JP3864760B2 - Master exposure method, master exposure apparatus and master - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ビームを用いて回転する原盤に情報を記録する原盤露光方法に関し、更に詳細にはクロック信号を発生するパターンを原盤に形成し、形成されたパターンを検知して得られる信号を利用して情報を原盤に高位置精度に記録する新しい原盤露光方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
この種の原盤露光装置は、フォトレジストを塗布したガラス原盤をスピンドルモータで回転させ、フォトレジストに光ビームを照射しながらガラス原盤の径方向に移動させることにより、螺旋状又は同心円状に情報ピットの列を形成する。
【0003】
光ビームとしては可視光又は紫外光のレーザ光を使用することが多いが、高密度記録を実現するために微細な電子ビームを用いる装置の開発も行われている。
【0004】
スピンドルモータにはモータの回転を高精度に制御するために一周あたり数千パルスの電気信号を発生するロータリエンコーダが取り付けられている。このロータリエンコーダが発生する電気信号に基づいてPLL(PhaseLocked Loop)制御が行われ、記録される情報ピットのガラス原盤の回転変動による位置ずれを防止するようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
この例として、特開平8−212552号公報に記載された「光ディスク原盤露光装置」が挙げられる。この原盤露光装置は、スピンドルモータに取り付けられたロータリエンコーダからモータ角速度を検出して、検出された角速度に応じて記録する情報の露光タイミングを可変するものである。
【0006】
しかしながら、この方法には二つの問題がある。一つは、スピンドルモータに取り付けられたロータリエンコーダの取り付けによる偏芯の問題である。この偏芯があると、仮にスピンドルモータが一定角速度で回転していても回転周期に同期した回転変動があるかのような信号がロータリエンコーダから出力され、原盤上に記録される情報ピットの位置精度が悪化することになる。
【0007】
また、この偏芯に対してロータリエンコーダの出力信号に基づいて情報の記録データを補正した場合でも、原盤上に同じ長さの情報ピットを作ろうとして、実際には一周に一回の周期で長い情報ピットと短い情報ピットとができてしまうことになる。
【0008】
二つ目は、スピンドルモータの回転ムラ(いわゆるワウ・フラッタリング)によるジッタの問題である。信号源であるロータリエンコーダの出力にスピンドルモータの回転ムラによるジッタが存在すると、その後のPLL制御において、ループフィルタでそのジッタの影響が無くなるまで周波数帯域を制限することになり、制限された周波数以上の精密な補正ができないことになる。したがって、原盤の一周内での均一性を求める場合に、ロータリエンコーダ自体のジッタで補正に制限がかけられてしまうという問題がある。
【0009】
ところで、この回転ムラは、一般に回転数が下がるほど大きくなることが知られている。近年は、高密度記録要求に対応した電子ビーム露光装置が注目されているが、この電子ビーム露光装置で露光する場合は、フォトレジスト感度と電子ビーム強度との関係から原盤回転数を下げて使うことが多い。また高精細記録のためにより短い情報ピットを作製するようになると、電子ビームの変調帯域により更に回転数を下げることになる。このため、電子ビーム露光装置では原盤回転系の回転ムラの問題はより深刻なものになる。
【0010】
このような背景から、本発明は、原盤露光装置におけるロータリエンコーダ取り付けによる偏芯と原盤回転系の回転ムラとによる情報ピットの位置ずれをなくして高精度に記録する方法及びその装置の提供を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
第一の発明は上記の偏芯と回転ムラとの問題を解決する露光方法を提供する。
【0012】
この発明では、クロック信号を発生させるためのパターン、すなわちロータリエンコーダ、を原盤露光装置で原盤自体に形成する。つまり、モータにロータリエンコーダを取り付ける行為をなくすことで、ロータリエンコーダの取り付け誤差による偏芯の問題そのものをなくすことができる。
【0013】
また、このロータリエンコーダを形成する際に、原盤回転系の回転ムラの影響が実用上無視できる回転数を選ぶことでジッタの極めて小さなロータリエンコーダを形成し、回転ムラに起因する問題をなくすことができる。
【0014】
次いで情報を原盤に記録する際に、このようにして形成されたロータリエンコーダを検出器で検出し、その検出信号に基づいて情報の露光タイミングを作成することで、位置精度の高い情報ピットを記録することが可能になる。
【0015】
第二の発明は、第一の発明において、ロータリエンコーダと情報ピットとのそれぞれの露光に適した光源、光変調器および原盤回転数とを選ぶ方法である。
【0016】
通常は情報ピットの記録条件から光源、光変調器および原盤回転数が決められることが多く、原盤回転系が回転ムラを多く含む場合がある。特に電子ビームを光源とするときは、比較的低速の回転数となるため、回転ムラも多い。
【0017】
このようなときに、ロータリエンコーダの記録条件を、例えば、光源にレーザ光、光変調器にレーザ光変調器を使用し、原盤回転数を原盤回転系の回転ムラが実用上無視できるレベルになるような比較的高速の回転数、あるいは原盤回転系の固有振動数からずらした回転数を選ぶことで、原盤にジッタの極めて少ないロータリエンコーダを形成することができ、このロータリエンコーダの出力に基づいて電子ビームによる情報ピットの露光タイミングを作成することでこの回転ムラの問題を解決することができる。
【0018】
第三の発明は、上記の偏芯と回転ムラとの問題を解決して高位置精度の情報ピットを記録する露光装置を提供するものである。
【0019】
まず、本発明の原盤露光装置は、光源と、クロック信号発生手段と、パターン記録信号発生手段と、光変調手段と、光ビームにより感光する原盤と、クロック信号発生手段が発生するクロック信号に基づいて原盤を回転もしくは回転及び原盤の半径方向に移動させる原盤駆動手段と、検知手段と、情報記録信号作成手段とを備えている。
【0020】
そして、クロック信号発生手段の発生するクロック信号を基準にしてパターン記録信号発生手段が原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成するパターン記録信号を発生し、このパターン記録信号に応じて光変調手段が光源から出射される光ビームをオン/オフして原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される原盤の表面にパターンを形成する。
【0021】
次に、検知手段が前記原盤の表面に形成されたパターンを検知して発生する検知信号に基づいて、情報記録信号作成手段が前記原盤に情報を記録する情報記録信号を作成し、光変調手段がこの情報記録信号に応じて前記光源から出射される光ビームをオン/オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に情報を記録することにより、高位置精度の原盤を作成することができる。
【0022】
第四の発明は、ロータリエンコーダの出力パルス数を情報ピットが記録される各ゾーンの一周あたりのパルス数の最小公倍数もしくはその整数倍とする原盤を提供する。
【0023】
近年、原盤に情報ピットを記録するにあたり、記録する領域を複数のゾーンに分割し、ゾーン毎に異なるパルス数(周波数)で記録されることが増えている。
【0024】
このとき、ロータリエンコーダのパルス数を各ゾーンの各パルス数の最小公倍数もしくはその整数倍として作製することで、各ゾーンに情報ピットを記録する際のそれぞれのクロック信号を、ロータリエンコーダの検出出力から容易に作成することができる。
【0025】
第五の発明は、原盤上にロータリエンコーダを形成するのに適した感光材料を提供するものである。原盤上のロータリエンコーダを形成する部分に、露光されることによって反射率もしくは位相が変化する材料を用いることで、反射光の反射率もしくは位相の変化を検出するのに適したロータリエンコーダを形成することができる。このような材料としては、相変化材料、金属膜、金属膜上にフォトレジストを塗布したもの、厚さの異なるフォトレジストを塗布したもの、あるいはフタロシアニン等が挙げられる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以降、図面を使用して本発明の技術を詳細に説明する。
【0027】
図1は、本発明の原盤露光方法において原盤にロータリエンコーダを形成する方法の一実施例である。図1において、1は原盤、2 はレーザ光源、3はクロック発振器、4はパターン記録信号発生器、5は光変調器、6はモータ制御部、7はスピンドルモータである。
【0028】
図1において、パターン記録信号発生器4はクロック発振器3で発生されるクロックを基準にして記録すべき情報を電気信号として光変調器5に与え、光変調器5はレーザ光源2からのレーザ光をオン/オフする光信号に変えて原盤1に照射する。原盤1は、クロック発振器3で発生されるクロックを基準にしてパターン記録信号発生器4で作成される回転指令信号によりモータ制御部6にて回転駆動されるスピンドルモータ7にて回転され、光変調器5で光変調されて照射されるレーザ光により表面にロータリエンコーダが形成される。
【0029】
図5は表面にロータリエンコーダが形成された原盤を示す。図5(a)では、原盤20の外周近くの領域(エンコーダ領域)21にロータリエンコーダを形成し、その内側の領域(データ領域)22に記録すべき情報が情報ピットとして形成される場合を示す。また、図5(b)は、原盤の中央部近傍をエンコーダ領域21とし、その外側の領域をデータ領域22とした場合を示す。エンコーダ領域21部分の材料やレジスト層の厚さはエンコーダ検出方法に合わせてデータ領域22の部分と異なる方が望ましい。
【0030】
図2は、本発明の原盤露光方法において原盤に情報ピットを記録する方法の一実施例である。図2において図1と共通するものは同じ記号で示す。図2における情報記録信号作成部9は、位相比較器(PD)91、ループフィルタ(LF)92、電圧制御発振器(VCO)93、1/N分周器(1/N)94、フォーマッタ(FS)95から構成され、ライトクロックPLL回路を形成している。
【0031】
図1に説明した方法にて原盤1の表面に形成されたロータリエンコーダをエンコーダ信号検出器8で検出し、検出された信号が位相比較器91に入力され、これを基準信号としてもう一方の入力である1/N分周器94の出力との位相誤差信号が生成される。この位相誤差信号はループフィルタ92を通って電圧制御発振器93に入力される。電圧制御発振器93の出力は1/N分周器94を介して位相比較器91にフィードバックされる。
【0032】
また、電圧制御発振器93の出力はライトクロック信号としてフォーマッタ95に与えられる。ライトクロック信号は上記のライトクロックPLL回路の出力で、エンコーダ出力に同期してかつN倍(分周比の逆数)の周波数を有する信号である。フォーマッタ95はこのライトクロック信号に基づいて情報ピット形成のための信号を生成してレーザ光のオン/オフ制御を行う光変調器5に与え、原盤1の表面に情報ピットを記録する。
【0033】
ところで、一般にモータの回転ムラは、回転体の慣性モーメントにもよるが、回転体の回転数が高くなればなるほど小さくなる傾向がある。
【0034】
図6は、上記原盤露光時のモータの回転数と回転ムラの様子をモータに取り付けたロータリエンコーダの出力パルスの周波数を測定して表したものである。
【0035】
横軸は1周の時間を、縦軸はロータリエンコーダ出力パルスの周波数を表している。モータの回転数が200rpmではモータの極数を反映すると思われる周波数変動、すなわち回転ムラが見られる。回転数1000rpmでは振幅は小さくなってくるもののまだ回転ムラが残っている。回転数が3000rpmになると回転ムラは無視できるレベルになり、ロータリエンコーダ取り付け時の偏芯に起因する一周一サイクルのうねりが目立つようになる。このうねりは、ロータリエンコーダを露光装置自体で作成することにより回避される。
【0036】
具体的な例として、3.5インチサイズの光磁気ディスクでは、直径200mm、厚さ6mmの原盤が用いられる。この光磁気ディスクでは、スピンドルモータ回転数3000rpmでロータリエンコーダを原盤表面に形成する。
【0037】
次に原盤に形成されたロータリエンコーダをエンコーダ信号検出器で検出し、この検出信号に基づいて情報ピットの露光タイミングを作成し、スピンドルモータ回転数を1000rpmとして原盤上に情報ピットを記録する。このようにすることで、記録位置精度の高い原盤を作製することができる。
【0038】
ここでロータリエンコーダの検出方法についてみてみる。図2のエンコーダ信号検出器8におけるエンコーダ信号の検出方法には、反射率の変化を検出する方法と位相の変化を検出する方法とがある。
【0039】
反射率の変化を検出する方法では、図5におけるエンコード領域21の部分を相変化材料や反射率の低い金属膜としてそこにレーザ光を用いて穴を開けてロータリエンコーダを作製しても良い。または反射率の低い金属膜の上に厚さλ/4n (λはエンコーダ信号検出器の波長、n はフォトレジストの屈折率)のフォトレジストをコートしても良い。
【0040】
これらにおいて適切な露光パワーで露光すると、露光した部分の反射率が変化する。反射率を検出する方法の場合、露光したロータリエンコーダのパターンのエッジに起因する小さなジッタが存在することがあるが、この場合でも従来のエンコーダよりもジッタの絶対値は桁違いに小さく抑えることができる。
【0041】
また、位相の変化を検出する方法では、図5におけるエンコード領域21の部分に反射率の低い金属膜の上に、反射率の変化を検出する場合よりも薄く、厚さλ/8n のフォトレジストをコートすると良い。またガラス基板にロータリエンコーダ部分だけ上記と同じ厚さのフォトレジストをコートして、露光した後、現像して凹凸をつくっても良い。
【0042】
位相検出器としては、一般的に使われている図7の様なもので良い。図7において、30はロータリエンコーダが形成された原盤、31は波長780nmの半導体レーザ、32はミラー、33はハーフミラー、34はディテクタである。
【0043】
半導体レーザ31から出射されたレーザ光は原盤30に形成されたロータリエンコーダ30で回折されミラー32で反射し、ハーフミラー33での透過光と反射光との二つの回折光はディテクタ34に入射する。この入射光を電気信号に変換して2値化してエンコーダ信号を作成する。
【0044】
今、ロータリエンコーダが半径80mm、0.5μmのラインとスペースで形成されているとすると、一周で1,000,000パルスの信号を得ることができる。このことは、情報ピットを例えば半径30mmの位置で記録する場合には0.188μm毎にエンコーダパルスが得られることになり、精細なフォーマット信号が作成でき、精密な情報ピットが記録できることになる。
【0045】
この方法によると、従来、モータ取り付け用として使用していたロータリエンコーダよりも一周当たりのパルス数がはるかに多いものを形成することができるため、より高精度なPLLライトクロック信号の作成が可能となる。
【0046】
また、このようにしてロータリエンコーダを形成することにより、形成するロータリエンコーダのパターンに合わせて都合の良いパルス数のエンコーダ信号が得られるメリットがある。ロータリエンコーダのパルス数を原盤のデータ領域の複数のゾーンの各ゾーンの1周当たりのパルス数の最小公倍数またはその整数倍にすることで、原盤のデータ領域に情報ピットを記録する際のフォーマッタを作成しやすくすることができる。
【0047】
図3は、これまで説明してきた原盤の露光方法を実現する原盤露光装置の一実施例を示したものである。図3において図1および図2と共通するものは同じ記号で示す。この実施例では露光用の光源としてレーザ光源が使用されているが、このほかにも電子ビームと電子ビーム変調器との組み合わせも可能である。
【0048】
図4は、原盤にロータリエンコーダを形成する場合の光ビームとしてレーザ光を、情報ピットを形成する場合の光ビームとして電子ビームを用いた構成の装置の一実施例を示す。
【0049】
図4において図1および図2と共通するものは同じ記号で示す。パターン記録信号発生器4はクロック発振器3で発生されるクロックを基準にして記録すべき情報を電気信号として光変調器5に与え、光変調器5はレーザ光源2からのレーザ光をオン/オフする光信号に変えて原盤1に照射する。原盤1は、クロック発振器3で発生されるクロックを基準にしてパターン記録信号発生器4で作成される回転指令信号によりモータ制御部6にて回転駆動されるスピンドルモータ7にて回転され、光変調されて照射されるレーザ光により原盤の表面にロータリエンコーダが形成される。
【0050】
次に、原盤1の表面に作成されたロータリエンコーダをエンコーダ信号検出器8で検出し、その検出信号が位相比較器91に入力され、これを基準信号としてもう一方の入力である1/N分周器94の出力との位相誤差信号が生成される。
【0051】
この位相誤差信号はループフィルタ92を通って電圧制御発振器93に入力される。電圧制御発振器93の出力は1/N分周器94を介して位相比較器91にフィードバックされる。フォーマッタ95はこのライトクロック信号に基づいて情報ピット形成のための信号を生成して電子ビーム源10から発せられる電子ビームのオン/オフ制御を行う電子ビーム変調器11に与え、原盤1の表面に情報ピットを記録する。
【0052】
例えば、レーザ光を用いてスピンドルモータ回転数3000rpmで原盤表面にロータリエンコーダを形成する。次に、そのロータリエンコーダの検出出力に基づいて情報ピットの露光タイミングを作成し、電子ビームを用いて高密度記録に必要なスピンドルモータ回転数、例えば200rpm、で情報ピットを記録する。こうして、高密度で高位置精度の情報ピットを記録することができる。
【0053】
図4の実施例では、パターン形成用と情報記録用の露光用光源としてそれぞれレーザ光源と電子ビームとの組み合わせが示されているが、このほかにも波長の異なる2種類のレーザ光源の組み合わせや、波長の異なる2種類の電子ビームの組み合わせも可能である。
【0054】
以上、高位置精度に情報を記録する原盤露光方法と原盤露光装置の実施例について説明してきた。これまでは主に光磁気ディスクを例に取り上げて説明してきたが、本発明の露光方法及び露光装置及び原盤は、他の光ディスクやまたは磁気ディスク等の原盤作製においても適用することが可能である。
【0055】
ここから以降は、ガラス原盤にロータリエンコーダを露光する際の感光材について説明する。感光材には、露光により位相が変化するものと反射率が変化するものとがあり、それらについて具体的な実施例を挙げて説明する。
【0056】
〔実施例1〕
図8は、ガラス原盤に感光材として相変化材料を用いてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。その形成工程は、(a)表面を研磨したガラス原盤40の、(b)外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分にInSb等の相変化材41をスパッタリングで100nm厚製膜し、その上にSiN等の保護膜42を20nm厚スパッタリングで製膜する。このとき、ガラス基板のデータ記録領域をこのスパッタリングから保護する必要がある。
【0057】
図14はその保護の状態を示しており、80はガラス原盤、81は原盤搭載用のターンテーブル、82はデータ記録領域を保護するための軟磁性材料からなるマスク、83はマグネットである。ガラス原盤80の中央部近傍のデータ記録領域をマグネット83で保持されたマスク82で覆うことによりスパッタリングから保護している。
【0058】
図8に戻り、スパッタリング後マスクを外して、(c)ガラス原盤にフォトレジスト層43を所定の厚さスピンコートする。次いで、(d)フォトレジストの溶剤で相変化材41を製膜した部分のフォトレジストを除去したのち100℃で30分間プリベークして原盤を作製する。
(e)この原盤を図3に示すような原盤露光装置に搭載し、スピンドルモータの回転数を3000rpmとして、波長350nm、露光パワー5mWのレーザ光で相変化材部分を露光してロータリエンコーダを形成する。
【0059】
形成するロータリエンコーダは読み取り専用であるから反射率変化が起これば十分であるため、初期化処理は必要としない。また、露光ピッチを0.2μm程度とし、隣接するトラックと重ね書きする。こうすることで、一周にわたり高精度の放射線状のパターンを持つロータリエンコーダを形成することができる。
【0060】
次に、図3に示すように、形成したロータリエンコーダの上部にエンコーダ信号検出器8を設置し、露光ピットの長さ補正を掛けられる程度の低い回転数で情報ピットを記録することで、位置精度の高い高密度の情報ピットを記録することができる。
【0061】
〔実施例2〕
図9は、ガラス原盤に感光材として薄い金属膜を用いてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。(a)表面を研磨したガラス原盤50の、(b)外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分に酸化クロム等の金属膜51をスパッタリングで50nm製膜する。(c)フォトレジスト52を所定の厚さスピンコートする。(d)フォトレジストの溶剤で金属膜51のフォトレジストを除去し、100℃で30分間プリベークする。(e)スピンドルモータの回転数を3000rpmとして、波長350nm、露光パワー10mWのレーザ光で金属膜51部分を露光する。これにより金属膜に穴をあけ、ロータリエンコーダを形成する。
【0062】
〔実施例3〕
本実施例は、実施例2において情報ピットを電子ビームで形成する場合の実施例である。図9を参照して、(a)表面を研磨したガラス原盤50の、(b)外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分に酸化クロム等の金属膜51をスパッタリングで50nm製膜する。(c)電子ビーム用のフォトレジスト52を所定の厚さスピンコートする。(d)ロータリエンコーダを形成する部分のフォトレジスト52を溶剤で除去し、100℃で30分間プリベークする。
(e)図4の例に示されるようなレーザ光が組み込まれた電子線露光装置にこの原盤をセットし、スピンドルモータの回転数を3000rpmとして、波長350nm、露光パワー10mWのレーザ光で金属膜51部分を露光する。これにより金属膜に穴をあけ、ロータリエンコーダを形成する。実施例1と同様に反射率変化を検出して、所定の回転数にて電子ビームで情報ピットを記録する。こうして、高位置精度に情報を記録された原盤ができあがる。
【0063】
〔実施例4〕
図10は、ガラス原盤に感光材として反射率の低い金属上にフォトレジストをコートしてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。図10において、(a)表面を研磨したガラス原盤60の、(b)外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分に酸化クロム等の反射率の低い金属膜61をスパッタリングで50nm製膜する。(c)フォトレジスト62を所定の厚さスピンコートする。(d)更にロータリエンコーダを作成する部分にだけ粘度の高いフォトレジスト63を120nmスピンコートし、100℃で30分間プリベークする。(e)スピンドルモータの回転数を3000rpmとして、波長350nm、露光パワー0.5mWのレーザ光でフォトレジストを露光する。露光した部分のフォトレジストは焼けてなくなり、現像することなくロータリエンコーダの凹凸パターンが出来る。
【0064】
〔実施例5〕
本実施例は、実施例4においてロータリエンコーダを形成する部分にのみフォトレジストをコートする方法である。図11を参照して、(a)表面を研磨したガラス原盤60の、(b)外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分に酸化クロム等の反射率の低い金属膜61をスパッタリングで50nm製膜する。
(c)ロータリエンコーダを形成する部分にフォトレジスト62を所定の厚さスピンコートする。(d)さらにロータリエンコーダを形成する部分に粘度の高いフォトレジスト63を60nmスピンコートし、100℃で30分間プリベークする。(e)スピンドルモータの回転数を3000rpmとして、波長350nm、露光パワー0.7mWのレーザ光でフォトレジスト63を露光する。露光した部分のフォトレジストは焼けてなくなり、現像することなくロータリエンコーダの凹凸パターンが出来る。
【0065】
〔実施例6〕
図12は、ガラス原盤に感光材として高粘度のフォトレジストを用いてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。その形成工程は(a)表面を研磨したガラス原盤70に、(b)フォトレジスト71を所定の厚さスピンコートする。(c)ロータリエンコーダを形成する部分に粘度を上げたフォトレジスト72を60nmスピンコートし、100℃で30分間プリベークする。
(d)スピンドルモータの回転数を3000rpm、波長350nm、露光パワー1mWのレーザ光でフォトレジスト72を露光する。
【0066】
次にロータリエンコーダの部分だけに現像液がかかる様にして、露光装置上で現像する。このとき、現像液がデータ領域の部分に入らず、かつ外側からの跳ね返りがないようにスピンドルモータの回転数は300rpmとする。現像液は5mlを10秒流し、次に純水で50mlを1 分間流して洗浄する。徐々にスピンドルモータの回転数を800rpmまで上げて乾燥させ、その後、現像液と純水を回収する。図15はこのときの状態を示している。図15において、85はガラス原盤、86はターンテーブル、87は現像液回収部である。現像液と純水がターンテーブル86から流れ出ないようにターンテーブル86に図15の破線で表されているような逆テーパーをつけることで現像液と純水の跳ね返りをおさえることができる。
【0067】
〔実施例7〕
図13は、ガラス原盤に感光材としてフタロシアニンを用いてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。その形成工程は、(a)表面を研磨したガラス原盤80上に、(b)フォトレジスト81を所定の厚さスピンコートし、(c)フォトレジストの溶剤で外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分のフォトレジストを除去し、100℃で30分間プリベークする。次に(d)ロータリエンコーダを形成する部分にフタロシアニンをスピンコートする。原盤を原盤露光装置にセットして、(e)スピンドルモータの回転数を3000rpmとして、波長350nm、露光パワー3mWのレーザ光でフタロシアニン部分を露光する。露光した部分は反射率が下がるので、この方法で反射率の変化を検出するロタリエンコーダを形成することができる。
【0068】
(付記1) 原盤に情報を記録する原盤露光方法であって、
原盤の表面にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する第一の露光を行い、
第一の露光にて原盤に形成されたパターンを検知して得られる検知信号に基づいてクロック信号を作成し、このクロック信号を露光タイミングの基準にして前記の原盤の表面に情報を記録する第二の露光を行うことを特徴とする、原盤露光方法。
【0069】
(付記2) 原盤駆動手段によって回転もしくは回転及び原盤の半径方向に移動される原盤に光ビームを照射することにより露光を行う原盤露光方法であって、
上記第一の露光と上記第二の露光とに使用される光ビームの種類と光変調手段と原盤の回転数とを共にまたは個別に変更して露光を行うことを特徴とする、付記1に記載の原盤露光方法。
【0070】
(付記3) 光源と、
クロック信号発生手段と、
パターン記録信号発生手段と、
光変調手段と、
光ビームにより感光する原盤と、
クロック信号発生手段が発生するクロック信号に基づいて原盤を回転もしくは回転及び原盤の半径方向に移動させる原盤駆動手段と、
検知手段と、
情報記録信号作成手段とを備え、
クロック信号発生手段の発生するクロック信号を基準にしてパターン記録信号発生手段が原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成するパターン記録信号を発生し、このパターン記録信号に応じて光変調手段が光源から出射される光ビームをオン/オフして原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される原盤の表面にパターンを形成し、
検知手段が前記原盤の表面に形成されたパターンを検知して発生する検知信号に基づいて、情報記録信号作成手段が前記原盤に情報を記録する情報記録信号を作成し、光変調手段がこの情報記録信号に応じて前記光源から出射される光ビームをオン/オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に情報を記録することを特徴とする、原盤露光装置。
【0071】
(付記4) 付記1に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
第一の露光で形成されるパターンはロータリエンコーダ用のパターンであり、
このロータリエンコーダの一周あたりのパルス数が第二の露光で原盤に記録される情報の各ゾーンの一周あたりのパルス数の最小公倍数もしくはその整数倍であることを特徴とする、原盤。
【0072】
(付記5) 付記1に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する部分の材料が、露光されることによって反射率もしくは位相が変化する材料であることを特徴とする、原盤。
【0073】
(付記6) 付記1に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
該原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する部分の材料が相変化材料であることを特徴とする、原盤。
【0074】
(付記7) 付記1に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
該原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する部分の材料が金属膜かもしくは金属膜上にフォトレジストを塗布したものであることを特徴とする、原盤。
【0075】
(付記8) 付記1に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
該原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する部分の材料が厚さの異なるフォトレジストを塗布したものであることを特徴とする、原盤。
【0076】
(付記9) 付記2に記載の原盤露光方法であって、
第一の露光における光ビームがレーザビームであり、
第二の露光における光ビームが電子ビームであることを特徴とする、原盤露光方法。
【0077】
(付記10) レーザ光源と、
クロック信号発生手段と、
パターン記録信号発生手段と、
レーザ光源から出射されるレーザ光をパターン記録信号に応じてオン/オフするレーザ光変調手段と、
レーザ光変調手段から照射されるレーザ光により感光する原盤と、
クロック信号発生手段が発生するクロック信号に基づいて原盤を回転もしくは回転及び原盤の半径方向に移動させる原盤駆動手段とを備え、
前記クロック信号発生手段の発生するクロック信号を基準にして前記パターン記録信号発生手段が前記原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成するパターン記録信号を発生し、該パターン記録信号に応じて前記光変調手段が前記レーザ光源から出射されるレーザ光をオン/オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面にパターンを形成し、
電子ビーム光源と、
電子ビーム光源から出射される電子ビームを情報記録信号に応じてオン/オフする電子ビーム変調手段と、
原盤の表面に形成されたパターンを検知して検知信号を発生する検知手段と、検知信号に基づいて原盤に情報を記録する信号を作成する情報記録信号作成手段とを備え、
前記検知手段が前記原盤の表面に形成された前記パターンを検知して発生する検知信号に基づいて、前記情報記録信号作成手段が原盤に情報を記録する情報記録信号を作成し、前記電子ビーム変調手段が該情報記録信号に応じて前記電子ビーム光源から出射される電子ビームをオン/オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に情報を記録することを特徴とする、原盤露光装置。
【0078】
【発明の効果】
以上詳述したように、第一の発明によれば、原盤露光装置でスピンドルモータを回転ムラの少ない速度で回転させて原盤上にロータリーエンコーダを形成し、その形成されたロータリーエンコーダの検出信号にPLLを掛けて情報ピットの露光タイミングを作成することにより、ディスクの円周方向において周期間隔の均一な情報ピットを作製することができる。
【0079】
また、第二の発明によれば、原盤上にロータリーエンコーダを形成する露光用の光源と情報を記録する露光用光源とを変えることで、それぞれに適した製造方法とすることができる。
【0080】
また、第三の発明によれば、スピンドルモータを回転ムラの少ない速度で回転させて原盤上にロータリーエンコーダを形成し、その形成されたロータリーエンコーダの検出信号にPLLを掛けて情報ピットの露光タイミングを作成することにより、ディスクの円周方向において周期間隔の均一な情報ピットを作製する原盤露光装置を実現することができる。
【0081】
また、第四の発明によれば、ロータリエンコーダのパルス数をデータ領域の各ゾーンの各パルス数の最小公倍数もしくはその整数倍として作製することで、各ゾーンに情報ピットを記録する際のそれぞれのクロック信号を、ロータリエンコーダの検出出力から容易に作成することができる。
【0082】
また、第五の発明によれば、本材料を用いることにより、検出に適したロータリエンコーダを露光にて形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する方法の一実施例。
【図2】 本発明の原盤に情報を記録する方法の一実施例。
【図3】 本発明の原盤露光装置の一実施例。
【図4】 本発明の原盤露光装置の一実施例。
【図5】 本発明のロータリエンコーダが形成された原盤の説明図。
【図6】 モータの回転数とロータリエンコーダ出力の説明図。
【図7】 位相検出器の一実施例。
【図8】 本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図9】 本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図10】 本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図11】 本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図12】 本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図13】 本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図14】 原盤をマスクする説明図。
【図15】 原盤を洗浄する説明図。
【符号の説明】
1、20、30 原盤
2 レーザ光源
3 クロック発振器
4 パターン記録信号発生器
5 光変調器
6 モータ制御部
7 スピンドルモータ
8 エンコーダ信号検出器
9 情報記録信号作成部
10 電子ビーム源
11 電子ビーム変調器
21 エンコーダ領域
22 データ領域
40、50、60、70、80、85 ガラス原盤
91 位相比較器
92 ループフィルタ
93 電圧制御発振器
94 1/N分周器
95 フォーマッタ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a master exposure method for recording information on a master that rotates using a light beam, and more specifically, forms a pattern for generating a clock signal on the master and detects a signal obtained by detecting the formed pattern. The present invention relates to a new master exposure method for recording information on a master with high positional accuracy.
[0002]
[Prior art]
This type of master exposure apparatus rotates the glass master with the photoresist applied by a spindle motor and moves it in the radial direction of the glass master while irradiating the photoresist with a light beam, thereby forming information pits in a spiral or concentric shape. Form a row.
[0003]
In many cases, visible light or ultraviolet laser light is used as the light beam. However, in order to realize high-density recording, an apparatus using a fine electron beam has been developed.
[0004]
The spindle motor is equipped with a rotary encoder that generates an electrical signal of several thousand pulses per revolution in order to control the rotation of the motor with high accuracy. PLL (Phase Locked Loop) control is performed on the basis of the electrical signal generated by the rotary encoder so as to prevent the displacement of the recorded information pit due to the rotational fluctuation of the glass master.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
An example of this is an “optical disc master exposure apparatus” described in JP-A-8-212552. This master exposure apparatus detects a motor angular velocity from a rotary encoder attached to a spindle motor, and varies the exposure timing of information to be recorded according to the detected angular velocity.
[0006]
However, this method has two problems. One is a problem of eccentricity due to the attachment of the rotary encoder attached to the spindle motor. If there is this eccentricity, even if the spindle motor rotates at a constant angular velocity, a signal as if there is a rotation fluctuation synchronized with the rotation cycle is output from the rotary encoder, and the position of the information pit recorded on the master disk Accuracy will deteriorate.
[0007]
In addition, even if the recorded data of information is corrected based on the output signal of the rotary encoder against this eccentricity, an attempt is made to create an information pit of the same length on the master disk, but in actuality, once per cycle. Long information pits and short information pits are created.
[0008]
The second is a problem of jitter due to rotation unevenness (so-called wow and fluttering) of the spindle motor. If there is jitter due to rotation irregularities of the spindle motor in the output of the rotary encoder that is the signal source, the subsequent PLL control will limit the frequency band until the influence of the jitter is eliminated by the loop filter. It will not be possible to make precise corrections. Therefore, there is a problem in that correction is limited by the jitter of the rotary encoder itself when obtaining uniformity within one turn of the master.
[0009]
By the way, it is known that this rotational unevenness generally increases as the rotational speed decreases. In recent years, an electron beam exposure apparatus that meets the demand for high-density recording has attracted attention. However, when exposure is performed with this electron beam exposure apparatus, the rotation speed of the master is reduced from the relationship between the photoresist sensitivity and the electron beam intensity. There are many cases. Also, when shorter information pits are produced for high-definition recording, the number of rotations is further reduced due to the modulation band of the electron beam. For this reason, in the electron beam exposure apparatus, the problem of uneven rotation of the master disk rotation system becomes more serious.
[0010]
From such a background, an object of the present invention is to provide a method and an apparatus for recording with high accuracy by eliminating positional deviation of information pits due to eccentricity due to mounting of a rotary encoder in a master exposure apparatus and rotation unevenness of a master rotating system. And
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The first invention provides an exposure method that solves the problems of eccentricity and rotational unevenness.
[0012]
In the present invention, a pattern for generating a clock signal, that is, a rotary encoder is formed on the master itself by the master exposure apparatus. That is, by eliminating the act of attaching the rotary encoder to the motor, the problem of eccentricity due to the installation error of the rotary encoder can be eliminated.
[0013]
Also, when this rotary encoder is formed, a rotary encoder with extremely low jitter can be formed by selecting a rotation speed at which the influence of the rotation unevenness of the master disk rotation system can be ignored in practice, and problems caused by rotation unevenness can be eliminated. it can.
[0014]
Next, when recording information on the master, the rotary encoder formed in this way is detected by a detector, and information pits with high positional accuracy are recorded by creating information exposure timing based on the detection signal. It becomes possible to do.
[0015]
The second invention is a method of selecting a light source, an optical modulator, and a master disk rotation speed suitable for exposure of each of the rotary encoder and the information pit in the first invention.
[0016]
Usually, the light source, the optical modulator, and the master disk rotation speed are often determined from the recording conditions of the information pits, and the master disk rotation system sometimes includes a lot of rotation unevenness. In particular, when an electron beam is used as a light source, the rotational speed is relatively low, and therefore there is a lot of rotational unevenness.
[0017]
In such a case, the recording conditions of the rotary encoder are, for example, a laser beam as the light source and a laser beam modulator as the optical modulator, and the rotation speed of the master disk is at a level where the rotation unevenness of the master disk rotation system can be ignored in practice. By selecting a relatively high speed or a rotational speed shifted from the natural frequency of the master disk rotation system, a rotary encoder with extremely low jitter can be formed on the master disk. Based on the output of this rotary encoder, By creating the exposure timing of the information pits by the electron beam, this rotation unevenness problem can be solved.
[0018]
The third invention provides an exposure apparatus for recording information pits with high positional accuracy by solving the problems of the eccentricity and rotation unevenness.
[0019]
First, the master exposure apparatus of the present invention is based on a light source, a clock signal generating means, a pattern recording signal generating means, a light modulating means, a master sensitive to light beams, and a clock signal generated by the clock signal generating means. A master driving means for rotating or rotating the master and moving in the radial direction of the master, a detecting means, and an information recording signal creating means.
[0020]
Then, the pattern recording signal generating means generates a pattern recording signal for forming a pattern for generating a clock signal on the master disk based on the clock signal generated by the clock signal generating means, and optical modulation is performed in accordance with the pattern recording signal. The means turns on / off the light beam emitted from the light source and forms a pattern on the surface of the master disk whose rotation is controlled by the master disk drive means at a predetermined number of rotations.
[0021]
Next, based on a detection signal generated by detecting a pattern formed on the surface of the master, the information recording signal creating means creates an information recording signal for recording information on the master, and the light modulating means By turning on / off the light beam emitted from the light source in accordance with the information recording signal and recording information on the surface of the master disk whose rotation is controlled at a predetermined number of revolutions by the master disk driving means, A master of accuracy can be created.
[0022]
The fourth invention provides a master disk in which the number of output pulses of the rotary encoder is the least common multiple of the number of pulses per circumference of each zone where information pits are recorded or an integer multiple thereof.
[0023]
In recent years, when recording information pits on a master disk, the area to be recorded is divided into a plurality of zones, and recording is performed with different numbers of pulses (frequency) for each zone.
[0024]
At this time, by making the number of pulses of the rotary encoder as the least common multiple of the number of pulses of each zone or an integer multiple thereof, the respective clock signals when recording information pits in each zone are derived from the detection output of the rotary encoder. Can be easily created.
[0025]
The fifth invention provides a photosensitive material suitable for forming a rotary encoder on a master. A rotary encoder suitable for detecting a change in reflectivity or phase of reflected light is formed by using a material whose reflectivity or phase changes by being exposed to a portion forming a rotary encoder on the master. be able to. Examples of such a material include a phase change material, a metal film, a metal film coated with a photoresist, a film coated with a photoresist having a different thickness, and phthalocyanine.
[0026]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the technique of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0027]
FIG. 1 shows an embodiment of a method for forming a rotary encoder on a master in the master exposure method of the present invention. In FIG. 1, 1 is a master, 2 is a laser light source, 3 is a clock oscillator, 4 is a pattern recording signal generator, 5 is an optical modulator, 6 is a motor controller, and 7 is a spindle motor.
[0028]
In FIG. 1, a pattern recording signal generator 4 supplies information to be recorded as an electrical signal to an optical modulator 5 with reference to a clock generated by a clock oscillator 3, and the optical modulator 5 receives a laser beam from a laser light source 2. Is switched to an optical signal for turning on / off, and the master 1 is irradiated. The master 1 is rotated by a spindle motor 7 that is driven to rotate by a motor control unit 6 in response to a rotation command signal generated by a pattern recording signal generator 4 with reference to a clock generated by a clock oscillator 3, and optical modulation is performed. A rotary encoder is formed on the surface by the laser light that is modulated and irradiated by the device 5.
[0029]
FIG. 5 shows a master having a rotary encoder formed on the surface. FIG. 5A shows a case where a rotary encoder is formed in an area (encoder area) 21 near the outer periphery of the master 20 and information to be recorded in an inner area (data area) 22 is formed as information pits. . FIG. 5B shows the case where the vicinity of the center of the master is the encoder area 21 and the outer area is the data area 22. It is desirable that the material of the encoder area 21 and the thickness of the resist layer are different from those of the data area 22 in accordance with the encoder detection method.
[0030]
FIG. 2 shows an embodiment of a method for recording information pits on a master in the master exposure method of the present invention. 2 that are common to FIG. 1 are denoted by the same symbols. 2 includes a phase comparator (PD) 91, a loop filter (LF) 92, a voltage controlled oscillator (VCO) 93, a 1 / N frequency divider (1 / N) 94, a formatter (FS). ) 95 to form a write clock PLL circuit.
[0031]
The rotary encoder formed on the surface of the master 1 by the method described in FIG. 1 is detected by the encoder signal detector 8, and the detected signal is input to the phase comparator 91, which is used as a reference signal for the other input. A phase error signal with the output of the 1 / N frequency divider 94 is generated. This phase error signal is input to the voltage controlled oscillator 93 through the loop filter 92. The output of the voltage controlled oscillator 93 is fed back to the phase comparator 91 via the 1 / N frequency divider 94.
[0032]
The output of the voltage controlled oscillator 93 is given to the formatter 95 as a write clock signal. The write clock signal is an output of the above-described write clock PLL circuit, and is a signal having a frequency N times (reciprocal of the division ratio) in synchronization with the encoder output. The formatter 95 generates a signal for forming information pits based on the write clock signal and applies it to the optical modulator 5 that performs on / off control of the laser beam, and records information pits on the surface of the master 1.
[0033]
By the way, in general, the motor rotation unevenness tends to decrease as the rotational speed of the rotating body increases, although it depends on the moment of inertia of the rotating body.
[0034]
FIG. 6 shows the number of rotations of the motor and the state of rotation unevenness at the time of exposure of the master disk by measuring the frequency of the output pulse of the rotary encoder attached to the motor.
[0035]
The horizontal axis represents the time for one round, and the vertical axis represents the frequency of the rotary encoder output pulse. When the number of rotations of the motor is 200 rpm, frequency fluctuation that seems to reflect the number of poles of the motor, that is, rotation unevenness is observed. At 1000 rpm, the amplitude decreases, but rotation irregularities still remain. When the rotational speed reaches 3000 rpm, the rotational unevenness becomes a negligible level, and the swell of one round and one cycle due to the eccentricity when the rotary encoder is attached becomes conspicuous. This undulation is avoided by creating the rotary encoder by the exposure apparatus itself.
[0036]
As a specific example, a master disk having a diameter of 200 mm and a thickness of 6 mm is used for a 3.5-inch magneto-optical disk. In this magneto-optical disk, a rotary encoder is formed on the surface of the master at a spindle motor rotational speed of 3000 rpm.
[0037]
Next, a rotary encoder formed on the master disk is detected by an encoder signal detector, information pit exposure timing is created based on this detection signal, and the information pit is recorded on the master disk at a spindle motor rotation speed of 1000 rpm. In this way, a master with high recording position accuracy can be produced.
[0038]
Here, let us look at the detection method of the rotary encoder. The encoder signal detector 8 in FIG. 2 includes a method for detecting an encoder signal and a method for detecting a change in reflectance and a method for detecting a change in phase.
[0039]
In the method of detecting a change in reflectance, a rotary encoder may be manufactured by making a portion of the encoding region 21 in FIG. 5 as a phase change material or a metal film having a low reflectance and making a hole therewith using laser light. Alternatively, a photoresist having a thickness of λ / 4n (λ is the wavelength of the encoder signal detector and n is the refractive index of the photoresist) may be coated on a metal film having a low reflectance.
[0040]
When exposure is performed with an appropriate exposure power, the reflectance of the exposed portion changes. In the method of detecting the reflectance, there may be small jitter due to the edge of the exposed rotary encoder pattern, but even in this case, the absolute value of the jitter can be suppressed to an order of magnitude smaller than that of the conventional encoder. it can.
[0041]
Further, in the method for detecting the phase change, a photoresist having a thickness λ / 8n thinner than that in the case of detecting the change in reflectivity on the metal film having a low reflectivity in the portion of the encode region 21 in FIG. It is good to coat. Alternatively, the glass substrate may be coated with a photoresist having the same thickness as that described above, exposed, and then developed to create irregularities.
[0042]
As the phase detector, a generally used one as shown in FIG. 7 may be used. In FIG. 7, 30 is a master on which a rotary encoder is formed, 31 is a semiconductor laser having a wavelength of 780 nm, 32 is a mirror, 33 is a half mirror, and 34 is a detector.
[0043]
The laser light emitted from the semiconductor laser 31 is diffracted by the rotary encoder 30 formed on the master 30 and reflected by the mirror 32, and the two diffracted lights of the transmitted light and the reflected light by the half mirror 33 are incident on the detector 34. . This incident light is converted into an electrical signal and binarized to create an encoder signal.
[0044]
Now, assuming that the rotary encoder is formed with lines and spaces having a radius of 80 mm and 0.5 μm, a signal of 1,000,000 pulses can be obtained in one round. This means that when information pits are recorded at a position of a radius of 30 mm, for example, an encoder pulse is obtained every 0.188 μm, a fine format signal can be created, and precise information pits can be recorded.
[0045]
According to this method, it is possible to form a much higher number of pulses per revolution than the conventional rotary encoder used for mounting a motor, and therefore it is possible to create a more accurate PLL write clock signal. Become.
[0046]
In addition, by forming the rotary encoder in this way, there is an advantage that an encoder signal having a convenient number of pulses can be obtained according to the pattern of the rotary encoder to be formed. By setting the number of pulses of the rotary encoder to the least common multiple of the number of pulses per round of each zone of the master data area or an integer multiple thereof, a formatter for recording information pits in the master data area It can be easy to create.
[0047]
FIG. 3 shows an embodiment of a master exposure apparatus that realizes the master exposure method described so far. 3 that are common to FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals. In this embodiment, a laser light source is used as a light source for exposure, but other combinations of an electron beam and an electron beam modulator are possible.
[0048]
FIG. 4 shows an embodiment of an apparatus having a configuration in which a laser beam is used as a light beam when forming a rotary encoder on a master and an electron beam is used as a light beam when forming information pits.
[0049]
4 that are the same as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same symbols. The pattern recording signal generator 4 gives information to be recorded as an electrical signal to the optical modulator 5 with reference to the clock generated by the clock oscillator 3, and the optical modulator 5 turns on / off the laser light from the laser light source 2. The master 1 is irradiated instead of the optical signal. The master 1 is rotated by a spindle motor 7 that is driven to rotate by a motor control unit 6 in response to a rotation command signal generated by a pattern recording signal generator 4 with reference to a clock generated by a clock oscillator 3, and optical modulation is performed. Then, the rotary encoder is formed on the surface of the master by the irradiated laser beam.
[0050]
Next, the rotary encoder created on the surface of the master 1 is detected by the encoder signal detector 8, and the detected signal is input to the phase comparator 91, which is used as a reference signal for 1 / N minutes which is the other input. A phase error signal from the output of the frequency divider 94 is generated.
[0051]
This phase error signal is input to the voltage controlled oscillator 93 through the loop filter 92. The output of the voltage controlled oscillator 93 is fed back to the phase comparator 91 via the 1 / N frequency divider 94. The formatter 95 generates a signal for forming information pits based on the write clock signal and applies it to the electron beam modulator 11 that performs on / off control of the electron beam emitted from the electron beam source 10. Record information pits.
[0052]
For example, a rotary encoder is formed on the surface of the master using a laser beam at a spindle motor rotational speed of 3000 rpm. Next, an information pit exposure timing is created based on the detection output of the rotary encoder, and the information pit is recorded at a spindle motor rotational speed necessary for high-density recording, for example, 200 rpm, using an electron beam. Thus, information pits with high density and high positional accuracy can be recorded.
[0053]
In the embodiment of FIG. 4, a combination of a laser light source and an electron beam is shown as an exposure light source for pattern formation and information recording, respectively. A combination of two types of electron beams having different wavelengths is also possible.
[0054]
The embodiment of the master exposure method and master exposure apparatus for recording information with high positional accuracy has been described above. Up to this point, the magneto-optical disk has been mainly described as an example, but the exposure method, the exposure apparatus, and the master disk of the present invention can also be applied to the production of master disks of other optical disks or magnetic disks. .
[0055]
From here on, the photosensitive material used when the rotary encoder is exposed on the glass master will be described. There are photosensitive materials whose phase changes due to exposure and those whose reflectance changes, which will be described with reference to specific examples.
[0056]
[Example 1]
FIG. 8 is a diagram showing a process when a rotary encoder is formed on a glass master using a phase change material as a photosensitive material. In the forming process, (a) a phase change material 41 such as InSb is formed into a thickness of 100 nm by sputtering on a portion of the glass master 40 whose surface has been polished, and (b) a rotary encoder near the outer periphery, and SiN is formed thereon. A protective film 42 such as 20 nm thick is formed by sputtering. At this time, it is necessary to protect the data recording area of the glass substrate from this sputtering.
[0057]
FIG. 14 shows the protection state, in which 80 is a glass master, 81 is a turntable for mounting the master, 82 is a mask made of a soft magnetic material for protecting the data recording area, and 83 is a magnet. The data recording area near the center of the glass master 80 is covered with a mask 82 held by a magnet 83 to protect it from sputtering.
[0058]
Returning to FIG. 8, the mask is removed after sputtering, and (c) a photoresist layer 43 is spin-coated to a predetermined thickness on the glass master. Next, (d) the photoresist on the portion where the phase change material 41 is formed with a photoresist solvent is removed, and then prebaked at 100 ° C. for 30 minutes to prepare a master.
(E) This master is mounted on a master exposure apparatus as shown in FIG. 3, and a rotary encoder is formed by exposing the phase change material portion with a laser beam having a wavelength of 350 nm and an exposure power of 5 mW with a spindle motor rotating at 3000 rpm. To do.
[0059]
Since the rotary encoder to be formed is read-only, it is sufficient if a change in reflectivity occurs. Therefore, initialization processing is not necessary. Further, the exposure pitch is set to about 0.2 μm, and overwriting is performed with adjacent tracks. By doing so, it is possible to form a rotary encoder having a highly accurate radial pattern over one round.
[0060]
Next, as shown in FIG. 3, an encoder signal detector 8 is installed on the upper part of the formed rotary encoder, and the information pits are recorded at a rotational speed low enough to correct the exposure pit length. High-precision and high-density information pits can be recorded.
[0061]
[Example 2]
FIG. 9 is a diagram showing a process when a rotary encoder is formed on a glass master using a thin metal film as a photosensitive material. (A) A metal film 51 of chromium oxide or the like is formed to a thickness of 50 nm by sputtering on a portion of the glass master 50 whose surface is polished, and (b) a rotary encoder near the outer periphery is formed. (C) A photoresist 52 is spin-coated to a predetermined thickness. (D) The photoresist of the metal film 51 is removed with a photoresist solvent and prebaked at 100 ° C. for 30 minutes. (E) The metal film 51 is exposed with a laser beam having a wavelength of 350 nm and an exposure power of 10 mW at a rotation speed of the spindle motor of 3000 rpm. As a result, a hole is made in the metal film to form a rotary encoder.
[0062]
Example 3
The present embodiment is an embodiment in the case where information pits are formed by an electron beam in the second embodiment. Referring to FIG. 9, (a) a metal film 51 of chromium oxide or the like is formed to a thickness of 50 nm by sputtering on a portion of (a) a glass master disk 50 whose surface has been polished and (b) a rotary encoder near the outer periphery. (C) A photoresist 52 for electron beam is spin-coated with a predetermined thickness. (D) The portion of the photoresist 52 where the rotary encoder is to be formed is removed with a solvent and prebaked at 100 ° C. for 30 minutes.
(E) This master disk is set in an electron beam exposure apparatus incorporating a laser beam as shown in the example of FIG. 4, the rotation speed of the spindle motor is 3000 rpm, a laser beam having a wavelength of 350 nm and an exposure power of 10 mW. 51 portions are exposed. As a result, a hole is made in the metal film to form a rotary encoder. Similar to the first embodiment, a change in reflectance is detected, and information pits are recorded with an electron beam at a predetermined rotational speed. Thus, a master disc on which information is recorded with high positional accuracy is completed.
[0063]
Example 4
FIG. 10 is a diagram showing a process when a rotary encoder is formed by coating a glass master with a photoresist on a metal having a low reflectance as a photosensitive material. In FIG. 10, (a) a metal film 61 having a low reflectance such as chromium oxide is formed by sputtering on a portion of (a) the glass master 60 whose surface has been polished, on which (b) a rotary encoder near the outer periphery is formed. (C) A photoresist 62 is spin-coated to a predetermined thickness. (D) Further, a photoresist 63 having a high viscosity is spin-coated only on a portion where a rotary encoder is to be formed, and prebaked at 100 ° C. for 30 minutes. (E) The photoresist is exposed with a laser beam having a wavelength of 350 nm and an exposure power of 0.5 mW at a rotation speed of the spindle motor of 3000 rpm. The exposed portion of the photoresist is not burned, and a concavo-convex pattern of the rotary encoder can be formed without development.
[0064]
Example 5
In this embodiment, a photoresist is coated only on a portion where the rotary encoder is formed in the fourth embodiment. Referring to FIG. 11, (a) a metal film 61 having a low reflectance such as chromium oxide is formed by sputtering on a portion of (a) the glass master 60 whose surface has been polished, and (b) a rotary encoder near the outer periphery. .
(C) A photoresist 62 is spin-coated with a predetermined thickness on the portion where the rotary encoder is to be formed. (D) Further, a photoresist 63 having a high viscosity is spin-coated on the portion where the rotary encoder is to be formed, and prebaked at 100 ° C. for 30 minutes. (E) The photoresist 63 is exposed with a laser beam having a wavelength of 350 nm and an exposure power of 0.7 mW at a rotation speed of the spindle motor of 3000 rpm. The exposed portion of the photoresist is not burned, and a concavo-convex pattern of the rotary encoder can be formed without development.
[0065]
Example 6
FIG. 12 is a diagram showing a process when a rotary encoder is formed on a glass master using a high-viscosity photoresist as a photosensitive material. In the forming process, (a) a glass master disk 70 having a polished surface is spin-coated with (b) a photoresist 71 to a predetermined thickness. (C) A photoresist 72 with increased viscosity is spin-coated on the portion where the rotary encoder is to be formed, and prebaked at 100 ° C. for 30 minutes.
(D) The photoresist 72 is exposed with a laser beam having a spindle motor speed of 3000 rpm, a wavelength of 350 nm, and an exposure power of 1 mW.
[0066]
Next, development is performed on the exposure apparatus so that the developer is applied only to the rotary encoder. At this time, the rotation speed of the spindle motor is set to 300 rpm so that the developer does not enter the data area and does not bounce from the outside. The developer is washed by flowing 5 ml for 10 seconds, and then flowing 50 ml with pure water for 1 minute. Gradually increase the number of revolutions of the spindle motor to 800 rpm to dry, and then collect the developer and pure water. FIG. 15 shows the state at this time. In FIG. 15, 85 is a glass master, 86 is a turntable, and 87 is a developer recovery unit. By giving the turntable 86 a reverse taper as shown by a broken line in FIG. 15 so that the developer and pure water do not flow out of the turntable 86, the developer and pure water can be prevented from rebounding.
[0067]
Example 7
FIG. 13 is a diagram showing a process when a rotary encoder is formed on a glass master using phthalocyanine as a photosensitive material. (A) A portion where (b) a photoresist 81 is spin-coated to a predetermined thickness on a glass master 80 whose surface has been polished, and (c) a rotary encoder near the outer periphery is formed with a solvent of the photoresist. The photoresist is removed and prebaked at 100 ° C. for 30 minutes. Next, (d) phthalocyanine is spin-coated on the portion where the rotary encoder is to be formed. The master is set in a master exposure apparatus, and (e) the phthalocyanine portion is exposed with a laser beam having a wavelength of 350 nm and an exposure power of 3 mW with a spindle motor rotating at 3000 rpm. Since the reflectance of the exposed portion decreases, a rotary encoder that detects a change in reflectance can be formed by this method.
[0068]
(Appendix 1) A master exposure method for recording information on a master,
Perform the first exposure to form a pattern to generate a clock signal on the surface of the master,
A clock signal is created based on a detection signal obtained by detecting a pattern formed on the master in the first exposure, and information is recorded on the surface of the master using the clock signal as a reference for exposure timing. A master exposure method, wherein the second exposure is performed.
[0069]
(Supplementary Note 2) A master exposure method for performing exposure by irradiating a light beam to a master that is rotated or rotated by the master drive means and moved in the radial direction of the master,
Supplementary note 1 characterized in that exposure is performed by changing the type of light beam used for the first exposure and the second exposure, the light modulation means, and the rotational speed of the master together or individually. The master exposure method described.
[0070]
(Appendix 3) a light source,
Clock signal generating means;
Pattern recording signal generating means;
Light modulation means;
A master that is exposed to light,
Master drive means for rotating or rotating the master and moving it in the radial direction of the master based on the clock signal generated by the clock signal generator;
Detection means;
An information recording signal creating means,
The pattern recording signal generating means generates a pattern recording signal for forming a pattern for generating a clock signal on the master on the basis of the clock signal generated by the clock signal generating means, and the light modulating means responds to the pattern recording signal. A pattern is formed on the surface of the master that is controlled to rotate at a predetermined number of revolutions by the master driving means by turning on / off the light beam emitted from the light source,
Based on the detection signal generated by detecting the pattern formed on the surface of the master, the information recording signal generator creates an information recording signal for recording information on the master, and the light modulator is used for this information. The master exposure is characterized in that information is recorded on the surface of the master whose rotation is controlled at a predetermined rotation speed by the master driving means by turning on and off the light beam emitted from the light source in accordance with a recording signal. apparatus.
[0071]
(Additional remark 4) It is the original disc produced with the original disc exposure method of Additional remark 1,
The pattern formed by the first exposure is a pattern for a rotary encoder,
The master, wherein the number of pulses per round of the rotary encoder is the least common multiple of the number of pulses per round of each zone of information recorded on the master in the second exposure or an integral multiple thereof.
[0072]
(Additional remark 5) It is the original disc produced with the original disc exposure method of Additional remark 1,
A master, wherein a material for forming a pattern for generating a clock signal on the master is a material whose reflectance or phase is changed by exposure.
[0073]
(Appendix 6) A master disc produced by the master exposure method described in Appendix 1,
A master, wherein a material for forming a pattern for generating a clock signal on the master is a phase change material.
[0074]
(Appendix 7) A master disc produced by the master exposure method described in Appendix 1,
1. A master, wherein a material for forming a pattern for generating a clock signal on the master is a metal film or a metal film coated with a photoresist.
[0075]
(Additional remark 8) It is the original disc produced with the original disc exposure method of Additional remark 1,
A master, wherein a material for forming a pattern for generating a clock signal on the master is coated with a photoresist having a different thickness.
[0076]
(Supplementary note 9) The master exposure method according to supplementary note 2,
The light beam in the first exposure is a laser beam;
A master exposure method, wherein the light beam in the second exposure is an electron beam.
[0077]
(Supplementary Note 10) a laser light source;
Clock signal generating means;
Pattern recording signal generating means;
Laser light modulation means for turning on / off the laser light emitted from the laser light source according to the pattern recording signal;
A master disc that is sensitive to laser light emitted from the laser light modulation means;
A master driving means for rotating or rotating the master and moving it in the radial direction of the master based on the clock signal generated by the clock signal generating means;
The pattern recording signal generating means generates a pattern recording signal for forming a pattern for generating a clock signal on the master disk with reference to the clock signal generated by the clock signal generating means, and the pattern recording signal is generated according to the pattern recording signal. A light modulation means turns on / off the laser light emitted from the laser light source, and forms a pattern on the surface of the original disk whose rotation is controlled at a predetermined number of rotations by the original disk drive means,
An electron beam light source;
An electron beam modulating means for turning on / off the electron beam emitted from the electron beam light source according to the information recording signal;
A detection unit that detects a pattern formed on the surface of the master and generates a detection signal; and an information recording signal generation unit that generates a signal for recording information on the master based on the detection signal;
Based on a detection signal generated by the detection means detecting the pattern formed on the surface of the master, the information recording signal creation means creates an information recording signal for recording information on the master, and the electron beam modulation A means for turning on / off an electron beam emitted from the electron beam light source in accordance with the information recording signal and recording information on the surface of the original disk whose rotation is controlled at a predetermined number of revolutions by the original disk drive means; A master exposure apparatus.
[0078]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the first invention, a rotary encoder is formed on the master by rotating the spindle motor at a speed with little rotation unevenness in the master exposure apparatus, and the detection signal of the formed rotary encoder is used as a detection signal. By creating the exposure timing of information pits by applying a PLL, information pits having a uniform periodic interval in the circumferential direction of the disc can be produced.
[0079]
In addition, according to the second invention, by changing the exposure light source for forming the rotary encoder on the master and the exposure light source for recording information, a suitable manufacturing method can be obtained.
[0080]
According to the third aspect of the present invention, the rotary motor is formed on the master by rotating the spindle motor at a speed with little rotation unevenness, and the detection signal of the formed rotary encoder is multiplied by the PLL to expose the information pits. Thus, it is possible to realize a master exposure apparatus that produces information pits having a uniform periodic interval in the circumferential direction of the disc.
[0081]
Further, according to the fourth invention, the number of pulses of the rotary encoder is produced as the least common multiple of the number of pulses of each zone of the data area or an integral multiple thereof, so that each information pit when recording information pits in each zone The clock signal can be easily created from the detection output of the rotary encoder.
[0082]
Moreover, according to the fifth aspect, by using this material, a rotary encoder suitable for detection can be formed by exposure.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 shows an embodiment of a method for forming a rotary encoder on a master disk of the present invention.
FIG. 2 shows an embodiment of a method for recording information on a master disk according to the present invention.
FIG. 3 shows an embodiment of a master exposure apparatus according to the present invention.
FIG. 4 shows an embodiment of a master exposure apparatus according to the present invention.
FIG. 5 is an explanatory diagram of a master on which the rotary encoder of the present invention is formed.
FIG. 6 is an explanatory diagram of motor rotation speed and rotary encoder output.
FIG. 7 shows an example of a phase detector.
FIG. 8 shows an embodiment in which a rotary encoder is formed on the master disk of the present invention.
FIG. 9 shows an embodiment in which a rotary encoder is formed on the master disk of the present invention.
FIG. 10 shows an embodiment in which a rotary encoder is formed on the master disk of the present invention.
FIG. 11 shows an embodiment in which a rotary encoder is formed on the master disk of the present invention.
FIG. 12 shows an embodiment in which a rotary encoder is formed on the master disk of the present invention.
FIG. 13 shows an embodiment in which a rotary encoder is formed on the master disk of the present invention.
FIG. 14 is an explanatory diagram for masking a master.
FIG. 15 is an explanatory view for cleaning the master.
[Explanation of symbols]
1, 20, 30 Master
2 Laser light source
3 Clock oscillator
4 Pattern recording signal generator
5 Optical modulator
6 Motor controller
7 Spindle motor
8 Encoder signal detector
9 Information recording signal generator
10 Electron beam source
11 Electron beam modulator
21 Encoder area
22 Data area
40, 50, 60, 70, 80, 85 Glass master
91 Phase comparator
92 Loop filter
93 Voltage controlled oscillator
94 1 / N divider
95 Formatter

Claims (5)

原盤に情報を記録する原盤露光方法であって、
原盤を回転可能もしくは回転可能および前記原盤の半径方向に移動可能に保持し、前記原盤の表面にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する第一の露光を行い、
前記回転可能もしくは回転可能および前記原盤の半径方向に移動可能に保持した状態で前記原盤を回転させ、前記第一の露光にて前記原盤に形成された前記パターンを検知して得られる検知信号に基づいてクロック信号を作成し、このクロック信号を露光タイミングの基準にして前記原盤の表面に情報を記録する第二の露光を行うことを特徴とする、原盤露光方法。
A master exposure method for recording information on a master,
The master is held to be rotatable or rotatable and movable in the radial direction of the master, and first exposure is performed to form a pattern for generating a clock signal on the surface of the master,
The rotatable or rotatable and while movably held in the radial direction of the master disc is rotated the master, the detection signal obtained by detecting the pattern formed on the master disk in the first exposure A master exposure method comprising: generating a clock signal based on the clock signal; and performing second exposure to record information on the surface of the master using the clock signal as a reference for exposure timing.
原盤駆動手段によって前記回転もしくは前記回転及び前記原盤の半径方向の前記移動がなされる前記原盤に光ビームを照射することにより露光を行う原盤露光方法であって、
上記第一の露光と上記第二の露光とに使用される光ビームの種類と該光ビームを変調するための光変調手段と前記原盤の回転数とを共にまたは個別に変更して前記露光を行うことを特徴とする、請求項1に記載の原盤露光方法。
A master exposure method for performing exposure by irradiating a light beam onto the master is Gana the radial movement of the rotation or the rotation and the master by the master drive means,
The exposure by changing both or individually with the optical modulation means and a rotational speed of the master for modulating the light beam of the type and light beam used in the above-described first exposure and the second exposure The master exposure method according to claim 1, wherein the master exposure method is performed.
光源と、
クロック信号発生手段と、
パターン記録信号発生手段と、
光変調手段と、
光ビームにより感光する原盤と、
前記クロック信号発生手段が発生するクロック信号に基づいて前記原盤を回転もしくは回転及び前記原盤の半径方向に移動させる原盤駆動手段と、
検知手段と、
情報記録信号作成手段とを備え、
前記クロック信号発生手段の発生するクロック信号を基準にして前記パターン記録信号発生手段が前記原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成するためのパターン記録信号を発生し、このパターン記録信号に応じて前記光変調手段が前記光源から出射される光ビームをオン/オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に前記パターンを形成し、
前記検知手段が前記原盤駆動手段に保持されている前記原盤の表面に形成された前記パターンを検知して発生する検知信号に基づいて、前記情報記録信号作成手段が前記原盤駆動手段に保持されている前記原盤に情報を記録する情報記録信号を作成し、
前記光変調手段がこの情報記録信号に応じて前記光源から出射される光ビームをオン/オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に情報を記録することを特徴とする、原盤露光装置。
A light source;
Clock signal generating means;
Pattern recording signal generating means;
Light modulation means;
A master that is exposed to light,
A master drive means for moving the master disc in the radial direction of rotation or rotation and the master based on the clock signal the clock signal generating means generates,
Detection means;
An information recording signal creating means,
Generating a pattern recording signal for forming a pattern for on the basis of the clock signal generated by said clock signal generating means the pattern recording signal generating means for generating a clock signal to the master, according to the pattern recording signal the pattern is formed on the surface of the master which is the light modulating means is controlled to rotate at a predetermined rotational speed by the on / off to the master drive means a light beam emitted from the light source Te,
The detection means on the basis of a detection signal is generated by detecting the pattern formed on the surface of the master stored in the master drive means, said information recording signal producing means is held in the master drive means create an information recording signal for recording information on the master disk are,
The light modulation means turns on / off the light beam emitted from the light source in accordance with the information recording signal, and records information on the surface of the original disk whose rotation is controlled at a predetermined number of revolutions by the original disk drive means. A master exposure apparatus.
請求項1に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
前記第一の露光で形成される前記パターンはロータリエンコーダ用のパターンであり、
このロータリエンコーダの一周あたりのパルス数が前記第二の露光で前記原盤に記録される情報の各ゾーンの一周あたりのパルス数の最小公倍数もしくはその整数倍であることを特徴とする、原盤。
A master produced by the master exposure method according to claim 1,
The pattern formed by the first exposure is a pattern for a rotary encoder,
Wherein the number of pulses per revolution of the rotary encoder is the least common multiple or integral multiple thereof the number of pulses per revolution of each zone of the information recorded on the master disk in the second exposure, master.
請求項1に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
前記原盤にクロック信号を発生させるための前記パターンを形成する部分の材料が、前記第一の露光によって反射率もしくは位相が変化する材料であることを特徴とする、原盤。
A master produced by the master exposure method according to claim 1,
Material of the part forming the pattern for generating a clock signal to said master, characterized in that a material which changes its reflectance or phase by the first exposure, master.
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