JP4029538B2 - Semiconductor laser, optical head, optical disk apparatus, and method of manufacturing semiconductor laser - Google Patents

Semiconductor laser, optical head, optical disk apparatus, and method of manufacturing semiconductor laser Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、自己結合効果を利用してレーザ光を出射する半導体レーザ、光ヘッド、光ディスク装置、および半導体レーザの製造方法に関し、特に、微小開口から放射されるレーザ光の強度を増大させることにより、記録媒体の高記録密度化が可能となり、小型化およびデータ転送レートの向上を図った半導体レーザ、光ヘッド、光ディスク装置、および半導体レーザの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
光ディスク装置においては、光ディスクはコンパクトディスク(CD)からディジタルビデオディスク(DVD)へと高密度・大容量化が進められているが、コンピュータの高性能化やディスプレイ装置の高精細化に伴い、ますます大容量化が求められている。
【0003】
光ディスクの記録密度は、基本的には記録媒体上に形成される光スポットの径で抑えられる。レーザ光の回折限界以下の光スポットを得る手段として、微小開口を透明集光用媒体の光スポット位置に設け、そこから染み出す近接場光を利用する方法が注目を集めている。しかし、この方法では、光利用効率が小さいため、染み出す近接場光の強度が低く、まだ従来のレンズによる集光で得られる記録マーク(約0.1μm)よりも小さな記録マークは得られていない。
【0004】
この問題を解決する手段として、半導体レーザの自己結合効果(SCOOP効果)を利用して記録・再生する方法が提案されている。すなわち、この方法は、半導体レーザの出力面のスポット位置に微小開口を形成し、そこから放射されるレーザ光を記録・再生に使用する方法であり、特に再生時には、記録媒体からの反射光を微小開口を通してレーザの共振器内に再入射し、それによって生じるレーザの発振状態の変調を電気的・光学的に検出するものである。この検出方式によれば、感度が高いため、再入射光が微弱でも再生することが可能となる。
【0005】
この方式を用いた従来の光ヘッドとして、例えば、A.Partoviにより発表された「Tech.Dig.ISOM/ODS '99、ThC−1(1999)p.352.」(以下「文献I」という。)、およびS.Shimadaにより発表された「Jpn.J.Appl.Phys.38(1999)Pt.2,No.11B,p.L1327.」(以下「文献II」という。)に示されたものがある。
【0006】
図8は、上記文献Iに記載された従来の光ヘッドを示す。この光ヘッド1は、浮上スライダ11の後端部11aに、端面発光型半導体レーザ2を配置したものである。この端面発光型半導体レーザ2は、発振波長980nmの共振器を構成する高反射多層膜10aおよび低反射多層膜10bを発振領域8の後端面と先端面にそれぞれ配置し、その低反射多層膜10bの表面に、Gaイオンの収束イオンビーム(Focused Ion Beam:FIB)を用いたエッチングにより微小開口5が形成された金属遮光体4を配置したものである。このような構成において、微小開口5から放射される微小サイズのレーザ光6を光ディスク7の相変化型記録媒体7aに照射することにより、記録・再生を行う。再生時には、記録媒体7aからの反射光を微小開口5を通して半導体レーザ2の共振器内に再入射させ、自己結合効果、すなわち、再入射光による半導体レーザ2の変調を電気的あるいは光学的に検出することにより情報の再生を行う。微小開口5によって微小化されたレーザ光6を記録・再生に用いることにより、高記録密度化が図れる。
【0007】
図9は、上記文献IIに記載された従来の半導体レーザを示す。この半導体レーザ2は、AlGaAs系の半導体結晶からなる850nmの波長で発振する面発光型半導体レーザ2であり、GaAs基板11に、高反射多層膜10a、P型AlAs層33、P型スペーサ層34、部分透過率を有する高反射多層膜10cおよび位相調整層35を順次形成し、半導体レーザ2の出力面3に、収束イオンビームを用いたエッチングにより発振領域8の上部に微小開口6が形成された金属遮光体4を配置したものである。共振器を構成する高反射多層膜10aおよび高反射層膜10cは、1/4波長厚のGaAs層とAlGaAs層を交互に積層して構成されている。出力側の共振器用ミラーは、上記の高反射多層膜10cと金属遮光体4とで構成されている。また、金属遮光体4での反射は位相が反転するので、光路長が1/4波長となる厚さのAlGaAsからなる位相調整層35を挟み、両者の反射が強め合うように調整されている。微小開口5によって微小化されたレーザ光6を記録・再生に用いることにより、高記録密度化が図れる。
【0008】
一方、自己結合効果を利用してレーザ光を出射する半導体レーザではあるが、上記2つの従来例とは異なる構成の半導体レーザとして、例えば、第73回微小光学研究会資料、p.27、(1999、9月)に示されるものがある。
【0009】
図12は、その半導体レーザを示す。この半導体レーザ2は、面発光型半導体レーザであり、レーザ2の出力面に設けられた半導体材料で形成するトータルレフレクションチップ(Total Refrection Tip)と称する角錐状の集光体61と、集光体61の先端に設けられた円錐状の中心金属体66と、中心金属体66の先端に形成されたカーボンナノチューブからなる微小同軸体65と、これらの集光体61、中心金属体66および微小同軸体65の周囲に誘電体層62を介して形成された金属膜63とを有する。この構成によれば、図13に示すように、
微小同軸体65から微小サイズの伝播光(TEM00モード)を得ようとするものである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、図8および図9に示す従来の半導体レーザによると、レーザ光の出力面に設けた金属遮光体の厚さ分記録媒体との間にエアギャップが形成されるので、記録密度を高めるために微小開口のサイズを小さくしても、開口の面積に反比例する以上に急激に出力パワーが低下し、記録密度の向上を図ることができないという問題がある。
【0011】
すなわち、単純開口の場合、マイクロ波の導波管からも類推されるように、開口が波長の1/2以下ではカットオフとなり、開口が狭くなるにつれて通過し得るレーザ光は指数関数的に減少する。また、その場合、レーザ光は主に近接場光として界面付近に界在するが、その広がり長さは開口サイズ程度である。開口幅を100nmとした場合、図10(a)に示すように、奥行きと開口幅が同程度の長さとなり、近接場光は、同図(b)に示すように、開口法線方向に指数関数的に強度が減少し、金属遮光体4の表面4aより外側には殆ど届かなくなる。このことから、上述したように開口サイズを小さくすると、急激にパワーが低下する。
【0012】
図11は、その開口サイズと光出力パワーとの関係を示す。記録再生型の光記録媒体としては、GeSbTe等を主体とする相変化型記録媒体とFeTbCo等を主体とする光磁気記録媒体とがあるが、いずれも記録には、3×106W/cm2(光スポット径1μmの場合、20mW)程度の光パワー密度を必要とする。これに対し、同図に示すように、開口サイズが0.1μmと0.05μmの場合、出力パワーはそれぞれ0.1mW、0.01mW、光パワー密度はそれぞれ1.8×106W/cm2、0.7×106W/cm2と急激に低下し、記録に必要な光パワー密度の数分の一以下となり、出力不足となる。
【0013】
図13は、図12に示す従来の面発光型半導体レーザ2の問題点を示す。面発光型半導体レーザ2の出力光の大半は、同図に示すように、角錐状の集光体61の斜面61aにおいて、2回全反射して面発光型半導体レーザ2に戻るように構成され、この斜面61a自体がレーザ2の出力側共振器の反射鏡の一部を担っている。そのため、斜面61aの傾き角は45度に形成されている。その外側に誘電体層62が設けられているが、蒸着やスパッタにより形成され得る誘電体層62の屈折率は、高いものでもせいぜい2.2であり、一方、レーザ用半導体の屈折率は3.5程度であり、入射臨界角は38度程度となるので、45度入射では、確かに、全反射の条件を満たし、半導体の集光体61の斜面61aで全反射される。そして、出力光は、角錐状の集光体61の頂点の傾斜が鈍って曲率を帯びている部分から放出されることになる。しかし、その頂点の部分に同軸の中心金属体66が形成されており、殆どの出力光がこの中心金属体66により反射ないし吸収されることになり、微小同軸体65には殆ど光が到達し得ない構造である。仮に、集光体61の斜面61aから漏れ出したとしても、金属膜63によりレーザ方向に反射されるか、微小テーパー型プローブにおいてよく知られているように吸収されて、やはり殆ど微小同軸体65にはレーザ光は到達せず、必要な光強度が得られていない。
【0014】
従って、本発明の目的は、微小開口から放射されるレーザ光の強度を増大させることにより、記録媒体の高記録密度化が可能となり、小型化およびデータ転送レートの向上を図った半導体レーザ、光ヘッド、光ディスク装置、および半導体レーザの製造方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するため、レーザ光出射側に位置する平坦な面に共振器の一部を構成する100nm以下のサイズを有する微小開口が形成された金属遮光体を備え、前記微小開口の中心に中心金属体が設けられるとともに、前記微小開口内に前記金属遮光体の表面とほぼ同一の面となるようにレーザ光透光性の材料が埋め込まれてなることを特徴とする半導体レーザを提供する。
上記構成によれば、開口内のレーザ光の波長が、レーザ光透過性の材料の屈折率に反比例して短くなるため、波長に対する開口幅の比がそれに比例して大きくなり、レーザ光が開口を通過し易くなる。微小開口と中心金属体とから同軸開口が形成され、この同軸開口から伝播光が出力される。この伝播光を出力する表面が、元のレーザ光出力面から微小開口内に埋め込まれた材料の表面まで移動するため、伝播光を出力する面と記録媒体との距離を近づけられることになり、伝播光を効率良く記録媒体内に入射することが可能となる。なお、微小開口内に埋め込むレーザ光透過性の材料としては、半導体レーザ構造の一部を構成する材料や反射防止膜がある。半導体レーザ構造としては、反射膜や多層反射膜、活性層やクラッド層、あるいは活性層より広いバンドギャップを有し、活性層の端面に設けられる窓材料があり、これらの1つあるいは複数が微小開口内に埋め込まれるように構成されるものである。また、反射防止膜としてはSiO2などの誘電体材料を用いることができる。
【0016】
本発明は、上記目的を達成するため、レーザ光出力側に位置する平坦な面に共振器の一部を構成する100nm以下のサイズを有する微小開口が形成された金属遮光体を備え、前記微小開口の中心に中心金属体が設けられるとともに、前記微小開口内に前記金属遮光体の表面とほぼ同一の面となるようにレーザ光透過性の材料が埋め込まれてなる半導体レーザと、前記半導体レーザを保持するとともに、光ディスク上を浮上走行する浮上スライダとを備えたことを特徴とする光ヘッドを提供する。
【0017】
本発明は、上記目的を達成するため、記録媒体が形成された光ディスクと、レーザ光出力側に位置する平坦な面に共振器の一部を構成する100nm以下のサイズを有する微小開口が形成された金属遮光体を備え、前記微小開口の中心に中心金属体が設けられるとともに、前記微小開口内に前記金属遮光体の表面とほぼ同一の面となるようにレーザ光透過性の材料が埋め込まれてなる半導体レーザと、前記半導体レーザを保持するとともに、光ディスク上を浮上走行する浮上スライダとを有する光ヘッドを備えたことを特徴とする光ディスク装置を提供する。
【0018】
本発明は、上記目的を達成するため、レーザ光出力面を有する半導体レーザ材料を準備し、前記レーザ光出力面上に設定されたドーナツ状領域を除く部分をエッチングすることにより凹部を形成し、前記凹部にフォトリソグラフィ工程あるいは収束イオンビーム法によって金属体を被着することにより、請求項1に記載の半導体レーザを製造することを特徴とする半導体レーザの製造方法を提供する。
【0019】
【発明の実施の形態】
図1(a)は、本発明の第1の実施の形態に係る光ヘッドを示し、同図(b)は、それに用いる半導体レーザの要部を示す。なお、それぞれの部品のサイズは寸法通りではなく、小さく薄い部品ほど拡大されている。本光ヘッド1は、浮上スライダ11を有し、この浮上スライダ11の後端部11に、AlGaInP系の半導体結晶から構成された波長650nmで発振する端面発光型半導体レーザ2を配置したものである。
【0020】
端面発光型半導体レーザ2は、同図(a)に示すように、レーザ2の共振器を構成する高反射多層膜10aおよび低反射多層膜10bを結晶部20の後端面と先端面にそれぞれ配置し、その低反射多層膜10bの表面に同軸開口15を有する金属遮光体4を配置したものである。同軸開口15は、矩形状の開口50と、開口50の中心に同軸的に配置された同じく矩形状の中心金属体51とから構成されている。
【0021】
高反射多層膜10aは、95%程度の反射率を有する。一方、低反射多層膜10bは、結晶ヘキ開面26上に形成され、高屈折率のTiO2と低屈折率のSiO2の誘電体膜からなり、20〜30%程度の反射率を有する。
【0022】
金属遮光体4は、厚さ60nmのAgからなり、レーザ光のかなりの部分をレーザ2内に反射し、低反射多層膜10bとともに複合共振器を構成する。なお、金属遮光体4は、被着性が良好であれば他の金属でもよい。同軸開口15の中心に配置されている中心金属体51は、開口50の1/3程度のサイズのとき、レーザ光の同軸による減衰は最も小さくなるが、20nm程度あるいはそれ以下であれば、減衰は無視できる程度であるので、20nmのサイズとしている。開口50の辺の長さには、特に限定はないが、50〜100nm程度が安定して作製するには、好適である。各辺は光ディスク7の記録トラック(図示せず)と平行あるいは垂直となるように配置されている。
【0023】
結晶部20は、同図(b)に示すように、GaAs基板結晶21の上に、n型AlGaInPクラッド層22、GaInP活性層23、p型AlGaInPクラッド層24、およびGaAsキャップ層25を順次積層したものである。結晶部20の先端面には、上記金属遮光体4が形成され、同軸開口15および金属遮光体4は、SiO2からなる反射防止膜27で覆われている。
【0024】
同軸開口15内には、同図(b)に示すように、低反射多層膜10bの表面(出力面)3と金属遮光体4の表面4aとがほぼ同一平面となるように低反射多層膜10bが埋め込まれ、同軸開口15内に埋め込まれた開口部5aの表面3側には、高屈折率(約2.25)のTiO2膜5bを配置している。
【0025】
この同軸開口15の形成方法の一例を説明する。低反射多層膜10bのうち同軸開口15内に埋め込まれるドーナツ状の開口部5a以外の部分をエッチングにより除去し、その除去した部分に金属遮光体4および中心金属体51を被着する。エッチングには、フォトリソグラフィ工程を用いることも可能であるが、端面発光型半導体レーザの端面幅は0.5mm以下と狭いため、Gaイオンを用いた収束イオンビーム(Focused Ion Beam:FIB法)により行うのが好ましい。金属遮光体4および中心金属体51の被着には、エッチングと同様にFIB法を用いるとよい。金属遮光体4は、60nmの厚さを有するので、ほぼこの部分からのレーザ光の漏れを防ぐことができる。
【0026】
次に、本実施の形態の光ヘッド1の動作を説明する。ここでは、光ディスク7として、基板7b上にGeSbTeからなる相変化型記録媒体7aが形成されたものを記録・再生の対象として説明する。本光ヘッド1は、浮上スライダ11によってディスク7の記録媒体7a上を数十nmの浮上高で浮上走行する。端面発光型半導体レーザ2は、順方向の電流が印加されると、共振器を構成する反射多層膜10a,10b間でレーザ発振を行う。記録用情報に基づいて端面発光型半導体レーザ2の入力が変調されると、その変調によってレーザ光6が伝播光として同軸開口15から放射される。この伝播光を記録媒体7aに照射することにより、記録がなされる。再生時には、レーザ2は変調せず、連続光を記録媒体7aに照射し、その記録媒体7aからの反射光を同軸開口15を通してレーザ2内に再入射させる。この再入射光により、レーザ2自体の発振状態が変調され(自己結合効果)、それをレーザ2の入力端子(図示せず)から電気的に検出することにより、情報の再生が行われる。
【0027】
上述した第1の実施の形態によれば、同軸開口15内に半導体レーザ材料である低反射多層膜10bを埋め込み、さらに、開口部5aの表面(出力面)3側に高屈折率のTiO2膜5bを配置しているので、このTiO2膜5b中でのレーザ光の波長は短くなり(300nm以下)、レーザ光は同軸開口15から放射され易くなる。また、矩形状の同軸開口15を用いることにより、放射光も矩形状となり、記録トラック幅を狭めても隣接トラックとのクロストークが少なく、また、トラック方向の記録密度を上げることができ、高速・高密度の記録が可能となる。また、同軸開口15の表面3には、反射防止膜27を設けているので、同軸開口15でのレーザ2内部の反射を低減でき、光利用効率をより高めることができる。また、反射防止膜27で金属遮光体4全体を覆っているので、反射防止膜27の被着時にフォトリソグラフィ工程を不要にでき、金属遮光体4の保護膜としての効果も有する。
なお、レーザ2の後端部の高反射多層膜10aの外側に光検出器(図示せず)設け、その光検出器によりレーザ2の変調状態を検出してもよい。この場合、高反射多層膜10aの反射率は少し低下させて透過率を10%以上に上げることにより、再生信号のSN比を上げることができる。
【0028】
図2は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体レーザの要部を示す。この第2の実施の形態は、第1の実施の形態と同様の端面発光型半導体レーザ2であるが、同軸開口15を短手方向の辺がレーザ2の共振器内での波長の1/2よりも短く、長手方向の辺がレーザ2の共振器内での波長の1/2よりも長い長方形にしたものであり、本実施の形態の開口50は、例えば、50nm×150nmの長方形有する。微小金属体51は、同じく開口50に沿った長方形を有する。この端面発光型半導体レーザ2は、リッジ28によって発振領域8が限定される屈折率導波型構造を有し、活性層23には、約10nm幅の量子井戸を使用している。発振領域8は、活性層23を中心とする水平方向に2〜3μm、縦方向に1μmの楕円状を有する。同軸開口15は、同図(a)に示すように、発振領域8のほぼ中心に設けられ、長手方向の辺が活性層23と平行になっている。このような同軸開口15の配置により、同軸開口15に入射するレーザ光の強度は最大となる。また、開口50の長手方向の辺は、同図(b)に示すように、活性層23に対して垂直としてもよい。これにより、レーザ2の光ヘッドに取り付ける方向を変えずに、記録トラックに対する同軸開口15の向きを変えることができる。
【0029】
上述した第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同様に、同軸開口15内を半導体レーザ材料で埋めているので、レーザ光が同軸開口15から放射され易くなる。なお、光ディスクあるいはハードディスクに用いられている磁気記録媒体等を記録再生に使用する場合には、同軸開口15の長手方向を記録トラックと平行方向としてもよい。光ディスクあるいはハードディスクに用いられている磁気記録媒体の記録においては、磁界を変調して記録がなされるため、磁界が反転される度にその直前に記録したマークの後部を次のマークが消しながら記録がなされるので、実質的には記録密度を下げることなく、光利用効率を上げることができる。
【0030】
図3は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体レーザの要部を示す。この第3の実施の形態は、第1の実施の形態において、金属遮光体4の開口50側の縁部4bに斜面50aを形成して縁部4bをレーザ2内部に向かって広がるテーパー形状にし、中央金属体51の周辺に斜面51aを形成して中央金属体51の周辺をレーザ2内部に向かって狭くなるテーパー形状にし、他は第1の実施の形態と同様に構成されている。これにより、金属遮光体4の縁部4b、および中央金属体51の周辺に集光効果を持たせることができ、同軸開口15からのレーザ光の強度を増すことができる。
【0031】
図4(a),(b)は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体レーザの要部を示す。この第4の実施の形態は,第1の実施の形態において、同軸開口15の内部に半導体材料のAlGaInPを埋め込んだものであり、他は第1の実施の形態と同様に構成されている。
【0032】
図4(a)に示す半導体レーザ2は、レーザ結晶のヘキ開面26をFIB法によりエッチングして、ドーナツ状の開口部5a以外の部分を除去し、その除去した部分にSiN膜からなる絶縁膜29を介してAgからなる金属遮光体4を被着し、同軸開口15および金属遮光体4をSiO2からなる反射防止膜27で覆ったものである。また、このレーザ2の共振器は、金属遮光体4と、後端面の高反射多層膜10b(図示せず)により一方の共振器用ミラーを構成している。
【0033】
図4(b)に示す半導体レーザ2は、ヘキ開面26上にノンドープの高抵抗のAlGaInP層29aを再成長し、そのAlGaInP層29aのドーナツ状の開口部5a以外の部分をエッチングして除去し、その除去した部分に金属遮光体4および中心金属体51を被着したものである。
【0034】
上述した第4の実施の形態によれば、同軸開口15内に屈折率の高い(約3.5)半導体材料AlGaInPを埋め込んでいるので、この中での波長は200nm以下と短くなり、同軸開口15とのカップリング効率を上げることができる。従って、開口50のサイズを第1の実施の形態と同様に50nmとした場合、レーザ光の透過率を大幅に上げることができる。また、同軸開口15および金属遮光体4を反射防止膜27で覆っているので、レーザ2の共振器内部に反射される割合を減らすことができ、光利用効率が向上するとともに、半導体結晶の劣化を防ぐことができる。
【0035】
図5は、本発明の第5の実施の形態に係る半導体レーザの要部を示す。この第5の実施の形態は、半導体レーザとして活性層に垂直にレーザ発振を行う面発光型半導体レーザ(VCSEL)2を使用している以外は、第4の実施の形態と同様である。この面発光型半導体レーザ2は、GaAs基板11の上に、高反射多層膜10a、n型スペーサ層31、AlGaInP活性層32、p型AlAs層33、スペーサ層34、部分透過率を有する高反射多層膜10c、およびAlGaInPからなる位相調整層35を順次積層し、位相調整層35のドーナツ状の開口部5a以外をエッチングによって除去した部分にp型電極38、金属遮光体4および中心金属体51を設け、同軸開口15および金属遮光体4の表面を反射防止膜39によって覆ったものである。
【0036】
位相調整層35は、発振波長の1/4の厚さに金属遮光体4の厚さを加えた厚さを有し、エッチング深さを金属遮光体4の厚さに等しくしている。これにより、開口部5aの表面(出力面)3と金属遮光体4の表面4aとを同一平面上に形成することができる。また、位相調整層35によって金属遮光体4での反射と高反射多層膜10bでの反射の位相を揃えることができ、両者により、99%以上の高反射を達成することができる。開口部5aはそれよりも反射率が低くなり、比較的高強度のレーザ光が開口部5aに達する。このレーザ光の波長は、位相調整層35の屈折率に反比例して短くなっており、180nm程度である。このため、一辺50nmの同軸開口15においても比較的強力な伝播光を発生させることができる。
【0037】
図6は、同軸開口15を示す。同軸開口15は、図6(a)に示すように、直径3μmの発振領域8の中心に設けられており、開口50は一辺50nmの正方形を有する。また、発振領域を1μm以下と狭めた場合は、共振器内の光強度に対して、同軸開口15から再入射する光の割合が増加し、自己結合効果が高まるため、再生信号のSNが大きくでき、好適である。しかし、この場合、レーザ発振の横モードは、同図(b)の40で示すように、TEM01モードとなり、中心強度が低下し、発振領域8の半径1/2あたりが強度が最大となる。このため、開口同軸15は、同図(b)に示すように、中心から半径1/2の距離だけずらした位置に設定することにより、同軸開口15からの光の発生を最大にできる。また、TEM01モードは、発振強度分布が不安定なため、共振器の出力側に反射率を部分的に低下させる部分を設け、発振位置を固定してもよい。
【0038】
次に、この面発光型半導体レーザ2の製造方法の一例について説明する。GaAs基板11の上に、1/4波長厚さのn型AiGaP層とn型GaInP層からなる高反射多層膜10a、n型スペーサ層31、AlGaInP活性層32、p型AlAs層33、スペーサ層34、1/4波長厚さのp型AiGaP層とp型GaInP層からなる高反射多層膜10c、およびAlGaInPからなる位相調整層35を順次結晶成長により積層させた後、エッチングによりレーザ2のポート部分36以外を除去し、さらにAlAs層33を水蒸気を用いた熱酸化により、周囲から酸化させ、AlOx層37を形成する。AiOxは、AlGaInP層に比べて屈折率が低いため、導波路が形成され、また、絶縁性であるため、同時に電流狭窄もなされるので、これにより発振領域8を形成することができる。その後、位相調整層35をそのドーナツ状の開口部5aと電極部分を残してエッチングにより除去し、その除去した部分にp型電極38、金属遮光体4および中心金属体51を被着する。なお、VCSELの場合は、ヘキ開をせずに、ウェハ単位でプロセスができるため、フォトリソグラフィ工程を用いて同軸開口15を形成することができるが、FIB法を用いてもよい。その後、同軸開口15および金属遮光体4の表面4aに反射防止膜39を被着する。
【0039】
上述した第5の実施の形態によれば、同軸開口15内に屈折率の高い(約3.5)AlGaInPからなる位相調整層35を埋め込んでいるので、効率良くレーザ光を放射することができる。
【0040】
図7は、本発明の第6の実施の形態に係るディスク装置を示す。このディスク装置100は、回転軸130によって回転する光ディスク7と、第1の実施の形態と同様の光ヘッド1を回動軸133aを中心に回動可能に支持するサスペンション133と、サスペンション133を回動させる回転型リニアモータ143とを有する。
【0041】
光ディスク7は、GeSbTeからなる相変化型記録媒体を有する。半導体レーザの自己結合効果を用いて、光ディスク7からの反射光を半導体レーザ2の後部に設けた光検出器で検出する場合、光検出器でレーザ光を分割できないため、トラッキング誤差信号の形成にはサンプルサーボ法を使用している。すなわち、光ディスク7上に設けた千鳥型のマーク(図示せず)を使用し、光スポットが左右の千鳥マークを通過する時の反射光の大小から位置ずれを検出する。
【0042】
上述した第6の実施の形態によれば、回転型リニアモータ143は、光ディスク7の外側に配置できるため、光ヘッド1を薄型にでき、ディスク装置100全体を小型化できる。また、これにより、光ディスク7を高速(3600rpm)で回転させることができ、平均360Mbps以上のデータ転送レートが可能となる。
なお、圧電素子を介して半導体レーザ2を浮上スライダに取り付け、圧電素子にサーボ信号を印加することにより、高周波領域のトラッキングを行うことも可能である。
また、記録媒体に、磁気ハードディスク用の磁気記録媒体あるいはGaFeCo等の光磁気記録媒体を使用し、スライダに磁気抵抗効果により信号検出を行うGMRセンサ(図示せず)を取り付けて記録信号の再生を行うことも可能である。これにより、記録再生の高転送レート化が図れ、また、レーザ2は記録のみに使用し、再入射光は使用しないため、共振器の反射率を高めるなど記録用のレーザ光を出力するための最適化ができる。
また、上記光ディスク装置100において、第2から第5の実施の形態の半導体レーザを用いてもよい。
【0043】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、同軸開口内にレーザ光透過性を有する材料を埋め込んだので、記録媒体に入射するレーザ光の強度を大幅に増大させることができ、それにより記録媒体の高記録密度化が可能となり、小型化およびデータ転送レートの向上を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は、本発明の第1の実施の形態に係る光ヘッドを示す図、(b)は、それに用いる半導体レーザの要部を示す図
【図2】(a),(b)は本発明の第2の実施の形態に係る半導体レーザを示す図
【図3】本発明の第3の実施の形態に係る半導体レーザの要部を示す図
【図4】(a),(b)は本発明の第4の実施の形態に係る半導体レーザの要部を示す図
【図5】本発明の第5の実施の形態に係る半導体レーザを示す図
【図6】(a),(b)は同軸開口の位置を示す図
【図7】本発明の第6の実施の形態に係る光ディスク装置を示す斜視図
【図8】従来の光ヘッドを示す断面図
【図9】従来の半導体レーザを示す断面図
【図10】(a),(b)は従来の問題点を説明するための図
【図11】開口サイズと光出力パワーとの関係を示す図
【図12】 (a)は同軸開口を有する従来の半導体レーザを示す図、(b)は(a)のA部詳細を示す図
【図13】図12に示す半導体レーザの問題点を示す図
【符号の説明】
1 光ヘッド
2 半導体レーザ
3 半導体レーザの出力面
4 金属遮光体
5a 開口部
5b TiO2
6 出力レーザ光
7 光ディスク
7a 記録媒体
7b 基板
8 レーザの発振領域
10a,10c 高反射多層膜
10b 低反射多層膜
11 浮上スライダ
15 同軸開口
20 半導体レーザ用結晶部
21 レーザ用基板
22 n型クラッド層
23 活性層
24 p型クラッド層
25 キャップ層
26 ヘキ開面
27 反射防止膜
28 リッジ
29 AiGaInP層
31 スペーサ層
32 活性層
33 AlAs層
34 スペーサ層
35 位相調整層
36 レーザ用ポート
37 AlOx層
38 p電極
39 反射防止膜
40 半導体レーザの横モード
50 開口
50a 斜面
51 中心金属体
51a 斜面
61 集光体
61a 集光体の斜面
62 誘電体層
63 金属膜
65 微小同軸体
66 中心金属体
100 ディスク装置
130 回転軸
133 サスペンション
133a 回動軸
143 回転型リニアモータ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor laser that emits laser light using a self-coupling effect, an optical head, an optical disk device, and a method for manufacturing a semiconductor laser, and in particular, by increasing the intensity of laser light emitted from a minute aperture. The present invention relates to a semiconductor laser, an optical head, an optical disc apparatus, and a method for manufacturing a semiconductor laser, which can increase the recording density of a recording medium, and are reduced in size and improved in data transfer rate.
[0002]
[Prior art]
In optical disc devices, optical discs are being increased in density and capacity from compact discs (CDs) to digital video discs (DVDs), but this is in line with higher computer performance and higher definition display devices. Larger capacity is required.
[0003]
The recording density of the optical disc is basically suppressed by the diameter of the light spot formed on the recording medium. As a means for obtaining a light spot below the diffraction limit of laser light, a method of using a near-field light that has a minute aperture at a light spot position of a transparent condensing medium and oozes from the spot is attracting attention. However, in this method, since the light utilization efficiency is low, the intensity of the near-field light that oozes out is low, and a recording mark smaller than the recording mark (about 0.1 μm) obtained by condensing with a conventional lens is still obtained. Absent.
[0004]
As means for solving this problem, a recording / reproducing method using a self-coupling effect (SCOOP effect) of a semiconductor laser has been proposed. In other words, this method is a method in which a minute aperture is formed at the spot position on the output surface of the semiconductor laser, and laser light emitted from the aperture is used for recording / reproduction. In particular, during reproduction, reflected light from the recording medium is used. The laser beam is re-entered into the laser resonator through the minute aperture, and the modulation of the oscillation state of the laser caused thereby is detected electrically and optically. According to this detection method, since the sensitivity is high, it is possible to reproduce even if the re-incident light is weak.
[0005]
As a conventional optical head using this method, for example, A.I. “Tech. Dig. ISOM / ODS '99, ThC-1 (1999) p. 352” (hereinafter referred to as “Document I”) published by Partovi, and “Jpn. J. J. published by S. Shimada”. Appl. Phys.38 (1999) Pt.2, No. 11B, p.L1327. ”(Hereinafter referred to as“ Document II ”).
[0006]
FIG. 8 shows a conventional optical head described in Document I above. In this optical head 1, an edge-emitting semiconductor laser 2 is disposed at the rear end portion 11 a of the flying slider 11. This edge-emitting semiconductor laser 2 has a high-reflection multilayer film 10a and a low-reflection multilayer film 10b constituting a resonator having an oscillation wavelength of 980 nm arranged on the rear end face and the front end face of the oscillation region 8, respectively, and the low-reflection multilayer film 10b. The metal light-shielding body 4 in which the minute opening 5 is formed by etching using a focused ion beam (FIB) of Ga ions is disposed on the surface. In such a configuration, recording / reproducing is performed by irradiating the phase-change recording medium 7a of the optical disc 7 with a laser beam 6 of a small size emitted from the minute aperture 5. At the time of reproduction, the reflected light from the recording medium 7a is re-entered into the resonator of the semiconductor laser 2 through the minute aperture 5, and the self-coupling effect, that is, the modulation of the semiconductor laser 2 by the re-incident light is detected electrically or optically. By doing so, information is reproduced. The recording density can be increased by using the laser beam 6 miniaturized by the minute aperture 5 for recording and reproduction.
[0007]
FIG. 9 shows a conventional semiconductor laser described in Document II. This semiconductor laser 2 is a surface emitting semiconductor laser 2 made of an AlGaAs-based semiconductor crystal and oscillating at a wavelength of 850 nm. A highly reflective multilayer film 10a, a P-type AlAs layer 33, and a P-type spacer layer 34 are formed on a GaAs substrate 11. Then, a highly reflective multilayer film 10c having a partial transmittance and a phase adjustment layer 35 are sequentially formed, and a minute opening 6 is formed on the output surface 3 of the semiconductor laser 2 above the oscillation region 8 by etching using a focused ion beam. The metal light-shielding body 4 is arranged. The high-reflection multilayer film 10a and the high-reflection layer film 10c constituting the resonator are configured by alternately stacking ¼ layer thickness GaAs layers and AlGaAs layers. The output-side resonator mirror is composed of the highly reflective multilayer film 10 c and the metal light-shielding body 4. In addition, since the phase of the reflection at the metal light-shielding body 4 is reversed, the phase adjustment layer 35 made of AlGaAs having a thickness that makes the optical path length ¼ wavelength is sandwiched, and the reflection is adjusted so as to strengthen the reflection of both. . The recording density can be increased by using the laser beam 6 miniaturized by the minute aperture 5 for recording and reproduction.
[0008]
On the other hand, although it is a semiconductor laser that emits laser light using the self-coupling effect, as a semiconductor laser having a configuration different from the above two conventional examples, see, for example, the 73rd Micro-Optics Society document, p. 27, (1999, September).
[0009]
FIG. 12 shows the semiconductor laser. This semiconductor laser 2 is a surface-emitting type semiconductor laser, and a pyramid-shaped condensing body 61 called a total reflection tip formed by a semiconductor material provided on the output surface of the laser 2, and a condensing light A conical central metal body 66 provided at the tip of the body 61, a micro coaxial body 65 made of carbon nanotubes formed at the tip of the central metal body 66, the light collector 61, the central metal body 66, and the micro A metal film 63 is formed around the coaxial body 65 via a dielectric layer 62. According to this configuration, as shown in FIG.
A small-sized propagating light (TEM00 mode) is to be obtained from the small coaxial body 65.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, according to the conventional semiconductor laser shown in FIGS. 8 and 9, since an air gap is formed between the recording medium and the thickness of the metal light-shielding member provided on the laser light output surface, the recording density is increased. However, there is a problem that even if the size of the minute aperture is reduced, the output power is drastically decreased more than inversely proportional to the area of the aperture, and the recording density cannot be improved.
[0011]
In other words, in the case of a simple aperture, as can be inferred from a microwave waveguide, the cutoff is cut off when the aperture is 1/2 or less of the wavelength, and the laser beam that can pass through decreases exponentially as the aperture becomes narrower. To do. In this case, the laser light is mainly present near the interface as near-field light, but its spreading length is about the size of the opening. When the aperture width is 100 nm, the depth and the aperture width are approximately the same as shown in FIG. 10A, and the near-field light is in the normal direction of the aperture as shown in FIG. The intensity decreases exponentially and hardly reaches outside the surface 4a of the metal light shield 4. For this reason, as described above, when the opening size is reduced, the power is rapidly reduced.
[0012]
FIG. 11 shows the relationship between the aperture size and the optical output power. As the recording / reproducing optical recording medium, there are a phase change recording medium mainly composed of GeSbTe or the like and a magneto-optical recording medium mainly composed of FeTbCo or the like. 6 W / cm 2 An optical power density of about 20 mW when the light spot diameter is 1 μm is required. On the other hand, as shown in the figure, when the aperture size is 0.1 μm and 0.05 μm, the output power is 0.1 mW and 0.01 mW, respectively, and the optical power density is 1.8 × 10 respectively. 6 W / cm 2 0.7 × 10 6 W / cm 2 Suddenly decreases to a fraction of the optical power density required for recording, resulting in insufficient output.
[0013]
FIG. 13 shows a problem of the conventional surface emitting semiconductor laser 2 shown in FIG. As shown in the figure, most of the output light of the surface-emitting type semiconductor laser 2 is configured to be totally reflected twice and returned to the surface-emitting type semiconductor laser 2 on the inclined surface 61a of the pyramid-shaped condensing body 61. The slope 61a itself serves as a part of the reflecting mirror of the output-side resonator of the laser 2. Therefore, the inclination angle of the slope 61a is formed at 45 degrees. A dielectric layer 62 is provided on the outside of the dielectric layer 62. The refractive index of the dielectric layer 62 that can be formed by vapor deposition or sputtering is 2.2 at most, whereas the refractive index of the laser semiconductor is 3. Since the critical angle of incidence is about 38 degrees, the incident angle of 45 degrees certainly satisfies the condition of total reflection and is totally reflected by the inclined surface 61a of the semiconductor light collector 61. Then, the output light is emitted from a portion where the apex of the pyramidal condensing body 61 is dull and curved. However, a coaxial central metal body 66 is formed at the apex portion, and most of the output light is reflected or absorbed by the central metal body 66, so that almost the light reaches the micro coaxial body 65. It is a structure that cannot be obtained. Even if the light leaks from the inclined surface 61a of the light collector 61, it is reflected in the laser direction by the metal film 63 or absorbed as is well known in a microtapered probe, and is still almost microcoaxial body 65. The laser beam does not reach and the required light intensity is not obtained.
[0014]
Accordingly, an object of the present invention is to increase the intensity of the laser light emitted from the minute aperture, thereby enabling a high recording density of the recording medium, and reducing the size and improving the data transfer rate. An object is to provide a head, an optical disk device, and a method of manufacturing a semiconductor laser.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention is positioned on the laser beam emission side. On a flat surface Configure part of the resonator Having a size of 100 nm or less A metal light-shielding body in which a minute opening is formed, and a central metal body is provided at the center of the minute opening, and in the minute opening To be almost the same surface as the surface of the metal shading body Provided is a semiconductor laser in which a laser light transmitting material is embedded.
According to the above configuration, the wavelength of the laser beam in the aperture is shortened in inverse proportion to the refractive index of the laser beam transmitting material, so that the ratio of the aperture width to the wavelength is increased in proportion thereto, and the laser beam is opened. It becomes easy to pass through. A coaxial opening is formed from the minute opening and the central metal body, and propagating light is output from the coaxial opening. Since the surface that outputs this propagating light moves from the original laser beam output surface to the surface of the material embedded in the microscopic aperture, the distance between the surface that outputs the propagating light and the recording medium can be reduced, Propagating light can be efficiently incident on the recording medium. Note that examples of the laser light transmissive material embedded in the minute openings include a material constituting a part of the semiconductor laser structure and an antireflection film. Semiconductor laser structures include reflective films, multilayer reflective films, active layers, clad layers, or window materials that have a wider band gap than the active layer and are provided on the end face of the active layer, one or more of which are minute It is configured to be embedded in the opening. In addition, as an antireflection film, SiO 2 A dielectric material such as can be used.
[0016]
In order to achieve the above object, the present invention is positioned on the laser beam output side. On a flat surface Configure part of the resonator Having a size of 100 nm or less A metal light-shielding body in which a minute opening is formed, and a central metal body is provided at the center of the minute opening, and in the minute opening To be almost the same surface as the surface of the metal shading body There is provided an optical head comprising: a semiconductor laser in which a laser light transmitting material is embedded; and a flying slider that holds the semiconductor laser and floats on an optical disk.
[0017]
In order to achieve the above object, the present invention provides an optical disk on which a recording medium is formed and a laser beam output side. On a flat surface Configure part of the resonator Having a size of 100 nm or less A metal light-shielding body in which a minute opening is formed, and a central metal body is provided at the center of the minute opening, and in the minute opening To be almost the same surface as the surface of the metal shading body There is provided an optical disk apparatus comprising an optical head having a semiconductor laser in which a laser light transmitting material is embedded, and a flying slider that holds the semiconductor laser and floats on the optical disk.
[0018]
In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor laser material having a laser beam output surface, and forms a recess by etching a portion excluding a donut-shaped region set on the laser beam output surface. A metal body is deposited on the recess by a photolithography process or a focused ion beam method. Thus, the semiconductor laser according to claim 1 is manufactured. A method for manufacturing a semiconductor laser is provided.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1A shows an optical head according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1B shows a main part of a semiconductor laser used therefor. In addition, the size of each part is not according to the dimension, and the smaller and thinner part is enlarged. This optical head 1 has a flying slider 11, and an edge-emitting semiconductor laser 2 oscillating at a wavelength of 650 nm made of an AlGaInP-based semiconductor crystal is arranged at the rear end portion 11 of the flying slider 11. .
[0020]
In the edge-emitting semiconductor laser 2, as shown in FIG. 1A, the high-reflection multilayer film 10 a and the low-reflection multilayer film 10 b constituting the resonator of the laser 2 are arranged on the rear end face and the front end face of the crystal part 20, respectively. The metal light-shielding body 4 having the coaxial opening 15 is disposed on the surface of the low reflection multilayer film 10b. The coaxial opening 15 includes a rectangular opening 50 and a central metal body 51 having a rectangular shape that is coaxially disposed at the center of the opening 50.
[0021]
The highly reflective multilayer film 10a has a reflectivity of about 95%. On the other hand, the low-reflection multilayer film 10b is formed on the crystal cleavage surface 26 and has a high refractive index TiO. 2 And low refractive index SiO 2 It has a reflectance of about 20 to 30%.
[0022]
The metal light shield 4 is made of Ag having a thickness of 60 nm, reflects a considerable portion of the laser light into the laser 2 and constitutes a composite resonator together with the low reflection multilayer film 10b. In addition, the metal light-shielding body 4 may be another metal as long as the adherence is good. When the central metal body 51 arranged at the center of the coaxial opening 15 is about 1/3 of the size of the opening 50, the attenuation of the laser beam due to the coaxial is the smallest, but if it is about 20 nm or less, the attenuation is reduced. Is negligible, so the size is 20 nm. The length of the side of the opening 50 is not particularly limited, but about 50 to 100 nm is suitable for stable production. Each side is arranged so as to be parallel or perpendicular to a recording track (not shown) of the optical disc 7.
[0023]
As shown in FIG. 2B, the crystal unit 20 sequentially stacks an n-type AlGaInP cladding layer 22, a GaInP active layer 23, a p-type AlGaInP cladding layer 24, and a GaAs cap layer 25 on a GaAs substrate crystal 21. It is what. The metal light-shielding body 4 is formed on the tip surface of the crystal part 20, and the coaxial opening 15 and the metal light-shielding body 4 are made of SiO. 2 It is covered with an antireflection film 27 made of
[0024]
In the coaxial opening 15, as shown in FIG. 5B, the low reflection multilayer film so that the surface (output surface) 3 of the low reflection multilayer film 10 b and the surface 4 a of the metal light-shielding body 4 are substantially flush with each other. 10b is embedded, and the surface 3 side of the opening 5a embedded in the coaxial opening 15 has a high refractive index (about 2.25) TiO. 2 The film 5b is disposed.
[0025]
An example of a method for forming the coaxial opening 15 will be described. Parts of the low reflection multilayer film 10b other than the donut-shaped opening 5a embedded in the coaxial opening 15 are removed by etching, and the metal light-shielding body 4 and the central metal body 51 are attached to the removed part. Although a photolithography process can be used for etching, the edge surface width of the edge-emitting semiconductor laser is as narrow as 0.5 mm or less, and therefore, by focused ion beam (FIB method) using Ga ions. It is preferred to do so. For the deposition of the metal shading body 4 and the central metal body 51, the FIB method may be used similarly to the etching. Since the metal light-shielding body 4 has a thickness of 60 nm, it is possible to prevent leakage of laser light from this portion.
[0026]
Next, the operation of the optical head 1 of the present embodiment will be described. Here, a description will be given of an optical disk 7 in which a phase change recording medium 7a made of GeSbTe is formed on a substrate 7b as an object to be recorded and reproduced. The present optical head 1 floats on the recording medium 7 a of the disk 7 by a flying slider 11 with a flying height of several tens of nanometers. The edge-emitting semiconductor laser 2 oscillates between the reflective multilayer films 10a and 10b constituting the resonator when a forward current is applied. When the input of the edge emitting semiconductor laser 2 is modulated based on the recording information, the laser beam 6 is radiated from the coaxial opening 15 as propagating light by the modulation. Recording is performed by irradiating the recording medium 7a with the propagating light. During reproduction, the laser 2 is not modulated, the continuous light is irradiated onto the recording medium 7 a, and the reflected light from the recording medium 7 a is incident again into the laser 2 through the coaxial opening 15. This re-incident light modulates the oscillation state of the laser 2 itself (self-coupling effect), and information is reproduced by electrically detecting it from an input terminal (not shown) of the laser 2.
[0027]
According to the first embodiment described above, the low-reflection multilayer film 10b, which is a semiconductor laser material, is embedded in the coaxial opening 15, and TiO having a high refractive index is formed on the surface (output surface) 3 side of the opening 5a. 2 Since the film 5b is arranged, this TiO 2 The wavelength of the laser beam in the film 5b is shortened (300 nm or less), and the laser beam is easily emitted from the coaxial opening 15. Further, by using the rectangular coaxial opening 15, the radiated light also has a rectangular shape, and even if the recording track width is narrowed, there is little crosstalk with adjacent tracks, and the recording density in the track direction can be increased.・ High-density recording is possible. Further, since the antireflection film 27 is provided on the surface 3 of the coaxial opening 15, reflection inside the laser 2 at the coaxial opening 15 can be reduced, and light utilization efficiency can be further increased. Further, since the entire metal light shielding body 4 is covered with the antireflection film 27, a photolithography process is not required when the antireflection film 27 is deposited, and the metal light shielding body 4 has an effect as a protective film.
Note that a photodetector (not shown) may be provided outside the highly reflective multilayer film 10a at the rear end of the laser 2, and the modulation state of the laser 2 may be detected by the photodetector. In this case, the SN ratio of the reproduction signal can be increased by slightly reducing the reflectance of the highly reflective multilayer film 10a and increasing the transmittance to 10% or more.
[0028]
FIG. 2 shows a main part of a semiconductor laser according to the second embodiment of the present invention. The second embodiment is an edge-emitting semiconductor laser 2 similar to the first embodiment, but the side of the short side direction of the coaxial opening 15 is 1 / of the wavelength in the resonator of the laser 2. The opening 50 of the present embodiment has a rectangular shape of, for example, 50 nm × 150 nm, which is shorter than 2 and whose longitudinal side is longer than ½ of the wavelength in the resonator of the laser 2. . Similarly, the minute metal body 51 has a rectangular shape along the opening 50. This edge-emitting semiconductor laser 2 has a refractive index guided structure in which the oscillation region 8 is limited by a ridge 28, and a quantum well having a width of about 10 nm is used for the active layer 23. The oscillation region 8 has an elliptical shape with a horizontal direction of 2 to 3 μm and a vertical direction of 1 μm with the active layer 23 as the center. The coaxial opening 15 is provided substantially at the center of the oscillation region 8 and the side in the longitudinal direction is parallel to the active layer 23 as shown in FIG. Such an arrangement of the coaxial aperture 15 maximizes the intensity of the laser light incident on the coaxial aperture 15. Further, the side in the longitudinal direction of the opening 50 may be perpendicular to the active layer 23 as shown in FIG. Thereby, the direction of the coaxial opening 15 with respect to the recording track can be changed without changing the direction in which the laser 2 is attached to the optical head.
[0029]
According to the second embodiment described above, since the inside of the coaxial opening 15 is filled with the semiconductor laser material as in the first embodiment, the laser light is easily emitted from the coaxial opening 15. When a magnetic recording medium or the like used for an optical disk or hard disk is used for recording / reproduction, the longitudinal direction of the coaxial opening 15 may be parallel to the recording track. In recording on a magnetic recording medium used for an optical disk or a hard disk, recording is performed by modulating the magnetic field. Therefore, every time the magnetic field is reversed, recording is performed while the next mark is erased after the mark recorded immediately before that. Thus, the light utilization efficiency can be increased without substantially reducing the recording density.
[0030]
FIG. 3 shows a main part of a semiconductor laser according to the third embodiment of the present invention. In the third embodiment, in the first embodiment, a slope 50a is formed on the edge 4b on the opening 50 side of the metal light shield 4 and the edge 4b is tapered so as to spread toward the inside of the laser 2. An inclined surface 51a is formed around the central metal body 51 so that the periphery of the central metal body 51 is tapered toward the inside of the laser 2, and the others are configured in the same manner as in the first embodiment. Thereby, the condensing effect can be given to the edge 4b of the metal light shield 4 and the periphery of the central metal body 51, and the intensity of the laser beam from the coaxial opening 15 can be increased.
[0031]
4A and 4B show the main part of a semiconductor laser according to the fourth embodiment of the present invention. The fourth embodiment is the same as the first embodiment except that AlGaInP, which is a semiconductor material, is embedded in the coaxial opening 15 in the first embodiment.
[0032]
In the semiconductor laser 2 shown in FIG. 4A, the cleaved surface 26 of the laser crystal is etched by the FIB method to remove portions other than the donut-shaped opening 5a, and the removed portion is made of an insulating film made of a SiN film. A metal light-shielding body 4 made of Ag is deposited through a film 29, and the coaxial opening 15 and the metal light-shielding body 4 are made to be SiO 2. 2 It is covered with an antireflection film 27 made of Further, the resonator of the laser 2 constitutes one resonator mirror by the metal light shield 4 and the highly reflective multilayer film 10b (not shown) on the rear end face.
[0033]
In the semiconductor laser 2 shown in FIG. 4B, a non-doped high resistance AlGaInP layer 29a is regrown on the cleaved surface 26, and portions other than the donut-shaped opening 5a of the AlGaInP layer 29a are removed by etching. The metal shading body 4 and the central metal body 51 are deposited on the removed portion.
[0034]
According to the fourth embodiment described above, since the semiconductor material AlGaInP having a high refractive index (about 3.5) is embedded in the coaxial aperture 15, the wavelength in this is shortened to 200 nm or less, and the coaxial aperture Coupling efficiency with 15 can be increased. Therefore, when the size of the opening 50 is 50 nm as in the first embodiment, the transmittance of the laser beam can be significantly increased. Further, since the coaxial opening 15 and the metal light-shielding body 4 are covered with the antireflection film 27, the ratio of reflection inside the resonator of the laser 2 can be reduced, the light utilization efficiency is improved, and the semiconductor crystal is deteriorated. Can be prevented.
[0035]
FIG. 5 shows a main part of a semiconductor laser according to the fifth embodiment of the present invention. The fifth embodiment is the same as the fourth embodiment except that a surface emitting semiconductor laser (VCSEL) 2 that performs laser oscillation perpendicular to the active layer is used as a semiconductor laser. The surface-emitting type semiconductor laser 2 includes a highly reflective multilayer film 10a, an n-type spacer layer 31, an AlGaInP active layer 32, a p-type AlAs layer 33, a spacer layer 34, and a high reflectance having a partial transmittance on a GaAs substrate 11. A multilayer film 10c and a phase adjustment layer 35 made of AlGaInP are sequentially stacked, and a portion of the phase adjustment layer 35 other than the doughnut-shaped opening 5a is removed by etching to form a p-type electrode 38, a metal light shield 4 and a central metal body 51. The surfaces of the coaxial opening 15 and the metal light shielding body 4 are covered with an antireflection film 39.
[0036]
The phase adjustment layer 35 has a thickness obtained by adding the thickness of the metal light shield 4 to a thickness of ¼ of the oscillation wavelength, and the etching depth is made equal to the thickness of the metal light shield 4. Thereby, the surface (output surface) 3 of the opening part 5a and the surface 4a of the metal light-shielding body 4 can be formed on the same plane. In addition, the phase adjustment layer 35 can make the phase of the reflection at the metal light shield 4 and the reflection at the highly reflective multilayer film 10b uniform, thereby achieving a high reflection of 99% or more. The opening 5a has a lower reflectance, and a relatively high intensity laser beam reaches the opening 5a. The wavelength of the laser light is shortened in inverse proportion to the refractive index of the phase adjustment layer 35, and is about 180 nm. For this reason, relatively strong propagating light can be generated even in the coaxial opening 15 having a side of 50 nm.
[0037]
FIG. 6 shows the coaxial opening 15. As shown in FIG. 6A, the coaxial opening 15 is provided at the center of the oscillation region 8 having a diameter of 3 μm, and the opening 50 has a square with a side of 50 nm. Further, when the oscillation region is narrowed to 1 μm or less, the ratio of light re-entering from the coaxial aperture 15 with respect to the light intensity in the resonator increases, and the self-coupling effect is enhanced, so that the SN of the reproduction signal is large. It is possible and suitable. However, in this case, the transverse mode of laser oscillation is the TEM01 mode as indicated by 40 in FIG. 4B, the center intensity is reduced, and the intensity is about the radius 1/2 of the oscillation region 8. For this reason, as shown in FIG. 4B, the aperture coaxial 15 can be set at a position shifted from the center by a distance of a radius ½, whereby generation of light from the coaxial aperture 15 can be maximized. In the TEM01 mode, since the oscillation intensity distribution is unstable, a portion for partially reducing the reflectivity may be provided on the output side of the resonator to fix the oscillation position.
[0038]
Next, an example of a method for manufacturing the surface emitting semiconductor laser 2 will be described. On the GaAs substrate 11, a highly reflective multilayer film 10a composed of an n-type AiGaP layer and an n-type GaInP layer having a quarter wavelength thickness, an n-type spacer layer 31, an AlGaInP active layer 32, a p-type AlAs layer 33, a spacer layer 34, a highly reflective multilayer film 10c made of a p-type AiGaP layer and a p-type GaInP layer having a quarter wavelength thickness, and a phase adjustment layer 35 made of AlGaInP are sequentially stacked by crystal growth, and then etched to form a port of the laser 2 The portions other than the portion 36 are removed, and the AlAs layer 33 is further oxidized from the surroundings by thermal oxidation using water vapor to form an AlOx layer 37. Since AiOx has a refractive index lower than that of the AlGaInP layer, a waveguide is formed, and since it is insulative, current confinement is also performed at the same time, whereby the oscillation region 8 can be formed. Thereafter, the phase adjustment layer 35 is removed by etching leaving the donut-shaped opening 5a and the electrode portion, and the p-type electrode 38, the metal light-shielding body 4, and the central metal body 51 are attached to the removed portion. In the case of a VCSEL, since the process can be performed in units of wafers without cleaving, the coaxial opening 15 can be formed using a photolithography process, but the FIB method may be used. Thereafter, an antireflection film 39 is deposited on the coaxial opening 15 and the surface 4 a of the metal light shield 4.
[0039]
According to the fifth embodiment described above, since the phase adjustment layer 35 made of AlGaInP having a high refractive index (about 3.5) is embedded in the coaxial aperture 15, the laser beam can be emitted efficiently. .
[0040]
FIG. 7 shows a disk device according to a sixth embodiment of the present invention. This disk device 100 rotates an optical disk 7 rotated by a rotating shaft 130, a suspension 133 that supports the same optical head 1 as that of the first embodiment so as to be rotatable around a rotating shaft 133a, and a suspension 133. And a rotary linear motor 143 to be moved.
[0041]
The optical disc 7 has a phase change recording medium made of GeSbTe. When the reflected light from the optical disk 7 is detected by the photodetector provided at the rear part of the semiconductor laser 2 by using the self-coupling effect of the semiconductor laser, the laser beam cannot be divided by the photodetector, so that a tracking error signal is formed. Uses the sample servo method. That is, a staggered mark (not shown) provided on the optical disc 7 is used, and a positional shift is detected from the magnitude of reflected light when the light spot passes through the left and right staggered marks.
[0042]
According to the sixth embodiment described above, the rotary linear motor 143 can be disposed outside the optical disk 7, so that the optical head 1 can be made thin and the entire disk device 100 can be downsized. This also allows the optical disc 7 to be rotated at a high speed (3600 rpm), and an average data transfer rate of 360 Mbps or higher is possible.
It is also possible to perform tracking in the high frequency region by attaching the semiconductor laser 2 to the flying slider via a piezoelectric element and applying a servo signal to the piezoelectric element.
In addition, a magnetic recording medium for a magnetic hard disk or a magneto-optical recording medium such as GaFeCo is used as a recording medium, and a GMR sensor (not shown) for detecting a signal by a magnetoresistive effect is attached to a slider to reproduce a recorded signal. It is also possible to do this. As a result, a high transfer rate for recording and reproduction can be achieved, and since the laser 2 is used only for recording and no re-incident light is used, it is possible to output recording laser light such as increasing the reflectance of the resonator. Can be optimized.
In the optical disk device 100, the semiconductor lasers of the second to fifth embodiments may be used.
[0043]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, since the material having the laser beam transmissivity is embedded in the coaxial opening, the intensity of the laser beam incident on the recording medium can be greatly increased. Recording density can be increased, and miniaturization and improvement of the data transfer rate can be achieved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1A is a diagram showing an optical head according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a diagram showing a main part of a semiconductor laser used therefor.
FIGS. 2A and 2B are diagrams showing a semiconductor laser according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a view showing a main part of a semiconductor laser according to a third embodiment of the invention.
FIGS. 4A and 4B are diagrams showing a main part of a semiconductor laser according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a diagram showing a semiconductor laser according to a fifth embodiment of the present invention.
FIGS. 6A and 6B are diagrams showing the positions of coaxial openings.
FIG. 7 is a perspective view showing an optical disc apparatus according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a sectional view showing a conventional optical head.
FIG. 9 is a sectional view showing a conventional semiconductor laser.
FIGS. 10A and 10B are diagrams for explaining conventional problems.
FIG. 11 is a diagram showing the relationship between aperture size and optical output power
12A is a diagram showing a conventional semiconductor laser having a coaxial aperture, and FIG. 12B is a diagram showing the details of part A of FIG.
13 is a diagram showing problems of the semiconductor laser shown in FIG.
[Explanation of symbols]
1 Optical head
2 Semiconductor laser
3 Output surface of semiconductor laser
4 Metal shade
5a opening
5b TiO 2 film
6 output laser light
7 Optical disc
7a Recording medium
7b substrate
8 Laser oscillation region
10a, 10c highly reflective multilayer film
10b Low reflection multilayer film
11 Levitation slider
15 Coaxial opening
20 Crystal part for semiconductor laser
21 Laser substrate
22 n-type cladding layer
23 Active layer
24 p-type cladding layer
25 Cap layer
26 Open face
27 Anti-reflective coating
28 Ridge
29 AiGaInP layer
31 Spacer layer
32 Active layer
33 AlAs layer
34 Spacer layer
35 Phase adjustment layer
36 Laser port
37 AlOx layer
38 p electrode
39 Anti-reflective coating
40 Transverse mode of semiconductor laser
50 openings
50a slope
51 Central metal body
51a slope
61 Light collector
61a Slope of light collector
62 Dielectric layer
63 Metal film
65 Micro coaxial body
66 Central Metal Body
100 disk unit
130 Rotating shaft
133 suspension
133a Rotating shaft
143 Rotary linear motor

Claims (19)

レーザ光出射側に位置する平坦な面に共振器の一部を構成する100nm以下のサイズを有する微小開口が形成された金属遮光体を備え、
前記微小開口の中心に中心金属体が設けられるとともに、
前記微小開口内に前記金属遮光体の表面とほぼ同一の面となるようにレーザ光透光性の材料が埋め込まれてなることを特徴とする半導体レーザ。
A metal light-shielding body in which a minute opening having a size of 100 nm or less and constituting a part of the resonator is formed on a flat surface located on the laser beam emission side;
A central metal body is provided at the center of the minute opening,
A semiconductor laser characterized in that a laser light transmitting material is embedded in the minute opening so as to be substantially the same surface as the surface of the metal light-shielding body .
前記材料は、半導体レーザ構造の一部を構成することを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。  2. The semiconductor laser according to claim 1, wherein the material constitutes a part of a semiconductor laser structure. 前記微小開口内に埋め込まれている半導体レーザ構造は、反射膜、多層反射膜、活性層、クラッド層あるいは窓材料のうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ。  3. The semiconductor laser according to claim 2, wherein the semiconductor laser structure embedded in the minute opening is at least one of a reflection film, a multilayer reflection film, an active layer, a cladding layer, and a window material. 前記材料は、反射防止膜であることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。  2. The semiconductor laser according to claim 1, wherein the material is an antireflection film. 前記材料は、その表面が前記金属遮光体の表面とほぼ同一面となるように構成された請求項1記載の半導体レーザ。  The semiconductor laser according to claim 1, wherein the surface of the material is configured to be substantially flush with the surface of the metal light shield. 前記材料は、その表面に反射防止膜が形成された構成の請求項1記載の半導体レーザ。  The semiconductor laser according to claim 1, wherein the material has an antireflection film formed on a surface thereof. 前記微小開口は、矩形状を有する構成の請求項1記載の半導体レーザ。  The semiconductor laser according to claim 1, wherein the minute opening has a rectangular shape. 前記微小開口は、長辺が共振器内での波長の1/2よりも長い長方形を有する構成の請求項1記載の半導体レーザ。  2. The semiconductor laser according to claim 1, wherein the minute aperture has a rectangular shape whose long side is longer than ½ of the wavelength in the resonator. 前記金属遮光体は、前記微小開口の周辺部にレーザ内部に向かって広がるテーパー形状を有する構成の請求項1記載の半導体レーザ。  The semiconductor laser according to claim 1, wherein the metal light shield has a tapered shape extending toward the inside of the laser at a peripheral portion of the minute opening. 前記中心金属体は、周辺部にレーザ内部に向かって狭くなるテーパー形状を有する構成の請求項9記載の半導体レーザ。  The semiconductor laser according to claim 9, wherein the central metal body has a tapered shape that narrows toward the inside of the laser at a peripheral portion. 前記半導体レーザは、端面発光型半導体レーザである構成の請求項1記載の半導体レーザ。  The semiconductor laser according to claim 1, wherein the semiconductor laser is an edge emitting semiconductor laser. 前記半導体レーザは、面発光型半導体レーザである構成の請求項1記載の半導体レーザ。  The semiconductor laser according to claim 1, wherein the semiconductor laser is a surface emitting semiconductor laser. 前記微小開口は、前記面発光型半導体レーザの発振領域の中心から発振領域の半径の1/2程度離れた位置に形成された構成の請求項12記載の半導体レーザ。The minute aperture, the surface-emitting type semiconductor laser center from the semiconductor laser of the radius of 1/2 as claimed in claim 12, wherein the structure formed on DoHanare position of the oscillating region of the oscillation region of. レーザ光出力側に位置する平坦な面に共振器の一部を構成する100nm以下のサイズを有する微小開口が形成された金属遮光体を備え、前記微小開口の中心に中心金属体が設けられるとともに、前記微小開口内に前記金属遮光体の表面とほぼ同一の面となるようにレーザ光透過性の材料が埋め込まれてなる半導体レーザと、
前記半導体レーザを保持するとともに、光ディスク上を浮上走行する浮上スライダとを備えたことを特徴とする光ヘッド。
A metal light-shielding body having a minute aperture having a size of 100 nm or less constituting a part of the resonator is formed on a flat surface located on the laser beam output side, and a central metal body is provided at the center of the minute aperture. A semiconductor laser in which a laser light transmissive material is embedded in the minute opening so as to be substantially the same surface as the surface of the metal light-shielding body ,
An optical head, comprising: a flying slider that holds the semiconductor laser and floats on an optical disk.
前記微小開口は、長手方向が前記光ディスクの記録トラックに対して垂直方向の長方形を有する構成の請求項14記載の光ヘッド。  15. The optical head according to claim 14, wherein the minute opening has a rectangular shape whose longitudinal direction is perpendicular to the recording track of the optical disc. 前記微小開口は、長手方向が前記光ディスクの記録トラックに対して平行方向の長方形を有する構成の請求項14記載の光ヘッド。  15. The optical head according to claim 14, wherein the minute opening has a rectangular shape whose longitudinal direction is parallel to the recording track of the optical disc. 前記半導体レーザは、前記浮上スライダの後端部に取り付けられた構成の請求項14記載の光ヘッド。  The optical head according to claim 14, wherein the semiconductor laser is attached to a rear end portion of the flying slider. 記録媒体が形成された光ディスクと、
レーザ光出力側に位置する平坦な面に共振器の一部を構成する100nm以下のサイズを有する微小開口が形成された金属遮光体を備え、前記微小開口の中心に中心金属体が設けられるとともに、前記微小開口内に前記金属遮光体の表面とほぼ同一の面となるようにレーザ光透過性の材料が埋め込まれてなる半導体レーザと、前記半導体レーザを保持するとともに、光ディスク上を浮上走行する浮上スライダとを有する光ヘッドを備えたことを特徴とする光ディスク装置。
An optical disc on which a recording medium is formed;
A metal light-shielding body having a minute aperture having a size of 100 nm or less constituting a part of the resonator is formed on a flat surface located on the laser beam output side, and a central metal body is provided at the center of the minute aperture. A semiconductor laser in which a laser light-transmitting material is embedded in the minute opening so as to be substantially the same surface as the surface of the metal light-shielding body, and holding the semiconductor laser and flying above the optical disk An optical disk apparatus comprising an optical head having a flying slider.
レーザ光出力面を有する半導体レーザ材料を準備し、
前記レーザ光出力面上に設定されたドーナツ状領域を除く部分をエッチングすることにより凹部を形成し、前記凹部にフォトリソグラフィ工程あるいは収束イオンビーム法によって金属体を被着することにより、請求項1に記載の半導体レーザを製造することを特徴とする半導体レーザの製造方法。
Preparing a semiconductor laser material having a laser beam output surface;
By the portions excluding the donut-like region set in the laser light output surface on a recess by etching, depositing a metal member by a photolithography process or a focused ion beam method in the recess, claim 1 A method for manufacturing a semiconductor laser, comprising: manufacturing the semiconductor laser according to 1).
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