of the present invention, a light diffraction structure comprising a plurality of light diffraction structure units distributed in a dot pattern is formed on a support, so that the light diffraction structure constituting the light diffraction structure is formed. By appropriately selecting the unit, a wide variety of designs can be imparted and the design properties are excellent.

以下、本発明を図面に基づき詳細に説明する。
図１，図２に示すように本発明の光回折構造形成体１２は、基材シート３の一方の面に光回折構造形成層４が設けられ、且つ他方の面には背面滑性層２が設けられている図１に示すような転写シート１を用い、該転写シート１の光回折構造形成層４側を支持体１１に対向せしめるとともに、これをサーマルヘッドの如き加熱部位を任意に変えることができる加熱媒体によって背面滑性層２側から加熱して上記光回折構造形成層４を網点状に転写せしめて形成され、図２に示すように網点状に分布する複数の光回折構造単位９からなる光回折構造１０を支持体１１上に形成したものである。尚、図１は転写シート１の一例を示す断面図であり、該転写シート１は転写時に加熱媒体からの熱伝導が阻害されないようその全体の厚みが５〜３０μｍとなるように構成されているのが好ましい。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
As shown in FIGS. 1 and 2, the light diffraction structure forming body 12 of the present invention is provided with a light diffraction structure forming layer 4 on one surface of a base sheet 3, and the back slip layer 2 on the other surface. 1 is used, the optical diffraction structure forming layer 4 side of the transfer sheet 1 is made to face the support 11, and the heating part such as a thermal head is arbitrarily changed. A plurality of light diffractions formed by transferring the light diffraction structure forming layer 4 in a halftone dot pattern by heating from the back sliding layer 2 side with a heating medium that can be distributed as shown in FIG. An optical diffraction structure 10 composed of a structural unit 9 is formed on a support 11. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a transfer sheet 1, and the transfer sheet 1 is configured so that the entire thickness thereof is 5 to 30 μm so that heat conduction from a heating medium is not hindered during transfer. Is preferred.

また、光回折構造１０を形成する支持体１１としてはあらゆる物品を適用することができ、その具体例としては、クレジットカード、キャッシュカード、免許証、ＩＤカード、テレフォンカード等のプリペイドカード、ＩＣカード、非接触ＩＣカード、医療カード、顔写真カード等のカード類、ビール券、商品券、図書券、小切手、手形、株券、証券、預金通帳、入場券、通行券、各種証書等の金券類、一般フォーム、配送伝票等のフォーム類、その他、帳票類、包装材、建材、書籍や雑誌等の出版物、ＰＯＰ類等が挙げられる。   In addition, any article can be applied as the support 11 that forms the light diffraction structure 10, and specific examples thereof include prepaid cards such as credit cards, cash cards, licenses, ID cards, telephone cards, and IC cards. Cards such as contactless IC cards, medical cards, photo cards, beer tickets, gift certificates, book coupons, checks, bills, stock certificates, securities, bankbooks, admission tickets, pass tickets, various certificates, etc. Examples include general forms, forms such as delivery slips, other forms, packaging materials, building materials, publications such as books and magazines, and POPs.

ここで、本発明における光回折構造とは回折格子又はホログラムを意味し、支持体１１上に光回折構造１０を形成すべく転写シート１から転写される光回折構造形成層４には、回折格子やホログラムの干渉縞が記録されている。   Here, the light diffraction structure in the present invention means a diffraction grating or a hologram. The light diffraction structure forming layer 4 transferred from the transfer sheet 1 to form the light diffraction structure 10 on the support 11 has a diffraction grating. And hologram interference fringes are recorded.

光回折構造形成層４に記録する回折格子やホログラムの干渉縞は、表面凹凸のレリーフとして記録されているもの（ホログラムを例にとれば、干渉縞がこのように記録されているものは「平面ホログラム」と一般に称されている）、その厚み方向に立体的に記録されているもの（ホログラムを例にとれば、干渉縞がこのように記録されているものは「体積ホログラム」と一般に称されている）、又は透過率の変化による光の振幅の変化で回折が起こるように記録されているもの（ホログラムを例にとれば、干渉縞がこのように記録されているものは「振幅ホログラム」と一般に称されている）のいずれであっても良く、光回折構造としてのホログラムについてその具体例を挙げると、フレネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザー再生ホログラム、リップマンホログラム、デニシュークホログラム、レインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、これらの原理を利用したホログラフィックスステレオグラム、マルチプレックスホログラム、カラーホログラム、コンピューターホログラム、ホログラムディスプレー、ホログラフィック回折格子等が挙げられる。   Interference fringes of diffraction gratings and holograms recorded on the optical diffraction structure forming layer 4 are recorded as reliefs of surface irregularities (for example, in the case of holograms, interference fringes are recorded as “plane "Hologram" and generally recorded three-dimensionally in its thickness direction (in the case of a hologram, for example, an interference fringe recorded in this way is generally called "volume hologram") Or recorded so that diffraction occurs due to a change in the amplitude of light due to a change in transmittance (for example, in the case of a hologram, an interference fringe is recorded as an “amplitude hologram”. As a specific example of a hologram as an optical diffraction structure, a Fresnel hologram, a Fraunhofer hologram, a laser Laser reproduction holograms such as Zures Fourier transform holograms, image holograms, white light reproduction holograms such as Lippmann holograms, Denniske holograms, rainbow holograms, holographic stereograms utilizing these principles, multiplex holograms, color holograms, computer holograms Holographic display, holographic diffraction grating and the like.

上記の如き回折格子やホログラムの干渉縞は、従来既知の手段によって光回折構造形成層４に記録することができ、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型として用い、この原版上に樹脂シートを置いて加熱ロール等の適宜手段によって両者を加熱圧接して上記原版の凹凸模様を複製する等すれば良く、このような記録手段は量産性やコスト面で好ましい。   The diffraction fringes and hologram interference fringes as described above can be recorded on the optical diffraction structure forming layer 4 by means known in the art. For example, when recording diffraction gratings or hologram interference fringes as reliefs of surface irregularities, The original plate on which the diffraction grating and the interference fringes are recorded in the form of irregularities is used as a press mold, and a resin sheet is placed on the original plate, and both are heated and pressed by appropriate means such as a heating roll to duplicate the irregular pattern on the original plate. Such a recording means is preferable in terms of mass productivity and cost.

また、光回折構造形成層４の材質としては、ポリ塩化ビニル、アクリル（例、ＭＭＡ）、ポリスチレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合物が使用可能であり、これらのもの以外にもラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質を使用することもできる。   In addition, as the material of the light diffraction structure forming layer 4, thermoplastic resins such as polyvinyl chloride, acrylic (eg, MMA), polystyrene, polycarbonate, unsaturated polyester, melamine, epoxy, polyester (meth) acrylate, urethane (meta) ) Acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, triazine-based curable resin, or the above thermoplastic resin Mixtures of thermosetting resins can be used, and in addition to these, thermoformable materials having radically polymerizable unsaturated groups can also be used.

更に、光回折構造形成層４に表面凹凸のレリーフとしての回折格子やホログラムの干渉縞を記録する場合には、回折効率を高めるための薄膜層５をそのレリーフ面６に形成しておくのが好ましく、光を反射する金属薄膜を薄膜層５として形成すれば反射型の光回折構造１０が得られ、また、透明薄膜を薄膜層５として形成すれば光回折構造１０が形成される支持体１１が隠蔽されない透明型の光回折構造１０が得られ、これらのものは目的に応じて適宜選択することができる。   Further, when recording diffraction gratings or hologram interference fringes as reliefs of surface irregularities on the light diffraction structure forming layer 4, a thin film layer 5 for increasing diffraction efficiency is formed on the relief surface 6. Preferably, a reflective optical diffractive structure 10 is obtained if a thin metal film that reflects light is formed as the thin film layer 5, and a support 11 on which the light diffractive structure 10 is formed if a transparent thin film is formed as the thin film layer 5. The transparent optical diffraction structure 10 that is not concealed is obtained, and these can be appropriately selected according to the purpose.

光回折構造１０を反射型のものとする場合に形成される金属薄膜は、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｓｎ等の金属及びその酸化物や窒化物等を単独、又は２種以上組み合わせ、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、電気メッキ等によりその膜厚が５００〜１０００Åとなるように形成するのが好ましく、また、当該金属薄膜は光回折構造１０が形成された支持体１１が完全に隠蔽されないように網点状に形成することもできる。   The metal thin film formed when the light diffractive structure 10 is of a reflective type is made of a metal such as Cr, Ag, Au, Al, Sn and the like, or an oxide or nitride thereof alone or in combination of two or more, and vacuum. It is preferable that the film thickness is 500 to 1000 mm by vapor deposition, sputtering, reactive sputtering, ion plating, electroplating, etc., and the light diffraction structure 10 is formed on the metal thin film. The support 11 can also be formed in a halftone dot shape so that it is not completely hidden.

光回折構造１０を透明型のものとする場合に形成される透明薄膜は、回折効率を高めることができる光透過性のものであれば特に限定されないが、特開平４−２８１４８９号公報に開示されているような、１）光回折構造形成層４より屈折率の大きい透明連続薄膜であって、Ｓｂ2、Ｓ3、ＴｉＯ2、ＺｎＳ、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＳｉＯ2等のような可視領域で透明なものや、赤外又は紫外領域で透明なもの、２）光回折構造形成層４よりも屈折率の大きい透明強誘電体、３）光回折構造形成層４よりも屈折率の小さい透明連続薄膜、４）厚さ２００Å以下の反射金属薄膜、５）光回折構造形成層４と屈折率の異なる樹脂、６）上記１）〜５）の材質を適宜組み合わせてなる積層体、等を挙げることができる。 The transparent thin film formed when the light diffractive structure 10 is of a transparent type is not particularly limited as long as it is a light transmissive material capable of enhancing diffraction efficiency, but is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-28189. 1) A transparent continuous thin film having a refractive index larger than that of the light diffraction structure forming layer 4 and transparent in the visible region such as Sb 2 , S 3 , TiO 2 , ZnS, SiO, TiO, and SiO 2. Or transparent in the infrared or ultraviolet region, 2) a transparent ferroelectric having a higher refractive index than that of the light diffraction structure forming layer 4, and 3) a transparent continuous thin film having a lower refractive index than that of the light diffraction structure forming layer 4. 4) a reflective metal thin film having a thickness of 200 mm or less, 5) a resin having a refractive index different from that of the light diffraction structure forming layer 4, 6) a laminate formed by appropriately combining the materials 1) to 5) above, and the like. it can.

上記１）〜６）のうち、４）の厚みは２００Åであるが、１）〜３）、及び５）、６）の厚みは薄膜層５を形成する材質の透明領域であれば良く、一般には、５００〜２０００Åである。また、上記１）〜４）により薄膜層５を形成する場合は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、電気メッキ等の一般的な薄膜形成手段で形成でき、上記５）により薄膜層５を形成する場合は、一般的なコーティング法により薄膜層５を形成することができる。更に、上記６）により薄膜層５を形成する場合は、上記の各種手段、方法を適宜組み合わせることによって薄膜層５を形成することができる。   Of the above 1) to 6), the thickness of 4) is 200 mm, but the thicknesses of 1) to 3) and 5) and 6) may be any transparent region of the material forming the thin film layer 5. Is 500-2000 cm. Moreover, when forming the thin film layer 5 by said 1) -4), it can form with general thin film formation means, such as a vacuum evaporation method, sputtering method, reactive sputtering method, ion plating method, electroplating, When the thin film layer 5 is formed by 5), the thin film layer 5 can be formed by a general coating method. Furthermore, when forming the thin film layer 5 by said 6), the thin film layer 5 can be formed by combining suitably said various means and methods.

また、転写シート１の基材シート３としては、ある程度の剛性と耐熱性を有する３〜２５μｍ程度のものが用いられ、具体的には、コンデンサーペーパー等の各種加工紙、又はポリエステル、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、１，４−ポリシクロヘキシレンジメチルテレフタレート、アラミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、セロファン等からなる合成樹脂シートを例示することができるが、寸法安定性、耐熱性、強靱性等からポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。   Further, as the base sheet 3 of the transfer sheet 1, those having a certain degree of rigidity and heat resistance of about 3 to 25 μm are used. Specifically, various processed papers such as condenser paper, polyester, polystyrene, polypropylene Examples include synthetic resin sheets made of polysulfone, polyphenylene sulfide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, 1,4-polycyclohexylene dimethyl terephthalate, aramid, polycarbonate, polyvinyl alcohol, cellophane, etc., but dimensional stability, heat resistance Polyethylene terephthalate is particularly preferable from the viewpoint of properties and toughness.

上記基材シート３の光回折構造形成層４が設けられる側には、剥離性、箔切れ性を向上させるために必要に応じて剥離層７を０．１〜１．０μｍ程度の厚みで設けることができるが、その材質は基材シート３の材質に応じて適宜選択され、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、セルロース、シリコーン、炭化水素を主成分とするワックス類、ポリスチレン、塩化ゴム、カゼイン、各種界面滑性剤、金属酸化物等を例示することができ、これらのものは単独で用いても又は２種以上を混合して用いても良い。尚、基材シート３自体が剥離性を有していれば剥離層７を設ける必要は特になく、この場合には剥離層７が設けられる位置に転写後の光回折構造形成層４を保護する表面保護層を設けることもできる。   On the side of the substrate sheet 3 where the light diffraction structure forming layer 4 is provided, a release layer 7 is provided with a thickness of about 0.1 to 1.0 μm as necessary in order to improve peelability and foil breakage. However, the material is appropriately selected according to the material of the base sheet 3 and is made of polymethacrylic acid ester, polyvinyl chloride, cellulose, silicone, wax mainly composed of hydrocarbon, polystyrene, chlorinated rubber, casein. Various interfacial lubricants, metal oxides and the like can be exemplified, and these may be used alone or in admixture of two or more. If the base sheet 3 itself has releasability, it is not particularly necessary to provide the release layer 7. In this case, the light diffraction structure forming layer 4 after transfer is protected at a position where the release layer 7 is provided. A surface protective layer can also be provided.

また、これらの層を任意の形状に破断しやすくするために、マイクロシリカ等の微粉末を１０％以下の量で添加しても良い。もちろん、透明性が要求されるためその粒径は１μｍ以下に限定される。   Further, in order to easily break these layers into an arbitrary shape, a fine powder such as micro silica may be added in an amount of 10% or less. Of course, since transparency is required, the particle size is limited to 1 μm or less.

また、支持体１１と光回折構造形成層４との接着性を考慮して光回折構造形成層４上に必要に応じて感熱接着剤層８を設けることもでき、該感熱接着剤層８を構成する樹脂としては、ポリアクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ロジン又はロジン変成マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。   In consideration of the adhesiveness between the support 11 and the light diffraction structure forming layer 4, a heat sensitive adhesive layer 8 can be provided on the light diffraction structure forming layer 4 as necessary. Examples of the constituent resin include polyacrylic acid ester, polyvinyl chloride, chlorinated polypropylene, polyester, polyurethane, rosin or rosin-modified maleic acid, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and the like.

接着剤層にも任意の形状に破断しやすくするために、マイクロシリカ等の微粉末を添加することができ、目的に応じて１〜２００％添加することができる。また、１μｍ以下の微粒子は、転写時、層に凹凸を発生させたりする等の反射薄膜層への影響が小さく良好である。   In order to easily break the adhesive layer into an arbitrary shape, a fine powder such as micro silica can be added, and 1 to 200% can be added depending on the purpose. Fine particles having a size of 1 μm or less are favorable because they have little influence on the reflective thin film layer, such as causing irregularities in the layer during transfer.

転写シート１の背面滑性層２中には、該背面滑性層２に滑性を付与すべくリン酸エステル系界面活性剤及び／又はモース硬度が３未満の粒子が含有されており、上記リン酸エステル系界面活性剤としては、炭素数６〜２０、好ましくは炭素数１２〜１８の飽和又は不飽和の高級アルコール（例えば、セチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等）のモノリン酸エステル又はジリン酸エステル等の長鎖アルキルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル又はポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル等のリン酸エステル、又は前述の如き高級アルコール、炭素数８〜１２のアルキル基を少なくとも１〜２個有するアルキルフェノール（例えば、ノニルフェノール、ドデシルフェノール等）やアルキルナフトール又はジフェニルフェノールのアルキレンオキサイド付加物（通常、付加モル数１〜８）のモノリン酸エステル塩又はジリン酸エステル塩等の非イオン性又は陰イオン性リン酸エステル界面活性剤が用いられ、モース硬度が３未満の粒子としては、タルク、カオリン、セキボク、硝石、石膏、ブルース石等の無機粒子や、アクリル樹脂、テフロン（登録商標）樹脂、シリコーン樹脂、ラウロイル樹脂、フェノール樹脂、架橋ポリアセタール樹脂等からなる合成樹脂粒子等が用いられる。   The back slip layer 2 of the transfer sheet 1 contains a phosphate ester surfactant and / or particles having a Mohs hardness of less than 3 in order to give the back slip layer 2 slipperiness. As the phosphate ester surfactant, monophosphate or dilin of a saturated or unsaturated higher alcohol having 6 to 20 carbon atoms, preferably 12 to 18 carbon atoms (for example, cetyl alcohol, stearyl alcohol, oleyl alcohol, etc.) Long chain alkyl phosphates such as acid esters, phosphate esters such as polyoxyalkylene alkyl ethers or polyoxyalkylene alkyl aryl ethers, or higher alcohols as described above, at least 1 to 2 alkyl groups having 8 to 12 carbon atoms Alkylphenol (eg, nonylphenol, dodecylphenol, etc.) or alkyl Nonionic or anionic phosphate ester surfactants such as monophosphate ester salts or diphosphate ester salts of alkylene oxide adducts of phthalol or diphenylphenol (usually 1 to 8 moles added) with Mohs hardness Particles having a particle size of less than 3 include inorganic particles such as talc, kaolin, sekiboku, glass stone, gypsum, and blues stone, acrylic resin, Teflon (registered trademark) resin, silicone resin, lauroyl resin, phenol resin, and crosslinked polyacetal resin. Synthetic resin particles are used.

尚、上記モース硬度が３未満の粒子は、その粒径が０．０１〜１０μｍ程度であるのが好ましく、背面滑性層２の厚みの３０〜４００％の範囲にあるものが好適である。更に、当該粒子の形状は球形に近い程背面滑性層２に優れた滑性を付与することができる。また、天然の無機粒子を用いる場合、不純物の含有量が５％未満であれば本発明において何ら支障なくこれを用いることができる。   The particles having a Mohs hardness of less than 3 preferably have a particle size of about 0.01 to 10 μm, and those in the range of 30 to 400% of the thickness of the back slip layer 2 are suitable. Furthermore, the closer the shape of the particle is to a spherical shape, the more excellent slipperiness can be imparted to the back slip layer 2. When natural inorganic particles are used, they can be used without any problem in the present invention as long as the impurity content is less than 5%.

また、充分な被膜強度をもって基材シート３上に設けることが可能であれば、背面滑性層２は上記リン酸エステル系界面活性剤及び／又はモース硬度が３未満の粒子のみから構成されていても良いが、被膜強度を充分なものとするためにリン酸エステル系界面活性剤やモース硬度が３未満の粒子を樹脂バインダーに配合して背面滑性層２を構成するのが好ましい。この場合に用いられる樹脂バインダーとしては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は電離放射線硬化性樹脂のいずれであっても良いが、柔軟性やヘッド追従性の点から熱可塑性樹脂やその架橋体が好ましい。   Further, if it is possible to provide the base sheet 3 with sufficient film strength, the back slip layer 2 is composed of only the phosphate ester surfactant and / or particles having a Mohs hardness of less than 3. However, it is preferable to form the back-slidable layer 2 by blending a phosphate ester-based surfactant or particles having a Mohs hardness of less than 3 with a resin binder in order to provide sufficient film strength. The resin binder used in this case may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or an ionizing radiation curable resin. From the viewpoint of flexibility and head followability, a thermoplastic resin or a crosslinked product thereof. Is preferred.

このような熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリレート系樹脂、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリビニルクロリド系樹脂等を用いることができるが、本発明ではポリビニルブチラールやポリビニルアセタール等の反応性水酸基を有する樹脂を用いるのが好ましい。   Examples of such thermoplastic resins include polyester resins, polyacrylate resins, polyvinyl acetate resins, styrene acrylate resins, polyurethane resins, polyolefin resins, polystyrene resins, polyvinyl chloride resins, polychlorinated resins. Ether-based resins, polyamide-based resins, polycarbonate-based resins, polyacrylate-based resins, polyacrylamide-based resins, polyvinyl chloride-based resins, and the like can be used. In the present invention, resins having reactive hydroxyl groups such as polyvinyl butyral and polyvinyl acetal Is preferably used.

上記樹脂バインダーにリン酸エステル系界面活性剤及び／又はモース硬度が３未満の粒子を配合する場合には、リン酸エステル系界面活性剤は後述するアルカリ性物質を含め樹脂バインダー１００重量部に対して５〜５００重量部の割合で配合するのが好ましく、モース硬度が３未満の粒子は樹脂バインダー１００重量部に対して５〜４０重量部の割合で配合するのが好ましい。尚、樹脂バインダーに対するリン酸エステル系界面活性剤やモース硬度が３未満の粒子の配合量が少ない場合には背面滑性層２に充分な滑性が得られなくなり、配合量が多過ぎる場合には背面滑性層２の可撓性や被膜強度が低下してしまう。   In the case where a phosphate ester surfactant and / or particles having a Mohs hardness of less than 3 are blended in the resin binder, the phosphate ester surfactant includes 100% by weight of the resin binder including an alkaline substance described later. It is preferable to mix | blend in the ratio of 5-500 weight part, and it is preferable to mix | blend the particle | grains whose Mohs hardness is less than 3 in the ratio of 5-40 weight part with respect to 100 weight part of resin binders. In addition, when there are few compounding quantities of the phosphoric acid ester type surfactant with respect to a resin binder, or the particle | grains whose Mohs hardness is less than 3, sufficient lubricity cannot be obtained for the back slip layer 2, and when there are too many compounding quantities. The flexibility and film strength of the back slip layer 2 will decrease.

更に、上記樹脂バインダーには、背面滑性層２の耐熱性や基材シート３との密着性、背面滑性層２を塗工形成する際の塗工性等を向上させるために、ポリイソシアネートを架橋剤として添加するのが好ましく、このようなポリイソシアネートとしては従来公知の塗料、接着剤、ポリウレタン等の合成に使用されているいずれのものであっても良いが、例えば、「武田薬品（株）製；タケネート」、「大日本インキ化学（株）製；バーノック」、「日本ポリウレタン（株）製；コロネート」、「旭化成工業（株）製；デュラネート」、「バイエル（株）製；ディスモジュール」等として市販されているものを用いることができる。   Furthermore, in order to improve the heat resistance of the back-slidable layer 2, the adhesion to the base sheet 3, the coating property when the back-slidable layer 2 is formed by coating, etc., the resin binder is polyisocyanate. Is preferably added as a cross-linking agent. Such polyisocyanate may be any of those conventionally used for the synthesis of paints, adhesives, polyurethanes, etc. Takenate ”,“ Dainippon Ink Chemical Co., Ltd .; Barnock ”,“ Nippon Polyurethanes Co., Ltd .; Coronate ”,“ Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd .; Duranate ”,“ Bayer Co., Ltd. What is marketed as a "module" etc. can be used.

ポリイソシアネートを樹脂バインダーの架橋剤として用いる場合、ポリイソシアネートは樹脂バインダー１００重量部に対して５〜２００重量部の割合で添加し、ＮＣＯ／ＯＨの比が０．８〜２．０程度となるようにするのが好ましく、このときのポリイソシアネートの添加量が少ないと架橋密度が低く耐熱性が不充分になってしまい、また、ポリイソシアネートの添加量が多過ぎると形成される塗膜の収縮の制御が困難になってしまうとともに、硬化時間が長くなってしまったり、背面滑性層２中に残存する未反応のＮＣＯ基が空気中の水分と反応してしまったりする等の不都合が生じてしまう。   When polyisocyanate is used as a crosslinking agent for a resin binder, the polyisocyanate is added at a ratio of 5 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin binder, and the NCO / OH ratio is about 0.8 to 2.0. In this case, if the amount of polyisocyanate added is small, the crosslinking density is low and the heat resistance becomes insufficient, and if the amount of polyisocyanate added is too large, the shrinkage of the coating film formed Control becomes difficult, the curing time becomes long, and unreacted NCO groups remaining in the back slip layer 2 react with moisture in the air. End up.

背面滑性層２中には、前述の如きリン酸エステル系界面活性剤とモース硬度が３未満の粒子との両方又はいずれか一方が含有されていれば良いが、リン酸エステル系界面滑性剤を背面滑性層２中に含有せしめる場合には、サーマルヘッド等の加熱媒体から背面滑性層２に熱が印加される際にリン酸エステル系界面活性剤やその分解物から生じる酸根を中和して、加熱媒体が腐食されるのを防ぐことができるようにアルカリ性物質を添加しておくのが好ましい。   The back slip layer 2 may contain either or both of the phosphate ester surfactant and the Mohs hardness less than 3 as described above. When the agent is contained in the back slip layer 2, when heat is applied to the back slip layer 2 from a heating medium such as a thermal head, the acid radicals generated from the phosphate ester surfactant and its decomposition products are removed. It is preferable to add an alkaline substance so as to neutralize and prevent the heating medium from being corroded.

このようなアルカリ性物質としては、ハイドロタルサイト、水酸化アルミニウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミナ・マグネシウムアルミニウムグリシネート、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウム等のアルカリ性無機化合物や、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ペンチルアミン、ジペンチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ジドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、エイコシルアミン、ドコシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ジプロパノールアミン、イソプロパノールアミン、Ｎ−メチル−ノニルアミン、Ｎ−メチル−デシルアミン、Ｎ−エチル−パルミチルアミン等のアミン類を例示することができ、これらのものは単独で用いても混合して用いても良い。尚、アルカリ性無機化合物を添加する場合には、モース硬度が３未満のものを添加するのが好ましい。また、アミンは常温不揮発性であるとともに沸点が２００℃以上のものが好ましい。   Examples of such alkaline substances include hydrotalcite, aluminum hydroxide, aluminum silicate, magnesium silicate, magnesium carbonate, alumina hydroxide / magnesium aluminum glycinate, magnesium hydroxide, magnesium oxide and other inorganic inorganic compounds, methylamine, Dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, pentylamine, dipentylamine, tripentylamine, trihexylamine, trioctylamine, decylamine, Dodecylamine, didodecylamine, tridecylamine, tetradecylamine, pentadecylamine, hexadecylamine, Tadecylamine, octadecylamine, eicosylamine, docosylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, propanolamine, dipropanolamine, isopropanolamine, N-methyl-nonylamine, N-methyl-decylamine, N-ethyl-palmitylamine, etc. These amines can be exemplified, and these may be used alone or in combination. In addition, when adding an alkaline inorganic compound, it is preferable to add a thing with Mohs hardness of less than 3. The amine is preferably non-volatile at room temperature and has a boiling point of 200 ° C. or higher.

上記アルカリ性物質はリン酸エステル系界面滑性剤１モル当たり０．１〜１０モル程度の割合で添加されるのが好ましく、リン酸エステル系界面滑性剤に対するアルカリ性物質の添加量が少ないとリン酸エステル系界面活性剤やその分解物から生じた酸根を完全に中和することができず、また添加量を必要以上に多くしても得られる効果の向上は見られない。   The alkaline substance is preferably added at a ratio of about 0.1 to 10 moles per mole of phosphate ester-based interfacial lubricant, and if the amount of alkaline substance added to the phosphate ester-based interfacial lubricant is small, phosphorus is added. The acid radicals generated from the acid ester surfactant and its decomposition product cannot be completely neutralized, and even if the amount added is increased more than necessary, no improvement in the obtained effect is observed.

更に、背面滑性層２中には、リン酸エステル系界面活性剤及び／又はモース硬度が３未満の粒子に加えて、ワックス、シリコーンオイル、高級脂肪酸アミド、エステル、リン酸エステル系界面活性剤以外の界面活性剤等の滑剤や、４級アンモニウム塩、リン酸エステル等の帯電防止剤等を必要に応じて添加することもできる。   Further, in the back slip layer 2, in addition to the phosphate ester surfactant and / or the particles having a Mohs hardness of less than 3, wax, silicone oil, higher fatty acid amide, ester, phosphate ester surfactant Other than the above, a lubricant such as a surfactant, an antistatic agent such as a quaternary ammonium salt and a phosphate ester, and the like can be added as necessary.

これらのことにより、０．３ｍｊ／ｄｏｔ以上さらには、０．８ｍｊ／ｄｏｔ以上の印加エネルギーを与えても、所望の転写適性を得ることができる。特に、光回折構造は、感熱転写リボンのような低エネルギー（０．１〜０．３ｍｊ／ｄｏｔ）では、被転写部分の膜強度や厚さにより良好に転写せしめることができないため、背面滑性層はより耐熱性、熱スベリ性の高いものであることが要求される。また、光回折構造形成層が、硬化性樹脂からなっていたり、無機薄膜の如く硬質の薄膜で形成されている場合、背面滑性層からのブリード性成分が、その硬化膜上に付着したまま残存し易くなり、その付着成分が多くなると界面剥離を生じ、印字中若しくは印字後にその界面で剥離する現象が起こることがある。従って、その場合には、例えば固形の滑剤を用いたり、固形の滑剤の比率を高めたりする等して付着性の少ない背面滑性層とするのが望ましい。   As a result, desired transfer suitability can be obtained even when an applied energy of 0.3 mj / dot or more, or 0.8 mj / dot or more is applied. In particular, the light diffractive structure cannot be transferred satisfactorily at low energy (0.1 to 0.3 mj / dot), such as a thermal transfer ribbon, due to the film strength and thickness of the transferred portion. The layer is required to have higher heat resistance and higher thermal smoothness. When the light diffraction structure forming layer is made of a curable resin or a hard thin film such as an inorganic thin film, the bleed component from the back-sliding layer remains attached on the cured film. If the adhesion component is increased and the adhesion component increases, interface peeling may occur, and a phenomenon of peeling at the interface during or after printing may occur. Therefore, in that case, it is desirable to form a back-slidable layer with less adhesion, for example, by using a solid lubricant or increasing the ratio of the solid lubricant.

このような背面滑性層２は、該背面滑性層２を構成する上記組成成分を適宜選択してアセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン等の適当な溶剤中に溶解又は分散せしめて調製した塗工液を用い、グラビアコーター、ロールコーター、ワイヤーバー等により塗工形成することができ、鉛筆硬度でＨ〜２Ｈ程度の硬度になるよう固形分基準で５．０ｇ／ｍ2以下、好ましくは０．１〜１．０ｇ／ｍ2の厚みに形成するのが好ましい。尚、樹脂バインダーの架橋剤としてイソシアネートを添加した場合には、未反応のイソシアネート基が残っている場合が多いので、背面滑性層２を塗工形成した後に充分な熟成処理を施しておくのが好ましい。 Such a back-slidable layer 2 is a coating prepared by appropriately selecting the above-mentioned compositional components constituting the back-slidable layer 2 and dissolving or dispersing them in a suitable solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene and the like. The liquid can be used for coating with a gravure coater, roll coater, wire bar or the like, and is 5.0 g / m 2 or less, preferably 0. It is preferable to form to a thickness of 1 to 1.0 g / m 2 . In addition, when isocyanate is added as a crosslinking agent for the resin binder, unreacted isocyanate groups often remain, so that a sufficient aging treatment is performed after the back slip layer 2 is formed by coating. Is preferred.

また、転写層は多層構造になり総厚さが大きくなるため、光回折構造の解像度を上げるためには、背面滑性層上で面方向へ熱拡散しにくくする必要がある。特に、光回折構造を網点状に転写する場合は、解像度を確保するため転写シートの面内方向への熱伝導を小さくする必要があり、そのためには、背面滑性層の熱伝導率を１．０×１０-4ｋｃａｌ／ｍｓ．℃以下、好ましくは０．２×１０-4ｋｃａｌ／ｍｓ．℃以下とする必要がある。 In addition, since the transfer layer has a multilayer structure and a total thickness increases, it is necessary to make it difficult to thermally diffuse in the surface direction on the back sliding layer in order to increase the resolution of the light diffraction structure. In particular, when transferring the light diffraction structure in a dot pattern, it is necessary to reduce the heat conduction in the in-plane direction of the transfer sheet in order to ensure the resolution. 1.0 × 10 −4 kcal / ms. ° C. or lower, preferably 0.2 × 10 −4 kcal / ms. Must be below ℃

支持体１１に光回折構造１０を設けるにあたって、上記の如き背面滑性層２が基材シート３の光回折構造形成層４が設けられている側と反対側の面、即ち、転写時に加熱媒体が接する面に設けられている転写シート１を用いることにより、光回折構造形成層４を支持体１１に転写する際に、空気が入り込んだりして光回折構造形成層４側への熱伝導が不充分とならないよう転写シート１に強く押し付けられながら移動するサーマルヘッドの如き加熱媒体が、転写シート１に対して滑らかに移動してスティッキング現象を起こすことなく光回折構造形成層４の良好な転写を行うことができる。また、加熱媒体との接触面が削られてカスが生じると、これが加熱媒体の熱で燃えて当該加熱媒体を損傷する原因となる虞があるが、このようなカスが生じることもない。従って、このような転写シート１を用いれば、何ら不都合が生じることなくサーマルヘッドのような所望の転写パターンに応じて発熱部位を自由に変えることのできる加熱媒体によって光回折構造１０を構成する光回折構造単位９を網点状に任意のパターンで形成することができ、本発明の実効が図れる。   When the light diffractive structure 10 is provided on the support 11, the back slip layer 2 as described above is the surface of the base sheet 3 opposite to the side on which the light diffractive structure forming layer 4 is provided, that is, a heating medium during transfer. When the light diffraction structure forming layer 4 is transferred to the support 11 by using the transfer sheet 1 provided on the surface in contact with the air, air enters and the heat conduction to the light diffraction structure forming layer 4 side is caused. Heat transfer medium such as a thermal head that moves while being strongly pressed against the transfer sheet 1 so as not to be insufficient moves smoothly with respect to the transfer sheet 1 and causes good transfer of the light diffraction structure forming layer 4 without causing sticking. It can be performed. Further, if the contact surface with the heating medium is scraped to generate residue, this may burn with the heat of the heating medium and cause damage to the heating medium, but such residue does not occur. Therefore, when such a transfer sheet 1 is used, the light constituting the light diffraction structure 10 by a heating medium that can freely change the heat generation site according to a desired transfer pattern such as a thermal head without causing any inconvenience. The diffractive structure unit 9 can be formed in an arbitrary pattern in the form of a halftone dot, and the effectiveness of the present invention can be achieved.

一方、本発明で得られる光回折構造形成体１２は、網点状に分布せしめた複数の光回折構造単位９から構成される光回折構造１０を支持体１１上に形成してなるものであって、個々の光回折構造単位９には前述したような回折格子やホログラムの干渉縞が記録されており、また、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、そのレリーフ形成面に必要に応じて薄膜層を形成することもでき、このような光回折構造単位９からなる光回折構造１０を支持体１１上に形成するには、前述の如き本発明光回折構造の形成方法が好適である。尚、図２は本発明で得られる光回折構造形成体１２の一例の概略を示す断面図である。   On the other hand, the light diffraction structure forming body 12 obtained by the present invention is formed by forming a light diffraction structure 10 composed of a plurality of light diffraction structure units 9 distributed in a dot pattern on a support 11. In addition, the diffraction fringes and hologram interference fringes as described above are recorded in each light diffraction structural unit 9, and when diffraction fringes and hologram interference fringes are recorded as reliefs on the surface, If necessary, a thin film layer can be formed on the relief forming surface. In order to form such a light diffraction structure 10 comprising the light diffraction structure unit 9 on the support 11, the light diffraction structure of the present invention as described above is used. The forming method is preferable. FIG. 2 is a cross-sectional view showing an outline of an example of the light diffraction structure forming body 12 obtained by the present invention.

本発明では、網点状に分布する複数の光回折構造単位９で光回折構造１０を構成するようにした点が特に重要であって、このような構成を採用することにより個々の光回折構造単位９の平面形状やその大きさ、更には、分布密度を変えることで光回折構造１０の回折効率を部分的に制御することができ、これによって回折効率の強弱による階調を表現することができる。その上、図３に示すように異なる回折像が現出する２以上の光回折構造単位９Ａ、９Ｂを組み合わせて光回折構造１０を形成すればより多種多様の意匠を得ることができ、例えば、光回折構造１０が回折格子である場合にはその格子方向や格子ピッチを異ならしめる等して、所定の光源及び所定の観察位置で特定の色相が得られるようにし、所謂、減法三原色におけるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青紫）に対応する３種類の光回折構造単位９ａ、９ｂ、９ｃを組み合わせるとともに、且つ表現したい色濃度に応じて網点のサイズを変えて光回折構造１０を構成すればフルカラー表現が可能となる（図４）。   In the present invention, it is particularly important that the light diffractive structure 10 is constituted by a plurality of light diffractive structure units 9 distributed in a dot pattern. By adopting such a structure, individual light diffractive structures are formed. The diffraction efficiency of the light diffraction structure 10 can be partially controlled by changing the planar shape and size of the unit 9 and further the distribution density, thereby expressing the gradation based on the strength of the diffraction efficiency. it can. Moreover, as shown in FIG. 3, if the light diffraction structure 10 is formed by combining two or more light diffraction structure units 9A and 9B in which different diffraction images appear, a wider variety of designs can be obtained. If the light diffraction structure 10 is a diffraction grating, the specific direction can be obtained at a predetermined light source and a predetermined observation position by, for example, changing the grating direction and the grating pitch, and the so-called subtractive three primary colors R ( Three types of light diffraction structure units 9a, 9b, 9c corresponding to red), G (green), and B (blue purple) are combined, and the size of the halftone dot is changed according to the color density to be expressed. If it is configured, full color expression is possible (FIG. 4).

また、光回折構造１０がホログラムであれば、ホログラムの冗長性により光回折構造１０が網点状に形成されていてもホログラム像を再生することができるので、異なる観察位置で異なるホログラム像を再生する２以上の光回折構造単位９を組み合わせれば、観察位置を変えることによる複数の画面切り換えも可能となる（勿論、回折格子であっても同様のことが可能である）。更に、光回折構造１０が回折格子又はホログラムのいずれであっても、光回折構造単位９の平面形状、大きさ、分布密度等を適宜選択することによって、支持体１１の地模様と光回折構造１０による回折像とが、錯視により全体で１つの画像に観察されることができるようにすることも可能である。   Further, if the light diffractive structure 10 is a hologram, the hologram image can be reproduced even if the light diffractive structure 10 is formed as a halftone dot due to the redundancy of the hologram, so that different hologram images can be reproduced at different observation positions. If two or more light diffraction structural units 9 are combined, a plurality of screens can be switched by changing the observation position (of course, the same can be done with a diffraction grating). Furthermore, regardless of whether the light diffractive structure 10 is a diffraction grating or a hologram, the ground pattern of the support 11 and the light diffractive structure can be selected by appropriately selecting the planar shape, size, distribution density, etc. of the light diffractive structure unit 9. It is also possible to allow the diffraction image by 10 to be observed as one image as a whole by illusion.

このように、本発明によれば光回折構造を設けることによって得られる意匠の多種多様化を図ることができ、延いてはその複製が困難であることから光回折構造が有しているセキュリティ性の向上をも図ることもできる。   As described above, according to the present invention, it is possible to diversify the design obtained by providing the light diffractive structure, and it is difficult to reproduce the design, and thus the security property of the light diffractive structure is provided. Can also be improved.

次に、具体的な実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例１
厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートシートを基材シートとし、その一方の面に乾燥後の厚みが１μｍとなるように以下の組成の塗工液により背面滑性層を塗工形成した。 Next, the present invention will be described in more detail with specific examples.
Example 1
A polyethylene terephthalate sheet having a thickness of 12 μm was used as a base material sheet, and a back slip layer was applied and formed on one surface thereof with a coating solution having the following composition so that the thickness after drying was 1 μm.

［背面滑性層］
・ポリビニルブチラール（エスレックＢＸ−１） ８部
・ポリイソシアネート硬化剤（バーノックＤ７５０） １８部
・リン酸エステル（プライサーフＡ２０８Ｓ） ５部
・タルク １．５部
・メチルエチルケトン（ａ）＋トルエン（ｂ）（ａ：ｂ＝１：１） １３０部 [Back slip layer]
-Polyvinyl butyral (ESREC BX-1) 8 parts-Polyisocyanate curing agent (Bernock D750) 18 parts-Phosphate ester (Plysurf A208S) 5 parts-Talc 1.5 parts-Methyl ethyl ketone (a) + Toluene (b) ( a: b = 1: 1) 130 parts

また、基材シートの他方の面には、乾燥後の厚みが（ ）内の値となるよう保護層（１μｍ）と光回折構造形成層（３μｍ）を以下の組成の塗工液により順次塗工形成した後に、光回折構造を回折格子として構成し、次いで、光回折構造形成層上にＡｌにより５００Åの膜厚で金属薄膜層を形成した。   Further, a protective layer (1 μm) and a light diffraction structure forming layer (3 μm) are sequentially applied to the other surface of the base sheet with a coating liquid having the following composition so that the thickness after drying becomes a value in (). After the process formation, the light diffraction structure was configured as a diffraction grating, and then a metal thin film layer was formed on the light diffraction structure forming layer with a thickness of 500 mm with Al.

［保護層］
・酢酸セルロース樹脂 ５部
・メタノール ２５部
・メチルエチルケトン ４５部
・トルエン ２５部
・メチロール化メラミン樹脂 ５部
・微粒子マイクロシリカ（粒径０．１μｍ） ３部
・パラトルエンスルホン酸 ０．０５部
［光回折構造形成層］
・アクリル樹脂 ４０部
・メラミン樹脂 １０部
・シクロヘキサノン ５０部
・メチルエチルケトン ５０部 [Protective layer]
・ Cellulose acetate resin 5 parts ・ Methanol 25 parts ・ Methyl ethyl ketone 45 parts ・ Toluene 25 parts ・ Methylolated melamine resin 5 parts ・ Particulate microsilica (particle size 0.1 μm) 3 parts ・ Paratoluenesulfonic acid 0.05 parts [Light diffraction Structure forming layer]
・ Acrylic resin 40 parts ・ Melamine resin 10 parts ・ Cyclohexanone 50 parts ・ Methyl ethyl ketone 50 parts

次に、金属薄膜層の上に、下記組成からなる感熱接着剤を乾燥後３μｍとなるように形成し、本発明の転写シートを得た。   Next, a heat-sensitive adhesive having the following composition was formed on the metal thin film layer so as to be 3 μm after drying, thereby obtaining a transfer sheet of the present invention.

［感熱接着層］
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０部
・アクリル樹脂 １０部
・微粒子マイクロシリカ（粒径０．１μｍ） １０部 [Thermosensitive adhesive layer]
・ Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 30 parts ・ Acrylic resin 10 parts ・ Particulate microsilica (particle size 0.1 μm) 10 parts

６ドット／ｍｍの解像度のサーマルヘッドにて０．８ｍｊ／ｄｏｔの印加エネルギーを加えて光回折構造を網点状に転写し、更に、上記の如き転写シートと回折格子のパターンのみが異なるものを用いて、同一方法で、光回折構造が転写されていない場所を埋めるように位置合わせして転写することで、２つの角度で別々の図柄をみることができる回折格子形成体を得ることができた。   Applying 0.8 mj / dot applied energy with a thermal head with a resolution of 6 dots / mm to transfer the light diffractive structure in a halftone dot pattern, and the transfer sheet and the diffraction grating differ only as described above. By using the same method and aligning and transferring so as to fill the place where the light diffraction structure is not transferred, a diffraction grating formed body that can see different designs at two angles can be obtained. It was.

実施例２
光回折構造としてホログラムが設けられている以外は実施例１で用いた転写シートと同様の転写シートを用い、印刷画像が形成されている被転写体に異なるホログラムが設けられている２種類の転写シートにより実施例１と同様にホログラムを転写したことにより、印刷画像と２種類のホログラム像とが複合した意匠性に優れたホログラム形成体を得ることができた。 Example 2
Two types of transfer using a transfer sheet similar to the transfer sheet used in Example 1 except that a hologram is provided as an optical diffraction structure, and a different hologram is provided on a transfer target on which a printed image is formed. By transferring the hologram with the sheet in the same manner as in Example 1, it was possible to obtain a hologram formed article having excellent design properties in which a printed image and two types of hologram images were combined.

実施例３
回折方向を所定の位置で観察したときに、赤、緑、青色に見えるようにした回折格子がそれぞれ設けられている実施例１と同様の転写シートを３種類用意し、転写位置が交互となるようにそれぞれの転写シートから回折格子を網点状に転写するとともに、表現したい色濃度に合わせて網点のサイズを制御した。これによって、所定の位置でフルカラーの画像を観察できる回折格子形成体を得ることができた。 Example 3
Three types of transfer sheets similar to those in Example 1 provided with diffraction gratings that are visible in red, green, and blue when the diffraction direction is observed at a predetermined position are prepared, and the transfer positions are alternated. As described above, the diffraction grating was transferred in a halftone dot form from each transfer sheet, and the dot size was controlled according to the color density desired to be expressed. As a result, a diffraction grating formed body capable of observing a full-color image at a predetermined position was obtained.

本発明の光回折構造を形成する方法において用いられる転写シートの一例を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows an example of the transfer sheet used in the method of forming the light diffraction structure of this invention. 本発明で得られる光回折構造形成体の一例の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of an example of the optical diffraction structure formation body obtained by this invention. 光回折構造単位の設け方の一例を示す要部平面図である。It is a principal part top view which shows an example of how to provide an optical diffraction structural unit. 光回折構造単位の設け方の他の一例を示す要部平面図である。It is a principal part top view which shows another example of the provision method of a light diffraction structural unit.

符号の説明Explanation of symbols

１ 転写シート
４ 光回折構造形成層
９ 光回折構造単位
１０ 光回折構造
１１ 支持体
１２ 光回折構造形成体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transfer sheet 4 Light diffraction structure formation layer 9 Light diffraction structure unit 10 Light diffraction structure 11 Support body 12 Light diffraction structure formation body

Claims (3)

網点状に分布する複数の光回折構造単位から構成され、且つ、異なる回折像を現出する２以上の光回折構造単位が組み合わされて構成される光回折構造を、
剥離性を有する基材シートの一方の面に光回折構造形成層が設けられており、他方の面には背面滑性層が設けられている転写シートであり、且つ、転写後の光回折構造形成層を保護する表面保護層が基材シートと光回折構造形成層との間に設けられるとともに前記光回折構造形成層と前記表面保護層に微粉末が１０％以下の量で添加されてなる転写シートを用いて、加熱部位を任意に変えることができる加熱媒体によって支持体上に光回折構造形成層を網点状に転写することにより形成する、ことを特徴とする光回折構造の形成方法。 An optical diffraction structure composed of a plurality of light diffraction structural units distributed in a dot pattern and a combination of two or more light diffraction structural units that express different diffraction images,
Optical diffraction structure forming layer on one side of a substrate sheet having release properties is provided, the other surface is a transfer sheet rear slip layer is provided, and the light diffraction structure after transfer A surface protective layer for protecting the formation layer is provided between the base sheet and the light diffraction structure formation layer, and fine powder is added to the light diffraction structure formation layer and the surface protection layer in an amount of 10% or less. A method for forming a light diffraction structure, comprising: forming a light diffraction structure forming layer on a support using a transfer sheet with a heating medium capable of arbitrarily changing a heating part on a support, in a dot pattern. . 光回折構造が、Ｒ(赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青紫）に対応する３種類の光回折構造単位の組み合わせで形成される、請求項１記載の光回折構造の形成方法。   The method of forming a light diffraction structure according to claim 1, wherein the light diffraction structure is formed by a combination of three types of light diffraction structure units corresponding to R (red), G (green), and B (blue purple). 光回折構造が、大きさの異なる複数の光回折構造単位により形成される、請求項１又は２記載の光回折構造の形成方法。   The method of forming a light diffraction structure according to claim 1 or 2, wherein the light diffraction structure is formed by a plurality of light diffraction structure units having different sizes.
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