JP4033741B2 - Correction method of transfer protective film - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は転写保護膜の修正方法に関するものであり、特に超微小な保護膜の塗膜欠陥や同じく超微小な粉塵等の異物の混入を嫌う光学的記録媒体や、写真製版用の原稿、及びプリント配線基板用の原稿であるフォトマスク等に用いられる転写保護膜の修正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、CD−R、CD−RW、DVD等の光学的記録媒体の表面を保護する方法としては、光学的記録媒体(以下、単に「記録媒体」という場合もある)の記録層上に、紫外線硬化型コート剤をスピンコート法により塗布し紫外線を照射することにより保護膜を形成するといった手段が講じられている。しかし、このような方法で形成された保護膜は、厚みムラや表面の不均一性等により歩留が悪く、コスト高になるという問題がある。このような問題を解決するため、例えば、剥離可能な支持体上に保護層、接着層を順次積層してなる光学的記録媒体用の保護膜転写シートを用いて、記録媒体の記録層上に保護膜を転写させる方法があげられる(特開平8−180461号公報)。このような方法に採用される保護膜転写シートの保護膜は、支持体の形状が転写されるため表面の不均一性等の問題は生じず、また厚みの制御された保護膜を転写するため厚みムラが生じることはない。また、仮に保護膜転写シートの製造時に、厚みムラの生じた保護膜となってしまった場合にも、記録媒体に転写しなければ記録媒体自体を不良品とすることがないため、従来のスピンコート法によるものよりも著しく歩留を向上することができた。
【0003】
しかし、このような保護膜転写シートを製造する際、及び保護膜を転写する際には、異物が混入しないようにクリーンな環境下で行われているが、微小な異物の混入を完全に防止することはできない。このため異物の混入された保護膜が転写された記録媒体は、光学的記録再生装置によって、正しく記録、再生、消去等が行われず、記録媒体自体が不良品となってしまう場合がある。
【0004】
一方、従来、フォトマスクを保護する方法としては、ポリエチレンテレフタレート等の薄いプラスチックフィルム上に接着層を積層した保護フィルムの接着層を介してフォトマスクに貼合するという手段が講じられている。ところが最近、写真製版用の原稿やプリント配線基板に用いられるフォトマスクは、作成するパターンが複雑化し、高い解像力が要求されるようになってきているため、保護フィルムの厚みはさらに薄いものが要求されている。しかしながら、前記のような構造を有する保護フィルムでは、プラスチックフィルムをさらに薄くすると、フォトマスクに積層する際の作業性が悪くなり、シワ、気泡等が発生しやすくなるという問題が生じる。このような問題を解決するため、光学的記録媒体用の保護膜転写シートと同様に、例えば、剥離可能な支持体上に保護層、接着層を順次積層してなるフォトマスク用の保護膜転写シートを用いて、フォトマスクの画像層上に保護膜を転写させる方法があげられる(特開2001−337443号公報)。このような方法に採用される保護膜転写シートの保護膜は、保護膜自体は極めて薄いコシのない被膜であるが、フォトマスクに転写されるまでは支持体によって保持されているため、作業性が悪くなったり、シワ、気泡等が発生しやすくなるといったことがない。
【0005】
しかし、このようなフォトマスク用の保護膜転写シートは、上記光学的記録媒体用の保護膜転写シートと同様に、微小な異物の混入を完全に防止することはできないため、該異物が露光障害の原因となり、フォトマスク自体が不良品になってしまうという問題がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ここで保護膜転写シートによる異物の混入により、不良品となってしまった光学的記録媒体やフォトマスク等の被着体から、転写した保護膜を剥がして再度新しい保護膜を転写すれば良いと考えられるが、転写保護膜は保護膜自体が厚みの薄い被膜であるため、転写後の保護膜を被着体から剥がすことは困難であり、被着体の全面を貼り直すことは不可能である。
【0007】
そこで本発明は、保護膜転写シートを用いて保護膜を転写することにより表面の保護をする被着体において、保護膜を転写した後に、転写した保護膜と被着体との間、または保護膜中に異物が確認された場合に、被着体自体が不良品にならないようにするための転写保護膜の修正方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の転写保護膜の修正方法は、剥離可能な支持体上に保護膜を設けてなる保護膜転写シートを用いて被着体に保護膜を転写した後に、転写した保護膜と被着体との間、または保護膜中に異物が確認された場合において、異物の確認ができる保護膜部分に剥離剤を滴下して当該保護膜部分を膨潤させ、次いで膨潤した保護膜部分を異物と共に取り除いた後、保護膜の欠損部分に保護膜補修液を滴下して補修膜を形成することを特徴とするものである。
【0009】
また、本発明の転写保護膜の修正方法は、上記転写保護膜の修正方法において、好ましくは前記保護膜補修液は電離放射線硬化型樹脂を含み、保護膜補修液を滴下した部分にオーバーレイ部材を乗せて、電離放射線を照射して硬化させることにより補修膜を形成することを特徴とするものである。
【0010】
さらに好ましくは、上記転写保護膜の修正方法において、オーバーレイ部材を乗せた後、保護膜補修液が保護膜の欠損部分からはみ出ている部分をマスクして、電離放射線を照射して硬化させることにより補修膜を形成し、次いでマスクによって硬化しなかった保護膜補修液を取り除くことを特徴とするものである。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明の転写保護膜修正方法について、図1〜図9を用いて説明する。
【0012】
本発明の転写保護膜修正方法は、剥離可能な支持体上に保護膜を設けてなる保護膜転写シートを用いて被着体1に保護膜2を転写した後に、転写した保護膜2と被着体1との間(図1)、または保護膜2中(図2)に異物3が確認された場合において、異物3の確認ができる保護膜部分21に剥離剤4を滴下して(図3、図4)当該保護膜部分21を膨潤させ(図5、図6)、次いで膨潤した保護膜部分21を異物3と共に取り除いた後(図7)、保護膜の欠損部分22に保護膜補修液5を滴下する(図8)ことで補修膜51を形成する(図9)ものである。
【0013】
ここで本発明で用いられる保護膜転写シートとは、剥離可能な支持体上に保護膜を設けてなるものである。このような保護膜は、少なくとも支持体に接する保護層からなるものであり、必要に応じて当該保護層に接着層等を積層したものであることが好ましい。
【0014】
ここで保護層は、保護膜が被着体に転写した後最表面となり、保護膜の耐擦傷性及び耐溶剤性等の性能を向上させるため、少なくとも熱硬化性樹脂や電離放射線硬化型樹脂を含むものから形成されてなるものであることが好ましい。
【0015】
また、必要に応じて設けられる接着層とは、被着体への貼着を容易にならしめるための層で、保護層一層のみでは被着体への密着性と保護膜としての耐擦傷性、耐溶剤性を両立することが困難である場合等に設けるものである。このような接着層は、耐擦傷性、耐溶剤性等の性能をより向上させるために、接着層自体の硬度を高くすることが好ましく、接着層は、少なくとも熱硬化性樹脂や電離放射線硬化型樹脂を含むものからなるものであることが好ましい。
【0016】
次に支持体とは、上記保護膜を積層する際に基材となるものであり、厚みの薄い保護膜を作業性良く被着体に転写させる機能を担うものである。このような支持体は、必要に応じて保護膜の剥離性を向上させるために、支持体の表面に離型層等を設ける等の離型処理を施したものを用いることが好ましい。
【0017】
次に被着体とは、保護膜転写シートを用いて保護膜が転写されることにより表面が保護されるものをいう。したがって、被着体は保護膜転写シートの保護膜が転写できるものであれば特に限定されるものではないが、本発明においては、例えば光学的記録媒体やフォトマスクのように、微小な異物の混入により不都合を生じるものに有効である。特に、被着体がフォトマスクであった場合は、微小な異物により、該異物が露光障害の原因となるため、本発明においてはこのようなものを被着体とした場合に最も効果を奏するものである。
【0018】
ここでフォトマスクとは、基材の一方の面が画像層となっているものであり、例えば当該画像層は露光用パターンが形成された乳剤からなるものである。このような基材としては、紫外線透過率が良好なものが使用され、例えばガラスやプラスチックフィルムが好適に使用される。
【0019】
このような保護膜転写シートを用いて被着体に保護膜を転写する方法としては、例えば、まず、保護膜転写シートの保護膜を被着体に貼着する。その後、必要に応じて加熱及び/又は電離放射線照射を行い、保護膜を硬化させて耐擦傷性、耐溶剤性を付与し、被着体に対する密着性を向上させた後、支持体を剥離することという方法があげられる。
【0020】
次に、このようにして保護膜転写シートを用いて被着体1に保護膜2を転写した後に、転写した保護膜2と被着体1との間(図1)、または保護膜2中(図2)に異物3が確認された場合において、異物3の確認ができる保護膜部分21を異物3と共に取り除き、保護膜の欠損部分22に補修膜51を形成する転写保護膜の修正方法について説明する。
【0021】
まず、異物3の確認ができる保護膜部分21を異物3と共に取り除くため、剥離剤4を滴下して(図3、図4)当該保護膜部分21を膨潤させる(図5、図6)。
【0022】
ここで剥離剤は、剥離成分として塩化メチレン、トルエン、クロロトルエン、アセトン、エチレングリコールアルキルエーテル、N−メチルピロリドン、プロピレングリコールメチルエーテル、エチル−3−エトキシプロピネート等、希釈溶剤としてミネラルスピリット、メタノール、ブタノール、アルカリアリル化合物等、これら揮発性分の抑制のためパラフィン、アミン、エチルアミン、水酸化ナトリウム等、粘性剤としてメチルセルロース等のポリマーを混入して用いられる。これを異物3の確認ができる保護膜部分21に滴下することにより当該保護膜部分21を膨潤させ、綿棒等で擦ることにより保護膜部分21と共に異物3を取り除くことができる。
【0023】
この時の異物3としては、転写した保護膜2と被着体1との間(図1)に確認される場合には、保護膜転写シートを被着体1に貼り合せる際に粉塵が混入したものであったり、また保護膜2中(図2)に確認される場合には、保護膜転写シートを製造する際に粉塵が混入したもの、または保護膜樹脂成分が固まってしまったものである。
【0024】
異物の大きさは、作業するクリーン環境によって異なっている。本発明において修正可能となる異物の大きさは、用途、及び被着体に要求される精度によって異なってくるので一概にいえないが、例えば被着体がフォトマスクであった場合は、長径で50μm以上、500μm以下の異物であれば、特段のコツを要することなく誰でも簡単に転写保護膜を修正することができる。長径が約50μm以上の異物とするのは、これ以下の大きさの異物であればフォトマスクを露光した際に露光障害の原因とならないため修正する必要がないためである。また、500μm以下とするのは後述する補修膜51を均一に形成しやすくするという観点からである。
【0025】
剥離剤4を滴下する手段としては、マイクロシリンジ針や毛細管等を用いて微小な液滴を作って滴下したり、縫い針や安全ピンのように先が細くとがった針(以下、単に「針」という場合もある)の先端や筆に付けた液滴を異物3の確認ができる保護膜部分21に接着させて滴下することにより行うことができる。このような保護膜部分21の面積は非常に小さい場合が多いため、例えばマイクロシリンジ針や毛細管等の内径は200μm以下であることが望ましい。
【0026】
上述のように、剥離剤4によって異物3と共に保護膜部分21を被着体1から取り除くと、保護膜2の一部分が失われてしまい、保護膜2に欠損部分22を生じることになる(図7)。以下、このように剥離剤4によって失われた保護膜の欠損部分22を、単に「保護膜の欠損部分」という。
【0027】
ここで、異物3の確認ができる保護膜部分21に、剥離剤4を用いずに粘着テープ等の粘着部材を貼り付け、当該粘着部材を引き剥がすことによって保護膜部分と共に異物を被着体から取り除くということも考えられるが、このような方法により異物を除去するためには、被着体上の異物により被着体と保護膜との間に空気の層が入っていなければならず、空気の層が入らないほどの超微小の異物は取り除くことができない。また、この方法によると保護膜中に予め混入した微小な異物は取り除くことができない。
【0028】
しかし、本発明によれば、剥離剤4によって異物3と共に保護膜を被着体1から取り除くため、空気の層が入らないほどの超微小の異物や、保護膜中に予め混入した微小な異物も取り除くことができる。
【0029】
次いで保護膜の欠損部分22に、保護膜補修液5を滴下する(図8)ことで補修膜51を形成する(図9)ことによって、保護膜2の修正を完了することができる。
【0030】
ここで用いられる保護膜補修液としては、少なくとも補修膜を形成しうる樹脂を含み、適宜希釈溶剤や添加剤を加えたものを用いることができる。
【0031】
保護膜補修液は、形成後の補修膜が被着体に接着できるものであることが要求される。ここで被着体に対する接着性を発現させる観点から、保護膜補修液には、補修膜を形成する樹脂として、熱可塑性ポリエステル樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂等の熱可塑性樹脂を含ませることが好ましい。
【0032】
また保護膜補修液は、形成される補修膜の性能として高い耐擦傷性及び耐溶剤性が得られるようなものであることが好ましい。即ち補修膜は、被着体に接着している保護膜部分と同等の性能を有することが好ましい。したがって、保護膜補修液には、少なくとも熱硬化性樹脂若しくは電離放射線硬化型樹脂を含ませることが好ましい。
【0033】
熱硬化性樹脂としては、シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アミノアルキッド系、ウレタン系、アクリル系、ポリエステル系、フェノール系等の架橋性樹脂であって熱によって架橋硬化するものを使用できる。特に被着体がフォトマスクであった場合には、良好な耐光性、及び紫外線透過性を有するアクリル系熱硬化性樹脂が好適に使用される。これらは単独でも使用可能であるが、架橋性、架橋硬化塗膜の硬度をより向上させるためには、硬化剤を加えることが望ましい。
【0034】
硬化剤としては、ポリイソシアネートやアミノ樹脂、エポキシ樹脂、カルボン酸等の化合物を適合する樹脂に合わせて適宜使用することができる。特に常温では全く反応せずにある温度以上に加熱すると架橋反応を起こすような一液型硬化反応となる硬化剤を用いることが望ましい。このような硬化剤としては、触媒や官能基をブロック化する手法が用いられたブロックイソシアネート等を用いることができる。
【0035】
ブロックイソシアネートとは、ポリイソシアネートのイソシアネート基末端前駆体の遊離のイソシアネート基を活性水素基含有化合物(ブロック剤)と反応させて、常温では不活性としたものであり、ブロック剤が解離する温度以上に加熱すると活性なイソシアネート基が再生されて架橋反応を起こすものである。このようなブロックイソシアネートは、イソシアネート成分を含むことから、特に、被着体がフォトマスクであった場合は、画像層を形成する乳剤との接着が良好となり、保護膜の耐久性を向上させる役割も果たすことができる。
【0036】
ポリイソシアネートは、イソシアネートモノマーを重合若しくは共重合させたものであり、特に制限されること無く使用することができる。イソシアネートモノマーとしては、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,3−若しくは1,4−ジイソシアネートシクロヘキサン、m−若しくはp−テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,12−ドデカメチレンジイソシアネート等があげられる。
【0037】
ブロック剤は特に制限されることなく使用することができ、例えば、フェノール系、アルコール系、活性メチレン系、メルカプタン系、酸アミド系、酸イミド系、ラクタム系、イミダゾール系、尿素系、オキシム系、アミン系、イミド系、ヒドラジン化合物等があげられる。具体的には、フェノール、クレゾール、2−ヒドロキシピリジン、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール、ベンジルアルコール、エタノール、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン、ブチルメルカプタン、アセトアニリド、酢酸アミド、コハク酸イミド、ε−カプロラクタム、イミダゾール、尿素、チオ尿素、アセトアルドオキシム、アセトンオキシム、シクロヘキサンオキシム、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール、エチレンイミン、ジメチルヒドラジン等があげられる。
【0038】
ブロック剤の解離温度は100℃以上であることが好ましい。100℃以上とすることにより、通常の保管環境下ではブロック剤が解離せず保護膜補修液の保存性を保持することができる。また被着体がプラスチックフィルムを基材とするフォトマスクのように耐熱性に劣るようなものである場合には、ブロック剤の解離温度は120℃以下であることが好ましい。ブロック剤の解離温度を120℃以下とすることにより、プラスチックフィルムの熱収縮による寸法変化によって、フォトマスク等の被着体の精密性が低下することを防止できる。
【0039】
このようなブロックイソシアネートを硬化剤として用いることにより、保護膜補修液にあらかじめ該硬化剤を添加しておくことができるため、補修膜の形成作業を煩雑化することはない。また、ブロック剤の解離温度を超える熱を加えなければ保護膜補修液は硬化しないため、経済的にも有利である。
【0040】
また電離放射線硬化型樹脂としては、少なくとも電離放射線(紫外線若しくは電子線)の照射によって架橋硬化するものを使用することが好ましい。このような電離放射線硬化型樹脂としては、光カチオン重合可能な光カチオン重合性樹脂や、光ラジカル重合可能な光重合性プレポリマー若しくは光重合性モノマー、等の1種又は2種以上を混合したものを使用することができる。
【0041】
ここで光カチオン重合性樹脂としては、ビスフェノール系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂やビニルエーテル系樹脂等を用いることができる。
【0042】
また光重合性プレポリマーとしては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレート類等を用いることができる。
【0043】
また光重合性モノマーとしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー類、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸ブトキシエチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸メトキシブチル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸エトキシメチル、(メタ)アクリル酸ラウリル等の(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、(メタ)アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、(メタ)アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)エチル、(メタ)アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和酸の置換アミノアルコールエステル類、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステル(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(アクリロキシジエトキシ)フェニル]プロパン、3−フェノキシ−2−プロパノイルアクリレート、1,6−ビス(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−ヘキシルエーテル等の多官能性化合物、およびトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等の分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物等を用いることができる。
【0044】
この他このような電離放射線硬化型樹脂を用いる場合には、保護膜補修液に種々の添加剤を添加しうるが、硬化の際に紫外線を用いる場合には、光重合開始剤、紫外線増感剤等を添加することが好ましい。この光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシロキシムエステル、チオキサンソン類等の光ラジカル重合開始剤や、オニウム塩類、スルホン酸エステル、有機金属錯体等の光カチオン重合開始剤が挙げられ、紫外線増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等があげられる。
【0045】
また、保護膜補修液には上述したように適宜希釈溶剤を加えることができるが、ここで加えられ得る希釈溶剤としては、上述した樹脂を溶解できるものであれば特に制限されることなく使用することができる。具体的には、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン等があげられる。好ましくは保護膜補修液のレベリング性を出すために蒸発速度の遅い溶剤を用いることが望ましい。このような希釈溶剤としてはプロピレングリコールモノメチルエーテル、キシレン、酢酸ブチル、シクロヘキサノン等が用いられる。
【0046】
なお、上述した性能を害さない範囲で、保護膜補修液中にはレベリング剤等の添加剤を添加しても良い。
【0047】
上述した各種の樹脂は単独でも用いることができるが、数種類を混合して使用することもできる。例えば、被着体がフォトマスクであった場合、熱可塑性樹脂と電離線硬化型樹脂を混合して用いることにより、フォトマスクへの接着性が良く、且つ耐擦傷性及び耐溶剤性等に、特に優れる補修膜を形成することができるようになる。
【0048】
次に、保護膜補修液を滴下する手段としては、上述の剥離剤4を滴下する手段と同様にマイクロシリンジ針や毛細管等を用いて微小な液滴を作って滴下したり、針の先端や筆に付けた液滴を保護膜の欠損部分に接着させて滴下することにより行うことができる。なお、補修膜の厚みは、液滴の液量により調節することが可能である。
【0049】
また保護膜の欠損部分に滴下した保護膜補修液から補修膜を形成させる手段としては、当該補修液が希釈溶剤を含むものである場合には当該希釈溶剤を揮発させることで、また当該補修液に熱硬化性樹脂が含まれている場合には当該熱硬化性樹脂に熱を加えて硬化させることで、また当該補修液に電離放射線硬化型樹脂が含まれている場合には、電離放射線を照射して硬化させることにより、保護膜補修液を被膜化して補修膜を形成することができる。
【0050】
このように保護膜補修液を被膜化して補修膜を形成する際には、保護膜の欠損部分に滴下した当該補修液が当該欠損部分からはみ出した際に、当該欠損部分からはみ出した保護膜補修液を取り除いた後に、熱硬化性樹脂、及び電離放射線硬化型樹脂等を硬化させることができる。
【0051】
このように当該欠損部分からはみ出した当該補修液を取り除くことによって、修正される保護膜に補修膜が重ねて形成されることがなくなり、光線透過率の悪化や散乱光の発生等を起こし難くすることができる。
【0052】
さらに、保護膜補修液が電離放射線硬化型樹脂を含むものであった場合には、保護膜補修液を滴下した保護膜部分の上にオーバーレイ部材を乗せて、電離放射線を照射して硬化させることにより補修膜を形成することが好ましい。このように保護膜補修液を滴下した部分にオーバーレイ部材を乗せることにより、平面性に優れた補修膜を形成することができる。
【0053】
オーバーレイ部材の大きさは、特に限定されるものではないが、保護膜の欠損部分に滴下した保護膜補修液がオーバーレイ部材を乗せた際に、当該オーバーレイ部材からはみ出してしまう事のない大きさとする必要がある。
【0054】
このようなオーバーレイ部材としては、前記電離放射線硬化型樹脂が紫外線硬化型樹脂であった場合には、上述のフォトマスクの基材で用いられているプラスチックフィルムやガラス等紫外線透過率の高いものが好ましい。
【0055】
このように保護膜補修液を保護膜部分に滴下したり、その上にオーバーレイ部材を乗せたりすると、保護膜補修液が保護膜の欠損部分からはみ出てしまう場合があり、このような場合ははみ出ている部分をマスクして電離放射線を照射して硬化させることにより補修膜を形成し、次いでマスクによって硬化しなかった保護膜補修液を取り除くことが好ましい。オーバーレイ部材を乗せた後、保護膜欠損部分からはみ出ている部分をマスクせずに電離放射線を照射して補修膜を硬化させると、当該保護膜補修液は、剥離剤によって取り除かれていない保護膜上で硬化してしまいその部分を除去することができない。しかし、このように保護膜の欠損部分からはみ出してしまった保護膜補修液をマスクすることによって、補修膜の形成後、マスクによって硬化しなかった保護膜補修液を簡単に除去することができる。
【0056】
上記はみ出ている部分をマスクする方法としては、前記オーバーレイ部材上に製版用マスキングペンや製版用オペークペン等を用いて、はみ出ている部分をなぞるように色をつける方法等があげられる。ここで「マスクする」とは、照射される電離放射線の波長域を遮光するということを意味する。
【0057】
このように保護膜の欠損部分からはみ出した保護膜補修液部分、及びマスクによって硬化しなかった保護膜補修液部分を取り除く方法としては、有機溶剤等を染み込ませた綿棒等を用いて拭き取ることで行い得る。なお、ここでいう有機溶剤としてはアルコール系、ケトン系、芳香族炭化水素系、アルコールエステル系等を用いることができる。
【0058】
また保護膜補修液に含まれる硬化性樹脂を硬化させる手段としては、硬化性樹脂が硬化剤としてブロックイソシアネートを用いたものである場合には、ブロック剤が解離する温度以上に加熱して硬化性樹脂の硬化反応を促進させる。また、硬化性樹脂が電離放射線硬化型樹脂である場合には、電離放射線を照射することにより硬化し得る。
【0059】
電離放射線(紫外線若しくは電子線)を照射する方法としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等を用いて紫外線を照射したり、コックロフトワルトン型、バンデルグラフ型、共変圧器型、絶縁コア変圧器型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子加速器を用いて電子線を照射したりする方法が採用できる。
【0060】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明する。尚、「部」「%」は特記しない限り重量基準である。
【0061】
[実施例1]
1.保護膜転写シートの作製
厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(T−600E:三菱化学ポリエステルフィルム社)の一方の表面に、以下の組成の離型層用塗工液aを塗布し、乾燥させることにより、厚み約1μmの離型層を設けた支持体を作製した。
【0062】
<離型層用塗工液a>
・ポリビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体
(GANTREZ AN119:ISP社) 50部
・蒸留水 414部
・メタ変性アルコール 36部
【0063】
次いで、当該支持体の離型層上に、以下の組成の保護層用塗工液b及び接着層用塗工液cを順次塗布、乾燥することにより、厚み約2μmの保護層及び厚み約2μmの接着層を積層し、保護膜を形成した。その際、保護層については、乾燥後、高圧水銀灯により紫外線照射を行って硬化させた。
【0064】
<保護層用塗工液b>
・光重合性プレポリマー(固形分64%)
(ウレタンアクリレート)
(ユニディックV4005:大日本インキ化学工業社) 50部
・光ラジカル重合開始剤
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社) 1部
・トルエン 110部
【0065】
<接着層用塗工液c>
・光カチオン重合性樹脂
(ビスフェノールA型エポキシ樹脂)
(アデカオプトマーKRM-2410:旭電化工業社)1.5部
・光カチオン重合開始剤
(トリフェニルスルホニウム塩)
(アデカオプトマーSP-170:旭電化工業社) 0.1部
・アクリル系粘着性樹脂(固形分40%)
(SKダイン1102:綜研化学社) 4部
・酢酸エチル 20部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 10部
【0066】
2.保護膜の転写、及び異物の除去
上記で得られた保護膜転写シートの接着層を、被着体としてポリエステルフィルムの表面に回路配線パターンを形成したフォトマスクの当該回路パターンを形成した画像層上に、ラミネーターを用いて100℃に加熱したヒートロールによって貼着した。次いで高圧水銀灯にて紫外線を照射して接着層を硬化させた後、保護膜から支持体を剥離して、保護膜をフォトマスクに転写させた。
【0067】
転写させた保護膜とフォトマスクとの間に長径約100μm程度の異物、及び長径約300μm程度の異物と、転写させた保護膜中に長径約60μm程度の異物を発見し、以下の組成の剥離剤をそれぞれの異物の確認ができる保護膜部分に滴下し、膨潤した保護膜部分を異物と共に綿棒を用いて除去した。なお、剥離剤の滴下は、縫い針(普通地用長針2:クロバー社)を用いて行った。
【0068】
<剥離剤d>
・塩化メチレン 30部
・メタノール 5部
・パラフィン 0.1部
・ヒドロキシブチルメチルセルロース
(メトローズSM4000:信越化学工業) 0.3部
【0069】
3.保護膜補修液の滴下、及び補修膜の形成
上述により保護膜の欠損した部分に、以下の組成の保護膜補修液eを筆(マイクロスワブTX730:TEXWIPE社)を用いて滴下した。
【0070】
<保護膜補修液e>
・熱可塑性アクリル樹脂(固形分40%)
(LMS−55:互応化学工業社) 6部
・光重合性プレポリマー(固形分100%)
(ペンタエリスリトールトリアクリレート)
(KAYARAD PET-30:日本化薬工業社) 3部
・メチルエチルケトン 3部
・光ラジカル重合開始剤
(イルガキュア184:チバスペシャリティケミカルズ社) 0.3部
【0071】
ここで、滴下した補修液中の希釈溶剤を80℃、3分間で揮発乾燥させた後、上から厚み25μmのポリエステルフィルムをオーバーレイ部材として乗せて、保護膜の欠損部分から濡れ広がりはみ出した部分は当該オーバーレイ部材上にマスキングペン(キモトペークP:きもと社)を用いて色をつけてマスクし、高圧水銀灯で紫外線を照射して、滴下した補修液を硬化させて補修膜を形成した。次に、オーバーレイ部材を剥がし、マスクによって硬化しなかった保護膜補修液については、メチルエチルケトンを染み込ませた綿棒により拭き取って取り除いた。
【0072】
[実施例2]
1.保護膜転写シートの作製
実施例1の接着層用塗工液cの代わりに下記の接着層用塗工液fを使用し、塗布、乾燥した後、60℃、48時間キュアリングして接着層を硬化させた以外は、実施例1と同様にして保護膜転写シートを得た。
【0073】
<接着層用塗工液f>
・熱硬化性アクリル樹脂(固形分50%)
(アクリディックA-814:大日本インキ化学工業社)10部
・イソシアネート硬化剤(固形分60%)
(タケネートD110N:三井武田ケミカル社) 1.5部
・アクリル系粘着性樹脂(固形分40%)
(SKダイン1102:綜研化学社) 20部
・酢酸エチル 50部
・メチルエチルケトン 50部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 100部
【0074】
2.保護膜の転写、及び異物の除去
上記で得られた保護膜転写シートの接着層を、被着体としてガラスの表面に回路配線パターンを形成したフォトマスクの当該回路パターンを形成した画像層上に、ラミネーターを用いて貼着し、保護膜から支持体を剥離して、保護膜をフォトマスクに転写させた。
【0075】
転写させた保護膜とフォトマスクとの間に長径約100μm程度の異物、及び長径約300μm程度の異物と、転写させた保護膜中に長径約60μm程度の異物を発見し、実施例1の剥離剤をそれぞれの異物の確認ができる保護膜部分に滴下し、膨潤した保護膜部分を異物と共に綿棒を用いて除去した。なお、剥離剤の滴下は、実施例1と同様に針を用いて行った。
【0076】
3.保護膜補修液の滴下、及び補修膜の形成
上述により保護膜の欠損した部分に、以下の組成の保護膜補修液gを滴下し、滴下した保護膜補修液で保護膜の欠損部分からはみ出した部分については、メチルエチルケトンを染み込ませた綿棒により拭き取って取り除いた後、130℃、120分間加熱しブロックイソシアネートのブロック剤を解離させて当該補修液を硬化させた。
【0077】
尚、滴下の際には、内径が約70μmの毛細管(EMミニキャップス0.5マイクロ:HIRSCHMANN LABORGERATE社)を使用し、滴下した液量を約0.5μl程度にすることにより、形成した補修膜の厚みが周囲の保護膜と同程度の厚みになった。
【0078】
<保護膜補修液g>
・熱可塑性アクリル樹脂(固形分40%)
(LMS−55:互応化学工業社) 10部
・熱硬化性アクリル樹脂(固形分50%)
(アクリディックA-814:大日本インキ化学工業社)10部
・ブロックイソシアネート硬化剤(固形分75%)
(ブロック剤の解離温度:130℃)
(バーノックDB-980K:大日本インキ化学工業社)0.9部
・メチルエチルケトン 110部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 110部
【0079】
[比較例1]
上記実施例1と同様にして保護膜転写シートを作製し、実施例1と同様の被着体(フォトマスク)に実施例1と同様にして保護膜を転写させた。
【0080】
転写させた保護膜とフォトマスクとの間に2箇所、及び転写させた保護膜中に1箇所、実施例1と同様の大きさの異物を発見し、それぞれの異物の確認ができる保護膜部分に粘着部材(セロハン粘着テープCT-405A-18:ニチバン社)を爪で擦りつけて圧着し、次いで勢いよく引き剥がした。
【0081】
転写させた保護膜とフォトマスクとの間にある長径約300μm程度の異物については保護膜部分と共に異物を除去することができたため、実施例1と同様にして、保護膜の欠損した部分に補修膜を形成した。
【0082】
しかし、転写させた保護膜とフォトマスクとの間にある長径約100μm程度の異物、及び転写させた保護膜中にある長径約60μm程度の異物を保護膜部分と共に除去することができなかった。
【0083】
[比較例2]
上記実施例2と同様にして保護膜転写シートを作製し、実施例2と同様の被着体(フォトマスク)に実施例2と同様にして保護膜を転写させた。
【0084】
転写させた保護膜とフォトマスクとの間に2箇所、及び転写させた保護膜中に1箇所、実施例2と同様の大きさの異物を発見し、それぞれの異物の確認ができる保護膜部分に粘着部材(セロハン粘着テープCT-405A-18:ニチバン社)を爪で擦りつけて圧着し、次いで勢いよく引き剥がした。
【0085】
転写させた保護膜とフォトマスクとの間にある長径約300μm程度の異物については保護膜部分と共に異物を除去することができたため、実施例2と同様にして、保護膜の欠損した部分に補修膜を形成した。
【0086】
しかし、転写させた保護膜とフォトマスクとの間にある長径約100μm程度の異物、及び転写させた保護膜中にある長径約60μm程度の異物を保護膜部分と共に除去することができなかった。
【0087】
以上の実施例1及び2は共に、転写させた保護膜とフォトマスクとの間の比較的大きい異物、及び小さい異物、さらに転写させた保護膜中の異物を容易に取り除くことができ、当該保護膜の欠損部分に保護膜補修液を滴下することで当該保護膜の欠損部分に補修膜を形成することができ、転写後の保護膜を簡易に修正することができるものであった。また、実施例1は、保護膜の欠損部分からはみ出してしまった保護膜補修液をマスクすることによって、補修膜の形成後、マスクによって硬化しなかった保護膜補修液を簡単に除去することができた。
【0088】
一方、比較例1、及び2は共に、転写させた保護膜とフォトマスクとの間の比較的大きい異物については、該異物により被着体と保護膜との間に空気の層が入っていたため、保護膜部分と共に異物を取り除くことができ、実施例1、及び2と同様に、転写後の保護膜を簡易に修正することができるものであった。しかし、転写させた保護膜とフォトマスクとの間の比較的小さい異物は、空気の層が入らないほどの超微小の異物であったため保護膜部分と共に異物を取り除くことができなかった。また、転写させた保護膜中の異物も取り除くことができなかった。
【0089】
【発明の効果】
本発明の転写保護膜の修正方法によれば、保護膜転写シートを用いて保護膜を転写することにより表面の保護をする被着体において、保護膜を転写した後に、転写した保護膜と被着体との間、または保護膜中に異物が確認された場合に、異物の確認ができる保護膜部分に剥離剤を滴下して当該保護膜部分を膨潤させ、次いで膨潤した保護膜部分を異物と共に取り除いた後、保護膜の欠損部分に保護膜補修液を滴下して補修膜を形成することにより、転写した保護膜を部分的に修正することができるため、被着体自体が不良品になることを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 被着体と保護膜との間に異物が挟み込まれた状態を示す断面図。
【図2】 異物が混入した保護膜を転写した状態を示す断面図。
【図3】 図1において異物の確認された保護膜部分に剥離剤を滴下している状態を示す断面図。
【図4】 図2において異物の確認された保護膜部分に剥離剤を滴下している状態を示す断面図。
【図5】 図3において異物の確認された保護膜部分が剥離剤の滴下により膨潤している状態を示す断面図。
【図6】 図4において異物の確認された保護膜部分が剥離剤の滴下により膨潤している状態を示す断面図。
【図7】 被着体から保護膜と共に異物を取り除き保護膜の欠損部分が生じた状態を示す断面図。
【図8】 被着体上の保護膜の欠損部分に保護膜補修液を滴下している状態を示す断面図。
【図9】 被着体上の保護膜の欠損部分に補修膜を形成した状態を示す断面図。
【符号の説明】
1・・・・被着体
2・・・・保護膜
21・・・異物の確認された保護膜部分
22・・・保護膜の欠損部分
3・・・・異物
4・・・・剥離剤
5・・・・保護膜補修液
51・・・補修膜
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for correcting a transfer protective film, and in particular, an optical recording medium that does not want to contain foreign matter such as a coating defect of an ultra-fine protective film or ultra-fine dust, and a document for photoengraving. And a method for correcting a transfer protective film used for a photomask or the like which is a document for a printed wiring board.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a method for protecting the surface of an optical recording medium such as a CD-R, CD-RW, or DVD, an ultraviolet ray is formed on a recording layer of an optical recording medium (hereinafter sometimes simply referred to as “recording medium”). Means have been taken to form a protective film by applying a curable coating agent by spin coating and irradiating with ultraviolet rays. However, the protective film formed by such a method has a problem that the yield is poor due to thickness unevenness, surface non-uniformity, and the like, resulting in high cost. In order to solve such a problem, for example, using a protective film transfer sheet for an optical recording medium in which a protective layer and an adhesive layer are sequentially laminated on a peelable support, the recording layer of the recording medium is used. An example is a method of transferring a protective film (Japanese Patent Laid-Open No. 8-180461). The protective film of the protective film transfer sheet employed in such a method does not cause problems such as surface non-uniformity because the shape of the support is transferred, and also transfers a protective film with a controlled thickness. Thickness unevenness does not occur. In addition, if a protective film with uneven thickness is produced during the production of a protective film transfer sheet, the recording medium itself will not be defective unless it is transferred to the recording medium. Yield could be improved remarkably compared with the coating method.
[0003]
However, when manufacturing such a protective film transfer sheet and when transferring the protective film, it is performed in a clean environment so that no foreign matter is mixed in, but completely prevents the introduction of minute foreign substances. I can't do it. For this reason, the recording medium on which the protective film mixed with foreign matter is transferred is not correctly recorded, reproduced, erased, etc. by the optical recording / reproducing apparatus, and the recording medium itself may become a defective product.
[0004]
On the other hand, conventionally, as a method for protecting a photomask, a means of bonding to a photomask through an adhesive layer of a protective film in which an adhesive layer is laminated on a thin plastic film such as polyethylene terephthalate has been taken. Recently, however, photomasks used for photoengraving manuscripts and printed wiring boards are becoming more complex and require higher resolution, so the protective film must be thinner. Has been. However, in the protective film having the above-described structure, when the plastic film is further thinned, the workability at the time of laminating on the photomask is deteriorated, and there is a problem that wrinkles, bubbles and the like are easily generated. In order to solve such a problem, for example, a protective film transfer for a photomask formed by sequentially laminating a protective layer and an adhesive layer on a peelable support, in the same manner as a protective film transfer sheet for an optical recording medium. There is a method of transferring a protective film onto an image layer of a photomask using a sheet (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-337443). Although the protective film of the protective film transfer sheet employed in such a method is an extremely thin, non-stiff coating, it is held by the support until it is transferred to the photomask. Does not worsen and wrinkles, bubbles, etc. are not likely to occur.
[0005]
However, such a protective film transfer sheet for a photomask, like the protective film transfer sheet for an optical recording medium, cannot completely prevent the entry of minute foreign matters. There is a problem that the photomask itself becomes a defective product.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
Here, it is only necessary to peel off the transferred protective film and transfer a new protective film again from an adherend such as an optical recording medium or a photomask that has become defective due to the inclusion of foreign matter by the protective film transfer sheet. However, since the protective film itself is a thin film, it is difficult to peel off the transferred protective film from the adherend, and it is impossible to reattach the entire adherend. is there.
[0007]
Therefore, the present invention provides an adherend that protects a surface by transferring a protective film using a protective film transfer sheet, and after transferring the protective film, between the transferred protective film and the adherend, It is an object of the present invention to provide a method for correcting a transfer protective film in order to prevent the adherend itself from becoming a defective product when foreign matter is confirmed in the film.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The method for correcting a transfer protective film of the present invention comprises transferring a protective film to an adherend using a protective film transfer sheet having a protective film provided on a peelable support, and then transferring the protective film and the adherend. Or when a foreign substance is found in the protective film, a release agent is dropped on the protective film part where the foreign substance can be confirmed to swell the protective film part, and then the swollen protective film part is removed together with the foreign substance After that, the repair film is formed by dropping a protective film repair solution onto the defect portion of the protective film.
[0009]
Further, the transfer protective film correction method of the present invention is preferably the above transfer protective film correction method. Preferably, the protective film repair solution contains an ionizing radiation curable resin, and an overlay member is applied to a portion where the protective film repair solution is dropped. A repair film is formed by placing and curing by irradiation with ionizing radiation.
[0010]
More preferably, in the above-described method for correcting a transfer protective film, after the overlay member is placed, the protective film repair solution masks the part protruding from the defective part of the protective film and is cured by irradiating with ionizing radiation. A repair film is formed, and then the protective film repair liquid that has not been cured by the mask is removed.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The transfer protective film correction method of the present invention will be described with reference to FIGS.
[0012]
In the transfer protective film correction method of the present invention, the protective film 2 is transferred to the adherend 1 using a protective film transfer sheet in which a protective film is provided on a peelable support, and then the transferred protective film 2 and the coated film are coated. When the foreign material 3 is confirmed between the substrate 1 (FIG. 1) or in the protective film 2 (FIG. 2), the release agent 4 is dropped on the protective film portion 21 where the foreign material 3 can be confirmed (FIG. 3 and FIG. 4) The protective film portion 21 is swollen (FIGS. 5 and 6), and then the swollen protective film portion 21 is removed together with the foreign matter 3 (FIG. 7). The repair film 51 is formed by dripping the liquid 5 (FIG. 8) (FIG. 9).
[0013]
Here, the protective film transfer sheet used in the present invention is obtained by providing a protective film on a peelable support. Such a protective film is composed of at least a protective layer in contact with the support, and it is preferable that an adhesive layer or the like is laminated on the protective layer as necessary.
[0014]
Here, the protective layer becomes the outermost surface after the protective film is transferred to the adherend, and at least a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin is used to improve the performance of the protective film such as scratch resistance and solvent resistance. It is preferable that it is formed from what is included.
[0015]
In addition, the adhesive layer provided as necessary is a layer for facilitating adhesion to the adherend, and only one protective layer provides adhesion to the adherend and scratch resistance as a protective film. It is provided when it is difficult to achieve both solvent resistance. In order to further improve performance such as scratch resistance and solvent resistance, such an adhesive layer preferably has a high hardness of the adhesive layer itself, and the adhesive layer is at least a thermosetting resin or an ionizing radiation curable type. It is preferable that it consists of what contains resin.
[0016]
Next, the support is a base material when the protective film is laminated, and has a function of transferring the thin protective film onto the adherend with good workability. In order to improve the peelability of the protective film as necessary, it is preferable to use a support subjected to a release treatment such as providing a release layer on the surface of the support.
[0017]
Next, the adherend refers to a substrate whose surface is protected by transferring a protective film using a protective film transfer sheet. Therefore, the adherend is not particularly limited as long as the protective film of the protective film transfer sheet can be transferred, but in the present invention, for example, an optical recording medium or a photomask can be used to remove minute foreign matters. It is effective for those that cause inconvenience due to mixing. In particular, when the adherend is a photomask, the foreign matter causes an exposure failure due to a minute foreign matter. Therefore, the present invention is most effective when such an adherend is used. Is.
[0018]
Here, the photomask is one in which one surface of a base material is an image layer. For example, the image layer is made of an emulsion on which an exposure pattern is formed. As such a substrate, a material having a good ultraviolet transmittance is used, and for example, glass or plastic film is preferably used.
[0019]
As a method for transferring the protective film to the adherend using such a protective film transfer sheet, for example, first, the protective film of the protective film transfer sheet is attached to the adherend. Thereafter, heating and / or ionizing radiation irradiation is performed as necessary, the protective film is cured to provide scratch resistance and solvent resistance, and after improving the adhesion to the adherend, the support is peeled off. Can be mentioned.
[0020]
Next, after the protective film 2 is transferred to the adherend 1 using the protective film transfer sheet in this way, between the transferred protective film 2 and the adherend 1 (FIG. 1), or in the protective film 2 When the foreign matter 3 is confirmed in FIG. 2, a method for correcting the transfer protective film in which the protective film portion 21 that can confirm the foreign matter 3 is removed together with the foreign matter 3 and the repair film 51 is formed on the defective portion 22 of the protective film. explain.
[0021]
First, in order to remove the protective film portion 21 where the foreign material 3 can be confirmed together with the foreign material 3, the release agent 4 is dropped (FIGS. 3 and 4) to swell the protective film portion 21 (FIGS. 5 and 6).
[0022]
Here, the stripping agent is methylene chloride, toluene, chlorotoluene, acetone, ethylene glycol alkyl ether, N-methylpyrrolidone, propylene glycol methyl ether, ethyl-3-ethoxypropinate, etc. as a stripping component, mineral spirit, methanol as a diluent solvent In order to suppress these volatile components such as butanol and alkali allyl compounds, paraffin, amine, ethylamine, sodium hydroxide and the like, polymers such as methylcellulose are mixed as a viscosity agent. The protective film part 21 is swollen by dropping it on the protective film part 21 where the foreign substance 3 can be confirmed, and the foreign substance 3 can be removed together with the protective film part 21 by rubbing with a cotton swab or the like.
[0023]
When the foreign matter 3 is confirmed between the transferred protective film 2 and the adherend 1 (FIG. 1), dust is mixed when the protective film transfer sheet is bonded to the adherend 1. Or when it is confirmed in the protective film 2 (FIG. 2), dust is mixed in the production of the protective film transfer sheet, or the protective film resin component is hardened. is there.
[0024]
The size of the foreign material varies depending on the clean environment in which the work is performed. The size of the foreign material that can be corrected in the present invention varies depending on the application and the accuracy required for the adherend, but cannot be generally stated. For example, when the adherend is a photomask, If the foreign matter is 50 μm or more and 500 μm or less, anyone can easily modify the transfer protective film without requiring any special tips. The reason why foreign matters having a major axis of about 50 μm or more is that foreign matters having a size smaller than this will not cause an exposure failure when the photomask is exposed, and thus need not be corrected. The reason why the thickness is 500 μm or less is from the viewpoint of facilitating uniform formation of a repair film 51 described later.
[0025]
As a means for dripping the release agent 4, a microdroplet needle or a capillary tube or the like is used to make a fine droplet, or a needle with a pointed tip such as a sewing needle or a safety pin (hereinafter simply referred to as “needle”). The droplets attached to the tip of the brush or the brush may be adhered to the protective film portion 21 where the foreign matter 3 can be confirmed and dropped. Since the area of the protective film portion 21 is very small in many cases, it is desirable that the inner diameter of, for example, a microsyringe needle or a capillary tube is 200 μm or less.
[0026]
As described above, when the protective film portion 21 together with the foreign matter 3 is removed from the adherend 1 by the release agent 4, a part of the protective film 2 is lost, and a defective portion 22 is generated in the protective film 2 (FIG. 7). Hereinafter, the missing part 22 of the protective film lost by the release agent 4 in this way is simply referred to as “a defective part of the protective film”.
[0027]
Here, an adhesive member such as an adhesive tape is attached to the protective film portion 21 where the foreign material 3 can be confirmed without using the release agent 4, and the foreign material is removed from the adherend together with the protective film portion by peeling off the adhesive member. However, in order to remove foreign matter by such a method, a layer of air must exist between the adherend and the protective film due to the foreign matter on the adherend. It is impossible to remove ultra-fine foreign matter that does not contain the layer. Further, according to this method, it is impossible to remove minute foreign matters mixed in advance in the protective film.
[0028]
However, according to the present invention, the protective film is removed from the adherend 1 together with the foreign matter 3 by the release agent 4, so that an extremely fine foreign matter that does not allow an air layer to enter, or a fine foreign matter that is mixed in the protective film in advance. Foreign matter can also be removed.
[0029]
Next, the repair film 51 is formed by dropping the protective film repair solution 5 on the defect portion 22 of the protective film (FIG. 8) (FIG. 9), whereby the correction of the protective film 2 can be completed.
[0030]
As the protective film repair solution used here, a solution containing at least a resin capable of forming a repair film and appropriately added with a diluting solvent or an additive can be used.
[0031]
The protective film repair solution is required to allow the formed repair film to adhere to the adherend. Here, from the viewpoint of developing adhesiveness to the adherend, the protective film repair solution contains a thermoplastic resin such as a thermoplastic polyester resin, a thermoplastic acrylic resin, or a vinyl acetate resin as a resin for forming the repair film. It is preferable.
[0032]
Moreover, it is preferable that a protective film repair liquid is what can obtain high abrasion resistance and solvent resistance as the performance of the repair film formed. That is, it is preferable that the repair film has the same performance as the protective film part adhered to the adherend. Therefore, it is preferable to include at least a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin in the protective film repair solution.
[0033]
As the thermosetting resin, silicone-based, melamine-based, epoxy-based, aminoalkyd-based, urethane-based, acrylic-based, polyester-based, phenol-based crosslinkable resins that can be crosslinked and cured by heat can be used. In particular, when the adherend is a photomask, an acrylic thermosetting resin having good light resistance and ultraviolet transmittance is preferably used. These can be used alone, but it is desirable to add a curing agent in order to further improve the crosslinkability and the hardness of the crosslinked cured coating film.
[0034]
As the curing agent, a compound such as polyisocyanate, amino resin, epoxy resin, carboxylic acid or the like can be appropriately used according to a suitable resin. In particular, it is desirable to use a curing agent that becomes a one-component curing reaction that causes a crosslinking reaction when heated to a certain temperature or higher without reacting at room temperature. As such a curing agent, a blocked isocyanate or the like using a method for blocking a catalyst or a functional group can be used.
[0035]
A blocked isocyanate is a compound obtained by reacting a free isocyanate group of an isocyanate group terminal precursor of a polyisocyanate with an active hydrogen group-containing compound (blocking agent) to make it inactive at room temperature, and above the temperature at which the blocking agent dissociates. When heated, the active isocyanate group is regenerated to cause a crosslinking reaction. Since such a blocked isocyanate contains an isocyanate component, particularly when the adherend is a photomask, the adhesion with the emulsion forming the image layer is improved and the durability of the protective film is improved. Can also fulfill.
[0036]
Polyisocyanate is obtained by polymerizing or copolymerizing an isocyanate monomer, and can be used without any particular limitation. Isocyanate monomers include 1,6-hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,3- or 1,4-diisocyanate cyclohexane, m- or p-tetramethylxylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,12- And dodecamethylene diisocyanate.
[0037]
The blocking agent can be used without particular limitation, for example, phenolic, alcoholic, active methylene, mercaptan, acid amide, acid imide, lactam, imidazole, urea, oxime, Examples thereof include amines, imides, and hydrazine compounds. Specifically, phenol, cresol, 2-hydroxypyridine, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol, benzyl alcohol, ethanol, diethyl malonate, ethyl acetoacetate, acetylacetone, butyl mercaptan, acetanilide, acetic acid amide, succinimide , Ε-caprolactam, imidazole, urea, thiourea, acetoaldoxime, acetone oxime, cyclohexane oxime, diphenylamine, aniline, carbazole, ethyleneimine, dimethylhydrazine and the like.
[0038]
The dissociation temperature of the blocking agent is preferably 100 ° C. or higher. By setting the temperature to 100 ° C. or higher, the block agent is not dissociated under a normal storage environment, and the preservability of the protective film repair solution can be maintained. Further, when the adherend is inferior in heat resistance like a photomask having a plastic film as a base material, the dissociation temperature of the blocking agent is preferably 120 ° C. or lower. By setting the dissociation temperature of the blocking agent to 120 ° C. or less, it is possible to prevent the precision of an adherend such as a photomask from being deteriorated due to a dimensional change due to thermal shrinkage of the plastic film.
[0039]
By using such a blocked isocyanate as a curing agent, the curing agent can be added in advance to the protective film repair solution, so that the work of forming the repair film is not complicated. Further, since the protective film repair solution does not cure unless heat exceeding the dissociation temperature of the blocking agent is applied, it is economically advantageous.
[0040]
Further, as the ionizing radiation curable resin, it is preferable to use a resin that is crosslinked and cured by irradiation with at least ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams). As such an ionizing radiation curable resin, one or two or more of a cationic photopolymerizable resin capable of photocationic polymerization, a photopolymerizable prepolymer or a photopolymerizable monomer capable of radical photopolymerization, and the like were mixed. Things can be used.
[0041]
Here, as the photocationic polymerizable resin, epoxy resins such as bisphenol-based epoxy resins, novolac-type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and aliphatic epoxy resins, vinyl ether-based resins, and the like can be used.
[0042]
Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and the like. (Meth) acrylates and the like can be used.
[0043]
Examples of the photopolymerizable monomer include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, (meth ) Butoxyethyl acrylate, butyl (meth) acrylate, methoxybutyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, ethoxymethyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid esters such as (meth) acrylic acid lauryl, unsaturated carboxylic acid amides such as (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) ethyl, (meth) acrylic acid Such as 2- (N, N-dibenzylamino) ethyl and (meth) acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) propyl; Substituted amino alcohol esters of saturated acids, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, nonaethylene glycol di (meth) acrylate , Polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, nonapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) Acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri ( (Meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, tris- (2-hydroxyethyl) -isocyanurate (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (acryloxydiethoxy) phenyl] propane, 3-phenoxy- Multifunctional compounds such as 2-propanoyl acrylate and 1,6-bis (3-acryloxy-2-hydroxypropyl) -hexyl ether, and trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol A polythiol compound having two or more thiol groups in a molecule such as tetrathioglycolate can be used.
[0044]
In addition, when such an ionizing radiation curable resin is used, various additives can be added to the protective film repair solution. However, when ultraviolet rays are used for curing, a photopolymerization initiator, an ultraviolet sensitizer is used. It is preferable to add an agent or the like. As this photopolymerization initiator, photo radical polymerization initiators such as acetophenones, benzophenones, Michler ketone, benzoin, benzylmethyl ketal, benzoylbenzoate, α-acyloxime ester, thioxanthone, onium salts, sulfonate esters, organic Examples include photocationic polymerization initiators such as metal complexes, and examples of the ultraviolet sensitizer include n-butylamine, triethylamine, and tri-n-butylphosphine.
[0045]
Further, as described above, a diluting solvent can be appropriately added to the protective film repair solution. However, the diluting solvent that can be added here is not particularly limited as long as it can dissolve the above-described resin. be able to. Specific examples include ethyl acetate, butyl acetate, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, and the like. It is preferable to use a solvent having a low evaporation rate in order to obtain leveling properties of the protective film repair solution. As such a diluting solvent, propylene glycol monomethyl ether, xylene, butyl acetate, cyclohexanone, or the like is used.
[0046]
In addition, an additive such as a leveling agent may be added to the protective film repair solution as long as the above-described performance is not impaired.
[0047]
The various resins described above can be used alone, but several types can be mixed and used. For example, when the adherend is a photomask, by using a mixture of a thermoplastic resin and an ionizing radiation curable resin, the adhesion to the photomask is good, and the scratch resistance, solvent resistance, etc. A particularly excellent repair film can be formed.
[0048]
Next, as a means for dripping the protective film repair solution, as with the means for dripping the release agent 4 described above, a micro droplet is made and dropped using a microsyringe needle, a capillary tube, etc. This can be done by adhering a droplet attached to the brush to a defective portion of the protective film and dropping it. Note that the thickness of the repair film can be adjusted by the amount of liquid droplets.
[0049]
Further, as a means for forming a repair film from the protective film repair solution dropped on the defective portion of the protective film, when the repair liquid contains a diluted solvent, the diluted solvent is volatilized, and the repair liquid is heated. If a curable resin is included, heat the thermosetting resin to cure it, and if the repair liquid contains an ionizing radiation curable resin, apply ionizing radiation. By curing the protective film, the protective film repair solution can be coated to form a repair film.
[0050]
When forming the repair film by coating the protective film repair solution in this way, when the repair liquid dripped onto the defective portion of the protective film protrudes from the defective portion, the protective film repair that protrudes from the defective portion After removing the liquid, the thermosetting resin, the ionizing radiation curable resin, and the like can be cured.
[0051]
By removing the repair liquid that protrudes from the defective portion in this way, the repair film is not formed on the protective film to be repaired, and it is difficult to cause deterioration of light transmittance, generation of scattered light, and the like. be able to.
[0052]
Furthermore, when the protective film repair solution contains an ionizing radiation curable resin, the overlay member is placed on the protective film portion where the protective film repair solution has been dropped and cured by irradiating with ionizing radiation. It is preferable to form a repair film. Thus, the repair film excellent in flatness can be formed by placing the overlay member on the portion where the protective film repair solution is dropped.
[0053]
The size of the overlay member is not particularly limited, but when the protective film repair solution dripped onto the defective portion of the protective film is placed on the overlay member, the overlay member does not protrude from the overlay member. There is a need.
[0054]
As such an overlay member, when the ionizing radiation curable resin is an ultraviolet curable resin, a material having a high ultraviolet transmittance such as a plastic film or glass used in the above-mentioned photomask substrate is used. preferable.
[0055]
If the protective film repair solution is dropped onto the protective film part or an overlay member is placed on the protective film repair liquid in this way, the protective film repair liquid may protrude from the defective part of the protective film. It is preferable to form a repair film by masking the exposed portion and irradiate with ionizing radiation to cure, and then remove the protective film repair solution that has not been cured by the mask. After placing the overlay member, if the repair film is cured by irradiating with ionizing radiation without masking the part protruding from the protective film defect part, the protective film repair liquid is not removed by the release agent. It hardens above and cannot be removed. However, by masking the protective film repair liquid that has protruded from the defective portion of the protective film in this way, the protective film repair liquid that has not been cured by the mask can be easily removed after the repair film is formed.
[0056]
Examples of the method for masking the protruding portion include a method of applying a color so as to trace the protruding portion using a masking pen for plate making or an opaque pen for plate making on the overlay member. Here, “masking” means shielding the wavelength range of the irradiated ionizing radiation.
[0057]
In this way, as a method of removing the protective film repair liquid part that protrudes from the defective part of the protective film and the protective film repair liquid part that has not been cured by the mask, it is possible to wipe off with a cotton swab soaked with an organic solvent, etc. Can be done. In addition, as an organic solvent here, an alcohol type | system | group, a ketone type | system | group, an aromatic hydrocarbon type | system | group, an alcohol ester type | system | group, etc. can be used.
[0058]
In addition, as a means for curing the curable resin contained in the protective film repair solution, when the curable resin uses a blocked isocyanate as a curing agent, the curable resin is heated to a temperature higher than the temperature at which the blocking agent dissociates. Promotes the curing reaction of the resin. Further, when the curable resin is an ionizing radiation curable resin, it can be cured by irradiating with ionizing radiation.
[0059]
As a method of irradiating ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams), ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, xenon arcs, metal halide lamps, etc. are used to irradiate ultraviolet rays, Cockloft Walton type, Bandel graph. A method of irradiating an electron beam using various electron accelerators such as a type, a co-transformer type, an insulated core transformer type, a dynamitron type, and a high frequency type can be employed.
[0060]
【Example】
Examples of the present invention will be described below. “Part” and “%” are based on weight unless otherwise specified.
[0061]
[Example 1]
1. Preparation of protective film transfer sheet
A mold release layer coating liquid a having the following composition is applied to one surface of a polyethylene terephthalate film (T-600E: Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm, and dried to release a mold having a thickness of about 1 μm. A support provided with a layer was prepared.
[0062]
<Release layer coating solution a>
・ Polyvinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer
(GANTREZ AN119: ISP) 50 copies
・ 414 parts of distilled water
・ Meta-modified alcohol 36 parts
[0063]
Next, a protective layer coating liquid b and an adhesive layer coating liquid c having the following composition are sequentially applied onto the release layer of the support and dried to thereby form a protective layer having a thickness of about 2 μm and a thickness of about 2 μm. Were laminated to form a protective film. At that time, the protective layer was dried and then cured by ultraviolet irradiation with a high-pressure mercury lamp.
[0064]
<Protective layer coating solution b>
・ Photopolymerizable prepolymer (64% solids)
(Urethane acrylate)
(Unidic V4005: Dainippon Ink and Chemicals) 50 copies
・ Photo radical polymerization initiator
(Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals)
・ Toluene 110 parts
[0065]
<Coating liquid c for adhesive layer>
・ Photo cationic polymerizable resin
(Bisphenol A type epoxy resin)
(Adekaoptomer KRM-2410: Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 1.5 parts
・ Photo cationic polymerization initiator
(Triphenylsulfonium salt)
(Adekaoptomer SP-170: Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 0.1 part
・ Acrylic adhesive resin (solid content 40%)
(SK Dyne 1102: Soken Chemical Co., Ltd.) 4 parts
・ 20 parts of ethyl acetate
・ Propylene glycol monomethyl ether 10 parts
[0066]
2. Transfer of protective film and removal of foreign matter
Using the laminator, the adhesive layer of the protective film transfer sheet obtained above is applied to the image layer on which the circuit pattern of the photomask having the circuit wiring pattern formed on the surface of the polyester film as an adherend is formed at 100 ° C. It stuck by the heated heat roll. Next, the adhesive layer was cured by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp, and then the support was peeled off from the protective film, and the protective film was transferred to a photomask.
[0067]
A foreign substance having a major axis of about 100 μm, a foreign substance having a major axis of about 300 μm, and a foreign substance having a major axis of about 60 μm are found in the transferred protective film between the transferred protective film and the photomask. The agent was dropped onto the protective film part where each foreign substance could be confirmed, and the swollen protective film part was removed together with the foreign substance using a cotton swab. The release agent was dropped using a sewing needle (ordinary long needle 2: Clover).
[0068]
<Release agent d>
・ Methylene chloride 30 parts
・ Methanol 5 parts
・ 0.1 parts of paraffin
・ Hydroxybutyl methylcellulose
(Metros SM4000: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.3 copies
[0069]
3. Drop of protective film repair solution and formation of repair film
The protective film repair solution e having the following composition was dropped onto the portion where the protective film was lost as described above using a brush (Microswab TX730: TEXWIPE).
[0070]
<Protective film repair solution e>
・ Thermoplastic acrylic resin (solid content 40%)
(LMS-55: Mutual Chemical Industry Co., Ltd.) 6 parts
-Photopolymerizable prepolymer (100% solid content)
(Pentaerythritol triacrylate)
(KAYARAD PET-30: Nippon Kayaku Co., Ltd.) 3 parts
Methyl ethyl ketone 3 parts
・ Photo radical polymerization initiator
(Irgacure 184: Ciba Specialty Chemicals) 0.3 parts
[0071]
Here, after the diluted solvent in the dropped repair liquid was volatilely dried at 80 ° C. for 3 minutes, a polyester film having a thickness of 25 μm was placed as an overlay member from above, and the portion where the wet spread spread out from the defective portion of the protective film was The overlay member was colored and masked using a masking pen (Kimoto Paque P: Kimoto Co., Ltd.), irradiated with ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp, and the repaired solution dropped was cured to form a repair film. Next, the overlay member was peeled off, and the protective film repair solution that was not cured by the mask was wiped off with a cotton swab soaked with methyl ethyl ketone.
[0072]
[Example 2]
1. Preparation of protective film transfer sheet
The following adhesive layer coating solution f was used instead of the adhesive layer coating solution c of Example 1, and after coating and drying, the adhesive layer was cured by curing at 60 ° C. for 48 hours. A protective film transfer sheet was obtained in the same manner as in Example 1.
[0073]
<Coating liquid f for adhesive layer>
・ Thermosetting acrylic resin (solid content 50%)
(Acridic A-814: Dainippon Ink and Chemicals) 10 parts
・ Isocyanate curing agent (solid content 60%)
(Takenate D110N: Mitsui Takeda Chemical Company) 1.5 parts
・ Acrylic adhesive resin (solid content 40%)
(SK Dyne 1102: Soken Chemical Co., Ltd.) 20 copies
・ 50 parts of ethyl acetate
・ Methyl ethyl ketone 50 parts
・ Propylene glycol monomethyl ether 100 parts
[0074]
2. Transfer of protective film and removal of foreign matter
Adhering the adhesive layer of the protective film transfer sheet obtained above on the image layer of the photomask having the circuit wiring pattern formed on the surface of the glass as the adherend, using a laminator, The support was peeled from the protective film, and the protective film was transferred to a photomask.
[0075]
A foreign substance having a major axis of about 100 μm, a foreign substance having a major axis of about 300 μm, and a foreign substance having a major axis of about 60 μm are found in the transferred protective film between the transferred protective film and the photomask. The agent was dropped onto the protective film part where each foreign substance could be confirmed, and the swollen protective film part was removed together with the foreign substance using a cotton swab. The release agent was dropped using a needle in the same manner as in Example 1.
[0076]
3. Drop of protective film repair solution and formation of repair film
The protective film repair solution g having the following composition is dropped onto the portion where the protective film is lost as described above, and the portion that protrudes from the defective portion of the protective film with the dropped protective film repair solution is wiped off with a cotton swab soaked with methyl ethyl ketone. Then, the repair liquid was cured by heating at 130 ° C. for 120 minutes to dissociate the blocking agent of blocked isocyanate.
[0077]
At the time of dropping, a capillary tube (EM minicaps 0.5 micro: HIRSCHMANN LABORGERATE) having an inner diameter of about 70 μm is used, and the amount of the dropped liquid is reduced to about 0.5 μl, so that the formed repair film The thickness was about the same as the surrounding protective film.
[0078]
<Protective film repair solution g>
・ Thermoplastic acrylic resin (solid content 40%)
(LMS-55: Mutual Chemical Industry Co., Ltd.) 10 parts
・ Thermosetting acrylic resin (solid content 50%)
(Acridic A-814: Dainippon Ink and Chemicals) 10 parts
・ Block isocyanate curing agent (solid content 75%)
(Blocking agent dissociation temperature: 130 ° C.)
(Bernock DB-980K: Dainippon Ink and Chemicals) 0.9 parts
・ Methyl ethyl ketone 110 parts
・ 110 parts of propylene glycol monomethyl ether
[0079]
[Comparative Example 1]
A protective film transfer sheet was prepared in the same manner as in Example 1, and the protective film was transferred to the same adherend (photomask) as in Example 1 in the same manner as in Example 1.
[0080]
Protective film portions where two foreign substances are found between the transferred protective film and the photomask, and one foreign substance is found in the transferred protective film. An adhesive member (cellophane adhesive tape CT-405A-18: Nichiban Co., Ltd.) was rubbed with a nail and pressure-bonded, and then peeled off vigorously.
[0081]
Since the foreign matter having a major axis of about 300 μm between the transferred protective film and the photomask could be removed together with the protective film portion, the defective portion of the protective film was repaired in the same manner as in Example 1. A film was formed.
[0082]
However, the foreign matter having a major axis of about 100 μm between the transferred protective film and the photomask and the foreign matter having a major axis of about 60 μm in the transferred protective film could not be removed together with the protective film portion.
[0083]
[Comparative Example 2]
A protective film transfer sheet was prepared in the same manner as in Example 2, and the protective film was transferred to the same adherend (photomask) as in Example 2 in the same manner as in Example 2.
[0084]
Protective film portions where two foreign substances are found between the transferred protective film and the photomask, and one foreign substance is found in the transferred protective film, and foreign substances having the same size as in Example 2 can be found and the respective foreign substances can be confirmed. An adhesive member (cellophane adhesive tape CT-405A-18: Nichiban Co., Ltd.) was rubbed with a nail and pressure-bonded, and then peeled off vigorously.
[0085]
Since the foreign matter having a major axis of about 300 μm between the transferred protective film and the photomask could be removed together with the protective film portion, the defective portion of the protective film was repaired in the same manner as in Example 2. A film was formed.
[0086]
However, the foreign matter having a major axis of about 100 μm between the transferred protective film and the photomask and the foreign matter having a major axis of about 60 μm in the transferred protective film could not be removed together with the protective film portion.
[0087]
In both the first and second embodiments, relatively large foreign matters and small foreign matters between the transferred protective film and the photomask, and foreign matters in the transferred protective film can be easily removed. By dripping the protective film repair solution onto the defective portion of the film, the repair film can be formed on the defective portion of the protective film, and the protective film after transfer can be easily corrected. Further, in Example 1, the protective film repair liquid that has not been cured by the mask can be easily removed after the repair film is formed by masking the protective film repair liquid that has protruded from the defective portion of the protective film. did it.
[0088]
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, both of the relatively large foreign matters between the transferred protective film and the photomask had an air layer between the adherend and the protective film due to the foreign matters. The foreign matter can be removed together with the protective film portion, and the protective film after transfer can be easily corrected in the same manner as in Examples 1 and 2. However, since the relatively small foreign matter between the transferred protective film and the photomask was an extremely fine foreign matter that did not allow the air layer to enter, the foreign matter could not be removed together with the protective film portion. Moreover, the foreign matter in the transferred protective film could not be removed.
[0089]
【The invention's effect】
According to the method for correcting a transfer protective film of the present invention, in an adherend that protects the surface by transferring the protective film using a protective film transfer sheet, after transferring the protective film, the transferred protective film and the coated film are transferred. When a foreign object is found between or in the protective film, a release agent is dropped on the protective film part where the foreign object can be confirmed to swell the protective film part. After removing the protective film, the transferred protective film can be partially corrected by dropping the protective film repair solution onto the defective part of the protective film to form a repair film. Can be prevented.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in which foreign matter is sandwiched between an adherend and a protective film.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where a protective film mixed with foreign matter is transferred.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state where a release agent is dropped on the protective film portion where foreign matter is confirmed in FIG.
4 is a cross-sectional view showing a state in which a release agent is dropped on a protective film portion where foreign matter is confirmed in FIG. 2;
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state where a protective film portion in which foreign matter is confirmed in FIG. 3 is swollen by dripping of a release agent.
6 is a cross-sectional view showing a state in which the protective film portion in which foreign matter is confirmed in FIG. 4 is swollen by the dropping agent.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state in which a foreign substance is removed from an adherend together with a protective film, and a defective part of the protective film is generated.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a state in which a protective film repair solution is dropped on a defect portion of the protective film on the adherend.
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state in which a repair film is formed on a defect portion of a protective film on an adherend.
[Explanation of symbols]
1 ... Adherence
2 ... Protective film
21 ... Protective film portion with foreign matter confirmed
22 ... Defects in protective film
3 ... Foreign matter
4 ... Release agent
5 .... Protective film repair solution
51 ... Repair film

Claims (4)

剥離可能な支持体上に保護膜を設けてなる保護膜転写シートを用いて被着体に保護膜を転写した後に、転写した保護膜と被着体との間、または保護膜中に異物が確認された場合において、異物の確認ができる保護膜部分に剥離剤を滴下して当該保護膜部分を膨潤させ、次いで膨潤した保護膜部分を異物と共に取り除いた後、保護膜の欠損部分に保護膜補修液を滴下して補修膜を形成することを特徴とする転写保護膜の修正方法。After transferring the protective film to the adherend using a protective film transfer sheet provided with a protective film on a peelable support, foreign matter is present between the transferred protective film and the adherend or in the protective film. In the case of confirmation, a release agent is dropped on the protective film portion where foreign matter can be confirmed to swell the protective film portion, and then the swollen protective film portion is removed together with the foreign matter, and then the protective film is applied to the defective portion of the protective film. A method for correcting a transfer protective film, wherein a repair film is formed by dripping a repair liquid. 請求項1記載の転写保護膜の修正方法であって、前記保護膜補修液は電離放射線硬化型樹脂を含み、保護膜補修液を滴下した部分にオーバーレイ部材を乗せて、電離放射線を照射して硬化させることにより補修膜を形成することを特徴とする転写保護膜の修正方法。The method for correcting a transfer protective film according to claim 1, wherein the protective film repair solution contains an ionizing radiation curable resin, and an overlay member is placed on a portion where the protective film repair solution is dropped, and ionizing radiation is irradiated. A repair method for a transfer protective film, which comprises forming a repair film by curing. 請求項2記載の転写保護膜の修正方法であって、オーバーレイ部材を乗せた後、前記保護膜補修液が保護膜の欠損部分からはみ出ている部分をマスクして、電離放射線を照射して硬化させることにより補修膜を形成し、次いでマスクによって硬化しなかった保護膜補修液を取り除くことを特徴とする転写保護膜の修正方法。3. The method for correcting a transfer protective film according to claim 2, wherein after the overlay member is placed, the portion where the protective film repair solution protrudes from the defective portion of the protective film is masked and irradiated with ionizing radiation and cured. A repair film is formed by forming a repair film, and then removing the protective film repair liquid that has not been cured by the mask. 請求項1ないし3いずれか1項記載の転写保護膜の修正方法であって、前記保護膜転写シートがフォトマスク用の保護膜転写シートであり、かつ前記被着体がフォトマスクであることを特徴とするフォトマスク用の転写保護膜の修正方法。4. The method for correcting a transfer protective film according to claim 1, wherein the protective film transfer sheet is a protective film transfer sheet for a photomask, and the adherend is a photomask. A method for correcting a transfer protective film for a photomask, which is characterized.
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