JP3969197B2 - Laser irradiation device - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コヒーレント性の高いレーザ光源を用いて照射対象物を均一に照射するレーザ照射装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図3は、レーザ照射装置の模式図である。この図において、レーザコントローラー51により制御されたレーザ光源52により、レーザビーム1を発生・放射する。このレーザビーム1は、光学系54とホモジナイザ55を通り、ミラー56で下向きに反射され、反応容器57に設けられた開口(図示せず)を通して、基板58の上面に照射される。
【0003】
レーザビーム1は、例えばミラー56の揺動又は光学系54の移動により基板上を走査する。また、ステージコントローラー59により、基板58を二次元的に移動できるようになっている。更に、反応容器57(チャンバー)内はポンプ系60及びガス導入部61により所定のガス雰囲気にコントロールされる。
【0004】
図4は図3の光学系54とホモジナイザ55の平面図である。
【0005】
この例において、光学系54は、レーザビーム1の幅(図で上下方向)を広げるエキスパンダ54a(シリンドリカル凹レンズ)とレーザビームを平行光に戻すシリンドリカル凸レンズ54bからなる。また、ホモジナイザ55は、複数のシリンドリカルレンズからなるシリンドリカルレンズアレイ55aとフォーカシングレンズ55bからなる。焦点面Sは図3の例では基板58の上面であり、ミラー56は焦点面Sとフォーカシングレンズ55bの間に位置する。
【0006】
図4の構成により、レーザ光源52から出射した円形断面のレーザビーム1aは、エキスパンダ54aとシリンドリカル凸レンズ54bにより細長いレーザビーム1bとなってシリンドリカルレンズアレイ55aに入射する。レンズアレイ55aに入射したコリーメート光(レーザビーム1b)は、矩形レンズ群により矩形のビームプロファイルを持つビーム群1cに分割され、各ビーム群はレンズアレイ55aにより集光され、焦点面を越えたあと広がる。フォーカシングレンズ55b(凸レンズ)は各ビーム群1cを屈折させ焦点面S上に集光する。
【0007】
従って、焦点面Sでは、すべてのビーム群53cが重なり合って強度分布の均質化が生じ、平準化された強度分布を得ることができる。なお、シリンドリカル凸レンズ54bの代わりにシリンドリカル凹レンズを用いることもできる。
【0008】
なお、関連する技術として「光束インコヒーレント装置」(特開61−75523号)、「レーザビーム照射の均一性を向上する方法」(特開平10−314970号)等が開示されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述した従来のレーザ照射装置において、レーザ光源にYAGレーザ等のコヒーレント性の高い光源を用いると、レーザビームがホモジナイザを透過した後で干渉作用が生じて照射対象物を均一に照射できないという問題点があった。さらに、ホモジナイザを構成するレンズアレイは、個々に製作されたレンズを張り合わせたものであり、これにレーザビームを入射させると各レンズの接合面にて回折光や反射光による干渉縞が発生する。そのため、高いビーム均一性が得られない問題点があった。
【0010】
本発明は上述した問題点を解決するために創案されたものである。すなわち本発明の目的は、コヒーレント性の高いレーザ光源を用いても接合面にて回折光や反射光による干渉縞が発生せず、照射対象物を均一に照射できるレーザ照射装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、レーザビームを円形断面形状から直線断面形状に変形して照射対象物に照射するレーザ照射装置において、円形断面形状のレーザビームを出射するレーザ光源と、該レーザビームを直線断面形状に変形するレンズ系と、該レンズ系を出たレーザビームの強度分布均質化するホモジナイザと、該ホモジナイザとレンズ系の間に設けられレーザビームの干渉作用を低減する干渉低減装置と、を備え、前記ホモジナイザは、複数のシリンドリカルレンズから構成されるシリンドリカルレンズアレイとフォーカシングレンズからなり、前記干渉低減装置は、前記シリンドリカルレンズアレイを構成する複数のシリンドリカルレンズの各々の幅Bと等しい幅Bを有しコヒーレント長よりも長い所定の長さXだけ順次長くした複数の透明ガラス板からなる光路長補正部材と、該光路長補正部材を構成する複数の透明ガラス板の境界面に入射するレーザビームを遮蔽するフォトマスクとからなる、ことを特徴とするレーザ照射装置が提供される。
【0013】
前記フォトマスクは、ガラス基板上にレーザビームを吸収する薄膜を蒸着し、部分的にエッチング処理したメタルマスクである。
【0014】
上記本発明の構成によれば、光路長補正部材シリンドリカルレンズアレイを構成する複数のシリンドリカルレンズの各々の幅と等しい幅Bを有しコヒーレント長よりも長い所定の長さXだけ順次長くした複数の透明ガラス板からなるので、それぞれのシリンドリカルレンズに分割されたレーザビームに対する光路がガラスの長さ分だけ長くなり、それぞれのレーザビームはコヒーレント長より長い距離の光路差が生じるので、コヒーレント性の影響がなくなり、ビームは互いに干渉しなくなる。
【0015】
また、フォトマスクが光路長補正部材を構成する複数の透明ガラス板の境界面に入射するレーザビームを遮蔽するので、境界面での回折、反射光の発生を防止し、回折および反射光と入射光との照射面における干渉を防止することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施形態を図面を参照して説明する。なお、各図において共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。
【0017】
図1は、本発明によるレーザ照射装置の構成図であり、図2は図1の主要部の構成図である。図1及び図2に示すように、本発明のレーザ照射装置10はレーザビーム1を円形断面形状から直線断面形状に変形して照射対象物に照射するレーザ照射装置であり、レーザ光源12、レンズ系14、干渉低減装置20を備える。
【0018】
レーザ光源12は、円形断面形状のレーザビーム1aを出射するレーザ発振器である。レーザ光源12は、コヒーレント性の高いYAGレーザ装置に限定されず、多モード発振のエキシマレーザ装置であってもよい。
【0019】
レンズ系14は、レーザビーム1の幅(図で上下方向)を広げるエキスパンダ14a(シリンドリカル凹レンズ)とレーザビームを平行光に戻すシリンドリカル凸レンズ14bからなり、円形断面形状のレーザビーム1aを直線断面形状に変形する。なお、シリンドリカル凸レンズ14bの代わりにシリンドリカル凹レンズを用いてもよい。
この構成により、レーザ光源12から出射した円形断面のレーザビーム1aは、エキスパンダ14aとシリンドリカル凸レンズ14bにより細長い直線断面形状のレーザビーム1bとなる。
【0020】
ホモジナイザ16は、複数のシリンドリカルレンズ16aからなるシリンドリカルレンズアレイ16aとフォーカシングレンズ16bからなり、レーザビーム1bの強度分布の均質化する。焦点面Sは図3の例では基板58の上面であり、ミラー56は焦点面Sとフォーカシングレンズ55bの間に位置する。
【0021】
干渉低減装置20は、フォトマスク21と光路長補正部材22からなり、レンズ系14とホモジナイザ16の間に設けられる。
【0022】
フォトマスク21は、光路長補正部材22(後述する複数の透明ガラス板22a)の境界面に入射するレーザビームを遮蔽する。フォトマスク21は、ガラス基板21a(例えば石英ガラス)の表面にCrなど光を吸収する薄膜21bを10nmから100nm程度の厚さに蒸着して、吸収したい部分以外をエッチング処理で除去したメタルマスクであるのがよい。
なおメタルマスクは、薄膜21bがレーザビームを吸収する特性を有し、かつ厚さがレーザビームの波長より十分小さい限りで、周知のマスクを用いることができる。
【0023】
機械加工などで作製したマスクは、その製作精度から膜厚が数10μm程度と厚く、そのため、膜厚がレーザビームの波長(例えば532nm)より大きく、マスク面(特に厚さ面)からの回折や反射が発生するおそれがある。一方、本発明のフォトマスク21では、膜厚が数10nm程度であるため、レーザビームの波長より十分小さく、回折、反射はほとんど起こらない。また、Cr膜の場合、マスクの透過率は波長532nmのレーザで約0.1%であり十分に小さい。
【0024】
光路長補正部材22は複数の透明ガラス板22aからなり、この透明ガラス板22aは、シリンドリカルレンズアレイ16aを構成する複数のシリンドリカルレンズの各々の幅と等しい幅Bを有する。すなわち、フォトマスク21の薄膜21bの間隔と、透明ガラス板22aの幅と、シリンドリカルレンズ16aは全て幅Bになっている。
また、複数の透明ガラス板22aも長さは、コヒーレント長よりも長い所定の長さXだけ順次長くしなっている。なおこの例では、複数の透明ガラス板22aの長さを片側から順に長くしているが、本発明はこれに限定されず、中央から逆に長く配置しても、ランダムに配置してもよい。更に、透明ガラス板22aの数は、この例では7つであるが、シリンドリカルレンズ16aの数と一致する限りで、6以下でも、8以上でもよい。
【0025】
上述した本発明の構成によれば、レーザ光源12から出射した円形断面のレーザビーム1aは、エキスパンダ14aとシリンドリカル凸レンズ14bにより細長いレーザビーム1bとなって光路長補正部材22の個々の透明ガラス板22aに入射する。
【0026】
フォトマスク21は透明ガラス板22aの前に位置するので、透明ガラス板22aの境界面に入射するレーザビームを薄膜21bで遮蔽し、薄膜21bにより境界面での回折、反射光の発生を防止し、回折および反射光と入射光との照射面における干渉を防止する。
【0027】
また、光路長補正部材22がホモジナイザ16を構成するシリンドリカルレンズ16aと等しい幅Bを有しコヒーレント長よりも長い所定の長さXだけ順次長くした複数の透明ガラス板22aからなるので、それぞれのシリンドリカルレンズ16aに分割されたレーザビームに対する光路がガラスの長さ分だけ長くなり、それぞれのレーザビームはコヒーレント長より長い距離の光路差が生じるので、コヒーレント性の影響がなくなり、ビームは互いに干渉しなくなる。
【0028】
次いで、光路長補正部材22を通過したレーザビームは、分割されたまま、レンズアレイ15aに入射し、矩形レンズ群により矩形のビームプロファイルを持つビーム群1cに分割され、各ビーム群はレンズアレイ15aにより集光され、焦点面を越えたあと広がる。フォーカシングレンズ15b(凸レンズ)は各ビーム群1cを屈折させ焦点面S上に集光する。
従って、焦点面Sでは、すべてのビーム群13cが重なり合って強度分布の均質化が生じ、平準化された強度分布を得ることができる。
【0029】
なお、本発明は上述した実施例及び実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更できることは勿論である。
【0030】
【発明の効果】
上述したように、本発明のレーザ照射装置は、コヒーレント性の高いレーザ光源を用いても接合面にて回折光や反射光による干渉縞が発生せず、照射対象物を均一に照射できる等の優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるレーザ照射装置の構成図である。
【図2】図1の主要部の構成図である。
【図3】従来のレーザ照射装置の模式図である。
【図4】図3の主要部の構成図である。
【符号の説明】
1、1a、1b、1c レーザビーム、
10 レーザ照射装置、12 レーザ光源、
14 レンズ系、14a エキスパンダ、
14b シリンドリカル凸レンズ、
16 ホモジナイザ、
16a シリンドリカルレンズアレイ、
16b フォーカシングレンズ、
20 干渉低減装置、
21 フォトマスク、21aガラス基板、21b 薄膜、
22 光路長補正部材、22a 透明ガラス板
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laser irradiation apparatus that uniformly irradiates an irradiation object using a laser light source having high coherency.
[0002]
[Prior art]
FIG. 3 is a schematic diagram of a laser irradiation apparatus. In this figure, a laser beam 1 is generated and emitted by a laser light source 52 controlled by a laser controller 51. The laser beam 1 passes through the optical system 54 and the homogenizer 55, is reflected downward by the mirror 56, and is irradiated onto the upper surface of the substrate 58 through an opening (not shown) provided in the reaction vessel 57.
[0003]
The laser beam 1 scans the substrate by, for example, swinging the mirror 56 or moving the optical system 54. The stage controller 59 can move the substrate 58 two-dimensionally. Further, the inside of the reaction vessel 57 (chamber) is controlled to a predetermined gas atmosphere by the pump system 60 and the gas introduction part 61.
[0004]
4 is a plan view of the optical system 54 and the homogenizer 55 of FIG.
[0005]
In this example, the optical system 54 includes an expander 54a (cylindrical concave lens) that widens the width of the laser beam 1 (vertical direction in the figure) and a cylindrical convex lens 54b that returns the laser beam to parallel light. Further, the homogenizer 55 includes a cylindrical lens array 55a composed of a plurality of cylindrical lenses and a focusing lens 55b. In the example of FIG. 3, the focal plane S is the upper surface of the substrate 58, and the mirror 56 is located between the focal plane S and the focusing lens 55b.
[0006]
With the configuration of FIG. 4, the circular cross-section laser beam 1a emitted from the laser light source 52 becomes an elongated laser beam 1b by the expander 54a and the cylindrical convex lens 54b, and is incident on the cylindrical lens array 55a. The collimated light (laser beam 1b) incident on the lens array 55a is divided into a beam group 1c having a rectangular beam profile by a rectangular lens group, and each beam group is condensed by the lens array 55a and exceeds the focal plane. spread. The focusing lens 55b (convex lens) refracts each beam group 1c and condenses it on the focal plane S.
[0007]
Therefore, on the focal plane S, all the beam groups 53c overlap to make the intensity distribution uniform, and a leveled intensity distribution can be obtained. A cylindrical concave lens can be used instead of the cylindrical convex lens 54b.
[0008]
As a related technique, “light beam incoherent device” (Japanese Patent Laid-Open No. 61-75523), “method for improving uniformity of laser beam irradiation” (Japanese Patent Laid-Open No. 10-314970), and the like are disclosed.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional laser irradiation apparatus described above, if a highly coherent light source such as a YAG laser is used as the laser light source, an interference action occurs after the laser beam passes through the homogenizer, and the irradiation object cannot be irradiated uniformly. There was a problem. Furthermore, the lens array that constitutes the homogenizer is obtained by bonding individually manufactured lenses, and when a laser beam is incident on the lens array, interference fringes due to diffracted light or reflected light are generated at the joint surfaces of the lenses. Therefore, there is a problem that high beam uniformity cannot be obtained.
[0010]
The present invention has been developed to solve the above-described problems. In other words, an object of the present invention is to provide a laser irradiation apparatus capable of uniformly irradiating an irradiation object without generating interference fringes due to diffracted light or reflected light on the joint surface even when a highly coherent laser light source is used. is there.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, in a laser irradiation apparatus that irradiates an irradiation object by transforming a laser beam from a circular cross-sectional shape to a linear cross-sectional shape, a laser light source that emits a laser beam having a circular cross-sectional shape, A lens system that deforms into a shape, a homogenizer that homogenizes the intensity distribution of the laser beam that exits the lens system, and an interference reduction device that is provided between the homogenizer and the lens system to reduce the interference action of the laser beam. The homogenizer includes a cylindrical lens array and a focusing lens formed of a plurality of cylindrical lenses, and the interference reduction device has a width B equal to a width B of each of the plurality of cylindrical lenses included in the cylindrical lens array. A plurality of transparent lengths that are successively longer by a predetermined length X that is longer than the coherent length. Providing an optical path length correction member made of a glass plate, and a photomask that shields the laser beam incident on the boundary surfaces of the plurality of transparent glass plate constituting the optical path length correction member, it laser irradiation apparatus according to claim is Is done.
[0013]
The photomask is a metal mask obtained by depositing a thin film that absorbs a laser beam on a glass substrate and performing a partial etching process.
[0014]
According to the configuration of the present invention, the optical path length correction member has a width B equal to the width of each of the plurality of cylindrical lenses constituting the cylindrical lens array , and is sequentially increased by a predetermined length X longer than the coherent length. Since the optical path for the laser beam divided into each cylindrical lens becomes longer by the length of the glass, each laser beam has an optical path difference longer than the coherent length. There is no effect and the beams do not interfere with each other.
[0015]
In addition, since the photomask shields the laser beam that is incident on the boundary surface of the plurality of transparent glass plates constituting the optical path length correction member, the generation of diffraction and reflected light at the boundary surface is prevented, and the diffraction and reflected light is incident. Interference on the irradiation surface with light can be prevented.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the common part in each figure, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
[0017]
FIG. 1 is a block diagram of a laser irradiation apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a block diagram of the main part of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, a laser irradiation apparatus 10 of the present invention is a laser irradiation apparatus that irradiates an irradiation object by transforming a laser beam 1 from a circular cross-sectional shape to a linear cross-sectional shape. A system 14 and an interference reduction device 20 are provided.
[0018]
The laser light source 12 is a laser oscillator that emits a laser beam 1a having a circular cross section. The laser light source 12 is not limited to a highly coherent YAG laser device, but may be a multimode oscillation excimer laser device.
[0019]
The lens system 14 includes an expander 14a (cylindrical concave lens) that expands the width of the laser beam 1 (vertical direction in the figure) and a cylindrical convex lens 14b that returns the laser beam to parallel light. The laser beam 1a having a circular cross-sectional shape is linearly cross-sectionally shaped. Transforms into A cylindrical concave lens may be used instead of the cylindrical convex lens 14b.
With this configuration, the laser beam 1a having a circular cross section emitted from the laser light source 12 becomes a laser beam 1b having an elongated linear cross section by the expander 14a and the cylindrical convex lens 14b.
[0020]
The homogenizer 16 includes a cylindrical lens array 16a composed of a plurality of cylindrical lenses 16a and a focusing lens 16b, and homogenizes the intensity distribution of the laser beam 1b. In the example of FIG. 3, the focal plane S is the upper surface of the substrate 58, and the mirror 56 is located between the focal plane S and the focusing lens 55b.
[0021]
The interference reduction device 20 includes a photomask 21 and an optical path length correction member 22 and is provided between the lens system 14 and the homogenizer 16.
[0022]
The photomask 21 shields the laser beam incident on the boundary surface of the optical path length correction member 22 (a plurality of transparent glass plates 22a described later). The photomask 21 is a metal mask in which a thin film 21b that absorbs light, such as Cr, is deposited on the surface of a glass substrate 21a (for example, quartz glass) to a thickness of about 10 nm to 100 nm, and the portions other than the portion to be absorbed are removed by etching. There should be.
As the metal mask, a known mask can be used as long as the thin film 21b has a characteristic of absorbing the laser beam and the thickness is sufficiently smaller than the wavelength of the laser beam.
[0023]
A mask manufactured by machining or the like has a film thickness of about several tens of μm because of its manufacturing accuracy. Therefore, the film thickness is larger than the wavelength of the laser beam (for example, 532 nm), and diffraction from the mask surface (especially the thickness surface) is difficult. There is a risk of reflection. On the other hand, in the photomask 21 of the present invention, since the film thickness is about several tens of nm, it is sufficiently smaller than the wavelength of the laser beam, and diffraction and reflection hardly occur. In the case of a Cr film, the transmittance of the mask is about 0.1% with a laser having a wavelength of 532 nm, which is sufficiently small.
[0024]
The optical path length correction member 22 includes a plurality of transparent glass plates 22a, and the transparent glass plates 22a have a width B equal to the width of each of the plurality of cylindrical lenses constituting the cylindrical lens array 16a . That is, the interval between the thin films 21b of the photomask 21, the width of the transparent glass plate 22a, and the cylindrical lens 16a all have the width B.
The lengths of the plurality of transparent glass plates 22a are also sequentially increased by a predetermined length X that is longer than the coherent length. In addition, in this example, although the length of the some transparent glass plate 22a is lengthened in order from one side, this invention is not limited to this, It may arrange | position long from the center reversely, or may arrange | position at random. . Furthermore, although the number of the transparent glass plates 22a is seven in this example, it may be 6 or less or 8 or more as long as it matches the number of the cylindrical lenses 16a.
[0025]
According to the configuration of the present invention described above, the circular cross-section laser beam 1a emitted from the laser light source 12 becomes an elongated laser beam 1b by the expander 14a and the cylindrical convex lens 14b, and the individual transparent glass plates of the optical path length correction member 22. Incident on 22a.
[0026]
Since the photomask 21 is positioned in front of the transparent glass plate 22a, the laser beam incident on the boundary surface of the transparent glass plate 22a is shielded by the thin film 21b, and the thin film 21b prevents diffraction and reflected light from being generated at the boundary surface. Interference on the irradiated surface between the diffracted and reflected light and the incident light is prevented.
[0027]
Further, since the optical path length correction member 22 is composed of a plurality of transparent glass plates 22a having a width B equal to the cylindrical lens 16a constituting the homogenizer 16 and sequentially lengthened by a predetermined length X longer than the coherent length, each cylindrical The optical path for the laser beam divided into the lenses 16a becomes longer by the length of the glass, and each laser beam has an optical path difference of a distance longer than the coherent length. Therefore, there is no influence of coherency, and the beams do not interfere with each other. .
[0028]
Next, the laser beam that has passed through the optical path length correction member 22 enters the lens array 15a while being divided, and is divided into beam groups 1c having a rectangular beam profile by the rectangular lens group, and each beam group is divided into the lens array 15a. The light is condensed by the light and spreads beyond the focal plane. The focusing lens 15b (convex lens) refracts each beam group 1c and condenses it on the focal plane S.
Accordingly, in the focal plane S, all the beam groups 13c overlap to cause homogenization of the intensity distribution, and a leveled intensity distribution can be obtained.
[0029]
In addition, this invention is not limited to the Example and embodiment mentioned above, Of course, it can change variously in the range which does not deviate from the summary of this invention.
[0030]
【The invention's effect】
As described above, the laser irradiation apparatus according to the present invention does not generate interference fringes due to diffracted light or reflected light on the joint surface even when a highly coherent laser light source is used. Has an excellent effect.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram of a laser irradiation apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a configuration diagram of a main part of FIG. 1;
FIG. 3 is a schematic diagram of a conventional laser irradiation apparatus.
4 is a configuration diagram of a main part of FIG. 3;
[Explanation of symbols]
1, 1a, 1b, 1c laser beam,
10 laser irradiation device, 12 laser light source,
14 lens system, 14a expander,
14b cylindrical convex lens,
16 Homogenizer,
16a cylindrical lens array,
16b Focusing lens,
20 interference reduction device,
21 photomask, 21a glass substrate, 21b thin film,
22 Optical path length correction member , 22a Transparent glass plate

Claims (2)

レーザビームを円形断面形状から直線断面形状に変形して照射対象物に照射するレーザ照射装置において、
円形断面形状のレーザビームを出射するレーザ光源と、該レーザビームを直線断面形状に変形するレンズ系と、該レンズ系を出たレーザビームの強度分布均質化するホモジナイザと、該ホモジナイザとレンズ系の間に設けられレーザビームの干渉作用を低減する干渉低減装置と、を備え、
前記ホモジナイザは、複数のシリンドリカルレンズから構成されるシリンドリカルレンズアレイとフォーカシングレンズからなり、
前記干渉低減装置は、前記シリンドリカルレンズアレイを構成する複数のシリンドリカルレンズの各々の幅Bと等しい幅Bを有しコヒーレント長よりも長い所定の長さXだけ順次長くした複数の透明ガラス板からなる光路長補正部材と、
該光路長補正部材を構成する複数の透明ガラス板の境界面に入射するレーザビームを遮蔽するフォトマスクとからなる、ことを特徴とするレーザ照射装置。
In a laser irradiation apparatus that irradiates an irradiation object by transforming a laser beam from a circular cross-sectional shape to a linear cross-sectional shape,
A laser light source that emits a laser beam having a circular cross-sectional shape, a lens system that transforms the laser beam into a linear cross-sectional shape, a homogenizer that homogenizes the intensity distribution of the laser beam exiting the lens system, and the homogenizer and lens system An interference reduction device for reducing the interference effect of the laser beam provided between,
The homogenizer comprises a cylindrical lens array composed of a plurality of cylindrical lenses and a focusing lens,
The interference reduction device is composed of a plurality of transparent glass plates having a width B equal to the width B of each of the plurality of cylindrical lenses constituting the cylindrical lens array and sequentially lengthened by a predetermined length X longer than the coherent length. An optical path length correction member;
A laser irradiation apparatus comprising: a photomask that shields a laser beam incident on a boundary surface of a plurality of transparent glass plates constituting the optical path length correcting member .
前記フォトマスクは、ガラス基板上にレーザビームを吸収する薄膜を蒸着し、部分的にエッチング処理したメタルマスクである、ことを特徴とする請求項に記載のレーザ照射装置。2. The laser irradiation apparatus according to claim 1 , wherein the photomask is a metal mask obtained by depositing a thin film that absorbs a laser beam on a glass substrate and performing a partial etching process. 3.
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