JP3871654B2 - X-ray generator - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医療の診断、治療の分野等で利用できる小形で細いX線ビームを発生するX線発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のX線発生装置であるX線管は、電子源に真空放電を用いるガスX線管(冷陰極X線管)と熱電子X線管(クーリッジ管)のいずれかを用いている。
熱陰極から出た電子線はウェーネルト電極で集束されて、陽極面に焦点を結び、X線を発生させる。陽極物質は、連続X線の場合タングステン、特性X線の場合、特にKα線を得たい場合、鉄、銅、モリブデン、銀が多く用いられる。制動放射で生ずるX線は、陰極物質に関係なく、連続スペクトルをもつ。制動放射とは、電子が物質中を通るときに、物質の原子核によりその進行方向を曲げられるために放射する(制動放射)X線であり連続X線の性質を示す。またこの連続X線の放射角度は、大きくなる。X線治療にはX線が細いほど照射領域に対して精度よく照射できるので、X線を適度にコリメータによって絞り込む必要がある。このためにX線がコリメータにより吸収されて形成される細いX線の出力は著しく低下させられる。しかも従来のX線発生装置は大きい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、極めて狭い角度のX線ビームを効率良く発生することができ、小形なX線発生装置を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、治療用のX線源または診断用のX線源と用途に応じて極めて狭い角度のX線ビームを効率良く発生することができ、小形なX線発生装置を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために本発明による請求項1記載のX線発生装置は、真空容器と、前記容器に配置され高速電子ビームを発生する電子源と、
前記容器に配置され前記電子源からの電子ビームに衝突され、裏面にX線を発生するX線ターゲットと
数の均一な孔をもち前記X線ターゲットの背面に配置され、前記孔に入射したX線を全反射により他面に導くX線ガイドと、および
前記X線ターゲットとX線ガイドとの組立と同様な組立を前記孔が対応するように縦列に配置した他のX線ターゲットとX線ガイドとの組立から構成されている。
【0005】
本発明による請求項2記載のX線発生装置は、請求項1記載のX線発生装置において、X線ガイドを通過したX線を透過し電子を吸収する吸収電極を設けられている。
本発明による請求項3記載のX線発生装置は、請求項記載のX線発生装置において、前記ターゲットの材料はAu,W,Mo,Pt,Re金属から選択された1または2以上の金属の組み合わせである。
【0006】
本発明による請求項記載のX線発生装置は、請求項記載のX線発生装置において、電子ビームのエネルギーレベルが1Mevから10Mevの場合は、前記ターゲットの厚さは0.7〜1.4mm好ましくは略1.0mmである。
前記ターゲットの厚さが下限を越えると透過する電子の量が大きくなり、上限を越えるとX線の裏面への放出が減少する。
本発明による請求項記載のX線発生装置は、請求項記載のX線発生装置において、電子ビームのエネルギーレベルが1Mevから10Mevの場合は、X線ガイドのハネカム状のチャンネルの孔の内径dは0.1〜0.4mm、より好ましくは約0.2mm、X線ガイドの直径Dは2〜4mm、より好ましくは約2.8mm、X線ガイドの長さLは7〜14mm、より好ましくは約10mmである。
前記X線ガイドの長さ下限を越えると透過する電子の量が大きくなり、上限を越えるとX線に必要を越える全反射をさせることになる。
【0007】
本発明による請求項記載のX線発生装置は、請求項記載のX線発生装置において、電子ビームのエネルギーレベルが10Kevから100Kevの場合に、前記ターゲットの厚さは0.07〜0.14mm好ましくは略0.1mmである。
前記ターゲットの厚さが下限を越えると透過する電子の量が大きくなり、上限を越えるとX線の裏面への放出が減少する。
本発明による請求項記載のX線発生装置は、請求項記載のX線発生装置において、電子ビームのエネルギーレベルが10Kevから100Kevと低い場合に、
X線ガイドのハネカム状のチャンネルの孔の内径dは0.1〜0.4mm、より好ましくは約0.2mm、X線ガイドの直径Dは2〜4mm、より好ましくは約2.8mm、X線ガイドの長さLは0.7〜1.4mm、より好ましくは約1mmである。
前記X線ガイドの長さ下限を越えると透過する電子の量が大きくなり、上限を越えるとX線に必要を越える全反射をさせることになる。
【0008】
本発明による請求項記載のX線発生装置は、請求項記載のX線発生装置において、前記X線ガイドの材料はAlであり多数の孔は機械加工により製造されたものである。
本発明による請求項記載のX線発生装置は、請求項記載のX線発生装置において、X線ガイドは、多数の金属パイプを結束して形成したものである。
【0009】
前記目的を達成するために、本発明による請求項10記載X線発生装置は、
真空容器と、
前記容器に配置され高速電子ビームを発生する電子源と、
前記容器に配置され前記電子源からの電子ビームに衝突され、裏面にX線を発生するX線ターゲットと
数の均一な孔をもち、複数の前記X線ターゲットの背面から放射されるX線を受ける入力開口が出力開口より大きい円錐状の孔をもち、前記孔は前記X線ターゲットの背面に配置され、前記孔に入射したX線を全反射により他面に導くX線ガイドと、および
前記X線ターゲットとX線ガイドとの組立と同様な組立を前記孔が対応するように縦列に配置した他のX線ターゲットとX線ガイドとの組立から構成されている。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下図面等を参照して本発明による装置の実施の形態を説明する。
まず、電子ビームのエネルギーが1Mevから10Mevの高い場合について説明をする。図1は本発明によるX線発生装置の基本構成を示す略図である。
真空容器1内に高速電子ビームを発生する電子源2が設けられている。この電子源2は、本発明者が提案したカーボンナノチューブを用いた超小形冷陰極で構成されている。前記超小形冷陰極とターゲット3間にマイクロ波源7から高圧電圧のマイクロ波が加えられている。マイクロ波に励起された電子ビームは前記ターゲット3に高速で衝突する。この電子ビームの衝突により、ターゲット3の背面からX線が発生する。発生するX線は、X線ガイド4の内壁で全反射を繰り返して、電子捕捉電極5を透過して、外部に放出する。前記電子捕捉電極5は、ターゲット3に衝突した電子ビームの一部が前記ターゲット3を透過して、進行して、電子捕捉電極5に到達したときに、この電子を捕獲する。一方電子捕捉電極5は、前記のX線を透過する機能がある。その材質としてはベリリウム金属が適している。
【0011】
図1に示した前記X線ガイド4は、図2に示す通り、金属の部材にハネカム状の多数の孔を形成する。これは放電加工により行われる。なお針状の金属を押し込むことによっても、表面が平滑な孔を形成することができる。このように金属バルクを機械加工する以外に金属管を結束して形成することも可能である。
前記X線ガイド4は、前記X線ターゲット3の背面に配置され、前記のX線ガイド4の内部の任意の孔4iに入射したX線をこの孔4iの内壁で全反射する。図4は、この反射状態を一つ任意の孔4iについて拡大して示してある。X線は、入射角が大きいとき、つまり金属表面とのX線の角度が小さいときには全反射をする。
【0012】
次に図3に示す薄い金属膜のターゲットに高速電子ビーム31が衝突した場合のX線33の発生状態を説明する。電子源から供給される高速電子ビーム31がターゲット32に衝突するとターゲット32の裏面にX線を発生する。
厚さ0.1mm程度の薄い金属膜のターゲット32に約10MeVの高速電子ビームが衝突すると、前記金属膜のターゲットの裏面にX線33が発生する。
金属膜のターゲット32の厚さが薄くなれば、裏面方向に強くX線が放射され、その放射角度は小さくなる。一方、一部の高速電子ビームは、前記薄い金属膜のターゲット32を通過してしまう。
【0013】
ターゲット33の材料は原子量が大きく、さらに高融点、化学的に安定性、または熱放射性に優れた金属であるAu,W,Mo,Pt,Reから選ばれる。
同様にハネカム状のX線ガイドの材料もAl、Au,W,Mo,Pt,Reから選ばれる。なお、特にハネカム状のX線ガイドの孔が数百ミクロン以下になるので、放電加工で加工しやすいAlなども利用できる。この際、Alの金属の放熱特性を上げた構造にするために、ハネカム状のX線ガイドに密着した放熱機構を使用する。図4に示す電子捕捉電極5は極めて薄い金属板で、X線を透過し、電子を補足する機能をもち、ベリリウムなどの金属を用いる。
【0014】
前述したX線発生装置において、前記X線ターゲットとX線ガイドとの組立と同様な組立を前記孔が対応するように2以上縦列に配置して多数段のX線発生装置を構成する。
ターゲットとX線ガイドを3段組にして構成するX線発生装置の第1の実施例を図5を参照して説明する。真空容器の内部には、前記容器に配置され高エネルギー電子ビーム51を発生する電子源が設けられていることは前述の実施例と異ならない。前記容器に配置され前記電子源(図示を省略)からの高速電子ビーム51は第1ターゲット板52に衝突する。
X線を発生する第1ターゲット板52の裏面に多数の均一な孔をもつハネカム状の第1X線ガイド板53が配置されている。
さらに前記ハネカム状の第1X線ガイド板53の裏面にX線を発生する第2ターゲット板54が配置されている。前記第2ターゲット板54の裏面に多数の均一な孔をもつハネカム状の第2X線ガイド板55が配置されている。
続いて前記ハネカム状の第2X線ガイド板55の裏面に第3ターゲット板56が配置されている。前記第3ターゲット板56の裏面に多数の均一な孔をもつハネカム状の第3X線ガイド板57が配置されている。このようにターゲットとX線ガイドが3段に組立てられている。最後にX線を透過するが、電子線を収集する電極58が配置された構造になっている。
【0015】
真空容器の内部には、前記容器に配置され高エネルギー電子線を発生する電子源があり、前記容器に配置され前記電子源からの高速電子ビーム51が第1ターゲット52に衝突する。前記薄い金属膜の第1ターゲット板52の裏面にX線が発生する。この発生したX線11は、第1ターゲット板52の裏面に多数の均一な孔をもつハネカム状の第1X線ガイド板53の壁面で全反射され、図において下方に進行する。そしてX線11は第2ターゲット板54を透過する。この透過したX線12はハネカム状の第2X線ガイド板55の壁面を全反射する。X線12は第3ターゲット板56を透過する。透過したX線13は第3X線ガイド板57の壁面を全反射して、最後に電極を通過し、外部に取り出される。
【0016】
図3で説明したように、高エネルギーの電子ビームの一部は、前記第1ターゲット板52をそのまま通過する。この通過電子9は、次の第2ターゲット板54に衝突する。この衝突により、X線が発生する。このX線は、ハネカム状の第2X線ガイド板55の壁面で全反射し、第3ターゲット板56を透過したのち、外部に放射される。しかし、第2ターゲット板54に衝突した高速電子線の一部が、第2ターゲット板54を通過し(電子ビーム10)、第3ターゲット板56に衝突して、X線を発生する。
【0017】
このX線はハネカム状の第3X線ガイド板57の壁面を全反射し、外部に放射する。高速電子ビームは、第1ターゲット板52、第2ターゲット板54、第3ターゲット板56と順次に衝突すれば、ほとんどX線に変換される。ここでターゲットの膜の厚さを適切に選択することにより、X線の発生効率の向上とX線の放射角度の狭いX線の改善が得られる。
【0018】
以下図6を参照して、本発明の第の実施例の構成要素を説明する。この実施例でハネカムを構成する孔は円錐面を持つものである。
真空容器の内部には、前記容器に配置され高エネルギー電子線を発生する電子源があり、中空のドーナツ状の高速電子ビーム(61は中心軸を示す)がターゲット62に衝突する。前記薄い金属膜のターゲット62の裏面にX線が発生する。X線ガイドの孔は、X線を受け入れる入力側開口部とX線を放出する出力開口部とで構成されている。X線ガイドの中心部は銅などで構成する金属部64にタングステンをコーティングしたX線ガイド壁63の構造になっている。特にこのX線ガイドの構造は、入力開口が出力開口より大きいテーパーの付いた管を形成する。この発生したX線65は、ターゲット62の裏面にX線ガイド壁面で全反射される。そして反射したX線66は再びX線ガイド壁面で全反射する。この全反射したX線67はX線ガイドの外に取り出される。
【0019】
X線を受け入れる入力側開口の内径は0.2から0.4mm程度で、代表値として0.2mmを選択する。またX線を放出す出力側開口の内径0.05mm程度を選択する。電子ビームのエネルギーレベルが1Mevから10Mevの場合は、X線ガイドの長さを略10mmにしてある。
【0020】
高速電子ビームの一部は、ターゲット62を通過し、突き進む場合もある。この場合、X線ガイドの出力開口部の背面に第2のターゲットを設けて、X線ガイドを多段に構成することもできる。ここでターゲットの膜の厚さを前述した寸法に選択することにより、X線の発生効率を向上させ、X線の放射角度の狭いX線を得ることができる。孔の形状が異なる他は前述の第2の実施例と同様であるから、説明を省略する。
【0021】
以上、電子ビームのエネルギーが1Mevから10Mevの高い場合で放射線治療に用いるものであるが、電子ビームのエネルギーレベルが10Kevから100Kevと低くして、測定用に用いることができる。
X線ガイドのハネカム状のチャンネルの孔の内径dは0.1〜0.4mm、より好ましくは約0.2mm、X線ガイドの直径Dは2〜4mm、より好ましくは約2.8mm、X線ガイドの長さLは0.7〜1.4mm、より好ましくは約1mmとする。
ターゲットの厚さは0.01mm以下、そして電子ビ−ムの加速は高圧パルスまたはマイクロ波電界で実施し、電子源はフィールドエミッタなどを用いて実行できる。用途して診断や検査などに利用される。
【0022】
此れに対して電子ビームのエネルギーが1Mevから10Mevの高い場合では、ターゲットの厚さは0.1mm以下、そして電子ビ−ムの加速はマイクロ波電界で実施し、電子源は熱電子銃またはカーボンナノチューブを用いて実行できる。用途としてX線治療に利用される。
【0023】
【発明の効果】
本発明によるX線発生装置は超小形で平行度の高い小径のX線ビームを発生することができる。
本発明によるX線発生装置は3次元的に作り出す照射方法である強度変調放射線治療IMRT(Intensity Modulated Radiation Therapy)のX線源、やCTのX線源に利用できる。
【0024】
以上、詳しく説明した実施例について、本発明の範囲内で種々の変形を施すことができる。高エネルギー電子源2の発生する電子の密度分布を変えることにより、得られるX線の分布を変えることができる。また多数の貫通孔を選択的に利用するような電子ビームを発生することもできる。多数の貫通孔を意図的に傾斜させることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明によるX線発生装置の基本的な構成を示す略図である。
【図2】 本発明によるX線発生装置で使用するX線ガイドの斜視図である。
【図3】 薄い膜厚のターゲットに高速電子ビームが衝突したときのX線発生状態を示す略図である。
【図4】 X線ガイドの一部を拡大して示した断面図である。
【図5】 本発明によるX線発生装置の第の実施例の構成を示す略図である。
【図6】 本発明によるX線発生装置の第の実施例で使用するターゲット板とX線ガイド壁を示す略図である。
【符号の説明】
1 真空容器
2 高エネルギー電子源
3 ターゲット
4 X線ガイド
5 電子捕捉電極
7 マイクロ波源
9,10 高速電子ビーム
11,12,13,14 X線
51 高速電子ビーム
52 第1ターゲット板
53 第1X線ガイド板
54 第2ターゲット板
55 第2X線ガイド板
56 第3ターゲット板
57 第3X線ガイド板
58 電極
61 高速電子ビーム
62 ターゲット
63 タングステンのX線ガイド壁
64 銅で形成するX線ガイドの中心部
65 66 67 68 69 X線
70 ターゲットを透過した高速電子ビーム
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an X-ray generator that generates a small and thin X-ray beam that can be used in the fields of medical diagnosis and treatment.
[0002]
[Prior art]
An X-ray tube, which is a conventional X-ray generator, uses either a gas X-ray tube (cold cathode X-ray tube) that uses vacuum discharge as an electron source or a thermionic X-ray tube (coolidge tube).
The electron beam emitted from the hot cathode is focused by the Wehnelt electrode and focused on the anode surface to generate X-rays. As the anode material, tungsten, in the case of continuous X-rays, and iron, copper, molybdenum, and silver are often used in the case of characteristic X-rays, particularly when Kα rays are desired. X-rays generated by bremsstrahlung have a continuous spectrum regardless of the cathode material. The bremsstrahlung is an X-ray that is emitted when electrons travel through the material because its traveling direction is bent by the nucleus of the material (bremsstrahlung), and shows the property of continuous X-rays. Moreover, the radiation angle of this continuous X-ray becomes large. In the X-ray treatment, the thinner the X-ray, the more accurately the irradiation region can be irradiated. Therefore, it is necessary to appropriately narrow down the X-ray with a collimator. For this reason, the output of thin X-rays formed by X-rays being absorbed by the collimator is significantly reduced. Moreover, the conventional X-ray generator is large.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a small X-ray generator that can efficiently generate an X-ray beam having an extremely narrow angle.
Still another object of the present invention is to provide a small X-ray generator capable of efficiently generating an X-ray beam having a very narrow angle depending on the therapeutic X-ray source or diagnostic X-ray source and application. It is to provide.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
X-ray generator according to claim 1, wherein according to the invention in order to achieve the above object, a vacuum container, an electron source for generating a high-energy electron beams are arranged in the container,
An X-ray target disposed in the container and colliding with an electron beam from the electron source to generate X-rays on the back surface ;
It arranged a large number of uniform holes in the back of having the X-ray target, an X-ray guide for guiding the other surface by total reflection X-rays incident on the bore, and
An assembly similar to the assembly of the X-ray target and the X-ray guide is composed of an assembly of another X-ray target and an X-ray guide arranged in a column so that the holes correspond to each other.
[0005]
According to a second aspect of the present invention, there is provided the X-ray generator according to the first aspect, wherein an absorption electrode that transmits the X-rays that have passed through the X-ray guide and absorbs electrons is provided.
X-ray generator according to claim 3, wherein according to the invention, in the X-ray generator according to claim 1, wherein the material of the target is Au, W, Mo, Pt, 1 or 2 or more metals selected from Re metal It is a combination.
[0006]
X-ray generator according to claim 4, wherein according to the invention, in the X-ray generator according to claim 1, wherein, if the energy level of the electron beam is 10Mev from 1 MeV, the thickness of the target is 0.7 to 1. 4 mm, preferably approximately 1.0 mm.
When the thickness of the target exceeds the lower limit, the amount of transmitted electrons increases, and when the thickness exceeds the upper limit, X-ray emission to the back surface decreases.
X-ray generator according to claim 5, wherein according to the invention, in the X-ray generator according to claim 1, wherein, if the energy level of the electron beam is 10Mev from 1 MeV, the inner diameter of the honeycomb-shaped channel hole of the X-ray guide d is 0.1 to 0.4 mm, more preferably about 0.2 mm, the diameter D of the X-ray guide is 2 to 4 mm, more preferably about 2.8 mm, and the length L of the X-ray guide is 7 to 14 mm. Preferably it is about 10 mm.
When the lower limit of the length of the X-ray guide is exceeded, the amount of transmitted electrons increases, and when the upper limit is exceeded, the X-ray is totally reflected more than necessary.
[0007]
X-ray generator according to claim 6, wherein according to the invention, in the X-ray generator according to claim 1, wherein, when the energy level of the electron beam is 100Kev from 10 keV, the thickness of the target is 0.07 to 0. 14 mm, preferably about 0.1 mm.
When the thickness of the target exceeds the lower limit, the amount of transmitted electrons increases, and when the thickness exceeds the upper limit, X-ray emission to the back surface decreases.
The X-ray generation device according to claim 7 of the present invention is the X-ray generation device according to claim 1 , wherein the energy level of the electron beam is as low as 10 Kev to 100 Kev.
The inside diameter d of the honeycomb-shaped channel of the X-ray guide is 0.1 to 0.4 mm, more preferably about 0.2 mm, and the diameter D of the X-ray guide is 2 to 4 mm, more preferably about 2.8 mm. The length L of the line guide is 0.7 to 1.4 mm, more preferably about 1 mm.
When the lower limit of the length of the X-ray guide is exceeded, the amount of transmitted electrons increases, and when the upper limit is exceeded, the X-ray is totally reflected more than necessary.
[0008]
An X-ray generator according to an eighth aspect of the present invention is the X-ray generator according to the first aspect , wherein the material of the X-ray guide is Al and a large number of holes are manufactured by machining.
X-ray generator according to claim 9, wherein according to the invention, in the X-ray generator according to claim 1, the X-ray guide are those formed by bundling a plurality of metal pipes.
[0009]
In order to achieve the object, an X-ray generator according to claim 10 according to the present invention comprises:
A vacuum vessel;
An electron source disposed in the vessel for generating a fast electron beam;
An X-ray target disposed in the container and colliding with an electron beam from the electron source to generate X-rays on the back surface ;
Has uniform pores of several, has a plurality of large conical bore from the input opening and the output opening for receiving the X-rays emitted from the back of the X-ray target, the hole is arranged on a rear surface of the X-ray target An X-ray guide for guiding the X-rays incident on the hole to the other surface by total reflection; and
An assembly similar to the assembly of the X-ray target and the X-ray guide is composed of an assembly of another X-ray target and an X-ray guide arranged in a column so that the holes correspond to each other.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of an apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
First, a case where the energy of the electron beam is high from 1 Mev to 10 Mev will be described. FIG. 1 is a schematic diagram showing the basic configuration of an X-ray generator according to the present invention.
An electron source 2 for generating a high-speed electron beam is provided in the vacuum vessel 1. The electron source 2 is composed of an ultra-small cold cathode using carbon nanotubes proposed by the present inventor. A microwave with a high voltage is applied from the microwave source 7 between the ultra-small cold cathode and the target 3. The electron beam excited by the microwave collides with the target 3 at a high speed. X-rays are generated from the back surface of the target 3 by the collision of the electron beams. The generated X-ray repeats total reflection on the inner wall of the X-ray guide 4, passes through the electron trapping electrode 5, and is emitted to the outside. The electron trapping electrode 5 captures electrons when a part of the electron beam colliding with the target 3 passes through the target 3 and travels to reach the electron trapping electrode 5. On the other hand, the electron trapping electrode 5 has a function of transmitting the X-ray. As the material, beryllium metal is suitable.
[0011]
The X-ray guide 4 shown in FIG. 1 forms a large number of honeycomb-like holes in a metal member, as shown in FIG. This is performed by electric discharge machining. A hole with a smooth surface can also be formed by pushing a needle-shaped metal. In addition to machining the metal bulk in this way, it is also possible to bind and form metal tubes.
The X-ray guide 4 is disposed on the back surface of the X-ray target 3 and totally reflects X-rays incident on an arbitrary hole 4i inside the X-ray guide 4 by the inner wall of the hole 4i. FIG. 4 shows the reflection state in an enlarged manner for one arbitrary hole 4i. X-rays are totally reflected when the incident angle is large, that is, when the X-ray angle with the metal surface is small.
[0012]
Next, the generation state of the X-ray 33 when the high-speed electron beam 31 collides with the thin metal film target shown in FIG. 3 will be described. When the high-speed electron beam 31 supplied from the electron source collides with the target 32, X-rays are generated on the back surface of the target 32.
When a high-speed electron beam of about 10 MeV collides with a thin metal film target 32 having a thickness of about 0.1 mm, X-rays 33 are generated on the back surface of the metal film target.
If the thickness of the metal film target 32 is reduced, X-rays are strongly emitted in the back surface direction, and the radiation angle is reduced. On the other hand, some high-speed electron beams pass through the thin metal film target 32.
[0013]
The material of the target 33 is selected from Au, W, Mo, Pt, and Re, which are metals having a large atomic weight and having a high melting point, chemical stability, and thermal radiation.
Similarly, the material of the honeycomb-shaped X-ray guide is selected from Al, Au, W, Mo, Pt, and Re. In particular, since the hole of the honeycomb-shaped X-ray guide is several hundred microns or less, Al that can be easily processed by electric discharge machining can be used. At this time, in order to obtain a structure in which the heat dissipation characteristics of the Al metal are improved, a heat dissipation mechanism in close contact with the honeycomb-shaped X-ray guide is used. The electron trapping electrode 5 shown in FIG. 4 is a very thin metal plate, has a function of transmitting X-rays and capturing electrons, and uses a metal such as beryllium.
[0014]
In the X-ray generator described above, that make up the X-ray generator of a number of stages arranged in tandem two or more so as the same assembly and assembly of said X-ray target and an X-ray guide the hole corresponding.
A first embodiment of an X-ray generator configured with a target and an X-ray guide in a three-stage set will be described with reference to FIG. The inside of the vacuum vessel is provided with an electron source that is arranged in the vessel and generates a high-energy electron beam 51. A high-speed electron beam 51 from the electron source (not shown) disposed in the container collides with the first target plate 52.
A honeycomb-shaped first X-ray guide plate 53 having a large number of uniform holes is disposed on the back surface of the first target plate 52 that generates X-rays.
Further, a second target plate 54 that generates X-rays is disposed on the back surface of the honeycomb-shaped first X-ray guide plate 53. A honeycomb-shaped second X-ray guide plate 55 having a large number of uniform holes is disposed on the back surface of the second target plate 54.
Subsequently, a third target plate 56 is disposed on the back surface of the honeycomb-shaped second X-ray guide plate 55. A honeycomb-shaped third X-ray guide plate 57 having a large number of uniform holes is disposed on the back surface of the third target plate 56. In this way, the target and the X-ray guide are assembled in three stages. Finally, X-rays are transmitted, but an electrode 58 for collecting electron beams is arranged.
[0015]
Inside the vacuum vessel is an electron source that is arranged in the vessel and generates a high energy electron beam, and a high-speed electron beam 51 from the electron source arranged in the vessel collides with the first target 52. X-rays are generated on the back surface of the first target plate 52 of the thin metal film. The generated X-ray 11 is totally reflected by the wall surface of the honeycomb-shaped first X-ray guide plate 53 having a large number of uniform holes on the back surface of the first target plate 52, and proceeds downward in the figure. The X-ray 11 passes through the second target plate 54. The transmitted X-rays 12 totally reflect the wall surface of the second X-ray guide plate 55 having a honeycomb shape. The X-ray 12 passes through the third target plate 56. The transmitted X-rays 13 are totally reflected on the wall surface of the third X-ray guide plate 57, finally pass through the electrodes, and are extracted to the outside.
[0016]
As described with reference to FIG. 3, a part of the high energy electron beam passes through the first target plate 52 as it is. The passing electrons 9 collide with the next second target plate 54. X-rays are generated by this collision. The X-rays are totally reflected by the wall surface of the second X-ray guide plate 55 having a honeycomb shape, pass through the third target plate 56, and then radiated to the outside. However, a part of the high-speed electron beam colliding with the second target plate 54 passes through the second target plate 54 (electron beam 10) and collides with the third target plate 56 to generate X-rays.
[0017]
This X-ray is totally reflected on the wall surface of the honeycomb-shaped third X-ray guide plate 57 and radiates to the outside. If the high-speed electron beam collides with the first target plate 52, the second target plate 54, and the third target plate 56 sequentially, it is almost converted into X-rays. Here, by appropriately selecting the thickness of the target film, improvement in X-ray generation efficiency and improvement in X-rays with a narrow X-ray emission angle can be obtained.
[0018]
The components of the second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. In this embodiment, the hole constituting the honeycomb has a conical surface.
Inside the vacuum vessel, there is an electron source that is arranged in the vessel and generates a high-energy electron beam, and a hollow donut-shaped high-speed electron beam (61 indicates the central axis) collides with the target 62. X-rays are generated on the back surface of the thin metal film target 62. The hole of the X-ray guide is composed of an input side opening for receiving X-rays and an output opening for emitting X-rays. The central portion of the X-ray guide has a structure of an X-ray guide wall 63 in which a metal portion 64 made of copper or the like is coated with tungsten. In particular, the X-ray guide structure forms a tube with a tapered input opening that is larger than the output opening. The generated X-ray 65 is totally reflected on the back surface of the target 62 by the X-ray guide wall surface. The reflected X-ray 66 is totally reflected again by the X-ray guide wall surface. The totally reflected X-ray 67 is taken out of the X-ray guide.
[0019]
The inner diameter of the input side opening for receiving X-rays is about 0.2 to 0.4 mm, and 0.2 mm is selected as a representative value. In addition, an inner diameter of about 0.05 mm of the output side opening for emitting X-rays is selected. When the energy level of the electron beam is 1 Mev to 10 Mev, the length of the X-ray guide is approximately 10 mm.
[0020]
A portion of the fast electron beam may pass through the target 62 and advance. In this case, the second target may be provided on the back surface of the output opening of the X-ray guide, and the X-ray guide may be configured in multiple stages. Here, by selecting the thickness of the target film to the above-described dimensions, the X-ray generation efficiency can be improved and X-rays with a narrow X-ray emission angle can be obtained. Except for the difference in the shape of the holes, the second embodiment is the same as the second embodiment described above, and a description thereof will be omitted.
[0021]
As described above, when the energy of the electron beam is high from 1 Mev to 10 Mev, it is used for radiation therapy. However, the energy level of the electron beam can be lowered from 10 Kev to 100 Kev and used for measurement.
The inside diameter d of the honeycomb-shaped channel of the X-ray guide is 0.1 to 0.4 mm, more preferably about 0.2 mm, and the diameter D of the X-ray guide is 2 to 4 mm, more preferably about 2.8 mm. The length L of the line guide is 0.7 to 1.4 mm, more preferably about 1 mm.
The target thickness is 0.01 mm or less, and acceleration of the electron beam is performed by a high voltage pulse or a microwave electric field, and the electron source can be performed using a field emitter or the like. Used for diagnosis and inspection.
[0022]
On the other hand, when the energy of the electron beam is as high as 1 to 10 Mev, the target thickness is 0.1 mm or less, and the electron beam is accelerated by a microwave electric field, and the electron source is a thermal electron gun or This can be done using carbon nanotubes. It is used for X-ray therapy as an application.
[0023]
【The invention's effect】
The X-ray generator according to the present invention can generate a small-diameter X-ray beam having a small size and high parallelism.
The X-ray generator according to the present invention can be used as an X-ray source for intensity-modulated radiation therapy IMRT (Intensity Modulated Radiation Therapy), which is an irradiation method created three-dimensionally, or an X-ray source for CT.
[0024]
As described above, various modifications can be made to the embodiment described in detail within the scope of the present invention. By changing the density distribution of electrons generated by the high-energy electron source 2, the distribution of X-rays obtained can be changed. It is also possible to generate an electron beam that selectively uses a large number of through holes. Many through holes can be intentionally inclined.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a basic configuration of an X-ray generator according to the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of an X-ray guide used in the X-ray generator according to the present invention.
FIG. 3 is a schematic diagram showing an X-ray generation state when a high-speed electron beam collides with a thin film target.
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a part of an X-ray guide.
FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of the first embodiment of the X-ray generator according to the present invention;
FIG. 6 is a schematic view showing a target plate and an X-ray guide wall used in the second embodiment of the X-ray generator according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum container 2 High energy electron source 3 Target 4 X-ray guide 5 Electron capture electrode 7 Microwave source 9,10 High-speed electron beam 11, 12, 13, 14 X-ray 51 High-speed electron beam 52 First target plate 53 First X-ray guide Plate 54 Second target plate 55 Second X-ray guide plate 56 Third target plate 57 Third X-ray guide plate 58 Electrode 61 High-speed electron beam 62 Target 63 X-ray guide wall of tungsten 64 Central portion of X-ray guide formed of copper 65 66 67 68 69 X-ray 70 Fast electron beam transmitted through target

Claims (10)

真空容器と、
前記容器に配置され高速電子ビームを発生する電子源と、
前記容器に配置され前記電子源からの電子ビームに衝突され、裏面にX線を発生するX線ターゲットと
数の均一な孔をもち前記X線ターゲットの背面に配置され、前記孔に入射したX線を全反射により他面に導くX線ガイドと、および
前記X線ターゲットとX線ガイドとの組立と同様な組立を前記孔が対応するように縦列に配置した他のX線ターゲットとX線ガイドとの組立から構成したX線発生装置。
A vacuum vessel;
An electron source disposed in the vessel for generating a fast electron beam;
An X-ray target disposed in the container and colliding with an electron beam from the electron source to generate X-rays on the back surface ;
It arranged a large number of uniform holes in the back of having the X-ray target, an X-ray guide for guiding the other surface by total reflection X-rays incident on the bore, and
An X-ray generation apparatus comprising an assembly similar to the assembly of the X-ray target and the X-ray guide, comprising an assembly of another X-ray target and an X-ray guide arranged in a column so that the holes correspond to each other .
請求項1記載のX線発生装置において、X線ガイドを通過したX線を透過し電子を吸収する吸収電極を設けたX線発生装置。The X-ray generator according to claim 1, further comprising an absorption electrode that transmits X-rays that have passed through the X-ray guide and absorbs electrons . 請求項記載のX線発生装置において、ターゲットの材料はAu,W,Mo,Pt,Re金属から選択された1または2以上の金属の組み合わせであるX線発生装置。2. The X-ray generator according to claim 1, wherein the target material is one or a combination of two or more metals selected from Au, W, Mo, Pt, and Re metal . 請求項記載のX線発生装置において、電子ビームのエネルギーレベルが1Mevから10Mevの場合は、前記ターゲットの厚さは0.7〜1.4mmであるX線発生装置。2. The X-ray generator according to claim 1 , wherein when the energy level of the electron beam is 1 to 10 Mev, the thickness of the target is 0.7 to 1.4 mm . 請求項記載のX線発生装置において、電子ビームのエネルギーレベルが1Mevから10Mevの場合は、X線ガイドのハネカム状のチャンネルの孔の内径dは0.1〜0.4mm、X線ガイドの直径Dは2〜4mm、X線ガイドの長さLは7〜14mmであるX線発生装置。2. The X-ray generator according to claim 1, wherein when the energy level of the electron beam is 1 to 10 Mev, the inner diameter d of the hole of the honeycomb-shaped channel of the X-ray guide is 0.1 to 0.4 mm. An X-ray generator having a diameter D of 2 to 4 mm and an X-ray guide length L of 7 to 14 mm . 請求項記載のX線発生装置において、電子ビームのエネルギーレベルが10Kevから100Kevの場合に、前記ターゲットの厚さは0.07〜0.14mmであるX線発生装置。2. The X-ray generator according to claim 1 , wherein when the energy level of the electron beam is 10 Kev to 100 Kev, the thickness of the target is 0.07 to 0.14 mm . 請求項記載のX線発生装置において、電子ビームのエネルギーレベルが10Kevから100Kevと低い場合に、
X線ガイドのハネカム状のチャンネルの孔の内径dは0.1〜0.4mm、X線ガイドの直径Dは2〜4mm、X線ガイドの長さLは0.7〜1.4mmであるX線発生装置。
The X-ray generator according to claim 1, wherein the energy level of the electron beam is as low as 10 Kev to 100 Kev.
The inner diameter d of the hole of the honeycomb-shaped channel of the X-ray guide is 0.1 to 0.4 mm, the diameter D of the X-ray guide is 2 to 4 mm, and the length L of the X-ray guide is 0.7 to 1.4 mm. X-ray generator.
請求項記載のX線発生装置において、前記X線ガイドの材料はAlであり多数の孔は機械加工により製造されたものであるX線発生装置。2. The X-ray generator according to claim 1 , wherein the material of the X-ray guide is Al, and a number of holes are manufactured by machining . 請求項記載のX線発生装置において、X線ガイドは、多数の金属パイプを結束して形成したものであるX線発生装置。The X-ray generator according to claim 1, wherein the X-ray guide is formed by binding a large number of metal pipes . 真空容器と、
前記容器に配置され高速電子ビームを発生する電子源と、
前記容器に配置され前記電子源からの電子ビームに衝突され、裏面にX線を発生するX線ターゲットと、
複数の均一な孔をもち、複数の前記X線ターゲットの背面から放射されるX線を受ける入力開口が出力開口より大きい円錐状の孔をもち、前記孔は前記X線ターゲットの背面に配置され、前記孔に入射したX線を全反射により他面に導くX線ガイドと、および
前記X線ターゲットとX線ガイドとの組立と同様な組立を前記孔が対応するように縦列に配置した他のX線ターゲットとX線ガイドとの組立から構成したX線発生装置。
A vacuum vessel;
An electron source disposed in the vessel for generating a fast electron beam;
An X-ray target disposed in the container and colliding with an electron beam from the electron source to generate X-rays on the back surface;
An input opening for receiving X-rays radiated from the back surfaces of the plurality of X-ray targets has a conical hole larger than an output opening, and the holes are disposed on the back surface of the X-ray target. An X-ray guide for guiding the X-rays incident on the hole to the other surface by total reflection; and
An X-ray generation apparatus comprising an assembly similar to the assembly of the X-ray target and the X-ray guide, comprising an assembly of another X-ray target and an X-ray guide arranged in a column so that the holes correspond to each other .
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