JP3926430B2 - Flux application method and apparatus - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品を回路基板に半田接合して電子回路基板を製造する際に、電子部品のリードにフラックスを塗布することにより、安定した半田接合が達成されるようにする、フラックスの塗布方法とその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
電子部品を回路基板に半田接合する際、電子部品の半田接合するリードは酸化皮膜に覆われているため、そのままでは良好な半田接合は望めない。そこで、半田にフラックスを含ませ、半田接合時にそのフラックスによってリードの酸化皮膜を除去させ半田接合することが従来から行われている。
【0003】
また、回路基板に予め形成された半田にて電子部品を半田接合するときも、この予め形成されている半田にはフラックスがほとんど含まれていないので、安定した半田接合のためには、電子部品のリードの側にフラックスを塗布することが必要である。
【0004】
リードにフラックスを塗布するのに、電子部品の本体部分をフラックス等により汚すことができない場合は、電子部品の本体にフラックスを付着させないでリード部分にのみフラックスを塗布するようにしなければならない。このため、フラックスは微少量を必要な局所に塗布することが望まれる。
【0005】
従来、これを満足するため、図5の(a)に示すような装置が用いられている。この装置はフラックスaを貯留するタンクbを備え、検出部eで検出されるタンクb内のフラックスaの量と濃度が一定になるように、ポンプfによりフラックス供給容器cとフラックス希釈剤供給容器dとから、フラックスaおよびフラックス希釈剤を補給する。
【0006】
タンクb内には塗布ブロックgが浸漬され、これがシリンダhによって昇降されるようになっている。塗布ブロックgは図5の(b)に模式的に示した電子部品iのリードjに対向する塗布部g1、g2を有し、シリンダhによって上動されてフラックスaの溜まりから持ち上げられると、塗布部g1、g2の上面にフラックスaが図5の(b)に示すように残り、これを電子部品iのリードjの対向部に触れさせることにより微少量をリードjに塗布する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、塗布ブロックgの各塗布部g1、g2は、横向きのリードjに下方から近接するため、リードjにフラックスaが塗布できるのは、リードjの下面のみで、リードjの上面はもとより、先端や側面に塗布することができない。これにより、半田接合した際、半田とリードjの接合がリードjの下面のみでしかできず、リードjの側面や先端面も半田接合した場合と比較して、リードjと半田の接合強度は1/2から1/5程度と低くなってしまう。
【0008】
また、タンクb内のフラックスaは前記のように量と濃度とが一定になるように制御されているが、塗布ブロックgに保持されるフラックスaはタンクb内のフラックスa全体の一部の微少量であるので、厳密な濃度管理が行えず、塗布ブロックgに保持されるフラックスaはその濃度に対応した表面張力で形成される形状が一定しない。このため、塗布ブロックgに常に同じ量のフラックスaが保持されたとしても、リードjへのフラックスaの塗布量が変化し、塗布量が過剰で電子部品iの本体を汚してしまったりする不都合が生じる。
【0009】
本発明の主たる目的は、フラックスの濃度を一定に保ち、電子部品の本体を汚さないでリードの先端部全周囲に高精度に微少塗布して安定した半田接合が行えるフラックスの塗布方法とその装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明のフラックスの塗布装置は、塗布面にフラックスの注出孔を持った塗布ブロックと、この塗布ブロックに密閉貯留部を含む閉経路となった供給系にてフラックスを供給するフラックス供給手段と、塗布ブロックに供給されるフラックスを適時に表面張力による溜まり形状をなして注出させる注出制御手段と、塗布ブロックを位置決めされた電子部品のリードの先端にその軸線方向から塗布面を対向させて進退させる進退手段と、塗布ブロックの進出位置を規制するストッパと、を備え、塗布ブロックは、塗布面に向かって先細りとなるテーパ面を有していることを特徴とするものである。
【0011】
このような構成では、塗布ブロックの塗布面にはこれに設けられた注出孔を通じてフラックスが注出されればよく、それまでのフラックスの供給系を閉経路としておけるので、フラックスが開放系で取り扱われて希釈剤等が揮発するなどにより濃度が変化してしまうようなことを回避してフラックスの注出量を注出制御手段により制御して塗布面には塗布に必要な微少量のフラックスしか存在しないようにして過剰な塗布によって電子部品の本体部分が汚れるようなことを防止することができ、しかも、フラックスが注出された塗布面は先細り形状の先端に位置することでフラックスの表面張力による隣接面へのはみ出し防止機能を有して、塗布ブロックの進退手段による進出とこの進出位置のストッパによる規制とのもとに、電子部品のリードの先端にその軸線方向から高精度に対向および突き合わされて、塗布面に必要な微少量注出され濃度に変動がなく表面張力による溜まり形状が一定なフラックス溜まり内にリードの先端が突き刺さるように変動なく進入し、その後双方が進退手段によって前記軸線方向に高精度に離れるのに伴い、リードの先端部の全周囲に微少量残るように前記変動のない進入に見合って塗布され、リードの先端部を回路基板と半田接合するのにリードの先端部の全周囲でフラックスが働き半田接合が良好に行われるようにすることができる。
【0012】
請求項2の発明のように、注出制御手段は、塗布ブロックに供給するフラックスの溜まり形状またはおよび量を一定にするものであると、さらに高精度な塗布ができる。
【0017】
請求項3の発明のように、塗布ブロックが、リードの先端部が複数隣接して配列されているとき、その配列域に対応した形状および大きさの塗布面に形成されていると、注出したフラックスはその表面張力によって塗布面に広がるが、その広がり域をリードの先端部の配列域に対応した範囲に規制して、注出したフラックスが広がり過ぎて電子部品の本体部分を汚すようなことを防止しながら、同じ方向に向く複数のリードの隣接した先端部に対し一挙にフラックスを塗布することができる。
【0019】
請求項4の発明のように、塗布ブロックが、テーパ面に離型処理が施されていると、塗布面に注出されるフラックスのテーパ面への濡れ性を低下させて注出したフラックスがテーパ面にまで広がるのを確実に抑えるとともに、過剰ではみ出してきたフラックスを自然落下させやすく、フラックスが広がり過ぎて電子部品の本体部分を汚すようなことを防止することができる。
【0020】
請求項5の発明のフラックスの塗布方法は、電子部品を回路基板に半田接合する際に、電子部品のリードにフラックスを塗布して前記半田接合に供するフラックスの塗布方法において、フラックスの塗布ブロックに密閉貯留部を含む閉経路となった供給系にてフラックスを供給し、塗布ブロックの塗布面に塗布ブロックの内側からフラックスを適時に表面張力による溜まり形状をなして注出させるように制御し、リードの先端にその軸線方向から塗布面と対向させて突き合わせた後前記軸線方向に離すことにより、塗布ブロックの塗布面に注出したフラックスをリードの先端部に塗布することを特徴とするものであり、請求項1の発明のフラックスの塗布装置によって実現する。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の代表的な1つの実施の形態につき、幾つかの実施例とともに図1から図4を参照しながら説明する。
【0022】
本実施の形態は図1に示すように、フラックス1をシリンダ2の中に貯留して取り扱う。シリンダ2は密閉構造として、希釈剤の揮発やフラックス劣化と言ったフラックス1の状態変化を防止できるようにする。シリンダ2には上部から、圧力制御されたエアーや不活性ガス等の気体により圧力が掛けられ、シリンダ2の下部出口からフラックス1を常時押し出せる状態にしている。
【0023】
押し出されるフラックス1は、チューブ3を通りバルブ4を経由して塗布ブロック5に供給され、バルブ4が開かれる都度その塗布面51にある注出孔5aから塗布面51に注出されるようにする。バルブ4はバルブ制御ユニット6からの信号によりバルブ4内の弁を開閉する。
【0024】
フラックス1を塗布すべき図1、図2、図3の(a)、(b)に示した電子部品7は吸着ノズルやチャック等の部品取り扱い用の図示しない把持手段により把持されている。塗布ブロック5は把持されている電子部品7のリード8の先端8aにその軸線Xの方向から塗布面51と対向する位置および向きにあり、注出されるフラックス1は図2の実線で示すように濃度に対応した表面張力にて塗布面51に広がり、図2の仮想線で示し、図4の(a)、(b)に示すようにリード8の先端8aと塗布面51が前記軸線X方向に突き合わされて近接ないしは当接した後、再度図2の実線で示し、図3の(a)、(b)に示すように離されることにより、塗布面51に注出されたフラックス1がリード8の先端8a部に塗布される。
【0025】
リード8の先端8aが図3の側面図(a)、平面図(b)、図4の側面図(a)、平面図(b)に示すように複数隣接して配列されているとき、その配列域に対応した形状および大きさの塗布面51に形成する。これは必須ではないが、そのようにすることにより、注出したフラックス1がその表面張力によって塗布面51に広がるときの、広がり域をリード8の先端8aの配列域に対応した範囲に規制して、注出したフラックス1が広がり過ぎて電子部品7の本体部分を汚すようなことを防止しながら、同じ方向に向く複数のリード8の隣接した先端8a部に対し一挙にフラックス1を塗布することができる。
【0026】
電子部品7からのリード8が、図1から図4に示すように2方向に向いているとか、4方向に向いているとか、向きが複数であると、その向きの数に対応した数の塗布ブロック5を図1に示すように設ける。これも必須ではないが、このようにすると、複数の向きに設けられる複数のリード8群の先端8aに対し、同時にフラックス1を塗布することができる。この場合、複数設けられる塗布ブロック5に対するフラックス1の供給系統を図1に示すようにそれぞれに個別に設けておくと、同時ではあるが個別の塗布作業を行うのに作業や各種の制御の自由度が高く好適である。
【0027】
塗布ブロック5は図2に示すように、シリンダなどの進退手段としてのアクチュエータ11によりリード8の先端8aの軸線X上で進退されて、塗布面51部がリード8の先端8aに図2の実線および仮想線で示すように離接されて前記塗布を行う。塗布面51がリード8の先端8aに図2の仮想線で示すように近接ないしは接触したとき、リード8の先端8aは塗布面51に注出され広がっているフラックス1の溜まり内に突き刺さるように進入するので、その後の図2の実線で示す状態への軸線X方向での引き離しによって、フラックス1がリード8の先端8a部まわりにほぼ均一に残り、先端8a部の全周囲にフラックス1を均等に塗布した状態になる。これにより、リード8の先端8a部を図示しない回路基板と半田接合するのにリード8の先端8a部の全周囲でフラックス1が働き半田接合が良好に行われるようにすることができる。
【0028】
また、塗布ブロック5の塗布面51に注出孔5aを通じてフラックス1が注出されるのに、フラックス1の供給系を前記した本実施の形態のように閉経路としておけるので、フラックス1が開放系で取り扱われて希釈剤等が揮発するなどにより濃度が変化してしまうようなことを回避することができるし、フラックス1の注出量をバルブ制御ユニット6によるバルブ開き時間の調整と言った適当な制御により、塗布面51に塗布に必要な微少量のフラックス1しか存在しないようにして過剰な塗布によって電子部品7の本体部分が汚れるようなことを防止することができる。
【0029】
しかも、塗布面51に注出されたフラックス1の濃度が前記したように変動しないことにより、フラックス1の表面張力による塗布面51での溜まり形状を一定にすることができ、前記のようにリード8の先端8aをその軸線Xの方向から一定して進入させること、および、塗布面51の進出位置をストッパ21にて規制すること等と相まって、リード8の先端8a部のフラックス1の溜まり内への進入量、およびそのまわりのフラックス1の溜まり形状および量を一定にすると、リード8の先端8aがフラックス1の溜まりの中に進入してこれの表面にも表面張力により広がっていき、塗布面51とリード8の先端8aとの間で安定する最小作用形態が一定するので、リード8の先端8a部へのフラックス1の塗布量を高精度に所定微少量に安定させることができる。
【0030】
塗布ブロック105の塗布面151がリード8の先端8a部の配列域よりも大きいと、フラックス1の広がり域が大きくなり過剰塗布による電子部品7の本体部を汚すことになるし、塗布ブロック5の塗布面51が、塗布ブロック5を棒状体を寸切りしただけのような形状にすると、塗布面51に注出されたフラックス1が塗布面51に続くまわりの面にはみ出しやすく、フラックス1の広がり域が増大してしまう。このような状態で、塗布面51をリード8の先端8aに軸線X方向から近接させていき、先端8aがフラックス1の溜まりに接触した瞬間、フラックス1がリード8側へ流れるのが過剰になり、図3の(c)、図4の(c)に示す比較例のように電子部品7の本体部分まで及んでそれを汚してしまう。特に、フラックス1が過剰に注出されてしまったときにそのような問題が生じやすい。
【0031】
そこで、本実施の形態では図1から図4に示すように、リード8の先端8a部の配列位置に対応した形状および大きさの塗布面51とするのに、この塗布面51に向け先細りとなるテーパ面52を形成してある。これにより、塗布面51に注出されるフラックス1のテーパ面52への濡れ性を低下させて、注出したフラックス1がテーパ面52にまではみ出し広がるのを確実に抑え、また、フラックスが万一過剰に注出されても、過剰でテーパ面52にはみ出してくるフラックス1はこれを自然落下させることができ、注出量が過剰な場合を含めフラックス1が広がり過ぎて電子部品7の本体部分を汚すようなことを防止することができる。
【0032】
従って、フラックス1の注出量を毎回過剰に注出させることにより、真先に注出される極く少量であるが注出孔5aの部分で大気に接触していて濃度が安定していないことのあるフラックス1を前記テーパ面52の働きで自然落下させ、残る適正量でかつ一定濃度のフラックス1を塗布することができ好適である。
【0033】
また、塗布のためのフラックス1の注出に先立ち、塗布に供しないフラックス1の空注出を行うと、注出されて直ぐのフラックス1を塗布することができるので、設定通りの濃度のフラックス1を塗布に供して、フラックス1が注出された状態での時間経過に伴う濃度変化による塗布量の変動を防止し、安定した半田接合を保証することができる。
【0034】
このように、塗布動作前毎にフラックス1を供給した方が塗布に供するフラックス1の濃度は安定するが、塗布量やフラックス1の種類によっては塗布動作前でなかったり毎回フラックス1を供給しなくても同等の効果を得ることはできる。また、このフラックス1の注出量は、バルブ制御ユニット6によりバルブ4の開放時間を調整することの他、開口径を変化させたり、またシリンダ2内の圧力を変化させることにより、塗布ブロック5へのフラックス1の注出量を制御することができる。
【0035】
本実施の形態ではバルブ制御ユニット6からの信号によりバルブ4を制御しているが、バルブ制御ユニット6がディスペンサでエアーによりバルブを制御するようにしても同等の効果を得られることは勿論である。
【0036】
また、連続で塗布を行っている場合は常に新しいフラックス1が供給されるが、生産等の前後の工程の動作が何らかの理由で停止して、フラックス1の塗布が中断した場合でも、塗布面51のフラックス1の濃度を一定に保つために、予め設定された時間を経過したとき、フラックス1の塗布が再開されるまで、一定間隔にてフラックス1を注出すると、塗布再開時から注出するフラックス1の濃度が所定の濃度であることを保証することができる。
【0037】
また、塗布ブロック5にテフロン等の離型性層22をコーティングするなどして、離型性処理を施すことにより、塗布面51に注出されるフラックス1のテーパ面52への濡れ性を低下させて注出したフラックス1がテーパ面52にまで広がるのを確実に抑え、また過剰でテーパ面52にはみ出してきたフラックス1を自然落下させよく、フラックスが広がり過ぎて電子部品7の本体部分を汚すようなことを防止することができる。
【0038】
塗布ブロック5の進退手段としてのアクチュエータはモータ等を用いて、その位置データを制御することにより塗布位置を決定しても同等の効果を得ることができる。
【0039】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、電子部品を回路基板に半田接合するのに、電子部品の半田接合を行うリードの先端部に対し、この先端部の軸線方向から塗布ブロックによりフラックスを高精度な対向および突き合わせの基に供給し、また、フラックスを閉経路となった供給系内にて取り扱って濃度を一定に保って、しかも塗布面に必要な微小量が表面張力による溜まり形状をなすように注出制御して供給するので、リードの先端部の全周に高精度に所定微量を塗布して、電子部品の本体部を汚すようなことなく安定した半田接合ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の代表的な一実施の形態のフラックス塗布装置の概略構成図である。
【図2】図1の装置の塗布ブロックの進退駆動部を示す側面図である。
【図3】図1の装置の塗布ブロックの詳細とその比較例を示し、その(a)は図1の装置の塗布ブロックの側面図、その(b)は平面図、その(c)は比較例の側面図である。
【図4】図3の塗布ブロックによるフラックス塗布状態を示し、その(a)は図3の装置の塗布ブロックの側面図、その(b)は平面図、その(c)は比較例の側面図である。
【図5】従来のフラックス塗布装置の概略構成図である。
【符号の説明】
1 フラックス
2 シリンダ
3 チューブ
4 バルブ
5 塗布ブロック
51 塗布面
52 テーパ面
6 バルブ制御ユニット
7 電子部品
8 リード
8a 先端
11 アクチュエータ
21 ストッパ
22 離型性層
X 軸線[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention is a method of applying a flux so that when soldering an electronic component to a circuit board to produce an electronic circuit board, a stable solder bonding is achieved by applying a flux to the leads of the electronic component. The present invention relates to a method and apparatus.
[0002]
[Prior art]
When soldering an electronic component to a circuit board, since the lead for soldering the electronic component is covered with an oxide film, good solder bonding cannot be expected as it is. Therefore, it has been conventionally performed to include solder in the solder and to remove the oxide film of the lead by the flux at the time of soldering and to perform soldering.
[0003]
Also, when soldering electronic components with solder formed in advance on the circuit board, the solder formed in this way contains almost no flux. It is necessary to apply a flux to the lead side of the wire.
[0004]
If the main part of the electronic component cannot be soiled by the flux or the like when the flux is applied to the lead, the flux should be applied only to the lead part without attaching the flux to the main body of the electronic component. For this reason, it is desirable to apply a very small amount of flux to the necessary local area.
[0005]
Conventionally, in order to satisfy this, an apparatus as shown in FIG. This apparatus includes a tank b for storing the flux a, and a flux supply container c and a flux diluent supply container by a pump f so that the amount and concentration of the flux a in the tank b detected by the detection unit e are constant. From d, flux a and a flux diluent are replenished.
[0006]
A coating block g is immersed in the tank b, and is moved up and down by a cylinder h. The application block g has application parts g1 and g2 opposed to the lead j of the electronic component i schematically shown in FIG. 5B. When the application block g is moved up by the cylinder h and lifted from the pool of flux a, Flux a remains on the upper surfaces of the application parts g1 and g2 as shown in FIG. 5B, and a small amount is applied to the lead j by bringing it into contact with the opposing part of the lead j of the electronic component i.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the application portions g1 and g2 of the application block g are close to the lateral lead j from below, the flux a can be applied to the lead j only on the lower surface of the lead j, not only on the upper surface of the lead j, Cannot be applied to the tip or side. As a result, when the solder is joined, the solder and the lead j can be joined only on the lower surface of the lead j, and the joint strength between the lead j and the solder is compared with the case where the side surface and the front end surface of the lead j are soldered. It will be as low as about 1/2 to 1/5.
[0008]
The flux a in the tank b is controlled so that the amount and concentration are constant as described above, but the flux a held in the coating block g is a part of the entire flux a in the tank b. Since the amount is very small, strict concentration control cannot be performed, and the shape of the flux a held in the coating block g is not constant because of the surface tension corresponding to the concentration. For this reason, even if the same amount of flux a is always held in the application block g, the application amount of the flux a to the lead j changes, and the application amount is excessive, and the main body of the electronic component i is contaminated. Occurs.
[0009]
The main object of the present invention is to provide a flux application method and apparatus capable of maintaining a constant flux concentration and applying a small amount with high precision to the entire periphery of the tip of the lead without fouling the main body of the electronic component for stable solder bonding. Is to provide.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The flux coating apparatus according to the first aspect of the present invention is a flux for supplying flux by a coating system having a flux pouring hole on the coating surface and a supply system having a closed path including a sealed reservoir in the coating block. Supply means, dispensing control means for pouring out the flux supplied to the application block in a timely manner by collecting the surface tension, and the application surface from the axial direction to the tip of the lead of the electronic component where the application block is positioned The advancing / retreating means for advancing and retreating the coating block and a stopper for regulating the advancement position of the coating block, and the coating block has a tapered surface that tapers toward the coating surface. is there.
[0011]
In such a configuration, it is sufficient flux dispensed through Note Deana provided to the coated surface of the coating block, Okeru the supply system flux Until then the closed path, the flux is an open system handling as the concentration due like diluent volatilized avoid to flux the like varies dispensing amount in the coated surface is controlled by a dispensing control means a minute amount required for the coating in It is possible to prevent the main part of the electronic component from becoming dirty due to excessive application so that only the flux exists, and the application surface where the flux is poured out is located at the tip of the tapered shape, so that the flux a protruding protection to adjacent surfaces due to the surface tension, on the basis of the advancing by moving means of the coating block and the restriction by the stopper of the advanced position, the electronic component Li From the axial direction at the tip of the de is fit faces and against the high accuracy, lead tip pierces the small amount dispensed is the stagnant flux variation reservoir shape due to surface tension without a constant concentration required for coating surface enters without change as, then both due to the distance with high accuracy in the axial direction by moving means, are applied commensurate with the change without entering the small amount remaining so that the entire circumference of the lead tip, When soldering the tip of the lead to the circuit board, the flux acts on the entire periphery of the tip of the lead so that the solder can be satisfactorily performed.
[0012]
As in the second aspect of the invention, the dispensing control means can apply more accurately if the shape or amount of the flux to be supplied to the application block is made constant.
[0017]
When the coating block is formed on the coating surface having a shape and a size corresponding to the arrangement area when a plurality of the leading ends of the leads are arranged adjacent to each other as in the invention of
[0019]
When the release block is applied to the taper surface as in the invention of claim 4 , the flux dispensed by reducing the wettability of the flux poured onto the coating surface to the taper surface is tapered. It is possible to reliably suppress the spread to the surface, and to easily cause the flux that has overflowed to easily fall off, and to prevent the flux from spreading too much and contaminating the main part of the electronic component.
[0020]
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a flux application method comprising: applying a flux to a lead of an electronic component and soldering the electronic component to a circuit board; Flux is supplied by a supply system that is a closed path including a sealed reservoir, and the flux is controlled to be poured out from the inside of the coating block to the coating surface of the coating block in a timely manner by collecting the surface tension. It is characterized in that the flux poured out on the coating surface of the coating block is applied to the tip of the lead by making contact with the tip of the lead facing the coating surface from the axial direction and then separating in the axial direction. Yes, and realized by the flux coating apparatus of the invention of
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a typical embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4 together with some examples.
[0022]
In the present embodiment, the
[0023]
The
[0024]
The
[0025]
When the
[0026]
As shown in FIGS. 1 to 4, the
[0027]
As shown in FIG. 2, the
[0028]
Further, since the
[0029]
In addition, since the concentration of the
[0030]
If the coating surface 151 of the coating block 105 is larger than the arrangement area of the
[0031]
Therefore, in the present embodiment, as shown in FIGS. 1 to 4, the
[0032]
Therefore, by excessively dispensing the
[0033]
Also, prior to the dispensing of the
[0034]
Thus, although the density | concentration of the
[0035]
In the present embodiment, the valve 4 is controlled by a signal from the
[0036]
Further, when the application is continuously performed, a
[0037]
Further, the wettability of the
[0038]
Even if the application position is determined by controlling the position data of the actuator as the advance / retreat means of the
[0039]
【The invention's effect】
According to the first aspect of the present invention, when soldering the electronic component to the circuit board, the flux is applied to the tip portion of the lead for soldering the electronic component with high accuracy by the application block from the axial direction of the tip portion. Supply to the opposite and butting bases, and handle the flux in the closed supply system to keep the concentration constant , and the minute amount required on the coated surface forms a pool shape due to surface tension. Since the supply is controlled by dispensing , a predetermined amount is applied with high accuracy to the entire circumference of the tip of the lead, and stable solder bonding can be performed without contaminating the main body of the electronic component.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a flux coating apparatus according to a typical embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a side view showing an advancing / retreating drive unit of a coating block of the apparatus of FIG.
3 shows details of the coating block of the apparatus of FIG. 1 and a comparative example thereof, (a) is a side view of the coating block of the apparatus of FIG. 1, (b) is a plan view, and (c) is a comparison. It is a side view of an example.
4 shows the state of flux application by the application block of FIG. 3, wherein (a) is a side view of the application block of the apparatus of FIG. 3, (b) is a plan view, and (c) is a side view of a comparative example. It is.
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conventional flux coating apparatus.
[Explanation of symbols]
1
Claims (5)
フラックスの塗布ブロックに密閉貯留部を含む閉経路となった供給系にてフラックスを供給し、塗布ブロックの塗布面に塗布ブロックの内側からフラックスを表面張力による溜まり形状をなして注出させるように制御し、リードの先端にその軸線方向から塗布面と対向させて突き合わせた後前記軸線方向に離すことにより、塗布ブロックの塗布面に注出したフラックスをリードの先端部に塗布することを特徴とするフラックスの塗布方法。 When soldering an electronic component to a circuit board, a flux is applied to the lead of the electronic component and applied to the solder, in the flux application method,
Flux is supplied to the application block of the flux through a supply system that is a closed path including a sealed reservoir, and the flux is poured out from the inside of the application block to the application surface of the application block in a pool shape due to surface tension. It is characterized in that the flux poured out on the application surface of the application block is applied to the tip of the lead by controlling and making contact with the tip of the lead from the axial direction so as to face the application surface and then separating in the axial direction. How to apply flux .
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