JP3982299B2 - Laser optical system for laser Compton scattered X-ray and X-ray generator using the same - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系及びそれを用いたX線発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図5は従来のX線発生装置の原理図であり、図6は図5の楕円領域Aの拡大図である。
【0003】
図5に示すX線発生装置1は、レーザシンクロトロン放射光源(LSS)であり、主にレーザ光2を発生するレーザ光源3と、レーザ光を集光、コリメートするレンズ群4と、電子ビームを発生する電子銃(図示せず。)と、電子ビームを加速する加速器(図示せず。)と、加速器からの電子ビームを集光、コリメートする4極マグネット5と、レーザ光2と電子ビームとを衝突させるためのコンプトンセル6と、コンプトンセル6内を通過する電子ビームとコンプトンセル6内で発生したX線と電子ビームとを分離するためのダイポール7とで構成されている。
【0004】
図6に示すコンプトンセル6は、ケーシング8と、ケーシング8内の一方の側(図では左側)に配置され、中央に貫通孔9が形成され、ケーシング8の長手方向に対して直角に入射したレーザ光2をケーシング8の長手方向に反射すると共に集光する第1の凹面鏡(図では左側)10と、ケーシング8内の他方の側(図では右側)に配置され、中央に貫通孔11が形成され、第1の凹面鏡10からのレーザ光2をケーシング8の長手方向に対して直角に出射する第2の凹面鏡(図では右側)12とを有し、ケーシング8の他方の側から入射した電子ビームe-が両凹面鏡10、12の貫通孔9、11を通過するようになっている。コンプトンセル6内では両凹面鏡10、12の間を通過するレーザ光2と、両貫通孔9、11を通過する電子ビームe-とが衝突するようになっている。
【0005】
なお、13は電子ビームe-の位置を観測するためのBPM(ビームポジションモニタ)であり、14は電子ビームe-の位置を微調整するためのステアリングコイルである。15はコンプトンセル6内のレーザ光2を観測するためのIRカメラであり、16はコンプトンセル6からの電子ビームe-を観測するためのファラディカップである。17はベリリウムウィンドウであり、18はダイポール7で分離されたX線を観測するためのX線検知器である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、コンプトンセル6内ではレーザ光2と電子ビームe-とは一見正面衝突しているように見えるが、完全な正面衝突ではなく所定角度だけ斜めに1個所で衝突している。これは、両凹面鏡10、12のように孔あきミラーを用いると、レーザ光2の光軸と電子ビームe-の軌道とを完全に一致させることができないためである。このため、レーザを同期させ増幅する必要があり、両凹面鏡10、12には貫通孔9、11があるのでレーザ光が損失し、その分だけX線の発生効率に限界があるという問題があった。
【0007】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、X線の発生効率を向上させたレーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系及びそれを用いたX線発生装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項1に記載の発明は、加速器からの電子ビームとレーザ光源からのレーザ光とを衝突させてX線を発生させるX線発生装置に用いられるレーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系であって、レーザ光が入射されるハーフミラーと、ハーフミラーの透過光路上に配置され、レーザ光の反射面とX線の反射面とが異なると共にレーザ光の反射光路が加速器の直線状の電子ビーム軌道と一致するように配置された非対称ミラーと、加速器を通過したレーザ光を再び電子ビーム軌道へ戻す第1のミラーと、第1のミラーで反射されたレーザ光が加速器を通過して非対称ミラー及びハーフミラーで反射した後ハーフミラーの透過光路と一致するようにハーフミラーに反射させる第2のミラーとを備えたものである。
【0009】
請求項2に記載の発明は、加速器からの電子ビームとレーザ光源からのレーザ光とを衝突させてX線を発生させるX線発生装置に用いられるレーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系であって、レーザ光が入射されるハーフミラーと、ハーフミラーの透過光路上に配置され、レーザ光の反射面とX線の反射面とが異なると共にレーザ光の反射光路が加速器の直線状の電子ビーム軌道と一致するように配置された非対称ミラーと、加速器を通過したレーザ光をハーフミラーの透過光路と一致するようにハーフミラーに反射させる複数のミラーとを備えたものである。
【0010】
請求項3に記載の発明は、加速器からの電子ビームとレーザ光源からのレーザ光とを衝突させてX線を発生させるX線発生装置において、レーザ光が入射されるハーフミラーと、ハーフミラーの透過光路上に配置され、レーザ光の反射面とX線の反射面とが異なると共にレーザ光の反射光路が加速器の直線状の電子ビーム軌道と一致するように配置された非対称ミラーと、加速器を通過したレーザ光を再び電子ビーム軌道へ戻す第1のミラーと、第1のミラーで反射されたレーザ光が加速器を通過して非対称ミラー及びハーフミラーで反射した後ハーフミラーの透過光路と一致するようにハーフミラーに反射させる第2のミラーとを備えたものである。
【0011】
請求項4に記載の発明は、加速器からの電子ビームとレーザ光源からのレーザ光とを衝突させてX線を発生させるX線発生装置において、レーザ光が入射されるハーフミラーと、ハーフミラーの透過光路上に配置され、レーザ光の反射面とX線の反射面とが異なると共にレーザ光の反射光路が加速器の直線状の電子ビーム軌道と一致するように配置された非対称ミラーと、加速器を通過したレーザ光をハーフミラーの透過光路と一致するようにハーフミラーに反射させる複数のミラーとを備えたものである。
【0012】
本発明によれば、レーザ光源からのレーザ光は、ハーフミラーを通過すると、非対称ミラーで反射されて加速器に入射して直線状の電子ビーム軌道を通過すると共に電子ビームと正面衝突する。加速器から出射したレーザ光は第1のミラーで反射されて再び加速器に入射して直線上の電子ビーム軌道を通過して加速器から出射し非対称ミラーで反射され、ハーフミラーで反射された後第2のミラーで反射されてハーフミラー、非対称ミラー、加速器及び第1のミラーからなる光路を複数回往復すると共に電子ビームと正面衝突を繰り返しレーザ逆コンプトン散乱X線が発生する。このため、散乱断面積が大きくなりX線(γ線)の発生効率が向上する。発生したX線は非対称ミラーでレーザ光とは異なる角度で反射する。
【0013】
また、本発明によれば、レーザ光源からのレーザ光は、ハーフミラーを通過すると、非対称ミラーで反射されて加速器に入射して直線状の電子ビーム軌道を通過すると共に電子ビームと正面衝突する。衝突後レーザ光は加速器から出射し複数のミラー、ハーフミラー及び非対称ミラーで反射し、再び加速器に入射して直線上の電子ビーム軌道と通過すると共に電子ビームと正面衝突する。すなわち、レーザ光は非対称ミラー、加速器、ミラー、ハーフミラーからなるループ状の光路を周回しながら、電子ビームと複数回正面衝突を繰り返してレーザ逆コンプトン散乱X線が発生する。このため、散乱断面積が大きくなりX線(γ線)の発生効率が向上する。発生したX線は非対称ミラーでレーザ光とは異なる角度で反射する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【0015】
図1は本発明のレーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系を用いたX線発生装置の一実施の形態を示す概念図である。図2は図1に示したX線発生装置に用いられる非対称ミラーの概念図であり、図3は図2に示した非対称ミラーの他の概念図である。
【0016】
図1に示すX線発生装置20は、主にレーザ光源21と、レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系22と、電子ビームe-を発生する電子銃(図示せず。)と、電子ビームe-を加速する加速器23とで構成されている。
【0017】
レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系22は、レーザ光源21からのレーザ光24が入射されるハーフミラー25と、ハーフミラー25を通過したレーザ光の光路24−1上に配置され、光路24−1上のレーザ光の反射光路24−2が加速器23の直線状の電子ビーム軌道(光路)28と一致するように配置された非対称ミラー26と、加速器23を通過して光路24−3上を進むレーザ光を再び電子ビーム軌道28へ戻す第1のミラー(凹面鏡でもよい。)29と、第1のミラー29で反射されて光路24−3を進むレーザ光が加速器23を通過して光路24−2を通り、非対称ミラー26の可視光反射面26a及びハーフミラー25で反射して光路24−4を通った後ハーフミラー25の透過光路24−1と一致するようにハーフミラー25に反射させる第2のミラー(凹面鏡でもよい。)30とで構成されている。
【0018】
非対称ミラー26は、図2に示すように結晶(例えばBe)からなっており、可視光反射面26aが結晶面(X線反射面)26bに対し角度θ2だけ傾斜するように形成されている。
【0019】
レーザ光源21には例えば炭酸ガスレーザ(パルスレーザ)が用いられるが、YAGレーザや銅蒸気レーザ等の高出力レーザを用いてもよい。
【0020】
ハーフミラー25には例えば平行平面ガラスに金属薄膜あるいは誘電体多層膜をコーティングしたものが用いられる。
【0021】
レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系22の各ミラー25、26、29、30の光軸調整は図示しないステッピングモータ(或いはギヤードモータ)で行われる。
【0022】
なお、Lnaは非対称ミラー26の可視光反射面26aの法線であり、LnxはX線反射面26bの法線であり、L25はハーフミラー25の可視光反射面の法線である。
【0023】
次に図1に示したX線発生装置の動作について図2を参照して説明する。
【0024】
図1に示すレーザ光源21から出射されたレーザ光24は、ハーフミラー25を透過し、非対称ミラー26の可視光反射面26aで反射されて光路24−2を通って加速器23に入射する。加速器23に入射したレーザ光は、加速器23の直線状の電子ビーム軌道28を通過する際に電子ビームe-と正面衝突する。この衝突によりレーザ逆コンプトン散乱X線27−1が発生する。加速器23を通過したレーザ光は光路24−3を通って第1のミラー29に進み、第1のミラー29で反射されて再び光路24−3を通って加速器23に入射し、直線状の電子ビーム軌道28を通過して加速器23から出射する。加速器23から出射したレーザ光は光路24−2を進み、非対称ミラー26の可視光反射面26aで反射される。可視光反射面26aで反射されたレーザ光は光路24−1を通ってハーフミラー25に向かう。光路24−1上のレーザ光はハーフミラー25で反射されて第2のミラー30に向かう。第2のミラー30で反射されたレーザ光は光路24−4を逆に辿ってハーフミラー25、非対称ミラー26、加速器23及び第1のミラー29を通る光路24−1〜24−4、28を複数回往復すると共に直線状の電子ビーム軌道28で電子ビームe-と正面衝突を繰り返し、そのたびにX線(或いはγ線)27−1が発生する。
【0025】
加速器23内で発生したX線27−1は光路24−2上のレーザ光と共に非対称ミラー26に入射する。図2に示すようにX線27−1と、光路24−2上のレーザ光とが非対称ミラー26に入射すると、光路24−2上の可視光であるレーザ光は可視光反射面26aに入射角度θ1で入射して、反射角度θ1で反射するのに対し、X線27−1は非対称ミラー26の可視光反射面26aに対して入射角度θ1で入射するが、X線反射面(結晶面)26bでX線反射面26bに対して角度θ3で反射する(ブラッグ回折)。
【0026】
尚、結晶面26bの間隔をdとし、X線27−1、27−2の波長をλとし、X線27−1の結晶面26bに対する入射角度を(θ1+θ2)とすると、X線27−1、27−2の波長λは2dsin(θ1+θ2)を満たすようになっている。
【0027】
すなわち、加速器23内で発生したX線27−1は、非対称ミラー26のX線反射面26bで光路24−1上のレーザ光とは異なる角度で反射する。
【0028】
図3は図1に示したX線発生装置に用いられる非対称ミラーの変形例を示す概念図である。
【0029】
この非対称ミラー31は回折格子からなっており、反射面31a上に複数の溝32が所定の間隔で形成されている。
【0030】
このような非対称ミラー31を用いても図2に示した非対称ミラー26と同様の効果が得られる。
【0031】
図4は本発明のレーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系を用いたX線発生装置の他の実施の形態を示す概念図である。なお、図1に示した部材と同様の部材には共通の符号を用いた。
【0032】
図4に示すX線発生装置40の図1に示したX線発生装置20との相違点は、加速器23から出射したレーザ光を複数のミラー42〜44を用いてハーフミラー25、非対称ミラー26及び加速器23との間で周回させる点である。
【0033】
すなわち、図4に示したX線発生装置40は、主にレーザ光源21と、レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系41と、電子ビームe-を発生する電子銃(図示せず。)と、電子ビームe-を加速する加速器23とで構成されている。
【0034】
レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系41は、レーザ光24が入射されるハーフミラー25と、ハーフミラー25の透過光路24−1上に配置され、透過光路24−1上のレーザ光の反射光路24−2が加速器23の直線状の電子ビーム軌道28と一致するように配置された非対称ミラー26と、加速器23を通過した光路24−3上のレーザ光をハーフミラー25の透過光路24−1と一致するようにハーフミラー25に反射させる複数(図では3枚であるが限定されない。)のミラー42、43、44とで構成されている。なお、L42はミラー42の可視光反射面の法線を示し、L43はミラー43の可視光反射面の法線を示し、L44はミラー44の可視光反射面の法線をそれぞれ示す。
【0035】
このX線発生装置40が作動すると、レーザ光源21からのレーザ光24は、ハーフミラー25を透過し、非対称ミラー26の可視光反射面26aで反射される。非対称ミラー26の可視光反射面26aで反射されて光路24−2上を進むレーザ光は加速器23に入射して直線状の電子ビーム軌道28を通過する際に電子ビームe-と正面衝突してレーザコンプトン散乱X線27−1を発生する。電子ビームe-と衝突した後レーザ光は加速器23から出射して光路24−3を進んでミラー42に入射する。ミラー42に入射したレーザ光はミラー42で反射されて光路24−5を進みミラー43に入射する。ミラー43に入射したレーザ光はミラー43で反射されて光路24−6を進んでミラー44に入射する。ミラー44に入射したレーザ光はミラー44で反射されて光路24−7を進んでハーフミラー25に入射する。ハーフミラー25に入射したレーザ光はハーフミラー25で反射して光路24−1を通って非対称ミラー26に入射する。非対称ミラー26に入射したレーザ光は可視光反射面26aで反射し、光路24−2を通って再び加速器23に入射して直線上の電子ビーム軌道28を通過する際に電子ビームe-と正面衝突してレーザコンプトン散乱X線27−1を発生する。
【0036】
すなわち、レーザ光は非対称ミラー26、加速器23、ミラー42〜44、ハーフミラー25からなるループ状の光路24−1〜24−3、24−5〜24−7、28を周回しながら、加速器23内で電子ビームe-と複数回正面衝突を繰り返してそのたびにレーザ逆コンプトン散乱X線(若しくはγ線)27−1を発生する。この結果、散乱断面積が大きくなりX線27−1の発生効率が向上する。発生したX線27−1は非対称ミラー26のX線反射面26bで光路24−1上のレーザ光とは異なる角度θ2で反射する。
【0037】
このようなX線発生装置40においても図1に示したX線発生装置20と同様の効果が得られる。
【0038】
ここで、図1、図4に示したX線発生装置20、40において、Lをレーザ光路の全長(図1では1往復の長さ、図4では1周の長さ)とし、Cを光速(3×108m/s)とし、fをレーザ繰り返し周波数(数Hz程度)、1/fを繰り返し時間とし、Tをレーザ光が距離Lだけ進む時間(L/C)とすると、(1/f)/Tが整数倍となるときにレーザは同期し、これ以外のときには光路L上のレーザパルス位置がずれる。すなわち、本レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系を用いてレーザ光路長さL若しくは周波数fを変更することにより、直線状の電子ビーム軌道に多数のレーザパルスを生成することができ、電子ビームとレーザ光との散乱断面積を大きくすることができる。
【0039】
ところで、図4に示したX線発生装置40の場合は正面衝突のみであるが、図1に示したX線発生装置20の場合は正面衝突の他、180°衝突(追突)もある。しかしながら、追突の場合は入射側のミラーで回折されない(例えば正面衝突時の発生X線のエネルギーを50keVとすると、追突時の発生電磁波のエネルギーはわずか1eVしかないためである。)
なお、発生X線のエネルギーは数1式で表される。
【0040】
【数1】
【0041】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、X線の発生効率を向上させたレーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系及びそれを用いたX線発生装置の提供を実現させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のレーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系を用いたX線発生装置の一実施の形態を示す概念図である。
【図2】図1に示したX線発生装置に用いられる非対称ミラーの概念図である。
【図3】図1に示したX線発生装置に用いられる非対称ミラーの変形例を示す概念図である。
【図4】本発明のレーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系を用いたX線発生装置の他の実施の形態を示す概念図である。
【図5】従来のX線発生装置の原理図である。
【図6】図5の楕円領域Aの拡大図である。
【符号の説明】
21 レーザ光源
22、41 レーザコンプトン散乱X線用レーザ光学系
23 加速器
24 レーザ光
24−1〜24−7 光路
25 ハーフミラー
26 非対称ミラー
27−1、27−2 X線
28 直線状の電子ビーム軌道(光路)
29 第1のミラー
30 第2のミラー
42〜44 ミラー[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laser optical system for laser Compton scattered X-rays and an X-ray generator using the same.
[0002]
[Prior art]
FIG. 5 is a principle diagram of a conventional X-ray generator, and FIG. 6 is an enlarged view of an elliptical area A in FIG.
[0003]
An X-ray generator 1 shown in FIG. 5 is a laser synchrotron radiation light source (LSS), which mainly includes a laser light source 3 that generates
[0004]
The Compton cell 6 shown in FIG. 6 is arranged on the casing 8 and one side (left side in the figure) in the casing 8, a through
[0005]
Incidentally, 13 is an electron beam e - a BPM for observing the position (beam position monitor), 14 electron beam e - a steering coil for fine adjustment of the position.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In the Compton cell 6, the
[0007]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a laser optical system for laser Compton scattered X-rays and an X-ray generator using the same, which solve the above-described problems and improve the X-ray generation efficiency.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention provides a laser Compton scattered X-ray used in an X-ray generator for generating X-rays by colliding an electron beam from an accelerator and a laser beam from a laser light source. A laser optical system for a laser, which is disposed on a half mirror on which laser light is incident and a transmission optical path of the half mirror, the reflection surface of the laser light is different from the reflection surface of the X-ray, and the reflection light path of the laser light is an accelerator An asymmetrical mirror disposed so as to coincide with the linear electron beam trajectory, a first mirror for returning laser light that has passed through the accelerator to the electron beam trajectory, and laser light reflected by the first mirror. And a second mirror that is reflected by the asymmetric mirror and the half mirror and then reflected by the half mirror so as to coincide with the transmitted optical path of the half mirror.
[0009]
The invention according to
[0010]
According to a third aspect of the present invention, there is provided an X-ray generator for generating X-rays by colliding an electron beam from an accelerator and a laser beam from a laser light source. An asymmetrical mirror disposed on the transmission optical path, the laser light reflecting surface is different from the X-ray reflecting surface, and the laser light reflecting optical path coincides with the linear electron beam trajectory of the accelerator; The first mirror that returns the laser beam that has passed through to the electron beam trajectory again, and the laser beam reflected by the first mirror passes through the accelerator and is reflected by the asymmetric mirror and half mirror, and then matches the transmission optical path of the half mirror In this way, a second mirror that is reflected by the half mirror is provided.
[0011]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an X-ray generator for generating an X-ray by colliding an electron beam from an accelerator and a laser beam from a laser light source, and a half mirror on which the laser beam is incident, An asymmetrical mirror disposed on the transmission optical path, the laser light reflecting surface is different from the X-ray reflecting surface, and the laser light reflecting optical path coincides with the linear electron beam trajectory of the accelerator; The apparatus includes a plurality of mirrors that reflect the laser beam that has passed through the half mirror so as to coincide with the transmission optical path of the half mirror.
[0012]
According to the present invention, when the laser light from the laser light source passes through the half mirror, it is reflected by the asymmetric mirror, enters the accelerator, passes through the linear electron beam trajectory, and collides with the electron beam in front. The laser beam emitted from the accelerator is reflected by the first mirror, enters the accelerator again, passes through a linear electron beam trajectory, is emitted from the accelerator, is reflected by the asymmetric mirror, is reflected by the half mirror, and is then reflected by the second mirror. The laser reverse Compton scattered X-rays are generated by reciprocating the optical path consisting of the half mirror, the asymmetric mirror, the accelerator and the first mirror a plurality of times and repeating the frontal collision with the electron beam. For this reason, the scattering cross section is increased and the generation efficiency of X-rays (γ rays) is improved. The generated X-ray is reflected by the asymmetric mirror at an angle different from that of the laser beam.
[0013]
Further, according to the present invention, when the laser light from the laser light source passes through the half mirror, it is reflected by the asymmetric mirror, enters the accelerator, passes through the linear electron beam trajectory, and collides with the electron beam in front. After the collision, the laser beam is emitted from the accelerator, reflected by a plurality of mirrors, half mirrors, and asymmetric mirrors, is incident on the accelerator again, passes through a linear electron beam trajectory, and collides with the electron beam in front. That is, while laser light circulates in a loop-shaped optical path composed of an asymmetric mirror, an accelerator, a mirror, and a half mirror, a laser inverse Compton scattered X-ray is generated by repeating a frontal collision with an electron beam a plurality of times. For this reason, the scattering cross section is increased and the generation efficiency of X-rays (γ rays) is improved. The generated X-ray is reflected by the asymmetric mirror at an angle different from that of the laser beam.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0015]
FIG. 1 is a conceptual diagram showing an embodiment of an X-ray generator using a laser optical system for laser Compton scattered X-rays according to the present invention. FIG. 2 is a conceptual diagram of the asymmetric mirror used in the X-ray generator shown in FIG. 1, and FIG. 3 is another conceptual diagram of the asymmetric mirror shown in FIG.
[0016]
The
[0017]
The laser Compton scattered X-ray laser
[0018]
As shown in FIG. 2, the
[0019]
For example, a carbon dioxide laser (pulse laser) is used as the
[0020]
As the
[0021]
The optical axes of the
[0022]
Note that L na is a normal line of the visible
[0023]
Next, the operation of the X-ray generator shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG.
[0024]
The
[0025]
The X-ray 27-1 generated in the
[0026]
If the distance between the
[0027]
That is, the X-ray 27-1 generated in the
[0028]
FIG. 3 is a conceptual diagram showing a modification of the asymmetric mirror used in the X-ray generator shown in FIG.
[0029]
The
[0030]
Even if such an
[0031]
FIG. 4 is a conceptual diagram showing another embodiment of an X-ray generator using a laser optical system for laser Compton scattered X-rays according to the present invention. In addition, the same code | symbol was used for the member similar to the member shown in FIG.
[0032]
The
[0033]
That is, the
[0034]
The laser Compton scattered X-ray laser
[0035]
When the
[0036]
That is, the laser beam circulates in a loop-shaped optical path 24-1 to 24-3, 24-5 to 24-7, 28 including the
[0037]
Such an
[0038]
Here, in the
[0039]
By the way, in the case of the
Note that the energy of the generated X-rays is expressed by Equation 1.
[0040]
[Expression 1]
[0041]
【The invention's effect】
In summary, according to the present invention, it is possible to provide a laser optical system for laser Compton scattered X-rays with improved X-ray generation efficiency and an X-ray generator using the same.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a conceptual diagram showing an embodiment of an X-ray generator using a laser optical system for laser Compton scattered X-rays according to the present invention.
FIG. 2 is a conceptual diagram of an asymmetric mirror used in the X-ray generator shown in FIG.
FIG. 3 is a conceptual diagram showing a modification of the asymmetric mirror used in the X-ray generator shown in FIG.
FIG. 4 is a conceptual diagram showing another embodiment of an X-ray generator using a laser optical system for laser Compton scattered X-rays according to the present invention.
FIG. 5 is a principle diagram of a conventional X-ray generator.
6 is an enlarged view of an elliptical area A in FIG.
[Explanation of symbols]
21 Laser
29
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002092471A JP3982299B2 (en) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | Laser optical system for laser Compton scattered X-ray and X-ray generator using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002092471A JP3982299B2 (en) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | Laser optical system for laser Compton scattered X-ray and X-ray generator using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003288999A JP2003288999A (en) | 2003-10-10 |
JP3982299B2 true JP3982299B2 (en) | 2007-09-26 |
Family
ID=29237294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002092471A Expired - Lifetime JP3982299B2 (en) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | Laser optical system for laser Compton scattered X-ray and X-ray generator using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3982299B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006344731A (en) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Method and device for laser beam circulation |
JP2009016119A (en) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Ihi Corp | Wavelength changing device and method of x-ray generating device |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002092471A patent/JP3982299B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003288999A (en) | 2003-10-10 |
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A621 | Written request for application examination |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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