JP3973677B2 - Liquid crystal display - Google Patents

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Description

本発明はテレビやディスプレイ等の液晶表示装置に関する。特に、本発明は垂直配向液晶を含む液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device such as a television or a display. In particular, the present invention relates to a liquid crystal display device including a vertically aligned liquid crystal.

液晶表示装置は一対の基板の間に挿入された液晶を含む。一対の基板はそれぞれ電極及び配向膜を有する。従来から広く用いられているTN液晶表示装置は水平配向膜及び正の誘電率異方性を有する液晶を含み、電圧が印加されていないときに液晶は水平配向膜に対してほぼ平行に配向する。電圧を印加すると、液晶は水平配向膜に対してほぼ垂直に立ち上がる。   The liquid crystal display device includes a liquid crystal inserted between a pair of substrates. Each of the pair of substrates has an electrode and an alignment film. Conventionally used TN liquid crystal display devices include a horizontal alignment film and a liquid crystal having positive dielectric anisotropy, and the liquid crystal is aligned substantially parallel to the horizontal alignment film when no voltage is applied. . When a voltage is applied, the liquid crystal rises substantially perpendicular to the horizontal alignment film.

TN液晶表示装置は薄型化が可能である等の利点を有するが、視野角が狭いという欠点をもつ。この欠点を改良し、広い視野角を図る方法として配向分割がある。配向分割は、1画素を2つの領域に分割し、一方の領域では液晶が一方の側に向かって立ち上がり及び倒れる、他方の領域では液晶が反対の側に向かって立ち上がり及び倒れるようにし、よって1画素内での液晶の挙動を平均化して広い視野角を得る。   The TN liquid crystal display device has the advantage that it can be thinned, but has the disadvantage that the viewing angle is narrow. There is alignment division as a method for improving this defect and achieving a wide viewing angle. The alignment division divides one pixel into two regions so that the liquid crystal rises and falls toward one side in one region, and the liquid crystal rises and falls toward the opposite side in the other region. A wide viewing angle is obtained by averaging the behavior of the liquid crystal in the pixel.

液晶の配向を制御するためには通常配向膜にラビングを行う。配向分割を行う場合には、マスクを使用して1画素の一方の領域を第1の方向にラビングし、それから補完的なマスクを使用して1画素の他方の領域を第1の方向とは反対の第2の方向にラビングする。あるいは、配向膜全体を第1の方向にラビングし、マスクを使用して1画素の一方の領域又は他方の領域に選択的に紫外線照射を行い、一方の領域と他方の領域とで液晶のプレチルトに差ができるようにする。   In order to control the alignment of the liquid crystal, the alignment film is usually rubbed. In the case of performing alignment division, one region of one pixel is rubbed in the first direction using a mask, and then the other region of one pixel is defined as the first direction using a complementary mask. Rub in the opposite second direction. Alternatively, the entire alignment film is rubbed in the first direction, and a mask is used to selectively irradiate one region or the other region of one pixel with ultraviolet rays, and the liquid crystal pretilt is performed in one region and the other region. To make a difference.

水平配向膜を用いた液晶表示装置では、ラビングを行う必要があり、ラビング後に配向膜を設けた基板の洗浄が必要である。そのため、液晶パネルの製造が比較的に面倒であり、ラビング時に汚染が生じる可能性がある。   In a liquid crystal display device using a horizontal alignment film, it is necessary to perform rubbing, and it is necessary to clean the substrate provided with the alignment film after rubbing. Therefore, the production of the liquid crystal panel is relatively troublesome, and contamination may occur during rubbing.

一方、垂直配向膜を使用した液晶表示装置では、電圧が印加されていないときに液晶は垂直配向膜に対してほぼ垂直に配向し、電圧を印加すると液晶は垂直配向膜に対してほぼ水平に倒れる。垂直配向膜を使用した液晶表示装置でも、液晶の配向を制御するためには通常配向膜にラビングを行う。   On the other hand, in a liquid crystal display device using a vertical alignment film, the liquid crystal is aligned substantially perpendicular to the vertical alignment film when no voltage is applied, and the liquid crystal is approximately horizontal to the vertical alignment film when a voltage is applied. Fall down. Even in a liquid crystal display device using a vertical alignment film, the alignment film is usually rubbed in order to control the alignment of the liquid crystal.

本願の出願人による特願平10−185836号は、ラビングを行うことなしに液晶の配向を制御することのできる液晶表示装置を提案している。この液晶表示装置は、垂直配向膜及び負の誘電率異方性を有する液晶を有する垂直配向式液晶表示装置であり、液晶の配向を制御するために一対の基板の各々に設けられた配向規制構造体(突起又はスリットを含む線状の構造体)を備えている。   Japanese Patent Application No. 10-185836 by the applicant of the present application proposes a liquid crystal display device capable of controlling the alignment of the liquid crystal without rubbing. This liquid crystal display device is a vertical alignment type liquid crystal display device having a vertical alignment film and a liquid crystal having negative dielectric anisotropy, and is an alignment control provided on each of a pair of substrates for controlling the alignment of the liquid crystal. A structure (a linear structure including protrusions or slits) is provided.

この垂直配向式液晶表示装置では、ラビングが必要でなく、しかも線状の構造体の配置により配向分割を達成することができるという利点がある。従って、この垂直配向式液晶表示装置は、広い視野角と高いコントラストを得ることが可能となる。ラビングを行う必要がないので、ラビング後の洗浄も必要としない。そのため、液晶表示装置の製造が簡単にあり、ラビング時の汚染がなく、液晶表示装置の信頼性が向上する。   In this vertical alignment type liquid crystal display device, there is an advantage that alignment is not required by rubbing and alignment division can be achieved by the arrangement of linear structures. Therefore, this vertical alignment type liquid crystal display device can obtain a wide viewing angle and high contrast. Since it is not necessary to perform rubbing, cleaning after rubbing is not required. Therefore, the liquid crystal display device can be easily manufactured, there is no contamination during rubbing, and the reliability of the liquid crystal display device is improved.

その他、従来の液晶表示装置には、電極に形成された線状のスリットまたは突起を備えたものがある(例えば、特許文献1、特許文献2、および特許文献3参照)。また、液晶の配向方向を規制するために突起を用いたものもある(例えば、特許文献4および非特許文献1参照)。また、画素領域の外に形成された突出部を備えた液晶表示装置もある(例えば、特許文献5参照)。
米国特許第6710837号明細書 米国特許第6567144号明細書 韓国公開特許公報第1999−085616号明細書 特開平7−199193号公報 欧州特許出願公開第0854377号明細書 A. Takeda et. al. "A Super-High-Image-Quality Multi-Domain Vertical Alignment LCD by New Rubbing-Less Technology" SID 98 DIGEST, 1998/5/17, p.1077-1080
Other conventional liquid crystal display devices include linear slits or protrusions formed on electrodes (see, for example, Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3). In some cases, protrusions are used to regulate the alignment direction of the liquid crystal (see, for example, Patent Document 4 and Non-Patent Document 1). In addition, there is a liquid crystal display device including a protruding portion formed outside the pixel region (see, for example, Patent Document 5).
US Pat. No. 6,710,837 US Pat. No. 6,567,144 Korean Published Patent Publication No. 1999-085616 JP 7-199193 A European Patent Application No. 0854377 A. Takeda et. Al. "A Super-High-Image-Quality Multi-Domain Vertical Alignment LCD by New Rubbing-Less Technology" SID 98 DIGEST, 1998/5/17, p.1077-1080

液晶の配向を制御するために一対の基板に配向規制構造体(突起又はスリットを含む構造体)を有する垂直配向式液晶表示装置では、液晶分子の配向の不安定な領域が存在し、輝度や応答速度について後で説明するようにさらに改善すべき問題点があることが分かった。   In a vertical alignment type liquid crystal display device having an alignment regulating structure (a structure including protrusions or slits) on a pair of substrates in order to control the alignment of liquid crystal, an unstable region of alignment of liquid crystal molecules exists, It was found that there is a problem to be further improved as will be described later on the response speed.

本発明の目的は、輝度や応答速度をさらに改善することのできる垂直配向式液晶表示装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a vertical alignment type liquid crystal display device capable of further improving luminance and response speed.

本発明による液晶表示装置は、複数の画素を有する液晶表示装置であって、第1基板と、前記第1基板に対向して設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置された液晶層とを備え、前記第1基板は、液晶の配向を制御する線状の第1構造体、第2構造体、及び補助構造体を含み、前記第2基板は、液晶の配向を制御する線状の第3構造体及び第4構造体を含み、前記第1構造体、前記第2構造体、及び前記補助構造体は、1つの画素の中で互いに異なる方向に延びており、前記第3構造体は前記第1構造体と平行に、前記第4構造体は前記第2構造体と平行に、それぞれ前記画素の中で延びており、前記第1構造体、前記第2構造体、前記第3構造体、及び前記第4構造体は、いずれも前記画素のエッジが延びる方向とは異なる方向に延びているThe liquid crystal display device according to the present invention is a liquid crystal display device having a plurality of pixels, and includes a first substrate, a second substrate provided to face the first substrate, the first substrate, and the second substrate. The first substrate includes a linear first structure body, a second structure body, and an auxiliary structure body that control alignment of liquid crystal, and the second substrate includes: , Including a linear third structure and a fourth structure for controlling the alignment of the liquid crystal, and the first structure, the second structure, and the auxiliary structure are different from each other in one pixel. The third structure extends in the pixel in parallel with the first structure, and the fourth structure extends in the pixel in parallel with the second structure. The second structure body, the third structure body, and the fourth structure body all have a direction in which the edge of the pixel extends. Extend in different directions.

ある実施形態では、前記第1構造体と前記第2構造体が屈曲部を介して連続して形成されている。また、ある実施形態では、前記補助構造体が、前記屈曲部の鈍角側に延びている In one embodiment, the first structure body and the second structure body are continuously formed via a bent portion. In one embodiment, the auxiliary structure extends to the obtuse angle side of the bent portion .

ある実施形態において、前記補助構造体は、前記第1構造体が延びる方向と前記第2構造体が延びる方向との間の角度を2等分する方向に延びている In one embodiment, the auxiliary structure extends in a direction that bisects an angle between a direction in which the first structure extends and a direction in which the second structure extends .

ある実施形態では、前記補助構造体が、前記屈曲部の鋭角側に延びている In one embodiment, the auxiliary structure extends to an acute angle side of the bent portion .

ある実施形態において、前記補助構造体は、前記第1構造体が延びる方向と前記第2構造体が延びる方向との間の角度を2等分する方向に延びている In one embodiment, the auxiliary structure extends in a direction that bisects an angle between a direction in which the first structure extends and a direction in which the second structure extends .

ある実施形態において、前記第1基板は共通電極を有し、前記第1構造体及び前記第2構造体が、前記共通電極の上に形成された突起、又は前記共通電極に形成されたスリットである In one embodiment, the first substrate has a common electrode, and the first structure and the second structure are projections formed on the common electrode or slits formed on the common electrode. There is .

ある実施形態では、前記補助構造体が、前記共通電極の上に形成された突起、又は前記共通電極に形成されたスリットである In one embodiment, the auxiliary structure is a protrusion formed on the common electrode or a slit formed on the common electrode .

ある実施形態では、前記第2基板が、液晶の配向を制御する構造体であって、前記第3構造体及び前記第4構造体と異なる方向に延びる第2の補助構造体を有する In one embodiment, the second substrate includes a second auxiliary structure that is a structure that controls alignment of liquid crystal and extends in a direction different from that of the third structure and the fourth structure .

ある実施形態において、前記第2基板は画素電極を有し、前記第3構造体、前記第4構造体、及び前記第2の補助構造体が、前記画素電極の上に形成された突起、又は前記画素電極に形成されたスリットである In one embodiment, the second substrate has a pixel electrode, and the third structure, the fourth structure, and the second auxiliary structure are protrusions formed on the pixel electrode, or It is a slit formed in the pixel electrode .

ある実施形態では、前記第1構造体が延びる方向と前記第2構造体が延びる方向との間の角度が約90°である In one embodiment, an angle between a direction in which the first structure extends and a direction in which the second structure extends is about 90 ° .

本発明によれば、輝度が向上し、また応答速度の速い液晶表示装置を作製することが可能となる。線状の構造体上に形成される全ドメインの配向方向を定めることができ、ドメインの経時変化を抑制できることによって、オーバーシュートを改善することができる。   According to the present invention, it is possible to manufacture a liquid crystal display device with improved luminance and quick response speed. The orientation direction of all the domains formed on the linear structure can be determined, and the change with time of the domains can be suppressed, so that overshoot can be improved.

以下本発明の実施例について説明する。図1は本発明による液晶表示装置を示す略断面図である。図1において、液晶表示装置10は、一対の透明なガラス基板12、14と、これらのガラス基板12、14の間に挿入された液晶16とを含む。液晶16は負の誘電率異方性を有する液晶である。第1のガラス基板12は電極18及び垂直配向膜20を有し、第2のガラス基板14は電極22及び垂直配向膜24を有する。さらに、第1のガラス基板12の外側には偏光板26が配置され、第2のガラス基板14の外側には偏光板28が配置される。ここで、説明の簡単化のために、第1のガラス基板12を上基板と言い、第2のガラス基板14を下基板と言う。   Examples of the present invention will be described below. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display device according to the present invention. In FIG. 1, the liquid crystal display device 10 includes a pair of transparent glass substrates 12 and 14 and a liquid crystal 16 inserted between the glass substrates 12 and 14. The liquid crystal 16 is a liquid crystal having negative dielectric anisotropy. The first glass substrate 12 has an electrode 18 and a vertical alignment film 20, and the second glass substrate 14 has an electrode 22 and a vertical alignment film 24. Further, a polarizing plate 26 is disposed outside the first glass substrate 12, and a polarizing plate 28 is disposed outside the second glass substrate 14. Here, for simplification of description, the first glass substrate 12 is referred to as an upper substrate, and the second glass substrate 14 is referred to as a lower substrate.

上基板12がカラーフィルタ基板として構成される場合には、この上基板12はさらにカラーフィルタ及びブラックマスクを含む。この場合、電極18は共通電極である。また、下基板14がTFT基板として構成される場合には、この下基板12はTFTとともにアクティブマトリクス駆動回路を含む。この場合、電極22は画素電極である。   When the upper substrate 12 is configured as a color filter substrate, the upper substrate 12 further includes a color filter and a black mask. In this case, the electrode 18 is a common electrode. Further, when the lower substrate 14 is configured as a TFT substrate, the lower substrate 12 includes an active matrix driving circuit together with the TFT. In this case, the electrode 22 is a pixel electrode.

図2は液晶の配向を制御するための配向規制構造体を有する垂直配向式液晶表示装置を示す略断面図である。簡単化のために、図2においては図1の電極18、22及び配向膜20、24は省略されている。図2において、上基板12は配向規制構造体として下基板14に向かって突出する突起30を有する。同様に、下基板14は配向規制構造体として上基板12に向かって突出する突起32を有する。突起30、32は図2の紙面に垂直に長く線状に延びる。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a vertical alignment type liquid crystal display device having an alignment regulating structure for controlling the alignment of liquid crystal. For simplicity, the electrodes 18 and 22 and the alignment films 20 and 24 of FIG. 1 are omitted in FIG. In FIG. 2, the upper substrate 12 has a protrusion 30 that protrudes toward the lower substrate 14 as an alignment regulating structure. Similarly, the lower substrate 14 has a protrusion 32 that protrudes toward the upper substrate 12 as an alignment regulating structure. The protrusions 30 and 32 extend in a line shape that is long and perpendicular to the paper surface of FIG.

図3は突起30、32を図2の矢印III の方向から見た平面図である。図3はさらにアクティブマトリクス駆動回路の1画素の部分を示している。アクティブマトリクス駆動回路はゲートバスライン36と、ドレインバスライン38と、TFT40と、画素電極22とを含む。上基板12の突起30は画素電極22の中心を通り、下基板12の突起32はゲートバスライン36を通る。このように、突起30、32は、上から見た平面図においては、互いに平行に且つ交互に延びる。ただし、図3に示した例は非常に簡単な例であり、突起30、32の配置はこのような例に限定されるものではない。   FIG. 3 is a plan view of the protrusions 30 and 32 as seen from the direction of arrow III in FIG. FIG. 3 further shows a portion of one pixel of the active matrix driving circuit. The active matrix driving circuit includes a gate bus line 36, a drain bus line 38, a TFT 40, and a pixel electrode 22. The protrusion 30 of the upper substrate 12 passes through the center of the pixel electrode 22, and the protrusion 32 of the lower substrate 12 passes through the gate bus line 36. Thus, the protrusions 30 and 32 extend alternately and in parallel in the plan view seen from above. However, the example shown in FIG. 3 is a very simple example, and the arrangement of the protrusions 30 and 32 is not limited to such an example.

図2に示されるように、負の誘電率異方性を有する液晶16が垂直配向膜20、24の間に配置されていると、電圧不印加時に液晶分子16Aは垂直配向膜20、24に対して垂直に配向する。突起30、32の近傍では、液晶分子16Bは突起30、32に対して垂直に配向する。突起30、32は傾斜を含んでいるので、突起30、32に対して垂直に配向する液晶分子16Bは垂直配向膜20、24に対して斜めに配向する。   As shown in FIG. 2, when the liquid crystal 16 having negative dielectric anisotropy is disposed between the vertical alignment films 20 and 24, the liquid crystal molecules 16 </ b> A are formed on the vertical alignment films 20 and 24 when no voltage is applied. It is oriented vertically with respect to it. In the vicinity of the protrusions 30 and 32, the liquid crystal molecules 16 </ b> B are aligned perpendicular to the protrusions 30 and 32. Since the protrusions 30 and 32 include an inclination, the liquid crystal molecules 16B aligned perpendicular to the protrusions 30 and 32 are obliquely aligned with respect to the vertical alignment films 20 and 24.

液晶16に電圧を印加すると、負の誘電率異方性を有する液晶16は電界に対して垂直な方向を向き、よって液晶分子は基板面(垂直配向膜20、24)に概ね平行に倒れるようになる。通常は、垂直配向膜20、24にラビングがしてないと、液晶分子が倒れる方向は一定に定まらず、液晶の挙動が安定しない。しかし、本発明のように、互いに平行に延びる突起30、32があると、これらの突起30、32の近傍の液晶分子16Bはあたかもプレチルトしているがごとく垂直配向膜20、24に対して斜めに配向しているので、電圧印加時にはこれらの液晶分子16Bの倒れる方向は決まってしまう。   When a voltage is applied to the liquid crystal 16, the liquid crystal 16 having negative dielectric anisotropy is oriented in a direction perpendicular to the electric field, so that the liquid crystal molecules are tilted almost in parallel to the substrate surface (vertical alignment films 20, 24). become. Normally, unless the vertical alignment films 20 and 24 are rubbed, the direction in which the liquid crystal molecules are tilted is not fixed and the behavior of the liquid crystal is not stable. However, when there are protrusions 30 and 32 extending in parallel with each other as in the present invention, the liquid crystal molecules 16B in the vicinity of these protrusions 30 and 32 are oblique to the vertical alignment films 20 and 24 as if they were pretilted. Therefore, the direction in which the liquid crystal molecules 16B are tilted is determined when a voltage is applied.

例えば、図2の上基板14の左側の突起30とその左下の突起32との間の液晶分子について見ると、これらの突起30、32間の液晶分子16Bは右上から左下方向に配向しているので、電圧印加時に液晶分子16Bは時計回り方向に回転しながら垂直配向膜20、24に対して平行に倒れていく。従って、これらの突起30、32間の液晶分子16Aは液晶分子16Bの挙動に従って時計回り方向に回転しながら垂直配向膜20、24に対して平行に倒れていく。同様に、図2の上基板14の左側の突起30とその右下の突起32との間の液晶分子についても、突起30、32の間の液晶分子16Bは左上から右下方向に配向しているので、電圧印加時に液晶分子16Bは反時計回り方向に回転しながら垂直配向膜20、24に対して平行に倒れていく。従って、これらの突起30、32間の液晶分子16Aは液晶分子16Bの挙動に従って反時計回り方向に回転しながら垂直配向膜20、24に対して平行に倒れていく。   For example, when viewing the liquid crystal molecules between the left protrusion 30 and the lower left protrusion 32 of the upper substrate 14 in FIG. 2, the liquid crystal molecules 16B between the protrusions 30 and 32 are aligned from the upper right to the lower left. Therefore, the liquid crystal molecules 16B are tilted in parallel to the vertical alignment films 20 and 24 while rotating clockwise when a voltage is applied. Accordingly, the liquid crystal molecules 16A between the protrusions 30 and 32 are tilted in parallel with the vertical alignment films 20 and 24 while rotating clockwise according to the behavior of the liquid crystal molecules 16B. Similarly, for the liquid crystal molecules between the left protrusion 30 and the lower right protrusion 32 of the upper substrate 14 of FIG. 2, the liquid crystal molecules 16B between the protrusions 30 and 32 are aligned from the upper left to the lower right. Therefore, when a voltage is applied, the liquid crystal molecules 16B are tilted in parallel to the vertical alignment films 20 and 24 while rotating counterclockwise. Accordingly, the liquid crystal molecules 16A between the protrusions 30 and 32 are tilted in parallel to the vertical alignment films 20 and 24 while rotating counterclockwise according to the behavior of the liquid crystal molecules 16B.

図4は、図2及び図3の突起30、32の配置に従って、電圧印加時に倒れた液晶分子16Aを示す図である。図4(A)は平面図、図4(B)は線IVB−IVBに沿った断面図である。上基板12の突起30の一方側の液晶分子16Aは突起30に向かって時計回り方向(矢印Xの方向)に回転しながら倒れ、上基板12の突起30の他方側の液晶分子16Aは突起30に向かって反時計回り方向(矢印Yの方向)に回転しながら倒れる。なお、図4において、電圧不印加時には液晶分子16Aは図4の紙面に垂直に配向する。このようにして、ラビングなしに液晶の配向が制御できるとともに、1画素内で液晶分子の配向方向の異なる複数の領域ができるので、配向分割が達成され、良い視野の得られる角度範囲の広い液晶表示装置を実現することができる。   FIG. 4 is a diagram showing the liquid crystal molecules 16A that are tilted when a voltage is applied according to the arrangement of the protrusions 30 and 32 of FIGS. 4A is a plan view, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line IVB-IVB. The liquid crystal molecules 16A on one side of the protrusions 30 on the upper substrate 12 fall while rotating clockwise (in the direction of the arrow X) toward the protrusions 30, and the liquid crystal molecules 16A on the other side of the protrusions 30 on the upper substrate 12 It falls down while rotating counterclockwise (in the direction of arrow Y). In FIG. 4, when no voltage is applied, the liquid crystal molecules 16A are aligned perpendicular to the paper surface of FIG. In this way, the alignment of the liquid crystal can be controlled without rubbing, and a plurality of regions having different alignment directions of the liquid crystal molecules can be formed within one pixel. A display device can be realized.

図5は突起(配向規制構造体)30、32の他の例を示す平面図である。突起30、32は互いに平行に延び且つ屈曲する。つまり、突起30、32が平行しながら蛇行状に屈曲する。この例では、突起30、32の小部分の両側にある液晶分子16C、16Dは互いに逆を向いて配向し、且つ突起30、32の屈曲の次の小部分の両側にある液晶分子16E、16Fは互いに逆を向いて配向している。そして、液晶分子16C、16Dは液晶分子16E、16Fに対して90度回転している。従って、1画素に液晶の配向の異なる4つの領域ができる配向分割が達成され、視角特性はさらによくなる。   FIG. 5 is a plan view showing another example of the protrusions (orientation regulating structures) 30 and 32. The protrusions 30 and 32 extend parallel to each other and bend. That is, the protrusions 30 and 32 are bent in a meandering manner while being parallel. In this example, the liquid crystal molecules 16C and 16D on both sides of the small portions of the protrusions 30 and 32 are oriented opposite to each other, and the liquid crystal molecules 16E and 16F on both sides of the small portions next to the protrusions 30 and 32 are bent. Are oriented opposite to each other. The liquid crystal molecules 16C and 16D are rotated 90 degrees with respect to the liquid crystal molecules 16E and 16F. Therefore, alignment division is achieved in which four regions with different liquid crystal alignments are formed in one pixel, and viewing angle characteristics are further improved.

図6は配向規制構造体がともに突起30、32である液晶表示装置を図解的に示す図である。図6では、上基板12に設けられた電極18、および下基板14に設けられた電極22が示されている。突起30、32は電極18、22の上に誘電体として形成される。42は突起30、32付近の電界を示す。突起30、32は誘電体であるので、突起30、32付近の電界42は斜め電界になり、電圧印加時に液晶分子は矢印で示されるように電界42に対して垂直になるように倒れていく。液晶分子が斜め電界により倒れていく向きは、液晶分子が突起30、32の斜面に起因して倒れていく方向と同じである。   FIG. 6 is a diagram schematically showing a liquid crystal display device in which the alignment regulating structures are both protrusions 30 and 32. In FIG. 6, the electrode 18 provided on the upper substrate 12 and the electrode 22 provided on the lower substrate 14 are shown. The protrusions 30 and 32 are formed as dielectrics on the electrodes 18 and 22. Reference numeral 42 denotes an electric field near the protrusions 30 and 32. Since the protrusions 30 and 32 are dielectrics, the electric field 42 in the vicinity of the protrusions 30 and 32 becomes an oblique electric field, and when a voltage is applied, the liquid crystal molecules are tilted so as to be perpendicular to the electric field 42 as indicated by arrows. . The direction in which the liquid crystal molecules are tilted by the oblique electric field is the same as the direction in which the liquid crystal molecules are tilted due to the inclined surfaces of the protrusions 30 and 32.

図7は、下基板14の配向規制構造体が突起32であり且つ上基板12の配向規制構造体がスリット構造44である場合の液晶表示装置を示す略断面図である。スリット構造44は上基板12の電極18のスリットを含む。実際には、垂直配向膜20(図7では省略されている)がスリットを有する電極18を覆っているので、垂直配向膜20は電極18のスリットの位置において窪んでいる。スリット構造44は電極18のスリットと垂直配向膜20の窪みの部分とを含む。そして、このようなスリット構造44が図6の突起30と同様に線状に長く延びる。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal display device when the alignment regulating structure of the lower substrate 14 is a protrusion 32 and the alignment regulating structure of the upper substrate 12 is a slit structure 44. The slit structure 44 includes a slit of the electrode 18 of the upper substrate 12. Actually, since the vertical alignment film 20 (not shown in FIG. 7) covers the electrode 18 having the slit, the vertical alignment film 20 is depressed at the position of the slit of the electrode 18. The slit structure 44 includes a slit of the electrode 18 and a recessed portion of the vertical alignment film 20. And such a slit structure 44 is extended linearly similarly to the protrusion 30 of FIG.

スリット構造44の近傍においては、上基板12の電極18と下基板14の電極22との間に斜め電界42が形成される。この斜め電界42は図6において突起30の近傍に形成される斜め電界42と同様であり、電圧印加時に液晶分子が斜め電界42に従って倒れる。この場合に液晶分子が倒れる様子は突起30がある場合に液晶分子が倒れる様子と同じである。従って、図6のように突起30と突起32との組み合わせにより液晶の配向を制御するのと同様に、スリット構造44と突起32との組み合わせにより液晶の配向を制御することができる。   In the vicinity of the slit structure 44, an oblique electric field 42 is formed between the electrode 18 of the upper substrate 12 and the electrode 22 of the lower substrate 14. The oblique electric field 42 is the same as the oblique electric field 42 formed in the vicinity of the protrusion 30 in FIG. 6, and the liquid crystal molecules are tilted according to the oblique electric field 42 when a voltage is applied. In this case, the manner in which the liquid crystal molecules fall is the same as the manner in which the liquid crystal molecules fall when the protrusions 30 are present. Accordingly, the alignment of the liquid crystal can be controlled by the combination of the slit structure 44 and the protrusion 32, as in the case of controlling the alignment of the liquid crystal by the combination of the protrusion 30 and the protrusion 32 as shown in FIG.

図8は、上基板12及び下基板14の配向規制構造体がともにスリット構造4446である場合の液晶表示装置を示す略断面図である。スリット構造44は図6の突起30と同様に線状に長く延び、スリット構造46は図6の突起32と同様に線状に長く延びる。そして、スリット構造44、46の近傍においては、上基板12の電極18と下基板14の電極22との間に斜め電界42が形成される。この斜め電界42は図6において突起30、32の近傍に形成される斜め電界42と同様であり、電圧印加時に液晶分子が斜め電界42に従って倒れる。この場合に液晶分子が倒れる様子は突起30、32がある場合に液晶分子が倒れる様子と同じである。従って、図6のように突起30と突起32との組み合わせにより液晶の配向を制御するのと同様に、スリット構造44、46の組み合わせにより液晶の配向を制御することができる。   FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal display device when the alignment regulating structures of the upper substrate 12 and the lower substrate 14 are both slit structures 4446. The slit structure 44 extends linearly in the same manner as the protrusion 30 in FIG. 6, and the slit structure 46 extends linearly in the same manner as the protrusion 32 in FIG. In the vicinity of the slit structures 44 and 46, an oblique electric field 42 is formed between the electrode 18 of the upper substrate 12 and the electrode 22 of the lower substrate 14. The oblique electric field 42 is the same as the oblique electric field 42 formed in the vicinity of the protrusions 30 and 32 in FIG. 6, and the liquid crystal molecules are tilted according to the oblique electric field 42 when a voltage is applied. In this case, the manner in which the liquid crystal molecules fall is the same as the manner in which the liquid crystal molecules fall when the protrusions 30 and 32 are present. Therefore, the alignment of the liquid crystal can be controlled by the combination of the slit structures 44 and 46 in the same manner as the alignment of the liquid crystal is controlled by the combination of the protrusion 30 and the protrusion 32 as shown in FIG.

従って、突起30、32と、スリット構造44、46とは同様に液晶の配向を制御することができる。そして、突起30、32と、スリット構造44、46とは、配向規制構造体(又は線状の配向規制構造体)として共通の概念で理解されることができる。   Therefore, the protrusions 30 and 32 and the slit structures 44 and 46 can similarly control the alignment of the liquid crystal. The protrusions 30 and 32 and the slit structures 44 and 46 can be understood by a common concept as an alignment regulation structure (or a linear alignment regulation structure).

図9は突起30(32)である線状の構造体を示す断面図である。突起30は例えば次のようにして形成してある。下基板14にアクティブマトリクスとともに電極22を形成する。電極22の上に突起となるべき誘電体30Aを形成する。誘電体30Aはレジストを塗布し、パターニングして形成する。誘電体30A及び電極22の上に垂直配向膜24を形成する。このようにして、突起30が形成される。   FIG. 9 is a cross-sectional view showing a linear structure which is the protrusion 30 (32). The protrusion 30 is formed as follows, for example. An electrode 22 is formed on the lower substrate 14 together with an active matrix. A dielectric 30A to be a protrusion is formed on the electrode 22. The dielectric 30A is formed by applying a resist and patterning. A vertical alignment film 24 is formed on the dielectric 30 </ b> A and the electrode 22. In this way, the protrusion 30 is formed.

図10はスリット構造44(46)である線状の壁構造の例を示す断面図である。スリット構造44は例えば次のようにして形成してある。上基板14にカラーフィルタやブラックマスク等を形成した後、電極18を形成する。電極18をパターニングし、スリット18Aを形成する。スリット18Aを有する電極18の上に垂直配向膜20を形成する。このようにして、スリット構造44が形成される。   FIG. 10 is a sectional view showing an example of a linear wall structure which is the slit structure 44 (46). The slit structure 44 is formed as follows, for example. After forming a color filter, a black mask or the like on the upper substrate 14, an electrode 18 is formed. The electrode 18 is patterned to form a slit 18A. A vertical alignment film 20 is formed on the electrode 18 having the slit 18A. In this way, the slit structure 44 is formed.

図11は線状の構造体を有する液晶表示装置の配向の問題点を説明する図である。以後は主として線状の構造体は突起30、32として説明されるが、突起30、32の代わりにスリット構造(単にスリットと呼ぶこともある)44、46としても同様である。   FIG. 11 is a diagram for explaining a problem of alignment of a liquid crystal display device having a linear structure. Hereinafter, the linear structure is mainly described as the protrusions 30 and 32, but the same applies to slit structures (sometimes simply referred to as slits) 44 and 46 instead of the protrusions 30 and 32.

図11は図4と類似した状態を示している(ただし、図4は突起30、32の間の間隙部にある液晶分子16Aのみを示し、図11は突起30、32の間の間隙部にある液晶分子16Aおよび突起30、32の上及び近傍にある液晶分子を示している。また、図11では下基板14の突起32が中央に位置している)。48は偏光板26、28の配置を示している。偏光板26、28は突起30、32に対して45度の角度で配置される。   11 shows a state similar to FIG. 4 (however, FIG. 4 shows only the liquid crystal molecules 16A in the gap between the protrusions 30 and 32, and FIG. 11 shows the gap in the gap between the protrusions 30 and 32. The liquid crystal molecules 16A and the liquid crystal molecules above and in the vicinity of the protrusions 30 and 32 are shown, and the protrusion 32 of the lower substrate 14 is positioned at the center in FIG. Reference numeral 48 denotes the arrangement of the polarizing plates 26 and 28. The polarizing plates 26 and 28 are disposed at an angle of 45 degrees with respect to the protrusions 30 and 32.

上記したように、電圧印加時に突起30、32の間の間隙部にある液晶分子16Aは下基板の突起32(又は上基板12の突起30)の両側で突起32に対して垂直な方向に且つ互いに逆方向を向いて寝ていく。突起30、32の上及び近傍にある液晶分子はこれらの互いに逆方向を向いて寝ていく液晶分子16Aの間にあってこれらの液晶分子16Aと互いに連続しながら寝ていく。液晶分子は全て図11の紙面に平行な平面内で配向するようになる。この場合、突起32の真上に位置する液晶分子は、図11において右を向いて倒れる可能性と、左を向いて倒れる可能性とがある。しかし、突起32の真上に位置する液晶分子が右を向いて倒れるか、又は左を向いて倒れるかは、定かではない。そのため、同一の突起32上で液晶分子が右を向いて倒れた配向状態と液晶分子が左を向いて倒れた配向状態とが混在し、これらの2つの配向状態が接しているところでは、液晶の配向の境界ができる。このような複数の境界が1つの突起32上に存在する。   As described above, the liquid crystal molecules 16A in the gap between the protrusions 30 and 32 when voltage is applied are perpendicular to the protrusions 32 on both sides of the protrusions 32 on the lower substrate (or the protrusions 30 on the upper substrate 12) and Sleep in opposite directions. The liquid crystal molecules on and in the vicinity of the protrusions 30 and 32 lie between these liquid crystal molecules 16A sleeping in opposite directions, and sleep while continuing to these liquid crystal molecules 16A. All the liquid crystal molecules are aligned in a plane parallel to the paper surface of FIG. In this case, the liquid crystal molecules located directly above the protrusions 32 may fall to the right in FIG. 11 and may fall to the left. However, it is not certain whether the liquid crystal molecules located directly above the protrusions 32 tilt to the right or to the left. Therefore, the alignment state in which the liquid crystal molecules are tilted to the right on the same protrusion 32 and the alignment state in which the liquid crystal molecules are tilted to the left are mixed, and the liquid crystal molecules are in contact with each other when the two alignment states are in contact with each other. The boundary of the orientation is made. Such a plurality of boundaries exist on one protrusion 32.

また図11のように上下の基板12、14の突起30、32上で液晶の配向状態が同一の場合(例えば領域C)には、突起30、32間の配向はベンド的な配向となり、上下の基板12、14の突起30、32上で液晶の配向状態が異なる場合(例えば領域A)には、突起30、32間の配向はスプレイ的な配向となる。すなわち、突起30、32間においても2つの配向状態が混在し、これらの配向状態の異なる領域の間に境界が形成される。   In addition, when the alignment state of the liquid crystals is the same on the protrusions 30 and 32 of the upper and lower substrates 12 and 14 as shown in FIG. 11 (for example, the region C), the alignment between the protrusions 30 and 32 is a bend alignment. When the alignment state of the liquid crystals is different on the protrusions 30 and 32 of the substrates 12 and 14 (for example, the region A), the alignment between the protrusions 30 and 32 is a splay alignment. That is, two alignment states are mixed between the protrusions 30 and 32, and a boundary is formed between regions having different alignment states.

さらにこれらの配向状態を詳しく見た場合、上下基板12、14の合わせずれ等のため例えばスプレー的な配向であっても微妙に配向状態が異なってくる。そのため透過率最大となる偏光板26、28の角度がそれぞれの領域で異なってくる。この様子を実際に幾つかの領域で偏光板26、28を回転させて測定した。図11において、領域Aにおいては、正常な配置48に対して偏光板26、28を−13度回転したことを示す。領域Bにおいては、正常な配置48に対して偏光板26、28を−4度回転したことを示す。領域Cにおいては、正常な配置48に対して偏光板26、28を+2度回転したことを示す。   Further, when these alignment states are examined in detail, the alignment states are slightly different even in the case of, for example, spray alignment due to misalignment between the upper and lower substrates 12 and 14. For this reason, the angles of the polarizing plates 26 and 28 at which the transmittance is maximum differ in each region. This state was actually measured by rotating the polarizing plates 26 and 28 in several regions. In FIG. 11, the region A shows that the polarizing plates 26 and 28 are rotated by −13 degrees with respect to the normal arrangement 48. In the region B, the polarizing plates 26 and 28 are rotated by −4 degrees with respect to the normal arrangement 48. In region C, the polarizing plates 26 and 28 are rotated +2 degrees with respect to the normal arrangement 48.

図12は図11の領域A、B、Cで測定した透過率を示す図である。曲線Aは図11の領域Aでの測定結果を示し、曲線Bは図11の領域Bでの測定結果を示し、曲線Cは図11の領域Cでの測定結果を示す。曲線Aは、偏光板26、28が正常な配置48(突起30、32に対して45度)からかなり外れた角度ではかなり高い透過率が得られるが、偏光板26、28が正常な配置48(突起30、32に対して45度)にある場合にはほとんど光を透過できないことを示している。曲線Bは、偏光板26、28が正常な配置48(突起30、32に対して45度)から少し外れた角度で比較的に高い透過率が得られることを示している。曲線Cは、偏光板26、28が正常な配置48(突起30、32に対して45度)にある場合にある程度の透過率が得られることを示している。このように、突起30、32を用いる場合、透過率特性の異なった複数の領域が形成されることになる。   FIG. 12 is a diagram showing the transmittance measured in regions A, B, and C of FIG. Curve A shows the measurement result in region A in FIG. 11, curve B shows the measurement result in region B in FIG. 11, and curve C shows the measurement result in region C in FIG. The curve A shows that a considerably high transmittance is obtained at an angle far from the normal arrangement 48 (45 degrees with respect to the protrusions 30 and 32) of the polarizing plates 26 and 28, but the normal arrangement 48 of the polarizing plates 26 and 28 is obtained. When it is at 45 degrees with respect to the protrusions 30 and 32, it indicates that almost no light can be transmitted. Curve B shows that the polarizing plates 26 and 28 can obtain a relatively high transmittance at an angle slightly deviated from the normal arrangement 48 (45 degrees with respect to the protrusions 30 and 32). A curve C indicates that a certain degree of transmittance can be obtained when the polarizing plates 26 and 28 are in a normal arrangement 48 (45 degrees with respect to the protrusions 30 and 32). Thus, when the protrusions 30 and 32 are used, a plurality of regions having different transmittance characteristics are formed.

図13は電圧印加後の透過率の変化を示す図である。図11及び図12を参照して説明したような配向状態の異なる領域が存在すると、電圧印加直後にオーバーシュートと呼ばれる現象が発生する。すなわち、電圧を印加した後、例えば1000msで透過率が非常に高くなり、それから透過率が次第に低下してきて所定の値で平衡するようになる。平衡状態の透過率からどれだけ白輝度が上昇しているかでオーバーシュートを表す。初期の輝度をX、平衡したときの輝度をYとすると、オーバーシュート(%)は、(Y−X)/X×100で定義される。   FIG. 13 is a diagram showing a change in transmittance after voltage application. When regions having different alignment states as described with reference to FIGS. 11 and 12 exist, a phenomenon called overshoot occurs immediately after voltage application. That is, after applying a voltage, the transmittance becomes very high, for example, at 1000 ms, and then the transmittance gradually decreases and becomes balanced at a predetermined value. The overshoot is expressed by how much the white luminance is increased from the transmittance in the equilibrium state. When the initial luminance is X and the balanced luminance is Y, the overshoot (%) is defined as (Y−X) / X × 100.

図11に示されるように、透過率の異なった領域A、B、Cがあると、電圧印加後にこれらの領域A、B、Cの液晶は各領域内で動き続けるとともに、隣接する領域の液晶と影響しあいながら、領域A、B、C自体が動き続け(領域A、B、C間の境界が移動し)、それによって透過率の上昇が起こり、オーバーシュートが大きくなる。オーバーシュートは残像の原因ともなり、表示品質の悪化をもたらす。また、特徴の異なった領域A、B、Cがあると、表示性能に差が生じてくることにもなり、一定の品質が得られなくなる。   As shown in FIG. 11, when there are regions A, B, and C having different transmittances, the liquid crystals in these regions A, B, and C continue to move in each region after voltage application, and the liquid crystals in adjacent regions While affecting each other, the regions A, B, and C continue to move (the boundaries between the regions A, B, and C move), thereby increasing the transmittance and increasing the overshoot. Overshoot also causes afterimages and degrades display quality. In addition, if there are regions A, B, and C having different characteristics, a difference in display performance occurs, and a certain quality cannot be obtained.

従って、突起30、32の上の液晶の配向状態を制御し、透過率の異なった領域の液晶がいつまでも動き続けるのを防止し、よって輝度の向上及び応答速度の改善が図ることが望まれる。   Therefore, it is desirable to control the alignment state of the liquid crystal on the protrusions 30 and 32 to prevent the liquid crystal in the region having different transmittance from continuing to move forever, thereby improving the luminance and the response speed.

図14は本発明の第1実施例による突起(線状の構造体)30、32の例を示す図である。線状の構造体として、突起30、32の代わりにスリット構造44、46としてよいことは言うまでもない。   FIG. 14 is a diagram showing an example of the protrusions (linear structures) 30 and 32 according to the first embodiment of the present invention. It goes without saying that the slit structures 44 and 46 may be used instead of the protrusions 30 and 32 as a linear structure.

液晶表示装置は上記したように上基板12の突起30及び下基板の突起32を有する。各突起30、32は複数の構成単位30S、32Sから形成される。構成単位30S、32Sは、ほぼ一様な形状を有し、且つ形状の変化又は切断によって互いに区分されている。図14の例では、2つの隣接する構成単位30S、32Sは狭くなった部分で接続されている。また、上基板12の突起30の構成単位30Sと下基板14の突起32の構成単位32Sとは、互いに平行に延び且つ互いに重なる位置に配置される。   As described above, the liquid crystal display device has the protrusion 30 of the upper substrate 12 and the protrusion 32 of the lower substrate. Each protrusion 30 and 32 is formed of a plurality of structural units 30S and 32S. The structural units 30S and 32S have a substantially uniform shape and are separated from each other by a change in shape or cutting. In the example of FIG. 14, two adjacent structural units 30S and 32S are connected at a narrowed portion. Further, the structural unit 30S of the protrusion 30 of the upper substrate 12 and the structural unit 32S of the protrusion 32 of the lower substrate 14 extend in parallel to each other and are arranged at positions overlapping each other.

このように、各突起30、32は複数の構成単位30S、32Sから形成されるので、各構成単位30S、32S内に図11に示したような透過率の異なる複数の領域A、B、Cが形成される可能性が小さくなる。また、そのような領域A、B、Cが動き続けることもなくなり(領域A、B、C間の境界が移動し続けることもなくなり)、液晶が水平状態で安定的に配向するまでの時間が速くなる。それによって、オーバーシュートが小さくなり、輝度の向上及び応答速度の改善を図ることができる。仮に透過率ロスの大きい領域があったとしても、透過率ロスの小さい領域が多数存在すればその影響を打ち消すことができる。このためには、各突起30、32はできるだけ多くの構成単位30S、32Sを含むのがよい。好ましくは、構成単位30S、32Sの長さが一対の基板12、14の突起30、32間の間隙の値以上であり、且つ200μm以下である。   Thus, since each protrusion 30 and 32 is formed from a plurality of structural units 30S and 32S, a plurality of regions A, B and C having different transmittances as shown in FIG. 11 in each of the structural units 30S and 32S. Is less likely to form. Also, such regions A, B, and C do not continue to move (the boundaries between regions A, B, and C do not continue to move), and the time until the liquid crystal is stably aligned in a horizontal state Get faster. Thereby, the overshoot is reduced, and the luminance can be improved and the response speed can be improved. Even if there is a region where the transmittance loss is large, if there are many regions where the transmittance loss is small, the influence can be counteracted. For this purpose, each of the protrusions 30 and 32 preferably includes as many structural units 30S and 32S as possible. Preferably, the length of the structural units 30S and 32S is not less than the value of the gap between the protrusions 30 and 32 of the pair of substrates 12 and 14, and not more than 200 μm.

図15は突起30、32の変形例を示す図である。各突起30、32は複数の構成単位30S、32Sから形成される。この例では、突起30、32は切断されており、すなわち構成単位30S、32Sは互いに離れている。その他の特徴は図14の例と同様である。   FIG. 15 is a view showing a modified example of the protrusions 30 and 32. Each protrusion 30 and 32 is formed of a plurality of structural units 30S and 32S. In this example, the protrusions 30 and 32 are cut, that is, the structural units 30S and 32S are separated from each other. Other features are the same as in the example of FIG.

図16は突起30、32の変形例を示す図である。各突起30、32は複数の構成単位30S、32Sから形成される。この例では、突起30、32は屈曲した形状に形成されている。その他の特徴は図15の例と同様である。   FIG. 16 is a view showing a modified example of the protrusions 30 and 32. Each protrusion 30 and 32 is formed of a plurality of structural units 30S and 32S. In this example, the protrusions 30 and 32 are formed in a bent shape. Other features are the same as in the example of FIG.

図17は突起30、32の変形例を示す図である。各突起30、32は複数の構成単位30S、32Sから形成される。この例では、突起30、32は切断されており、すなわち構成単位30S、32Sは互いに離れている。さらに、上基板12の突起30の構成単位30Sと下基板14の突起32の構成単位32Sとは、互いに平行に延び且つ互いにずらされた位置に配置される。こうすれば、ドメイン数がさらに増えるため都合がよい。もちろん図14のように構成単位が接触している場合でも、図17のように上下基板の突起30、32を構成する構成単位30S、32Sをずらしてもよい。   FIG. 17 is a view showing a modification of the protrusions 30 and 32. Each protrusion 30 and 32 is formed of a plurality of structural units 30S and 32S. In this example, the protrusions 30 and 32 are cut, that is, the structural units 30S and 32S are separated from each other. Further, the structural unit 30S of the protrusion 30 of the upper substrate 12 and the structural unit 32S of the protrusion 32 of the lower substrate 14 are disposed in positions that extend in parallel with each other and are shifted from each other. This is convenient because the number of domains further increases. Of course, even when the structural units are in contact as shown in FIG. 14, the structural units 30S and 32S constituting the protrusions 30 and 32 of the upper and lower substrates may be shifted as shown in FIG.

図18は突起30、32の変形例を示す図である。各突起30、32は複数の構成単位30S、32Sから形成される。この例では、突起30、32は切断されており、すなわち構成単位30S、32Sは互いに離れている。さらに、上基板12の突起30の構成単位30Sと下基板14の突起32の構成単位32Sとは、長さが異なる。上基板12の突起30の構成単位30Sの長さは、下基板14の突起32の構成単位32Sの長さのほぼ3倍ある。上基板12の突起30の構成単位30Sの中心は、下基板14の突起32の3つの構成単位32Sの中心と一致する。   FIG. 18 is a view showing a modified example of the protrusions 30 and 32. Each protrusion 30 and 32 is formed of a plurality of structural units 30S and 32S. In this example, the protrusions 30 and 32 are cut, that is, the structural units 30S and 32S are separated from each other. Further, the structural unit 30S of the protrusion 30 of the upper substrate 12 and the structural unit 32S of the protrusion 32 of the lower substrate 14 are different in length. The length of the structural unit 30S of the protrusion 30 of the upper substrate 12 is approximately three times the length of the structural unit 32S of the protrusion 32 of the lower substrate 14. The center of the structural unit 30S of the protrusion 30 of the upper substrate 12 coincides with the center of the three structural units 32S of the protrusion 32 of the lower substrate 14.

図19は突起30、32の変形例を示す図である。各突起30、32は複数の構成単位30S、32Sから形成される。この例では、突起30、32は切断されており、すなわち構成単位30S、32Sは互いに離れている。さらに、上基板12の突起30の構成単位30Sは互いに長さが異なり、下基板14の突起32の構成単位32Sは互いに長さが異なる。この例では、構成単位30S、32Sはそれぞれ2種類の長さのものからなり、長さの異なるものをセットにして交互に配置される。上基板12の突起30の構成単位30Sのセットと下基板14の突起32の構成単位32Sセットとは、さらに位置をずらして配置される。図18及び図19の構成単位30S、32Sは前の実施例のように一致した位置に配置したり、接続した形状に形成したりすることもできる。   FIG. 19 is a view showing a modification of the protrusions 30 and 32. Each protrusion 30 and 32 is formed of a plurality of structural units 30S and 32S. In this example, the protrusions 30 and 32 are cut, that is, the structural units 30S and 32S are separated from each other. Furthermore, the structural units 30S of the protrusions 30 of the upper substrate 12 have different lengths, and the structural units 32S of the protrusions 32 of the lower substrate 14 have different lengths. In this example, the structural units 30S and 32S are each composed of two types of lengths, and the units having different lengths are alternately arranged as a set. The set of structural units 30S of the protrusions 30 of the upper substrate 12 and the set of structural units 32S of the protrusions 32 of the lower substrate 14 are further shifted in position. The structural units 30S and 32S in FIGS. 18 and 19 can be arranged at the same position as in the previous embodiment, or can be formed in a connected shape.

図20は突起30、32の変形例を示す図である。各突起30、32は複数の構成単位30S、32Sから形成される。この例では、突起30の構成単位30Sは突起32の構成単位32Sを1つおきに飛び越すように配置され、突起32の構成単位32Sは突起30の構成単位30Sを飛び越すように配置される。例えば、上基板の突起30の構成単位30Sが図2の突起30の位置に1つおきに飛び越すように構成単位30Sが配置され、下基板の突起32の構成単位32Sが図2の突起30の真下の位置に上基板の突起30の構成単位30Sの抜けた位置に1つおきに飛び越すように配置される。みかけ上は上下の基板の突起30、32の構成単位30S、32Sにより一列の構成単位が形成されているように見える。   FIG. 20 is a view showing a modification of the protrusions 30 and 32. Each protrusion 30 and 32 is formed of a plurality of structural units 30S and 32S. In this example, the structural unit 30S of the protrusion 30 is disposed so as to jump over every other structural unit 32S of the protrusion 32, and the structural unit 32S of the protrusion 32 is disposed so as to jump over the structural unit 30S of the protrusion 30. For example, the structural unit 30S is arranged so that every other structural unit 30S of the protrusion 30 on the upper substrate jumps to the position of the protrusion 30 in FIG. 2, and the structural unit 32S of the protrusion 32 on the lower substrate is the protrusion 30 of FIG. It is arranged so as to jump every other position at a position immediately below the constituent unit 30S of the protrusion 30 of the upper substrate. Apparently, it appears that the structural units 30S and 32S of the protrusions 30 and 32 on the upper and lower substrates form a row of structural units.

以上の例では、突起30、32の構成単位30S、32Sを楕円形形状で示したが、これに限らず長方形や菱形あるいはその他の多角形などでもよく形に制限はない。また、突起30、32の構成単位30S、32Sの長さとしては平均化させる目的から、R、G、Bの画素をひとまとめにした長さすなわち200μm以下であることが望ましい。また一対の基板を重ね合わせたときの突起間隙が液晶の配向を制御する最低距離となるため、突起30、32の構成単位30S、32Sの長さもこの突起間隙以上であるのが望ましい。   In the above example, the structural units 30S and 32S of the protrusions 30 and 32 are shown in an elliptical shape, but the shape is not limited to this, and the shape may be a rectangle, a rhombus, or other polygons. Further, the lengths of the structural units 30S and 32S of the protrusions 30 and 32 are preferably set to a length obtained by grouping R, G, and B pixels, that is, 200 μm or less for the purpose of averaging. In addition, since the protrusion gap when the pair of substrates are overlapped becomes the minimum distance for controlling the alignment of the liquid crystal, it is desirable that the lengths of the structural units 30S and 32S of the protrusions 30 and 32 are longer than the protrusion gap.

これまでは突起30、32の場合について述べてきたが、以上のことは電極のスリットを含むスリット構造44、46の場合にもあてはまる。すなわち、スリットを複数の構成単位からなるようにすればよい。この場合にも上で述べた配列はそのまま使える。また構成単位の長さの制限も同様になる。   So far, the case of the protrusions 30 and 32 has been described, but the above also applies to the case of the slit structures 44 and 46 including the slits of the electrodes. That is, the slit may be composed of a plurality of structural units. In this case, the arrangement described above can be used as it is. In addition, the restriction on the length of the structural unit is the same.

図21は線状の構造体の変形例を示す図である。図21は3つの画素電極22R、22G、22Bの部分を示しており、線状の構造体は図5に示した屈曲形状のものである。上基板12の線状の構造体は突起30からなり、下基板14の線状の構造体はスリット構造46からなる。つまり、図21の線状の構造体は図7の突起とスリット構造を上下逆にしたものに相当する。   FIG. 21 is a diagram showing a modification of the linear structure. FIG. 21 shows three pixel electrodes 22R, 22G, and 22B, and the linear structure has the bent shape shown in FIG. The linear structure of the upper substrate 12 is composed of protrusions 30, and the linear structure of the lower substrate 14 is composed of slit structures 46. That is, the linear structure shown in FIG. 21 corresponds to the projection and slit structure shown in FIG.

図22は図21の画素電極22R及びスリット構造46を示す図である。画素電極22Rは複数のスリット22S及び隣接するスリット22S間に位置する画素電極22Rと同じ材料(ITO)の部分22Tを有する。スリット22Sは画素電極22Rのパターニング時に形成できる。この画素電極22Rの上に垂直配向膜24を塗布すれば、画素電極22Rの一連のスリット22Sの部分がスリット構造46となり、スリット22Sの部分がスリット構造46の構成単位46Sとなる。材料の部分22Tは隣接する構成単位46Sを分離する部分になる。   FIG. 22 is a diagram showing the pixel electrode 22R and the slit structure 46 of FIG. The pixel electrode 22R has a plurality of slits 22S and a portion 22T made of the same material (ITO) as the pixel electrode 22R located between adjacent slits 22S. The slit 22S can be formed when the pixel electrode 22R is patterned. When the vertical alignment film 24 is applied on the pixel electrode 22R, the series of slits 22S of the pixel electrode 22R becomes the slit structure 46, and the slit 22S becomes the constituent unit 46S of the slit structure 46. The material portion 22T is a portion separating adjacent structural units 46S.

実施例においては、スリット22S(スリット構造46の構成単位46S)の幅は5μmであり、長さは12μm、26μm、33μmのものがあった。スリット22S(スリット構造46の構成単位46S)の長さは10μm以上あるのが望ましい。材料の部分22Tの長さは4μmであった。材料の部分22Tの長さは突起30の幅以下であるのが望ましい。同様に、突起30の構成単位30Sの幅は5μmであり、長さは12μm、26μm、33μmのものがあった。突起30の構成単位30S間のギャップの長さは4μmであった。   In the example, the width of the slit 22S (the structural unit 46S of the slit structure 46) was 5 μm, and the length was 12 μm, 26 μm, and 33 μm. The length of the slit 22S (the structural unit 46S of the slit structure 46) is desirably 10 μm or more. The length of the material portion 22T was 4 μm. The length of the material portion 22T is preferably equal to or less than the width of the protrusion 30. Similarly, the width of the structural unit 30S of the protrusion 30 was 5 μm, and the lengths were 12 μm, 26 μm, and 33 μm. The length of the gap between the structural units 30S of the protrusion 30 was 4 μm.

図23は突起30からなる線状の構造体の形成を説明する図である。(A)に示されるように、基板12を準備し、カラーフィルタ及びブラックマスク及び電極18を施す。(B)に示されるように、電極18(図示省略)を有する基板12にポジ形レジスト50であるLC200(シブレイ製)を1500rpmで30sの条件でスピンコートする。ここではポジ形レジストを用いたが必ずしもポジ形レジストである必要はなく、ネガ形レジストでもよいし、さらにはレジスト以外の感光性樹脂を用いてもよい。(C)に示されるように、スピンコートしたレジスト50を90℃、20分でプリベークを行った後、フォトマスク52を介して密着露光を行った(露光時間5s)。(D)に示されるように、次にシブレイ製の現像液により現像を行った(現像時間1分)後120℃、60分、次いで200℃、40分のポストベークを行い、突起30を形成した。この突起30の幅は5μm、高さは1.5μm、突起30の構成単位30Sの長さは上記した通りであった。(E)に示されるように、垂直配向膜JALS684(JSR製)を2000rpm、30sの条件でスピンコートし、180℃、60分のベークを行って垂直配向膜20を形成した。   FIG. 23 is a diagram for explaining the formation of a linear structure including the protrusions 30. As shown in (A), a substrate 12 is prepared, and a color filter, a black mask, and an electrode 18 are applied. As shown in (B), the substrate 12 having the electrodes 18 (not shown) is spin-coated with a positive resist 50 LC200 (manufactured by Shibley) at 1500 rpm for 30 s. Although a positive resist is used here, it is not necessarily a positive resist, a negative resist may be used, and a photosensitive resin other than a resist may be used. As shown in (C), after spin-coating the spin-coated resist 50 at 90 ° C. for 20 minutes, contact exposure was performed through a photomask 52 (exposure time 5 s). Next, as shown in (D), development was performed with a developer manufactured by Sibley (development time 1 minute), and then post-baking was performed at 120 ° C. for 60 minutes and then at 200 ° C. for 40 minutes to form protrusions 30. did. The width of the protrusion 30 was 5 μm, the height was 1.5 μm, and the length of the structural unit 30S of the protrusion 30 was as described above. As shown in (E), the vertical alignment film JALS684 (manufactured by JSR) was spin-coated under the conditions of 2000 rpm and 30 s, and baked at 180 ° C. for 60 minutes to form the vertical alignment film 20.

この基板12とTFT基板14の一方にシール(XN−21F、三井東圧化学製)を形成し、もう一方の基板に4.5μmのスペーサ(SP−20045、積水ファインケミカル製)を散布し、両基板を重ね合わせた。最後に135℃、60分のベークを行って空パネルを作製した。なおラビング及び洗浄は行っていない。次に、真空注入法によって、この空パネル中に負の誘電異方性を有する液晶MJ961213(メルク製)を注入した。最後に注入口を封口材(30Y@228、スリーボンド製)により封止して液晶パネルを作製した。   A seal (XN-21F, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals) is formed on one of the substrate 12 and the TFT substrate 14, and 4.5 μm spacers (SP-20045, manufactured by Sekisui Fine Chemical) are sprayed on the other substrate. The substrates were stacked. Finally, an empty panel was manufactured by baking at 135 ° C. for 60 minutes. Rubbing and cleaning are not performed. Next, liquid crystal MJ961213 (manufactured by Merck) having negative dielectric anisotropy was injected into the empty panel by vacuum injection. Finally, the inlet was sealed with a sealing material (30Y @ 228, manufactured by ThreeBond) to produce a liquid crystal panel.

こうして作製した液晶パネルについて5V印加時の透過率を測定したところ、25.7%であった。また0Vから5Vまで電圧を印加したときの応答速度を測定したところ、オーバーシュートは1.6%であった。   The liquid crystal panel thus produced was measured for transmittance when 5 V was applied and found to be 25.7%. Moreover, when the response speed when a voltage was applied from 0 V to 5 V was measured, the overshoot was 1.6%.

図15の線状の構造体を有する液晶表示装置の場合には、5V印加時の透過率を測定したところ、26.3%であった。また0Vから5Vまで電圧を印加したときの応答速度を測定したところ、オーバーシュートは1.1%であった。突起の幅は10μm、高さは1.5μm、突起構成単位の長さは30μm、突起構成単位間の間隙は10μm、上下基板を重ね合わせたときの突起の間隙は20μmとなるようにした。   In the case of the liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 15, the transmittance when 5 V was applied was measured and found to be 26.3%. Moreover, when the response speed when a voltage was applied from 0 V to 5 V was measured, the overshoot was 1.1%. The width of the protrusions was 10 μm, the height was 1.5 μm, the length of the protrusion constituent units was 30 μm, the gap between the protrusion constituent units was 10 μm, and the protrusion gap when the upper and lower substrates were overlapped was 20 μm.

また図17の線状の構造体を有する液晶表示装置の場合には、5V印加時の透過率を測定したところ、26.6%であった。また0Vから5Vまで電圧を印加したときの応答速度を測定したところ、オーバーシュートは0.9%であった。また図18の線状の構造体を有する液晶表示装置の場合には、5V印加時の透過率を測定したところ、26.1%であった。また0Vから5Vまで電圧を印加したときの応答速度を測定したところ、オーバーシュートは1.6%であった。この場合、突起の幅は10μm、高さは1.5μm、突起構成単位の長さは30μm、もう一つの突起構成単位の長さは70μm、突起構成単位間の間隙は10μm、上下基板を重ね合わせたときの突起の間隙は20μmとなるようにした。また上下基板で長い突起構成単位が短い突起構成単位の2つ分と同じ位置になるようにして一対の基板を貼り合わせてパネルを作製した。   In the case of the liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 17, the transmittance when 5 V was applied was measured and found to be 26.6%. Further, when the response speed when a voltage was applied from 0 V to 5 V was measured, the overshoot was 0.9%. In the case of the liquid crystal display device having the linear structure shown in FIG. 18, the transmittance when 5 V was applied was measured and found to be 26.1%. Moreover, when the response speed when a voltage was applied from 0 V to 5 V was measured, the overshoot was 1.6%. In this case, the width of the protrusion is 10 μm, the height is 1.5 μm, the length of the protrusion constituent unit is 30 μm, the length of the other protrusion constituent unit is 70 μm, the gap between the protrusion constituent units is 10 μm, and the upper and lower substrates are stacked. The gap between the protrusions when combined was set to 20 μm. In addition, a pair of substrates was bonded to each other so that the long protrusion constitutional unit on the upper and lower substrates was in the same position as two short protrusion constitutional units.

図20の線状の構造体を有する液晶表示装置の場合には、5V印加時の透過率を測定したところ、26.0%であった。また0Vから5Vまで電圧を印加したときの応答速度を測定したところ、オーバーシュートは1.6%であった。この場合、突起の幅は10μm、高さは1.5μm、突起構成単位の長さは30μm、突起構成単位間の間隙は50μm、突起構成単位間の間隙は10μm、上下基板を重ね合わせたときの突起の間隙は20μmとなるようにした。また一方の基板の突起構成単位間の間隙にもう一方の基板の突起構成単位がくるように突起を形成した。   In the case of the liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 20, the transmittance when 5 V was applied was measured and found to be 26.0%. Moreover, when the response speed when a voltage was applied from 0 V to 5 V was measured, the overshoot was 1.6%. In this case, the width of the protrusion is 10 μm, the height is 1.5 μm, the length of the protrusion constituent unit is 30 μm, the gap between the protrusion constituent units is 50 μm, the gap between the protrusion constituent units is 10 μm, and the upper and lower substrates are overlapped The gap between the protrusions was set to 20 μm. Further, the protrusions were formed such that the protrusion constitutional unit of the other substrate was in the gap between the protrusion constitutional units of one substrate.

比較例1として下記の測定を行った。構成単位を有しない突起を形成して、液晶パネルを作製した。なお突起の幅は10μm、高さは1.5μm、上下基板を重ね合わせたときの突起の間隙は20μmとなるようにした。5V印加時の透過率を測定したところ、22.8%であった。また0Vから5Vまで電圧を印加したときの応答速度を測定したところ、オーバーシュートは7.5%であった。   As Comparative Example 1, the following measurements were performed. A protrusion having no structural unit was formed to produce a liquid crystal panel. The width of the protrusion was 10 μm, the height was 1.5 μm, and the gap between the protrusions when the upper and lower substrates were overlapped was 20 μm. The transmittance when 5 V was applied was measured and found to be 22.8%. Moreover, when the response speed when a voltage was applied from 0 V to 5 V was measured, the overshoot was 7.5%.

比較例2として下記の測定を行った。図15と同様な突起を有し、しかし突起の構成単位の長さが長い液晶パネルを作製した。突起の幅は10μm、高さは1.5μm、突起構成単位の長さは300μm、突起構成単位間の間隙は10μm、上下基板を重ね合わせたときの突起の間隙は20μmとなるようにした。5V印加時の透過率を測定したところ、23.5%であった。また0Vから5Vまで電圧を印加したときの応答速度を測定したところ、オーバーシュートは6.3%であった。   As Comparative Example 2, the following measurements were performed. A liquid crystal panel having protrusions similar to those in FIG. 15 but having a long constituent unit length was manufactured. The width of the protrusions was 10 μm, the height was 1.5 μm, the length of the protrusion constituent units was 300 μm, the gap between the protrusion constituent units was 10 μm, and the protrusion gap when the upper and lower substrates were stacked was 20 μm. The transmittance when 5 V was applied was measured and found to be 23.5%. Moreover, when the response speed when a voltage was applied from 0 V to 5 V was measured, the overshoot was 6.3%.

比較例3として下記の測定を行った。図15と同様な突起を有し、しかし突起の構成単位の長さが短い液晶パネルを作製した。突起の幅は10μm、高さは1.5μm、突起構成単位の長さは10μm、突起構成単位間の間隙は10μm、上下基板を重ね合わせたときの突起の間隙は20μmとなるようにした。5V印加時の透過率を測定したところ、24.1%であった。また0Vから5Vまで電圧を印加したときの応答速度を測定したところ、オーバーシュートは5.9%であった。   As Comparative Example 3, the following measurements were performed. A liquid crystal panel having projections similar to those in FIG. 15 but having a short constituent unit length was produced. The width of the protrusions was 10 μm, the height was 1.5 μm, the length of the protrusion constituent units was 10 μm, the gap between the protrusion constituent units was 10 μm, and the protrusion gap when the upper and lower substrates were overlapped was 20 μm. The transmittance when 5 V was applied was measured and found to be 24.1%. Moreover, when the response speed when a voltage was applied from 0 V to 5 V was measured, the overshoot was 5.9%.

図24は図11と類似した線状の構造体を有する液晶表示装置の液晶の配向を示す図である。図25は図24の構成における表示特性を示す図である。図25において、54は暗く見える領域である。   FIG. 24 is a diagram showing the alignment of the liquid crystal of the liquid crystal display device having a linear structure similar to FIG. FIG. 25 is a diagram showing display characteristics in the configuration of FIG. In FIG. 25, 54 is an area that looks dark.

図24において、上基板12の突起30と下基板14の突起32の間に位置する液晶分子は、突起30、32に対して概ね垂直に配向する。また突起30、32上の液晶分子は、突起30、32に概ね平行に配向する。   In FIG. 24, the liquid crystal molecules located between the protrusions 30 of the upper substrate 12 and the protrusions 32 of the lower substrate 14 are aligned substantially perpendicular to the protrusions 30 and 32. The liquid crystal molecules on the protrusions 30 and 32 are aligned substantially parallel to the protrusions 30 and 32.

この突起30、32上の配向状態の異なる領域の境界や分割数が、電圧印加後数秒から長い場合には数十秒にわたって変化し続けることが分かった。これが液晶パネルの透過率変化として認識されることがオーバーシュートの主要因であることが分かった。   It has been found that the boundary and the number of divisions of the regions with different orientation states on the protrusions 30 and 32 continue to change over several tens of seconds when the voltage is long from several seconds after voltage application. It was found that this was recognized as a change in the transmittance of the liquid crystal panel as the main factor of overshoot.

この原因は次のように考えられる。突起30、32上において液晶分子の向く方向は、例えば図24のように突起30、32が左右に延びている場合、右方向と左方向の2通りが考えられる。しかし、どちらを向くか規制する手段がないと、電圧印加直後はいずれかの向きにランダムに倒れ込む。その後、突起30、32上の配向状態の異なる領域は相互に影響を与え合うが、これらの領域の液晶は配向方向の規制がないため、周囲の影響を受けることでその状態を容易に変化させてしまう。このようにして、突起30、32上の配向状態の異なる領域の液晶は長い時間変化し続けるものと思われる。   The cause is considered as follows. For example, when the protrusions 30 and 32 extend to the left and right as shown in FIG. 24, there are two possible directions of the liquid crystal molecules on the protrusions 30 and 32: right and left. However, if there is no means for restricting which direction it faces, it will fall randomly in either direction immediately after voltage application. Thereafter, the regions with different alignment states on the protrusions 30 and 32 affect each other, but the liquid crystal in these regions has no restriction on the alignment direction, so that the state can be easily changed by being influenced by the surroundings. End up. In this way, it is considered that the liquid crystals in the regions with different alignment states on the protrusions 30 and 32 continue to change for a long time.

上記したように、突起又はスリット構造を複数の構成単位から構成することにより、構成単位の分割位置を基準とした配向方向の規制が可能になった。   As described above, by configuring the protrusion or slit structure from a plurality of structural units, it is possible to regulate the orientation direction based on the division position of the structural units.

図26は複数の構成単位からなる線状の構造体有する液晶表示装置の液晶の配向を示す図である。図27は図26の構成における表示特性を示す図である。図27において、54は暗く見える領域である。図26及び図27は例えば図15の液晶表示装置の液晶分子の特徴を示している。   FIG. 26 is a diagram showing the alignment of liquid crystal in a liquid crystal display device having a linear structure composed of a plurality of structural units. FIG. 27 is a diagram showing display characteristics in the configuration of FIG. In FIG. 27, 54 is an area that looks dark. 26 and 27 show, for example, the characteristics of the liquid crystal molecules of the liquid crystal display device of FIG.

突起30、32は切断部分30T、32Tが基準となって突起30、32上の配向状態の異なる領域は分割されている。観察の結果、この切断部分30T、32Tにおいては液晶の経時変化は見られなかった。しかしながら、切断部分30T、32Tと隣接する切断部分との間において(突起の構成単位30S、32S内において)も液晶の配向状態の異なる複数の領域があることが新たに分かった。従来よりは軽微であるものの、これらの領域の境界には経時変化が見られ、さらにオーバーシュートの改善の余地があることが分かった。   The protrusions 30 and 32 are divided into regions having different orientation states on the protrusions 30 and 32 with respect to the cut portions 30T and 32T. As a result of observation, no change with time in the liquid crystal was observed in the cut portions 30T and 32T. However, it has been newly found that there are a plurality of regions having different alignment states of the liquid crystal between the cut portions 30T and 32T and the adjacent cut portions (within the protrusion structural units 30S and 32S). Although it was slightly less than before, it was found that the boundary between these regions changed with time and there was room for improvement of overshoot.

図28は本発明の第2実施例による線状の構造体を有する液晶表示装置の液晶の配向を示す図である。図29は図28の構成における表示特性を示すを示す図である。図30は図28に表れる第1のタイプの配向の境界の特徴及び第2のタイプの配向の境界の特徴を拡大して示す図である。   FIG. 28 is a diagram showing the alignment of the liquid crystal of the liquid crystal display device having a linear structure according to the second embodiment of the present invention. FIG. 29 is a diagram showing display characteristics in the configuration of FIG. FIG. 30 is an enlarged view of the boundary characteristics of the first type of orientation and the boundary characteristics of the second type of orientation that appear in FIG.

図28及び図30において、突起30、32上での液晶の配向を制御できる手段について考察すると、液晶の配向状態の異なる複数の領域の境界について、2つのタイプの境界があることが分かった。第1のタイプ(I)では、周囲の液晶分子が一点を向く。第2のタイプ(II)では、周囲の液晶分子の一部が一点を向き他の液晶分子が同じ一点から反対を向く。図28では液晶分子は頭と足とを有する形で示されているが、第1のタイプ(I)では、全ての液晶分子の頭が中心を向くか、全ての液晶分子の足が中心を向くか、している。第2のタイプ(II)では、一部の液晶分子の頭が中心を向き、且つ他の液晶分子の足が中心を向いている。   In FIG. 28 and FIG. 30, when a means capable of controlling the alignment of the liquid crystal on the protrusions 30 and 32 is considered, it has been found that there are two types of boundaries for the boundaries of a plurality of regions having different alignment states of the liquid crystal. In the first type (I), surrounding liquid crystal molecules face one point. In the second type (II), some of the surrounding liquid crystal molecules face one point, and the other liquid crystal molecules face the opposite from the same point. In FIG. 28, the liquid crystal molecules are shown having a head and a foot, but in the first type (I), the heads of all the liquid crystal molecules face the center or the feet of all the liquid crystal molecules are centered. Facing or doing. In the second type (II), the heads of some liquid crystal molecules face the center and the legs of other liquid crystal molecules face the center.

図28において、各基板の線状の構造体である突起30、32は、周囲の液晶分子が一点を向く第1のタイプ(I)の配向の境界を形成する手段56と、周囲の液晶分子の一部が一点を向き残りの液晶分子が同じ一点から反対を向く第2のタイプ(II)の配向の境界を形成する手段58とを有している。第1のタイプの配向(I)の境界を形成する手段56は突起30、32の構成単位30S、32S内に設けられ、第2のタイプ(II)の配向の境界を形成する手段58は突起30、32の構成単位30S、32S間の境界(すなわち構成単位30S、32Sを分離する分離部30T、32T)に設けられる。   In FIG. 28, the protrusions 30 and 32 which are linear structures of each substrate are provided with means 56 for forming a boundary of the first type (I) orientation in which the surrounding liquid crystal molecules face one point, and the surrounding liquid crystal molecules. And a means 58 for forming a boundary of a second type (II) orientation in which a part of the liquid crystal molecules face one point and the remaining liquid crystal molecules face the opposite from the same point. The means 56 for forming the boundary of the first type orientation (I) is provided in the structural units 30S, 32S of the protrusions 30, 32, and the means 58 for forming the boundary of the second type (II) orientation is the protrusion. 30 and 32 are provided at the boundary between the structural units 30S and 32S (that is, the separation units 30T and 32T that separate the structural units 30S and 32S).

これまでの説明及び図2から分かるように、突起30、32は主斜面で液晶分子の配向を制御することができる。同様に、突起30、32の構成単位30S、32S間の境界を規定する分離部30T、32Tも斜面を有し、該斜面で液晶分子の配向を制御することができる。分離部30T、32Tの斜面は突起30、32の長手方向に対して概ね横方向に延びるものである。突起30、32の主斜面は液晶分子を突起30、32の長手方向に対して垂直な方向に配向させるものであるのに対して、分離部30T、32Tの斜面は液晶分子を突起30、32の長手方向に対して概ね平行に配向させる。一方、液晶分子は全体として突起30、32の長手方向に対して垂直な方向に配向し、分離部30T、32Tにおいても同様の作用がある。従って、分離部30T、32Tは第2のタイプ(II)の境界を形成する手段58となる。   As can be seen from the above description and FIG. 2, the protrusions 30 and 32 can control the alignment of the liquid crystal molecules on the main slope. Similarly, the separation portions 30T and 32T that define the boundaries between the structural units 30S and 32S of the protrusions 30 and 32 also have slopes, and the orientation of liquid crystal molecules can be controlled by the slopes. The inclined surfaces of the separation portions 30T and 32T extend substantially in the lateral direction with respect to the longitudinal direction of the protrusions 30 and 32. The main inclined surfaces of the protrusions 30 and 32 align liquid crystal molecules in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the protrusions 30 and 32, whereas the inclined surfaces of the separating portions 30T and 32T cause liquid crystal molecules to protrude into the protrusions 30 and 32. It is orientated substantially parallel to the longitudinal direction. On the other hand, the liquid crystal molecules are aligned in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the protrusions 30 and 32 as a whole, and the same effect is obtained in the separating portions 30T and 32T. Therefore, the separation parts 30T and 32T become means 58 for forming the boundary of the second type (II).

図31及び図32は第1のタイプ(I)の配向の境界を形成する手段56の具体例を示している。図32は上基板12の突起30を通る断面及び下基板14の突起32を通る断面を合わせた断面図である。この手段56は突起30、32の上に設けられた点状の突起からなる。この手段56は液晶の配向を形状的あるいは電界的に補助し、上記したような液晶分子の配向を行わせることができる。よって、その部分を核として突起30、32上の液晶の配向領域を分割することができる。第1のタイプ(I)の境界及び第2のタイプ(II)の境界では液晶の配向が異なるので、当然突起に付与すべき効果も異なってくる。   FIGS. 31 and 32 show a specific example of the means 56 for forming the boundary of the first type (I) orientation. FIG. 32 is a cross-sectional view of a cross section passing through the protrusion 30 of the upper substrate 12 and a cross section passing through the protrusion 32 of the lower substrate 14. The means 56 is a dot-like protrusion provided on the protrusions 30 and 32. This means 56 assists the alignment of the liquid crystal in terms of shape or electric field, and allows the alignment of the liquid crystal molecules as described above. Therefore, the alignment region of the liquid crystal on the protrusions 30 and 32 can be divided using the portion as a nucleus. Since the alignment of the liquid crystal is different between the boundary of the first type (I) and the boundary of the second type (II), the effect to be imparted to the protrusions is naturally different.

第1のタイプ(I)の配向の境界を形成する手段56は、上基板12において液晶分子を突起の高いところに向かって倒れ込むようにすることができる。このようにして、突起の切断された部分と高くなった部分が交互に並ぶようにすることで初めて、突起上の全ドメインの配向方向を定めることができる。従って、電圧印加後の液晶のドメインの経時変化を抑制でき、オーバーシュートをほぼ完全になくすことができる。   The means 56 for forming the boundary of the first type (I) alignment can cause the liquid crystal molecules to fall down on the upper substrate 12 toward the high portion of the protrusion. In this way, the orientation direction of all the domains on the projection can be determined only by alternately arranging the cut portions and the raised portions of the projection. Therefore, it is possible to suppress the change of the liquid crystal domain with time after the voltage application, and the overshoot can be almost completely eliminated.

突起30、32の上に突出する手段56を形成するために、突起30、32の形成前にあらかじめ微小な構造物を形成した。構造物の形成は突起30、32の形成後であってもよい。構造物の大きさは10μm角、高さは1μmとした。構造物の材料としては、ここでは突起材料と同一材料を用いた。なお、TFT基板に形成するならば、該当部に配線用のメタル層や絶縁物層を積層する方法があり、CF基板なら、該当部に色層やBMを積層する方法で、プロセスを増やすことなく所望の構造を得ることができる。   In order to form the means 56 protruding on the protrusions 30 and 32, a minute structure was formed in advance before the formation of the protrusions 30 and 32. The structure may be formed after the protrusions 30 and 32 are formed. The size of the structure was 10 μm square and the height was 1 μm. Here, the same material as the protrusion material was used as the material of the structure. In addition, if it is formed on the TFT substrate, there is a method of laminating a wiring metal layer or an insulator layer in the corresponding part, and if it is a CF substrate, the process is increased by laminating a color layer or BM in the corresponding part. And a desired structure can be obtained.

突起材料には感光性アクリル系材料PC−335(JSR製)を用いた。突起幅10μm、突起間隙(両基板貼り合わせ後における一方の基板の突起端から他方の基板の突起端までの距離)は30μm、突起高さは1.5μmとした(突起高さを高くする部分はあらかじめ1μm高くなっていることから2.5μmとなる)。突起30、32の分離部30S、32Sの大きさは10μm角、分離部30S、32Sの中央から突起30、32の高い部分56の中央までの距離は60μmとした(1.5μmの高さの突起が長さ50μm連続して存在する)。   Photosensitive acrylic material PC-335 (manufactured by JSR) was used as the projection material. The projection width is 10 μm, the projection gap (the distance from the projection end of one substrate to the projection end of the other substrate after bonding both substrates) is 30 μm, and the projection height is 1.5 μm (the portion where the projection height is increased) Is 2.5 μm because it is 1 μm higher in advance). The size of the separating portions 30S and 32S of the protrusions 30 and 32 is 10 μm square, and the distance from the center of the separating portions 30S and 32S to the center of the high portion 56 of the protrusions 30 and 32 is 60 μm (with a height of 1.5 μm). The protrusions are continuously present with a length of 50 μm).

垂直配向膜にはJALS−204(JSR製)を用いた。液晶に混ぜるスペーサには3.5μm径のミクロパール(積水ファインケミカル製)、液晶材料にはMJ95785(メルク製)を用いた。   JALS-204 (manufactured by JSR) was used as the vertical alignment film. A micropearl having a diameter of 3.5 μm (manufactured by Sekisui Fine Chemical) was used as a spacer mixed with the liquid crystal, and MJ95785 (manufactured by Merck) was used as a liquid crystal material.

図33及び図34は線状の構造体の変形例を示す平面図及び断面図である。この例は、以下の点を除けば前の例と同様である。上下基板12、14は突起30、32を有し、第1のタイプの配向(I)の境界を形成する手段56及び第2のタイプ(II)の境界を形成する手段58として、突起30、32に突起高さの高い部分と低い部分を交互に設けた。突起30、32の突起高さの低い部分58は構成単位30S、32Sを分離する分離部30T、32Tである。低い部分58の突起高さは1μmとした。突起を低くする方法として、本実施例においては形成された突起30、32に選択的に酸素プラズマ照射によりアッシングを行った。またTFT基板に形成するならば、該当部にコンタクトホールを開ける方法、CF基板ならば、該当部の色層やオーバーコート層を除去する方法でプロセスを増やすことなく所望の構造を得ることができる。   33 and 34 are a plan view and a cross-sectional view showing a modification of the linear structure. This example is the same as the previous example except for the following points. The upper and lower substrates 12, 14 have protrusions 30, 32. As means 56 for forming the boundary of the first type of orientation (I) and means 58 for forming the boundary of the second type (II), the protrusion 30, In FIG. 32, high and low protrusion portions were alternately provided. The portions 58 of the protrusions 30 and 32 having a low protrusion height are separation portions 30T and 32T that separate the structural units 30S and 32S. The protrusion height of the lower portion 58 was 1 μm. As a method for lowering the protrusions, in this embodiment, the formed protrusions 30 and 32 were selectively ashed by oxygen plasma irradiation. In addition, if it is formed on a TFT substrate, a desired structure can be obtained without increasing the process by a method of opening a contact hole in the corresponding portion, and if it is a CF substrate, a method of removing the color layer and overcoat layer in the corresponding portion. .

図35(A)は線状の構造体の変形例を示す平面図である。上下基板12、14は突起30、32を有し、第1のタイプの配向(I)の境界を形成する手段56及び第2のタイプ(II)の境界を形成する手段58として、突起30、32の幅の広い部分と狭い部分を交互に設けた。広い部分56の幅は15μm、狭い部分58の幅は5μmとした(通常の幅は10μm)。   FIG. 35A is a plan view showing a modification of the linear structure. The upper and lower substrates 12, 14 have protrusions 30, 32. As means 56 for forming the boundary of the first type of orientation (I) and means 58 for forming the boundary of the second type (II), the protrusion 30, 32 wide and narrow portions were alternately provided. The width of the wide portion 56 was 15 μm, and the width of the narrow portion 58 was 5 μm (normal width is 10 μm).

図35(B)は線状の構造体の変形例を示す平面図である。上下基板12、14は突起30、32を有し、第1のタイプの配向(I)の境界を形成する手段56及び第2のタイプ(II)の境界を形成する手段58として、突起30、32の幅を連続的に変化させ、幅の広い部分と狭い部分を交互に設けた。   FIG. 35B is a plan view showing a modification of the linear structure. The upper and lower substrates 12, 14 have protrusions 30, 32. As means 56 for forming the boundary of the first type of orientation (I) and means 58 for forming the boundary of the second type (II), the protrusion 30, The width of 32 was continuously changed, and wide portions and narrow portions were alternately provided.

図36は線状の構造体の変形例を示す平面図である。下基板14はスリット46を有し、第1のタイプの配向(I)の境界を形成する手段56及び第2のタイプ(II)の境界を形成する手段58として、スリット46の幅を連続的に変化させ、幅の広い部分と狭い部分を交互に設けた。   FIG. 36 is a plan view showing a modification of the linear structure. The lower substrate 14 has a slit 46, and the width of the slit 46 is continuously increased as means 56 for forming the boundary of the first type of orientation (I) and means 58 for forming the boundary of the second type (II). The wide and narrow portions were alternately provided.

図37は線状の構造体の変形例を示す平面図である。上基板12はCF基板であり、下基板14はTFT基板である。パネルサイズは15型、画素数は1024×768(XGA)とした。図37はパネルの1画素単位を示すものである。TFT基板14の突起32の中央部分32Pの高さを低くし、CF基板12の突起30の中央部分30Pの高さを高くした。画素電極22のエッジの影響も考慮に入れた上で、所望の配向状態を実現できた。   FIG. 37 is a plan view showing a modification of the linear structure. The upper substrate 12 is a CF substrate, and the lower substrate 14 is a TFT substrate. The panel size was 15 type, and the number of pixels was 1024 × 768 (XGA). FIG. 37 shows one pixel unit of the panel. The height of the central portion 32P of the protrusion 32 of the TFT substrate 14 was lowered, and the height of the central portion 30P of the protrusion 30 of the CF substrate 12 was increased. In consideration of the influence of the edge of the pixel electrode 22, a desired alignment state can be realized.

TFT基板を用いた液晶パネルに本発明を適用するにおいては、TFT基板の画素電極22のエッジによる電界方向の影響を十分に考慮する必要がある。   In applying the present invention to a liquid crystal panel using a TFT substrate, it is necessary to sufficiently consider the influence of the electric field direction due to the edge of the pixel electrode 22 of the TFT substrate.

図38は液晶表示装置の画素電極22のエッジ近くの部分の断面図、図39は図38の画素電極22のエッジにおける液晶の配向を示す図である。図39の(A)は上基板12の突起30の部分を示し、図39の(B)は下基板14の突起32の部分を示す。図38及び図39に示すように、画素電極22のエッジにおいては斜め電界60が存在し、この斜め電界60は、TFT基板を下、対向基板を上として見た場合に、液晶分子を画素中央に向ける役割をなしている。これはTFT基板の突起32に対して画素電極22のエッジ部分があたかも第1のタイプの配向(I)の境界を形成する手段56であるかのように機能し、CF基板の突起30に対しては、あたかも第2のタイプ(II)の境界を形成する手段58であるかのように機能していることを意味している。   FIG. 38 is a cross-sectional view of a portion near the edge of the pixel electrode 22 of the liquid crystal display device, and FIG. 39 is a diagram showing the alignment of the liquid crystal at the edge of the pixel electrode 22 of FIG. 39A shows a portion of the protrusion 30 of the upper substrate 12, and FIG. 39B shows a portion of the protrusion 32 of the lower substrate 14. As shown in FIGS. 38 and 39, there is an oblique electric field 60 at the edge of the pixel electrode 22, and this oblique electric field 60 causes liquid crystal molecules to be centered in the pixel when the TFT substrate is viewed downward and the counter substrate is viewed upward. It has a role to turn to. This functions as if the edge portion of the pixel electrode 22 is a means 56 for forming the boundary of the first type of orientation (I) with respect to the protrusion 32 of the TFT substrate. This means that it functions as if it were the means 58 for forming the boundary of the second type (II).

換言すると、TFT基板の突起32上で画素電極エッジに最も近い境界は必ず第2のタイプの配向(II)の状態をとり、CF基板の突起30上で画素電極エッジに最も近い境界は必ず第1のタイプ(I)の状態をとると言える。従って、図37の構成は、この画素電極エッジによる規制方向に併せた形で突起30、32上の配向方向を定めることで、TFT液晶パネルにおいても突起上の全ドメインの配向制御が可能になる。   In other words, the boundary closest to the pixel electrode edge on the TFT substrate protrusion 32 always takes the second type of orientation (II), and the boundary closest to the pixel electrode edge on the CF substrate protrusion 30 is always the first. It can be said that the state of type 1 (I) is taken. Therefore, in the configuration of FIG. 37, by defining the alignment direction on the protrusions 30 and 32 in accordance with the regulation direction by the pixel electrode edge, the alignment of all domains on the protrusion can be controlled even in the TFT liquid crystal panel. .

図40は線状の構造体の変形例を示す平面図である。TFT基板については画素電極エッジに最も近い部分の突起32上の配向制御手段58として突起高さを低くし、その内側においては配向形成手段56として突起高さを高くしている。CF基板については画素エッジに最も近い部分の突起30上の配向制御手段56として突起高さを高くし、その内側においては配向形成手段58として突起高さを低くしている。   FIG. 40 is a plan view showing a modification of the linear structure. With respect to the TFT substrate, the protrusion height is lowered as the orientation control means 58 on the protrusion 32 closest to the pixel electrode edge, and the protrusion height is increased as the orientation forming means 56 inside thereof. With respect to the CF substrate, the protrusion height is increased as the orientation control means 56 on the protrusion 30 closest to the pixel edge, and the protrusion height is decreased as the orientation forming means 58 inside thereof.

なお、これまで述べた実施例においては、上基板と下基板で突起形状を同じように形成しているが、必ずしもその必要はない。例えば上基板は高い突起と低い突起、下基板は幅広い突起と幅狭い突起でも同様の効果が得られる。また、同一突起上で2種類のみの形状変化を交互に繰り返して配置する必要はない。   In the embodiments described so far, the upper substrate and the lower substrate have the same protrusion shape, but this is not always necessary. For example, the same effect can be obtained with a high protrusion and a low protrusion on the upper substrate, and a wide protrusion and a narrow protrusion on the lower substrate. Further, it is not necessary to arrange only two types of shape changes alternately on the same protrusion.

例えば、高い突起−低い突起−高い突起−低い突起−の繰り返しである必要はない。高い突起−低い突起−幅広い突起−幅狭い突起−高い突起−低い突起でもよく、第1及び第2のタイプ(I)、(II) の境界を満足する形状変化が交互に配置されればよい。このような形状変化について、突起の場合とスリットについて表1に示す。   For example, it is not necessary to repeat high protrusions-low protrusions-high protrusions-low protrusions. High protrusions-low protrusions-wide protrusions-narrow protrusions-high protrusions-low protrusions may be used as long as the shape changes satisfying the boundary between the first and second types (I) and (II) are arranged alternately. . Table 1 shows such a shape change in the case of protrusions and slits.

表1
第1のタイプ(I)の 第2のタイプ(II) の
境界形成手段56 境界形成手段58
突起を切断する
突起の高さを高くする 突起の高さを低くする
突起の幅を大きくする 突起の幅を小さくする
突起の下の電極を抜く スリットを切断する
スリットの高さを高くする スリットの高さを低くする
(突出させる) (穴をあける)
スリットの幅を大きくする スリットの幅を小さくする
Table 1
First type (I) Second type (II)
Boundary forming means 56 Boundary forming means 58
Cutting the protrusion Increasing the height of the protrusion Decreasing the height of the protrusion Increasing the width of the protrusion Decreasing the width of the protrusion Pulling out the electrode under the protrusion Cutting the slit Increasing the height of the slit Reduce the height (protrude) (open a hole)
Increase slit width Reduce slit width

図41は図35の線状の構造体における液晶の配向を示す図である。この場合には、表示ドメイン内の配向はベンド配向になる。   FIG. 41 is a diagram showing the alignment of the liquid crystal in the linear structure of FIG. In this case, the orientation in the display domain is a bend orientation.

図42は図41の線状の構造体の変形例を示す図である。この場合には、表示ドメイン内の配向はスプレイ配向になる。図41の構成から図42の構成に変えることにより、ベンド配向をスプレイ配向に変えることができる。   FIG. 42 is a view showing a modification of the linear structure shown in FIG. In this case, the orientation in the display domain is a splay orientation. By changing from the configuration of FIG. 41 to the configuration of FIG. 42, the bend alignment can be changed to the splay alignment.

図43は本発明の第3実施例による線状の構造体を示す平面図である。図44は図43の線状の構造体を通る液晶表示装置の断面図である。この液晶表示装置10の基本的構成は、図1から図5の実施例の液晶表示装置10の基本的構成と同様である。すなわち、液晶表示装置10は液晶の配向を制御する線状の構造体として突起30、32を有する。突起30、32は基板の法線から見て互いに平行に且つ互いにずらして配置されている。図44は下基板14の突起32を通る断面図であり、上基板12の突起30は図44には示されていない。   FIG. 43 is a plan view showing a linear structure according to the third embodiment of the present invention. 44 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device passing through the linear structure of FIG. The basic configuration of the liquid crystal display device 10 is the same as the basic configuration of the liquid crystal display device 10 of the embodiment shown in FIGS. That is, the liquid crystal display device 10 has the protrusions 30 and 32 as linear structures that control the alignment of the liquid crystal. The protrusions 30 and 32 are arranged in parallel to each other and shifted from each other when viewed from the normal line of the substrate. 44 is a cross-sectional view through the protrusion 32 of the lower substrate 14, and the protrusion 30 of the upper substrate 12 is not shown in FIG.

この実施例では、上基板12及び下基板14はそれに対向する基板に電圧印加時に液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62、64を有する。図44では、上基板12は、下基板14の突起32と同じ断面内に、点状の突起62aからなる手段62を有する。同様に、図43に示されているように、下基板14は、上基板12の突起30と同じ断面内に、点状の突起64aからなる手段64を有する。   In this embodiment, the upper substrate 12 and the lower substrate 14 have means 62 and 64 for forming a boundary of alignment of liquid crystal molecules at a fixed position when a voltage is applied to the opposite substrates. In FIG. 44, the upper substrate 12 has means 62 composed of dot-like projections 62a in the same cross section as the projections 32 of the lower substrate. Similarly, as shown in FIG. 43, the lower substrate 14 has means 64 composed of dot-like protrusions 64 a in the same cross section as the protrusions 30 of the upper substrate 12.

図45は図44の線状の構造体の近傍の液晶の配向を示す図である。図46は第1実施例の線状の構造体の近傍の液晶の配向を示す図である。   FIG. 45 is a diagram showing the alignment of the liquid crystal in the vicinity of the linear structure shown in FIG. FIG. 46 is a diagram showing the alignment of the liquid crystal in the vicinity of the linear structure according to the first embodiment.

第1実施例では、各突起30、32は、複数の構成単位30S、32Sから形成されるものであった。この実施例の液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62、64は第1実施例において各突起30、32を複数の構成単位30S、32Sから形成したのと同様の作用を有するものである。従って、図45と図46を比較すれば分かるように、これらの手段62、64の突起30、32に沿った形成位置は、第1実施例の複数の構成単位30S、32Sの切断部又は境界の位置と同じである。   In the first embodiment, each of the protrusions 30 and 32 is formed from a plurality of structural units 30S and 32S. The means 62, 64 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules in this embodiment at a fixed position has the same operation as that in the first embodiment, in which the protrusions 30, 32 are formed from a plurality of structural units 30S, 32S. It is what you have. Therefore, as can be seen by comparing FIG. 45 and FIG. 46, the formation positions of the means 62 and 64 along the protrusions 30 and 32 are the cut portions or boundaries of the plurality of structural units 30S and 32S of the first embodiment. The position is the same.

図44及び図45に示されるように、手段62は、突起32上の液晶分子が手段62の突起62a方向を向いて倒れるようにしたものである。手段64は、同様に突起30上の液晶分子が手段64の突起64aの方向を向いて倒れるようにしたものである。従って、これらの手段62、64は、各突起30、32を複数の構成単位30S、32Sから形成した場合に液晶分子が切断部又は境界32Tを向いて倒れるようになるのと同様の意味をもつことが分かる。   As shown in FIG. 44 and FIG. 45, the means 62 is configured such that the liquid crystal molecules on the protrusion 32 are tilted toward the protrusion 62 a direction of the means 62. Similarly, the means 64 is configured such that the liquid crystal molecules on the protrusion 30 are tilted in the direction of the protrusion 64 a of the means 64. Therefore, these means 62 and 64 have the same meaning as that when the protrusions 30 and 32 are formed from a plurality of structural units 30S and 32S, the liquid crystal molecules are inclined toward the cut portion or the boundary 32T. I understand that.

図46の構成の場合には、突起32の横にある液晶分子は突起32に対して垂直に向くのが望ましいが、切断部又は境界32Tの横にある液晶分子は突起32がそこで不連続となっているので突起32に対して完全に垂直に向くとは限らない。図44及び図45の構成の場合には、突起32は不連続ではないので、突起32の横にある液晶分子は全て突起32に対して垂直に向く。従って、輝度が低下することなく表示領域と突起上の領域の液晶の配向をともに制御することができる。   In the case of the configuration of FIG. 46, it is desirable that the liquid crystal molecules beside the protrusions 32 be perpendicular to the protrusions 32, but the liquid crystal molecules beside the cut or boundary 32 T Therefore, it does not necessarily face completely perpendicular to the protrusion 32. 44 and 45, since the protrusions 32 are not discontinuous, all the liquid crystal molecules beside the protrusions 32 are perpendicular to the protrusions 32. Therefore, both the alignment of the liquid crystal in the display area and the area on the protrusion can be controlled without lowering the luminance.

点状の突起62a、64aは感光性アクリル系材料PC−335(JSR製)を用いた。点状の突起62a、64aの幅は5μm、高さは1.5μmであった。線状の突起30、32の幅は10μm、高さは1.5μmであった。   Photosensitive acrylic material PC-335 (manufactured by JSR) was used for the dot-like protrusions 62a and 64a. The dot-like protrusions 62a and 64a had a width of 5 μm and a height of 1.5 μm. The linear protrusions 30 and 32 had a width of 10 μm and a height of 1.5 μm.

図47は線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す図である。(A)は断面図、(B)は図解的斜視図、(C)は平面図である。この実施例では、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62は対向基板の点状のスリット構造62bである。この手段62は電極18にスリットを設け、電極18の上に垂直配向膜20を形成してなる。スリットの大きさは14×4μm、10×4μmで表示の輝度が向上した。スリットの幅はさらに小さくすることができる。   FIG. 47 is a view showing a modification of the linear structure and the control means for the orientation of the boundary. (A) is a sectional view, (B) is a schematic perspective view, and (C) is a plan view. In this embodiment, the means 62 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position is a dot-like slit structure 62b of the counter substrate. This means 62 is formed by providing a slit in the electrode 18 and forming the vertical alignment film 20 on the electrode 18. The size of the slit was 14 × 4 μm and 10 × 4 μm, and the display brightness was improved. The width of the slit can be further reduced.

図48は線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す図である。この実施例では、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62は点状の突起62aである。この突起62aは電極18にスリット又は穴を設け、このスリット又は穴内で基板に突起66を形成し、それから電極18の上に垂直配向膜20を形成してなる。突起62aの幅は3μm、長さは8μm、高さは1.5μmであった。突起66はアクリル樹脂で形成した。その他、突起形成手段として、TFT基板ならば、バスラインや絶縁層の材料を選択的に用いてもよい。CR基板ならば、カラーフィルタ層、ブラックマスク層、オーバーコート層の材料を選択的に用いてもよい。   FIG. 48 is a diagram showing a modification of the linear structure and the control means for the orientation of the boundary. In this embodiment, the means 62 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position is a dot-like protrusion 62a. The protrusion 62 a is formed by providing a slit or hole in the electrode 18, forming a protrusion 66 on the substrate in the slit or hole, and then forming the vertical alignment film 20 on the electrode 18. The protrusion 62a had a width of 3 μm, a length of 8 μm, and a height of 1.5 μm. The protrusion 66 was made of acrylic resin. In addition, as a protrusion forming means, a material of a bus line or an insulating layer may be selectively used if it is a TFT substrate. In the case of a CR substrate, materials for a color filter layer, a black mask layer, and an overcoat layer may be selectively used.

また、突起66aの代わりに、基板にスリット又は穴を設けて窪みを形成し、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62がスリット構造からなるものとしてもよい。この場合、TFT基板ならば、選択的にコンタクトホールを形成して窪みとすればよい。CR基板ならば、カラーフィタ層、ブラックマスク層、オーバーコート層に選択的に窪みを設ければよい。   Further, instead of the projection 66a, a slit 62 or a hole may be provided in the substrate to form a recess, and the means 62 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position may have a slit structure. In this case, if it is a TFT substrate, a contact hole may be selectively formed to form a recess. In the case of a CR substrate, depressions may be selectively provided in the color filter layer, black mask layer, and overcoat layer.

図49は線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す図である。この実施例では、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62は点状の突起62aである。この手段62は基板12に突起68を設け、電極18を形成し、垂直配向膜20を形成してなる。基板12に窪みを設け、手段62をスリット構造からなるものとすることもできる。   FIG. 49 is a diagram showing a modification of the linear structure and the control means for the orientation of the boundary. In this embodiment, the means 62 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position is a dot-like protrusion 62a. This means 62 is formed by providing projections 68 on the substrate 12, forming the electrodes 18, and forming the vertical alignment film 20. The substrate 12 may be provided with a recess, and the means 62 may have a slit structure.

図50は線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す図である。図43から図49では線状の構造体は突起30、32からなるものであったが、線状の構造体はスリット構造44、46からなるものとすることもできる(図7、図8参照)。この実施例では、線状の構造体はスリット構造46からなるとともに、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62は点状の突起62aである。この手段62は基板12に突起68を設け、電極18を形成し、垂直配向膜20を形成してなる。   FIG. 50 is a diagram showing a modification of the linear structure and the control means for the orientation of the boundary. 43 to 49, the linear structure is composed of the protrusions 30 and 32, but the linear structure may be composed of the slit structures 44 and 46 (see FIGS. 7 and 8). ). In this embodiment, the linear structure is composed of the slit structure 46, and the means 62 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position is a dot-like protrusion 62a. This means 62 is formed by providing projections 68 on the substrate 12, forming the electrodes 18, and forming the vertical alignment film 20.

図51は線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す図である。この例では、線状の構造体としての突起30、32が屈曲して設けられている。上記したように、TFT基板の画素電極22のエッジから対向電極18への斜め電界の影響を考慮する必要がある。この場合、TFT基板の突起32上に形成されるくさび形ディスクリネーションのうち、画素電極のエッジに最も近いディスクリネーションは強度s=−1となり、これは図28の第2のタイプ(II)の境界に相当する。CF基板の突起上に形成されるくさび形ディスクリネーションのうち、画素電極のエッジに最も近いディスクリネーションは強度s=+1となり、これは図28の第1のタイプ(I)の境界に相当する。従って、実際の液晶パネルへの適用においては、画素電極22のエッジによるディスクリネーション形成状況に合わせた形で突起30、32上の配向方向を定めることで、画素内の全ドメインを安定に制御することができる。   FIG. 51 is a diagram showing a modification of the linear structure and the control means for the orientation of the boundary. In this example, the protrusions 30 and 32 as the linear structures are bent and provided. As described above, it is necessary to consider the influence of the oblique electric field from the edge of the pixel electrode 22 of the TFT substrate to the counter electrode 18. In this case, of the wedge-shaped disclinations formed on the protrusions 32 of the TFT substrate, the disclination closest to the edge of the pixel electrode has an intensity s = -1, which is the second type (II in FIG. ). Of the wedge-shaped disclinations formed on the protrusions of the CF substrate, the disclination closest to the edge of the pixel electrode has an intensity s = + 1, which corresponds to the boundary of the first type (I) in FIG. To do. Therefore, in an actual application to a liquid crystal panel, all domains in a pixel can be stably controlled by determining the alignment direction on the protrusions 30 and 32 in accordance with the state of disclination formation by the edge of the pixel electrode 22. can do.

この実施例においては、CF基板の突起30の対向部に位置する電極を選択的に突出させ、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段64とした。また、TFT基板12の突起32の対向部には選択的に突起を設け、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62とした。さらに、画素内の1つの突起上に複数のくさび形ディスクリネーションを設ける場合、s=−1と、s=+1のディスクリネーションが交互に配置されように配向制御手段を設ければよい。本実施例では、図53に示されるように、電極22が突起68上へ突出した手段62と突起69が電極22上へ突出した手段62とを交互に配置した。   In this embodiment, means 64 for selectively projecting the electrode located at the opposite portion of the protrusion 30 of the CF substrate to form the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position. Further, a protrusion 62 is selectively provided on the portion of the TFT substrate 12 opposite to the protrusion 32 to form a liquid crystal molecule alignment boundary at a certain position. Further, when a plurality of wedge-shaped disclinations are provided on one projection in a pixel, an orientation control means may be provided so that s = −1 and s = + 1 disclinations are alternately arranged. In this embodiment, as shown in FIG. 53, the means 62 in which the electrode 22 protrudes on the protrusion 68 and the means 62 in which the protrusion 69 protrudes on the electrode 22 are alternately arranged.

図54及び図55は線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す図である。この実施例では、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62は、下基板の突起32と対向して上基板12に設けられた長く延びる突起70のスリット71として形成される。突起70は電極18の上に設けられ、且つ突起32の幅よりも狭い。   54 and 55 are diagrams showing a modification of the linear structure and the control means for the orientation of the boundary. In this embodiment, the means 62 for forming the alignment boundary of liquid crystal molecules at a fixed position is formed as a slit 71 of a long extending protrusion 70 provided on the upper substrate 12 so as to face the protrusion 32 of the lower substrate. . The protrusion 70 is provided on the electrode 18 and is narrower than the width of the protrusion 32.

図56及び図57は線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す図である。この実施例では、液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62は、下基板の突起32と対向して上基板12に設けられた長く延びる突起70のスリット71、及び電極18のスリット72として形成される。突起70は電極18の上に設けられ、且つ突起32の幅よりも狭い。   56 and 57 are diagrams showing a modification of the linear structure and the boundary orientation control means. In this embodiment, the means 62 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position includes the slits 71 of the long protrusions 70 provided on the upper substrate 12 facing the protrusions 32 of the lower substrate, and the electrodes 18. The slit 72 is formed. The protrusion 70 is provided on the electrode 18 and is narrower than the width of the protrusion 32.

図135から図157は、一方の基板に線状の配向規制構造体を設け、他方の基板の対向する位置に副構造体を設けた場合の、S=+1、S=−1のディスクリネーションを形成する副構造体の例をまとめて示す。一方の基板の線状の配向規制構造体は突起からなるものでもよく、スリットからなるものでもよい。   135 to 157 show the disclination of S = + 1 and S = −1 when a linear alignment control structure is provided on one substrate and a substructure is provided at a position opposite to the other substrate. The example of the substructure which forms is shown collectively. The linear alignment control structure of one substrate may be formed of a protrusion or a slit.

S=−1を実現する手段は、例えば図135から図147に示される通りである。点状突起(図135)、点状電極抜き(図136)、点状電極のへこみ(図137)、線状に細い突起に部分的に突起の下の電極抜き(図138)、線状に細い突起に部分的に太い部分(図139)、線状に細い突起に部分的に高い部分(図140)、線状に細いスリットに部分的に突出部分(図141)、線状に細い電極の突出に部分的な抜き(図142)、線状に細い電極の突出に部分的に細い部分(図143)、線状に細い電極の突出に部分的に低い部分(図144)、線状に細い電極のへこみに部分的に低い部分(図145)、線状に細い電極のへこみに部分的に太い部分(図146)。   Means for realizing S = −1 is, for example, as shown in FIGS. 135 to 147. Dots (FIG. 135), dot-like electrode removal (FIG. 136), dents (FIG. 137), dot-like thin projections, electrode removal partially below the projection (FIG. 138), Partially thick part on thin protrusion (FIG. 139), Partially high part on thin linear protrusion (FIG. 140), Partially protruding part on thin linear slit (FIG. 141), Thin electrode on linear line (FIG. 142), a thin part of a thin electrode (FIG. 143), a low part of a thin electrode (FIG. 144), a linear shape A portion that is partially low in the recess of the thin electrode (FIG. 145) and a portion that is partially thick in the recess of the thin electrode (FIG. 146).

S=+1を実現する手段は、例えば図147から図157に示される通りである。点状に電極を突出(図147)、線状に細い突起に部分的を切断(図148)、線状に細い突起に部分的に細い部分(図149)、線状に細い突起に部分的に低い部分(図150)、線状に細いスリットを部分的につなぐ(図151)、線状に細いスリットに部分的に細い部分(図152)、線状に細いスリットに部分的に低い部分(図153)、線状に細い電極の突出に部分的な太い部分(図154)、線状に細い電極の突出に部分的に高い部分(図155)、線状に細い電極のへこみに部分的に高い部分(図156)、線状に細い電極のへこみに部分的に細い部分(図157)。   Means for realizing S = + 1 is as shown in FIGS. 147 to 157, for example. The electrode protrudes in the form of dots (FIG. 147), partially cut into thin linear protrusions (FIG. 148), partially thin into thin linear protrusions (FIG. 149), partially into thin linear protrusions 150 (part 150), partly connecting thin slits in a line (FIG. 151), part thin in a line thin slit (FIG. 152), part lower in a line thin slit (FIG. 153), a partially thick part in the protrusion of the linear thin electrode (FIG. 154), a partially high part in the protrusion of the linear thin electrode (FIG. 155), a part in the recess of the linear thin electrode High part (FIG. 156) and partly thin part (FIG. 157) in the dent of the thin electrode.

図58は本発明の第4実施例による線状の構造体を示す平面図であり、図59は図58の線59−59を通る液晶表示装置の断面図である。この液晶表示装置10の基本的構成は、図1から図5の実施例の液晶表示装置10の基本的構成と同様である。この実施例では、各突起(線状の構造体)30、32が複数の構成単位30a、32aから形成され、一方の基板の法線方向から見て、一方の基板の線状の構造体の構成単位と他方の基板の線状の構造体の構成単位とが1つの線上で交互に配置されている。   58 is a plan view showing a linear structure according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 59 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device taken along line 59-59 in FIG. The basic configuration of the liquid crystal display device 10 is the same as the basic configuration of the liquid crystal display device 10 of the embodiment shown in FIGS. In this embodiment, each projection (linear structure) 30, 32 is formed of a plurality of structural units 30a, 32a, and the linear structure of one substrate is viewed from the normal direction of one substrate. The structural unit and the structural unit of the linear structure of the other substrate are alternately arranged on one line.

例えば、図58で上方の線(線59−59)上にある突起の構成単位について見ると、上基板12の突起30の構成単位30aと、下基板14の突起32の構成単位32aとが、この線上に、交互に配置されている。図59はこれらの構成単位30a、32aを示している。図59に示されるように、この線上にある液晶分子はその線と平行な方向に向いて連続的に倒れるようになり、図11を参照して説明したように突起上の液晶分子がランダムな方向を向いて倒れる問題を解決することができる。   For example, in FIG. 58, regarding the structural unit of the protrusion on the upper line (line 59-59), the structural unit 30a of the protrusion 30 of the upper substrate 12 and the structural unit 32a of the protrusion 32 of the lower substrate 14 are Alternatingly arranged on this line. FIG. 59 shows these structural units 30a and 32a. As shown in FIG. 59, the liquid crystal molecules on this line are continuously tilted in the direction parallel to the line, and the liquid crystal molecules on the protrusion are random as described with reference to FIG. The problem of falling in the direction can be solved.

また、図58で左半分について見ると、上方の線上にある下基板14の突起32の構成単位32aと、中間の線上にある上基板12の突起30の構成単位30aと、下方の線上にある下基板14の突起32の構成単位32aとの位置関係は、図3及び図4の配置と同じであり、この関係はこれらの突起が図2のように基板面に対して斜めの平面内で対向するのと同様である。図58についても同様である。従って、この例の液晶表示装置の作用は基本的に第1実施例の作用と同じである。この構成では特に、中間調での応答速度を改善することが可能となる。なお、図58の構成は図20の構成と類似している。   58, the structural unit 32a of the protrusion 32 of the lower substrate 14 on the upper line, the structural unit 30a of the protrusion 30 of the upper substrate 12 on the middle line, and the lower unit. The positional relationship of the protrusion 32 of the lower substrate 14 with the structural unit 32a is the same as the arrangement of FIGS. 3 and 4, and this relationship is such that these protrusions are in a plane oblique to the substrate surface as shown in FIG. It is the same as facing each other. The same applies to FIG. Therefore, the operation of the liquid crystal display device of this example is basically the same as that of the first embodiment. In particular, with this configuration, it is possible to improve the response speed in halftone. The configuration of FIG. 58 is similar to the configuration of FIG.

図60及び図61は線状の構造体の変形例を示す図である。この例は、上基板12は線状の構造体として突起30を用いているが、下基板14は線状の構造体としてスリット構造46を用いている。スリット構造46を構成単位46aに分割すると図61に示すようになる。この場合、スリットにより分離された個々の画素電極の電気的な接続をより広い幅にて実現することが可能になり、設計上のマージンが広がるメリットがある。また、画素電極22のスリット間のつなぎ部分の断線、高抵抗化の心配がないというメリットがある。   60 and 61 are diagrams showing modifications of the linear structure. In this example, the upper substrate 12 uses a protrusion 30 as a linear structure, while the lower substrate 14 uses a slit structure 46 as a linear structure. When the slit structure 46 is divided into structural units 46a, it is as shown in FIG. In this case, electrical connection of individual pixel electrodes separated by the slits can be realized with a wider width, and there is an advantage that a design margin is widened. In addition, there is an advantage that there is no worry about disconnection of the connecting portion between the slits of the pixel electrode 22 and an increase in resistance.

この例では、各線状の構造体が1画素内に複数の構成単位を有し、線状の構造体が1画素内にて概略対称に配置されている。この特徴は、例えばこの特徴を図21に示されるように屈曲した線状の構造体に適用した場合にも同様である。   In this example, each linear structure has a plurality of structural units in one pixel, and the linear structures are arranged approximately symmetrically in one pixel. This feature is the same when, for example, this feature is applied to a bent linear structure as shown in FIG.

図62は線状の構造体の変形例を示す図である。この例では、図58に示されたように突起30、32の構成単位30a、32aが交互に配置されているとともに、各基板の突起30、32の構成単位30a、32aの少なくとも1つは周囲の液晶分子が一点を向くように配向の境界を形成する手段74を有する。この配向の境界を形成する手段74は例えば図28の第1のタイプの配向(I)の境界を形成する手段56と類似するものである。第1のタイプの配向(I)は、s=1に相当する配向ベクトルの特異点を形成する。この場合、突起上の微小ドメインの配向ベクトルの制御が可能となり、結果的に表示ドメインの安定制御が実現され、中間調での応答速度を改善する。   FIG. 62 is a diagram showing a modification of the linear structure. In this example, as shown in FIG. 58, the structural units 30a and 32a of the protrusions 30 and 32 are alternately arranged, and at least one of the structural units 30a and 32a of the protrusions 30 and 32 of each substrate is the periphery. Means 74 for forming alignment boundaries so that the liquid crystal molecules of the liquid crystal molecules face one point. The means 74 for forming the boundary of this orientation is similar to the means 56 for forming the boundary of the first type of orientation (I) of FIG. The first type of orientation (I) forms the singular point of the orientation vector corresponding to s = 1. In this case, it is possible to control the orientation vector of the micro domain on the protrusion, and as a result, stable control of the display domain is realized, and the response speed in the halftone is improved.

この手段74は、前に述べた第2実施例のものと同様とすることができる。   This means 74 can be similar to that of the second embodiment described above.

図63は配向の境界を形成する手段74の具体例を示している。図63においては、この手段74は、突起30、32の構成単位30a、32aの幅を大きくすることである。   FIG. 63 shows a specific example of the means 74 for forming the alignment boundary. In FIG. 63, this means 74 is to increase the width of the structural units 30a, 32a of the protrusions 30, 32.

また、図64に示されるように、この手段74は、突起30、32の構成単位30a、32aの高さを高くすることでも達成される。   As shown in FIG. 64, this means 74 can also be achieved by increasing the height of the structural units 30a, 32a of the protrusions 30, 32.

突起の構成単位30a、32aの幅を部分的に大きくし、又は高さを高くした箇所においては、その部分を中心として液晶ダイレクターが広がる方向となるため、s=1の特異点となる。また、画素電極の斜め電界により、画素電極のエッジから画素中央部へ向かっての液晶ダイレクターは共通基板を手前に配置した場合に全ての突起上において中央へと立ち上がる方向になるため、突起の境界部において無理なく連続してつながる微小ドメインを形成できることになる。   In the part where the width of the structural units 30a and 32a of the protrusion is partially increased or the height is increased, the liquid crystal director spreads around that part, so that the singular point of s = 1. In addition, due to the oblique electric field of the pixel electrode, the liquid crystal director from the edge of the pixel electrode toward the center of the pixel is in the direction of rising to the center on all the protrusions when the common substrate is arranged in front, It is possible to form minute domains that are continuously connected at the boundary without difficulty.

図65は配向の境界を形成する手段74の具体例を示している。図65においては、線状の構造体は突起32とスリット構造44との組み合わせであり、この手段74は、突起32の構成単位32aの幅を大きくするか高さを高くすることと、スリット構造44の幅を大きくするか深さを深くすることとで達成される。   FIG. 65 shows a specific example of the means 74 for forming the alignment boundary. In FIG. 65, the linear structure is a combination of the protrusion 32 and the slit structure 44, and this means 74 increases the width or height of the structural unit 32a of the protrusion 32 and the slit structure. This is achieved by increasing the width of 44 or increasing the depth.

応答速度を第1実施例の構造の場合と比較した結果を表2に示す。(スリット幅10μm、突起幅10μm、間隔20μm。)   Table 2 shows the result of comparing the response speed with the structure of the first embodiment. (Slit width 10 μm, protrusion width 10 μm, spacing 20 μm.)

表2
第1実施例 第4実施例 駆動条件
ON+TOFF 〜25ms 〜25ms 0−5V
ON+TOFF 〜50ms 〜40ms 0−3V
Table 2
1st Example 4th Example Driving Conditions T ON + T OFF -25 ms -25 ms 0-5V
T ON + T OFF -50ms -40ms 0-3V

このように、突起上の微小ドメインのスムーズな動きにより、応答速度に対して改善効果がある。安定な配向性による中間調での応答性の改善が確認できた。またスリットの電気的接続部の幅を大きくできるため、断線等の心配は不要となり、メリットが生じる。   Thus, the smooth movement of the micro domains on the protrusion has an improvement effect on the response speed. It was confirmed that the response in halftone was improved by stable orientation. In addition, since the width of the electrical connection portion of the slit can be increased, there is no need to worry about disconnection or the like, resulting in a merit.

本実施例においては、2分割を例に説明したが、屈曲型についても同様である。また、幾つかの実施例を組み合わせて構成することもできる。   In the present embodiment, the description has been made taking the two-part division as an example, but the same applies to the bent type. Also, some embodiments can be combined.

図66は本発明の第5実施例による線状の構造体を示す平面図である。この液晶表示装置10の基本的構成は、図1、図2及び図5の実施例の液晶表示装置10の基本的構成と同様である。図5の実施例では、突起(線状の構造体)30、32は互いに平行に延び且つ屈曲する。この構成によれば、1画素に4つの向きに配向する液晶分子16C、16D、16E、16Fの領域があり、視角特性の優れた配向分割が達成される。   FIG. 66 is a plan view showing a linear structure according to the fifth embodiment of the present invention. The basic configuration of the liquid crystal display device 10 is the same as the basic configuration of the liquid crystal display device 10 according to the embodiment shown in FIGS. In the embodiment of FIG. 5, the protrusions (linear structures) 30 and 32 extend parallel to each other and bend. According to this configuration, there are regions of liquid crystal molecules 16C, 16D, 16E, and 16F aligned in four directions in one pixel, and alignment division with excellent viewing angle characteristics is achieved.

突起30、32の屈曲部を形成する2つの直線部分は90度をなしている。偏光板26、28は、偏光軸が48で示されるように突起30、32の屈曲部の直線部分に対して45度をなすように配置される。図66には一部の液晶分子しか示されていないが、1画素に4つの向きに配向する液晶分子16C、16D、16E、16Fの領域(図5参照)がある。   The two straight portions forming the bent portions of the protrusions 30 and 32 form 90 degrees. The polarizing plates 26 and 28 are arranged so as to form 45 degrees with respect to the linear portions of the bent portions of the protrusions 30 and 32 as indicated by 48 in the polarization axis. FIG. 66 shows only some liquid crystal molecules, but there are regions of liquid crystal molecules 16C, 16D, 16E, and 16F aligned in four directions in one pixel (see FIG. 5).

この実施例においては、追加の線状の構造体としての追加の突起76、78が突起30、32が設けられた基板の屈曲部の鈍角側に設けられる。つまり、追加の突起76は上基板12の突起30の鈍角側に突起30から連続して設けられる。追加の突起76は上基板12の突起30の鈍角側にこの鈍角の2等分線上に延びる。一方、追加の突起78は下基板14の突起32の鈍角側に突起32から連続して設けられる。追加の突起78は下基板14の突起32の鈍角側にこの鈍角の2等分線上に延びる。これによって、輝度が高くなり、応答性が向上する。   In this embodiment, additional protrusions 76 and 78 as additional linear structures are provided on the obtuse angle side of the bent portion of the substrate on which the protrusions 30 and 32 are provided. That is, the additional protrusion 76 is continuously provided from the protrusion 30 on the obtuse angle side of the protrusion 30 of the upper substrate 12. The additional protrusion 76 extends on an obtuse angle side of the protrusion 30 of the upper substrate 12 on a bisector of this obtuse angle. On the other hand, the additional protrusion 78 is continuously provided from the protrusion 32 on the obtuse angle side of the protrusion 32 of the lower substrate 14. The additional protrusion 78 extends on the bisector of this obtuse angle on the obtuse angle side of the protrusion 32 of the lower substrate 14. This increases the brightness and improves the responsiveness.

図67は図5と同様の突起30、32を示している。図67は突起30、32に対する液晶分子の配向をより詳しく示している。1画素に4つの向きに配向する液晶分子16C、16D、16E、16Fの領域がある。さらに、突起30の屈曲部の鈍角側には液晶分子16Gの領域があり、突起32の屈曲部の鈍角側には液晶分子16Hがある。電圧印加時には液晶分子はそれぞれの突起30、32に対して垂直に倒れるべきものであるが、各突起30、32の屈曲部においては液晶分子は突起30、32によって制御されず、屈曲部の2つの直線部分に位置する液晶分子16D−16F、16C−16Eが連続するように扇形に配向するため、液晶分子16G、16Hは突起30、32の屈曲部の鈍角の2等分線上に平行に配向するようになる。液晶分子16G、16Hの配向方向は48で示される偏光軸と平行又は直交となり、電圧を印加して白表示を形成する場合に、液晶分子16G、16Hの領域は暗くなってしまう。   FIG. 67 shows protrusions 30 and 32 similar to FIG. FIG. 67 shows the alignment of the liquid crystal molecules with respect to the protrusions 30 and 32 in more detail. There are regions of liquid crystal molecules 16C, 16D, 16E, and 16F aligned in four directions in one pixel. Further, there is a region of liquid crystal molecules 16G on the obtuse angle side of the bent portion of the protrusion 30, and liquid crystal molecules 16H are on the obtuse angle side of the bent portion of the protrusion 32. When a voltage is applied, the liquid crystal molecules should tilt vertically with respect to the protrusions 30 and 32. However, the liquid crystal molecules are not controlled by the protrusions 30 and 32 at the bent portions of the protrusions 30 and 32, and 2 of the bent portions. Since the liquid crystal molecules 16D-16F and 16C-16E located in the two linear portions are aligned in a fan shape, the liquid crystal molecules 16G and 16H are aligned in parallel on the bisector of the obtuse angle of the bent portions of the protrusions 30 and 32. Will come to do. The alignment directions of the liquid crystal molecules 16G and 16H are parallel or orthogonal to the polarization axis indicated by 48, and when a white display is formed by applying a voltage, the regions of the liquid crystal molecules 16G and 16H become dark.

図68は図67の線状の構造体を有する液晶表示装置の白表示を見た場合の画面を示し、液晶分子16G、16Hの領域G、Hは実際に暗くなる。また、画素電極22のエッジの領域Iも暗くなる。このことは後で述べる。   FIG. 68 shows a screen when the white display of the liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 67 is seen, and the regions G and H of the liquid crystal molecules 16G and 16H are actually dark. In addition, the edge region I of the pixel electrode 22 is also darkened. This will be described later.

図66において、追加の突起76、78が突起30、32が設けられた基板の屈曲部の鈍角側に設けられるので、問題になる液晶分子16G、16Hの配向が矯正され、その両側に位置する液晶分子16D−16F、16C−16Eの配向に近くなる。そのため、図68に示した領域G、Hが暗くならず、輝度が改善される。   In FIG. 66, since the additional protrusions 76 and 78 are provided on the obtuse angle side of the bent portion of the substrate on which the protrusions 30 and 32 are provided, the alignment of the liquid crystal molecules 16G and 16H in question is corrected and located on both sides thereof. It becomes close to the alignment of the liquid crystal molecules 16D-16F and 16C-16E. Therefore, the areas G and H shown in FIG. 68 are not darkened, and the luminance is improved.

追加の突起76、78の幅は元の突起30、32の幅と同じでよい。しかし、追加の突起76、78の幅は元の突起30、32の幅よりも小さい方が望ましい。なぜなら、追加の突起76、78の配向規制力が強いと、その近傍の液晶分子は追加の突起76、78に対して直交するように配向するようになるからである。追加の突起76、78の配向規制力が弱いと、その近傍の液晶分子は追加の突起76、78に対して直交するところまでいかず、その両側に位置する液晶分子16D−16F、16C−16Eの配向に近くなる。例えば、元の突起30、32の幅が10μmの場合には、追加の突起76、78の幅は5μm位でよい。   The additional protrusions 76, 78 may have the same width as the original protrusions 30, 32. However, it is desirable that the width of the additional protrusions 76 and 78 is smaller than the width of the original protrusions 30 and 32. This is because if the alignment regulating force of the additional protrusions 76 and 78 is strong, liquid crystal molecules in the vicinity thereof are aligned so as to be orthogonal to the additional protrusions 76 and 78. When the alignment restricting force of the additional protrusions 76 and 78 is weak, the liquid crystal molecules in the vicinity thereof do not reach the position orthogonal to the additional protrusions 76 and 78, and the liquid crystal molecules 16D-16F and 16C-16E located on both sides thereof. It becomes close to the orientation of. For example, when the width of the original protrusions 30 and 32 is 10 μm, the width of the additional protrusions 76 and 78 may be about 5 μm.

このように、追加の突起76、78を突起30、32に新たに形成することで、屈曲部の液晶分子の倒れかたを明確に定めることができるため、輝度や応答性を改善することができる。   In this way, by newly forming the additional protrusions 76 and 78 on the protrusions 30 and 32, it is possible to clearly determine how the liquid crystal molecules of the bent portion are tilted, so that the brightness and responsiveness can be improved. it can.

この実施例において、ガラス基板12、14はNA−35、0.7mm厚さを用いた。画素電極22、共通電極18にITOを用いた。画素電極22側には、液晶を駆動するためのTFT、バスライン等を配置し、対向電極18側にはカラーフィルタを設けた。突起材料には感光性アクリル系材料PC−335(JSR製)を用いた。突起幅は両基板ともに10μm、突起間隙(両基板貼り合わせ後における一方の基板の突起端から他方の基板の突起端までの距離)は30μmとした。突起高さは1.5μmとした。垂直配向膜20、24はJALS−204(JSR製)を用いた。液晶材料はMJ95785(メルク製)を用いた。スペーサは3.5μm径のミクロバール(積水ファインケミカル製)を用いた。   In this example, the glass substrates 12 and 14 used NA-35 and 0.7 mm thickness. ITO was used for the pixel electrode 22 and the common electrode 18. On the pixel electrode 22 side, TFTs, bus lines and the like for driving the liquid crystal are arranged, and a color filter is provided on the counter electrode 18 side. Photosensitive acrylic material PC-335 (manufactured by JSR) was used as the projection material. The protrusion width was 10 μm for both substrates, and the protrusion gap (distance from the protrusion end of one substrate to the protrusion end of the other substrate after bonding both substrates) was 30 μm. The protrusion height was 1.5 μm. As the vertical alignment films 20 and 24, JALS-204 (manufactured by JSR) was used. As the liquid crystal material, MJ95785 (manufactured by Merck) was used. As the spacer, a microbar having a diameter of 3.5 μm (manufactured by Sekisui Fine Chemical) was used.

図69は線状の構造体の変形例を示す。この例においては、追加の突起76x、78xが突起30、32の屈曲部の鋭角側に設けられる。この場合には、突起30、32による液晶分子の配向方向が追加の突起76x、78xによる液晶分子の配向方向と滑らかに連続せず、突起30、32の屈曲部の近傍の液晶分子が偏光軸の方向に対して直交又は垂直な方向を向くようになり、改善の効果は低い。従って、図66に示されるように、追加の突起76x、78xは突起30、32の屈曲部の鈍角側に設けられるのがよいことが分かった。   FIG. 69 shows a modification of the linear structure. In this example, the additional protrusions 76 x and 78 x are provided on the acute angle side of the bent portions of the protrusions 30 and 32. In this case, the alignment direction of the liquid crystal molecules by the protrusions 30 and 32 is not smoothly continuous with the alignment direction of the liquid crystal molecules by the additional protrusions 76x and 78x, and the liquid crystal molecules in the vicinity of the bent portions of the protrusions 30 and 32 are not polarized. It is directed in a direction perpendicular or perpendicular to the direction, and the effect of improvement is low. Therefore, as shown in FIG. 66, it has been found that the additional protrusions 76 x and 78 x are preferably provided on the obtuse angle side of the bent portions of the protrusions 30 and 32.

これまでは、追加の突起76、78を突起30、32が設けられたのと同一の基板から見て説明した。追加の突起76、78を突起30、32が設けられたのとは対向する基板から見ると次のようになる。例えば図66において、追加の突起76は突起30が設けられた基板12とは対向する基板14の突起32の屈曲部の鋭角側に設けられる(請求項34)。同様に、追加の突起78は突起32が設けられた基板14とは対向する基板12の突起30の屈曲部の鋭角側に設けられる。   So far, the additional protrusions 76 and 78 have been described from the same substrate on which the protrusions 30 and 32 are provided. The additional projections 76 and 78 are as follows when viewed from the substrate opposite to the projections 30 and 32 provided. For example, in FIG. 66, the additional protrusion 76 is provided on the acute angle side of the bent portion of the protrusion 32 of the substrate 14 facing the substrate 12 on which the protrusion 30 is provided (Claim 34). Similarly, the additional protrusion 78 is provided on the acute angle side of the bent portion of the protrusion 30 of the substrate 12 facing the substrate 14 on which the protrusion 32 is provided.

図70は線状の構造体の変形例を示す。この例では図66の例と同様に、追加の突起76x、78xは突起30、32の屈曲部の鈍角側に設けられている。この例の追加の突起76x、78xは、図66の突起76x、78xよりも長く延びている。追加の突起76x、78xの先端は対向する突起32、30の屈曲部と重なる位置まで延びている。追加の突起76x、78xをこのように延長してもよいが、その先端が対向する突起32、30の屈曲部と重なる位置よりも先まで延長されるのは好ましくない。   FIG. 70 shows a modification of the linear structure. In this example, similar to the example of FIG. 66, the additional protrusions 76 x and 78 x are provided on the obtuse angle side of the bent portions of the protrusions 30 and 32. The additional protrusions 76x and 78x in this example extend longer than the protrusions 76x and 78x in FIG. The tips of the additional protrusions 76x and 78x extend to a position where they overlap the bent portions of the opposing protrusions 32 and 30. The additional protrusions 76x and 78x may be extended in this manner, but it is not preferable that the protrusions 76x and 78x are extended beyond the position where the tips overlap the bent portions of the opposing protrusions 32 and 30.

さらに、この例においては、このような突起32、30及び追加の突起76x、78xを形成した上基板12と下基板を周辺シールをして互いに貼り合わせ、空パネルを形成し、その後で液晶を注入した。この例においては、突起高さは1.75μmとし、両基板の突起が部分的に接することで3.5μmのセル厚さを得ることができた。スペーサは用いず、両基板の突起が部分的に接することでセル厚さを維持させた。この構成では、スペーサがないので、スペーサに起因する配向異常はなくなった。   Further, in this example, the upper substrate 12 and the lower substrate on which the projections 32 and 30 and the additional projections 76x and 78x are formed are bonded to each other with a peripheral seal to form an empty panel. Injected. In this example, the protrusion height was 1.75 μm, and the cell thickness of 3.5 μm could be obtained by the protrusions of both substrates being in partial contact. The spacer was not used, and the cell thickness was maintained by the partial contact of the protrusions of both substrates. In this configuration, since there is no spacer, the alignment abnormality due to the spacer is eliminated.

前に説明したように、配向を制御するための線状の構造体は、突起30、32、又はスリット構造44、46によって構成される。従って、スリット構造44、46が線状の構造体として採用される場合には、スリット構造44、46と類似した構造の追加のスリット構造が、追加の突起76x、78xの代わりに、設けられる。また、配向を制御するための線状の構造体は、電極を除去したスリット上に突起を設けた構成としてもよい。   As described above, the linear structure for controlling the orientation is constituted by the protrusions 30 and 32 or the slit structures 44 and 46. Accordingly, when the slit structures 44 and 46 are employed as a linear structure, an additional slit structure having a structure similar to the slit structures 44 and 46 is provided instead of the additional protrusions 76x and 78x. Further, the linear structure for controlling the orientation may have a structure in which a protrusion is provided on the slit from which the electrode is removed.

図71は線状の構造体の変形例を示す。配向を制御するための線状の構造体として、上基板12の突起30と、下基板14のスリット構造46とが設けられている。前述したように、スリット構造46は下基板14の画素電極22にスリットを形成することにより構成されている。追加の突起76が図66の追加の突起76と同様に設けられ、追加のスリット構造78yが図66の追加の突起78の代わりにスリット構造46の屈曲部の鈍角側に設けられている。追加のスリット構造78yはスリット構造46の屈曲部に連続していないが、これはスリット構造46が画素電極22にスリットとして構成されているためにスリットに不連続部があるためである。なお、追加のスリット構造78yは対向する基板の突起30の鋭角側に設けられていると表現することもできる。   FIG. 71 shows a modification of the linear structure. As a linear structure for controlling the orientation, a protrusion 30 of the upper substrate 12 and a slit structure 46 of the lower substrate 14 are provided. As described above, the slit structure 46 is configured by forming a slit in the pixel electrode 22 of the lower substrate 14. An additional protrusion 76 is provided in the same manner as the additional protrusion 76 of FIG. 66, and an additional slit structure 78y is provided on the obtuse angle side of the bent portion of the slit structure 46 instead of the additional protrusion 78 of FIG. The additional slit structure 78y is not continuous with the bent portion of the slit structure 46 because the slit structure 46 is configured as a slit in the pixel electrode 22 and thus there is a discontinuous portion in the slit. It can be expressed that the additional slit structure 78y is provided on the acute angle side of the protrusion 30 of the opposing substrate.

図72は線状の構造体の変形例を示す。この例では、図66の場合と同様に追加の突起76、78が設けられている。さらに、エッジ突起80が画素電極22のエッジの少なくとも一部に重なる位置に設けられている。この場合、突起30、32は画素電極22のエッジに対して平行、直交のいずれの配置でもない。エッジ突起80は図68の領域Iに相当する位置に設けられる。図67に示されるように、液晶分子は画素電極22のエッジにおいては斜め電界の作用で画素の中央に向かって倒れるように配向する。図68の領域Iに相当する位置では、上基板(対向基板)12上の突起30と画素電極22のエッジが鈍角をなす。もしくは画素電極22上の突起32と画素電極22のエッジが鋭角をなす。   FIG. 72 shows a modification of the linear structure. In this example, additional protrusions 76 and 78 are provided as in the case of FIG. Further, the edge protrusion 80 is provided at a position overlapping with at least a part of the edge of the pixel electrode 22. In this case, the protrusions 30 and 32 are neither arranged parallel nor orthogonal to the edge of the pixel electrode 22. The edge protrusion 80 is provided at a position corresponding to the region I in FIG. As shown in FIG. 67, the liquid crystal molecules are aligned at the edge of the pixel electrode 22 so as to tilt toward the center of the pixel by the action of an oblique electric field. 68, the projection 30 on the upper substrate (counter substrate) 12 and the edge of the pixel electrode 22 form an obtuse angle. Alternatively, the protrusion 32 on the pixel electrode 22 and the edge of the pixel electrode 22 form an acute angle.

このような領域では、液晶分子の配向はそのエッジより内寄りの位置にある液晶分子の配向とは大きく異なる(図67参照)ので、図68に示されるように表示が暗くなる。図72に示されるように、エッジ突起80を設けることにより、画素電極22のエッジにおける液晶分子の配向はそのエッジより内寄りの位置にある液晶分子の配向と近くなり、表示が暗くなるのが防止される。図72ではさらに、コーナー突起82も設けられる。   In such a region, since the alignment of the liquid crystal molecules is significantly different from the alignment of the liquid crystal molecules located inward from the edge (see FIG. 67), the display becomes dark as shown in FIG. As shown in FIG. 72, by providing the edge protrusion 80, the alignment of the liquid crystal molecules at the edge of the pixel electrode 22 becomes close to the alignment of the liquid crystal molecules at the inner position of the edge, and the display becomes dark. Is prevented. In FIG. 72, a corner protrusion 82 is also provided.

図73は線状の構造体の変形例を示す。この例では、コーナー突起82がない点を除くと、図72の場合と同様である。図72及び図73の場合にも、新たに設けた突起を画素電極上の突起まで延ばした。突起高さは1.75μmとし、スペーサ散布は行わなかった。両基板の突起が部分的に接することで3.5μmのセル厚さを得ることができた。   FIG. 73 shows a modification of the linear structure. This example is the same as the case of FIG. 72 except that there is no corner projection 82. 72 and 73, the newly provided protrusion is extended to the protrusion on the pixel electrode. The height of the protrusion was 1.75 μm, and the spacer was not sprayed. A cell thickness of 3.5 μm could be obtained by partial contact of the protrusions of both substrates.

図74は線状の構造体の変形例を示す。この例では、突起30は追加の突起76を有し、スリット構造46は追加のスリット構造78yを有するとともに、突起30及びスリット構造46は図21の例のように複数の構成単位(30S、46S)で構成されている。従って、この場合には、線状の構造体を複数の構成単位とする効果と、追加の線状の構造体を設ける効果とが合わせて得られる。
図75は本発明の第6実施例による液晶表示装置の線状の構造体と偏光板との関係を示す図である。図76は図75の構成における表示の明るさを示す図である。
FIG. 74 shows a modification of the linear structure. In this example, the protrusion 30 has an additional protrusion 76, the slit structure 46 has an additional slit structure 78y, and the protrusion 30 and the slit structure 46 have a plurality of structural units (30S, 46S) as in the example of FIG. ). Therefore, in this case, the effect of using a linear structure as a plurality of structural units and the effect of providing an additional linear structure are obtained.
FIG. 75 is a diagram showing the relationship between the linear structure of the liquid crystal display device according to the sixth embodiment of the present invention and the polarizing plate. FIG. 76 is a diagram showing the brightness of display in the configuration of FIG.

図75に示される液晶表示装置は、基本的に図1〜10に示される液晶表示装置と同様の構成を含む。すなわち、液晶表示装置は、一対の基板12、14と、一対の基板12、14の間に挿入された負の誘電率異方性を有する液晶16と、液晶16の配向を制御するために一対の基板12、14の各々に設けられた線状の構造体(例えば突起30、32、スリット44、46)と、一対の基板12、14の外側にそれぞれ配置されている偏光板26、28とを備える。一対の基板12、14はそれぞれ電極18、22及び垂直配向膜20、24を有する。   The liquid crystal display device shown in FIG. 75 basically includes the same configuration as the liquid crystal display device shown in FIGS. That is, the liquid crystal display device includes a pair of substrates 12, 14, a liquid crystal 16 having a negative dielectric anisotropy inserted between the pair of substrates 12, 14, and a pair for controlling the alignment of the liquid crystal 16. Linear structures (for example, protrusions 30 and 32, slits 44 and 46) provided on each of the substrates 12 and 14, and polarizing plates 26 and 28 disposed outside the pair of substrates 12 and 14, respectively. Is provided. The pair of substrates 12 and 14 have electrodes 18 and 22 and vertical alignment films 20 and 24, respectively.

図75においては、液晶の配向を制御するための線状の構造体は図4に示されたのと同様な突起30、32である。偏光板26、28の配置は48で示されている。偏光板26、28は吸収軸26a、28aを有し、これらの吸収軸26a、28aは互いに直交している。一方の偏光板26の吸収軸26aは(従って他方の偏光板28の吸収軸28aも)、突起30、32の延びる方位に対して45度回転させた方位から所定角度(a)ずらして配置されている。分かりやすく言えば、図75においては、偏光板26の吸収軸26aは、突起30、32に直交する直線(破線で示される)に対して(45°±a)の角度で、よって突起30、32の延びる方位に対して(45°±a)の角度で、配置されている。   In FIG. 75, the linear structures for controlling the alignment of the liquid crystal are protrusions 30 and 32 similar to those shown in FIG. The arrangement of the polarizing plates 26 and 28 is indicated by 48. The polarizing plates 26 and 28 have absorption axes 26a and 28a, and these absorption axes 26a and 28a are orthogonal to each other. The absorption axis 26a of one polarizing plate 26 (and therefore the absorption axis 28a of the other polarizing plate 28) is arranged at a predetermined angle (a) from the direction rotated 45 degrees with respect to the direction in which the protrusions 30 and 32 extend. ing. In other words, in FIG. 75, the absorption axis 26a of the polarizing plate 26 is at an angle of (45 ° ± a) with respect to a straight line (indicated by a broken line) orthogonal to the protrusions 30 and 32, and thus the protrusion 30 and It is arranged at an angle of (45 ° ± a) with respect to 32 extending directions.

図75は液晶の配向を制御するための線状の構造体(突起30、32)上の液晶分子の挙動を示している。液晶の配向を制御するための線状の構造体(突起30、32、スリット44、46)を有する液晶表示装置では、図11及び図13を参照して説明したように、電圧印加直後にオーバーシュートが発生する。このオーバーシュートの原因の一つは、偏光板26、28が線状の構造体に対して45°で配置された場合に、電圧印加後の液晶分子が線状の構造体に対して完全に垂直にならないために、白表示時の明るさが減少するためである。この実施例はこの問題点を解決するものである。   FIG. 75 shows the behavior of liquid crystal molecules on a linear structure (protrusions 30 and 32) for controlling the alignment of the liquid crystal. In a liquid crystal display device having a linear structure (projections 30, 32, slits 44, 46) for controlling the alignment of the liquid crystal, as described with reference to FIGS. A shoot occurs. One of the causes of this overshoot is that when the polarizing plates 26 and 28 are arranged at 45 ° with respect to the linear structure, the liquid crystal molecules after voltage application are completely in the linear structure. This is because the brightness at the time of white display decreases because the image does not become vertical. This embodiment solves this problem.

図75において、電圧を印加した場合に、突起30と突起32との間に位置する液晶分子は突起30、32に対して垂直になるように倒れる。突起30、32上の液晶分子は突起30、32と平行に右又は左のいずれかに向かって倒れる。そのため、突起30と突起32との間に位置する液晶分子は突起30、32に対して完全に垂直にならず、突起30、32に対して幾らか斜めになる。図75では、説明のために左の領域Lと右の領域Rとが区分して示されており、左の領域Lに位置する液晶分子は突起30、32に垂直な線に対して角度aで時計回り方向に回転している(左の領域Lにおける液晶のダイレクタが角度aである)が、右の領域Rに位置する液晶分子は反時計回り方向に回転する。   In FIG. 75, when a voltage is applied, the liquid crystal molecules located between the protrusions 30 and 32 are tilted so as to be perpendicular to the protrusions 30 and 32. The liquid crystal molecules on the protrusions 30 and 32 are inclined toward either the right or the left in parallel with the protrusions 30 and 32. Therefore, the liquid crystal molecules located between the protrusions 30 and 32 are not completely perpendicular to the protrusions 30 and 32 and are somewhat oblique to the protrusions 30 and 32. In FIG. 75, the left region L and the right region R are shown separately for the sake of explanation, and the liquid crystal molecules located in the left region L are at an angle a with respect to the line perpendicular to the protrusions 30 and 32. , The liquid crystal molecules in the right region R rotate counterclockwise (the director of the liquid crystal in the left region L is at angle a).

この実施例では、左の領域Lに位置する液晶分子の配向に合わせて偏光板26、28が配置されている。偏光板26の吸収軸26aは左の領域Lに位置する液晶のダイレクタに対して45°となるように配置されている。従って、図76(A)に示されるように、左の領域Lにおいては白表示時に最も明るい表示を実現することができる。   In this embodiment, polarizing plates 26 and 28 are arranged in accordance with the alignment of the liquid crystal molecules located in the left region L. The absorption axis 26 a of the polarizing plate 26 is disposed at 45 ° with respect to the liquid crystal director located in the left region L. Therefore, as shown in FIG. 76 (A), in the left region L, the brightest display can be realized during white display.

一方、右の領域Rにおいては左の領域Lにおいて実現されたような条件は実現されず、図76(B)に示されるように、白表示時に最も明るい表示を実現することができない。しかし、図76(C)に示されるように、明るい左の領域Lと一旦明るくなってそれから暗くなる右の領域Rとを合わせた全体(L+R)の表示では、白表示時に明るい表示を実現でき、オーバーシュートをかなり改善することができる。   On the other hand, in the right region R, the condition realized in the left region L is not realized, and as shown in FIG. 76B, the brightest display cannot be realized during white display. However, as shown in FIG. 76 (C), in the entire display (L + R) including the bright left region L and the right region R once brightened and then darkened, a bright display can be realized during white display. Overshoot can be improved considerably.

図77は液晶の配向を制御するための線状の構造体(例えば突起30、32)を有する液晶表示装置において微小な領域毎の液晶のダイレクタの角度(a)とその頻度との関係を示す図である。この結果から、液晶のダイレクタが斜めになるのは概ね20°以下の範囲にあるのが分かる。従って、偏光板26の吸収軸26aが突起30、32の延びる方位に対して45度回転させた方位からずらされる所定角度(a)は、20°以下であればよい。   FIG. 77 shows the relationship between the angle (a) of the director of the liquid crystal in each minute region and the frequency in the liquid crystal display device having the linear structure (for example, the protrusions 30 and 32) for controlling the alignment of the liquid crystal. FIG. From this result, it can be seen that the director of the liquid crystal is inclined within a range of approximately 20 ° or less. Therefore, the predetermined angle (a) shifted from the direction in which the absorption axis 26a of the polarizing plate 26 is rotated 45 degrees with respect to the direction in which the protrusions 30 and 32 extend may be 20 ° or less.

この場合、偏光板26の吸収軸26aの方位と線状の構造体(例えば突起30、32)との交差角度をbとするとき、交差角度bは、25°<b<45°又は45°<b<65°の範囲内にあることになる。ただし、偏光板26、28と基板12、14との間には製造時の位置関係の誤差が2°程度あり、これを勘案すると、交差角度bは、25°<b<43°又は47°<b<65°の範囲内にあるとよい。   In this case, when the crossing angle between the orientation of the absorption axis 26a of the polarizing plate 26 and the linear structure (for example, the protrusions 30 and 32) is b, the crossing angle b is 25 ° <b <45 ° or 45 °. <B <65 °. However, there is a positional relationship error of about 2 ° between the polarizing plates 26 and 28 and the substrates 12 and 14, and taking this into account, the intersection angle b is 25 ° <b <43 ° or 47 °. <B <65 ° is preferable.

図77においては、より詳細には、2°と13°の範囲内にある液晶のダイレクタの頻度が高い。従って、所定角度aは2°と13°の範囲内にあるのが好ましい。この場合、交差角度bは、32°<b<43°又は47°<b<58°の範囲内にあるとよい。   In FIG. 77, more specifically, the frequency of liquid crystal directors in the range of 2 ° and 13 ° is high. Accordingly, the predetermined angle a is preferably in the range of 2 ° and 13 °. In this case, the intersection angle b may be in the range of 32 ° <b <43 ° or 47 ° <b <58 °.

図78及び図79は図75の実施例の変形例を示す図である。図78は液晶表示装置の線状の構造体と偏光板との関係を示す図、図79は図78の液晶表示装置の断面図である。上基板12は突起30を有し、下基板14は突起32を有する。突起30、32は直角の屈曲部を有する。この場合、偏光板26の吸収軸26aは突起30の直線部分に対して55°をなすように配置されている。2つの偏光板26、28の吸収軸26a、28aは互いに直交する。   78 and 79 are diagrams showing modifications of the embodiment of FIG. 78 is a diagram showing the relationship between the linear structure of the liquid crystal display device and the polarizing plate, and FIG. 79 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG. The upper substrate 12 has a protrusion 30, and the lower substrate 14 has a protrusion 32. The protrusions 30 and 32 have right-angled bent portions. In this case, the absorption axis 26 a of the polarizing plate 26 is arranged so as to form 55 ° with respect to the linear portion of the protrusion 30. The absorption axes 26a and 28a of the two polarizing plates 26 and 28 are orthogonal to each other.

図80及び図81は図75の実施例の変形例を示す図である。図80は液晶表示装置の線状の構造体と偏光板との関係を示す図、図81は図80の液晶表示装置の断面図である。上基板12は突起30を有し、下基板14はスリット46を有する。突起30及びスリット46は直角の屈曲部を有する。この場合、偏光板26の吸収軸26aは突起30(又はスリット46)の直線部分に対して55°をなすように配置されている。2つの偏光板26、28の吸収軸26a、28aは互いに直交する。   80 and 81 are diagrams showing a modification of the embodiment of FIG. 80 is a diagram showing the relationship between the linear structure of the liquid crystal display device and the polarizing plate, and FIG. 81 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG. The upper substrate 12 has a protrusion 30, and the lower substrate 14 has a slit 46. The protrusion 30 and the slit 46 have a right-angled bent portion. In this case, the absorption axis 26a of the polarizing plate 26 is arranged so as to form 55 ° with respect to the linear portion of the protrusion 30 (or the slit 46). The absorption axes 26a and 28a of the two polarizing plates 26 and 28 are orthogonal to each other.

図82は、本発明の第7実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。図83は図82の液晶表示装置の断面図である。   FIG. 82 is a diagram showing a linear structure of a liquid crystal display device according to a seventh embodiment of the present invention. 83 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG.

図82及び図83に示される液晶表示装置は、一対の基板12、14と、一対の基板12、14の間に挿入された負の誘電率異方性を有する液晶16と、液晶16の配向を制御するために一対の基板12、14の各々に設けられた線状の構造体(例えば突起30、32、スリット44、46)と、一対の基板12、14の外側にそれぞれ配置されている偏光板26、28とを備える。一対の基板12、14はそれぞれ電極18、22及び垂直配向膜20、24を有する。   The liquid crystal display device shown in FIGS. 82 and 83 includes a pair of substrates 12 and 14, a liquid crystal 16 having a negative dielectric anisotropy inserted between the pair of substrates 12 and 14, and the alignment of the liquid crystal 16. Are arranged on the outside of the pair of substrates 12 and 14 and the linear structures (for example, the protrusions 30 and 32 and the slits 44 and 46) provided on each of the pair of substrates 12 and 14, respectively. Polarizing plates 26 and 28 are provided. The pair of substrates 12 and 14 have electrodes 18 and 22 and vertical alignment films 20 and 24, respectively.

下基板14はTFT基板であり、電極22は画素電極である。下基板14は画素電極22に接続されたTFT40を有する。TFT40はゲートバスライン及びドレインバスライン(図3)に接続される。遮光領域84がTFT40及びその近傍の領域を覆って設けられる。遮光領域84はTFT40が直接に光で照射されるのを防止するものである。TFT40は画素電極22とコンタクトするので、遮光領域84は画素電極22と部分的に重なって配置される。   The lower substrate 14 is a TFT substrate, and the electrode 22 is a pixel electrode. The lower substrate 14 has a TFT 40 connected to the pixel electrode 22. The TFT 40 is connected to the gate bus line and the drain bus line (FIG. 3). A light shielding area 84 is provided to cover the TFT 40 and the area in the vicinity thereof. The light shielding region 84 prevents the TFT 40 from being directly irradiated with light. Since the TFT 40 is in contact with the pixel electrode 22, the light shielding region 84 is disposed so as to partially overlap the pixel electrode 22.

画素電極22は画素開口部を規定する。ただし、画素電極22の占める面積のうち、遮光領域84は重なった部分は画素開口部とはならない。従って、画素電極22の占める面積のうち、遮光領域84と重ならない部分が、非遮光領域(画素開口部)になる。   The pixel electrode 22 defines a pixel opening. However, in the area occupied by the pixel electrode 22, the portion where the light shielding region 84 overlaps does not become a pixel opening. Accordingly, a portion of the area occupied by the pixel electrode 22 that does not overlap the light shielding region 84 is a non-light shielding region (pixel opening).

この例では、上基板12に設けられた線状の構造体は突起30であり、下基板14に設けられた線状の構造体は電極22に形成されたスリット46である。突起30及びスリット46は屈曲部を有する形状に形成されている。突起30とスリット46の組合せの例は例えば図71及び図74に示されている。   In this example, the linear structure provided on the upper substrate 12 is a protrusion 30, and the linear structure provided on the lower substrate 14 is a slit 46 formed on the electrode 22. The protrusion 30 and the slit 46 are formed in a shape having a bent portion. Examples of combinations of the protrusions 30 and the slits 46 are shown in FIGS. 71 and 74, for example.

遮光領域84及び線状の構造体30、46は、遮光領域84と一部の線状の構造体30とが部分的に重なりあって非遮光領域に配置される線状の構造体30、46の面積が少なくなるように配置されている。   The light shielding region 84 and the linear structures 30 and 46 are linear structures 30 and 46 which are arranged in the non-light shielding region by partially overlapping the light shielding region 84 and a part of the linear structures 30. Are arranged so as to reduce the area.

前に説明したように、突起30は透明な誘電体で形成され、スリット46は透明な画素電極22に形成されたものであるので、線状の構造体30、47は透明な部材と見ることができる。しかし、電圧を印加したときに、線状の構造体30、47上に位置する液晶分子は線状の構造体30、47の間の間隙に位置する液晶分子とは異なる配向をするので、電圧を印加して白表示をするときに画素開口部内では線状の構造体30、47上では光の透過量が減少し、開口率が低下する。   As described above, since the protrusion 30 is formed of a transparent dielectric and the slit 46 is formed on the transparent pixel electrode 22, the linear structures 30 and 47 should be regarded as transparent members. Can do. However, when a voltage is applied, the liquid crystal molecules positioned on the linear structures 30 and 47 are oriented differently from the liquid crystal molecules positioned in the gap between the linear structures 30 and 47. When white display is performed by applying a light, the amount of transmitted light decreases on the linear structures 30 and 47 in the pixel opening, and the aperture ratio decreases.

従って、非遮光領域(画素開口部内)に配置される線状の構造体30、46の面積が少なくなるようにするのが好ましい。しかしながら、線状の構造体30、46は液晶の配向を制御する上で所定の面積が必要である。そこで、線状の構造体30、46の面積が一定とした場合、線状の構造体30、46の一部を遮光領域84と重なる位置にもっていき、非遮光領域に配置される線状の構造体30、46の面積が少なくなるようにすると、実際の開口率を増加することができる。このため、図82においては、突起30の一部が遮光領域84と重なるように、遮光領域84及び線状の構造体30、46をデザインしている。   Therefore, it is preferable to reduce the area of the linear structures 30 and 46 arranged in the non-light-shielding region (in the pixel opening). However, the linear structures 30 and 46 require a predetermined area for controlling the alignment of the liquid crystal. Therefore, when the areas of the linear structures 30 and 46 are constant, a part of the linear structures 30 and 46 is moved to a position overlapping the light shielding region 84, and the linear structures arranged in the non-light shielding region are arranged. If the area of the structures 30 and 46 is reduced, the actual aperture ratio can be increased. Therefore, in FIG. 82, the light shielding region 84 and the linear structures 30 and 46 are designed so that a part of the protrusion 30 overlaps the light shielding region 84.

図84は図82の線状の構造体30、46のより具体化した例を示す図である。図84の装置の特徴は図82を参照して説明したのと同様である。TFT40のソース電極はコンタクトホール40hで画素電極22に接続される。   FIG. 84 is a diagram showing a more specific example of the linear structures 30 and 46 of FIG. The features of the apparatus of FIG. 84 are the same as those described with reference to FIG. The source electrode of the TFT 40 is connected to the pixel electrode 22 through a contact hole 40h.

さらに、図82から図84に示されるように、TFT40を有する基板14の線状の構造体がスリット46である場合、対向基板12の突起30(又はスリット44)がTFT40を覆う遮光領域84と重なるようにするのが好ましい。スリット46が遮光領域84と重なるようにすると、TFT40と画素電極22との間のコンタクトをとるのに不都合がある場合がある。   Further, as shown in FIGS. 82 to 84, when the linear structure of the substrate 14 having the TFT 40 is the slit 46, the projection 30 (or the slit 44) of the counter substrate 12 has a light shielding region 84 that covers the TFT 40. It is preferable to overlap. If the slit 46 overlaps the light shielding region 84, it may be inconvenient to make contact between the TFT 40 and the pixel electrode 22.

図85は図82の線状の構造体の比較例を示す図である。この例では、TFT40を有する基板14の線状の構造体がスリット46である場合、TFT基板14の又はスリット46がTFT40を覆う遮光領域84と重なるように配置されている。しかし、スリット46が遮光領域84と重なるようにすると、TFT40と画素電極22との接続が難しくなる。すなわち、スリット46がコンタクトホール(図84の40h)を形成すべき位置にきてしまう。   FIG. 85 shows a comparative example of the linear structure of FIG. In this example, when the linear structure of the substrate 14 having the TFT 40 is the slit 46, the TFT substrate 14 or the slit 46 is disposed so as to overlap the light shielding region 84 that covers the TFT 40. However, if the slit 46 overlaps the light shielding region 84, the connection between the TFT 40 and the pixel electrode 22 becomes difficult. That is, the slit 46 comes to a position where a contact hole (40h in FIG. 84) should be formed.

図86は図28の線状の構造体の変形例を示す図、図87は図86の線状の構造体を有する液晶表示装置を示す断面図である。図86及び図87は前に説明した表1の左列の3番目の突起の下の電極を抜く例を説明する図である。突起32は基板14の電極22の上に形成されているが、突起32の下の電極22は菱形形状の抜き22xを形成されている。突起32の場合には電極22の抜き22xにより第1のタイプ(I)の境界形成手段56とすることができる。抜き22xは菱形形状に限定されず、その他の形状、例えば長方形形状でもよい。   86 is a view showing a modification of the linear structure of FIG. 28, and FIG. 87 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 86 and 87 are diagrams for explaining an example in which the electrode under the third protrusion in the left column of Table 1 described above is removed. The protrusion 32 is formed on the electrode 22 of the substrate 14, but the electrode 22 under the protrusion 32 is formed with a diamond-shaped punch 22 x. In the case of the protrusion 32, the first type (I) boundary forming means 56 can be obtained by removing the electrode 22x. The cutout 22x is not limited to a rhombus shape, but may be another shape, for example, a rectangular shape.

図88は本発明の第8実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。図89は図88の線状の構造体を有する液晶表示装置の断面図である。図88及び図89の実施例は図28の実施例の特徴と図43の実施例の特徴を組み合わせた特徴を有する例に相当する。すてわち、この実施例は、一方の基板の線状の構造体に設けられた液晶の配向の境界を形成するための第1の手段と、他方の基板に線状の構造体の延びる方向で該第1の手段と同じ位置に設けられた液晶の配向の境界を形成するための第2の手段とを備えた構成になる。   FIG. 88 is a diagram showing a linear structure of a liquid crystal display device according to an eighth embodiment of the present invention. 89 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device having the linear structure of FIG. The embodiment shown in FIGS. 88 and 89 corresponds to an example having features obtained by combining the features of the embodiment of FIG. 28 and the features of the embodiment of FIG. That is, in this embodiment, the first means for forming the alignment boundary of the liquid crystal provided in the linear structure of one substrate and the linear structure extending on the other substrate are extended. And a second means for forming an alignment boundary of the liquid crystal provided at the same position as the first means in the direction.

上基板12は突起からなる線状の構造体30を有し、下基板14は突起からなる線状の構造体32を有する。図89は下基板14の突起からなる線状の構造体32を通る断面図である。突起32は分離部32Tを有し、それによって突起32に第2のタイプ(II)の境界形成手段58を形成している。さらに、対向基板12には分離部32Tと対向する位置に点状の突起62aが設けられる。図43を参照して説明したように対向基板12の突起62aは液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62であり、これは第2のタイプ(II)の境界形成手段58と同じ液晶配向制御作用を有する。従って、この例では、2つの第2のタイプ(II)の境界形成手段58、62を同じ位置に設けることになり、第2のタイプ(II)の境界がより確実に形成されることになる。従って、液晶分子の配向がより確実になる。   The upper substrate 12 has a linear structure 30 made of protrusions, and the lower substrate 14 has a linear structure 32 made of protrusions. FIG. 89 is a cross-sectional view passing through the linear structure 32 formed by the protrusions of the lower substrate 14. The protrusion 32 has a separation portion 32T, whereby a second type (II) boundary forming means 58 is formed on the protrusion 32. Further, the counter substrate 12 is provided with a dot-like protrusion 62a at a position facing the separation portion 32T. As described with reference to FIG. 43, the protrusion 62a of the counter substrate 12 is a means 62 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position, which is the second type (II) boundary forming means 58. Has the same liquid crystal alignment control action. Therefore, in this example, the two second type (II) boundary forming means 58 and 62 are provided at the same position, and the second type (II) boundary is more reliably formed. . Therefore, the alignment of the liquid crystal molecules becomes more reliable.

図90及び図91は図88及び図89と類似した例を示す図である。この例でも、突起32は第2のタイプ(II)の境界形成手段58を含み、対向基板12は液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62を含む。図90及び図91の実施例では手段58を構成する突起32の分離部32Tの大きさと手段62を構成する62aの大きさとの関係が、図88及び図89のものと異なっている。   90 and 91 are diagrams showing an example similar to FIGS. 88 and 89. FIG. Also in this example, the protrusion 32 includes the second type (II) boundary forming means 58, and the counter substrate 12 includes means 62 for forming the alignment boundary of the liquid crystal molecules at a fixed position. 90 and 91, the relationship between the size of the separation portion 32T of the protrusion 32 constituting the means 58 and the size of 62a constituting the means 62 is different from that in FIGS. 88 and 89.

図92は図88の線状の構造体の変形例を示す図である。図93は図92の線状の構造体(突起)32を示す断面図である。この線状の構造体(突起)32は図32に示されたように突起32の高さを高くすることにより形成した第1のタイプ(I)の境界形成手段56と、突起32の高さを低くすることにより形成した第2のタイプ(II)の境界形成手段58とを含む。対向基板12は手段56、58と同じ位置に境界形成手段62を含む。   FIG. 92 is a view showing a modification of the linear structure shown in FIG. FIG. 93 is a cross-sectional view showing the linear structure (projection) 32 of FIG. This linear structure (projection) 32 includes first type (I) boundary forming means 56 formed by increasing the height of the projection 32 as shown in FIG. And a second type (II) boundary forming means 58 formed by lowering the height. The counter substrate 12 includes a boundary forming unit 62 at the same position as the units 56 and 58.

図94は図93の線状の構造体の変形例を示す図である。この線状の構造体(突起)32は図35に示されたように突起32の幅を広くすることにより形成した第1のタイプ(I)の境界形成手段56と、突起32の幅を狭くすることにより形成した第2のタイプ(II)の境界形成手段58とを含む。対向基板12は手段56、58と同じ位置に境界形成手段62を含むことができる。   FIG. 94 is a view showing a modification of the linear structure shown in FIG. This linear structure (projection) 32 has a first type (I) boundary forming means 56 formed by increasing the width of the projection 32 as shown in FIG. Second type (II) boundary forming means 58 formed by doing so. The counter substrate 12 may include a boundary forming unit 62 at the same position as the units 56 and 58.

図95及び図96は図88及び図89と類似した例を示す図である。この例でも、突起32は第1のタイプ(I)の境界形成手段56及び第2のタイプ(II)の境界形成手段58を含み、対向基板12は手段56、58と同じ位置に液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62を含む。第1のタイプ(I)の境界形成手段56は突起32の分離部であり、第2のタイプ(II)の境界形成手段58は突起32上の高さの高くなった部分である。   95 and 96 are diagrams showing an example similar to FIGS. 88 and 89. FIG. Also in this example, the protrusion 32 includes the first type (I) boundary forming means 56 and the second type (II) boundary forming means 58, and the counter substrate 12 has liquid crystal molecules at the same positions as the means 56 and 58. Means 62 are included for forming alignment boundaries at fixed locations. The first type (I) boundary forming means 56 is a separation part of the protrusion 32, and the second type (II) boundary forming means 58 is a heightened part on the protrusion 32.

図97は図88の線状の構造体の変形例を示す図である。この例では、下基板14の線状の構造体はスリット46として形成されている。スリット46は壁58aで分離され、第2のタイプ(II)の境界形成手段58となっている。同時に、壁58aは突出する壁として協働する線状の構造体(突起)30に対して液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62を形成する。   FIG. 97 is a view showing a modification of the linear structure shown in FIG. In this example, the linear structure of the lower substrate 14 is formed as a slit 46. The slits 46 are separated by a wall 58a to form a second type (II) boundary forming means 58. At the same time, the wall 58a forms a means 62 for forming a boundary of alignment of liquid crystal molecules at a fixed position with respect to the linear structure (projection) 30 that cooperates as a protruding wall.

図98は図97と類似した線状の構造体を示している。図である。この例では、下基板14の線状の構造体はスリット46として形成され、スリット46は壁58aで分離されている。壁58aは協働する分離された線状の構造体(突起)30の構成部分の分離部及び中間部に位置し、第1のタイプ(I)の境界形成手段58及び第2のタイプ(II)の境界形成手段58となっている。同時に、壁58aは突出する壁として協働する線状の構造体(突起)30に対して液晶分子の配向の境界を一定位置に形成させるための手段62を形成する。   FIG. 98 shows a linear structure similar to FIG. FIG. In this example, the linear structure of the lower substrate 14 is formed as a slit 46, and the slit 46 is separated by a wall 58a. The wall 58a is located at the separation part and the middle part of the components of the separated linear structure (projection) 30 that cooperates, and the first type (I) boundary forming means 58 and the second type (II). ) For forming a boundary 58). At the same time, the wall 58a forms a means 62 for forming a boundary of alignment of liquid crystal molecules at a fixed position with respect to the linear structure (projection) 30 that cooperates as a protruding wall.

図88から図98を参照して説明した実施例については下記のようにようにまとめることができる。(a)第1のタイプ(I)の境界形成手段56としては、突起30、32を太くし、あるいは高くし、スリット44、46を太くし、あるいは高くし、対向基板の境界形成手段60、62としては、点状の突起、部分的に切断した突起、部分的に細くした突起、部分的に低くした突起、部分的につないだスリット、部分的に細くしたスリット、部分的に低くしたスリットを設ける。(b)第2のタイプ(II)の境界形成手段58としては、突起30、32を切断し(複数の構成単位とし)、細くし、あるいは低くし、スリット44、46切断し、細くし、あるいは低くし、対向基板の境界形成手段60、62としては、点状の突起、部分的に太くした突起、部分的に高くした突起、部分的に突き出したスリット、部分的に太くしたスリット、点状の電極窪みを設ける。   The embodiment described with reference to FIGS. 88 to 98 can be summarized as follows. (A) As the first type (I) boundary forming means 56, the protrusions 30 and 32 are made thicker or higher, the slits 44 and 46 are made thicker or higher, and the opposing substrate boundary forming means 60, As 62, dot-like projections, partially cut projections, partially thinned projections, partially lowered projections, partially connected slits, partially thinned slits, partially lowered slits Is provided. (B) As the second type (II) boundary forming means 58, the protrusions 30 and 32 are cut (set as a plurality of structural units), thinned or lowered, and the slits 44 and 46 are cut and thinned. Alternatively, the counter substrate boundary forming means 60 and 62 may be pointed protrusions, partially thickened protrusions, partially raised protrusions, partially protruding slits, partially thickened slits, dots A shaped electrode recess is provided.

図99は本発明の第9実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。この場合にも、前の実施例と同様に、液晶表示装置は、一対の基板12、14と、一対の基板12、14の間に挿入された負の誘電率異方性を有する液晶16と、液晶16の配向を制御するために一対の基板12、14の各々に設けられた線状の構造体(例えば突起30、32、スリット44、46)と、一対の基板12、14の外側にそれぞれ配置されている偏光板26、28とを備える。   FIG. 99 is a diagram showing a linear structure of a liquid crystal display device according to the ninth embodiment of the present invention. Also in this case, as in the previous embodiment, the liquid crystal display device includes a pair of substrates 12 and 14 and a liquid crystal 16 having a negative dielectric anisotropy inserted between the pair of substrates 12 and 14. In order to control the alignment of the liquid crystal 16, linear structures (for example, protrusions 30 and 32, slits 44 and 46) provided on each of the pair of substrates 12 and 14, and outside the pair of substrates 12 and 14 Polarizing plates 26 and 28 are provided.

図99は、上基板12の1つの線状の構造体(突起)30と、下基板14の1つの線状の構造体(突起)32とを示している。上基板の線状の構造体30は図28を参照して説明した周囲の液晶分子が一点を向く第1のタイプの配向の境界を形成する手段56と同様の手段86を備え、下基板の線状の構造体32も周囲の液晶分子が一点を向く第1のタイプの配向の境界を形成する手段86を備えている。   FIG. 99 shows one linear structure (projection) 30 of the upper substrate 12 and one linear structure (projection) 32 of the lower substrate 14. The linear structure 30 of the upper substrate includes means 86 similar to the means 56 for forming the boundary of the first type of alignment in which the surrounding liquid crystal molecules described with reference to FIG. The linear structure 32 is also provided with means 86 for forming a boundary of the first type of alignment in which the surrounding liquid crystal molecules are pointed.

電圧印加時には、前に説明したように、上基板の線状の構造体30上の液晶分子及び下基板の線状の構造体32上の液晶分子はそれぞれ線状の構造体30、32と平行になるように配向し、上基板の線状の構造体30と下基板の線状の構造体32との間の間隙部に位置する液晶分子は線状の構造体30、32と垂直になるように配向する。   When voltage is applied, as described above, the liquid crystal molecules on the linear structure 30 on the upper substrate and the liquid crystal molecules on the linear structure 32 on the lower substrate are parallel to the linear structures 30 and 32, respectively. The liquid crystal molecules positioned in the gap between the linear structure 30 on the upper substrate and the linear structure 32 on the lower substrate are perpendicular to the linear structures 30 and 32. Oriented as follows.

さらに、上基板の線状の構造体30上の液晶分子については、境界形成手段86の左側の領域に位置する液晶分子は矢印で示されるように頭が境界形成手段86に向かう右向きに配向し、境界形成手段86の右側の領域に位置する液晶分子は矢印で示されるように頭が境界形成手段86に向かう左向きに配向する。同様に、下基板の線状の構造体32上の液晶分子については、境界形成手段86の左側の領域に位置する液晶分子は矢印で示されるように頭が境界形成手段86とは反対側に向かう左向きに配向し、境界形成手段86の右側の領域に位置する液晶分子は矢印で示されるように頭が境界形成手段86とは反対側に向かう右向きに配向する。   Further, for the liquid crystal molecules on the linear structure 30 on the upper substrate, the liquid crystal molecules located in the left region of the boundary forming means 86 are oriented rightward toward the boundary forming means 86 as indicated by arrows. The liquid crystal molecules located in the region on the right side of the boundary forming means 86 are oriented leftward toward the boundary forming means 86 as indicated by arrows. Similarly, for the liquid crystal molecules on the linear structure 32 of the lower substrate, the liquid crystal molecules located in the left region of the boundary forming means 86 have their heads opposite to the boundary forming means 86 as indicated by arrows. The liquid crystal molecules that are oriented in the leftward direction and located in the region on the right side of the boundary forming means 86 are oriented in the right direction in which the head is directed to the opposite side of the boundary forming means 86 as indicated by an arrow.

従って、線状の構造体30、32と垂直な線上に位置する液晶分子(例えば点線の丸で囲まれた境界形成手段86の左側の領域に位置する液晶分子)についてみると、線状の構造体30上にある液晶分子は右向き(第1の方向)に配向し、線状の構造体32上にある液晶分子は左向き(第1の方向とは反対の第2の方向)に配向する。つまり、境界形成手段86の左側の領域に位置する液晶分子については、線状の構造体30上にある液晶分子は線状の構造体32上にある液晶分子とは反対の方向を向く。境界形成手段86の右側の領域に位置する液晶分子についても同様に、線状の構造体30上にある液晶分子は線状の構造体32上にある液晶分子とは反対の方向を向く。   Accordingly, when a liquid crystal molecule located on a line perpendicular to the linear structures 30 and 32 (for example, a liquid crystal molecule located in a region on the left side of the boundary forming means 86 surrounded by a dotted circle) is seen as a linear structure. The liquid crystal molecules on the body 30 are oriented rightward (first direction), and the liquid crystal molecules on the linear structure 32 are oriented leftward (second direction opposite to the first direction). That is, for the liquid crystal molecules located in the left region of the boundary forming means 86, the liquid crystal molecules on the linear structure 30 are directed in the opposite direction to the liquid crystal molecules on the linear structure 32. Similarly for the liquid crystal molecules located in the right region of the boundary forming means 86, the liquid crystal molecules on the linear structure 30 are directed in the opposite direction to the liquid crystal molecules on the linear structure 32.

図100は図99の線状の構造体の変形例を示す図である。この場合には、線状の構造体30、32はともに周囲の液晶分子の一部が一点を向き且つ他の液晶分子が同じ一点から反対を向く第2のタイプの配向の境界を形成する手段58と同様の手段88を備えている。従って、上基板の線状の構造体30上の液晶分子については、境界形成手段88の左側の領域に位置する液晶分子は矢印で示されるように頭が境界形成手段88とは反対側を向く左向きに配向し、境界形成手段88の右側の領域に位置する液晶分子は矢印で示されるように頭が境界形成手段88とは反対側を向く右向きに配向する。同様に、下基板の線状の構造体32上の液晶分子については、境界形成手段88の左側の領域に位置する液晶分子は矢印で示されるように頭が境界形成手段88に向かう右向きに配向し、境界形成手段88の右側の領域に位置する液晶分子は矢印で示されるように頭が境界形成手段88に向かう左向きに配向する。   FIG. 100 is a view showing a modification of the linear structure shown in FIG. In this case, both the linear structures 30 and 32 form means for forming the boundary of the second type of orientation in which a part of the surrounding liquid crystal molecules faces one point and the other liquid crystal molecules face the opposite from the same point. The same means 88 as 58 is provided. Therefore, for the liquid crystal molecules on the linear structure 30 on the upper substrate, the heads of the liquid crystal molecules located in the left region of the boundary forming unit 88 face the opposite side to the boundary forming unit 88 as indicated by arrows. The liquid crystal molecules that are oriented to the left and located in the region on the right side of the boundary forming means 88 are oriented to the right with their heads facing away from the boundary forming means 88 as indicated by arrows. Similarly, for the liquid crystal molecules on the linear structure 32 of the lower substrate, the liquid crystal molecules located in the left region of the boundary forming means 88 are oriented rightward toward the boundary forming means 88 as indicated by arrows. The liquid crystal molecules located in the right region of the boundary forming means 88 are oriented leftward toward the boundary forming means 88 as indicated by arrows.

従って、線状の構造体30、32と垂直な線上に位置する液晶分子についてみると、線状の構造体30上にある液晶分子は第1の方向を向き、線状の構造体32上にある液晶分子は第1の方向とは反対の第2の方向を向く。   Accordingly, regarding the liquid crystal molecules located on the lines perpendicular to the linear structures 30 and 32, the liquid crystal molecules on the linear structures 30 face the first direction and are on the linear structures 32. Some liquid crystal molecules face a second direction opposite to the first direction.

図101は線状の構造体30、32を有する液晶表示装置における指押しの問題点を説明するための図である。図101においては、画像表示面の点Dを指で押した状態を示す。画像表示面の点Dを指で押した場合、指押しの跡が表示不良として点Dに生じることがある。指押しの跡は電圧の印加を止めると消滅する。また、電圧を印加し続けても、指押しの跡は短い電圧印加時間で消滅することもあれば、長い電圧印加時間の後でも消滅することなく残ることがある。液晶表示装置が指押し等の外力を加えない装置として用いられる場合には、問題はない。しかし、液晶表示装置が指押し等の外力を加えるような装置(例えばタッチパネル等)として用いられる場合には、表示面に指押しの跡が生じるという問題がある。   FIG. 101 is a diagram for explaining a problem of finger pressing in the liquid crystal display device having the linear structures 30 and 32. FIG. 101 shows a state where a point D on the image display surface is pressed with a finger. When the point D on the image display surface is pressed with a finger, a trace of finger pressing may occur at the point D as a display defect. The trace of the finger press disappears when the voltage application is stopped. Even if the voltage is continuously applied, the trace of finger pressing may disappear after a short voltage application time, or may remain without disappearing even after a long voltage application time. There is no problem when the liquid crystal display device is used as a device that does not apply external force such as finger pressing. However, when the liquid crystal display device is used as a device (for example, a touch panel) that applies an external force such as a finger press, there is a problem that a finger press mark is generated on the display surface.

図102は、比較例として指押しの跡が生じやすい例を示す図である。上基板の線状の構造体30は第1のタイプの配向の境界を形成する手段86を備え、下基板の線状の構造体32は周囲の液晶分子の一部が一点を向き且つ他の液晶分子が同じ一点から反対を向く第2のタイプの配向の境界を形成する手段88を備えている。従って、上基板の線状の構造体30上の液晶分子は、下基板の線状の構造体32上の液晶分子と同じ方向を向いている。例えば、上基板の線状の構造体30上の液晶分子については、境界形成手段86の左側の領域に位置する液晶分子は左向きに配向し、下基板の線状の構造体32上の液晶分子については、境界形成手段88の左側の領域に位置する液晶分子は左向きに配向している。   FIG. 102 is a diagram illustrating an example in which a finger press mark is likely to occur as a comparative example. The upper substrate linear structure 30 includes means 86 for forming the boundary of the first type of orientation, while the lower substrate linear structure 32 has a portion of the surrounding liquid crystal molecules facing one point and the other. Means 88 are provided for forming a second type of alignment boundary in which the liquid crystal molecules face the same point from the opposite. Therefore, the liquid crystal molecules on the linear structure 30 on the upper substrate face the same direction as the liquid crystal molecules on the linear structure 32 on the lower substrate. For example, for the liquid crystal molecules on the linear structure 30 on the upper substrate, the liquid crystal molecules located in the left region of the boundary forming means 86 are oriented leftward, and the liquid crystal molecules on the linear structure 32 on the lower substrate are aligned. With respect to, the liquid crystal molecules located in the left region of the boundary forming means 88 are oriented leftward.

指押しがあった場合には、線状の構造体30、32上の液晶分子は線状の構造体30、32間の間隙部に向かって移動し、線状の構造体30、32間の間隙部の液晶分子の一部16mが線状の構造体30、32に対して平行になる。線状の構造体30、32間の間隙部にある液晶分子は本来線状の構造体30、32に対して垂直にならなくてはならないのに、指押しがあった部分では線状の構造体30、32間の間隙部にある液晶分子の一部16mが線状の構造体30、32に対して平行になるためにディスクリネーションが生じ、その結果指押しの跡が生じる。   When the finger is pressed, the liquid crystal molecules on the linear structures 30 and 32 move toward the gaps between the linear structures 30 and 32, and the linear structures 30 and 32 are connected. A portion 16 m of the liquid crystal molecules in the gap is parallel to the linear structures 30 and 32. Although the liquid crystal molecules in the gap between the linear structures 30 and 32 must be perpendicular to the linear structures 30 and 32, the linear structure is present at the portion where the finger is pressed. Disclination occurs because a part of the liquid crystal molecules 16m in the gap between the bodies 30 and 32 are parallel to the linear structures 30 and 32, and as a result, a trace of finger pressing occurs.

図102に示されるように、2つの基板の線状の構造体30、32上の液晶分子が互いに同じ方向を向いていると、線状の構造体30、32上から線状の構造体30、32間の間隙部に向かって移動した液晶分子も線状の構造体30、32上の液晶分子と同じ方向を向き、それらの液晶分子は一方の線状の構造体30上から線状の構造体30、32間の間隙部及び他方の線状の構造体32にかけて連続的な配向になり、指押しの跡が長い時間消滅しないことになる。   As shown in FIG. 102, when the liquid crystal molecules on the linear structures 30 and 32 of the two substrates are oriented in the same direction, the linear structures 30 from the linear structures 30 and 32 are displayed. , 32 are also directed toward the same direction as the liquid crystal molecules on the linear structures 30, 32, and the liquid crystal molecules are linear from one linear structure 30. The orientation is continuous over the gap between the structures 30 and 32 and the other linear structure 32, and the trace of finger pressing does not disappear for a long time.

これに対して、図99及び図100の例においては、指押しがあった場合には、図102の例の場合と同様に、線状の構造体30、32上にあった液晶分子の一部16mは線状の構造体30、32間の間隙部に向かって押し出され、線状の構造体30、32に対して平行になる。しかし、この場合には、2つの基板の線状の構造体30、32上の液晶分子が互いに反対方向を向いているので、押し出された液晶分子16mは一方の基板の線状の構造体上の液晶分子とは同じ方向を向くが、他方の基板の線状の構造体上の液晶分子とは反対方向を向き、他方の線状の構造体上の液晶分子とは連続的に配向しない。隣接する液晶分子は連続的に配向しなくてはならないので、押し出された液晶分子16mは矢印で示されるように線状の構造体30、32に対して垂直な方向に回転しようとする。そのため、指押しの跡が短い時間で消滅するようになる。   On the other hand, in the example of FIGS. 99 and 100, when there is a finger press, as in the example of FIG. 102, one of the liquid crystal molecules on the linear structures 30 and 32 is obtained. The portion 16m is pushed toward the gap between the linear structures 30 and 32 and is parallel to the linear structures 30 and 32. However, in this case, since the liquid crystal molecules on the linear structures 30 and 32 of the two substrates are directed in opposite directions, the extruded liquid crystal molecules 16m are on the linear structures of one substrate. The liquid crystal molecules face the same direction, but face the opposite direction to the liquid crystal molecules on the linear structure of the other substrate, and are not continuously aligned with the liquid crystal molecules on the other linear structure. Since adjacent liquid crystal molecules must be continuously aligned, the extruded liquid crystal molecules 16m attempt to rotate in a direction perpendicular to the linear structures 30, 32 as indicated by arrows. For this reason, the trace of finger press disappears in a short time.

図103及び図104は図99の境界形成手段86の例を示す図である。上基板の線状の構造体30は突起であり、上基板12の線状の構造体30については、第1のタイプの配向の境界を形成する手段86は下基板14に設けられた小突起86aからなる。下基板14の線状の構造体32は突起であり、下基板14の線状の構造体32については、第1のタイプの配向の境界を形成する手段86は上基板12に設けられた小突起86bからなる。小突起86aと小突起86bとは線状の構造体30、32に対して垂直な線上に設けられる。   103 and 104 are views showing an example of the boundary forming means 86 of FIG. The linear structure 30 of the upper substrate is a protrusion, and for the linear structure 30 of the upper substrate 12, the means 86 for forming the boundary of the first type orientation is a small protrusion provided on the lower substrate 14. 86a. The linear structure 32 of the lower substrate 14 is a protrusion, and for the linear structure 32 of the lower substrate 14, the means 86 for forming the boundary of the first type of orientation is a small size provided on the upper substrate 12. It consists of a protrusion 86b. The small protrusion 86 a and the small protrusion 86 b are provided on a line perpendicular to the linear structures 30 and 32.

図105及び図106は図100の境界形成手段88の例を示す図である。上基板の線状の構造体30は突起であり、上基板12の線状の構造体30については、第2のタイプの配向の境界を形成する手段88は上基板12に設けられた小突起88aからなる。下基板14の線状の構造体32は突起であり、下基板14の線状の構造体32については、第2のタイプの配向の境界を形成する手段88は下基板14に設けられた小突起88bからなる。小突起88aと小突起88bとは線状の構造体30、32に対して垂直な線上に設けられる。図103から図106において、小突起86a、86bは線状の構造体30、32の幅よりも長く、線状の構造体30、32に対して直交するように延びる。例えば、線状の構造体30、32の幅は10μm、高さは1.5μmであり、小突起86a、86bの幅は10μm、高さは1.5μm、長さは14μmである。小突起86a、86bは誘電体により形成することができる。   105 and 106 are diagrams showing examples of the boundary forming means 88 of FIG. The linear structure 30 of the upper substrate is a protrusion, and for the linear structure 30 of the upper substrate 12, the means 88 for forming the boundary of the second type of orientation is a small protrusion provided on the upper substrate 12. 88a. The linear structure 32 of the lower substrate 14 is a protrusion. For the linear structure 32 of the lower substrate 14, the means 88 for forming the boundary of the second type of orientation is provided on the lower substrate 14. It consists of protrusion 88b. The small protrusion 88a and the small protrusion 88b are provided on a line perpendicular to the linear structures 30 and 32. 103 to 106, the small protrusions 86 a and 86 b are longer than the width of the linear structures 30 and 32 and extend so as to be orthogonal to the linear structures 30 and 32. For example, the linear structures 30 and 32 have a width of 10 μm and a height of 1.5 μm, and the small protrusions 86a and 86b have a width of 10 μm, a height of 1.5 μm, and a length of 14 μm. The small protrusions 86a and 86b can be formed of a dielectric.

図107は図99の境界形成手段86の例を示す図である。上基板の線状の構造体30は突起であり、上基板12の線状の構造体30については、第1のタイプの配向の境界を形成する手段86は下基板14の電極に設けられた小スリット86cからなる。下基板14の線状の構造体32は突起であり、下基板14の線状の構造体32については、第1のタイプの配向の境界を形成する手段86は上基板12の電極に設けられた小スリット86dからなる。小スリット86cと小スリット86dとは線状の構造体30、32に対して垂直な線上に設けられる。   FIG. 107 is a diagram showing an example of the boundary forming means 86 of FIG. The linear structure 30 of the upper substrate is a protrusion, and for the linear structure 30 of the upper substrate 12, means 86 for forming the boundary of the first type orientation is provided on the electrode of the lower substrate 14. It consists of a small slit 86c. The linear structure 32 of the lower substrate 14 is a protrusion, and for the linear structure 32 of the lower substrate 14, means 86 for forming the boundary of the first type orientation is provided on the electrode of the upper substrate 12. It consists of a small slit 86d. The small slit 86 c and the small slit 86 d are provided on a line perpendicular to the linear structures 30 and 32.

図108は図100の手段88の例を示す図である。上基板の線状の構造体30は突起であり、上基板12の線状の構造体30に対して第2のタイプの配向の境界を形成する手段88は上基板12に設けられた小スリット88cからなる。下基板14の線状の構造体32は突起であり、下基板14の線状の構造体32に対して第2のタイプの配向の境界を形成する手段88は下基板14に設けられた小スリット88dからなる。小スリット88cと小スリット88dとは線状の構造体30、32に対して垂直な線上に設けられる。図107及び図108において、小スリット88c、88dは線状の構造体30、32の幅よりも長く、線状の構造体30、32に対して直交するように延びる。   FIG. 108 is a diagram showing an example of the means 88 of FIG. The linear structure 30 of the upper substrate is a protrusion, and the means 88 for forming the boundary of the second type orientation with respect to the linear structure 30 of the upper substrate 12 is a small slit provided in the upper substrate 12. 88c. The linear structure 32 of the lower substrate 14 is a protrusion, and means 88 for forming a boundary of the second type of orientation with respect to the linear structure 32 of the lower substrate 14 is a small element provided on the lower substrate 14. It consists of a slit 88d. The small slit 88 c and the small slit 88 d are provided on a line perpendicular to the linear structures 30 and 32. 107 and 108, the small slits 88 c and 88 d are longer than the width of the linear structures 30 and 32 and extend so as to be orthogonal to the linear structures 30 and 32.

図99から図108においては線状の構造体30、32として突起を示したが、線状の構造体30、32としてスリットを用いることができること言うまでもない。この場合にも、手段86、88として小突起又と小スリットを用いることができる。また、上基板及び下基板の2つの手段86として小突起と小スリットとの組合せとすることもでき、上基板及び下基板の2つの手段88として小突起と小スリットとの組合せとすることもできる。このようにして、本実施例によれば、高い耐衝撃性をもった液晶表示装置を得ることができる。   In FIGS. 99 to 108, the protrusions are shown as the linear structures 30 and 32, but it goes without saying that slits can be used as the linear structures 30 and 32. Also in this case, small protrusions or small slits can be used as the means 86 and 88. Also, the two means 86 for the upper substrate and the lower substrate can be a combination of a small protrusion and a small slit, and the two means 88 for the upper substrate and the lower substrate can be a combination of a small protrusion and a small slit. it can. Thus, according to the present embodiment, a liquid crystal display device having high impact resistance can be obtained.

図109は本発明の第10実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。図110は図109の液晶表示装置の断面図である。この場合にも、前の実施例と同様に、液晶表示装置は、一対の基板12、14と、一対の基板12、14の間に挿入された負の誘電率異方性を有する液晶16と、液晶16の配向を制御するために一対の基板12、14の各々に設けられた線状の構造体(例えば突起30、32、スリット44、46)と、一対の基板12、14の外側にそれぞれ配置されている偏光板(図示せず)とを備える。   FIG. 109 is a diagram showing a linear structure of a liquid crystal display device according to the tenth embodiment of the present invention. 110 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG. Also in this case, as in the previous embodiment, the liquid crystal display device includes a pair of substrates 12 and 14 and a liquid crystal 16 having a negative dielectric anisotropy inserted between the pair of substrates 12 and 14. In order to control the alignment of the liquid crystal 16, linear structures (for example, protrusions 30 and 32, slits 44 and 46) provided on each of the pair of substrates 12 and 14, and outside the pair of substrates 12 and 14 And a polarizing plate (not shown) disposed respectively.

この実施例においては、上基板12の線状の構造体30は突起30であり、下基板14の線状の構造体32は突起32である。副壁構造90が下基板14に一対の基板12、14の法線方向から見て一対の基板12、14の線状の構造体30、32の間に設けられる。副壁構造90は菱形形状のスリットとして設けられる。副壁構造90は線状の構造体30、32に対して垂直な方向に長く、線状の構造体30、32に沿って一定のピッチ(5〜50μm)で配置される。   In this embodiment, the linear structure 30 of the upper substrate 12 is a protrusion 30, and the linear structure 32 of the lower substrate 14 is a protrusion 32. The sub-wall structure 90 is provided on the lower substrate 14 between the linear structures 30 and 32 of the pair of substrates 12 and 14 when viewed from the normal direction of the pair of substrates 12 and 14. The sub-wall structure 90 is provided as a diamond-shaped slit. The sub-wall structure 90 is long in the direction perpendicular to the linear structures 30 and 32, and is arranged along the linear structures 30 and 32 at a constant pitch (5 to 50 μm).

図111は図109の液晶表示装置の変形例を示す図である。この例では、上基板12の線状の構造体30は突起30であり、下基板14の線状の構造体32は突起32である。一対の基板の12、14の線状の構造体30、32の間に設けられる副壁構造90は、長方形形状のスリットとして設けられる。副壁構造90は線状の構造体30、32に対して垂直な方向に長く、線状の構造体30、32に沿って一定のピッチで配置される。   FIG. 111 is a diagram showing a modification of the liquid crystal display device of FIG. In this example, the linear structure 30 of the upper substrate 12 is a protrusion 30, and the linear structure 32 of the lower substrate 14 is a protrusion 32. The sub-wall structure 90 provided between the linear structures 30 and 32 of the pair of substrates 12 and 14 is provided as a rectangular slit. The sub-wall structure 90 is long in the direction perpendicular to the linear structures 30 and 32, and is arranged at a constant pitch along the linear structures 30 and 32.

図112及び図113は図109の液晶表示装置の変形例を示す図である。この例では、上基板12の線状の構造体30は突起30であり、下基板14の線状の構造体32は突起32である。一対の基板の12、14の線状の構造体30、32の間に設けられる副壁構造90は、正方形形状の突起として設けられる。副壁構造90は線状の構造体30、32に沿って一定のピッチで配置される。   112 and 113 are diagrams showing modifications of the liquid crystal display device of FIG. In this example, the linear structure 30 of the upper substrate 12 is a protrusion 30, and the linear structure 32 of the lower substrate 14 is a protrusion 32. The sub-wall structure 90 provided between the linear structures 30 and 32 of the pair of substrates 12 and 14 is provided as a square-shaped protrusion. The secondary wall structures 90 are arranged at a constant pitch along the linear structures 30 and 32.

図114及び図115は図109の液晶表示装置の変形例を示す図である。この例では、上基板12の線状の構造体30は突起30であり、下基板14の線状の構造体32は突起32である。線状の構造体30、32は屈曲部を有する形状に形成される。一対の基板の12、14の線状の構造体30、32の間に設けられる副壁構造90は、長方形形状のスリットとして設けられる。副壁構造90は線状の構造体30、32に対して垂直な方向に長く、線状の構造体30、32に沿って一定のピッチで配置される。   114 and 115 show a modification of the liquid crystal display device of FIG. In this example, the linear structure 30 of the upper substrate 12 is a protrusion 30, and the linear structure 32 of the lower substrate 14 is a protrusion 32. The linear structures 30 and 32 are formed in a shape having a bent portion. The sub-wall structure 90 provided between the linear structures 30 and 32 of the pair of substrates 12 and 14 is provided as a rectangular slit. The sub-wall structure 90 is long in the direction perpendicular to the linear structures 30 and 32, and is arranged at a constant pitch along the linear structures 30 and 32.

図109から図115の液晶表示装置の作用について説明する。液晶の配向を制御するために一対の基板12、14に線状の構造体30、32を設けた液晶表示装置では、ラビングが必要なく、かつ、視角特性を改善することができる特長があるが、協働する線状の構造体30、32間の距離が長くなるために、電圧を印加したときに液晶の応答性が低い。線状の構造体30、32の間に副壁構造90を設けることにより、液晶が線状の構造体30、32の間の間隙部においても配向しやすくなり、副壁構造90がない場合と比べて液晶の応答性が改善されることになる。   The operation of the liquid crystal display device of FIGS. 109 to 115 will be described. In the liquid crystal display device in which the linear structures 30 and 32 are provided on the pair of substrates 12 and 14 in order to control the alignment of the liquid crystal, there is a feature that rubbing is not necessary and the viewing angle characteristics can be improved. Since the distance between the cooperating linear structures 30 and 32 is long, the response of the liquid crystal is low when a voltage is applied. By providing the sub-wall structure 90 between the linear structures 30 and 32, the liquid crystal is easily aligned even in the gap between the linear structures 30 and 32, and there is no sub-wall structure 90. In comparison, the response of the liquid crystal is improved.

より詳細には、一対の基板12、14に線状の構造体30、32を設けた液晶表示装置では、液晶分子は基板面に対して垂直に配向しており、電圧を印加すると定まった方向に倒れる。協働する線状の構造体30、32間の中間に位置する液晶分子は、電圧を印加した直後にはどちらに倒れるか定かでなく、勝手な方向に倒れようとし、時間が経過した後で一定の方向に倒れる。このために応答性が低い。副壁構造90があると、協働する線状の構造体30、32間の中間に位置する液晶分子は、倒れるべき方向を規定されており、電圧を印加した直後から一定の方向に倒れ、このために応答性が改善される。   More specifically, in the liquid crystal display device in which the linear structures 30 and 32 are provided on the pair of substrates 12 and 14, the liquid crystal molecules are aligned perpendicular to the substrate surface, and the direction determined when a voltage is applied. Fall down. The liquid crystal molecules located in the middle between the cooperating linear structures 30 and 32 are not sure in which direction they will fall immediately after applying a voltage. It falls in a certain direction. For this reason, the responsiveness is low. With the sub-wall structure 90, the liquid crystal molecules located in the middle between the cooperating linear structures 30, 32 are defined in a direction to be tilted, and tilt in a certain direction immediately after applying a voltage, This improves the responsiveness.

図109から図115の例では線状の構造体30、32はともに突起として形成され、それに対して突起又はスリットからなる副壁構造90が設けられていた。これに対して、線状の構造体30、32はともにスリットとして形成され、あるいは一方の線状の構造体を突起とし、他方の線状の構造体をスリットとすることもできる。この場合にも、副壁構造90は突起又はスリットからなるものとすることができる。突起とスリットとは液晶の配向に関してはほぼ同様な働きをし、ほぼ同じ効果をもつので、副壁構造90としては、どちらを設けてもよい。形状には特に制限はないが、菱形にして良い結果を得ている。   In the example of FIGS. 109 to 115, the linear structures 30 and 32 are both formed as protrusions, and a sub-wall structure 90 made of protrusions or slits is provided for them. On the other hand, the linear structures 30 and 32 are both formed as slits, or one linear structure can be used as a protrusion and the other linear structure can be used as a slit. Even in this case, the sub-wall structure 90 may be formed of a protrusion or a slit. Since the protrusions and the slits have substantially the same function with respect to the alignment of the liquid crystal and have substantially the same effect, either of the sub-wall structures 90 may be provided. Although there is no restriction | limiting in particular in a shape, The good result is obtained by making a rhombus.

副壁構造90としてスリットを設ける場合、スリットの長さは線状の構造体30、32と垂直な方向ではスリットの効果を高めるためになるべく長い方がよく、線状の構造体30、32間の間隙の長さとほぼ同じにするがよい。線状の構造体30、32と平行な方向ではスリットが長くなると電極部分が少なくなり(スリットは電極に設けられる場合)、短すぎるとスリットの形成自体が困難になるため、5〜10μm程度であることが望ましい。次にスリット同志の間隔であるが、長すぎるとスリットの効果は少なくなり、短すぎるとスリット同志の影響により液晶の配向が乱れを生じるため、5〜30μm程度がよい。   In the case where a slit is provided as the sub-wall structure 90, the length of the slit is preferably as long as possible in order to enhance the effect of the slit in the direction perpendicular to the linear structures 30, 32, and between the linear structures 30, 32. The length of the gap should be approximately the same. If the slit becomes longer in the direction parallel to the linear structures 30 and 32, the electrode portion becomes smaller (when the slit is provided on the electrode), and if it is too short, the slit itself becomes difficult to form. It is desirable to be. Next, the interval between the slits is too long. However, if the length is too long, the effect of the slit is reduced. If the length is too short, the alignment of the liquid crystal is disturbed by the influence of the slits.

副壁構造90として突起を設ける場合、スリットの場合とは多少条件が異なってくる。まず突起の大きさであるが、大きすぎると液晶表示装置の透過率が下がってしまうため望ましくなく、小さすぎると突起自体の形成が困難になるし、効果も小さくなる。そのため、線状の構造体30、32に対する垂直方向及び平行方向ともに5μm程度が望ましい。次に突起同志の間隔については、スリットの場合と同様の理由と、透過率を犠牲にしないという目的から、5〜30μm程度がよい。   When the protrusion is provided as the sub-wall structure 90, the conditions are slightly different from those of the slit. First of all, the size of the protrusion is not desirable because the transmittance of the liquid crystal display device is lowered if it is too large, and if it is too small, the formation of the protrusion itself becomes difficult and the effect is reduced. Therefore, it is desirable that the vertical direction and the parallel direction with respect to the linear structures 30 and 32 are about 5 μm. Next, the interval between the protrusions is preferably about 5 to 30 μm for the same reason as in the case of the slit and for the purpose of not sacrificing the transmittance.

副壁構造90として導電性の突起を用いると、突起の間隙を広げることができるため、透過率を犠牲にしないという目的からさらに望ましくなる。このときは、突起間隙を50μm程度まで広げることができる。導電性を有する突起を形成するには、ITO電極をもたない基板に突起を形成した後にITOをスパッタリングすればよい。   If conductive protrusions are used as the sub-wall structure 90, the gap between the protrusions can be widened, which is more desirable for the purpose of not sacrificing transmittance. At this time, the protrusion gap can be expanded to about 50 μm. In order to form conductive protrusions, ITO may be sputtered after the protrusions are formed on a substrate having no ITO electrode.

副壁構造90としてスリット又は突起を設ける場合、副壁構造90を両方の基板12、14に設ける必要はなく、片側に設けるのみでよい。   When a slit or a protrusion is provided as the sub-wall structure 90, it is not necessary to provide the sub-wall structure 90 on both of the substrates 12 and 14, and it may be provided only on one side.

図116は線状の構造体32及び副壁構造90を有する基板14の製造方法を示す図である。(A)に示されるように、まずITOを成膜した基板14を準備する。基板14がTFT基板の場合には、TFT及びアクティブマトリクスを基板に形成し、ITOを成膜しておく。ポジ型レジスト(LC200(シプレイファーイースト製))91を1500rpm、30sの条件で基板14にスピンコートした。なおここではポジ型レジストを用いたが、必ずしもポジ型レジストである必要はなく、ネガ型レジストでもよいし、さらにはレジスト以外の感光性樹脂を用いてもよい。スピンコートしたレジスト91を90℃、20分でプリベークした後に、ITOパターニング用のフォトマスク92を介してレジスト91に密着露光を行った(露光時間5s)。   FIG. 116 is a view showing a method for manufacturing the substrate 14 having the linear structure 32 and the sub-wall structure 90. As shown in (A), first, a substrate 14 on which ITO is formed is prepared. When the substrate 14 is a TFT substrate, a TFT and an active matrix are formed on the substrate, and ITO is deposited. A positive resist (LC200 (manufactured by Shipley Far East)) 91 was spin-coated on the substrate 14 under conditions of 1500 rpm and 30 s. Although a positive resist is used here, the resist is not necessarily a positive resist, a negative resist may be used, and a photosensitive resin other than a resist may be used. After the spin-coated resist 91 was pre-baked at 90 ° C. for 20 minutes, contact exposure was performed on the resist 91 through a photomask 92 for ITO patterning (exposure time 5 s).

(B)に示されるように、次にシプレイファーイースト製の現像液MF319によりレジスト91を現像し(現像時間50s)、現像後120℃、1時間、次いで200℃、40分のポストベークを行った。(C)に示されるように、次に45℃に加熱したITOエッチャント(塩化第3鉄、塩酸、純水の混合液)を用いて基板14のITOをエッチングした(エッチング時間3分)。(D)に示されるように、アセトンを用いてレジスト91を剥離し、パターニングされた副壁構造(スリット)90を有するITO電極付き基板14を作製した。   Next, as shown in (B), the resist 91 is developed with a developer MF319 manufactured by Shipley Far East (development time 50 s), and post-baking is performed at 120 ° C. for 1 hour and then at 200 ° C. for 40 minutes after development. It was. As shown in (C), the ITO of the substrate 14 was etched using an ITO etchant (mixed ferric chloride, hydrochloric acid, and pure water) heated to 45 ° C. (etching time 3 minutes). As shown in (D), the resist 91 was peeled off using acetone to produce a substrate 14 with an ITO electrode having a patterned subwall structure (slit) 90.

パターニングされたITOは画素電極22となり、副壁構造(スリット)90は画素電極22に形成されたことになる。このとき作製した副壁構造(スリット)90の形状は長方形とし、長辺の長さは20μm、短辺の長さは5μm、長辺が線状の構造体32と直交するように作製した。また副壁構造(スリット)90の間隔は線状の構造体32と直交方向は10μm、平行方向は20μmとなるようにした。   The patterned ITO becomes the pixel electrode 22, and the sub-wall structure (slit) 90 is formed in the pixel electrode 22. The sub-wall structure (slit) 90 produced at this time was rectangular, and the long side was 20 μm, the short side was 5 μm, and the long side was perpendicular to the linear structure 32. The interval between the sub-wall structures (slits) 90 was 10 μm in the direction orthogonal to the linear structure 32 and 20 μm in the parallel direction.

(E)に示されるように、こうして作製したITO電極をパターニングした基板14に上と同様にしてレジスト(LC200)93をスピンコートし、突起形成用のフォトマスク94を介して露光を行い、線状の構造体(突起)32を形成した。このとき、ITO電極の副壁構造(スリット)90が線状の構造体30、32間にくるようにした。(F)はこうして形成された線状の構造体(突起)32を示す。線状の構造体(突起)32の幅は10μm、高さは1.5μm、上下基板12、14を重ねたときの線状の構造体30、32の間隔が20μmとなるようにした。この例では副壁構造(スリット)90を先に形成したが、線状の構造体(突起)32を先に形成してもよい。   As shown in (E), a resist (LC200) 93 is spin coated in the same manner as above on the substrate 14 patterned with the ITO electrode thus produced, and exposed through a photomask 94 for forming protrusions. A shaped structure (projection) 32 was formed. At this time, the sub-wall structure (slit) 90 of the ITO electrode was arranged between the linear structures 30 and 32. (F) shows the linear structure (projection) 32 thus formed. The width of the linear structures (projections) 32 was 10 μm, the height was 1.5 μm, and the distance between the linear structures 30 and 32 when the upper and lower substrates 12 and 14 were stacked was 20 μm. In this example, the sub-wall structure (slit) 90 is formed first, but the linear structure (projection) 32 may be formed first.

次に垂直配向膜JALS684(JSR製)を200rpm、30sの条件でスピンコートして180℃、1時間のベークを行って垂直配向膜を形成した。片方の基板にシール(XN−21F、三井東圧化学製)を形成し、もう一方の基板に4.5μmのスペーサ(SP−20045、積水フインケミカル製)を散布し、両基板12、14を重ね合わせた(G)。最後に135℃、90分でベークを行って空パネルを作製した。この空パネル中に真空中にて負の誘電率異方性を有する液晶MJ961213(メルク製)を注入した。次に注入口を封口材(30Y−228、スリーボンド製)により封止して液晶パネルを作製した(G)。   Next, a vertical alignment film JALS684 (manufactured by JSR) was spin-coated under the conditions of 200 rpm and 30 s and baked at 180 ° C. for 1 hour to form a vertical alignment film. A seal (XN-21F, manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.) is formed on one substrate, and a 4.5 μm spacer (SP-20045, manufactured by Sekisui Fine Chemical) is sprayed on the other substrate. Superposed (G). Finally, baking was performed at 135 ° C. for 90 minutes to prepare an empty panel. Liquid crystal MJ961213 (manufactured by Merck) having negative dielectric anisotropy was injected into this empty panel in a vacuum. Next, the inlet was sealed with a sealing material (30Y-228, manufactured by ThreeBond) to produce a liquid crystal panel (G).

この例では、副壁構造(スリット)90の間隔は線状の構造体32と平行方向で20μmとなるようにした。これと同様の製造方法で、副壁構造(スリット)90の間隔は線状の構造体32と平行方向で20μmとなるようにした液晶表示装置を別に製作した。   In this example, the interval between the sub-wall structures (slits) 90 is set to 20 μm in the direction parallel to the linear structures 32. A liquid crystal display device in which the distance between the sub-wall structures (slits) 90 is 20 μm in the direction parallel to the linear structures 32 was manufactured separately by the same manufacturing method.

図117は線状の構造体及び副壁構造を有する基板の製造方法の他の例を示す図である。(A)に示されるように、ITO電極(図示せず)を有する基板14にポジ型レジスト(LC200(シプレイファーイースト製))90aを2000rpm、30sの条件でスピンコートした。スピンコートしたレジスト90aを90℃、20分でプリベークした後に、フォトマスク92aを介して密着露光を行った(露光時間5s)。   FIG. 117 is a diagram showing another example of a method for manufacturing a substrate having a linear structure and a sub-wall structure. As shown in (A), a positive resist (LC200 (manufactured by Shipley Far East)) 90a was spin-coated on a substrate 14 having an ITO electrode (not shown) under the conditions of 2000 rpm and 30 s. The spin-coated resist 90a was pre-baked at 90 ° C. for 20 minutes, and then contact exposure was performed through a photomask 92a (exposure time 5 s).

(B)に示されるように、次にシプレイファーイースト製の現像液MF319によりレジスト90aを現像し(現像時間50s)、現像後120℃、1時間、次いで200℃、40分のポストベークを行い、副壁構造(突起)90を形成した。この副壁構造(突起)90の大きさは5μm角の正方形、高さは1μm、突起の間隔は25μmとした(C)。   Next, as shown in (B), the resist 90a is developed with a developer MF319 manufactured by Shipley Far East (development time 50 s), and after the development, post-baking is performed at 120 ° C. for 1 hour and then at 200 ° C. for 40 minutes. Subwall structure (projection) 90 was formed. The size of the sub-wall structure (projection) 90 was a 5 μm square, the height was 1 μm, and the spacing between the projections was 25 μm (C).

(D)に示されるように、こうして作製した基板14に上と同様にしてレジスト(LC200)93をスピンコートして突起形成用のフォトマスク94を介して露光を行い、副壁構造(突起)90が線状の構造体30、32間にくるようにした。同様にして、もう一方の基板12を形成し、上下基板を重ねた(E)。線状の構造体(突起)32の幅は10μm、高さは1.5μm、上下基板12、14を重ねたときの線状の構造体30、32の間隔が20μmとなるようにした。   As shown in (D), a resist (LC200) 93 is spin-coated on the substrate 14 thus fabricated and exposed through a photomask 94 for forming protrusions in the same manner as described above. 90 is located between the linear structures 30 and 32. Similarly, the other substrate 12 was formed and the upper and lower substrates were stacked (E). The width of the linear structures (projections) 32 was 10 μm, the height was 1.5 μm, and the distance between the linear structures 30 and 32 when the upper and lower substrates 12 and 14 were stacked was 20 μm.

さらに別の例においては、副壁構造90を導電性の突起で形成した。この場合の製造方法について説明する。ITO電極をもたない一対の基板にポジ型レジスト(LC200(シプレイファーイースト製))を用いて上の例と同様にして 副壁構造(突起)90を形成した。この副壁構造(突起)90の大きさは5μm角の正方形、高さは1μm、突起の間隔は線状の構造体32への直交方向には25μm、平行方向には50μmとした。次に、副壁構造(突起)90を有する基板14にITOをスパッタリングし、エッチングして画素電極22を形成した。副壁構造(突起)90はITOで覆われ、導電性を有する突起として形成されたことになる。それから、線状の構造体(突起)32を形成し、2枚の基板12、14を重ね合わせる。線状の構造体(突起)32を先に形成してもよいことは言うまでもない。   In yet another example, the sub-wall structure 90 is formed of a conductive protrusion. A manufacturing method in this case will be described. A sub-wall structure (protrusion) 90 was formed in the same manner as in the above example using a positive resist (LC200 (manufactured by Shipley Far East)) on a pair of substrates having no ITO electrode. The size of the sub-wall structure (projection) 90 was a square of 5 μm square, the height was 1 μm, and the spacing between the projections was 25 μm in the direction orthogonal to the linear structure 32 and 50 μm in the parallel direction. Next, ITO was sputtered onto the substrate 14 having the sub-wall structure (protrusion) 90 and etched to form the pixel electrode 22. The sub-wall structure (protrusion) 90 is covered with ITO and formed as a conductive protrusion. Then, a linear structure (projection) 32 is formed, and the two substrates 12 and 14 are overlaid. Needless to say, the linear structure (projection) 32 may be formed first.

図118は図111の液晶表示装置において副壁構造(スリット)90の幅を一定(5μm)にして副壁構造(スリット)90の間隔を10、20、30、50μmに変えたときの応答性を示す図である。25℃で測定した。比較例は線状の構造体30、32はあるが、副壁構造(スリット)90がない液晶表示装置の例である。この結果から、副壁構造(スリット)90の間隔が10、20、30μmの場合の応答速度は、比較例の応答速度よりも小さく、副壁構造(スリット)90の間隔が50μmの場合の応答速度は、比較例の応答速度よりも大きくなっている。従って、副壁構造(スリット)90の間隔は50μm以下、より確実には30μm以下であるのがよい。また、副壁構造(スリット)90の間隔が10μm以下になると透過率が大きく低下し、副壁構造(スリット)90の間隔はレジストの分解能からみて5μm程度が下限となる。なお、副壁構造(スリット)90の間隔毎の透過率は下記の通りであった。
比較例 10μm 20μm 30μm 50μm
24.0% 22.7% 23.5% 23.8% 24.2%
118 shows the response when the width of the sub-wall structure (slit) 90 is constant (5 μm) and the distance between the sub-wall structures (slit) 90 is changed to 10, 20, 30, 50 μm in the liquid crystal display device of FIG. FIG. Measured at 25 ° C. The comparative example is an example of a liquid crystal display device that has linear structures 30 and 32 but does not have a sub-wall structure (slit) 90. From this result, the response speed when the interval between the sub-wall structures (slits) 90 is 10, 20, and 30 μm is smaller than the response speed of the comparative example, and the response when the interval between the sub-wall structures (slits) 90 is 50 μm. The speed is larger than the response speed of the comparative example. Therefore, the interval between the sub-wall structures (slits) 90 should be 50 μm or less, and more certainly 30 μm or less. Further, when the interval between the sub-wall structures (slits) 90 is 10 μm or less, the transmittance is greatly reduced, and the interval between the sub-wall structures (slits) 90 is about 5 μm as a lower limit in terms of resist resolution. In addition, the transmittance | permeability for every space | interval of the subwall structure (slit) 90 was as follows.
Comparative Example 10 μm 20 μm 30 μm 50 μm
24.0% 22.7% 23.5% 23.8% 24.2%

図119は図111の液晶表示装置において副壁構造(スリット)90の間隔を一定(20μm)にして副壁構造(スリット)90の幅を5、10、20μmに変えたときの応答性を示す図である。この結果から、副壁構造(スリット)90の幅が5、10、20μmの場合の応答速度は、比較例の応答速度よりも小さい。しかし、副壁構造(スリット)90の幅が20μm以上になると透過率が低下する。従って、副壁構造(スリット)90の幅は5〜10μm程度がよい。なお、副壁構造(スリット)90の幅毎の透過率は下記の通りであった。
比較例 5μm 10μm 20μm
24.0% 23.5% 22.7% 20.8%
FIG. 119 shows the response when the interval between the sub-wall structures (slits) 90 is constant (20 μm) and the width of the sub-wall structures (slits) 90 is changed to 5, 10, and 20 μm in the liquid crystal display device of FIG. FIG. From this result, the response speed when the width of the sub-wall structure (slit) 90 is 5, 10, 20 μm is smaller than the response speed of the comparative example. However, when the width of the sub-wall structure (slit) 90 is 20 μm or more, the transmittance decreases. Therefore, the width of the sub-wall structure (slit) 90 is preferably about 5 to 10 μm. In addition, the transmittance | permeability for every width | variety of the subwall structure (slit) 90 was as follows.
Comparative example 5 μm 10 μm 20 μm
24.0% 23.5% 22.7% 20.8%

図120は図112の液晶表示装置において副壁構造(突起)90の大きさを一定(5μm角)にして副壁構造(突起)90の間隔を10、20、50、70μmに変えたときの応答性を示す図である。この結果から、副壁構造(突起)90の間隔が70μmの場合の応答速度は、比較例の応答速度よりも大きくなるので、副壁構造(突起)90の間隔が50μm以下であるのがよい。また、副壁構造(突起)90の間隔が10μm以下になると透過率が低下し、副壁構造(突起)90の間隔はレジストの分解能からみて5μm程度が下限となる。なお、副壁構造(突起)90の間隔毎の透過率は下記の通りであった。
比較例 10μm 20μm 50μm 70μm
24.0% 22.3% 23.1% 23.8% 24.2%
FIG. 120 shows the liquid crystal display device of FIG. 112 when the size of the sub-wall structure (projection) 90 is constant (5 μm square) and the interval between the sub-wall structures (projections) 90 is changed to 10, 20, 50, and 70 μm. It is a figure which shows responsiveness. From this result, since the response speed when the interval between the sub-wall structures (projections) 90 is 70 μm is larger than the response speed of the comparative example, the interval between the sub-wall structures (projections) 90 should be 50 μm or less. . Further, when the distance between the sub-wall structures (projections) 90 is 10 μm or less, the transmittance is lowered, and the distance between the sub-wall structures (projections) 90 is about 5 μm as a lower limit in terms of resist resolution. In addition, the transmittance | permeability for every space | interval of the subwall structure (protrusion) 90 was as follows.
Comparative Example 10 μm 20 μm 50 μm 70 μm
24.0% 22.3% 23.1% 23.8% 24.2%

図121は図112の液晶表示装置において副壁構造(時)90の間隔を一定(20μm)にして副壁構造(突起)90の大きさを5、10μm角に変えたときの応答性を示す図である。この結果から、副壁構造(突起)90の大きさが5μm角の場合の応答速度は、副壁構造(突起)90の大きさが10μm角の場合の応答速度とほとんど変わらない。しかし、副壁構造(突起)90の大きさが5μmになると透過率が低下する。従って、副壁構造(突起)90の大きさは5μm角程度がよい。なお、副壁構造(突起)90の大きさ毎の透過率は下記の通りであった。
比較例 5μm 10μm
24.0% 23.1% 20.6%
FIG. 121 shows responsiveness of the liquid crystal display device of FIG. 112 when the interval of the sub-wall structure (hour) 90 is constant (20 μm) and the size of the sub-wall structure (projection) 90 is changed to 5, 10 μm square. FIG. From this result, the response speed when the size of the sub-wall structure (projection) 90 is 5 μm square is almost the same as the response speed when the size of the sub-wall structure (projection) 90 is 10 μm square. However, when the size of the sub-wall structure (protrusion) 90 is 5 μm, the transmittance decreases. Therefore, the size of the sub-wall structure (projection) 90 is preferably about 5 μm square. In addition, the transmittance | permeability for every magnitude | size of the subwall structure (protrusion) 90 was as follows.
Comparative example 5 μm 10 μm
24.0% 23.1% 20.6%

図122は本発明の第10実施例による液晶表示装置を示す図である。この場合にも、前の実施例と同様に、液晶表示装置は、一対の基板12、14と、一対の基板12、14の間に挿入された負の誘電率異方性を有する液晶16と、液晶16の配向を制御するために一対の基板12、14の各々に設けられた線状の構造体(例えば突起30、32、スリット44、46)と、一対の基板12、14の外側にそれぞれ配置されている偏光板26、28とを備える。   FIG. 122 is a view showing a liquid crystal display device according to a tenth embodiment of the present invention. Also in this case, as in the previous embodiment, the liquid crystal display device includes a pair of substrates 12 and 14 and a liquid crystal 16 having a negative dielectric anisotropy inserted between the pair of substrates 12 and 14. In order to control the alignment of the liquid crystal 16, linear structures (for example, protrusions 30 and 32, slits 44 and 46) provided on each of the pair of substrates 12 and 14, and outside the pair of substrates 12 and 14 Polarizing plates 26 and 28 are provided.

図122は、上基板12の1つの線状の構造体(突起)30と、下基板14の1つの線状の構造体(突起)32とを示している。さらに、副壁構造96が一対の基板12、14の少なくとも一方に一対の基板の法線方向から見て一対の基板の線状の構造体30、32の間に設けられる。この実施例では、副壁構造96は下基板14に線状の構造体32と平行に線状の構造体32よりも幅の広いほぼ平坦な帯状の突起96Aとして形成される。線状の構造体32は副壁構造96の上に二段突起として形成される。帯状の突起96Aの幅は画素電極22の幅とほぼ等しく、線状の構造体32は副壁構造96の中心線上に延び、よって副壁構造96の側縁は画素電極22の中心を通る。一方向に変化するパラメータは帯状の突起96Aの高さである。   FIG. 122 shows one linear structure (projection) 30 of the upper substrate 12 and one linear structure (projection) 32 of the lower substrate 14. Further, the sub-wall structure 96 is provided on at least one of the pair of substrates 12 and 14 between the linear structures 30 and 32 of the pair of substrates as viewed from the normal direction of the pair of substrates. In this embodiment, the sub-wall structure 96 is formed on the lower substrate 14 as a substantially flat strip-shaped protrusion 96 </ b> A having a width wider than that of the linear structure 32 in parallel with the linear structure 32. The linear structure 32 is formed as a two-step protrusion on the sub-wall structure 96. The width of the strip-shaped protrusion 96 </ b> A is substantially equal to the width of the pixel electrode 22, and the linear structure 32 extends on the center line of the sub-wall structure 96, so that the side edge of the sub-wall structure 96 passes through the center of the pixel electrode 22. The parameter that changes in one direction is the height of the belt-like protrusion 96A.

この構成においては、副壁構造96の側縁では形状により液晶が斜めに配向する。さらに、副壁構造96の誘電率が液晶の誘電率と比較して小さい場合、,電界を印加すると、副壁構造96の誘電率と液晶の誘電率との差から、電界(電気力線EL)が傾斜し、液晶が斜めに配向する。液晶の傾斜が線状の構造体32ばかりでなく副壁構造96でも規制され、液晶の傾斜が電圧印加後直ちに画素全体に伝播するため、応答時間が短くなる。   In this configuration, the liquid crystal is obliquely aligned depending on the shape at the side edge of the sub-wall structure 96. Further, when the dielectric constant of the sub-wall structure 96 is smaller than the dielectric constant of the liquid crystal, when an electric field is applied, the electric field (electric field lines EL) ) Is inclined, and the liquid crystal is oriented obliquely. The tilt of the liquid crystal is restricted not only by the linear structure 32 but also by the sub-wall structure 96, and the tilt of the liquid crystal propagates to the entire pixel immediately after voltage application, so the response time is shortened.

図123は図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。この例では、副壁構造96は線状の構造体32に対して対向する基板12に設けた導電突起96Bからなる。一方向に変化するパラメータは対向基板12に形成した導電突起96Bの高さである。導電突起96Bの側縁では形状により液晶が斜めに配向する。さらに、導電突起96Bの形状から、電界を印加すると電界が傾斜して液晶が斜めに配向する。線状の構造体32ばかりでなく副壁構造96でも規制され、液晶の傾斜が電圧印加後直ちに画素全体に伝播するため、応答時間が短くなる。   FIG. 123 is a diagram showing a modification of the liquid crystal display device of FIG. In this example, the sub-wall structure 96 includes a conductive protrusion 96 </ b> B provided on the substrate 12 facing the linear structure 32. The parameter that changes in one direction is the height of the conductive protrusion 96 </ b> B formed on the counter substrate 12. At the side edge of the conductive protrusion 96B, the liquid crystal is obliquely aligned depending on the shape. Further, from the shape of the conductive protrusion 96B, when an electric field is applied, the electric field is inclined and the liquid crystal is obliquely aligned. Not only the linear structure 32 but also the sub-wall structure 96 is restricted, and the tilt of the liquid crystal propagates to the entire pixel immediately after the voltage is applied, so the response time is shortened.

図124は図122の液晶表示装置の製造方法を示す図である。(A)に示されるように、ガラス基板14にITO22を形成し、副壁構造96の帯状の突起96Aとなる膜96aを形成する。(B)に示されるように、マスクMを使用して、紫外線UVで突起用の膜96aを露光し、現像して副壁構造96の帯状の突起96Aを形成する(C)。(D)に示されるように、線状の構造体32となる膜32mを形成し、マスクMを使用して、紫外線UVで線状の構造体32の膜32mを露光し、現像して線状の構造体32を形成する(E)。   124 is a diagram showing a method of manufacturing the liquid crystal display device of FIG. As shown in (A), ITO 22 is formed on the glass substrate 14, and a film 96 a to be a strip-shaped protrusion 96 A of the sub-wall structure 96 is formed. As shown in (B), the projection film 96a is exposed to ultraviolet rays UV using a mask M and developed to form a strip-like projection 96A of the sub-wall structure 96 (C). As shown in (D), a film 32m to be a linear structure 32 is formed, and using the mask M, the film 32m of the linear structure 32 is exposed with ultraviolet UV, developed, and developed into a line. A shaped structure 32 is formed (E).

図125は図123の液晶表示装置の製造方法を示す図である。(A)に示されるように、ガラス基板12に副壁構造96の帯状の突起96Bとなる膜96bを形成する。(B)に示されるように、マスクMを使用して、紫外線UVで突起用の膜96bを露光し、現像して副壁構造96の帯状の突起96Bを形成する(C)。(D)に示されるように、画素電極22となるITOの膜を蒸着により形成し、それから、(E)に示されるように、線状の構造体30となる膜を形成する。   125 is a diagram showing a method of manufacturing the liquid crystal display device of FIG. As shown in FIG. 5A, a film 96b to be a band-shaped protrusion 96B of the sub-wall structure 96 is formed on the glass substrate 12. As shown in (B), the projection film 96b is exposed to ultraviolet rays UV using a mask M, and developed to form a strip-like projection 96B of the sub-wall structure 96 (C). As shown in (D), an ITO film to be the pixel electrode 22 is formed by vapor deposition, and then a film to be a linear structure 30 is formed as shown in (E).

図126は下基板14の線状の構造体がスリット46の例である。副壁構造96は線状の構造体46の対向側に形成した導電突起96Cからなる。スリット46からなる線状の構造体46は電気力線が同スリットに向かって広がる方向に生ずる。副壁構造96の誘電率が液晶と比較して低い場合、電気力線はスリット46に向かって広がる方向に生じる。   FIG. 126 shows an example in which the linear structure of the lower substrate 14 is a slit 46. The sub-wall structure 96 includes a conductive protrusion 96 </ b> C formed on the opposite side of the linear structure 46. The linear structure 46 formed by the slits 46 is generated in a direction in which electric lines of force spread toward the slits. When the dielectric constant of the subwall structure 96 is lower than that of the liquid crystal, the lines of electric force are generated in a direction spreading toward the slit 46.

図127は下基板14の線状の構造体がスリット46の例である。副壁構造96は図122の例と同様に線状の構造体46の下側に形成された帯状の突起96Aからなる。スリット46からなる線状の構造体46は電気力線が同スリットに向かって広がる方向に生ずる。副壁構造96の誘電率が液晶と比較して低い場合、電気力線はスリット46に向かって広がる方向に生じる。   FIG. 127 shows an example in which the linear structure of the lower substrate 14 is a slit 46. Similar to the example of FIG. 122, the sub-wall structure 96 includes a strip-shaped protrusion 96 </ b> A formed on the lower side of the linear structure 46. The linear structure 46 formed by the slits 46 is generated in a direction in which electric lines of force spread toward the slits. When the dielectric constant of the subwall structure 96 is lower than that of the liquid crystal, the lines of electric force are generated in a direction spreading toward the slit 46.

図128は副壁構造96が下基板14の上に二段に形成され帯状の突起96D、96Eからなる例である。下段側の帯状の突起96Dが上段側の帯状の突起96Eより幅が広く、線状の構造体32である突起32は上段側の帯状の突起96Eの上に形成されている。この場合には、二段に形成され帯状の突起96D、96Eの2つの側縁で液晶の傾斜配向を規制できる。この構成では、液晶の配向傾斜の伝播距離が2分の1から3分の1へ短くなるため、応答時間の改善が大きくなる。   FIG. 128 shows an example in which the sub-wall structure 96 is formed in two steps on the lower substrate 14 and includes band-shaped protrusions 96D and 96E. The lower belt-like projection 96D is wider than the upper belt-like projection 96E, and the projection 32, which is a linear structure 32, is formed on the upper belt-like projection 96E. In this case, the tilt alignment of the liquid crystal can be regulated by the two side edges of the belt-like protrusions 96D and 96E formed in two steps. In this configuration, since the propagation distance of the alignment tilt of the liquid crystal is shortened from one half to one third, the response time is greatly improved.

図129は副壁構造96が下基板14の線状の構造体32の下で厚さが大きく、線状の構造体32から遠ざかるにつれて厚さが小さくなるように外側へ向かって傾斜した帯状の突起96Fからなる。広い面積の帯状の突起96Fが傾斜しているため、広い面積にわたって、形状及び比誘電率の差によって、液晶の傾斜配向を規制できる。さらに、電圧無印加時におけるエッジの形状に起因するもれ光を小さくすることが可能となる。傾斜構造は感光性材料のリフローで形成することが可能である。   In FIG. 129, the sub-wall structure 96 has a band-like shape in which the thickness is increased under the linear structure 32 of the lower substrate 14 and is inclined outward so that the thickness decreases as the distance from the linear structure 32 increases. It consists of a protrusion 96F. Since the strip-shaped protrusion 96F having a large area is inclined, the tilt alignment of the liquid crystal can be regulated by the difference in shape and relative permittivity over a wide area. Furthermore, it is possible to reduce leakage light due to the shape of the edge when no voltage is applied. The inclined structure can be formed by reflowing a photosensitive material.

図130は下基板14上に起伏のある突起98を形成し、この突起98を線状の構造体32及び副壁構造96として作用させるようにした例である。起伏の周期を変化させてあり、一方向に変化するパラメータは起伏の周期である。起伏の周期が長くなると、液晶を傾斜配向させる規制力が平均的に弱くなる。さらに、電界分布も平均的に傾斜するので、液晶を傾斜配向させることが可能となる。従って、広い領域で液晶の傾斜配向を規制できる。   FIG. 130 shows an example in which undulating protrusions 98 are formed on the lower substrate 14, and the protrusions 98 act as the linear structures 32 and sub-wall structures 96. The undulation period is changed, and the parameter changing in one direction is the undulation period. As the undulation period becomes longer, the regulating force for tilting the liquid crystal becomes weak on average. Furthermore, since the electric field distribution is also inclined on average, the liquid crystal can be inclined and aligned. Therefore, the tilt alignment of the liquid crystal can be regulated in a wide area.

図131は下基板14上に誘電率を変化させた突起97を形成し、この突起97を線状の構造体32及び副壁構造96として作用させるようにした例である。突起97は比誘電率がε1、ε2、ε3と段階的に小さくした部分を含む。比誘電率が変化している領域で電界傾斜が発生するため、液晶の傾斜配向を規制できる。突起97の比誘電率を連続的に変化させてもよい。   FIG. 131 shows an example in which a protrusion 97 having a changed dielectric constant is formed on the lower substrate 14, and this protrusion 97 acts as the linear structure 32 and the sub-wall structure 96. The protrusion 97 includes a portion whose relative dielectric constant is gradually reduced to ε1, ε2, and ε3. Since the electric field tilt occurs in the region where the relative dielectric constant changes, the tilt alignment of the liquid crystal can be regulated. The relative dielectric constant of the protrusion 97 may be continuously changed.

図132は抵抗率が低い導体99Aと抵抗率が高い導体99Bとで画素電極22を構成した実施例である。抵抗率が低い導体99Aは抵抗率が高い導体99Bよりも幅が狭く、抵抗率が高い導体99Bで覆われ、抵抗率が高い導体99Bの中心部に位置する。これによれば、対向基板側の電極18の静電容量と導体抵抗率が高い導体99Bとの時定数で決まる時間で電荷が導体99Bから拡散する過程で、電界傾斜が発生するため、液晶の傾斜配向を規制できる。   FIG. 132 shows an example in which the pixel electrode 22 is composed of a conductor 99A having a low resistivity and a conductor 99B having a high resistivity. The conductor 99A having a low resistivity is narrower than the conductor 99B having a high resistivity, is covered with the conductor 99B having a high resistivity, and is located at the center of the conductor 99B having a high resistivity. According to this, since the electric field gradient is generated in the process in which the charge is diffused from the conductor 99B in the time determined by the time constant of the capacitance of the electrode 18 on the counter substrate side and the conductor 99B having a high conductor resistivity, The tilt orientation can be regulated.

図133(A)〜(C)は副壁構造96としての突起の端の形状に凹凸を形成した実施例を示す図である。(A)では副壁構造96としての突起の端の形状は三角波状96Hに形成される。(B)では副壁構造96としての突起の端の形状は曲線状96Iに形成される。(C)では副壁構造96としての突起の端の形状は矩形波状96Jに形成される。突起の端の形状に凹凸を形成することによって、液晶の配向を安定化することができる。液晶が傾斜配向するとき、配向は突起に平行に配向しようとする。副壁構造96では、液晶は突起に対して垂直に配向する必要がある。突起の端の形状に凹凸があると、突起に平行になろうとする力が互いに打ち消し合って、結果的に液晶は突起に対して垂直に配向する。   133A to 133C are views showing an embodiment in which irregularities are formed in the shape of the end of the projection as the sub-wall structure 96. FIG. In (A), the shape of the end of the protrusion as the sub-wall structure 96 is formed in a triangular wave shape 96H. In (B), the shape of the end of the projection as the auxiliary wall structure 96 is formed in a curved shape 96I. In (C), the shape of the end of the protrusion as the sub-wall structure 96 is formed in a rectangular wave shape 96J. By forming irregularities in the shape of the ends of the protrusions, the alignment of the liquid crystal can be stabilized. When the liquid crystal is tilted, the alignment tends to be aligned parallel to the protrusions. In the sub-wall structure 96, the liquid crystal needs to be aligned perpendicular to the protrusions. If the shape of the end of the protrusion is uneven, forces that try to be parallel to the protrusion cancel each other, and as a result, the liquid crystal is aligned perpendicular to the protrusion.

図134は(A)〜(C)は副壁構造96としての突起の断面を規定した実施例を示す図である。(A)では副壁構造96としての突起の断面の形状を台形形状96Kに形成している。(B)では副壁構造96としての突起の断面の形状を円弧形状96Lに形成している。(C)では副壁構造96としての突起の断面の形状を曲線形状96Mに形成している。このようにすることによって、液晶の傾斜配向を規制する領域を広げることが可能になる。さらに、断面が急峻であると、電圧無印加時において、形状により液晶配向に乱れが生じる。断面の形状を滑らかにすると、エッジによる配向不良に起因するもれ光を小さくすることが可能になった。   FIGS. 134A to 134C are views showing an embodiment in which a cross section of a projection as the auxiliary wall structure 96 is defined. In (A), the cross-sectional shape of the protrusion as the sub-wall structure 96 is formed in a trapezoidal shape 96K. In (B), the shape of the cross section of the projection as the sub-wall structure 96 is formed in an arc shape 96L. In (C), the shape of the cross section of the protrusion as the sub-wall structure 96 is formed into a curved shape 96M. By doing in this way, it becomes possible to expand the area | region which controls the inclination orientation of a liquid crystal. Furthermore, when the cross section is steep, the liquid crystal alignment is disturbed depending on the shape when no voltage is applied. When the cross-sectional shape is made smooth, it becomes possible to reduce the leakage light caused by the alignment failure due to the edge.

図122から図134を参照して説明した実施例に対してさらなる実施例を構成することができる。例えば、上記実施例では液晶の傾斜配向を規制する構造を一方の基板側のみに形成していたが、液晶の傾斜配向を規制する構造を両基板に形成することもできる。そうすると、画素内のセル厚が比較的に均一になり、光学特性が均一になる。さらに、液晶の傾斜配向を規制する力が強くなる。   Further embodiments can be configured for the embodiments described with reference to FIGS. 122-134. For example, in the above embodiment, the structure that regulates the tilt alignment of the liquid crystal is formed only on one substrate side, but the structure that regulates the tilt orientation of the liquid crystal can be formed on both substrates. If it does so, the cell thickness in a pixel will become comparatively uniform, and an optical characteristic will become uniform. Further, the force for regulating the tilt alignment of the liquid crystal becomes strong.

また、TFTで液晶を駆動する場合、突起を窒化シリコンなどのゲート絶縁膜や最終保護膜で形成することにより、突起の製造プロセスを簡略化することが可能になる。液晶中にカイラル材を添加すると、電界を小さくしたときの液晶の応答時間を短くすることが可能になる。液晶のツイストエネルギーによって液晶配向の戻りが早くなる。   In addition, when the liquid crystal is driven by the TFT, the protrusion manufacturing process can be simplified by forming the protrusion with a gate insulating film such as silicon nitride or a final protective film. When a chiral material is added to the liquid crystal, the response time of the liquid crystal when the electric field is reduced can be shortened. The return of the liquid crystal alignment is accelerated by the twist energy of the liquid crystal.

このように、液晶の配向を制御する線状の構造体の間に線状の構造体から一方向にパラメータが増加あるいは減少する第2の液晶の傾斜配向規制手段(副壁構造)を形成することにより、液晶配向の傾斜方向を規制することができ、黒表示から白表示への遷移における液晶配向の傾斜方向の伝播速度が短くなるため、応答時間を短くすることができ、係わる表示装置の表示性能に寄与するところが大きい。   In this way, the second liquid crystal tilt alignment regulating means (sub-wall structure) in which the parameter increases or decreases in one direction from the linear structure between the linear structures that control the alignment of the liquid crystal is formed. Therefore, the tilt direction of the liquid crystal alignment can be regulated, and the propagation speed in the tilt direction of the liquid crystal alignment at the transition from black display to white display is shortened, so that the response time can be shortened. It greatly contributes to display performance.

以上説明したように、本発明によれば、輝度が向上し、また応答速度の速い液晶表示装置を作製することが可能となる。線状の構造体上に形成される全ドメインの配向方向を定めることができ、ドメインの経時変化を抑制できることによって、オーバーシュートを改善することができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to manufacture a liquid crystal display device with improved luminance and quick response speed. The orientation direction of all the domains formed on the linear structure can be determined, and the change with time of the domains can be suppressed, so that overshoot can be improved.

液晶表示装置を示す略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a liquid crystal display device. 液晶の配向を制御するための線状の構造体を有する垂直配向式液晶表示装置を示す略断面図である。It is a schematic sectional view showing a vertical alignment type liquid crystal display device having a linear structure for controlling the alignment of liquid crystal. 1画素と線状の構造体を示す平面図である。It is a top view which shows 1 pixel and a linear structure. 図2及び図3の線状の構造体に従って電圧印加時に倒れた液晶分子を示す図である。It is a figure which shows the liquid crystal molecule which fell down in the voltage application according to the linear structure of FIG.2 and FIG.3. 線状の構造体の他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of a linear structure. 一対の基板の線状の構造体がともに突起である場合の液晶表示装置を示す略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a liquid crystal display device when both the linear structures of a pair of board | substrate are protrusions. 一方の基板の線状の構造体が突起であり且つ他方の基板の線状の構造体がスリット構造である場合の液晶表示装置を示す略断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal display device when the linear structure of one substrate is a protrusion and the linear structure of the other substrate is a slit structure. 一対の基板の線状の構造体がともにスリット構造である場合の液晶表示装置を示す略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a liquid crystal display device when both the linear structures of a pair of board | substrate are slit structures. 突起である線状の構造体の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of the linear structure which is protrusion. スリット構造である線状の構造体の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of the linear structure which is a slit structure. 線状の構造体を有する液晶表示装置の配向の問題点を説明する図である。It is a figure explaining the problem of the orientation of the liquid crystal display device which has a linear structure. 図11の幾つかの領域での透過率を示す図である。It is a figure which shows the transmittance | permeability in several area | regions of FIG. 輝度のオーバーシュートを示す図である。It is a figure which shows the luminance overshoot. 本発明の第1実施例による線状の構造体の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the linear structure by 1st Example of this invention. 線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a linear structure. 図22の画素電極とスリット構造を示す図である。It is a figure which shows the pixel electrode and slit structure of FIG. 突起からなる線状の構造体の形成を説明する図である。It is a figure explaining formation of the linear structure which consists of protrusions. 線状の構造体を有する液晶表示装置の液晶の配向を示す図である。It is a figure which shows the orientation of the liquid crystal of the liquid crystal display device which has a linear structure. 図24の構成における表示特性を示す図である。It is a figure which shows the display characteristic in the structure of FIG. 複数の構成単位からなる線状の構造体を有する液晶表示装置の液晶の配向を示す図である。It is a figure which shows the orientation of the liquid crystal of the liquid crystal display device which has a linear structure which consists of a some structural unit. 図26の構成における表示特性を示す図である。It is a figure which shows the display characteristic in the structure of FIG. 本発明の第2実施例による線状の構造体を有する液晶表示装置の液晶の配向を示す図である。It is a figure which shows the orientation of the liquid crystal of the liquid crystal display device which has a linear structure by 2nd Example of this invention. 図28の構成における表示特性を示すを示す図である。It is a figure which shows the display characteristic in the structure of FIG. 第1のタイプの配向の境界の特徴及び第2のタイプの配向の境界の特徴を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a first type orientation boundary feature and a second type orientation boundary feature. 図28の線状の構造体の具体例を示す平面図である。It is a top view which shows the specific example of the linear structure of FIG. 図31の線状の構造体を通る断面図である。It is sectional drawing which passes along the linear structure of FIG. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 図33の線状の構造体を通る断面図である。It is sectional drawing which passes along the linear structure of FIG. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 液晶表示装置の画素電極のエッジ近くの部分の断面図である。It is sectional drawing of the part near the edge of the pixel electrode of a liquid crystal display device. 図38の画素電極のエッジにおける液晶の配向を示す図である。It is a figure which shows the orientation of the liquid crystal in the edge of the pixel electrode of FIG. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 本発明の第3実施例による線状の構造体を示す平面図である。It is a top view which shows the linear structure by 3rd Example of this invention. 図43の線状の構造体を通る液晶表示装置の断面図である。FIG. 44 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device that passes through the linear structure in FIG. 43. 図44の線状の構造体の近傍の液晶の配向を示す図である。It is a figure which shows the orientation of the liquid crystal of the vicinity of the linear structure of FIG. 第1実施例の線状の構造体の近傍の液晶の配向を示す図である。It is a figure which shows the orientation of the liquid crystal of the vicinity of the linear structure of 1st Example. 線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the linear structure and the control means of orientation of a boundary. 線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the linear structure and the control means of orientation of a boundary. 線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the linear structure and the control means of orientation of a boundary. 線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the linear structure and the control means of orientation of a boundary. 線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the linear structure and the control means of the orientation of a boundary. 図51の線52−52に沿った断面図である。FIG. 52 is a cross-sectional view taken along line 52-52 of FIG. 51. 図51の線53−53に沿った断面図である。FIG. 53 is a cross-sectional view taken along line 53-53 of FIG. 51. 線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the linear structure and the control means of the orientation of a boundary. 図54の線状の構造体を通る液晶表示装置の断面図である。FIG. 55 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device that passes through the linear structure in FIG. 54. 線状の構造体及び境界の配向の制御手段の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the linear structure and the control means of the orientation of a boundary. 図56の線状の構造体を通る液晶表示装置の断面図図である。FIG. 57 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device that passes through the linear structure in FIG. 56. 本発明の第4実施例による線状の構造体を示す平面図である。It is a top view which shows the linear structure by 4th Example of this invention. 図58の線59−59を通る液晶表示装置の略断面図である。FIG. 59 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device taken through line 59-59 in FIG. 58. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 図60のスリット構造をもった画素電極を示す平面図である。FIG. 61 is a plan view showing a pixel electrode having the slit structure of FIG. 60. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 本発明の第5実施例による線状の構造体を示す平面図である。It is a top view which shows the linear structure by 5th Example of this invention. 屈曲のある線状の構造体の典型的な例を示す平面図である。It is a top view which shows the typical example of the linear structure with a bending. 図67の線状の構造体を有する液晶表示装置の問題点を説明する図である。FIG. 68 is a diagram illustrating a problem of a liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 67. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 線状の構造体の変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a linear structure. 本発明の第6実施例による液晶表示装置の線状の構造体と偏光板との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the linear structure of the liquid crystal display device by 6th Example of this invention, and a polarizing plate. 図75の構成における表示の明るさを示す図である。FIG. 76 is a diagram showing display brightness in the configuration of FIG. 75. 液晶の配向を制御するための線状の構造体を有する液晶表示装置において微小な領域毎の液晶のダイレクタの角度とその頻度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the angle of the director of the liquid crystal for every micro area | region, and its frequency in the liquid crystal display device which has a linear structure for controlling the orientation of a liquid crystal. 図75の実施例の変形例の液晶表示装置の線状の構造体と偏光板との関係を示す図である。FIG. 76 is a diagram showing a relationship between a linear structure and a polarizing plate of a liquid crystal display device according to a modified example of the example in FIG. 75. 図78の液晶表示装置の断面図である。FIG. 79 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG. 78. 図75の実施例の変形例の液晶表示装置の線状の構造体と偏光板との関係を示す図である。FIG. 76 is a diagram showing a relationship between a linear structure and a polarizing plate of a liquid crystal display device according to a modified example of the example in FIG. 75. 図80の液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device of FIG. 本発明の第7実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。It is a figure which shows the linear structure of the liquid crystal display device by 7th Example of this invention. 図82の液晶表示装置の線83─83に沿った断面図である。FIG. 83 is a cross-sectional view taken along line 83-83 of the liquid crystal display device of FIG. 図82の線状の構造体のより具体化した例を示す図である。FIG. 83 is a diagram showing a more specific example of the linear structure in FIG. 82. 図82の線状の構造体の比較例を示す図である。FIG. 83 is a diagram showing a comparative example of the linear structure in FIG. 82. 図28の線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear structure of FIG. 図86の線状の構造体を有する液晶表示装置の線87─87に沿った断面図である。FIG. 87 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 86 taken along line 87-87. 本発明の第8実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。It is a figure which shows the linear structure of the liquid crystal display device by 8th Example of this invention. 図88の線状の構造体を有する液晶表示装置の線87─87に沿った断面図である。FIG. 89 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 88 taken along line 87-87. 図88の線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear structure of FIG. 図89の線状の構造体を有する液晶表示装置を通る断面図である。FIG. 90 is a cross-sectional view through a liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 図88の線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear structure of FIG. 図92の線状の構造体の断面図である。FIG. 93 is a cross-sectional view of the linear structure in FIG. 92. 図93の線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear structure of FIG. 図88の線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear structure of FIG. 図95の線状の構造体を有する液晶表示装置を通る断面図である。FIG. 96 is a cross-sectional view through a liquid crystal display device having the linear structure of FIG. 95. 図88の線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear structure of FIG. 図88の線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear structure of FIG. 本発明の第9実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。It is a figure which shows the linear structure of the liquid crystal display device by 9th Example of this invention. 図99の線状の構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear structure of FIG. 線状の構造体を有する液晶表示装置における指押しの問題点を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the problem of finger pressing in the liquid crystal display device which has a linear structure. 指押しの問題点が生じやすい例を示す図である。It is a figure which shows the example which is easy to produce the problem of finger pressing. 図99の第1のタイプの境界を形成する手段の例を示す図である。FIG. 100 is a diagram showing an example of a means for forming the first type boundary of FIG. 99. 図103の第1のタイプの境界を形成する手段を有する液晶表示装置を示す図解的斜視図である。FIG. 104 is an illustrative perspective view showing a liquid crystal display device having means for forming the first type boundary of FIG. 103. 図99の第2のタイプの境界を形成する手段の例を示す図である。FIG. 99 is a diagram showing an example of means for forming the second type boundary of FIG. 99. 図105の第2のタイプの境界を形成する手段を有する液晶表示装置を示す図解的斜視図である。FIG. 106 is a schematic perspective view showing a liquid crystal display device having means for forming the second type boundary of FIG. 105. 図99の第1のタイプの境界を形成する手段の例を示す図である。FIG. 100 is a diagram showing an example of a means for forming the first type boundary of FIG. 99. 図99の第2のタイプの境界を形成する手段の例を示す図である。FIG. 99 is a diagram showing an example of means for forming the second type boundary of FIG. 99. 本発明の第10実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。It is a figure which shows the linear structure of the liquid crystal display device by 10th Example of this invention. 図109の液晶表示装置の線110─110に沿った断面図である。FIG. 110 is a cross-sectional view taken along line 110-110 of the liquid crystal display device of FIG. 109. 図109の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図109の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図112の液晶表示装置の線113─113に沿った断面図である。FIG. 113 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG. 112 taken along line 113-113. 図109の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図114の液晶表示装置の線115─115に沿った断面図である。FIG. 115 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of FIG. 114 taken along line 115-115. 線状の構造体及び副壁構造を有する基板の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the board | substrate which has a linear structure and a subwall structure. 線状の構造体及び副壁構造を有する基板の製造方法の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the manufacturing method of the board | substrate which has a linear structure and a subwall structure. 図111の液晶表示装置において副壁構造(スリット)の幅を一定にして副壁構造(スリット)の間隔を変えたときの応答性を示す図である。FIG. 111 is a diagram showing responsiveness in the liquid crystal display device of FIG. 111 when the width of the sub-wall structure (slit) is constant and the interval of the sub-wall structure (slit) is changed. 図111の液晶表示装置において副壁構造(スリット)の間隔を一定にして副壁構造(スリット)の幅を変えたときの応答性を示す図である。FIG. 111 is a diagram showing responsiveness when the width of the sub-wall structure (slit) is changed while the interval of the sub-wall structure (slit) is made constant in the liquid crystal display device of FIG. 図112の液晶表示装置において副壁構造(突起)の大きさを一定にして副壁構造(突起)の間隔を変えたときの応答性を示す図である。FIG. 113 is a diagram showing responsiveness in the liquid crystal display device of FIG. 112 when the size of the sub-wall structure (projection) is constant and the interval between the sub-wall structures (projections) is changed. 図112の液晶表示装置において副壁構造(突起)の間隔を一定にして副壁構造(突起)の大きさを変えたときの応答性を示す図である。FIG. 113 is a diagram illustrating responsiveness when the size of the sub-wall structure (projection) is changed while the interval between the sub-wall structures (projections) is constant in the liquid crystal display device of FIG. 本発明の第10実施例による液晶表示装置の線状の構造体を示す図である。It is a figure which shows the linear structure of the liquid crystal display device by 10th Example of this invention. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図122の液晶表示装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the liquid crystal display device of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG. 図43の線状の配向規制構造体の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the linear alignment control structure of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

12、14 基板
16 液晶
18、22 電極
20、24 垂直配向膜
26、28 偏光板
30、32 線状の構造体(突起)
30S、32S 構成単位
42 斜め電界
44、46 線状の構造体(スリット構造)
44S、46S 構成単位
12, 14 Substrate 16 Liquid crystal 18, 22 Electrode 20, 24 Vertical alignment film 26, 28 Polarizing plate 30, 32 Linear structure (protrusion)
30S, 32S constitutional unit 42 oblique electric field 44, 46 linear structure (slit structure)
44S, 46S constitutional unit

Claims (11)

複数の画素を有する液晶表示装置であって、
第1基板と、前記第1基板に対向して設けられた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に配置された液晶層とを備え、
前記第1基板は、液晶の配向を制御する線状の第1構造体、第2構造体、及び補助構造体を含み、
前記第2基板は、液晶の配向を制御する線状の第3構造体及び第4構造体を含み、
前記第1構造体、前記第2構造体、及び前記補助構造体は、1つの画素の中で互いに異なる方向に延びており、
前記第3構造体は前記第1構造体と平行に、前記第4構造体は前記第2構造体と平行に、それぞれ前記画素の中で延びており、
前記第1構造体、前記第2構造体、前記第3構造体、及び前記第4構造体は、いずれも前記画素のエッジが延びる方向とは異なる方向に延びている液晶表示装置。
A liquid crystal display device having a plurality of pixels,
A first substrate, a second substrate provided opposite to the first substrate, and a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate,
The first substrate includes a linear first structure, a second structure, and an auxiliary structure that control alignment of liquid crystal,
The second substrate includes a linear third structure and a fourth structure that control alignment of liquid crystal,
The first structure, the second structure, and the auxiliary structure extend in different directions in one pixel,
The third structure extends in the pixel in parallel with the first structure, and the fourth structure extends in parallel with the second structure.
The first structure, the second structure, the third structure, and the fourth structure are all liquid crystal display devices that extend in a direction different from the direction in which the edge of the pixel extends .
前記第1構造体と前記第2構造体が屈曲部を介して連続して形成されている、請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first structure body and the second structure body are continuously formed via a bent portion . 前記補助構造体が、前記屈曲部の鈍角側に延びている、請求項2に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the auxiliary structure extends to an obtuse angle side of the bent portion . 前記補助構造体は、前記第1構造体が延びる方向と前記第2構造体が延びる方向との間の角度を2等分する方向に延びている、請求項3に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the auxiliary structure extends in a direction that bisects an angle between a direction in which the first structure extends and a direction in which the second structure extends . 前記補助構造体が、前記屈曲部の鋭角側に延びている、請求項2に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 2 , wherein the auxiliary structure extends to an acute angle side of the bent portion . 前記補助構造体は、前記第1構造体が延びる方向と前記第2構造体が延びる方向との間の角度を2等分する方向に延びている、請求項5に記載の液晶表示装置。 6. The liquid crystal display device according to claim 5 , wherein the auxiliary structure extends in a direction that bisects an angle between a direction in which the first structure extends and a direction in which the second structure extends . 前記第1基板は共通電極を有し、
前記第1構造体及び前記第2構造体が、前記共通電極の上に形成された突起、又は前記共通電極に形成されたスリットである、請求項1から6のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
The first substrate has a common electrode;
The liquid crystal according to any one of claims 1 to 6, wherein the first structure and the second structure are protrusions formed on the common electrode or slits formed on the common electrode. Display device.
前記補助構造体が、前記共通電極の上に形成された突起、又は前記共通電極に形成されたスリットである、請求項7に記載の液晶表示装置。 It said auxiliary structure, protrusions formed on the common electrode, or a slit formed in the common electrode, the liquid crystal display device according to claim 7. 前記第2基板が、液晶の配向を制御する構造体であって、前記第3構造体及び前記第4構造体と異なる方向に延びる第2の補助構造体を有する、請求項1から8のいずれか1項に記載の液晶表示装置。 The said 2nd board | substrate is a structure which controls the orientation of a liquid crystal, Comprising: The any one of Claim 1 to 8 which has the 2nd auxiliary | assistant structure extended in a different direction from the said 3rd structure and the said 4th structure. 2. A liquid crystal display device according to item 1 . 前記第2基板は画素電極を有し、前記第3構造体、前記第4構造体、及び前記第2の補助構造体が、前記画素電極の上に形成された突起、又は前記画素電極に形成されたスリットである、請求項9に記載の液晶表示装置。 The second substrate includes a pixel electrode, and the third structure, the fourth structure, and the second auxiliary structure are formed on a protrusion formed on the pixel electrode or the pixel electrode. The liquid crystal display device according to claim 9, wherein the liquid crystal display device is a slit . 前記第1構造体が延びる方向と前記第2構造体が延びる方向との間の角度が約90°である、請求項1から10のいずれか1項に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein an angle between a direction in which the first structure extends and a direction in which the second structure extends is about 90 ° .
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