JP4063746B2 - (Meth) acrylate with novel thiourethane skeleton - Google Patents

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Description

チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有するメガネレンズ用樹脂用の紫外線硬化性ハードコート剤成分、またはレンズ等のとして非常に有用な(メタ)アクリレートに関する。   The present invention relates to an ultraviolet curable hard coat agent component for glasses lens resin having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond, or a (meth) acrylate that is very useful as a lens or the like.

樹脂製レンズは軽量性、耐衝撃性、着色性などの理由から、ガラスレンズに代わりメガネ用、カメラ用、光記録・再生用装置に用いるピックアップレンズ等のレンズ樹脂として急速に普及している。従来これらの目的にはジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)(以下D.A.C.と略す)をラジカル重合したものや、ポリカーボネート(PC)、ポリメタクリル酸メタクリレート(PMMA)などが用いられていきた。これらのレンズ樹脂はnd=1.49〜1.58程度の屈折率であるが、特許文献1にはチオール(メタ)アクリレートとイソシアネート(メタ)アクリレートを熱重合しチオウレタン結合を形成して得られる樹脂が記載されており、nd=1.60〜1.67程度の屈折率が得られている。 Resin lenses are rapidly spreading as lens resins for pick-up lenses used for glasses, cameras, and optical recording / reproducing devices instead of glass lenses for reasons such as lightness, impact resistance, and colorability. Conventionally, radically polymerized diethylene glycol bis (allyl carbonate) (hereinafter abbreviated as DAC), polycarbonate (PC), polymethacrylic acid methacrylate (PMMA), and the like have been used for these purposes. These lens resins have a refractive index of n d = 1.49 to 1.58. However, in Patent Document 1, a thiourethane bond is formed by thermal polymerization of thiol (meth) acrylate and isocyanate (meth) acrylate. The obtained resin is described, and a refractive index of about nd = 1.60 to 1.67 is obtained.

また、特許文献2に記載されているチオエポキシ(メタ)アクリレートの開環熱重合によりエピチオスルフィド結合を形成して得られる樹脂では、nd=1.70以上の屈折率が得られている。   Further, the resin obtained by forming an epithiosulfide bond by ring-opening thermal polymerization of thioepoxy (meth) acrylate described in Patent Document 2 has a refractive index of nd = 1.70 or more.

一方では、樹脂製レンズはガラスレンズに比べ表面の硬度、耐擦傷性が劣るため、表面のハードコート処理は必要不可欠のものとなり、この課題についても多くの検討がなされており、ハードコート剤として、紫外線で硬化させるアクリレート系ハードコート剤が広く用いられている。このアクリレート系ハードコート剤は室温程度の環境で紫外線を数秒から数十秒照射することにより簡単に硬化させることができることやコート液のポットライフも通常6ヶ月以上と長いため、D.A.C.、PC、PMMA用にはハードコート剤が種々開発され実際に広く利用されている。しかし、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂製レンズに密着し、硬度の高い紫外線硬化性ハードコート剤はいまだ見出されておらずその開発が待たれている。
特開平9−110956号公報 特開2002−194083号公報
On the other hand, resin lenses have inferior surface hardness and scratch resistance compared to glass lenses, so surface hard coat treatment is indispensable, and many studies have been made on this issue as hard coat agents. An acrylate hard coating agent that is cured with ultraviolet rays is widely used. This acrylate hard coating agent can be easily cured by irradiating ultraviolet rays for several seconds to several tens of seconds in an environment of about room temperature, and the pot life of the coating solution is usually as long as 6 months or more. A. C. Various hard coat agents have been developed for PC and PMMA and are widely used in practice. However, no UV curable hard coating agent having high hardness and being in close contact with a resin lens having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond has not been found yet, and its development is awaited.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-110956 JP 2002-140883 A

本発明の目的は、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂への密着性が高く、表面の硬度、耐擦傷性に優れる紫外線硬化性ハードコート剤成分として有用な新規(メタ)アクリレート及びその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a novel (meth) acrylate useful as an ultraviolet curable hard coat agent component having high adhesion to a resin having a thiourethane bond and an epithiosulfide bond, and having excellent surface hardness and scratch resistance. It is to provide a manufacturing method.

本発明者らは、これらの問題を解決するために、鋭意検討を行ったところ、チオウレタン結合またはエピチオスルフィド結合を有する樹脂表面に対して特定の密着性、表面硬度を有する紫外線硬化性ハードコート剤に有用な新規(メタ)アクリレートを見出した。   In order to solve these problems, the present inventors have conducted intensive studies, and found that an ultraviolet curable hard having specific adhesion and surface hardness to a resin surface having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond. A novel (meth) acrylate useful as a coating agent has been found.

本発明における新規なチオウレタン骨格を有する(メタ)アクリレートはそのハードコート剤の成分として非常に有用な(メタ)アクリレートであり、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂製レンズに密着し、硬度の高い紫外線硬化性ハードコート剤を実現するものである。   The (meth) acrylate having a novel thiourethane skeleton in the present invention is a (meth) acrylate that is very useful as a component of the hard coat agent, and is in close contact with a resin lens having a thiourethane bond and an epithiosulfide bond. An ultraviolet curable hard coating agent having high hardness is realized.

すなわち本発明は、
1.一般式(1)で表される新規(メタ)アクリレート。
That is, the present invention
1. A novel (meth) acrylate represented by the general formula (1).

Figure 0004063746
(1)
(式中、連結基Rは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)O(CH1〜4基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
2.一般式(1)におけるXがC(=O)O(CH基、連結基R1が(2)〜(6)のいずれかで表される基である1記載の新規(メタ)アクリレート。
Figure 0004063746
(1)
(Wherein the linking group R 1 is an aliphatic residue, aromatic residue, alicyclic residue, heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, aromatic ring, aliphatic ring in the chain) Or an aliphatic residue having a heterocyclic ring, wherein X 1 is a C (═O) O (CH 2 ) 1-4 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group (where Ph is phenylene) X 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 to 4).
2. 2. The novel (meta) according to 1, wherein X 1 in the general formula (1) is a C (═O) O (CH 2 ) 2 group and the linking group R 1 is a group represented by any one of (2) to (6). Acrylate.

Figure 0004063746
(2)
Figure 0004063746
(2)

Figure 0004063746
(3)
Figure 0004063746
(3)

Figure 0004063746
(4)
Figure 0004063746
(4)

Figure 0004063746
(5)
Figure 0004063746
(5)

Figure 0004063746
(6)
(式中、Xは水素原子またはメチル基を表し、X、Xは酸素原子または硫黄原子を表し、Xは水素原子、メチル基またはエチル基を表し、nは1〜5の整数、nは0〜2の整数、n〜nはそれぞれ0または1の整数を表す)
3.チオールと光重合性モノイソシアネートとのチオウレタン化反応により得られる1記載の新規(メタ)アクリレート。
4.一般式(7)で表される新規(メタ)アクリレート。
Figure 0004063746
(6)
(Wherein, X 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, X 4, X 5 represents an oxygen atom or a sulfur atom, X 6 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, n 2 is 1 to 5 integer, n 3 is an integer of 0 to 2, integer n 4 ~n 9 are each 0 or 1)
3. 2. The novel (meth) acrylate according to 1, obtained by thiourethanation reaction between thiol and photopolymerizable monoisocyanate.
4). A novel (meth) acrylate represented by the general formula (7).

Figure 0004063746
(7)
(式中、連結基R、Rは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)O(CH1〜4基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n10は1〜4の整数を表し、n11は1または2の整数を表し、n12は1〜3の整数を表す。)
5.一般式(7)におけるXがC(=O)O(CH基、連結基R2が式(2)または式(3)のいずれかで表される基であることを特徴とする4記載の新規(メタ)アクリレート。
6.分子内に2個以上のメルカプト基を有するポリチオール、光重合性モノイソシアネート、光重合性基を有さないイソシアネートのチオウレタン化反応から得られる4記載の新規(メタ)アクリレート。
7.ポリチオールの少なくとも一方のメルカプト基を残すよう光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートとのモル比を調整し反応させた後、残りの未反応メルカプト基と光重合性基を有さないイソシアネートを反応させることを特徴とする4〜5のいずれかに記載の新規(メタ)アクリレートの製造方法。
8.1〜6のいずれかに記載の新規(メタ)アクリレートを含有することを特徴とするハードコート剤。
9.1〜6のいずれかに記載の新規(メタ)アクリレートよりなる光学材料。
に関する。
Figure 0004063746
(7)
(Wherein the linking groups R 2 and R 3 are an aliphatic residue, an aromatic residue, an alicyclic residue, a heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, aromatic ring in the chain, Represents an aliphatic residue having an aliphatic ring or a heterocyclic ring, and X 6 represents a C (═O) O (CH 2 ) 1-4 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group (wherein Ph represents a phenylene group), X 7 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, n 10 represents an integer of 1 to 4, n 11 represents an integer of 1 or 2, and n 12 represents 1 Represents an integer of ~ 3)
5. X 6 in the general formula (7) is a C (═O) O (CH 2 ) 2 group, and the linking group R 2 is a group represented by either the formula (2) or the formula (3). 4. The novel (meth) acrylate according to 4.
6). 5. A novel (meth) acrylate obtained from a thiourethanation reaction of a polythiol having two or more mercapto groups in the molecule, a photopolymerizable monoisocyanate, or an isocyanate having no photopolymerizable group.
7). After reacting by adjusting the molar ratio of the photopolymerizable monoisocyanate (meth) acrylate so as to leave at least one mercapto group of the polythiol, the remaining unreacted mercapto group and the isocyanate having no photopolymerizable group are reacted. The manufacturing method of the novel (meth) acrylate in any one of 4-5 characterized by the above-mentioned.
The hard coat agent characterized by containing the novel (meth) acrylate in any one of 8.1-6.
The optical material which consists of a novel (meth) acrylate in any one of 9.1-6.
About.

本発明の光重合性基及びチオウレタン結合を有する(メタ)アクリレートを成分として用いたハードコート剤は、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂に対する密着性に優れ、耐擦傷性に優れるという利点がある。   The hard coat agent using the (meth) acrylate having a photopolymerizable group and a thiourethane bond as a component of the present invention is excellent in adhesion to a resin having a thiourethane bond and an epithiosulfide bond, and is excellent in scratch resistance. There are advantages.

以下、本発明について詳しく説明する。
本発明の一般式(1)
The present invention will be described in detail below.
General formula (1) of the present invention

Figure 0004063746
(1)
(式中、連結基Rは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)O(CH1〜4基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。)

で表される新規(メタ)アクリレートにおいて、連結基R1は脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)O(CH1〜4基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。
Figure 0004063746
(1)
(Wherein the linking group R 1 is an aliphatic residue, aromatic residue, alicyclic residue, heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, aromatic ring, aliphatic ring in the chain) Or an aliphatic residue having a heterocyclic ring, wherein X 1 is a C (═O) O (CH 2 ) 1-4 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group (where Ph is phenylene) X 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 to 4).

In the novel (meth) acrylate represented by the formula, the linking group R1 is an aliphatic residue, aromatic residue, alicyclic residue, heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom in the chain, Represents an aliphatic residue having an aromatic ring, an aliphatic ring or a heterocyclic ring, and X 1 is a C (═O) O (CH 2 ) 1-4 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group. (Wherein Ph represents a phenylene group), X 2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 to 4.

また、好ましい化合物としては、一般式(1)における連結基R1が(2)〜(6)のいずれかで表される基である化合物が挙げられる。   Moreover, as a preferable compound, the compound whose coupling group R1 in General formula (1) is group represented by either (2)-(6) is mentioned.

Figure 0004063746
(2)
Figure 0004063746
(2)

Figure 0004063746
(3)
Figure 0004063746
(3)

Figure 0004063746
(4)
Figure 0004063746
(4)

Figure 0004063746
(5)
Figure 0004063746
(5)

Figure 0004063746
(6)
(式中、Xは水素原子またはメチル基を表し、X、Xは酸素原子または硫黄原子を表し、Xは水素原子、メチル基またはエチル基を表し、nは1〜5の整数、nは0〜2の整数、n〜nはそれぞれ0または1の整数を表す)

また本発明の一般式(7)
Figure 0004063746
(6)
(Wherein, X 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, X 4, X 5 represents an oxygen atom or a sulfur atom, X 6 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, n 2 is 1 to 5 integer, n 3 is an integer of 0 to 2, integer n 4 ~n 9 are each 0 or 1)

The general formula (7) of the present invention

Figure 0004063746
(7)
(式中、連結基R、Rは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)OCHCH基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n10は1〜4の整数を表し、n11は1または2の整数を表し、n12は1〜3の整数を表す。)

で表される新規(メタ)アクリレートにおいて、連結基R、Rは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)OCHCH基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n10は1〜4の整数を表し、n11は1または2の整数を表し、n12は1〜3の整数を表す。
Figure 0004063746
(7)
(Wherein the linking groups R 2 and R 3 are an aliphatic residue, an aromatic residue, an alicyclic residue, a heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, aromatic ring in the chain, Represents an aliphatic residue having an aliphatic ring or a heterocyclic ring, and X 6 is a C (═O) OCH 2 CH 2 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group (where Ph is a phenylene group) X 7 represents each independently a hydrogen atom or a methyl group, n 10 represents an integer of 1 to 4, n 11 represents an integer of 1 or 2, and n 12 represents an integer of 1 to 3. Represents.)

In the novel (meth) acrylate represented by the formula, the linking groups R 2 and R 3 are an aliphatic residue, an aromatic residue, an alicyclic residue, a heterocyclic residue, or an oxygen atom or a sulfur atom in the chain. Represents an aliphatic residue having a nitrogen atom, an aromatic ring, an aliphatic ring or a heterocyclic ring, and X 6 represents a C (═O) OCH 2 CH 2 group, a C═O group, or a Ph—C (CH 3 ) 2 group. (Wherein Ph represents a phenylene group), X 7 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, n 10 represents an integer of 1 to 4, n 11 represents an integer of 1 or 2, n 12 represents an integer of 1 to 3.

本発明における新規(メタ)アクリレートの製造方法としては、例えば、一般式(1)は、チオールと光重合性モノイソシアネートとのチオウレタン化反応より得られる化合物であり、また一般式(7)は、分子内に2個以上のメルカプト基を有するポリチオール、光重合性モノイソシアネート、光重合性基を有さないイソシアネートのチオウレタン化反応から得られる化合物である。   As a novel (meth) acrylate production method in the present invention, for example, the general formula (1) is a compound obtained by a thiourethanation reaction between a thiol and a photopolymerizable monoisocyanate, and the general formula (7) is , A compound obtained from a thiourethanation reaction of a polythiol having two or more mercapto groups in the molecule, a photopolymerizable monoisocyanate, or an isocyanate having no photopolymerizable group.

本発明で用いる光重合性基を有する化合物における光重合性基とは、光重合性を有する基であればよく、特に何ら制限されるものではないが、好ましくは光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合により反応する基を指し、具体的には(メタ)アクリレート基、ビニル基、チオール基、エポキシ基、オキセタン基などの指すが光重合速度の点から好ましくは(メタ)アクリレート基が挙げられる。以下、詳細に説明する。   The photopolymerizable group in the compound having a photopolymerizable group used in the present invention is not particularly limited as long as it is a group having photopolymerizability, but is preferably photoradical polymerization, photocationic polymerization, This refers to a group that reacts by photoanionic polymerization, and specifically refers to a (meth) acrylate group, vinyl group, thiol group, epoxy group, oxetane group, etc., but preferably a (meth) acrylate group from the viewpoint of the rate of photopolymerization. It is done. Details will be described below.

一般式(1)、(7)の(メタ)アクリレートはいずれも、チオールとイソシアネートによるチオウレタン化反応により得られる。   Both (meth) acrylates of general formulas (1) and (7) are obtained by a thiourethanization reaction with thiol and isocyanate.

Figure 0004063746
(8)
一般式(1)で表される(メタ)アクリレート得るためには、チオール(メタ)アクリレートのメルカプト基と光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートのイソシアネート基のモル比が0.8〜1.2になるように調製する。0.8以下または1.2以上の場合、反応終了後も好ましくない副反応が進行しゲル化する可能性がある。
一般式(7)で表される(メタ)アクリレートを得るための好ましい手順としては、まずポリチオールの少なくとも一方のメルカプト基を残すよう光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートとのモル比を調整し反応させる。
Figure 0004063746
(8)
In order to obtain the (meth) acrylate represented by the general formula (1), the molar ratio of the mercapto group of the thiol (meth) acrylate and the isocyanate group of the photopolymerizable monoisocyanate (meth) acrylate is 0.8 to 1.2. Prepare to be. In the case of 0.8 or less or 1.2 or more, an undesirable side reaction may proceed and gelation may occur even after the reaction is completed.
As a preferable procedure for obtaining the (meth) acrylate represented by the general formula (7), first, the reaction is performed by adjusting the molar ratio with the photopolymerizable monoisocyanate (meth) acrylate so as to leave at least one mercapto group of the polythiol. Let

Figure 0004063746
(9)
この反応が完全に完結した後、残りの未反応メルカプト基と光重合性基を有さないイソシアネートを反応させる。
Figure 0004063746
(9)
After this reaction is completely completed, the remaining unreacted mercapto group is reacted with an isocyanate having no photopolymerizable group.

Figure 0004063746
(10)
一般式(1)で表されるチオ(メタ)アクリレート(メタ)アクリレートの製造に用いられるチオール(メタ)アクリレートは、特に限定されるものではないが、好ましくは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を有し、かつ、メルカプト基を1つ以上有する(メタ)アクリレートである。具体的には、モノチオール(メタ)アクリレートとして、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン、アミルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン、ヘプチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ノニルメルカプタン、シクロペンチルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、フルフリルメルカプタン、チオフェノール、チオクレゾール、エチルチオフェノール、ベンジルメルカプタン、
ポリチオール(メタ)アクリレートとして、1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチール、1,6−ヘキサンジチオール、1,2,3−プロパントリチオール、1,1−シクロヘキサンジチオール、1,2−シクロヘキサンジチオール、ビシクロ〔2,2,1〕ヘプタ−exo−cis−2,3−ジチオール、1,1−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、ジエチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、ジエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ビス(2−メルカプトエチル)エーテル、エチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパンビス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパンビス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、
1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプトベンゼン、1,4−ジメルカプトベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3−トリメルカプトベンゼン、1,2,4−トリメルカプトベンゼン、1,3,5−トリメルカプトベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、
1,2,3,4−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,4,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、2,2’−ジメルカプトビフェニル、4,4’−チオビス−ベンゼンチオール、4,4’−ジメルカプトビフェニル、4,4’−ジメルカプトビベンジル、2,5−トルエンジチオール、3,4−トルエンジチオール、1,4−ナフタレンジチオール、1,5−ナフタレンジチオール、2,6−ナフタレンジチオール、2,7−ナフタレンジチオール、2,4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、9,10−アントラセンジメタンチオール、
・ 2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエ
チルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビス(2−メルカプトエチルチオ)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)エタン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオ)プロパン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチルチオ)プロパン、テトラキス(2−メルカプトエチルチオメチル)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)プロパンチオール、2,5−ジメルカプト−1,4−ジチアン、ビス(2−メルカプトエチル)ジスルフィド、3,4−チオフェンジチオール、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)チオ−3−メルカプトプロパン、ビス−(2−メルカプトエチルチオ−3−メルカプトプロパン)スルフィド等が挙げられる。
Figure 0004063746
(10)
The thiol (meth) acrylate used for the production of the thio (meth) acrylate (meth) acrylate represented by the general formula (1) is not particularly limited, but is preferably an aliphatic residue or an aromatic residue. , An alicyclic residue, a heterocyclic residue, or an aliphatic residue having an oxygen atom, a sulfur atom, an aromatic ring, an aliphatic ring or a heterocyclic ring in the chain, and one or more mercapto groups It has (meth) acrylate. Specifically, as methylthiol (meth) acrylate, methyl mercaptan, ethyl mercaptan, propyl mercaptan, butyl mercaptan, amyl mercaptan, hexyl mercaptan, heptyl mercaptan, octyl mercaptan, nonyl mercaptan, cyclopentyl mercaptan, cyclohexyl mercaptan, furfuryl mercaptan, furfuryl mercaptan Thiophenol, thiocresol, ethylthiophenol, benzyl mercaptan,
1,2-ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 1,4-butanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,2,3-propanetrithiol as polythiol (meth) acrylate 1,1-cyclohexanedithiol, 1,2-cyclohexanedithiol, bicyclo [2,2,1] hepta-exo-cis-2,3-dithiol, 1,1-bis (mercaptomethyl) cyclohexane, diethylene glycol bis (2 -Mercaptoacetate), diethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), bis (2-mercaptoethyl) ether, ethylene glycol bis (2-mercaptoacetate), ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), trimethylolpro Nbisu (2-mercaptoacetate), trimethylolpropane bis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate),
1,2-dimercaptobenzene, 1,3-dimercaptobenzene, 1,4-dimercaptobenzene, 1,2-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,4- Bis (mercaptomethyl) benzene, 1,2-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2- Bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,3-trimercaptobenzene, 1, 2,4-trimercaptobenzene, 1,3,5-trimercaptobenzene, 1,2,3-tris (mercaptomethyl) ben 1,2,4-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,3,5-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,4-tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,3,5-tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,4-tris (2-mercapto Ethyleneoxy) benzene, 1,3,5-tris (2-mercaptoethyleneoxy) benzene,
1,2,3,4-tetramercaptobenzene, 1,2,3,5-tetramercaptobenzene, 1,2,4,5-tetramercaptobenzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptomethyl) benzene 1,2,3,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 2,3,5-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,3,5-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) Benzene, 2,2′-dimercaptobiphenyl, 4,4′-thiobis-benzenethiol, 4,4′-dimercaptobiphenyl, 4,4′-dimercaptobibenzyl, 2,5-toluenedithiol, 3,4 -Toluenedithiol, 1,4-naphthalenedithiol, 1,5-naphthalenedithiol, 2,6-naphthalenedithiol, 2,7-naphthalenedithiol, 2,4-dimethylbenzene-1,3-dithiol, 4,5-dimethyl Benzene-1,3-dithiol, 9,10-anthracene dimethanethiol,
2-bis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2-bis (2-mercapto) Ethylthiomethyl) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethylthiomethyl) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethylthiomethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethylthio) Benzene, 1,2,4-tris (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,3,5-tris (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethylthio) Benzene, 1,2,3,5-tetrakis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethylthio) Benzene, bis (2-mercaptoethyl) sulfide, bis (2-mercaptoethylthio) methane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) ethane, 1,3-bis (2-mercaptoethylthio) propane, 1 , 2,3-tris (2-mercaptoethylthio) propane, tetrakis (2-mercaptoethylthiomethyl) methane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) propanethiol, 2,5-dimercapto-1,4 -Dithiane, bis (2-mercaptoethyl) disulfide, 3,4-thiophenedithiol, 1,2-bis (2-mercaptoethyl) thio-3-mercaptopropane, bis- (2-mercaptoethylthio-3-mercaptopropane) ) Sulfide and the like.

光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートとは構造中に前述の光重合性基とイソシアネート基の両方を有する(メタ)アクリレートであればよく、特に制限されるものではないが、具体的には、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシメチルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシプロピルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシブチルイソシアネート、3−イソプロペニルーα、α―ジメチルベンジルイソシアネート、2−メチルアクリロイルイソシアネートが挙げられ、特に入手のし易さから2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートが好適に用いられる。   The photopolymerizable monoisocyanate (meth) acrylate is not particularly limited as long as it is a (meth) acrylate having both the above-described photopolymerizable group and isocyanate group in the structure. Specifically, Examples include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxymethyl isocyanate, 2-methacryloyloxypropyl isocyanate, 2-methacryloyloxybutyl isocyanate, 3-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, 2-methylacryloyl isocyanate. 2-Methacryloyloxyethyl isocyanate is preferably used because of its ease of treatment.

一般式(7)の(メタ)アクリレートを合成する際用いられる光重合性基を有さないイソシアネートとしては、特に制限されるものではないが、具体的には、モノイソシアネートとしてはエチルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、フェニルイソシアネート、トリルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、プロピルイソシアネート、ヘキシルイソシアネート、オクチルイソシアネート及びメトキシプロピルイソシアネートなどを挙げることができ、ジイソシアネートとしては、プロパンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ノルボルナンジソシアネート、メチルノルボルナンジソシアネートなどが挙げられる。   The isocyanate having no photopolymerizable group used for synthesizing the (meth) acrylate of the general formula (7) is not particularly limited, but specifically, the monoisocyanate includes ethyl isocyanate and cyclohexyl. Examples include isocyanate, phenyl isocyanate, tolyl isocyanate, benzyl isocyanate, propyl isocyanate, hexyl isocyanate, octyl isocyanate and methoxypropyl isocyanate. Examples of the diisocyanate include propane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (cyclohexyl isocyanate), Trimethylhexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmeta Diisocyanate, xylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, norbornane Socia sulfonates, and the like methyl norbornane Socia sulfonates.

上記のチオウレタン化反応に用いる触媒としては、特に制限はないが、好ましくはジブチル錫ジラウリレート、ジブチル錫アセテート、ジブチル錫ジクロライド、オクチル酸錫などの有機錫(メタ)アクリレート、オクチル酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛などの有機亜鉛(メタ)アクリレート、トリエチレンジアミン、トリエチルアミンなどの第三アミン類、1、8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセンー7などのアミジン骨格を有する(メタ)アクリレートが用いられ、チオールまたはイソシアネート100重量部に対し、0.0001〜10重量部の範囲で加える。   The catalyst used for the above thiourethanation reaction is not particularly limited, but is preferably organic tin (meth) acrylate such as dibutyltin dilaurate, dibutyltin acetate, dibutyltin dichloride, tin octylate, zinc octylate, naphthenic acid. Organic zinc (meth) acrylates such as zinc, tertiary amines such as triethylenediamine and triethylamine, (meth) acrylates having an amidine skeleton such as 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7 are used, and thiol Or it adds in 0.0001-10 weight part with respect to 100 weight part of isocyanate.

上記反応は通常−50℃〜100℃の温度範囲が適用される。-50℃以下では反応の進行は極めて遅く、100℃以上では副生成物が増加し収率が低下するだけでなく、着色の程度が増大し好ましくない。必要に応じて溶剤により希釈して行う。用いられる溶剤はアルコール、カルボン酸、アミン類などイソシアネートと反応するものを除いて使用することができるが、反応速度、溶解性の点から、N,N―ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N―ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N―メチル−2−ピロリドン(NMP)などの極性溶媒、クロロホルムなどの塩素系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒が好ましく用いられる。また、残留水とイソシアネートとの反応を防止するため脱水溶剤が好適に用いられる。   In the above reaction, a temperature range of −50 ° C. to 100 ° C. is usually applied. Below -50 ° C, the progress of the reaction is extremely slow. Above 100 ° C, by-products increase and the yield decreases, and the degree of coloring increases, which is not preferable. Dilute with a solvent if necessary. Solvents used can be used except alcohols, carboxylic acids, amines and the like that react with isocyanates. From the viewpoint of reaction rate and solubility, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N— Polar solvents such as dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), chlorinated solvents such as chloroform, and aromatic solvents such as toluene and xylene are preferably used. A dehydrated solvent is preferably used to prevent the reaction between residual water and isocyanate.

またチオールと光重合性イソシアネートとの反応においては、チオールと光重合性基の間での好ましくない副反応(いわゆるエンーチオール反応)を防止するため、重合禁止剤を添加することが好ましい。用いる重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ベンゾキノンなどのキノン類、p−メトキシフェノールなどのフェノール類、N―ニトロソフェニルヒドロキシルアミン塩類などが用いられる。   In the reaction between thiol and photopolymerizable isocyanate, it is preferable to add a polymerization inhibitor in order to prevent an undesirable side reaction (so-called ene-thiol reaction) between the thiol and the photopolymerizable group. As the polymerization inhibitor to be used, quinones such as hydroquinone and benzoquinone, phenols such as p-methoxyphenol, N-nitrosophenylhydroxylamine salts and the like are used.

以下、実施例に基づき本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example, this invention is not limited to an Example.

攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水されたN,N―ジメチルホルムアミド(DMF)を50.0g、2−メルカプトエチルスルフィド(東京化成工業製)10.0g(0.075mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製:製品名カレンズMOI)20g(0.13mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。この反応液を多量の水中に投入し、生成物を析出させた後クロロホルムに再度溶解させ、水洗し、油層を無水硫酸ナトリウムで脱水し溶剤を減圧法により留去することにより透明な粘調物を回収した。(回収率:98.3%)
この生成物のIR分析、NMR分析を行い(メタ)アクリレート化合物(11)が得られていることを確認した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、2H、−N−)、5.00〜7.00(m、4H、C=C cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH )、3.00〜4.00(m、4H、NH―C CH、またはm、8H、SC S)、1.9〜2.0(m、6H、CC =CH
Using a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel, 50.0 g of dehydrated N, N-dimethylformamide (DMF) as a solvent, 2-mercaptoethyl sulfide ( After charging 10.0 g (0.075 mol) of Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., 20 g (0.13 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (manufactured by Showa Denko KK: product name Karenz MOI) was used as a catalyst. 04 g, a pre-prepared N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.004 g as a polymerization inhibitor was added dropwise over 30 minutes from the dropping funnel. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C. and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken. This reaction solution is poured into a large amount of water to precipitate the product, then dissolved again in chloroform, washed with water, the oil layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent is distilled off by a vacuum method to obtain a transparent viscous product. Was recovered. (Recovery rate: 98.3%)
This product was subjected to IR analysis and NMR analysis, and it was confirmed that the (meth) acrylate compound (11) was obtained.
IR: 1680 cm-1: thiourethane group, 3300-3400 cm-1: -NH-
1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 solvent, TMS standard) σ (ppm)
8.00 (s, 2H, —N H —), 5.00 to 7.00 (m, 4H, C═C H 2 cis / trans), 4.00 to 4.50 (t, 4H, NH— CH 2 C H 2), 3.00~4.00 (m, 4H, NH-C H 2 CH 2 or m, 8H,, SC H 2 C H 2 S), 1.9~2.0 (m , 6H, CC H 3 = CH 2 )

Figure 0004063746
(11)
Figure 0004063746
(11)

攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)チオ−3−メルカプトプロパン10.0g(0.038mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート17.6g(0.114mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。
その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(12))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、3H、−N−)、5.00〜7.00(m、6H、C=C cis/trans)、4.00〜4.50(t、6H、NH―CH )、2.50〜4.00(m、6H、NH―C CH、またはm、8H、SC S、またはm、5H、
SC (S)C S)、1.9〜2.0(m、9H、C(C )=CH
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel was used, and 50.0 g of dehydrated DMF as a solvent, 1,2-bis (2-mercaptoethyl) thio-3-mercapto After charging 10.0 g (0.038 mol) of propane, 17.6 g (0.114 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was used as a catalyst, 0.04 g of dibutyltin dilaurate, and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum as a polymerization inhibitor. What was previously prepared in 0.004 g of salt was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken.
Thereafter, the product (compound (12)) was recovered by the same method as in Example 1.
IR: 1680 cm-1: thiourethane group, 3300-3400 cm-1: -NH-
1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 solvent, TMS standard) σ (ppm)
8.00 (s, 3H, -N H -), 5.00~7.00 (m, 6H, C = C H 2 cis / trans), 4.00~4.50 (t, 6H, NH- CH 2 C H 2), 2.50~4.00 (m, 6H, NH-C H 2 CH 2 or m, 8H,, SC H 2 C H 2 S or m, 5H,,
SC H 2 C H (S) C H 2 S), 1.9~2.0 (m, 9H, C (C H 3) = CH 2)

Figure 0004063746
(12)
Figure 0004063746
(12)

攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、1,4−ジメルカプトベンゼン(Lancaster社製)10.0g(0.070mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート21.8g(0.14mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(13))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、2H、−N−)、6.8〜7.2(m、4H、C )、5.00〜7.00(m、4H、C=C cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH )、3.00〜4.00(m、4H、NH―C CH)、1.9〜2.0(m、6H、C(C )=CH
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, and a dropping funnel was used, 50.0 g of dehydrated DMF as a solvent, 10.0 g of 1,4-dimercaptobenzene (manufactured by Lancaster) ( 0.070 mol), 21.8 g (0.14 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate as a catalyst, 0.04 g of dibutyltin dilaurate, and 0.004 g of N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt as a polymerization inhibitor What was prepared in advance was dropped over 30 minutes from the dropping funnel. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken. Thereafter, the product (compound (13)) was recovered by the same method as in Example 1.
IR: 1680 cm-1: thiourethane group, 3300-3400 cm-1: -NH-
1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 solvent, TMS standard) σ (ppm)
8.00 (s, 2H, —N H —), 6.8 to 7.2 (m, 4H, C 6 H 4 ), 5.00 to 7.00 (m, 4H, C═C H 2 cis) /trans),4.00~4.50(t,4H,NH-CH 2 C H 2), 3.00~4.00 (m, 4H, NH-C H 2 CH 2), 1.9~ 2.0 (m, 6H, C (C H 3 ) = CH 2 )

Figure 0004063746
(13)
Figure 0004063746
(13)

攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、1,2−エタンジチオール5.0g(0.053mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート16.4g(0.106mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(14))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、2H、−N−)、5.00〜7.00(m、4H、C=C cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH )、3.00〜4.00(m、4H、NH―C CH、またはm、4H、SC S)、1.9〜2.0(m、6H、C(C )=CH
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel was used, and 50.0 g of dehydrated DMF and 5.0 g (0.053 mol) of 1,2-ethanedithiol were charged as solvents. Thereafter, 16.4 g (0.106 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added dropwise with 0.04 g of dibutyltin dilaurate as a catalyst and 0.004 g of N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt as a polymerization inhibitor. It was dripped over 30 minutes from the funnel. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken. Thereafter, the product (compound (14)) was recovered by the same method as in Example 1.
IR: 1680 cm-1: thiourethane group, 3300-3400 cm-1: -NH-
1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 solvent, TMS standard) σ (ppm)
8.00 (s, 2H, —N H —), 5.00 to 7.00 (m, 4H, C═C H 2 cis / trans), 4.00 to 4.50 (t, 4H, NH— CH 2 C H 2), 3.00~4.00 (m, 4H, NH-C H 2 CH 2 or m, 4H,, SC H 2 C H 2 S), 1.9~2.0 (m , 6H, C (C H 3 ) ═CH 2 )

Figure 0004063746
(14)
Figure 0004063746
(14)

攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、ビス−(2−メルカプトエチルチオ−3−メルカプトプロパン)スルフィド10.0g(0.027mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート16.9g(0.108mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(15))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、4H、−N−)、5.00〜7.00(m、8H、C=C cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH )、2.50〜4.00(m、8H、NH―C CH、またはm、8H、SC S、またはm、10H、SC S)、1.9〜2.0(m、12H、CC =CH
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel was used, 50.0 g of dehydrated DMF as a solvent, bis- (2-mercaptoethylthio-3-mercaptopropane) sulfide 10 After charging 0.0 g (0.027 mol), 16.9 g (0.108 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was used as a catalyst, 0.04 g of dibutyltin dilaurate, and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0 as a polymerization inhibitor. What was previously charged to 0.004 g was dropped over 30 minutes from the dropping funnel. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken. Thereafter, the product (compound (15)) was recovered by the same method as in Example 1.
IR: 1680 cm-1: thiourethane group, 3300-3400 cm-1: -NH-
1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 solvent, TMS standard) σ (ppm)
8.00 (s, 4H, —N H —), 5.00 to 7.00 (m, 8H, C═C H 2 cis / trans), 4.00 to 4.50 (t, 4H, NH— CH 2 C H 2), 2.50~4.00 (m, 8H, NH-C H 2 CH 2 or m, 8H,, SC H 2 C H 2 S or m,, 10H, SC H 2 C H C H 2 S), 1.9 to 2.0 (m, 12H, CC H 3 = CH 2 )

Figure 0004063746
(15)
Figure 0004063746
(15)

攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、2−メルカプトエチルスルフィド10.0g(0.075mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート10g(0.075mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。3時間後、赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因する吸収認められないことを確認し、一方が光重合性基、もう一方がSH基の化合物(16)を合成した。 A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel was used, and 50.0 g of dehydrated DMF and 10.0 g (0.075 mol) of 2-mercaptoethyl sulfide were charged as solvents. Thereafter, 10 g (0.075 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was prepared by adding 0.04 g of dibutyltin dilaurate as a catalyst and 0.004 g of N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt as a polymerization inhibitor from a dropping funnel. It was added dropwise over a period of minutes. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. Three hours later, infrared absorption spectrum (IR) analysis was performed, and it was confirmed that no absorption due to an isocyanate group in the vicinity of 2260 cm −1 was observed. One was a photopolymerizable group and the other was a compound having an SH group (16 ) Was synthesized.

Figure 0004063746
(16)
つづいて、この反応液にイソホロンジイソシアネート(東京化成工業製)7.2g(0.0324)を30分かけて滴下し、40℃のまま反応を行った。10時間後さらに60℃まで昇温しイソシアネート基とSH基に起因する吸収を確認しながら反応を継続した。それぞれの吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(17))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、4H、−N−)、5.00〜7.00(m、4H、C=C cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH )、2.50〜4.00(m、4H、NH―C CH、またはm、16H、SC S、またはm、2H、NHC −シクロ環、またはm、1H、NH−C)、1.9〜2.0(w、6H、CC =CH、またはs、6H、シクロ環− 、またはm、9H、シクロ環−C
Figure 0004063746
(16)
Subsequently, 7.2 g (0.0324) of isophorone diisocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise to the reaction solution over 30 minutes, and the reaction was performed at 40 ° C. After 10 hours, the temperature was further raised to 60 ° C., and the reaction was continued while confirming absorption due to isocyanate groups and SH groups. The end point of the reaction was defined as the time point at which each absorption was not completely observed. Thereafter, the product (compound (17)) was recovered by the same method as in Example 1.
IR: 1680 cm-1: thiourethane group, 3300-3400 cm-1: -NH-
1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 solvent, TMS standard) σ (ppm)
8.00 (s, 4H, —N H —), 5.00 to 7.00 (m, 4H, C═C H 2 cis / trans), 4.00 to 4.50 (t, 4H, NH— CH 2 C H 2), 2.50~4.00 (m, 4H, NHC H 2 CH 2 or m,, 16H, SC H 2 C H 2 S or m, 2H,, NHC H 2 - cyclo Ring, or m, 1H, NH—C H ), 1.9-2.0 (w, 6H, CC H 3 ═CH 2 , or s, 6H, cyclo- H 2 , or m, 9H, cyclo-ring -C H 3)

Figure 0004063746
(17)
Figure 0004063746
(17)

まず、実施例6と同様にして化合物(16)を合成した。
つづいて、この反応液にノルボルナンジソシアネート(NBDI 三井化学社製 2,5−NBDIと2,6−NBDIの混合物)6.7g(0.0324)を30分かけて滴下し、40℃のまま反応を行った。10時間後さらに60℃まで昇温しイソシアネート基とSH基に起因する吸収を確認しながら反応を継続した。それぞれの吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(18))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、4H、−N−)、5.00〜7.00(m、4H、C=C cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH )、2.50〜4.00(m、4H、NH―C CH、またはm、16H、SC S、またはm、4H、NHC −ノルボルナン)、1.9〜2.5(w、6H、CC =CH、またはs、4H、ノルボルナン−、またはm、6H、ノルボルナン―
First, compound (16) was synthesized in the same manner as in Example 6.
Then, 6.7 g (0.0324) of norbornane disociate (a mixture of 2,5-NBDI and 2,6-NBDI manufactured by NBDI Mitsui Chemicals) was dropped into this reaction solution over 30 minutes, and the temperature was kept at 40 ° C. Reaction was performed. After 10 hours, the temperature was further raised to 60 ° C., and the reaction was continued while confirming absorption due to isocyanate groups and SH groups. The end point of the reaction was defined as the time point at which each absorption was not completely observed. Thereafter, the product (compound (18)) was recovered by the same method as in Example 1.
IR: 1680 cm-1: thiourethane group, 3300-3400 cm-1: -NH-
1 H-nuclear magnetic resonance spectrum (CDCl 3 solvent, TMS standard) σ (ppm)
8.00 (s, 4H, —N H —), 5.00 to 7.00 (m, 4H, C═C H 2 cis / trans), 4.00 to 4.50 (t, 4H, NH— CH 2 C H 2), 2.50~4.00 (m, 4H, NHC H 2 CH 2 or m,, 16H, SC H 2 C H 2 S or m, 4H,, NHC H 2 - norbornane ), 1.9~2.5 (w, 6H, CC H 3 = CH 2 or s, 4H, norbornane, - H, or m, 6H, norbornane, - H 2)

Figure 0004063746
(18)
Figure 0004063746
(18)

粒子径10〜20nmの二酸化ケイ素30%メタノール分散液(日産化学社製 製品名:オプトレイク)を濃縮法により溶媒置換し20%メチルセロソルブ分散液をを調製した。この分散液を8.0g(固形分1.6g)(分散液にして342重量部)、実施例1の化合物を1.17g(50重量部)、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー(共栄社化学 商品名UA―306I)を1.17(50重量部)gを混合後、DMF2.0g(85.5重量部)、メチルセロソルブ3.0g(128重量部)を加えた。さらに光開始剤として2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TMDPO)0.1g(4.3重量部)、 2−ヒドロキシ−2−メチル−1―フェニル−プロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品ダロキュアー1173)0.1g(4.3重量部)を加え、充分攪拌しコーティング用組成物を調製した。このコーティング組成物を、チオウレタン系レンズ用モノマー(三井化学社製 製品名:MR−7)を熱硬化させることにより得た2mm厚平板上に、スピンコート・紫外線硬化させ、2μmのコーティング層を得た。
000番スチールウールで表面を擦ったが、傷は見られなかった。また、JIS−K5400に沿って碁盤目密着テープ剥離(100目)を行ったが、剥離は見られなかった(100/100)。
A 20% methyl cellosolve dispersion was prepared by solvent substitution of a 30% silicon dioxide methanol dispersion (product name: Optolake, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) having a particle size of 10 to 20 nm by a concentration method. 8.0 g of this dispersion (solid content: 1.6 g) (342 parts by weight as a dispersion), 1.17 g (50 parts by weight) of the compound of Example 1, pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer (Kyoeisha) 1. After mixing 1.17 (50 parts by weight) of chemical trade name UA-306I), 2.0 g (85.5 parts by weight) of DMF and 3.0 g (128 parts by weight) of methyl cellosolve were added. Further, 0.14 g (4.3 parts by weight) of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TMDPO) as a photoinitiator, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. Product Darocur 1173) 0.1 g (4.3 parts by weight) was added, and the mixture was sufficiently stirred to prepare a coating composition. This coating composition was spin coated and UV cured on a 2 mm thick plate obtained by thermally curing a monomer for thiourethane lenses (product name: MR-7, manufactured by Mitsui Chemicals) to form a 2 μm coating layer. Obtained.
The surface was rubbed with No. 000 steel wool, but no scratches were seen. Moreover, although cross-cut adhesion tape peeling (100 eyes) was performed along JIS-K5400, peeling was not seen (100/100).

実施例8において、実施例1の化合物を実施例6のメタクリレートに変更する以外同様の方法でコーティング用組成物を調整した。このコーティング組成物を、エピチオスルフィド系レンズ用モノマー(三井化学社製 製品名:MR−174)を熱硬化させることにより得た5mm厚平板上に、スピンコート・紫外線硬化させ、2μmのコーティング層を得た。
000番スチールウールで表面を擦ったが、傷は見られなかった。また、JIS−K5400に沿って碁盤目密着テープ剥離(100目)を行ったが、剥離は見られなかった(100/100)。
In Example 8, a coating composition was prepared in the same manner except that the compound of Example 1 was changed to the methacrylate of Example 6. This coating composition was spin-coated and UV-cured on a 5 mm thick plate obtained by thermally curing an epithiosulfide lens monomer (product name: MR-174 manufactured by Mitsui Chemicals), and a coating layer of 2 μm. Got.
The surface was rubbed with No. 000 steel wool, but no scratches were seen. Moreover, although cross-cut adhesion tape peeling (100 eyes) was performed along JIS-K5400, peeling was not seen (100/100).

[比較例1]
実施例8において、実施例1の化合物をペンタエリスリトールトリアクリレートに変更する以外同様の方法でコーティング用組成物を調整した。このコーティング組成物を、チオウレタン系レンズ用モノマー(三井化学社製 製品名:MR−7)を熱硬化させることにより得た5mm厚平板上に、スピンコート・紫外線硬化させ、2μmのコーティング層を得た。
000番スチールウールで表面を擦ったが、傷は見られなかった。一方、JIS−K5400に沿って碁盤目密着テープ剥離(100目)を行ったところコート層が完全に剥離していた(0/100)。
[Comparative Example 1]
In Example 8, a coating composition was prepared in the same manner except that the compound of Example 1 was changed to pentaerythritol triacrylate. This coating composition was spin-coated and UV-cured on a 5 mm thick plate obtained by thermally curing a monomer for thiourethane lenses (product name: MR-7, manufactured by Mitsui Chemicals) to form a 2 μm coating layer. Obtained.
The surface was rubbed with No. 000 steel wool, but no scratches were seen. On the other hand, when cross-cut adhesion tape peeling (100 eyes) was performed according to JIS-K5400, the coat layer was completely peeled off (0/100).

本願発明の新規(メタ)アクリレートは、コーティング剤や光学材料分野、より具体的には、高屈折率眼鏡レンズのハードコート、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ELディスプレイなどの反射防止用途、高密度記録光媒体の読み取り、書込み用高屈折率膜、光学フィルター等の光学部材、さらにプラスチック材料、金属材料、セラミックス材料、ガラス材料等の意匠性の向上を目的とした表面コーティング剤などの用途に有用である。特にハードコート剤として、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂表面に対しても、密着性、硬度において優れるため、メガネレンズ、カメラ用のレンズ、光記録・再生用機器のピックアップレンズ等のハードコート剤などに広く応用することができる。   The novel (meth) acrylates of the present invention are used in the field of coating agents and optical materials, more specifically, high-refractive-index spectacle lens hard coats, plasma displays, liquid crystal displays, EL displays and other antireflection applications, and high-density recording light. Useful for applications such as surface coating agents for the purpose of improving the design of optical materials such as high refractive index films for reading and writing media, optical filters, and plastic materials, metal materials, ceramic materials, and glass materials. . Especially as a hard coating agent, it has excellent adhesion and hardness even on resin surfaces with thiourethane bonds and epithiosulfide bonds. It can be widely applied to hard coating agents.

Claims (6)

一般式(1)で表される新規(メタ)アクリレート。
Figure 0004063746
(1)
[式中、連結基Rは、下記(3)、(5)、(6)のいずれかを表し、XはC(=O)O(CH基を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。]
Figure 0004063746

(3)
Figure 0004063746

(5)
Figure 0004063746

(6)
(上記(3)、(5)、(6)の式中、X、Xは酸素原子または硫黄原子を表し、Xは水素原子、メチル基またはエチル基を表し、nは1〜2の整数、 およびn それぞれ0 または1の整数を表し、 およびn は1の整数を表す)
A novel (meth) acrylate represented by the general formula (1).
Figure 0004063746
(1)
[Wherein, the linking group R 1 represents one of the following (3), (5), (6), X 1 represents a C (═O) O (CH 2 ) 2 group, and X 2 represents Independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 to 4. ]
Figure 0004063746

(3)
Figure 0004063746

(5)
Figure 0004063746

(6)
(In the formulas (3), (5) and (6) above, X 4 and X 5 represent an oxygen atom or a sulfur atom, X 6 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and n 3 represents 1 to 2 integer, n 4 and n 7 are each an integer of 0 or 1, n 8 and n 9 represents an integer of 1)
チオールと光重合性モノイソシアネートとのチオウレタン化反応により得られる請求項1記載の新規(メタ)アクリレート。   The novel (meth) acrylate according to claim 1, which is obtained by thiourethanation reaction between thiol and photopolymerizable monoisocyanate. 一般式(7)で表される新規(メタ)アクリレート。
Figure 0004063746

(7)
[式中、連結基Rは−(CH−S−(CH−を表し、Rは脂環族残基を表し、XはC(=O)O(CH基を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n12は1〜3の整数を表す。]
A novel (meth) acrylate represented by the general formula (7).
Figure 0004063746

(7)
[Wherein, the linking group R 2 represents — (CH 2 ) 2 —S— (CH 2 ) 2 —, R 3 represents an alicyclic residue, and X 6 represents C (═O) O (CH 2 ) 2 groups, X 7 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 12 represents an integer of 1 to 3. ]
分子内に2個以上のメルカプト基を有するポリチオール、光重合性モノイソシアネート、光重合性基を有さないイソシアネートのチオウレタン化反応から得られる請求項3記載の新規(メタ)アクリレート。   The novel (meth) acrylate of Claim 3 obtained from the thiourethanation reaction of the polythiol which has two or more mercapto groups in a molecule | numerator, the photopolymerizable monoisocyanate, and the isocyanate which does not have a photopolymerizable group. ポリチオールの少なくとも一方のメルカプト基を残すよう光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートとのモル比を調整し反応させた後、残りの未反応メルカプト基と光重合性基を有さないイソシアネートを反応させることを特徴とする請求項3に記載の新規(メタ)アクリレートの製造方法。   After reacting by adjusting the molar ratio of the photopolymerizable monoisocyanate (meth) acrylate so as to leave at least one mercapto group of the polythiol, the remaining unreacted mercapto group and the isocyanate having no photopolymerizable group are reacted. The manufacturing method of the novel (meth) acrylate of Claim 3 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜4のいずれかに記載の新規(メタ)アクリレートを含有することを特徴とするハードコート剤。   A hard coat agent comprising the novel (meth) acrylate according to claim 1.
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