JP3842206B2 - Binderless phosphor screen with colored interlayer - Google Patents
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Description
【0001】
発明の分野
本発明は蒸着された燐光体層を有する結合剤のない貯蔵燐光体スクリーンに関する。
【0002】
発明の背景
貯蔵燐光体の良く知られた用途はX線像の生成である。US−A 3859527ではパネル中に含まれる光刺激性燐光体でX線像を生成するための方法が開示される。パネルはパターンに従って変調されたX線ビームを入射するために露光され、その結果として燐光体はX線放射線パターンに含まれるエネルギーを一時的に貯蔵する。露光後ある間隔で、可視又は赤外光のビームはパネルを走査し、貯蔵されたエネルギーの光としての放出を刺激する。その光は検出されて逐次電気信号に変換され、その信号は処理されて可視像を生成する。この目的のため、燐光体は入射X線エネルギーをできるだけ多く貯蔵すべきであり、走査ビームによって刺激されるまで貯蔵されたエネルギーをできるだけ少なく放出すべきである。これは“デジタル放射線写真”又は“コンピュータ放射線写真”と称される。
【0003】
燐光体スクリーンを使用するいかなる放射線写真システムによっても、従ってデジタル放射線写真システムによっても生成される像品質は燐光体スクリーンの構成に大きく依存する。一般に、X線の所定量の吸収において燐光体スクリーンが薄いほど、像品質は良好になるだろう。
【0004】
これは燐光体スクリーンの燐光体に対する結合剤の比が低いほど、そのスクリーンで達成されうる像品質は良好になることを意味する。従って、最適なシャープネスは結合剤が全くないスクリーンが使用されるときに得られることができる。かかるスクリーンは例えば基体上の燐光体材料の物理蒸着(それは熱蒸着、スパッタリング、電子線蒸着などであってもよい)によって製造されることができる。しかしながら、この製造方法は入手可能な全ての任意の燐光体で高品質スクリーンを製造するために使用されることができない。上述の製造方法は高い結晶対称性及び単純な化学組成を有する燐光体結晶が使用されるときに最良の結果に導く。
【0005】
貯蔵スクリーン又はパネルにおけるアルカリ金属ハロゲン化物燐光体の使用は貯蔵燐光体放射線の分野で良く知られており、これらの燐光体の高い結晶対称性は構造化されたスクリーン及び結合剤のないスクリーンを与えることができる。
【0006】
アルカリハロゲン化物燐光体を有する結合剤のないスクリーンが製造されるとき、燐光体結晶を幾つかの種類のパイル、針、タイルなどのように蒸着させることが有益である。US−A 4769549では結合剤のない燐光体スクリーンの像品質は燐光体層が細い柱で形成されたブロック構造を有するときに改良されうることが開示されている。
【0007】
US−A 5055681ではパイル状構造でアルカリハロゲン化物燐光体を含む貯蔵燐光体スクリーンが開示されている。かかるスクリーンの像品質はなお向上される必要があり、JP−A 06/230198では柱状燐光体を有するスクリーンの表面が粗いこと及びその表面のレベリングがシャープネスを向上しうることが開示されている。US−A 5874744では針状又は柱状燐光体を有する貯蔵燐光体スクリーンを製造するために使用される燐光体の反射率に注目している。
【0008】
EP−A 1113458ではアルカリ金属貯蔵燐光体を含む結合剤のない貯蔵燐光体スクリーンにおいて、前記スクリーンが強度I100を有する(100)拡散線及び強度I110を有する(110)拡散線を有しかつI100/I110≧1であるようなXRDスペクトルを示すことを特徴とする貯蔵燐光体スクリーンが開示されている。かかる燐光体スクリーンはスピードとシャープネスの間で良好な妥協を示す。
【0009】
蒸着された燐光体層のための基体として陽極酸化されたアルミニウムを使用することがUS−A 4769549から知られている。陽極酸化されたアルミニウムの使用は陽極酸化されたアルミニウム上のAl2O3が一種のタイルとして存在するという利点を持つと言われている。かかる基体上に貯蔵燐光体層を蒸着するとき、燐光体は間隙によって互いに分離された細い柱形状のブロックで形成され、かかる貯蔵燐光体層を有することによって極めて良好なスピード/シャープネスの関係が実現されると言われている。
【0010】
しかしながら、陽極酸化されたアルミニウムの製造は多量の電気エネルギーが基体表面を粗面化及び酸化するために典型的に要求されるという欠点を与える。さらに、エッチングによって達成される粗面化は一般的に相対的にゆっくりと実施されるにすぎない。さらなる欠点は基体の陽極酸化中及び粗面化中に形成された廃棄物の再処理が高価であることである。一緒にとられる全ての要素は陽極酸化されたアルミニウムを燐光体スクリーンのための極めて高価な基体にしてしまい、従って陽極酸化されたアルミニウムの利点を保持する安価な基体に対する要求が望まれる。
【0011】
発明の目的及び概要
本発明の目的は高いシャープネス及び低いノイズを有する像と記録システムのスピード(即ち、できるだけ低い患者線量)の間の極めて良好な妥協を有するX線記録システムに有用な刺激性燐光体スクリーンを提供することである。
【0012】
本発明のさらなる目的は極めて安価な基体上に高いシャープネス及び低いノイズを有する像と記録システムのスピード(即ち、できるだけ低い患者線量)の間の極めて良好な妥協を有するX線記録システムに有用な刺激性燐光体スクリーンを提供することである。
【0013】
上述の目的は請求項1に規定された特徴を有する刺激性燐光体スクリーンを提供することによって実現される。本発明の好ましい例についての特徴は従属請求項に開示されている。
【0014】
本発明の更なる利点及び具体例は以下の記載から明らかになるだろう。
【0015】
発明の詳述
“蒸着された燐光体”はこの明細書を通して、熱蒸着、化学蒸着、電子線蒸着、無線周波数蒸着及びパルス化レーザ蒸着からなる群から選択されたいずれかの方法によって生成される燐光体を意味する。この蒸着はEP−A 1113458に記載されているような条件下で実施されることが好ましい。
【0016】
セラミック層で被覆された基体上に結合剤のない燐光体スクリーンを製造することができることが今や示された。かかるセラミック層はAl2O3、TiO2、SiO2及びZnOからなる群から選択された少なくとも一種の無機顔料を含有する。好ましくは本発明の貯蔵燐光体スクリーンに使用するためのセラミック層は所望により他の無機顔料と混合されたAl2O3を含む。
【0017】
上にセラミック層を適用することによる結合剤のない貯蔵燐光体スクリーンのための基体の製造は最初に述べた利点とは別に、蒸着された燐光体が成長する“タイル”のサイズがセラミック層を形成する顔料粒子のサイズを制御することによって容易に制御されることができるという利点も有する。さらにセラミック層はAl2O3に加えて他の顔料粒子も含むことができる。これは着色されることができる支持体を得るための機会を与え、そのスペクトル反射性及び吸収性は刺激する光を吸収しかつ刺激された光を反射する支持体を持つために調整されることができ、かくして貯蔵燐光体スクリーンのシャープネスを増強する。基本的に白色であり、従って刺激する光及び刺激された光の両方を反射する陽極酸化されたアルミニウムとは対照的に、刺激する光の吸収及び刺激された光の反射は望むように与えられる。本発明の貯蔵燐光体スクリーンのための基体上に着色されたセラミック層を持つことが望ましいとき、セラミック層は青色無機顔料とともにAl2O3及び所望によりTiO2を含むように製造される。
【0018】
商業的に入手可能な極めて有用な青及び青緑色無機顔料はSICOCER A,SICOCER B,SICOCER E,SICOCER F,SICOCER G,SICOCER I,SICOCER P,SICOCER R,SICOCER S,SICOCER U(全てBASF,Ludwigshafen,ドイツによって販売)から選択された青又は青緑色顔料のようなセラミック顔料である。
【0019】
基体上にセラミック層を蒸着するために幾つかの方法が知られている。その方法の一つは粒状被覆材料を選択し、熱スプレー技術によって基体上にこの被覆材料を蒸着する工程を含む。かかる方法は例えばUS−A 5881645に開示されている。しかしながら、これは本発明の貯蔵燐光体スクリーンのための基体を製造するための好ましい例ではない。なぜならば熱スプレー技術のエネルギー消費は極めて高いからである。
【0020】
セラミック層を与えるための別の技術は少なくとも一種の単塩基ホスフェート及び非金属無機粒子のスラリーを基体の表面に適用し、少なくとも230℃の温度でスラリーを燃焼することによってセラミック被覆を形成する工程を含む。かかる技術はPCT出願WO−A−83 00844に開示されている。少なくとも230℃の処理温度のため、この方法は金属基体、例えばアルミニウム、鋼、銅、黄銅及び銅上にセラミック層を適用するために好適であるが、この方法はポリマーフィルム基体上にセラミック層を得るために適用されるためにはあまり好適でない。
【0021】
基体上にセラミック層を適用するための別の方法は少なくとも一種の無機顔料及びシリケート化合物を含む水性分散液を与え、それによって公知の被覆技術によってこの分散液を基体に適用し、130〜220℃の温度で乾燥する工程を含む。かかる方法はUS−A 6240846及び対応EP−A 0992342に開示されており、そこではその発明の目的の一つは多量のエネルギーを消費せずに基体へのセラミック層の極めて良好で耐久性のある接着に導く材料の製造方法を提供することである。その発明によれば基体及びその基体の表面に適用されたセラミック層を含む材料が提供され、そこではセラミック層は少なくとも一種のシリケート化合物及び酸化アルミニウム(少なくとも99.6重量%のアルミニウム純度)から構成され、セラミック層は結合剤として機能するシリケート化合物で基体に接着される。この方法は本発明では、貯蔵燐光体スクリーンに使用するための基体を製造するために極めて好適である。なぜならば方法におけるかなり低い乾燥温度はセラミック層を金属基体及びポリマーフィルム基体の両方に適用するために極めて好適になるからである。ポリマー基体が使用されるとき、ポリエステル基体、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート又はポリカーボネート基体を使用することが好ましい。
【0022】
本発明によるスクリーン又はパネルの製造に使用するために好適な化合物であるシリケート化合物は結合剤としてナトリウム水ガラスの形でナトリウムシリケートを含み、そこではナトリウム水ガラスの水溶液の固形分は30重量%であることが有利であり、酸化ナトリウム(Na2O)の1molあたり2〜4molのSiO2が存在することが有利である。別の好適なシリケート化合物はカリウムシリケートであり、それはナトリウムシリケートより空気−二酸化炭素に対する感受性に劣る。
【0023】
被覆されたセラミック層の厚さに対して水分散液に分散された混合無機顔料の平均粒子サイズを調整することによって、蒸着された燐光体が所定の幅で針状結晶で生長する基体を持つようにセラミック層のテキスチャを設計することができる。分散液に混合された顔料は0.5〜100μm、より好ましくは3〜60μm、さらにより好ましくは4〜40μmの数平均粒子サイズを持つことが好ましい。乾燥されたセラミック層の厚さは好ましくは0.5〜20μmであり、顔料粒子の平均粒子サイズはセラミック層から0.5〜80μmの平均範囲で突出するために調整される。無機顔料を含有する水分散液は無機顔料の粒子をm2あたり106〜1011個の平均量で持つために基体上に被覆される。より好ましくは分散液は無機顔料の粒子をm2あたり107〜109個の平均量で持つために被覆される。粒子の数は所望により粒子の平均粒子サイズ、燐光体針状結晶の直径及び針状結晶間の間隙(voids(gaps))の寸法に依存する。
【0024】
本発明による貯蔵燐光体スクリーンは基体上の燐光体結晶の真空蒸着によって並びに燐光体(燐光体プリカーサ)のための成分を混合し、次いでこの混合物を蒸発して蒸発中にその場で燐光体を形成させることによって製造されることができる。
【0025】
本発明による結合剤のない燐光体スクリーンにおける燐光体は公知のいかなる刺激性金属燐光体であってもよい。好ましくは本発明の結合剤のない燐光体スクリーンに使用される貯蔵燐光体はアルカリ金属燐光体である。極めて好適な燐光体は例えば式Iによる燐光体である:
M1+X.aM2+X′2bM3+X″3:cZ (I)
式中、M1+はLi,Na,K,Cs及びRbからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、M2+はBe,Mg,Ca,Sr,Ba,Zn,Cd,Cu,Pb及びNiからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、M3+はSc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Bi,In及びGaからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、ZはGa1+,Ge2+,Sn2+,Sb3+及びAs3+からなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、X,X′及びX″は同じであっても異なってもよく、それらの各々はF,Br,Cl,Iからなる群から選択されたハロゲン原子を表し、0≦a≦1、0≦b≦1及び0<c≦0.2である。かかる燐光体は例えばUS−A 5736069に開示されている。
【0026】
本発明の結合剤のない燐光体スクリーンに使用するために極めて好ましい燐光体はCsX:Eu刺激性燐光体であり、XはBr及びClからなる群から選択されたハロゲン化物を表し、その燐光体は下記工程を含む方法によって製造される:
− EuX′2,EuX′3及びEuOX′(但し、X′はF,Cl,Br及びIからなる群から選択された一つの要素である)からなる群から選択されたユーロピウム化合物の10−3〜5mol%と前記CsXを混合する;
− 前記混合物を450℃以上の温度で燃焼する;
− 前記混合物を冷却する;そして
− CsX:Eu燐光体を回収する。
【0027】
最も好ましくは下記工程を含む方法によって製造されるCsBr:Eu刺激性燐光体が使用される:
− EuX′2,EuX′3及びEuOX′(但し、X′はF,Cl,Br及びIからなる群から選択された一つの要素である)からなる群から選択されたユーロピウム化合物の10−3〜5mol%と前記CsXを混合する;
− 前記混合物を450℃以上の温度で燃焼する;
− 前記混合物を冷却する;そして
− CsX:Eu燐光体を回収する。
【0028】
結合剤のないスクリーンは熱蒸着、化学蒸着、電子線蒸着、無線周波数蒸着及びパルス化レーザ蒸着からなる群から選択されたいずれかの方法によって支持体上に完成した燐光体をもたらすことによって製造されることができる。あるいはアルカリ金属ハロゲン化物とドーパントを一緒にもたらし、アルカリ金属燐光体がスクリーンの製造中にドープされるような方法で支持体上にそれらをともに蒸着することもできる。本発明はCsX:Eu刺激性燐光体(但し、XはBr及びClからなる群から選択されたハロゲン化物を表す)を含有する燐光体スクリーンの製造方法であって、下記工程を含む方法を包含する:
− EuX′2,EuX′3及びEuOX′(但し、X′はF,Cl,Br及びIからなる群から選択されたハロゲン化物である)からなる群から選択されたユーロピウム化合物及び前記CsXの多数の容器を蒸着の状態にもたらし;そして
− 熱蒸着、化学蒸着、電子線蒸着、無線周波数蒸着及びパルス化レーザ蒸着からなる群から選択された方法によって、ユーロピウムの10−3〜5mol%をドープされたCsX燐光体が前記基体上に形成されるような比で前記CsX及び前記ユーロピウム化合物の両方を基体上に蒸着する。
【0029】
蒸着は所望の割合で出発化合物の混合物を含有する単一容器から行うことができる。本発明に適用される方法はCsX:Eu刺激性燐光体(但し、XはBr及びClからなる群から選択されたハロゲン化物を表す)を含有する燐光体スクリーンの製造方法であって、下記工程を含む方法をさらに包含する:
− EuX′2,EuX′3及びEuOX′(但し、X′はF,Cl,Br及びIからなる群から選択されたハロゲン化物である)からなる群から選択されたユーロピウム化合物の10−3〜5mol%と前記CsXを混合する;
− 前記混合物を蒸着の状態にもたらす;そして
− 物理蒸着、熱蒸着、化学蒸着、電子線蒸着、無線周波数蒸着及びパルス化レーザ蒸着からなる群から選択された方法によって前記混合物を基体上に蒸着する。[0001]
FIELD OF THE INVENTION This invention relates to a binderless storage phosphor screen having a deposited phosphor layer.
[0002]
BACKGROUND OF THE INVENTION A well-known use of storage phosphors is the generation of X-ray images. US-A 3859527 discloses a method for generating an X-ray image with a photostimulable phosphor contained in a panel. The panel is exposed to impinge an X-ray beam modulated according to the pattern, so that the phosphor temporarily stores the energy contained in the X-ray radiation pattern. At some interval after exposure, a beam of visible or infrared light scans the panel and stimulates the emission of stored energy as light. The light is detected and sequentially converted into an electrical signal that is processed to produce a visible image. For this purpose, the phosphor should store as much incident X-ray energy as possible and emit as little energy as possible until stimulated by the scanning beam. This is referred to as “digital radiography” or “computer radiography”.
[0003]
The image quality produced by any radiographic system that uses a phosphor screen, and therefore by a digital radiographic system, is highly dependent on the configuration of the phosphor screen. In general, the thinner the phosphor screen at a given amount of x-ray absorption, the better the image quality.
[0004]
This means that the lower the binder to phosphor ratio of the phosphor screen, the better the image quality that can be achieved with that screen. Thus, optimum sharpness can be obtained when a screen without any binder is used. Such a screen can be produced, for example, by physical vapor deposition of a phosphor material on a substrate, which may be thermal vapor deposition, sputtering, electron beam vapor deposition, and the like. However, this production method cannot be used to produce high quality screens with all available phosphors. The above manufacturing method leads to the best results when phosphor crystals with high crystal symmetry and simple chemical composition are used.
[0005]
The use of alkali metal halide phosphors in storage screens or panels is well known in the field of storage phosphor radiation, and the high crystal symmetry of these phosphors provides structured and binder-free screens. be able to.
[0006]
When binderless screens with alkali halide phosphors are produced, it is beneficial to deposit phosphor crystals such as some types of piles, needles, tiles and the like. US-A 4769549 discloses that the image quality of a binderless phosphor screen can be improved when the phosphor layer has a block structure formed of thin columns.
[0007]
US-A 5,055,681 discloses a storage phosphor screen with a pile-like structure and containing an alkali halide phosphor. The image quality of such screens still needs to be improved and JP-A 06/230198 discloses that the surface of the screen with columnar phosphors is rough and that leveling can improve sharpness. U.S. Pat. No. 5,874,744 focuses on the reflectivity of phosphors used to produce storage phosphor screens having needle-like or columnar phosphors.
[0008]
In EP-A 111 13458, in a binderless storage phosphor screen comprising an alkali metal storage phosphor, the screen has a (100) diffusion line with intensity I 100 and a (110) diffusion line with intensity I 110 and A storage phosphor screen is disclosed that exhibits an XRD spectrum such that I 100 / I 110 ≧ 1. Such phosphor screens show a good compromise between speed and sharpness.
[0009]
The use of anodized aluminum as a substrate for the deposited phosphor layer is known from US Pat. No. 4,769,549. The use of anodized aluminum is said to have the advantage that Al 2 O 3 on the anodized aluminum exists as a kind of tile. When depositing a storage phosphor layer on such a substrate, the phosphor is formed by thin columnar blocks separated from each other by a gap, and having such a storage phosphor layer realizes a very good speed / sharpness relationship. It is said that it will be done.
[0010]
However, the production of anodized aluminum presents the disadvantage that a large amount of electrical energy is typically required to roughen and oxidize the substrate surface. Furthermore, the roughening achieved by etching is generally only performed relatively slowly. A further disadvantage is that the reprocessing of waste formed during anodization and roughening of the substrate is expensive. All the elements taken together make anodized aluminum a very expensive substrate for phosphor screens, and therefore a need for an inexpensive substrate that retains the advantages of anodized aluminum is desirable.
[0011]
OBJECT AND SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to stimulate phosphorescence useful for X-ray recording systems having a very good compromise between images with high sharpness and low noise and the speed of the recording system (ie the lowest patient dose possible). Is to provide a body screen.
[0012]
A further object of the present invention is a stimulus useful for X-ray recording systems having a very good compromise between an image having high sharpness and low noise on a very inexpensive substrate and the speed of the recording system (ie the lowest patient dose possible). It is to provide a phosphor screen.
[0013]
The above objective is accomplished by providing a stimulable phosphor screen having the features defined in claim 1. The features of preferred embodiments of the invention are disclosed in the dependent claims.
[0014]
Further advantages and embodiments of the present invention will become apparent from the following description.
[0015]
Detailed Description of the Invention Throughout this specification "deposited phosphor" is produced by any method selected from the group consisting of thermal evaporation, chemical vapor deposition, electron beam evaporation, radio frequency evaporation and pulsed laser evaporation. Means phosphor. This deposition is preferably carried out under conditions as described in EP-A 111 13458.
[0016]
It has now been shown that a binderless phosphor screen can be produced on a substrate coated with a ceramic layer. Such a ceramic layer contains at least one inorganic pigment selected from the group consisting of Al 2 O 3 , TiO 2 , SiO 2 and ZnO. Preferably, the ceramic layer for use in the storage phosphor screen of the present invention comprises Al 2 O 3 optionally mixed with other inorganic pigments.
[0017]
Apart from the advantages mentioned at the outset, the manufacture of the substrate for the binder-free storage phosphor screen by applying a ceramic layer on top is dependent on the size of the “tile” on which the deposited phosphor grows. There is also an advantage that it can be easily controlled by controlling the size of the pigment particles to be formed. Furthermore, the ceramic layer can also contain other pigment particles in addition to Al 2 O 3 . This gives the opportunity to obtain a support that can be colored, whose spectral reflectivity and absorbency is adjusted to have a support that absorbs stimulating light and reflects stimulated light Thus enhancing the sharpness of the storage phosphor screen. In contrast to anodized aluminum, which is essentially white and therefore reflects both stimulating light and stimulated light, absorption of stimulating light and reflection of stimulated light is provided as desired. . When it is desirable to have a colored ceramic layer on a substrate for the storage phosphor screen of the present invention, the ceramic layer is made to contain Al 2 O 3 and optionally TiO 2 with a blue inorganic pigment.
[0018]
Commercially available very useful blue and blue-green inorganic pigments are SICOCER A, SICOCER B, SICOCER E, SICOCER F, SICOCER G, SICOCER I, SICOCER P, SICOCER R, SICOCER S, SICOCER U (all BASF, Ludwigshafen U Ceramic pigments such as blue or blue-green pigments selected from Germany.
[0019]
Several methods are known for depositing a ceramic layer on a substrate. One method involves selecting a particulate coating material and depositing the coating material on a substrate by a thermal spray technique. Such a method is disclosed, for example, in US-A 5881645. However, this is not a preferred example for producing a substrate for the storage phosphor screen of the present invention. This is because the energy consumption of thermal spray technology is extremely high.
[0020]
Another technique for providing a ceramic layer comprises applying a slurry of at least one monobasic phosphate and non-metallic inorganic particles to the surface of a substrate and forming the ceramic coating by burning the slurry at a temperature of at least 230 ° C. Including. Such techniques are disclosed in PCT application WO-A-83 00844. Because of the processing temperature of at least 230 ° C., this method is suitable for applying ceramic layers on metal substrates such as aluminum, steel, copper, brass and copper, but this method applies ceramic layers on polymer film substrates. Not very suitable to be applied to obtain.
[0021]
Another method for applying the ceramic layer on the substrate provides an aqueous dispersion comprising at least one inorganic pigment and a silicate compound, whereby the dispersion is applied to the substrate by known coating techniques, and 130-220 ° C. A step of drying at a temperature of Such a method is disclosed in U.S. Pat. No. 6,240,846 and corresponding EP-A 0993422, where one of the objects of the invention is very good and durable of the ceramic layer to the substrate without consuming a large amount of energy. It is to provide a method of manufacturing a material that leads to adhesion. According to the invention there is provided a material comprising a substrate and a ceramic layer applied to the surface of the substrate, wherein the ceramic layer is composed of at least one silicate compound and aluminum oxide (at least 99.6 wt% aluminum purity). The ceramic layer is then adhered to the substrate with a silicate compound that functions as a binder. This method is very suitable in the present invention for producing a substrate for use in a storage phosphor screen. This is because the considerably lower drying temperature in the process is very suitable for applying ceramic layers to both metal substrates and polymer film substrates. When a polymer substrate is used, it is preferred to use a polyester substrate such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate or polycarbonate substrate.
[0022]
The silicate compound, which is a preferred compound for use in the manufacture of screens or panels according to the present invention, contains sodium silicate in the form of sodium water glass as a binder, where the solid content of the aqueous solution of sodium water glass is 30% by weight. Advantageously, there are advantageously 2 to 4 mol of SiO 2 per mol of sodium oxide (Na 2 O). Another suitable silicate compound is potassium silicate, which is less sensitive to air-carbon dioxide than sodium silicate.
[0023]
By adjusting the average particle size of the mixed inorganic pigment dispersed in the aqueous dispersion with respect to the thickness of the coated ceramic layer, the deposited phosphor has a substrate that grows in acicular crystals with a predetermined width. Thus, the texture of the ceramic layer can be designed. The pigment mixed in the dispersion preferably has a number average particle size of 0.5 to 100 μm, more preferably 3 to 60 μm, and even more preferably 4 to 40 μm. The thickness of the dried ceramic layer is preferably 0.5-20 μm and the average particle size of the pigment particles is adjusted to protrude from the ceramic layer in the average range of 0.5-80 μm. The aqueous dispersion containing the inorganic pigment is coated on the substrate in order to have inorganic pigment particles in an average amount of 10 6 to 10 11 per m 2 . More preferably, the dispersion is coated to have an average amount of inorganic pigment particles of 10 7 to 10 9 per m 2 . The number of particles is optionally dependent on the average particle size of the particles, the diameter of the phosphor needles and the dimensions of the voids (gaps).
[0024]
The storage phosphor screen according to the invention is prepared by vacuum deposition of the phosphor crystals on the substrate as well as by mixing the components for the phosphor (phosphor precursor) and then evaporating the mixture to remove the phosphor in situ during the evaporation. It can be manufactured by forming.
[0025]
The phosphor in the binderless phosphor screen according to the invention can be any known stimulable metal phosphor. Preferably, the storage phosphor used in the binderless phosphor screen of the present invention is an alkali metal phosphor. Very suitable phosphors are, for example, phosphors according to formula I:
M 1+ X. aM 2+ X '2 bM 3+ X "3: cZ (I)
Wherein M 1+ is at least one element selected from the group consisting of Li, Na, K, Cs and Rb, and M 2+ is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu, Pb and At least one element selected from the group consisting of Ni, M 3+ is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, At least one element selected from the group consisting of Lu, Al, Bi, In and Ga, and Z is at least one element selected from the group consisting of Ga 1+ , Ge 2+ , Sn 2+ , Sb 3+ and As 3+ X, X ′ and X ″ may be the same or different, each of which represents a halogen atom selected from the group consisting of F, Br, Cl, I, and 0 ≦ a ≦ 1, 0 ≦ b ≦ 1 and 0 < ≦ 0.2. Such phosphors have been disclosed in US-A 5736069, for example.
[0026]
A highly preferred phosphor for use in the binderless phosphor screen of the present invention is a CsX: Eu stimulated phosphor, where X represents a halide selected from the group consisting of Br and Cl, the phosphor Is produced by a method comprising the following steps:
- EuX '2, EuX' 3 and EuOX '(where, X' is F, Cl, an element of one selected from the group consisting of Br and I) 10 of europium compound selected from the group consisting of -3 Mix ~ 5 mol% and the CsX;
-Burning the mixture at a temperature of 450 ° C or higher;
-Cooling the mixture; and-recovering the CsX: Eu phosphor.
[0027]
Most preferably a CsBr: Eu stimulated phosphor produced by a method comprising the following steps is used:
- EuX '2, EuX' 3 and EuOX '(where, X' is F, Cl, an element of one selected from the group consisting of Br and I) 10 of europium compound selected from the group consisting of -3 Mix ~ 5 mol% and the CsX;
-Burning the mixture at a temperature of 450 ° C or higher;
-Cooling the mixture; and-recovering the CsX: Eu phosphor.
[0028]
The binderless screen is manufactured by providing a finished phosphor on the support by any method selected from the group consisting of thermal evaporation, chemical vapor deposition, electron beam evaporation, radio frequency evaporation and pulsed laser evaporation. Can. Alternatively, the alkali metal halide and the dopant can be brought together and they are deposited together on the support in such a way that the alkali metal phosphor is doped during the manufacture of the screen. The present invention is a method for producing a phosphor screen containing a CsX: Eu stimulable phosphor, wherein X represents a halide selected from the group consisting of Br and Cl, and includes a method comprising the following steps: To:
A europium compound selected from the group consisting of EuX ′ 2 , EuX ′ 3 and EuOX ′ (where X ′ is a halide selected from the group consisting of F, Cl, Br and I) and a number of said CsX And-doped with 10 −3 to 5 mol% of europium by a method selected from the group consisting of thermal evaporation, chemical vapor deposition, electron beam vapor deposition, radio frequency vapor deposition and pulsed laser vapor deposition Both the CsX and the europium compound are deposited on the substrate in such a ratio that a CsX phosphor is formed on the substrate.
[0029]
Vapor deposition can be carried out from a single container containing a mixture of starting compounds in the desired proportion. The method applied to the present invention is a method for producing a phosphor screen containing a CsX: Eu-stimulated phosphor (where X represents a halide selected from the group consisting of Br and Cl), and comprises the following steps: Further encompassing a method comprising:
- EuX '2, EuX' 3 and EuOX '(where, X' is F, Cl, a is selected halides from the group consisting of Br and I) 10 -3 ~ europium compound selected from the group consisting of Mix 5 mol% and the CsX;
Bringing the mixture into a state of vapor deposition; and- depositing the mixture on a substrate by a method selected from the group consisting of physical vapor deposition, thermal vapor deposition, chemical vapor deposition, electron beam vapor deposition, radio frequency vapor deposition and pulsed laser vapor deposition. .
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